FR 2006479 A1 19691226 FR 6912224 A 19690418 12224 i 2006479 On connaît déjà lremploi des couches électro-conductrices à base d*oxydes métalliques, dont on rencontre une application particulièrement développée dans le domaine des résistances utilisées dans les micro-circuits, les résistances modulaires et 5 autres dispositifs analogues. Il exista encore de nombreuses difficultés inhérentes au dépôt et à la réalisation de la configuration des résistances à couche mince,qui ont pour effet de faire sortir hors des limites de tolérance la valeur ohmique de la résistance. Par conséquent, ces résistances sont formées au moyen 10 de couches ayant une valeur résistante inférieure à celle que l'on désire obtenir, ladite couche étant ensuite ajustée par entaillage dans la couche pour en accroître la résistance jusqu'à la valeur désirée. La résistance des couches minces peut être augmentée, soit en diminuant l'épaisseur de la couche, soit en augmentant 15 la longueur du trajet parcouru par le courant. Le procédé le plus couramment utilisé pour augmenter la valeur de la résistance ohmique consiste à augmenter le rapport longueur/largeur. Quelques procédés utilisés jusqu'à présent consistent à entailler la résistance s après avoir déposé un masque 20 photographique sur la couche on enlève une partie de la couche tout autour du masque. Un autre procédé consiste à déposer une matière protectrice sur la couche conductrice, puis à enlever simultanément une partie des couches protectrice et conductrice, par sablage. Dans d'autres procédés, on effectue un sablage direct 25 de la couche, ou une destruction de celle-ci en faisant passer un courant très intense dans certaines zones étroitement délimitées» On a constaté que des résistances formées selon les procédés ci-dessus présentaient un bruit de valeur élevée.*On définit le bruit dans une résistance comme étant les variations indésirables 30 de résistance qui se produisent entre les bornes de celle-ci lorsqu'un courant d'intensité constante traverse la partie conductrice de la résistance dans une bande de fréquence donnée, la valeur de l'intensité de la distorsion étant exprimée en décibels„ La présente invention a pour but de fournir un procédé per-35 mettant un réglage économique et rapide de la valeur de la résistance ohmique des résistances à couche mince, pour lesquelles on a un faible niveau de bruit, sans pour autant affecter de façon préjudiciable la qualité de la couche résistante. Selon la présente invention, le procédé consiste à déposer 12224 2 2006479 sur un support diélectrique une couelie conductrice dont la valeur de la résistance ohmique est inférieure à une valeur prédéterminée choisie pour la résistance., puis à enlever une partie de la couche pour augmenter le rapport longueur/largeur de celle-ci, 5 puis ensuite à lisser- et ébavarer les bords de la couche restants qui entourent la région où des parties de celle-ci ont été enlevées au moyen d*un dispositif à frottoir. Les caractéristiques- ci-dessus, ainsi que d'autres caractéristiques secondaires et les avantages qui en résultent, appa-10 raîtront de façon plus détaillée dans la description ci-après d'une forme particulière de réalisation, donnée à titre indicatif et non limitatif en référence au dessin en annexe sur lequel s - la fig. I représente une vue de dessus d'un support diélectrique sur lequel a été déposée une couche de substance résis- 15 tante - - la fig» 2 représente une vus de dessus du support et de 1s résistance de la fig. Ia après ajiastefiiesït fie la valeur de la résistance ohmique de cette aéraière - - la fig. 3 représente une vue ea perspective d'un appareil 20 utilisé poux" travailler- les bords de la ceschs résistante et les niveler - - la fig» 4 représente îase vae ea perspective d'une couche résistante réalisée selon la présente invention - Si lîon se reporte à la fig, I., on volt un support diélec-25 trique ÏO sur lequel a été déposée une couche électro-conductrice ou une couche résistante 12* constituant l'élément résistant proprement dit. On applique sur le support les bornes de la résistance 1% qui assurent le contact électrique avec la couche 12. Ga peut citer, à titre dc-exemple de couches électro-conductrices coa-j:0 venafeles, celles décrites dans le brsi^e'c français N® 9%6.C2BS où i*on trouvera leurs caractéristiques et leur procédé d'application.. Les couches électro^conduetrieës ou 'résistantes convenant le mieux pour la présente intention sont constituées parades couches d'oxydes aiétalliques durs-, tels que 15oxyde• d-°étain, le mé-35 lange oxyde d^êtain/oxjsSe di''antimoine _et d'autres couéhes- à"base d'étain La résistance de la couche 12 est ajustée, comme il est fcAD ORIGINAL 12224 3 2006479 représenté sur la fig. 2, en enlevant une partie de celle-ci de telle sorte que le rapport longueur/largeur de la couche se trouve augmenté, ce qui a pour effet de fournir un élément final 16 ayant une résistance ohmique d'une valeur prédéterminée. Un pro-5 cédé convenant bien pour enlever une partie de la couche résistante, consiste à projeter sur la couche résistante un jet de sablage contenant des particules abrasives, lesdites particules usant et arrachant la couche au niveau de l'impact du jet de sable. Le débit des particules abrasives et le déplacement de la 10 buse de sablage peuvent être sous la commande d'un dispositif relié aux bornes 14. Lorsqu'une zone de la couche électro-condue-trice 12 a été enlevée en quantité suffisante pour ajuster la couche restante à la valeur prédéterminée, le dispositif de commande interrompt le jet de particules abrasives et arrête le dé-15 placement de la buse de sablage. Un tel dispositif n'a pas été représenté et ne constitue pas l'objet de la présente invention. On peut d'ailleurs utiliser n'importe quel dispositif de commande, sensible à la valeur de la résistance de la couche et susceptible d'assurer la régulation de la quantité de matière qui peut être 20 arrachée à la couche conductrice. Les bords de la couche résistante qui entourent la région où vient d'être enlevée cette dernière sont ensuite traités pour les lisser et en éliminer les bavures avec un dispositif à frottoir 18. On a en effet constaté que si l'on procède à cetté opé-25 ration d'ébavurage, on peut abaisser de façon très sensible le niveau de bruit de l'élément résistant 16. La raison exacte de ce résultat n'est pas connue, cependant on croit qu'elle est la conséquence de l'enlèvement des particules microscopiques restantes de la couche, qui n'ont pu être enlevées au cours de 11 opéra-3.0 tion initiale de sablage. Sn outre, on suppose que cette phase supplémentaire du procédé a effectivement pour résultat de niveler les bords de l'entaille, diminuant ainsi le niveau de bruit qui résulte des irrégularités de contour qui existent sur les tords précédemment entaillés de la couche. 35 Le dispositif à frottoir ïP peut être fait en caoutchouc ..naturel ou synthétique, tel que ceux que l'on utilise habituellement pour.les grattoirs, ou peut être fait avec tout matériau élastique ou à faible-résiliahce, utilisé pour le polissage, tel que les plastiques, le feutre, etc..'. De mêraé que dans un grattoir,* BAD ORIGINAL 69 12224 k 2006479 le matériau de texture élastique peut contenir des particules abrasives. Le dispositif 18 peut être déplacé le long des bords de l'entaille pour les limer ; il peut aussi être mis en rotation, comme représenté sur la fig. 3* au moj/en de tout dispositif d'en-5 traînement 20 approprié. Cn peut, par exemple, utiliser un grattoir électrique classique. On trouvera, ci-après, un exemple d'utilisation de la présente invention : Une couche de substance électro-conductrice du type décrit 10 dans le brevet précité, ainsi qu'une paire de bornes en cuivre jouant le rôle de contacts dectriques ont été déposées sur un substrat en alumine pressée à chaud. Une buse à orifice en biseau utilisée pour effectuer le sablage a été placée au-dessus de la couche électro-conductrice à une distance telle que le jet 15 de particules émis par la buse se présente sous forme d'un pinceau très étroitement réglé. Le jet de sablage peut être constitue par de la poudre d'alumine projetée par un jet d'air sec à la pression d'environ 7Kg / cm2. La buse a été déplacée tout le long de la résistance, sur une distance suffisante pour augmenter 20 la valeur du rapport longueur/largeur de la couche électro-conductrice jusqu'à une valeur prédéterminée. Un grattoir électrique, du type de ceux utilisés habituellement par les dessinateurs, a été modifié pour présenter une section suffisamment petite et a été déplacé tout le long des bords de la saignée pratiquée à 25 l'intérieur de la couche résistante. On a constaté que le niveau de bruit d'un tel dispositif était abaissé de -10 à -30 décibels. La fig. 4 représente le dispositif final complètement ajusté. On notera que le procède convient aux couches électro-conductrices ou résistantes décrites ci-dessus. Lorsque la cou-30 che considérée est relativement meubles c'est-à-dire lorsqu'elle tend â s'étaler ou lorsqu'elle peut être 6'tée très facilements le présent procédé se trouve inopéranta Cn retiendra donc qu'il ne s'applique qu'à des couches résistantes ou à des couches électro-conductrices relativement dures» 35 Bien que la présente description ait été faite en se réfé rant à certaines formes particulières de réalisation, il est clair que l'on peut y apporter d'autres modifications de détails sans sortir pour autant du cadre de la présente invention. BAD 69 12224 5 2006479 55ï™2ï!£?ï9SLi Il est revendiqué comme étant l'objet de l'invention : 1°) Procédé de fabrication de résistances à couche mince, à faible niveau de bruit, caractérisé par les étapes successives suivantes! a) On dépose sur un support diélectrique une eouche mince en un matériau conducteur de l'électricité, ayant une résistance inférieure à une valeur prédéterminée ; b) On enlève une partie de cette couche, pour accroître le rapport longueur/largeur de la couche résistante traversée par le courant, en limitant cette couche à sa région périphérique, par entaillage à l'aide d'un moyen approprié ; c) On procède à l'ébavurage des bords de l'entaille précédemment pratiquée. 2°) Procédé selon la revendication I, dans lequel le moyen utilisé pour effectuer l'ébavurage consiste en un frottoir revêtu d'une substance sélectionnée parmi les caoutchoucs naturels ou synthétiques, 2°) Procédé selon la revendication I, dans lequel la couche conductrice est constituée par un oxyde métallique dur. 4°) Procédé selon.la revendication 3, dans lequel l'oxyde métallique est l'oxyde d'étain. 5*5 Composant électrique obtenu selon le procédé de la revendication I. 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