Brevet FR3160125A1 — publié le 20250919

Un procédé de formation d’un article en composite à matrice céramique (CMC) comporte le dépôt d’une pluralité de plis d’un matériau CMC, le scellement de la pluralité de plis dans une enceinte sous vide qui est en communication fluide avec une réserve de solvant qui comporte un volume de solvant, et la diffusion d’un solvant vers ou depuis la réserve de solvant à travers la pluralité de plis. Fabrication d’articles en composite à matrice céramique La présente description se rapporte à un système et un procédé de formation d’un article en composite à matrice céramique (CMC). ETAT DE LA TECHNIQUE ANTERIEURE Les composites à matrice céramique comportent généralement un matériau de renforcement en fibres céramiques noyé dans un matériau de matrice céramique. Le matériau de renforcement sert de constituant porteur de charge des composites à matrice céramique en cas de fissure de la matrice, tandis que la matrice céramique protège le matériau de renforcement, maintient l’orientation de ses fibres et sert à dissiper les charges vers le matériau de renforcement. Les composites à base de silicium, qui comportent le carbure de silicium (SiC) formant la matrice, le matériau de renforcement ou les deux, présentent un intérêt particulier pour des applications à haute température, telles que dans les turbines à gaz. Une description complète et utile de la présente description, incluant le meilleur mode de celle-ci, destiné à une personne de compétences ordinaires, est exposée dans la spécification, qui fait référence aux figures annexées, dans lesquelles : la FIG. 1 est une vue en coupe d’un moteur à turbine à gaz donné à titre d’exemple. La FIG. 2 est une vue latérale en coupe d’un système donné à titre d’exemple permettant la formation d’un article en CMC. La FIG. 3 est un graphique donné à titre d’exemple de la pression de vapeur et de la température d’un solvant. La FIG. 4 est une vue latérale en coupe d’un autre système donné à titre d’exemple permettant la formation d’un article en CMC. La FIG. 5 est une vue de haut en bas du système donné à titre d’exemple de la FIG. 4 . La FIG. 6 est un schéma fonctionnel d’un procédé donné à titre d’exemple permettant la formation d’un article en CMC. DESCRIPTION DÉTAILLÉE Nous allons maintenant nous référer en détail à certains modes de réalisation de la description, dont un ou plusieurs exemples sont illustrés dans les dessins joints. La description détaillée utilise des désignations numériques et alphabétiques pour se référer aux caractéristiques des dessins. Dans les dessins et la description, des désignations semblables ou similaires ont été utilisées pour se référer à des parties semblables ou similaires de l’invention. L’expression « donné à titre d’exemple » est utilisée ici pour signifier « servant d’exemple, de cas ou d’illustration ». Toute mise en œuvre donnée ici « à titre d’exemple » ne doit pas nécessairement être interprétée comme préférée ou avantageuse par rapport à d’autres mises en œuvre. En complément, sauf indication spécifiquement contraire, tous les modes de réalisation décrits dans le présent document doivent être considérés comme illustratifs. Les formes singulières « un », « une », « la » et « le » comportent les références plurielles, à moins que le contexte ne s’y oppose clairement. Dans le présent document, les termes « premier/première », « deuxième/second/seconde » et « troisième » peuvent être utilisés indifféremment pour distinguer un composant d’un autre et ne sont pas prévus pour désigner l’emplacement ou l’importance des composants individuels. La présente description concerne généralement la fabrication d’articles en CMC. Des solvants, tels que l’alcool isopropylique, le toluène ou la méthylisobutylcétone (MIBK), et des résines furaniques incluant l’alcool furfurylique, sont utilisés lors de la formation d’articles en CMC pour conférer de la souplesse aux plis de l’article et permettre la consolidation du stratifié au cours des étapes de traitement ultérieures, telles que la densification dans un autoclave. Les solvants peuvent être volatils à la température et à la pression ambiantes, et les solvants peuvent s’évaporer au cours des procédés de dépôt étendus utilisés pour les articles de grande taille, tels que les revêtements de combustion pour les applications aérospatiales. Avec moins de solvant, les articles peuvent ne pas se consolider aux dimensions spécifiées au cours d’une phase de chauffage ultérieure. Les matériaux préférés pour le précurseur dépendront de la composition particulière souhaitée pour la matrice céramique du composant CMC, par exemple, la poudre de SiC ou un ou plusieurs matériaux contenant du carbone si le matériau de matrice souhaité est le SiC traité par le biais d’une infiltration de matière fondue. Les matériaux notables contenant du carbone comportent le noir de carbone, les résines phénoliques et les résines furaniques, y compris l’alcool furfurylique (CHOCHOH). D’autres ingrédients typiques de la suspension comportent des liants (par exemple, le polyvinylbutyral (PVB)) qui favorisent l’aptitude au pliage de rubans préimprégnés, et des solvants pour les liants (par exemple, l’isopropanol, le toluène ou la méthylisobutylcétone (MIBK)) qui favorisent la fluidité de la suspension afin de permettre l’imprégnation du matériau de renforcement des fibres. Pour améliorer la consolidation du stratifié, des préformes de l’article en CMC sont enfermées dans une enceinte qui est reliée de manière fluide à une réserve de solvant. En faisant varier la pression à vide dans l’enceinte, notamment en mettant l’enceinte à une pression à vide spécifiée, le solvant provenant de la réserve de solvant s’évapore et se diffuse dans la préforme lorsque la préforme est dépourvue de solvant, et le solvant se diffuse hors de la préforme lorsque la préforme contient trop de solvant. La réserve de solvant et la préforme peuvent également être chauffées afin d’évaporer encore le solvant. En spécifiant la pression à vide et les températures auxquelles la réserve de solvant et la préforme sont exposées, ainsi que le solvant spécifique fourni par la réserve de solvant, le système atteint un état d’équilibre dans lequel la quantité de solvant dans la préforme est sensiblement stable. La préforme peut alors être maintenue dans l’enceinte à cet état d’équilibre jusqu’à ce qu’un traitement supplémentaire, tel qu’un écrasement, soit effectué, ce qui permet de réduire le solvant perdu par évaporation ambiante et d’améliorer la fabrication de l’article en CMC. En se référant maintenant aux dessins, dans lesquels des chiffres identiques indiquent les mêmes éléments dans les figures, la FIG. 1 est une vue en coupe transversale d’un moteur à turbine à gaz selon un mode de réalisation donné à titre d’exemple de la présente description. Plus particulièrement, pour le mode de réalisation de la FIG. 1 , le moteur à turbine à gaz est un réacteur aéronautique à double flux 10, appelé ici « réacteur à double flux 10 ». Le réacteur à double flux 10 est configuré pour être monté sur un aéronef, tel que dans une configuration sous l’aile ou dans une configuration montée sur l’empennage. Comme le montre la FIG. 1 , le réacteur à double flux 10 définit une direction axiale A (s’étendant parallèlement à une ligne centrale longitudinale fournie à titre de référence), une direction radiale R, et une direction circonférentielle (c’est-à-dire, une direction s’étendant autour de la direction axiale A). La ligne centrale longitudinale 12 définit un axe longitudinal du réacteur à double flux 10. En général, le réacteur à double flux 10 comporte une section soufflante 14 et une turbomachine 16 disposée en aval de la section soufflante 14 (la turbomachine 16 est parfois aussi, ou alternativement, désignée sous le nom de « moteur à turbine principale »). La turbomachine 16 donnée à titre d’exemple représentée comporte généralement une enveloppe externe 18 sensiblement tubulaire qui définit une entrée annulaire 20. L’enveloppe externe 18 renferme, dans une relation de flux sériel, une section de compresseur incluant un premier compresseur de surpression ou de basse pression (BP) 22 et un second compresseur de haute pression (HP) 24 ; une section de combustion 26 ; une section de turbine comprenant une première turbine haute pression (HP) 28 et une seconde turbine basse pression (BP) 30 ; et une section de tuyère d’éjection 32. Un arbre haute pression (HP) relie par entraînement la turbine HP 28 au compresseur HP 24. Un arbre basse pression (BP) 36 relie par entraînement la turbine BP 30 au compresseur BP 22. La section de compresseur, la section de combustion 26, la section de turbine et la section de tuyère d’éjection 32 sont disposées dans l’ordre d’écoulement sériel et définissent ensemble une voie d’écoulement d’air central 37 à travers la turbomachine 16. Il est également envisagé que la présente description soit compatible avec un moteur doté d’une turbine à pression intermédiaire, par exemple un moteur doté de trois corps. En se référant encore au mode de réalisation de la FIG. 1 , la section soufflante 14 comporte une soufflante 38 à pas variable et à un étage, la turbomachine 16 étant accouplée de manière opérationnelle à la soufflante 38 pour entraîner la soufflante 38. La soufflante 38 comporte une pluralité de pales de soufflante rotatives 40 accouplées à un disque 42 de manière espacée. Comme représenté, les pales de soufflante 40 s’étendent vers l’extérieur à partir du disque 42 généralement le long de la direction radiale R. Les pales de soufflante 40, le disque 42 et l’élément d’actionnement 44 peuvent être mis ensemble en rotation autour de la ligne centrale longitudinale 12 par l’arbre LP 36 au travers d’une boîte d’engrenages 46. La boîte d’engrenages 46 comporte une pluralité d’engrenages pour réduire la vitesse de rotation de l’arbre BP 36 à une vitesse de rotation plus efficace de la soufflante. En conséquence, pour le mode de réalisation représenté, la turbomachine 16 est accouplée de manière opérationnelle à la soufflante 38 par l’intermédiaire de la boîte d’engrenage 46. Encore en référence au mode de réalisation donné à titre d’exemple de la FIG. 1 , le disque 42 est couvert par une nacelle ou culasse avant rotative 48 aérodynamiquement profilée pour favoriser un flux d’air à travers la pluralité de pales de soufflante 40. En complément, la section de soufflante donnée à titre d’exemple 14 comporte un carter de soufflante annulaire ou une nacelle externe 50 qui entoure au moins partiellement (et pour le mode de réalisation représenté, circonférentiellement) la soufflante 38 et au moins une partie de la turbomachine 16. Plus spécifiquement, la nacelle externe 50 comporte une paroi interne 52 et une section aval 54 de la paroi interne 52 de la nacelle externe 50 s’étend sur une partie externe de la turbomachine 16 de manière à définir un passage de flux d’air de dérivation 56 entre elles. En outre, pour le mode de réalisation représenté, la nacelle externe 50 est soutenue par rapport à la turbomachine 16 par une pluralité d’aubes directrices de sortie espacées circonférentiellement 55. La nacelle externe 50 comporte une entrée 60 au niveau d’un bord d’attaque 61 de la nacelle externe 50. Pendant le fonctionnement du réacteur à double flux 10, un volume d’air 58 pénètre dans le réacteur à double flux 10 par l’entrée 60 de la nacelle externe 50, de la section de soufflante 14, ou des deux. À mesure que le volume d’air 58 passe par les pales de soufflante 40, une première partie 62 de l’air 58 est dirigée ou acheminée dans le passage de flux d’air de dérivation 56, et une seconde partie 64 de l’air 58 est dirigée ou acheminée dans le chemin de flux d’air central 37. La pression de la seconde partie 64 de l’air est alors augmentée à mesure qu’elle est acheminée à travers le compresseur HP 24 et dans la section de combustion 26, où elle est mélangée à du carburant et brûlée pour produire des gaz de combustion 66. Les gaz de combustion 66 sont acheminés depuis la section de combustion 26 à travers la turbine HP 28. Dans la turbine HP 28, une partie de l’énergie (telle que l’énergie thermique, l’énergie cinétique, ou les deux) des gaz de combustion 66 est extraite par le biais d’étapes séquentielles d’aubes de stator de turbine HP 68 qui sont accouplées à l’enveloppe externe 18 et d’aubes de rotor de turbine HP 70 qui sont accouplées à l’arbre HP 34, ce qui provoque la rotation de l’arbre HP 34, prenant de ce fait en charge le fonctionnement du compresseur HP 24. Les gaz de combustion 66 sont ensuite acheminés à travers la turbine BP 30 où une seconde partie de l’énergie (telle que l’énergie thermique, l’énergie cinétique, ou les deux) est extraite des gaz de combustion 66 par le biais d’étages séquentiels d’aubes de stator de turbine BP 72 qui sont accouplées à l’enveloppe externe 18 et d’aubes de rotor de turbine BP 74 qui sont accouplées à l’arbre BP 36, entraînant ainsi la rotation de l’arbre BP 36, ce qui permet de prendre en charge le fonctionnement du compresseur BP 22, la rotation de la soufflante 38, ou les deux. Les gaz de combustion 66 sont ensuite acheminés à travers la section de la tuyère d’éjection 32 de la turbomachine 16 pour fournir une poussée propulsive. Simultanément, la pression de la première partie 62 est sensiblement augmentée lorsque la première partie 62 est acheminée à travers le passage de flux d’air de dérivation 56 avant d’être évacuée depuis une section d’échappement 76 de la tuyère de soufflante du réacteur à double flux 10, ce qui fournit également une poussée propulsive. La turbine HP 28, la turbine BP 30 et la section de tuyère d’éjection 32 définissent au moins partiellement un chemin de gaz chauds 78 pour acheminer les gaz de combustion 66 à travers la turbomachine 16. Dans certains modes de réalisation donnés à titre d’exemple, le réacteur à double flux 10 de la présente invention peut être un réacteur à double flux 10 d’une classe de puissance relativement élevée. En conséquence, lorsqu’il fonctionne à la vitesse nominale, le réacteur à double flux 10 peut être configuré pour générer une poussée relativement importante. Plus spécifiquement, lorsqu’il fonctionne à la vitesse nominale, le réacteur à double flux 10 peut être configuré pour générer au moins 20 000 livres de poussée, par exemple au moins 25 000, 30 000, et jusqu’à, par exemple, 150 000 livres de poussée. En conséquence, le réacteur à double flux 10 peut être considéré comme un moteur à turbine à gaz de classe de puissance relativement élevée. Par ailleurs, le réacteur à double flux 10 donné à titre d’exemple représenté sur la FIG. 1 n’est donné qu’à titre d’exemple, et dans d’autres modes de réalisation donnés à titre d’exemple, le réacteur à double flux 10 peut avoir une quelconque autre configuration appropriée. Par exemple, dans certains modes de réalisation donnés à titre d’exemple, la soufflante peut ne pas être une soufflante à pas variable, le moteur peut ne pas comporter une boîte de réduction (par exemple, la boîte d’engrenages 46) entraînant la soufflante, peut comporter un quelconque autre nombre ou arrangement approprié d’arbres, de corps, de compresseurs, de turbines, etc. En outre, bien que la FIG. 1 représente un réacteur à double flux, dans d’autres modes de réalisation donnés à titre d’exemple, certains aspects de la présente description peuvent être incorporés dans un quelconque autre moteur à turbine à gaz approprié, tel qu’un turbopropulseur, un turbomoteur, etc. Un ou plusieurs composants du réacteur à double flux 10 peuvent être formés d’un matériau de composite à matrice céramique (CMC) et comporter un article en CMC. Par exemple, un ou plusieurs revêtements d’une chambre de combustion dans la section de combustion, une ou plusieurs surfaces portantes de stator ou de rotor dans la turbine HP 28 ou la turbine BP 30, une ou plusieurs surfaces portantes de stator ou de rotor ailleurs dans le réacteur à double flux 10, un ou plusieurs carénages ou revêtements de voies d’écoulement, etc. peuvent être formés d’un matériau CMC/comporter un article en CMC. Tel qu’il est utilisé ici, le terme « composite à matrice céramique » ou « CMC » se réfère à une catégorie de matériaux qui comporte un matériau de renforcement (par exemple, des fibres de renforcement) entouré d’une phase de matrice céramique. En général, les fibres de renforcement assurent l’intégrité structurelle de la matrice céramique. Certains exemples de matériaux de matrice CMC peuvent comporter, sans caractère limitatif, des matériaux à base de silicium sans oxyde (par exemple, carbure de silicium, nitrure de silicium ou des mélanges de ceux-ci), des céramiques d’oxyde (par exemple, oxycarbures de silicium, oxynitrures de silicium, oxyde d’aluminium (Al 2 O 3 ), dioxyde de silicium (SiO 2 ), aluminosilicates, ou des mélanges de ceux-ci), ou des mélanges de ceux-ci. Des particules de céramique (par exemple, des oxydes de Si, Al, Zr, Y et des combinaisons de ceux-ci) et des charges inorganiques (par exemple, pyrophyllite, wollastonite, mica, talc, kyanite et montmorillonite) peuvent également être incluses dans la matrice de CMC. Certains exemples de fibres de renforcement des CMC peuvent comporter, sans caractère limitatif, des matériaux à base de silicium sans oxyde (par exemple, carbure de silicium, nitrure de silicium ou des mélanges de ceux-ci), des matériaux à base de carbone sans oxyde (par exemple, carbone), des céramiques d’oxyde (par exemple, oxycarbures de silicium, oxynitrides de silicium, oxyde d’aluminium (Al 2 O 3 ), dioxyde de silicium (SiO 2 ), aluminosilicates tels que la mullite, ou des mélanges de ceux-ci), siliciures (intermétalliques) tels que le siliciure de niobium et le siliciure de molybdène, ou des mélanges de ceux-ci. Généralement, les CMC particuliers peuvent être désignés par leur combinaison de type de fibre/type de matrice. Par exemple, C/SiC pour le carbure de silicium renforcé par des fibres de carbone ; SiC/SiC pour le carbure de silicium renforcé par des fibres de carbure de silicium, SiC/SiN pour le nitrure de silicium renforcé par des fibres de carbure de silicium ; SiC/SiC-SiN pour le mélange de matrices de carbure de silicium renforcé par des fibres de carbure de silicium/nitrure de silicium, etc. Dans d’autres exemples, les CMC peuvent comporter une matrice et des fibres de renforcement comprenant des matériaux à base d’oxyde tels que l’oxyde d’aluminium (Al 2 O 3 ), le dioxyde de silicium (SiO 2 ), les aluminosilicates et des mélanges de ceux-ci. Les aluminosilicates peuvent comporter des matériaux cristallins tels que la mullite (3Al 2 O 3 ·2SiO 2 ), ainsi que des aluminosilicates vitreux. Dans certains cas, les fibres de renforcement peuvent être regroupées, enduites ou les deux avant inclusion dans la matrice. Par exemple, des faisceaux des fibres peuvent se présenter sous la forme d’un ruban renforcé, tel qu’un ruban renforcé unidirectionnel. Une pluralité de rubans peut être assemblée pour former un composant de préforme. Les faisceaux de fibres peuvent être imprégnés d’une composition de suspension avant ou après la formation de la préforme. La préforme peut ensuite subir un traitement thermique et un traitement chimique ultérieur pour arriver à un composant formé d’un matériau CMC ayant la composition chimique souhaitée. Par exemple, la préforme peut subir une cuisson ou une combustion afin d’obtenir un résidu à teneur élevée en charbon dans la préforme, puis une infiltration de matière fondue avec du silicium, ou une cuisson ou une pyrolyse afin d’obtenir une matrice de carbure de silicium dans la préforme, puis une infiltration chimique en phase vapeur avec du carbure de silicium. Des étapes supplémentaires peuvent être entreprises pour améliorer la densification de la préforme, avant ou après l’infiltration chimique en phase vapeur, en lui injectant une résine ou un polymère liquide suivie d’une étape de traitement thermique pour remplir les vides avec du carbure de silicium. Le matériau CMC tel qu’il est utilisé ici peut être formé à l’aide d’un quelconque procédé connu ou mis au point ci-après incluant sans caractère limitatif l’infiltration de matière fondue, l’infiltration chimique en phase vapeur, la pyrolyse par imprégnation de polymères (PIP), ou une combinaison quelconque de celles-ci. De tels matériaux, au même titre que certaines céramiques monolithiques (c’est-à-dire, des matériaux céramiques sans matériau de renforcement), sont particulièrement appropriés à des applications à haute température. En complément, ces matériaux céramiques sont légers par comparaison avec les superalliages, mais peuvent quand même assurer la solidité et la durabilité du composant réalisé à partir de ceux-ci. Par conséquent, de tels matériaux sont actuellement envisagés pour de nombreux composants de turbines à gaz utilisés dans les sections à haute température des moteurs à turbine à gaz, tels que les profils aérodynamiques (par exemple, les turbines et les aubes), les chambres de combustion, les carénages et d’autres composants similaires, qui bénéficieraient du poids plus léger et de la capacité à résister à des températures plus élevées de ces matériaux. En se référant maintenant à la FIG. 2 , une vue schématique d’un système 100 de formation d’un article en CMC est montrée. Plus spécifiquement, la FIG. 2 montre une vue en coupe du système 100 illustrant un dépôt de plis de matériau CMC et de solvant ajouté aux plis dans une enceinte. Le système 100 de formation de l’article en CMC comporte une base d’outils 102 dotée d’une plate-forme 104 destinée à recevoir une pluralité de plis d’un matériau CMC, un reniflard 106, un sac 108 formant une enceinte 110 lorsqu’il est fixé à la plate-forme 104, et une réserve de solvant 112 qui communique le solvant 114 vers et depuis l’enceinte 110. Dans certains modes de réalisation, le système 100 peut comporter un ou plusieurs des éléments suivants : une pompe à vide 116 en communication fluide avec l’enceinte 110, un dispositif de chauffage 118 en communication thermique avec la réserve de solvant 112, et un second dispositif de chauffage 120 en communication thermique avec la plate-forme 104. La pompe à vide 116, le dispositif de chauffage 118 et le second dispositif de chauffage 120 sont tous représentés sur la FIG. 2 pour plus de clarté, et on aura à l’esprit que le système peut omettre un ou plusieurs de ces composants en fonction du procédé spécifié de diffusion du solvant 114 pour l’article en CMC. L’article en CMC peut être une tuyère (telle que pour la section 32 de la tuyère d’éjection ou la section d’échappement 76 de la tuyère de soufflante), un profil aérodynamique (tel que pour une aube 70 du rotor de turbine HP) ou un autre composant du moteur à turbine à gaz 10. La base d’outil 102 supporte une pluralité de plis d’un matériau CMC pendant la formation de l’article en CMC. Les plis sont déposés sur la plate-forme en une « préforme » 124, par exemple un article partiellement formé avec des plis non traités du matériau CMC. La plate-forme 104 de la base d’outil 102 est façonnée en fonction de la conception de l’article en CMC. Dans un exemple, tel qu’illustré à la FIG. 2 , la plate-forme 104 peut être sensiblement plate pour un article en CMC plat. Dans un autre exemple (non illustré aux FIG.), la plate-forme 104 peut être incurvée, telle qu’un arc de cercle, pour former un article en CMC incurvé. Le système 100 comporte l’enceinte 110 qui renferme la préforme 124 sur la plate-forme 104. L’enceinte 110 est une région située entre le sac 108 et la plate-forme 104 dans laquelle la pression de l’air est ajustée, c’est-à-dire qu’une « pression à vide » est la pression des gaz (tels que l’air et le solvant évaporé 114) dans l’enceinte 110. Plus spécifiquement, le sac 108 est fixé ou autrement assujetti à la plate-forme 104 pour former un joint 122 qui est étanche à l’air et entoure la préforme 124 sur la plate-forme 104, enfermant la préforme 124 à l’intérieur de l’enceinte 110. Le sac 108 est un matériau approprié, tel qu’un polymère souple, pour former le joint 122 lorsqu’il est assujetti à la plate-forme 104. Alternativement, non illustré aux FIG., le sac 108 peut contenir la plate-forme 104 et la base d’outil 102. Dans une telle forme, l’enceinte 110 encapsule complètement la préforme 124, la plate-forme 104 et la base d’outil 102. L’encapsulation complète permet la diffusion du solvant 114 dans la préforme 124 lorsque plusieurs bases d’outils 102 (non représentées) sont utilisées pour former l’article en CMC. La pompe à vide 116 évacue l’air de l’enceinte 110 ou fournit de l’air à celle-ci pour atteindre une pression à vide spécifiée à l’intérieur de l’enceinte 110. Par exemple, la pression à vide spécifiée peut être de 5 à 20 kilopascals (kPa) (37,5 à 150 Torr). La pression à vide spécifiée peut être supérieure à la pression de vapeur d’équilibre du solvant 114 à une teneur en solvant spécifiée de la préforme 124 de telle sorte que le solvant 114 ne diffuse pas hors de la préforme 124. Une vanne 126 peut être fermée pour maintenir l’enceinte 110 à la pression à vide spécifiée. la réserve de solvant 112 fournit le solvant 114 à l’enceinte 110. La réserve de solvant 112 est une cuve ou un réservoir qui contient le solvant 114 dedans. Le solvant 114 est un liquide (tel que l’alcool isopropylique, l’alcool furfurylique ou un mélange des deux) qui réagit avec des produits chimiques dans la préforme 124 pour améliorer la flexibilité des plis de la préforme 124 et pour améliorer la consolidation des plis du stratifié. Le solvant liquide 114 s’évapore dans la réserve de solvant 112 jusqu’à ce que le solvant 114 atteigne la pression de vapeur à laquelle le solvant sous forme de vapeur 114 est à l’équilibre avec le solvant liquide 114. De même, le solvant 114 de la préforme 124 s’évapore jusqu’à ce que le solvant sous forme de vapeur 114 soit à l’équilibre avec le solvant liquide 114 dans la préforme 124. Lorsque la pression de vapeur du solvant 114 dans la réserve de solvant 112 dépasse la pression de vapeur dans l’enceinte 110, le solvant 114 se diffuse alors de la réserve de solvant 112 vers l’enceinte 110. En d’autres termes, l’augmentation de la pression de vapeur du solvant 114 dans l’enceinte 110 entraîne le solvant 114 de la réserve de solvant 112 vers la préforme 124, ce qui augmente la quantité du solvant 114 dans la préforme 124. Lorsque la pression de vapeur du solvant 114 dans la réserve de solvant 112 est inférieure à la pression de vapeur dans l’enceinte 110, le solvant 114 se diffuse de l’enceinte 110 vers la réserve de solvant 112. Ainsi, la diminution de la pression de vapeur du solvant 114 dans l’enceinte 110 extrait le solvant 114 de la préforme 124, diminuant ainsi la quantité de solvant 114 dans la préforme 124. Le contrôle de la pression de vapeur du solvant (permet de ce fait de contrôler la diffusion du solvant 114 dans et hors de la préforme 124) peut comporter le contrôle de : une température du solvant 114, une pression à vide de l’enceinte 110, une composition chimique du solvant 114, ou des combinaisons de ceux-ci. La modification de la température et/ou de la pression à vide et/ou de la composition chimique ajuste la pression de vapeur du solvant 144, ce qui déclenche la diffusion du solvant 114 jusqu’à ce que la pression de vapeur du solvant 114 dans la réserve de solvant 112 soit sensiblement égale à la pression de vapeur du solvant 114 dans l’enceinte 110. Dans un tel état, la pression de vapeur du solvant 114 dans le système 100 atteint un « équilibre » ou un « état d’équilibre ». La température spécifique, la pression à vide, la composition chimique ou des combinaisons de celles-ci peuvent être déterminées de telle sorte que, à l’état d’équilibre, une quantité spécifiée de solvant 114 soit fournie à la préforme 124 ou extraite de celle-ci. En complément, le solvant 114 peut être transmis de la réserve de solvant 112 à la préforme 124 au travers du reniflard 106. Comme le montre la FIG. 2 , le reniflard 106 entoure la préforme 124 et le solvant 114 se diffuse dans le reniflard 106. Le solvant 114 se diffuse ensuite du reniflard 106 vers la préforme 124 jusqu’à ce que la préforme 124, la vapeur dans l’enceinte 110 et le reniflard 106 atteignent un état d’équilibre. Le reniflard 106 peut être un matériau approprié pour transmettre le solvant 114, tel qu’un tissu en fibres. Le reniflard 106 de la FIG. 2 est représenté comme une construction en deux parties avec un premier reniflard 106A disposé entre la préforme 124 et la plate-forme 104 et un second reniflard 106B disposé entre la préforme 124 et le sac 108. Les premier et second reniflards 106A, 106B peuvent être placés séparément, le premier reniflard 106A étant disposé sur la plate-forme 104 et le second reniflard 106B étant disposé sur le premier reniflard 106A et recouvrant la préforme 124. On aura à l’esprit que le reniflard 106 peut avoir n’importe quelle construction appropriée, telle qu’une construction en une seule pièce qui encapsule la préforme 124 avec un seul tissu, ou une construction en plusieurs pièces qui couvre différentes parties de la préforme 124. En complément ou alternativement, pour piloter le taux de diffusion dans l’enceinte 110, le dispositif de chauffage 118 et le second dispositif de chauffage 120 comportent chacun un ou plusieurs dispositifs ou éléments de chauffage (non représentés) qui fournissent de la chaleur à la réserve de solvant 112 et à la plate-forme 104. Le dispositif de chauffage 118 et le second dispositif de chauffage 120 peuvent chacun comporter un ou plusieurs dispositifs de chauffage électriques, dispositifs de chauffage à combustion, dispositifs de chauffage à induction, échangeurs de chaleur à fluide, dispositifs de chauffage chimiques, dispositifs de chauffage radiatifs, ou des combinaisons de ceux-ci. Le dispositif de chauffage 118 chauffe la réserve de solvant 112 à une température spécifiée. La température spécifiée peut être déterminée de telle sorte que la pression de vapeur du solvant 114 dans la réserve de solvant 112 soit sensiblement égale à la pression de vapeur au niveau spécifié du solvant 114 dans la préforme 124, plaçant le solvant 114 dans l’état d’équilibre. Le solvant 114 se diffuse entre la préforme 124 et l’air dans l’enceinte 110 jusqu’à ce que la préforme 124 et l’air dans l’enceinte 110 atteignent l’état d’équilibre. L’augmentation de la température de la réserve de solvant 112 augmente la pression de vapeur du solvant 114, ce qui permet de diffuser plus de solvant 114 dans la préforme 124 que lorsque la réserve de solvant 112 est à température ambiante. De même, le second dispositif de chauffage 120 peut être actionné pour chauffer la plate-forme 104 à une température spécifiée afin d’augmenter la pression de vapeur du solvant 114 dans l’enceinte 110 au-dessus de la préforme 124. Ainsi, afin de fournir une quantité spécifique de solvant 114 à la préforme 124, le dispositif de chauffage 118 est actionné pour chauffer la réserve de solvant 112 à une première température et le second dispositif de chauffage 120 est actionné pour chauffer la plate-forme 104 à une seconde température de telle sorte que les pressions de vapeur respectives de l’air dans l’enceinte 110 et la préforme 124 soient sensiblement égales. La FIG. 3 est un diagramme 150 qui montre un graphique 152 de la pression de vapeur du solvant 114 dans la réserve de solvant 112 et un graphique 154 de la pression de vapeur du solvant 114 dans la préforme 124. L’axe vertical montre la pression de vapeur du solvant 114 en unités de livres par pouce carré (psi), et l’axe horizontal montre la température du solvant 114 en degrés Fahrenheit (°F). On aura à l’esprit que, bien que le diagramme 150 utilise des unités impériales, les unités SI équivalentes (telles que les kilopascals kPa et les degrés Celsius °C) seront répertoriées avec une approximation proche. La pression de vapeur du solvant 114 dans la réserve de solvant 112 et la pression de vapeur du solvant 114 dans la préforme 124 augmentent à mesure que la température du solvant 114 augmente. Dans une réalisation exemplaire, la préforme 124 représentée par le graphique 154 peut contenir 4 pour cent en poids (% en poids) du solvant 114 diffusé à l’intérieur de celle-ci. Comme le montre le graphique 150, pour obtenir une pression de vapeur spécifiée, la température du solvant 114 dans la réserve de solvant 112 et la température du solvant 114 dans la préforme 124 sont différentes. Par exemple, pour une pression de vapeur de 0,5 psi (3,4 kPa), la ligne 156 montre que la température du solvant dans la réserve de solvant 112 est d’environ 65 °F (18 °C) et que la température du solvant 114 dans la préforme 124 est d’environ 95 °F (35 °C). Ainsi, lorsque le solvant 114 dans la réserve de solvant 112 atteint 65 °F (18 °C) et que le solvant 114 dans la préforme 124 atteint 95 °F (35 °C), les pressions de vapeur sont sensiblement égales et le système 100 atteint l’équilibre. Le solvant 114 se diffuse dans ou hors de la préforme 124 jusqu’à ce que la quantité de solvant 114 dans la préforme 124 soit de 4 % en poids. Comme autre exemple, pour une pression de vapeur d’environ 0,7 psi (4,8 kPa), la ligne 158 montre que, à l’état d’équilibre, la température du solvant 114 dans la réserve de solvant 112 est d’environ 75 °F (24 °C) et la température de la préforme 124 est d’environ 110 °F (43 °C). Le fait d’avoir une température spécifiée supérieure à la température ambiante (70 à 72 °F, 20 à 21 °C) à l’extérieur du système 100 peut être avantageux car les dispositifs de chauffage 118, 120 peuvent ne pas être en mesure de refroidir la réserve de solvant 112 ou la plate-forme 104 à une température inférieure à la température ambiante. En se référant à la FIG. 2 , une fois que la préforme 124 et le solvant 112 ont atteint l’état d’équilibre et que le solvant 114 s’est diffusé dans la préforme 124, la pompe à vide 116 évacue l’enceinte 110 à une seconde pression à vide pour écraser la préforme 124. Dans ce contexte, « écraser » la préforme 124 signifie comprimer une épaisseur de la préforme 124 à une taille plus petite. À la seconde pression à vide, l’air emprisonné entre les couches de la préforme 124 est éliminé, et les couches de la préforme 124 se compriment, ce qui réduit la taille globale (l’épaisseur) de la préforme 124. Au cours du processus d’écrasement, la préforme 124 peut être encore chauffée par le second dispositif de chauffage 120 afin d’augmenter l’évacuation de l’air emprisonné dans la préforme 124. Après le processus d’écrasement, le sac 108 est retiré de la plate-forme 104, ce qui permet de desceller la préforme 124 de l’enceinte 110. Après le descellement de la préforme 124, une fabrication supplémentaire peut avoir lieu, telles que le dépôt d’une seconde pluralité de plis sur la préforme écrasée 124 pour former une nouvelle préforme (non illustrée). Des plis supplémentaires peuvent être déposés, dans lesquels s’est diffusé le solvant 114, et peuvent avoir été écrasés plusieurs fois pour former l’article en CMC final. Dans un exemple, l’article en CMC peut comporter 30 à 50 étapes de dépôt de plis et 8 à 12 étapes d’écrasement pour former l’article en CMC final. En référence aux FIG. 4 et 5, un autre système 200 pour la formation d’un article en CMC est illustré. La FIG. 4 montre une vue latérale du système 200, et la FIG. 5 montre une vue en coupe de haut en bas d’une enceinte 202 du système 200. Le système donné à titre d’exemple des FIG. 4 et 5 peut comporter certains composants qui sont similaires aux composants du système donné à titre d’exemple 100 de la FIG. 2 . Afin de clarifier les composants spécifiques utilisés pour chacun des systèmes 100, 200, les composants des systèmes 100, 200 sont différenciés par un numéro distinct même s’ils partagent un nom commun et une fonction commune. En référence spécifiquement à la FIG. 4 , le système 200 comporte l’enceinte 202 définie dans une chambre à vide 204, une plate-forme 206 positionnée dans la chambre à vide 204, et une réserve de solvant 208 disposée dans la chambre à vide 204 pour communiquer le solvant 210 à la chambre à vide 204. Dans certains cas, le système 200 peut comporter un ou plusieurs des éléments suivants : une pompe à vide 212 avec une vanne 214 en communication fluide avec la chambre à vide 204, et un dispositif de chauffage 216 en communication thermique avec la plate-forme 206 et la réserve de solvant 208. En plaçant la réserve de solvant 208 dans la chambre à vide 204 avec une ou plusieurs préformes 218 déposées sur la plate-forme 206, le solvant 210 s’évapore depuis la réserve de solvant 208 dans l’air à l’intérieur de la chambre à vide 204 et se diffuse dans les préformes 218. La chambre à vide 204 peut comporter un ou plusieurs réceptacles 220 disposés sur la plate-forme 206. Les préformes 218 et le solvant 210 sont logés dans les réceptacles 220, tels que des plateaux circulaires comme représenté sur la FIG. 5 . Le réceptacle 220 qui comporte le solvant 210 est « la réserve de solvant 208 » dans ce mode de réalisation donné à titre d’exemple. Les réceptacles 220 permettent d’introduire et de retirer des préformes 218 de l’enceinte 202, ce qui permet une diffusion rapide d’une pluralité de préformes 218 avec un temps d’arrêt minimal. Lors de l’utilisation de la pompe à vide 212 pour piloter la diffusion du solvant 210, la pompe à vide 212 évacue l’air de la chambre à vide 204 à une pression à vide spécifiée. Tel que décrit ci-dessus, la pression à vide est déterminée initialement pour être supérieure à la pression de vapeur d’équilibre du solvant 114 au-dessus des préformes 124 (à la teneur en solvant spécifiée). La vanne 214, lorsqu’elle est ouverte, permet à la pompe à vide 212 d’évacuer l’air et, lorsqu’elle est fermée, maintient la pression à vide dans la chambre à vide 204. Lors de l’utilisation du dispositif de chauffage 216 pour piloter la diffusion du solvant 210, le dispositif de chauffage 216 est disposé sous la plate-forme 206 pour chauffer les préformes 218 et la réserve de solvant 208. Le dispositif de chauffage 216 des FIG. 4 et 5 comporte deux zones chauffantes qui peuvent être contrôlées indépendamment. Une zone chauffante externe 222 chauffe une région de la plate-forme 206 sur laquelle se trouvent les réceptacles contenant les préformes 218. Une zone chauffante interne 224 chauffe une région de la plate-forme 206 sur laquelle se trouve la réserve de solvant 208. En ayant différentes zones chauffantes, les préformes 218 et la réserve de solvant 208 peuvent être chauffées à différentes températures. Comme exposé ci-dessus par rapport à la FIG. 3 , le chauffage du solvant 210 et des préformes 218 à des températures différentes pour égaliser les pressions de vapeur peut améliorer la diffusion du solvant 210 dans les préformes 218. Alternativement, le dispositif de chauffage 216 peut chauffer les préformes 218 et le solvant 210 à la même température. On aura à l’esprit que le dispositif de chauffage 216 peut comporter un nombre différent de zones de chauffage, telles qu’une zone chauffante spécifique pour chaque réceptacle 220 afin de chauffer chaque préforme 218 individuellement ou une zone chauffante unique pour chauffer tous les réceptacles 220 ensemble. En complément ou alternativement, le solvant 114, 210 dans la réserve de solvant 112, 208 peut être différent du solvant 114, 210 dans l’enceinte 110, 202. À savoir, le solvant 114, 210 dans l’enceinte 110, 202 peut être un premier solvant à une première pression de vapeur, et le solvant 114, 210 dans la réserve de solvant 112, 208 peut être un second solvant à une seconde pression de vapeur. Le second solvant peut être choisi pour être un mélange de deux produits chimiques différents ou plus. Par exemple, le premier solvant peut être de l’alcool isopropylique pur, et le second solvant peut être un mélange d’alcool isopropylique et d’alcool furfurylique. Dans une telle forme, il n’est pas nécessaire de chauffer la réserve de solvant 112, 208 et l’enceinte 110, 202, car les pressions de vapeur différentes des premier et second solvants entraînent la diffusion du second solvant dans les préformes 124, 218. En référence maintenant à la FIG. 6 , un diagramme de flux d’un procédé 300 de formation d’un article en CMC conformément à un aspect donné à titre d’exemple de la présente description est fourni. Le procédé 300 de la FIG. 6 peut être utilisé pour former un ou plusieurs des articles donnés à titre d’exemple décrits ci-dessus en référence à la FIG. 1 . En conséquence, on aura à l’esprit que le procédé 300 peut généralement être utilisé pour former un article en CMC pour un moteur à turbine à gaz. Cependant, dans d’autres aspects donnés à titre d’exemple, le procédé 300 peut être utilisé en complément ou alternativement pour former des articles en CMC pour d’autres applications. À une étape (302), le procédé 300 comporte le dépôt d’une pluralité de plis d’un matériau CMC. Comme décrit ci-dessus, les plis sont disposés sur une plate-forme pour former une préforme. La plate-forme peut faire partie d’une base d’outil sur laquelle est formé l’article en CMC. La plate-forme peut être disposée dans une enceinte, telle qu’une chambre à vide, ou la plate-forme peut former l’enceinte avec un sac. Lors d’une étape (304), le procédé 300 comporte le scellement de la préforme dans l’enceinte. Pour sceller les plis, le sac peut être fixé à la plate-forme pour former un joint qui entoure la préforme. Alternativement, lorsque l’enceinte est une chambre à vide, un couvercle de la chambre à vide peut être fermé pour sceller la préforme. Tel que décrit ci-dessus, l’enceinte est en communication fluide avec une réserve de solvant qui fournit du solvant à la préforme dans l’enceinte. Lors d’une étape (306), le procédé 300 comporte l’évacuation de l’enceinte à une pression à vide spécifiée. Tel que décrit ci-dessus, l’évacuation de l’enceinte peut comporter l’actionnement d’une pompe à vide pour évacuer l’air de l’enceinte. La pression à vide spécifiée peut être déterminée sur la base de la pression de vapeur du solvant dans la réserve de solvant, de la pression de vapeur du solvant dans la préforme, ou des deux. On aura à l’esprit que, lorsque la diffusion du solvant n’est commandée que par le chauffage ou par la composition du solvant, l’étape (306) peut être omise. Lors d’une étape (308), le procédé 300 comporte le chauffage de la réserve de solvant, de la préforme ou des deux. Par exemple, un premier dispositif de chauffage peut être actionné pour chauffer le solvant dans la réserve de solvant à une première température, et un second dispositif de chauffage peut être actionné pour chauffer la préforme à une seconde température qui est différente de la première température. Le chauffage de la préforme peut inclure le chauffage de la plate-forme sur laquelle la préforme est posée. Le chauffage de la réserve de solvant et de la préforme peut améliorer le flux de solvant entre la réserve de solvant et l’enceinte. On aura à l’esprit que, lorsque la diffusion du solvant n’est commandée que par le réglage de la pression à vide ou par la composition du solvant, l’étape (308) peut être omise. Lors d’une étape (310), le procédé 300 comporte la diffusion du solvant vers ou depuis la réserve de solvant à travers la préforme. À la pression à vide, une certaine quantité de solvant s’évapore de la réserve de solvant et de la préforme. Le solvant évaporé est transmis vers ou depuis la réserve de solvant et vers ou depuis l’enceinte pour atteindre un état d’équilibre. Plus spécifiquement, le solvant évaporé peut se diffuser dans la préforme pour fournir à la préforme une quantité spécifiée de solvant qui est fonction de la pression de vapeur du solvant. La plate-forme peut comporter un reniflard qui transmet le solvant de la réserve de solvant à la préforme. Lors d’une étape (312), le procédé 300 comporte, après diffusion du solvant à travers la préforme, l’évacuation de l’enceinte à une seconde pression à vide afin d’écraser la préforme. L’écrasement de la préforme permet d’éliminer l’air emprisonné entre les plis et de comprimer la préforme à une taille plus petite. Après l’écrasement de la préforme, l’enceinte peut être descellée et le procédé 300 peut revenir à l’étape (302) pour déposer une seconde pluralité de plis sur la préforme. Le procédé 300 peut être répété plusieurs fois pour déposer des plis supplémentaires afin de former une nouvelle préforme, de diffuser le solvant dans la nouvelle préforme et d’écraser la préforme pour former l’article en CMC. Des étapes supplémentaires de finition non représentées dans le procédé 300 peuvent être réalisées après l’écrasement de la préforme. Par exemple, l’article en CMC peut être soumis à une étape d’autoclavage pour brûler les solvants et compacter davantage les plis de la préforme écrasée. Alternativement ou en complément, l’article en CMC peut subir une étape de pyrolyse pour convertir la matière organique restante en charbon. En outre, l’article en CMC peut être soumis à une étape d’infiltration de matière fondue ou d’infiltration chimique en phase vapeur pour infiltrer dans l’article du silicium, qui réagit avec le carbone dans les plis pour former une matrice de carbure de silicium. D’autres aspects sont fournis par l’objet des clauses suivantes : Un procédé de formation d’un article en composite à matrice céramique (CMC) comprend le dépôt d’une pluralité de plis d’un matériau CMC, le scellement de la pluralité de plis dans une enceinte sous vide qui est en communication fluide avec une réserve de solvant, la réserve de solvant incluant un volume d’un solvant, et la diffusion du solvant vers ou depuis la réserve de solvant à travers la pluralité de plis. Le procédé selon l’une quelconque des clauses précédentes, incluant en outre le chauffage de la réserve de solvant à une première température et le chauffage de la pluralité de plis à une seconde température, la première température étant différente de la seconde température. Le procédé selon l’une quelconque des clauses précédentes, dans lequel le dépôt de la pluralité de plis comporte en outre le dépôt de la pluralité de plis sur un dispositif de chauffage, dans lequel le chauffage de la pluralité de plis comporte en outre l’actionnement du dispositif de chauffage pour chauffer la pluralité de plis. Le procédé selon l’une quelconque des clauses précédentes, dans lequel la diffusion du solvant à partir de la réserve de solvant comporte en outre la transmission du solvant vers ou depuis la réserve de solvant vers l’enceinte au travers d’un reniflard. Le procédé selon l’une quelconque des clauses précédentes, dans lequel la diffusion du solvant comporte en outre l’actionnement d’une pompe à vide pour évacuer l’air de l’enceinte. Le procédé selon l’une quelconque des clauses précédentes, dans lequel le dépôt de la pluralité de plis comporte en outre le dépôt de la pluralité de plis sur une base d’outil ayant une plate-forme positionnée à l’intérieur de l’enceinte. Le procédé selon l’une quelconque des clauses précédentes, incluant en outre le chauffage de la plate-forme pour chauffer la pluralité de plis. Le procédé selon l’une quelconque des clauses précédentes, dans lequel la réserve de solvant est disposée à l’intérieur de l’enceinte. Le procédé selon l’une quelconque des clauses précédentes, incluant en outre, après la diffusion du solvant à travers la pluralité de plis, l’évacuation de l’enceinte à une pression à vide pour écraser la pluralité de plis. Le procédé selon l’une quelconque des clauses précédentes, dans lequel la pluralité de plis est une première pluralité de plis, et dans lequel le procédé comporte en outre, après l’écrasement de la pluralité de plis, le descellement de la pluralité de plis de l’enceinte et le dépôt d’une seconde pluralité de plis sur la première pluralité de plis. Le procédé selon l’une quelconque des clauses précédentes, dans lequel le dépôt de la pluralité de plis comporte en outre le dépôt de la pluralité de plis sur une plate-forme, dans lequel le scellement de la pluralité de plis dans l’enceinte comporte en outre la fixation d’un sac à la plate-forme pour former un joint, dans lequel le joint entoure la pluralité de plis. Un appareil configuré pour réaliser le procédé selon l’une quelconque des clauses précédentes. Un système de formation d’un article en composite à matrice céramique (CMC) comporte une enceinte, une réserve de solvant en communication fluide avec l’enceinte, un dispositif de chauffage en communication thermique avec la réserve de solvant, et une base d’outil ayant une plate-forme positionnée dans l’enceinte pour recevoir une pluralité de plis d’un matériau CMC. Le système selon l’une quelconque des clauses précédentes, dans lequel l’enceinte est définie dans une chambre à vide. Le système selon l’une quelconque des clauses précédentes, dans lequel la réserve de solvant est disposée dans la chambre à vide. Le système selon l’une quelconque des clauses précédentes, incluant en outre une pompe à vide en communication fluide avec la chambre à vide. Le système selon l’une quelconque des clauses précédentes, dans lequel le dispositif de chauffage est un premier dispositif de chauffage, et dans lequel le système comporte en outre un second dispositif de chauffage positionné pour être en communication thermique avec la pluralité de plis lorsque la pluralité de plis est positionnée sur la plate-forme, dans lequel le premier dispositif de chauffage est configuré pour chauffer le solvant dans la réserve de solvant à une première température et dans lequel le second dispositif de chauffage est configuré pour chauffer la pluralité de plis à une seconde température qui est différente de la première température. Le système selon l’une quelconque des clauses précédentes, comprenant en outre un sac fixé à la plate-forme, dans lequel l’enceinte est une région située entre le sac et la plate-forme. Le système selon l’une quelconque des clauses précédentes, dans lequel le dispositif de chauffage est un premier dispositif de chauffage, et dans lequel le système comporte en outre un second dispositif de chauffage en communication thermique avec la plate-forme et configuré pour être en communication thermique avec la pluralité de plis lorsque la pluralité de plis sont posés sur la plate-forme. Le système selon l’une quelconque des clauses précédentes, dans lequel le sac forme un joint avec la plate-forme, et dans lequel le joint entoure la pluralité de plis sur la plate-forme. Le système selon l’une quelconque des clauses précédentes, comprenant en outre un reniflard disposé entre la pluralité de plis et la plate-forme, le reniflard étant en communication fluide avec la réserve de solvant. Cette description écrite utilise des exemples pour décrire la présente description, y compris le meilleur mode, et également pour permettre à une quelconque personne compétente dans la technique de mettre en pratique la description, y compris la fabrication et l’utilisation de dispositifs ou systèmes quelconques et l’exécution de quelconques procédés incorporés. La portée brevetable de la description est définie par les revendications, et peut comporter d’autres exemples qui viennent à l’esprit des personnes compétentes dans la technique. De tels autres exemples sont censés prévus pour être dans le domaine d’application des revendications s’ils comportent des éléments structurels qui ne diffèrent pas du langage littéral des revendications, ou s’ils comportent des éléments structurels équivalents avec des différences non substantielles par rapport au langage littéral des revendications. Procédé (300) permettant de former un article en composite à matrice céramique (CMC), le procédé (300) comprenant : le dépôt d’une pluralité de plis d’un matériau CMC ; le scellement de la pluralité de plis dans une enceinte sous vide (110) qui est en communication fluide avec une alimentation en solvant (112) ; l’évacuation de l’enceinte sous vide (110) à une pression à vide ; et la diffusion d’un solvant (114) vers ou depuis la réserve de solvant (112) à travers la pluralité de plis. Procédé (300) selon la revendication 1, comprenant en outre : le chauffage de la réserve de solvant (112) à une première température et le chauffage de la pluralité de plis à une seconde température, la première température étant différente de la seconde température. Procédé (300) selon l’une quelconque des revendications précédentes, dans lequel le dépôt de la pluralité de plis comprend en outre le dépôt de la pluralité de plis sur un dispositif de chauffage (118), dans lequel le chauffage de la pluralité de plis comprend en outre l’actionnement du dispositif de chauffage (118) pour chauffer la pluralité de plis. Procédé (300) selon l’une quelconque des revendications précédentes, dans lequel la diffusion du solvant (114) à partir de la réserve de solvant (112) comprend en outre la transmission du solvant (114) vers ou depuis la réserve de solvant (112) vers l’enceinte sous vide (110) à travers un reniflard (106). Procédé (300) selon l’une quelconque des revendications précédentes, dans lequel le dépôt de la pluralité de plis comprend en outre le dépôt de la pluralité de plis sur une base d’outil (102) ayant une plate-forme (104) positionnée à l’intérieur de l’enceinte sous vide (110). Procédé (300) selon l’une quelconque des revendications précédentes, comprenant en outre le chauffage de la plate-forme (104) pour chauffer la pluralité de plis. Procédé (300) selon l’une quelconque des revendications précédentes, comprenant en outre : après diffusion du solvant (114) à travers la pluralité de plis, l’évacuation de l’enceinte sous vide (110) à une seconde pression à vide afin d’écraser la pluralité de plis. Procédé (300) selon l’une quelconque des revendications précédentes, dans lequel la pluralité de plis est une première pluralité de plis, et dans lequel le procédé (300) comprend en outre : après l’écrasement de la pluralité de plis, le descellement de la pluralité de plis de l’enceinte sous vide (110) et le dépôt d’une seconde pluralité de plis sur la première pluralité de plis. Procédé (300) selon l’une quelconque des revendications précédentes, dans lequel le dépôt de la pluralité de plis comprend en outre le dépôt de la pluralité de plis sur une plate-forme (104), dans lequel le scellement de la pluralité de plis dans l’enceinte sous vide (110) comprend en outre la fixation d’un sac à vide (108) à la plate-forme (104) pour former un joint (122), dans lequel le joint (122) entoure la pluralité de plis. Système (100) permettant de former un article en composite à matrice céramique (CMC), le système (100) comprenant : une enceinte sous vide (110) ; une réserve de solvant (112) en communication fluide avec l’enceinte sous vide (110) ; un dispositif de chauffage (118) en communication thermique avec la réserve de solvant (114) ; et une base d’outil (102) ayant une plate-forme (104) positionnée à l’intérieur de l’enceinte sous vide (110) pour recevoir une pluralité de plis d’un matériau CMC. Système (100) selon la revendication 10, dans lequel l’enceinte sous vide (110) est une chambre à vide (204). Système (100) selon l’une quelconque des revendications 10 à 11, dans lequel la réserve de solvant (112) est disposée dans la chambre à vide (204). Système (100) selon l’une quelconque des revendications 10 à 12, comprenant en outre : une pompe à vide (116) en communication fluide avec la chambre à vide (204). Système (100) selon l’une quelconque des revendications 10 à 13, dans lequel le dispositif de chauffage (118) est un premier dispositif de chauffage (118, 216), et dans lequel le système (100) comprend en outre : un second dispositif de chauffage (120) positionné pour être en communication thermique avec la pluralité de plis lorsque la pluralité de plis sont positionnés sur la plate-forme (104), dans lequel le premier dispositif de chauffage (118) est configuré pour chauffer le solvant (114) dans la réserve de solvant (112) à une première température et dans lequel le second dispositif de chauffage (120) est configuré pour chauffer la pluralité de plis à une seconde température qui est différente de la première température. Système (100) selon l’une quelconque des revendications 10 à 14, dans lequel l’enceinte sous vide (110) est un sac à vide (108) fixé à la plate-forme (104).