Brevet FR3161213A1 — publié le 20251017

Dispositif de support de cuisson (10) réalisé en un matériau réfractaire, caractérisé en ce qu’il comprend au moins une paroi (11, 12, 13, 14, 15) présentant une structure lattice composée de ladite matière réfractaire délimitant des pores (6), lesdits pores (11, 12, 13, 14, 15) représentant entre 10 % et 90 % du volume total de ladite paroi. Figure 2 Dispositif de support de cuisson DOMAINE DE L’INVENTION Le domaine technique de la présente invention est celui des dispositifs de cuisson à haute température d’une matière. Plus particulièrement, l’invention concerne un dispositif de support de cuisson réalisé en un matériau réfractaire, ainsi que son procédé d’obtention. ETAT DE LA TECHNIQUE Les dispositifs de cuisson faits en un matériau réfractaire sont capables de résister à des températures extrêmement élevées, généralement supérieures à 2000 °C, sans perdre leur forme, leur résistance mécanique ou leur intégrité chimique. Les matériaux réfractaires sont également résistants à la corrosion thermique, ce qui signifie qu'ils peuvent résister à l'interaction avec des fluides chauds ou des gaz sans se dégrader. Ces dispositifs tels les creusets, les gazettes, les supports, les plats, les piliers et les plaques, sont largement utilisés dans les industries céramiques, verrières et de traitement thermique d’une matière à haute température, généralement supérieure à 1000 °C. Ils sont particulièrement utiles dans les industries utilisant des technologies nécessitant le départ thermique d'un liant, ou déliantage, comme le moulage par injection de métal (Metal Injection Molding – MIM) et le moulage par injection de céramique (Ceramic Injection Molding – CIM). En outre, les dispositifs de cuisson servent de support de cuisson à un matériau que l’on souhaite chauffer ou cuire à haute température. Cependant, ces dispositifs présentent des inconvénients majeurs. Leur procédé de fabrication, généralement par coulage ou pressage, impose une masse importante qui consomme inutilement de l’énergie lors de leur utilisation en cuisson, représentant jusqu’à 50 %, voire plus, de la masse à chauffer dans le four. De plus, leurs parois pleines ou monolithiques entravent la libre circulation des gaz chauds vers, ou à partir de la matière, ce qui est un obstacle pour les procédés nécessitant le déliantage thermique ou les traitements thermiques sous atmosphère. De surcroit, ces dispositifs, souvent lourds, occasionnent de fortes hétérogénéités de température à l’intérieur du four de cuisson, ce qui est contraignant dans les procédés de cuisson nécessitant une grande précision de température. Il existe donc un besoin de disposer de supports de cuisson réfractaires limitant la consommation énergétique nécessaire à la cuisson de la matière, favorisant la circulation des gaz vers ou à partir de la matière et permettant une répartition homogène de la température à l’intérieur du four. L’invention concerne un dispositif de support de cuisson réalisé en un matériau réfractaire et comprenant au moins une paroi présentant une structure lattice composée de ladite matière réfractaire délimitant des pores, lesdits pores représentant entre 10 % et 90 % du volume total de ladite paroi. La structure lattice permet de diminuer la masse totale du dispositif de support de cuisson par rapport à un dispositif de support de cuisson présentant le même volume, le même matériau, mais ayant une structure monolithique. Ainsi, l’énergie nécessaire à la cuisson d’une matière est moindre. En outre, la structure lattice permet d’une part de diminuer la masse du dispositif de support de cuisson tout en conservant sa résistance thermique et mécanique. De plus, les pores permettent une libre circulation des gaz au travers du dispositif de support de cuisson, que cela soit vers ou depuis la matière disposée sur ou dans le dispositif de support de cuisson. En outre, cela permet un meilleur contrôle des procédés de cuisson d’une matière tels que les traitements thermiques sous gaz circulant et le déliantage. De surcroit, la masse allégée du dispositif de support de cuisson permet de diminuer son inertie thermique et donc d’accélérer le cycle de cuisson de la matière dans le four et de diminuer les écarts de température dans le four. Par exemple, les pores représentent 12 %, 15 %, 18 %, 20 %, 23 %, 28 %, 30 %, 35 %, 40 %, 45 %, 50 %, 55 %, 60 %, 65 %, 75 %, 80 %, 85 % ou 90 % du volume total de la paroi. Avantageusement, les pores représentent entre 30 % et 80 % du volume total de la paroi. Augmenter le pourcentage du volume représenté par les pores revient à augmenter la porosité de la paroi. Plus la porosité augmente, plus la masse de la paroi diminue et plus l’inertie thermique diminue. Les inventeurs ont découvert qu’une porosité de 80 % permettait de fournir une paroi présentant d’excellentes résistances thermique et mécanique, tout en diminuant de 40 % l’énergie nécessaire à la cuisson d’une matière par rapport à une paroi monolithique. Selon un mode de réalisation de l’invention, les pores de la structure lattice présentent un diamètre compris entre 0,3 mm et 30 mm. Selon un autre mode de réalisation de l’invention, le diamètre des pores de la structure lattice est hétérogène. Selon encore un autre mode de réalisation de l’invention, le diamètre des pores de la structure lattice diminue depuis une première surface de la paroi vers une deuxième surface de la paroi. Avantageusement, le diamètre des pores à proximité de la première surface est compris entre 3 mm et 30 mm, et le diamètre des pores à proximité de la deuxième surface est compris entre 0,3 mm et 10 mm. Le diamètre des pores permet en outre de déterminer les propriétés thermiques de la paroi comme la conductivité thermique de la paroi ainsi que les propriétés de circulation des gaz au travers de la paroi. Ainsi, en ayant un diamètre de pore variable, il est possible de concevoir une paroi qui présente des régions avec des niveaux de conductivité thermique ou des propriétés de circulation de fluides distincts. Selon encore un autre mode de réalisation de l’invention, au moins une partie des pores de la structure lattice définissent des ouvertures traversantes depuis une première surface de la paroi vers une deuxième surface de la paroi. Ce mode de réalisation permet en outre de créer une paroi qui présente des propriétés de circulation de fluides distinctes en fonction de la région spécifique de la paroi. Par exemple, la paroi selon l’invention peut comprendre : une région favorisant le passage de fluides depuis la matière, une région favorisant le passage de fluides vers la matière, et une région interdisant le passage de fluides au travers de la paroi. Selon encore un autre mode de réalisation de l’invention, le dispositif de support de cuisson comprend au moins un feuillet réalisé en un matériau réfractaire et recouvrant au moins en partie l’au moins une paroi. Ce mode de réalisation permet en outre d’interdire la circulation de fluide au travers de la paroi. De plus, dans le cas où la matière devient liquide suite à sa cuisson dans le four, le feuillet permet de la contenir sur ou dans le dispositif de support de cuisson. Selon encore un autre mode de réalisation de l’invention, la structure lattice est une structure lattice gyroïde. Selon encore un autre mode de réalisation de l’invention, le matériau réfractaire est choisi parmi le groupe constitué par l’alumine, la silice, la zircone, le carbure de silicium, le nitrure de silicium, la mullite, la carbo-mullite, la cordiérite, la cordiérite-mullite, le carbure de bore, le nitrure de bore, l’oxyde d’hafnium, le graphite, des composites céramiques, des céramiques silico-alumineuses, la stéatite et le titanate d’aluminium, l’oxynitrure de silicium et d’aluminium, seul ou en mélange. Selon encore un autre mode de réalisation de l’invention, le dispositif de support de cuisson est obtenu par fabrication additive. L’invention concerne également un procédé de fabrication d’un dispositif support de cuisson selon dans lequel le dispositif support de cuisson est réalisé par fabrication additive. L’impression 3D, ou fabrication additive permet de créer des structures lattice, ou structures en treillis, tridimensionnelles et présentant une porosité importante. En outre, la fabrication additive permet d’adapter la géométrie des structures telles que la densité, la taille et la forme des pores pour obtenir des caractéristiques personnalisées. Un tout premier avantage de la présente invention réside dans la faible masse du dispositif de support de cuisson permettant ainsi de réaliser des économies d’énergie lors de la cuisson d’une matière dans un four. Un autre avantage de la présente invention réside dans la diminution du temps de cuisson d’une matière dans un four de cuisson. Un autre avantage encore réside dans l’amélioration de la circulation des fluides dans le four de cuisson et au travers du dispositif de support de cuisson. Un autre avantage encore de la présente invention réside dans la diminution des écarts de température à l’intérieur du four. Un autre avantage encore de la présente invention réside dans l’adaptabilité du dispositif de support de cuisson à de multiples procédés de cuisson. Un autre avantage encore de la présente invention réside dans la possibilité de personnaliser le dispositif de support de cuisson. Un autre avantage encore de la présente invention réside dans la possibilité de créer des géométries variables et sur mesure du dispositif de support de cuisson. Un autre avantage encore de la présente invention réside dans la faible inertie thermique du dispositif de support de cuisson et donc permet une meilleure maitrise des paramètres de cuisson. Un autre avantage encore de la présente invention réside dans l’absence d’outillage pour obtenir le dispositif de support de cuisson. Un autre avantage encore de la présente invention réside dans la résistance mécanique du dispositif de support de cuisson. Un autre avantage encore de la présente invention réside dans la haute résistance au fluage du dispositif de support de cuisson. Un autre avantage encore de la présente invention réside dans le contrôle précis de la conductivité thermique, que cela soit sur l’ensemble ou sur des zones spécifiques du dispositif de support de cuisson. Un autre avantage encore de la présente invention réside dans la durabilité du dispositif de support de cuisson. D’autres caractéristiques, avantages et détails de l’invention seront mieux compris à la lecture du complément de description qui va suivre en rapport avec les dessins dans lesquels : FIG. 1 représente un dispositif support de cuisson selon un premier mode de réalisation de l’invention, FIG. 2 représente un dispositif support de cuisson selon un deuxième mode de réalisation de l’invention, et FIG. 3 représente un dispositif support de cuisson selon un troisième mode de réalisation de l’invention. DESCRIPTION DETAILLEE Dans le cadre de la présente invention, on entend par « matériau réfractaire » une substance possédant une résistance élevée aux températures extrêmement élevées. C'est-à-dire que ces matériaux sont capables de maintenir leur structure et leurs propriétés physiques même lorsqu'ils sont soumis à des températures supérieures à 1000 °C, voire 2000 °C. Le matériau réfractaire selon l’invention résiste également à la corrosion thermique et chimique, ce qui signifie qu'il peut interagir avec des fluides chauds sans se dégrader. Par exemple, le matériau réfractaire selon l’invention comprend de l’alumine, de la silice, de la zircone, du carbure de silicium, du nitrure de silicium, de la mullite, de la carbo-mullite, de la cordiérite, de la cordiérite-mullite, du carbure de bore, du nitrure de bore, de l’oxyde d’hafnium, du graphite, des composites céramiques, des céramiques silico-alumineuses, de la stéatite ou le titanate d’aluminium, de l’oxynitrure de silicium et d’aluminium, seul ou en mélange. Par exemple, le matériau réfractaire selon l’invention est un métal ou un alliage de métal réfractaire. Dans le cadre de la présente invention, on entend par « structure lattice » une structure en treillis correspondant à un assemblage de segments entrecroisés et maintenus les uns aux autres de sorte à former un ensemble rigide et poreux. Une structure lattice selon l’invention est par exemple constituée d’un ou plusieurs motifs élémentaires qui se répètent selon trois directions de l’espace, formant alors un réseau tridimensionnel. Dans le cadre de la présente invention, un « motif élémentaire », ou cellule unitaire, représente la plus petite portion répétitive d'une structure plus grande qui conserve les caractéristiques de la structure entière. Dans le contexte d'une structure lattice, le motif élémentaire est le modèle de base qui est répété à l'échelle macroscopique pour former l'ensemble de la structure. Il peut s'agir d'un arrangement particulier de nœuds et de liens, d'un motif géométrique spécifique ou d'une combinaison de ces éléments. Par exemple, les motifs élémentaires d’une structure lattice sont les suivants : motif « grille » comprenant une répétition de lignes croisées, motif « ligne » basé sur arrangement simple et linéaire de lignes, motif « rectiligne » dans lequel les lignes sont droites et parallèles, motif « nid d'abeilles » basé sur une cellule de forme hexagonale, motif « cubique » basé sur une cellule en forme de cube, motif « concentrique » comprenant des couches répétitives qui partagent un centre commun. motif « gyroïde » basé sur une surface minimale gyroid, caractérisée par des canaux continus sans intersections, motif « triangles » basé sur une cellule en forme de triangle, motif « trihexagonal » basé sur un réseau de triangles et d'hexagones, motif « subdivision cubique » basé sur une cellule comprenant un cube divisé en plus petits cubes. motif « octaédrique » formant une cellule de forme octaédrique, motif « quart cubique » dans lequel chaque cube est divisé en quatre parties, et motif « Zig Zag » qui suit un chemin en forme de « Z ». En outre, le motif élémentaire peut être n’importe quel motif élémentaire conçu de sorte à conférer à la structure lattice et l’au moins une paroi les propriétés thermiques, mécaniques et de circulation des gaz au travers de la paroi désirées. Dans le cadre de la présente invention, on entend par « pore » l’espace interstitiel situé entre le matériau réfractaire de la structure lattice. En outre, les pores de la structure lattice définissent un espace vide, dépourvus de matière réfractaire, dans la structure lattice. Dans le cadre de la présente invention, on entend par « volume total de la paroi » le volume comprenant le volume de l’espace vide défini par les pores ainsi que le volume occupé par le matériau réfractaire constituant la paroi. Dans le cadre de la présente invention, on entend par « diamètre d’un pore » la mesure du diamètre du plus grand cercle théorique qui peut être inséré à l'intérieur du pore, sans intersections avec les parois délimitées par le matériau réfractaire. Dans le cadre de la présente invention, on entend par « structure monolithique » une structure dépourvue de pores. En outre, dans une paroi ou structure monolithique, le volume total est représenté par le volume occupé par le matériau réfractaire. Dans le cadre de la présente invention, on entend par « fabrication additive », ou impression 3D, un procédé de fabrication permettant de créer, à partir de données numériques, un objet ou structure tridimensionnel en ajoutant un matériau couche par couche. Par exemple, la fabrication additive selon l’invention utilise la stéréolithographie, le frittage sélectif par laser, le dépôt de fil ou de granulés fondus ou encore le liage de poudre ou l’extrusion de pâte. En outre, la fabrication additive permet de produire des formes complexes qui seraient difficiles, voire impossibles, à obtenir avec les méthodes traditionnelles de pressage ou moulage. De plus, la fabrication additive permet de réduire la quantité de matériau, car seules les quantités nécessaires de matériau sont ajoutées pour créer la structure. En outre, la fabrication additive ne nécessite pas de moules pour obtenir le dispositif de support de cuisson. Cela permet de réduire les coûts et le temps de fabrication du dispositif de support de cuisson. Cela permet également de personnaliser le design du dispositif de support de cuisson. Comme décrit précédemment, l’invention concerne un dispositif de support de cuisson réalisé en un matériau réfractaire. Le dispositif comprend au moins une paroi présentant une structure lattice composée de la matière réfractaire délimitant des pores. Les pores représentent entre 10 % et 90 % du volume total de ladite paroi. La FIG. 1 représente un dispositif de support de cuisson selon un premier mode de réalisation de l’invention. Dans ce premier mode de réalisation, le dispositif de support de cuisson 1 est représenté par une plaque de cuisson 1. La plaque de cuisson 1 est entièrement réalisée en un matériau réfractaire tel que l’alumine, la silice, la zircone, le carbure de silicium, le nitrure de silicium, la mullite, la carbo-mullite, la cordiérite, la cordiérite-mullite, le carbure de bore, le nitrure de bore, l’oxyde d’hafnium, le graphite, des composites céramiques, de l’oxynitrure de silicium et d’aluminium, des céramiques silico-alumineuses, la stéatite et/ou le titanate d’aluminium. La plaque de cuisson 1 comprend une paroi 2 présentant une structure lattice hétérogène. La structure lattice est présente sur toute la paroi 2 de la plaque de cuisson 1. La structure lattice est composée de la matière réfractaire délimitant des pores 3. La structure lattice est une structure lattice gyroïde. Le motif gyroïde permet d’augmenter la porosité de la paroi 2 de la plaque de cuisson 1 tout en conférant de bonnes résistances mécanique et thermique à la plaque de cuisson 1. Dans ce premier mode de réalisation, les pores 3 représentent 60 % du volume total de la plaque de cuisson 1. La matière réfractaire quant à elle représente 40 % du volume total de la plaque de cuisson 1. Le diamètre des pores 3 est constant dans la plaque de cuisson 1 et est compris entre 0,3 mm et 30 mm, préférentiellement 3 mm. Le diamètre des pores 3 est adaptable en fonction des propriétés désirées de la plaque de cuisson 1 telles que la conductivité thermique, les propriétés de circulation de gaz ainsi que de la taille des particules de matière reposant sur la plaque de cuisson 1. La paroi 2 de la plaque de cuisson 1 présente une épaisseur et une longueur prédéterminées en fonction des propriétés désirées de la plaque de cuisson 1. En outre, la paroi présente une première surface, une deuxième surface opposée à la première surface, une troisième surface, une quatrième surface opposée à la troisième surface, une cinquième surface et une sixième surface opposée à la cinquième surface. Selon un mode de réalisation préférée de la plaque de cuisson 1, la matière à cuire repose sur la première surface de la paroi 2 de la plaque de cuisson 1, la deuxième surface étant en contact avec le four ou un élément du four. Au moins une partie des pores 3 de la plaque de cuisson 1 définissent des ouvertures traversantes depuis une première surface de la paroi 2 vers une deuxième surface de la paroi 2. Cela permet une libre circulation des gaz au travers de la plaque de cuisson 1. Selon un mode de réalisation de l’invention, la plaque de cuisson 1 est réalisée d’un seul tenant. La plaque de cuisson 1 est par exemple obtenue par fabrication additive. En outre, la plaque de cuisson 1 permet de soutenir le matériel à cuire dans un four de cuisson (non représentés sur la FIG. 1 ). Le matériel repose par exemple sur la plaque de cuisson 1. Ainsi, lors de la cuisson du matériel dans le four, l’énergie nécessaire à sa cuisson est diminuée du fait de la conception particulière de la plaque de cuisson 1. De plus, la structure lattice, en raison de la présence de pores 3, permet une libre circulation des gaz au travers de la plaque de cuisson 1. La FIG. 2 représente un dispositif de support de cuisson selon un deuxième mode de réalisation de l’invention. Dans ce deuxième mode de réalisation, le dispositif support de cuisson 1 est représenté par un creuset 10. Le creuset 10 est entièrement réalisé en un matériau réfractaire tel que l’alumine, la silice, la zircone, le carbure de silicium, le nitrure de silicium, la mullite, la carbo-mullite, la cordiérite, la cordiérite-mullite, le carbure de bore, le nitrure de bore, l’oxyde d’hafnium, le graphite, des composites céramiques, l’oxynitrure de silicium et d’aluminium, des céramiques silico-alumineuses, la stéatite et/ou le titanate d’aluminium. Le creuset 10 comprend une première paroi 11, une deuxième paroi 12, une troisième paroi 13, une quatrième paroi 14 et une cinquième paroi 15. La première paroi 11 est destinée d’une part à recevoir la matière à cuire et, d’autre part, à reposer sur le four ou un élément du four (non représentés sur la FIG. 2 ). La deuxième paroi 12, la troisième paroi 13, la quatrième paroi 14 et la cinquième paroi 15 sont chacune reliées à la première paroi 11, préférentiellement au niveau des côtés de la première paroi 11. La deuxième paroi 12, la troisième paroi 13, la quatrième paroi 14 et la cinquième paroi 15 sont orientées selon un axe sensiblement perpendiculaire à la première paroi 11. La deuxième paroi 12, la troisième paroi 13, la quatrième paroi 14 et la cinquième paroi 15 sont également reliées entre elles. Les parois latérales représentées par les parois 12 à 15 permettent en outre de protéger la matière à cuire des rayonnements des résistances du four. Dans ce deuxième mode de réalisation de l’invention, toutes les parois 11 à 15 présentent une structure lattice. Cependant, il est possible de prévoir un creuset 10 comprenant une seule paroi 10 à 15 présentant une structure lattice, le reste des parois 10 à 15 présentant une structure monolithique. Alternativement, les jonctions entre les parois 11 à 15 présentent une structure monolithique de sorte à augmenter la résistance mécanique du creuset 10. La structure lattice est composée de la matière réfractaire délimitant des pores 16. La structure lattice est une structure lattice gyroïde. Le motif gyroïde permet d’augmenter la porosité des parois 11 à 15 du creuset 10 tout en conférant de bonnes résistances mécanique et thermique au creuset 10. Dans ce deuxième mode de réalisation, les pores 16 représentent 80 % du volume total des parois 11 à 15 et donc du creuset 10. La matière réfractaire quant à elle représente 20 % du volume total des parois 11 à 15 et donc du creuset 10. Alternativement, les pores 16 de chaque paroi 11 à 15 du creuset 10 représentent un volume différent du volume total de chaque paroi 11 à 15 de sorte que le creuset 10 présente des propriétés mécaniques et thermiques différentes en fonction de la paroi 11 à 15. Le diamètre des pores 16 est constant dans le creuset 10 et est compris entre 0,3 mm et 30 mm, préférentiellement 4 mm. Le diamètre des pores 16 est adaptable en fonction des propriétés désirées du creuset 10 telles que la conductivité thermique, les propriétés de circulation de gaz ainsi que de la taille des particules de matière reposant sur le creuset 10. Alternativement, chaque paroi 11 à 15 du creuset présente un diamètre de pore 16 différent de sorte que le creuset 10 présente des propriétés mécaniques et thermiques différentes en fonction de la paroi 11 à 15. Chaque paroi 11 à 15 du creuset 10 présente une épaisseur et une longueur prédéterminées en fonction des propriétés désirées du creuset 10. En outre, chaque paroi 11 à 15 présente une première surface, une deuxième surface opposée à la première surface, une troisième surface, une quatrième surface opposée à la troisième surface, une cinquième surface et une sixième surface opposée à la cinquième surface. Selon un mode de réalisation préférée du creuset 10, la matière à cuire repose sur la première surface de la paroi 11 du creuset 10, la deuxième surface de la paroi 11 du creuset 10 étant en contact avec le four ou un élément du four. Au moins une partie des pores 16 du creuset 10 définissent des ouvertures traversantes depuis une première surface de la paroi 11 à 15 vers une deuxième surface de la paroi 10 à 15. Cela permet une libre circulation des gaz au travers du creuset 10. Selon un mode de réalisation de l’invention, le creuset 10 est réalisé d’un seul tenant. Le creuset 10 est par exemple obtenu par fabrication additive. En outre, le creuset 10 permet de soutenir un matériel à cuire dans un four de cuisson (non représentés sur la FIG. 1 ). Le matériel est par exemple disposé dans le creuset 10 et repose sur la première paroi 11. Ainsi, lors de la cuisson du matériel dans le four, l’énergie nécessaire à sa cuisson est diminuée du fait de la conception particulière du creuset 10. De plus, la structure lattice des parois 11 à 15, en raison de la présence des pores 16, permet une libre circulation des gaz au travers du creuset 10. La FIG. 3 représente un dispositif de support de cuisson selon un troisième mode de réalisation de l’invention. Dans ce troisième mode de réalisation, le dispositif de support de cuisson 1 est représenté par le creuset 10 selon le deuxième mode de réalisation auquel est ajouté un feuillet 17. Le feuillet 17 est réalisé en un matériau réfractaire et recouvre au moins en partie une première surface des parois 11 à 15. En outre, le feuillet 17 est disposé à l’intérieur du creuset 10 et est solidaire des parois 11 à 15. Le feuillet 17 présente une structure monolithique. Le feuillet 17 permet d’obtenir une surface de paroi 11 à 15 pleine de sorte à permettre la fonte de la matière à cuire, la cuisson de matières pulvérulentes, et empêcher l’écoulement de la matière au travers des pores 16 du creuset 10. Le feuillet permet également de protéger la matière à cuire des rayonnements des résistances et ainsi diminuer les écarts de température. Préférentiellement, le feuillet 17 présente une épaisseur réduite de sorte à ne pas alourdir le creuset 10. Par exemple, le feuillet 17 présente une épaisseur comprise entre 0,3 mm et 10 mm, préférentiellement 1 mm. Le feuillet 17 peut également être utilisé en combinaison avec la plaque de cuisson 1 du premier mode de réalisation de l’invention. Dans tous les modes de réalisation de l’invention, le diamètre des pores 3 et 16 de la structure lattice peut être hétérogène. Le diamètre des pores 3 et 16 permet en outre de déterminer les propriétés thermiques des parois 2 et 11 à 15 comme la conductivité thermique ainsi que les propriétés de circulation des gaz au travers des parois 2 et 11 à 15. Ainsi, en ayant un diamètre de pore 3, 16 variable, il est possible de concevoir des parois 2 et 11 à 15 qui présentent des régions avec des niveaux de conductivité thermique ou des propriétés de circulation de fluides distincts. Par exemple, le diamètre des pores 3, 16 de la structure lattice diminue depuis une première surface de la paroi 2 et 11 à 15 vers une deuxième surface de la paroi 2 et 11 à 15. Ainsi, le diamètre des pores à proximité de la première surface de la paroi 2 et 11 à 15 peut être compris entre 3 mm et 30 mm. Le diamètre des pores 3, 16 à proximité de la deuxième surface de la paroi 2 et 11 à 15 peut être compris entre 0,3 mm et 10 mm. De la même façon, les pores 3 et 16 peuvent présenter une orientation différente dans les parois 2 et 11 à 15 de façon à autoriser, interdire ou dévier les rayonnements des résistances. L’invention concerne également un procédé d’obtention d’un dispositif de support de cuisson 1, 10 selon l’invention par fabrication additive, ou impression 3D. La fabrication additive permet de générer des structures lattices poreuses comprenant des pores. En outre, cela permet d’alléger la masse du dispositif de support de cuisson tout en permettant une bonne circulation des gaz à travers le dispositif support de cuisson. De plus, la fabrication additive ne nécessite qu’un seul système de fabrication, ce qui permet de réduire les coûts et d’accélérer le cycle de fabrication du dispositif de support de cuisson. De surcroit, la fabrication additive permet de générer une large gamme de structure lattice, tout comme une structure monolithique et donc d’adapter la géométrie générale du dispositif de support de cuisson 1, 10 à différentes utilisations. Ainsi, la fabrication additive permet un contrôle précis des caractéristiques intrinsèques du dispositif de support de cuisson 1, 10 généré telles que la densité, la masse, les propriétés de circulation des gaz, la conductivité thermique, le fluage, la résistance thermique, la résistance mécanique et l’inertie thermique. En outre, différentes technologies de fabrication additive peuvent être utilisées, parmi lesquelles la stéréolithographie (SLA), le DLP (Digital Light Processing), le FFF (Fused Filament Fabrication), le FGF (Fused Granule Fabrication), l’extrusion, le liage de poudre et la SLS (Selective Laser Sintering). En outre, la technologie de fabrication additive adaptée à la réalisation du dispositif de support de cuisson 1, 10 est choisie en fonction du matériau réfractaire utilisé, de la dimension du dispositif de support de cuisson 1, 10, de la ou des structures lattices du dispositif de support de cuisson 1, 10, de la géométrie des pores 3, 16, de la ou des structures lattices et de la quantité de matériau réfractaire nécessaire à l’obtention du dispositif de support de cuisson 1, 10. Un modèle numérique du dispositif de support de cuisson 1, 10 est dans un premier temps conçu en fonction des propriétés désirées du dispositif de support de cuisson 1, 10. En outre, le modèle numérique est personnalisable et adaptable à l’utilisation finale du dispositif de support de cuisson 1, 10. On détermine le matériau réfractaire adapté à l’environnement thermique que va subir le dispositif de support de cuisson 1, 10 comme, par exemple, le temps de cuisson, la température maximale de cuisson et les cycles de montée et descente en température. Le matériau réfractaire peut se présenter sous la forme de filaments, granulés ou pâtes. En outre, le matériau réfractaire est constitué d’un mélange de poudre de matériau réfractaire et de polymères. Par exemple, le matériau réfractaire utilisé pour la fabrication additive comprend 50 % en volume de poudre de matériau réfractaire. Par exemple, le matériau réfractaire servant à la fabrication additive est représenté par : une poudre de céramique, et/ou une pâte plastique de céramique contenant entre 20 % et 30 % d’humidité, ainsi des adjuvants organiques. Une fois le modèle numérique et le matériau réfractaire déterminés, on réalise des simulations numériques de façon à déterminer la structure lattice optimale de l’au moins une paroi du dispositif de support de cuisson 1, 10. Ainsi, le modèle numérique résultant des étapes précédentes intègre toutes les caractéristiques désirées du dispositif de support de cuisson 1, 10 apte à être produit par fabrication additive. En outre, le modèle numérique définit : les épaisseurs maximales et minimales de la ou des parois du dispositif de support de cuisson 1, 10, les contraintes liées aux surplombs maximaux, l’emplacement, le cas échéant, des supports d’impression, la densité ou la porosité, comprise entre 10 % et 90 %, des structures lattices présentes, la dimension des pores 3, 16 b de la structure lattice, et la géométrie des structures lattices, et l’emplacement, le cas échéant, de structures monolithiques, dépourvues de pores, dans le dispositif de support de cuisson 1, 10. Les structures monolithiques permettent en outre d’augmenter la résistance mécanique à la compression, aux frottements et aux chocs du dispositif de support de cuisson 1, 10. Le dispositif de support de cuisson 1, 10 est ensuite généré par fabrication additive en utilisant une ou plusieurs techniques de fabrication additive telles que définies précédemment. Une fois le dispositif de support de cuisson 1, 10 généré, il est éventuellement soumis à des processus de déliantage et de séchage, ou d'autres procédures de préparation précédant la cuisson. Le déliantage peut être effectué thermiquement, où le dispositif de support de cuisson 1, 10 est exposé à un cycle thermique allant de quelques heures à quelques jours, atteignant des températures maximales entre 300 et 1000 °C. Alternativement, le déliantage peut être effectué par voie chimique ou aqueuse. Dans ce cas, le dispositif de support de cuisson 1, 10 est immergé dans un solvant ou dans l'eau, à température ambiante ou selon un cycle thermique s'étendant sur quelques heures jusqu'à quelques jours, atteignant des températures de 40 à 90 °C. Cela peut être réalisé sous une atmosphère normale, sous pression ou sous vide. Le déliantage peut également être réalisé dans une atmosphère gazeuse et sous pression. Le séchage est spécifiquement utilisé pour les pâtes à base d'eau. Il implique un cycle qui peut durer de quelques heures à quelques jours, avec des températures allant de 20 °C à 90 °C. Enfin, le dispositif de support de cuisson 1, 10 peut être soumis à un processus de cuisson dans un four, atteignant des températures pouvant aller jusqu'à 2200 °C, voire supérieures à 2200 °C. Ce processus, connu sous le nom de frittage, suit un schéma spécifique comprenant des phases de montée en température, des paliers de température stable et des phases de descente en température. Les cycles de frittage peuvent s'étendre sur une durée de quelques heures à plusieurs jours. Cette durée est déterminée par des facteurs tels que la température maximale de frittage, le type de matériau réfractaire utilisé, les dimensions du dispositif de support de cuisson 1, 10, sa conception, le type de structure lattice, ainsi que la densité ou la porosité des structures lattices. L'atmosphère dans laquelle se déroule le frittage est déterminée en fonction du type de matériau réfractaire utilisé pour le dispositif de support de cuisson 1, 10. Cela peut être une atmosphère normale, un environnement sous vide, ou une atmosphère de gaz spécifique pour prévenir l'oxydation de certains matériaux, tels que les carbures ou les nitrures. De plus, le dispositif de support de cuisson 1, 10 peut subir des opérations de finition mécanique, telles que l'ébarbage, l'enlèvement des supports d'impression et l'usinage. Le dispositif de support de cuisson 1, 10 selon l’invention est particulièrement adapté à la cuisson de matière à haute température, supérieure à 1000 °C. En outre, toute matière destinée à être cuite ou subir une calcination peut être supportée par le dispositif de support de cuisson 1, 10. Par exemple, la matière peut être des hydroxydes d’aluminium ou d’autres métaux, des oxydes pigmentaires, des verres, de l’or ou autres métaux et des poudres céramiques. Le dispositif de support de cuisson 1, 10 peut également être utilisé pour fixer et supporter des éléments de fours de cuisson tels que les résistances. Dispositif de support de cuisson (1, 10) réalisé en un matériau réfractaire, caractérisé en ce qu’il comprend au moins une paroi (2, 11, 12, 13, 14, 15) présentant une structure lattice composée de ladite matière réfractaire délimitant des pores (3, 16), lesdits pores (3, 16) représentant entre 10 % et 90 % du volume total de ladite paroi (2, 11, 12, 13, 14, 15). Dispositif selon la revendication 1, caractérisé en ce que les pores (3, 16) de la structure lattice présentent un diamètre compris entre 0,3 mm et 30 mm. Dispositif selon la revendication 1 ou 2, caractérisé en ce que le diamètre des pores (3, 16) de la structure lattice est hétérogène. Dispositif selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que le diamètre des pores (3, 16) de la structure lattice diminue depuis une première surface de la paroi (2, 11, 12, 13, 14, 15) vers une deuxième surface de la paroi (2, 11, 12, 13, 14, 15). Dispositif selon la revendication 4, caractérisé en ce que : le diamètre des pores (3, 16) à proximité de la première surface est compris entre 3 mm et 30 mm, et le diamètre des pores (3, 16) à proximité de la deuxième surface est compris entre 0,3 mm et 10 mm. Dispositif selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce qu’au moins une partie des pores (3, 16) de la structure lattice définit des ouvertures traversantes depuis une première surface de la paroi (2, 11, 12, 13, 14, 15) vers une deuxième surface de la paroi (2, 11, 12, 13, 14, 15). Dispositif selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce qu’il comprend au moins un feuillet (17) réalisé en un matériau réfractaire et recouvrant au moins en partie l’au moins une paroi (2, 11, 12, 13, 14, 15). Dispositif selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que la structure lattice est une structure lattice gyroïde. Dispositif selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que le matériau réfractaire est choisi parmi le groupe constitué par l’alumine, la silice, la zircone, le carbure de silicium, le nitrure de silicium, la mullite, la carbo-mullite, la cordiérite, la cordiérite-mullite, le carbure de bore, le nitrure de bore, l’oxyde d’hafnium, le graphite, des composites céramiques, des céramiques silico-alumineuses, la stéatite et le titanate d’aluminium, l’oxynitrure de silicium et d’aluminium, seuls ou en mélange. Procédé de fabrication d’un dispositif support de cuisson (1, 10) selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce qu’il est réalisé par fabrication additive.