Brevet FR3162218A1 — publié le 20251121

La présente invention concerne un article vitrocéramique pour un dispositif de cuisson, comprenant un substrat vitrocéramique formé par un matériau vitrocéramique, le substrat présentant une première face destinée à recevoir des éléments de cuisson, le substrat comprend une zone mate, la zone mate comprenant au moins une partie de la première face, la partie de la première face présentant un profil présentant une densité de pics RPc comprise entre 125 et 3000. FIG. 1 Article vitrocéramique pour un dispositif de cuisson Domaine de l’invention La présente invention concerne un article vitrocéramique pour un dispositif de cuisson. L’invention concerne également un procédé de fabrication d’un tel article. Etat de la technique Il est connu de réduire l’effet des traces de doigts sur un article vitrocéramique pour un dispositif de cuisson en texturant une face principale de l’article. À cet effet, le document FR 3 078 066 décrit un procédé de texturation de la face principale d’un article vitrocéramique par dépôt d’un émail comprenant des pigments sur une face du verre mère avant céramisation. Le verre mère recouvert de l’émail est céramisé. Après la céramisation, l’émail présente une rugosité Ra supérieure à 0,4 µm et une rugosité Rt supérieure à 4 µm, permettant de réduire l’effet des traces de doigts au regard d’un article vitrocéramique dépourvu d’une telle texturation. Indépendamment, il est connu de traiter une face d’un article vitrocéramique d’un plan de cuisson de sorte à augmenter l’absorption acoustique de l’article, ce qui permet par exemple de limiter les émissions sonores lors du déplacement d’ustensiles de cuisson sur l’article comme des casseroles. Cependant, aucun article vitrocéramique ne présente de zone mate permettant conjointement de diminuer la visibilité des traces de doigt sur l’article pour un utilisateur et, d’autre part, de limiter les émissions sonores dues aux déplacements des ustensiles de cuisson sur la zone mate. Un but de l’invention est de proposer un article vitrocéramique présentant une zone mate permettant conjointement de diminuer la visibilité des traces de doigt sur l’article et de limiter les émissions sonores dues aux déplacements des ustensiles de cuisson sur la zone mate. Ce but est atteint, au moins partiellement, dans le cadre de la présente invention grâce à un article vitrocéramique pour un dispositif de cuisson, l'article comprenant un substrat vitrocéramique formé par un premier matériau vitrocéramique, le substrat présentant une première face destinée à recevoir par contact direct des éléments de cuisson et une deuxième face opposée à la première face par rapport au substrat, le substrat comprenant une zone mate, la zone mate comprenant au moins une partie de la première face, la partie de la première face présentant un profil présentant une densité de pics RPc comprise entre 125 et 3000, notamment comprise entre 175 et 1500, et préférentiellement comprise entre 200 et 350. La présente invention est avantageusement complétée par les caractéristiques suivantes, prises individuellement ou en l’une quelconque de leurs combinaisons techniquement possibles : - le profil présente un écart moyen arithmétique R a inférieure à 2 µm, notamment compris entre 0,01 µm et 2 µm, et préférentiellement compris entre 0,02 µm et 1 µm, - le profil présente une hauteur totale Rt comprise entre 1 µm et 10 µm, notamment comprise entre 2 µm et 8 µm et préférentiellement comprise entre 4 µm et 6 µm, - la zone mate présente un facteur de flou compris entre 20 % et 50 %, notamment compris entre 25 % et 45 % et préférentiellement compris entre 30 % et 40 %, - la partie de la première face est formée au moins en partie par un réseau bidimensionnel de crêtes s’étalant sur un plan principal suivant par la partie de la première face, - le premier matériau comprend au moins un premier élément choisi parmi du sodium, du potassium, du calcium et du baryum, une partie du premier matériau formant la partie de la première face, la partie du premier matériau s’étendant, selon l’épaisseur du substrat, depuis la partie de la première face jusqu’à une profondeur comprise entre 0,1 µm et 2,0 µm de la partie de la première face, la partie du premier matériau présentant une déplétion de la teneur en premier élément par rapport à une teneur moyenne en premier élément dans le substrat, et préférentiellement la partie du premier matériau présentant une teneur en premier élément inférieure à un cinquième de la teneur moyenne en premier élément dans le substrat, - le premier matériau comprend au moins un deuxième élément choisi parmi du lithium et du magnésium, une partie du premier matériau formant la partie de la première face, la partie du premier matériau s’étendant selon l’épaisseur du substrat depuis la partie de la première face jusqu’à une profondeur comprise entre 0,1 µm et 2,0 µm de la partie de la première face, la partie du premier matériau présentant un enrichissement de la teneur en deuxième élément par rapport à une teneur moyenne en deuxième élément dans le substrat, et préférentiellement la partie du premier matériau présentant une teneur en deuxième élément supérieure à 110 % de la teneur moyenne en deuxième élément dans le substrat, - le substrat est monolithique, le premier matériau étant formé par une pluralité d’éléments, une teneur de chaque élément étant constante et/ou variant de manière continue par rapport à une direction parallèle à une épaisseur du substrat, - une partie du premier matériau forme la partie de la première face, la partie du premier matériau s’étendant selon l’épaisseur du substrat depuis la partie de la première face jusqu’à une profondeur comprise entre 0,1 µm et 2,0 µm de la partie de la première face, et préférentiellement égale à 0,1 µm, la partie du premier matériau présentant une phase cristalline, préférentiellement une phase cristalline quartz-β, - la partie du premier matériau présente une fraction volumique en phase cristalline quartz-β supérieure à 50 %, notamment supérieure à 60 % et préférentiellement supérieure à 70 %, - l’article comprend une première couche imprimée sur la partie de la première face, -l’article comprend une deuxième couche imprimée sur la deuxième face. Un autre aspect de l’invention est procédé de fabrication d’un article selon un mode de réalisation de l’invention, comprenant les étapes successives de : a) fourniture d’un substrat verrier formé par un deuxième matériau verrier, le substrat verrier présentant une face principale, b) traitement de surface d’une partie du substrat verrier formant une partie de la face principale, la partie du substrat verrier s’étendant selon l’épaisseur du substrat verrier depuis la partie de la face principale jusqu’à une profondeur comprise entre 0,1 µm et 2,0 µm de la partie de la face principale, le traitement de surface comprenant des sous-étapes subséquentes de : - dépôt d’une couche de traitement formée par un troisième matériau sur la partie de la face principale, - traitement thermique de l’ensemble formé par le substrat verrier et par la couche de traitement, et - retrait de la couche de traitement de la partie de la face principale, c) traitement thermique de céramisation du substrat verrier, le substrat verrier formant le substrat vitrocéramique après le traitement thermique de céramisation, la partie de la face principale formant la partie de la première face après le traitement thermique de céramisation. Avantageusement, le traitement de surface est mis en œuvre par un enrichissement de la partie du substrat verrier formant la face principale en au moins un premier élément choisi parmi le sodium, le potassium, le calcium et le baryum. Avantageusement, le retrait de la couche de traitement est un retrait mécanique. Avantageusement, le troisième matériau comprend une fritte de verre. Avantageusement, le traitement thermique de l’ensemble formé par le substrat verrier et par la couche de traitement est mis en œuvre à une température comprise entre 570 °C et 640 °C, pendant une durée comprise entre 15 minutes et 150 minutes, notamment comprise entre 15 minutes et 90 minutes, et préférentiellement comprise entre 30 minutes et 60 minutes. Avantageusement, le troisième matériau comprend une teneur massique moyenne en premier élément strictement supérieure à la teneur massique moyenne en premier élément dans le substrat verrier. Description des figures D’autres caractéristiques, buts et avantages de l’invention ressortiront de la description qui suit, qui est purement illustrative et non limitative, et qui doit être lue en regard des dessins annexés sur lesquels : FIG. 1 - la FIG. 1 illustre schématiquement un l’article selon un mode de réalisation de l’invention, FIG. 2 - la FIG. 2 illustre schématiquement une section d’un article selon un mode de réalisation de l’invention, FIG. 3 - la FIG. 3 est une image obtenue par un microscope électronique à balayage d’une section d’un article selon un mode de réalisation de l’invention, FIG. 4 - la FIG. 4 est une image obtenue par un microscope électronique à balayage d’une première face d’un article selon un mode de réalisation de l’invention, FIG. 5 - la FIG. 5 est une image obtenue par un microscope électronique à balayage d’une première face d’un article selon un mode de réalisation de l’invention, FIG. 6 - la FIG. 6 illustre une variation d’une teneur massique normalisée en sodium dans le substrat d’un article selon un mode de réalisation de l’invention, FIG. 7 - la FIG. 7 illustre une variation d’une teneur massique normalisée en lithium dans le substrat d’un article selon un mode de réalisation de l’invention, FIG. 8 - la FIG. 8 illustre schématiquement une section d’un article selon un mode de réalisation de l’invention comprenant des couches imprimées sur le substrat, FIG. 9 - la FIG. 9 illustre schématiquement un procédé de fabrication d’un article selon un mode de réalisation de l’invention, FIG. 10 - la FIG. 10 illustre schématiquement des sous-étapes de l’étape de traitement de surface d’un procédé de fabrication d’un article selon un mode de réalisation de l’invention. Sur l’ensemble des figures, les éléments similaires portent des références identiques. Définitions Les paramètres associés à une texture d’une surface et à un profil d’une surface sont mesurés selon les méthodes définies dans les normes internationales ISO 4287 et ISO 4288. La norme internationale ISO 4287 est considérée dans sa version comprenant en premier amendement, définissant le nombre de pics. La norme internationale ISO 4287 définit une hauteur maximale d’un profil Rz comme la somme de la plus grande des hauteurs de saillie Zp du profil et de la plus grande des profondeurs de creux Zv à l’intérieur d’une longueur de référence L. La norme internationale ISO 4287 définit une largeur moyenne des éléments du profil RSm comme la valeur moyenne des largeurs X Si des éléments du profil, à l’intérieur d’une longueur prédéterminée, selon la formule suivante : (1) La largeur moyenne des éléments du profil RSm nécessite un discrimination de hauteur et d’espacement. La discrimination de hauteur doit être de 10 % de Rz et la discrimination d’espacement doit être de 1 % de la longueur de référence L. Les deux conditions doivent être respectées. La norme internationale ISO 4287 définit le nombre de pics (que l’on appellera indifféremment « nombre de pics » comme dans la norme ISO 4287 ou « densité de pics » dans la présente), comme le nombre de largeurs moyennes des éléments de profil R Sm dans une longueur de référence L, selon la formule (2) suivante : (2) La longueur de référence L est égale à 10 mm. Lors du calcul du nombre de pics, une discrimination de hauteur, pour le calcul de RSm, de ±0,5 μm est recommandée. La norme internationale ISO 4287 définit la hauteur totale du profil Rt comme étant la somme de la plus grande des hauteurs de saillie du profil et de la plus grande des profondeurs de creux du profil à l’intérieur du profil. La norme internationale ASTM 1003 définit le facteur de flou, également nommé « haze » en anglais, exprimée en pourcents. Ce facteur est défini avec une illumination de type D65 et avec un observateur incliné à 2,5°. Le facteur de flou est égal au rapport entre la transmission lumineuse diffuse (exprimée en pourcentage) et la transmission lumineuse totale (exprimée en pourcentage). De préférence, un substrat verrier peut être un substrat formé par un matériau apte à être un matériau vitrocéramique après un traitement thermique du substrat verrier. Le substrat verrier peut être un verre mère pour un substrat vitrocéramique, également appelé verre précurseur d’un substrat vitrocéramique. Description détaillée de l’invention Article 1 vitrocéramique En référence à la FIG. 1 , un aspect de l’invention est un article 1 vitrocéramique pour un dispositif 2 de cuisson. L'article 1 comprend un substrat 3 vitrocéramique formé par un premier matériau vitrocéramique. Le substrat 3 présente une première face 4 destinée à recevoir par contact direct des éléments de cuisson 5. Un élément de cuisson peut être par exemple une casserole ou une poêle. L’article 1 comprend une deuxième face 6 opposée à la première face 4 par rapport au substrat 3. Lorsque l’article 1 est monté dans un dispositif 2 de cuisson, la première face 4 peut être qualifiée de face supérieure par rapport au sol et la deuxième face 6 peut être qualifiée de face inférieure par rapport au sol. Le substrat 3 vitrocéramique est préférentiellement plan. Le substrat 3 comprend une zone mate 7. La zone mate 7 comprend au moins une partie de la première face 4. La partie de la première face 4 présente un profil présentant une densité de pics RPc comprise entre 125 et 3000, notamment comprise entre 175 et 1500, et préférentiellement comprise entre 200 et 350. Ainsi, en référence à la FIG. 2 , à la FIG. 3 , à la FIG. 4 et à la FIG. 5 , la densité de pics RPc précitée est représentative d’un réseau bidimensionnel de pics et de vallées dans un plan principal de la première face 4. Les caractéristiques topologiques de ce réseau bidimensionnel représentent une surface plissée formée de pics et de vallées, dont les écarts permettent conjointement de diminuer la visibilité des traces de doigt sur l’article pour un utilisateur au regard d’articles connus et de limiter les émissions sonores dues aux déplacements d’ustensiles de cuisson sur la zone mate. En référence à la FIG. 8 , l’article 1 peut comprendre une première couche 8 imprimée sur la partie de la première face 4. L’article 1 peut également comprendre une deuxième couche 9 imprimée sur la deuxième face 6. La ou les couches imprimées peuvent permettre de décorer substrat avec des indications visuelles, des filtres optiques, ou d’opacifier l’article 1. Topologie et rugosité de la première face 4 de la zone mate 7 De préférence, le profil présente un écart moyen arithmétique R a inférieur à 2 µm, notamment compris entre 0,01 µm et 2 µm, et préférentiellement compris entre 0,1 µm et 1 µm, notamment compris entre 0,4 µm et 0,65 µm. De préférence, le profil présente une hauteur totale Rt comprise entre 1 µm et 10 µm, notamment comprise entre 2 µm et 8 µm et préférentiellement comprise entre 4 µm et 6 µm. De préférence, la zone mate 7 présente un facteur de flou compris entre 20 % et 50 %, notamment compris entre 25 % et 45 % et préférentiellement compris entre 30 % et 40 %. En référence à la FIG. 2 , à la FIG. 3 , à la FIG. 4 et à la FIG. 5 , la première face 4 peut être formée au moins en partie par un réseau bidimensionnel de crêtes s’étalant sur un plan principal suivant la partie de la première face 4. De manière générale, un pic de la partie de la surface 4 peut être arrondi et/ou présenter une arête aiguë. L’arête peut être formée par une discontinuité du premier matériau sur la partie de la surface 4, comme illustré par la FIG. 3 . La FIG. 3 est une image obtenue par un microscope à balayage électronique illustrant une section du substrat 3 comprenant la partie de la première face 4. La barre d’échelle représente une longueur de 5 µm. La FIG. 4 et la FIG. 5 sont des images obtenues par un microscope à balayage électronique, illustrant la partie de la surface 4 formant la zone mate 7. Dans la FIG. 4 , le grossissement utilisé est de 500X et la barre d’échelle représente une longueur de 100 µm. Dans la FIG. 5 , le grossissement utilisé est de 2000X et la barre d’échelle représente une longueur de 30 µm. Distribution spatiale de la teneur en élément(s) dans le substrat 3 En référence à la FIG. 6 , le premier matériau peut comprendre au moins un premier élément choisi parmi du sodium, du potassium, du calcium et du baryum. Une partie du premier matériau forme la partie de la première face 4. La partie du premier matériau s’étend, selon l’épaisseur du substrat 3, depuis la partie de la première face 4 jusqu’à une profondeur comprise entre 0,1 µm et 2,0 µm de la partie de la première face 4. La partie du premier matériau peut présenter une déplétion de la teneur en premier élément par rapport à une teneur moyenne en premier élément dans le substrat 3. Notamment, la partie du premier matériau présente une teneur en premier élément inférieure à un cinquième de la teneur moyenne en premier élément dans le substrat 3, et préférentiellement inférieure à un dixième de la teneur moyenne en premier élément dans le substrat 3. Les inventeurs ont découvert que cette caractéristique est représentative d’un procédé de fabrication de l’article 1 comprenant une étape, préalable à une céramisation, dans laquelle on traite la surface d’un substrat précurseur (ou verre mère) au substrat 3 en déposant une couche de traitement, en traitant thermiquement l’ensemble puis en retirant la couche de traitement, de sorte à enrichir la partie du substrat précurseur traitée en au moins un élément choisi parmi du sodium, du potassium, du calcium et du baryum. Comme décrit ci-après, le traitement de surface entraîne une réorganisation des teneurs dans les éléments constitutifs du substrat verrier (ou précurseur) dans la partie du substrat verrier au contact de la couche de traitement 12. Suite à la céramisation du substrat précurseur, les inventeurs ont découvert, de manière contre-intuitive, une déplétion en premier élément dans la partie du premier matériau. La FIG. 6 illustre une telle déplétion pour l’élément sodium. En particulier, la FIG. 6 illustre une variation de la teneur massique normalisée en sodium avec la distance ou la profondeur à la partie de la première face 4. La courbe (a) et la courbe (b) illustrent des variations de la teneur massique normalisée en sodium pour des parties de la première face 4 exclues d’une zone mate 7. La courbe (c) et la courbe (d) illustrent des variations de la teneur massique normalisée en sodium pour des parties de la première face 4 de la zone mate 7. Des déplétions similaires ont été mesurées pour le potassium, le calcium et le baryum. En référence à la FIG. 7 , le premier matériau peut comprendre au moins un deuxième élément choisi parmi du lithium et du magnésium. La partie du premier matériau peut présenter un enrichissement de la teneur en deuxième élément par rapport à une teneur moyenne en deuxième élément dans le substrat 3, et préférentiellement la partie du premier matériau présente une teneur en deuxième élément supérieure à 110 % de la teneur moyenne en deuxième élément dans le substrat 3. Les inventeurs ont découvert que cette caractéristique est représentative d’un procédé de fabrication de l’article comprenant une étape, préalable à une céramisation, dans laquelle on traite la surface d’un substrat précurseur (ou verre mère) au substrat 3 en déposant une couche de traitement, en traitant thermiquement l’ensemble puis en retirant la couche de traitement, de sorte à enrichir la partie du substrat précurseur traitée en au moins un élément choisi parmi du sodium, du potassium, du calcium et du baryum. Comme décrit ci-après, le traitement de surface entraîne une réorganisation des teneurs dans les éléments constitutifs du substrat verrier (ou précurseur) dans la partie du substrat verrier au contact de la couche de traitement 12. Suite à la céramisation du substrat précurseur, les inventeurs ont découvert, de manière contre-intuitive, un enrichissement en deuxième élément dans la partie du premier matériau. La FIG. 7 illustre un tel enrichissement pour l’élément lithium. En particulier, la FIG. 7 illustre une variation de la teneur massique normalisée en lithium avec la distance ou la profondeur à partir de la partie de la première face 4. La courbe (e) et la courbe (f) illustre des variations de la teneur massique normalisée en lithium pour des parties de la première face 4 exclues d’une zone mate 7. La courbe (g) et la courbe (h) illustrent des variations de la teneur massique normalisée en lithium pour des parties de la première face 4 de la zone mate 7. Des enrichissements similaires ont été mesurés pour le magnésium. Le substrat 3 est monolithique et le premier matériau peut être formé par une pluralité d’éléments, une teneur de chaque élément étant constante et/ou variant de manière continue par rapport à une direction parallèle à une épaisseur du substrat 3. Le substrat 3 ne comprend pas d’interface discrète délimitant deux couches de part et d’autre de l’interface. Structure cristalline La partie du premier matériau définie ci-avant s’étend selon l’épaisseur du substrat 3 depuis la partie de la première face 4 jusqu’à une profondeur comprise entre 0,1 µm et 2,0 µm de la partie de la première face 4, et préférentiellement égale à 0,1 µm. La partie du premier matériau peut présenter une phase cristalline, préférentiellement une phase cristalline quartz-β. De préférence, une fraction volumique en phase cristalline, notamment en phase cristalline quartz-β, peut être supérieure à 50 %, notamment supérieure à 60 % et préférentiellement supérieure à 70 %. Ainsi, il est possible de réduire l’écart entre la fraction volumique en phase cristalline de la partie de premier matériau et entre la fraction volumique en phase cristalline moyenne du substrat 3. Procédé de fabrication de l’article 1 En référence à la FIG. 9 et à la FIG. 10 , un autre aspect de l’invention est un procédé 900 de fabrication d’un article 1 selon un mode de réalisation de l’invention. Le procédé comprend les étapes successives de fourniture 901 d’un substrat verrier 10, de traitement de surface 902 d’une partie du substrat verrier, et de traitement thermique de céramisation 903 du substrat verrier. Le substrat verrier 10 peut être plan. Comme exposé, le procédé 900 comprend une étape de fourniture 901 d’un substrat verrier 10 formé par un deuxième matériau verrier. Le substrat verrier 10 présente une face principale 11. Comme exposé, le procédé 900 comprend ensuite une étape de traitement de surface 902 d’une partie du substrat verrier 10 formant une partie de la face principale 11 de la partie du substrat verrier 10. La partie de la face principale 11 s’étend selon l’épaisseur du substrat verrier 10 depuis la partie de la face principale 11 jusqu’à une profondeur comprise entre 0,1 µm et 2,0 µm de la partie de la face principale 11. En référence à la FIG. 10 , le traitement de surface 902 comprend les sous-étapes subséquentes de : - dépôt 902a d’une couche de traitement 12 formée par un troisième matériau sur la partie de la face principale 11, - traitement thermique 902b de l’ensemble formé par le substrat verrier 10 et par la couche de traitement, et - retrait 902c de la couche de traitement de la partie de la face principale 11. Comme exposé, le procédé 900 comprend ensuite une étape de traitement thermique de céramisation 903 du substrat verrier. Le substrat verrier 10 forme le substrat 3 vitrocéramique après le traitement thermique de céramisation 903. La partie de la face principale 11 forme la partie de la première face 4 après le traitement thermique de céramisation 903. Ainsi, l’étape de traitement de surface 902 entraîne une réorganisation des teneurs dans les éléments constitutifs du substrat verrier 10 dans la partie du substrat verrier 10 au contact de la couche de traitement 12. La réorganisation intervient plus particulièrement lors de l’étape de traitement thermique du substrat verrier 10 et de la couche de traitement 12. Cette réorganisation affecte le coefficient de dilatation thermique, en particulier, elle permet de créer une différence entre le coefficient de dilation thermique du matériau formant la partie du substrat verrier 10 après la céramisation et entre le coefficient de dilatation thermique du matériau formant le reste du substrat verrier 10. De part cette différence, la partie du substrat verrier 10 subit des contraintes mécaniques lors du passage d’une température du traitement de céramisation 903 à une température ambiante. Ces contraintes mécaniques entraînent un plissement de la partie de la face principale 11 qui définit la rugosité de la première face 4 de l’article 1. Cette rugosité permet conjointement de diminuer la visibilité des traces de doigt sur l’article 1 pour un utilisateur et de limiter les émissions sonores dues aux déplacements des ustensiles de cuisson sur la zone mate. Le deuxième matériau comprend une phase vitreuse présentant un coefficient de dilatation thermique. Le traitement de surface 902 peut être mis en œuvre par un enrichissement de la partie du substrat verrier 10 formant la face principale 11 en au moins un premier élément choisi parmi le sodium, le potassium, le calcium et le baryum. Ainsi, la partie du substrat verrier peut présenter, de manière contre-intuitive, une diminution du coefficient de dilatation thermique au regard du reste du substrat après le traitement thermique de céramisation 903. Cette diminution résulte dans le plissement de la partie de la face principale 11 décrit ci-avant. De préférence, le premier élément peut être adapté pour augmenter le coefficient de dilatation thermique du deuxième matériau et/ou pour entraîner des réorganisation des teneurs en éléments du deuxième matériau dans la partie du substrat verrier 10. Le retrait de la couche de traitement peut être un retrait mécanique. Le retrait mécanique peut être mis en œuvre manuellement par un chiffon ou par glissement, puis par un traitement de l’article dans une machine à laver. Le troisième matériau peut comprendre une fritte de verre. Ainsi, il est possible de former des motifs mats sur la première face 4. La couche de traitement 12 peut être déposée par sérigraphie. D’autres méthodes de dépôt sont également possibles, telles que l’impression par jet. La fritte de verre peut comprendre des cristaux de fluorure de sodium et/ou de fluorure de calcium. En particulier, la fritte de verre peut comprendre un verre opale. Ainsi, la présence de tels cristaux permet de diminuer l’adhésion de la couche d’enrichissement au substrat 10, ce qui facilite son retrait. Le traitement thermique de l’ensemble formé par le substrat verrier 10 et par la couche de traitement peut être mis en œuvre à une température comprise entre 570 °C et 640 °C, pendant une durée comprise entre 15 minutes et 150 minutes, notamment comprise entre 15 minutes et 90 minutes, et préférentiellement comprise entre 30 minutes et 60 minutes. Ainsi, il est possible de permettre un échange d’une quantité suffisante d’éléments entre la couche de traitement et le substrat 10 de manière à plisser la face principale 11 du substrat comme décrit précédemment, sans fixer de manière irréversible la couche de traitement sur le substrat 10 de sorte à permettre son retrait. En effet, pour des températures supérieures aux gammes précitées, la couche de traitement présente une adhérence trop forte avec le substrat verrier 10 et s’apparente, après traitement thermique de céramisation, à une couche émaillée. Pour des températures inférieures aux gammes précitées, les quantités d’éléments qui sont échangées entre la couche de traitement et le substrat verrier 10 ne sont pas suffisantes pour plisser la face principale 11. L’épaisseur de la couche de traitement peut être comprise entre 5 µm et 50 µm. En effet, pour une épaisseur supérieure à la gamme précitée, la couche de traitement se retire difficilement. Pour une épaisseur inférieure à la gamme précitée, la couche de traitement peut ne pas comprendre suffisamment d’éléments pour permettre une diffusion efficace d’éléments entre la couche de traitement et le substrat verrier 10. Le troisième matériau peut comprendre une teneur massique en premier élément strictement supérieure à la teneur massique moyenne en premier élément dans le substrat verrier 10. De préférence, le troisième matériau comprend une teneur massique en premier élément supérieure à 3 %, notamment supérieure à 5 % et préférentiellement supérieure à 10 %. Ainsi, les éléments migrant de la couche de traitement 12 vers le substrat verrier 10 sont les éléments qui permettent d’augmenter le coefficient de dilatation thermique de la phase vitreuse du substrat verrier 10. De manière surprenante, une telle augmentation de la teneur en premier élément au regard de la teneur moyenne du substrat avant le traitement de céramisation 903 résulte dans une diminution de la teneur en premier élément au regard de la teneur moyenne du substrat après le traitement de céramisation 903. Exemples et résultats Le substrat verrier 10 utilisé présente une composition dans laquelle les teneurs en éléments sont choisies dans les gammes suivantes : SiO 2 : entre 49 % et 75 %, de préférence entre 63 % et 69 % et notamment entre 65 % et 68 %, Al 2 O 3 : entre 15 % et 30 %, de préférence entre 18 % et 24 % et notamment entre 19,5 % et 23 %, Li 2 O : entre 1 % et 8 %, de préférence entre 2,7 % et 4,2 % et notamment entre 3,4 % et 4,2 %, K 2 O : entre 0 % et 5 %, de préférence entre 0,1 % et 0,8 % et notamment entre 0,2 % et 0,8 %, Na 2 O : entre 0 % et 5 %, de préférence entre 0,1 % et 0,8 % et notamment entre 0,14 % et 0,62 %, ZnO : entre 0 % et 5 %, de préférence entre 0 % et 2,8 % et notamment entre 0,19 % et 2,3 %, MgO : entre 0 % et 5 %, de préférence entre 0,1 % et 1,2 % et notamment entre 0,3 % et 1,2 %, CaO : entre 0 % et 5 %, de préférence entre 0 % et 0,6 % et notamment entre 0,02 % et 0,47 %, BaO : entre 0 % et 5 %, de préférence entre 0,6 % et 2,7 % et notamment entre 0,8 % et 2,5 %, SrO : entre 0 % et 5 %, TiO 2 : entre 0 % et 6 %, de préférence entre 2,4 % et 3,2 % et notamment entre 2,6 % et 3,0 %, ZrO 2 : entre 0 % et 5 %, de préférence entre 1,1 % et 2,0 % et notamment entre 1,3 % et 1,9 %, P 2 O 5 : entre 0 % et 10 %, B 2 O 3 : entre 0 % et 5%, SnO 2 : de préférence entre 0,2 % et 0,6 %, de préférence entre 0,25 %et 0,3 %, As 2 O 3 : de préférence entre 0 % et 0,8 %, de préférence entre 0.02 % et 0,76 %, Fe 2 O 3 : de préférence entre 0,013 % et 0.13 %, V 2 O 5 : de préférence entre 0,028 % et 0,048 %, Cr 2 O 3 : de préférence entre 0,0221 % et 0,0234 %. De préférence, la teneur massique totale en colorants dans le substrat verrier est inférieure à 2 % et notamment inférieure à 0,2 %. Pour les exemples d’articles selon des modes de réalisation de l’invention (exemple n°1, exemple n°2 et exemple n°3), une couche d’enrichissement présentant une composition prédéfinie est déposée par sérigraphie sur le substrat verrier 10. Une première composition (composition n°1) de la couche d’enrichissement est définie par les teneur massiques en éléments suivantes : SiO 2 : 69,6 %, Al 2 O 3 : 8,01 %, B 2 O 3 : 0,14 %, Na 2 O : 11,9 %, K 2 O : 1,41 %, CaO : 1,98 %, MgO : BaO : 2,01 %, ZrO 2 : 0,03 %, TiO 2 : 0,07 %, Fe2O3 : 0,04 % F : 4,79 %. Une deuxième composition (composition n°2) de la couche d’enrichissement est définie par les teneur massiques en éléments suivantes : SiO 2 : 69,8 %, Al 2 O 3 : 7,14 %, Li 2 O : B 2 O 3 : 1,77 %, Na 2 O : 13,09 %, K 2 O : 0,03 % CaO : 1,93 % ; MgO : ZnO : BaO : 1,22 %, ZrO 2 : 0,11 %, TiO 2 : 0,04 %, Fe2O3 : 0,03 %, et F : 4,88 %. Les articles 1 selon des modes de réalisation de l’invention sont fabriqués selon des procédés selon des modes de réalisation de l’invention, tels que décrits dans les exemples n°1, n°2 et n°3 de la table 1 ci-dessous. L’exemple comparatif n°1 est un article différent de l’invention, dans lequel aucun traitement aboutissant à une zone mate n’a été mis en œuvre. L’exemple comparatif n°2 est un article différent de l’invention, dans lequel, le procédé de fabrication de cet article comprend une étape de dépôt d’une trame émaillée, comprenant une fritte de verre. Avant le traitement thermique de céramisation, la fritte de verre présente une teneur massique égale à 30 % en talc et à 70 % en une troisième composition. La troisième composition présente les teneur massiques suivantes : SiO 2 : entre 45 % et 60 %, B 2 O 3 : entre 6 % et 19 %, Al 2 O 3 : entre 9 % et 19,5 %, Na 2 O : entre 0 % et 4,5 %, K 2 O : entre 1 % et 7 %, Li 2 O : entre 0 % et 6 %, CaO : entre 0 % et 8 %, BaO : entre 6,5 % et 15,5 %, ZnO : entre 1,5 % et 10,5 %, MgO : entre 0 % et 6,5 %, TiO 2 : entre 0 % et 1,5 %, et ZrO 2 : entre 0 % et 4 %. L’exemple comparatif n°3 est un article différent de l’invention, dans lequel le traitement de surface a été mis en œuvre sur un substrat vitrocéramique. Exemple n°1 Exemple n°2 Exemple n°3 Exemple comparatif n°1 Exemple comparatif n°2 Exemple comparatif n°3 couche d'enrichissement composition n°1 composition n°1 composition n°2 non non composition n°1 granulométrie D50 (µm) 5,8 5,8 5,5 5.8 rapport d'empâtage 100/100 100/100 100/100 100/100 Toile de sérigraphie (nombre de fils/cm – diamètre du fil en µm) 100 - 40 77 - 40 77 - 40 N/A 165 - 31 100 - 40 substrat verrier non céramisé non céramisé non céramisé non céramisé non céramisé céramisé traitement thermique d'enrichissement 30 minutes à 600°C 30 minutes à 600°C 30 minutes à 600°C 30 minutes à 600°C dépôt d'une trame émaillée non non non non oui non couche mate oui oui oui non oui Non homogène brillance à 60° 6,6 6,1 5,8 92 46 81 L* 10,83 12,31 10,65 0,6 7 2.94 a* 0,56 0,55 1,03 0.20 b* -0,55 -0,18 -0,42 -0.69 Ra (µm) 0,4 0,6 0,53 0,1 0,2 0.1 Rt (µm) 3,9 5,1 3,35 1,1 2,5 1.1 RPc 233 214 298 54 122 104 traces de doigts (visibilité / 5) 0,7 0,5 0,1 4 0,8 N/A mesure du bruit de déplacement des casseroles (dB(A)) 57,5 ± 1,1 N/A N/A 56,4 ± 0,2 65,8 ± 1,2 N/A Article (1) vitrocéramique pour un dispositif (2) de cuisson, l'article (1) comprenant un substrat (3) vitrocéramique formé par un premier matériau vitrocéramique, le substrat (3) présentant une première face (4) destinée à recevoir par contact direct des éléments de cuisson (5) et une deuxième face (6) opposée à la première face (4) par rapport au substrat (3), caractérisé en ce que le substrat (3) comprend une zone mate (7), la zone mate (7) comprenant au moins une partie de la première face (4), la partie de la première face (4) présentant un profil présentant une densité de pics RPc comprise entre 125 et 3000. Article (1) selon la revendication précédente, dans lequel le profil présente un écart moyen arithmétique R a inférieure à 2 µm. Article (1) selon la revendication 1 ou 2, dans lequel le profil présente une hauteur totale Rt comprise entre 1 µm et 10 µm. Article (1) selon l’une des revendications précédentes, dans lequel la zone mate (7) présente un facteur de flou compris entre 20 % et 50 %. Article (1) selon l’une des revendications précédentes, dans lequel la partie de la première face (4) est formée au moins en partie par un réseau bidimensionnel de crêtes s’étalant sur un plan principal suivant la partie de la première face (4). Article (1) selon l’une des revendications précédentes, dans lequel le premier matériau comprend au moins un premier élément choisi parmi du sodium, du potassium, du calcium et du baryum, dans lequel une partie du premier matériau forme la partie de la première face (4), la partie du premier matériau s’étendant, selon l’épaisseur du substrat (3), depuis la partie de la première face (4) jusqu’à une profondeur comprise entre 0,1 µm et 2,0 µm de la partie de la première face (4), la partie du premier matériau présentant une déplétion de la teneur en premier élément par rapport à une teneur moyenne en premier élément dans le substrat (3). Article (1) selon l’une des revendications précédentes, dans lequel le premier matériau comprend au moins un deuxième élément choisi parmi du lithium et du magnésium, dans lequel une partie du premier matériau forme la partie de la première face (4), la partie du premier matériau s’étendant selon l’épaisseur du substrat (3) depuis la partie de la première face (4) jusqu’à une profondeur comprise entre 0,1 µm et 2,0 µm de la partie de la première face (4), la partie du premier matériau présentant un enrichissement de la teneur en deuxième élément par rapport à une teneur moyenne en deuxième élément dans le substrat (3). Article (1) selon l’une des revendications précédentes, dans lequel le substrat (3) est monolithique, le premier matériau étant formé par une pluralité d’éléments, une teneur de chaque élément étant constante et/ou variant de manière continue par rapport à une direction parallèle à une épaisseur du substrat. Article (1) selon l’une des revendications précédentes, dans lequel une partie du premier matériau forme la partie de la première face (4), la partie du premier matériau s’étendant selon l’épaisseur du substrat (3) depuis la partie de la première face (4) jusqu’à une profondeur comprise entre 0,1 µm et 2,0 µm de la partie de la première face (4). Article (1) selon la revendication précédente, dans lequel la partie du premier matériau présentant une fraction volumique en phase cristalline quartz-β supérieure à 50 %. Procédé (900) de fabrication d’un article (1) selon l’une des revendications précédentes, comprenant les étapes successives de : a) fourniture (901) d’un substrat verrier (10) formé par un deuxième matériau verrier, le substrat verrier (10) présentant une face principale (11), b) traitement de surface (902) d’une partie du substrat verrier (10) formant une partie de la face principale (11), la partie du substrat verrier (10) s’étendant selon l’épaisseur du substrat verrier (10) depuis la partie de la face principale (11) jusqu’à une profondeur comprise entre 0,1 µm et 2,0 µm de la partie de la face principale (11), le traitement de surface comprenant des sous-étapes subséquentes de : - dépôt (902a) d’une couche de traitement (12) formée par un troisième matériau sur la partie de la face principale (11), - traitement thermique (902b) de l’ensemble formé par le substrat verrier (10) et par la couche de traitement, et - retrait (902c) de la couche de traitement de la partie de la face principale (11), c) traitement thermique de céramisation (903) du substrat verrier (10), le substrat verrier (10) formant le substrat (3) vitrocéramique après le traitement thermique de céramisation (903), la partie de la face principale (11) formant la partie de la première face (4) après le traitement thermique de céramisation (903). Procédé selon la revendication 11, dans lequel le traitement de surface (902) est mis en œuvre par un enrichissement de la partie du substrat verrier (10) formant la face principale (11) en au moins un premier élément choisi parmi le sodium, le potassium, le calcium et le baryum. Procédé (900) selon la revendication 11 ou 12, dans lequel le retrait de la couche de traitement est un retrait mécanique. Procédé (900) selon l’une des revendications 11 à 13, dans lequel le troisième matériau comprend une fritte de verre. Procédé (900) selon l’une des revendications 11 à 14, dans lequel le traitement thermique de l’ensemble formé par le substrat verrier (10) et par la couche de traitement (12) est mis en œuvre à une température comprise entre 570 °C et 640 °C, pendant une durée comprise entre 15 minutes et 150 minutes, notamment comprise entre 15 minutes et 90 minutes, et préférentiellement comprise entre 30 minutes et 60 minutes. Procédé (900) selon l’une des revendications 12 à 15, dans lequel le troisième matériau comprend une teneur massique moyenne en premier élément strictement supérieure à la teneur massique moyenne en premier élément dans le substrat verrier (10).