Brevet FR3144899A1 — publié le 20240712

Dispositif à jet de plasma Dispositif à jet de plasma froid à pression atmosphérique comportant : - au moins un tube capillaire comportant au moins une entrée d’alimentation en gaz rare, une zone de génération de plasma, et au moins une sortie de plasma ; - au moins un diffuseur plasma disposé sur le trajet de sortie du tube capillaire positionné de sorte que le plasma généré dans la zone de génération de plasma traverse le diffuseur plasma, le diffuseur plasma étant en un matériau poreux dont le diamètre médian des pores est compris entre 1 µm et 5 mm Figure pour l’abrégé : Fig. 2 Dispositif à jet de plasma La présente invention concerne les dispositifs à jet de plasma froid à pression atmosphérique. En particulier, la présente invention concerne le domaine des plasmas froids dans des applications cosmétiques ou médicales notamment pour des applications cutanées telles que le traitement de cellules cancéreuses, la cicatrisation ou la stérilisation de plaies, par exemple de plaies chroniques ou aiguës post-opératoires, ou dans le cadre de greffe, en post-greffe pour favoriser la cicatrisation et prévenir des infections ou en pré-greffe pour préparer la peau. L’utilisation de plasma froid, produit à partir d’un gaz rare, classiquement l’hélium ou l’argon, soumis à une décharge électrique délivrée par une alimentation à haute tension, à température ambiante, est bien connue dans le domaine des applications médicales cutanées. Le plasma se propage sous forme impulsionnelle, et éventuellement périodique jusqu’à la sortie du capillaire, et au contact avec l’air ambiant produit des espèces réactives de l’oxygène et de l’azote, qui, avec le champ électrique, sont responsables des effets biologiques des plasmas froids. Le traitement de la peau avec la technique de plasma froid à pression atmosphérique a montré ses preuves dans les traitements de blessures cutanées, prurit et d’infections de la peau. Notamment, il est connu que le plasma accélère la cicatrisation de plaies en favorisation la ré-épithélialisation, en réduisant l’inflammation par le biais d’activation des mécanismes de protection du corps et de recrutement des cellules immunitaires dans la zone de la plaie, en activant les fibroblastes qui induisent le réarrangement du cytosquelette actine et favorise la synthèse matricielle, en activant des cytokines cicatrisantes et des facteurs de croissance dans les fibroblastes et les kératinocytes, en induisant une néovascularisation et la production de protéines pro-angiogéniques chez les cellules endothéliales. L’utilisation de plasma froid a l’avantage d’être sans contact direct et sans douleur pour les patients. De plus, les temps de traitement sont relativement courts, et aucune réaction allergique, résistance bactérienne, ou autres effets secondaires n’a été observé jusqu’à présent. En outre, plusieurs études ont montré que les bactéries, les champignons, des biofilms, des virus et des spores peuvent être tués très efficacement au moyen de plasma froid (activité biocide). Cependant, les dispositifs de génération de plasma de conformité européenne actuellement sur le marché ne permettent pas de contrôler la puissance et la dose de plasma à appliquer sur une surface de peau déterminée. De plus, ces dispositifs ne permettent pas non plus de modifier la surface d’application du plasma. En particulier, les dispositifs actuellement connus permettent uniquement aux praticiens de contrôler la durée d’application du plasma, car la puissance délivrée ainsi que la distribution du plasma sont non homogènes. La réalisation d’un traitement fondée principalement sur un critère de durée induit une forte incertitude et la non-reproductibilité du traitement. US 8 961 888 décrit un générateur de plasma à pression atmosphérique ayant une zone de génération de plasma accrue afin de traiter une grande surface, la zone de génération de plasma étant en un matériau isolant, permettant de stabiliser la formation de plasma dans toute la zone de génération de plasma. US 8 961 888 précise que le matériau de la zone de génération de plasma peut être en céramique frittée, matériau présentant des qualités mécaniques de résistance permettant de supporter le plasma ainsi généré. US 2011/0042008 décrit un générateur de plasma pour générer un plus grand volume de plasma et stabiliser la décharge électrique à l’origine de la génération du plasma. US 2010/0147464 décrit un appareil de traitement par plasma comportant entre autres une électrode formée d’une couche conductrice recouverte d’un substrat isolant, le substrat étant en céramique frittée. L’appareil décrit dans US 2010/0147464 permet d’obtenir un appareil de traitement par plasma plus résistant aux instabilités de décharges électriques, à moindre coût. US 2009/0016941 décrit un dispositif d’électrode de décharge de plasma permettant un rendement énergétique amélioré. Il existe un besoin permanent pour un dispositif facilitant le traitement par application de plasma froid pour le traitement de tout type de plaies. En particulier, il existe un besoin pour un dispositif garantissant la reproductibilité d’un traitement cutané et permettant l’adaptation du traitement à chaque type de plaie, notamment de grande surface. Il existe également un besoin permanent pour un dispositif permettant de minimiser la durée d’un traitement par application de plasma froid et de garantir son innocuité. L’invention vise à répondre à tout ou partie de ces besoins. Diffuseur plasma Selon un premier aspect de l’invention, l’invention porte sur un dispositif à jet de plasma froid à pression atmosphérique comportant : - au moins un tube capillaire comportant au moins une entrée d’alimentation en gaz rare, une zone de génération de plasma, et au moins une sortie de plasma ; - au moins un diffuseur plasma disposé sur le trajet de sortie du tube capillaire positionné de sorte que le plasma généré dans la zone de génération de plasma traverse le diffuseur plasma, le diffuseur plasma étant en un matériau poreux dont le diamètre médian des pores est avantageusement compris entre 0,1 µm et 5 mm, mieux supérieur à 1 µm et inférieur à 1 mm, encore mieux supérieur à 10 µm et inférieur à 500 µm. Un dispositif selon l’invention permet une diffusion homogène du plasma. Il permet également de traiter aisément des plaies de grande surface, et de réduire la durée d’application. En particulier, la présence du diffuseur plasma sur le trajet de sortie du tube capillaire permet de traiter des surfaces allant de 1 à 50 cm 2 , de façon homogène, en une seule impulsion de plasma. La présence du diffuseur plasma en sortie du tube capillaire peut permettre en effet de multiplier par un facteur 1000 la surface sur laquelle le plasma généré peut être appliqué, par rapport à un dispositif ne comportant aucun élément diffuseur. Enfin, l’utilisation d’un dispositif selon l’invention permet une consommation en gaz rare réduite. Notamment, un tel dispositif permet avantageusement de limiter les pertes lors de l’éjection du plasma hors du dispositif. On entend par tube capillaire, un tube dans lequel le jet de plasma froid est créé et se propage. Un diffuseur plasma favorise l’augmentation de la section du jet de plasma. Le diamètre médian des pores du diffuseur plasma peut être supérieur à 0,1 µm et inférieur à 5 mm, mieux supérieur à 1 µm et inférieur à 1 mm, encore mieux supérieur à 10 µm et inférieur à 500 µm, encore mieux supérieure à 40µm et inférieur à 100 µm, encore mieux supérieur à 50 µm et inférieur à 80 µm. Le diffuseur plasma peut présenter une épaisseur comprise entre 100 µm et 5 cm, mieux comprise entre 500 µm et 1 cm, encore mieux comprise entre 800 µm et 0,5 cm. L’épaisseur du diffuseur plasma peut être variable. De préférence, l’épaisseur du diffuseur plasma est constante. Le diffuseur plasma peut être en un matériau diélectrique, semiconducteur, métallique ou métallique recouvert d’un matériau diélectrique, ou une combinaison de ces matériaux, de préférence le diffuseur plasma est en un matériau diélectrique. Dans un mode de réalisation de l’invention, le diffuseur plasma est en céramique frittée, de préférence en verre fritté, comportant par exemple des matériaux à forte constante diélectrique comme l’alumine ou les pérovskites. Le diffuseur plasma peut s’étendre dans un plan perpendiculaire au sens de propagation du plasma dans le tube capillaire. Dans un mode de réalisation, plusieurs diffuseurs plasma sont disposés sur le trajet de sortie du tube capillaire et sont positionnés de sorte que le plasma généré dans la zone de génération de plasma traverse les diffuseurs plasma successivement. Le tube capillaire peut comporter une partie distale, comportant la sortie de plasma, qui est évasée. La partie distale évasée peut s’étendre sur une longueur, dans le sens de propagation du plasma, inférieure ou égale à 20 cm, de préférence inférieure ou égale à 10 cm, mieux inférieure ou égale à 5 cm. Le ratio du diamètre maximal de la partie distale sur le diamètre minimal de la partie distale peut être compris entre 1 et 100. Les diamètres sont mesurés perpendiculairement au sens de propagation du plasma et sont intérieurs, c’est-à-dire que les parois du tube ne sont pas prises en compte pour la mesure du diamètre. De préférence, le diffuseur plasma est positionné dans la partie distale évasée du tube capillaire, perpendiculairement au sens de propagation du plasma dans le tube capillaire. Le diffuseur plasma ainsi positionné permet une stabilisation du plasma sur une plus grande dimension. Par ailleurs, le diffuseur plasma permet d’éviter une rétrodiffusion de l’air vers la partie distale évasée, améliorant ainsi la stabilité et l’homogénéité du plasma traversant le diffuseur. Le diffuseur plasma peut être positionné à l’extrémité de la partie distale évasée, autrement dit le diffuseur plasma peut être positionné au niveau de la partie distale du tube capillaire présentant le diamètre le plus grand. Le tube capillaire peut comporter une paroi d’épaisseur fixe ou d’épaisseur variable. Dans le cas particulier d'une paroi d'épaisseur variable, la paroi de la partie distale peut être plus large que la paroi de la zone de génération de plasma. La paroi de la partie distale peut avoir une épaisseur comprise entre 0,1 mm et 5 mm. Le ratio de l’épaisseur de la paroi de la zone de génération de plasma sur l’épaisseur de la partie distale peut être compris entre 0,1 et 10. Un dispositif selon l’invention peut comporter plus de deux sorties de plasma et/ou plus de deux tubes capillaires. De préférence, le nombre de sorties de plasma est compris entre 1 et 100, de préférence entre 1 et 50, mieux entre 1 et 10. Dans un mode de réalisation de l’invention, le dispositif comporte un tube capillaire comportant 3 sorties de plasma, chaque sortie de plasma comportant un diffuseur plasma. Dans un mode de réalisation préféré de l’invention, le dispositif comporte plusieurs tubes capillaires, chaque tube capillaire comportant 3 sorties de plasma, chacune des sorties de plasma comportant un diffuseur plasma, de préférence chaque tube capillaire comportant une entrée d’alimentation en gaz rare. Un diffuseur plasma peut être positionné sur le chemin de sortie de chaque sortie de plasma, le dispositif plasma comportant autant de diffuseurs plasma que de sorties de plasma. Alternativement, un diffuseur plasma peut être positionné sur le chemin de sortie de plusieurs sorties plasma. Selon une autre variante de l’invention, plusieurs diffuseurs plasma successifs peuvent être positionnés sur le chemin de sortie de chaque sortie de plasma. Le diffuseur plasma peut être porté à un potentiel prédéterminé. De préférence, le diffuseur plasma peut être à un potentiel flottant ou relié à une électrode active ou passive, permettant de moduler la propagation du plasma. Volume tampon Selon un deuxième aspect de l’invention, l’invention porte sur un dispositif à jet de plasma froid à pression atmosphérique comportant : - au moins un tube capillaire comportant au moins une entrée d’alimentation en gaz rare, une zone de génération de plasma, et au moins une sortie de plasma ; le tube capillaire comportant en aval de la zone de génération du plasma et en amont d’une partie distale du tube capillaire, une portion de section transversale élargie, de préférence la portion de section transversale élargie présentant un ratio largeur/hauteur compris entre 0,1 et 1000, de préférence entre 0,5 et 100, mieux entre 0,8 et 10, la largeur correspondant au diamètre intérieur maximal de la portion de section transversale élargie. La largeur correspond au diamètre intérieur maximal de la portion de section transversale élargie, le diamètre étant mesuré perpendiculairement au sens de propagation du plasma dans le tube. Le diamètre est dit intérieur, c’est-à-dire que les parois du tube ne sont pas prises en compte. La portion de section transversale élargie forme un volume tampon permettant la diminution d’environ 20% de la tension d’amorçage du plasma, c’est-à-dire la tension nécessaire à appliquer à une électrode pour permettre la formation du plasma dans la zone de génération de plasma du tube capillaire. La propagation du plasma nécessite moins d’énergie. De plus, le bruit électromagnétique généré est réduit. La portion de section transversale élargie débouche avantageusement sur un goulot d’étranglement en direction de la sortie de plasma. En outre, une telle portion de section transversale élargie permet de mieux contrôler la dose de plasma, c’est-à-dire la quantité d’énergie plasma, transférée hors du dispositif et ainsi contrôler l’application du plasma sur la surface à traiter. Le dispositif peut comporter un capteur mesurant la pression dans la portion de section transversale élargie et/ou la vitesse de propagation du plasma dans le tube capillaire. La portion de section transversale élargie peut être située à une distance comprise entre 0 cm et 10 cm de la sortie de plasma, de préférence entre 0 cm et 7 cm, mieux entre 0 cm et 5 cm. Le diamètre de la portion de section transversale élargie peut être variable, en particulier il peut augmenter puis diminuer de l’amont vers l’aval. Le volume intérieur de la portion de section transversale élargie peut présenter une forme adaptée à l’écoulement du gaz, sensiblement sphérique, mieux sphérique, sensiblement ellipsoïdale, mieux ellipsoïdale, ou sensiblement cylindrique, mieux cylindrique, sensiblement parallélépipédique, mieux parallélépipédique. Bien entendu, cette liste n’est pas limitative. Le volume intérieur de la portion de section transversale élargie peut présenter d’autres formes géométriques. En particulier, la forme peut comporter, ou non, un axe ou un centre de symétrie, peut être une combinaison des formes précitées. Le volume intérieur de la portion de section transversale élargie peut être compris entre 0,2 cm 3 et 250 cm 3 , de préférence entre 0,5 cm 3 et 200 cm 3 , mieux entre 1 cm 3 et 25cm 3 . Le diamètre minimal du tube capillaire peut être le diamètre du goulot d’étranglement, c’est-à-dire le diamètre de la sortie de la portion de section transversale élargie, dans le sens de propagation du plasma. De préférence, le diamètre de l’entrée de la portion de section transversale élargie est supérieur au diamètre du goulot d’étranglement. Le goulot d’étranglement peut être porté à un potentiel prédéterminé. Le potentiel prédéterminé peut être choisi de sorte à maintenir le plasma froid dans la portion de section transversale élargie, le potentiel prédéterminé étant modifié pour permettre le déplacement du plasma froid vers la sortie de plasma. Dans un mode de réalisation particulier, le tube capillaire comporte plusieurs sorties de plasma, la portion de section transversale élargie comportant plusieurs goulots d’étranglement menant chacun vers une sortie de plasma. Alternativement, le tube capillaire comporte plusieurs sorties de plasma, pour chacune des sorties de plasma, une portion de section transversale élargie étant ménagée dans le tube capillaire. Le ratio du diamètre maximum de la portion de section transversale élargie sur le diamètre de l’entrée d’alimentation et/ou du diamètre maximum de la portion de section transversale élargie sur le diamètre du goulot d’étranglement peut être compris entre 1 et 1000, de préférence entre 1 et 500, mieux entre 1 et 50. Le ratio du diamètre maximum de la portion de section transversale élargie sur le diamètre minimal du tube capillaire peut être compris entre 2 et 40. Dans un mode de réalisation particulier, la partie distale est évasée. Le tube capillaire peut comporter une section transversale de diamètre minimal entre la portion de section transversale élargie et la partie distale évasée. Alternativement, le diamètre de la partie distale du tube capillaire est constant. La portion de section transversale élargie peut comporter une paroi d’épaisseur plus faible qu’une paroi de la partie distale. Le ratio de l’épaisseur de la paroi de la partie distale sur l’épaisseur de la paroi de la portion de section transversale élargie peut être compris entre 1 et 4. La portion de section transversale élargie peut être en un matériau distinct du tube capillaire. De préférence, la portion de section transversale élargie est venue de matière avec le tube capillaire. Le tube capillaire comportant au moins une entrée d’alimentation en gaz rare, au moins une sortie de plasma, une zone de génération de plasma et une portion de section transversale élargie peut être fabriqué par moulage ou soufflage, ou encore par fabrication additive. Le tube capillaire comportant au moins une entrée d’alimentation en gaz rare, au moins une sortie de plasma, une zone de génération de plasma et une portion de section transversale élargie peut être en verre ou en tout matériau isolant avec une constante diélectrique élevée. Le tube capillaire comportant au moins une entrée d’alimentation en gaz rare, au moins une sortie de plasma, une zone de génération de plasma et une portion de section transversale élargie peut être monolithique. Le diamètre maximal du tube capillaire est de préférence inférieur à 3 mm, de préférence encore inférieur à 1 mm. Le tube capillaire peut être en partie amovible. En particulier, la partie distale peut être amovible. De préférence, la partie en aval de la zone de génération de plasma est amovible, c’est-à-dire qu’elle peut être désengagée, dévissée de la partie comportant la zone de génération de plasma et l’entrée d’alimentation en gaz rare. La partie en aval amovible et la partie en amont comportant la zone de génération de plasma et l’entrée d’alimentation en gaz rare peut comporter une complémentarité de forme. En particulier, la partie en amont peut comporter une complémentarité de forme avec plusieurs parties en aval amovibles différentes. Amorçage Un dispositif selon l’invention peut comporter une électrode haute tension fixée sur la paroi extérieure et/ou sur la paroi intérieure du tube capillaire, le dispositif étant configuré de sorte que l’électrode délivre un premier signal électrique et un deuxième signal électrique ayant deux fréquences distinctes, la fréquence du premier signal électrique étant définie de sorte que lorsque l’électrode délivre ce premier signal électrique, le gaz rare introduit dans le tube capillaire et soumis à la tension du premier signal électrique génère le plasma, la fréquence du deuxième signal électrique étant définie de sorte à générer une impulsion d’amorçage de propagation du plasma vers la sortie de plasma, la fréquence du deuxième signal électrique étant plus faible que la fréquence du premier signal électrique, de préférence dans un rapport fréquence premier signal/fréquence deuxième signal supérieur à 1 et inférieur ou égal à 1000, de préférence compris entre 3 et 100, mieux compris entre 5 et 50. Le deuxième signal permet avantageusement d’amorcer et/ou d’accélérer la propagation du plasma dans le tube capillaire. Le deuxième signal permet en particulier d’adapter la dose de plasma éjectée hors du dispositif. On entend par dose de plasma, la quantité d’énergie plasma transmise sur la cible. Dans un mode de réalisation de l’invention, le premier signal électrique est une onde porteuse modulée par le deuxième signal. Un tel mode de réalisation permet avantageusement de diminuer sensiblement le bruit électromagnétique d’un dispositif à jet plasma. Dans un autre mode de réalisation, les premier et deuxième signaux électriques sont délivrés via une première électrode et une deuxième électrode respectivement, la première électrode étant positionnée en amont de la deuxième électrode, dans le sens de propagation du plasma. La deuxième électrode peut être positionnée en aval de la portion de section transversale élargie dans le sens de propagation du plasma. La deuxième électrode peut être positionnée dans la partie distale du tube capillaire. Dans un mode de réalisation particulier, le dispositif peut comporter au moins deux deuxièmes électrodes, par exemple positionnées au goulot d’étranglement d’un dispositif selon l’invention comportant une portion de section transversale élargie et dans la partie distale du tube capillaire. Les première et/ou deuxième(s) électrodes peuvent être positionnées à l’extérieur ou à l’intérieur de la paroi du dispositif. Le dispositif peut comporter un interrupteur, le deuxième signal électrique étant émis lorsque l’interrupteur est en position fermée. Ainsi, le deuxième signal électrique peut être délivré uniquement lorsqu’un interrupteur est ouvert, par exemple lorsqu’un bouton poussoir est enclenché. Le premier signal peut être un signal continu, alternatif ou pulsé ou mixte. Le deuxième signal peut être un signal continu, alternatif ou pulsé. Avantageusement, un dispositif selon l’invention permet de mieux contrôler la dose de plasma en sortie du dispositif. Contrôle de paramètres Un dispositif selon l’invention peut comporter un ou plusieurs capteurs, par exemple choisi parmi : un capteur de tension, un capteur de puissance, un capteur de fréquence, un capteur de débit, un capteur de distance ou un capteur thermique. Un capteur peut être configuré pour mesurer la puissance du plasma délivré en sortie du diffuseur plasma et/ou en sortie du générateur de plasma. Un capteur peut être configuré pour mesurer une tension entre le plasma délivré en sortie du diffuseur plasma et une surface sur laquelle le plasma est destiné à être appliqué ou entre le plasma délivré en sortie du générateur de plasma et une surface sur laquelle le plasma est destiné à être appliqué. Un capteur peut être configuré pour mesurer la température lors de l’application du plasma froid sur la surface sur laquelle le plasma est destiné à être appliqué. De préférence, le dispositif selon l’invention comporte en outre un module de contrôle configuré pour analyser les mesures issues d’un ou plusieurs capteurs. Le module de contrôle peut être configuré pour modifier, en fonction de mesures analysées issues d’un ou plusieurs capteurs, une tension ou une fréquence d’un signal électrique délivré pour la génération du plasma dans la zone de génération du plasma, une tension ou une fréquence d’un signal électrique délivré pour déclencher ou accélérer la propagation du plasma dans le tube capillaire, une dose de plasma éjectée par le dispositif sur la cible, la cible correspondant à la surface sur laquelle le plasma est destiné à être appliqué, une température du plasma en sortie de plasma du tube capillaire, une pression dans la zone de génération du plasma, une pression du gaz rare dans le tube capillaire, une pression dans une portion de section transversale élargie, un débit du gaz rare à l’entrée d’alimentation. Dans un mode de réalisation, le module de contrôle présente sur une interface digitale, les mesures et/ou les analyses des mesures. Un opérateur peut alors aisément modifier une fréquence, une tension, une pression et/ou un débit pour adapter la dose de plasma voulue en sortie du dispositif et/ou sélectionner un mode particulier de régime plasma. Les plasmas froids existent dans une grande variété de régimes et leurs décharges revêtent différentes typologies en fonction des conditions de production (décharges par jets diffusifs, décharges filamentaires, décharge à cathode creuse). On entend par mode de régime plasma, un mode de fonctionnement du plasma permettant d’atteindre une typologie particulière de la décharge. Un dispositif selon l’invention permet avantageusement une adaptation de la dose de plasma délivrée en temps réel, facilitant l’application et garantissant l’innocuité d’un traitement. De préférence, un dispositif selon l’invention comporte plusieurs tubes capillaires, un module de contrôle et des capteurs, et éventuellement une interface digitale, le dispositif étant de préférence configuré de sorte que les tubes capillaires sont contrôlés indépendamment les uns des autres. Procédé d’utilisation L’invention porte encore selon un autre de ses aspects sur l’utilisation d’un matériau poreux, comportant des pores de diamètre médian compris entre 0,1 µm et 5 mm comme diffuseur plasma, de préférence dans un dispositif à jet de plasma froid. Le matériau poreux peut comporter des pores de diamètre médian compris entre 1 µm et 1 mm, mieux compris entre 10 µm et 500 µm, encore mieux compris entre 40 µm et 100 µm, encore mieux compris entre 50 µm et 80 µm. Le matériau poreux peut présenter une épaisseur comprise entre 100 µm et 5 cm. Le matériau poreux peut être d’épaisseur variable. De préférence, le matériau poreux comporte une épaisseur constante. Le matériau poreux peut être en un matériau diélectrique, semi-conducteur, métallique ou métallique recouvert d’un matériau diélectrique, de préférence le matériau poreux est en un matériau diélectrique. De préférence, le matériau poreux est en céramique frittée, de préférence en verre fritté, comportant par exemple des matériaux à forte constante diélectrique comme l’alumine ou les pérovskites. L’utilisation d’un matériau poreux selon l’invention en tant d’un diffuseur plasma peut être exploité dans tout domaine d’application utilisant les plasmas froids et notamment pour des applications de traitement de surface ou de greffage ou de collage ou propulsion. De préférence, l’invention porte sur l’utilisation d’un matériau poreux selon l’invention en tant que diffuseur plasma dans des dispositifs d’applications médicales. Les différents aspects de l’invention peuvent être combinés entre eux. En particulier, un dispositif selon l’invention peut comporter un diffuseur plasma et une portion de section transversale élargie. Les termes « amont », « aval », « entrée », « sortie » sont définis relativement au sens de propagation du gaz rare et du plasma. Les termes « intérieur », « extérieur » sont définis relativement au positionnement du plasma par rapport au dispositif, le plasma étant à l’intérieur du dispositif. L’invention pourra être mieux comprise à la lecture de la description détaillée qui va suivre, d’exemples de mise en œuvre non limitatifs de celle-ci, et à l’examen du dessin annexé, sur lequel : la schématise une vue d’une coupe longitudinale d’un dispositif de génération de plasma illustrant la génération d’un plasma froid, la schématise une vue d’une coupe longitudinale d’un dispositif à jet de plasma comportant un diffuseur plasma selon l’invention, la représente une vue d’une coupe longitudinale d’un dispositif à jet de plasma comportant un diffuseur plasma selon l’invention, , , , et les figures 4a, 4b, 4c, 4d et 4e illustrent différents modes de réalisation d’un dispositif comportant un diffuseur plasma selon l’invention, la schématise l’application d’un plasma sur une surface au moyen d’un dispositif à jet de plasma, la est un graphe illustrant la propagation et la diffusion d’un plasma au moyen d’un dispositif selon la ; la représente un dispositif à jet de plasma comportant entre autres une portion de section transversale élargie, la représente un dispositif à jet de plasma comportant une portion de section transversale élargie selon l’invention, la est un schéma représentant une vue de dessous, en transparence, d’un dispositif comportant une portion de section transversale élargie selon l’invention, et la est un exemple de dispositif selon l’invention comportant une portion de section transversale élargie et un diffuseur plasma. Dans la suite de la description, les éléments identiques ou de fonctions identiques portent le même signe de référence. Leur description n’est par reprise en regard de chacune des figures, seules les principales différences entre les modes de réalisations étant mentionnées. Description détaillée On a illustré à la , le fonctionnement d’un dispositif à jet de plasma 1 de l’art antérieur. Classiquement, le plasma froid est créé dans un tube diélectrique 10 comprenant un gaz rare 12 à température ambiante, une électrode 14 fixée sur le tube diélectrique 10 crée un champ électromagnétique. Le gaz rare 12, soumis à ce champ électromagnétique est à l’origine de la génération du plasma froid 16. Un jet de plasma froid 16 est éjecté du dispositif 1. La schématise une vue d’une coupe longitudinale d’un dispositif à jet de plasma 2 selon l’invention comportant un diffuseur plasma 28. Le dispositif 2 comporte entre autres un tube capillaire 20 comportant au moins une entrée d’alimentation 22 en gaz rare 12, une zone de génération de plasma 24, et au moins une sortie de plasma 26, et un diffuseur plasma 28 disposé sur le trajet de sortie du tube capillaire positionné de sorte que le plasma 16 généré dans la zone de génération de plasma 24 traverse le diffuseur plasma 28, le diffuseur plasma étant en un matériau poreux dont le diamètre médian des pores est compris entre 0,1 µm et 5 mm, de préférence entre 1 µm et 1 mm, mieux entre 10 µm et 0,5 mm. En sortie du tube, le plasma 16 se propage de façon homogène sur une grande surface d’application. Le gaz rare 12 peut être de l’hélium, de l’argon, du néon ou un mélange de gaz, par exemple de l’argon avec 5% d’oxygène. De préférence, le gaz rare est de l’hélium. Le débit en gaz rare peut être compris entre 0,2 L/min et 5 L/min, de préférence environ 1 L/min. Au moins une électrode haute tension 14 est fixée sur la paroi extérieure du tube capillaire, permettant la génération du plasma dans la zone de génération du plasma 24 à partir du gaz rare 12 introduit par l’entrée d’alimentation 22. L’électrode peut délivrer un signal électrique sinusoïdale d’une fréquence comprise entre 50 Hz à 100 kHz, de préférence environ 10 kHz, et d’une tension comprise entre 1 kV et 30 kV, de préférence comprise entre 2kV et 4 kV. Une deuxième électrode 30 peut être fixée sur la paroi du tube capillaire 20, en aval de la première électrode 14, dans le sens de propagation du plasma. La deuxième électrode peut être une électrode basse tension ou haute tension. De préférence, la deuxième électrode est une électrode basse tension, limitant ainsi le bruit électromagnétique induit par le dispositif 2. La deuxième électrode permet avantageusement d’amorcer ou d’accélérer la propagation du plasma froid 16 par capillarité dans le tube capillaire 20. La deuxième électrode peut être contrôlée par un module de contrôle (non représenté). En particulier, le module de contrôle peut être configuré pour permettre à un utilisateur d’adapter la dose de plasma en sortie du dispositif, en contrôlant la tension délivrée par la ou les électrodes. Par exemple, le module de contrôle peut être configuré de sorte que lorsqu’un interrupteur est fermé, une tension est délivrée via la deuxième électrode, et lorsque l’interrupteur est ouvert, aucune tension n’est délivrée via la deuxième électrode. Dans un mode de réalisation particulier de l’invention, une seule électrode 14, délivre un premier signal électrique et un deuxième signal électrique, par exemple via un signal modulé, comportant une porteuse de fréquence f et un signal de plus faible fréquence, la fréquence du signal de plus faible fréquence. La porteuse de haute fréquence permettant la génération du plasma froid, et le signal de plus faible fréquence permettant d’enclencher la propagation et/ou l’accélération de la propagation du plasma froid. La ou les électrodes 14 ; 30 sont de préférence positionnées contre la surface extérieure de la paroi du tube capillaire. Le plasma ainsi produit est isolé de la ou des électrodes par l’épaisseur de la paroi du tube capillaire et peut être mis en contact avec un organisme vivant sans danger de choc électrique, ni échauffement. Le matériau poreux 28 peut comporter des pores dont le diamètre médian est compris entre 1 µm et 5 mm. L’épaisseur du matériau poreux e 28 peut être comprise entre 100 µm et 5cm. L’épaisseur du matériau poreux e 28 peut être variable. De préférence, l’épaisseur du matériau poreux e 28 est constante. La illustre un autre mode de réalisation d’un dispositif 2 selon l’invention. Le dispositif diffère de l’exemple représenté à la notamment en ce qu’il comporte une partie distale 20a évasée, le diffuseur plasma 28 étant positionné dans cette partie distale évasée 20a. La combinaison d’une partie distale évasée et d’un diffuseur plasma en un matériau poreux selon l’invention, permet d’accroître de manière considérable la surface d’application du plasma froid en sortie du dispositif. Le diffuseur plasma 28 peut être disposé à l’extrémité distale du tube capillaire, comme représenté par exemple sur les figures 4a, 4c et 4d. Alternativement, le diffuseur plasma 28 peut être disposé dans la partie distale du tube capillaire, à l’intérieur du tube capillaire, et non nécessairement en périphérie, comme représenté à la . En particulier, une distance d 28,26 inférieure ou égale à 10 mm peut séparer la sortie de plasma 26 du matériau poreux 28. Un dispositif selon l’invention peut comporter plusieurs entrées d’alimentation 22 en gaz rare, éventuellement plusieurs zones de génération de plasma 24, et une sortie de plasma 28. Un tel exemple est représenté à la . Un dispositif selon l’invention peut comporter plusieurs sorties de plasma 26, un diffuseur plasma 28 peut être disposé sur le trajet de chacune des sorties 26 du tube capillaire, comme illustré à la . Le nombre de sorties de plasma 26 n’est pas limité à 1 ou 2. Un dispositif selon l’invention peut comporter plus de deux sorties plasmas, en particulier un tube capillaire 20 peut comporter 3 sorties plasma. De préférence, le nombre de sorties plasma est compris entre 1 et 100. Un dispositif selon l’invention peut recevoir les sorties plasma, ou têtes plasma, sous forme modulaire, amovible et interchangeable. En particulier les sorties plasma peuvent être fixées mécaniquement sur le tube capillaire. Un dispositif selon l’invention peut comporter plusieurs tubes capillaires 20, comme illustré à la . Un dispositif selon l’invention comportant plusieurs tubes capillaires 20 peut comporter des tubes capillaires qui diffèrent les uns des autres. Les tubes capillaires 20 peuvent différer les uns des autres de par leur nombre d’entrée(s) d’alimentation 22, leur nombre de sortie(s) plasma 26, la présence d’un ou plusieurs diffuseur(s) plasma 28, la présence d’une portion de section transversale élargie 60, leur diamètre maximal ou minimal du tube capillaire, l’épaisseur de la paroi du tube capillaire, ou la présence d’une portion distale 20a évasée. Cette liste n’est pas limitative. La est un graphe illustrant la propagation d’un plasma dans un tube capillaire 20 comportant un matériau poreux 28’ sur le chemin de sortie de plasma. Les résultats représentés sur ce graphe ont été obtenus par expérimentation, au moyen d’un dispositif tel que représenté à la , dans lequel le matériau poreux 28’ comporte des pores dont le diamètre médian est compris entre 40 μm et 100 μm. Lors de l’expérimentation, le plasma a été généré dans un tube capillaire 20 soumis à un champ électromagnétique au moyen d’une électrode 14 annulaire haute tension en cuivre, le plasma étant appliqué sur une surface cible 4 en verre sous laquelle une bande d’aluminium a été déposée, un espace de 5 mm séparant la sortie de plasma 26 du tube capillaire de la surface cible 4, l’électrode 14 générant un signal électrique d’une tension d’environ 4,4 +/-0.30 kV, à une fréquence de 15 kHz. Le graphe 6 a pour axes d’abscisse et d’ordonnée un nombre de pixels, un pixel étant égal à 50 μm. Sur ce graphe, on observe notamment une première phase 51 où le plasma se propage le long du tube capillaire 20, une deuxième phase 52 où le plasma atteint et traverse le matériau poreux 28’, et enfin une troisième phase 53 où le plasma franchit le matériau poreux 28’ et est appliqué sur la surface 4. On observe une diffusion homogène du plasma, le plasma s’étendant sur une surface relativement plus grande. La représente un dispositif à jet de plasma 3 selon l’invention comportant une portion de section transversale élargie 60. Le dispositif 3 représenté à la comporte un tube capillaire 20 comportant une entrée d’alimentation 22 en gaz rare, une zone de génération de plasma, le plasma étant généré par l’électrode 14, et une sortie de plasma 26 ; le tube capillaire comportant en aval de la zone de génération du plasma et en amont d’une partie distale du tube capillaire 20a, une portion de section transversale élargie 60. Dans un mode de réalisation, la portion de section transversale élargie 60 peut comporter la zone de génération de plasma 24. La portion de section transversale élargie 60 peut présenter un ratio diamètre maximal sur hauteur, D p,max /h p , compris entre 0,1 et 100. La portion de section transversale élargie débouche avantageusement sur un goulot d’étranglement 62 en direction de la sortie de plasma 26. La portion de section transversale élargie 60 peut être située à une distance D de la sortie de plasma, comprise entre 0 et 10 cm. Le diamètre d p de la portion de section transversale élargie peut être variable, en particulier il peut augmenter puis diminuer de l’amont vers l’aval. Dans un mode de réalisation, le diamètre d p de la portion de section transversale élargie peut diminuer de l’amont vers l’aval. Le volume intérieur de la portion de section transversale élargie peut présenter une forme sensiblement sphérique, mieux sphérique, sensiblement ellipsoïdale, mieux ellipsoïdale, ou sensiblement cylindrique, mieux cylindrique. Ces exemples ne sont pas limitatifs. Le volume intérieur de la portion de section transversale élargie peut être compris entre 0,2 cm 3 et 250 cm 3 . Le diamètre minimal du tube capillaire peut être le diamètre du goulot d’étranglement d s . Dans un mode de réalisation particulier, le tube capillaire comporte plusieurs sorties de plasma, la portion de section transversale élargie comportant plusieurs goulots d’étranglement 62 menant chacun vers une sortie de plasma. Un exemple d’un tel mode de réalisation est représenté à la . La représente une vue de dessous d’un tube capillaire 20 comportant trois sorties plasma 26 et une portion de section transversale élargie 60. Alternativement, pour chacune des sorties de plasma, une portion de section transversale élargie est ménagée dans le tube capillaire. Le ratio du diamètre maximum de la portion de section transversale élargie sur le diamètre d’entrée de la portion de section transversale élargie d e peut être compris entre 1 et 1000, de préférence entre 1 et 500,mieux entre 1 et 50. Le ratio du diamètre maximum de la portion de section transversale élargie sur le diamètre du goulot d’étranglement d s peut être compris entre 1 et 1000, de préférence entre 1 et 100, mieux entre 1 et 50. De préférence, le diamètre de l’entrée de la portion de section transversale élargie d e est supérieur au diamètre du goulot d’étranglement d s . Cela permet avantageusement d’augmenter la vitesse de propagation du plasma dans la portion distale du tube capillaire, par effet venturi. Le diamètre de la partie distale 20a du tube capillaire peut être constant, comme représenté sur la . Dans un mode de réalisation particulier, la partie distale 20a est évasée. La portion de section transversale élargie peut comporter une paroi d’épaisseur e p plus faible qu’une paroi de la partie distale e s , comme sur l’exemple de la . Le ratio de l’épaisseur de la paroi de la partie distale e s sur l’épaisseur de la paroi de la portion de section transversale élargie e p , e s /e p , peut être compris entre 1 et 4. Le diamètre maximal du tube capillaire est inférieur à 3 mm, de préférence inférieure à 1 mm. Un dispositif selon l’invention peut comporter des capteurs 64 1, 64 2 en particulier des capteurs optiques 64 1 , thermiques, ou de tension 64 2 . Les capteurs 64 1, 64 2 peuvent fournir des mesures à un module de contrôle 66 pouvant adapter, de façon rétroactive, la dose de plasma transmise hors du dispositif, en adaptant de préférence le temps de traitement, la puissance, via la tension et/ou la fréquence délivrée par une alimentation haute tension 70 à l’électrode 14 à l’origine de la génération du plasma, la puissance, via la tension et/ou la fréquence délivrée par l’alimentation haute tension à une autre électrode fixée sur la paroi du tube capillaire, de préférence sur la paroi extérieure, de préférence en aval de l’électrode à l’origine de la génération de plasma, par exemple configurée pour déclencher ou accélérer la propagation du plasma vers la sortie de plasma, et/ou le débit de gaz rare en entrée de l’alimentation en gaz rare 22. Les capteurs peuvent comprendre des capteurs de tension mesurant une différence de tensions le long du tube capillaire. Les capteurs peuvent comprendre des capteurs de tension 64 2 mesurant une différence de tensions entre le tube capillaire et la surface sur laquelle le plasma est destiné à être appliquée 4. Les capteurs peuvent comprendre des capteurs de température mesurant une température en sortie de plasma ou une température sur une surface 4 sur laquelle le plasma est destiné à être appliqué. Les capteurs peuvent comprendre des capteurs de débit mesurant le débit de gaz rare entrant dans l’entrée d’alimentation. Les capteurs peuvent comprendre des biocapteurs, c’est-à-dire des capteurs permettant de détecter et de transformer un signal biochimique en un signal physique quantifiable. Les capteurs comprennent par exemple des électrocardiogrammes, fixés sur la surface 4 sur laquelle le plasma est destiné à être appliqué. Le module de contrôle 66 peut modifier un ou plusieurs paramètres choisis parmi le temps de traitement, une puissance, une tension et/ou une fréquence délivrée par une alimentation haute tension 70 à une électrode fixée sur la paroi du tube capillaire, de préférence sur la paroi extérieure, et/ou un débit de gaz rare en entrée de l’alimentation en gaz rare 22, permettant d’adapter la dose de plasma éjectée du dispositif. Dans un mode de réalisation particulier de l’invention, le module de contrôle 66 n’adapte pas rétroactivement la dose de plasma éjectée hors du dispositif mais transmet les mesures fournies par les capteurs ou une analyse des mesures fournies par les capteurs à une interface de contrôle 68, via des moyens de communication digitale 72. L’interface de contrôle 72 permet à un utilisateur de contrôler manuellement la dose de plasma éjectée hors du dispositif, et de l’adapter en fonction des mesures fournies par les capteurs 64 1, 64 2 . En particulier, l’utilisateur peut modifier la puissance, la tension et/ou la fréquence délivrée par l’alimentation haute tension 70 à l’électrode 14 à l’origine de la génération du plasma, la puissance, la tension et/ou la fréquence délivrée par une source de courant à une autre électrode fixée sur la paroi du tube capillaire, de préférence sur la paroi extérieure, de préférence en aval de l’électrode à l’origine de la génération de plasma, par exemple configurée pour déclencher ou accélérer la propagation du plasma vers la sortie de plasma, et/ou le débit de gaz rare en entrée de l’alimentation en gaz rare 22 , et/ou la distance de la sortie de plasma 26 à la surface 4 sur laquelle le plasma est destiné à être appliqué. La est un exemple de mise en œuvre d’un dispositif selon l’invention comportant un diffuseur plasma 28 et une portion de section transversale élargie 60. Une comparaison de quatre dispositifs à jet de plasma a été effectuée. La comparaison a permis de mesurer une surface maximale sur laquelle un plasma peut s’étendre de façon homogène, via un jet de plasma, lorsque le plasma est généré et appliqué au moyen d’un des quatre dispositifs suivants : KinPen® MED (outils Neoplas GmbH, Greifswald, Allemagne), PlasmaDerm® (CINOGY GmbH, Duderstadt, Allemagne), SteriPlas (Adtec Plasma Technology, Adtec Europe, Hunslow, Royaume-Uni) et un dispositif selon l’invention comportant un diffuseur plasma. Le KinPen® MED est un dispositif portable possédant une source de plasma médical générée en continu et comprenant un applicateur en forme de stylo délivrant un jet de plasma froid à pression atmosphérique utilisant de l'argon comme gaz porteur. La longueur typique de l'effluent plasmatique est de 8 à 12 mm avec un diamètre de 1 mm. Le jet de plasma est guidé verticalement dans des mouvements 3D précis et arbitraires d'environ 5 mm/s sur la cible, ce qui entraîne un temps de traitement moyen de 30 à 60 s/cm2. Le KinPen® MED délivre donc un jet non diffus concentré en un point. La zone de traitement efficace est réduite à quelques mm 2 . Le PlasmaDerm® est un appareil plasma permettant le traitement de grande surface. Il est doté de plusieurs têtes plasma configurables permettant de couvrir une surface jusqu’à 27 cm 2 . La source de plasma est fondée sur le concept de la décharge à barrière diélectrique (DBD). Le gaz porteur peut être l’argon ou l’air. Cependant, dans un dispositif fondé sur le concept du DBD, le plasma généré se comporte différemment entre deux alternances de décharge de plasma et le manque d’homogénéité du plasma transféré exige une grande expertise de l’utilisateur. De plus, le dispositif est en contact direct, mécanique avec la cible. Le SteriPlas est un dispositif médical de grande dimension sur roulette possédant un bras articulé avec une tête de traitement qui libère le plasma froid à base d’argon vers la zone de traitement. La torche à plasma possède 6 électrodes et l'argon est utilisé comme gaz porteur pour transporter le flux de gaz vers la cible. L'ouverture de la torche à plasma a un diamètre de 3,5 cm permettant une zone de traitement pouvant aller jusqu’à 12 cm 2 . Un dispositif selon le premier aspect de l’invention permet de couvrir une surface de 1 à 50 cm 2 avec la propagation initiale d’un seul jet de plasma, en particulier sans nécessité de contact avec la cible. Comme il apparait clairement à présent, un dispositif selon l’invention permet une meilleure propagation du plasma. Non seulement il est possible de traiter plus rapidement et de façon plus homogène de grandes surfaces mais le dispositif permet également une meilleure adaptabilité et une plus grande précision de dosage. Un tel dispositif est particulièrement avantageux pour le traitement des brûlures, par exemple pour soigner des grands brûlés. De façon générale, un tel dispositif est adapté pour traiter tout type de plaies, en particulier les plaies chroniques de typologies différentes. Il n’était pas évident de penser que le verre fritté en particulier, en tant que matériau poreux, pouvait être utilisé comme diffuseur plasma dans des dispositifs à jet de plasma froid. En effet, même si l’utilisation du verre fritté dans des dispositifs à jets de plasma est bien connue dans l’art antérieur, du fait de ses propriétés mécaniques comme sa résistance à la corrosion, à l’usure, à la compression, aux hautes températures ou aux produits chimiques lui permettant de supporter les conditions de génération du plasma, il n’a jamais été envisagé de pouvoir l’utiliser en tant que diffuseur activé par un plasma jet. L’invention permet un contrôle dynamique de la dose de plasma éjectée hors du dispositif à jet de plasma et ainsi permet à l’utilisateur de mieux adapter chaque traitement en fonction de la plaie ou du contexte clinique. Bien entendu, l’invention n’est pas limitée aux exemples de réalisation qui viennent d’être décrits. En particulier, un dispositif selon l’invention peut comporter un système de sécurité configuré pour contrôler la dose de plasma éjectée hors du dispositif, et/ou contrôler le courant délivré, et/ou contrôler une température du plasma en sortie du dispositif et/ou contrôler une puissance du plasma et/ou contrôler une pression de gaz rare dans une bouteille de gaz rare alimentant l’entrée de d’alimentation en gaz rare du tube capillaire et/ou contrôler une pression de gaz rare dans le tube capillaire, notamment dans la portion de section transversale élargie, lorsque le tube capillaire en comporte une. Par exemple, le système de sécurité peut être un coupe-circuit rapide, ou une commande du microcontrôleur de l’alimentation haute tension de l’électrode à l’origine de la génération du plasma. Un dispositif selon l’invention comporte de préférence une redondance, notamment afin de respecter les réglementations en matière de dispositifs médicaux. En particulier, un dispositif selon l’invention est de préférence configuré pour respecter tout ou partie des normes suivantes : ISO 13485:2016, ISO 14971 :2019, IEC 62304/A1:2018, IEC 62366-1 :2015, ISO 15223-1: 2016, ISO 10993, IEC 60601-1, AAMI TIR 57, 14155 :2020 (si RIPH1), DIN SPEC 91315. Cette liste n’est pas exhaustive. L’expression « comportant un » doit être comprise comme étant un synonyme de « comportant au moins un ». Dispositif à jet de plasma froid à pression atmosphérique (2) comportant : - au moins un tube capillaire (20) comportant au moins une entrée d’alimentation (22) en gaz rare, une zone de génération de plasma (24), et au moins une sortie de plasma (26) ; - au moins un diffuseur plasma (28) disposé sur le trajet de sortie du tube capillaire positionné de sorte que le plasma généré dans la zone de génération de plasma traverse le diffuseur plasma, le diffuseur plasma étant en un matériau poreux dont le diamètre médian des pores est compris entre 1 µm et 5 mm. Dispositif selon la revendication immédiatement précédente, la sortie de plasma (26) du tube capillaire comportant une partie distale (20a) évasée, le diffuseur plasma (28) étant positionné dans la partie distale évasée du tube capillaire, perpendiculairement au sens de propagation du plasma dans le tube capillaire. Dispositif selon la revendication immédiatement précédente, le diffuseur plasma étant positionné à l’extrémité distale de la partie distale évasée. Dispositif selon la revendication l’une quelconque des revendications précédentes, dans lequel le diffuseur plasma est en un matériau diélectrique, métallique ou métallique recouvert d’un matériau diélectrique. Dispositif selon la revendication immédiatement précédente, dans lequel le diffuseur plasma est en céramique frittée, de préférence en verre fritté. Dispositif selon l’une quelconque des revendications précédentes, dans lequel le diamètre des pores est supérieur à 1 μm et inférieur à 1 mm, encore mieux supérieur à 10 μm et inférieur à 500 μm, encore mieux supérieur à 40µm et inférieur à 100 µm, encore mieux supérieur à 50 µm et inférieur à 80 µm. Dispositif selon l’une quelconque des revendications précédentes, comportant plus de deux sorties de plasma et/ou plus de deux tubes capillaires, de préférence le nombre de sorties de plasma étant compris entre 1 et 100, de préférence entre 1 et 50, mieux entre 1 et 10. Dispositif selon la revendication précédente, comportant un ou plusieurs capteurs (64 1 ; 64 2 ) et un module de contrôle (66), de préférence au moins un capteur de débit de gaz rare et un module de contrôle du débit de gaz rare, le capteur de débit mesurant le débit de gaz rare dans l’entrée d’alimentation du tube capillaire. Dispositif selon l’une quelconque des revendications précédentes, comportant une électrode (14) haute tension fixée sur la paroi extérieure ou intérieure du tube capillaire, le dispositif étant configuré de sorte que l’électrode délivre un premier signal électrique et un deuxième signal électrique ayant deux fréquences distinctes, la fréquence du premier signal électrique étant définie de sorte que lorsque l’électrode délivre ce premier signal électrique, le gaz rare introduit dans le tube capillaire et soumis à la tension du premier signal électrique génère le plasma, la fréquence du deuxième signal électrique étant définie de sorte à générer une impulsion d’amorçage de propagation du plasma vers la sortie de plasma, la fréquence du deuxième signal électrique étant plus faible que la fréquence du premier signal électrique. Dispositif à jet de plasma froid selon la revendication immédiatement précédente, le premier signal électrique est une onde porteuse modulée par le deuxième signal. Utilisation d’un matériau poreux dont le diamètre médian des pores est compris entre 1 µm et 5 mm en tant d’un diffuseur plasma pour des applications de traitement de surface.