Brevet FR3122037A1 — publié le 20221021

Procédé de fabrication d'un dispositif optoélectronique ou photovoltaïque, et dispositif réalisé par ce procédé La présente description concerne un procédé de fabrication d'un dispositif optoélectronique ou photovoltaïque, comprenant les étapes successives suivantes : a) former, par dépôt PLD, une couche active (107) comprenant un matériau pérovskite sur la face supérieure d'une première couche de transport de charges (105) ; b) déposer, par dépôt PLD, une deuxième couche de transport de charges (109) en un matériau inorganique sur la face supérieure de la couche active. Figure pour l'abrégé : Fig. 1 Procédé de fabrication d'un dispositif optoélectronique ou photovoltaïque, et dispositif réalisé par ce procédé La présente description concerne de façon générale les dispositifs optoélectroniques ou photovoltaïques. Elle vise plus particulièrement un procédé de fabrication d'un dispositif optoélectronique ou photovoltaïque à base d'un matériau pérovskite, et un dispositif réalisé par ce procédé. On a déjà proposé des dispositifs optoélectroniques ou photovoltaïques de type diode, réalisés à base de matériaux pérovskites. Les dispositifs connus de ce type présentent toutefois divers inconvénients. En particulier, ces dispositifs souffrent généralement de problèmes de fiabilité et présentent des durées de vie relativement faibles. Un objet d'un mode de réalisation est de pallier tout ou partie des inconvénients des dispositifs optoélectroniques ou photovoltaïques connus à base de matériaux pérovskites. Pour cela, un mode de réalisation prévoit un procédé de fabrication d'un dispositif optoélectronique ou photovoltaïque, comprenant les étapes successives suivantes : a) former, par dépôt PLD, une couche active comprenant un matériau pérovskite sur la face supérieure d'une première couche de transport de charges ; b) déposer, par dépôt PLD, une deuxième couche de transport de charges en un matériau inorganique sur la face supérieure de la couche active. Selon un mode de réalisation, les étapes a) et b) sont mises en oeuvre sous vide, c'est-à-dire à une pression inférieure à la pression atmosphérique, le procédé ne comportant pas de rupture du vide entre les étapes a) et b). Selon un mode de réalisation, la première couche de transport de charges est déposée par dépôt PLD avant l'étape a). Selon un mode de réalisation, l'étape de dépôt de la première couche de transport de charges et l'étape a) sont mises en oeuvre sous vide, c'est-à-dire à une pression inférieure à la pression atmosphérique, le procédé ne comportant pas de rupture du vide entre ces deux étapes. Selon un mode de réalisation, le procédé comporte en outre, avant le dépôt de la première couche de transport de charges, une étape de dépôt d'une électrode inférieure, par exemple par dépôt PLD, la première couche de transport de charges étant ensuite déposée sur la face supérieure de l'électrode inférieure. Selon un mode de réalisation, le procédé comporte en outre, après l'étape b), une étape de dépôt d'une électrode supérieure, par exemple par dépôt PLD, sur la face supérieure de la deuxième couche de transport de charges. Selon un mode de réalisation, l'électrode supérieure est en un matériau conducteur transparent. Selon un mode de réalisation, la deuxième couche de transport de charges est en dioxyde de titane, en dioxyde d'étain, en oxyde de nickel ou en oxyde de cuivre. Selon un mode de réalisation, le matériau pérovskite de la couche active est un matériau pérovskite inorganique. Selon un mode de réalisation, le matériau pérovskite de la couche active est un matériau pérovskite halogène inorganique. Selon un mode de réalisation, avant l'étape a), la première couche de transport de charges est déposée sur la face supérieure d'un circuit intégré préalablement formé dans et sur un substrat semiconducteur, par exemple un substrat en silicium. Un autre mode de réalisation prévoit un dispositif optoélectronique ou photovoltaïque comprenant un empilement vertical comprenant une première couche de transport de charges, une couche active comprenant un matériau pérovskite disposée sur la face supérieure de la première couche de transport de charges, et une deuxième couche de transport de charges en un matériau inorganique disposée sur la face supérieure de la couche active. Selon un mode de réalisation, la première couche de transport de charges est disposée sur la face supérieure d'un circuit intégré formé dans et sur un substrat semiconducteur, par exemple un substrat en silicium. Selon un mode de réalisation, la couche active et la deuxième couche de transport de charges ont des structures cristallines alignées selon une relation d'épitaxie. Selon un mode de réalisation, la couche active est une monocouche massive en ledit matériau pérovskite. Selon un mode de réalisation, la couche active est un empilement de puits quantiques multiples constitué par une alternance de couches de puits quantiques en ledit matériau pérovskite et de couches barrières en un autre matériau semiconducteur. Ces caractéristiques et avantages, ainsi que d'autres, seront exposés en détail dans la description suivante de modes de réalisation particuliers faite à titre non limitatif en relation avec les figures jointes parmi lesquelles : la est une vue en coupe illustrant de façon schématique un exemple d'un dispositif optoélectronique ou photovoltaïque selon un mode de réalisation ; et la est un diagramme représentant schématiquement, sous forme de blocs, un exemple d'un procédé de fabrication du dispositif de la . De mêmes éléments ont été désignés par de mêmes références dans les différentes figures. En particulier, les éléments structurels et/ou fonctionnels communs aux différents modes de réalisation peuvent présenter les mêmes références et peuvent disposer de propriétés structurelles, dimensionnelles et matérielles identiques. Par souci de clarté, seuls les étapes et éléments utiles à la compréhension des modes de réalisation décrits ont été représentés et sont détaillés. En particulier, la réalisation complète des dispositifs optoélectroniques ou photovoltaïques décrits, et notamment de leurs éventuels circuits de contrôle, n'a pas été détaillée, la réalisation de ces dispositifs étant à la portée de la personne du métier à partir des indications de la présente description. Sauf précision contraire, lorsque l'on fait référence à deux éléments connectés entre eux, cela signifie directement connectés sans éléments intermédiaires autres que des conducteurs, et lorsque l'on fait référence à deux éléments reliés (en anglais "coupled") entre eux, cela signifie que ces deux éléments peuvent être connectés ou être reliés par l'intermédiaire d'un ou plusieurs autres éléments. Dans la description qui suit, lorsque l'on fait référence à des qualificatifs de position absolue, tels que les termes "avant", "arrière", "haut", "bas", "gauche", "droite", etc., ou relative, tels que les termes "dessus", "dessous", "supérieur", "inférieur", etc., ou à des qualificatifs d'orientation, tels que les termes "horizontal", "vertical", etc., il est fait référence sauf précision contraire à l'orientation des figures. Sauf précision contraire, les expressions "environ", "approximativement", "sensiblement", et "de l'ordre de" signifient à 10 % près, de préférence à 5 % près. La est une vue en coupe illustrant de façon schématique un exemple d'un dispositif optoélectronique ou photovoltaïque selon un mode de réalisation. Le dispositif de la est un dispositif de type diode, par exemple une diode électroluminescente, une photodiode, ou une diode photovoltaïque. Les modes de réalisation décrits sont tout particulièrement avantageux pour la réalisation de diodes électroluminescentes, et, plus particulièrement, pour la réalisation de diodes électroluminescentes de pixels de micro-écrans. Le dispositif de la comprend un substrat de support 101, par exemple un substrat semiconducteur, par exemple un substrat en silicium. Le dispositif de la comprend en outre un empilement vertical comportant, dans l'ordre à partir de la face supérieure du substrat, une première couche d'électrode 103, une première couche de transport de charges 105, une couche active 107, une deuxième couche de transport de charges 109, et une deuxième couche d'électrode 111. La couche d'électrode inférieure 103 est par exemple en contact, par sa face inférieure, avec la face supérieure du substrat 101. La première couche de transport de charges 105 est par exemple en contact, par sa face inférieure, avec la face supérieure de la couche d'électrode 103. La couche active 107 est par exemple en contact, par sa face inférieure, avec la face supérieure de la couche de transport de charges 105. La deuxième couche de transport de charges 109 est par exemple en contact, par sa face inférieure, avec la face supérieure de la couche active 107. La couche d'électrode supérieure 111 est par exemple en contact, par sa face inférieure, avec la face supérieure de la couche de transport de charges 109. Selon un aspect des modes de réalisation décrits, la couche active 107 comprend un matériau à structure pérovskite. Un avantage est que les matériaux à structure pérovskite, aussi appelés matériaux pérovskites, présentent une efficacité quantique interne élevée, pouvant aller jusqu'à 100%. En outre, les matériaux pérovskite présentent un coefficient d'absorption élevé. Ainsi, la fonction de conversion photo-électrique (dans le cas d'une photodiode ou d'une diode photovoltaïque) ou électro-photonique (dans le cas d'une diode électroluminescente) peut être assurée efficacement par une couche active d'épaisseur relativement faible. Du fait des faibles épaisseurs requises pour assurer les fonctions de conversion recherchées, la couche active 107 peut être gravée facilement, ce qui permet de réaliser des éléments de conversion ou d'émission lumineuse présentant de très petites dimensions latérales. Les modes de réalisation décrits sont notamment particulièrement avantageux pour la réalisation de diodes dans des pixels de petites dimensions, par exemple pour la réalisation de dispositifs (par exemple un écran d'affichage d'images) présentant un pas inter-pixel inférieur à 100 µm, par exemple inférieur à 20 µm, voire inférieur à 5 µm. Un autre avantage est que les matériaux pérovskites peuvent être déposés à des températures relativement basses, par exemple inférieures ou égales à 400°C, ce qui permet notamment leur dépôt sur un circuit intégré, par exemple de type CMOS (de l'anglais "Complementary Metal Oxide Semiconductor" – métal oxyde semiconducteur complémentaire). Un autre avantage est que les matériaux pérovskites présentent une grande tolérance aux défauts de structure cristalline. La couche active 107 peut être une monocouche massive en un matériau pérovskite. L'épaisseur de la couche active 107 est alors par exemple comprise entre 1 nm et 1 µm. A titre de variante, la couche active 107 peut être un empilement à puits quantiques multiples comprenant une alternance de couches semiconductrices d'un premier matériau et de couches semiconductrices d'un deuxième matériau, chaque couche du premier matériau étant prise en sandwich entre deux couches du deuxième matériau. Le premier matériau est un matériau pérovskite et présente une bande interdite plus étroite que celle du deuxième matériau. Chaque couche du premier matériau définit un puits quantique. Les couches du deuxième matériau sont des barrières quantiques. Le nombre de puits quantiques de l'empilement est de préférence supérieur ou égal à 2, par exemple supérieur ou égal à 3. Le matériau des couches barrières 103 est de préférence un matériau semiconducteur inorganique, par exemple un composé III-V comprenant au moins un premier élément du groupe III, un deuxième élément du groupe V, et, éventuellement, un troisième élément, par exemple un élément du groupe III autre que le premier élément. A titre d'exemple, l'élément du groupe V est l'azote (N), de sorte que le matériau des couches barrières comprend un composé III-N. A titre d'exemple, le matériau des couches barrières est du nitrure de gallium, du nitrure d'aluminium, du nitrure de bore, du nitrure d'indium ou un alliage d'un ou plusieurs de ces matériaux. L'épaisseur des couches du premier matériau est choisie de façon à permettre un confinement quantique dans chaque couche de puits quantique. A titre d'exemple, chaque couche du premier matériau présente une épaisseur comprise entre 1 et 50 nm. Chaque couche barrière présente par exemple une épaisseur comprise entre 1 et 100 nm. A titre de variante, l'empilement peut comprendre une unique couche de puits quantique. Dans ce cas, le puits quantique peut être confiné entre deux couches barrières telles que définies ci-dessus. A titre de variante, l'une et/ou l'autre des couches barrières peuvent être omises, le rôle de barrière quantique étant alors rempli par la couche de transport de charge inférieure 105 et/ou par la couche de transport de charge supérieure 109. De façon similaire, dans un empilement à puits quantiques multiples comportant plusieurs couches de puits quantiques, l'une et/ou l'autre des couches barrières extrêmes de l'empilement peuvent être omises, le rôle de barrière quantique étant alors rempli par la couche de transport de charge inférieure 105 et/ou par la couche de transport de charge supérieure 109. Que la couche active 107 soit une monocouche massive ou qu'elle comprenne un empilement à puits quantiques multiples, pour obtenir de bonnes performances de conversion ou d'émission lumineuse et une durée de vie importante, le matériau pérovskite de la couche active 107 est de préférence un matériau pérovskite inorganique. A titre d'exemple, on pourra utiliser un matériau pérovskite à base de césium, de plomb et d'un ou plusieurs halogènes, par exemple du CsPbI 2 Br, du CsPbBr 3 , du CsPbCl 3 , du CsSnBr 3 , ou encore du CsPbI 3 . A titre de variante, on pourra utiliser un matériau pérovskite hybride de type MAPbI 3 . Plus généralement, d'autres matériaux pérovskites peuvent être choisis en fonction des propriétés d'absorption ou d'émission recherchées. De façon générale, on utilisera de préférence un matériau pérovskite dit halogène inorganique, c’est-à-dire de type ABX 3 , où : - A est un élément inorganique, par exemple du césium (Cs), du plomb (Pb), du phosphore (K) ou du lithium (Li), - B est du plomb (Pb) de l'étain (Sn) ou du germanium (Ge), et - X est un halogène, par exemple le brome (Br), le chlore (Cl), l'iode (I) ou une combinaison d'halogènes. A titre de variante, le matériau pérovskite de la couche active 107 est un matériau pérovskite organique, par exemple du formadiminium, aussi appelé FA, de formule chimique CN 2 H 5+ , ou du Methylammonium, aussi appelé MA, de formule chimique CH 3 NH 3+ , ou une combinaison de ces éléments. Selon un aspect des modes de réalisation décrit, les couches de transport de charge inférieure 105 et supérieure 109 sont toutes deux en des matériaux inorganiques. L'encapsulation de la couche active 107 par des couches 105 et 109 inorganiques permet d'améliorer la stabilité dans le temps du matériau pérovskite de la couche 107, et donc la fiabilité et la durée de vie du dispositif. A titre d'exemple, la couche 105 est une couche de transport d'électrons et la couche 109 est une couche de transport de trous. La couche 105 est par exemple en dioxyde de titane (TiO 2 ) ou en dioxyde d'étain (SnO 2 ). La couche 109 est par exemple oxyde de nickel (NiO) ou en oxyde de cuivre (Cu 2 O). Les couches 105 et 109 permettent d'injecter ou de collecter du courant dans la couche active 107 de façon à provoquer l'émission de lumière par la diode ou à collecter un courant photo-généré. A titre de variante, les couches 105 et 109 peuvent être inversées. La couche d'électrode inférieure 103 est par exemple une couche métallique, de préférence une couche métallique réfléchissante. La couche 103 est par exemple en platine. La couche d'électrode supérieure 111 est de préférence une couche conductrice transparente dans la gamme de longueurs d'onde de fonctionnement du dispositif optoélectronique ou photovoltaïque. La couche 111 est par exemple en un oxyde conducteur transparent, par exemple en oxyde d'indium-étain (ITO), en oxyde de zinc (ZNO), ou en oxyde de zinc-gallium (GZO). La couche 111 peut être dopée à l'aluminium ou au cadmium. La couche 111 peut être recouverte d'une couche de passivation, non représentée, par exemple en nitrure de silicium. La est un diagramme représentant schématiquement, sous forme de blocs, un exemple d'un procédé de fabrication du dispositif de la . Le procédé de la comprend des étapes successives de dépôt des couches 103, 105, 107, 109 et 111 sur la face supérieure du substrat 101. Dans un mode de réalisation préféré, le substrat 101 intègre un circuit de contrôle de la diode formée par l'empilement des couches 103, 105, 107, 109 et 111. En effet, un avantage du procédé de la est qu'il peut être entièrement mis en oeuvre à des températures relativement basses, par exemple inférieures ou égales à 400°C, compatibles avec un dépôt sur un circuit intégré préalablement formé dans et sur un substrat semiconducteur, par exemple un substrat en silicium. A titre d'exemple, le substrat 101 est un circuit intégré de type CMOS. A titre d'exemple, une pluralité de diodes, par exemple identiques ou similaires, par exemple commandables individuellement, sont formées sur la face supérieure du substrat 101. Les diodes définissent par exemple des pixels du dispositif et sont par exemple connectées respectivement à différents plots de connexion électrique du circuit intégré. Lors d'une étape 203, la couche d'électrode inférieure 103 est déposée sur la face supérieure du substrat 101, par exemple par évaporation ou par pulvérisation. Lors d'une étape 205 postérieure à l'étape 203, la couche de transport de charges inférieure 105 est déposée sur la face supérieure de la couche d'électrode inférieure 103. De préférence, la couche 105 est déposée par dépôt PLD (de l'anglais "Pulsed Laser Deposition" – dépôt laser pulsé) aussi appelé dépôt par ablation laser pulsée. Le dépôt PLD consiste à pulvériser ou ablater la surface d'une cible du matériau à déposer au moyen d'un laser pulsé, de manière à transférer le matériau dans un plasma, puis, via le plasma, sur le substrat de destination. Un avantage du dépôt PLD est qu'il permet de déposer des matériaux complexes avec une bonne qualité cristalline, et ce à une température relativement basse, par exemple inférieure ou égale à 400°C, sans endommager le substrat de destination. A titre de variante, la couche de transport de charges inférieure 105 est déposée par une autre méthode de dépôt, par exemple par évaporation ou par pulvérisation, par exemple à une température inférieure ou égale à 400°C. Lors d'une étape 207 postérieure à l'étape 205, la couche active 107 est déposée sur la face supérieure de la couche de transport de charges 105. La couche active 107 est de préférence déposée par dépôt PLD. Dans le cas où la couche active 107 est constituée d'un empilement de puits quantiques multiples, les couches de puits quantiques et les couches barrières sont par exemple successivement déposées par PLD, de préférence sans rupture du vide, c'est-à-dire en maintenant toujours le substrat dans une enceinte à basse pression, c'est-à-dire à une pression inférieure à la pression atmosphérique, par exemple à une pression inférieure ou égale à 1 mbar entre les étapes successives de dépôt. Ceci permet de ne pas exposer à l'air, à l'humidité, à l'oxygène ou aux impuretés les différentes couches de l'empilement entre les dépôts successifs. A titre d'exemple, les couches de puits quantiques et les couches barrières sont successivement déposées par PLD sans extraire le substrat destination de la chambre de dépôt entre deux étapes successives de dépôt. En effet, un avantage du dépôt PLD est qu'il permet de commuter entre différentes cibles de matériaux de compositions différentes sans extraire le substrat destination de la chambre de dépôt. Un autre avantage est que le dépôt PLD est une méthode de dépôt douce. Autrement dit, le dépôt PLD se caractérise par un atterrissage doux ("soft landing" en anglais) des atomes de la cible sur le substrat destination. Ceci permet en particulier de ne pas endommager le matériau pérovskite des couches de puits quantiques lors du dépôt des couches barrières. Lors d'une étape 209 postérieure à l'étape 207, la couche de transport de charges supérieure 109 est déposée sur la face supérieure de la couche active 107. Selon un aspect d'un mode de réalisation, la couche 109 est déposée par dépôt PLD. En effet, un avantage du dépôt PLD est qu'il permet de déposer une couche de transport de charges en un matériau inorganique sur la couche active 107, sans endommager le matériau pérovskite de la couche 107, et ce grâce au fait que le dépôt PLD permet un atterrissage doux des atomes de la cible sur la surface de destination. De préférence, la couche active 107 et la couche de transport de charges supérieure 109 sont successivement déposées par dépôt PLD sans rupture du vide entre le dépôt de la couche 107 et le dépôt de la couche 109. Ceci permet de ne pas exposer à l'air, à l'oxygène ou aux impuretés la couche 107 avant le dépôt de la couche 109. A titre d'exemple, la couche 107 et la couche 109 sont successivement déposées par dépôt PLD sans changer d'équipement de dépôt et sans extraire le substrat de la chambre de dépôt entre le dépôt de la couche 107 et le dépôt de la couche 109. Plus préférentiellement, la couche de transport de charges inférieure, la couche active 107 et la couche de transport de charges supérieure 109 sont successivement déposées par dépôt PLD sans rupture du vide entre les dépôts des différentes couches, par exemple sans changer d'équipement de dépôt et sans extraire le substrat de la chambre de dépôt entre les dépôts des différentes couches. Un autre avantage du dépôt PLD est qu'il permet d'épitaxier les matériaux déposés. Autrement dit, les couches déposées présentent une continuité latérale (c'est-à-dire dans le plan horizontal dans l'orientation de la ) de la structure cristalline, ou un alignement cristallin vertical entre les différentes couches déposées. Ceci permet notamment d'améliorer la stabilité dans le temps du dispositif en général, et en particulier du matériau pérovskite. De préférence, la couche active 107 et la couche de transport de charges supérieure 109 sont toutes deux épitaxiées. Plus préférentiellement, la couche de transport de charges inférieure 105, la couche active 107 et la couche de transport de charges supérieure 109 sont toutes trois épitaxiées. Lors d'une étape 211 postérieure à l'étape 209, la couche d'électrode supérieure 111 est déposée sur la face supérieure de la couche de transport de charges 109, par exemple par évaporation ou par pulvérisation. A titre de variante, la couche d'électrode supérieure 111 est déposée par dépôt PLD, de façon à obtenir une couche 111 épitaxiée. De préférence, la couche 109 et la couche 111 sont alors successivement déposées par dépôt PLD sans rupture de vide entre les deux dépôts, par exemple sans extraire le substrat de la chambre de dépôt entre les deux dépôts. De façon similaire, la couche d'électrode inférieure 103 peut être déposée par dépôt PLD à l'étape 203. Dans un mode de réalisation particulièrement avantageux, les couches 103, 105, 107, 109 et 111 sont toutes les cinq déposées par PLD, de façon à obtenir un empilement entièrement épitaxié, de préférence sans rupture du vide entre les dépôts des différentes couches. Divers modes de réalisation et variantes ont été décrits. La personne du métier comprendra que certaines caractéristiques de ces divers modes de réalisation et variantes pourraient être combinées, et d’autres variantes apparaîtront à la personne du métier. En particulier, bien que l'on ait décrit-ci-dessus la réalisation d'une diode unique, la personne du métier saura mettre en oeuvre des procédés permettant de réaliser simultanément plusieurs diodes adressables individuellement, correspondant par exemple à différents pixels d'un micro-écran ou d'un capteur d'images monolithique, en utilisant des procédés de gravure localisée ou de dépôt localisé pour isoler électriquement les diodes les unes des autres. Par ailleurs, la personne du métier saura, en utilisant des procédés de gravure localisée ou de dépôt localisé, réaliser, sur un même substrat, plusieurs diodes à bases de matériaux pérovskites distincts, correspondant à différents pixels d'un micro-écran émettant à des longueurs d'ondes distinctes, ou à différents pixels d'un capteur d'image sensibles dans des gammes de longueurs d'ondes distinctes. En outre, dans l'exemple de réalisation décrit ci-dessus en relation avec la , le substrat 101 et l'électrode inférieure 103 sont opaques, les modes de réalisation décrits ne se limitent toutefois pas à ce cas particulier. A titre de variante, le substrat 101 et l'électrode inférieure 103 peuvent être transparents. L'électrode supérieure 111 peut alors être soit opaque, soit transparente. En outre, la personne du métier saura prévoir un dispositif de type tandem, par exemple un dispositif photovoltaïque, comportant, entre l'électrode inférieure 103 et l'électrode supérieure 111, une première diode formée par l'empilement des couches 105, 107 et 109, et une deuxième diode constituée par un empilement d'une troisième couche de transport, d'une couche active et d'une quatrième couche de transport de charge, non représentées. Par ailleurs, bien que l'on ait décrit ci-dessus des exemples de réalisation de diodes planaires, les modes de réalisation pourront être adaptés à des dispositifs à base de diodes tridimensionnelles, par exemple des LED à base de nanofils ou de microfils semiconducteurs, ou encore des LED pyramidales, par exemple du type décrit dans la demande de brevet FR3087942 ou dans la demande de brevet FR3089687 précédemment déposées par le demandeur. Procédé de fabrication d'un dispositif optoélectronique ou photovoltaïque, comprenant les étapes successives suivantes : a) former, par dépôt PLD, une couche active (107) comprenant un matériau pérovskite sur la face supérieure d'une première couche de transport de charges (105) ; b) déposer, par dépôt PLD, une deuxième couche de transport de charges (109) en un matériau inorganique sur la face supérieure de la couche active. Procédé selon la revendication 1, dans lequel les étapes a) et b) sont mises en oeuvre sous vide, c'est-à-dire à une pression inférieure à la pression atmosphérique, le procédé ne comportant pas de rupture du vide entre les étapes a) et b). Procédé selon la revendication 1 ou 2, dans lequel la première couche de transport de charges (105) est déposée par dépôt PLD avant l'étape a). Procédé selon la revendication 3, dans lequel l'étape de dépôt de la première couche de transport de charges (105) et l'étape a) sont mises en oeuvre sous vide, c'est-à-dire à une pression inférieure à la pression atmosphérique, le procédé ne comportant pas de rupture du vide entre ces deux étapes. Procédé selon la revendication 3 ou 4, comportant en outre, avant le dépôt de la première couche de transport de charges (105), une étape de dépôt d'une électrode inférieure (103), par exemple par dépôt PLD, la première couche de transport de charges (105) étant ensuite déposée sur la face supérieure de l'électrode inférieure (103). Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 5, comportant en outre, après l'étape b), une étape de dépôt d'une électrode supérieure (111), par exemple par dépôt PLD, sur la face supérieure de la deuxième couche de transport de charges (109). Procédé selon la revendication 6, dans lequel l'électrode supérieure (111) est en un matériau conducteur transparent. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 7, dans lequel la deuxième couche de transport de charges (109) est en dioxyde de titane, en dioxyde d'étain, en oxyde de nickel ou en oxyde de cuivre. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 8, dans lequel le matériau pérovskite de la couche active (107) est un matériau pérovskite inorganique. Procédé selon la revendication 9, dans lequel le matériau pérovskite de la couche active (107) est un matériau pérovskite halogène inorganique. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 10, dans lequel, avant l'étape a), la première couche de transport de charges (105) est déposée sur la face supérieure d'un circuit intégré préalablement formé dans et sur un substrat semiconducteur, par exemple un substrat en silicium. Dispositif optoélectronique ou photovoltaïque comprenant un empilement vertical comprenant une première couche de transport de charges (105), une couche active (107) comprenant un matériau pérovskite disposée sur la face supérieure de la première couche de transport de charges, et une deuxième couche de transport de charges (109) en un matériau inorganique disposée sur la face supérieure de la couche active. Dispositif selon la revendication 12, dans lequel la première couche de transport de charges (105) est disposée sur la face supérieure d'un circuit intégré formé dans et sur un substrat semiconducteur, par exemple un substrat en silicium. Dispositif selon la revendication 12 ou 13, dans lequel la couche active (107) et la deuxième couche de transport de charges (109) ont des structures cristallines alignées selon une relation d'épitaxie. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 12 à 14, dans lequel la couche active (107) est une monocouche massive en ledit matériau pérovskite. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 12 à 15, dans lequel la couche active (107) est un empilement de puits quantiques multiples constitué par une alternance de couches de puits quantiques en ledit matériau pérovskite et de couches barrières en un autre matériau semiconducteur.