Brevet FR3126063A1 — publié le 20230210

Dispositif pour le stockage, le contrôle et la manipulation de l’information quantique (qubits) sur semi-conducteur Dispositif (11) électronique pour le stockage, le contrôle et la manipulation de qubits sur semi-conducteur, à base de spins d’électron ou de trou, le dispositif comprenant une couche isolante (20) électriquement et : sur une face avant (21) de la couche isolante, une structure de piégeage (1) pour électrons ou trous qui comporte : une portion de canal (2) comprenant au moins une portion de couche en matériau semi-conducteur, ainsi qu’une pluralité de grilles (3) réparties pour piéger au moins un électron ou un trou dans la portion de canal, et du côté arrière (24) de la couche isolante, une piste (30) électrique qui s’étend parallèlement à la couche isolante, destinée à générer un champ magnétique oscillant (B AC ) s’exerçant sur ledit au moins un électron ou trou piégé dans la structure de piégeage. Figure à publier avec l’abrégé : Figure 5 Dispositif pour le stockage, le contrôle et la manipulation de l’information quantique (qubits) sur semi-conducteur Le domaine technique est celui des ordinateurs quantiques, et, plus généralement, celui du stockage, du contrôle et de la manipulation de qubits. La présente technologie concerne plus précisément un dispositif pour le stockage, le contrôle et la manipulation de l’information quantique (qubits) sur semi-conducteurs, le support physique de chaque qubit étant le spin d’un électron ou d’un trou stocké dans le dispositif. ARRIÈRE-PLAN TECHNOLOGIQUE Le domaine de l’information quantique et du calcul quantique a connu un fort développement ces dernières années. Différentes technologies sont en cours de développement pour réaliser des ordinateurs quantiques dans lesquels on stocke, on contrôle et on manipule des qubits, pouvant d’ailleurs être couplés les uns aux autres, au lieu de stocker des données binaires classiques de type 0 ou 1. De tels qubits peuvent en particulier correspondre au spin d’un électron ou d’un trou, électron ou trou qui est piégé dans une boite quantique, structure à base de semi-conducteur refroidie par cryogénie issue des techniques de la microélectronique. La représente schématiquement un dispositif 10’ comprenant une telle structure de piégeage 1, vu en coupe et de côté. Ce dispositif est réalisé à partir d’un substrat de type silicium sur isolant « SOI », comportant initialement une mince couche de silicium qui recouvre une couche d’oxyde de silicium enterrée (appelée habituellement « BOX »), l’ensemble étant supporté par une couche de silicium ‘standard’ (de résistivité égale à 10 Ohm.cm par exemple) ou bien HR-Si (silicium de haute résistivité électrique de 10 kOhm.cm par exemple), plus épaisse, qui porte la référence 300 sur la . La couche d’oxyde de silicium forme une couche isolante 20’ sur laquelle est réalisée la structure de piégeage 1. Cette structure comprend une portion de canal 2, en silicium (par exemple en silicium 28 Si isotopiquement pur), et des grilles (appelées « gate » en microélectronique) réparties sur cette portion de canal 2 sur un niveau (comme c’est le cas pour les grilles 3 représentées sur la ) ou sur plusieurs niveaux (grilles supplémentaires, sur des niveaux supérieurs, non représentées ici). Chaque grille comprend typiquement un empilement de grille, avec au moins une couche isolante pour séparer le reste de la grille de la portion de canal 2. L’ensemble est recouvert par exemple par une couche en nitrure de silicium 4 (isolante électriquement). En contrôlant électriquement l’ensemble des grilles du dispositif (dont les grilles 3), en particulier en termes de potentiel électrique DC, on peut créer des boites quantiques réparties dans la portion de canal (c’est-à-dire des pièges, de petite dimension, réparties dans cette portion). En général, le dispositif comporte un ensemble de grilles qui contrôlent le puits de potentiel des boites quantiques et un ensemble de grilles qui contrôle les barrières tunnel entre boites quantiques. Les boites quantiques ainsi créés peuvent être utilisées pour stocker l’information quantique (qubits), pour la lecture des qubits ou encore pour avoir des réservoirs de charges. Un champ magnétique constant B 0 est généralement appliqué à la structure de piégeage, et entraîne une précession du spin de l’électron en question (dans le cas de la , le champ magnétique B 0 est orienté selon une direction x parallèle au substrat). L’application de ce champ magnétique statique (par exemple compris entre 100 mT et 1 T) permet de bien distinguer (bien séparer) les deux niveaux, « spin down » et « spin up », associés au spin des quasi-particules piégées, et d’obtenir ainsi un système quantique à deux niveaux bien contrôlable. Pour manipuler le spin de l’électron piégé et modifier son orientation dans la sphère de Bloch, on peut alors appliquer un champ magnétique oscillant à cet électron (champ magnétique B AC , ayant par exemple une fréquence dans le domaine des gigahertz, ce champ magnétique oscillant ayant au moins une composante perpendiculaire au champ magnétique « orientateur » constant Bo. Cela permet notamment de faire basculer le spin de son état + à son état -. Cette technique, appelée « ESR » (selon l’acronyme anglo-saxon de « Electron Spin Resonance ») est couramment utilisée pour de tels qubits sur semi-conducteurs, à base de spin d’électron. Pour des électrons, ce contrôle du spin par résonance est généralement réalisée grâce à un champ magnétique oscillant, comme indiqué au-dessus. Dans le cas de trous, comme l’interaction spin-orbite est importante, on peut employer, on peut aussi employer une technique appelée EDSR (Electrical Dipole Spin Resonance) dans laquelle on utilise un champ électrique alternatif aux mêmes fréquences. Dans le cas de l’ESR, il est nécessaire de générer un champ électromagnétique où seule la partie magnétique du champ électromagnétique sera utile. La partie électrique du champ électromagnétique est quant à elle source de parasite et on cherche donc à la minimiser. Le dispositif 10’ comprend une couche d’encapsulation 200, typiquement en oxyde de silicium, qui protège la structure de piégeage. Il comprend aussi d’autres couches d’encapsulation 200, et un ensemble de conducteurs électriques d’interconnexion 25 qui relient électriquement l’ensemble des grilles (dont les grilles 3) (et aussi la portion de canal 2) à des plots de contact 26 distants. Cet ensemble fait partie de la structure, appelée habituellement BEOL (pour « Back End Of Line » en anglais), qui permet d’interfacer les qubits en question. L’ensemble des conducteurs électriques d’interconnexion 25 comprend notamment des vias conducteurs et des pistes électriques qui s’étendent parallèlement au substrat, et permettent de déporter la connexion électrique des grilles 3. Pour générer le champ magnétique oscillant B AC mentionné plus haut, on peut utiliser une piste électrique, par exemple en forme de spire, réalisée sur la face supérieure 204 de l’empilement de « Back End Of Line » (cette piste n’est pas représentée, sur la figue 1), cette piste électrique étant parcourue par un courant électrique alternatif I ESR de même fréquence que le champ magnétique à générer. Mais le champ magnétique oscillant en question est alors appliqué sur l’ensemble du dispositif, et notamment sur le réseau d’interconnexion 25, risquant ainsi d’induire des signaux parasites indésirables. De plus, l’éloignement assez important entre les qubits, et la piste servant à générer le champ magnétique oscillant, impose d’employer un courant électrique alternatif assez intense, ce qui peut être une source d’échauffements indésirables, dans l’environnement cryogénique où est plongé le dispositif 10’. Une autre solution pour créer ce champ magnétique variable est de réaliser le ou les qubits 3’, ainsi qu’une piste électrique 30’ sur la face 21’ d’une couche isolante, la piste passant juste à côté du ou des qubits, par exemple à quelques dizaines de nanomètres de celui-ci, comme représenté sur la (figure qui est la .a. de l’article de Pla, J. et al., « A single-atom electron spin qubit in silicon », Nature 489, 541–545, 2012). Cette proximité permet d’obtenir un champ magnétique oscillant intense, pour une intensité modérée du courant I ESR . Mais cette configuration pose des problèmes d’encombrement : une partie de la zone située autour des boites quantiques destinées à piéger les électrons ou trous est occupé par cette piste 30’ et par les pistes annexes d’amenée du courant électrique I ESR . Or l’environnement de ces boites quantiques est déjà en lui-même, très encombré, notamment du fait de la présence des conducteurs électriques employés pour piloter le ou les qubits. RESUME Dans ce contexte, on propose un dispositif électronique pour le stockage, le contrôle et la manipulation de qubits sur semi-conducteur, à base de spins d’électron ou de trou, le dispositif comprenant : une couche isolante électriquement avec, du côté avant, une face avant, et du côté arrière, une face arrière, sur la face avant de la couche isolante, une structure de piégeage pour électrons ou trous qui comporte : une portion de canal, formée au moins en partie par une portion de couche en matériau semi-conducteur s’étendant dans un plan parallèle à ladite couche isolante, et une pluralité de grilles distinctes les unes des autres, réparties en un ou plusieurs niveaux sur la portion de canal, d’un côté de la portion de canal opposé à ladite couche isolante (pour piéger au moins un électron ou un trou dans la portion de canal), du côté arrière de la couche isolante, une piste électrique qui s’étend dans un plan parallèle à la couche isolante, destinée à générer un champ magnétique oscillant s’exerçant sur ledit au moins un électron ou trou piégé dans la structure de piégeage. Cette piste électrique peut également jouer le rôle d’une « grille de face arrière », appelée couramment ‘back-gate’ en anglais, permettant de disposer d’un moyen supplémentaire pour contrôler le paysage de potentiel électrique au sein de la portion de canal (2) où est piégé ledit au moins un électron ou trou. La piste électrique, destinée à générer le champ magnétique oscillant pour la résonance ESR (appelée piste « ESR » dans la suite), est donc réalisée en face arrière (du côté du « back-side », d’un point de vue technologique), tandis que la structure de piégeage est réalisée en face avant (du côté du « front-side »). Les vias et lignes conductrices pour l’interconnexion électrique des grilles de la structure de piégeage sont d’ailleurs généralement réalisés eux aussi du côté avant de la couche isolante en question (voir la par exemple). Comme indiqué juste au-dessus, cette piste électrique, de par la possibilité d’ajuster une polarisation de la structure de piégeage (ou éventuellement des structures de piégeages), arrière (du côté opposé à la structure de piégeage par rapport à la couche isolante) permet un contrôle additionnel du paysage de potentiel électrique au sein de la portion de canal (notamment pour contrôler les boites quantiques mentionné plus haut). Plus précisément, une telle ‘back-gate’ permet de contrôler indépendamment la profondeur du puits de potentiel ainsi que le champ électrique au sein de la boite quantique, ce qui présente un avantage certain (en l’absence de « back-gate » on ne peut pas contrôler le champ électrique dans la boite quantique indépendamment de sa profondeur, ce champ électrique étant alors lié directement à la profondeur du puits, en étant d’autant plus fort que le puits est profond). Le dispositif est typiquement réalisé à partir d’un substrat de type semi-conducteur sur isolant, par exemple un substrat de type Silicium sur isolant « SOI » ou de type Germanium sur isolant « GeOI ». Un tel substrat comprend initialement une mince couche de semi-conducteur (par exemple une mince couche de silicium) recouvrant une couche d’oxyde de ce semi-conducteur, enterrée (le « box »), l’ensemble étant supporté par une couche dudit semi-conducteur, plus épaisse, et ayant généralement une résistivité électrique élevée (pas ou peu de dopage intentionnel, pour cette couche support). C’est alors cette couche d’oxyde de semi-conducteur enterrée (éventuellement amincie au cours de la fabrication), qui, après fabrication, forme la couche isolante mentionnée plus haut, sur laquelle est située la structure de piégeage, et sous laquelle s’étend la piste électrique « ESR ». Par rapport à une réalisation uniquement en face avant, l’ajout de structures en face arrière de la couche isolante (l’ajout de la piste électrique « ESR », et des conducteurs électriques pour l’interconnexion de cette piste) complique la fabrication. Cette fabrication des deux côtés peut notamment nécessiter un retournement du substrat en cours de la fabrication et l’ajout de structures servant de poignées ou de renforts structurels. Mais en contrepartie, la réalisation de la piste « ESR » en face arrière présente de nombreux intérêts : en face avant, cela permet de libérer la zone située au voisinage immédiat de la structure de piégeage, et élimine ainsi les problèmes d’encombrement de cette zone mentionnés plus haut (en référence à la ); cette simplification est particulièrement intéressante lorsque la structure de piégeage forme une matrice de pièges bidimensionnelle, laissant peu d’accès aux qubits d’un point de vue latéral ; le champ électromagnétique oscillant, exercé sur la partie avant du dispositif autre que la structure de piégeage, en particulier celui exercé sur la structure d’interconnexion des grilles (vias et lignes conductrices), est limité (et les signaux parasites pouvant être induits par ce champ sont donc avantageusement limités eux aussi), puisque la source de ce champ électromagnétique, qui est la piste ESR en question, est distante de la partie avant du dispositif (cette piste étant située en partie arrière) ; de ce point de vue, la configuration revendiquée est nettement plus intéressante que la configuration de l’art antérieur mentionnée plus haut en référence à la , dans laquelle la piste « ESR » est réalisée sur une face (face supérieure 204) du « back end of line » (voir la ) ; cet avantage peut d’ailleurs être renforcé en donnant à la piste « ESR » une forme de serpentin (avec des méandres), avec des portions successives parcourues en sens opposé par le courant électrique de manière à créer un champ magnétique fort à proximité de la piste, mais décroissant très rapidement lorsqu’on s’éloigne de la piste (voir les figures 9 et 23 par exemple) ; En outre, cette configuration permet d’appliquer un potentiel électrique statique (DC) ou tout signal électrique (BF, RF, impulsionnel…) contrôlé en face arrière des qubits (à l’opposé des grilles, par rapport à la portion de canal mentionnée plus haut), ce qui apporte un degré de liberté supplémentaire pour contrôler le paysage d’énergie (à puits de potentiel) dans lequel sont piégés les électrons ou trous, et cela sans avoir à ajouter de structure supplémentaire pour le contrôle de ce potentiel ; réaliser la piste « ESR » du côté arrière de la couche isolante permet une souplesse de configuration très importante pour cette piste, si bien que la géométrie de la piste peut être choisie avec beaucoup de liberté (en « serpentin » ou non ; décalé latéralement par rapport aux qubits ou non ; avec une périodicité latérale égale à celle de la matrice 2D de qubits, ou égale au double de celle-ci, etc…) ; Pouvoir choisir librement cette géométrie est intéressant car elle influence directement les propriétés du champs magnétique créé (principalement perpendiculaire à la couche, ou au contraire parallèle à celle-ci ; ayant une décroissance forte en fonction de la distance, ou non, etc…) ; réaliser la piste « ESR » du côté arrière de la couche isolante permet en outre d’employer des types de technologies micro-électroniques différentes (en particulier des types de matériaux différents) pour la partie située du côté avant (structure de piégeage) et pour la partie située du côté arrière (piste ESR). On peut ainsi utiliser des matériaux supraconducteurs pour la piste ESR qui présentent l’avantage de réduire considérablement la partie électrique du champ électromagnétique générée par la piste ESR et ainsi les parasites induits par le champ électrique. La portion de canal de la structure de piégeage est située sur la couche isolante en question, soit directement sur la couche isolante (autrement dit, contre la couche isolante, au contact de celle-ci), soit en étant séparée de la couche isolante par une ou des couches annexes, généralement de faible épaisseur (par exemple moins de 0,2 micron ou même moins de 50nm). De même, la piste « ESR » peut être réalisée directement sous la couche isolante en question, contre celle-ci, ou être séparée de la couche isolante par une ou plusieurs autres couches, telle qu’une couche de métallisation par exemple. On notera que, lorsque la couche isolante en question constitue initialement, avant fabrication, tout ou partie de la couche d’oxyde enterrée d’un substrat de type semi-conducteur sur isolant, elle présente des propriétés particulières, par rapport à une couche d’oxyde quelconque. En termes de qualité d’interface (faible densité de pièges ou défauts à l’interface) et de régularité par exemple, cette couche d’oxyde thermique présente des propriétés meilleures qu’une couche d’oxyde de semi-conducteur quelconque telle qu’une couche d’encapsulation réalisée par oxydation plasma ou dépôts à basse température (typiquement à moins de 500 ou 600 degrés Celsius) par exemple. La spécificité de cette couche est également sa faible épaisseur, typiquement inférieure à 150 nm, par exemple 15 nm, qui lui confère également une grande régularité. Cette régularité se manifeste notamment en surface, où elle permet un meilleur accord avec une couche du semi-conducteur en question (par exemple du silicium) qui serait épitaxiée sur la couche isolante, par exemple pour réaliser la portion de canal, ou, tout simplement avec la couche supérieure initiale du substrat de type semi-conducteur sur isolant, gravée pour former la portion de canal en question. Plus généralement, la couche isolante peut être formée d’un oxyde du semi-conducteur en question (par exemple de l’oxyde de silicium SiO 2 ) ayant subi un recuit à très haute température (supérieure à 700 et même à 1000 degrés Celsius) liée à la technologie ‘smart-cut’. Par rapport à une couche d’oxyde réalisée à froid, telle que la couche de diélectrique entre le FEOL, ‘Front-end-of-line’, partie inférieure où sont réalisés le canal et les grilles et le BEOL (partie supérieure de la structure d’interconnexion des grilles), une telle couche d’oxyde thermique présente de meilleures propriétés en termes de rugosité résiduelle en surface, de propension à l’ouverture ou la propagation de fissures, et plus généralement de qualité d’interface. Outre les caractéristiques présentées ci-dessus, le dispositif présenté ci-dessus peut présenter une ou plusieurs des caractéristiques optionnelles suivantes, considérées individuellement ou selon toutes les combinaisons techniquement envisageables : la couche isolante a une épaisseur comprise entre 5 nm et 200 nm, voire comprise entre 10 nm (10 nanomètres) et 150 nm ; ladite piste et lesdites grilles sont séparées par une distance inférieure ou égale à 200 nanomètres, selon une direction perpendiculaire à la couche isolante ; ladite piste et lesdites grilles sont séparées par une distance inférieure ou égale à 100 nm, selon une direction perpendiculaire à la couche isolante ; on notera qu’une telle distance est nettement inférieure à l’épaisseur usuelle d’une couche d’encapsulation (généralement supérieure à 200 nm, ou plus), et que, en général, dans un dispositif de micro-électronique intégré, la distance entre le premier plan de métallisation, et les zones actives situées sous les grilles, est habituellement supérieure à 200 nm au moins ; en projection sur un plan parallèle à la couche isolante, chaque grille est séparée de ladite piste par un écart latéral qui est inférieur ou égal à ladite distance ; en projection sur un plan parallèle à la couche isolante, chaque grille est séparée de ladite piste par un écart latéral qui est inférieur ou égal à 200 nm, voire inférieur ou égal à 100 nm ; ladite piste est séparée de ladite face arrière par une couche intermédiaire ; ou, au contraire, ladite piste est située directement contre ladite face arrière ; la couche isolante est formée au moins en partie d’un oxyde de semi-conducteur ayant subi un recuit à une température supérieure à 700 degrés Celsius ; la couche isolante est une couche en oxyde de semi-conducteur constituant une partie au moins de la couche d’oxyde enterré d’un substrat de type semi-conducteur sur isolant, tel qu’un substrat de type Silicium sur isolant « SOI » ou de type Germanium sur isolant « GeOI » ; la couche épaisse support du substrat, qui supporte initialement la couche d’oxyde enterrée, peut être entièrement retirée au cours de la fabrication et n’être plus présente dans le dispositif, une fois fabriqué. La couche d’oxyde enterrée peut en outre être amincie, soit sur toute sa surface soit plus localement, au niveau de la piste ESR. En variante, la couche support du substrat pourrait être conservée en partie, en étant gravée au niveau de la piste ESR (pour donner accès à la face arrière de la couche d’oxyde enterrée), mais pas sur toute la surface du substrat ; le dispositif comprend en outre un premier ensemble de conducteurs électriques d’interconnexion, qui relient électriquement les grilles à des premiers plots ou éléments de contacts distants de la structure de piégeage, ce premier ensemble de conducteurs s’étendant du coté avant de la couche isolante ; le dispositif comprend en outre un deuxième ensemble de conducteurs électriques d’interconnexion, qui relient électriquement ladite piste à des deuxièmes plots ou éléments de contacts distants de ladite piste, ce deuxième ensemble de conducteurs s’étendant du côté arrière de la couche isolante ; le dispositif ne comprend pas de connecteur électrique qui soit relié électriquement aux grilles et qui soit situé du côté arrière de la couche isolante ; le dispositif ne comprend pas de connecteur électrique qui soit relié électriquement à ladite piste et qui soit situé du côté avant de la couche isolante ; en projection sur un plan parallèle à la couche isolante, la piste se superpose au moins en partie avec chacune des grilles, voire même, se superpose avec la totalité de chaque grille ; autrement formulé, il y a un recouvrement vertical, au moins partiel, entre la piste et chacune des grilles ; dit encore autrement, pour chaque grille, une partie au moins de la piste est située à l’aplomb d’une partie de la grille ; au moins certaines desdites grilles sont disposées en ligne l’une à la suite de l’autre, et dans lequel une partie au moins de ladite piste s’étend le long d’un axe parallèle à cette ligne de grilles ; les grilles de la structure de piégeage sont réparties le long de lignes parallèles entre elles ; ladite piste comporte plusieurs portions, chacune parallèle auxdites lignes, et qui sont connectées électriquement en série les unes à la suite des autres pour former des méandres ; le dispositif comportant plusieurs pistes électriques, dont ladite piste, lesdites pistes étant situées dans un même plan et étant chacune parallèle auxdites lignes de grilles, lesdites pistes étant connectées électriquement en parallèles les unes par rapport aux autres ; lesdites pistes, ou lesdites portions de piste, sont espacées latéralement l’une de l’autre de manière périodique, avec un espacement qui est le même que l’espacement qui sépare, latéralement, deux lignes de grilles adjacentes ; lesdites pistes, ou lesdites portions de piste, sont espacées latéralement l’une de l’autre de manière périodique, avec un espacement qui est le double de l’espacement qui sépare, latéralement, deux lignes de grilles adjacentes ; en projection sur un plan parallèle à la couche isolante, chaque piste, ou chacune desdites portions de piste, est intercalée entre deux lignes de grilles adjacentes ; en projection sur un plan parallèle à la couche isolante, ladite piste forme plusieurs portions de boucle, chaque portion de boucle étant située au niveau de l’une desdites grilles ou au niveau d’un îlot de grilles regroupant une partie desdites grilles ; en projection sur un plan parallèle à la couche isolante, chaque portion de boucle entoure en partie la grille ou l’îlot de grilles correspondant. La présente technologie concerne aussi un procédé de pilotage d’un dispositif électronique tel que présenté ci-dessus, dans lequel un courant électrique alternatif est injecté dans la ladite piste électrique pour exercer un champ magnétique oscillant sur ledit au moins un électron ou trou piégé dans ladite structure de piégeage, et dans lequel la piste électrique est employée en outre en tant que grille arrière, un potentiel électrique étant appliqué à ladite piste électrique pour contrôler un paysage de potentiel électrique au sein de la portion de canal où est piégé ledit au moins un électron ou trou. Le potentiel électrique en question est par exemple un potentiel électrique statique, ou basse fréquence (fréquence inférieure à 10kHz), ou radiofréquence (fréquence comprise entre 10kHz et 100 GHz), ou impulsionnel, ou étant une combinaison de tels potentiels électriques. Il peut s’agir d’encore un autre type de signal électrique. La présente technologie concerne aussi un procédé de fabrication d’un dispositif électronique pour le stockage, le contrôle et la manipulation de qubits sur semi-conducteur, à base de spins d’électron ou de trou, le dispositif comprenant une couche isolante électriquement avec, du côté avant, une face avant, et du côté arrière, une face arrière, le procédé comprenant les étapes suivantes : sur la face avant de la couche isolante, réalisation d’une structure de piégeage pour électrons ou trous qui comporte : une portion de canal, formée au moins en partie par une portion de couche en matériau semi-conducteur s’étendant dans un plan parallèle à ladite couche isolante, et une pluralité de grilles distinctes les unes des autres, réparties en un ou plusieurs niveaux sur la portion de canal, d’un côté de la portion de canal opposé à ladite couche isolante, et du côté arrière de la couche isolante, réalisation d’une piste électrique qui s’étend dans un plan parallèle à la couche isolante, destinée à générer un champ magnétique oscillant s’exerçant sur ledit au moins un électron ou trou piégé dans la structure de piégeage. Les caractéristiques optionnelles présentées ci-dessus en termes de fabrication peuvent aussi s’appliquer à ce procédé de fabrication. La présente technologie et ses différentes applications seront mieux comprises à la lecture de la description qui suit et à l’examen des figures qui l’accompagnent. BRÈVE DESCRIPTION DES FIGURES Les figures sont présentées à titre indicatif et nullement limitatif. La représente schématiquement un dispositif pour le stockage, le contrôle et la manipulation de qubits sur semi-conducteur de l’état de la technique, vu de côté, en coupe. La est une vue, en microscopie électronique à balayage, d’un autre dispositif pour le stockage, le contrôle et la manipulation de qubits sur semi-conducteur de l’état de la technique. La représente schématiquement, vu de dessous, un premier mode de réalisation d’un dispositif pour le stockage, le contrôle et la manipulation de qubits sur semi-conducteur mettant en œuvre la présente technologie. La représente schématiquement le dispositif de la , vu en coupe et de côté. La représente schématiquement un deuxième mode de réalisation d’un tel dispositif, vu en coupe et de côté. La représente schématiquement un troisième mode de réalisation d’un tel dispositif, vu en coupe et de côté. La représente schématiquement un quatrième mode de réalisation d’un tel dispositif, vu de dessous. La représente schématiquement un cinquième mode de réalisation d’un tel dispositif, vu de dessous. La représente schématiquement un sixième mode de réalisation d’un tel dispositif, vu de dessous. La représente schématiquement un septième mode de réalisation d’un tel dispositif, vu de dessous. La représente schématiquement un huitième mode de réalisation d’un tel dispositif, vu de dessous. La représente schématiquement, vu de dessous, un dispositif pour le stockage, le contrôle et la manipulation de qubits sur semi-conducteur comprenant deux dispositifs tels que celui de la , mis en réseau l’un à la suite de l’autre. La représente schématiquement, vu de dessous, un dispositif pour le stockage, le contrôle et la manipulation de qubits sur semi-conducteur comprenant plusieurs dispositifs tels que celui de la , mis en réseau. La représente schématiquement une variante envisageable pour la géométrie d’une piste électrique pour résonance ESR pouvant équiper l’un quelconque des dispositifs des figures 3 à 13. La représente schématiquement une autre variante d’une telle piste ESR. La représente schématiquement encore une autre variante d’une telle piste ESR. La représente schématiquement encore une autre variante d’une telle piste ESR. La représente schématiquement encore une autre variante d’une telle piste ESR. La représente schématiquement encore une autre variante d’une telle piste ESR. La représente schématiquement encore une autre variante d’une telle piste ESR. La représente schématiquement encore une autre variante d’une telle piste ESR. La représente schématiquement, en coupe axiale, des résultats de simulation numérique de l’excitation magnétique générée par des pistes pour résonance ESR, en différents points d’un dispositif pour le stockage, le contrôle et la manipulation de qubits sur semi-conducteur. La représente schématiquement, en coupe axiale, des résultats de simulation numérique de l’excitation magnétique générée par des pistes pour résonance ESR, en différents points d’un autre dispositif pour le stockage, le contrôle et la manipulation de qubits sur semi-conducteur. La représente schématiquement une variante du dispositif de la , vu en coupe et de côté. Dispositif (10 ; 10b ; 11 ; 12 ; 13 ; 14 ; 15 ; 16 ; 17 ; 18 ; 19) électronique pour le stockage, le contrôle et la manipulation de qubits sur semi-conducteur, à base de spins d’électron ou de trou, le dispositif comprenant : une couche isolante (20) électriquement avec, du côté avant (23), une face avant (21), et du côté arrière (24), une face arrière (22), sur la face avant (21) de la couche isolante (20), une structure de piégeage (1) pour électrons ou trous qui comporte : une portion de canal (2), formée au moins en partie par une portion de couche en matériau semi-conducteur s’étendant dans un plan parallèle à ladite couche isolante (20), et une pluralité de grilles (3) distinctes les unes des autres, réparties en un ou plusieurs niveaux sur la portion de canal (2), d’un côté de la portion de canal (2) opposé à ladite couche isolante (20), et du côté arrière (24) de la couche isolante (20), une piste électrique (30 ; 40 ; 50 ; 60 ; 70 ; 110 ; 120 ; 130 ; 140 ; 150 ; 160 ; 170 ; 180) qui s’étend dans un plan parallèle à la couche isolante, destinée à générer un champ magnétique oscillant (B AC ) s’exerçant sur ledit au moins un électron ou trou piégé dans la structure de piégeage (1). Dispositif (10 ; 10b ; 11 ; 12 ; 13 ; 14 ; 15 ; 16 ; 17 ; 18 ; 19) selon la revendication 1, dans lequel la couche isolante (20) a une épaisseur comprise entre 5 nm et 200 nm, voire comprise entre 10nm et 150 nm. Dispositif (10 ; 10b ; 11 ; 12 ; 13 ; 14 ; 15 ; 16 ; 17 ; 18 ; 19) selon l’une des revendications précédentes, dans lequel ladite piste (30 ; 40 ; 50 ; 60 ; 70 ; 110 ; 120 ; 130 ; 140 ; 150 ; 160 ; 170 ; 180) et lesdites grilles (3) sont séparées par une distance (d Z ) inférieure ou égale à 200 nm, selon une direction (z) perpendiculaire à la couche isolante (20). Dispositif (10b) selon l’une des revendications précédentes, dans lequel ladite piste (30) est séparée de ladite face arrière (22) par une couche intermédiaire (102). Dispositif (10 ; 10b ; 11 ; 12 ; 13 ; 14 ; 15 ; 16 ; 17 ; 18 ; 19) selon l’une des revendications précédentes, dans lequel la couche isolante (20) est une couche en oxyde de semi-conducteur constituant une partie au moins de la couche d’oxyde enterré d’un substrat de type semi-conducteur sur isolant, tel qu’un substrat de type Silicium sur isolant « SOI » ou de type Germanium sur isolant « GeOI ». Dispositif (10 ; 10b ; 11 ; 12 ; 13 ; 14 ; 15 ; 16 ; 17 ; 18 ; 19) selon l’une des revendications précédentes, comprenant en outre : un premier ensemble de conducteurs (25) électriques d’interconnexion, qui relient électriquement les grilles (3) à des premiers plots ou éléments de contacts (26) distants de la structure de piégeage (1), ce premier ensemble de conducteurs (25) s’étendant du coté avant (23) de la couche isolante (20), et un deuxième ensemble de conducteurs (27) électriques d’interconnexion, qui relient électriquement ladite piste (30 ; 40 ; 50 ; 60 ; 70 ; 110 ; 120 ; 130 ; 140 ; 150 ; 160 ; 170 ; 180) à des deuxièmes plots ou éléments de contacts (28) distants de ladite piste, ce deuxième ensemble de conducteurs (27) s’étendant du côté arrière (24) de la couche isolante (20) , le dispositif (10 ; 11 ; 12 ; 13 ; 14 ; 15 ; 16 ; 17 ; 18 ; 19) ne comprenant pas de connecteur électrique qui soit relié électriquement aux grilles (3) et qui soit situé du côté arrière (24) de la couche isolante, ou, ne comprenant pas de connecteur électrique qui soit relié électriquement à ladite piste (30 ; 40 ; 50 ; 60 ; 70 ; 110 ; 120 ; 130 ; 140 ; 150 ; 160 ; 170 ; 180) et qui soit situé du côté avant (23) de la couche isolante. Dispositif (17) selon l’une des revendications précédentes, dans lequel, en projection sur un plan parallèle à la couche isolante (20), la piste (60 ; 140 ; 180) se superpose au moins en partie avec chacune des grilles (3). Dispositif (10 ; 10b ; 11 ; 12 ; 13 ; 14 ; 15 ; 16 ; 17 ; 18 ; 19) selon l’une des revendications précédentes, dans lequel au moins certaines desdites grilles (3) sont disposées en ligne (L1) l’une à la suite de l’autre, et dans lequel une partie au moins de ladite piste (30 ; 40 ; 50 ; 60 ; 70 ; 110 ; 120 ; 130 ; 140 ; 150 ; 160 ; 170 ; 180) s’étend le long d’un axe parallèle à cette ligne (L1) de grilles. Dispositif (15 ; 16) selon la revendication précédente, dans lequel les grilles (3) de la structure de piégeage (1) sont réparties le long de lignes (L1 – L6) parallèles entre elles, et dans lequel ladite piste (40 ; 50) comporte plusieurs portions (41 – 45 ; 51 – 53), chacune parallèle auxdites lignes (L1 – L6), et qui sont connectées électriquement en série les unes à la suite des autres pour former des méandres. Dispositif (13 ; 14 ; 17 ; 18 ; 19) selon la revendication 8, dans lequel les grilles (3) de la structure de piégeage (1) sont réparties le long de lignes (L1 – L6) parallèles entre elles, le dispositif comportant plusieurs pistes électriques (30 – 34 ; 60, 62, 64 ; 30 – 34, 70 – 74), dont ladite piste, lesdites pistes étant situées dans un même plan et étant chacune parallèle auxdites lignes de grilles (L1 – L6), lesdites pistes (30 – 34 ; 60, 62, 64 ; 30 – 34, 70 – 74) étant connectées électriquement en parallèles les unes par rapport aux autres. Dispositif (13 ; 15 ; 18 ; 19) selon la revendication 9 ou 10, dans lequel lesdites pistes (30 – 34 ; 30 – 34, 70 – 74), ou lesdites portions de piste (41 – 45), sont espacées latéralement l’une de l’autre de manière périodique, avec un espacement (e1) qui est le même que l’espacement (e G ) qui sépare, latéralement, deux lignes de grilles (L1, L2, L3, L4, L5, L6) adjacentes. Dispositif (14 ; 16 ; 17) selon la revendication 9 ou 10, dans lequel lesdites pistes (30, 32, 34 ; 60, 62, 64), ou lesdites portions de piste (51, 52, 53), sont espacées latéralement l’une de l’autre de manière périodique, avec un espacement (e2) qui est le double de l’espacement (e G ) qui sépare, latéralement, deux lignes de grilles (L1, L2, L3, L4, L5, L6) adjacentes. Dispositif selon l’une des revendications 1 à 12, dans lequel ladite piste (110 ; 120 ; 130 ; 140 ; 150 ; 160 ; 170 ; 180) forme plusieurs portions de boucle (111 ; 121 ; 131 ; 141 ; 151 ; 161 ; 171 ; 181), chaque portion de boucle étant située au niveau de l’une desdites grilles (3), ou au niveau d’un îlot de grilles regroupant une partie desdites grilles (3), en projection sur un plan parallèle à la couche isolante (20). Procédé de pilotage d’un dispositif (10 ; 10b ; 11 ; 12 ; 13 ; 14 ; 15 ; 16 ; 17 ; 18 ; 19) électronique selon l’une des revendications précédentes, dans lequel un courant électrique alternatif (I ESR ) est injecté dans la ladite piste électrique (30) pour générer ledit champ magnétique oscillant (B AC ), et dans lequel la piste électrique (30) est employée en outre en tant que grille arrière, un potentiel électrique (V DC , AC , V impulsionne l ) étant appliqué à ladite piste électrique (30) pour contrôler un paysage de potentiel électrique au sein de la portion de canal (2) où est piégé ledit au moins un électron ou trou, ledit potentiel électrique (V DC , AC , V impulsionne l ) étant un potentiel électrique statique, ou basse fréquence, ou radiofréquence, ou impulsionnel, ou étant une combinaison de tels potentiels électriques. Procédé de fabrication d’un dispositif (10 ; 11 ; 12 ; 13 ; 14 ; 15 ; 16 ; 17 ; 18 ; 19) électronique pour le stockage, le contrôle et la manipulation de qubits sur semi-conducteur, à base de spins d’électron ou de trou, le dispositif comprenant une couche isolante (20) électriquement avec, du côté avant (23), une face avant (21), et du côté arrière (24), une face arrière (22), le procédé comprenant les étapes suivantes : sur la face avant (21) de la couche isolante (20), réalisation d’une structure de piégeage (1) pour électrons ou trous qui comporte : une portion de canal (2), formée au moins en partie par une portion de couche en matériau semi-conducteur s’étendant dans un plan parallèle à ladite couche isolante (20), et une pluralité de grilles (3) distinctes les unes des autres, réparties en un ou plusieurs niveaux sur la portion de canal (2), d’un côté de la portion de canal (2) opposé à ladite couche isolante (20), et du côté arrière (24) de la couche isolante (20), réalisation d’une piste électrique (30 ; 40 ; 50 ; 60 ; 70 ; 110 ; 120 ; 130 ; 140 ; 150 ; 160 ; 170 ; 180) qui s’étend dans un plan parallèle à la couche isolante, destinée à générer un champ magnétique oscillant (B AC ) s’exerçant sur ledit au moins un électron ou trou piégé dans la structure de piégeage (1).