Brevet FR3101196A1 — publié le 20210326

Dispositif d'homogénéisation La présente description concerne un dispositif comprenant des première et deuxième plaques (12, 14) et un dispositif de maintien (30) des plaques en vis-à-vis, la première plaque (12) comprenant au moins dix ouvertures traversantes (24) et la second plaque n'étant pas traversée par des ouvertures. Figure pour l'abrégé : Fig. 1 DISPOSITIF D'HOMOGENEISATION La présente description concerne de façon générale un dispositif d'homogénéisation pour une installation de traitement de pièces, notamment de plaquettes de silicium, mettant en oeuvre au moins un gaz de traitement. Il est connu de réaliser différents traitements de plaquettes de silicium, notamment des traitements de dopage, de diffusion, ou d'oxydation. Ces traitements comprennent généralement l'introduction des plaquettes dans un four, le maintien des plaquettes à une température de traitement et l'introduction dans le four d'au moins un gaz réactif, éventuellement mélangé à un gaz porteur. La pression dans le four peut être une pression atmosphérique ou inférieure à la pression atmosphérique. Les fours horizontaux ou verticaux utilisés ont généralement une enceinte de forme tubulaire dans laquelle les plaquettes de silicium sont disposées sur un support. L'une des extrémités de l'enceinte est dotée d'une porte pour permettre l'introduction des plaquettes. L'autre extrémité de l'enceinte est obturée par une paroi terminale inamovible. Le gaz réactif ou les gaz réactifs sont généralement injectés au travers d'un orifice pratiqué dans la paroi terminale inamovible. Il est souhaitable que le traitement appliqué aux plaquettes soit réalisé de façon uniforme pour l'ensemble des plaquettes introduites dans le four. Ceci implique que le flux du gaz réactif ou des gaz réactifs qui atteint chaque plaquette soit sensiblement homogène. Cette répartition uniforme peut être difficile à réaliser, en particulier pour les plaquettes les plus proches de la zone d'introduction du gaz réactif ou des gaz réactifs, notamment lorsque la pression dans l'enceinte est inférieure à la pression atmosphérique. Ces caractéristiques et avantages, ainsi que d'autres, seront exposés en détail dans la description suivante de modes de réalisation particuliers faite à titre non limitatif en relation avec les figures jointes parmi lesquelles : la figure 1 est une vue en perspective d'un mode de réalisation d'un dispositif d'homogénéisation ; la figure 2 est une vue en perspective d'une variante du dispositif d'homogénéisation représenté en figure 1 ; la figure 3 est une vue de face du dispositif d'homogénéisation de la figure 2 ; la figure 4 est une vue de côté du dispositif d'homogénéisation de la figure 2 ; la figure 5 est une vue en coupe, partielle et schématique, d'un mode de réalisation d'une installation de traitement ; la figure 6 est une vue en perspective plus détaillée, avec coupe partielle, d'un mode de réalisation d'une installation de traitement ; la figure 7 est une vue de côté, avec coupe partielle, de l'installation de traitement représentée en figure 6 ; la figure 8 est une vue de dessus, avec coupe partielle, de l'installation de traitement représentée en figure 6 ; et la figure 9 est une vue en coupe de l'installation de traitement représentée en figure 6 selon un plan perpendiculaire à l'axe longitudinal de l'installation. Dispositif comprenant des première et deuxième plaques (12, 14) et un dispositif de maintien (30) des plaques en vis-à-vis, la première plaque (12) comprenant au moins dix ouvertures traversantes (24) et la second plaque n'étant pas traversée par des ouvertures. Dispositif selon la revendication 1, dans lequel l'écart entre les deux plaques est compris entre 10 mm et 50 mm. Dispositif selon la revendication 1 ou 2, dans lequel les première et deuxième plaques (12, 14) ont les mêmes dimensions. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 1 à 3, dans lequel les première et deuxième plaques (12, 14) sont parallèles. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 1 à 4, dans lequel chacune des première et deuxième plaques (12, 14) est inscrite dans un cylindre à base circulaire dont le diamètre est compris entre 200 mm et 400 mm. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 1 à 4, dans lequel le dispositif de maintien (30) est logé en totalité entre les première et deuxième plaques (12, 14). Installation de dopage, de diffusion ou d'oxydation de plaquettes de silicium (42) comprenant un four (44) pourvu d'une enceinte (46) adaptée à être fermée hermétiquement par une porte (60), dans laquelle enceinte sont introduites lesdites plaquettes, ledit four comportant au moins une tubulure (50) d'introduction d'au moins un gaz dans l'enceinte (46) et au moins une tubulure (52) d'extraction du gaz, et un moyen d'aspiration (54) connecté à ladite tubulure d'extraction (52) configuré pour créer une dépression dans l'enceinte (46), l'installation comprenant en outre le dispositif selon l'une quelconque des revendications 1 à 6, disposé entre la sortie (75) de la tubulure d'introduction (50) et les plaquettes, la première plaque (12) étant orientée du côté des plaquettes et la deuxième plaque (14) étant orientée du côté de la sortie de la tubulure d'introduction (50). Installation selon la revendication 7, dans laquelle chaque plaquette de silicium (42) comprend deux faces opposées reliées par un bord, et dans laquelle les plaquettes de silicium sont disposées dans l'enceinte (46) de façon sensiblement horizontale ou verticale. Procédé de dopage ou diffusion, ou oxydation de plaquettes de silicium (4), lesdites plaquettes étant introduites dans l'enceinte d'un four (44) fermée hermétiquement par une porte (60), ledit four comportant au moins une tubulure (50) d'introduction d'au moins un gaz dans l'enceinte (46) et au moins une tubulure (52) d'extraction du gaz, et un moyen d'aspiration (54) connecté à ladite tubulure d'extraction (52), et créant une dépression dans l'enceinte (46), le dispositif selon l'une quelconque des revendications 1 à 6 étant disposé entre la sortie (75) de la tubulure d'introduction (50) et les plaquettes, la première plaque (12) étant orientée du côté des plaquettes et la deuxième plaque (14) étant orientée du côté de la sortie de la tubulure d'introduction (50).