Brevet FR3102680A1 — publié le 20210507

Un piège (4) comporte une chambre (10), un tube de sortie (11) communiquant avec la chambre (10) et un déflecteur (18) disposé entre l’entrée (12) de la chambre (10) et l’entrée (19) du tube de sortie (11), la chambre (10) comportant une paroi de fond (15) située en dessous de l’entrée du tube de sortie. La paroi de fond (15) est conformée pour coopérer avec le déflecteur (18) pour permettre une accumulation des éléments solides dans la paroi de fond (15) lorsque le flux de gaz à pomper est modéré ou faible et pour renvoyer les éléments solides hors de la chambre (10) par entrainement aérodynamique sous l’effet d’un fort flux de gaz à pomper. Figure d’abrégé : Figure 3 Piège pour ligne de vide, installation et utilisation La présente invention se rapporte à un piège pour ligne de vide, en particulier destiné à être monté en sortie d’un réacteur de procédés pour la fabrication de semi-conducteurs. L’invention se rapporte également à une installation équipée dudit piège et à une utilisation dudit piège. Certains dispositifs de pompage sont employés dans des procédés dits « à poudre » car mettant en œuvre des gaz générant de grandes quantités de sous-produits solides pouvant séjourner durablement dans la pompe à vide. C’est le cas par exemple de certains procédés de fabrication de semi-conducteurs, notamment des procédés de dépôts de couches minces sous vide dits « HARP » (pour High Aspect Ratio Process en anglais) notamment de type CVD, PECVD, SACVD, ALD... Ces procédés de dépôt sous vide alternent généralement des étapes de dépôt où des gaz de procédés sont introduits dans le réacteur pour le dépôt de couches minces sur des plaquettes de silicium, avec des étapes de nettoyage où des gaz actifs sont introduits dans le réacteur après la sortie des plaquettes, pour nettoyer les parois du réacteur. Cependant, dans les lignes de vide situées en aval du réacteur, ces réactions ne sont pas contrôlées. Les gaz actifs utilisés dans les étapes de nettoyage, tels que les gaz acides comme HF, protons H+ ou radicaux fluor F, forment des catalyseurs pour les réactions de polymérisation des sous-produits de dépôt, généralement de nature organique ou organométalliques. Ces rencontres d’espèces chimiques peuvent être à l’origine de la formation d’agglomérats de sous-produits polymérisés difficiles à évacuer car particulièrement visqueux et adhérents. Pour éviter que des sous-produits polymérisés polluent les dispositifs de pompage, il est connu d’utiliser des pièges dans les lignes de vide. Ces pièges séparent les sous-produits solides des gaz, par exemple par gravité ou force centrifuge ou encore par condensation ou thermolyse, et retiennent les sous-produits solides par accumulation. Un problème est que l’accumulation des poudres dans le piège augmente la probabilité de rencontre entre des espèces de nature chimique différente. Il en résulte que des réactions chimiques indésirables, telles que les réactions de polymérisation précédemment mentionnées, peuvent apparaitre et être favorisées. Egalement, les températures élevées de ces pièges, généralement comprises entre 140°C à 170°C, fournissent l’énergie d’activation favorisant l’apparition de ces réactions chimiques. Ces pièges doivent donc être nettoyés très régulièrement. Les maintenances doivent être fréquentes pour éviter que les sous-produits polymérisés n’aient le temps de durcir. En plus d’être laborieuses et fréquentes, ces maintenances sont couteuses car elles nécessitent l’arrêt du dispositif de pompage et par conséquent, l’arrêt de l’équipement de fabrication des plaquettes. Un but de la présente invention est de proposer un dispositif amélioré résolvant au moins partiellement un des inconvénients de l’état de la technique. A cet effet, l’invention a pour objet un piège pour ligne de vide destiné à être monté sur une canalisation raccordée à un réacteur, le piège comportant une chambre et un tube de sortie communiquant avec la chambre, l’entrée de la chambre et le tube de sortie étant destinés à être respectivement raccordés à la canalisation de la ligne de vide sur le passage d’un flux de gaz à pomper issu du réacteur, le piège comportant un déflecteur disposé entre l’entrée de la chambre et l’entrée du tube de sortie, la chambre comportant une paroi de fond située en-dessous de l’entrée du tube de sortie caractérisé en ce que la paroi de fond est conformée pour coopérer avec le déflecteur pour permettre une accumulation des éléments solides dans la paroi de fond lorsque le flux de gaz à pomper est modéré ou faible et pour renvoyer les éléments solides hors de la chambre par entrainement aérodynamique sous l’effet d’un fort flux de gaz à pomper. Un flux de gaz à pomper modéré ou faible est par exemple inférieur à 150slm. Un fort flux de gaz à pomper, tel que supérieur à 200slm, est un flux de gaz supérieur au flux de gaz modéré ou faible. C’est par exemple le flux de gaz qui est évacué du réacteur de l’installation lors d’une étape de mise sous vide d’un procédé de dépôt de couches minces pour la fabrication de semi-conducteurs dit HARP, aussi appelée « Pump down » en anglais. Ainsi, le tube de sortie, la chambre et le déflecteur permettent de séparer, notamment par gravité, au moins partiellement, les gaz à pomper des éléments solides entrant dans la chambre, notamment les sous-produits solides. Lorsque le flux de gaz est faible ou modéré, les sous-produits restent au moins partiellement piégés dans la paroi de fond tandis que les gaz plus légers sont entrainés vers le dispositif de pompage. Le tube de sortie, la chambre, notamment la paroi de fond de la chambre, et le déflecteur sont également conformés pour évacuer les éléments solides par entrainement aérodynamique vers le tube de sortie sous l’effet d’un fort flux de gaz à pomper, ce qui permet l’auto-nettoyage du piège. Le piège peut en outre comporter une ou plusieurs caractéristiques qui sont décrites ci-après, prises seules ou en combinaison. Selon un premier mode de réalisation, le tube de sortie pénètre dans la chambre. La paroi de fond entoure le tube de sortie et est réalisée sous la forme d’une cuvette annulaire. Les parois latérales de la chambre et du tube de sortie peuvent être cylindriques et coaxiales. Le déflecteur peut comporter un écran concave faisant face à l’entrée de la chambre, les bords de l’écran concave se prolongeant par une jupe entourant le tube de sortie. La forme incurvée de l’écran concave permet de recueillir les éléments solides agglomérés par exemple sous forme de flocons (« Flakes » en anglais) provenant du flux de gaz ou arrachés de la ligne de vide par le flux de gaz. En outre, l’écran concave permet de guider la remontée du flux de gaz le long des bords de l’écran concave, le flux de gaz étant ensuite rabattu par la chambre vers le fond. Par ailleurs, les parois internes de la jupe et de l’écran concave permettent de rabattre le flux de gaz remontant le long du tube de sortie, vers l’entrée de ce dernier. La coopération du déflecteur et des parois de la chambre guide ainsi la trajectoire des gaz dans le piège, soit pour déposer les éléments solides dans les surfaces incurvées en régime laminaire, soit pour les évacuer hors du piège en régime turbulent. Selon une variante de réalisation, le déflecteur est solidaire d’une embase tubulaire du tube de sortie, l’embase tubulaire étant amovible. Par ailleurs, le tube de sortie peut comporter au moins une entretoise tubulaire de rehausse configurée pour rehausser le déflecteur. Les entretoises tubulaires de rehausse permettent de jouer sur le compromis entre l’efficacité de l’effet balayant lié au niveau de turbulence et l’efficacité du pompage reflétant le niveau de conductance. Selon une variante de réalisation, le déflecteur comporte une hélice agencée coaxialement à l’axe de la chambre cylindrique. L’hélice est de type « cyclone uniflow » en anglais, c’est-à-dire générant un tourbillon des gaz favorisant la séparation des éléments solides des gaz dans des espaces limités. Cette forme de réalisation du déflecteur permet de réduire l’encombrement du piège. Selon un deuxième mode de réalisation, le tube de sortie est raccordé à une paroi latérale de la chambre, la paroi de fond étant réalisée sous la forme d’une coupelle ajustable en hauteur. Le piège peut en outre comporter un moyen d’actionnement configuré pour faire coulisser la paroi de fond dans la chambre dans la direction de l’axe de la chambre cylindrique. L’ajustement du positionnement en hauteur de la coupelle permet d’optimiser le fonctionnement du piège en accumulation ou en balayage des éléments solides. Le déflecteur comporte par exemple une forme générale de conduit tronconique formant un guide d’entrée. L’entonnoir ainsi formé oriente les gaz et les poussières vers la paroi de fond par exemple réalisée sous la forme d’une coupelle ajustable en hauteur. Le conduit tronconique présente par exemple un axe coaxial avec l’axe de la chambre de forme générale cylindrique. Alternativement, le conduit tronconique est décentré. L’une ou l’autre de ces géométries peut influer différemment sur le taux de séparation gaz-solides. Selon un autre exemple, le déflecteur présente une forme générale de conduit cylindrique biseauté formant un guide d’entrée, le biseau étant ouvert à une extrémité inférieure du déflecteur. Par ailleurs, selon un exemple de réalisation, le piège comporte un dispositif de refroidissement configuré pour refroidir la paroi de fond de la chambre. Le dispositif de refroidissement peut être une enceinte double fond fermée par la paroi de fond de la chambre. L’enceinte double fond comprend une entrée de liquide et une sortie de liquide pour la circulation d’un liquide de refroidissement. La paroi de fond de la chambre peut ainsi être maintenue à température ambiante au lieu d’être chauffée, notamment par conduction par le dispositif de pompage. En réduisant la température du fond de la chambre, on réduit la cinétique chimique, ce qui rend le milieu moins favorable aux réactions chimiques. De plus, les éléments solides refroidis restent sous forme pulvérulente. Ils sont donc moins collants ou pâteux et donc plus facile à entrainer par un flux de gaz. Les parois internes du piège destinées à être mises en communication avec le flux de gaz à pomper peuvent être revêtues d’un revêtement chimiquement inerte, tel que Al 2 O 3 dense, Y 2 O 3 ou Y 2 F 3 . Le revêtement peut également présenter des propriétés anti-adhérentes et/ou hydrophobes tel qu’un revêtement NiP-PTFE ou tel que des revêtements polymères fluorés ou non ou tout autre revêtement hydrophobe similaire. Ces revêtements de surface favorisent l’évacuation des éléments solides en limitant leur adhérence aux parois. Le piège peut comporter au moins une buse d’injection configurée pour injecter un gaz de purge dans la chambre en direction de la paroi de fond. L’injection d’un gaz de purge peut permettre de remplacer ou d’assister le flux de gaz à pomper pour évacuer les éléments solides hors de la chambre par entrainement aérodynamique. La buse d’injection est par exemple configurée pour injecter un fort flux de gaz, par exemple supérieure à 200slm. La buse d’injection peut être configurée pour injecter des pics de gaz de purge de manière intermittente, c’est à dire pour injecter le gaz de purge de manière pulsée pour alterner de façon répétitive une phase d’injection avec une phase sans injection de gaz de purge. L’injection intermittente permet de favoriser le décollement des éléments solides des surfaces incurvées du déflecteur et/ou de la paroi de fond de la chambre. La chambre peut comporter un couvercle amovible. Un couvercle amovible permet d’accéder au fond de la chambre pour la nettoyer sans avoir besoin de retirer le piège de la canalisation, notamment en cas de réception de débris ne pouvant pas être évacués par un flux gazeux. Le piège peut en outre comporter au moins un hublot ménagé dans le couvercle amovible et/ou dans la paroi latérale de la chambre. Le au moins un hublot permet notamment de constater visuellement si des dépôts, débris ou autres éléments solides se sont accumulés dans la chambre. Il permet également d’installer des dispositifs de surveillance optique pour l’aide au diagnostic de colmatage. Par exemple, le piège comporte un premier et un deuxième hublots ménagés dans la paroi latérale de la chambre et un dispositif de surveillance optique configuré pour envoyer de la lumière à travers le premier hublot et pour mesurer la lumière traversant la chambre à travers le deuxième hublot. En outre selon un exemple de réalisation, le au moins un hublot comporte un dispositif de rideau annulaire configuré pour former un écran de gaz devant une fenêtre du hublot. L’invention a aussi pour objet une installation comportant : - une ligne de vide comportant un dispositif de pompage, et - un réacteur dont une sortie est raccordée à une canalisation de la ligne de vide, caractérisée en ce qu’elle comporte en outre un piège tel que décrit précédemment, monté sur la canalisation, en amont du dispositif de pompage dans la direction de circulation des gaz à pomper. Le réacteur est par exemple un réacteur de procédés pour la fabrication de semi-conducteurs, tel qu’un réacteur de procédés de dépôt de couches minces alternant des étapes de dépôt suivi d’étapes de mise sous vide, avec des étapes de nettoyage. La ligne de vide peut être configurée pour être chauffée uniquement sur une première portion de canalisation située entre le réacteur et le piège, par exemple à une température supérieure à 100°C, tel qu’à 170°C. La ligne de vide peut comporter une vanne de régulation sur cette première portion de canalisation, agencée en sortie du réacteur, pour contrôler la pression des gaz dans le réacteur. La ligne de vide peut également comporter un piège à poudres chauffé sur cette première portion de canalisation, en aval de la vanne de régulation dans la direction des gaz pompés. Le chauffage de cette première portion de canalisation privilégie l’aspect physique des états de la matière en permettant de conserver les éléments pompés sous forme gazeuse, en évitant leur condensation ou solidification notamment lorsqu’ils sont refroidis par détente adiabatique sous l’effet des rapides variations de pression engendrées par la vanne de régulation. La deuxième portion de la ligne de vide, comportant le dispositif de pompage, éventuellement une vanne d’isolation du dispositif de pompage et un piège tel que décrit précédemment, n’est pas chauffé. Cette deuxième portion de canalisation peut même être refroidie pour privilégier conjointement l’aspect physique des états de la matière et l’aspect chimique des réactions. Les éléments solides non chauffés ou refroidis restent sous forme de poudres non cohésives. Ils sont plus faciles à évacuer par pompage et la température abaissée permet de freiner l’apparition de réactions chimiques indésirables en amont du dispositif de pompage. L’invention a aussi pour objet une utilisation d’un piège tel que décrit précédemment, raccordé à un réacteur de procédés de dépôt de couches minces pour la fabrication de semi-conducteurs, alternant des étapes de dépôt suivi d’étapes de mise sous vide, avec des étapes de nettoyage, caractérisée en ce que : - au cours de l’étape de dépôt, un flux de gaz faible ou modéré traverse le piège et permet à des éléments solides de s’accumuler par sédimentation dans la paroi de fond, et - au cours de l’étape de mise sous vide, un fort flux de gaz traverse le piège et entraine au moins partiellement les éléments solides hors de la chambre, vers un dispositif de pompage. L’occurrence cyclique d’un fort flux de gaz dans le réacteur, après chaque étape de dépôt et avant chaque étape de nettoyage, est mise ici à profit pour balayer les éléments solides accumulés précédemment dans les surfaces incurvées du piège. Le piège peut ainsi être débarrassé de la majorité des éléments solides avant l’arrivée des gaz actifs de nettoyage. Lorsque l’étape de nettoyage débute et que les gaz actifs de nettoyage sont envoyés dans le réacteur, les éléments solides issus de l’étape de dépôt ont été balayés. On minimise la probabilité de rencontre entre les espèces organiques (ou métallorganiques) des étapes de dépôt et les espèces acides/actives/radicalaires des étapes de nettoyage, ce qui limite les réactions de polymérisation. La maintenance du piège peut donc être réduite, voire supprimée complétement. L’invention a aussi pour objet une utilisation d’un piège tel que décrit précédemment, raccordé à tout type de réacteur, caractérisée en ce qu’on injecte un fort gaz de purge dans le piège, par exemple via une buse d’injection du piège, de manière pulsée ou non, sur une durée prédéfinie, pour faciliter l’entrainement au moins partiel des éléments solides hors de la chambre. L’invention a aussi pour objet une installation comportant : - une ligne de vide comportant un dispositif de pompage, et - un réacteur dont une sortie est raccordée à une canalisation de la ligne de vide, caractérisée en ce que la ligne de vide est configurée pour être chauffée, par exemple à une température supérieure à 100°C, tel qu’à 170°C, uniquement sur une première portion de canalisation s’arrêtant à au moins un mètre du dispositif de pompage. Le réacteur est par exemple un réacteur de procédés pour la fabrication de semi-conducteurs. La ligne de vide peut comporter une vanne de régulation sur cette première portion de canalisation, agencée en sortie du réacteur, pour contrôler la pression des gaz dans le réacteur. La ligne de vide peut également comporter un piège à poudres chauffé sur cette première portion de canalisation, en aval de la vanne de régulation dans la direction des gaz pompés. Le chauffage de cette première portion de canalisation privilégie l’aspect physique des états de la matière en permettant de conserver les éléments pompés sous forme gazeuse, en évitant leur condensation ou solidification notamment lorsqu’ils sont refroidis par détente adiabatique sous l’effet des rapides variations de pression engendrées par la vanne de régulation. La deuxième portion de la ligne de vide, comportant le dispositif de pompage, éventuellement une vanne d’isolation du dispositif de pompage, n’est pas chauffé. Cette deuxième portion de canalisation peut même être refroidie pour privilégier conjointement l’aspect physique des états de la matière et l’aspect chimique des réactions. Les éléments solides non chauffés ou refroidis restent sous forme de poudres non cohésives. Ils sont plus faciles à évacuer par pompage et la température abaissée permet de freiner l’apparition de réactions chimiques indésirables en amont du dispositif de pompage. D'autres caractéristiques et avantages de l'invention ressortiront de la description suivante, donnée à titre d'exemple, sans caractère limitatif, en regard des dessins annexés sur lesquels: La figure 1 représente une vue schématique d’une installation où seuls les éléments nécessaires à la compréhension de l’invention sont représentés. La figure 2 est un organigramme d’un exemple de cycle d’un procédé ayant lieu dans un réacteur de l’installation. La figure 3 montre une vue en perspective d’un premier exemple de réalisation d’un piège de l’installation, la paroi latérale de la chambre du piège étant représentée par transparence. La figure 4A montre une vue partielle et en coupe du piège de la Figure 3 avec un premier exemple d’entretoise tubulaire de rehausse. La figure 4B montre une vue similaire à la Figure 4A pour un deuxième exemple d’entretoise tubulaire de rehausse. La figure 5 montre une vue en coupe d’un dispositif de refroidissement et d’une chambre sans couvercle du piège de la Figure 3. La figure 6 montre une vue en coupe d’un déflecteur et d’une embase tubulaire du piège de la Figure 3. La figure 7A montre le piège de la Figure 4A sur lequel on a représenté de manière schématique la trajectoire des gaz pompés et les éléments solides accumulés au cours d’une étape de dépôt ayant lieu dans le réacteur. La figure 7B est une vue similaire à la Figure 7A au cours d’une étape ultérieure de mise sous vide ayant lieu dans le réacteur. La figure 8 est une vue schématique en coupe d’un piège selon un deuxième exemple de réalisation. La figure 9 est une vue de dessus d’une hélice du piège de la Figure 8. La figure 10 montre une vue en perspective d’un troisième exemple de réalisation d’un piège de l’installation, les parois latérales de la chambre et du tube de sortie étant représentée par transparence. La figure 11 montre une vue en perspective du déflecteur de la Figure 10. La figure 12 montre une variante de réalisation du déflecteur de la Figure 11. La figure 13 montre une vue similaire à la Figure 10 pour une autre variante de réalisation du déflecteur. La figure 14 montre une vue en perspective du déflecteur de la Figure 13. La figure 15 montre une vue en perspective d’un quatrième exemple de réalisation d’un piège. La figure 16 montre une vue agrandie d’un détail du piège de la Figure 15. Sur ces figures, les éléments identiques portent les mêmes numéros de référence. Les réalisations suivantes sont des exemples. Bien que la description se réfère à un ou plusieurs modes de réalisation, ceci ne signifie pas nécessairement que chaque référence concerne le même mode de réalisation, ou que les caractéristiques s'appliquent seulement à un seul mode de réalisation. De simples caractéristiques de différents modes de réalisation peuvent également être combinées ou interchangées pour fournir d'autres réalisations. On entend par « en amont », un élément qui est placé avant un autre par rapport à la direction de circulation du gaz. A contrario, on entend par « en aval », un élément placé après un autre par rapport à la direction de circulation des gaz à pomper. Les termes « haut », « bas », « partie supérieure » et « partie inférieure » sont définis en référence à la disposition des éléments d’un piège disposé avec le fond en bas. La Figure 1 montre un exemple d’une installation 1. L’installation 1 comporte une ligne de vide 2, un réacteur 3 et un piège 4. Le réacteur 3 est par exemple un réacteur de procédés pour la fabrication de semi-conducteurs, c’est-à-dire de procédés utilisés dans la fabrication de dispositifs microélectroniques sur des substrats, tels que des plaquettes de silicium (ou wafers en anglais), tel qu’un procédé de dépôt de couches minces alternant des étapes de dépôt 102 suivi d’étapes de mise sous vide 103, avec des étapes de nettoyage 105. Le procédé est par exemple un procédé de dépôt dit HARP, pour High Aspect Ratio Process en anglais, tels que de type SACVD (pour « Sub Atmospheric Chemical Vapor Deposition » en anglais), alternant des étapes de dépôt à une pression subatmosphérique, suivi d’étapes de mise sous vide, avec des étapes de nettoyage. Dans ce procédé, la pression subatmopshérique est inférieure à la pression atmosphérique mais supérieure à 400 Torr, tel que comprise entre 500 et 600 Torr. Un exemple de cycle d’un procédé est montré sur la Figure 2, tel qu’un exemple de procédé de dépôt de type HARP. Un ou plusieurs substrats, par exemple deux dans un réacteur 3 de deux ou trois litres par exemple, sont d’abord introduits dans le réacteur 3 à basse pression (étape de chargement 101). Puis, au cours d’une étape de dépôt 102, par exemple durant entre dix et quinze minutes, des gaz de procédés 5, généralement de nature organique ou métallorganique, sont introduits dans le réacteur 3 pour le dépôt de couches minces sur les substrats à une pression subatmosphérique, généralement supérieure à 500 Torr, telle que 600Torr. Le flux de gaz de procédés 5 est généralement compris entre 10slm et 100slm, soit inférieur à 150slm, ce qui considéré comme faible à modéré. En fin d’étape de dépôt 102, les gaz de procédés 5 sont évacués du réacteur 3 dans une phase très courte de mise sous vide 103 (aussi appelée « pump down » en anglais), inférieure à cinq secondes et au cours de laquelle la pression dans le réacteur 3 est abaissée à une pression de 1 Torr. Le flux de gaz pompé est généralement compris entre 300slm et 400slm, soit supérieur à 200slm, ce qui est considéré comme fort. S’ensuit une étape de déchargement 104 des substrats à basse pression. Une fois les substrats déchargés, des gaz actifs de nettoyage 7, tels que NF 3 , sont introduits dans le réacteur 3 et un plasma est généré dans le réacteur 3 pour nettoyer les parois (étape de nettoyage 105). L’étape de nettoyage 105 peut durer quelques minutes. Pendant toute la durée de l’étape de nettoyage 105, les gaz actifs de nettoyage 7 sont évacués du réacteur 3. Une étape de purge 106 peut suivre, par exemple avec injection d’un gaz neutre 6, comme de l’azote, dans le réacteur 3. Le cycle peut ensuite être réitéré avec une nouvelle introduction de substrats (étape de chargement 101). En revenant à la Figure 1, on voit que la ligne de vide 2 comporte une canalisation 8 et un dispositif de pompage 9. L’aspiration du dispositif de pompage 9 est reliée à la sortie du réacteur 3 par la canalisation 8. Le dispositif de pompage 9 est par exemple un groupe de pompage comportant une pompe à vide primaire 9a et une pompe à vide de type Roots 9b montée en série et en amont de la pompe à vide primaire 9a dans la direction de circulation des gaz à pomper (représentée par une flèche sur la Figure 1). Le piège 4 est par exemple monté sur la canalisation 8, en amont du dispositif de pompage 9. Les Figures 3 à 7B montrent un premier exemple de réalisation. Comme on peut mieux le voir sur les Figures 4A et 4B, le piège 4 comporte une chambre 10 et un tube de sortie 11 communiquant avec la chambre 10. L’entrée 12 de la chambre 10 et le tube de sortie 11 sont respectivement destinés à être raccordés à la canalisation 8 de la ligne de vide 2 sur le passage d’un flux de gaz à pomper issu du réacteur 3. Dans le premier exemple de réalisation, l’entrée 12 de la chambre 10 et le tube de sortie 11 sont situés sur des côtés opposés de la chambre 12. Par exemple, l’entrée 12 de la chambre 10 est située en partie supérieure de la chambre 10 et le tube de sortie 11 est situé en partie inférieure. L’entrée 12 est raccordée à la canalisation 8 soit directement, soit par exemple par l’intermédiaire de raccords 14, notamment de raccords droits, tels que des portions de canalisation. Les raccords 14 peuvent être des éléments rapportés assemblés au piège 4 et à la canalisation 8 ou peuvent être intégrés au piège 4, tel qu’aux parois de la chambre 10 et du tube de sortie 11. Les parois latérales 17, 16 de la chambre 10 et du tube de sortie 11 sont par exemple cylindriques et coaxiales à l’axe longitudinal A (Figure 4A et 4B). Les parois latérales 17, 16 cylindriques peuvent être coaxiales à la canalisation 8, par exemple cylindrique. Ainsi, la chambre 10 et le tube de sortie 11 ne comportent ni coudes, ni renvois susceptibles de créer des zones mortes ou des pertes de conductance. Comme visible sur les Figures 4A, 4B et 5, la chambre 10 comporte une paroi de fond 15 située en dessous de l’entrée 19 du tube de sortie 11. Dans le premier exemple de réalisation, le tube de sortie 11 pénètre dans la chambre 10. La paroi de fond 15 entoure le tube de sortie 11 et est réalisée sous la forme d’une cuvette annulaire. Plus précisément par exemple, la paroi de fond 15 de la chambre 10 entourant le tube de sortie 11 est inclinée vers le bas et incurvée vers le haut en rejoignant la paroi latérale 16 du tube de sortie 11, formant une surface incurvée annulaire autour du tube de sortie 11. Le piège 4 comporte en outre un déflecteur 18 disposé entre l’entrée 12 de la chambre 10 et l’entrée 19 du tube de sortie 11. Dans le premier exemple de réalisation, le déflecteur 18 fait face à l’entrée 12 de la chambre 10 et abrite l’entrée 19 du tube de sortie 11. Un interstice est en outre ménagé entre le déflecteur 18 et le tube de sortie 11 pour permettre la circulation des gaz à pomper. La cuvette annulaire de la paroi de fond 15 est conformée pour coopérer avec le déflecteur 18 pour permettre une accumulation des éléments solides dans la cuvette annulaire lorsque le flux de gaz à pomper est modéré ou faible et pour renvoyer les éléments solides hors de la chambre 10 par entrainement aérodynamique sous l’effet d’un fort flux de gaz à pomper. Un flux de gaz à pomper modéré ou faible est par exemple inférieur à 150slm. C’est notamment le cas des flux de gaz injectés dans le réacteur 3 au cours de l’étape de dépôt 103. Un fort flux de gaz à pomper, tel que supérieur à 200slm, est un flux de gaz supérieur au flux de gaz modéré ou faible. C’est notamment le flux de gaz qui est évacué du réacteur 3 de l’installation 1 lors de l’étape de mise sous vide 103. Ainsi, le tube de sortie 11 pénétrant dans la chambre 10 et le déflecteur 18 permettent de séparer, notamment par gravité, au moins partiellement, les gaz à pomper des éléments solides entrant dans la chambre 10, notamment les sous-produits solides. Ceux-ci restent piégés dans la cuvette annulaire autour du tube de sortie 11 tandis que les gaz plus légers sont entrainés vers le dispositif de pompage 9. La forme de cuvette annulaire de la paroi de fond 15 de la chambre 10, inclinée vers le bas et incurvée vers le haut, est également conformée pour évacuer les éléments solides hors de la chambre 10 qui sont entrainés par entrainement aérodynamique vers le tube de sortie 11 sous l’effet d’un fort flux de gaz à pomper, ce qui permet l’auto-nettoyage du piège 4. Selon un exemple de réalisation mieux visible sur les Figures 4A, 4B et 6, le déflecteur 18 comporte un écran concave 20 faisant face à l’entrée 12 de la chambre 10. Les bords de l’écran concave 20 se prolongent par une jupe 21 entourant le tube de sortie 11. La jupe 21 est par exemple cylindrique et coaxiale à l’axe longitudinal A. Le rôle du déflecteur 18 est multiple. En plus de protéger l’entrée 19 du tube de sortie 11, sa forme permet de guider le flux de gaz dans le piège 4. La forme particulière incurvée de l’écran concave 20 du déflecteur 18 permet de recueillir les éléments solides les plus lourds ou les plus denses provenant du flux de gaz. En outre, l’écran concave 20 permet de guider la remontée du flux de gaz le long des bords de l’écran concave 20, le flux de gaz étant ensuite rabattu vers le fond de la chambre 10 par les parois internes de la chambre 10. Par ailleurs, les parois internes de la jupe 21 et de l’écran concave 20 du déflecteur 18 permettent de rabattre le flux de gaz remontant le long du tube de sortie 11, vers l’entrée 19 de ce dernier. La coopération du déflecteur 18 et des parois de la chambre 10 guide ainsi la trajectoire des gaz dans le piège 4, soit pour déposer les éléments solides dans les surfaces incurvées, soit pour les évacuer hors du piège 4. Selon un exemple de réalisation, le déflecteur 18 est solidaire d’une embase tubulaire 22 amovible du tube de sortie 11. L’embase tubulaire 22 comporte par exemple un cylindre présentant le même diamètre que celui d’une portion aval 34 du tube de sortie 11. La portion aval 34 est par exemple formée d’une seule pièce avec la paroi latérale 17 et la paroi de fond 15 de la chambre 10 (Figure 5). L’écran concave 20 du déflecteur 18 est par exemple maintenu à l’embase tubulaire 22 par un secteur 23 (Figure 6). L’embase tubulaire 22 peut comporter un moyen de fixation 24 configuré pour coopérer de manière amovible avec la portion aval 34 du tube de sortie 11. Le moyen de fixation 24 comporte par exemple au moins une fixation baïonnette, les ouvertures en « L » de la fixation baïonnette étant par exemple portées par l’embase tubulaire 22 et les pions complémentaires portés par la portion aval 34. Selon un exemple de réalisation, le tube de sortie 11 comporte au moins une entretoise tubulaire de rehausse 25a, 25b configurée pour rehausser le déflecteur 18. L’entretoise tubulaire de rehausse 25a, 25b est par exemple interposée entre la portion aval 34 et l’embase tubulaire 22. L’entretoise tubulaire de rehausse 25a, 25b présente par exemple un même diamètre interne que celui de la portion aval 34 du tube de sortie 11 et que celui de l’embase tubulaire 22. Elle est par exemple insérable dans la portion aval 34 du tube de sortie 11 et dans l’embase tubulaire 22. On a représenté deux exemples d’entretoises tubulaires de rehausse 25a, 25b sur les Figures 4A et 4B, l’entretoise 25b de la Figure 4B étant plus haute que l’entretoise 25a de la Figure 4A, pour rallonger la hauteur du tube de sortie 11 et ainsi éloigner l’entrée 19 du tube de sortie 11 de la paroi de fond 15. Lorsque le déflecteur 18 est en position basse, sans entretoise tubulaire de rehausse ou avec une petite entretoise tubulaire de rehausse 25a, l’effet balayant des gaz est accentué dans le fond de la chambre 10 du fait de la vitesse élevée des gaz. L’utilisation d’entretoises tubulaires de rehausse 25a, 25b permet de rehausser le déflecteur 18 pour réduire la perte de charge générée par le piège 4. Le choix de la hauteur du déflecteur 18 est donc un compromis entre l’efficacité de l’effet balayant et l’efficacité du pompage. Le piège 4 peut en outre comporter un dispositif de refroidissement 26 configuré pour refroidir la paroi de fond 15 de la chambre 10 (mieux visible sur la Figure 5). Le dispositif de refroidissement 26 est par exemple une enceinte double fond fermée par la paroi de fond 15 de la chambre 10, l’enceinte double fond comprenant une entrée de liquide 27 et une sortie de liquide 28 pour la circulation d’un liquide de refroidissement dans l’enceinte. Le liquide de refroidissement est par exemple de l’eau par exemple à 20°C, c’est-à-dire de l’eau à température ambiante. La paroi de fond 15 de la chambre 10 peut ainsi être maintenue à température ambiante au lieu d’être chauffée notamment par conduction par le dispositif de pompage 9. En réduisant la température du fond de la chambre 10, on réduit la cinétique chimique, ce qui rend le milieu moins favorable aux réactions chimiques. De plus, les éléments solides refroidis, moins cohésifs, restent sous forme pulvérulente. Ils sont donc moins collants ou pâteux et donc plus facile à entrainer par un flux de gaz. Le couvercle 29 de la chambre 10 est par exemple un disque plat dans lequel l’orifice d’entrée 12 de la chambre 10 est ménagé coaxialement à l’axe longitudinal A. Selon un exemple de réalisation, le couvercle 29 est amovible (Figure 3). Le couvercle 29 est par exemple fixé de manière amovible à la paroi latérale 17 cylindrique de la chambre 10 par des raccords à vide 31, tels que des pinces à double griffes avec un joint d’étanchéité 32 interposé entre la paroi latérale 17 et le couvercle 29. Un couvercle 29 amovible permet d’accéder au fond de la chambre 10 pour la nettoyer sans avoir besoin de retirer le piège 4 de la canalisation 8, notamment en cas de réception de débris, trop lourds pour pouvoir être évacués par un flux gazeux. Selon un exemple de réalisation, le piège 4 comporte en outre au moins un hublot 30 ménagé dans le couvercle 29 et/ou dans la paroi latérale 17 de la chambre 10. Le hublot 30 comporte par exemple un conduit 47 faisant saillie du couvercle 29 ou de la paroi latérale 17 de la chambre 10, ainsi qu’une fenêtre 48 transparente agencée à l’extrémité du conduit 47. Le hublot 30 permet notamment de constater visuellement si des dépôts, débris ou autres éléments solides se sont accumulés dans la chambre 10. Il permet également d’installer des dispositifs de surveillance optique pour l’aide au diagnostic de colmatage. Le conduit est par exemple incliné par rapport à l’axe longitudinal A de la chambre 10 pour faciliter la vision par un opérateur. La fenêtre 48 du hublot 30 peut être amovible, formant alors une trappe de visite par exemple pour permettre l’introduction d’un embout d’aspirateur dans le conduit. Par ailleurs, on peut prévoir que les parois internes du piège 4 destinées à être mises en communication avec le flux de gaz à pomper, c’est-à-dire la paroi latérale 17 et la paroi interne du couvercle 29 de la chambre 10, les parois du tube de sortie 11 et les parois du déflecteur 18, soient revêtues d’un revêtement chimiquement inerte, tel que Al 2 O 3 dense, Y 2 O 3 ou Y 2 F 3 ou un revêtement aux propriétés anti-adhérentes et/ou hydrophobes tel qu’un revêtement NiP-PTFE ou tel que des revêtements polymères fluorés ou non ou tout autre revêtement hydrophobe similaire. Ces revêtements de surface favorisent l’évacuation des éléments solides en limitant leur adhérence aux parois. Egalement, on peut prévoir que le piège 4 comporte au moins une buse d’injection 33 (schématisée sur les Figure 4A et 4B), configurée pour injecter un gaz de purge dans la chambre 10 du piège 4 sur une durée prédéfinie. La au moins une buse d’injection 33 est par exemple agencée dans le couvercle 29. Elle est par exemple orientée pour diriger un flux de gaz de purge en direction du fond de la chambre 10 dans la cuvette annulaire et/ou en direction de l’écran concave 20 du déflecteur 18. Le gaz de purge est par exemple de l’azote. L’injection d’un gaz de purge peut permettre de remplacer (ou d’assister) le fort flux de gaz à pomper pour évacuer les éléments solides hors de la chambre 10 par entrainement aérodynamique. La buse d’injection 33 est par exemple configurée pour injecter un fort flux de gaz, par exemple supérieure à 200slm dans le cas où le procédé ayant lieu dans la chambre ne présente pas d’étape de mise sous vide dans les conditions requises, c’est-à-dire engendrant le pompage d’un fort flux de gaz. La buse d’injection 33 peut en outre être configurée pour injecter le gaz de purge de manière pulsée, par exemple de l’ordre de 10 à 20 pulses/seconde. L’injection pulsée permet de favoriser le décollement des éléments solides des surfaces incurvées du déflecteur 18 et/ou de la paroi de fond 15 de la chambre 10. On va maintenant décrire un exemple de fonctionnement du piège 4 en référence aux Figures 2, 7A et 7B. Au cours de l’étape de dépôt 102 (Figure 7A), le flux de gaz traversant le piège 4 est faible ou modéré. Par conséquent, les gaz circulent à basse vitesse. L’écran concave 20 du déflecteur 18 faisant face à l’entrée 12 de la chambre 10 guide la remontée du flux de gaz le long des bords de l’écran 20, le flux de gaz étant ensuite rabattu vers le fond de la chambre 10 par le couvercle 29 et la paroi latérale 17 de la chambre 10. Puis, la cuvette annulaire de la paroi de fond 15 de la chambre 10 guide la remontée du flux de gaz le long du tube de sortie 11. Ce flux de gaz est ensuite rabattu vers l’entrée 19 du tube de sortie 11 par les parois internes du déflecteur 18, notamment de la jupe 21 et de la partie convexe de l’écran 20. Le flux de gaz faible ou modéré ne permet toutefois pas d’entrainer les éléments solides hors de la chambre 10. Les plus grosses particules, voire des débris (schématisés par des étoiles), s’accumulent dans l’écran concave 20 du déflecteur 18 faisant face à l’entrée 12 de la chambre 10. Les particules des sous-produits solides générés dans le réacteur 3, plus fines que les débris mais plus lourdes que les gaz (schématisés par des soleils), tombent au fond de la chambre 10 et s’accumulent par sédimentation dans la cuvette annulaire. Ces éléments solides ainsi que les gaz peuvent être refroidis au contact du fond, lui-même refroidi par la circulation d’eau dans l’enceinte double fond. Les gaz en revanche, sortent de la chambre 10 en passant par le tube de sortie 11. Les gaz sont alors débarrassés d’une fraction des sous-produits solides les moins mobiles qui restent piégés par gravité dans le déflecteur 18 et dans la paroi de fond 15 de la chambre 10. Par conséquent, les sous-produits solides ne se retrouvent pas coincés dans le dispositif de pompage 9 situé en aval. Seuls les dépôts les plus volatiles sont entrainés dans le dispositif de pompage 9. Ces dépôts volatiles ont moins tendance à se stocker dans les pompes pendant la phase de faible flux de gaz (donc de faible vitesse d’écoulement). A la fin de l’étape de dépôt 102, les gaz de procédés 5 sont évacués du réacteur 3 dans la phase de mise sous vide 103 (Figure 7B). Le flux de gaz évacué est fort, généralement compris entre 300slm et 400slm. S’il n’est pas suffisamment fort, il est possible d’injecter un gaz de purge dans le piège 4 via la buse d’injection 33, de manière pulsée/intermittente ou non. Comme au cours de l’étape de dépôt 102, les formes particulières incurvées de la cuvette annulaire de la paroi de fond 15 de la chambre 10 et de l’écran concave 20 du déflecteur 18 guident le flux de gaz le long des bords de l’écran concave 20 puis vers la paroi de fond 15 de la chambre 10, puis le long du tube de sortie 11 jusqu’à l’entrée 19 du tube de sortie 11. Ici cependant, le flux de gaz est suffisamment fort pour entrainer au moins partiellement les éléments solides fraichement accumulés hors de la chambre 10. Les éléments solides peuvent alors être évacués sans attendre l’arrivée des gaz actifs 7 de nettoyage, autrement dit, avant la survenue de conditions favorables aux réactions chimiques de polymérisation. En outre, les vitesses de gaz élevées induites par ce fort flux de gaz favorisent le transport des éléments solides dans la ligne de vide 2 à travers le dispositif de pompage 9 situé en aval du piège 4. Par conséquent, les éléments solides ne séjournent pas durablement dans le dispositif de pompage 9. L’occurrence cyclique de ce fort flux de gaz dans le réacteur 3, après chaque étape de dépôt 102 et avant chaque étape de nettoyage 105, est mise ici à profit pour balayer les éléments solides accumulés précédemment dans les surfaces incurvées du piège 4. Ainsi, le piège 4 peut être débarrassé de la majorité des éléments solides avant l’arrivée des gaz actifs de nettoyage. Lorsque l’étape de nettoyage 105 débute et que les gaz actifs sont envoyés dans le réacteur 3, les éléments solides issus de l’étape de dépôt 102 ont été balayés par le flux de gaz. On minimise ainsi la probabilité de rencontre entre les espèces organiques (ou métallorganiques) des étapes de dépôt 102 et les espèces acides/actives/radicalaires des étapes de nettoyage 105, ce qui limite les réactions de polymérisation. La maintenance du piège 4 peut donc être réduite, voire supprimée complétement. Bien que l’exemple qui vient d’être décrit est relatif à une utilisation du piège 4 dans une installation 1 pour lequel le flux de gaz traversant le piège 4 permet aux éléments solides de s’accumuler par sédimentation dans la cuvette annulaire au cours de l’étape de dépôt 102 et le flux de gaz traversant le piège entraine au moins partiellement les éléments solides hors de la chambre 10 au cours de la phase de mise sous vide 103, l’invention s’applique également à des tous type de procédés susceptibles de générer des éléments solides, de type poudres ou polymères. Si le procédé ne comporte pas d’étape de mise sous vide ou si le flux de gaz n’est pas suffisamment fort pour évacuer les éléments solides, il est possible d’injecter un gaz de purge dans le piège 4 via la buse d’injection 33, de manière pulsée ou non et sur une durée prédéfinie, c’est-à-dire de manière alternée avec des périodes sans injection par la buse 33. Les Figures 8 et 9 montrent un deuxième exemple de réalisation. Dans ce mode de réalisation, le déflecteur 35 comporte une hélice agencée coaxialement à l’axe A de la chambre 10 cylindrique. L’hélice est de type « cyclone uniflow » en anglais, c’est-à-dire générant un tourbillon des gaz favorisant la séparation des éléments solides des gaz dans des espaces limités. Cette forme de réalisation du déflecteur permet de réduire l’encombrement du piège 4. L’hélice peut être fixe ou mobile. Le centre 36 de l’hélice peut présenter une forme générale de goutte de pluie, la pointe de la goutte étant orientée vers le centre du tube de sortie 11. Par ailleurs, dans cet exemple, le piège 4 comporte une pluralité de buses d’injection 33, chaque buse d’injection étant dirigée vers la paroi de fond 15. Les buses d’injection sont formées aux extrémités de tubes faisant saillie d’une couronne reliée à une source de gaz sous pression, par exemple d’air comprimé ou d’azote. En fonctionnement, l’hélice génère un tourbillon de gaz permettant de séparer les éléments solides des gaz. Le flux de gaz faible ou modéré ne permet pas d’entrainer les éléments solides hors de la chambre 10. Les éléments solides tombent au fond de la chambre 10 et s’accumulent par sédimentation dans la paroi de fond 15. Ces éléments solides ainsi que les gaz peuvent être refroidis au contact du fond, lui-même pouvant être refroidi par la circulation d’eau dans une enceinte double fond (non représentée). Les gaz sortent de la chambre 10 en passant par le tube de sortie 11. Les gaz sont alors débarrassés d’une fraction des sous-produits solides les moins mobiles qui restent piégés par gravité dans la paroi de fond 15 de la chambre 10. Le dispositif de pompage 9 peut ainsi gérer plus facilement le flux de gaz car il partiellement débarrassé de sa charge solide. Lorsque le flux de gaz évacué est à nouveau fort, du fait des conditions de procédé ayant lieu dans le réacteur 3 ou du fait d’un gaz de purge injecté dans le piège 4 via les buses d’injection 33, les éléments solides accumulés sont, au moins partiellement, évacués de la chambre 10. Ces solides dont la température a été abaissée par leur séjour dans le fond de la chambre 10 refroidie, sont moins cohésifs et donc, sont peu susceptibles de coller ou de générer des ‘flocons’ (« flakes » en anglais) ou des ‘grappes’ (« clusters » en anglais). Les Figures 10 à 12 illustrent un troisième exemple de réalisation. Dans cet exemple, le tube de sortie 11 est raccordé à la paroi latérale 17 de la chambre 10. Les parois latérales 17, 16 de la chambre 10 et du tube de sortie 11 sont par exemple cylindriques, la paroi cylindrique de la chambre 10 étant coaxiale à la canalisation 8. Le tube de sortie 11 présente par exemple une forme coudée, tel qu’un coude de 90°. En outre, la paroi de fond 15 est réalisée ici sous la forme d’une coupelle ajustable en hauteur. Selon un exemple de réalisation, le piège 4 comporte un moyen d’actionnement 37 configuré pour faire coulisser la paroi de fond 15 dans la chambre 10 dans la direction de l’axe A de la chambre 10 cylindrique, c’est-à-dire verticalement. Le moyen d’actionnement 37 est par exemple un actionneur linéaire solidaire d’une tige 38 reliée à la coupelle. La tige 38 est par exemple reliée au centre et dos de la coupelle et traverse un double fond 39 de la chambre 10 de manière étanche, par exemple au moyen d’un soufflet 44 métallique soudé d’une part, au dos de la coupelle et d’autre part, au double fond 39 de la chambre 10 (en pointillés sur la Figure 10). L’ajustement du positionnement en hauteur de la coupelle permet d’optimiser le fonctionnement du piège 4 en accumulation ou en balayage des éléments solides. La coupelle est montée pour s’approcher de l’entrée 19 du tube de sortie 11 lorsque le flux de gaz est faible ou modéré pour améliorer l’effet balayant et abaissée lorsque le flux de gaz est fort. Par ailleurs, dans ce mode de réalisation, et mieux visible sur la Figure 11, le déflecteur 40 comporte une forme générale de conduit tronconique formant un guide d’entrée. Le côté le plus large du conduit tronconique correspond par exemple à la dimension de l’entrée 12 de la chambre 10. L’entonnoir ainsi formé oriente les gaz et les poussières vers la paroi de fond 15 en forme de coupelle. La Figure 11 montre un exemple de déflecteur comportant une forme générale de conduit tronconique droit formant un guide d’entrée, l’axe du conduit étant coaxial avec l’axe de la chambre 10. Selon un autre exemple visible sur la Figure 12, le conduit tronconique du déflecteur 40 formant le guide d’entrée est décentré. L’axe B passant par les centres des cercles d’extrémité du conduit conique n’est pas parallèle à l’axe A de la chambre 10. Les Figures 13 et 14 montrent une variante de réalisation du déflecteur 45. Dans cette réalisation, le déflecteur 45 présente une forme générale de conduit cylindrique biseautée formant un guide d’entrée, le biseau étant ouvert à une extrémité inférieure du déflecteur 45. Un autre objet de la présente invention est une ligne de vide 2 pour laquelle la gestion de la température est séparée en deux zones (Figure 1). La ligne de vide 2 est configurée pour être chauffée uniquement sur une première portion de canalisation 41 par exemple au-dessus de 100°C tel qu’à 170°C. Cette première portion de canalisation 41 est par exemple située entre le réacteur 3 et le piège 4. Lorsque la ligne de vide 2 ne comporte pas de piège 4, cette première portion de canalisation 41 chauffée s’arrête à au moins un mètre du dispositif de pompage 9. Cette distance permet de s’assurer de ne pas transmettre la chaleur de la première portion de canalisation 41 à la deuxième portion de canalisation 46 comportant le dispositif de pompage 9. La ligne de vide 2 peut comporter une vanne de régulation 42 à conductance variable sur cette première portion de canalisation 41, en sortie du réacteur 3, pour contrôler la pression des gaz dans le réacteur 3. La ligne de vide peut également comporter un piège à poudres chauffé ou non (non représenté) sur cette première portion de canalisation 41, en aval de la vanne de régulation 42 dans la direction des gaz pompés. Le chauffage de cette première portion de canalisation 41 permet notamment de réchauffer les gaz ayant été refroidis par détente adiabatique sous l’effet des rapides variations de pression engendrées par les déplacements de la vanne de régulation 42, pour les conserver sous forme gazeuse en évitant leur condensation ou solidification. La deuxième portion de la canalisation 46, comportant le dispositif de pompage 9, éventuellement une vanne d’isolation 43 du dispositif de pompage 9, et le cas échéant, un piège 4 tel que décrit précédemment, n’est pas chauffé. Dans certains cas, cette deuxième portion de canalisation 46 peut même être refroidie. Les éléments solides non chauffés ou refroidis restent sous forme de poudres. Ils sont plus faciles à évacuer par pompage et la température abaissée permet de freiner l’apparition de réactions chimiques indésirables en amont du dispositif de pompage 9. Les Figures 15 et 16 montrent une variante de réalisation. Dans cet exemple, le piège 4 comporte un premier et un deuxième hublots 30a, 30b ménagés dans la paroi latérale 17 de la chambre 10. Le piège 4 comporte en outre un dispositif de surveillance optique configuré pour envoyer de la lumière à travers le premier hublot 30a et pour mesurer la lumière traversant la chambre 10 à travers le deuxième hublot 30b. L’observation de la lumière dans la chambre 10 permet de déterminer, voire quantifier, les dépôts présents dans la chambre 10. Les hublots 30a, 30b, ainsi qu’éventuellement le hublot 30 ménagé dans le couvercle 29, peuvent comporter un dispositif de rideau annulaire 49, configuré pour former un écran de gaz de purge devant une fenêtre 48 du hublot 30a, 30b, 30 afin d’éviter le dépôt de film de poudres fines sur la surface de le fenêtre 48 qui pourrait nuire à la transparence. Le dispositif de rideau annulaire 49 comporte par exemple un anneau agencé dans le conduit 47 à proximité de la fenêtre 48. L’anneau présente une pluralité d’orifices d’injection de gaz, par exemple angulairement régulièrement répartis. Le dispositif de rideau annulaire 49 comporte en outre une amenée de gaz de purge 50, tel que de l’azote, configurée pour injecter du gaz de purge dans le conduit 47, à travers les orifices de l’anneau. Un rideau de gaz peut ainsi être formé entre le conduit 47 et la fenêtre 48 pour former un écran empêchant le dépôt de poudres sur la fenêtre 48. Piège (4) pour ligne de vide (2) destiné à être monté sur une canalisation (8) raccordée à un réacteur (3), le piège (4) comportant une chambre (10) et un tube de sortie (11) communiquant avec la chambre (10), l’entrée (12) de la chambre (10) et le tube de sortie (11) étant destinés à être respectivement raccordés à la canalisation (8) de la ligne de vide (2) sur le passage d’un flux de gaz à pomper issu du réacteur (3), le piège (4) comportant un déflecteur (18 ; 35 ; 40 ; 45) disposé entre l’entrée (12) de la chambre (10) et l’entrée (19) du tube de sortie (11), la chambre (10) comportant une paroi de fond (15) située en dessous de l’entrée (19) du tube de sortie (11) caractérisé en ce que la paroi de fond (15) est conformée pour coopérer avec le déflecteur (18 ; 34) pour permettre une accumulation des éléments solides dans la paroi de fond (15) lorsque le flux de gaz à pomper est modéré ou faible et pour renvoyer les éléments solides hors de la chambre (10) par entrainement aérodynamique sous l’effet d’un fort flux de gaz à pomper. Piège (4) selon la revendication précédente, caractérisé en ce que le tube de sortie (11) pénètre dans la chambre (10), la paroi de fond (15) entourant le tube de sortie (11) étant réalisée sous la forme d’une cuvette annulaire. Piège (4) selon l’une des revendications précédentes, caractérisé en ce que le déflecteur (18) comporte un écran concave (20) faisant face à l’entrée (12) de la chambre (10), les bords de l’écran concave (20) se prolongeant par une jupe (21) entourant le tube de sortie (11). Piège (4) selon l’une des revendications précédentes, caractérisé en ce que le déflecteur (18) est solidaire d’une embase tubulaire (22) du tube de sortie (11), l’embase tubulaire (22) étant amovible. Piège (4) selon l’une des revendications précédentes, caractérisé en ce que le tube de sortie (11) comporte au moins une entretoise tubulaire de rehausse (25a ; 25b) configurée pour rehausser le déflecteur (18). Piège (4) selon l’une des revendications 1 ou 2, caractérisé en ce que le déflecteur (35) comporte une hélice agencée coaxialement à l’axe (A) de la chambre (10) cylindrique. Piège (4) selon l’une des revendications précédentes, caractérisé en ce que les parois latérales (17, 16) de la chambre (10) et du tube de sortie (11) sont cylindriques et coaxiales. Piège (4) selon la revendication 1, caractérisé en ce que le tube de sortie (11) est raccordé à une paroi latérale (17) de la chambre (10), la paroi de fond (15) étant réalisée sous la forme d’une coupelle ajustable en hauteur. Piège (4) selon la revendication précédente, caractérisé en ce qu’il comporte un moyen d’actionnement (37) configuré pour faire coulisser la paroi de fond (15) dans la chambre (10) dans la direction de l’axe (A) de la chambre (10) cylindrique. Piège (4) selon l’une des revendications 8 ou 9, caractérisé en ce que le déflecteur (40) comporte une forme générale de conduit tronconique formant un guide d’entrée. Piège (4) selon la revendication précédente, caractérisé en ce que le conduit tronconique présente un axe coaxial avec l’axe (A) de la chambre (10) de forme générale cylindrique. Piège (4) selon la revendication 10, caractérisé en ce que le conduit tronconique est décentré. Piège (4) selon l’une des revendications 8 ou 9, caractérisé en ce que le déflecteur (45) présente une forme générale de conduit cylindrique biseautée formant un guide d’entrée, le biseau étant ouvert à une extrémité inférieure du déflecteur (45). Piège (4) selon l’une des revendications précédentes, caractérisé en ce qu’il comporte un dispositif de refroidissement (26) configuré pour refroidir la paroi de fond (15) de la chambre (10). Piège (4) selon la revendication précédente, caractérisé en ce que le dispositif de refroidissement (26) est une enceinte double fond fermée par la paroi de fond (15) de la chambre (10), l’enceinte double fond comprenant une entrée de liquide (27) et une sortie de liquide (28) pour la circulation d’un liquide de refroidissement. Piège (4) selon l’une des revendications précédentes, caractérisé en ce que les parois internes du piège (4) destinées à être mises en communication avec le flux de gaz à pomper sont revêtues d’un revêtement chimiquement inerte. Piège (4) selon l’une des revendications précédentes, caractérisé en ce qu’il comporte au moins une buse d’injection (33) configurée pour injecter un gaz de purge dans la chambre (10) en direction de la paroi de fond (15). Piège (4) selon la revendication précédente, caractérisé en ce que la buse d’injection (33) est configurée pour injecter un gaz de purge de manière pulsée. Piège (4) selon l’une des revendications précédentes, caractérisé en ce qu’il comporte au moins un hublot (30, 30a, 30b) ménagé dans le couvercle (29) et/ou dans une paroi latérale (17) de la chambre (10). Piège (4) selon la revendication précédente, caractérisé en ce qu’il comporte un premier et un deuxième hublots (30a, 30b) ménagés dans la paroi latérale (17) de la chambre (10) et un dispositif de surveillance optique configuré pour envoyer de la lumière à travers le premier hublot (30a) et pour mesurer la lumière traversant la chambre (10) à travers le deuxième hublot (30b). Piège (4) selon l’une des revendications 19 ou 20, caractérisé en ce que le au moins un hublot (30, 30a, 30b) comporte un dispositif de rideau annulaire (49) configuré pour former un écran de gaz de purge devant une fenêtre (48) du hublot (30a, 30b, 30). Installation (1) comportant : - une ligne de vide (2) comportant un dispositif de pompage (9), et - un réacteur (3) dont une sortie est raccordée à une canalisation (8) de la ligne de vide (2), caractérisée en ce qu’elle comporte en outre un piège (4) selon l’une des revendications précédentes, monté sur la canalisation (8) de la ligne de vide (2), en amont du dispositif de pompage (9) dans la direction de circulation des gaz à pomper. Installation (1) selon la revendication précédente, caractérisée en ce que le réacteur (3) est un réacteur de procédés pour la fabrication de semi-conducteurs, tel qu’un procédé de dépôt de couches minces alternant des étapes de dépôt (102) suivi d’étapes de mise sous vide (103), avec des étapes de nettoyage (105). Installation (1) selon l’une des revendications 22 ou 23, caractérisé en ce que la ligne de vide (2) est configurée pour être chauffée uniquement sur une première portion de canalisation (41) située entre le réacteur (3) et le piège (4). Utilisation d’un piège (4) dans une installation (1) selon la revendication 23, caractérisée en ce que : - au cours de l’étape de dépôt (102), un flux de gaz faible ou modéré traverse le piège (4) et permet à des éléments solides de s’accumuler par sédimentation dans la paroi de fond (15), et - au cours de la phase de mise sous vide (103), un fort flux de gaz traverse le piège (4) et entraine au moins partiellement les éléments solides hors de la chambre (10) vers un dispositif de pompage (9). Utilisation d’un piège (4) dans une installation (1) selon l’une des revendications 22 à 24, caractérisée en ce qu’on injecte un gaz de purge dans le piège (4) pour entrainer au moins partiellement les éléments solides hors de la chambre (10).