Brevet FR3097881A1 — publié le 20210101

Description Titre de l'invention : fer à repasser équipé d'une chambre de vaporisation pourvue d'une surface inclinée Domaine technique [0001] La présente invention concerne le domaine des appareils de repassage, et en par- ticulier des appareils de repassage comprenant des fers à repasser équipés de chambre de vaporisation. Etat de la technique [0002] Un fer à repasser comprend de façon connue : - un corps chauffant comportant une chambre de vaporisation présentant une paroi de fond qui est plane et sur laquelle de l'eau est destinée à s'écouler pour produire de la vapeur, le corps chauffant pouvant comprendre une première résistance électrique chauffante s'étendant à la périphérie de la paroi de fond et une deuxième résistance électrique chauffant située dans une zone centrale de la paroi de fond, - une semelle de repassage liée thermiquement et mécaniquement au corps chauffant, la semelle de repassage comportant une surface de repassage et au moins un orifice de sortie de vapeur débouchant dans la surface de repassage, la surface de repassage étant parallèle à la paroi de fond, - un circuit de distribution de vapeur reliant fluidiquement la chambre de vaporisation à 1' au moins un orifice de sortie de vapeur et dans lequel est destinée à s'écouler la vapeur produite par la chambre de vaporisation. [0003] Lorsqu'un tel fer à repasser est utilisé, l'eau, qui est introduite dans la chambre de va- porisation au niveau d'un orifice d'injection d'eau, s'accumule en dessous de cet orifice d'injection d'eau et forme une couche d'eau liquide sur la paroi de fond qui nuit à la vaporisation de l'eau introduite dans la chambre de vaporisation. [0004] Ainsi, une telle configuration du fer à repasser ne permet pas d'alimenter la chambre de vaporisation avec un débit d'eau important sans risquer la projection de gouttelettes d'eau sur le linge à repasser. Résumé de l'invention [0005] La présente invention vise à remédier à tout ou partie de ces inconvénients. [0006] Le problème technique à la base de l'invention consiste notamment à fournir un fer à repasser permettant d'augmenter le débit d'alimentation en eau de la chambre de vapo- risation, tout en évitant la projection de gouttelettes d'eau sur le linge à repasser. [0007] A cet effet, la présente invention concerne un fer à repasser comprenant une semelle de repassage comportant au moins un orifice de sortie de vapeur et un corps chauffant comportant une chambre de vaporisation reliée par un circuit de distribution de vapeur 2 à rau moins un orifice de sortie de vapeur, la chambre de vaporisation présentant une paroi de fond comprenant une zone d'injection d'eau sur laquelle dc l'eau est destinée à être injectée pour produire de la vapeur, le corps chauffant comprenant une première résistance électrique chauffante s'étendant dans une première zone dc la paroi de fond et une deuxième résistance électrique chauffante s'étendant dans une deuxième zone de la paroi de fond, la paroi dc fond comprenant une zone intermédiaire s'étendant entre les première et deuxième zones, caractérisé en cc que la zone d'injection d'eau de la paroi de fond comporte une surface contigu& pour canaliser l'eau s'écoulant sur la zone d'injection d'eau en direction de la zone intermédiaire lorsque le fer à repasser repose à plat sur la semelle de repassage. [0008] Une telle configuration de la paroi de fond de la chambre de vaporisation permet dc diriger l'eau pénétrant dans la chambre de vaporisation vers la zone intermédiaire qui est entourée par les première et deuxième résistances électriques chauffantes, et donc vers les surfaces les plus chaudes de la chambre de vaporisation, et ainsi de favoriser une vaporisation rapide de l'eau pénétrant dans la chambre de vaporisation. [0009] Par conséquent, la configuration de la paroi de fond dc la chambre de vaporisation permet d'alimenter la chambre de vaporisation avec un débit d'eau important, tout en limitant la projection de gouttelettes d'eau sur le linge à repasser. Le fer à repasser selon la présente invention présente donc une efficacité de repassage améliorée. [0010] Le fer à repasser peut en outre présenter une ou plusieurs des caractéristiques suivantes, prises seules ou en combinaison. [0011] Selon un mode de réalisation de l'invention, la paroi de fond comporte un obstacle disposé sur la trajectoire d'écoulement du flux d'eau injecté sur la paroi de fond depuis la zone d'injection d'eau, l'obstacle déviant le flux vers deux chemins d'écoulement latéraux disposés de part et d'autre de l'obstacle. [0012] Selon un mode de réalisation de l'invention, l'obstacle est un plot de régulation sur lequel est monté un thermostat. [0013] Selon un mode de réalisation de l'invention, chacun des chemins d'écoulement latéraux est incliné vers l'arrière de la chambre de vaporisation. Ces dispositions favorisent un écoulement d'une flaque d'eau formée dans la chambre de vaporisation vers l'arrière de la chambre de vaporisation. [0014] Selon un mode de réalisation de l'invention, la chambre de vaporisation est délimitée latéralement par une paroi périphérique comportant une ouverture de liaison par laquelle la vapeur s'échappe de la chambre de vaporisation pour s'acheminer dans le circuit de distribution de vapeur, l'obstacle étant situé entre la zone d'injection et l'ouverture de liaison, et de préférence dans l'alignement entre la zone d'injection et l'ouverture de liaison. [0015] Selon un mode de réalisation de l'invention, la zone intermédiaire comprend au 3 moins une cavité de rétention d'un volume d'eau. [0016] Selon un mode de réalisation de l'invention, la paroi de fond comporte une paroi de barrage qui délimite une extrémité aval de la cavité de rétention. [0017] Selon un mode de réalisation de l'invention, la paroi de fond comporte un plot de ré- gulation sur lequel est monté un thermostat, la cavité de rétention étant disposée au pied du plot de régulation. [0018] Selon un mode de réalisation de l'invention, la première résistance électrique chauffante s'étend à la périphérie de la paroi de fond. [0019] Selon un mode de réalisation de l'invention, la paroi de fond comporte deux cavités de rétention, les cavités de rétention étant disposées des deux côtés du plot de régulation. [0020] Selon un mode de réalisation de l'invention, la première résistance électrique chauffante et/ou la deuxième résistance électrique chauffante présentent une forme générale en U, V ou Q. [0021] Selon un mode de réalisation de l'invention, les première et deuxième résistances électriques chauffantes présentent une puissance cumulée supérieure à 2400 W. [0022] Selon un mode de réalisation de l'invention, les première et deuxième résistance électrique chauffante sont disposées tête bêche. [0023] Selon un mode de réalisation de l'invention, la première résistance électrique chauffante comporte une première branche s'étendant à proximité d'une première portion latérale de la chambre de vaporisation, et une deuxième branche s'étendant à proximité d'une deuxième portion latérale de la chambre de vaporisation qui est opposée à la première portion latérale. [0024] Selon un mode de réalisation de l'invention, la première résistance électrique chauffante comporte une portion de liaison reliant les première et deuxième branches respectives et située au niveau d'une partie avant de la chambre de vaporisation. [0025] Selon un mode de réalisation de l'invention, la deuxième résistance électrique chauffante s'étend à l'intérieur des première et deuxième branches de la première résistance électrique chauffante. [0026] Selon un mode de réalisation de l'invention, la paroi de fond comporte une surface bombée configurée pour canaliser l'eau s'écoulant sur la surface bombée en direction de la zone intermédiaire [0027] Selon un mode de réalisation de l'invention, la surface bombée de la paroi de fond est bombée dans une direction transversale qui s'étend transversalement à la direction longitudinale du fer à repasser. [0028] Selon un mode de réalisation de l'invention, la surface bombée est disposée sen- siblement symétriquement par rapport à un plan longitudinal médian du fer à repasser. [0029] Selon un mode de réalisation de l'invention, la surface bombée est située dans une zone longitudinale centrale de la paroi de fond. [0030] Selon un mode de réalisation de l'invention, la surface bombée comporte une première portion de paroi inclinée en direction d'un premier bord latéral de la paroi de fond, une deuxième portion de paroi inclinée en direction d'un deuxième bord latéral de la paroi de fond, et une crête longitudinale reliant les première et deuxième portions de paroi. La crête longitudinale peut par exemple s'étendre dans le plan longitudinal médian du fer à repasser, et peut par exemple présenter une section transversale arrondie. [0031] Selon un mode de réalisation de l'invention, le corps chauffant comporte une ouverture d'injection d'eau débouchant dans une partie avant de la chambre de vaporisation, et par exemple à proximité de l'extrémité avant de la paroi de fond. [0032] Selon un mode de réalisation de l'invention, l'ouverture d'injection d'eau est située au-dessus de la surface bombée. Ces dispositions évitent une accumulation d'eau dans la portion dc la chambre de vaporisation située en dessous de la zone d'injection d'eau dans la chambre de vaporisation, et favorise donc la vaporisation de l'eau introduite dans la chambre de vaporisation. Ces dispositions améliorent ainsi encore l'efficacité de repassage du fer à repasser selon la présente invention. [0033] Selon un mode de réalisation de l'invention, la paroi de fond présente un sommet situé sensiblement en dessous de l'ouverture d'injection d'eau. [0034] Selon un mode de réalisation de l'invention, la deuxième résistance électrique chauffante s'étend à la périphérie de la surface bombée. [0035] Selon un mode de réalisation de l'invention, la deuxième résistance électrique chauffante comporte une première branche s'étendant à proximité d'un premier bord latéral de la surface bombée, et une deuxième branche s'étendant à proximité d'un deuxième bord latéral de la surface bombée qui est opposé au premier bord latéral. [0036] Selon un mode de réalisation de l'invention, l'ouverture d'injection d'eau débouche au-dessus d'une zone située entre les branches de la deuxième résistance électrique. [0037] Selon un mode de réalisation de l'invention, la deuxième résistance électrique chauffante comporte une portion de liaison reliant les première et deuxième branches respectives et située au niveau d'une partie arrière de la chambre de vaporisation. [0038] Selon un mode de réalisation de l'invention, la surface bombée est configurée pour canaliser l'eau s'écoulant sur la surface bombée en direction des deux chemins d'écoulement latéraux. Ces dispositions permettent de diriger une éventuelle flaque d'eau formée dans la chambre de vaporisation vers les deux chemins d'écoulement latéraux qui sont situés à proximité des première et deuxième résistances électriques chauffantes, ce qui permet de favoriser la vaporisation de cette flaque d'eau, et donc d'éviter encore la projection de gouttelettes d'eau sur le linge à repasser. [0039] Selon un mode de réalisation de l'invention, la zone intermédiaire est configurée pour canaliser l'eau s'écoulant sur la zone intermédiaire en direction d'un plot de régulation sur lequel est monté un thermostat. Ces dispositions permettent de détecter l'apparition d'une flaque d'eau au niveau du plot de régulation, et donc de réguler l'alimentation électrique des première et/ou deuxième résistances électriques chauffantes au moyen du thermostat afin de vaporiser cette flaque d'eau, et donc d'éviter de mouiller un éventuel récipient de récupération de tartre situé à l'arrière de la chambre de vaporisation. [0040] Selon un mode de réalisation de l'invention, le plot de régulation est situé entre les deux chemins d'écoulement latéraux. Avantageusement, le plot de régulation est situé au niveau d'une portion arrière de la chambre de vaporisation. De façon avantageuse, la deuxième résistance électrique chauffante comprend une portion courbe disposée à la verticale du plot de régulation lorsque la surface de repassage repose sur un support plan horizontal. [0041] Selon un mode de réalisation de l'invention, le fer à repasser comporte un plot de ré- gulation additionnel sur lequel est monté un thermostat additionnel, le plot de régulation additionnel étant situé au niveau d'une partie avant de la chambre de vaporisation. Ces dispositions permettent de réguler au mieux la température dans la chambre de vaporisation, et notamment d'éviter une surchauffe à l'avant de la chambre de vaporisation au cas où la flaque d'eau présente dans la chambre de vaporisation se soit déplacée vers l'arrière de la chambre de vaporisation. [0042] Selon un mode de réalisation de l'invention, la première résistance électrique chauffante comporte une portion courbe disposée à la verticale du plot de régulation additionnel lorsque la surface de repassage repose sur un support plan horizontal. [0043] Selon un mode de réalisation de l'invention, le fer à repasser comporte un dispositif de régulation configuré pour réguler l'alimentation électrique de la première résistance électrique chauffante au moyen du thermostat additionnel monté sur le plot de régulation additionnel situé à l'avant de la chambre de vaporisation, et pour réguler l'alimentation électrique de la deuxième résistance électrique chauffante au moyen du thermostat monté sur le plot de régulation situé à l'arrière de la chambre de vaporisation. [0044] Selon un mode de réalisation de l'invention, la première résistance électrique chauffante est située au-dessus de la deuxième résistance électrique chauffante lorsque la surface de repassage repose sur un support plan horizontal. En d'autres termes, la première résistance électrique chauffante est située à une altitude plus haute que la deuxième résistance électrique chauffante lorsque la surface de repassage repose sur un support plan horizontal. [0045] Selon un mode de réalisation de l'invention, le corps chauffant comporte une fonderie délimitant au moins en partie la chambre de vaporisation. Avantageusement, 6 les première et deuxième résistances électriques chauffantes sont intégrées dans la fonderie. [0046] Selon un mode de réalisation de l'invention, le corps chauffant comporte une plaque de fermeture qui repose sur la fonderie, la chambre de vaporisation étant délimitée par la fonderie et la plaque de fermeture. [0047] Selon un mode de réalisation de l'invention, le circuit de distribution de vapeur comporte une cavité de récupération de tartre, le fer à repasser comprenant un récipient de récupération de tartre qui est disposé dans la cavité de récupération de tartre. [0048] Selon un mode de réalisation de l'invention, le récipient de récupération de tartre est configure pour collecter des particules de tartre provenant de la chambre de vaporisation. [0049] Selon un mode de réalisation de l'invention, le récipient de récupération de tartre est amovible. [0050] Selon un mode de réalisation de l'invention, la cavité de récupération de tartre est disposée à l'arrière de la chambre de vaporisation. [0051] Selon un mode de réalisation de l'invention, la cavité de récupération de tartre comprend un orifice d'évacuation fermé par un bouchon amovible qui est accessible depuis l'extérieur du fer à repasser. [0052] Selon un mode de réalisation de l'invention, l'orifice d'évacuation est disposé à l'arrière du fer à repasser. [0053] Selon un mode de réalisation de l'invention, le récipient de récupération de tartre est solidaire du bouchon amovible. [0054] Selon un mode de réalisation de l'invention, la cavité de récupération de tartre est reliée à la chambre de vaporisation par une ouverture de liaison débouchant dans l'extrémité arrière de la chambre de vaporisation. [0055] Selon un mode de réalisation de l'invention, le récipient de récupération de tartre comprend un élément de filtration comportant des ouvertures de passage configurées pour retenir des particules de tartre entraînées par la vapeur s'écoulant dans le circuit de distribution de vapeur. Avantageusement, chacune des ouvertures de passage présente une dimension comprise entre 0,05 min et 0,5 mm. [0056] Selon un mode de réalisation de l'invention, le circuit de distribution de vapeur comporte au moins un canal d'échappement débouchant dans la cavité de récupération de tartre, l'au moins un canal d'échappement étant relié fluidiquement à l'au moins un orifice de sortie de vapeur. Avantageusement, l'au moins un canal d'échappement est situé en aval de l'élément de filtration. [0057] Selon un mode de réalisation de l'invention, le circuit de distribution de vapeur comporte deux canaux d'échappement situés respectivement de chaque côté de l'ouverture de liaison. 7 100581 Selon un mode de réalisation de l'invention, le circuit de distribution de vapeur comporte une chambre de distribution ménagée sous le corps chauffant, la chambre de distribution de vapeur reliant lluidiquement l'au moins un canal d'échappement à l'au moins un orifice de sortie de vapeur. [0059] Selon un mode de réalisation de l'invention, la première résistance électrique chauffante s'étend dans un premier plan d'extension et la deuxième résistance électrique chauffante s'étend dans un deuxième plan d'extension qui est sensiblement parallèle au première plan d'extension. [0060] Selon un mode de réalisation de l'invention, le thermostat et le thermostat ad- ditionnel sont réalisés respectivement par un capteur de température et un capteur de température additionnel reliés à un microcontrôleur. [0061] La présente invention concerne en outre un appareil de repassage comprenant un fer à repasser selon l'invention, un réservoir d'eau et un circuit d'alimentation relié fluidignement au réservoir d'eau et configure pour alimenter en eau la chambre de vaporisation. [0062] Selon un mode de réalisation de l'invention, le circuit d'alimentation comporte un conduit d'acheminement d'eau reliant fluidiquement le réservoir d'eau à la chambre de vaporisation. [0063] Selon un mode de réalisation de l'invention, l'appareil de repassage comporte une base sur laquelle le fer à repasser est disposé lors des phases inactives de repassage. [0064] Selon un mode de réalisation de l'invention, la base renferme le réservoir d'eau. [0065] Selon un mode de réalisation de l'invention, le circuit d'alimentation comporte une pompe d'alimentation configurée pour alimenter la chambre de vaporisation en eau provenant du réservoir d'eau. Avantageusement, la pompe d'alimentation est intégrée dans la base. Brève description des figures [0066] [fig.1] La figure 1 est une vue en perspective d'un appareil de repassage selon l' invention. [0067] [fig.2] La figure 2 est une vue partielle en perspective d'un fer à repasser de l'appareil dc repassage dc la figure I. [0068] [fig.3] La figure 3 est une vue partielle en perspective du fer à repasser de la figure 2. [0069] [fig.4] La figure 4 est une vue partielle de dessus du fer à repasser de la figure 2. [0070] [fig.5] La figure 5 est une vue en coupe selon la ligne V-V de la figure 4. [0071] [fig.6] La figure 6 est une vue en coupe selon la ligne VI-VI de la figure 4. [0072] [fig.7] La figure 7 est une vue en coupe selon la ligne VII-VII de la figure 4. [0073] [fig.8] La figure 8 est une vue en coupe selon la ligne VIII-VIII de la figure 4. [0074] [fig.9] La figure 9 est une vue en coupe selon la ligne IX-IX de la figure 4. 8 100751 Ifig.101 La figure 10 est une vue similaire à la figure 3 d'un fer à repasser selon un second mode de réalisation. [0076] [fig.1 1] La figure 11 est une vue partielle de dessus du fer à repasser de la figure 10. Description détaillée [0077] Les figures 1 à 9 représentent un appareil de repassage 2 qui comporte un fer à repasser 3 et une base 4 sur laquelle le fer à repasser 3 peut être disposé lors des phases inactives de repassage. [0078] L'appareil de repassage 2 comporte en outre un réservoir d'eau 5 intégré dans la base 4 et pouvant par exemple être amovible, et un circuit d'alimentation relié fluidiquement au réservoir d'eau 5. Le circuit d'alimentation comporte notamment un conduit d'acheminement d'eau 6 reliant fluidiquement le réservoir d'eau 5 au fer à repasser 3, et une pompe d'alimentation (non visible sur les figures) intégrée dans la base 4 et configurée pour alimenter le fer à repasser 3 en eau provenant du réservoir d'eau 5. [0079] Le fer à repasser 3 comporte un boîtier 7 comportant une partie de préhension 8 à son extrémité supérieure, et une semelle de repassage 9 munie d'une surface de repassage 11 sensiblement plane et d'une pluralité d'orifices de sortie de vapeur 12 débouchant dans la surface de repassage 11. [0080] Comme montré plus particulièrement sur la figure 2, le fer à repasser 3 comporte également un corps chauffant 13 intégré dans la partie basse du boitier 7, et lié thermiquement et mécaniquement à la semelle de repassage 9. Le corps chauffant 13 comporte une fonderie 14, par exemple en aluminium, et une plaque de fermeture 15 qui repose sur la fonderie 14. [0081] Le corps chauffant 13 comporte également une chambre de vaporisation 16, de type à vaporisation instantanée, délimitée par la fonderie 14 et la plaque de fermeture 15. La fonderie 14 comporte plus particulièrement une paroi périphérique 17 délimitant latéralement la chambre de vaporisation 16. Avantageusement, la chambre de vaporisation 16 est au moins en partie, et par exemple sensiblement entièrement, revêtue intérieurement par un revêtement anti-caléfaction. [0082] Le corps chauffant 13 comporte en outre un première résistance électrique chauffante 18 et une deuxième résistance électrique chauffante 19 qui sont intégrées dans la fonderie 14. De manière préférentielle la première résistance électrique chauffante 18 et la deuxième résistance électrique chauffante 19 présentent une forme générale en U, V ou SI [0083] Les première et deuxième résistances électriques chauffantes 18, 19 sont plus parti- culièrement visibles en pointillé sur la figure 4. [0084] Selon le mode représenté sur les figures, la première résistance électrique chauffante 9 18 comporte une première branche 18.1 s'étendant à proximité d'une première portion latérale de la chambre de vaporisation 16, et une deuxième branche 18.2 s'étendant à proximité d'une deuxième portion latérale de la chambre de vaporisation 16, et la deuxième résistance électrique chauffante 19 s'étend à l'intérieur des première et deuxième branches 18.1, 18.2 de la première résistance électrique chauffante 18. De façon avantageuse, la première résistance électrique chauffante 18 et la deuxième résistance électrique chauffante 19 sont disposées tête-bêche. A titre d'exemple et afin de permettre leur alimentation électrique, la première résistance électrique chauffante 18 comporte deux extrémités de raccordement 18A, 18B faisant saillie en dehors de la fonderie 14 du côté de l'extrémité arrière du corps chauffant 13 et la deuxième résistance électrique chauffante 19 comporte deux extrémités de raccordement 19A,19B faisant saillie en dehors de la fonderie du côté de l'extrémité avant du corps chauffant 13. [0085] De manière préférentielle, les première et deuxième résistances électriques chauffantes 18, 19 présentent une puissance cumulée supérieure à 2400W. A titre d'exemple, la première résistance électrique chauffante 18 pourra présenter une puissance électrique de l'ordre de 2000W et la deuxième résistance électrique chauffante 19 présenter pourra une puissance électrique de l'ordre de 1000W, une telle répartition de puissance permettant d'équilibrer la densité de puissance au vu de la longueur respective des deux résistances électriques chauffantes pour atteindre un total de 3000W. [0086] De façon avantageuse, la première résistance électrique chauffante 18 s'étend dans un premier plan d'extension et la deuxième résistance électrique chauffante 19 s'étend dans un deuxième plan d'extension qui est sensiblement parallèle au premier plan d'extension et préférentiellement sensiblement parallèle au plan de la surface de repassage 11. [0087] Selon le mode de réalisation représenté sur les figures, la première résistance électrique chauffante 18 est située à une altitude plus élevée que la deuxième résistance électrique chauffante 19 lorsque la surface de repassage 11 repose sur un support plan horizontal. [0088] La chambre de vaporisation 16 comporte une paroi de fond 21, sur laquelle de l'eau est destinée à s'écouler pour produire de la vapeur, qui présente avantageusement une multitude de plots pyramidaux qui font saillie sur la paroi de fond 21 afin d'augmenter la surface d'échange thermique. La paroi de fond 21 comporte avantageusement une surface bombée 22 située dans une zone longitudinale centrale de la paroi de fond 21. La surface bombée 22 est plus particulièrement bombée dans une direction transversale Dl qui s'étend transversalement à la direction longitudinale D2 du fer à repasser 3. [0089] Selon le mode de réalisation représenté sur les figures, la surface bombée 22 est disposée symétriquement par rapport à un plan longitudinal médian du fer à repasser 3, et comporte une première portion de paroi 22.1 inclinée en direction d'un premier bord latéral de la paroi de fond 21, une deuxième portion de paroi 22.2 inclinée en direction d'un deuxième bord latéral de la paroi de fond 21, et une crête longitudinale 22.3 reliant les première et deuxième portions de paroi 22.1, 22.2. La crête longitudinale 22.3 peut par exemple s'étendre dans le plan longitudinal médian du fer à repasser 3, et peut par exemple présenter une section transversale arrondie. [0090] Avantageusement, la première résistance électrique chauffante 18 s'étend dans une première zone de la paroi de fond 21 située à la périphérie de la paroi de fond 21, tandis que la deuxième résistance électrique chauffante 19 s'étend dans une deuxième zone de la paroi de fond 21 située à la périphérie de la surface bombée 22. En d'autres termes, la première résistance électrique chauffante 18 s'étend à la périphérie de la paroi de fond 21, et la deuxième résistance électrique chauffante 19 s'étend à la périphérie de la surface bombée 22. [0091] La paroi de fond 21 comprend de plus une zone intermédiaire 23 s'étendant entre les première et deuxième zones de la paroi de fond 21, et donc entre la surface bombée 22 et la périphérie de la paroi de fond 21. La zone intermédiaire 23 comprend plus particulièrement deux chemins d'écoulement latéraux 23.1, 23.2 s'étendant entre les première et deuxième résistances électriques chauffantes, chacun des chemins d'écoulement latéraux étant incliné vers l'arrière de la chambre de vaporisation 16 et la surface bombée 22 étant configurée pour canaliser l'eau s'écoulant sur la surface bombée 22 en direction des deux chemins d'écoulement latéraux 23.1, 23.2. [0092] Le corps chauffant 13 comporte en outre un plot de régulation 24 situé entre les deux chemins d'écoulement latéraux 23.1, 23.2, au niveau de l'extrémité arrière de la chambre de vaporisation 16, chacun des chemins d'écoulement latéraux 23.1, 23.2 étant incliné vers l'arrière de la chambre de vaporisation 16 c'est-à-dire vers le plot de régulation 24. Les deux chemins d'écoulement latéraux 23.1, 23.2 sont avantageusement situés en contrebas du contour de la surface bombée 22 au niveau de la partie arrière de la chambre de vaporisation 16, de sorte qu'il résulte une marche entre le fond des deux chemins d'écoulement latéraux 23.1, 23.2 et le contour de la surface bombée 22. L'extrémité arrière de la chambre de vaporisation 16 comporte deux parois de barrage 20 qui font transversalement saillie sur la paroi de fond 21 de la chambre de vaporisation 16, entre le plot de régulation 24 et la paroi périphérique 17, les deux parois de barrage 20 retenant l'eau s'écoulant le long des chemins d'écoulement latéraux 23.1, 23.2 formant ainsi une cavité de rétention 27 en amont de la paroi de barrage 20. [0093] Comme montré plus particulièrement sur les figures 2 et 3, le plot de régulation 24 est formé par la fonderie 14 et est situé au niveau d'une portion arrière de la surface 11 bombée 22, l'extrémité supérieure du plot de régulation s'étendant à travers la plaque de fermeture 15. Selon le mode de réalisation représenté sur les figures, le fer à repasser 3 comporte un thermostat (non représenté) monté sur le plot de régulation 24, et la zone intermédiaire 23 est configurée pour canaliser l'eau s'écoulant sur la zone intermédiaire 23 en direction du plot de régulation 24. [0094] Le corps chauffant 13 comporte également un plot de régulation additionnel 26 situé au niveau d'une partie avant de la chambre de vaporisation 16. Avantageusement, le plot de régulation additionnel 26 est situé verticalement au-dessus de l'extrémité recourbée de la première résistance électrique chauffante 18 et le plot de régulation 24 est situé au-dessus de l'extrémité recourbée de la deuxième résistance électrique chauffante 19. Comme montré plus particulièrement sur les figures 2 et 3, le plot de régulation additionnel 26 est formé par la fonderie 14 et s'étend à travers la plaque de fermeture 15. Selon le mode de réalisation représenté sur les figures, le fer à repasser 3 comporte un thermostat additionnel (non représenté) monté sur le plot de régulation additionnel 26. [0095] Le fer à repasser 3 comporte avantageusement un dispositif de régulation (non re- présenté sur les figures) configure pour réguler l'alimentation électrique de la première résistance électrique chauffante 18 au moyen du thermostat additionnel monté sur le plot de régulation additionnel 26 situé à l'avant de la chambre de vaporisation 16 et pour réguler l'alimentation électrique de la deuxième résistance électrique chauffante 19 au moyen du thermostat monté sur le plot de régulation 24 situé à l'arrière de la chambre de vaporisation 16. [0096] Le corps chauffant 13 comporte en outre une ouverture d'injection d'eau 28 reliée fluidiquement à la pompe d'alimentation et débouchant dans une partie avant de la chambre de vaporisation 16, et par exemple à proximité de l'extrémité avant de la paroi de fond 21. La pompe d'alimentation est ainsi configurée pour alimenter la chambre de vaporisation 16 en eau provenant du réservoir d'eau 5 avec une pression supérieure à 500 Pa, l'ensemble étant adapté pour permettre la production d'un débit de vapeur supérieur à 60 gr/min selon le cycle normalisé de 5 sec de vaporisation suivi de 15 sec d'arrêt [0097] De façon avantageuse, l'ouverture d'injection d'eau 28 est ménagée sur la plaque de fermeture 15, et débouche dans la chambre de vaporisation 16 au-dessus d'une zone d'injection d'eau située à proximité de l'extrémité avant de la paroi de fond 21, et entre les branches de la deuxième résistance électrique chauffante 19. De façon avantageuse, la paroi de fond 21 présente un sommet situé sensiblement en dessous de l'ouverture d'injection d'eau 28. [0098] Le fer à repasser 3 comprend en outre un circuit de distribution de vapeur 29 défini par la fonderie 14 et la plaque de fermeture 15, et reliant fluidiquement la chambre de 12 vaporisation 16 aux orifices de sortie de vapeur 12, et ce de telle sorte que la vapeur générée dans la chambre de vaporisation 16 puisse s'écouler jusqu'aux orifices de sortie de vapeur 12. Avantageusement, le circuit de distribution de vapeur 29 est au moins en partie revêtu intérieurement par un revêtement anti-caléfaction. [0099] Le circuit de distribution de vapeur 29 comporte notamment une cavité de récu- pération de tartre 31 comprenant un orifice d'évacuation 32 fermé par un bouchon amovible 33 qui est accessible depuis l'extérieur du fer à repasser 3. De façon avantageuse, l'orifice d'évacuation 32 débouche dans une surface arrière du boîtier 7 du fer à repasser 3. [0100] La cavité de récupération de tartre 31 est disposée à l'arrière de la chambre de vapo- risation 16, et est reliée à la chambre de vaporisation 16 par une ouverture de liaison 34 débouchant dans l'extrémité arrière de la chambre de vaporisation 16. La cavité de récupération de tartre 31 est avantageusement située dans une partie du boîtier 7 se trouvant en porte-à-faux derrière la semelle de repassage 9 lorsque le fer à repasser 3 repose sur la semelle de repassage 9. [0101] Le fer à repasser 3 comprend en outre un récipient de récupération de tartre 35 qui est monté, par exemple de manière amovible, dans la cavité de récupération de tartre 31. Le récipient de récupération de tartre 35 est configure pour collecter des particules de tartre provenant de la chambre de vaporisation 16. Ces particules de tartre peuvent tomber par gravité depuis la chambre de vaporisation 16 lorsque la semelle de repassage 9 est inclinée par rapport à l'horizontale, et par exemple lorsque le fer à repasser 3 repose sur la base 4, et peuvent également être entraînées par la vapeur provenant de la chambre de vaporisation 16. De façon avantageuse, le récipient de récupération de tartre 35 est solidaire du bouchon amovible 33. [0102] Le récipient de récupération de tartre 35 peut éventuellement comprendre un élément de filtration comportant des ouvertures de passage configurées pour retenir des particules de tartre entraînées par la vapeur s'écoulant dans le circuit de distribution de vapeur. Avantageusement, chacune des ouvertures de passage présente une dimension comprise entre 0,05 mm et 0,5 mm. [0103] De manière préférentielle, le circuit de distribution de vapeur 29 comporte deux canaux d'échappement 25, visibles sur la figure 8, disposés symétriquement de part et d'autre de l'ouverture de liaison 34, ces deux canaux d'échappement 25 reliant la cavité de récupération de tartre 31 avec une chambre de distribution de vapeur ménagée sous le corps chauffant 13 afin d'alimenter les orifices de sortie de vapeur 11 de la semelle de repassage 9. [0104] Lorsque de l'eau est injectée dans la chambre de vaporisation 16 du fer à repasser 3 via l'ouverture d'injection d'eau 28, une partie de l'eau injectée est vaporisée au contact de la surface bombée 22 qui est située en dessous de l'ouverture d'injection 13 d'eau 28, tandis que l'eau non vaporisée est guidée par la surface bombée 22 en direction des deux chemins d'écoulement latéraux 23.1, 23.2, le plot de régulation 24 formant un obstacle empêchant l'eau de s'écouler directement en direction de l'ouverture de liaison 34 ménagée à l'arrière de la chambre de vaporisation 16. L'eau non vaporisée se propage ensuite, sous la forme d'une flaque d'eau, le long des deux chemins d'écoulement latéraux 23.1, 23.2 et vers l'arrière de la chambre de vaporisation 16, sous l'effet conjugué notamment de la gravité (les chemins d'écoulement latéraux sont inclinés vers l'arrière) et des forces de tramée liées au flux de vapeur qui s'échappe vers l'ouverture de liaison 34. [0105] Lorsque la flaque d'eau atteint les parois de barrage 20 (via l'un ou l'autre des deux chemins d'écoulement latéraux 23.1, 23.2), elle est bloquée dans la cavité de rétention 27 formée en amont de la paroi de barrage 20, au pied du plot de régulation 24, de sorte que la température du plot de régulation 24 diminue, ce qui permet au thermostat d'informer le dispositif de régulation de façon à enclencher l'alimentation électrique de la deuxième résistance électrique chauffante 19. La puissance thermique absorbée par la flaque d'eau, qui se trouve alors à proximité directe des première et deuxième résistances électriques chauffantes 18, 19, permet de résorber la taille de la flaque d'eau, la présence de la paroi de barrage 20 permettent d'empêcher l'eau d'être entrain& jusqu'à l'ouverture de liaison 34 et donc jusqu'au récipient de récupération de tartre 35. [0106] En outre, les particules de tartre formées dans la chambre de vaporisation 16 sont en- traînées, à la fois par le déplacement de la flaque d'eau vers l'arrière de la chambre de vaporisation 16 et par le flux de vapeur sous l'effet des forces de tramée, en direction de l'ouverture de liaison 34 et du récipient de récupération de tartre 35. Les particules de tartre sont ainsi collectées par le récipient de récupération de tartre 35. [0107] Les figures 9 et 10 illustrent un fer à repasser selon un second mode de réalisation. Sur ces figures, les éléments correspondant aux organes déjà décrits pour le premier mode de réalisation illustré sur les figures 1 à 8 portent les mêmes références. [0108] Ce second mode de réalisation diffère du premier mode de réalisation essentiellement par l'orientation de la deuxième résistance électrique chauffante 19 qui se trouve ici disposée dans le même sens que la première résistance électrique chauffante 18. Ainsi, les deux extrémités de raccordement 19A, 19B de la deuxième résistance électrique chauffante 19 font saillie en dehors de la fonderie du côté de l'arrière du corps chauffant 13 et la deuxième résistance électrique chauffante 19 s'étend vers l'avant, depuis les deux extrémités de raccordement 19A, 19B, selon une forme en Q. [0109] Ce second mode de réalisation se différencie également du premier mode de réa- lisation par l'absence de plots pyramidaux et de paroi de barrage sur la paroi de fond 21. Une telle construction présente l'avantage d'être plus simple à réaliser. Toutefois, 14 de tels éléments pourraient également être présents sur la paroi de fond. [0110] Bien entendu, la présente invention n'est nullement limitée au mode de réalisation décrit et illustré qui n'a été donné qu'à titre d'exemple. Des modifications restent possibles, notamment du point de vue de la constitution des divers éléments ou par substitution d'équivalents techniques, sans sortir pour autant du domaine de protection de l'invention. [0111] Ainsi, dans une variante de réalisation non représentée, l'eau pourra être injectée dans la chambre de vaporisation par un boisseau goutte-à-goutte alimenté par gravité en eau en provenance d'un réservoir plutôt que par une pompe. [Revendication 1 [Revendication 2] [Revendication 3] [Revendication 4] [Revendication 5] REVENDICATIONSFer à repasser (3) comprenant une semelle dc repassage (9) comportant au moins un orifice de sortie de vapeur (12) ct un corps chauffant (13) comportant une chambre de vaporisation ( 1 6) reliée par un circuit de distribution de vapeur à 1' au moins un orifice de sortie de vapeur (12), la chambre dc vaporisation (16) présentant une paroi de fond (21) comprenant une zone d'injection d'eau sur laquelle de l'eau est destinée à être injectée pour produire de la vapeur, le corps chauffant (13) comprenant une première résistance électrique chauffante (18) s'étendant dans une première zone de la paroi de fond (21) et une deuxième résistance électrique chauffante (19) s'étendant dans une deuxième zone de la paroi de fond (21), la paroi de fond (21) comprenant une zone intermédiaire (23) s'étendant entre les première et deuxième zones, caractérisé en ce que la zone d'injection d'eau de la paroi de fond (21) comporte une surface (22) configurée pour canaliser l'eau s'écoulant sur la zone d'injection d'eau en direction de la zone intermédiaire (23) lorsque le fer à repasser repose à plat sur la semelle de repassage (9). Fer à repasser (3) selon la revendication 1, dans lequel la paroi de fond (21) comporte un obstacle (24) disposé sur la trajectoire d'écoulement du flux d'eau injecté sur la paroi de fond (21) depuis la zone d'injection d'eau, ledit obstacle (20) déviant le flux vers deux chemins d'écoulement latéraux (23.1, 23.2) disposés de part et d'autre de l'obstacle. Fer à repasser (3) selon la revendication précédente, dans lequel ledit obstacle est un plot de régulation (24) sur lequel est monté un thermostat. Fer à repasser (3) selon l'une quelconque des revendications 2 à 3, dans lequel la chambre de vaporisation (16) est délimitée latéralement par une paroi périphérique (17) comportant une ouverture de liaison (34) par laquelle la vapeur s'échappe de la chambre de vaporisation (16) pour s'acheminer dans le circuit de distribution de vapeur (29) et dans lequel ledit obstacle (24) est situé entre la zone d'injection et l'ouverture de liaison (34). Fer à repasser (3) selon l'une quelconque des revendications 1 à 4, dans lequel la zone intermédiaire (23) comprend au moins une cavité de rétention (27) d'un volume d'eau. 16 [Revendication 6] Fer à repasser (3) selon la revendication précédente, dans lequel la paroi de fond (21) comporte une paroi de barrage (20) qui délimite une extrémité aval de la cavité de rétention (27). [Revendication 7] Fer à repasser (3) selon l'une quelconque des revendication 5 à 6, dans lequel la paroi de fond (21) comporte un plot de régulation (24) sur lequel est monté un thermostat et dans lequel la cavité de rétention (27) est disposée au pied du plot de régulation (24). [Revendication 8] Fer à repasser (3) selon la revendication précédente, dans lequel la paroi de fond (21) comporte deux cavités de rétention (27), les cavités de rétention (27) étant disposé des deux côtés du plot de régulation (24). [Revendication 9] Fer à repasser (3) selon l'une quelconque des revendications 1 à 8, dans lequel la première résistance électrique chauffante (18) s'étend à la périphérie de la paroi de fond (21). [Revendication 10] Fer à repasser (3) selon l'une quelconque des revendications 1 à 9, dans lequel la première résistance électrique chauffante (18) comporte une première branche (18.1) s'étendant à proximité d'une première portion latérale de la chambre de vaporisation (16), et une deuxième branche (18.2) s'étendant à proximité d'une deuxième portion latérale de la chambre de vaporisation (16) qui est opposée à la première portion latérale. [Revendication 11] Fer à repasser (3) selon la revendication 10, dans lequel la deuxième ré- sistance électrique chauffante (19) s'étend à l'intérieur des première et deuxième branches (18.1, 18.2) de la première résistance électrique chauffante (18). [Revendication 12] Fer à repasser (3) selon l'une quelconque des revendications 1 à 11, dans lequel la paroi de fond (21) comporte une surface bombée (22) configurée pour canaliser l'eau s'écoulant sur la surface bombée (22) en direction de la zone intermédiaire (23). [Revendication 13] Fer à repasser (3) selon la revendication 12, dans lequel la deuxième ré- sistance électrique chauffante (19) s'étend à la périphérie de la surface bombée (22). [Revendication 14] Fer à repasser (3) selon l'une quelconque des revendications 1 à 13, dans lequel le circuit de distribution de vapeur (29) comporte une cavité de récupération de tartre (31), le fer à repasser (3) comprenant un récipient de récupération de tartre (35) qui est disposé dans la cavité de récupération de tartre (31). [Revendication 15] Appareil de repassage (2) comprenant un fer à repasser (3) selon l'une quelconque des revendications précédentes, un réservoir d'eau (5) et un 17 circuit d'alimentation relie fluidiquement au réservoir d'eau (5) et configure pour alimenter en eau la chambre de vaporisation (16).