Brevet FR3087928A1 — publié le 20200501

DOMAINE DE L'INVENTION Cette invention concerne le domaine de l'imagerie de circuits intégrés. Cette invention concerne en particulier un procédé de construction d'image panoramique à partir d'une mosaïque d'images de microscopie électronique à 5 balayage SEM (acronyme anglais de « Scanning Electron Microscopy). ARRIERE-PLAN TECHNOLOGIQUE Un circuit intégré est composé de plusieurs niveaux d'interconnexions et de plusieurs niveaux constitutifs des portes logiques, dits niveaux logiques. Ces différents niveaux se présentent généralement sous forme de w couches superposées les unes sur les autres. La figure 1 illustre en coupe transverse un circuit intégré 1 comprenant par exemple des niveaux d'interconnexions formés de quatre couches de pistes métalliques 11 appelées Métal 1, Métal 2, Métal 3, Métal 4, séparées les unes des autres par des couches diélectriques ILD 1, ILD 2, ILD 3 comprenant des 15 interconnexions traversantes appelées vias 12. Le niveau logique de ce circuit intégré 1 comprend des transistors 13 formés sur un substrat de silicium. Les niveaux d'interconnexions sont généralement situés en partie supérieure du circuit intégré. Les niveaux logiques (comprenant les transistors) sont généralement 20 situés directement sur un substrat, dans une partie sous-jacente à la partie comprenant les niveaux d'interconnexions. Ces niveaux logiques sont ainsi généralement « enterrés » au coeur du circuit intégré. Dans le cadre d'analyses de défaillance ou d'analyses de construction d'un circuit intégré par exemple, il peut être avantageux de mettre en oeuvre 25 une rétro-conception du circuit intégré. Cette rétro-conception permet par exemple de : - évaluer le niveau de sécurité d'une technologie de circuit intégré, identifier des contrefaçons, - détecter des anomalies de design introduites par un tiers (portes 30 dérobées par exemple), - vérifier la provenance du circuit intégré, - étudier des dispositifs pirates introduits par un tiers, - reconstruire des circuits obsolètes. 2 Afin d'accéder aux différents niveaux d'interconnexions, et en particulier aux niveaux logiques « enterrés », cette rétro-conception peut comprendre une succession d'étapes de déconstruction (appelées « deprocessing » en anglais) et de déstratification (appelées « delayering» en anglais) permettant d'exposer successivement les différentes couches du circuit intégré. Après chaque étape, ces différentes couches peuvent être imagées afin d'identifier les structures ou les motifs présents dans chacune de ces couches. L'imagerie des structures et motifs contenus dans un circuit intégré est généralement effectuée au moyen d'un microscope électronique à balayage w SEM (acronyme anglais de « Scanning Electron Microscopy) et conduit à l'acquisition de milliers voire de dizaines de milliers d'images par couche du circuit. Afin d'obtenir une vue globale des structures d'une couche du circuit, ces images sont de préférence acquises puis assemblées sous forme de mosaïque. 15 Idéalement, un assemblage bord à bord de deux images adjacentes permet, de proche en proche, de construire une image panoramique de la couche à imager. Cet assemblage peut être réalisé notamment à partir d'images présentant un recouvrement partiel entre elles. Une image panoramique est ainsi construite à partir d'une mosaïque 20 d'images pour chaque couche ou niveau d'interconnexions ou de logique. Une telle image panoramique permet d'obtenir une visualisation bidimensionnelle des structures ou des motifs présents dans la couche correspondante. En assemblant les images panoramiques entre elles, il est également 25 possible d'accéder à une visualisation tridimensionnelle complète du circuit intégré. Afin de garantir des visualisations bidimensionnelles et tridimensionnelles fidèles, il est essentiel d'aligner parfaitement les différentes images relativement les unes avec les autres, au sein d'un même couche (intra-niveau) et entre 30 deux couches successives (inter-niveau). Un défaut d'alignement peut en effet générer des motifs non viables ou des erreurs structurelles dans le circuit intégré ainsi visualisé. 3 La principale difficulté pour réaliser cet alignement est due à une déformation des images par distorsion. Cette distorsion peut résulter de l'acquisition des images. Il est relativement complexe d'anticiper ou de corriger ces distorsions en appliquant 5 une correction "type" aux images, que ce soit lors de l'acquisition ou lors d'un traitement d'image post-acquisition. En effet, cette distorsion n'est généralement pas constante ou reproductible d'une image à l'autre. Elle n'est généralement pas non plus symétrique au sein d'une image. Cette distorsion est souvent imprévisible. io Une solution consiste à utiliser ou à introduire des points de référence lors de l'acquisition des images au sein du microscope électronique à balayage. Le document WO 2016/149817 Al divulgue un procédé de correction de distorsion pour l'imagerie à balayage basé sur une émission-détection d'un faisceau, et sur une mesure d'intensité de ce faisceau à une position réelle d'un 15 substrat. Cette référence est ensuite utilisée pour corriger la position imagée du substrat vis-à-vis de sa position réelle, et permet de générer des images corrigée en distorsion. Ce procédé permet notamment de corriger un ensemble d'images SEM en 20 mosaïque, chaque image corrigée étant ensuite réalignée selon des lignes d'alignement propres à la mosaïque. Un inconvénient de ce procédé est qu'il nécessite des mesures de référence à réaliser lors de l'acquisition des images. Les méthodes classiques de construction d'une image panoramique à 25 partir d'une mosaïque d'images se basent sur une corrélation des zones de recouvrement des images entre elles, par reconnaissance de formes par exemple. Un inconvénient de ces méthodes est qu'elles nécessitent des ressources de calcul considérables. 30 Elles ne sont donc pas adaptées à la construction d'une image panoramique à partir d'un nombre élevé d'images déformées. Un autre inconvénient est qu'elles ne permettent pas d'aligner différentes images panoramiques entre elles. 4 L'invention vise à pallier certains au moins des inconvénients mentionnés ci-dessus. En particulier, un objet de l'invention est de proposer un procédé de traitement d'une pluralité d'images élémentaires acquises sur une zone d'un 5 circuit intégré, permettant de corriger ces images en distorsion. Un autre objet de l'invention est de proposer un procédé de construction d'une image panoramique d'une zone d'un circuit intégré à partir d'images élémentaires acquises sur ladite zone, permettant une visualisation bidimensionnelle et/ou tridimensionnelle. io D'autres buts, caractéristiques et avantages de la présente invention apparaîtront à l'examen de la description suivante et des dessins d'accompagnement. RESUME DE L'INVENTION Un premier aspect de l'invention concerne un procédé de traitement d'une 15 pluralité d'images élémentaires acquises sur au moins une zone d'au moins un niveau d'un circuit intégré à imager, dite zone à imager, ledit procédé étant au moins en partie effectué par au moins un processeur et comprenant au moins la série d'étapes suivantes : - Fournir ladite pluralité d'images élémentaires de la zone à imager, la 20 taille de la zone à imager étant supérieure à la taille de chaque image élémentaire et chaque image élémentaire présentant un même grossissement et au moins un recouvrement partiel avec une image élémentaire adjacente de sorte que la pluralité d'images élémentaires forme une mosaïque couvrant toute la zone à imager, 25 - Déterminer des motifs dans chacune des images élémentaires, par exemple par seuillage d'intensité, lesdits motifs étant par construction alignés sur une grille de référence propre au circuit intégré, - Déterminer dans chacune des images élémentaires au moins une 30 ligne selon une première direction d'alignement des motifs et au moins une ligne selon une deuxième direction d'alignement des motifs, lesdites première et deuxième directions d'alignement étant sensiblement orthogonales entre elles, .7) - Former au moins partiellement une grille élémentaire pour chaque image élémentaire, à partir de l'au moins une ligne selon la première direction d'alignement et l'au moins une ligne selon la deuxième direction d'alignement, ladite grille élémentaire comprenant des 5 positions pour chacun des motifs de l'image élémentaire, - Former une grille élémentaire moyenne à partir des grilles élémentaires au moins partiellement formées, - Déterminer à partir de la grille élémentaire moyenne un premier pas de grille moyen dans la première direction d'alignement et un w deuxième pas de grille moyen dans la deuxième direction d'alignement, - Former une grille élémentaire de référence présentant lesdits premier et deuxième pas de grille moyens, - Transformer la grille élémentaire au moins partiellement formée 15 comprenant les positions de chacun des motifs pour chacune des images élémentaires, de sorte à ce que ladite grille élémentaire soit totalement formée et présente lesdits premier et deuxième pas de grille moyens. Avantageusement, les positions de chacun des motifs pour chacune des 20 images élémentaires sont ainsi corrigées. Cette correction correspond en particulier à une correction en distorsion des images élémentaires. Dans chacune des images élémentaires, les motifs ont des positions dont les coordonnées sont généralement exprimées relativement à ladite image élémentaire, c'est-à-dire dont les coordonnées sont exprimées en pixels. 25 La formation de la grille élémentaire à partir des positions de motifs permet d'exprimer facilement les coordonnées des positions des motifs relativement à la grille élémentaire. Dans ce cas, les coordonnées deviennent simplement des noeuds de la grille élémentaire. Dès lors, cette grille élémentaire relative à chaque image élémentaire 30 facilite avantageusement une manipulation et/ou une transformation de chacune de ces images élémentaires dans le cadre d'opérations de traitement d'images. 6 Le stockage des coordonnées de grille requiert en outre un espace de stockage très significativement inférieur à celui requis pour le stockage des coordonnées de pixels. Selon une possibilité privilégiée, après transformation de chacune des D grilles élémentaires, une image panoramique de la zone à imager est construite par corrélation, au niveau du recouvrement partiel entre deux images élémentaires adjacentes, des positions des motifs situés sur les grilles élémentaires. La corrélation de motifs à partir de coordonnées de grille est simplifiée par w rapport à une corrélation de motifs basée sur des pixels. Cela permet avantageusement de réduire le temps de corrélation entre images élémentaires. La capacité de traitement d'un grand nombre d'images élémentaires est ainsi améliorée. Par exemple, une image panoramique peut être formée par le 15 procédé selon l'invention à partir d'un nombre d'images élémentaires supérieur à 10000. Avantageusement, la grille élémentaire totalement formée correspond après transformation à la grille de référence du circuit intégré. Cela permet notamment de superposer deux images panoramiques issues de deux niveaux 20 consécutifs sans qu'il soit nécessaire que celles-ci présentent un même grossissement. La grille de référence du circuit intégré est en effet identique pour des niveaux consécutifs. Il suffit dès lors de transformer par homothétie la grille élémentaire totalement formée de la première image panoramique de sorte à ce qu'elle coïncide avec la grille élémentaire totalement formée de la 25 deuxième image panoramique. La grille élémentaire totalement formée à partir de la grille élémentaire moyenne peut également permettre de faciliter la détermination de tous les motifs d'une image élémentaire. Cette détermination se fait généralement par comparaison de pixels au sein de l'image élémentaire. 30 La comparaison des pixels correspondant aux noeuds de la grille élémentaire totalement formée avec les pixels situés au centre des cases formées par ladite grille peut suffire à détecter et à déterminer la présence de motifs. Cette comparaison est avantageusement plus rapide et nécessite moins de ressources qu'une comparaison impliquant la majorité des pixels de l'image élémentaire. La formation d'une grille élémentaire totalement formée correspondant à 5 la grille de référence du circuit intégré permet donc de simplifier avantageusement des opérations de traitement d'images élémentaires, telles que la correction de distorsion, la détection et la détermination de tous les motifs d'une image élémentaire, et la corrélation d'images élémentaires et/ou d'images panoramiques entre elles. Un deuxième aspect de l'invention concerne un produit programme d'ordinateur, enregistré sur un support non transitoire, comprenant des instructions, qui, lorsqu'elles sont interprétées et exécutées par au moins un processeur effectuent la série d'étapes du procédé selon le premier aspect de l'invention. BREVE INTRODUCTION DES FIGURES D'autres caractéristiques, buts et avantages de la présente invention apparaitront à la lecture de la description détaillée qui suit, et en regard des dessins annexés donnés à titre d'exemples non limitatifs et sur lesquels : - la figure 1 est un schéma en coupe transverse d'un circuit intégré ; - la figure 2A montre des images SEM acquises sur un circuit intégré comprenant des vias en cuivre et des lignes en cuivre ; - la figure 2B montre une image SEM acquise sur un circuit intégré comprenant des vias en tungstène et sur des lignes en aluminium ; la figure 2C montre un recouvrement partiel entre deux images élémentaires SEM adjacentes ; - les figures 3A et 3B correspondent respectivement à une vue de trois-quarts et une vue explosée selon différentes couches superposées d'un circuit intégré ; - la figure 3C montre une première pluralité d'images élémentaires acquises sur une première zone d'un premier niveau d'un circuit intégré à imager et une deuxième pluralité d'images élémentaires s acquises sur une deuxième zone d'un deuxième niveau du circuit intégré à imager ; - la figure 4 illustre schématiquement un mode de réalisation d'un procédé de traitement d'une pluralité d'images élémentaires selon 5 l'invention ; Les dessins sont donnés à titre d'exemples et ne sont pas limitatifs de l'invention. Ils constituent des représentations schématiques de principe destinées à faciliter la compréhension de l'invention et ne sont pas w nécessairement à l'échelle des applications pratiques. En particulier les dimensions des différentes zones et motifs ne sont pas nécessairement représentatifs de la réalité. Dans la présente demande de brevet, les notations suivantes sont utilisées : 15 XXxR : se réfère à une image élémentaire x brute R (pour « raw » en anglais), c'est-à-dire après acquisition et avant traitement, d'une zone à imager XX. XXxG : se réfère à une grille élémentaire G d'une image élémentaire x d'une zone à imager XX. XXm : se réfère à une grille élémentaire moyenne M d'une zone à imager XX. 20 XXGref : se réfère à une grille élémentaire de référence Gref d'une zone à imager XX. XXxG : se réfère à une image élémentaire x corrigée c d'une zone à imager XX. XXG : se réfère à une image panoramique corrigée c d'une zone à imager XX. DESCRIPTION DETAILLEE Avant d'entamer une revue détaillée de modes de réalisation de l'invention, il est rappelé que l'invention selon son premier aspect comprend notamment les caractéristiques optionnelles ci-après pouvant être utilisées en association ou alternativement : - la transformation de la grille élémentaire partiellement formée se fait en ajoutant des lignes issues de la grille élémentaire moyenne de façon à compléter et former totalement ladite grille élémentaire, la grille élémentaire présentant alors différents pas de grille selon la 25 30 9 première direction d'alignement et différents pas de grille selon la deuxième direction d'alignement, puis en ajustant lesdits différents pas de grille de sorte à ce qu'ils soient égaux respectivement aux premier et deuxième pas de grille moyens. 5 Cela permet de garder les positions initiales de motifs attachées aux noeuds de la grille élémentaire partiellement formée, puis de transformer ces positions initiales en ajustant les positions de chacun des noeuds de la grille élémentaire totalement formée de sorte à les faire coïncider avec la grille élémentaire de référence. Cela permet de former une image élémentaire présentant une grille io élémentaire parfaitement régulière, sur laquelle les positions de motifs sont corrigées en distorsion. - la grille élémentaire moyenne est formée en combinant toutes les lignes des grilles élémentaires partiellement formées par superposition desdites grilles élémentaires partiellement formées, et 15 en déterminant une position moyenne de ligne pour chaque ensemble de lignes sensiblement superposées, de sorte à former une grille élémentaire moyenne totalement formée. Cela permet statistiquement de former une grille élémentaire moyenne présentant un degré de correspondance avec la grille de référence du circuit 20 intégré très élevé, au facteur de grossissement près. - la grille élémentaire moyenne est totalement formée en ajoutant des lignes par interpolation des lignes issues de la combinaison de toutes les lignes des grilles élémentaires partiellement formées. Une telle interpolation permet de compléter si nécessaire la grille élémentaire 25 moyenne en gardant un degré de correspondance avec la grille de référence du circuit intégré très élevé. - la série d'étapes comprend en outre, après transformation de chacune des grilles élémentaires comprenant les positions de chacun des motifs pour chacune des images élémentaires : 30 o Construire une image panoramique de la zone à imager par corrélation, au niveau du recouvrement partiel entre deux images élémentaires adjacentes, des positions des motifs situés sur les grilles élémentaires totalement formées, lesdites 10 grilles élémentaires totalement formées formant une grille de l'image panoramique. La corrélation, au niveau du recouvrement partiel entre deux images élémentaires adjacentes, des positions des motifs situés sur les grilles 5 élémentaires totalement formées permet de construire rapidement et efficacement une image panoramique à partir d'une pluralité d'images élémentaires. En particulier, les positions des motifs correspondent à des noeuds des grilles élémentaires et la corrélation peut avantageusement se faire uniquement au niveau des noeuds de grilles élémentaires adjacentes dans ou à 10 proximité du recouvrement partiel. En cas de non-correspondance, les grilles élémentaires associées aux images élémentaires adjacentes sont simplement déplacées relativement l'une à l'autre, selon un multiple du premier et/ou du deuxième pas de grille, jusqu'à corrélation au niveau des noeuds des grilles élémentaires adjacentes. Cette opération de corrélation est donc effectuée 15 seulement au niveau de quelques points particuliers, les noeuds des grilles élémentaires adjacentes, ce qui diminue considérablement le nombre de comparaisons à effectuer et le temps de cette opération de corrélation. Cela permet également avantageusement de limiter les ressources nécessaires pour chaque opération de corrélation unitaire entre deux images élémentaires 20 adjacentes. La construction d'une image panoramique à partir d'un grand nombre d'images élémentaires, par exemple typiquement supérieur à 10000, requérant un grand nombre d'opérations de corrélation unitaires, est dès lors possible à partir des ressources de calcul offertes par un processeur ou un équipement raisonnablement performant et accessible. 25 - la zone à imager comprend une première zone sur un premier niveau du circuit intégré et une deuxième zone sur un deuxième niveau du circuit intégré, lesdits premier et deuxième niveaux étant consécutifs de sorte que les première et deuxième zones présentent des motifs communs superposables, et la série d'étapes est réalisée pour des 30 images élémentaires acquises sur la première zone de sorte à construire une première image panoramique et pour des images élémentaires acquises sur la deuxième zone de sorte à construire une deuxième image panoramique, le procédé comprend en outre : 11 5 o Egaliser les premiers pas de grille moyens des première et deuxième images panoramiques, o Egaliser les deuxième pas de grille moyens des première et deuxième images panoramiques, o Superposer les grilles des première et deuxième images panoramiques en corrélant des positions des motifs communs, afin d'obtenir une visualisation multi-niveaux du circuit intégré. La formation et l'utilisation d'une grille pour chaque image panoramique permet avantageusement de mettre à une échelle commune les images panoramiques. 10 Cela permet en outre de corréler rapidement et efficacement les images panoramiques entre elles, à partir de quelques points particuliers seulement, les noeuds des grilles des images panoramiques superposées. Cela diminue considérablement le nombre de comparaisons à effectuer et le temps de cette opération de corrélation entre images panoramiques issues de niveaux 15 consécutifs. Les ressources de calcul nécessaires à une telle opération de corrélation sont en outre avantageusement limitées, ce qui permet d'obtenir une visualisation multi-niveaux du circuit intégré. - la pluralité d'images élémentaires comprend au moins 1000 images. les images élémentaires de la pluralité d'images élémentaires sont 20 des images de microscopie électronique à balayage SEM. - les motifs sont pris parmi des points et des segments correspondants respectivement à des vias et des portions de lignes d'interconnexions du circuit intégré. Une telle modélisation des motifs permet avantageusement de réduire les 25 données contenues dans une image élémentaire. Un point est ainsi défini par un seul couple de coordonnées. Il est en outre associé un premier niveau d'intensité typique, représentatif d'un motif ou d'une structure de type via traversant. Un segment est ainsi défini par deux couples de coordonnées. Il est en outre associé un deuxième niveau d'intensité typique, représentatif d'une 30 partie au moins d'un motif ou d'une structure de type ligne d'interconnexion. - la détermination des vias dans chacune des images élémentaires est réalisée par filtrage selon au moins un paramètre pris parmi un diamètre, une aire, une forme ovale. 12 - la zone à imager est préalablement exposée par au moins une étape prise parmi une étape de déconstruction et une étape de déstratification. Une telle étape préalable permet avantageusement de préparer la zone à D imager, par exemple selon un protocole établi, afin d'optimiser la qualité des images élémentaires acquises sur ladite zone. Cela permet également d'exposer des niveaux de coeur du circuit intégré, de façon à explorer physiquement le circuit intégré par exemple selon les trois dimensions de l'espace, afin de reconstruire une visualisation tridimensionnelle w de ce circuit intégré. L'invention selon son deuxième aspect comprend notamment les caractéristiques optionnelles ci-après pouvant être utilisées en association ou alternativement : 15 - le produit programme d'ordinateur comprend un module de vérification et de correction par un opérateur de la détermination des motifs. - la corrélation entre images adjacentes et/ou entre images panoramiques peut être vérifiée et corrigée par l'opérateur par 20 déplacement desdites images adjacentes et/ou panoramiques relativement entre elles selon un multiple des premier et deuxième pas de grille. Dans la suite, un niveau d'interconnexion comprend des interconnexions 25 horizontales et verticales. Un repère orthonormé xyz est représenté sur les figures annexées à la présente demande de brevet. Les termes « horizontal, horizontalement » se réfèrent à une extension, un déplacement selon un plan xy du repère. Les termes « vertical, verticalement » se réfèrent à une extension, un 30 déplacement selon l'axe z du repère. Les interconnexions horizontales correspondent à des pistes métalliques s'étendant dans un plan basal xy et formant une couche dite « couche Métal i 13 (1-1...n) ». Deux couches Métal i et j sont séparées entre elles par une couche diélectrique isolante. Une image élémentaire réalisée dans un plan xy au sein d'une couche Métal i comprend donc essentiellement des structures linéaires correspondant 5 aux pistes métalliques, sur un fond uniforme correspondant au matériau diélectrique isolant ces pistes entre elles. Ces structures linéaires sont modélisables par des segments présentant par exemple un premier niveau de gris ou d'intensité différent du niveau de gris ou d'intensité du fond. Les interconnexions verticales correspondent à des vias traversants 10 s'étendant longitudinalement selon z. Ces vias traversent la couche diélectrique isolante afin de relier deux pistes métalliques de deux couches Métal i et 1+1 consécutives par exemple. Ces vias traversants sont simplement dénommés vias dans la suite. Une image élémentaire réalisée dans un plan xy au sein d'une couche 15 diélectrique isolante comprend donc essentiellement des structures rondes correspondant aux sections transverses des vias, sur un fond uniforme correspondant au matériau diélectrique. Ces structures rondes sont modélisables par des points présentant par exemple un deuxième niveau de gris ou d'intensité différent du niveau de gris ou d'intensité du fond. 20 Pour des couches de faible épaisseur, présentant par exemple une épaisseur comprise entre quelques dizaines de nanomètres et quelques centaines de nanomètres, l'acquisition d'une image élémentaire par microscopie électronique à balayage sur un niveau d'interconnexion peut résulter en une image élémentaire composite, comprenant à la fois des 25 structures linéaires et des structures rondes sur un fond uniforme (cela est dû notamment à la profondeur de pénétration du faisceau d'électrons sous la surface de la zone à imager). La modélisation d'une telle image élémentaire comprenant des structures 30 linéaires et/ou des structures rondes par des niveaux d'intensité régulièrement distribués selon des coordonnées (x,y) d'une grille représentant la grille de référence du circuit intégré est à la base du procédé selon l'invention. 14 L'utilisation d'une grille élémentaire de référence modélisant la grille de référence du circuit intégré, pour traiter des images élémentaires et en particulier pour corriger la distorsion de ces images élémentaires, peut donc être déduite d'une première distribution approximativement régulière de 5 coordonnées de motifs stockées au moins temporairement sur un support de stockage tel qu'un serveur, avant traitement selon des opérations de correction de distorsion et/ou de corrélation. Cette utilisation peut également être déduite d'une deuxième distribution parfaitement régulière de coordonnées de motifs stockées au moins temporairement, après traitement selon lesdites opérations. ro La transformation de la première distribution pour former la deuxième distribution est effectuée en calculant un premier et un deuxième pas de grille moyens. Ces premier et deuxième pas de grille moyens sont des paramètres essentiels du procédé selon l'invention. 15 En référence aux figures 2A, 2B, 2C, une première étape du procédé selon l'invention consiste à imager ou à fournir des images élémentaires du circuit intégré 1. Ces images élémentaires sont de préférence des images acquises par microscopie électronique à balayage (figures 2A et 2B). 20 Ces images élémentaires forment de préférence une mosaïque de la zone à imager du circuit intégré 1. Cette mosaïque couvre de préférence une zone à imager sur un seul et même niveau d'interconnexion du circuit intégré 1. Les images élémentaires adjacentes présentent de préférence entre elles un recouvrement compris entre 10 % et 30% (figure 2C). 25 Ces images élémentaires sont de préférence des images brutes, non modifiées après acquisition. Elles peuvent présenter une résolution de 1024 x 768 pixels. Une telle résolution est suffisante pour assurer une bonne correction de distorsion par le procédé selon l'invention. Cette résolution permet en outre d'acquérir plus rapidement les images et/ou d'acquérir plus d'images, de façon 30 à réaliser et à traiter des mosaïques comprenant par exemple plusieurs milliers d'images. La vitesse de balayage requise pour l'acquisition des images élémentaires SEM est de préférence relativement élevée, correspondant par exemple à une 15 durée comprise entre 1 et 3 secondes par image, de façon à minimiser la distorsion native pour chaque image élémentaire SEM. Les images élémentaires présentent de préférence une même orientation vis-à-vis du circuit intégré 1 à imager. En particulier, la direction du balayage de 5 chaque image SEM peut être parallèle à une direction cristallographique selon laquelle sont alignées les structures du circuit intégré 1. Ces images élémentaires sont toutes de préférence focalisées de façon identique sur la zone à imager. 10 Afin d'exposer chaque zone à imager, comprenant de préférence les structures ou les motifs présents dans chaque niveau d'interconnexion, au moins une étape préalable de déstratification peut être nécessaire. Une telle étape peut mettre en oeuvre des procédés standards d'analyse de défaillance parfaitement connus de l'homme du métier, tels que des 15 procédés de gravure et/ou de polissage mécano-chimique par exemple. Tel qu'illustré aux figures 3A, 3B, cette étape permet en particulier d'accéder aux différents niveaux d'interconnexions. Un nettoyage de la surface à imager est de préférence effectué de façon à éviter une présence de poussières parasites par exemple. 20 Une image élémentaire peut en particulier comprendre des lignes ou des pistes d'interconnexion métalliques, et/ou des vias traversants. Selon la technologie utilisée dans la conception du circuit intégré 1, les lignes métalliques peuvent être en cuivre Cu et les vias traversants en cuivre 25 Cu. En microscopie électronique à balayage, le cuivre présente un bon contraste d'intensité vis-à-vis du matériau diélectrique environnant. Il n'est cependant pas évident dans ce cas de distinguer les lignes métalliques et les vias traversants sur une même image. Il peut dès lors être nécessaire de procéder à une étape supplémentaire 30 de déstratification, de sorte à exposer les vias sans que ceux-ci ne soient masqués par les lignes d'interconnexion supérieures. Tel qu'illustré à la figure 3C, une mosaïque 10 d'images élémentaires brutes 101R, 102R, 103R comprenant des vias peut ainsi être obtenue sur une 16 première couche exposée, et une mosaïque 20 d'images élémentaires brutes 201R, 202R, 203R comprenant des lignes peut être obtenue sur une deuxième couche sous-jacente à la première couche, après déstratification. Alternativement, la technologie utilisée dans la conception du circuit D intégré 1 peut se baser sur des lignes métalliques en aluminium Al et des vias traversants en tungstène W. Ces matériaux présentent un contraste d'intensité entre eux lorsqu'ils sont imagés par microscopie électronique à balayage. Dès lors, une image élémentaire SEM 301R, 302R acquise sur un niveau d'interconnexion basé sur cette technologie AI/W peut révéler à la fois des 10 lignes et des vias. En particulier, les lignes métalliques en Al peuvent être retirées préalablement à l'imagerie, par exemple par un procédé de gravure humide sélective par rapport au tungstène. Les vias en tungstène peuvent avantageusement rester intacts après retrait des lignes en aluminium. Une empreinte des lignes est observable après retrait de l'aluminium. Cette 15 empreinte peut apparaître sombre tandis que les vias peuvent apparaître clairs sur une telle image (figure 2B). Il est donc possible de distinguer ces différentes structures sur une même image, en fonction des niveaux de gris ou d'intensité. D'autres méthodes, notamment issues du domaine de l'Analyse de Défaillance, peuvent être mises en oeuvre afin d'acquérir une image élémentaire SEM 301R, 20 302R permettant de distinguer par contraste d'intensité les lignes et les vias. Les motifs présents au sein d'une image élémentaire sont ensuite déterminés au moyen d'un algorithme de seuillage, de filtrage et/ou de reconnaissance de forme typiquement. 25 Afin d'optimiser cette détermination, les images élémentaires présentent de préférence un bon contraste et une bonne luminosité, utilisant par exemple la totalité de l'échelle des niveaux de gris sans saturation. En particulier, une image élémentaire de bonne qualité comprenant des vias et des lignes est telle que les vias présentent un diamètre inférieur à la 30 largeur de la ligne auquel il est connecté. Un point plus sombre peut être observé au centre du via, indiquant notamment une focalisation correcte et un bon équilibre entre le contraste et la luminosité. Les vias présentent de préférence des bords nets, sans halo. 17 La taille des motifs est également un aspect important pour une bonne détermination. Typiquement, le diamètre des vias est de préférence supérieur à 6 pixels. La largeur des lignes est de préférence supérieure à 7 pixels. 5 L'espacement entre lignes est de préférence supérieur à 10 pixels et la largeur du matériau diélectrique entre lignes métalliques est de préférence supérieure à 8 pixels. L'algorithme permet de préférence de détecter tous les vias d'une mosaïque de 1500 images élémentaires en un temps de quelques minutes, par w exemple avantageusement en un temps de l'ordre de 2 min. L'algorithme permet de préférence de détecter toutes les lignes d'une mosaïque de 1500 images élémentaires en un temps de quelques minutes, par exemple avantageusement en un temps de l'ordre de 3 min. 15 En référence à la figure 4, après détermination des motifs présents dans chacune des images élémentaires 301R, 302R, une grille élémentaire 301, 302G est formée pour chaque image élémentaire 301R, 3028. Cette grille élémentaire 30-1G, 302G est formée à partir d'un alignement des motifs entre eux, selon deux directions sensiblement orthogonales. 20 En particulier, pour une image élémentaire SEM préalablement orientée, une première direction d'alignement des motifs est sensiblement parallèle au sens de balayage, et une deuxième direction d'alignement des motifs est sensiblement normale au sens de balayage. La grille élémentaire 301, 302G comprend des lignes selon la première 25 direction et des lignes selon la deuxième direction, éventuellement bornées par le cadre de l'image élémentaire 301R, 3028. Cette grille élémentaire 301, 302G reflète partiellement la grille de référence qui permet d'aligner physiquement les différentes structures du circuit intégré 1 lors de sa conception. 30 Cette grille de référence est une grille parfaite présentant un premier pas de grille dans la première direction et un deuxième pas de grille dans la deuxième direction. Ces premier et deuxième pas de grille peuvent être égaux entre eux ou différents. 18 Dans le cas d'une image élémentaire distordue par exemple, la grille élémentaire 301G, 302G reflétant partiellement la grille de référence ne présente pas un pas de grille constant. 5 Les étapes suivantes du procédé selon l'invention visent à reformer une grille élémentaire, dite grille élémentaire de référence, qui reflète le mieux possible la grille de référence du circuit intégré 1. Les grilles élémentaires 301G, 302G de chaque image élémentaire 301R, 302R peuvent être superposées les unes sur les autres, de façon à former une w grille élémentaire moyenne 30m. Cette superposition peut se faire de sorte qu'un maximum de lignes des grilles élémentaires soit superposable. Les positions des lignes qui ne sont pas parfaitement superposées sont de préférence moyennées. 15 Au besoin, s'il manque des lignes dans la grille élémentaire moyenne 30M, celle-ci peut être complétée par interpolation par exemple. A ce stade, la grille élémentaire moyenne 30M ne présente pas nécessairement des premier et deuxième pas de grille constants. Un premier pas de grille moyen dans la première direction et un deuxième 20 pas de grille moyen dans la deuxième direction peuvent dès lors être calculés. La grille élémentaire de référence 30G'f est formé à partir de ces premier et deuxième pas de grille moyens. Statistiquement, à partir d'un grand nombre d'images élémentaires par exemple supérieur ou égal à 1500, cette grille élémentaire de référence 30Gref 25 construite à partir de la grille élémentaire moyenne 30M reflète fidèlement la grille de référence du circuit intégré 1. Cette grille élémentaire de référence 30Gref peut ensuite permettre de compléter chaque grille élémentaire 301G, 302G afin d'obtenir des grilles élémentaires 301G, 302G totalement formées et présentant les premier et 30 deuxième pas de grille moyens. Les images élémentaires peuvent dès lors subir la même transformation que leurs grilles élémentaires respectives. 19 Cette transformation des images élémentaires permet d'obtenir des images élémentaires 301, 302C corrigées en distorsion. Après assignation d'une grille élémentaire de référence à toutes les 5 images élémentaires, et correction de la distorsion de ces images élémentaires, ces dernières peuvent être assemblées horizontalement entre elles de manière à former une image panoramique de la zone à imager. Cet assemblage se fait de préférence par corrélation entre images adjacentes au niveau de leurs zones de recouvrement. 10 La correction de la distorsion permet d'améliorer significativement cette corrélation. L'utilisation de grilles élémentaires de référence permet en outre de faciliter la manipulation des images pour obtenir une bonne corrélation. Les motifs étant uniquement sur des noeuds de ces grilles élémentaires de 15 référence, seules les coordonnées des noeuds de ces grilles sont à tester lors de l'opération de corrélation entre deux images. S'il n'y a pas de correspondance entre les intensités respectives des pixels portés par les noeuds des grilles de chaque image, les images sont translatées horizontalement l'une par rapport à l'autre selon un multiple des 20 premier et/ou deuxième pas de grille moyens. L'opération de corrélation peut ainsi être exécutée pour quelques positions relatives des images élémentaires seulement, correspondant aux positions où leurs grilles élémentaires de référence coïncident. La corrélation entre images élémentaires adjacentes 301, 302e est ainsi 25 avantageusement facilitée. Elle est ainsi plus rapide et nécessite moins de ressource de calcul de la part du processeur chargé de cette opération. L'algorithme permet de préférence de corréler toutes les images élémentaires d'une mosaïque de 1500 images élémentaires en un temps de quelques minutes, par exemple avantageusement en un temps de l'ordre de 2 30 min. Après corrélation, les zones de recouvrement entre images élémentaires adjacentes peuvent être fusionnées de façon à obtenir une seule image panoramique. 20 Une image panoramique 30c est ainsi formée. Cette image panoramique n'est avantageusement pas limitée en taille. Elle peut résulter d'un nombre d'images élémentaires par exemple supérieur à 1000, de préférence supérieur à 10000, par exemple de l'ordre de 30000. 5 Afin de construire une visualisation tridimensionnelle multi-niveaux, une image panoramique peut être formée pour chaque couche de chaque niveau d'interconnexions par exemple, après exposition de ces couches par des étapes de déstratification intercalaires. ro Ces différentes images panoramiques résultant de zones à imager superposables entre elles, peuvent ensuite être alignées verticalement les unes relativement aux autres. Une corrélation verticale au niveau de certains noeuds des grilles associées à chaque image panoramique permet avantageusement d'aligner 15 rapidement et facilement les images panoramiques des différents niveaux d'interconnexions entre elles. En particulier, les vias traversants sont des structures connectant verticalement les différents niveaux entre eux. Dès lors, une corrélation au niveau des noeuds portant des vias peut 20 avantageusement permettre cet alignement vertical. Selon une possibilité, cet alignement des images panoramiques entre elles peut se faire au niveau d'un coin comprenant un marqueur ou une structure de référence identifiable. Les images panoramiques ne présentant pas de distorsion, cela est 25 suffisant pour aligner correctement via le système de grille ces images panoramiques entre elles. Les images panoramiques peuvent éventuellement présenter des grossissements différents, sans que cela soit préjudiciable à la formation de la 30 visualisation tridimensionnelle multi-niveaux. Selon une possibilité avantageuse, le système de grille permet de s'affranchir d'une mise à l'échelle préalable des images élémentaires lors de la formation des images panoramiques. 21 Une simple homothétie peut permettre d'égaliser les pas de grille de deux images panoramiques présentant initialement des grossissements différents, de sorte à effectuer une mise à l'échelle commune de ces deux images panoramiques. 5 Un autre aspect de l'invention concerne un produit programme d'ordinateur permettant d'effectuer la série d'étapes du procédé selon l'invention. Ce produit programme d'ordinateur comprend notamment un module 10 d'affichage, une navigation, et des algorithmes pour la reconnaissance de forme, le calcul des grilles et la corrélation entre images. La navigation permet par exemple de sélectionner les images élémentaires participant à la construction d'une image panoramique. Le module d'affichage permet en particulier d'afficher plusieurs milliers 15 d'images, les motifs déterminés par l'algorithme de reconnaissance de forme, les grilles calculées par l'algorithme de calcul des grilles et les résultats intermédiaires du procédé. Selon une possibilité, le résultat des corrélations réalisées entre images adjacentes peut être facilement contrôlé et corrigé au besoin, en déplaçant les 20 images adjacentes relativement les unes aux autres par un simple décalage correspondant aux pas de grille de l'image panoramique. Le système de grille permet ainsi de faire cette éventuelle correction par un opérateur de façon plus rapide qu'un décalage pixel par pixel. L'alignement des images panoramiques les unes par rapport aux autres 25 par l'opérateur est en outre facilité par l'utilisation du système de grille. Le module d'affichage est de préférence configuré pour permettre une visualisation rapide depuis le plus faible grossissement correspondant à la mosaïque d'images élémentaires jusqu'au grossissement le plus élevé permettant d'identifier finement les différentes structures présentes au sein 30 d'une image élémentaire. Le produit programme d'ordinateur selon l'invention permet avantageusement de construire des visualisations bidimensionnelles et tridimensionnelles complètes, rapides et fiables d'un circuit intégré. 22 L'invention n'est pas limitée aux modes de réalisation précédemment décrits mais s'étend REVENDICATIONS1. Procédé de traitement d'une pluralité d'images élémentaires (101R, 102R, 1038) acquises sur au moins une zone d'au moins un niveau d'un circuit D intégré à imager, dite zone à imager, ladite zone à imager comprenant des motifs alignés selon une grille de référence propre au circuit intégré, le procédé comprenant au moins la série d'étapes suivantes : - Fournir ladite pluralité d'images élémentaires (101R, 102R, 103R) de la zone à imager, la taille de la zone à imager étant supérieure à la io taille de chaque image élémentaire et chaque image élémentaire présentant un même grossissement et au moins un recouvrement partiel avec une image élémentaire adjacente de sorte que la pluralité d'images élémentaires forme une mosaïque (10) couvrant toute la zone à imager, 15 à l'aide d'au moins un dispositif informatique tel qu'un microprocesseur, - Déterminer des motifs dans chacune des images élémentaires (101R, 102R, 103R), par exemple par seuillage d'intensité, - Déterminer dans chacune des images élémentaires au moins une ligne selon une première direction d'alignement des motifs et au 20 moins une ligne selon une deuxième direction d'alignement des motifs, lesdites première et deuxième directions d'alignement étant sensiblement orthogonales entre elles, - Former au moins partiellement une grille élémentaire pour chaque image élémentaire, à partir de l'au moins une ligne selon la première 25 direction d'alignement et l'au moins une ligne selon la deuxième direction d'alignement, ladite grille élémentaire comprenant des positions pour chacun des motifs de l'image élémentaire, - Former une grille élémentaire moyenne à partir des grilles élémentaires au moins partiellement formées, 30 - Déterminer à partir de la grille élémentaire moyenne un premier pas de grille moyen dans la première direction d'alignement et un deuxième pas de grille moyen dans la deuxième direction d'alignement, 24 - Former une grille élémentaire de référence présentant lesdits premier et deuxième pas de grille moyens, - Transformer la grille élémentaire au moins partiellement formée comprenant les positions de chacun des motifs pour chacune des images élémentaires, de sorte à ce que ladite grille élémentaire soit totalement formée et présente lesdits premier et deuxième pas de grille moyens. 2. Procédé selon la revendication précédente dans lequel la io transformation de la grille élémentaire partiellement formée se fait en ajoutant des lignes issues de la grille élémentaire moyenne de façon à compléter et former totalement ladite grille élémentaire, la grille élémentaire présentant alors différents pas de grille selon la première direction d'alignement et différents pas de grille selon la deuxième direction d'alignement, puis en ajustant lesdits 15 différents pas de grille de sorte à ce qu'ils soient égaux respectivement aux premier et deuxième pas de grille moyens. 3. Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes dans lequel la grille élémentaire moyenne est formée en combinant toutes les lignes des grilles élémentaires partiellement formées par superposition desdites 20 grilles élémentaires partiellement formées, et en déterminant une position moyenne de ligne pour chaque ensemble de lignes sensiblement superposées, de sorte à former une grille élémentaire moyenne totalement formée. 4. Procédé selon la revendication précédente dans lequel la grille élémentaire moyenne est totalement formée en ajoutant des lignes par 25 interpolation des lignes issues de la combinaison de toutes les lignes des grilles élémentaires partiellement formées. 5. Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes dans lequel la série d'étapes comprend en outre, après transformation de chacune des grilles élémentaires comprenant les positions de chacun des 30 motifs pour chacune des images élémentaires : - Construire une image panoramique de la zone à imager par corrélation, au niveau du recouvrement partiel entre deux images élémentaires adjacentes, des positions des motifs situés sur les 25 grilles élémentaires totalement formées, lesdites grilles élémentaires totalement formées formant une grille de l'image panoramique. 6. Procédé selon la revendication précédente dans lequel la zone à D imager comprend une première zone sur un premier niveau du circuit intégré et une deuxième zone sur un deuxième niveau du circuit intégré, lesdits premier et deuxième niveaux étant consécutifs de sorte que les première et deuxième zones présentent des motifs communs superposables, et dans lequel la série d'étapes est réalisée pour des images élémentaires acquises sur la première ro zone de sorte à construire une première image panoramique et pour des images élémentaires acquises sur la deuxième zone de sorte à construire une deuxième image panoramique, le procédé comprenant en outre : - Egaliser les premiers pas de grille moyens des première et deuxième images panoramiques, 15 - Egaliser les deuxième pas de grille moyens des première et deuxième images panoramiques, Superposer les grilles des première et deuxième images panoramiques en corrélant des positions des motifs communs, afin d'obtenir une visualisation multi-niveaux du circuit intégré. 20 7. Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes dans lequel la pluralité d'images élémentaires comprend au moins 1000 images. 8. Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes dans lequel les images élémentaires de la pluralité d'images élémentaires sont 25 des images de microscopie électronique à balayage SEM. 9. Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes dans lequel les motifs sont pris parmi des points et des segments correspondants respectivement à des vias et des portions de lignes d'interconnexions du circuit intégré. 30 10. Procédé selon la revendication précédente dans lequel la détermination des vias dans chacune des images élémentaires est réalisée par filtrage selon au moins un paramètre pris parmi un diamètre, une aire, une forme ovale. 26 11. Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes dans lequel la zone à imager est préalablement exposée par au moins une étape parmi une étape de déconstruction et une étape de déstratification. 12. Produit programme d'ordinateur comprenant des instructions, qui, 5 lorsqu'elles sont interprétées et exécutées par au moins un processeur effectuent la série d'étapes du procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes. 13. Produit programme d'ordinateur selon la revendication précédente comprenant un module de vérification et de correction par un opérateur de la Io détermination des motifs.