Brevet FR3085110A1 — publié le 20200228

Description Titre de l'invention : Masque Cosmétique [0001] La présente invention concerne un masque cosmétique pour visage comprenant un substrat d'application présentant une première face destinée à être appliquée sur le visage et une seconde face opposée, et un support disposé de façon amovible sur l'une de ces deux faces. La présente invention concerne également une méthode d'application du masque à l'aide de ce support. [0002] Le visage est l'une des surfaces du corps les plus confrontées aux agressions extérieures comme la pollution, le soleil ou les variations de températures. Cette exposition quotidienne conduit bien souvent à une modification prématurée de l'aspect de la peau qui peut se ternir, s'assécher ou encore présenter des rides de façon précoce. [0003] Pour lutter contre ces agressions, il existe aujourd'hui de nombreuses méthodes de soin qui visent à limiter les impacts sur la peau du visage en l'hydratant ou en lui appliquant par exemple un ou plusieurs actifs cométiques. [0004] On connait en particulier des masques pour le visage servant à l'application d'un produit cosmétique. Ces masques diffèrent selon le soin recherché et le type de peau à traiter telles que les peaux sèches, grasses ou mixtes. [0005] Parmi les masques disponibles sur le marché on trouve des masques liquides. L'utilisatrice applique une quantité du masque liquide sur ses doigts puis applique ledit masque sur le visage de sorte à recouvrir l'intégralité de la surface à traiter. Le masque peut être éliminé en rinçant le visage avec de l'eau ou alors d'autres types de masques dit « peel-off » peuvent sécher pour former un film que l'utilisatrice retire ensuite à la main. [0006] Cependant ce type de masque n'est pas pratique puisque l'utilisatrice se retrouve avec une dose assez conséquente de produit sur les doigts et doit, après application du masque, se laver les mains, ce qui constitue une perte de temps. [0007] Il existe également des masques de type « solide » comprenant un substrat en tissus ou plastique formant une feuille à poser sur le visage. Le masque cosmétique peut être pré-imprégné d'une composition cosmétique ou venir 2 recouvrir une composition cosmétique précédemment appliqué de manière à apporter, par exemple, un effet occlusif ou autre selon le matériau du masque. [0008] Par « imprégné » on entend le cas où la composition cosmétique pénètre dans le matériau du substrat d'application et le cas où la composition cosmétique s forme une couche de composition sur le substrat d'application. [0009] Par « produit cosmétique », on entend tout produit tel que défini dans le règlement (CE) N°1223/2009 du Parlement Européen et du Conseil du 30 novembre 2009, relatif aux produits cosmétiques. [0010] Le masque peut être également utilisé sec, c'est-à-dire, sans produit 10 cosmétique, par exemple pour des propriétés occlusives ou absorbante (l'excès d'huile ou de sébum de la peau notamment) et ce éventuellement pour préparer la peau avant une application ultérieure d'un produit cosmétique. [0011] Le substrat d'application est configuré pour couvrir une surface de peau ciblée, en particulier pour un masque facial, le substrat d'application comprend 15 également généralement des ouvertures correspondant à la bouche, le nez et les oreilles de l'utilisatrice. A moins qu'il n'en soit autrement précisé, lorsqu'on se réfère à un masque solide, les directions doivent être considérées au regard de la surface de la peau à traiter. Pour un masque facial, la partie supérieure (haut) du masque est la partie destinée à être positionnée au-dessus des yeux, au 20 niveau du front. La partie inférieure (bas) du masque est la partie destinée à être positionnée en dessous de la bouche, au niveau du menton. Dans le même sens, les parties latérales ou côtés du masque sont les parties destinées à être positionnées à gauche et à droite du nez, au niveau des joues de l'utilisatrice. Les directions gauche et droite doivent être considérées du point de vue de 25 l'utilisatrice. [0012] Au cours de ces dernières années, on a vu apparaitre des masques d'une nouvelle génération caractérisée par un substrat d'application d'épaisseur particulièrement faible. Ces masques fins ont un intérêt pour l'utilisatrice puisqu'ils permettent d'obtenir un effet seconde peau particulièrement 30 confortable. Collé au visage, ce type de masques permet ainsi d'assurer le libre mouvement de l'utilisatrice sans qu'elle n'ait la hantise que son masque ne se décolle et ne tombe de son visage. Ce type de masque permet également 3 d'assurer un contact permanent entre lesdits masques et la surface du corps à traiter. [0013] Par ailleurs, dans le cas de masques à effet occlusif, c'est-à-dire dont le matériau du substrat est étanche à l'eau et / ou à l'air (de préférence aux deux), s la parfaite intimité avec la peau de l'utilisatrice renforce cet effet occlusif et permet d'obtenir de meilleurs résultats. [0014] Ces masques fins peuvent s'apparenter à du film alimentaire, de sorte que leur manipulation est parfois assez délicate et leur application sur le visage peut parfois devenir un casse-tête pour l'utilisatrice, en particulier parce que la pose de ces derniers aboutit régulièrement à des zones de peau qui se retrouvent sans contact avec le masque ou à des parties du masque qui se retournent et viennent coller à la surface d'application. [0015] Pour aider à l'application d'un masque, il a été proposé dans la demande de brevet US2008/0147022, un masque associant un support au substrat 15 d'application. Ce support est appliqué sur une face arrière du substrat, à l'opposé de la face d'application, et comprend des moyens de préhension latéraux ressemblant à des oreilles et destinés à faciliter la manipulation dudit masque lors de son application. [0016] En effet, lors de la pose du masque, l'utilisatrice qui souhaite appliquer de 20 façon régulière ce dernier sur son visage vient étirer le masque pour que celui-ci puisse s'adapte plus aisément à la morphologie de cette dernière. Cet étirement est cependant limité voire quasiment impossible dû au support en une pièce, collé à l'arrière du masque qui ne présente pas le même degré d'élasticité que celui du masque. Il en résulte que le masque n'est pas appliqué de façon 25 optimale sur le visage et le visage présente des zones qui ne sont pas mises en contact avec le masque. [0017] Un autre problème apparait lors du retrait du support lorsque le masque a été appliqué sur le visage. Le support est configuré pour être retiré du masque en le décollant de la face arrière du substrat progressivement de droite à gauche ou de 30 gauche à droite selon le côté de décollement initial. Cependant, un retrait trop rapide ou une mauvaise manipulation du support peut entrainer avec lui le substrat d'application et aboutir à son décrochage si celui-ci a mal été positionné 4 sur le visage. Le cas échéant, l'utilisatrice doit donc continuer à maintenir le substrat sur son visage tout en décollant le support. [0018] II existe donc un besoin de fournir un masque comprenant un support qui permette d'apposer de manière régulière le substrat d'application sur le visage et s qui permette d'assurer un contact entre le masque et la peau sur l'intégralité de la zone de peau à traiter. Il existe également un besoin de fournir un masque dont le retrait du support ne présente pas de risque d'entrainer avec lui le substrat d'application. [0019] La présente invention a ainsi pour objet un masque cosmétique comprenant io un substrat d'application présentant une première face destinée à être appliquée sur le visage et une seconde face opposée, et un support disposé, avant utilisation, de façon amovible sur l'une de ces deux faces, caractérisé en ce que ledit support est formé de deux parties distinctes séparées l'une de l'autre par un axe de séparation et configurées pour être retirées de manière indépendante 15 après application du substrat sur le visage. [0020] Ainsi, en prévoyant un support scindé en deux parties indépendantes, celui-ci permet de pouvoir tirer le masque de part et d'autre du visage, et notamment vers l'arrière lors de son application, et contribuer ainsi à plaquer le substrat d'application sur le visage. Il devient alors possible de réaliser une application du 20 masque de façon optimale, sur l'intégralité de la surface à traiter, sans laisser de zone de peau sans contact avec le masque. [0021] De plus il devient possible de retirer la première et seconde partie du support de manière indépendante de sorte à obtenir un équilibre des efforts lors du retrait du support et ainsi limiter voire supprimer le risque d'entrainement du substrat 25 avec celui-ci. [0022] Le substrat peut être tout matériau pouvant se présenter sous forme de feuille flexible. Bien que n'y étant pas limitée, la présente demande vise plus particulièrement les masques cosmétiques mettant en oeuvre des substrats particulièrement fins et/ou collants. La présente demande vise ainsi plus 30 particulièrement des substrats film polymère, en particulier des substrats film silicone ou polyuréthane. De préférence, la feuille substrat présente une épaisseur inférieure à 100 iim, voire inférieure à 50 iim selon le matériau utilisé. 5 Typiquement, un substrat film polyuréthane pourra avantageusement présenter une épaisseur inférieure ou égale à 20 ptm, tandis qu'une feuille silicone pourra présenter une épaisseur inférieure à 100 p.m. Par ailleurs, le substrat peut présenter une surface d'application texturée présentant des reliefs. 5 [0023] Avantageusement, le support est formé de deux parties symétriques par rapport à un axe transversal du substrat. Le support présente ainsi deux parties de forme sensiblement identique et l'ergonomie du masque s'en trouve améliorée, le retrait du support étant équilibré et facilité. [0024] Par « transversal », on entend que l'axe traverse le masque et s'étend d'un 10 bord à un autre bord opposé. Ainsi un axe transversal peut être sensiblement vertical (de haut en bas / du front vers le menton) ou sensiblement horizontal (de droite à gauche). [0025] Préférentiellement, les deux parties du support sont disposées, avant utilisation, de part et d'autre d'un axe sensiblement vertical du substrat, de 15 préférence un axe sensiblement médian, ledit axe formant le cas échéant l'axe de symétrie des parties du support. De cette manière, le geste d'application et de retrait du support peut être encore plus naturel et intuitif. [0026] Selon une variante de réalisation, les deux parties sont, avant utilisation, adjacentes. De cette manière et bien que présentant deux parties dissociables 20 indépendamment l'une de l'autre, le support présente globalement une continuité sur la surface du substrat, ce qui améliore en améliore la tenue. [0027] Alternativement, les deux parties sont, avant utilisation, disjointes et espacées l'une de l'autre. De cette manière, le substrat présente une portion centrale libre et accessible au visage qui peut être amenée en contact avec le visage avant de 25 commencer le retrait du support. Autrement dit, la zone centrale permet un pré- positionnement du masque. Un tel mode de réalisation est particulièrement avantageux lorsque le support est positionné sur la face d'application du substrat. [0028] Selon un mode de réalisation particulier, le support forme sensiblement un anneau périphérique disposé sur un pourtour du substrat. 6 [0029] De manière avantageusement complémentaire, les parties du support comprennent au moins une partie de préhension faisant saillie du substrat en vue de son décollement. [0030] Selon un premier mode de réalisation, les parties de préhension se s présentent sous la forme d'une projection s'étendant dans un plan du masque. Les parties périphériques en saillie peuvent être classiquement disposées de part et d'autre du masque à l'opposé de l'axe de séparation des parties du support (c'est-à-dire latéralement dans le cas d'un axe sensiblement vertical). Avantageusement, elles peuvent également être située sur l'axe de séparation 10 des parties du support (c'est-à-dire, respectivement en haut et en bas du masque dans le cas d'un même axe vertical) de manière à faciliter le décollement et la préhension du support depuis l'axe de séparation vers la périphérie (c'est-à-dire le centre du masque vers les côtés). [0031] Selon un deuxième mode de réalisation, la partie de préhension se présente 15 sous la forme d'un rabat s'étendant selon une direction sensiblement transversale parallèle à l'axe de séparation des parties du support, de préférence vertical du substrat. Ce mode de réalisation est particulièrement avantageux lorsque le support est placé sur la première face du substrat, les rabats permettant de faciliter la préhension de l'intérieur du masque vers l'extérieur, la 20 direction de retrait du support étant sensiblement celle d'application du masque, le masque peut facilement être appliqué en même temps que le support est retiré. [0032] En effet, selon une première variante, le support est disposé sur la première face destinée à être appliquée sur le visage du substrat d'application. 25 [0033] Alternativement, le support est disposé sur la seconde face du substrat d'application. [0034] De manière avantageusement complémentaire, la première face, d'application, est recouvert d'une couche faiblement adhésive du type gel silicone, adhésif sensible à la pression ou acrylate. La présence d'une telle 30 couche collante augmente le caractère intime de l'application du substrat sur le visage. Selon le substrat choisi, cela permet également un meilleur effet occlusif 7 Avantageusement, des actifs cosmétiques peuvent être contenus dans le gel faiblement adhésif. [0035] Le cas échéant, le substrat d'application comprend des perforations. La tailles des perforations ainsi que la surface totale de ces dernières permet d'ajuster le s caractère plus ou moins occlusif du substrat selon le matériau utilisé. [0036] De manière complémentaire, la première face du substrat destinée à être appliquée sur le visage est recouverte, directement ou sur le support le cas échéant, d'un film de protection amovible avant application du substrat sur le visage. Le film de protection est, par exemple, en polyéthylène téréphtalate 10 (PET). La face destinée à être appliquée sur le visage est protégée des possibles contacts extérieurs avant utilisation. [0037] La présente demande se rapporte également à un procédé d'application d'un masque cosmétique facial comprenant les étapes suivantes visant à : - fournir un masque selon l'invention, 15 - retirer le cas échéant le film de protection recouvrant la première face, - amener au moins une partie découverte de ladite première face, notamment une partie centrale, sur le visage de l'utilisateur, - retirer les parties du support. [0038] Avantageusement le masque est étiré lors de son dépôt sur le visage. Ainsi le 20 dépôt du masque sur le visage est régulier. [0039] Dans un mode d'utilisation, les deux parties du support sont retirées de façon simultanée, le retrait du support est simple et rapide. [0040] L'invention pourra être mieux comprise à la lecture de la description qui suit accompagnée d'exemples non limitatifs de mise en oeuvre de celle-ci, en se 25 référant aux dessins annexés, sur lesquels : - la figure 1 est une représentation schématique vue de face du masque selon un premier mode de réalisation, la figure 2 montre les différentes couches formant le masque de la figure 1, la figure 3 illustre une vue de face d'un masque selon un second mode de 30 réalisation, la figure 4 montre les différentes couches formant le masque de la figure 3. 8 [0041] Les figures 1 et 2 montrent un masque 100 facial cosmétique selon un premier mode de réalisation. De manière générale, le masque 100 comprend un substrat d'application 110 présentant une première face 111 destinée à être appliquée sur le visage et une seconde face 112 opposée. Le substrat s d'application 110 se présente sous la forme d'une feuille flexible. Le substrat 110 peut être classiquement obtenu notamment à partir d'un matériau textile, tissé ou non tissé, réalisé à partir de fibres naturelles ou synthétiques. Le substrat d'application 110 est en particulier formé d'un feuillard ou film, notamment d'un film polymère, de préférence en polyuréthane ou en silicone. Préférentiellement, 1.0 le substrat 110 possède des propriétés occlusives à l'eau et/ou à l'air. Le substrat 110 peut éventuellement être perforé de manière à lui conférer une certaine perméabilité. [0042] Selon un mode préféré de réalisation de l'invention, le substrat d'application 110 est un substrat souple très fin permettant d'épouser de façon optimale les 15 reliefs du visage. De préférence, le substrat d'application selon l'invention a une épaisseur inférieure à 100 km, de préférence inférieure à 30 km. [0043] Le substrat 110 peut éventuellement être multicouche, toutefois dans le cadre de la présente demande visant plus particulièrement des substrats très fins, le substrat 110 est préférentiellement monocouche. 20 [0044] Le substrat 110 est dimensionné et mis en forme de manière à pouvoir sensiblement couvrir le visage d'un utilisateur. En particulier, le masque facial 100 comprend également des ouvertures correspondant à la bouche 3a, au nez 3b et aux yeux 3c de l'utilisateur. Plus précisément, l'ouverture correspondant au nez 3b est formée par une découpe laissant un volet apte à être repoussé par le 25 nez de l'utilisateur lors de l'application du masque 100. [0045] Le masque cosmétique 100 comprend également un support 115 disposé, avant utilisation, de façon amovible sur la face 112 arrière. Le support 115 est réalisé dans un matériau de type papier ou carton. Alternativement, le support peut être également réalisé dans un matériau plastique type PET. 30 [0046] En l'espèce, le support 115 présente une épaisseur d'environ 105 microns. Compte tenu de la finesse et nature du substrat 110, ce dernier adhère naturellement au support 115 et peut en être aisément décollé ou pelé. Le 9 support 115 et le substrat 110 pourront être par exemple découpés ensemble dans une bande de film polymère sur porteur papier. Avantageusement, la force de décollement entre le support 115 et le substrat 110 est inférieure à 100 cN par cm2, mieux inférieure à 50 cN/cm2. On pourra notamment choisir un support dont s la force de décollement par rapport au substrat est d'environ 30 cN/cm2. [0047] Conformément à la présente demande, le support 115 est formé de deux parties 115a, 115b distinctes configurées pour être retirées de manière indépendante après application du substrat sur le visage. Plus précisément, les parties 115a, 115b du support 115 sont symétriques par rapport à un axe S 10 transversal sensiblement vertical et médian du substrat 110. Les deux parties 115a, 115b du support 115 sont adjacentes et forment ensemble un anneau périphérique disposé sur un pourtour du substrat. [0048] De manière complémentaire, les parties 115a, 115b du support 115 comprennent au moins une partie de préhension 116 faisant saillie du substrat 15 110. Les parties de préhension s'étendent sensiblement dans le plan du masque 100 et sont réalisées en haut et en bas dudit masque 100. [0049] La face d'application ou première face 111 du masque 110 est recouverte d'une couche de gel silicone 118 faiblement adhésive destinée à augmenter l'intimité du contact avec le visage de l'utilisateur lors de l'application du masque. 20 [0050] La première face 111, et sa couche de gel silicone 118, est protégée par un film protecteur 120 pouvant être réalisé, par exemple, en PET. [0051] L'utilisation du masque 100 s'effectue de la manière suivante [0052] Tout d'abord, le film protecteur 120 est retiré, découvrant ainsi la face d'application 11 recouvert de sa couche de gel silicone 118. Le masque 110 est 25 ainsi prêt à être appliqué sur le visage. [0053] Le substrat 110 est amené au contact du visage par l'intermédiaire de sa première face 111, le support 115 assurant une tenue suffisante du substrat pour permettre son positionnement sur le visage. [0054] Une fois le masque 100 ainsi positionné sur le visage, le support 115 peut 30 être retiré afin de finir l'application du substrat 110. Pour ce faire, les deux parties 10 115a, 115b du support sont décollées et retirées progressivement du substrat de manière indépendante. [0055] Les deux parties 115a, 115b du support 115 sont préférentiellement retirées séparément en les décollant du centre vers les bords, induisant de ce fait un s meilleur plaquage du substrat 110. [0056] Les figures 3 et 4 montrent un masque 200 facial cosmétique selon un deuxième mode de réalisation. Comme pour le masque 100, le masque 200 comprend un substrat d'application 210, similaire au substrat 110, présentant une première face 211 destinée à être appliquée sur le visage et une seconde face 10 212 opposée. [0057] Le masque cosmétique 200 comprend également un support 215 disposé, avant utilisation, de façon amovible sur la face d'application 211 avant. Comme le support, 115, le support 215 est réalisé dans un matériau de type papier ou carton. En l'espèce, le support 215 présente une épaisseur d'environ 105 15 microns. Conformément à la présente demande, le support 215 est formé de deux parties 215a, 215b distinctes configurées pour être retirées de manière indépendante après application du substrat sur le visage. [0058] Les deux parties 215a, 215b sont symétriques l'une de l'autre par rapport à un axe médian sensiblement vertical. Les deux parties 215a, 215b sont pleines 20 mais espacées l'une de l'autre de manière à laisser une partie centrale de la face d'application 211 du substrat 210 découverte. [0059] Chaque partie 215a, 215b présente également une partie de préhension 216 se présentant sous la forme d'un rabat s'étendant selon une direction parallèle à la direction verticale médiane du substrat 210. 25 [0060] La face d'application ou première face 111 du masque 110 est recouverte d'une couche de gel silicone 218 similaire au film 118 faiblement adhésive destinée à augmenter l'intimité du contact avec le visage de l'utilisateur lors de l'application du masque. Le support 215 est appliqué sur la couche de gel 218 et l'ensemble est encore recouvert d'un film protecteur 220 similaire au film 120. 30 [0061] L'utilisation du masque 200 s'effectue de la manière suivante. 11 [0062] Tout d'abord, le film protecteur 220 est retiré, découvrant ainsi la face d'application 211 recouvert de sa couche de gel silicone 218 et des deux parties 215a, 215b du support 215, une zone centrale du substrat 210 étant découverte de support 215. Le masque 110 est ainsi prêt à être appliqué sur le visage. s [0063] La zone centrale de la surface d'application 211 du substrat 210 est amenée en contact avec le visage, le support 215 assurant une tenue suffisante du substrat, et notamment de ses zones latérales, pour permettre son positionnement sur le visage. [0064] Une fois le masque 100 ainsi positionné sur le visage, le support 115 peut être retiré afin de finir l'application du substrat 110. Pour ce faire, les deux parties 115a, 115b du support sont décollées et retirées du substrat de manière indépendantes en saisissant par l'intérieur les rabats de préhension. Ainsi, chaque partie 215a, 215b du support 215 peut être pelée progressivement et le substrat 210 plaqué concomitamment. 15 [0065] Les masques 100, 200 peuvent éventuellement être utilisés en association une composition cosmétique imprégnée sur le substrat ou appliquée sur le visage avant application du masque, voire directement dans la couche de gel adhésive le cas échéant. 12