Brevet FR3086669A1 — publié le 20200403

METHODE POUR ENLEVER DES IMPURETES DE NANOPARTICULES Domaine de l'invention Le domaine de l'invention est celui de méthode pour purifier des nanoparticules. Contexte technique Les nanoparticules contiennent souvent des impuretés, tel que du cobalt (S. Staniland et al, Nature Nanotechnology, V. 3, P. 158 (2008)) qui doivent être évitées d'après la réglementation. Il apparait donc nécessaire de développer de nouvelles méthodes pour enlever ces impuretés, telle que celle présentée dans cette invention. Description de l'invention L'invention concerne un procédé d'élimination d'au moins une impureté de nanoparticules à base de métal, comprenant au moins deux étapes de chauffage dans lesquelles ou au cours desquelles: - Au cours de l'étape 1, la température des nanoparticules est augmentée à une température T1, puis maintenue à T1 pendant une durée de chauffage comprise entre 1 seconde et 20 ans, où Ti est compris entre 150 °C et 250 °C, - Au cours de l'étape 2, la température des nanoparticules est augmentée à une température T2, 20 puis maintenue à T, pendant une durée de chauffage comprise entre 1 seconde et 20 ans, où TEl est compris entre 350 °C et 450 °C. L'invention concerne le procédé selon l'invention comprenant une étape supplémentaire entre les étapes 1 et 2, préférentiellement appelée étape 3, dans laquelle la température des nanoparticules est augmentée à une température T3 puis est maintenue à T3 pendant un temps 25 de chauffage compris entre 1 seconde et 20 ans, où T3 est compris entre 250 °C et 350 °C. L'invention concerne également un procédé d'élimination d'au moins une impureté de nanoparticules à base de métal, comprenant au moins une étape de chauffage, choisie préférentiellement parmi les étapes 1, 2 et/ou 3. Dans un mode de réalisation de l'invention, la température des nanoparticules est maintenue à 30 la température T1, T? et/ou T3, pendant une durée de chauffage inférieure à 100 ans, 50 ans, 20 ans, 10 ans, 5 ans, 2 ans, 1 an, 11 mois, 6 mois, 3 mois, 2 mois, 1 mois, 3 semaines, 2 semaines, 1 semaine, 6 jours, 5 jours, 3 jours, 1 jour, 23 heures, 12 heures, 6 heures, 1 heure, 50 minutes, 30 minutes, 20 minutes, 10 minutes, 5 minutes, 2 minutes, 1 minute, 50 secondes, 30 secondes, 10 secondes, 1 seconde, 1 milliseconde ou 1 microseconde. 2 Dans un autre mode de réalisation de l'invention, la température des nanoparticules est maintenue à la température Th T2 et/ou T3, pendant une durée de chauffage supérieure à 1 microseconde, 1 milliseconde, 1 seconde, 10 secondes, 30 secondes, 50 secondes. secondes, 1 minute, 2 minutes, 5 minutes, 10 minutes, 1 heure, 6 heures, 12 heures, 23 heures, 1 jour, 3 5 jours, 5 jours, 6 jours, 1 semaine, 2 semaines, 3 semaines, 1 mois, 2 mois, 3 mois, 6 mois, 11 mois, 1 an, 2 ans, 5 ans, 10 ans, 20 ans, 50 ans ou 100 ans. Dans encore un autre mode de réalisation de l'invention, la température des nanoparticules est maintenue à la température Ti, T, et/ou T3, pendant une durée de chauffage comprise entre 1 microseconde et 100 ans, 1 seconde et 20 ans, 1 seconde et 1 an, 1 seconde et 1 mois, 1 10 seconde et 1 jour, 1 minute et 1 jour, 5 minutes et 1 jour, 10 minutes et 12 heures, 30 minutes et 6 heures ou entre 30 minutes et 3 heures. Dans un mode de réalisation de l'invention, la durée de chauffage est supérieure à la durée pendant laquelle la température est augmentée jusqu'à Th T2 et/ou T3, de préférence d'un facteur supérieur à 1,001, 1,1, 1,5, 2, 5, 10, 103, 105 ou 1010 . 15 Dans un mode de réalisation de l'invention, T1 est compris entre -273 °C et 250 °C, -200 °C et 250 °C, -100 et 250 °C, 0 et 250 °C, 50 et 250 °C, 150 et 250 °C, ou entre 180 et 220 °C. Dans un mode de réalisation de l'invention, T2 est compris entre 200 et 105, 250 et 105, 300 et 10', 350 et 10', 350 et 103, 350 et 500, 350 et 450, ou entre 360 et 400 °C. Dans certains cas, T3 est compris entre -273 et 105, -200 et 103, -100 et 500, -50 et 200, 0 et 500, 100 et 500, 200 et 500, 200 et 400, ou entre 250 et 350 °C. Dans encore un autre mode de réalisation de l'invention, T3 est compris entre Ti et T2. Dans certains cas, T3 est inférieure à T2, préférentiellement d'un facteur supérieur à 1,0001, 1,1, 1,2, 1,5, 2, 5, 10, 103 ou 10'. Dans d'autres cas, T3 est supérieure à TI, préférentiellement d'un facteur de plus de 1,0001, 1,1, 1,2, 1,5, 2, 5, 10, 103 ou 105. Dans un mode de réalisation de l'invention, la température des nanoparticules est la température de l'appareil de chauffage ou du four utilisé pour chauffer les nanoparticules et/ou comprenant les nanoparticules, préférentiellement avant, pendant ou après le traitement des nanoparticules par la méthode. Dans un mode de réalisation de l'invention, la méthode comprend au moins deux étapes de chauffage désignées étape 1 ou étape 1 de chauffage et étape 2 ou étape 2 de chauffage. Dans un mode de réalisation de l'invention, [Ti, T2] est l'intervalle de température dans lequel: i) la variation ou la perte en fonction de la température du poids ou de la masse des nanoparticules est la plus grande, ou ii), le dérivé de la variation ou perte en fonction de la température du poids ou de la masse des nanoparticules est la plus grande. 3 Dans un mode de realization de l'invention, le rapport PAW(T2)-%W(TI)]/(T2-T1), où %W(T2) and %W(T1) sont les pourcentages en poides des nannoparticules T2 et T1, respectivement, est plus grand que 10-5°, 10-3°, 10-20, 10-10, 10-5, 0.01, 0.02, 0.03, 0.05, 0,1, 0,2, 0,3, 0,5, 1, 10 or 105 %/°C. Dans certains cas, ce rapport est important lorsque le 5 pourcentage en masse de carbone dans les nanoparticules, préférentiellement avant le traitement des nanoparticules par ou avec la méthode, est grand, préférentiellement supérieur à 10-20, 10-10, 10-5, 2 101, 1, 5, 10, 20, 50, 75, 85, 95 ou 100%. Dans un mode de réalisation de l'invention, le rapport [%W(T2)-%W(T2)]/(T2-T1) est plus , petit que 10', 10", 10", tu5, 10, 5, 2, 1, 0,5, 0,05, 10-3, 10'5, 10-10 or 10-20 %/°C. Dans 10 certains cas, ce rapport est faible lorsque le pourcentage en masse de carbone dans les nanoparticules, préférentiellement avant le traitement des nanoparticules par ou avec la méthode, est faible, préférentiellement inférieur à 100, 95, 80, 70, 50, 30, 20, 10, 5, 2, 1, 10-1, 10-3, 10-5, 10-10 or 10'20%. Dans un autre mode de réalisation de l'invention, le rapport [%W(T2)-%W(T2)]/(T2-T2) est 15 plus grand que le rapport [%W(T2)-%W(T 17)-%W(T2)]/(T>12-T2), dans certains cas préférentiellement par un facteur de plus de 1,00001, 1,001, 1,01, 1,1, 1,2, 1,5, 2, 5, 10, 103, 105 ou 1010, dans certains autres cas préférentiellement d'un facteur de moins de 1010, 105, 103, 10, 5, 2, 1,5, 30 1,2, 1,1, 1,01, 1,001 ou 1,00001, où %W(LT2) est le pourcentage en poids des nanoparticules à T>T2 et T>T2 est une température plus large que T2, dans certains cas préférentiellement par un facteur de plus de 1,00001, 1,001, 1,01, 1,1, 1,2, 1,5, 2, 5, 10, 103, 105 ou 1010, dans d'autres cas préférentiellement d'un facteur de moins de 1010, 105, 103, 10, 5 2, 1,5, 1,2, 1,1, 4 1,01, 1,001 ou 1.00001. Dans certains cas, cette situation se produit lorsque la variation en poids des nanoparticules est plus large entre Ti et T2 qu'entre T2 et T>T2. Dans certains cas, T>T2 est trop grand pour enlever une quantité significative de matière organique, carbone ou matière carbonée. Dans certains autres cas, T>12 a cristallisé la matière organique, le carbone, 5 ou la matière carbonée des nanoparticules, préférentiellement empêchant son enlèvement des nanoparticules. Dans encore d'autres cas, T>,17 a détruit les nanoparticules. Dans un mode de réalisation de l'invention, T1 est plus grand que T T2, 20 ii) mesure, représentation, considération ou examination ou utilisation d'au moins un pic de la dérivée de la variation de ce pourcentage en fonction de la température, iii) estimation ou déduction de la variation du pourcentage en poids des nanoparticules en fonction de la température, de l'intervalle de température dans lequel cette variation est 5 maximale, où les températures minimale et maximale de cet intervalle sont respectivement T1 et T2, iv) estimation ou déduction de la courbe la dérivée de la variation du pourcentage en poids des nanoparticules, préférentiellement sur un axe y ou vertical, en fonction de la température, préférentiellement un axe x ou un axe horizontal, d'au moins: a), la position et/ou l'existence 10 d'au moins un pic dans cette courbe, b), la température, préférentiellement T1, correspondant ou se situant au début de ce pic ou en aval de ce pic ou à l'emplacement où le pic commence à afficher une augmentation de la dérivée de la variation du pourcentage en poids des nanoparticules en fonction de la température ou à l'emplacement où la température Ti est inférieure, de préférence d'un facteur supérieur à 1,0001, 1,1, 1,2, 1,5, 2, 5, 10, 103, 105, 107 15 ou 101°, à la température correspondant ou menant à la valeur maximale de ce pic, Tmaxp°alc, ou à l'endroit où la température est la plus basse, préférentiellement d'un facteur supérieur à 1010, 10-5, 10-3, 104, 1, 5, 10 ou 100 °C que Tmaxpe'k ou à l'endroit où la température T1 est inférieure, de préférence d'un facteur supérieur à 1,0001, 1,1, 1,2, 1,5, 2, 5, 10, 103, 105, 107 ou 1010, à la température correspondant à ou conduisant à la valeur minimale de la largeur à 20 mis hauteur (FWHM) de ce pic, Tni,'FwRig, ou à l'endroit où la température est plus basse, préférentiellement d'un facteur supérieur à 1040, 10-5, 10-3, 104, 1, 5, 10 ou 100 °C que c), la température, préférentiellement T2, correspondant ou se situant à l'extrémité de ce pic ou en amont de ce pic ou à l'emplacement où le pic se termine pour afficher une diminution de la dérivé de la variation du pourcentage en poids des nanoparticules en fonction 25 de la température ou à l'emplacement où la température T, est plus grande, préférentiellement d'un facteur supérieur à 1,0001, 1,1, 1,2, 1,5, 2, 5, 10, 103, 105, 107 ou 1010, que la température correspondant ou menant à la valeur maximale de ce pic, ou à l'emplacement où la température est plus grande, préférentiellement d'un facteur supérieur à 1040, 10-5, 10-3, 104, 1, 5, 10 ou 100 °C que T,''peak ou à l'endroit où la température T, est plus grande, 30 préférentiellement d'un facteur supérieur à 1,0001, 1,1, 1,2, 1,5, 2, 5, 10, 103, 105, 107 ou 101°, à la température correspondant ou menant à la valeur maximale de la largeur à mis hauteur (FWHM) de ce pic, TnunFWHM, ou à l'endroit où la température est plus grande, préférentiellement d'un facteur supérieur à 101° 10-5, 10-3, 10-1, 1, 5, 10 ou 100 °C à celui de Tma_xFSVHM. 21 Dans un mode de réalisation de l'invention, la figure 4 indique pour le pic de la dérivée de la variation de masse des nanoparticules, la position de T minnimm, TillaxFyalm, Tmaxpeak, T1, 12, T3, le début/l'aval de ce pic, la fin/l'amont de ce pic, Dans un mode de réalisation de l'invention, la température à laquelle ou pour laquelle ou à 5 laquelle le pic commence à afficher une augmentation de la dérivée de la variation du pourcentage en poids des nanoparticules en fonction de la température est la température à laquelle ou pour laquelle auquel le pic affiche une pente croissante de la dérivée de la variation du pourcentage en poids des nanoparticules en fonction de la température. Dans un mode de réalisation de l'invention, la température à laquelle ou pour laquelle ou à 10 laquelle le pic cesse d'afficher une augmentation de la dérivée de la variation du pourcentage en poids des nanoparticules en fonction de la température est la température à laquelle ou pour laquelle ou pour laquelle auquel le pic affiche une pente décroissante de la dérivée de la variation du pourcentage en poids des nanoparticules en fonction de la température. Dans un autre mode de réalisation de l'invention, le flux de chaleur des nanoparticules est le 15 flux de chaleur produit par les nanoparticules ou libéré par les nanoparticules ou provenant des nanoparticules, préférentiellement lorsque les nanoparticules sont chauffées avec un appareil de chauffage tel qu'un four. Préférentiellement, le flux thermique peut être mesuré avec un appareil ou en utilisant une méthode thermo-analytique, ou en utilisant l'analyse thermo-différentielle (DTA) ou en utilisant la calorimétrie différentielle à balayage (DSC). 20 Dans un autre mode de réalisation de l'invention, la température T, (i=1, 2 ou 3) est déterminée par: i) la mesure de la variation du flux de chaleur des nanoparticules en fonction de la température lorsque les nanoparticules sont chauffées entre deux températures TT,Ti et TT,T2, ii) la mesure, représentation ou considération ou examination ou utilisation d'au moins un pic 25 de la variation du flux de chaleur des nanoparticules en fonction de la température, iii), l'estimation de la température Th correspondant ou se situant au début de ce pic ou en aval de ce pic ou à la position où la température où le pic commence à afficher une augmentation de la variation du flux de chaleur des nanoparticules en fonction de la température ou à l'endroit ou à la température où la température T, est inférieure, de 30 préférence d'un facteur supérieur à 1,0001, 1,1, 1,2, 1,5, 2, 5, 10, 103, 105, 107 ou 1010, à la température correspondante ou conduisant à la valeur maximale de ce pic, T ou à l'emplacement où la température est inférieure, préférentiellement d'un facteur supérieur à 1010, 10-5, 10-3, 10-1, 1, 5, 10 ou 100 °C que Tmaxheatfill', ou à l'emplacement où la température T, est inférieure, de préférence d'un facteur supérieur à 1,0001, 1,1, 1,2, 1,5, 2, 5, 10, 103, 105 , 22 10' ou 1010, à la température correspondant ou menant à la valeur maximale de la largeur à mi-hauteur (FWHM) de ce pic, Tmaffwilmi'atflux, ou à l'endroit où la température est plus - basse, de préférence d'un facteur supérieur à 10 -1 °, 10 5, 10-', 10-1, 1, 5, 10 ou 100 °C que I'mnrWHMheatflux- 5 Dans un mode de réalisation de l'invention, la figure 3 indique trois pics de flux de chaleur produits lorsque des nanoparticules sont chauffées, avec la position de T1, T2, T3, TrninEWHMheatflow, TmawFWHMheafflow, Tmaxheatflow. Dans un mode de réalisation de l'invention, Tmin.i',p est la température minimale au-dessus de laquelle: une ou plusieurs impuretés, un matériau carboné ou du carbone sont enlevés ou 10 éliminés des nanoparticules. Dans certains cas, Tunn-imp est la température au-dessus de laquelle plus de 10-5°, 10-20, 10-10, 10-5, 10'2, 10-1, 1, 5, 10, 50 ou 75 pourcent, préférentiellement pourcentage en masse, de matériau carboné ou de carbone, préférentiellement compris dans les nanoparticules, est enlevé ou éliminé des nanoparticules. Ce pourcentage peut être élevé, par exemple lorsque T',in.imp est une température seuil au- 15 dessus de laquelle une grande quantité d'impureté(s) est éliminée ou enlevée des nanoparticules. Dans certains autres cas, Ttimp est la température au-dessus de laquelle moins de 75, 50, 10, 5, 1, 104, 10-2, 10'5, 1040, 10'2° ou 10-5° pourcent, préférentiellement pourcent en masse, de matériau carboné ou de carbone, préférentiellement compris dans les nanoparticules, est enlevé ou éliminé des nanoparticules. Ce pourcentage peut être faible, par 20 exemple lorsque la ou les impuretés sont éliminées de manière continue des nanoparticules lorsque celles-ci sont chauffées. Dans un autre mode de réalisation de l'invention, (T.,n), est la température des nanoparticules avant ou au début de l'étape i du procédé. Dans certains cas, (Tm;,,); peut être la température des nanoparticules avant que les nanoparticules ne soient traitées ou chauffées, de préférence 25 avec l'appareil de chauffage. Dans un autre mode de réalisation de l'invention, Tmax-nan° est la température de chauffage des nanoparticules au-dessus de laquelle les nanoparticules sont détruites ou dénaturées ou oxydées, préférentiellement oxydées pour induire une modification significative de ses propriétés magnétiques, telle qu'une perte de propriétés ferromagnétiques ou 30 ferrimagnétiques. Dans certains cas, T max-nano est la température au-dessus de laquelle les nanoparticules sont oxydées, en partie ou en totalité, en hématite ou en un type d'oxyde de fer autre que la maghémite ou la magnétite. 23 Dans un autre mode de réalisation de l'invention, T,''.',,,0 est la température des nanoparticules après le traitement des nanoparticules par la méthode ou après le chauffage des nanoparticules, de préférence avec l'appareil de chauffage. Dans un autre mode de réalisation de l'invention, (T.)i est la température des nanoparticules 5 après ou à la fin de l'étape i de la méthode. Dans certains cas, (T','')1 peut être la température des nanoparticules après le traitement ou le chauffage des nanoparticules, de préférence avec l'appareil de chauffage. Dans un mode de réalisation de l'invention, Tmin-imp et/ou Tma'-nano et/ou (Tmin); et/ou a ma--,)i est/sont compris entre -273 et 1010 °C, -273 et 103 °C, -250 et 100 °C, -100 et 50 °C, ou 5 et 10 50 °C. Dans un mode de réalisation de l'invention, Tm111-1111p et/ou T... et/ou (T.'), et/ou (Tmax), est/sont plus faible(s) que 10'0, 1020, 1010, 10', 103, 102, 10, 5, 1, 0, -10, -50, -100, -200, -250 ou -273 °C. Dans un mode de réalisation de l'invention, Tmir,..p et/ou T... et/ou (T.'), et/ou (T.,'), 15 est/sont plus grande(s) que -273, -250, -200, -150, -100, -50, -10, 0, 5, 10, 103, 105, 1010, 102° ou 10'0 °C. Dans un mode de réalisation de l'invention, Talln-imp est plus faible que T.. et/ou (Tmin)1 est plus faible que (T.',)i, préférentiellement par un facteur de plus de 1,0001, 1,1, 1,5, 2, 5, 10, 50 ou 100. 20 Dans un mode de réalisation de l'invention, Trniminip est plus faible que Ti et/ou T2 et/ou 13, préférentiellement par un facteur de plus de 1,0001, 1,1, 1,5, 2, 5, 10, 50 ou 100. Dans un mode de réalisation de l'invention, (Tillin)i est plus faible que Ti et/ou T2 et/ou 13, préférentiellement par un facteur de plus de 1,0001, 1,1, 1,5, 2, 5, 10, 50 ou 100. Dans un mode de réalisation de l'invention, T..uauo est plus grand que T1 et/ou T, et/ou T3, 25 préférentiellement par un facteur de plus de 1,0001, 1,1, 1,5, 2, 5, 10, 50 ou 100. Dans un mode de réalisation de l'invention, (Tma.2)1 is larger than T1 and/or 12 and/or 13, préférentiellement par un facteur de plus de 1,0001, 1,1, 1,5, 2, 5, 10, 50 ou 100. Dans un mode de réalisation de l'invention, le pic de la dérivée de la variation du pourcentage en poids des nanoparticules est une augmentation de cette dérivée, préférentiellement d'un 30 facteur supérieur à 1,1, 1,2, 5, 10, 50. 100, 103, 105, 1010 ou 105°, préférentiellement entre Ti et T3, suivie d'une diminution de cette dérivée, préférentiellement d'un facteur supérieur à 1,1, 1,2, 5, 10, 50, 100, 103, 105, 1010 ou 10'° préférentiellement entre T3 et T2. Dans certains cas, 13 peut conduire ou être le maximum du pic de cette dérivée. 24 Dans un mode de réalisation de l'invention, Ti et/ou T2 et/ou T3 sont compris entre -273 et 1010, -273 et 103, -250 et 103, -100 et W3, 0 et 103, 20 et 103, 50 et 500, ou entre 300 et 500 Dans un mode de réalisation de l'invention, Ti et/ou T2 et/ou T3 est/sont inférieure(s) à 10'°, 5 102°, le, 105, 103, 102, 10, 5, 1, 0, -10, -50, -100, -200, -250 ou -273 oc. Dans un autre mode de réalisation de l'invention, Ti et/ou 12 et/ou T3 est/sont supérieure(s) à - 273, -250, -200, -150, -100, -50, -10, 0, 5, 10, 103, 105, 1010, 1020 ou 105° °C. Dans un mode de réalisation de l'invention, la durée de chauffage th t2 et/ou t3 est comprise entre 1050 et 1050, 1020 et 1020, 1010 et 1010, 10'5 et 105, 10-3 et 103, 10-2 et 103, 10'2 et 100, ou 10 entre 10'1 et 100 heure(s). Dans un autre mode de réalisation de l'invention, la durée de chauffage t1, t2 et/ou t3 est/sont inférieure(s) à 105°, 1030, 1020, 1010, 10', 103, 10, 1, 101, 10'3 ou 105 heure(s). Dans un autre mode de réalisation de l'invention, la durée de chauffage t1, t2 et/ou t3 est supérieure à 10'50, 10'3°, 10'2°, 1040, 10'5, 10'3, 101, 1, 10, 103 ou 105 heure(s). 15 Dans un mode de réalisation de l'invention, le pourcentage de variations de température lorsque la température est maintenue à la température Th T, ou T3, pendant th t2 et/ou t3, est inférieur à 100, 99, 90, 80, 70. 50, 30, 20, 10, 5, 2 ou 1%. Dans certains cas, ce pourcentage peut être Timax-TIminiTiav à l'étape 1, T2max-T2min/T2a, à l'étape 2, T3max-T /T à I .4 3, 3min - 3a3., l'étape où: i), Timm, Till,. et Th, sont les températures maximales, minimales et moyennes atteintes 20 pendant le maintien de la température à T1 au cours de ti de l'étape 1, ii), T71',, Tint et T),,, sont les températures maximales, minimales et moyennes atteintes pendant le maintien de la température à 12 au cours de t2 de l'étape 2 , iii), T3max, T3mi, et T3av sont les températures maximales, minimales et moyennes atteintes pendant le maintien de la température à T3 au cours de t3 de l'étape 3. 25 Dans un mode de réalisation de l'invention, le pourcentage de variations de température lorsque la température est maintenue à la température T1, 12 ou T3, pendant th t2 et/ou t3 des étapes 1, 2 et/ou 3, est inférieur à 100, 99, 90, 80, 70, 50, 30, 20, 10, 5, 2, 1, 1010 ou 10'5°%. Dans certains cas, ce pourcentage peut être faible lorsque le four utilisé pour chauffer les nanoparticules permet de maintenir une température stable et/ou lorsque les nanoparticules ne 30 libèrent pas ou n'absorbent pas de chaleur pendant le traitement par la méthode. Dans un mode de réalisation de l'invention, le pourcentage de variations de température lorsque la température est maintenue à la température T1,12 ou T3, pendant th t2 et/ou t3 des étapes 1, 2 et/ou 3, est supérieure à 10'5°, 10'20, 1040 10'5, 10'3, 104, 1, 5, 10, 20, 50, 75, 80, 90, 95, 99, 99,9 ou 100% Dans certains cas, ce pourcentage peut être important lorsque les 25 nanoparticules absorbent ou dégagent de la chaleur ou lorsque la température du four utilisé pour chauffer les nanoparticules ne peut pas être stabilisée. L'invention concerne également une méthode d'élimination d'au moins une impureté de nanoparticules à base de métal, dans laquelle, au cours de l'étape i, la température des 5 nanoparticules est augmentée jusqu'à une température T, et est maintenue à cette température pendant un temps de chauffage t2p, où cette étape peut être répétée n fois. Dans un mode de réalisation de l'invention, le procédé consiste à chauffer les nanoparticules à n températures différentes Ti... T,... T,' pendant les durées t,... t... t', correspondant aux différentes étapes de chauffage H,... H,... H0. 10 Dans un mode de réalisation de l'invention, la méthode consiste à chauffer la nanoparticule pendant au moins une étape de chauffage. Dans un mode de réalisation de l'invention, chaque étape de chauffage H, (1 REVENDICATIONS1. Méthode d'élimination d'au moins une impureté de nanoparticules à base de métal, comprenant au moins deux étapes de chauffage au cours desquelles : - Au cours de l'étape 1, la température des nanoparticules est augmentée à une température TI, puis maintenue à Ti pendant une durée de chauffage comprise entre 1 seconde et 1 mois, où Tt est compris entre 150 "C et 250 - Au cours de l'étape 2, la température des nanoparticules est augmentée à une température Ti, puis maintenue à 112 pendant une durée de chauffage comprise entre 1 seconde et 1 mois, on T1 est compris entre 350 cC et 450 'C. 2. Méthode selon la revendication 1, comprenant une étape supplémentaire entre les étapes 1 et 2, dans laquelle la température des nanoparticules est augmentée à une température Ti puis est maintenue à Ts pendant une durée de chauffage comprise entre 1 seconde et 1 mois, où T3 est compris entre 250 "C et 350 'C. 3. Méthode selon la revendication 1 ou 2, dans laquelle la température des nanoparticules est augmentée à une vitesse comprise entre 10-3 et 100 T/min. 4. Méthode selon l'une quelconque des revendications 1 à 3, dans laquelle le temps de chauffage, ti (en minutes), est proportionnel à la quantité de nanoparticules chauffées, Qfla',-, (en milligrammes): ti = ot.Q'''e, Où est compris entre 10-3 et 103. 5. Méthode selon l'une quelconque des revendications 1 à 4, dans laquelle la durée d'augmentation de la température pour atteindre TI, T, ou T3 est diminuée en réduisant le pourcentage d'humidité des nanoparticules. 6. Méthode selon l'une quelconque des revendications 1 à 5, dans laquelle au moins une étape de la méthode est réalisée en présence d'oxygène. 7. Méthode selon l'une quelconque des revendications 1 à 6, dans laquelle au moins une impureté est constituée de ou comprend ou provient de carbone ou d'un matériau carboné. 8. Méthode selon l'une quelconque des revendications 1 à 7, dans laquelle au moins une impureté est constituée de ou comprend ou provient d'une cellule, préférentiellement la cellule synthétisant les nanoparticules. 9. Nanoparticule(s) de haute pureté obtenue(s) par la méthode selon l'une quelconque des revendications 1 à 8. 10. Nanoparticule(s) selon la revendication 9, comprenant un pourcentage en masse de carbone ou de matériau carboné inférieur à 50, 30, 20, 10, 5. 2, 1, 10-2, 10-1 ou 10-1°%, préférentiellement inférieur à 0,4%. 11. Nanoparticule(s) de haute pureté selon l'une quelconque des revendications 9 à 10, comprenant un noyau et éventuellement un revêtement, le noyau comprenant: au moins 0,8 g d'oxyde de fer par gramme de noyau de nanoparticule, ii ), éventuellement un matériau dopant à une concentration commise entre 0,5 et 0,8 g de matériau dopant par granune de nanoparticule, et HO, des impuretés différentes du fer, de l'oxygène et du matériau dopant, à une concentration inférieure à 0,5 g d'impuretés par gramme de noyau de nanoparticules. 12. Nanoparticule(s) de haute pureté selon 1-une quelconque des revendications 9 à 11, qui est ou sont un ou des magnétosomes. 13. Composition, comprenant la ou les nanoparticules selon l'une quelconque des EEH revendications 9 à 12. j4. Dispositif médical comprenant la ou les nanoparticules d'oxyde de fer de haute pureté Mis en forme : Police Gras selon l'une quelconque des revendications 9 à 12.