Brevet FR3077303A1 — publié le 20190802

PROCEDE D'ANODISATION ET SYSTEME ASSOCIE Domaine de l'invention L'invention concerne le domaine technique de l'anodisation, en particulier de l'anodisation dure appliquée à de l'aluminium ou aux alliages d'aluminium. En particulier, il est question d'un procédé d'anodisation et d'un système associé. Etat de l'art Il existe différents procédés d'anodisation dure, aussi appelée oxydation anodique dure, pour l'obtention de couches dures sur aluminium ou alliages d'aluminium. Cependant, les procédés connus ne permettent que de traiter des alliages faiblement chargés en éléments d'addition. En effet, lors de l'application du procédé d'anodisation, la présence d'éléments d'addition induit souvent des hétérogénéités de croissance des couches anodiques ainsi que des phénomènes de brûlures, pouvant provoquer des destructions partielles ou totales des pièces traitées. Par ailleurs, les procédés connus ne permettent d'obtenir que des épaisseurs limitées, ce qui réduit le champ d'application d'une telle anodisation. De plus, les procédés usuels sont difficilement applicables sur des pièces ayant reçu préalablement un traitement d'oxydation sulfurique en fine épaisseur, typiquement en 2 et 7 pm. Dans ce cas, le traitement d'anodisation dure se traduit par une destruction partielle ou totale de la couche anodique mince, d'autant plus si celle-ci n'est pas protégée par un mode d'épargne adapté. Résumé de l'invention Un but de l'invention est de pallier au moins un des inconvénients présentés ci-avant. 5 A cet effet, il est prévu un procédé d'anodisation d'au moins une partie d'une pièce comprenant de l'aluminium ou un alliage d'aluminium, comprenant les étapes suivantes : - immersion de la partie dans un bain aqueux comprenant de l'acide sulfurique, 10 - application à la partie immergée dans le bain d'un courant électrique pulsé et/ou d'une tension électrique pulsée, la durée d'impulsion du courant pulsé et/ou de la tension pulsée étant comprise entre 1 et 60 ms et la durée de temps de repos du courant pulsé et/ou de la tension pulsée étant comprise entre 1 et 15 60 ms, comprenant une montée en densité de courant moyenne à une vitesse comprise entre 0,07 et 20 A/dm2/min jusqu'à une densité de courant moyenne comprise entre 2 et 10 A/dm2, de sorte à obtenir sur au moins une surface de la partie une couche anodique ayant une épaisseur comprise entre 20 et 250 pm. 20 L'invention est avantageusement complétée par les caractéristiques suivantes, prises seules ou en une quelconque de leurs combinaisons techniquement possibles : - le ratio de la durée d'impulsion par rapport à la durée de temps de repos est compris entre 1/60 et 1/2, par exemple entre 1/20 et 25 1/2, par exemple entre 1/20 et 1/4, - le courant pulsé et/ou la tension pulsée comprend au moins une impulsion positive et/ou au moins une impulsion négative par période, - l'étape d'application comprend, successivement à la montée en 30 densité de courant, un maintien de la densité de courant moyenne à une valeur de densité de courant dite de palier, 2 3 - la concentration d'acide sulfurique dans le bain aqueux est comprise entre 100 et 350 g/L, - le bain comprend en outre un acide faible, en particulier de l'acide oxalique ou de l'acide glycolique, 5 - le bain aqueux est brassé par une rampe d'agitation microporeuse, - la rampe présente une pression dynamique en entrée comprise entre 0,1 et 0,3 bar et un débit d'air compris entre 3 et 9,8 m3/h pour 150 L de bain aqueux, 10 - l'alliage d'aluminium comprend un ou plusieurs éléments d'addition, en particulier du cuivre et/ou du silicium, - le procédé est un procédé de réparation par rattrapage de cote. L'invention concerne également un système de traitement d'au moins une 15 partie d'une pièce comprenant des moyens de commande configurés pour mettre en oeuvre un tel procédé. Brève description des figures 20 D'autres caractéristiques et avantages de l'invention apparaitront lors de la description ci-après d'un mode de réalisation. Aux dessins annexés : - la figure 1 représente schématiquement un procédé selon un exemple de mode de réalisation de l'invention, 25 - la figure 2 représente schématiquement un système selon un exemple de mode de réalisation de l'invention, - les figures 3a et 3b représentent schématiquement un exemple de courant pulsé et de tension pulsée selon un exemple de mode de réalisation, 30 - les figures 4a et 4b représentent schématiquement des exemples de courant pulsé selon un autre exemple de mode de réalisation, 4 - les figures 5a et 5b représentent schématiquement des exemples de densité de courant pulsée selon un autre exemple de mode de réalisation - les figures 6a et 6b représentent schématiquement des exemples 5 de tension pulsée selon un autre exemple de mode de réalisation. DESCRIPTION Conditions générales du procédé 10 En référence à la figure 1, il est décrit un procédé d'anodisation. Le procédé est par exemple mis en oeuvre au moyen d'un système tel que décrit ci-après. 15 Partie Le procédé est appliqué sur au moins une partie d'au moins une pièce. Le procédé peut être appliqué à plusieurs parties d'une même pièce. Le procédé peut être appliqué simultanément à une ou plusieurs parties de 20 plusieurs pièces, les pièces étant destinées à subir simultanément les étapes du procédé. Le procédé peut être appliqué à une pièce entière, cette pièce étant destinée à être entièrement immergée lors du procédé. Le procédé peut être appliqué à une partie de la pièce seulement. 25 Dans ce cas, le procédé n'est pas appliqué à une partie dite épargnée ou à épargner de la pièce. Dans ce cas, la pièce peut être entièrement immergée lors du procédé, la partie à laquelle le procédé doit être appliqué étant alors immergée et la partie épargnée étant masquée pour être protégée. Le masquage peut être réalisé en apposant un film de protection, un vernis, un 30 scotch d'épargne ou un bouchon sur la partie épargnée. Dans ce cas, l'intégralité de la pièce est immergée. 5 Alternativement, l'intégralité de la pièce peut être immergée, notamment si l'immersion ne risque pas de dégrader la partie épargnée de la pièce et que la partie épargnée reste inerte face au procédé. Dans le reste de la description, et sauf mention contraire, le terme 5 « partie » se réfère à l'au moins une partie à laquelle est appliqué le procédé, par opposition à la partie épargnée, ou à la pièce entière si le procédé lui est appliqué entièrement. La pièce peut comprendre au moins une partie, par exemple plusieurs parties, traitée, par exemple recouverte(s), par exemple de sorte 10 à être épargnée(s). L'au moins une partie traitée peut être recouverte d'une couche anodique, par exemple une couche dite d'anodisation sulfurique, par exemple une couche fine, par exemple d'épaisseur comprise entre 2 et 12 pm, par exemple d'épaisseur comprise entre 2 et 8 pm, par exemple d'épaisseur comprise entre 3 et 5 pm. L'au moins une partie traitée peut 15 être recouverte ou revêtue d'une couche d'anaphorèse, par exemple d'épaisseur comprise entre 2 et 40 pm. Le procédé peut ainsi comprendre, préalablement à l'étape d'immersion décrite ci-après, une étape de traitement 101 d'au moins une partie de la pièce. Le traitement 101 peut comprendre un traitement par oxydation, par exemple par anodisation, par 20 exemple anodisation sulfurique, pour la recouvrir d'une couche anodique. Alternativement ou en complément, le traitement 101 peut comprendre un traitement par anaphorèse pour la recouvrir d'une couche d'anaphorèse. La pièce est par exemple une pièce simple, c'est-à-dire qu'elle a une forme aisément modélisable par un objet en deux dimensions. Une pièce 25 simple est par exemple un objet sensiblement plat tel qu'une plaque, ou un objet ayant deux faces lisses. Une tige est un autre exemple de pièce simple. Alternativement, la pièce peut être une pièce complexe, c'est-à-dire une pièce nécessitant une modélisation en trois dimensions, par exemple car elle comprend un ou plusieurs corps creux. La pièce complexe est par 30 exemple une pièce d'équipement, tel qu'un corps, un vérin, une chape, ou une pièce de structure, par exemple une pièce comprenant un assemblage 6 d'éléments, par exemple un assemblage riveté, par exemple un assemblage non riveté, par exemple un assemblage soudé, par exemple un assemblage soudé par friction malaxage, par exemple un assemblage non soudé. 5 La partie est métallique. La partie comprend de l'aluminium et/ou un alliage d'aluminium. La partie peut être en l'aluminium et/ou en un alliage d'aluminium. La partie ou la pièce est par exemple en aluminium et/ou en un alliage d'aluminium. 10 La partie ou la pièce comprend par exemple en outre un ou plusieurs éléments d'addition. La partie peut comprendre du cuivre, par exemple entre 0 et 6 %m (%m signifiant pourcentage massique) de cuivre, par exemple entre 0,1 et 6 %m, par exemple entre 1 et 6 %m, par exemple entre 2 et 6 %m, par exemple entre 4 et 6 %m. La partie peut comprendre du zinc 15 par exemple entre 0 et 7 %m de zinc, par exemple entre 0,02 et 7%m, par exemple entre 2 et 7%m, par exemple entre 2 et 6%m de zinc. La partie peut comprendre du silicium, par exemple entre 0 et 13 %m de silicium, par exemple entre 0,1 et 13 %m. La partie peut comprendre du lithium, par exemple entre 0 et 5%m de lithium, par exemple entre 0,1 et 5 %m, par 20 exemple entre 0,1 et 4 'Yom. La partie peut comprendre ou être en un alliage de fonderie. La partie peut comprendre ou être en l'alliage AU5NKZr. La partie peut comprendre ou être en l'alliage AS9U3. L'alliage peut être moulé, par exemple moulé sous pression. 25 La partie peut comprendre ou être en l'alliage AG5. La partie peut comprendre ou être en l'alliage AU4GT3. La pièce est par exemple une pièce de corps de gyroscope, ou de corps de servo-commande, ou de pale de fenestron d'hélicoptère, ou de corps de vérin hydraulique, ou de poulie à gorge et/ou crantée, par exemple 30 pour machine trieuse, ou de corps à pompe, ou de vanne de système de distribution, ou de glissière de rack pour équipement électronique, ou de 7 glissière de porte de véhicule de transport. Pour ces éléments, l'amélioration des propriétés tribologiques (dureté et résistance à l'abrasion accrues) résultant de la couche obtenue comme décrit ci-après sont particulièrement avantageuses. 5 Immersion Le procédé comprend une étape d'immersion 102 de la partie dans un bain aqueux comprenant de l'acide sulfurique. 10 La concentration de l'acide sulfurique est par exemple comprise entre 100 et 350 g/L, par exemple supérieure ou égale à 150 g/L, par exemple inférieure ou égale à 330 g/L, par exemple entre 150 et 330 g/L. Le bain peut comprendre un acide faible, par exemple de l'acide oxalique et/ou de l'acide glycolique. La concentration en acide oxalique est 15 par exemple comprise entre 10 et 16 g/L. La concentration en acide glycolique est par exemple comprise entre 15 et 45 g/L. Le bain aqueux peut comprendre de l'eau déminéralisée ayant une conductivité comprise entre 0,06 et 20 pS/cm, par exemple entre 0,5 et 10 pS/cm, par exemple entre 1 et 5 pS/cm, par exemple entre 1 et 3 pS/cm, 20 par exemple égale à 2 pS/cm. Le bain aqueux peut comprendre du glycérol, par exemple à une concentration comprise entre 12 et 38 g/L. Le bain aqueux peut ainsi comprendre de l'acide sulfurique à une concentration comprise entre 100 et 350 g/L, par exemple entre 150 et 330 25 g/L, et de l'acide oxalique à une concentration comprise entre 10 et 16 g/L. Le bain aqueux peut ainsi comprendre de l'acide sulfurique à une concentration comprise entre 100 et 350 g/L, par exemple entre 150 et 330 g/L, et de l'acide glycolique à une concentration comprise entre 15 et 45 g/L, et du glycérol à une concentration comprise entre 12 et 38 g/L. 8 Le bain peut être à une température comprise entre -5 et 15°C., par exemple entre 0 et 5°C, par exemple entre -5 et 5 °C, par exemple entre 1 et 3 °C, par exemple environ 2°C. Le procédé comprend par exemple une étape de commande de la 5 température du bain. L'étape de commande de la température du bain est par exemple une étape de maintien de la température du bain. L'étape de commande de la température du bain comprend par exemple la mesure de la température du bain. L'étape de commande de la température du bain comprend par exemple l'émission par des moyens de commande d'une 10 commande de chauffage à partir de la mesure de la température du bain. L'étape de commande de la température du bain comprend par exemple la réception de la commande de chauffage par des moyens de chauffage du bain et la variation de la chaleur émise par les moyens de chauffage en fonction de la commande de chauffage reçue. L'étape de commande de la 15 température peut être réalisée de manière dynamique durant une période donnée, par exemple au moins tant que la partie est immergée. L'étape de commande de la température peut être répétée, par exemple périodiquement. Le bain est par exemple contenu dans une cuve. La cuve définit par 20 exemple la masse pour l'étape d'application décrite ci-après. Le bain peut être brassé et/ ou agité par un gaz, par exemple par de l'air, par exemple lors de l'étape d'immersion et/ou d'application d'une tension qui est décrite en détail ci-après. Le bain est par exemple brassé par une rampe, par exemple une rampe d'agitation, par exemple une rampe 25 d'agitation microporeuse. La rampe d'agitation microporeuse permet de mieux dissiper la chaleur par la formation de microbulles. La rampe d'agitation microporeuse comprend par exemple du polyéthylène microporeux. La porosité du tube est par exemple comprise entre 10 et 100 pm, par exemple entre 15 et 100 pm, par exemple 20 pm. La rampe 30 présente par exemple une pression dynamique en entrée comprise entre 0,1 et 0,3 bar. Le débit d'air de la rampe est par exemple compris entre 3 et 9 9,8 m3/h pour 150 L de bain aqueux, par exemple entre 5,6 et 9,8 m3/h pour 150 L de bain aqueux. Application d'un courant pulsé et/ou d'une tension pulsée 5 Le procédé comprend une étape d'application 104 à la partie immergée dans ledit bain d'un courant électrique, par exemple d'un courant électrique pulsé, et/ou d'une tension électrique, par exemple d'une tension électrique pulsée. L'étape d'application d'un courant pulsé et/ou d'une 10 tension pulsée est donc réalisée après que l'étape d'immersion ait débutée et pendant que la partie est immergée. Le courant pulsé et/ou la tension pulsée est par exemple délivré(e) par un générateur électrique. Le courant pulsé peut être délivré par un générateur de courant ou un redresseur de courant. La tension pulsée peut 15 être délivrée par un générateur de tension. Le courant pulsé et/ou la tension pulsée est par exemple obtenu(e) peut être obtenu à partir d'un signal de courant continu et/ou d'une tension continue. Le signal produit présente par exemple une tension maximale, par exemple une tension maximale d'impulsion, comprise entre 5 et 120 V, par 20 exemple entre 10 et 120 V, et/ou une intensité maximale, par exemple une intensité maximale d'impulsion, comprise entre 5 et 2500 A, par exemple entre 20 et 2500 A (en valeur positive comme négative selon que ces valeurs sont associées à une impulsion positive ou à une impulsion négative). 25 Par courant pulsé, on entend par exemple un signal dont l'intensité est périodique, la période ou pulsation étant constituée d'une ou plusieurs impulsions durant laquelle ou lesquelles le courant est non nul, et d'un ou plusieurs temps de repos, aussi appelé temps de pause, durant lequel ou lesquels le courant est nul. Par tension pulsée, on entend par exemple un 30 signal dont la tension est périodique, la période ou pulsation étant constituée d'une ou plusieurs impulsions durant laquelle ou lesquelles la 10 tension est non nulle, et d'un ou plusieurs temps de repos durant lequel ou lesquels la tension est nulle. La durée d'impulsion de courant pulsé est par exemple la durée cumulée de la ou des impulsion(s) de courant d'une période ou la durée 5 pendant laquelle le courant est délivré au cours d'une période ou la durée pendant laquelle le courant est non-nul au cours d'une période. La durée de temps de repos de courant est par exemple la durée cumulée du ou des temps de repos d'une période ou la durée pendant laquelle le courant n'est pas délivré au cours d'une période ou la durée pendant laquelle le courant 10 est nul au cours d'une période. La durée d'impulsion de tension est par exemple la durée cumulée de la ou des impulsion(s) de tension d'une période ou la durée pendant laquelle la tension est délivrée au cours d'une période ou la durée pendant laquelle la tension est non-nulle au cours d'une période. La durée de temps 15 de repos de tension est par exemple la durée cumulée du ou des temps de repos de tension d'une période ou la durée pendant laquelle la tension n'est pas délivrée au cours d'une période ou la durée pendant laquelle la tension est nulle au cours d'une période. Le courant pulsé est par exemple tel que la durée d'impulsion du 20 courant pulsé est comprise entre 1 et 60 ms, par exemple entre 1 et 5 ms, par exemple égale à 3 ms et/ou la durée du temps de repos du courant pulsé est comprise entre 1 et 60 ms, par exemple entre 4 et 30 ms, par exemple égale à 17 ms. Alternativement ou en complément, la tension pulsée est par exemple telle que la durée d'impulsion de la tension pulsée 25 est comprise entre 1 et 60 ms, par exemple entre 1 et 5 ms, par exemple égale à 3 ms et/ou la durée du temps de repos de la tension pulsée est comprise entre 1 et 60 ms, par exemple entre 4 et 30 ms, par exemple égale à 17 ms. La durée d'impulsion et/ou la durée de temps de repos est par exemple fixe. 30 La fréquence du courant pulsé et/ou la tension pulsée peut avoir une fréquence comprise entre 5 et 500 Hz, soit une période comprise entre 2 et 11 200 ms, par exemple entre 40 et 200 Hz, par exemple entre 40 et 60 Hz, par exemple égale à 50 Hz. Le ratio de la durée d'impulsion par rapport à la durée de temps de repos du courant pulsé et/ou de la tension pulsée peut être compris entre 5 1/60 et 1/2, par exemple entre 1/20 et 1/2, par exemple entre 1/20 et 1/4, par exemple entre 3/20 et 1/4, par exemple égal à 3/20. Le ratio est par exemple fixe. La durée d'impulsion et/ou de temps de repos du courant pulsé et/ou de la tension pulsée est par exemple contrôlée avec un pas donné, par 10 exemple prédéterminé, par exemple un pas de 1 ms. Le courant pulsé résulte en une tension pulsée et/ou en une densité de courant correspondante au niveau du bain et/ou de la partie. La tension pulsée résulte en un courant pulsé et/ou en une densité de courant correspondant(e) au niveau du bain et/ou de la partie. 15 Le courant pulsé et/ou la tension pulsée peut ainsi comprendre un signal pulsé en courant et/ou en tension. Le courant pulsé et/ou la tension pulsée comprend par exemple une valeur maximale ou de référence. La valeur maximale, par exemple d'impulsion, ou de référence de tension peut être comprise entre 10 et 120 20 V et/ou la valeur maximale d'intensité, par exemple d'impulsion peut être comprise entre 5 et 2500 A. Le courant pulsé traversant l'anode et/ou la tension pulsée appliquée à l'anode peut comprendre une ou plusieurs impulsion(s) positive(s) par période. Une telle impulsion permet de faire croître la couche. 25 Le courant pulsé traversant l'anode et/ou la tension pulsée appliquée à l'anode peut comprendre une ou plusieurs impulsion(s) négative(s) par période, par exemple postérieurement à la ou les impulsion(s) positive(s). Une telle impulsion permet d'attaquer la couche anodique formée, par exemple de sorte à éviter un colmatage de la couche, de sorte à assurer la 30 bonne croissance de la couche lors des périodes suivantes. 12 La ou les impulsion(s) positive(s) et la ou les impulsion(s) négative(s) peuvent être telles qu'à l'issue d'une période, l'épaisseur de la couche anodique a augmenté. L'impulsion ou chaque impulsion comprend par exemple une montée 5 initiale, par exemple abrupte ou à pic, et une descente finale, par exemple abrupte ou à pic. L'impulsion peut comprendre un profil décroissant en valeur absolue en tension et/ou en intensité, par exemple entre la montée initiale et la descente finale. 10 L'impulsion peut comprendre le maintien de la tension à une valeur de plateau, par exemple comprise entre 10 et 120 V en valeur absolue et/ou du courant à une valeur de plateau, par exemple comprise entre 5 et 2500 A en valeur absolue. La période peut ainsi comprendre le maintien d'une intensité et/ou 15 d'une tension à une première valeur de plateau déterminée, par exemple correspondant à une impulsion positive. En complément, la période peut comprendre le maintien d'une intensité et/ou d'une tension à une deuxième valeur de plateau déterminée, par exemple immédiatement après le maintien à la première valeur de plateau, par exemple correspondant à une 20 impulsion négative. La deuxième valeur de plateau peut être plus faible que la première valeur de plateau en valeur absolue. La deuxième valeur de plateau peut être de signe opposé à la première valeur de plateau. En référence aux figures 3a et 3b, un exemple de courant pulsé et/ou de tension pulsée est décrit, la courbe 302 représentant la tension et la 25 courbe 304 l'intensité. La figure 3a représente plusieurs périodes successives, la figure 3b représentant en détail une période du même courant et/ou de la même tension que la figure 3a. Sur la figure 3b, une division du cadrillage représente 50 V ou 0,5 kA en ordonnée et 500 ps en abscisse. La valeur maximale de tension est d'environ 100 V et la valeur 30 maximale d'intensité est d'environ 2400 A. 13 En référence aux figures 4a et 4b, des exemples de courant pulsé sont décrits. Les courbes 403a et 403b représentent chacune un courant. La courbe 403a comprend par exemple une impulsion comprenant le maintien du courant à une intensité de plateau Ic, par exemple positive par 5 exemple adaptée pour faire croître la couche anodique, pendant une durée Tc, puis un temps de repos de durée Tr, de sorte que Tc+Tr=T où T est la période. La courbe 403b comprend par exemple une impulsion comprenant le maintien du courant à une intensité de plateau Ic, par exemple positive, par exemple adaptée pour faire croître la couche anodique, pendant une 10 durée Tc, puis une impulsion comprenant le maintien du courant à une intensité de plateau la différente de Ic, par exemple négative par exemple adaptée pour diminuer l'épaisseur de la couche anodique, pendant une durée Ta, puis un temps de repos de durée Tr, de sorte que Tc+Ta+Tr=T où T est la période. L'intensité moyenne au cours de la période est lm et est 15 positive. En référence aux figures 5a et 5b, des exemples de densité de courant pulsée sont décrits. Les courbes 503a et 503b représentent chacune une densité de courant. La courbe 503a comprend par exemple une impulsion comprenant le maintien de la densité de courant à une 20 densité de courant de plateau Jc, par exemple positive, par exemple adaptée pour faire croître la couche anodique, pendant une durée Tc, puis un temps de repos de durée Tr, de sorte que Tc+Tr=T où T est la période. La courbe 403b comprend par exemple une impulsion comprenant le maintien de la densité de courant à une intensité de plateau Jc, par exemple 25 positive, par exemple adaptée pour faire croître la couche anodique, pendant une durée Tc, puis une impulsion comprenant le maintien de la densité de courant à une intensité de plateau Ja différente de Jc, par exemple négative par exemple adaptée pour diminuer l'épaisseur de la couche anodique, pendant une durée Ta, puis un temps de repos de durée 30 Tr, de sorte que Tc+Ta+Tr=T où T est la période. La densité de courant moyenne au cours de la période est Jm et est positive. 14 En référence aux figures 6a et 6b, des exemples de tension pulsée sont décrits. Les courbes 603a et 603b représentent chacune une tension. La courbe 403a comprend par exemple une impulsion comprenant le maintien de la tension à une intensité de plateau Vc, par exemple positive, 5 par exemple adaptée pour faire croître la couche anodique, pendant une durée Tc, puis un temps de repos de durée Tr, de sorte que Tc+Tr=T où T est la période. La courbe 403b comprend par exemple une impulsion comprenant le maintien de la tension à une intensité de plateau Vc, par exemple positive, par exemple adaptée pour faire croître la couche 10 anodique, pendant une durée Tc, puis une impulsion comprenant le maintien de la tension à une intensité de plateau Va différente de Vc, par exemple négative par exemple adaptée pour diminuer l'épaisseur de la couche anodique, pendant une durée Ta, puis un temps de repos de durée Tr, de sorte que Tc+Ta+Tr=T où T est la période. La tension moyenne au 15 cours de la période est Vm et est positive. L'application du courant pulsé et/ou de la tension pulsée comprend au moins une montée en densité de courant moyenne à une vitesse comprise entre 0,07 et 20 A/dm2/min, par exemple entre 0.07 et 10 A/dm2/m in, par exemple entre 0.07 et 8 A/dm2/min, par exemple entre 0.07 20 et 6 A/dm2/min, par exemple entre 0.07 et 5 A/dm2/min. La densité de courant moyenne est par exemple une densité de courant moyennée sur au moins une période du courant pulsé et/ou de la tension pulsée, par exemple sur une seule période et/ou sur une pluralité de périodes, par exemple deux périodes ou cinq périodes. 25 Le contrôle de ce paramètre permet une meilleure maitrise de l'apport de courant et/ou de tension au démarrage et d'améliorer la répartition d'épaisseurs de couche anodique sur des pièces complexes, d'éviter les échauffements, de permettre une croissance uniforme de la couche anodique et de maitriser la rugosité de surface. 30 L'application du courant pulsé peut comprendre une ou plusieurs telles montée(s) en densité de courant et/ou une ou plusieurs autres 15 montée(s) en densité de courant. Les montées en densité de courant peuvent être successives de manière ininterrompue ou séparées par une ou plusieurs plages, par exemple de maintien de la densité de courant à une valeur constante. 5 La ou les montée(s) en tension sont par exemple appliquées jusqu'à atteindre une valeur de densité de courant, par exemple dite de palier, comprise entre 2 et 10 A/dm2, par exemple entre 3 et 5 A/dm2. La montée en tension et/ou en courant dure par exemple entre 12s et 30 min, par exemple entre 30 sec et 15 min, par exemple 1 et 10 min. 10 L'application peut par exemple comprendre le contrôle de l'amplitude d'impulsion, par exemple à durée d'impulsion fixe et/ou durée de temps de repos fixe, par exemple une amplitude d'impulsion croissante, de sorte à effectuer la montée en tension. L'application du courant pulsé peut comprendre, successivement à 15 la montée en densité de courant moyenne, un maintien de la densité de courant moyenne à la valeur de densité de courant moyenne dite de palier. L'application du courant pulsé et/ou de la tension pulsée, par exemple l'au moins une montée en densité de courant et/ou le maintien, est par exemple réalisée de sorte à obtenir, par exemple jusqu'à obtenir, sur au 20 moins une surface de la partie, par exemple sur toute la surface, une couche anodique ayant une épaisseur comprise entre 20 et 250 pm, par exemple entre 25 et 250 pm, par exemple supérieure ou égale à 100 pm, par exemple entre 100 et 250 pm, par exemple supérieure ou égale à 120 pm, par exemple entre 120 et 250 pm. L'application du courant pulsé et/ou de 25 la tension pulsée peut ainsi être commandée de sorte à ce que la croissance de la valeur d'épaisseur ne se poursuive pas au-delà de la valeur déterminée. La répartition d'épaisseur de la couche anodique formée est par exemple homogène. Par homogène on entend une variation d'épaisseur de 30 la couche inférieure ou égale à 30%. 16 Il est ainsi possible d'obtenir un procédé d'anodisation bien maîtrisé pour de telles épaisseurs, qui ne détruit pas les pièces. Il est en particulier possible de maîtriser avec précision la vitesse d'anodisation sans brûlure, ce qui permet une grande fiabilité et donc de l'appliquer à des pièces 5 coûteuses ou d'utilisation postérieure délicate, par exemple servant de sécurité. Les limitations des procédés conventionnels sont entre autres liées à des difficultés d'évacuation de la chaleur produite lors de la réaction de formation de l'oxyde : 10 2A13+ + 302 A1203 (400 kcal mole -1) Le procédé décrit ici, par l'application de courant spécifique décrite ici, permet de surmonter cette difficulté en permettant une meilleure évacuation de la chaleur produite et donc d'éviter un emballement de la réaction d'oxydation conduisant à des phénomènes de brûlure. 15 Un tel procédé permet de traiter beaucoup plus d'alliages d'aluminium, en particulier les alliages aluminium-lithium et les alliages de fonderie. Un tel procédé ne nécessite pas d'avoir plusieurs bains d'anodisation traitant différents alliages dans un même atelier. Il en résulte une diminution des coûts associés à l'anodisation. 20 D'autre part, et particulièrement pour les alliages comprenant des éléments d'addition, notamment les alliages chargés en cuivre, le procédé, par l'application de courant pulsé et/ou de tension pulsée spécifique décrite ici, permet d'éviter de trop fortes densités de courant sur les aspérités de l'interface métal/oxyde et donc, conduit à un traitement identique à ce qui 25 est obtenu sur les autres catégories d'alliage. Il est également possible d'obtenir des épaisseurs élevées même pour des alliages comprenant des pourcentages élevés en éléments d'addition tels que décrits précédemment, par exemple en cuivre, en particulier dans le cas des alliages d'aluminium. En outre, la couche 30 d'anodisation ayant une épaisseur formée pour moitié par surépaisseur, il est ainsi possible d'obtenir des gonflements importants en particulier dans 17 le cas d'un alésage où tout le pourtour est soumis au gonflement. Il est ainsi possible d'utiliser le procédé pour réparer des pièces par rattrapage de cote. Le procédé peut ainsi être un procédé de réparation d'au moins une partie, par exemple un procédé de réparation par rattrapage de cote. 5 Une telle forme de courant pulsé et/ou de tension pulsée, par exemple obtenue avec un tel redresseur permet d'obtenir des couches anodiques de meilleure qualité avec des duretés plus importantes et une meilleure résistance à l'abrasion Le courant pulsé et/ou la tension pulsée est par exemple filtré(e) au 10 moyen d'un filtrage, par exemple un filtrage de la tension ou du courant, par exemple par un filtrage de la tension ou du courant résiduel(le), par exemple un filtrage compris entre 0.5 et 5 %. Couche anodique 15 L'épaisseur de la couche anodique obtenue peut être comprise entre 20 et 40 pm. Une telle épaisseur est particulièrement avantageuse lorsqu'une faible rugosité est recherchée et qu'une reprise d'usinage n'est pas nécessaire. Une telle épaisseur est aussi avantageuse lorsque que le 20 traitement est suivi d'une imprégnation de polytétrafluoroéthylène (aussi appelé téflon) pour l'amélioration des performances tribologiques. L'épaisseur de la couche anodique obtenue peut être comprise entre 40 et 60 pm. L'épaisseur de la couche anodique obtenue peut être comprise entre 25 60 et 90 pm. Une telle épaisseur est particulièrement avantageuse lorsque le procédé comprend au moins une étape postérieure de reprise d'usinage, par exemple par rectification, et/ou de rodage, et/ou de polissage, par exemple afin d'obtenir un état de surface très fin ou une cote très précise. L'épaisseur de la couche anodique obtenue peut être comprise entre 30 90 et 250 pm, l'alliage d'aluminium comprenant un ou plusieurs éléments d'addition, en particulier du cuivre, ce qui est possible avec le procédé. 18 L'épaisseur de la couche anodique obtenue peut être comprise entre 90 et 150 pm. Une telle épaisseur est particulièrement avantageuse lorsque l'étape d'application 104 permettant l'obtention de la couche anodique permet la réparation, par exemple la remise à la cote de pièces usées. 5 Le procédé décrit ici permet d'améliorer grandement le comportement de la partie comprenant un alliage d'aluminium au frottement par glissement ou par roulement de par la couche anodique ainsi formé, qui est dense et/ou dur et/ou adhérent. Le procédé permet d'obtenir une microdureté accrue par rapport à 10 l'art antérieur, ainsi qu'une meilleure résistance à la corrosion. Le procédé peut être mis en oeuvre en vue d'applications électriques. Le procédé peut permettre d'obtenir une couche anodique avec une tension de claquage élevée. La couche anodique obtenue par le procédé présente par exemple une tension de claquage supérieure ou égale à 750 V et/ou 15 inférieure ou égale à 5000 V, par exemple inférieure ou égale à 2000 V. Il est ainsi possible d'améliorer l'isolation électrique de la pièce. Le procédé peut permettre d'obtenir des couches anodiques épaisses, ce qui permet d'empêcher la formation de couple galvanique, par exemple aluminium/acier ou aluminium/titane, pouvant conduire à la 20 destruction d'un assemblage. Etapes antérieures à l'immersion Oxydation anodique sulfurique ou dépôt de peinture par anaphorèse 25 L'étape d'immersion peut être précédée d'une étape d'oxydation anodique, par exemple d'anodisation sulfurique, par exemple d'oxydation anodique sulfurique en fine épaisseur, par exemple de sorte à obtenir une couche d'oxyde d'épaisseur comprise entre 2 et 7 pm. 30 Alternativement, l'étape d'immersion peut être précédée d'un dépôt de peinture obtenu par électrodéposition anionique (appelée aussi 19 anaphorèse), par exemple de sorte à obtenir une couche d'anaphorèse d'épaisseur comprise entre 2 et 12 pm, par exemple comprise entre 2 et 8 pm. Il est ainsi possible de mettre en oeuvre un traitement d'anodisation 5 dure postérieur à une oxydation anodique sulfurique ou une anaphorèse sans détruire cette oxydation sulfurique préalable, même lorsque la couche d'oxyde préalablement obtenue n'est pas protégée. Dégraissage 10 Le procédé peut comprendre en outre, antérieurement à l'immersion 102, par exemple postérieurement à l'oxydation anodique sulfurique préalable ou à l'anaphorèse, et/ou à l'étape 101 de traitement, une étape de dégraissage 110. Le dégraissage permet l'enlèvement des corps gras. 15 Le dégraissage est par exemple un dégraissage alcalin, en particulier un dégraissage alcalin sans borate. L'étape de dégraissage est par exemple suivie d'une étape de rinçage 112. Décapage 20 Le procédé peut comprendre en outre, antérieurement à l'étape d'immersion 102, une étape de décapage 114. Le décapage permet une désoxydation de la surface à traiter avant tout traitement de surface ultérieur. 25 L'étape de décapage 114 est par exemple réalisée postérieurement à l'étape de dégraissage 110, par exemple postérieurement à l'étape de rinçage 112 associée à l'étape de dégraissage 110. Le décapage peut comprendre un décapage sodique et/ou un décapage acide. Le décapage peut comprendre un décapage sodique suivi 30 d'un décapage acide. Le décapage acide permet de blanchir la surface. 20 L'étape de décapage est par exemple suivie d'une étape de rinçage 116, par exemple immédiatement suivie d'une étape de rinçage 116. Cette étape de rinçage 116 est alors antérieure à l'étape d'immersion. Le rinçage est par exemple appliqué à la partie seulement ou à l'ensemble de la pièce. 5 Le rinçage est par exemple un double rinçage. Le rinçage est par exemple à l'eau déminéralisée. Le rinçage est par exemple réalisé à température ambiante. Etapes postérieures à l'application 10 Rinçage L'étape d'immersion 102 et l'étape d'application 104 d'un courant pulsé et/ou d'une tension pulsée peuvent être suivies d'une étape de 15 rinçage 106 de la partie. La partie a donc été retirée du bain et n'est plus immergée. Le rinçage permet de retirer de l'acide à la surface de la partie. Le rinçage est par exemple appliqué à la partie seulement ou à l'ensemble de la pièce. Le rinçage est par exemple un double rinçage. Le rinçage est par exemple un rinçage à l'eau déminéralisé. Le rinçage est par 20 exemple réalisé à température ambiante. Le rinçage est par exemple réalisé par un moyen de rinçage par immersion de sorte à permettre le rinçage de la pièce après immersion dans le bain aqueux, par exemple un moyen de rinçage par spray, en particulier un spray et/ou un moyen de rinçage par immersion, en particulier un bain. 25 Le rinçage permet de faire dégorger la couche obtenue des résidus acides. Coloration/Imprégnation/Colmatage 30 Postérieurement à l'étape d'application 104 d'un courant pulsé et/ou d'une tension pulsée, et/ou à l'étape 106 et/ou 108, le procédé peut 21 comprendre une étape de coloration, et/ou de colmatage, par exemple de colmatage partiel ou total, par exemple dans un bain d'eau chaude. Le procédé peut comprendre en outre une étape d'imprégnation comprenant un inhibiteur de corrosion, par exemple de Cr III, ou du 5 polytétrafluoroéthylène (aussi appelé téflon), par exemple une imprégnation NITUFF. Une telle imprégnation comprenant du polytétrafluoroéthylène permet d'allier les caractéristiques de dureté et de résistance à l'usure de la couche anodique obtenu aux caractéristiques tribologiques du 10 polytétrafluoroéthylène. Il est ainsi possible d'obtenir des coefficients de frottement de l'ordre de 0,10 à 0,20 pour de l'alumine ainsi imprégnée, par exemple dans les conditions d'essai définies dans l'ASTM (« Active Standard Test Method ») G99-90. Une telle imprégnation permet également d'augmenter encore la 15 résistance à la corrosion sans diminuer la microdureté et la résistance à l'usure. Alternativement, le procédé peut comprendre une étape d'imprégnation de la pièce dans un bain, le bain contenant par exemple un inhibiteur de corrosion, par exemple un inhibiteur de type Cr III ou de 20 Cérium. L'immersion est par exemple réalisée pour une durée comprise entre 5 et 45 min. Le bain est par exemple à une température comprise entre 20 et 50°C, par exemple maintenu à une telle température. Le colmatage est par exemple postérieur à l'imprégnation. Le colmatage est par exemple un colmatage au K2CrO7, par exemple 25 à une concentration de 30 mg/L dans un bain aqueux. Le colmatage est par exemple réalisé à l'eau déminéralisée, par exemple à une température supérieure ou égale à 78°C, par exemple pendant une durée comprise entre 3 et 15 min. Le colmatage permet d'augmenter encore la résistance à la 30 corrosion. Rectification ou rodage La couche anodique ainsi obtenu est aisément rectifiable ou rodable. Le procédé peut ainsi comprendre une étape postérieure à l'étape 5 d'application d'un courant pulsé 104 de rectification et/ou de rodage Système En référence à la figure 2, il est décrit un système 200 de traitement, 10 par exemple d'anodisation, d'une pièce et/ou d'au moins une partie d'une pièce, par exemple de pièce et/ou de parties de pièces, par exemple configuré pour mettre en oeuvre un procédé tel que décrit ci-avant, le système 200 comprenant une cuve 202 configurée pour contenir le bain aqueux 204. 15 Le système 200 est par exemple configuré pour mettre en oeuvre un procédé tel que décrit ci-avant. Le système 200 peut comprendre des moyens de commande 206 configurés pour mettre en oeuvre ledit procédé. Les moyens de commande 206 peuvent comprendre une unité de commande. Les moyens de 20 commande 206 et/ou l'unité de commande peuvent comprendre des moyens de traitement de données, par exemple un processeur. Les moyens de commande 206 et/ou l'unité de commande peuvent comprendre des moyens de stockage de données, par exemple une mémoire, par exemple connectés aux moyens de traitement de données. 25 Le système 200 peut comprendre un générateur de courant pulsé et/ou de tension pulsée 208 adaptés pour être contrôlés par les moyens de commande 206, par exemple un redresseur. Le redresseur est par exemple un redresseur à thyristor et/ou un redresseur à découpage. 22 30 Résultats expérimentaux 23 Le tableau suivant indique des exemples de valeurs de duretés et de pertes de masses qui peuvent être obtenues par le procédé pour différentes familles d'alliages. Microdureté Vickers Perte de masse essai Famille d'alliage sous 50 g TABER (épaisseur 50 pm) CS 17/100 gr/10000 cy 2000 300 à 350 Hvo,o5 15 à 30 mg 5000 400 à 500 Hvo,o5 10 à 20 mg 6000 400 à 500 Hvo,o5 10 à 20 mg 7000 350 à 450 Hvo,o5 10 à 20 mg 5 Il est ainsi possible d'obtenir une microdureté accrue par rapport à l'art antérieur, tout en conservant des résultats comparables en termes de pertes de masse. Lorsqu'il est nécessaire d'obtenir à la fois résistance à la corrosion et 10 résistance à l'usure, le procédé décrit ci-avant s'avère particulièrement performant. Le tableau ci-dessous donne à titre de comparaison les résultats des tests au brouillard salin de plusieurs couches (exprimés en heures d'exposition, avant démarrage de la corrosion), selon l'ISO 9227 - NSS: 15 Alliages 2000 et 7000 Tenues BS (ISO 9227) Épaisseur de couche anodique de 50 pm non colmatée 50 h minimum Épaisseur de couche anodique de 50 pm colmatée au K2CrO7 (30 mg/1) REVENDICATIONS1. Procédé d'anodisation d'au moins une partie d'une pièce comprenant de l'aluminium ou un alliage d'aluminium, comprenant les étapes suivantes : - immersion de la partie dans un bain aqueux comprenant de l'acide sulfurique, - application à la partie immergée dans le bain d'un courant électrique pulsé et/ou d'une tension électrique pulsée, la durée d'impulsion du courant pulsé et/ou de la tension pulsée étant comprise entre 1 et 60 ms et la durée de temps de repos du courant pulsé et/ou de la tension pulsée étant comprise entre 1 et 60 ms, l'application comprenant une montée en densité de courant moyenne à une vitesse comprise entre 0,07 et 20 A/dm2/min jusqu'à une densité de courant moyenne comprise entre 2 et 10 A/dm2, de sorte à obtenir sur au moins une surface de la partie une couche anodique ayant une épaisseur comprise entre 20 et 250 pm. 2. Procédé selon la revendication 1, dans lequel le ratio de la durée d'impulsion par rapport à la durée de temps de repos est compris entre 1/60 et 1/2, par exemple entre 1/20 et 1/2, par exemple entre 1/20 et 1/4. 3. Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel le courant pulsé et/ou la tension pulsée comprend au moins une impulsion positive et/ou au moins une impulsion négative par période. 4. Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel l'étape d'application comprend, successivement à la montée en 25 densité de courant, un maintien de la densité de courant moyenne à une valeur de densité de courant dite de palier. 5. Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, 5 dans lequel la concentration d'acide sulfurique dans le bain aqueux est comprise entre 100 et 350 g/L. 6. Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel le bain comprend en outre un acide faible, en particulier de 10 l'acide oxalique ou de l'acide glycolique. 7. Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel le bain aqueux est brassé par une rampe d'agitation microporeuse. 15 8. Procédé selon la revendication 7, dans lequel la rampe présente une pression dynamique en entrée comprise entre 0,1 et 0,3 bar et un débit d'air compris entre 3 et 9,8 m3/h pour 150 L de bain aqueux. 20 9. Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel l'alliage d'aluminium comprend un ou plusieurs éléments d'addition, en particulier du cuivre et/ou du silicium. 10. Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, 25 dans lequel le procédé est un procédé de réparation par rattrapage de cote. 11. Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel l'étape d'immersion est précédée d'une étape d'oxydation anodique, par exemple d'une étape d'oxydation anodique sulfurique, ou 30 d'une étape d'anaphorèse. 26 12. Système de traitement d'au moins une partie d'une pièce comprenant des moyens de commande configurés pour mettre en oeuvre un procédé selon l'une des revendications 1 à 11.