Brevet FR3083739A1 — publié le 20200117

Description Titre de l'invention : Composant optique avec revêtement antireflet résistant à la rayure et son procédé de fabrication Domaine de l'invention [0001] L'invention concerne d'une manière générale un composant optique muni d'un re- vêtement antireflet, et plus particulièrement un composant optique muni d'un revêtement antireflet avec un substrat, ainsi qu'un procédé de revêtement du composant optique et son utilisation. [0002] Arrière-plan de l'invention [0003] Les revêtements antireflet sont aujourd'hui largement utilisés pour améliorer la transmission des substrats transparents tels que les fenêtres d'observation, et d'autre part pour atténuer les reflets perturbateurs sur le substrat. Cependant, selon l'utilisation prévue du support, le revêtement antireflet peut être soumis à des charges d'usure élevées. Par exemple, un revêtement extérieur du pare-brise d'un véhicule sera soumis à des particules de sable et de poussière qui se heurtent à une vitesse élevée pendant le déplacement, ce qui peut user le revêtement au fil du temps. De plus, une charge spéciale se produit pour ces pare-brise lorsqu'un essuie-glace passe sur le pare-brise sale. Les particules de sable et de poussière ne sont pas seulement transportées sur le pare-brise, mais elles sont en même temps pressées contre le pare-brise par la lèvre en caoutchouc de l'essuie-glace. Cela peut provoquer de longues rayures dans le revêtement. 100041 Les rayures et autres détériorations provoquent un voile dû à la diffusion de la lumière, réduisent l'effet antireflet du revêtement en l'altérant et vont ainsi à l'encontre de l'objectif d'un revêtement anti-reflet. 100051 C'est pourquoi il est nécessaire de disposer d'un revêtement antireflet présentant une grande résistance à la rayure et à l'abrasion. 100061 L'abrasion ou la formation de rayures est généralement causée par un milieu abrasif, tel qu'un grain de sable, provoquant des fissures de l'ordre du nanomètre dans le matériau en se déplaçant latéralement sur la surface ou suite à un impact normal. La plupart du temps, les fissures ne deviennent pas visibles et ne sont pas visuellement perceptibles avant que d'autres fissures ne se produisent le long des bords des fissures, qui diffusent la lumière, ou avant même que le délaminage ne se produise. Le comportement d'une surface pour former des fissures dépend de différents paramètres tels que le module de Young, la rugosité de la surface, la fragilité, la contrainte près de la surface ou la tendance des deux matériaux impliqués (substrat et milieu abrasif) à former des liaisons covalentes. La dureté du substrat, mesurée à l'aide d'une méthode 2 d'essai au pénétrateur (p. ex. dureté Knoop), n'est qu'un des nombreux paramètres qui exercent une influence, niais l'un des plus importants. [0007] Par le document US 2005/0074591 Al, on connaît un substrat transparent avec un re- vêtement antireflet résistant à l'abrasion. Le revêtement antireflet est composé de quatre couches ayant en alternance des indices de réfraction élevés et faibles. Les couches à faible indice de réfraction sont constituées d'oxyde de silicium (Si02), les couches à indice de réfraction élevé sont constituées de nitrure de silicium (Si3N4) ou d'oxyde d'étain (SnO,). La couche supérieure de l'empilement de couches est formée par une couche à faible indice de réfraction. L'inconvénient est que la couche d'oxyde de silicium à faible indice de réfraction est très molle par rapport aux matériaux à haut indice de réfraction, en particulier par rapport au Si3N4. Par conséquent, c'est surtout la couche supérieure qui peut encore s'user rapidement. Lorsque la couche supérieure est usée, une couche à indice élevé forme la surface. Dans le pire des cas, cela conduit à une inversion de l'effet antireflet, de sorte que la couche agit alors plutôt comme miroir diélectrique (miroir semi-transparent) à l'emplacement de la rayure. [0008] Il existe des applications optiques dans différentes plages infrarouges du spectre élec- tromagnétique. Pour une utilisation dans une seule gamme spectrale, des matériaux tels que le saphir, le germanium ou le silicium sont couramment employés. Toutefois, si un composant optique est destiné à fonctionner dans plusieurs gammes du spectre électromagnétique en même temps, par exemple [0009] - dans la gamme de longueurs d'ondes visibles comprise entre environ 400 nm et environ 650 nm, de préférence entre environ 450 nm et environ 650 nm, [0010] - à une longueur d'onde laser dans le proche infrarouge comprise entre 1 000 nm et 1 600 nm, par exemple aux longueurs d'ondes laser de 1 053 nm, 1 064 nm, 1 535 nm ou 1 550 nm, [0011] - dans l'infrarouge moyen entre 3 500 nm et 5 000 nm, et [0012] - dans l'infrarouge lointain entre 7 500 nm et 12 000 nm, [0013] il n'y a que peu de matériaux disponibles comme matériau de substrat pour le composant optique. [0014] Une transmission pour une longueur d'onde dans le spectre du proche infrarouge compris entre 1 000 nm et 1 600 nm peut être nécessaire pour une application LIDAR, également appelée application télémètre. Les télémètres qui contiennent du verre de phosphate dopé à l'ytterbium et à l'erbium en tant que milieu laser actif, par exemple L0940, L0950 ou L0960 (fabriqué par SCHOTT AG), émettent à 1 535 nm. [0015] Le sulfure de zinc et le séléniure de zinc sont des exemples de matériaux adaptés à des applications de ce type. La plupart des matériaux utilisés pour des applications dans le domaine spectral infrarouge ne transmettent pas dans au moins une ou plusieurs des quatre gammes énumérées ci-dessus. Bien que le saphir puisse être utilisé 3 dans l'infrarouge visible, proche et moyen, il n'est plus transmissif au-delà de 6 000 nm. Le germanium ou le silicium, qui sont transrnissifs dans l'infrarouge lointain, ne peuvent pas être utilisés comme fenêtre dans le domaine visible. Le choix des matériaux de substrat à utiliser, du visible à l'infrarouge lointain, est très limité, de même que la disponibilité des indices de réfraction souhaités des matériaux de substrat possibles. [0016] Cependant, ces matériaux sont souvent mous ou peu résistants à l'abrasion et cassants et n'ont qu'un indice de réfraction moyen à élevé (1,7 à 2,5). L'indice de réfraction plutôt élevé est associé à une réflectivité élevée de la surface constituée d'un tel matériau. C'est pourquoi un revêtement antireflet est nécessaire dans de tels cas. Là aussi, il n'existe qu'un petit nombre de matériaux disponibles à cet effet. Les matériaux de couche à haut indice qui entrent en considération pour le revêtement antireflet comprennent par exemple le sulfure de zinc (ZnS), l'oxyde de hafnium (Hf0,), l'oxyde de scandium (Sc203), l'oxyde d'yttrium (Y203), l'oxyde de zirconium (Zr02), l'oxyde de tantale (Ta205), l'oxyde de niobium (N11205), l'oxyde de titane (Ti02) et l'oxyde de cérium (Ce02). Les matériaux à faible indice qui entrent en ligne de compte pour le revêtement antireflet sont par exemple le fluorure de baryum (BaF2), le fluorure de calcium (CaF2), le fluorure de cérium (CeF3), le fluorure de lanthane (LaF3), le fluorure de néodyme (NdF,,), le fluorure d'ytterbium (YbF3), le fluorure de magnésium (MgF2), le fluorure d'aluminium (A1F3), le fluorure de dysprosium (DyF3) et le fluorure d'yttrium (YF3). [0017] Un inconvénient particulier des matériaux à faible indice de réfraction est le fait qu'ils sont mous. Pour les revêtements antireflet, il est généralement nécessaire d'appliquer une couche à faible indice de réfraction comme dernière couche extérieure. Cela est nécessaire notamment si le revêtement antireflet est complexe, c'est-à-dire s'il a un fort effet antireflet (matériaux de substrat à indice de réfraction élevé) ou s'il doit être efficace dans une pluralité de gammes spectrales. Par conséquent, une couche de fluorure est souvent utilisée comme couche supérieure. Toutefois, ce sont notamment les matériaux à faible indice de réfraction qui présentent l'inconvénient d'être mous et donc de ne pas résister aux rayures. Dans les réalisations optiques, on tente généralement de compenser l'absence de résistance à la rayure au moins en partie par une très grande épaisseur de couche de la dernière couche ou par le fait que l'efficacité optique du revêtement optique dépend dans une faible mesure de l'épaisseur de couche de la couche supérieure. [0018] La résistance réduite à la rayure de la couche supérieure souple constitue un in- convénient lorsque le composant optique correspondant est utilisé à l'extérieur, par exemple comme fenêtre de capteur dans des véhicules militaires et des avions. Dans les zones désertiques, par exemple, l'inconvénient d'une résistance insuffisante à la rayure est exacerbé par la forte teneur en sable de l'air. Par conséquent, les couches de fluorure des composés énumérés ci-dessus ne conviennent pas à de telles conditions de fonctionnement. Certains des oxydes énumérés ci-dessus ne conviennent pas non plus à de telles utilisations, en raison de leur solubilité dans l'eau. [0019] Afin de protéger les surfaces des éléments optiques contre les rayures, il est connu de doter la surface d'un revêtement dur. Un revêtement antireflet dur est connu par le document EP 2492251 Al. [0020] En général, les matériaux infrarouges à indice de réfraction élevé, tel que le germanium, peuvent recevoir, en tant que revêtement antireflet, une couche de carbone (DLC) extrêmement dure, de type diamant, car l'indice de réfraction du substrat est nettement supérieur à celui de la couche. Pour obtenir un effet antireflet pour la surface d'un substrat avec une seule couche par rapport à l'air comme milieu adjacent, comme c'est le cas dans certaines applications utilisant le DLC, par exemple sur le germanium, ou utilisant une couche de fluorure (par exemple MgF2) sur certains verres, l'indice de réfraction de la couche devrait idéalement être proche de la racine carrée de l'indice de réfraction du substrat. Toutefois, dans le cas de matériaux dont l'indice de réfraction se situe dans la plage de celle du ZnS ou du ZnSc et en dessous, le DLC ne convient pas pour de nombreuses plages spectrales, y compris le domaine visible. [0021] Brève description de l'invention [0022] La présente invention a pour l'objectif de fournir un composant optique doté d'un re- vêtement antireflet qui convient à une utilisation dans de multiples gammes spectrales et qui présente une résistance à l'abrasion améliorée par rapport aux revêtements de l'état de la technique. [0023] Ce but est atteint pal- l'objet des revendications indépendantes. Des modes de réa- lisation et des perfectionnements avantageux de l'invention sont définis dans les revendications dépendantes. [0024] Le composant optique conforme à l'invention comprend un substrat doté d'un em- pilement de couches qui comporte une pluralité de couches successives de matériaux différents et à indices de réfraction différents, qui définit un revêtement antireflet, dans lequel les couches de l'empilement sont constituées d'au moins trois matériaux ou combinaisons de matériaux différents, de sorte que la pile de couches comporte au moins une couche d'un premier type, d'un deuxième type et d'un troisième type, avec au moins trois indices de réfraction différents, où une couche du premier type a un indice de réfraction plus élevé qu'une couche du deuxième type, et une couche du troisième type a un indice de réfraction inférieur à celui d'une couche du deuxième type ; et dans lequel une couche supérieure et une deuxième couche supérieure sont prévues, sachant que la couche supérieure est une couche du deuxième type et la deuxième couche supérieure est une couche du premier type et présente donc un indice de réfraction qui est supérieur à l'indice de réfraction de la couche supérieure ; et dans lequel l'empilement de couches comprend au moins une couche supplémentaire qui est disposée sous les deux couches supérieures dans la pile dc couches et qui est une couche du troisième type et présente donc un indice de réfraction qui est inférieur aux indices de réfraction des deux couches supérieures. [0025] Selon un mode de réalisation préféré de l'invention, la couche supérieure ou couche du deuxième type est une couche d'oxyde. Cela est avantageux car certains oxydes tels que ceux énumérés ci-dessous combinent une grande résistance à l'abrasion avec un indice de réfraction moyen à élevé. [0026] D'autre part, la couche ayant l'indice de réfraction le plus élevé peut être réalisée dans le même matériau que le substrat, par exemple en ZnS. Cela peut être un avantage lorsqu'il s'agit d'utiliser un autre matériau de couche pour la première couche, qui a de bonnes propriétés d'adhérence sur le substrat et peut par conséquent être potentiellement très bien combiné avec le matériau de couche respectif. [0027] Afin d'être utilisables pour une pluralité de gammes dc longueurs d'ondes du spectre électromagnétique, le substrat et l'empilement de couches sont au moins partiellement transparents dans le domaine spectral l'infrarouge et visible. En particulier, la gamme de longueurs d'ondes allant de 450 nm à 650 nm est considérée comme la gamme spectrale visible. Selon l'un des modes de réalisation de l'invention, le système de couche d'interférence peut maintenant être conçu de telle sorte que le substrat et la pile de couches soient au moins partiellement transparents dans au moins une, de préférence dans plusieurs et en particulier dans toutes les gammes de longueurs d'ondes suivantes : [0028] - dans la plage allant de 450 nm à 650 nm ; [0029] - à une ou plusieurs longueurs d'ondes dans la gamme allant de 1 000 nm à 1 600 nm ; [0030] - dans la plage allant de 3 5500 nm à 5 000 nm ; [0031] - dans la plage allant de 7 500 nm à 12 000 nm. [0032] Typiquement, plus de trois couches de l'empilement de couches sont utiles pour obtenir de bonnes propriétés antireflet dans une pluralité de gammes de longueurs d'ondes. Dans ce cas, il est préférable de former la pile de couches comme un système de couches alternées avec des couches alternées du premier et du troisième type et de prévoir une couche du deuxième type comme dernière couche supérieure. Une couche du deuxième type est déposée pour terminer, de sorte que la deuxième couche supérieure est une couche du premier type avec un indice de réfraction élevé, comme envisagé conformément à l'invention. La deuxième couche supérieure peut être une couche du troisième type si son épaisseur est de préférence inférieure à 300 nm, notamment inférieure à 100 nm et de façon particulièrement avantageuse inférieure à 6 20 nm. En variante, des couches du troisième type peuvent également être remplacées par une couche du deuxième type, de sorte que la couche de remplacement du deuxième type est entourée des deux côtés par une couche respective du premier type. Cela peut être avantageux car le matériau du deuxième type est plus dur que le matériau du troisième type selon l'invention, et puisque la résistance à la rayure dépend non seulement des propriétés d'une surface mais aussi de la stabilité des matériaux sous-jacents et des couches supportant la couche de surface. Le phénomène inverse est plus communément connu sous le nom d'effet « guimauve enrobée de chocolat », où une surface intrinsèquement plutôt dure (chocolat) peut se briser et s'enfoncer dans une matière sous-jacente plus molle (mousse de sucre). Pour contrer cet effet, où les deux couches supérieures du deuxième et du premier type se brisent dans la troisième couche supérieure du troisième matériau, il est donc avantageux que non seulement la couche supérieure soit faite d'un matériau du deuxième type, mais aussi la troisième couche supérieure et éventuellement aussi la cinquième couche supérieure. Pour des raisons de simplicité, les couches faites de matériaux du deuxième type sont même constituées du même matériau, et un tel système de couches peut être déposé en utilisant seulement trois matériaux. [0033] En général, dans ce cas il sera avantageux que la pile de couches comporte une pluralité de couches du premier type et une pluralité de couches du troisième type (au moins deux couches dans chaque cas) et une seule couche du deuxième type, qui termine la pile de couches et forme la couche la plus élevée de la pile de couches. [0034] Selon un autre mode de réalisation préféré de l'invention, le substrat du composant optique est constitué de sulfure de zinc. Ce substrat présente également la particularité d'être transparent aux longueurs d'ondes indiquées ci-dessus. [0035] Si la couche du deuxième type et donc la couche supérieure est une couche d'oxyde, elle comporte de préférence un matériau choisi dans le groupe comprenant l'oxyde de hafnium (Hf02), l'oxyde de scandium (Sc203), l'oxyde d'yttrium (Y203), l'oxyde de zirconium (Zr02), l'oxyde de tantale (T2120,), l'oxyde de niobium (Nb20,), l'oxyde de titane (Ti02), l'oxyde d'aluminium (A120') et l'oxyde de cérium (Ce02) et des oxydes mixtes de ces oxydes. La raison de ce choix est que les matériaux ou mélanges cités présentent un indice de réfraction moyen à élevé. L'indice de réfraction de ces matériaux est compris dans la plage allant de 1,7 à 2,2. [0036] D'autre part, selon un mode de réalisation préféré du composant optique, la couche supplémentaire est une couche de fluorure. Grâce aux indices de réfraction des fluorures utilisés, le comportement antireflet du revêtement du composant optique est amélioré davantage. De plus, de nombreux fluorures sont transparents dans une grande partie des plages de longueurs d'ondes indiquées. [0037] Dans ce cas, la couche supplémentaire comporte un fluorure choisi dans le groupe 7 comprenant le fluorure de baryum (BaF,), le fluorure de calcium (CaE)), le fluorure de cérium (CcF3), le fluorure de lanthane (LaF3), le fluorure de néodyme (NdF3), le fluorure d'ytterbium (VbF3), le fluorure de magnésium (MgF2), le fluorure d'aluminium (A1F3), le fluorure de dysprosium (DyF3) et le fluorure d'yttrium (YE3). Ces matériaux ont des indices de réfraction compris entre 1,3 et 1.9. [0038] La deuxième couche supérieure se compose d'un matériau ayant un indice de ré- fraction supérieur à celui du matériau de la couche supérieure et pouvant être choisi dans le groupe des chalcogénures, en particulier dans le groupe des oxydes, des sulfures ou des séléniurcs (qui, avec les tellurures, sont appelés chalcogénurcs) et qui est transparent dans les plages respectives des longueurs d'ondes, comme le sulfure ZnS. La deuxième couche supérieure peut être une couche du troisième type si son épaisseur est de préférence inférieure à 300 nm, notamment inférieure à 100 nm et de préférence inférieure à 20 nm. [0039] D'autre part, il est possible de prévoir un mode de réalisation du revêtement selon lequel on choisit un matériau pour la première couche, qui présente des propriétés adhésives particulièrement bonnes ou au moins dc meilleures propriétés adhésives sur le substrat que le matériau du troisième type. Le but principal de cette couche est de favoriser l'adhérence entre le substrat et le revêtement. Ainsi, la couche remplit une fonction chimique-mécanique et non optique. A cet effet, cette première couche peut avoir une épaisseur de quelques nanomètres seulement. Par exemple, l'épaisseur de la couche peut être comprise entre 1 nm et 15 nm. Ainsi, dans certaines applications avec des exigences de transmission respectives, il est même possible d'utiliser des matériaux de couche qui transmettent moins bien dans les gammes de longueurs d'ondes pertinentes que les matériaux des premier, deuxième et troisième types mentionnés ci-dessus. Par exemple, l'oxyde d'aluminium (A1201) est connu pour être un tel promoteur d'adhérence. [0040] Dans un mode de réalisation spécifique de cette version avec une meilleure adhérence de la couche, la couche favorisant l'adhérence est constituée d'un matériau du deuxième type, par exemple le Hf02. Etant donné que dans ce cas le matériau peut être utilisé comme matériau de couche optique, grâce à ses propriétés de transparence, l'épaisseur de la couche favorisant l'adhérence peut à son tour être suffisamment grande pour remplir une fonction dans le cadre de la conception optique. [0041] 11 existe différentes techniques qui peuvent être utilisées pour revêtir le composant optique conformément à l'invention. La couche supérieure peut en particulier être appliquée par un procédé choisi dans le groupe comprenant le placage ionique, l'implantation ionique, l'assistance ionique/le plasma avancé, la pulvérisation magnétron, la pulvérisation par faisceau ionique, le dépôt par arc cathodique et le dépôt par couche atomique. L'assistance ionique ou au plasma est particulièrement 8 avantageuse pour augmenter la densité, la dureté et la contrainte de compression de la couche supérieure afin de la rendre plus résistante à l'abrasion. [0042] De plus, la couche supérieure du revêtement du composant optique selon l'invention peut être déposée par un procédé différent des autres couches de l'empilement de couches. Si plus d'une couche est constituée du matériau de la dernière couche, il est même possible de déposer la dernière couche avec un procédé et l'autre ou d'autres couches constituées du même matériau selon un procédé différent. Cela est particulièrement avantageux si un procédé utilisé pour augmenter la densité, la dureté ou la contrainte de compression de la couche supérieure est incompatible avec un autre matériau de couche. [0043] Selon un mode de réalisation particulier de l'invention, la pile de couches, à l'exception de la couche supérieure qui se compose elle-même de deux ou plusieurs matériaux, est déposée par évaporation par faisceau d'électrons classique, et pour la dernière couche, un procédé ionique ou au plasma, tel que le placage ionique, l'assistance ionique ou le plasma avancé, est activé en plus. [0044] TI peut être avantageux de commencer d'abord le dépôt de la couche supérieure sans le procédé supplémentaire ionique ou au plasma, afin de protéger, avec les premiers nanomètres de matériau, le matériau de la deuxième couche supérieure sous-jacente du procédé ionique ou au plasma. Par conséquent, la couche supérieure sera subdivisée en deux sous-couches du même matériau qui ont un indice de réfraction similaire mais pas identique. Typiquement, la partie déposée en utilisant en plus le procédé ionique ou plasma aura un indice de réfraction légèrement plus élevé que la partie qui a été déposée sans le procédé additionnel. [0045] D'après un autre mode de réalisation, cette couche protectrice, qui protège l'ancienne deuxième couche supérieure contre le processus ionique ou au plasma, peut être réalisée dans un autre matériau. Cette couche remplit une fonction mécanique ou radiotechnique mais pas optique. A cet effet, l'épaisseur de cette première couche peut être de quelques nanomètres seulement. Ainsi, dans certaines applications avec des exigences de transmission respectives, il est même possible d'utiliser des matériaux de couche qui transmettent moins bien dans les gammes de longueurs d'ondes pertinentes que les matériaux des premier, deuxième et troisième types mentionnés ci-dessus. Par exemple l'oxyde d'aluminium (A1203) peut être utilisé pour une telle couche protectrice, mais également les matériaux du troisième type. [0046] L'empilement de couches peut comporter une succession de couches alternées qui comprend au moins une autre couche faite du même matériau que l'une des trois couches supérieures. [0047] La couche inférieure 9 peut être une couche du troisième type de couche 5 ayant l'indice de réfraction le plus faible. 9 [0048] Conformément à un mode de réalisation, la pile de couches comporte un nombre compris entre sept et trente couches au total, avec quatre couches respectives du type de la couche supplémentaire alternant avec celles du type de la deuxième couche supérieure, ou quatre couches respectives du troisième type alternant avec quatre couches du premier type. De plus, la couche supérieure est ajoutée en tant que couche finale qui, en même temps, scelle la pile de couches vis-à-vis de l'environnement. On a constaté qu'avec ce mode de réalisation, les propriétés antireflet sont particulièrement bonnes. [0049] Selon l'invention, le composant optique est utilisé dans un seul domaine spectral ou dans des domaines rnultispectraux visible et infrarouge du spectre électromagnétique. [0050] Dans un autre mode de réalisation, des couches dites « aiguilles » sont interposées dans au moins une couche qui est en général relativement épaisse. Les couches aiguilles sont des couches ayant une épaisseur de quelques nanomètres, de préférence de 2 nm à environ 50 nm. La limite inférieure de l'épaisseur des couches aiguilles est généralement imposée par la technologie de revêtement. Dans le cas du dépôt en phase vapeur par faisceau d'électrons, les couches d'une épaisseur inférieure à 5 à 10 nm ne sont généralement pas contiguës ou sont trop hétérogènes, selon le matériau de la couche, pour être utilisées dans l'application. Toutefois, certaines procédures de dépôt chimique en phase vapeur, telles que le dépôt par couche atomique (ALD), permettent d'obtenir des couches utiles de 2 ou 3 nm, par exemple. [0051] Les couches aiguilles présentent plusieurs avantages. Par exemple, elles interrompent la croissance des cristaux et limitent les périphéries des grains. Les couches sont statistiquement plus amorphes et présentent moins de défauts et moins de diffusion de la lumière. Un autre avantage réside dans le fait que la contrainte des couches peut être réduite et compensée. Le substrat présente moins de déformation induite par le revêtement (distorsion du front d'onde réfléchi), et le risque de délaminage des couches, soit à l'interface avec le substrat, soit entre les couches de revêtement, est réduit. Souvent, cela est même visuellement avantageux, et la performance spectrale d'un revêtement peut être augmentée sans augmenter de manière significative l'épaisseur totale de l'empilement de couches du revêtement. Cela présente des avantages en termes de temps et donc de coûts de l'application du revêtement. Les couches aiguilles sont connues de l'homme du métier compétent en matière de conception de revêtements optiques. Elles sont particulièrement utiles dans les revêtements de la présente divulgation, car des couches relativement épaisses doivent être utilisées en raison du fait que le revêtement est conçu pour être optiquement transparent sur une très large gamme de longueurs d'ondes, allant jusqu'à l'infrarouge lointain. [0052] Voici un exemple d'un revêtement conforme à l'invention qui comprend des couches aiguilles : les matériaux de revêtement utilisés pour un revêtement sur un substrat de sulfure de zinc comprennent du sulfure de zinc (ZnS) ayant un indice de réfraction de 2,24, du fluorure d'yttrium (YE3) ayant un indice de réfraction de 1,47 et de l'oxyde de hafnium (Hf02) ayant un indice de réfraction de 2,01, pour une longueur d'onde de 1 000 nm dans chaque cas. Le revêtement est obtenu par évaporation par faisceau d'électrons. La couche supérieure en oxyde de hafnium est divisée en deux parties en ce qui concerne le processus de revêtement : les 10 premiers nanomètres sont déposés par évaporation normale par faisceau d'électrons - le reste de la couche est déposé à l'aide d'une source de plasma avancé (APS). Les épaisseurs de couche sont les suivantes : substrat (ZnS), (Pa') 10 nm HfOn, (2,iiir) 25 nm YF3, (3) 25 nm ZnS, 225.8 nm YE3, (5,m° 10 nm ZnS, (6,i11e) 250 nm YF3, (7sne) 10 nm ZnS, (8) 250 nm YF3, (9,,,e) 10 nm ZnS, (10,^.,) 250 nm YE3, (11,nie) 10 nm ZnS, (12,nie) 150 nm YF3, (13ème) 10 nm ZnS, (14ème) 50 nm YE3, (15'me) 60 nm ZnS, (16'rne) 65 nm Hf02, l'air. Cet exemple représente un revêtement antireflet pour la gamme spectrale visible et pour l'infrarouge lointain de 8 à 11 iim. Une telle structure peut être interprétée dc deux façons : (1) des couches épaisses d'un matériau alternent avec des couches minces d'un autre matériau ; ou (2) une partie très épaisse à faible indice de réfraction est interrompue par de très fines couches aiguilles à indice de réfraction élevé : une partie épaisse à faible indice de réfraction, comprenant 225,8 nm + 250 nm + 250 nm + 250 nm + 150 nm + 50 nm = 1 175,8 nm de YF3, est interrompue par 5 couches aiguilles constituées chacune de 10 nm ZnS. Pour la lumière, en particulier le rayonnement de grande longueur d'onde dans l'infrarouge lointain (FIR), la longueur du trajet optique et donc le changement de phase dans la couche aiguille est négligeable. L'interaction avec la matière est principalement déterminée par la rétlectivité aux deux interfaces. Ainsi, de manière plus générale et sans se limiter à l'exemple ci-dessus, le mode de réalisation avec les couches aiguilles représente un système de couches alternées faisant partie du revêtement, dans lequel alternent des couches de deux types, les couches d'un type étant plus épaisses que celles de l'autre type. Ce système de couches alternées comprend de préférence au moins quatre couches successives au total. De préférence, les couches d'un type sont toujours plus épaisses d'au moins un facteur dix que les couches de l'autre type. En outre, les couches minces peuvent en particulier être du premier type (c'est-à-dire à indice de réfraction élevé), et les couches épaisses peuvent être du troisième type (c'est-à-dire à faible indice de réfraction). De plus, en fonction de l'épaisseur des couches aiguilles comme indiqué ci-dessus, les couches plus minces ont de préférence une épaisseur de couche comprise entre 2 nm et 50 nm. [0053] Un revêtement conforme à l'invention peut inclure n'importe quel nombre désiré de portions ayant une épaisseur de 100 nm ou plus, qui sont interrompues par des couches aiguilles : aucune portion, ou bien un nombre compris entre une portion et toutes les portions. Toute portion d'un matériau ayant une épaisseur de 100 nm ou plus peut être 11 interrompue par l'absence totale de couche aiguille ou par une ou plusieurs couches. Différentes portions ayant une épaisseur de 100 nm peuvent être interrompues par des nombres différents de couches aiguilles. Il est possible d'interrompre des portions constituées d'un matériau et ayant une épaisseur de 100 nm ou plus, par des couches aiguilles d'un ou plusieurs autres matériaux, et également d'interrompre des portions constituées de différents matériaux et ayant une épaisseur de 100 nm, par des couches aiguilles d'un ou plusieurs autres matériaux. Une partie ou la totalité des couches aiguilles peuvent être constituées d'un troisième matériau différent des deux matériaux qui composent principalement le système de couches, en tant que couches à indice de réfraction élevé et faible. Si une conception de revêtement qui contient déjà des couches aiguilles est communiquée en vue de son optimisation dans un logiciel d'optimisation, ou si le logiciel d'optimisation reçoit une conception de revêtement qui comporte déjà des couches aiguilles, en vue de l'optimisation, il peut arriver qu'une conception optimisée comporte des couches aiguilles qui non seulement la rendent avantageuse en termes de mécanique, mais que la conception ait en outre une qualité en termes de comportement spectral ou optique qui soit supérieure à une conception comparable optimisée sans couches aiguilles. [0054] Conformément à un mode de réalisation particulier, il est avantageux de protéger les couches déjà déposées avec des couches aiguilles faites d'un troisième matériau, avant le processus de dépôt de la couche suivante qui présente une épaisseur optique pertinente. Cela est par exemple le cas si les procédés d'assistance au plasma pour une couche devant être déposée endommageaient une couche déjà déposée et brisaient, par exemple, des liaisons covalentes ou dissoudraient les atomes d'une espèce dont est faite la couche sous-jacente et modifieraient le matériau à la surface, de sorte qu'il adopterait une composition défavorable en termes de stoechiométrie, ce qui aurait pour conséquence qu'il présenterait par exemple une absorptance plus élevée. Dans ce cas, il est avantageux de déposer une couche aiguille uniquement sur une couche du matériau qui est sensible au processus de dépôt de l'autre matériau. Par ailleurs, dans un autre cas, il est possible que, bien que deux matériaux puissent être utilisés ensemble avec des avantages optiques pour une conception, les deux matériaux ne soient pas compatibles entre eux pour d'autres raisons. Des exemples d'incompatibilités comprennent, par exemple, une adhérence insuffisante des couches ou une altération chimique d'un matériau de couche causée par la réaction d'une de ses espèces atomiques avec une espèce de l'autre matériau à l'interface, formant ainsi un matériau différent, optiquement défavorable. Une telle réaction peut se produire soit immédiatement au cours du processus de revêtement, soit au cours d'un processus de recuit ultérieur (recuit thermique), soit plus tard, par un processus de vieillissement ou de dégradation accéléré ou supplémentaire. Dans l'exemple ci-dessus, une couche aiguille a 12 été déposée directement sur le substrat, en tant que première couche, pour être efficace comme promoteur d'adhérence entre le substrat et le reste du revêtement. Il est particulièrement judicieux de protéger par une couche aiguille l'avant-dernière couche "épaisse" vis-à-vis d'un procédé au plasma pouvant être utilisé pour la dernière couche, afin de conférer à cette couche, et donc à l'ensemble du revêtement, une résistance particulièrement élevée à l'abrasion. [0055] Selon un autre mode de réalisation, des structures dites « nanostratifiées » peuvent être utilisées comme couches individuelles. Les références décrivant les « nanostratifiés », c'est-à-dire des couches très minces d'une épaisseur allant par exemple de 2 à 10 nm, comprennent, entre autres, J. Meyer, et al : « A1203/Zr02 Nanolaminates as Ultrahigh Cas-Diffusion Barriers - A Strategy for Reliable Encapsulation of Organic Electronics », in : Advanced Mater. 2009, 211845-1849, éditions WileyVCH Weinheim, 2009; ou J. Meyer : « The origin of low watcr vapour transmission rates through A1203/Zr02 nanolarninatc gas-diffusion barriers grown by atomic layer dcposition », dans : Applied Physics Letters 96, 243308 (2010), American Institutc of Physics, 2010. [0056] Les nanostratifiés sont des couches constituées d'une multitude de couches très minces, généralement formées de deux matériaux alternés. Par exemple, une couche de nanostratifié peut être composée de A120:3 et Hf02, ou d' AI,03 et Ta,05. Il est bien sûr possible de composer de tels nanostratifiés à partir de plus de deux matériaux. Les couches individuelles ont généralement une épaisseur de quelques nanomètres. Un tel nanostratifié agit optiquement comme une couche épaisse ayant un indice de réfraction moyen et peut donc être intégré dans un revêtement multicouche interférentiel avec d'autres couches plus épaisses faites d'un ou plusieurs autres matériaux. Ces nanostratifiés sont généralement utilisés en raison de leurs propriétés mécaniques avantageuses. Un nanostratifié pourrait être interprété comme un ensemble de couches composé exclusivement de couches aiguilles. [0057] Les nanostratifiés atteignent leur propriété du fait du grand nombre d'interfaces et de couches très minces dans lesquelles les propriétés globales sont partiellement négligeables. Les paramètres qui ont une influence significative sur les propriétés des nanostratifiés et qui n'existent pas pour les couches monolithiques comprennent, par exemple, ce que l'on appelle le « facteur de service », c'est-à-dire le rapport des épaisseurs des différentes couches aiguilles les unes aux autres. Des exemples typiques sont de 3 nm respectivement d'A1203 et de Ta205, ou de 3 nm d'A1203 en alternance avec 10 nm de Ta.205. De telles épaisseurs de couches ne peuvent pas être produites de manière homogène par les procédés classiques de dépôt en phase vapeur par faisceau d'électrons. Cependant, il existe d'autres procédés, tels que le dépôt par couche atomique (ALD), qui sont utilisés dans les publications citées. 11 est même possible de 13 faire croître d'autres couches du revêtement par ALD. Les exemples décrits utilisent ZnS et YF3. Les deux matériaux peuvent également être déposés par ALD : J.R.Bakke, et al : « Atomic layer deposition of ZnS via in situ production of FIS », dans Thin Solid Films, volume 518, numéro 19, 2010, 5400-5408 ; et Tero Pilvi, et al : « ALD of YF3 Thin Films from TiF4 and Y(thd)3 Prccursors » dans Chemical Vapor deposition, volume 15, numéro 1-3, 2009, 27-32. [0058] Dans un revêtement conforme à l'invention, une ou plusieurs des couches peuvent être réalisées sous forme de nanostratifié. Les nanostratifiés peuvent être des couches à indice élevé et des couches à faible indice, ainsi que des couches à indice moyen. Il peut notamment être avantageux de réaliser la dernière couche sous forme de nanostratifié constitué d'un oxyde et d'un fluorure. Ainsi, on combine l'avantage de la dureté relativement plus élevée de l'oxyde par rapport au fluorure avec l'avantage qu'un tel nanostratifié présente un indice de réfraction moyen optiquement pertinent plus faible que l'oxyde dur. Pour la qualité optique d'une conception de revêtement qui doit présenter une faible réflectivité, il est préférable que la dernière couche ait un indice de réfraction aussi faible que possible. A cet égard, il est en outre possible d'optimiser le facteur de service, de manière à ce que le nanostratifié soit composé de plus de fluorure que d'oxyde et que l'indice de réfraction soit ainsi inférieur à celui d'un nanostratifié composé de 50 % de fluorure et 50 % d'oxyde, tout en présentant par ailleurs une dureté ou une résistance à l'abrasion nettement supérieure à un fluorure pur. [0059] Plus généralement, sans se limiter à des exemples spécifiques, il est donc envisagé, conformément à un mode de réalisation de l'invention, qu'au moins une des couches du revêtement soit un nanostratifié constitué d'une multitude de couches d'une épaisseur comprise entre 2 nm et 10 nm, et que ces couches soient constituées d'au moins deux matériaux alternants. [0060] Selon d'autres modes de réalisation, la couche supérieure du revêtement est un nanos- tratifié, comme mentionné précédemment. En particulier, elle peut comprendre un système de couches alternées de fluorure et d'oxyde, comme expliqué ci-dessus. [0061] Par ailleurs, il est connu par les publications de demande de brevet CH 709 524 A2 (« Harte Anti-Reflex-Beschichtungen sowie deren Herstellung und Verwendung » (« Revêtements antireflet durs ainsi que leur fabrication et leur utilisation »)), et DE 10 2016 125 689.7 (« Substrat umfassend Anti-Reflex-Beschichtungs-system mit Hartstotibeschichtung sowie Verfahren zu dessen Herstellung » (« Substrat comprenant un système de revêtement antireflet à revêtement en matériau dur et procédé pour sa fabrication »)) qu'une résistance à l'abrasion plus élevée d'un revêtement multicouche peut également être obtenue si, bien que la couche supérieure ne soit pas modifiée, les couches inférieures sont rendues sensiblement plus dures ou plus stables. Ce phénomène peut désormais également être appliqué au revêtement conforme à 14 l'invention, en réalisant une couche qui est disposée sous la couche supérieure sous forme de nanostratifié afin d'avoir une plus grande dureté. Par exemple, la dernière couche qui comprend du ZnS peut être composée d'un nanostratifié et d'un oxyde et peut donc offrir une plus grande stabilité en soutenant la couche finale à faible indice de réfraction. [0062] L'invention sera maintenant décrite de manière plus détaillée en se référant aux dessins annexés sur lesquels des références identiques désignent des éléments identiques. Brève description des dessins [0063] Sur les dessins : [0064] [fig.1] est une vue schématique de l'empilement de couches du composant optique conforme à l'invention ; [0065] [fig.2] est un graphique de transmittance d'un revêtement antireflet à 4 bandes sur un substrat en ZnS de 4 mm d'épaisseur; [0066] [fig.3] est une vue schématique de l'empilement de couches du composant optique de l'invention selon la figure 1, pourvu d'une couche supplémentaire favorisant l'adhérence ; [0067] [fig.4] est une vue schématique de l'empilement de couches du composant optique de l'invention selon la figure 1, dans lequel la couche supérieure est divisée en deux sous-couches ; [0068] [fig.51 est une vue schématique de l'empilement de couches du composant optique de l'invention selon la figure 1, pourvu d'une couche de protection supplémentaire ; [0069] [fig.6] est une vue schématique de l'empilement de couches du composant optique de l'invention selon la figure 1, doté de couches aiguilles ou de couches intermédiaires minces ; et [0070] [fig.7] est une vue schématique de l'empilement de couches du composant optique de l'invention selon la figure 1, doté d'un nanostratifié. [0071] Sans se limiter à la structure des couches illustrée, la figure 1 montre une vue schématique en coupe de la succession de couches de l'empilement de couches 2 d'un composant optique 10, lequel empilement de couches 2 sert de revêtement antireflet. [0072] Un composant optique 10 avec un revêtement antireflet conforme à l'invention est produit par un procédé selon lequel un substrat 1 est pourvu d'un empilement de couches 2, comprenant une pluralité de couches successives de matériaux différents et à indices de réfraction différents, qui constitue un revêtement antireflet dans lequel les couches de l'empilement de couches 2 sont déposées successivement à partir d'au moins trois matériaux ou combinaisons de matériaux différents, de sorte que la pile de couches produite par le dépôt successif comporte au moins une couche d'un premier type, d'un deuxième type et d'un troisième type, avec au moins trois indices de réfraction différents, une couche du premier type ayant un indice de réfraction supérieur à celui d'une couche du deuxième type, et une couche du troisième type ayant un indice de réfraction inférieur à celui d'une couche du deuxième type ; et dans lequel une couche supérieure et une deuxième couche supérieure sont prévues, la couche supérieure 7 étant une couche du deuxième type 3, et la deuxième couche supérieure étant une couche du premier type 4 et ayant donc un indice de réfraction qui est supérieur à l'indice de réfraction de la couche supérieure ; et dans lequel la pile de couches 2 comprend au moins une autre couche qui est disposée sous les deux couches supérieures dans la pile de couches 2 et qui est une couche du troisième type 5 et a donc un indice de réfraction qui est inférieur aux indices de réfraction des deux couches supérieures. [0073] Le substrat 1 de l'exemple illustré est doté d'un empilement de couches 2 qui se compose ici d'un total de neuf couches successives faites de matériaux différents et ayant des indices de réfraction différents. Les couches de la pile de couches 2 sont formées d'au moins trois matériaux ou combinaisons de matériaux différents, de sorte que la pile de couches comporte au moins une couche de chacun des premier, deuxième et troisième types. Les types de couches diffèrent de par leurs indices de réfraction, de sorte que la pile contient des couches avec au moins trois indices de réfraction différents. Dans cc cas, une couche du premier type 4 a un indice de réfraction plus élevé qu'une couche du deuxième type 3, et une couche du troisième type 5 a un indice de réfraction plus faible qu'une couche du deuxième type 3. La couche supérieure 7 de la pile de couches 2 est en contact avec l'environnement et est donc exposée aux influences du milieu ambiant et doit par conséquent être constituée d'un matériau le plus résistant possible à l'abrasion. [0074] La couche supérieure 7 est une couche du deuxième type 3, et la deuxième couche supérieure est une couche du premier type 4 et a donc un indice de réfraction qui est encore plus élevé que l'indice de réfraction de la couche supérieure 3. L'empilement de couches 2 comporte au moins une couche supplémentaire qui est disposée sous les deux couches supérieures de la pile de couches 2 et qui est une couche du troisième type 5 et présente donc un indice de réfraction inférieur aux indices de réfraction des deux couches supérieures des premier et deuxième types 4, 3. En dessous de la succession constituée de la couche supérieure 3, de la deuxième couche supérieure 4 et de la couche supplémentaire 5, il est prévu des couches alternantes qui sont constituées du même matériau que la deuxième couche supérieure 4 et la couche supplémentaire 5. [0075] Dans l'exemple de réalisation de la figure 1, il y a quatre couches de chaque type de la deuxième couche supérieure 4 et de la couche supplémentaire 5, en alternance les unes avec les autres sous la couche supérieure 3, de sorte que la pile de couches 16 illustrée comporte au total neuf couches si l'on tient compte de la couche supérieure 3, qui correspond à un mode de réalisation préféré du revêtement antireflet, car le comportement antireflet est particulièrement bon dans cette configuration. Les couches alternées des premier et troisième types 4, 5 forment un système de couches alternées. L'empilement de couches est ensuite complété par une couche unique du deuxième type, en tant que couche supérieure. Etant donné que l'indice de réfraction de la couche supérieure est plus faible que l'indice de réfraction de la deuxième couche supérieure, on obtient d'une part un effet antireflet, malgré les indices de réfraction plus élevés par rapport aux couches du troisième type, et, d'autre part, une résistance mécanique élevée. [0076] Le substrat 1 peut notamment être constitué de sulfure de zinc. Selon un mode de réalisation, la deuxième couche supérieure 4 est réalisée dans le même matériau que le substrat 1, c'est-à-dire en particulier en sulfure de zinc, ZnS. [0077] En particulier, l'un des oxydes suivants convient comme matériau pour la couche su- périeure 3 ou la couche du deuxième type : l'oxyde de hafnium (Hf02), l'oxyde de scandium (Sc201), l'oxyde de zirconium (Zr02), l'oxyde de tantale (Ta205), l'oxyde de niobium (Nb20), l'oxyde d'yttrium (Y20), l'oxyde de titane (Ti02), l'oxyde d'aluminium (A1203) et l'oxyde de cérium (Ce02). La raison de ce choix est la combinaison des indices de réfraction et de la dureté de ces substances. Une dureté accrue de la couche supérieure 3 est en outre obtenue par l'application de la couche supérieure 3 avec des techniques spéciales pour la rendre particulièrement dure. Les techniques suivantes peuvent être utilisées à cet effet : le placage ionique, l'implantation ionique, l'assistance ionique / le plasma avancé, la pulvérisation magnétron, la pulvérisation par faisceau ionique, le dépôt par arc cathodique et le dépôt par couche atomique. Il n'est pas nécessaire d'utiliser la même technique pour appliquer toutes les couches de la pile de couches 2. Différentes techniques peuvent être combinées entre elles. Par exemple, selon un mode de réalisation, toutes les couches, à l'exception de la couche supérieure 3, peuvent être déposées thermiquement par dépôt en phase vapeur, tandis que la couche supérieure 3 est appliquée par pulvérisation. Un changement de la technique de revêtement reste économique dans la mesure où il doit être réalisé uniquement pour la couche supérieure. [0078] En particulier, l'un des fluorures suivants convient comme matériau pour une ou plusieurs couches du troisième type 5 : le fluorure de baryum (BaF2), le fluorure de calcium (CaF2), le fluorure de cérium (CeF3), le fluorure de lanthane (LaF3), le fluorure de néodyme (NdF3), le fluorure d'ytterbium (YbF3), le fluorure de magnésium (MgF2), le fluorure d'aluminium (A1F3), le fluorure de dysprosium (DyF3) et le fluorure d'yttrium (YF3). Le matériau de la couche du troisième type 5 est choisi de telle sorte que l'indice de réfraction des différentes couches augmente de la couche supplé- 17 mentairc 5 jusqu'à la couche supérieure 3, en passant par la deuxième couche supérieure 4. [0079] Selon un exemple, la couche supérieure est une couche du 2,,11e type et par conséquent une couche de Hf02. Cette couche est déposée sur une couche de ZnS qui est une couche du ler type. Cette couche est suivie d'une couche du 3,^., type ou d'une ou plusieurs autres couches facultatives suivies par la couche du 3,nie type, la couche du 3 nie type étant une couche d'YF3. Cette couche peut être en contact avec le substrat ou, en variante, une ou plusieurs autres couches facultatives peuvent être interposées entre le substrat et la couche du 3ème type. Ce mode de réalisation est particulièrement adapté à un substrat en séléniure de zinc (ZnSe). Toutefois, un substrat ZnS est également adapté. En résumé, la succession de couches conforme à ce mode de réalisation est la suivante : Hf02(2fie type)! ZnS (1m type) / couches facultatives! YF3 type)! couches facultatives! substrat ZnSc. [0080] Comme alternative à rHf02, la ou les couches du deuxième type peuvent être des couches de ScoOE, Zr02, Ta205. Nb20s, Y20', Ti02, Àl,01, Ce02. D'autre part, les matériaux alternatifs à l'YF3 pour la couche du 3ème type sont BaF2, CaF2, CeFo, LaF3, NdEl, YhP, MgF2, AlF3, Dy-E, [0081] La structure globale constituée du substrat 1 et de l'empilement de couches 2 est au moins partiellement transparente dans les domaines spectraux de l'infrarouge et du visible, à des longueurs d'ondes comprises entre 450 nm et 650 nm, à une ou plusieurs longueurs d'ondes entre 1 000 nm et 1 600 nm, à des longueurs d'ondes entre 3 500 nm et 5 000 nm, et dans l'infrarouge lointain à des longueurs d'ondes allant de 8 pin à 12 pm, ce qui permet par exemple de l'utiliser comme fenêtre pour des caméras qui sont sensibles dans les gammes de longueurs d'ondes citées. [0082] L'invention est particulièrement adaptée à l'optique infrarouge, y compris les systèmes de lentilles. Une telle optique infrarouge peut ensuite être combinée avec une pluralité de capteurs qui sont sensibles dans les domaines spectraux du visible et de l'infrarouge. C'est par exemple le cas des télémètres ou des caméras thermiques. Une application privilégiée est l'utilisation comme fenêtre de couverture pour une caméra infrarouge, par exemple dans un avion, un char, un véhicule automobile ou un drone. [0083] La figure 2 représente un graphique de la transmittance tracée en fonction de la longueur d'onde d'un revêtement antireflet d'un substrat ZnS d'une épaisseur comprise entre 1 et 4 mm, qui est au moins partiellement transparent pour quatre gammes de fréquences, dans lequel une échelle logarithmique a été sélectionnée pour la longueur d'onde. Le graphique de la figure 2 montre le profil de transmittance en tant que pourcentage du rayonnement incident. [0084] Le profil de transmittance d'un substrat non revêtu est représenté par la courbe 22 qui, à une longueur d'onde d'environ 380 nm, s'élève presque verticalement avec une 18 longueur d'onde croissante jusqu'à 65 %, et à une longueur d'onde d'environ 1 000 mn, à 74 %, elle devient une section horizontale. [0085] La transmittance d'un substrat revêtu sur les deux faces, conformément à l'invention, est représentée par la courbe 21 qui suit une spécification de transmittance dans quatre sections 21a, 21b, 21c, 21d. Dans la section 21a comprise entre 420 mn et 720 nm, qui est la plage de longueurs d'ondes visibles, la transmittance est partout supérieure d'environ 20 % à celle de la courbe 22 d'un substrat non revêtu. De 1 530 à 1 550 nm, qui est la longueur d'onde des LIDAR dits « sans danger pour les yeux » ou télémètres, le profil de transmittance présente une autre section 2111 qui a un pic nettement supérieur à 90 % à cette longueur d'onde et est donc aussi d'environ 20 % supérieur à la transmittance du substrat non revêtu. La transmittance d'un substrat revêtu selon l'invention présente une autre section de haute transmittance, qui augmente fortement à une longueur d'onde d'environ 3 000 nm. A une longueur d'onde d'environ 13 000 nm, la transmittance diminue fortement. En général, deux plages de longueurs d'ondes sont utilisées dans cc domaine d'applications techniques, d'abord la plage 21e allant de 3 500 nm à 5 000 nm pour la détection d'objets à haute température, tels que des moteurs à réaction ou des moteurs à combustion interne, et ensuite la plage 21d, allant de 7 500 nm à 11 500 nm, pour détecter la température du corps. Dans ces deux plages, le profil de transmittance 21 du substrat revêtu présente également une transmittance supérieure d'environ 20 % à la courbe 22 du substrat non revêtu. [0086] 11 s'agit donc d'un revêtement antireflet à 4 bandes. Il est transparent et a un effet an- tireflet dans les gammes de longueurs d'ondes du domaine spectral visible, pour un télémètre dit « sans danger pour les yeux », ainsi que pour le rayonnement thermique des moteurs et des corps vivants. [0087] L'exemple d'un revêtement conforme à l'invention est constitué des trois matériaux de couche YF3, ZnS et Hf02. Dans l'exemple présenté, les trois couches de matériaux ont les indices de réfraction suivants : [0088] [Tableauxl] Matériau Technologie de revêtement hulice de réfraction à 1 000 nm YF3 Faisceau d'électrons 1,49 ZnS Faisceau d'électrons 2,28 Hf02 Faisceau d'électrons 1,90 Hf02 Placage ionique 2.11 [0089] Les deux dernières couches de cet exemple sont chacune faites de Hf02. Cependant, la première moitié est déposée par un procédé standard de dépôt en phase vapeur par 19 faisceau d'électrons (faisceau d'électrons). La seconde moitié est déposée par placage ionique. De cette façon, la dernière couche non oxydante est protégée, par la première sous-couche de HfOn, du processus de placage ionique qui endommagerait la couche non oxydante sous-jacente et dégraderait son pouvoir de transmission ou d'absorption au sens de l'invention. La structure des couches est la suivante : substrat, 20.1 nm YF3, 36,1 nm ZnS, 60,3 nm YF3, 25,8 nm ZnS, 42,7 nm YF3, 243,6 mn ZnS, 168,5 nm YF3, 89,2 nm ZnS, 170,2 nm YF3, 46,1 nm ZnS, 35,6 nm Hf02 (faisceau d'électrons), 35,6 nm Hf02 (placage ionique), l'air. Le résultat d'un revêtement sur deux faces avec cette conception, sur un substrat ZnS de 10 mm d'épaisseur, est le spectre de transmittance mesuré 21. [0090] La figure 3 représente un mode de réalisation dans lequel une couche 6 supplé- mentaire favorisant l'adhérence est appliquée sur le substrat 1 afin d'améliorer l'adhérence de l'empilement de couches 2 sur le substrat 1. Cette couche 6 favorisant l'adhérence est généralement caractérisée par le fait qu'elle adhère mieux au substrat 1 qu'une couche 5 du troisième type. Selon un premier mode de réalisation de l'invention, la couche 6 favorisant l'adhérence peut être maintenue suffisamment mince pour ne pas influencer, ou seulement de façon marginale, les propriétés de réflexion de la pile de couches, en termes optiques. De préférence, l'épaisseur de la couche est d'au moins 1 nm et/ou de préférence inférieure à 10 nm dans le cas présent. Avec une couche mince, il est d'une manière plus générale possible d'utiliser un matériau ayant un coefficient d'absorption plus élevé dans le domaine spectral visible et/ou infrarouge que les matériaux des premier, deuxième et troisième types, car en raison de la faible épaisseur de la couche, la transmittance totale ne serait pas réduite de façon significative. L'oxyde d'aluminium A1203, qui assure une adhérence élevée à de nombreux matériaux de substrat, est un matériau approprié pour la couche favorisant l'adhérence. [0091] Selon encore un autre mode de réalisation de l'invention, la couche 6 favorisant l'adhérence peut en même temps être un constituant optiquement actif de l'empilement de couches 2, ce qui contribue à l'effet antireflet. A cet effet, la couche 6 favorisant l'adhérence peut notamment être une couche du deuxième type. [0092] Dans le mode de réalisation selon la figure 4, la couche supérieure 7 est divisée en une deuxième sous-couche 11 et une première sous-couche 12, la première sous-couche 12 définissant la surface de l'empilement de couches 2. La deuxième sous-couche 11 est appliquée sans procédé d'assistance ionique ou au plasma, et pour le dépôt de la première sous-couche 12 un tel procédé d'assistance est utilisé. De cette façon, on évite que les ions à haute énergie n'endommagent chimiquement ou physiquement la couche 4 sous-jacente du premier type, pendant le processus de dépôt à assistance ionique. En revanche, l'assistance ionique permet d'obtenir une structure de couche dense de la première sous-couche 12. Ainsi, bien que les deux sous-couches 11 et 12 soient faites du même matériau, elles sont différentes en termes de densité. Typiquement, la première sous-couche 12 aura une plus grande densité et donc un indice de réfraction plus élevé. L'assistance ionique permet d'obtenir une surface dense et résistante. [0093] Dans le mode de réalisation selon la figure 5, une couche de protection 13 supplé- mentaire est appliquée sous la couche supérieure 7 ou avant celle-ci, afin de protéger le matériau de la couche 4 pendant le dépôt de la couche supérieure 7 contre le processus ionique ou au plasma. Par conséquent, il est généralement prévu dans ce mode de réalisation que la couche protectrice soit déposée avant la couche supérieure 7, et que la couche supérieure 7 soit déposée sur la couche protectrice et en contact avec celle-ci. [0094] Dans le mode de réalisation selon la figure 6, le composant optique 10 comprend un système de couches alternées dans lequel les couches 4 réalisées dans le matériau du premier type alternent avec les couches 5 réalisées dans le matériau du troisième type. Les couches 4 ont une épaisseur qui est supérieure d'au moins un facteur 10 à l'épaisseur des couches 5. Ces dernières couches, qui se présentent sous la forme de couches intermédiaires très fines, sont également appelées « couches aiguilles ». [0095] Dans le mode de réalisation selon la figure 7, l'une des deux couches 4 est réalisée sous la forme de ce que l'on appelle un « nanostratifié » 50. Cette couche comprend plusieurs couches minces successives, d'une épaisseur comprise entre 2 nm et 10 mn. [0096] Le revêtement conforme à l'invention a été soumis à deux essais normalisés pour vérifier sa résistance aux rayures ou à l'abrasion. Le premier essai normalisé était l'essai Bayer selon ASTM F735-11, TABER. Le milieu abrasif utilisé dans ce cas était le sable siliceux qui possède les propriétés suivantes : [0097] [Tableaux2] Classement 5/9 Arrondi 0,6+ Sphéricité 0,6+ Dureté 7,0 P. S. 2,65 Perte à la calcination 0,1 Pont dc fusion 2 8000 / 3 100° Couleur marron / blanc pH 6,9 7,0 100981 La composition chimique typique du sable siliceux utilisé est la suivante, en pourcentage en poids : 21 [0099] [Tableaux3] Si02 99,48 % en poids Fc203 0,06 % en poids M203 0,21 % en poids MgO