Brevet FR3084936A1 — publié le 20200214

Description Titre de l'invention : Miroir et substrat de miroir à rapport de forme élevé, et procédé et moyen pour produire un tel substrat de miroir woo 1 La présente invention concerne de manière générale un miroir et un substrat de miroir, notamment un miroir et un substrat de miroir ayant un rapport de forme élevé, et un procédé et un moyen pour produire ceux-ci. Art antérieur 100021 Les substrats de miroirs sont utilisés par exemple dans ce que l'on appelle les té- lescopes réflecteurs, aussi appelés réflecteurs, ou dans d'autres optiques de précision ; ils servent dans ce cas de substrat pour l'application d'une couche de miroir hautement réfléchissante. 100031 Pour une qualité de miroir régulièrement élevée, en ce qui concerne notamment la stabilité sur le long terme, les propriétés du substrat de miroir jouent un rôle important : 100041 - Poids du substrat de miroir 100051 Si le substrat de miroir a un poids excessivement élevé, par exemple parce qu'il s'agit d'un miroir ayant un diamètre particulièrement grand, une déformation peut se produire sous le poids intrinsèque du substrat de miroir, qui va dégrader la qualité de l'image optique. Mais un poids faible est généralement bénéfique aussi pour les substrats de miroirs de petites dimensions, en raison de l'amélioration de la maniabilité. [0006] - Qualité de surface du substrat de miroir [0007] Il est nécessaire que le substrat de miroir ait une qualité de surface élevée pour pouvoir réaliser le dépôt d'une couche réfléchissante de haute qualité. Un paramètre particulièrement important est la rugosité de la surface de miroir du substrat de miroir, sur laquelle on réalise le dépôt de la couche hautement réfléchissante. [0008] - Autres propriétés [0009] Le substrat de miroir doit en outre essentiellement être fait d'un matériau hautement résistant. notamment à haute résistance thermique. et qui a un faible coefficient de dilatation thermique. Parmi les matériaux appropriés, on peut citer notamment les verres, les céramiques et les vitrocéramiques. On connaît par exemple les vitrocéramiques « lithium aluminium silice », comme celles commercialisées sous les marques « ZERODUR® ou Clearceram0 ». ou les matériaux à base de cordiérite. ou les verres à très faibles coefficients de dilatation thermique, comme les verres de silice synthétiques dopés au TiO2, par exemple le verre commercialisé sous la marque 2 « ULEO », ou les céramiques comprenant de la cordiérite ou du SIC ou constituées de cordiérite ou de SIC. [0010] Généralement, les substrats de miroirs, par exemple ceux en vitrocéramique, sont fabriqués en fournissant d'abord un bain puis en coulant le matériau, de sorte que l'on obtient initialement un matériau vitreux. Afin d'éviter les fissures dans le matériau et de produire une vitrocéramique à partir du matériau de départ vitreux, une gestion de température complexe est nécessaire, en particulier un refroidissement lent et maîtrisé. De même, dans la fabrication des verres de silice synthétiques, on produit d'abord ce que l'on appelle des lingots ou des feuilles relativement grandes par dépôt de Si02. Si besoin, le diamètre des feuilles peut être augmenté en abaissant les processus. [0011] Ensuite, on exécute un usinage mécanique afin d'obtenir une pièce ayant les di- mensions souhaitées et la qualité souhaitée. Cet usinage mécanique peut notamment comprendre le perçage, le meulage et le polissage. [0012] Pour de telles étapes d'usinage, on sait utiliser des supports qui sont placés respec- tivement sous la pièce à travailler ou le substrat de miroir. L'utilisation de ces supports a pour but de prévenir les dégâts que pourrait subir le substrat de miroir. [0013] On sait notamment que les pièces ayant un rapport de forme élevé, par exemple les substrats de miroirs ayant un rapport de forme élevé, doivent de préférence être soutenues sur toute la surface de la pièce pendant l'usinage mécanique, mais aussi pendant d'autres étapes de traitement comme l'enduction, ou lorsqu'elles sont transportées. Ce soutien de la surface entière de la pièce est destiné notamment à maintenir la pièce, par exemple un substrat de miroir, stable dimensionnellement afin qu'elle ne se déforme pas, par exemple sous l'influence de la gravité. [0014] Par exemple, la demande de brevet allemand DE 10 2015 112 036 Al présente un support de coulée à base minérale pour le soutien de la surface entière d'une pièce, pour les pièces à travailler ayant un rapport de forme élevé. [0015] Toutefois, il a été découvert qu'un tel support de coulée à base minérale pose des problèmes si des processus de polissage extensifs sont nécessaires pour atteindre une qualité de surface spéciale. Dans ce cas, une forte quantité de chaleur est produite. Ceci est défavorable en raison de la différence de dilatation thermique entre la pièce supportée qui est faite d'un matériau à faible dilatation et le support de coulée à base minérale, il est donc impossible d'obtenir la précision requise en ce qui concerne les dimensions géométriques du substrat de miroir et la qualité de surface de ce dernier. [0016] La demande de brevet européen EP 1 391 433 A2 décrit un support en vitro- céramique à base de keatite, qui peut être employé pour façonner du verre ou des vitrocéramiques, par exemple. Toutefois, les vitrocéramiques à base de keatite ont aussi un coefficient de dilatation thermique plus élevé que celui des matériaux habituels à faible dilatation qui sont utilisés pour les substrats de miroirs. Il n'est donc pas possible non 3 plus de produire de cette façon des substrats de miroirs ayant une précision suffisante en cc qui concerne les dimensions géométriques et la qualité de surface. [0017] Ces problèmes se posent en particulier lorsque l'on souhaite développer de nouveaux substrats de miroirs, qui ont une épaisseur particulièrement faible en même temps qu'un grand diamètre. Actuellement, il n'est pas possible de produire de tels substrats de miroirs, ou du moins pas avec une qualité suffisante en ce qui concerne la stabilité de forme et la qualité de surface, ou bien ils cassent au cours du traitement. [0018] Il existe donc un besoin pour des substrats de miroirs et des miroirs ayant un rapport de forme élevé avec une épaisseur absolue faible et en même temps une qualité de surface élevée et une grande précision dimensionnelle et une grande stabilité. En outre, il existe un besoin pour des supports qui peuvent être utilisés pour fabriquer des substrats de miroirs et des miroirs à rapport de forme élevé, et pour un procédé de production de tels substrats de miroirs et miroirs. [0019] Objet de l'invention [0020] L'objet de l'invention est de proposer des substrats de miroirs qui résolvent ou au moins atténuent les défauts connus de l'art antérieur, et de proposer des miroirs, notamment sur la base de ces substrats de miroirs. Il existe également un besoin pour un procédé et pour un moyen de production de tels substrats de miroirs et de miroirs basés sur ceux-ci. [0021] Un substrat de miroir selon la présente invention comprend un matériau ayant un co- efficient de dilatation thermique linéaire moyenne inférieur ou égal à 1 * 10 6/K, de préférence inférieur ou égal à 0,1 * 10 6/K, et mieux encore inférieur ou égal à 0,05 10 6/K. Selon des modes de réalisation particulièrement avantageux, le substrat de miroir peut même avoir un coefficient de dilatation thermique linéaire moyenne inférieur ou égal à 0,02 't 10 6/K ou même inférieur ou égal à 0,01 't 10 6/K. [0022] Ce substrat de miroir a au moins l'une des caractéristiques suivantes : [0023] - le substrat de miroir a un rapport de sa dimension latérale sur son épaisseur maximale d'au moins 100, de préférence d'au moins 150, de préférence encore d'au moins 200, et mieux encore égal à 300 ou plus ; [0024] - le poids par unité de surface du substrat de miroir est égal à 100 kg/m2 ou moins, de préférence 50 kg/m2 ou moins, de préférence encore 30 kg/m2, et mieux encore 15 kg/ m2 ou moins. [0025] Le substrat de miroir a une surface de miroir qui a une rugosité R' d'au plus 3,5 pm, idéalement inférieure à 1,2 pm, et la surface de miroir du substrat de miroir a de préférence une surface rectifiée. [0026] Selon un mode de réalisation de l'invention, le substrat de miroir a une épaisseur maximale de 50 mm ou moins, spécialement 20 mm ou moins, de préférence 15 mm ou moins, de préférence encore 10 mm ou moins, et mieux encore 2 mm ou moins. [0027] De préférence, le substrat de miroir a une dimension latérale d'au moins 200 mm et/ ou d'au plus 4500 mm. Toutefois, l'invention est également applicable à un substrat de miroir ayant des dimensions latérales plus petites ou plus grandes. [0028] Selon un autre mode de réalisation de l'invention, le substrat de miroir peut être poli sur un support, afin de donner au substrat de miroir une surface de miroir polie ayant une rugosité moyenne quadratique (RMS) inférieure à 2 nm, de préférence inférieure à 1 nm. [0029] Les définitions et la terminologie suivantes s'appliquent dans le contexte de la présente demande : [0030] Un matériau de substrat de miroir ayant un faible coefficient de dilatation thermique se rapporte à un matériau présentant un coefficient de dilatation thermique linéaire moyenne inférieur ou égal à 3 * 10-6/K. [0031] Le rapport de la dimension latérale du substrat de miroir sur l'épaisseur maximale de celui-ci est également appelé le rapport de forme. Le rapport de forme est donc un paramètre sans dimension. Habituellement, un substrat de miroir a une forme circulaire ou à peu près circulaire, de sorte que la dimension latérale est généralement le diamètre du substrat de miroir. Si le substrat de miroir présente différentes dimensions latérales, par exemple si le substrat de miroir a une largeur différente de sa longueur, la valeur moyenne est calculée et utilisée pour le calcul du rapport de forme. [0032] L'épaisseur du substrat de miroir peut varier sur l'étendue du substrat de miroir. Par exemple, des substrats de miroirs peuvent avoir une plus faible épaisseur au niveau des bords extérieurs qu'au centre. Pour déterminer le rapport de forme, on utilise l'épaisseur maximale. [0033] Le rapport de forme élevé implique généralement un faible poids par unité de surface. Dans un mode de réalisation de l'invention, ce poids par unité de surface est égal à 100 kg/m2 ou moins, de préférence 50 kg/m2 ou moins, et mieux encore 30 kg/m ' ou moins. [0034] Dans la présente demande, sauf mention contraire explicite, le coefficient de di- latation thermique moyenne a. est donné pour la plage de 0 à 50 °C, cependant l'invention concerne aussi des matériaux qui présentent une faible dilatation thermique avec un coefficient de dilatation ayant été mesuré dans une plage de température différente. La valeur est le coefficient nominal de dilatation thermique linéaire moyenne selon la norme ISO 7991, qui est déterminé par mesure statique. Dans le contexte de la présente invention, les expressions coefficient de dilatation, coefficient de dilatation thermique, coefficient de dilatation thermique linéaire moyenne et a sont utilisés de façon interchangeable, sauf mention contraire. [0035] Dans la présente invention, un substrat de miroir est destiné à désigner le substrat sur lequel on applique une couche hautement réfléchissante (ou couche de miroir). L'expression substrat de miroir désigne également une pièce qui doit être traitée ou qui est en cours de traitement pour obtenir un substrat de miroir, qui est par exemple un produit semi-fini d'un substrat de miroir qui, bien qu'ayant déjà été coupé aux dimensions du substrat de miroir fini, doit encore subir d'autres étapes d'usinage. [0036] Dans le contexte de la présente invention, le ternie miroir se rapporte au composite d'un substrat de miroir ayant une couche hautement réfléchissante sur sa surface fonctionnelle. La surface du substrat de miroir sur laquelle la couche réfléchissante est appliquée est appelée la surface fonctionnelle du substrat dc miroir dans la présente description. La couche hautement réfléchissante est aussi appelée couche de miroir dans le contexte de la présente invention. [0037] Le terme support est destiné à désigner un dispositif qui sert à des fins de support pendant le stockage, pendant le transport et/ou pendant l'usinage d'une pièce qui est supportée par celui-ci, comme un substrat de miroir. [0038] Si un article, dans le contexte de la présente invention, est décrit comme comprenant un matériau spécifique, ceci en particulier englobe aussi le cas où l'article est principalement constitué de cc matériau, c'est-à-dire à plus de 50 % en poids, ou même le cas où il est substantiellement constitué de ce matériau, c'est-à-dire à plus de 90 % en poids. En outre, ceci peut aussi englober le cas où l'article est fait de ce matériau, c'est-à-dire qu'il est entièrement constitué de ce matériau. [0039] Dans le contexte de la présente invention, la surface de miroir du substrat dc miroir désigne la surface du substrat de miroir sur laquelle la couche de miroir doit être appliquée ou a été appliquée. Il s'agit donc d'une face de qualité du substrat de miroir, c'est-à-dire une surface pour laquelle des exigences particulières sont imposées en ce qui concerne la qualité de surface. [0040] Le substrat de miroir comprend donc un matériau ayant un faible coefficient de di- latation thermique linéaire moyenne. En particulier, le substrat de miroir peut être constitué principalement, c'est-à-dire à plus de 50 % en poids, ou même substantiellement, c'est-à-dire à plus de 90 % en poids, ou même complètement d'un tel matériau ou d'un mélange de tels matériaux. Comme matériaux ayant un faible coefficient de dilatation thermique, on peut citer notamment les verres, les vitrocéramiques et les céramiques, par exemple les vitrocéramiques « lithium aluminium silice », comme celles commercialisées sous les marques « ZERODURO, Astrosital® ou Clearceram® », par exemple, ou les matériaux à base de cordiérite, ou les verres à très faibles coefficients de dilatation thermique, comme les verres de silice synthétiques dopés au TiO2, par exemple le verre commercialisé sous la marque ULE® », ou les céramiques comprenant de la cordiérite ou du SiC ou constituées de cordiérite ou de SiC. [0041] Il n'a pas été possible jusqu'à présent de fournir un substrat de miroir selon la 6 présente invention, c'est-à-dire qui comprend un matériau ayant un faible coefficient de dilatation thermique et [0042] - ayant un rapport de forme d'au moins 100, de préférence d'au moins 150, de préférence encore d'au moins 200, et mieux encore égale à 300 ou plus ; [0043] et/ou [0044] - un poids par unité de surface du substrat de miroir égal à 100 kg/m2 ou moins, de préférence 50 kg/m, ou moins, et mieux encore 30 kg/m2 ou moins ; [0045] dans lequel le substrat de miroir a une surface de miroir ayant une rugosité Ra d'au plus 3,5 pm, et mieux encore inférieure à 1,2 pm. [0046] En particulier, ceci n'a jusqu'à aujourd'hui pas été possible pour une épaisseur maximale du substrat de miroir de 20 mm ou moins, de préférence 15 mm ou moins, de préférence encore 10 mm ou moins, et mieux encore de 2 mm ou moins. [0047] Ceci était vrai notamment pour les substrats de miroirs ayant une dimension latérale d'au moins 200 mm. Pour les substrats de miroirs ayant une dimension latérale de 1000 mm ou plus, il n'était pas possible de réaliser des épaisseurs maximales de 50 mm ou moins, spécialement 40 mm ou moins, et mieux encore de 30 mm. [0048] En particulier, à cause du grand rapport de forme et de la faible épaisseur absolue, il n'était pas possible de traiter la surface du substrat de miroir pour obtenir une faible rugosité R' ne dépassant pas 3,5 11m, ou même 1,2 pm. Il n'était notamment pas possible d'obtenir une telle rugosité dans un processus de meulage. Lors du traitement d'un tel substrat de miroir, le substrat de miroir cassait pendant l'usinage avant qu'une rugosité aussi faible puisse être atteinte. [0049] Selon un mode de réalisation, la surface de miroir telle qu'illustrée a une rugosité R. ne dépassant pas 3,5 pm, de préférence ne dépassant pas 1,2 in et la surface fonctionnelle du substrat de miroir a de préférence une surface rectifiée. [0050] Ceci n'était pas non plus faisable jusqu'à présent. [0051] Les difficultés de la fabrication de tels substrats de miroirs comprenaient notamment le fait qu'un processus d'usinage comme le meulage, le rodage ou le polissage, qui est employé pour obtenir la faible rugosité évoquée ici, dégage une grande quantité d'énergie thermique. Par conséquent, le substrat de miroir et le support utilisé dans le processus d'usinage chauffent. Cette augmentation de température est substantielle, au point que dans les processus requis ici, des contraintes thermomécaniques peuvent apparaître entre le support et le substrat de miroir qu'il soutient, et ceci se produit en particulier si le support a un coefficient de dilatation thermique élevé. [0052] Selon un autre mode de réalisation de l'invention, le substrat de miroir comprend une vitrocéramique, de préférence une vitrocéramique « lithium aluminium silice », la vitrocéramique lithium aluminium silice se présentant de préférence sous la forme d'une vitrocéramique en solution solide à forte teneur en quartz, ou d'un verre de silice syn- 7 thétique dopé au titane, et/ou d'une céramique, de préférence une céramique comprenant de la cordiérite et/ou du SiC. [0053] Le substrat de miroir peut notamment être constitué principalement, c'est-à-dire à plus de 50 pour cent en poids, ou substantiellement, c'est-à-dire à plus de 90 pour cent en poids, ou même entièrement d'un tel matériau. [0054] Ces matériaux présentent généralement non seulement de faibles coefficients de di- latation thermique, mais aussi une bonne aptitude à l'usinage, comme une bonne aptitude au sablage et au polissage. [0055] Selon un autre aspect, l'invention concerne aussi un miroir, en particulier un miroir comprenant un substrat de miroir selon des modes de réalisation de la présente invention. Le miroir comprend une couche hautement réfléchissante sur la surface de miroir du substrat de miroir. [0056] Un autre aspect de la présente invention concerne un support destiné à supporter, de préférence sur toute sa surface, un substrat de miroir soutenu par celui-ci, en particulier un substrat de miroir selon des modes de réalisation de l'invention, pendant le traitement et/ou le transport de celui-ci. Le support comprend un matériau ayant un coefficient de dilatation thermique linéaire moyenne inférieur ou égal à 1 * 10 6/K, de préférence inférieur ou égal à 0,1 * 10 6/K, et mieux encore inférieur ou égal à 0,05 * 10 6/K. Selon des modes de réalisation particuliers, le coefficient de dilatation du support peut même être inférieur ou égal à 0,02 * 10 6/K, ou même inférieur ou égal à 0,01 * 10 6/K. [0057] En particulier, le support peut être constitué principalement, c'est-à-dire à plus de 50 en poids, ou même substantiellement, c'est-à-dire à plus de 90 % en poids, ou même complètement de ce matériau ou d'un mélange de tels matériaux. Le support a de préférence une dimension latérale généralement d'au moins 200 mm et d'au plus 4 500 nma [0058] Ainsi, le support est approprié pour traiter et/ou transporter des substrats de miroirs qui ont une grande dimension latérale. En même temps, le matériau du support ayant un coefficient de dilatation thermique linéaire moyenne inférieur ou égal à 1 * 10 6/K, de préférence inférieur ou égal à 0,1 * 10 6/K, et mieux encore inférieur ou égal à 0,05 * 10 6/K (et même, selon des modes de réalisation spéciaux, inférieur ou égal à 0,02 * 10 6/K ou même inférieur ou égal à 0,01 10 6/K) garantit que même en cas de génération de chaleur extensive pendant un usinage tel que le meulage, le rodage ou le polissage, le support ne présente qu'une faible dilatation thermique. [0059] Ici, la surface du support désigne la surface du support sur laquelle repose le substrat de miroir au moins partiellement pendant l'usinage et/ou pendant son transport. [0060] Selon un autre mode de réalisation du support, la surface du support a une forme courbée. De préférence, la surface du support est approximée par une enveloppe. 8 [0061] L'enveloppe ici peut être comprise comme une forme ou une géométrie prédéfinie de la surface du support. Ainsi, la qualité du support est aussi caractérisée par tout écart existant entre la surface réelle du support et l'enveloppe descriptive idéale. Les écarts résultants qui sont encore tolérables entre l'enveloppe et la surface réelle diffèrent en fonction du diamètre de la pièce ou du substrat de miroir. [0062] De façon particulièrement préférée, l'écart du support par rapport à l'enveloppe [0063] n'est pas supérieur à 0,5 mm, de préférence non supérieur à 0,1 mm, et mieux encore non supérieur à 0,05 mm, et même selon certains modes de réalisation non supérieur à 0,025 mm pour un substrat de miroir ayant une dimension latérale d'au moins 4000 mm ; [0064] et/ou [0065] n'est pas supérieur à 0,2 mm, de préférence non supérieur à 0,05 mm, et mieux encore non supérieur à 0,025 mm pour un substrat de miroir ayant une dimension latérale d'au moins 2000 mm ; [0066] et/ou [0067] n'est pas supérieur à 0,1 mm, de préférence non supérieur à 0,05 mm, et mieux encore non supérieur à 0,01 mm pour un substrat de miroir ayant une dimension latérale d'au moins 1200 mm. [0068] Selon un autre mode de réalisation du support, la surface du support est au moins partiellement couverte d'un matériau intermédiaire. Le matériau intermédiaire peut être un film, selon un mode de réalisation un film de polymère. Le matériau intermédiaire peut aussi comprendre de la poix, du bitume et/ou une silicone. De préférence, le matériau intermédiaire, par exemple le film, a une épaisseur qui est au moins aussi grande que l'écart de la forme réelle de la surface par rapport à l'enveloppe. De façon particulièrement préférée, le matériau intermédiaire, par exemple un film, a une épaisseur maximale d'au plus 200 Mln, de préférence au plus 100 i_tm, de préférence encore au plus 50 pm, et même de façon encore préférée d'au plus seulement 25 pin. Dans le cas présent, une très bonne adaptation de la forme du support à l'enveloppe du substrat de miroir est favorable. [0069] Les films de polymère peuvent présenter un comportement résilient non linéaire, ce qui peut éventuellement conduire à des écarts de la forme de la surface de réflexion du substrat de miroir après meulage. Ceci peut éventuellement être amélioré en utilisant des matériaux intermédiaires de remplacement ou additionnels. Ces matériaux intermédiaires peuvent comprendre des feuilles métalliques ou des matériaux pâteux ou gélatineux, ainsi que des films anti-évaporation. [0070] Le matériau intermédiaire peut servir entre autres à amortir tout écart de la forme de surface du support par rapport à la surface prédéfinie idéale qui peut être décrite par une enveloppe. 9 [0071] Toutefois, en variante ou en addition, le matériau intermédiaire peut aussi remplir d'autres fonctions. Par exemple, le matériau intermédiaire peut aussi servir à réduire l'adhérence entre le support et le substrat de miroir porteur, de sorte qu'une fois le traitement ou le transport du substrat de miroir terminé, le substrat de miroir peut être enlevé du support facilement et notamment sans être endommagé. [0072] Si le matériau intermédiaire est fourni sous la forme d'un film de polymère, le polymère peut comprendre un ou plusieurs éléments de l'ensemble comprenant le polyéthylène (PE), le polypropylène (PP), le polystyrène (PS), le polycarbonate (PC), un ou plusieurs polyester(s), le polyéthercétonc (PEK), le polyéthylène téréphtalate (PET), le polytétrafluoroéthylène (PTFE) comme le Teflon®, un ou plusieurs copolymère(s) de tétrafluoroéthylène (ETFE), le poly(chlorure de vinyle) (PVC). [0073] De préférence, le matériau intermédiaire comprend des matériaux qui sont conçus pour présenter une résistance à la chaleur de 150 °C ou plus. [0074] Selon un autre mode de réalisation de l'invention, on préfère un matériau inter- médiaire qui a un coefficient de dilatation thermique le plus faible possible pour ces classes de matériaux. [0075] Si le matériau intermédiaire se présente sous la forme d'un film polymère, les polymères présentant une résistance à la chaleur de 150 °C ou plus sont préférés. En outre, dans cc cas, la préférence va aux polymères qui ont un coefficient de dilatation thermique le plus faible possible pour les polymères. [0076] Selon encore un autre mode (le réalisation du support, le matériau intermédiaire comprend du poly(chlorure de vinyle) (PVC), PTFE, ETFE, PEK et/ou PET. Par exemple, le matériau intermédiaire peut se présenter sous la forme d'un film polymère comprenant du PVC, PTFE, ETFE, PEK et/ou PET. [0077] Si les étapes d'usinage produisent des charges thermiques plus faibles, il est également possible d'utiliser des films polymères thermiquement moins stables, par exemple des films en polyéthylène ou en polypropylène. [0078] Par ailleurs, la préférence va aux films polymères thermoplastiques qui ont tendance à céder dans une certaine mesure aux hautes températures qui peuvent se produire dans l'usinage mécanique d'un substrat de miroir Les écarts de la surface du support par rapport à l'enveloppe peuvent être encore mieux compensés de cette manière. [0079] Le film peut être appliqué sur la surface du substrat en un morceau, dans son ensemble, ou sous la forme de parties espacées, par exemple sous la forme de petites pièces individuelles. [0080] Selon un mode de réalisation, le film comporte des « canaux » qui s'étendent au moins jusqu'au bord, ce qui permet, à la mise en place du substrat de miroir sur le support, de faire échapper l'air vers l'extérieur et de faire porter le substrat de miroir sur la surface. Si le film est appliqué dans son ensemble, ces canaux peuvent être in- troduits de manière consécutive, par exemple en taillant le film. [0081] Selon un autre mode de réalisation du support, la surface du support est partiellement recouverte du matériau intermédiaire, par exemple le film, de sorte que le matériau intermédiaire est appliqué sur la surface sous la forme de parties espacées. Les parties espacées du matériau intermédiaire peuvent être disposées selon un motif symétrique. Une option pour cette disposition est une symétrie radiale, par exemple un motif symétrique radialcment en quatre parties des parties de matériau intermédiaire, par exemple des parties de film. [0082] Selon un mode de réalisation, les parties ont une forme circulaire ou elliptique. [0083] Ce mode de réalisation du support permet à une charge mécanique apparaissant pendant le traitement ou le transport du substrat de miroir, par exemple duc au poids intrinsèque du substrat de miroir, d'être absorbée de manière particulièrement régulière par la surface entière du support. Ainsi les contraintes mécaniques subies par le substrat de miroir peuvent être minimisées. Par conséquent, la stabilité du substrat de miroir sur le support pendant le traitement est accrue. [0084] Selon une variante de l'invention, le support peut être configuré de telle manière que n'importe quel résidu produit par l'usinage de la pièce supportée peut être retiré proprement et sans endommager la pièce elle-même. [0085] Pour cette raison, le support peut être configuré de telle manière que n'importe quel résidu produit par le traitement de la pièce peut être évacué. [0086] A cet effet, la surface du support peut par exemple être lisse ou être pourvue de rainures. [0087] La surface du support peut en outre comprendre au moins une ouverture, par exemple un drain par lequel les résidus produits pendant l'usinage de la pièce peuvent être évacués. Si une ou plusieurs ouvertures sont prévues, le matériau intermédiaire peut même être appliqué étroitement, ou de façon continue afin de ne pas présenter de canaux sur le bord extérieur du substrat de miroir, comme montré sur la figure 3, puisque l'air et les résidus peuvent être éliminés par les ouvertures formées dans le support. [0088] Selon un mode de réalisation de l'invention, le drain est défini par des rainures en réseau constituées d'éléments s'étendant radialement et circulaires. [0089] Un autre aspect de la présente invention concerne un ensemble constitué d'un support et d'un substrat de miroir. [0090] Le support est utilisé pour supporter un substrat de miroir qui repose sur celui-ci de préférence sur toute sa surface pendant le traitement et/ou le transport de celui-ci, et comprend un matériau ayant un coefficient de dilatation thermique linéaire moyenne inférieur ou égal à 1 't 10-6/K, de préférence inférieur ou égal à 0,1 * 106/K, et mieux encore inférieur ou égal à 0,05 * 106/K, et même selon des modes de réalisation 11 spéciaux, inférieur ou égal à 0,02 * 10-6/K ou même inférieur ou égal à 0,01 * 10-6/K. [0091] Le substrat de miroir comprend un matériau ayant un coefficient de dilatation thermique linéaire moyenne inférieur ou égal à 1 * 10-6/K, de préférence inférieur ou égal à 0,1 * 10-6/K, et mieux encore inférieur ou égal à 0,05 * 10-6/K, et même selon des modes de réalisation spéciaux, inférieur ou égal à 0,02 * 10-6/K ou même inférieur ou égal à 0,01 " 10-6/K. [0092] Le substrat de miroir a dc préférence une épaisseur maximale de 50 mm ou moins, spécialement 20 mm ou moins, dc préférence 15 mm ou moins, de préférence encore 10 mm ou moins, et mieux encore 2 mm ou moins. La dimension latérale du substrat de miroir vaut de préférence au moins 200 mm. [0093] Le substrat de miroir a l'une des caractéristiques suivantes : [0094] - le substrat dc miroir a un rapport de sa dimension latérale sur son épaisseur maximale d'au moins 100, de préférence d'au moins 150, de préférence encore d'au moins 200, et mieux encore égal à 300 ou plus ; [0095] - le poids par unité de surface du substrat de miroir est égal à 100 kg/m' ou moins, de préférence 50 kg/m2 ou moins, de préférence encore 30 kg/m2 ou moins, et mieux encore 15 kg/m2 ou moins. [0096] Selon un mode de réalisation de l'ensemble, la surface de miroir du substrat dc miroir a une rugosité R' d'au plus 3,5 pm, idéalement inférieure à 1,2 prn, et la surface de miroir du substrat de miroir a de préférence une surface rectifiée. [0097] Selon un autre mode de réalisation, la surface du substrat de miroir a une rugosité RMS inférieure à 2 nm, de préférence inférieure à 1 nm, et la surface du substrat de miroir a de préférence une finition polie. [0098] Selon un autre mode de réalisation de l'ensemble, les coefficients de dilatation thermique du matériau dont est fait le support et du matériau dont est fait le substrat de miroir ne diffèrent pas plus d'une valeur absolue de 1 * 106/K, de préférence pas plus d'une valeur absolue de 0,1 10 6/K, de préférence encore pas plus d'une valeur absolue de 0,05 * 10 6/K, et mieux encore pas plus d'une valeur absolue de 0,02 * 10 6/ K. [0099] De préférence, la surface du support et la surface du substrat de miroir qui porte sur la surface du support ont des courbures complémentaires opposées. [0100] En d'autres termes, la surface du support a de préférence une courbure convexe quand la surface du substrat de miroir qui porte sur celle-ci a une courbure concave, et vice versa. Ainsi, la surface du support et la surface portante du substrat de miroir ont une forme complémentaire dans les régions superposées. [0101] Selon un mode de réalisation de l'ensemble, le substrat de miroir est fixé laté- ralement sur le support, et de préférence, le substrat de miroir est de plus fixé pour ne pas se détacher du support. 12 [0102] Un autre aspect encore de l'invention concerne un procédé de production d'un substrat de miroir, notamment un substrat de miroir selon l'un quelconque des modes de réalisation qui précèdent. Le procédé comprend les étapes suivantes : [0103] - fournir un support pour supporter un substrat de miroir qui porte sur celui-ci de préférence sur toute sa surface ; [0104] - fournir un substrat de miroir constitué d'un matériau qui a un coefficient de di- latation thermique inférieur ou égal à 1 * 10 6/K, de préférence inférieur ou égal à 0,1 * 10-6/K, et mieux encore inférieur ou égal à 0,05 * 10 6/K ; [0105] - placer le substrat de miroir sur le support ; [0106] - usiner de façon mécanique, notamment par polissage, perçage, meulage ou rodage, une surface du substrat de miroir, en particulier la surface de miroir de celui-ci ; [0107] dans lequel les coefficients de dilatation thermique du matériau dont est fait le support et du matériau dont est fait le substrat de miroir ne diffèrent pas plus d'une valeur absolue de 1 * 10-6/K, de préférence pas plus d'une valeur absolue de 0,1 " 106 K, de préférence encore pas plus d'une valeur absolue de 0,05 * 10 6/K, et mieux encore pas plus d'une valeur absolue de 0,02 * 10 6/K. [0108] Selon des modes de réalisation particuliers du procédé, il est même possible que le matériau dont est fait le substrat de miroir ait un coefficient de dilatation thermique inférieur ou égal à 0,02 10 6/K ou même inférieur ou égal à 0,01 * 10 6/K. [0109] La surface fonctionnelle du substrat de miroir est placée en face de la surface qui porte sur le support. Dans un mode de réalisation préféré, afin d'assurer un traitement sûr et/ou un transport sûr du substrat de miroir, le substrat de miroir est fixé au support, au moins à l'encontre du déplacement latéral par rapport au support. De préférence, le substrat de miroir est aussi fixé à l'encontre du soulèvement ou du détachement par rapport au support. Cette fixation peut notamment être réalisée par des pinces, de manière adhésive, ou par une pression négative entre le support et le substrat de miroir. [0110] Un autre aspect de l'invention concerne l'utilisation d'un substrat de miroir selon des modes de réalisation de l'invention dans des applications astronomiques ou dans des processus lithographiques, par exemple dans la lithographie à cristaux liquides et/ou dans la rnicrolithographie. [0111] L'invention va maintenant être expliquée plus en détail en référence aux figures, dans lesquelles : [0112] [fig.1] [0113] et [0114] [fig.2] montrent un ensemble comprenant un substrat de miroir et un support selon des modes de réalisation de l'invention ; [0115] [fig.3] est une vue d'une surface d'un support selon un mode de réalisation de l'invention ; et 13 [0116] [fig.4] représente des étapes de procédé pour produire le substrat de miroir. [0117] La figure 1 est une vue schématique, non dessinée à l'échelle, d'un ensemble 15 comprenant un support 1 et un substrat de miroir 20 selon un mode de réalisation. Le substrat de miroir 20 est ici conçu de telle manière que la surface de l'élément 20 qui porte sur le support 1, c'est-à-dire la surface portante 22, a une courbure convexe. A l'inverse, la surface 4 du support 1 a une courbure vers le bas concave, afin d'assurer le meilleur support possible de la pièce ou de l'élément en verre, en vitrocéramique ou en céramique. En conséquence, la surface portante 22 et la surface 4 ont une forme complémentaire opposée, afin d'obtenir un support de pleine surface du substrat de miroir mince 20. [0118] La figure 2 est une vue schématique, non dessinée à l'échelle, d'un autre mode de réalisation de l'ensemble 15, composé du support 1 et d'un substrat de miroir 20 supporté par celui-ci, dans lequel le substrat de miroir 20 est conçu de telle manière que la surface portante 22 qui repose sur le support 1 a une forme concave. La surface 4 du support 1, à l'inverse, a une courbure vers le haut convexe, afin d'assurer le meilleur soutien possible pour le substrat de miroir 20. [0119] Généralement, dans l'ensemble 15 montré schématiquement et non à l'échelle sur les figures 1 et 2, le support 1 sert à supporter un substrat de miroir 20 qui repose sur celui-ci de préférence sur toute sa surface pendant le traitement et/ou le transport de ce dernier. Le support 1 comprend un matériau ayant un coefficient de dilatation thermique linéaire moyenne inférieur ou égal à 1 't 10 6/K, de préférence inférieur ou égal à 0,1 't 10 6/K, et mieux encore inférieur ou égal à 0,05 't 10 6/K, ou même inférieur ou égal à 0,02 't 10 6/K ou même inférieur ou égal à 0,01 't 10 6/K. De même, le substrat de miroir 20 comprend un matériau ayant un coefficient de dilatation thermique linéaire moyenne inférieur ou égal à 1 't 10 6/K, de préférence inférieur ou égal à 0,1 't 10 6/K, et mieux encore inférieur ou égal à 0,05 't 10 6/K, ou même inférieur ou égal à 0,02 't 10 6/K ou même inférieur ou égal à 0,01 't 10 6/K. De préférence, le substrat de miroir a une épaisseur maximale de 50 mm ou moins, spécialement 20 mm ou moins, de préférence 15 mm ou moins, de préférence encore 10 mm ou moins, et mieux encore 2 mm ou moins. En outre, de préférence la dimension latérale du substrat de miroir 20 est d'au moins 200 mm et peut en particulier aller jusqu'à 4500 mm Le substrat de miroir 20 a l'une des caractéristiques suivantes : [0120] - le substrat de miroir 20 a un rapport de sa dimension latérale sur son épaisseur maximale d'au moins 100, de préférence d'au moins 150, de préférence encore d'au moins 200, et mieux encore égal à 300 ou plus ; et/ou [0121] - le poids par unité de surface du substrat de miroir 20 est égal à 100 kg/m2 ou moins, de préférence 50 kg/m2 ou moins, de préférence encore 30 kg/m2. Un poids par unité de surface de 15 kg/m2 ou moins est particulièrement préféré. 14 [0122] Selon un mode de réalisation de l'invention, la surface de miroir du substrat de miroir a une rugosité Ra d'au plus 3,5 p.m, idéalement inférieure à 1,2 pm, et la surface du substrat de miroir a de préférence une surface rectifiée. Si la surface de miroir du substrat de miroir a une finition polie, la rugosité RMS est de préférence inférieure à 2 nm, et mieux encore inférieure à 1 nm. [0123] Selon encore un autre mode de réalisation de l'ensemble 15, les coefficients de di- latation thermique du matériau dont est fait le support 1 et du matériau dont est fait le substrat de miroir 20 ne diffèrent pas plus d'une valeur absolue de 1 * 10-6/K, de préférence pas plus d'une valeur absolue de 0,1 * 10 6/K, de préférence encore pas plus d'une valeur absolue de 0,05 * 10-6/K, et mieux encore pas plus d'une valeur absolue de 0,02 * 10-6/K. [0124] La figure 3 est une vue schématique, non dessinée à l'échelle, montrant un support 1 selon un mode de réalisation de l'invention tel qu'utilisé dans un ensemble selon l'une quelconque des figures 1 et 2, à titre d'exemple. [0125] Le support 1 pour supporter un substrat de miroir 20 (non représenté) qui porte sur celui-ci de préférence sur toute la surface du substrat de miroir pendant son traitement et/ou son transport comprend un matériau ayant un coefficient de dilatation thermique linéaire moyenne inférieur ou égal à 1 * 10 6/K, de préférence inférieur ou égal à 0,1 * 10 6/K, et mieux encore inférieur ou égal à 0,05 * 10 6/K, et même dans des modes de réalisation particuliers inférieur ou égal à 0,02 * 10 6/K ou même inférieur ou égal à 0,01 * 10 6/K, le support ayant de préférence une dimension latérale d'au moins 200 mm et/ou d'au plus 4500 mm. [0126] Selon un mode de réalisation, la surface 4 du support 1 a une forme courbée, comme montré sur les dessins, [0127] - dans lequel, de préférence, la surface 4 du support 1 est approximée par une enveloppe ; et [0128] - dans lequel, de préférence encore, l'écart du support 1 par rapport à l'enveloppe n'est pas supérieur à 0,5 mm, de préférence non supérieur à 0,025 mm pour un substrat de miroir 20 ayant une dimension latérale d'au moins 4000 mm ; et/ou [0129] - n'est pas supérieur à 0,2 mm et de préférence non supérieur à 0,025 mm de préférence pour un substrat de miroir 20 ayant une dimension latérale d'au moins 2000 mm ; et/ou [0130] - n'est pas supérieur à 0,1 mm et de préférence non supérieur à 0,01 mm de préférence pour un substrat de miroir 20 ayant une dimension latérale d'au moins 1200 rom [0131] Selon encore un autre mode de réalisation du support 1, la surface 4 du support 1 est au moins partiellement couverte d'un matériau intermédiaire 13, par exemple un film 13, en particulier un film polymère, [0132] dans lequel le matériau intermédiaire 13, tel que le film, a de préférence une épaisseur qui est au moins aussi grande que l'écart de la forme réelle de la surface 4 par rapport à l'enveloppe, [0133] dans lequel le matériau intermédiaire 13 a de préférence une épaisseur maximale d'au plus 200 p.m, de préférence d'au plus 100 pm, de préférence encore d'au plus 50 !lm, ou même mieux encore ne dépassant pas 25 !lm. [0134] A côté du mode de réalisation courbé du support mentionné ci-dessus, le support peut être plat, selon encore un autre mode de réalisation, par exemple pour produire des miroirs plans. [0135] Selon un autre mode de réalisation du support, le matériau intermédiaire 13 comprend du poly(chlorure de vinyle). [0136] De préférence, la surface 4 du support 1 n'est que partiellement couverte par le matériau intermédiaire 13. Par exemple, un film peut être appliqué sur la surface comme montré ici, sur la figure 3, en tant que matériau intermédiaire 13 sous la forme de petites pièces, qui peuvent notamment être disposées selon un motif régulier, par exemple un motif symétrique ou radialcment symétrique. Dans un mode de réalisation, une symétrie triple, quadruple ou multiple des pièces de film est suggérée, et les pièces de film ont de préférence une forme circulaire ou elliptique. [0137] La figure 4 représente, en plusieurs sous-images, des étapes de procédé pour produire un substrat de miroir 20. [0138] Tout (l'abord, on prépare le substrat de miroir et le support. Comme montré sur la sous-image (a), la surface 4 du support 1 est mise en forme selon une enveloppe prédéfinie qui est ici concave, par exemple, en utilisant un outil à meuler 5, comme une meule rotative. La sous-image (b) montre le traitement correspondant de la surface portante 22 du substrat de miroir 20. Ici, la surface portante 22 est pourvue d'une courbure complémentaire de celle de la surface 4. Une fois que les surfaces 4, 22 ont été formées de cette manière, le substrat de miroir 20 est placé sur le support 20 et est fixé, comme montré sur la sous-image (c). Dans ce cas, un matériau intermédiaire 13 peut encore être utilisé pour compenser les inégalités restantes des surfaces, et éventuellement aussi pour fournir un amortissement au cours du traitement ultérieur du substrat de miroir 20. La fixation à l'encontre du déplacement latéral du substrat de miroir 20 sur le support et aussi contre le détachement peut être réalisée de manière adhésive, par exemple par le matériau intermédiaire 13. Dans l'ensemble 15 ainsi obtenu, la surface fonctionnelle 21 peut alors être usinée à l'aide d'un outil à meuler 5, comme montré sur la sous-image (d), avec peu de déformation du substrat de miroir 20. Le support 1 peut en outre être utilisé pour traiter d'autres substrats de miroirs, de sorte que lorsqu'une série d'une pluralité de substrats de miroirs identiques 20 est produite, l'étape selon la sous-image (a) n'a besoin d'être exécutée qu'une fois. 16 [0139] Sans être limité à l'exemple illustré, le procédé de production d'un substrat de miroir selon un mode de réalisation préféré de l'invention tel que décrit ci-dessus est basé sur la mise en forme d'une surface 4 du support 1 et d'une surface portante selon une forme prédéfinic ou selon un profil de surface prédéfini par usinage de retrait de matière, et la surface portante 22 du substrat de miroir et la surface 4 du support 1 sont formées avec des formes complémentaires opposées, au moins dans des régions portantes, et la surface portante 22 du substrat de miroir 20 et la surface 4 du support 1 sont mises en contact puis le substrat de miroir 20 est fixé au support 1, de sorte qu'un ensemble 15 est formé, puis, dans l'ensemble 15, la surface fonctionnelle 21 opposée à la surface portante 22 est formée par usinage de retrait de matière. [0140] Tl apparaîtra aux personnes du métier que l'invention n'est pas limitée aux modes de réalisation représentés, mais qu'elle peut au contraire être modifiée de diverses manières. Par exemple, l'ordre de traitement des surfaces 4 et 22 n'est pas important, elles peuvent aussi bien être mises en forme simultanément, par exemple, ou bien la surface portante 22 du substrat de miroir 20 peut être mise en forme en premier, contrairement à ce qui est représenté sur la séquence de sous-images. [0141] Liste des numéros de référence : [0142] 1 Support [0143] 5 Outil à meuler [0144] 13 Matériau intermédiaire [0145] 15 Ensemble [0146] 20 Substrat de miroir [0147] 21 Surface fonctionnelle de 20 [0148] 22 Surface portante de 20 [0149] 4 Surface de support 17 [Revendication 1] [Revendication 2] [Revendication 3] [Revendication 4] [Revendication 5] [Revendication 6] [Revendication 7]