Brevet FR3070135A1 — publié le 20190222

PROCEDE ET MACHINE DE FABRICATION DE PIECES EN MATERIAU CERAMIQUE OU METALLIQUE PAR LA TECHNIQUE DES PROCEDES ADDITIFS La présente invention concerne un procédé et une machine de fabrication de pièces crues en au moins un matériau choisi parmi les matériaux céramiques et les matériaux métalliques par la technique des procédés additifs, de telles pièces crues étant ensuite soumises à des opérations de déliantage et de frittage pour obtenir des pièces finies. La technique des procédés additifs, également 15 appelée stéréolithographie, comprend généralement les étapes suivantes, pour l'obtention des pièces crues en céramique : - on construit, par conception assistée par ordinateur, un modèle informatique de la pièce à fabriquer, modèle dont 20 les dimensions sont légèrement plus grandes que celles de la pièce à fabriquer afin de prévoir un retrait de la céramique au cours de la fabrication de la pièce ; et - on fabrique la pièce par la technique des procédés additifs, technique selon laquelle : 25 - on forme, sur un support rigide, une première couche d'une composition photodurcissable comprenant généralement au moins une matière céramique, au moins un monomère et/ou oligomère photodurcissable, au moins un photoinitiateur et le cas échéant au moins un 30 plastifiant et/ou au moins un solvant et/ou au moins un dispersant ; - on fait durcir la première couche de la composition photodurcissable par irradiation (par balayage laser 2 de la surface libre de ladite couche ou par système de projection à diodes) selon un motif défini à partir du modèle pour ladite couche, formant un premier étage ; - on forme, sur le premier étage, une seconde couche de 5 la composition photodurcissable ; - on fait durcir la seconde couche de la composition photodurcissable, par irradiation selon un motif défini pour ladite couche, formant un deuxième étage, cette irradiation s'effectuant comme pour la première 10 couche ; - optionnellement, on répète les étapes ci-dessus pour obtenir la pièce à l'état cru. Ensuite, pour obtenir la pièce finie, on nettoie la pièce à l'état cru pour enlever la composition non durcie ; on déliante la pièce à l'état cru nettoyée ; et on fritte la pièce à l'état cru nettoyée et déliantée pour obtenir la pièce finie. On procède de la même façon dans le cas d'un matériau métallique. La fabrication de pièces crues en matériau céramique ou en matériau métallique ayant des formes 25 particulières peut présenter des difficultés. (1) Actuellement, les pièces une fois construites se trouvent au sein d'un bloc de pâte non durcie, ce qui impose de rechercher la pièce solide qui se trouve 30 dans de la pâte collante, puis de laver la pièce par exemple en l'aspergeant d'un produit chimique pour retirer cette pâte collante. 3 (2) Les pièces à construire peuvent comporter au moins une région en porte-à-faux qui nécessite d'être supportée pendant sa construction. On peut se reporter aux Figures 1 à 3 du dessin annexé qui montrent une pièce 5 P à fabriquer pour laquelle, quelle que soit son orientation, il y aura toujours une face F qui aura besoin d'être supportée pendant la construction, sinon la pièce s'effondrera. 10 (3) Les pièces à construire peuvent comporter des passages p de géométrie tridimensionnelle, comme c'est le cas de la pièce P des Figures 1 à 3. Ce passage ne pourra pas être nettoyé correctement car il n'existe pas d'outils s'adaptant à cette géométrie. 15 La Société déposante a recherché une solution à ces problèmes et découvert que la construction de la pièce à l'intérieur d'une enveloppe ou coque en un matériau sacrificiel - lequel est constitué uniquement de la partie 20 organique d'une composition photodurcissable céramique ou métallique - permet : d'obtenir, après irradiation de chaque couche, un bloc de matériau sacrificiel durci renfermant la pièce recherchée, bloc qu'il suffira de mettre à délianter pour obtenir la pièce ; le nettoyage de la pièce se trouve donc optimisé car il n'est plus besoin de chercher la pièce au sein de la pâte et de nettoyer la pièce avec un produit chimique ; dans le cas des pièces présentant des faces en porte-à-faux et donc susceptibles de s'effondrer au cours de leur construction, de prévoir que l'enveloppe ou coque 4 de matériau sacrificiel durci assure favorablement le support recherché ; - dans le cas de pièces comportant des parties creuses 5 ou passages débouchant à leur surface et difficiles, voire impossibles à nettoyer correctement, de pouvoir libérer ces espaces qui se trouvent alors remplis de matériau sacrificiel, d'être libérés lors du déliantage pour obtenir les parties creuses ou 10 passages voulus sans avoir besoin d'y faire entrer un outil ou un produit chimique de nettoyage. Par ailleurs, l'invention offre l'avantage complémentaire que la quantité de matière à utiliser pour 15 la coque ou enveloppe peut être optimisée en prévoyant la juste quantité nécessaire, sans excédent. La présente invention porte donc d'abord sur un procédé de fabrication d'au moins une pièce en au moins un 20 matériau choisi parmi les matériaux céramiques et les matériaux métalliques par la technique des procédés additifs, ladite ou lesdites pièces étant formées à l'état cru, puis soumises à des opérations de déliantage puis de frittage, procédé suivant lequel : 25 (1) on construit, par conception assistée par ordinateur, un modèle informatique de la pièce à fabriquer ou des pièces à fabriquer simultanément ; (2) on forme, sur une plate-forme de construction, ladite ou lesdites pièces à fabriquer, celles-ci étant à base 30 d'une composition photodurcissable céramique ou métallique (CPC ou CPM) formée : 5 - d'une partie minérale consistant en au moins une matière céramique pulvérulente ou en au moins une matière métallique pulvérulente ; et - d'une partie organique apte à être détruite par 5 chauffage lors du déliantage et comportant au moins un monomère et/ou oligomère photodurcissable et au moins un photoinitiateur, caractérisé par le fait que : - on choisit une CPC ou CPM ayant la consistance d'une 10 suspension apte à s'écouler pour former une couche ; - on prépare une matière organique sacrificielle (MOS) apte à former une couche photodurcissable et à être détruite par chauffage lors du déliantage, ladite MOS comportant au moins un monomère et/ou oligomère 15 photodurcissable et au moins un photoiniateur ; - pour la construction de ladite ou desdites pièces, sur la plate-forme de construction, on forme des couches successives de MOS empilées l'une sur l'autre , chaque couche de MOS étant amenée à durcir par irradiation 20 avant l'application de la couche suivante, la ou les pièces proprement dites à base de CPC ou CPM étant construites par : - formation par usinage d'au moins un évidement dans au moins une couche de MOS durcie à partir de la 25 surface supérieure de celle-ci ; - dépôt dans ledit ou lesdits évidements de CPC ou CPM pour le ou les remplir ; - durcissement par irradiation de la CPC ou CPM placée dans ledit ou lesdits évidements pour 30 obtenir une surface horizontale dure de même niveau que la couche de MOS durcie avoisinante, à chaque formation d'évidement(s), celui-ci ou ceux-ci étant délimités selon le ou les motifs 6 préalablement définis à partir du modèle informatique, et sa ou ses profondeurs, choisies pour assurer la continuité de la pièce ou des pièces à fabriquer, 5 et l'on obtient, une fois l'empilement des couches durcies réalisé, une ou des pièces crues enserrées dans de la MOS, pièces crues que l'on soumet à un déliantage par chauffage pour détruire la MOS dans laquelle elle(s) se trouve(nt) prisonnière(s) afin de la ou de les libérer et de la ou de 10 les soumettre ensuite à un frittage. Les matériaux céramiques sont les matériaux céramiques frittables pulvérulents choisis notamment parmi l'alumine (A1203), la zircone (Zr2), l'alumine renforcée par 15 zircone, la zircone renforcée par alumine, le zircon (ZrSiO4), la silice (Si02) , l'hydroxyapatite, la zircon silice (ZrSiO4 + Si02), le nitrure de silicium, le phosphate tricalcique (TCP), le nitrure d'aluminium, le carbure de silicium, la cordiérite et la mullite. 20 Les matériaux métalliques sont les matériaux métalliques frittables pulvérulents choisis parmi les métaux purs, tels que Al, Cu, Mg, Si, Ti, Zn, Sn, Ni ..., leurs alliages et les mélanges de métaux purs et de leurs 25 alliages. Les évidements peuvent avoir à être formés dans toute l'épaisseur d'une couche durcie de MOS ou sur une hauteur inférieure à la hauteur d'une couche. Ils peuvent 30 aussi pouvoir être formés sur une hauteur supérieure à l'épaisseur d'une couche, par exemple sur une hauteur égale à la hauteur de plusieurs couches étalées au préalable. 7 Lorsque la ou les pièces à construire comportent des parties creuses, celles-ci doivent déboucher à la surface extérieure de la pièce pour que la MOS puisse s'évacuer lors du déliantage. 5 Le procédé selon l'invention peut s'appliquer à la fabrication de plusieurs pièces identiques, lesquelles seront prisonnières d'un même bloc de MOS. 10 On peut utiliser une MOS de consistance pâteuse que l'on étale en couche par raclage ou une MOS en suspension que l'on applique par immersion de la plate-forme dans un bain de ladite suspension pour former à chaque fois la couche de MOS à durcir, et raclage de la 15 couche ainsi formée. Dans le cas où la ou les pièces à construire comportent au moins une région latérale qui nécessite d'être supportée pendant la construction, on a 20 avantageusement construit au préalable, par conception assistée par ordinateur, un modèle informatique de la forme de la MOS à l'état durci, cette forme étant telle que la ou les pièces construites soient supportées pendant sa ou leur construction. 25 Pour la formation du ou des évidements, on peut conduire un usinage mécanique. On peut également conduire un usinage laser, notamment dans des conditions de réglage de la puissance du laser entre 1 et 3 watts et de vitesse 30 de déplacement du laser entre 1 et 100 millimètres par seconde. 8 Egalement, à chaque étape d'usinage, on peut souffler et on peut aspirer les débris notamment en même temps que l'on conduit ledit usinage. 5 On peut appliquer la CPC ou CPM dans le ou les évidements par une buse de distribution. On peut conduire le durcissement par irradiation laser de chaque couche de MOS et le durcissement par 10 irradiation laser des couches de CPC ou CPM placées dans les évidements dans les conditions d'un réglage de la puissance du laser entre 70 et 700 milliwatts et une vitesse de déplacement du laser entre 1000 et 6000 millimètres par seconde. 15 On peut conduire le déliantage à une température de 50 à 800°C, notamment de 100 à 700°C. La présente invention a également pour objet une 20 machine de fabrication d'au moins une pièce en au moins un matériau choisi parmi les matériaux céramiques et les matériaux métalliques par le procédé utilisant la technique des procédés additifs tel que défini ci-desus, caractérisée par le fait qu'elle comporte : 25 - un bâti encadrant une plate-forme de construction comportant une surface de travail; - des moyens d'irradiation en regard du plateau de travail ; - des moyens d'amenée et d'étalement en couches sur la 30 plate-forme de construction d'une matière organique photodurcissable sacrificielle (MOS); 9 - des moyens d'usinage aptes à former au moins un évidement dans une couche de MOS photodurcie à partir de la partie supérieure de celle-ci ; - des moyens de soufflage et d'aspiration des débris 5 résultant dudit usinage ; - des moyens de remplissage du ou des évidements formés dans chaque couche de MOS photodurcie pour compléter la couche ainsi évidée par une composition photodurcissable céramique ou métallique (CPC ou CPM) 10 apte à s'écouler ; - des moyens d'irradiation situés au-dessus de la plate-forme de construction et aptes à irradier, pour la faire durcir, chaque couche de MOS une fois étalée et à irradier, pour la faire durcir, la CPC ou la CPM une 15 fois placée dans les évidements pratiqués dans des couches successives de MOS durcie. Une telle machine, apte à appliquer en couches une MOS sous la forme d'une pâte, peut comporter un 20 portique muni d'au moins une lame de raclage et apte à se déplacer sur le bâti au-dessus de la surface de travail de telle sorte que le bord libre de la ou des lames de raclage est apte à étaler les couches de pâte de MOS sur la surface de travail, 25 ou la MOS étant amenée par au moins une buse de distribution déplaçable devant au moins une lame de raclage qui étale la MOS en une couche uniforme lors de son passage sur celle-ci. 30 Une telle machine, apte à appliquer en couches une MOS sous la forme d'une suspension, peut comporter un bac à remplir par ladite suspension, dans lequel la plate-forme de suspension est apte à descendre pas à pas pour 10 former sur celle-ci à chaque pas une couche à irradier, ainsi qu'un racleur (« recoater ») pour s'assurer que la suspension est distribuée sur toute la surface à irradier. 5 Les moyens d'amenée d'au moins une CPC ou CPM sur la surface de travail peuvent être constitués par au moins une buse de distribution déplaçable au-dessus d'un évidement correspondant pour appliquer la composition correspondante dans celui-ci. 10 Conformément à un premier mode de réalisation, la ou au moins l'une des buses peut être alimentée en MOS ou CPC ou CPM par un tuyau flexible relié à un réservoir, en particulier un réservoir d'alimentation à piston. 15 Conformément à un deuxième mode de réalisation, la ou au moins l'une des buses peut être alimentée en MOS ou CPC ou CPM par une cartouche dont elle forme la partie supérieure, qui contient une réserve de MOS ou CPC ou CPM 20 et qui est rechargeable à partir d'un réservoir d'alimentation monté ou non sur la machine ou qui est remplaçable lorsqu'elle est vide par une cartouche pleine, ce remplacement pouvant être assuré par un bras robotisé. 25 La ou au moins l'une des buses peut être montée déplaçable à l'aide d'un bras robotisé ; ou 30 sur un portique qui comporte à la fois une glissière permettant de la déplacer selon l'axe horizontal x de la plate-forme de construction et une glissière H permettant de la déplacer selon l'axe horizontal y de la plate-forme de construction; ou - sur un portique muni d'au moins une lame de raclage 5 pour permettre son déplacement selon l'axe horizontal x d'avance de la lame de raclage, ledit portique comportant également une glissière permettant de la déplacer selon l'axe horizontal y. 10 Pour mieux illustrer l'objet de la présente invention, on va en décrire ci-après, à titre indicatif et non limitatif, un mode de réalisation particulier avec référence au dessin annexé. 15 Sur ce dessin : - la Figure 1 est une vue schématique en perspective d'une pièce à construire comportant un passage cylindrique en trois dimensions ; 20 les Figures 2 et 3 sont des vues schématiques de la pièce de la Figure 1 dans les plans respectivement yz et xz : 25 la Figure 4 est une vue schématique en coupe transversale de la pièce en cours de construction selon l'invention ; la Figure 5 montre des vues schématiques de la pièce 30 construite selon l'invention avant déliantage, dans les plans zy et zx ; 12 les Figures 6 et 7 sont des vues schématiques en perspective de la pièce de la Figure 5 respectivement avant et après déliantage ; 5 - les Figures 8 à 11 illustrent les étapes successives de la construction d'une couche de matière photodurcissable sacrificielle ; les Figures 12 et 13 illustrent la formation d'une 10 couche formée à la fois d'une matière organique sacrificielle et d'une matière céramique photodurcis sable. Si l'on se réfère aux Figures 4 à 6, on peut voir 15 que l'on a illustré la formation d'une pièce P selon l'invention au sein d'une enveloppe ou coque S en matière organique sacrificielle durcie, le passage p étant également rempli de matière organique sacrificielle S. 20 Si l'on se réfère à la Figure 8, on peut voir que l'on a représenté schématiquement une machine 1 pour la fabrication de pièces crues, laquelle comporte un dispositif 2 de raclage d'une couche de pâte sur une surface de travail d'une plate-forme de construction 25 horizontale 3. Le dispositif de raclage 2, monté coulissant sur le bâti 4 de la machine, comporte un portique 5 portant à l'avant une lame de raclage 6 ayant un bord de raclage 30 horizontal et qui se déplace vers l'avant si l'on regarde la Figure 8, soit selon l'axe horizontal x. 13 La paroi verticale avant du portique 5 présente une glissière horizontale 7 le long de laquelle peuvent se déplacer, selon l'axe horizontal y, perpendiculaire à l'axe x, deux buses 8, 9 l'une (8) pour le dépôt d'une matière 5 organique sacrificielle photodurcissable et l'autre (9) pour le dépôt d'une composition photodurcissable céramique. Sur la Figure 11, on a également fait figurer la tête galvanométrique 10 qui oriente le faisceau laser. 10 Figure 8 On dépose sur la surface de travail de la plate-forme de construction 3 une couche de matière organique 15 sacrificielle 11 par déplacement du dispositif de raclage 2 selon l'axe x et de la buse 8 selon l'axe y. Figure 9 20 En avançant, le dispositif de raclage 2 a mis à niveau par déplacement de la lame 6 la couche de matière organique sacrificielle 11. Figure 10 Le dispositif de raclage 2 a été ramené à sa position initiale et relevé. Figure 11 On amène la couche 11 ainsi déposée à polymériser par application du faisceau laser, la tête galvanométrique 10 étant en service. 25 30 14 Figure 12 On conduit un usinage laser de la couche 11 qui 5 vient d'être durcie pour former dans celle-ci un évidement 12, cette opération d'usinage laser s'effectuant avec soufflage et aspiration des débris en même temps que le lasage. 10 Figure 13 A l'aide de la deuxième buse 9, on a déposé dans l'évidement une composition céramique photodurcissable 13 que l'on polymérise par application du faisceau laser (tête 15 galvanométrique 10 en service). On vient de décrire la formation d'une couche durcie de matière organique sacrificielle et de matière céramique, les deux étant photodurcies. 20 La pièce recherchée est construite couche après couche de matière organique sacrificielle photodurcie, les évidements destinés à être remplis de matière céramique photodurcissable étant creusés dans au moins une couche de 25 matière organique sacrificielle préalablement durcie, REVENDICATIONS1 - Procédé de fabrication d'au moins une pièce en au moins un matériau choisi parmi les matériaux céramiques et les matériaux métalliques par la technique des procédés additifs, ladite ou lesdites pièces étant formées à l'état cru, puis soumises à des opérations de déliantage puis de frittage, procédé suivant lequel : (1) on construit, par conception assistée par ordinateur, un modèle informatique de la pièce à fabriquer ou des pièces à fabriquer simultanément ; (2) on forme, sur une plate-forme de construction, ladite ou lesdites pièces à fabriquer, celles-ci étant à base d'une composition photodurcissable céramique ou métallique (CPC ou CPM) formée : - d'une partie minérale consistant en au moins une matière céramique pulvérulente ou en au moins une matière métallique pulvérulente ; et - d'une partie organique apte à être détruite par chauffage lors du déliantage et comportant au moins un monomère et/ou oligomère photodurcissable et au moins un photoinitiateur, caractérisé par le fait que : - on choisit une CPC ou CPM ayant la consistance d'une suspension apte à s'écouler pour former une couche ; - on prépare une matière organique sacrificielle (MOS) apte à former une couche photodurcissable et à être détruite par chauffage lors du déliantage, ladite MOS comportant au moins un monomère et/ou oligomère photodurcissable et au moins un photoiniateur ; - pour la construction de ladite ou desdites pièces, sur la plate-forme de construction, on forme des couches successives de MOS empilées l'une sur l'autre , chaque 16 couche de MOS étant amenée à durcir par irradiation avant l'application de la couche suivante, la ou les pièces proprement dites à base de CPC ou CPM étant construites par : 5 - formation par usinage d'au moins un évidement dans au moins une couche de MOS durcie à partir de la surface supérieure de celle-ci ; - dépôt dans ledit ou lesdits évidements de CPC ou CPM pour le ou les remplir ; 10 - durcissement par irradiation de la CPC ou CPM placée dans ledit ou lesdits évidements pour obtenir une surface horizontale dure de même niveau que la couche de MOS durcie avoisinante, à chaque formation d'évidement(s), celui-ci ou 15 ceux-ci étant délimités selon le ou les motifs préalablement définis à partir du modèle informatique, et sa ou ses profondeurs, choisies pour assurer la continuité de la pièce ou des pièces à fabriquer, 20 et l'on obtient, une fois l'empilement des couches durcies réalisé, une ou des pièces crues enserrées dans de la MOS, pièces crues que l'on soumet à un déliantage par chauffage pour détruire la MOS dans laquelle elle(s) se trouve(nt) prisonnière(s) afin de la ou de les libérer et de la ou de 25 les soumettre ensuite à un frittage. 2 - Procédé selon la revendication 1, caractérisé par le fait que l'on utilise une MOS de consistance pâteuse que l'on étale en couche par raclage ou une MOS en 30 suspension que l'on applique par immersion de la plate-forme dans un bain de ladite suspension pour former à chaque fois la couche de MOS à durcir, et raclage de la couche ainsi formée. 17 3 - Procédé selon l'une des revendications 1 et 2, dans lequel la ou les pièces à construire comportent au moins une région latérale qui nécessite d'être supportée 5 pendant la construction, caractérisé par le fait que l'on a construit au préalable, par conception assistée par ordinateur, un modèle informatique de la forme de la MOS à l'état durci, cette forme étant telle que la ou les pièces construites soient supportées pendant sa ou leur 10 construction. 4 - Procédé selon l'une des revendications 1 à 3, caractérisé par le fait que, pour la formation du ou des évidements, on conduit un usinage mécanique. 15 5 - Procédé selon l'une des revendications 1 à 3, caractérisé par le fait que, pour la formation du ou des évidements, on conduit un usinage laser, notamment dans des conditions de réglage de la puissance du laser entre 1 et 3 20 watts et de vitesse de déplacement du laser entre 1 et 100 millimètres par seconde. 6 - Procédé selon l'une des revendications 1 à 5, caractérisé par le fait qu'à chaque étape d'usinage, on 25 souffle et on aspire les débris notamment en même temps que l'on conduit ledit usinage. 7 - Procédé selon l'une des revendications 1 à 6, caractérisé par le fait que l'on applique la CPC ou CPM 30 dans le ou les évidements par une buse de distribution. 8 - Procédé selon l'une des revendications 1 à 7, caractérisé par le fait que l'on conduit le durcissement 18 par irradiation laser de chaque couche de MOS et le durcissement par irradiation laser des couches de CPC ou CPM placées dans les évidements dans les conditions d'un réglage de la puissance du laser entre 70 et 700 milliwatts 5 et une vitesse de déplacement du laser entre 1000 et 6000 millimètres par seconde. 9 - Procédé selon l'une des revendications 1 à 8, caractérisé par le fait que l'on conduit le déliantage à 10 une température de 50 à 800°C, notamment de 100 à 700°C. 10 - Machine de fabrication d'au moins une pièce en au moins un matériau choisi parmi les matériaux céramiques et les matériaux métalliques par le procédé 15 utilisant la technique des procédés additifs tel que défini à l'une des revendications 1 à 9, caractérisée par le fait qu'elle comporte : - un bâti (4) encadrant une plate-forme de construction (3) comportant une surface de travail ; 20 - des moyens d'irradiation en regard du plateau de travail ; - des moyens d'amenée et d'étalement sur la plate-forme de construction (3) d'une matière organique photodurcissable sacrificielle (MOS); 25 - des moyens d'usinage aptes à former au moins un évidement (12) dans une couche de MOS photodurcie (11) à partir de la partie supérieure de celle-ci ; - des moyens de soufflage et d'aspiration des débris résultant dudit usinage ; 30 - des moyens de remplissage du ou des évidements (12) formés dans chaque couche de MOS photodurcie (11) pour compléter la couche ainsi évidée par une composition 19 photodurcissable céramique ou métallique (CPC ou CPM) apte à s'écouler ; - des moyens d'irradiation (10) situés au-dessus de la plate-forme de construction (3) et aptes à irradier, 5 pour la faire durcir, chaque couche de MOS une fois étalée et à irradier, pour la faire durcir, la CPC ou la CPM une fois placée dans les évidements (12) pratiqués dans des couches successives de MOS durcie (11). 10 11 - Machine selon la revendication 10, apte à appliquer en couches une MOS sous la forme d'une pâte, caractérisée par le fait qu'elle comporte un portique (5) muni d'au moins une lame de raclage (6) et apte à se 15 déplacer sur le bâti (4) au-dessus de la surface de travail de telle sorte que le bord libre de la ou des lames de raclage (6) est apte à étaler les couches de pâte de MOS sur la surface de travail, ou la MOS étant amenée par au moins une buse de 20 distribution (8) déplaçable devant au moins une lame de raclage (6) qui étale la MOS en une couche uniforme lors de son passage sur celle-ci. 12 - Machine la revendication 10, apte à 25 appliquer en couches une MOS sous la forme d'une suspension, caractérisée par le fait qu'elle comporte un bac à remplir par ladite suspension, dans lequel la plate-forme de suspension est apte à descendre pas à pas pour former sur celle-ci à chaque pas une couche à irradier, 30 ainsi qu'un racleur pour s'assurer que la suspension est distribuée sur toute la surface à irradier. 20 13 - Machine selon l'une des revendications 10 à 12, caractérisée par le fait que les moyens d'amenée d'au moins une CPC ou CPM sur la surface de travail sont constitués par au moins une buse de distribution (9) 5 déplaçable au-dessus d'un évidement (12) correspondant pour appliquer la composition correspondante dans celui-ci. 14 - Machine selon l'une des revendications 11 ou 13, caractérisée par le fait que la ou au moins l'une des 10 buses est alimentée en MOS ou CPC ou CPM par un tuyau flexible relié à un réservoir, en particulier un réservoir d'alimentation à piston. 15 - Machine selon l'une des revendications 11 ou 15 13, caractérisée par le fait que la ou au moins l'une des buses (8, 9) est alimentée en MOS ou CPC ou CPM par une cartouche dont elle forme la partie supérieure, qui contient une réserve de MOS ou CPC ou CPM et qui est rechargeable à partir d'un réservoir d'alimentation monté 20 ou non sur la machine ou qui est remplaçable lorsqu'elle est vide par une cartouche pleine, ce remplacement pouvant être assuré par un bras robotisé. 16 - Machine selon l'une des revendications 11 ou 25 13, caractérisée par le fait que la ou au moins l'une des buses est montée déplaçable à l'aide d'un bras robotisé ; ou 30 sur un portique qui comporte à la fois une glissière permettant de la déplacer selon l'axe horizontal x de la plate-forme de construction et une glissière 21 permettant de la déplacer selon l'axe horizontal y de la plate-forme de construction; ou - sur un portique (5) muni d'au moins une lame de 5 raclage (6) pour permettre son déplacement selon l'axe horizontal x d'avance de la lame de raclage, ledit portique (5) comportant également une glissière (7) permettant de la déplacer selon l'axe horizontal y.