Brevet FR3054043A1 — publié le 20180119

La présente invention a trait au domaine général du marquage permanent visible d'articles optiques, typiquement de verres ophtalmiques, revêtus d'un revêtement interférentiel multicouche. On sait que les lentilles ophtalmiques, tel que les verres de lunettes, sont soumises à différentes étapes de fabrication. Une de ces étapes comprend le marquage, dit permanent, de la lentille ophtalmique sur une de ses faces. Le marquage permanent technique est formé par gravure, ou micro-gravure, représentant des points ou des croix et identifiant un point particulier (par exemple le centre optique de la lentille ophtalmique ou le point de référence de prisme pour une lentille progressive), ou des traits d'axes (par exemple pour indiquer l'axe horizontal selon lequel l'astigmatisme est corrigé), ou des formes limitant une zone particulière (par exemple, la zone de vision de près ou la zone de vision de loin dans le cas d'une lentille progressive). Ces marquages permanents, techniques ou commerciaux, sont souvent réalisés sur une face, face avant ou face arrière, des lentilles ophtalmiques, certains marquages pouvant être en face avant et d'autres en face arrière. Par « face arrière » ou « face intérieure » (généralement concave) du substrat, on entend la face qui, lors de l'utilisation de l'article, est la plus proche de l'oail du porteur. Inversement, par « face avant » ou « face extérieure » (généralement convexe) du substrat, on entend la face qui, lors de l'utilisation de l'article, est la plus éloignée de l'oail du porteur. Les méthodes de marquage d'articles optiques les plus répandues à l'heure actuelle sont le marquage à l'encre et le marquage (par faisceau) laser. Le marquage à l'encre présente les inconvénients qu'il est difficile de trouver une encre permanente compatible avec tout type de surface de verre ophtalmique, et que ce type de marquage est non seulement visible par un observateur extérieur mais également par le porteur du verre ophtalmique. Le marquage laser peut être réalisé par photolithographie grâce à la réalisation d'un masque en surface et décapage chimique localisé de la surface dans les parties laissées libres par ledit masque, tel que cela est décrit par exemple dans les documents US 2004/0095645 et EP 0677764 de la société Jax Holdings Inc. Une telle technique est longue et coûteuse, et requiert l'utilisation de machines complexes. 3054043 2 Le marquage laser peut également être réalisé par ablation (i.e. retrait d'une quantité de matière) formant gravure de la surface. Ainsi, le marquage est généralement formé d'une suite de points dits points de marquage (appelés aussi « spots »), chaque point de marquage étant réalisé par une ou plusieurs impulsions du 5 laser. Dans ce cas, le marquage présente une visibilité qui dépend de la profondeur et de la largeur des points de marquage, ainsi que de l'épaisseur et de la nature de la ou des couches ablatées. Ce marquage doit également être positionné en dehors du champ de vision du porteur de verre ophtalmique pour ne pas perturber sa vision. Le document US 2014/0016083 décrit une amélioration de cette dernière 10 technique, selon laquelle un marquage peut être réalisé par faisceau laser sur la surface convexe d'un verre ophtalmique après dépôt sous vide d'un revêtement de couches minces d'oxydes. Ces couches minces sont appliquées dans un certain ordre, et sont ensuite, exposées successivement au faisceau laser, et donc ablatées successivement. La surface traitée présente donc une visibilité différente par rapport à 15 la surface non traitée. Cela permet de réaliser un marquage visible par un observateur extérieur, car des couleurs différentes sont visibles par un observateur extérieur en cas d'irradiation par la lumière blanche. Cependant, cette solution ablative au moyen d'un faisceau laser présente le problème majeur que le marquage n'est pas aisément contrôlable, principalement en 20 profondeur. Par conséquent, les points de marquage réalisés par répétition d'une étape de marquage en différents points appartenant à un même pixel ne sont généralement pas jointifs, ce qui implique que le marquage n'est pas continu. Selon ce document, une succession de multiples ablations partielles en un même pixel permet d'éviter le problème d'une gravure réalisée de manière trop importante (i.e. trop de 25 faisceau laser en une localisation donnée), qui pourrait conduire à l'effet non désiré qu'un revêtement du verre ophtalmique, tel un revêtement antireflet ou bien un revêtement anti abrasion, est attaqué, en partie ou en totalité, par le faisceau laser. Un des objets de l'invention est de fournir un procédé de marquage d'article optique palliant les inconvénients de l'état de la technique, en particulier les 30 problèmes d'ablation non désirée de tout ou partie d'un revêtement de l'article optique. L'invention a ainsi pour objet, sous un premier aspect, un procédé de marquage d'article optique comportant au moins une étape d'utilisation d'une machine de marquage sur un article optique : La machine de marquage étant une machine de marquage par 35 faisceau électromagnétique, de préférence par faisceau laser, comportant une 3054043 3 source électromagnétique, de préférence une source laser, configurée pour émettre un faisceau ayant une longueur d'onde de rayonnement déterminée dite longueur d'onde de marquage ; L'article optique étant un article optique comportant un substrat ayant 5 une face principale revêtue d'un revêtement interférentiel, ledit revêtement interférentiel comprenant au moins deux couches superposées dites couche intérieure et couche extérieure, la couche intérieure étant située entre le substrat et la couche extérieure, le revêtement interférentiel étant tel qu'il présente un coefficient de réflexion Re dans le domaine visible (380-780 nm); 10 L'utilisation comprenant l'insolation d'au moins la couche intérieure en un point donné dit point de marquage, au moyen du faisceau laser à la longueur d'onde de marquage, de façon à ablater, au point de marquage, la couche intérieure sur au moins une partie de son épaisseur, et toute couche située entre la source électromagnétique et la couche intérieure; et étant telle que la zone 15 ablatée présente un coefficient de réflexion Rm dans le domaine visible (380-780 nm), Rm étant différent de Re d'au moins 1%; La couche intérieure absorbant la longueur d'onde de marquage de manière plus importante que toute couche située entre la source électromagnétique et la couche intérieure. 20 L'invention a aussi pour objet, sous un second aspect, un article optique comportant un substrat revêtu d'un revêtement interférentiel comprenant deux couches de matériaux superposées dites couche intérieure et couche extérieure, la couche intérieure étant située entre le substrat et la couche extérieure, le revêtement interférentiel étant tel qu'il présente un coefficient de réflexion Re dans le domaine 25 visible (380-780 nm); Ledit article comprenant un motif de marquage à la surface du revêtement interférentiel, le motif de marquage étant formé par une pluralité de points de marquage sensiblement identiques, chaque point de marquage correspondant à l'absence localisée de la couche intérieure et de toute couche située entre ladite 30 surface et la couche intérieure, la zone ablatée présentant un coefficient de réflexion Rm dans le domaine visible (380-780 nm) tel que Re est différent de Rm d'au moins 1%, le motif de marquage étant de préférence continu. De préférence, un tel article optique est obtenu par le procédé de marquage selon l'invention. L'invention est décrite de manière plus détaillée ci-après. 35 3054043 4 Le procédé selon l'invention permet donc de réaliser en un point de marquage une ablation localisée directe d'au moins une partie de la couche intérieure et indirecte des couches situées entre la source électromagnétique et la couche intérieure. 5 L'invention permet donc avantageusement le contrôle du procédé de marquage, en particulier de la profondeur de la gravure, ce qui est très avantageux par rapport aux procédés de l'état de la technique. Sans vouloir être liée par une quelconque théorie, la demanderesse pense que cela est principalement dû au fait que le faisceau électromagnétique parvient à insoler la couche intérieure qui est en 10 matériau très absorbant à la longueur d'onde du rayonnement comparativement aux autres couches présentes. En effet, selon l'invention, chacune des couches de matériau comprise entre la source électromagnétique et la couche intérieure est au moins partiellement transparente à la longueur d'onde de marquage, c'est-à-dire qu'elle n'absorbe pas au 15 moins en partie à cette longueur d'onde de marquage. De préférence, cette couche est au moins semi-transparente à cette longueur d'onde de marquage, c'est-à-dire qu'elle laisse passer plus de la moitié de l'énergie de cette longueur d'onde de marquage. Par conséquent, lors de l'exposition au faisceau électromagnétique, cette couche intérieure reçoit la majeure partie de l'énergie transmise et est donc dégradée 20 de façon sélective. Etant donné que les couches comprises entre la couche intérieure et la source électromagnétique sont généralement des couches d'oxydes de très faible épaisseur, la dégradation, voire la sublimation de la couche intérieure, désolidarise de fait ces couches qui peuvent ensuite être évacuées. Ainsi, le faisceau électromagnétique vise avantageusement à ablater la 25 couche intérieure, et permet indirectement l'ablation, le plus souvent par décollement, de toute couche située entre la source électromagnétique et la couche intérieure, et donc en particulier de la couche extérieure. En d'autres termes, la couche intérieure est détruite (partiellement ou totalement) par le faisceau, les couches comprises entre le faisceau et la couche intérieure étant détruites/retirées par effet collatéral de la 30 destruction de la couche intérieure. L'ablation est telle que l'unique point de marquage qui en découle a généralement une forme sensiblement cylindrique d'axe sensiblement perpendiculaire à la surface de la couche intérieure la plus éloignée du substrat avant que celle-ci soit ablatée. 3054043 5 Il est à noter que lorsque l'invention est appliquée à une lentille ophtalmique comportant un revêtement antireflet, non seulement les valeurs d'intensité de réflexion entre la zone ablatée et la zone non ablatée sont différentes, mais dans un mode de réalisation supplémentaire, la chroma, présentée dans un système L, a*, b*, 5 est différente entre les deux zones. La zone non ablatée peut ainsi avoir une couleur de réflexion résiduelle verte pâle, par exemple pour la lentille comportant un revêtement Crizal Forte®, avec une valeur de réflexion d'environ 0,8%, et la zone ablatée a une couleur de réflexion plutôt bleue pâle. Plus généralement, le procédé de marquage selon l'invention est 10 avantageusement tel que la réflexion au point de marquage a une couleur, en saturation (hue : h*) et/ou en teinte (Chroma : C*), différente de celle de la réflexion de la zone non ablatée. Ainsi, le contraste entre la zone ablatée et la zone non ablatée permettant d'observer le motif reposant principalement sur une différence d'intensité de réflexion 15 peut être amélioré par une différence de couleur de réflexion. L'article optique selon l'invention n'est pas forcément un article à faible transmittance comme un verre solaire. Il peut être également quasiment transparent. Il faut noter cependant que le point de focalisation du laser n'est pas nécessairement situé dans la couche intérieure du revêtement interférentiel. Il est 20 même d'ailleurs le plus souvent en dehors de celui-ci, typiquement 1 à 2 mm en dehors de celui-ci, par exemple à 2 mm au-dessus de l'article optique. Cela est par exemple décrit dans la demande de brevet WO 2015/040338 de la demanderesse. Par « élément compris entre A et B », on entend, sauf précision contraire, 25 que l'élément est situé entre A et B mais n'est ni A ni B. Par « élément compris dans un intervalle de A à B » ou « élément de A à B », on entend, sauf précision contraire, que l'élément est situé entre A et B et peut être A ou B. Par «ensemble des éléments allant de A à B », on entend, sauf précision contraire, l'ensemble formé de A, de B et de tout élément situé entre A et B. 30 Par « insoler », on entend selon l'invention exposer à un faisceau électromagnétique. Cela conduit à enlever de la matière, c'est-à-dire à ablater. L'insolation est effectuée selon l'invention au moyen de la machine de marquage. Par « zone non ablatée », on entend selon l'invention toute partie de la face principale n'ayant pas été insolée et donc n'ayant pas été ablatée. 3054043 6 Par « revêtement interférentiel » (appelé également filtre interférentiel ou filtre dichroïque), on entend au sens de l'invention, tout revêtement d'au moins deux couches dont les indices et les épaisseurs conduisent à atténuer et/ou amplifier le coefficient de réflexion d'une surface de l'article optique par un mécanisme 5 d'interférence, constructive ou destructive, sur tout ou partie des longueurs d'ondes comprises dans le visible, c'est-à-dire dans l'intervalle (380 nm-780 nm). Ce filtre par réflexion est donc constitué d'une succession de minces couches, dont le principe de fonctionnement repose sur l'interférence des réflexions successives sur chacun des dioptres rencontrés. Les interférences peuvent, selon l'épaisseur des couches et la 10 longueur d'onde, être constructives ou destructives. La partie qui n'est pas transmise est réfléchie. Dans le cas des revêtements antireflets, les diverses réflexions interfèrent pour fortement s'atténuer. À l'inverse, lorsque toutes réflexions sont en phase, on obtient des revêtements interférentiels miroirs présentant un très fort facteur de réflexion. 15 Un « revêtement antireflet » se définit comme un revêtement déposé à la surface d'un article optique, qui améliore les propriétés anti-réfléchissantes de l'article prêt pour son utilisation. Il permet de réduire la réflexion de la lumière à l'interface article-air sur une portion relativement large du spectre visible. Les revêtements antireflets sont bien connus dans la technique et des 20 exemples particuliers sont décrits dans la demande US2008/0206470. Le revêtement antireflet de la présente invention peut inclure toute couche ou revêtement de couches qui améliore les propriétés anti-réfléchissantes de l'article optique final, sur au moins une partie du spectre visible, de façon à accroitre la transmission de la lumière et réduire la réflectance de la surface à l'interface air-article optique. 25 Comme expliqué ci-dessus, l'invention concerne aussi un revêtement interférentiel de type miroir. Le revêtement interférentiel, qu'il soit revêtement anti reflet ou non, de l'article optique selon l'invention comporte le revêtement interférentiel selon l'invention telle que défini précédemment. 30 En particulier, au sens de l'invention, le « revêtement interférentiel » ne comprend pas tout revêtement anti-salissure et/ou anti-brouillard et/ou anti-pluie et/ou hydrophobe et/ou oléophobe et/ou hydrophile qui a généralement une épaisseur inférieure ou égale à 2 nm et ne participe que de façon négligeable à atténuer ou amplifier la réflexion. Ainsi, toute couche du revêtement interférentiel a un effet sur le 35 mécanisme d'interférence. 3054043 7 Selon l'invention, « intérieur » fait référence au côté le plus proche du substrat et « extérieur » fait référence au côté le plus éloignée du substrat. Par conséquent, on entend respectivement par « couche intérieure » et « couche extérieure », sauf mention explicitement contraire, « la couche du revêtement 5 interférentiel la plus proche du substrat parmi les couches du revêtement interférentiel » et « la couche du revêtement interférentiel la plus éloignée du substrat parmi les couches du revêtement interférentiel ». La « couche extérieure » peut être recouverte d'une éventuelle couche supplémentaire anti-salissure ou anti-pluie ou anti-brouillard, ou même d'une couche 10 temporaire ayant pour vocation d'augmenter l'adhérence, par exemple pour une étape de détourage, et destinée à être retirée pour une utilisation de l'article optique par un utilisateur final. Une telle couche supplémentaire est habituellement connue sous le nom de « topcoat », et n'appartient pas, comme expliqué ci-dessus, au revêtement interférentiel au sens de l'invention. 15 Par « la couche intérieure absorbant la longueur d'onde de marquage de manière plus importante que toute couche située entre la source électromagnétique et la couche intérieure », on entend selon l'invention que le coefficient d'absorption à la longueur d'onde de marquage de la couche intérieure est supérieur d'au moins 10%, de préférence d'au moins 20%, au coefficient d'absorption à la longueur d'onde de 20 marquage de toute autre couche, située entre la source électromagnétique et la couche intérieure. Le « coefficient d'absorption » représente l'absorption à une longueur d'onde du spectre visible, et est défini selon l'invention comme le rapport entre l'absorbance A et le chemin optique L (= A/L) pour un faisceau électromagnétique de 25 longueur d'onde donnée (ici dans le domaine du visible) dans un milieu donné. Ce rapport est exprimé en m-1 ou cm-1, en particulier selon la norme ISO/CD 11551. Par « de manière plus importante », on entend selon l'invention de manière discernable par un homme du métier, pour convenir au but recherché par l'invention. Par « coefficient de réflexion » (Re ou Rm selon l'invention), au sens de 30 l'invention, on entend le taux de lumière réfléchie par la surface d'un article optique, illuminée par un illuminant couvrant au moins l'ensemble du spectre visible, par exemple l'illuminant solaire ou l'illuminant D65. Le taux de réflexion est de préférence mesuré avec un rayon de lumière incidente à la surface avec un angle de 2° ou de 10°. Lorsque cela n'est pas précisé, le coefficient de réflexion ne tient compte que de la 3054043 8 lumière visible, c'est-à-dire la lumière ayant une longueur d'onde comprise entre 380 nm et 780 nm. Le « facteur de transmission », ou la » transmittance » Tv (tau indice v) correspond à la fraction de flux lumineux qui traverse un article optique, en fonction de 5 la longueur d'onde, illuminée par un illuminant couvrant au moins l'ensemble du spectre visible, par exemple l'illuminant solaire ou l'illuminant D65. Le facteur -rv correspond à une définition internationale normalisée (norme ISO 13966:1998) et est mesuré conformément à la norme ISO 8980-3. Il est défini dans la gamme de longueur d'onde de 380 à 780 nm. 10 Par « transparent », on entend selon l'invention n'absorbant pas à une longueur d'onde du visible [380-700 nm], soit, en d'autres termes, qu'une image observée à travers le produit qualifié de transparent est perçue sans perte significative de contraste ou de qualité. 15 La couche intérieure est la couche du revêtement interférentiel la plus proche du substrat. Elle est située entre le substrat et la couche extérieure du revêtement interférentiel, mais n'est pas nécessairement en contact avec le substrat ni avec la couche extérieure. Ainsi, une ou plusieurs couches d'un ou plusieurs revêtements intermédiaires peuvent être disposées entre le substrat et la couche 20 intérieure, et entre la couche intérieure et la couche extérieure. De plus, la couche intérieure ne recouvre pas forcément complètement le substrat bien que, préférentiellement, elle le recouvre. Toute couche éventuelle située entre le substrat et la couche intérieure est au moins partiellement transparente à la longueur d'onde de marquage, c'est-à-dire 25 qu'elle n'absorbe pas au moins en partie à cette longueur d'onde de marquage. De préférence, cette couche est au moins semi-transparente à cette longueur d'onde de marquage, c'est-à-dire qu'elle laisse passer plus de la moitié de l'énergie de cette longueur d'onde de marquage. De même, la couche extérieure n'est pas nécessairement en contact avec 30 la couche intérieure. En outre, une ou plusieurs couches supplémentaires peuvent être disposées au-dessus de la couche extérieure, comme indiqué plus haut. En d'autres termes, la couche extérieure n'est pas forcément la couche de l'article optique la plus éloignée du substrat. Ces couches supplémentaires sont par exemple des couches temporaires utilisées dans le cadre de la fabrication mais n'ayant pas vocation à être 35 présentes sur l'article optique qui sera utilisé par un utilisateur final. Ce peut être par 3054043 9 exemple, dans le cas de lentilles ophtalmiques, un revêtement utilisé pour permettre le détourage des verres afin qu'ils soient mis à la forme d'une monture, lesdites couches supplémentaires étant enlevées après cette mise à la forme. Bien que l'article optique selon l'invention puisse être un article 5 quelconque, tel qu'un écran, un vitrage, un verre de protection utilisable notamment en environnement de travail, ou un miroir, il est de préférence un verre ophtalmique, et encore mieux une lentille ophtalmique, pour lunettes, ou une ébauche de lentille ophtalmique telle qu'une lentille optique semi-finie, en particulier un verre de lunettes. La lentille peut être une lentille claire, polarisée, colorée ou une lentille photochrome, 10 ou être adjointe à un élément actif tel qu'un dispositif de réalité augmentée, un dispositif électrochrome ou électrofocal. La lentille peut être une lentille sans puissance optique, avec une puissance optique, simple ou complexe, voire être une lentille progressive ou bi ou multifocale. Un article optique possède généralement, du côté de la couche externe la 15 plus éloignée du substrat, un revêtement interférentiel, de préférence un revêtement antireflet, tel qu'il est connu de l'homme du métier, de façon à empêcher la formation de reflets parasites gênants pour le porteur du verre ophtalmique et ses interlocuteurs. C'est ce revêtement interférentiel qui est marqué par le procédé de marquage selon l'invention. 20 Ainsi, typiquement, un verre ophtalmique est le plus souvent pourvu d'un revêtement antireflet mono- ou multicouche, généralement en matière minérale. Un tel revêtement interférentiel peut être, sans limitation, un revêtement antireflet, un revêtement réfléchissant (miroir), un filtre infrarouge ou un filtre ultraviolet ou un revêtement interférentiel fonctionnant comme un revêtement antireflet sur une partie du 25 spectre lumineux et fonctionnant comme un miroir partiel aux environs d'une ou plusieurs gammes de longueurs d'ondes, de préférence un revêtement antireflet. Le substrat est transparent aux longueurs d'onde du visible [380-780nm], et présente des faces principales avant et arrière. Le substrat selon l'invention est de préférence un verre organique, par 30 exemple en matière plastique thermoplastique ou thermodurcissable. Avant le dépôt du revêtement interférentiel sur le substrat éventuellement revêtu, par exemple d'au moins une couche de revêtement anti-abrasion et/ou anti-rayures, il est courant de soumettre la surface dudit substrat éventuellement revêtu à un traitement d'activation physico-chimique, destiné à augmenter l'adhésion de revêtement interférentiel. 3054043 10 Le revêtement interférentiel selon l'invention peut être présent sur la surface de l'une au moins des faces principales du substrat nu, c'est-à-dire non revêtu, ou sur l'une au moins des faces principales d'un substrat déjà revêtu d'au moins une couche de revêtement fonctionnel. Mais il peut également être présent sur la surface 5 des deux faces principales du substrat de l'article optique. Par « revêtement fonctionnel », on entend au sens de l'invention au moins un revêtement choisi parmi une liste non-exhaustive comprenant les revêtements anti-rayures, les revêtements anti-chocs ou les revêtements améliorant l'adhésion, les revêtements teintés, antistatiques ou autres, les films ou revêtements comportant une 10 fonction polarisée, ou une fonction photochromique, ou bien les structures permettant une fonction active, par exemple électrochromique. Ainsi qu'il est bien connu, les revêtements interférentiels, de préférence les revêtements antireflet, sont classiquement des revêtements multicouches comprenant usuellement des couches de haut indice de réfraction (HI) et des couches de bas 15 indice de réfraction (BI). Les couches HI sont bien connues de la technique. Elles comprennent généralement un ou plusieurs oxydes minéraux tels que, sans limitation, la zircone (ZrO2), l'oxyde de titane (TiO2), le pentoxyde de tantale (Ta205), l'oxyde de néodyme (Nd205), l'oxyde d'hafnium (Hf02), l'oxyde de praséodyme (PrTiO3), La203, Nb2O5, 20 Y203, l'oxyde d'indium ln203 ou l'oxyde d'étain SnO2. Les matériaux préférés sont TiO2, Ta205, PrTiO3, ZrO2, Sn02, In203 et leurs mélanges. Les couches BI sont également bien connues et peuvent comprendre, sans limitation, SiO2, MgF2, SrF4, de l'alumine (A1203) en faible proportion, AIF3, et leurs mélanges, de préférence SiO2. 25 Au moins une de ces couches peut être électriquement conductrice. Cela permet ainsi de rendre l'article optique antistatique. Par « antistatique », on entend la propriété de ne pas retenir et/ou de ne pas développer une charge électrostatique appréciable. Un article optique est généralement considéré comme ayant des propriétés antistatiques acceptables lorsqu'il n'attire pas ou ne fixe pas la poussière et 30 les petites particules après que l'une de ces surfaces a été frottée au moyen d'un chiffon approprié. La couche électriquement conductrice peut être localisée à différents endroits de revêtement interférentiel, pourvu que les propriétés interférentielles de l'article optique, par exemple anti-réfléchissantes, ne soient pas perturbées. Elle doit être suffisamment fine pour ne pas altérer la quasi-transparence du revêtement 35 interférentiel. Généralement, son épaisseur varie entre 0 et 100 nm, de préférence 3054043 11 dans un intervalle de 2 à 25 nm, de façon encore plus préférée dans un intervalle de 4 à 15 nm. La couche électriquement conductrice, qui fait partie du revêtement interférentiel, comprend de préférence un oxyde métallique choisi parmi les oxydes d'indium, d'étain, de zinc et leurs mélanges. L'oxyde d'étain-indium (In203:Sn, oxyde 5 d'indium dopé à l'étain) et l'oxyde d'indium (In203), ainsi que l'oxyde d'étain Sn02, sont préférés. Par exemple la demande de brevet français FR 2943798 de la demanderesse décrit un article optique à propriétés antistatiques et antireflet ou réfléchissantes, comprenant un substrat ayant au moins une surface principale revêtue 10 d'un revêtement antireflet ou réfléchissant, ledit revêtement comprenant au moins une couche électriquement conductrice à base d'oxyde d'étain, c'est-à-dire comprenant au moins 30% en masse d'oxyde d'étain par rapport à la masse totale de la couche électriquement conductrice. Un tel article optique peut avantageusement être marqué par le procédé de marquage selon l'invention, la couche électriquement conductrice 15 étant particulièrement adaptée pour être la couche intérieure selon l'invention à certaines longueurs d'ondes de marquage. Le revêtement interférentiel peut également comporter une sous-couche (c'est-à-dire un revêtement d'épaisseur relativement importante), dans le but d'améliorer la résistance à l'abrasion et/ou aux rayures dudit revêtement et/ou de 20 promouvoir son adhésion au substrat ou au revêtement sous-jacent. Une telle sous-couche, qui fait partie du revêtement interférentiel, a généralement une épaisseur de 100 à 200 nm. Elle est généralement de nature exclusivement minérale, par exemple constituée de dioxyde de silice SiO2. Généralement, une couche HI a une épaisseur de 10 à 120 nm, et une 25 couche BI a une épaisseur de 10 à 100 nm. Préférentiellement selon l'invention, l'épaisseur totale du revêtement interférentiel est inférieure à 1 pm, mieux inférieure ou égale à 780 nm, encore mieux inférieure ou égale à 500 nm. L'épaisseur totale du revêtement interférentiel est généralement supérieure à 100 nm, de préférence supérieure à 150 nm. 30 La machine de marquage est par exemple telle que décrite dans la demande de brevet WO 2015/040338 de la demanderesse, qui décrit tout particulièrement l'utilisation d'un laser Nd-YAG à des longueurs d'onde d'application de 230 à 290 nm, préférentiellement environ 266 nm. 3054043 12 Par exemple un laser Nd-YAG peut être utilisé selon l'invention, à 266 nm avec des impulsions de 1 ns, une énergie par impulsion de 3 pJ et une surface de point de marquage de 10 pm de diamètre. Ce type de paramétrage du laser de marquage permet avantageusement 5 de cibler une couche SnO2 et d'enlever au moins partiellement la couche SnO2 lorsqu'insolée, sans traverser le substrat, mais également d'enlever, lors de l'ablation de la partie de la couche Sn02, la ou les couches présentes au-dessus de la couche Sn02. Cela sera démontré dans les exemples ci-après. Dans le cas où le revêtement interférentiel est un revêtement antireflet, son 10 coefficient de réflexion Re est de préférence inférieur à 1,4% et de façon encore plus préférée inférieur à 0,85%. Le procédé de marquage selon l'invention permet avantageusement l'obtention d'un motif de marquage très visible d'un observateur extérieur et peu, de préférence pas, visible du porteur d'article optique. En pratique, 2% de différence de 15 coefficient de réflexion entre Re et Rm (Rm-Re = 0,02) correspond à une augmentation locale du reflet d'environ 200 à 300% selon l'angle de réflexion, l'augmentation perçue de la réflexion étant la suivante : (Rm-Re)/Re. Dans le cas où le revêtement interférentiel est un revêtement antireflet, l'augmentation perçue de la réflexion est par exemple d'environ 0,02/0,0085 20 [soit (Rm-Re)/Re], soit 235%. De préférence selon l'invention, la différence entre Rm et Re est, en valeur absolue, supérieure à 3%, de façon encore plus préférée supérieure à 5% (en quantité par rapport à une même lumière incidente). En général, la différence entre Rm et Re est inférieure à 50% de coefficient de réflexion Re, sauf quand le revêtement 25 interférentiel est un miroir. Selon un mode de réalisation, la différence entre Rm et Re est, en valeur absolue, comprise entre 5% et 25%, de préférence entre 7% et 20%. Selon un mode de réalisation de l'invention, l'étape d'insolation est suivie d'une étape de nettoyage pour enlever toute trace des couches ablatées au cours de 30 l'étape d'insolation. Selon un mode de réalisation préféré de l'invention, le faisceau électromagnétique est émis par impulsion, et a une énergie par impulsion comprise dans un intervalle de 0,1 à 10 pJ, par exemple égale à 0,5 pJ, 1 pJ, 2 pJ ou 5 pJ, de préférence comprise dans un intervalle de 0,1 à 3 pJ, par exemple égale à 0,5 pJ, 35 1 pJ, 2 pJ ou 3 pJ. 3054043 13 De préférence, l'étape d'insolation est réalisée par émission d'un faisceau focalisé de rayonnement laser ultraviolet à impulsions présentant au moins les paramètres suivants : - une longueur d'onde de rayonnement comprise dans un intervalle 5 de 200 à 400 nm, de préférence de 200 à 300 nm, - une durée d'impulsion comprise dans un intervalle de 0,5 à 5 ns, et - une énergie par impulsion comprise dans un intervalle de 0,1 à 10 pJ, de préférence comprise dans un intervalle de 0,5 à 3 pJ, 10 ainsi que, au point de marquage, un diamètre de faisceau compris dans un intervalle de 5 à 50 pm. Dans un mode de réalisation préféré de l'invention, lorsque la longueur d'onde de rayonnement du faisceau de rayonnement laser ultraviolet à impulsions réalisant l'étape d'insolation est comprise dans un intervalle de 200 à 300 nm, la 15 couche intérieure est à base, de préférence constituée essentiellement, d'étain, de préférence d'oxyde d'étain, de manière encore plus préférée de dioxyde d'étain Sn02. «A base» signifie au sens de l'invention que la couche intérieure comprend au moins 50%, en masse, du composé par rapport à la masse totale de la couche intérieure. 20 « Constituée essentiellement » signifie au sens de l'invention que la proportion du composé dans ladite couche intérieure est supérieure ou égale à l'une des valeurs suivantes : 70%, 75%, 80%, 90%, 95%, 97%, 99%, 99,5%, 99,9%, 99,95%. Idéalement, ladite couche intérieure consiste en une couche de dioxyde d'étain Sn02. 25 Les inventeurs ont en particulier noté que les couches à base d'étain, en particulier d'oxyde d'étain, tout particulièrement de dioxyde d'étain, réagissent sélectivement lors d'une illumination au moyen d'un faisceau laser ayant une longueur d'onde comprise entre 200 et 300 nm, lorsqu'elles sont présentes dans un revêtement interférentiel comportant par ailleurs uniquement des couches à base de silice ou de 30 zircone. Dans cette configuration, les couches à base de silice ou de zircone sont sensiblement transparentes à la longueur d'onde tandis que les couches à base d'étain absorbent de l'énergie à cette longueur d'onde en quantité suffisante pour générer une destruction, voire une ablation locale de cette couche, sur une partie au moins de son épaisseur. 3054043 14 La couche intérieure peut contenir d'autres constituants, notamment des oxydes métalliques, en particulier des oxydes métalliques électriquement conducteurs qui sont de préférence transparents. Elle peut notamment comprendre de l'oxyde de titane et/ou de l'oxyde de zinc. De préférence, la couche intérieure ne contient pas 5 d'indium, qu'il soit sous forme oxyde ou sous toute autre forme. De préférence, la couche intérieure présente une épaisseur comprise dans un intervalle de 1 à 100 nm, de préférence de 2 à 25 nm, de façon encore plus préférée de 4 à 15 nm, la somme des épaisseurs des couches intérieure et extérieure étant comprise de 5 à 300 nm, de préférence de 45 à 175 nm. 10 La couche extérieure est généralement à base, de préférence constituée essentiellement, de silicium, de préférence d'oxyde de silicium, de manière encore plus préférée de dioxyde de silicium SiO2. Selon un mode de réalisation particulier de l'invention, la transmission dans le visible du revêtement interférentiel éventuellement revêtu et la transmission dans le 15 visible de l'ensemble des couches allant du substrat à la couche extérieure sont sensiblement identiques. Cela est généralement réalisé par le fait que l'absorbance, dans le visible, est sensiblement identique (i.e. à 0,1 ou 0,2% près), que les couches ablatées soient ou non présentes. Ainsi, de façon générale, la différence de quantité de lumière transmise entre la zone ablatée (i.e. zone marquée, comprenant au moins un 20 point de marquage voire un motif de marquage, réalisé par le procédé de marquage selon l'invention) et la zone non ablatée (ou non marquée, i.e. ne comprenant pas un tel motif de marquage) dépend principalement, au premier ordre, de la différence de réflexion entre ces zones. Pour une lentille ophtalmique claire comportant un revêtement antireflet, le taux de lumière visible transmise est généralement supérieur à 25 85%, voire à 90% ou même 95%. En particulier, la transmission, dans le visible, du revêtement interférentiel est proche de (0,99-Rm), où Rm est le coefficient de réflexion de ce revêtement. Dans ce cas, une différence de réflexion entre les deux zones, comprise entre 1% et 8%, conduit à un taux de lumière traversant le revêtement interférentiel au niveau de la zone ablatée compris entre 0,92 fois et 0,99 fois le taux 30 de lumière traversant le revêtement dans la zone non ablatée. C'est cette faible différence qui rend le motif de marquage peu voire pas visible pour le porteur. Selon un mode de réalisation préféré de l'invention, au moins une couche absorbante (c'est-à-dire qui absorbe au moins partiellement la lumière visible) est 35 présente dans le revêtement interférentiel de l'invention, et est localement retirée, 3054043 15 directement ou indirectement, lors de l'ablation de la couche intérieure par le faisceau électromagnétique. Dans ce cas, de préférence, l'ensemble des couches allant de la couche intérieure à la couche extérieure présente une absorption d'au moins 0,5% de la lumière visible transmise, par exemple au moins 1% de la lumière transmise et, de 5 préférence, la couche absorbante présente une absorption (« Abs ») (ou autrement dit un coefficient d'absorption) comprise dans un intervalle de 0,5 à 1,5 fois, de préférence de 0,9 à 1,1 fois, la valeur absolue de la différence entre Re et Rm. Cela est réalisé par les paramètres que sont l'épaisseur et le coefficient d'absorption de la couche absorbante. 10 La couche absorbante est une couche du revêtement interférentiel et participe des propriétés de réflexion du revêtement interférentiel. Ce peut être la couche intérieure, la couche extérieure ou une autre couche positionnée entre ces deux couches. Selon ce mode de réalisation, le taux de lumière transmis à travers le 15 revêtement interférentiel ne dépend plus uniquement du coefficient de réflexion du revêtement interférentiel, mais aussi de l'absorption intrinsèque de la couche absorbante. Ainsi, le taux de lumière transmis à travers le revêtement interférentiel dans la zone non ablatée, correspond environ à [1 - Re - Abs] avec Abs représentant l'absorption de la lumière par la couche absorbante. Pour comparaison, le taux de 20 lumière transmis à travers le revêtement interférentiel dans la zone ablatée, dans lequel la couche absorbante a été localement retirée (directement ou indirectement) lors de l'insolation, correspond environ à [1 - Rm]. En effet, l'absorption des couches du revêtement interférentiel autres que la couche absorbante est considérée comme nulle au premier ordre. 25 Ainsi, la différence de réflexion entre les deux zones reste [Re-Rm] ; par contre, la différence de taux de lumière transmis entre les deux zones est alors [Rm-Re-Abs]. En revanche, la différence de taux de lumière transmis entre la zone ablatée et la zone non ablatée est réduite. Elle est comprise de préférence 30 entre - 0,5x(Rm-Re) et 0,5x(Rm-Re), étant entendu que (Rm-Re) représente la valeur absolue de la différence entre Re et Rm. Cette valeur dépend de la valeur de l'absorption de la couche absorbante. Dans un tel cas, la perception en transmission de la zone ablatée, par le porteur de lunette, est réduite au moins de moitié. Dans un cas particulier, l'épaisseur et le coefficient d'absorption de la 35 couche absorbante sont déterminés afin que l'absorption de lumière par la couche 3054043 16 absorbante soit proche de la différence de réflexion et soit comprise entre 0,9 et 1,1 fois la valeur absolue de (Re-Rm). Dans ce cas, il est possible de considérer que la zone ablatée est invisible en transmission. Selon un mode de réalisation de l'invention, le revêtement interférentiel est 5 un revêtement antireflet. Dans ce cas, le revêtement antireflet comprend de préférence, depuis la surface du substrat éventuellement revêtu vers l'extérieur, une couche de ZrO2, de 5 à 40 nm d'épaisseur, une couche de SiO2, de 10 à 55 nm d'épaisseur, une couche de ZrO2, de 20 à 150 nm d'épaisseur, une couche intérieure de Sn02, de 4 à 15 nm d'épaisseur, et une couche extérieure de SiO2, de 50 à 120 nm 10 d'épaisseur. Dans un mode de réalisation de l'invention, le revêtement interférentiel est lui-même revêtu (sur la face la plus éloignée du substrat) d'un revêtement de matériau protecteur, tel un revêtement anti-pluie, un revêtement anti-brouillard et/ou un revêtement anti-salissure, ledit procédé de marquage étant alors généralement suivi 15 dans ce cas d'une étape de déprotection postérieure audit procédé de marquage, ladite étape de déprotection comprenant l'enlèvement de ce revêtement de matériau protecteur. Selon un mode de réalisation particulier selon l'invention, l'étape d'insolation est réalisée en autant de points de marquage que nécessaire de façon à 20 marquer localement une région de la surface principale du substrat de l'article optique au moyen de multiples points de marquage, ladite région formant un motif prédéfini dit motif de marquage. Dans un tel cas, il existe de préférence une continuité entre les points de marquage qui définissent la région formant motif de marquage. Une telle région de marquage comporte, de préférence, moins de 1% en surface de résidus des 25 couches ablatées (par insolation directe ou indirecte). Un tel état peut être obtenu directement à l'issue du procédé de marquage, ou bien nécessiter une étape supplémentaire de brossage et de retrait, accessible à l'homme du métier. Cela diffère notablement et avantageusement des réalisations de l'état de la technique. Dans un tel cas, de préférence, le marquage est effectué à un pas de 30 dimension inférieure ou égale aux dimensions du point de marquage, c'est-à-dire inférieure ou égale au diamètre moyen d'une zone ablatée en un seul point de marquage, de façon à ce que les points de marquage montrent un recouvrement partiel. Par exemple le pas du marquage est compris entre 0,5 et 1 fois le diamètre de marquage d'une impulsion du faisceau lorsque le faisceau émet par impulsion. Si 35 l'impulsion est reproduite de façon identique à chaque fois par la source 3054043 17 électromagnétique, un mode de réalisation particulier est tel que le pas de marquage est égal au diamètre de marquage. Cela permet tout particulièrement et avantageusement selon l'invention de pouvoir effectuer un procédé de marquage en continu qui consomme le moins possible d'énergie électromagnétique. Cela est tout 5 particulièrement effectif lorsque le faisceau électromagnétique est émis par impulsion, et a une énergie par impulsion comprise dans un intervalle de 0,1 à 3 pJ, par exemple égale à 0,5 pJ, 1 pJ, 2 pJ ou 3 pJ. Par « pas », on entend selon l'invention la distance minimale entre les centres de deux points de marquage réalisés successivement. 10 De façon préférée, une seule impulsion est nécessaire par point de marquage. L'invention concerne aussi un article optique comportant un substrat ayant une face principale revêtue d'un revêtement interférentiel multicouche, ledit revêtement interférentiel comprenant au moins deux couches de matériaux superposées dites 15 couche intérieure et couche extérieure, la couche intérieure étant située entre le substrat et la couche extérieure, ledit article comprenant un motif de marquage à la surface du revêtement interférentiel, le motif de marquage étant formé par une pluralité de points de marquage sensiblement identiques, chaque point de marquage correspondant à l'absence localisée d'au moins un partie de l'épaisseur de la couche 20 intérieure et de la totalité de toute couche située entre ladite surface et la couche intérieure, le motif de marquage étant de préférence continu. De préférence, un tel article optique est obtenu par le procédé de marquage selon l'invention, dans lequel l'étape d'insolation est répétée plusieurs fois. La zone de marquage est formée d'une pluralité de points de marquage, 25 chaque point de marquage étant obtenu par insolation réalisant l'ablation par faisceau électromagnétique d'au moins une partie de l'épaisseur de la couche intérieure. Par « à la surface du revêtement interférentiel, » on entend à la surface du revêtement interférentiel si celui-ci n'est pas lui-même revêtu par au moins une couche de revêtement et à la surface de la couche de revêtement la plus éloignée sur substrat 30 si celui-ci est lui-même revêtu par au moins une couche de revêtement. Par « motif de marquage continu », on entend selon l'invention que tout motif de marquage est formé de multiples points de marquage contigus, le pas entre deux points de marquage contigus étant de dimension inférieure ou égale à la plus petite des dimensions de ces deux points de marquage. 3054043 18 Les caractéristiques du revêtement interférentiel, en particulier des couches intérieure et extérieure, sont telles que décrites ci-dessus pour le procédé de marquage selon l'invention. De préférence, l'article optique selon l'invention n'absorbe pas dans le 5 visible ou absorbe peu dans le visible. Cela signifie, au sens de la présente demande, que son facteur de transmission -rv dans le visible, encore nommé facteur relatif de transmission dans le visible, est supérieur à 90%, de préférence supérieur à 95%, de façon plus préférée supérieur à 97% et de façon encore plus préférée supérieur à 99%. De façon particulièrement préférée, l'absorption lumineuse de l'article 10 optique selon l'invention est inférieure ou égale à 1. Alternativement, l'article optique peut être une lentille teintée, dite solaire, ayant par exemple une transmission comprise entre 5% et 50 % selon sa classification sur l'échelle internationale de classement des lunettes solaires. L'invention sera mieux comprise à la vue des dessins annexés sur 15 lesquels : - Les Figures 1 à 3 représentent schématiquement un premier exemple de réalisation du procédé de marquage selon l'invention, la Figure 1 représentant schématiquement en plan de coupe le principe du procédé de marquage avant sa réalisation, la Figure 2 représentant schématiquement en plan de coupe le procédé de 20 marquage en cours de réalisation, et la Figure 3 représentant schématiquement en plan de coupe le procédé de marquage en fin de réalisation ; et - Les Figures 4 et 5 illustrent les résultats obtenus en réflexion (R) et en transmission (T) pour le verre opthalmique (1) obtenu selon le premier exemple de réalisation des Figures 1 à 3, dans la zone du point de marquage (25) et dans les 25 autres zones de la surface du verre ophtalmique ; et - Les Figures 6 à 9 représentent schématiquement un second exemple de réalisation du procédé de marquage selon l'invention, les Figures 6 et 7 représentant le verre ophtalmique avant la réalisation du procédé de marquage et les Figures 8 et 9 représentant le verre ophtalmique après la réalisation du procédé de marquage, plus 30 précisément la Figure 6 représentant le verre ophtalmique en vue d'ensemble avant la réalisation du procédé de marquage, la Figure 7 représentant en perspective une section des couches présentes sur le verre ophtalmique avant la réalisation du procédé de marquage, la Figure 8 représentant le verre ophtalmique en vue d'ensemble après la réalisation du procédé de marquage, et la Figure 9 représentant en perspective une 3054043 19 section des couches présentes sur le verre ophtalmique après la réalisation du procédé de marquage. L'invention sera mieux comprise à la vue des exemples de réalisation qui suivent, en référence aux dessins annexés comme indiqué ci-dessus. Les Figures 1 à 5 9 sont explicitées dans les exemples ci-après. EXEMPLES Les exemples qui suivent illustrent l'invention sans pour autant en limiter la portée. 10 Dans les deux exemples de réalisation suivants, la couche intérieure est constituée de dioxyde d'étain Sn02; la couche extérieure est constituée d'oxyde de silice, à savoir soit du monoxyde de silice SiO, soit du dioxyde de silice Si02; et le faisceau électromagnétique est un faisceau laser à 266 nm (UV). La longueur d'onde de marquage est donc de 266 nm. 15 Exemple 1 : marquage d'un verre ophtalmique constitué d'un substrat d'une - remière couche chrome « Cr1 » d'une couche intérieure SnO d'une deuxième couche chrome absorbante ( REVENDICATIONS1. Procédé de marquage d'article optique (1,20) comportant au moins une étape d'utilisation d'une machine de marquage sur un article optique (1,20) : La machine de marquage étant une machine de marquage par faisceau électromagnétique (23), de préférence par faisceau laser, comportant une source électromagnétique, de préférence une source laser, configurée pour émettre un faisceau ayant une longueur d'onde de rayonnement déterminée dite longueur d'onde de marquage ; L'article optique étant un article optique (1, 20) comportant un substrat (6, 21) ayant une face principale revêtue d'un revêtement interférentiel (2,3,4,5 ; 14,15,16,17,18,19), ledit revêtement interférentiel comprenant au moins deux couches superposées dites couche intérieure (4,15) et couche extérieure (2,14), la couche intérieure étant située entre le substrat et la couche extérieure, le revêtement interférentiel étant tel qu'il présente un coefficient de réflexion Re dans le domaine visible (380-780 nm) ; L'utilisation comprenant l'insolation d'au moins la couche intérieure (4,15) en un point donné dit point de marquage (25,P), au moyen du faisceau laser à la longueur d'onde de marquage, de façon à ablater, au point de marquage, la couche intérieure, sur au moins une partie de son épaisseur, et toute couche située entre la couche supérieure et la couche intérieure; et étant telle que la zone ablatée présente un coefficient de réflexion Rm dans le domaine visible (380-780 nm), Rm étant différent de Re d'au moins 1% ; La couche intérieure absorbant la longueur d'onde de marquage de manière plus importante que toute couche située entre la source électromagnétique et la couche intérieure. 2. Procédé de marquage selon la revendication 1, tel que la différence entre Rm et Re est, en valeur absolue, supérieure à 3%, de façon encore plus préférée supérieure à 5%. 3. Procédé de marquage selon l'une des revendications 1 ou 2, tel que l'étape d'insolation est réalisée par émission d'un faisceau focalisé de rayonnement laser ultraviolet à impulsions présentant au moins les paramètres suivants : 3054043 29 - une longueur d'onde de rayonnement comprise dans un intervalle de 200 à 400 nm, de préférence de 200 à 300 nm, et - une durée d'impulsion comprise dans un intervalle de 0,1 à 5 ns, et - une énergie par impulsion comprise dans un intervalle de 0,1 à 10 pJ, 5 de préférence comprise dans un intervalle de 0,5 à 3 pJ, ainsi que, au point de marquage (24, P), un diamètre de faisceau compris dans un intervalle de 5 à 50 pm. 4. Procédé de marquage selon l'une des revendications 1 à 3, tel que, lorsque la longueur d'onde de rayonnement du faisceau de rayonnement laser 10 ultraviolet à impulsions réalisant l'étape d'insolation est comprise dans un intervalle de 200 à 300 nm, la couche intérieure (4,15) est à base, de préférence constituée essentiellement, d'étain, de préférence d'oxyde d'étain, de manière encore plus préférée de dioxyde d'étain Sn02. 5. Procédé de marquage selon l'une des revendications 1 à 4, tel que la 15 couche intérieure (4,15) présente une épaisseur comprise dans un intervalle de 1 à 100 nm, de préférence de 2 à 25 nm, de façon encore plus préférée de 4 à 15 nm, la somme des épaisseurs des couches intérieure (4,15) et extérieure (2, 14) étant comprise de 5 à 300 nm, de préférence de 45 à 175 nm. 6. Procédé de marquage selon l'une des revendications 1 à 5, tel que le 20 revêtement interférentiel (2,3,4,5) comporte au moins une couche absorbante (3). 7. Procédé de marquage selon la revendication 6, tel que l'ensemble des couches allant de la couche intérieure à la couche extérieure présente une absorption d'au moins 0,5 % de la lumière visible transmise et, de préférence, une absorption comprise dans un intervalle de 0,5 à 1,5 fois, de préférence de 0,9 à 1,1 fois, la valeur 25 absolue de la différence entre Re et Rm. 8. Procédé de marquage selon l'une des revendications 1 à 7, tel que la différence de taux de lumière transmis entre la zone ablatée et la zone non ablatée est comprise entre - 0,5x(Rm-Re) et 0,5x(Rm-Re), étant entendu que (Rm-Re) représente la valeur absolue de la différence entre Re et Rm. 30 9. Procédé de marquage selon l'une des revendications 1 à 8, tel que le revêtement interférentiel est un revêtement antireflet (14,15,16,17,18) et comprend, 3054043 30 depuis la surface du substrat ou d'un vernis présent sur ce substrat, vers l'extérieur, une couche (18) de ZrO2, de 5 à 40 nm d'épaisseur, une couche (17) de SiO2, de 10 à 55 nm d'épaisseur, une couche (16) de ZrO2, de 20 à 150 nm d'épaisseur, une couche intérieure (15) de Sn02, de 4 à 15 nm d'épaisseur, et une couche extérieure (14) de 5 SiO2, de de 50 à 120 nm d'épaisseur. 10. Procédé de marquage selon l'une des revendications 1 à 9, tel que le revêtement interférentiel est lui-même revêtu d'un revêtement de surface (13, 12, 11), tel un revêtement anti-pluie, un revêtement anti-brouillard, un revêtement anti-salissure et/ou au moins une couche de matériau protecteur. 10 11. Procédé de marquage selon l'une des revendications 1 à 10, tel que l'étape d'insolation est réalisée en autant de points de marquages que nécessaire de façon à marquer localement une région de la surface principale du substrat de l'article optique au moyen de multiples points de marquage, ladite région formant un motif prédéfini (22) dit motif de marquage. 15 12. Procédé de marquage selon la revendication 11, tel qu'il existe une continuité entre les points de marquage qui définissent la région formant motif de marquage, ladite région comportant de préférence moins de 1% en surface de résidus des couches ablatées. 13. Procédé de marquage selon l'une des revendications 11 ou 12, tel 20 que le marquage est effectué à un pas de dimension inférieure ou égale aux dimensions du point de marquage. 14. Procédé de marquage selon l'une des revendications 1 à 13, tel que la réflexion au point de marquage a une couleur, en saturation et/ou en teinte, différente de celle de la réflexion de la zone non ablatée. 25 15. Article optique (30) comportant un substrat (21) ayant une face principale revêtue d'un revêtement interférentiel (14,15,16,17,18), ledit revêtement interférentiel comprenant au moins deux couches de matériaux superposées dites couche intérieure (15) et couche extérieure (14), la couche intérieure étant située entre le substrat et la couche extérieure, le revêtement interférentiel étant tel qu'il présente 30 un coefficient de réflexion Re dans le domaine visible (380 780 nm); 3054043 31 Ledit article (30) comprenant un motif de marquage (22) à la surface du revêtement interférentiel, le motif de marquage (22) étant formé par une pluralité de points de marquage (P) sensiblement identiques, chaque point de marquage correspondant à l'absence localisée d'au moins une partie de l'épaisseur de la couche 5 intérieure (15) et de toute couche (14, 13, 12, 11) située entre ladite surface et la couche intérieure, la zone ablatée présentant un coefficient de réflexion Rm dans le domaine visible (380-780 nm) tel que Re est différent de Rm d'au moins 1%, le motif de marquage (22) étant de préférence continu.