Brevet FR3059434A1 — publié le 20180601

COMPOSANT DE SELECTION SPECTRALE POUR RADIATIONS XUV DOMAINE TECHNIQUE La présente description concerne un composant de sélection spectrale pour radiations 5 XUV, un système d'émission d'un faisceau de radiations XUV équipé d'un tel composant ainsi qu'un procédé de sélection spectrale pour radiations XUV. ETAT DE L'ART L'étude des dynamiques ultrarapides à l'échelle femtoseconde (fs) ou attoseconde (as) 10 dans les atomes et les molécules est un domaine de recherche en forte croissance qui intéresse à la fois la matière diluée, la matière condensée et les plasmas. Ces études nécessitent de soumettre la matière à étudier à un champ laser ultra-bref et intense. Notamment, l'exploration de la matière avec des impulsions cohérentes dans le domaine XUV (ou EUV pour « Extrême UV ») comprenant typiquement des radiations d'énergie comprises entre 12 15 eV et 400 eV (c'est à dire des longueurs d'onde comprises entre 3 nm et 100 nm) connaît un essor particulièrement rapide. En effet, les impulsions XUV à phase contrôlée permettent une stimulation de la matière avec une résolution temporelle attoseconde (as) (1 as = 1018 s) ; des impulsions XUV de plus grande durée d'impulsion (typiquement ps) peuvent donner accès aux structures électroniques avec une résolution en énergie inférieure au meV, permettant 20 d'obtenir des informations détaillées sur les couplages électrons-noyaux. Parmi les sources d'impulsions XUV, on connaît les sources à génération d'harmoniques d'ordre élevé, dîtes sources HHG (abréviation de l'expression anglo-saxonne « High Harmonic Generation »), dont le principe d'émission est basé sur l'interaction d'un laser infrarouge (IR) intense avec des atomes ou molécules. Des impulsions cohérentes XUV 25 dans la gamme fs à as sont obtenues par génération par effet non linéaire d'harmoniques d'ordre élevé du rayonnement fondamental incident. Les sources HHG ont aujourd'hui atteint une maturité technologique et sont particulièrement adaptées pour réaliser des études de dynamique ultrarapide à l'échelle d'un laboratoire. On connait également les lasers plasma XUV, basés sur l'émission non cohérente de rayonnement XUV par un plasma crée par laser 30 fs ou ps. Il existe enfin les lasers à électrons libres, dont le principe d'émission est basé sur l'interaction entre un faisceau d'électrons énergétiques avec un champ magnétique périodique, ce qui permet de générer des impulsions XUV cohérentes ultrabrèves (fs). 3059434 2 Parallèlement aux sources XUV, se sont développés des composants optiques et des détecteurs pour la caractérisation et le contrôle des impulsions. Notamment, les composants de sélection spectrale, ou monochromateurs, permettent la sélection d'une longueur d'onde d' intérêt. Les réseaux de diffraction permettent de réaliser des monochromateurs possédant une très bonne résolution spectrale. Cependant, concernant les applications dans le domaine des impulsons ultra brèves, il est nécessaire de transporter une impulsion sans altérer sa durée, ce qui revient à pouvoir transmettre l'impulsion avec une certaine étendue spectrale. Dans l'extrême UV, cela correspond à une bande passante de l'ordre de un à quelques électronvolts. Or il est connu qu'un réseau de diffraction, du fait même du phénomène de diffraction, entraîne inévitablement un élargissement temporel de l'impulsion. Comme décrit dans L. Poletto et al. (« Time-compensated extreme-UV and soft x-ray monochromator for ultrashort high-order harmonie pulses », J. Opt. A: Pure Appl. Opt. 3 (201) 374 - 379)), il est possible de compenser la dispersion temporelle dans une configuration à deux réseaux de diffraction travaillant en incidence rasante. Cependant, le composant ainsi formé présente une grande sensibilité aux problèmes de désalignement, d'aberration et de défauts de surface. Par ailleurs, la compensation de la dispersion temporelle pour un angle donné est optimale dans une région spectrale très fine, ce qui entraine la nécessité de changer la direction de sortie du monochromateur lorsqu'on veut faire une compensation de la dispersion sur une plus grande plage spectrale. Dans l'article de L. Poletto ci-dessus cité, il est préconisé comme alternative aux réseaux de diffraction, l'utilisation de deux miroirs multicouches. Les miroirs multicouches sont connus pour présenter une grande réflectivité dans le domaine XUV. La physique des miroirs multicouches est bien connue et est décrite dans plusieurs ouvrages scientifiques (voir par exemple E. Spiller, « Soft X-Rays Optics », SPIE Optical Engineering Press, Bellingham (1994)). Les miroirs multicouches peuvent être utilisés en incidence normale ou en incidence oblique. Ils sont composés d'un revêtement fait d'une alternance de couches d'épaisseur nanométrique de matériaux avec un fort contraste d'indices de réfraction ; typiquement, il s'agit d'une alternance de matériaux à fort et à faibles numéros atomiques. La détermination du choix des matériaux et des épaisseurs des couches permet de définir les propriétés optiques du miroir (longueur d'onde/énergie de plus forte réflectivité, bande passante, forme de la réponse spectrale en réflectivité). Par ailleurs, la réponse spectrale en réflectivité étant dépendante de l'angle d'incidence, il est possible en faisant tourner les 3059434 3 miroirs de choisir la longueur d'onde (ou l'énergie) réfléchie par chacun des miroirs et donc émise en sortie du monochromateur. Le monochromateur proposé par L. Poletto comprend ainsi deux miroirs multicouches identiques travaillant en faisceau parallèle, adaptés pour tourner autour d'un axe vertical 5 parallèle au plan du miroir tout en restant parallèles l'un à l'autre afin de maintenir une direction constante du faisceau de sortie. Le monochromateur ainsi décrit permet par rapport à la technologie basée sur les réseaux de diffraction de garder une direction de sortie constante dans la région spectrale d'intérêt. Il présente par ailleurs un encombrement plus faible et une meilleure compensation de la dispersion temporelle. 10 Cependant, les miroirs multicouches présentent une réflectivité optimisée pour un angle d'incidence donné et lorsqu'on change l'angle d'incidence pour faire varier l'énergie, il s'en suit un élargissement de la bande spectrale (en énergie) définie comme la largeur à mi-hauteur de la réponse spectrale en réflectivité. La présente description propose un monochromateur présentant un agencement 15 particulier de deux miroirs multicouches, qui permet de conserver non seulement la direction de sortie mais aussi la largeur à mi-hauteur de la réponse spectrale en réflectivité, lorsque l'angle d'incidence sur les miroirs est modifié. RE SUME 20 La présente description a pour objet, selon un premier aspect, un composant de sélection spectrale pour radiations XUV comprenant : - un premier miroir multicouche destiné à recevoir un faisceau de radiations XUV selon un axe d'entrée situé dans un premier plan d'incidence donné et comprenant un premier axe de rotation sensiblement perpendiculaire au premier plan d'incidence; 25 - un deuxième miroir multicouche destiné à recevoir dans un deuxième plan d'incidence un faisceau de radiations XUV réfléchi par le premier miroir pour le renvoyer vers un axe de sortie du composant de sélection spectrale, et comprenant un deuxième axe de rotation sensiblement perpendiculaire au deuxième plan d'incidence; dans lequel : 30 l'un desdits miroirs présente une première réponse spectrale en énergie passe- haut, avec un flanc du côté des énergies basses de raideur supérieure à 0,1 eV-1 et une réjection des basses énergies plus grande que 20; 3059434 4 - l'autre miroir présente une deuxième réponse spectrale en énergie passe-bas, avec un flanc du côté des énergies hautes de raideur supérieure à 0,1 eV-' et une réjection des hautes énergies plus grande que 20 ; - lesdits miroirs présentent un recouvrement seulement partiel de leurs réponses 5 spectrales en énergie. Dans la suite de la description, le miroir présentant une première réponse spectrale en énergie passe-haut est simplement appelé « miroir passe-haut » et le miroir présentant une première réponse spectrale en énergie passe-bas est simplement appelé « miroir passe-bas ». Les déposants ont montré qu'on pouvait obtenir grâce au composant de sélection 10 spectrale selon la présente description une accordabilité sur une plage spectrale d'au moins 20 eV avec une conservation de la largeur à mi-hauteur de la réponse spectrale en réflectivité à mieux que 0,1 eV, tout en gardant une excellente réjection. Cet effet technique est obtenu par le recouvrement seulement partiel des réponses de chaque miroir combiné à la raideur d'un flanc de chaque miroir et à la très bonne réjection du coté de ce flanc. 15 En effet, dans le composant de sélection spectrale ainsi défini, la bande spectrale est définie par les positions des flancs respectivement du côté des énergies hautes pour le miroir passe-bas et du côté des énergies basses pour le miroir passe-haut, et non plus par la bande spectrale d'un seul miroir. Dans la présente description, le recouvrement entre les réponses est dit « seulement 20 partiel » si l'énergie correspondant à 1/25 de la réflectivité maximale du miroir passe-bas sur le flanc du coté des énergies hautes est strictement supérieure à l'énergie correspondant à 1/25 de la réflectivité maximale du miroir passe-haut sur le flanc du coté des énergies basses et la différence des énergies correspondant à la moitié de la réflectivité maximale respectivement des miroirs passe-haut sur le flanc du coté des énergies basses et passe-bas sur le flanc du coté 25 des énergies hautes est (en valeur absolue) strictement inférieure à 90% de la plus petite largeur à mi-hauteur des réponses spectrales (en énergie) des miroirs passe-haut et passe-bas. Selon un ou plusieurs exemples de réalisation, les miroirs d'entrée et de sortie sont des miroirs multicouches multi périodiques, avantageusement bipériodiques, ou apériodiques. Selon un ou plusieurs exemples de réalisation, le premier plan d'incidence et le 30 deuxième plan d'incidence sont confondus. Selon un ou plusieurs exemples de réalisation, le composant de sélection spectrale selon la présente description comprend des moyens de couplage des rotations des premier et deuxième miroirs respectivement autour des premier et deuxième axes de rotation, permettant de conserver l'axe de sortie parallèle à l'axe d'entrée. Ainsi la rotation d'un miroir est 3059434 5 effectuée de façon dépendante de celle de l'autre miroir pour conserver l'axe de sortie parallèle à l'axe d'entrée. Selon un ou plusieurs exemples de réalisation, le composant de sélection spectrale comprend en outre des moyens de translation de l'un et/ou l'autre des premier et deuxième 5 miroirs, selon un axe parallèle à l'axe d'entrée, permettant de garder fixe l'axe de sortie lorsque les miroirs sont entraînés en rotation. Selon un ou plusieurs exemples de réalisation, - au moins l'un des premier et deuxième miroirs présente un gradient latéral d'épaisseur dans une direction sensiblement perpendiculaire au plan d'incidence 10 du miroir; - le composant comprend en outre des moyens de translation dudit miroir dans la direction du gradient. Dans la suite de la description, un axe ou une surface /un plan est dit(e) sensiblement parallèle à un autre axe ou à une autre surface / un plan si l'écart de parallélisme est inférieur 15 à 3 degrés. De la même manière, un axe ou une surface / un plan est dit(e) sensiblement perpendiculaire à un autre axe ou à une autre surface / un plan si l'écart de perpendicularité est inférieur à 3 degrés. La présente description a pour objet, selon un deuxième aspect, un système d'émission d'un faisceau de radiations XUV comprenant une sources de radiations XUV destinée à 20 émettre un faisceau de radiations XUV selon une direction donnée et un composant de sélection spectrale selon le premier aspect, destiné à recevoir ledit faisceau de radiations selon son axe d'entrée. Les composants de sélection spectrale décrits dans la présente description présentent des applications notamment pour l'instrumentation des sources cohérentes XUV. Les composants 25 de sélection spectrale décrits dans la présente description sont notamment intéressants lorsqu'ils sont couplés à une source HHG car ils permettent la sélection d'une énergie avec une bande passante constante, et, selon un ou plusieurs exemples de réalisation, de régler indépendamment l'énergie et la durée de l'impulsion. Ils peuvent s'appliquer également aux autres sources XUV en tant que monochromateurs. 30 Les composants de sélection spectrale peuvent également être utilisés avantageusement avec d'autres types de sources (plasmas, rayonnement synchrotron, etc.) par exemple pour la spectroscopie Extrême UV pour l'astrophysique (radiations incohérentes), l'instrumentation sur sources synchrotron ou encore la spectrométrie X de plasmas denses. Notamment, la 3059434 6 double accordabilité du dispositif (en énergie et en bande passante) présente en effet un intérêt par rapport aux solutions utilisées actuellement. La présente description a pour objet, selon un troisième aspect, un procédé de sélection spectrale d'un faisceau de radiations XUV (II) présentant une large bande spectrale, comprenant : 5 - la réflexion par un premier miroir multicouche du faisceau de radiations XUV selon un axe d'entrée situé dans un premier plan d'incidence; - la réflexion par un deuxième miroir multicouche du faisceau de radiations XUV réfléchi par le premier miroir vers un axe de sortie du composant de sélection spectrale, le faisceau réfléchi par le deuxième miroir et l'axe de sortie étant compris dans un 10 deuxième plan d'incidence; - la rotation du premier miroir selon un premier axe de rotation sensiblement perpendiculaire au premier plan d'incidence et la rotation du deuxième miroir selon un deuxième axe de rotation sensiblement perpendiculaire au deuxième plan d'incidence pour changer l'énergie du faisceau de radiation XUV en sortie ; 15 dans lequel : - l'un desdits miroirs présente une première réponse spectrale en énergie passe- haut, avec un flanc du côté des énergies basses de raideur supérieure à 0,1 eV' et une réjection des basses énergies plus grande que 20; - l'autre miroir présente une deuxième réponse spectrale en énergie passe-bas, 20 avec un flanc du côté des énergies hautes de raideur supérieure à 0,1 eV' et une réjection des hautes énergies plus grande que 20 ; - lesdits miroirs présentent un recouvrement seulement partiel de leurs réponses spectrales en énergie. Selon un ou plusieurs exemples de réalisation, les rotations des premier et deuxième 25 miroirs sont couplées, permettant de conserver l'axe de sortie parallèle à l'axe d'entrée. Le couplage peut être opéré manuellement ou de façon automatique avec des moyens de couplage. Selon un ou plusieurs exemples de réalisation, le procédé comprend en outre la translation de l'un et/ou l'autre des premier et deuxième miroirs selon un axe sensiblement parallèle à 30 l'axe d'entrée, permettant de garder fixe l'axe de sortie lorsque les miroirs sont entraînés en rotation. Selon un ou plusieurs exemples de réalisation, au moins l'un des premier et deuxième miroirs présentant un gradient latéral d'épaisseur dans une direction sensiblement 3059434 7 perpendiculaire au plan d'incidence du miroir, le procédé comprend en outre une translation dudit miroir dans la direction du gradient afin de modifier la largeur spectrale du faisceau de radiation XUV en sortie. BREVE DESCRIPTION DES FIGURES 5 D'autres avantages et caractéristiques de la technique présentée ci-dessus apparaîtront à la lecture de la description détaillée ci-dessous, faite par référence aux figures dans lesquelles: La FIG. lA représente de façon schématique un composant de sélection spectrale selon un exemple de réalisation de la présente description, recevant un faisceau de radiations XUV selon un axe d'entrée faisant avec le premier miroir un premier angle 10 d'incidence; La FIG. 1B représente de façon schématique le même composant, recevant un faisceau de radiations XUV selon un axe d'entrée faisant avec le premier miroir un deuxième angle d'incidence différent du premier angle d'incidence ; La FIG. 2A représente à des fins illustratives un exemple de courbe de réponse 15 spectrale en énergie de la réflectivité d'un miroir multicouches « passe-haut » selon la présente description ; La FIG. 2B représente à des fins illustratives des exemples de courbes de réponse spectrale en énergie de la réflectivité de deux miroirs multicouches, respectivement « passe-haut » et « passe-bas » dans un exemple de composant de sélection spectrale selon 20 la présente description ; La FIG. 2C illustre la courbe de réponse spectrale en énergie de la réflectivité d'un composant associant les miroirs passe-haut et passe-bas dont des réponses sont montrées sur la FIG. 2B ; La FIG. 3A illustre des courbes de réponse spectrale en énergie de la réflectivité 25 pour un composant associant des miroirs passe-haut et passe-bas dont des réponses sont montrées sur la FIG. 2B, lorsqu'on fait varier l'angle d'incidence ; La FIG. 3B illustre à des fins comparatives, des courbes de réponse spectrale en énergie de la réflectivité pour un composant de sélection spectrale selon l'art antérieur, lorsqu'on fait varier l'angle d'incidence ; 30 Les FIGS. 4A et 4B illustrent un exemple de réalisation d'un composant de sélection spectrale selon la présente description, dans lequel l'un des premier et deuxième miroirs présente un gradient d'épaisseur; 3059434 8 La FIG. 5A illustre la courbe de réponse spectrale en réflectivité d'un composant tel que montré sur la FIG. 4A, pour différentes positions du faisceau de radiations sur le miroir à gradient d'épaisseur ; La FIG. 5B illustre la courbe de réponse spectrale en réflectivité d'un composant tel 5 que montré sur la FIG. 4A, pour différentes positions du faisceau de radiations sur le miroir à gradient d'épaisseur et différents angles d'incidence; La FIG. 6A illustre une application d'un composant de sélection spectrale selon la présente description à la sélection d'une harmonique d'une source HHG ; La FIG. 6B illustre une application d'un composant de sélection spectrale selon la 10 présente description à la sélection de plusieurs harmoniques d'une source HHG ; Les FIGS. 7A et 7B illustrent des exemples de réalisation de miroirs multicouches, respectivement bipériodiques et apériodiques, adaptés à l'obtention d'un composant de sélection spectrale selon la présente description. DESCRIPTION DETAILLEE 15 Les FIGS. lA et 1B illustrent le fonctionnement d'un exemple de composant de sélection spectrale 100 selon la présente description. Dans ces exemples, un faisceau de radiations XUV Ii est envoyé selon un axe d'entrée faisant un angle d'incidence respectivement 01 (FIG. 1A) avec la normale 41 au premier miroir 10 (également appelé miroir d'entrée dans la présente demande) ou un 20 angle d'incidence 02 (FIG. 1B), le premier miroir étant tourné. Sur ces figures, on a représenté un repère XYZ situé dans le référentiel du premier miroir ou miroir d'entrée 10. Comme illustré sur la FIG. 1A, le composant de sélection spectrale 100 comprend un premier miroir multicouche 10 (miroir d'entrée) avec une surface 11 destinée à 25 recevoir un faisceau de radiations XUV Ii selon un axe d'entrée situé dans un premier plan d'incidence donné H qui contient également la normale 41 à la surface du premier miroir. L'axe d'entrée est en général un axe fixe, prédéfini, ce qui permettra d'intégrer facilement le composant de sélection spectral dans un système comprenant en outre la source de radiations XUV par exemple, en vue d'une application donnée. Le composant 30 de sélection spectrale 100 comprend en outre un deuxième miroir multicouche 20 (miroir de sortie) avec une surface 21 destinée à recevoir un faisceau de radiations XUV 12 réfléchi par le premier miroir 10 pour le renvoyer sous forme d'un faisceau de radiations 13 vers un axe de sortie du composant spectral de sélection. L'axe de sortie se situe dans 3059434 9 un deuxième plan d'incidence qui est le plan d'incidence du deuxième miroir, défini comme le plan comprenant le faisceau réfléchi 12 et la normale A2 à la surface du deuxième miroir. Les surfaces peuvent être planes, comme illustré sur les FIGS. 1A, 1B ou présenter une courbure, notamment si l'on cherche à faire converger/diverger le 5 faisceau de radiations XUV. En pratique, on cherchera à ce que le premier plan d'incidence et le deuxième plan d'incidence soient confondus pour former un plan d'incidence unique H, comme cela est illustré sur les FIGS lA et 1B. En effet, cela simplifie grandement la conception des miroirs. Pour cela, on s'assurera que les surfaces des miroirs 10 et 20 sont sensiblement 10 parallèles entre elles si les surfaces sont planes, ou que les tangentes à ces surfaces aux points d'intersection avec les axes des faisceaux de radiations incidents sont sensiblement parallèles entre elles, si les surfaces présentent une courbure. Les premier et deuxième miroirs multicouches 10, 20 comprennent chacun un axe de rotation perpendiculaire au plan d'incidence du miroir, et notés respectivement 12, 22 15 sur les FIGS. lA et 1B. Comme illustré sur les figures, l'axe de rotation de chaque miroir est par exemple sensiblement tangent à la surface du miroir destinée à recevoir le faisceau de radiation. On cherche généralement à ce que l'axe de rotation de chaque miroir passe par un point situé à proximité du point d'intersection de l'axe du faisceau de radiations avec la surface du miroir, ce qui permet de limiter le décalage du faisceau sur le miroir 20 lorsque celui-ci est entraîné en rotation. Selon un exemple de réalisation, le composant de sélection spectrale comprend par ailleurs des moyens de couplage des rotations des miroirs d'entrée 10 et de sortie 20 (non représentés sur les figures) qui permettent de faire tourner les miroirs de façon concomitante pour garder un axe de sortie de direction sensiblement constante, parallèle à 25 l'axe d'entrée. Ainsi, comme cela apparaît sur la FIG. 1B, la rotation du miroir d'entrée 10 autour de son axe de rotation 12 est faite simultanément à une rotation du miroir de sortie 20 autour de son axe de rotation 22 de telle sorte que la direction de l'axe des radiations 13 en sortie du composant reste constante lorsque l'angle d'incidence sur le miroir d'entrée 10 varie du fait de la rotation du premier miroir 10. De cette manière, les 30 angles d'incidence des radiations XUV sur chacun des miroirs d'entrée et de sortie sont sensiblement identiques, ce qui permet aussi d'avoir des variations angulaires des angles d'incidence sur chacun des miroirs similaires lorsque les miroirs sont entrainés en rotation, et de ce fait une meilleure conservation de la largeur à mi-hauteur de la bande spectrale. En pratique, les rotations des miroirs sont couplées pour que les surfaces des 3059434 10 miroirs respectivement d'entrée et de sortie 10, 20 restent sensiblement parallèles si les surfaces sont planes, ou si les tangentes à ces surfaces aux points d'intersection avec les axes des faisceaux de radiations incidents restent parallèles, si les surfaces présentent une courbure. 5 Selon un exemple de réalisation, le composant de sélection spectrale comprend en outre des moyens de translation de l'un et/ou l'autre des miroirs d'entrée 10 et de sortie 20, non représentés sur les FIGS. lA et 1B, selon un axe sensiblement parallèle à l'axe d'entrée. Lorsque les rotations des miroirs d'entrée et de sortie sont entraînés en rotation de façon couplée pour garder fixe la direction de l'axe de sortie, il peut être avantageux de 10 prévoir en outre une translation de l'un des miroirs pour corriger le décalage de l'axe de sortie de telle sorte que celui-ci reste fixe lorsque les miroirs sont entraînés en rotation. Cela est utile notamment lorsque le composant de sélection spectrale est intégré dans un système qui nécessite de recevoir un faisceau de radiations XUV d'énergie variable selon un axe prédéterminé. 15 Contrairement aux composants de sélection spectrale de l'art antérieur, les premier et deuxième miroirs multicouches 10 et 20 ne sont pas identiques. Ils présentent des réponses spectrales en énergie de la réflectivité respectivement passe-haut et passe-bas, comme schématisées sur les courbes 15 et 25 des FIGS lA et 1B. Les déposants ont en effet démontré que la réponse résultante de la combinaison de ces deux miroirs, 20 schématisée sur la courbe 105, présentait une variation de la largeur à mi-hauteur très faible par rapport à celle résultant de la combinaison de deux miroirs présentant des réponses en énergie de la réflectivité identiques. Un exemple de réponse en énergie de la réflectivité d'un filtre passe-haut adapté pour la formation d'un composant de sélection spectrale selon la présente description est 25 représenté de façon plus détaillée sur la FIG. 2A. La courbe (C HP) est calculée pour un miroir multicouche bipériodique, du type de celui représenté sur la FIG. 7A, avec une alternance de couches Molybdène 702 (Mo) / Silicium 701 (Si). La multicouche inférieure (71, FIG. 7A), côté substrat 73, comprend un agencement de 68 périodes de couches en Mo d'épaisseur 2,175 nm et de couches en Si 30 d'épaisseur 7,55 nm. La multicouche supérieure (72, FIG. 7A), côté surface, comprend un agencement de 6 périodes de couches en Mo d'épaisseur 3,025 nm et de couches en Si d'épaisseur 6,3 nm. 3059434 11 On peut définir de façon générale les points suivants sur la courbe de réponse donnant la réflectivité en fonction de l'énergie, pour un miroir adapté à un composant de sélection spectrale selon la présente description: - PO (E0, Rmax) point d'abscisse E0 présentant une réflectivité maximale Rmax ; 5 - Pl (El, Rmax/2) point d'abscisse El présentant une réflectivité Rmax/2 du coté des basses énergies (respectivement hautes) pour un miroir passe-haut (respectivement passe-bas), ce côté étant appelé « flanc raide » de la réponse dans la présente description; - P2 (E2, Rmax/25) point d'abscisse E2 présentant une réflectivité Rmax/25 du coté 10 des basses énergies (respectivement hautes) pour un miroir passe-haut (respectivement passe-bas), c'est-à-dire du côté du flanc raide ; - P3 (E3, Rth) point d'abscisse E3 présentant une réflectivité maximale Rth sur la plage spectrale [E2 - 2*FWHM; E2] pour le miroir passe-haut ou [E2 ; E2 + 2* FWHM] pour le miroir passe-bas, où FWHM est la largeur à mi-hauteur en 15 énergie de la réponse du miroir. Sur la FIG. 2B sont représentées des exemples de réponses en énergie de la réflectivité d'un filtre passe-haut (courbe C HP) et d'un filtre passe-bas (courbe C_LP) adapté pour travailler en association avec le filtre passe-haut. Le filtre passe-haut (courbe C HP) est identique à celui dont la réponse est montrée que la FIG. 2A. 20 La courbe C_LP est calculée pour un miroir multicouche bipériodique, du type de celui représenté sur la FIG. 7A, avec une alternance de couches Molybdène 702 (Mo) / Silicium 701 (Si). La multicouche inférieure (71, FIG. 7A), côté substrat, comprend un agencement de 68 périodes de couches en Mo d'épaisseur 2,8 nm et de couches en Si d'épaisseur 7,4 nm. La multicouche supérieure (72, FIG. 7A), côté surface, comprend un 25 agencement de 6 périodes de couches en Mo d'épaisseur 2,425 nm et de couches en Si d'épaisseur 8.0 nm. Comme illustré sur la FIG. 2B, on nommera plus spécifiquement Pl HP (respectivement Pl LP), P2 HP (respectivement P2 LP) et P3 HP (respectivement P3 LP) les points Pl, P2 et P3 correspondant au miroir passe-haut (respectivement passe- 30 bas). La FIG. 2C illustre la réponse en énergie de la réflectivité d'un composant de sélection spectrale associant les miroirs passe-haut et passe-bas dont les réponses sont montrées sur la FIG. 2B. 3059434 12 On choisira pour la réalisation d'un composant de sélection spectrale selon la présente description un miroir passe-haut avec un flanc du côté des énergies basses (flanc raide) de raideur supérieure à 0,1 eV-' et une réjection des basses énergies plus grande que 20 et un miroir passe-bas avec un flanc du côté des énergies hautes (flanc raide) de raideur 5 supérieure à 0,1 eV-1 et une réjection des hautes énergies plus grande que 20. Par ailleurs, les miroirs passe-haut et passe-bas présentent un recouvrement seulement partiel de leurs réponses spectrales en énergie. A noter que le miroir passe-haut (respectivement le miroir passe-bas) peut être indifféremment le miroir d'entrée ou le miroir de sortie. Dans la présente description, on définit la raideur du flanc raide par la valeur 10 absolue de la pente reliant les points P1 et P2 (FIG. 2A). On définit la réjection comme le rapport entre Rmax et Rth. Le recouvrement est dit « seulement limité » si l'énergie correspondant à 1/25 de la réflectivité maximale du miroir passe-bas sur le flanc du coté des énergies hautes est strictement supérieure à l'énergie correspondant à 1/25 de la réflectivité maximale du 15 miroir passe-haut sur le flanc du coté des énergies basses et si la différence des énergies correspondant à la moitié de la réflectivité maximale respectivement des miroirs passe-haut sur le flanc du coté des énergies basses et passe-bas sur le flanc du coté des énergies hautes est (en valeur absolue) strictement inférieure à 90% de la plus petite largeur à mi-hauteur des réponses spectrales (en énergie) des miroirs passe-haut et passe-bas ; 20 autrement dit si : E2 HP REVENDICATIONS1. Composant de sélection spectrale (100) pour radiations XUV comprenant : - un premier miroir multicouche (10) destiné à recevoir un faisceau de radiations XUV (Ii) selon un axe d'entrée situé dans un premier plan d'incidence et comprenant un premier axe de rotation (12) sensiblement perpendiculaire au plan d'incidence; - un deuxième miroir multicouche (20) destiné à recevoir dans un deuxième plan d'incidence un faisceau de radiations XUV (12) réfléchi par le premier miroir pour les renvoyer vers un axe de sortie du composant de sélection spectrale, et comprenant un deuxième axe de rotation (22) sensiblement perpendiculaire au deuxième plan d'incidence; dans lequel : - l'un desdits miroirs présente une première réponse spectrale en énergie passe- haut, avec un flanc du côté des énergies basses de raideur supérieure à 0,1 eV-1 et une réjection des basses énergies plus grande que 20; - l'autre miroir présente une deuxième réponse spectrale en énergie passe-bas, avec un flanc du côté des énergies hautes de raideur supérieure à 0,1 eV-1 et une réjection des hautes énergies plus grande que 20 ; - lesdits miroirs présentent un recouvrement seulement partiel de leurs réponses spectrales en énergie. 2. Composant de sélection spectrale selon la revendication 1, dans lequel les miroirs d'entrée et de sortie sont des miroirs multicouches multi périodiques, avantageusement bipériodiques. 3. Composant de sélection spectrale selon la revendication 1, dans lequel les miroirs d'entrée et de sortie sont des miroirs multicouches apériodiques. 4. Composant de sélection spectrale selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel les premier et deuxième plans d'incidence sont confondus. 3059434 22 5. Composant de sélection spectrale selon l'une quelconque des revendications précédentes, comprenant des moyens de couplage des rotations des premier et deuxième miroirs respectivement autour des premier et deuxième axes de rotation, permettant de conserver l'axe de sortie parallèle à l'axe d'entrée. 5 6. Composant de sélection spectrale selon la revendication 5, comprenant en outre des moyens de translation de l'un et/ou l'autre des premier et deuxième miroirs selon un axe sensiblement parallèle à l'axe d'entrée, permettant de garder fixe l'axe de sortie lorsque les miroirs sont entraînés en rotation. 7. Composant de sélection spectrale selon l'une quelconque des revendications 10 précédentes, dans lequel : - au moins l'un des premier et deuxième miroirs présente un gradient latéral d'épaisseur dans une direction sensiblement perpendiculaire au plan d'incidence du miroir; - le composant comprend en outre des moyens de translation dudit miroir dans la 15 direction du gradient. 8. Système d'émission d'un faisceau de radiations XUV à énergie variable comprenant une source de radiations XUV destinée à émettre un faisceau de radiations XUV selon une direction donnée et un composant de sélection spectrale selon l'une quelconque des revendications précédentes, destiné à recevoir ledit faisceau de radiations selon son axe 20 d' entrée. 9. Procédé de sélection spectrale d'un faisceau de radiations XUV (Ii) présentant une large bande spectrale, comprenant : - la réflexion par un premier miroir multicouche (10) du faisceau de radiations XUV (Ii) selon un axe d'entrée situé dans un premier plan d'incidence; 25 - la réflexion par un deuxième miroir multicouche (20) du faisceau de radiations XUV (12) réfléchi par le premier miroir vers un axe de sortie du composant de sélection spectrale, le faisceau réfléchi par le deuxième miroir et l'axe de sortie étant compris dans un deuxième plan d'incidence; 3059434 23 - la rotation du premier miroir selon un premier axe de rotation (12) sensiblement perpendiculaire au premier plan d'incidence et la rotation du deuxième miroir selon un deuxième axe de rotation (22) sensiblement perpendiculaire au deuxième plan d'incidence pour changer l'énergie du faisceau de radiation XUV en sortie ; 5 dans lequel : - l'un desdits miroirs présente une première réponse spectrale en énergie passe- haut, avec un flanc du côté des énergies basses de raideur supérieure à 0,1 eV-' et une réjection des basses énergies plus grande que 20; - l'autre miroir présente une deuxième réponse spectrale en énergie passe-bas, 10 avec un flanc du côté des énergies hautes de raideur supérieure à 0,1 eV-' et une réjection des hautes énergies plus grande que 20 ; - lesdits miroirs présentent un recouvrement seulement partiel de leurs réponses spectrales en énergie. 10. Procédé de sélection spectrale selon la revendication 9, dans lequel les 15 rotations des premier et deuxième miroirs sont couplés, permettant de conserver l'axe de sortie parallèle à l'axe d'entrée. 11. Procédé de sélection spectrale selon l'une quelconque des revendications 9 ou 10, comprenant en outre la translation de l'un et/ou l'autre des premier et deuxième miroirs selon un axe sensiblement parallèle à l'axe d'entrée, permettant de garder fixe l'axe de sortie 20 lorsque les miroirs sont entraînés en rotation. 12. Procédé de sélection spectrale selon l'une quelconque des revendications 9 à 11, dans lequel : - au moins l'un des premier et deuxième miroirs présentant un gradient latéral d'épaisseur dans une direction sensiblement perpendiculaire au plan d'incidence 25 du miroir; le procédé comprend en outre une translation dudit miroir dans la direction du gradient afin de modifier la largeur spectrale du faisceau de radiation XUV en sortie.