Brevet FR3038534A1 — publié le 20170113

Assemblage d'un élément avec un substrat isolé électriquement et à faible résistance thermique notamment pour des applications haute température, ensemble comprenant ledit assemblage et un drain thermique et procédé de fabrication Le domaine de l'invention est celui des substrats métallisés isolés électriquement et à faible résistance thermique intégrés dans des assemblages destinés notamment à des modules de puissance. Une des applications ciblées de la présente invention concerne les applications forte densité de puissance et haute température (supérieure à 200 °C) et permettant de supprimer la céramique isdante et la graisse thermique utilisées classiquement. Les modules de puissance comprennent de manière courante comme schématisé en éclaté sur la figure 1, une puce semi-conductrice : élément E susceptible de générer de la chaleur, un isolant électrique I (substrat diélectrique) préservant l'information dans ladite puce semiconductrice, et un système de refroidissement SR qui évacue la chaleur du système via un drain thermique R, solidaire de l'isolant électrique. De manière générale, Il est à noter qu'en électronique de puissance, seuls sont actuellement proposés des substrats céramiques reportés sur un drain thermique (pour les modules multipuces devant assurer une isolation entre puces drain thermique). Le substrat isolant a deux fonctions principales : il peut supporter 25 les pistes conductrices (en cuivre principalement) et assurer également l'isolation électrique entre les puces semi-conductrices et le système de refroidissement. Un exemple d'empilement souvent employé dans la fabrication des modules de puissance comprend plus précisément les éléments 30 suivants : le composant semi-conducteur (source de chaleur), la brasure pour reporter le composant semi-conducteur sur un substrat, le substrat généralement constitué d'une céramique entre deux plaques métalliques, fabriqué par différentes techniques (« direct bonded copper » : DBC, « active metal braze » : AMB, « direct bonded aluminum » : DBA) et permettant de 35 réaliser les interconnections (semi-conducteurs entre eux et avec l'extérieur) sur les pistes métalliques supérieures et le report sur une semelle par la 3038534 2 partie métallique inferieure. Une autre brasure est également prévue pour reporter le substrat sur la semelle généralement en cuivre Cu, qui a pour rôle d'étaler le flux thermique. L'assemblage est ensuite reporté sur le radiateur à l'aide de 5 graisse thermique. La figure 2 présente schématiquement un tel ensemble connu et les propriétés thermiques des matériaux utilisés sont données ci-après. Cet exemple d'ensemble illustré en figure 1 met en évidence : - un drain thermique principal R couramment dénommé 10 radiateur, pouvant typiquement présenté une conductivité thermique supérieure à 100 W.m-1 K-1 et pouvant être en cuivre ; - une graisse thermique Gth d'épaisseur 200 pm et de conductivité thermique de l'ordre de 2 W. rrl. K-1; 15 - une semelle en cuivre M reportée, pour étaler la chaleur et constituant un drain thermique secondaire, d'épaisseur 1000 pm , - une brasure B1 de 50 pm et de conductivité thermique de l'ordre de 40 W. rrl. K-1 ; 20 - un substrat isolant I de type DBC « direct bonded copper » constitué d'une plaque céramique en A1203 comportant sur ses deux faces des couches de cuivre d'épaisseur égale à 300 pm et de conductivité thermique égale à 400 W. rrl. K-1 , la plaque de céramique présentant une épaisseur typiquement de 600 pm et une conductivité thermique égale à 20 W. rrl. K-1 (cas A1203); - une seconde brasure B2 d'épaisseur égale à 50 pm et de conductivité thermique de l'ordre de 40 W. rrl. K-1 ; - une puce silicium E de conductivité thermique égale à 100 W.M-1. K-1. Cet empilement présente plusieurs limitations pour les applications dites « hautes températures » (une « haute température » pouvant être due à une température ambiante élevée où à la forte densité de puissance dissipée dans les semi-conducteurs) et notamment les inconvénients suivants : 3038534 3 - une forte résistance thermique initialement due à la céramique, la graisse thermique et les 9 interfaces entre le semiconducteur, et le fluide de refroidissement qui bloque la dissipation thermique et limite la densité de puissance des 5 semi-conducteurs ; - une mauvaise stabilité à haute température, limitée par la température de fonctionnement de la graisse thermique et des brasures ; - une fiabilité thermomécanique limitée due à la fissuration de la 10 céramique (AIN et A1203), la fissuration dans la brasure et la flèche du substrat due aux contraintes thermomécaniques asymétriques imposées par la structure (des pistes métalliques supérieures gravées et inferieures pleine plaque) suite à l'essai de cycles thermiques. 15 Il a déjà été décrit et notamment dans le brevet US 8 257 795, l'utilisation d'une pâte de nanoparticules métalliques pour assurer la connexion thermique, mécanique et électrique du semi-conducteur sur un substrat. Cela revient à remplacer la brasure entre la puce et le métal du 20 substrat par un joint d'argent fritté permettant le fonctionnement à haute température et l'amélioration des propriétés électriques et thermiques du joint. Néanmoins, l'invention décrite dans ce brevet ne permet pas de supprimer les problèmes générés par la présence de la céramique et la présence de la graisse thermique. 25 Il a également été décrit dans la publication: Nanotechnology 21 (2010), « Adhesion mechanisms of nanoparticle silver to substrate materials: identification », les mécanismes d'adhésion entre la pâte de nanoparticules d'argent et des substrats métalliques et isolants (céramiques et polymères). Une couche mince de 2 pm est déposée puis frittée sur des films polymères 30 (Téflon® et Kapton®), suivi d'essais de décollage avec un scotch adhésif pour évaluer l'adhésion à l'interface. Les essais se limitent à cette étape, sans arriver à des structures plus développées et concernent des couches très minces non compatibles avec l'électronique de puissance. Il est également connu et décrit dans l'article paru dans 35 Macromolecular research 17 (2008), « Sintering and consolidation of silver 3038534 4 nanoparticles printed on polyimide substrate films », l'impression directe de pâte de nanoparticules d'argent (épaisseur inférieure à 2 pm) réalisée et frittée à différentes températures sur des substrats polyimide pour réaliser des circuits électroniques. Les essais de frittage de pâte d'argent sur du 5 polymère se limitent à ce niveau-là. Dans ce contexte, le Demandeur a cherché une solution intégrant un substrat permettant de pallier aux inconvénients précités et notamment ceux dus à la nécessité d'utiliser une graisse thermique lors de l'assemblage 10 d'un composant semi-conducteur de puissance, d'un substrat céramique type « DBC » et d'un drain thermique principal, permettant d'évacuer la chaleur générée en cours de fonctionnement. La solution de la présente invention concerne ainsi des assemblages utilisant des isolants organiques faciles de report sur des drains thermiques et adaptés aux applications 15 modules de puissance, grâce notamment à la présence de joint fritté et d'au moins un film de polymère bon conducteur thermique et isolant électrique. De manière plus générale, la présente invention peut adresser également la problématique des assemblages et ensembles comprenant des structures multi-couches métalliques épaisses que l'on veut joindre ensemble 20 et susceptibles de véhiculer du courant et de la chaleur tout en assurant une isolation électrique entre des pistes métalliques et pour lesquels la solution proposée dans la présente invention inclut la présence de joint(s) fritté(s) associé(s) à un ou plusieurs films de polymère bon conducteur thermique et isolant électrique. 25 Plus précisément la présente invention a pour objet un assemblage comprenant : - au moins un élément susceptible de transmettre de la chaleur ; - au moins un substrat isolant électrique ; caractérisé en ce que : 30 - le substrat isolant électrique comporte au moins un film de polymère bon conducteur thermique et isolant électrique ; - l'assemblage comportant au moins un joint fritté métallique en contact avec ledit film de polymère. On définit une bonne conductivité thermique de polymère comme 35 étant typiquement supérieure ou égale à environ 1 W.m -1 K-1. 3038534 5 Selon des variantes de l'invention, l'élément susceptible de transmettre de la chaleur est un composant semi-conducteur. Selon des variantes de l'invention, l'élément susceptible de transmettre de la chaleur est une puce en silicium. s Selon des variantes de l'invention, l'élément susceptible de transmettre de la chaleur est une structure épaisse métallique pouvant présenter une épaisseur typiquement supérieure à environ quelques dizaines de microns. Selon des variantes de l'invention, l'assemblage comporte un io élément intermédiaire à forte conductivité thermique, pouvant être métallique en contact avec ledit joint, permettant une répartition latérale du flux thermique pouvant être généré, dans un plan parallèle au plan dudit substrat. Selon des variantes de l'invention, ledit joint fritté est discontinu. Selon des variantes de l'invention, l'élément intermédiaire à forte 15 conductivité thermique est inséré entre un premier joint et un second joint, ledit second joint étant en contact avec ledit élément susceptible de dégager de la chaleur. Selon des variantes de l'invention, ledit élément intermédiaire comporte un ensemble de pistes métalliques. 20 Selon des variantes de l'invention, ledit élément intermédiaire est un élément appartenant à un cadre de connexion. Selon des variantes de l'invention, le premier et/ou le second joint sont des joints métalliques pouvant être en argent. Selon des variantes de l'invention, le polymère conducteur 25 thermique et isolant électrique est un polyimide ou un polyamide ou un polyamide-imide. Selon des variantes de l'invention, le polymère conducteur thermique et isolant électrique est chargé avec des particules pouvant être des particules diélectriques (en alumine ou nitrure de bore par exemple) ou 30 des particules métalliques. L'invention a aussi pour objet un ensemble comprenant l'assemblage selon l'invention et un drain thermique principal en contact direct ou en contact via un joint fritté, avec ledit substrat. 3038534 6 Selon des variantes de l'invention, l'ensemble comporte au moins un film de polymère conducteur thermique et isolant électrique à la surface dudit drain thermique principal ou à la surface dudit joint fritté. Selon des variantes de l'invention, l'élément susceptible de 5 transmettre de la chaleur dans l'ensemble est une structure épaisse métallique, le drain thermique principal étant une structure épaisse métallique, lesdites structures épaisses métalliques pouvant comprendre des épaisseurs typiquement supérieures à environ quelques dizaines de microns. Selon des variantes de l'invention, l'ensemble comprend un 10 empilement comportant : au moins une première structure épaisse métallique ; au moins un premier joint fritté ; au moins un film de polymère ; au moins un second joint fritté ; 15 - au moins une seconde structure épaisse métallique. Selon des variantes de l'invention, le drain thermique principal est une structure épaisse pouvant être en cuivre ou en aluminium ou en AISiC, l'épaisseur de ladite structure épaisse pouvant typiquement être supérieure à environ 500 pm, dans ledit ensemble. 20 L'invention a encore pour objet un procédé de fabrication d'un assemblage comportant : - un élément susceptible de transmettre de la chaleur ; - un substrat isolant électrique comportant au moins un film de polymère bon conducteur thermique et isolant électrique ; 25 ledit procédé comportant les étapes suivantes : - le dépôt d'une moins une première pâte ou d'un premier film sec de micro ou nanoparticules métalliques, destiné(e) à former un joint métallique à la surface dudit film de polymère bon conducteur thermique et isolant électrique ; 30 - le dépôt dudit élément susceptible de transmettre de la chaleur au dessus de ladite première pâte ou dudit premier film sec de micro ou nanoparticules métalliques ; - une opération de frittage de manière à former un premier joint fritté assurant la liaison entre ledit élément susceptible de 35 transmettre de la chaleur et ledit substrat. 3038534 7 Selon des variantes de l'invention, le dépôt de la première pâte est effectué par sérigraphie. Selon des variantes de l'invention, un film sec de micro ou nanoparticules peut être prédécoupé ou reporté sur l'élément à attacher par 5 « stamping », c'est-à-dire par tamponnage. Selon des variantes de l'invention, le procédé comprend : - l'introduction d'un élément intermédiaire à forte conductivité thermique à la surface de ladite première pâte ou dudit premier film , 10 - la réalisation d'un second joint entre ledit élément intermédiaire et ledit élément susceptible de dégager de la chaleur. Selon des variantes de l'invention, le procédé comprend : - le dépôt d'une seconde pâte ou d'un second film sec de micro ou nanoparticules métalliques à la surface dudit élément 15 intermédiaire, destiné(e) à former un second joint ; - le dépôt dudit élément susceptible de dégager de la chaleur à la surface de ladite seconde pâte ou dudit film sec ; - une ou plusieurs opération(s) de frittage de manière à former un premier joint fritté et un second joint fritté assurant la liaison 20 entre ledit élément susceptible de dégager de la chaleur et ledit substrat. Selon des variantes de l'invention, l'introduction d'un élément intermédiaire à forte conductivité thermique à la surface de ladite première pâte ou dudit premier film sec de micro ou nanoparticules métalliques 25 comprend l'attache de pistes métalliques audit film de polymère conducteur thermique et isolant électrique, au dessus de ladite première pâte ou dudit premier film sec de micro ou nanoparticules métalliques. Selon des variantes de l'invention, le procédé comprend le report d'un cadre de connexion comportant ledit élément intermédiaire à forte 30 conductivité thermique à la surface de ladite première pâte ou dudit premier film sec de micro ou nanoparticules métalliques permettant l'introduction dudit élément intermédiaire à forte conductivité thermique. Selon des variantes de l'invention, le procédé comprend une étape de séchage de ladite première pâte ou de ladite première pâte et de 35 ladite seconde pâte avant l'opération de frittage. 3038534 8 L'invention a encore pour objet un procédé de fabrication d'un ensemble comportant l'assemblage de l'invention et un drain thermique principal, ledit procédé comprenant le procédé de fabrication d'un assemblage selon l'invention. 5 L'invention a encore pour objet un procédé de fabrication d'un ensemble selon l'invention, ledit procédé comprenant la réalisation d'un joint fritté entre un film sec de polymère conducteur thermique et isolant électrique et un drain thermique principal et le procédé de fabrication d'un assemblage selon l'invention. 10 L'invention a enfin aussi pour objet un procédé de fabrication d'un ensemble selon l'invention, ledit procédé comprenant le dépôt d'une résine de polymère conducteur thermique et isolant électrique à la surface d'un drain thermique principal suivi d'une étape de séchage de ladite résine et le procédé de fabrication d'un assemblage selon l'invention. 15 L'invention sera mieux comprise et d'autres avantages apparaîtront à la lecture de la description qui va suivre donnée à titre non limitatif et grâce aux figures annexées parmi lesquelles : - la figure 1 schématise un module de puissance selon l'art 20 connu - la figure 2 illustre un ensemble comprenant un assemblage classique d'un composant semiconducteur sur un substrat isolant et un radiateur selon l'art connu ; - la figure 3 illustre un premier exemple d'un ensemble 25 comprenant un assemblage selon l'invention à la surface d'un drain thermique ; - la figure 4 illustre un second exemple d'un ensemble comprenant un assemblage selon l'invention à la surface d'un drain thermique ; 30 - les figures 5a à 5d illustrent les principales étapes d'un exemple de procédé de fabrication permettant d'obtenir un ensemble comprenant un assemblage selon l'invention à la surface d'un drain thermique ; 3038534 9 - la figure 6 illustre une photographie microscopique d'un ensemble comprenant un assemblage selon l'invention à la surface d'un drain thermique ; - les figures 7a et 7b illustrent deux exemples de troisième 5 variante d'un ensemble selon l'invention comprenant des structures épaisses métalliques, des joints frittés métalliques et des films de polymère. De manière générale, l'assemblage de la présente invention 10 comporte un élément susceptible de dégager de la chaleur, et pouvant notamment être une puce semi-conductrice utilisée pour des applications en électronique de puissance, un joint fritté et un substrat organique comportant au moins un film de polymère bon conducteur thermique et isolant électrique. Le film de polymère peut être obtenu à partir d'une résine. Il est 15 également possible d'utiliser un film polymérisé permettant la réalisation de connectique face inférieure de la même façon que celle sur la face supérieure (par des opérations de frittage comme il sera décrit plus en détails ci-après). L'assemblage de la présente invention peut être couplé à un drain 20 thermique principal de manière à constituer un ensemble selon l'invention et permettant d'évacuer au mieux la chaleur générée en cours de fonctionnement. Le drain thermique peut être un radiateur en cuivre comme décrit ci-après, mais peut également être constitué d'alliages ou de colaminés. 25 Les variantes de l'invention décrites ci-après concernent plus précisément des ensembles comprenant l'assemblage de l'invention réalisé à la surface d'un drain thermique principal. 30 Selon une première variante de l'invention, illustrée en figure 3, l'ensemble peut comporter : - un drain thermique principal R pouvant être une structure massive bonne conductrice de la chaleur ; - un film de polymère conducteur thermique et isolant 35 électrique lp ; 3038534 10 - un joint fritté J1; - un élément E susceptible de dégager de la chaleur, typiquement il peut s'agir d'un composant semi-conducteur tel qu'une puce silicium en contact avec le joint J1 et pouvant 5 présenter une conductivité thermique égale à 100 W. rrl. K-1. Typiquement, le polymère peut être un polyimide avantageusement chargé de particules d'épaisseur 20 pm et de conductivité thermique égale à 1 W. m-1. K-1. Le polyimide chargé peut être en effet utilisé comme isolant pour ses bonnes propriétés diélectriques, sa bonne stabilité 10 thermique et sa conductivité thermique cinq fois supérieure à celle d'un polyimide sans charges. Il est à noter que d'autres polymères peuvent remplacer le polyimide (par exemple le polyamide, polyamide-imide...). La technique de dépôt utilisée peut être la sérigraphie en raison de sa simplicité et le bon contrôle de l'épaisseur de l'isolant. Néanmoins, 15 d'autres techniques de dépôt de polymère comme le dépôt à la tournette, en phase vapeur, par jet d'encre, l'électrodéposition..., peuvent aussi être utilisées. L'adhésion du polyimide sur le support assurant une fonction de drain thermique peut être améliorée en utilisant des promoteurs d'adhésion ou en réalisant des traitements de surface spécifiques (par exemple par 20 plasma Argon) sur ledit drain thermique avant le dépôt de la résine polyimide. Typiquement, le joint J1 peut être en argent, d'épaisseur de 20 pm et de conductivité thermique égale à 200 W. rrl. K-1. On peut avantageusement réaliser un joint fritté à partir du dépôt 25 d'une pâte suivie d'une opération de frittage. Plus précisément, pour ce faire, une pâte de nanoparticules peut être employée, suivie d'une opération de séchage. Il est également possible d'utiliser un film sec de nanoparticules d'argent permettant de supprimer l'étape de séchage de la pâte. En comparaison avec une brasure classique ou à une colle 30 conductrice, le frittage de nanoparticules d'argent présente plusieurs avantages : - une meilleure conductivité thermique (plus que 4 fois supérieures à des brasures classiques) ; - une température de procédé inferieure à 300 °C et une 35 température de fonctionnement supérieure à 300 °C (dans le 3038534 11 cas de la brasure, la température du procédé est supérieure à la température de fonctionnement). De plus, le joint fritté poreux permet de mieux encaisser les contraintes mécaniques induites par la différence de coefficient de dilatation 5 thermique CTE entre le polymère et le métal lors des cycles thermiques. La nouvelle structure permet ainsi de franchir les limites thermiques des brasures et de la graisse thermique ainsi que les limites thermomécaniques des substrats céramiques et des joints brasés sur des grandes surfaces. 10 Dans cette première variante de l'invention, le nombre d'interfaces thermiques est fortement limité et est égal à 4. Le circuit électrique est assuré par la pâte de nanoparticule frittée et déposée par sérigraphie. Néanmoins, malgré la réduction de la résistance thermique en 1D, cette structure ne permet pas l'étalement du flux de chaleur et limite aussi les 15 courants dans les pistes frittées (vu la faible épaisseur du joint). Selon une seconde variante de l'invention l'ensemble peut comporter en outre un élément intermédiaire à forte conductivité thermique, pouvant être considéré comme un drain thermique secondaire et pouvant 20 être métallique en contact avec ledit premier joint fritté, permettant une répartition latérale du flux thermique pouvant être généré, dans un plan parallèle au plan dudit substrat. Cet élément intermédiaire peut typiquement être constitué par un ensemble de pistes métalliques reportées et collées à la surface dudit 25 premier joint. Il peut aussi être constitué par une partie d'un cadre de connexion, couramment désigné par le terme « lead frame». Une telle configuration est illustrée en figure 4 et comporte : - un drain thermique principal R ; 30 - un film de polymère conducteur thermique et isolant électrique lp , - un premier joint J1 ; - un élément intermédiaire M à forte conductivité thermique, ou drain thermique secondaire pouvant être métallique en contact 35 avec ledit premier joint fritté, permettant une répartition latérale 3038534 12 du flux thermique pouvant être généré, dans un plan parallèle au plan dudit substrat ; - un second joint J2 pouvant être identique au premier joint J1 ; - un élément E susceptible de dégager de la chaleur, 5 typiquement il peut s'agir d'un composant semi-conducteur (ayant une finition métallique de préférence Ag ou Au) tel qu'une puce silicium en contact avec le joint J2 et pouvant par exemple présenter une conductivité thermique égale à 100 W. m-1. K-1. 10 Les mêmes matériaux et techniques que ceux de la première variante peuvent être employés dans cette seconde variante. On peut également utiliser des promoteurs d'adhésion ou réaliser des traitements de surface spécifiques (par exemple par plasma Argon) sur le polymère avant le dépôt de la pâte ou du film destiné à réaliser le joint J1, 15 pour en améliorer l'adhésion. Le métal des pistes peut être le cuivre, choisi pour ces bonnes conductivités thermiques et électriques. D'autres métaux, alliages ou colaminés peuvent aussi être utilisés. Les pistes peuvent avoir des épaisseurs égales ou différentes et peuvent être attachées au polymère, via 20 le joint J1, soit individuellement, soit sous forme de « lead frame » et découpées après. Les dimensions des pistes métalliques doivent être adaptées au courant visé et doivent permettre un étalement du flux thermique. Le composant semi-conducteur peut être reporté et assemblé 25 grâce à la réalisation du second joint J2. Ce joint J2 peut être réalisé par frittage de nanoparticules, frittage de microparticules, brasage, diffusion sous phase liquide ou tout autre technique de report. Le frittage d'argent reste une technique préférentielle pour ses bonnes propriétés déjà évoquées. Selon cette variante, les interfaces thermiques de l'empilement 30 sont réduites à 6 (et non plus 4 comme dans la première variante) et tous les matériaux de l'assemblage sont compatibles avec des températures allant jusqu'à 300 °C. Plusieurs épaisseurs d'isolait et de métal peuvent être réalisées dans un même module. Il est à noter que des simulations thermiques montrent une 35 diminution de la résistance thermique de 55% (empilement de la figure 4) et 3038534 13 de 20 % (empilement de la figure 3) par rapport à la structure classique présentée dans la figure 2. Dans le cas de l'empilement de la figure 4, la résistance thermique reste meilleure que celle de la structure classique même si l'épaisseur du polyimide chargé peut passer à 40 pm. Cette s augmentation de l'épaisseur d'isolation peut être nécessaire pour les applications sous haute tension (> 2500V). Exemple de procédé de fabrication d'un ensemble selon la seconde variante de l'invention 10 Les étapes de fabrication d'un exemple d'ensemble de l'invention sont présentées sur les figures 5a à 5d. Etape 1, illustrée en figure 5a : Une couche de résine polyimide Ip correspondant au film de 15 polymère est déposée par sérigraphie sur le dissipateur thermique principal R, permettant de remplir tous les défauts de non-planéité et de rugosité du radiateur et avoir une surface plane. La résine pouvant être en polyimide peut avantageusement comprendre des particules pour améliorer sa conductivité thermique (1Wm- 20 1K1,. ) L'épaisseur du polyimide peut être contrôlée par le stencil de sérigraphie (50 pm par exemple) et est choisie en fonction de la tension à tenir. Il est à noter que différentes épaisseurs de polyimide peuvent être réalisées sur le même substrat. Le recuit de la résine se fait ensuite dans un 25 four à 280 °C pour une durée d'une heure. Une épaisseur de 20 pm après recuit est obtenue et permet de tenir 2500 V à 300 °C. La conductivité à 300 °C est de 1011 (ohm.cm)-1 et la permittivité est de 2.8 à 1 kHz. Cette couche de polyimide permet ainsi d'isoler les tensions des composants électroniques du radiateur. 30 Etape 2, illustrée en figure 5b : Une couche de 70 pm de pâte d'argent pj est ensuite déposée sur le polyimide Ip en reproduisant le design des pistes conductrices voulu (seul un élément de pâte est représenté). 3038534 14 Une étape de séchage permettant l'évaporation du solvant de la pâte est réalisée à 130 °C pour 30 minutes. s Etape 3, illustrée en figure 5 c : Les pistes métalliques M sont ensuite reportées individuellement ou sous forme de réseau de conducteurs couramment dénommé « lead frame » sur les joints J1 (il est à noter que dans le cas de la réalisation de la structure présentée en figure 3, l'élément E semi-conducteur est posé sur la io pâte destinée au joint, au lieu d'être posé sur des pistes métalliques). Les conducteurs ou les pistes conductrices peuvent avoir la même épaisseur ou des épaisseurs différentes et être par exemple en cuivre. Une finition Ni/Au est préférable sur le cuivre pour améliorer l'adhésion mécanique du joint fritté avec le métal. 15 Un cycle de frittage est ensuite réalisé pour attacher les pistes sur le polyimide (dans le cas de la réalisation de la structure présentée dans la figure 3, le cycle de frittage permet d'attacher le semiconducteur). L'épaisseur du joint fritté J1 ainsi obtenu est de 20 pm environ. L'effet des paramètres de frittage sur l'adhésion des pistes sur le polyimide a 20 été étudié. Pour des pressions de frittage inférieures ou égales à 6MPa l'interface entre le joint d'argent fritté et le polyimide constitue le point faible, avec des rigidités de cisaillement de l'ordre de 100 N pour une surface de 25 mm2 et une température de frittage de 280 °C. Cette valeur peut être améliorée à 160 N en augmentant la température de frittage (320 °C). Pour 25 des pressions supérieures à 9MPa l'interface entre le polyimide et le drain thermique devient le point le plus faible avec des forces de cisaillement de l'ordre de 210 N (pour une surface de 25 mm2). Etape 4, illustrée en figure 5d : 30 L'élément E semi-conducteur peut ensuite être reporté sur les pistes M conductrices pouvant être en cuivre par l'intermédiaire d'un second joint J2 obtenu par brasage ou frittage notamment d'argent ou autre technologie de report de puce. 3038534 15 La figure 6 illustre une photographie microscopique d'un ensemble selon la première variante de l'invention décrite précédemment et comprenant l'ensemble : Cuivre (drain thermique principal R) /polyimide (film Ip) /frittage Ag (Joint )/ semi-conducteur (élément E). Le polyimide P et le premier joint J1, présentent des épaisseurs d'environ 20 pm. Selon une troisième variante de l'invention, l'ensemble peut comprendre comme drain thermique principal, une structure épaisse 10 métallique et comme élément susceptible de transmettre de la chaleur également une structure épaisse métallique. Les structures épaisses sont reliées audit film de polymère par l'intermédiaire de joints frittés métalliques. Il est à noter que dans le cas de l'utilisation de résine de polymère celle-ci peut être directement déposée à la 15 surface d'une structure épaisse métallique, alors que dans le cas de l'utilisation d'un film sec de polymère la liaison est assurée par l'intermédiaire d'un joint fritté métallique. Les figures 7a et 7b illustrent respectivement un exemple d'ensemble utilisant des films à base de résine et un exemple d'ensemble utilisant des films secs. 20 Dans cette variante, les éléments dissipateurs thermiques et élément susceptibles de transmettre la chaleur sont des structures épaisses métalliques ER1, ER2, ER3 (seules trois structures sont représentées, mais un plus grand nombre pourrait être employé). Selon l'exemple représenté en figure 7a, les films de polymère Ipi, 25 Ip2 sont des films secs reportés nécessitant l'utilisation de joints frittés JR1, JR2. Les films de polymère sont solidarisés eux-mêmes aux structures épaisses supérieures via des joints frittés métalliques J1,J2. Selon l'exemple représenté en figure 7b, les films de polymère Ipi, Ip2 peuvent être obtenus à partir de résine de polymère ne nécessitant pas 30 l'utilisation de joints frittés (absence de joints frittés équivalents aux joints JR1, JR2). Les films de polymère sont solidarisés eux-mêmes aux structures épaisses supérieures via des joints frittés métalliques J1,J2. REVENDICATIONS1. Assemblage comprenant : - au moins un élément susceptible de transmettre de la chaleur (E) ; - au moins un substrat isolant électrique ; caractérisé en ce que : - le substrat isolant électrique comporte au moins un film (I p) de polymère bon conducteur thermique et isolant électrique ; to - l'assemblage comportant au moins un joint fritté métallique (J1) en contact avec ledit film de polymère. 2. Assemblage selon la revendication 1, caractérisé en ce que l'élément susceptible de transmettre de la chaleur est un composant semi15 conducteur. 3. Assemblage selon la revendication 2, caractérisé en ce que l'élément susceptible de transmettre de la chaleur est une puce en silicium. 20 4. Assemblage selon la revendication 1, caractérisé en ce que l'élément susceptible de transmettre de la chaleur (E) est une structure épaisse métallique pouvant présenter une épaisseur typiquement supérieure à environ quelques dizaines de microns. 25 5. Assemblage selon l'une des revendications 1 à 4, caractérisé en ce qu'il comporte un élément intermédiaire à forte conductivité thermique (M), pouvant être métallique en contact avec ledit joint, permettant une répartition latérale du flux thermique pouvant être généré, dans un plan parallèle au plan dudit substrat. 30 6. Assemblage selon l'une des revendications 1 à 5, caractérisé en ce que ledit joint fritté est discontinu. 7. Assemblage selon l'une des revendications 1 à 6, caractérisé 35 en ce que l'élément intermédiaire à forte conductivité thermique est inséré 3038534 17 entre un premier joint (J1) et un second joint (J2), ledit second joint étant en contact avec ledit élément susceptible de dégager de la chaleur. 8. Assemblage selon la revendication 7, caractérisé en ce que 5 ledit élément intermédiaire comporte un ensemble de pistes métalliques. 9. Assemblage selon la revendication 7, caractérisé en ce que ledit élément intermédiaire est un élément appartenant à un cadre de connexion. 10. Assemblage selon l'une des revendications 1 à 9, caractérisé en ce que le premier et/ou le second joint sont des joints métalliques pouvant être en argent. 11. Assemblage selon l'une des revendications 1 à 10, caractérisé en ce que le polymère conducteur thermique et isolant électrique est un polyimide ou un polyamide ou un polyamide-imide. 12. Assemblage selon l'une des revendications 1 à 11, caractérisé 20 en ce que le polymère conducteur thermique et isolant électrique est chargé avec des particules pouvant être des particules diélectriques (en alumine ou nitrure de bore) ou des particules métalliques. 13. Ensemble comprenant l'assemblage selon l'une des 25 revendications 1 à 12 et un drain thermique principal en contact direct ou en contact via un joint fritté, avec ledit substrat. 14. Ensemble selon la revendication 13, caractérisé en ce qu'il comporte au moins un film de polymère conducteur thermique et isolant 30 électrique à la surface dudit drain thermique principal ou à la surface dudit joint fritté. 15. Ensemble selon la revendication 13, caractérisé en ce que l'élément susceptible de transmettre de la chaleur est une structure épaisse 35 métallique, le drain thermique étant une structure épaisse métallique, 3038534 18 lesdites structures métalliques pouvant comprendre des épaisseurs typiquement supérieures à environ quelques dizaines de microns. 16. Ensemble selon la revendication 15, caractérisé en ce qu'il s comprend un empilement comportant : - au moins une première structure épaisse métallique ; - au moins un premier joint fritté ; - au moins un film de polymère ; - au moins un second joint fritté ; 10 - au moins une seconde structure épaisse métallique. 17. Ensemble selon l'une des revendications 13 ou 16, caractérisé en ce que le drain thermique principal est une structure épaisse pouvant être en cuivre ou en aluminium ou en AISiC, l'épaisseur de ladite structure 15 épaisse pouvant typiquement être supérieure à environ 500 ilm. 18. Procédé de fabrication d'un assemblage comportant : - un élément susceptible de transmettre de la chaleur ; - un substrat isolant électrique comportant au moins un film de polymère bon conducteur thermique et isolant électrique ; ledit procédé comportant les étapes suivantes : - le dépôt d'une moins une première pâte ou d'un premier film sec de micro ou nanoparticules métalliques, destiné(e) à former un joint métallique à la surface dudit film de polymère bon conducteur thermique et isolant électrique ; - le dépôt dudit élément susceptible de transmettre de la chaleur au dessus de ladite première pâte ou dudit premier film sec de micro ou nanoparticules métalliques ; - une opération de frittage de manière à former un premier joint fritté assurant la liaison entre ledit élément susceptible de transmettre de la chaleur et ledit substrat. 3038534 19 19. Procédé de fabrication d'un assemblage selon la revendication 18, caractérisé en ce que le dépôt de la première pâte est effectué par sérigraphie. 5 20. Procédé de fabrication d'un assemblage selon l'une des revendications 18 ou 19, caractérisé en ce qu'il comprend : - l'introduction d'un élément intermédiaire à forte conductivité thermique à la surface de ladite première pâte ou dudit premier film , 10 - la réalisation d'un second joint entre ledit élément intermédiaire et ledit élément susceptible de dégager de la chaleur. 21. Procédé de fabrication d'un assemblage selon la revendication 20, caractérisé en ce qu'il comprend : 15 - le dépôt d'une seconde pâte ou d'un second film sec de micro ou nanoparticules métalliques à la surface dudit élément intermédiaire, destiné(e) à former un second joint ; - le dépôt dudit élément susceptible de dégager de la chaleur à la surface de ladite seconde pâte ou dudit film sec ; 20 - une ou plusieurs opération(s) de frittage de manière à former un premier joint fritté et un second joint fritté assurant la liaison entre ledit élément susceptible de dégager de la chaleur et ledit substrat. 25 22. Procédé de fabrication d'un assemblage selon l'une des revendications 19 ou 20, caractérisé en ce que l'introduction d'un élément intermédiaire à forte conductivité thermique à la surface de ladite première pâte ou dudit premier film sec de micro ou nanoparticules métalliques comprend l'attache de pistes métalliques audit film de polymère conducteur 30 thermique et isolant électrique, au dessus de ladite première pâte ou dudit premier film sec de micro ou nanoparticules métalliques. 23. Procédé de fabrication d'un assemblage selon l'une des revendication 19 ou 20, caractérisé en ce qu'il comprend le report d'un cadre 35 de connexion comportant ledit élément intermédiaire à forte conductivité 3038534 20 thermique à la surface de ladite première pâte ou dudit premier film sec de micro ou nanoparticules métalliques permettant l'introduction dudit élément intermédiaire à forte conductivité thermique. 5 24. Procédé de fabrication d'un assemblage selon l'une des revendications 18 à 22, caractérisé en ce qu'il comprend une étape de séchage de ladite première pâte ou de ladite première pâte et de ladite seconde pâte avant l'opération de frittage. 10 25. Procédé de fabrication d'un ensemble selon l'une des revendications 13 à 17, ledit procédé comprenant la réalisation d'un joint fritté entre un film sec de polymère conducteur thermique et isolant électrique et un drain thermique principal et le procédé de fabrication d'un assemblage selon l'une des revendications 18 à 23. 15 26. Procédé de fabrication d'un ensemble selon l'une des revendications 13 à 17, ledit procédé comprenant le dépôt d'une résine de polymère conducteur thermique et isolant électrique à la surface d'un drain thermique principal suivi d'une étape de séchage de ladite résine et le 20 procédé de fabrication d'un assemblage selon l'une des revendications 18 à 23.