Brevet FR3039765A1 — publié le 20170210

La présente invention concerne un procédé de traitement des matières kératiniques, mettant en oeuvre une composition comprenant un polymère de chitosane greffé d'un groupement comprenant une fonction thiol. Dans le domaine cosmétique, le chitosane est un polymère filmogène couramment utilisé notamment dans les produits capillaires de mise en forme des cheveux. Le chitosane est également décrit dans le document CA-A-2232422 comme actif antipelliculaire. Le chitosane est aussi utilisé dans les produits déodorants pour diminuer ou empêcher le formation des mauvaises odeurs corporelles, et plus particulièrement les odeurs axillaires comme notamment décrit dans US-A-20030133891. Il existe donc encore un réel besoin de développer des composés actifs qui présentent une activité cosmétique satisfaisante et qui sont faciles à formuler dans des compositions destinées à diminuer la transpiration et/ou les odeurs, en particulier chez l'être humain, et plus particulièrement pour lutter contre les odeurs corporelles, et plus spécifiquement les odeurs axillaires. Le but de la présente invention est de disposer d'un produit cosmétique comprenant un polymère à base de chitosane aux propriétés cosmétiques améliorées. Notamment, l'invention a pour but d'optimiser les propriétés cosmétique du chitosane, en particulier les propriétés déodorantes, antipelliculaires, de douceur et des dém"lage des cheveux. Comme le montrent les exemples comparatifs illustrant la présente invention, les inventeurs ont découvert que l'application topique sur les matières kératiniques d'un polymère de chitosane ayant des groupes à fonction thiols, forme un film. Ce film a des propriétés déodorante, antipelliculaire, confère au cheveux de la douceur et facilite leur peignage. Ces propriétés cosmétiques sont plus performantes que celles obtenus avec un chitosane non modifié. Le film obtenu présente une bonne résistance à l'eau. De façon plus précise, la présente invention a pour objet un procédé cosmétique de traitement des matières kératiniques comprenant l'application topique sur les matières kératiniques d'une composition, notamment cosmétique, comprenant, dans un milieu physiologiquement acceptable, un polymère de chitosane dont les groupes amino sont greffés de groupements à fonction thiol de formule (I) tel que défini ci-après. Le polymère de chitosane greffé mis en oeuvre dans le procédé selon l'invention est un polymère de formule (I) : H-FO HO 01H NH (I) R'/ 3039765 2 dans laquelle R' représente indépendamment H ou un groupement acétyle (CH3C(0)-) ou un groupement -CO-L-SH , le polymère renfermant au moins un groupement R' = - CO-L-SH , 5 L étant un groupe divalent hydrocarboné comprenant de 1 à 20 atomes de carbone, de préférence de 2 à 10 atomes de carbone, linéaire, ramifiée ou cyclique, saturé ou insaturé, et pouvant être interrompu par un ou plusieurs hétéroatomes non adjacents choisis parmi l'oxygène, le soufre ou groupements -NH-, -CO-, -CONH-, -000-, -0- CO-N(Ra)-, en particulier -0-CO-NH-, -N(Rb)-CO-N(Rc)-, en particulier -NH-CO-NH-, ledit 10 groupe divalent pouvant éventuellement être substitué pour un ou plusieurs groupes choisi parmi les groupes hydroxyle, amine -N(Ra)(Rb)(Rc), thiol, acide carboxylique, esters -CO2Ra, amide -N(Ra)C0-(Rb)' cyano, acyl(C1-C4)amino, uréido -N(Ra)-CO- N(Ra)(Rb) avec Ra, Rb, Rc désignant indépendamment un atome d'hydrogène ou un radical alkyle 15 C1-06 linéaire ou ramifié , de préférence linéaire ; n varie de 5 à 2000. Ainsi, le chitosane greffé (I) peut également se représenter selon la formule (la) : OH 20 dans laquelle le chitosane greffé comprend a motifs portant un groupe amino libre, b motifs portant un groupe amino N-acétylé et c motifs portant un groupe amino greffé d'un groupe-CO-L-SH ; b va de 0 à 0,5, de préférence de 0,05 à 0,30, et mieux de 0,1 à 0,30 ; c va de 0,001 à 0,5 , de préférence de 0,01 à 0,3, et mieux de 0,01 à 0,2 ; eta+b+c= 1 L et n ayant les significations décrites précédemment. Par exemple, lorsque a = 0,5 , b = 0,3 et c = 0,2, cela signifie que 50 % des groupes amino sont libres (non substitués), 30 % des groupes amino sont acétyles et 20 % des groupes amino sont greffés par le groupement -CO-L-SH, correspondant au polymère de chitosane de formule : [ H HO OH O O NH CH,C0 HO NH2 O-H (la) 25 30 35 3039765 De préférence, le chitosane greffé a un taux de greffage (taux molaire) en groupements (-C0-L-SH) allant de 0,1 à 50 (:)/0, préférentiellement allant de 1 à 30 (:)/0, et plus 5 préférentiellement allant de 1 à 20 %. De préférence, L est un radical divalent hydrocarboné en Cl-020, de préférence en Cl-010, linéaire, ramifié ou cyclique, saturé ou insaturé (dont aromatique), pouvant être interrompu par un ou plusieurs hétéroatomes non adjacents choisi parmi l'oxygène 10 ou par un ou plusieurs groupements non adjacents choisis parmi -NH- , -CO- , - 0- CO- , -N H-00- . Avantageusement, le chitosane greffé (I) a un degré d'acétylation ( -00-0H3) allant de 0 à 50 % (notamment de 0,1 à 50 %), de préférence allant de 5 à 30 %, et plus 15 préférentiellement allant de 10 à 30 %. Avantageusement, n varie de 5 à 1700, de préférence de 5 à 280, plus préférentiellement de 15 à 165. 20 De préférence, L désigne un radical divalent choisi parmi : *N *-CHTECH2-** *NH ** H2 M = 1 -4 COCH3 * représentant la liaison avec le le groupement thiol - ** représentant la liaison avec le groupement C(0)NH du chitosane; 25 Préférentiellement, L désigne le radical divalent ** *N H2 Les composés (I) peuvent être obtenus selon un premier mode de préparation (Schéma 1) par la réaction d'un chitosane avec une thiolactone (A) : le groupe amine primaire du 30 chitosane en réagissant avec le fonction thiolactone forme une composé amide (I). Cette réaction est notamment connue avec l'homocystéine thiolactone dans la publication « Synthesis and characterization of chitosan-homocysteine thiolactone as a H NH CH,C0 OH 3 3039765 4 mucoadhesive polymer », K. Juntapram et al, Carbohydrate Polymers ; 87 (2012) 23992408. 5 (A) OH 0 OH ,NH CH,C0 O O b HO O NH HS Schéma 1 La réaction peut se faire dans un solvant aprotique ou protique. De préférence la 10 réaction est faite dans l'eau à un pH compris entre 4 et 9 et préférablement entre 5 et 7. La réaction peut être effectuée à une température comprise entre 5 et 80°C. De préférence la réaction est faite à température ambiante (25 °C). Les composés (I) peuvent être également préparés selon un deuxième mode de 15 préparation (schéma 2) par la réaction d'un chitosane avec un acide carboxylique thiolé (B) pour former le composé amide (I) . Une telle réaction entre une amine et un acide carboxylique est connue par l'homme de l'art et décrite dans des publications telles que « Catalytic amide formation from non-activated carboxylic acids and amines » Chem. Soc. Rev., 2014,43, 2714-2742; "Evolution of amide bond formation" ARKIVOC 2010 20 (viii) 189-250 ; " Amide bond formation: beyond the myth of coupling reagents" Chem. Soc. Rev., 2009,38, 606-631. Selon une première alternative de ce mode de préparation, on peut utiliser à la place du composé B un acide carboxylique activé thiolé B'. La réaction est une réaction entre une 25 amine primaire (celle du chitosane) et un acide carboxylique activé (B') pour former une amide. Cette réaction est connue par l'homme de l'art et décrite dans de nombreuses revues telles que March's Advanced Organic Chemistry : Reactions, Mechanisms, and Structure, 7th Edition (ISBN : 978-0-470-46259-1). 30 Selon une deuxième alternative de ce mode de préparation, on peut utiliser à la place du composé B un acide carboxylique (activé ou non activé) comprenant un groupe thiol protégé (B"). dans un premier temps, le groupe amine du chitosane réagit avec l'acide carboxylique pour former un amide . puis dans un deuxième temps le groupe thiol 3039765 5 protégé est libéré par une réaction de déprotection. Cette réaction de déprotection est décrite dans de nombreux articles tels que March's Advanced Organic Chemistry : Reactions, Mechanisms, and Structure, 7th Edition (ISBN : 978-0-470-46259-1), Protecting groups, J. Chem. Soc., Perkin Trans. 1, 1999, 1589-1615 et Protecting 5 groups, J. Chem. Soc., Perkin Trans. 1, 1998, 4005. 10 Schéma 2 La réaction entre le chitosane et le composé (B) ou (B') ou (B") peut être fait directement dans un solvant aprotique ou protique. De préférence la réaction est faite dans l'eau à un pH entre 4 et 9 et préférablement entre 5 et 7. La réaction est faite à 15 température entre 5 et 80°C. De préférence la réaction est faite à température ambiante (25 °C). L'invention a aussi pour objet une composition comprenant dans un milieu physiologiquement acceptable un chitosane greffé (I) ou (la) tel que défini 20 précédemment et un additif cosmétique choisi parmi les émulsionnants, les conservateurs, les parfums, les épaississants, les huiles, les cires, les polymères filmogènes, les matières colorantes. La composition utilisée selon l'invention est généralement adaptée à une application 25 topique sur les matières kératiniques, en particulier sur la peau, les cheveux et comprend donc généralement un milieu physiologiquement acceptable, c'est-à-dire un milieu compatible avec la peau et/ou ses phanères. Il s'agit de préférence d'un milieu cosmétiquement acceptable, c'est-à-dire qui présente une couleur, une odeur et un toucher agréables et qui ne génère pas d'inconforts inacceptables (picotements, HO O composé B L -SH O HO O ,NH b HO O CH,C0 NH ,L HS 3039765 6 tiraillements, rougeurs), susceptibles de détourner la consommatrice d'utiliser cette composition. Le chitosane greffé (I) ou (la) peut être présent dans la composition utilisée selon l'invention en une teneur allant de 0,1 à 10 % en poids, par rapport au poids total de la 5 composition, de préférence allant de 0,5 % à 10 % en poids, et préférentiellement allant de 1 à 8 % en poids, et plus préférentiellement allant de 1 % à 6 % en poids. La composition selon l'invention peut se présenter sous toutes les formes galéniques classiquement utilisées pour une application topique et notamment sous forme de 10 dispersions du type lotion ou gel aqueux, d'émulsions de consistance liquide ou semi- liquide du type lait, obtenues par dispersion d'une phase grasse dans une phase aqueuse (H/E) ou inversement (E/H), ou de suspensions ou émulsions de consistance molle, semi-solide ou solide du type crème ou gel, ou encore d'émulsions multiples (E/H/E ou H/E/H), de microémulsions, de dispersions vésiculaires de type ionique et/ou 15 non ionique, ou de dispersions cire/phase aqueuse. Ces compositions sont préparées selon les méthodes usuelles. Selon un mode préféré de réalisation de l'invention, la composition se présente sous forme d'une émulsion H/E ou d'un gel aqueux. 20 Avantageusement, la composition utilisée selon l'invention comprend de l'eau, notamment en une teneur pouvant aller de 10 à 99 % en poids, par rapport au poids total de la composition, et de préférence allant de 50 à 99 % en poids. 25 Selon un premier mode de réalisation du procédé de traitement des matières kératiniques, le procédé comprend les étapes suivantes : l'application topique sur les matières kératiniques d'une composition, notamment cosmétique, comprenant le chitosane greffé (I) , éventuellement en laissant poser pendant un temps compris entre 5 secondes et 10 minutes ; 30 suivie éventuellement d'une étape de rinçage des matières kératiniques, par exemple avec de l'eau. Selon un deuxième mode de réalisation du procédé de traitement des matières kératiniques, le procédé comprenant : 35 l'application topique sur les matières kératiniques d'au moins un agent réducteur (II), de préférence un agent réducteur (II), ou d'une composition, notamment cosmétique, le contenant (composition A) , en laissant poser pendant une durée allant de 1 minute à une heure ; l'application sur les matières kératiniques traitées d'une composition, notamment 40 cosmétique, comprenant au moins un polymère chitosane greffé (I) (composition B), l'agent réducteur (II) étant distinct du chitosane greffé (I) 3039765 7 Selon un troisième mode de réalisation du procédé de traitement des matières kératiniques, le procédé comprenant : l'application topique sur les matières kératiniques d'une composition, notamment 5 cosmétique, comprenant au moins un polymère chitosane greffé (I) et au moins un agent réducteur (II), de préférence un agent réducteur (II), l'agent réducteur (II) étant distinct du chitosane greffé (I) en laissant poser pendant une durée allant de 1 minute à une heure. 10 L'invention a aussi pour objet un kit comprenant une première composition (composition B), notamment cosmétique, comprenant au moins un chitosane greffé (I) tel que défini précédemment et une deuxième composition (composition A), notamment cosmétique, comprenant au moins un agent réducteur tel que défini précédemment, les première et deuxième compositions étant conditionnées chacune dans un ensemble de 15 conditionnement distinct. L'ensemble de conditionnement des compositions est de façon connue tout packaging adapté pour stocker les compositions cosmétiques (flacons, tube, flacon spray, flacon aérosol notamment). Un tel kit permet de mettre en oeuvre le procédé de traitement des matières kératiniques 20 selon l'invention. L'agent réducteur peut être sélectionné parmi les agents réducteurs thiolés et les agents réducteurs non thiolés. 25 Un agent réducteur thiolé désigne un composé comprenant un ou plusieurs groupes thiols (SH). Ce thiol peut être un monothiol ou un polythiol tels que décrits ci-après. Par composé polythiol, on entend un tout composé porteur de deux ou plus de deux groupements thiol SH. Il peut s'agir d'une molécule organique non polymérique porteuse 30 deux ou plus de deux groupements thiol, ou d'un polymère porteur deux ou plus de deux groupements thiol. Le composé thiol utilisé selon l'invention ne doit pas renfermer de fonctions vinyliques (C=C) (non aromatique) ou acétyléniques (CEC). Le composé polythiol peut être 35 aromatique, ou hétéroaromatique, ou renfermer un radical aromatique. Le composé thiol utilisé selon l'invention peut en outre contenir un ou plusieurs hétéroatomes choisis parmi O, N, S et/ou une ou plusieurs fonctions choisies parmi les fonctions esters , cétones , amides, urées, isocyanurate, 40 3039765 8 De préférence, le composé polythiol selon l'invention peut en outre contenir un ou plusieurs hétéroatomes choisis parmi O, N, S et/ou une ou plusieurs fonctions choisies parmi les fonctions esters, cétones, 5 Le composé thiol selon l'invention désigne un composé organique non polymérique et peut être représenté par la formule (lia) W(SH)n 10 dans laquelle n désigne un entier supérieur ou égal à 1, de préférence compris entre 1 et 10, de préférence entre 1 et 4 (bornes incluses). et W désigne un radical monovalent (n =1) ou multivalent (au moins divalent) (n > 1) C2-C80 linéaire ou ramifié ou (hétéro)cyclique, saturé, un radical aromatique, un radical cyclique hétéroaromatique, W pouvant en outre contenir un ou plusieurs hétéroatomes 15 tels que O, N, S, Si et/ou une ou plusieurs fonctions choisies parmi les fonctions acides carboxyliques, esters, cétones, amides, urées, isocyanurate de préférence esters, cétones, acides carboxyliques) et/ou être substitué par un ou plusieurs groupements alkyles C1-010 linéaires ou ramifiés, hydroxyle, amino, (alkyl C1-06) amino, acide carboxylique, carboxylate, alcoxy C1-010 linéaires ou ramifié, étant entendu que lorsque 20 le radical W est substitué, les fonctions thiols peuvent être portées par le/les substituant(s) : et leurs sels tels que ceux formés à partir d'acide ou de base. Comme sels du composé de formule (lia) (lorsqu'il comprend un atome d'azote 25 quaternisable), on peut citer : a) les sels obtenus par addition du composé (lia) avec un acide minéral , notamment choisi parmi les acides chlorhydrique, borique, bromhydrique, iodhydrique, sulfurique, nitrique, carbonique, phosphorique, triflique, tétrafluoroborique ; 30 b) ou les sels obtenus par addition du composé (lia) avec un acide organique , notamment choisi parmi les acides acétique, propionique, succinique, fumarique, lactique, glycolique, citrique, gluconique, salicylique, tartrique, téréphtalique, méthylsulfonique, éthylsulfonique, benzène sulfonique, toluène sulfonique, méthoxysulfinique, éthoxysulfinique, toluèneoxysulfinique, phénoxysulfinique. 35 On peut également citer les sels obtenus par addition du composé de formule (lia) (lorsqu'il comprend un groupe acide) avec une base minérale, telle que la soude, la potasse, l'hydroxyde de calcium, l'hydroxyde d'ammonium, l'hydroxyde de magnésium, l'hydroxyde de lithium, et les carbonates ou hydrogénocarbonates de sodium, de 40 potassium ou de calcium ; 3039765 9 ou avec une base organique telle qu'une alkylamine primaire, secondaire ou tertiaire, par exemple la triéthylamine ou la butylamine. Cette alkylamine primaire, secondaire ou tertiaire peut comporter un ou plusieurs atomes d'azote et/ou d'oxygène et peut donc comporter par exemple une ou plusieurs fonctions alcool; on peut notamment citer 5 l'amino-2-méthy1-2-propanol, l'éthanolamine, la triéthanolamine, la diméthylamino-2- propanol, le 2-amino-2-(hydroxyméthyl)-1,3-propanediol. On peut encore citer la lysine ou la 3-(diméthylamino)propylamine. Avantageusement, les sels des composés de formule (lia) (lorsqu'il comprend un groupe 10 acide) peuvent être choisis parmi les sels alcalins ou alcalinoterreux tels que sodium, potassium, calcium, magnésium ; les sels d'ammonium. Avantageusement, les sels des composés de formule (lia) (lorsqu'il comprend un atome d'azote quaternisable) peuvent être choisis parmi les halogénures tels que chlorure, 15 bromure ; les citrate, acétate, succinate, phosphate, lactate, tatrate. Par radical cyclique on entend un radical monocyclique saturé, hydrocarboné ou hétérocyclique, un radical polycyclique saturé ou aromatique par exemple biphényl ou des cycles condensés comme par exemple le radical naphtyl . 20 La masse molaire des composés de formule (lia) est généralement comprise entre 70 et 1500 g/mole et de préférence entre 70 et 500 g/mole. Selon un premier mode de réalisation, le composé thiol de formule (lia) est un 25 monothiol : n = 1 et W est un radical monovalent . De préférence, selon ce premier mode de réalisation, W désigne un radical monovalent, C2-C20 linéaire ou ramifié saturé, ou aromatique, W pouvant en outre contenir un ou plusieurs hétéroatomes tels que O, N, S, Si, et/ou une ou plusieurs fonctions choisies 30 parmi les fonctions acides carboxyliques, esters, amides, et/ou être substitué par un ou plusieurs groupements alkyles C1-C4 linéaires ou ramifiés, hydroxyle, amino, (alkyl Cl-C6) amino, acide carboxylique, carboxylate, alcoxy C1-C4 linéaires ou ramifié, étant entendu que lorsque le radical W est substitué, les fonctions thiols peuvent être portées par le/les substituant(s). 35 Selon ce mode de réalisation, le composé monothiol peut être choisi par exemple parmi l'acide thioglycolique, l'acide thiolactique, l'acide thiomalique, l'acide 2- mercaptoproprionique, l'acide 3-mercaptoproprionique, l'acide thiosalicylique, l'acide thioproprionique, le glutathion, la cystéine, la N-acétyl cystéine, l'homocystéine, l'acide 40 mercaptosuccinique , et leurs esters d'alcool en C1-C4 ; la cystéamine, la N-acétyl cystéamine ; le thioglycérol, le 2- mercaptoéthanol , le 1-mercapto-2-propanol, le 3- mercapto-1-propanol, le 2-(triméthylsily1)éthanethiol, le (3-mercaptopropyl)triéthoxysilane. 3039765 10 les composés de formule HS-(CH2)n-NH-(CH2)m-NH2 , n et m étant des entiers allant de 1 à 4 , l'ortho-aminothiophénol, le méta-aminothiophénol, le para-aminothiophénol. De préférence, selon ce mode de réalisation le thiol (lia) est choisi parmi la cystéine, la 5 cystéamine, l'acide thioglycolique, le (3-mercaptopropyl)triéthoxysilane. Selon un deuxième mode de réalisation, le composé thiol de formule (lia) est tel que n=2 (dithiol) et W désigne un radical divalent saturé hydrocarboné C2-C20 linéaire ou ramifié, de préférence C2-C12. 10 Selon ce mode de réalisation, le composé à polythiol de l'invention désigne par exemple le 1,2-ethanedithiol, le 1,2-propanedithiol, le 1,3-propanedithiol, le 1,4- butanedithiol, le 1,6-hexanedithiol, le 1,7-heptanedithiol, le 1,8-octanedithiol, le 1,9-nonanedithiol, le 1,10-decanedithiol, le 1,12-dodecanedithiol, le 2,2- dimethy1-1,3-propanedithiol, le 3-methy1-1,5-pentanedithiol, le 2-methy1-1,8- 15 octanedithiol, Selon un troisième mode de réalisation, le composé à motif thiol de formule (lia) est tel que n = 3 et W désigne un radical trivalent hydrocarboné saturé C3-C20 linéaire ou ramifié, de préférence C2-C12 linéaire ou ramifié. 20 Selon ce mode de réalisation, le composé à motif thiol peut être choisi par exemple parmi le 1,1,1-tris(mercaptomethyl)ethane, le 2-ethy1-2-mercaptomethy1-1,3- propanedithiol, le 1,2,3-propanetrithiol. Selon un quatrième mode de réalisation, le composé à motif thiol de formule (lia) est tel 25 que n = 2 ou 3 et W désigne un radical divalent ou trivalent saturé hydrocarboné C3-C20 linéaire ou ramifié, de préférence C2-C12 linéaire ou ramifié, ledit radical renfermant un ou plusieurs hétéroatome(s) non adjacents choisis parmi O, S. Selon ce mode de réalisation, le composé à motif thiol peut être choisi par exemple parmi 30 les éthers et sulfures de bis mercaptoalkyle en C2-C12 tels que le bis(2- mercaptoethyl)ether, le bis(2-mercaptoethyl)sulfure , bis-(2-mercaptoethylthio-3- mercaptopropane)sulfide o les alcanes (C1-05) bis (2-mercapto alkyl (C1-C3)thio) ou mercaptoalcanes (C1-05) bis (2-mercapto alkyl (C1-C3)thio) comme par exemple le bis(2- 35 mercaptoethylthio)methane, le 1,2-bis(2-mercaptoethylthio)ethane, le 1,3- bis(2-mercaptoethylthio)propane, le 1,2-bis(2-mercaptoethylthio)propanethiol, le 1,2-bis(2-mercaptoethyl)thio-3-mercaptopropane, le 1,2,3-tris(2-mercapto ethylthio) propane 40 De préférence, selon ce mode de réalisation, le composé (lia) est choisi parmi le 1,2- bis(2-mercaptoethylthio)propanethiol, le 1,2,3-tris(2-mercapto ethylthio) propane , le tetrakis(2-mercaptoethylthiométhyl) méthane. 3039765 11 Selon un cinquième mode de réalisation, le composé à motif thiol de formule (Ila) est tel que n désigne un entier supérieur ou égal à 2 et W désigne un radical multivalent (au moins divalent) hydrocarboné saturé C3-C20 linéaire ou ramifié, de préférence C2-C12 5 linéaire ou ramifié, ledit radical renfermant au moins une fonction ester. Selon ce mode de réalisation, le composé à motif thiol peut être choisi par exemple parmi les esters de polyols (glycols, triols, tetraols, pentaols, hexaols) et d'acide mercaptocarboxylique en C1-06 tels que l'ethylene glycol bis(2- 10 mercaptoacetate) , ethylene glycol bis(3-mercaptopropionate), l'ethylene glycol bis(thioglycolate), le trimethylolpropane tris (thioglycolate), le trimethylolpropane tris (beta-mercaptopropionate), le pentaerythritol tetrakis (thioglycolate), le pentaerythritol tetrakis (.beta.-mercaptopropionate), le dipentaerylthritol hexakis (.beta.-mercaptoproprionate), le trimethylolpropane 15 tris(2-mercaptoacetate), le trimethylolpropane tris(3-mercaptopropionate), le pentaerythritol tetrakis(2-mercaptoacetate), le pentaerythritol tetrakis(3- mercaptopropionate), le pentaerythritol tetrakis(3-mercaptobutanate) , le dipentaerythritol hex-3-mercaptopropionate, 20 De préférence, selon ce mode de réalisation, le composé à motif thiol est choisi parmi le tri methylolpropane tris(2-mercaptoacetate), le tri methylolpropane tris(3- mercaptopropionate), le pentaerythritol tetrakis(2-mercaptoacetate), le pentaerythritol tetrakis(3-mercaptopropionate), le pentaerythritol tetrakis(3-mercaptobutanate), le dipentaerythritol hex-3-mercaptopropionate. 25 De façon particulièrement préférée, le composé à motif thiol est le pentaerythritol tetrakis(3-mercaptopropionate). Selon un sixième mode de réalisation, le composé à motif thiol de formule (I) est tel que 30 n =4 et W désigne un radical tetravalent hydrocarboné saturé C4-C20, de préférence C8-C14, ramifié interrompu par un ou plusieurs atomes de soufre non adjacents, Selon ce mode de réalisation, le composé à motif thiol peut être choisi par exemple parmi le tétrakis(2-mercaptoethylthiomethyl) méthane, le bis-(2-mercaptoethylthio-3- mercaptopropane)sulfure. 35 Selon un septième mode de réalisation, le composé à motif thiol de formule (Ila) est tel que n =2 et W désigne un radical divalent cyclique hydrocarboné renfermant éventuellement un ou plusieurs atomes de soufre non adjacents, éventuellement substitué par un ou plusieurs radicaux alkyles C1-010 linéaires ou ramifiés. 40 3039765 12 Selon ce mode de réalisation, le composé à motif thiol peut être choisi par exemple parmi le 1,4-cyclohexane dithiol, le 1,4-bis(mercaptomethyl) cyclohexane, le 1,1cyclohexane dithiol, le 1,2-cyclohexane dithiol, le 1,1-bis(mercaptomethyl)cyclohexane, le 2,5-dimercapto-1,4-dithiane. 5 Selon un huitième mode de réalisation, le composé à motif thiol de formule (lia) est tel que n =3 et W désigne un radical cyclique de type isocyanurate substitué. Selon ce mode de réalisation, le composé à motif thiol peut être choisi par exemple parmi les polythiols de la classe isocyanurates décrits dans les brevets US 3,676,440 et 10 US20110230585 tel que tris((mercaptopropionyloxy)-ethyl)isocyanurate. Selon ce mode de réalisation, le composé à motif thiol désigne le tris((mercaptopropionyloxy)-ethyl)isocyanurate. 15 Selon un neuvième mode de réalisation, le composé à motif thiol de formule (lia) est tel que n = 2 ou 3 ou 4 et W désigne un radical aromatique éventuellement substitué par un ou plusieurs radicaux identiques ou différents de type alkyle C1-010, alcoxy C1-010, étant entendu que lorsque le radical W est substitué, les fonctions thiols peuvent être portées par le/les substituants(s). 20 Selon ce mode de réalisation, le composé à motif thiol peut être choisi par exemple parmi le 1,2-dimercaptobenzene, le1,3-dimercaptobenzene, le 1,4-dimercaptobenzene, le 1,2-bis(mercaptomethyl)benzene, 25 le 1,3-bis(mercaptomethyl)benzene, le 1,4-bis(mercaptomethyl)benzene, le 1,2-bis(2-mercaptoethyl)benzene, le 1,3-bis(2-mercaptoethyl)benzene, le 1,4-bis(2-mercaptoethyl)benzene, 30 le 1,2-bis(2-mercaptoethyleneoxy)benzene, le 1,3-bis(2-mercaptoethyleneoxy)benzene, le 1,4-bis(2-mercaptoethyleneoxy)benzene, le 1,2,3-trimercaptobenzene, le 1,2,4-trimercaptobenzene, 35 le 1,3,5-trimercaptobenzene, le 1,2,3-tris(mercaptomethyl)benzene, le 1,2,4-tris(mercaptomethyl)benzene, le 1,3,5-tris(mercaptomethyl)benzene, le 1,2,3-tris(2-mercaptoethyl)benzene, 40 le 1,2,4-tris(2-mercaptoethyl)benzene, le 1,3,5-tris(2-mercaptoethyl)benzene, 3039765 13 le 1,2,3-tris(2-mercaptoethyleneoxy)benzene, le 1,2,4-tris(2-mercaptoethyleneoxy)benzene, le 1,3,5-tris(2-mercaptoethyleneoxy)benzene, le 1,2,3,4-tetramercaptobenzene, 5 le 1,2,3,5-tetramercaptobenzene, le 1,2,4,5-tetramercaptobenzene, le 1,2,3,4-tetrakis(mercaptomethyl)benzene, le 1,2,3,5-tetrakis(mercaptomethyl)benzene, le 1,2,4,5-tetrakis(mercaptomethyl)benzene, 10 le 1,2,3,4-tetrakis(2-mercaptoethyl)benzene, le 1,2,3,5-tetrakis(2-mercaptoethyl)benzene, le 1,2,4,5-tetrakis(2-mercaptoethyl)benzene, le 1,2,3,4-tetrakis(2-mercaptoethyleneoxy)benzene, le 1,2,3,5-tetrakis(2-mercaptoethyleneoxy)benzene, 15 le 1,2,4,5-tetrakis(2-mercaptoethyleneoxy)benzene, le 2,2'-dimercaptobiphenyl, le 4,4'-dimercaptobiphenyl, le 4,4'-dimercaptobibenzyl, le 2,5-toluenedithiol, 20 le 3,4-toluenedithiol, le 1,4-naphthalenedithiol, le 1,5-naphthalenedithiol, le 2,6-naphthalenedithiol, le 2,7-naphthalenedithiol, 25 le 2,4-dimethylbenzene-1,3-dithiol, le 4,5-dimethylbenzene-1,3-dithiol, le 9,10-anthracenedimethanethiol, le 1,3-bis(2-mercaptoethylthio)benzene, le 1,4-bis(2-mercaptoethylthio)benzene, 30 le 1,2-bis(2-mercaptoethylthiomethyl)benzene, le 1,3-bis(2-mercaptoethylthiomethyl)benzene, le 1,4-bis(2-mercaptoethylthiomethyl)benzene, le 1,2,3-tris(2-mercaptoethylthio)benzene, le 1,2,4-tris(2-mercaptoethylthio)benzene, 35 le 1,3,5-tris(2-mercaptoethylthio)benzene, le 1,2,3,4-tetrakis(2-mercaptoethylthio)benzene, le 1,2,3,5-tetrakis(2-mercaptoethylthio)benzene, le 1,2,4,5-tetrakis(2-mercaptoethylthio)benzene, le 3,4-thiophenedithiol. 40 3039765 14 Selon ce mode de réalisation, le composé (lia) est choisi parmi le 1,2,3- trimercaptobenzene, le 1,2,4-trimercaptobenzene, le 1,3,5-trimercaptobenzene, le 1,2,3- tris(mercaptomethyl)benzene, le 1,2,4-tris(mercaptomethyl)benzene, le 1,3,5- tris(mercaptomethyl)benzene, le 1,2,3-tris(2-mercaptoethyl)benzene, le 1,2,4-tris(2- 5 mercaptoethyl)benzene, le 1,3,5-tris(2-mercaptoethyl)benzene, le 1,2,3-tris(2- mercaptoethyleneoxy)benzene, le 1,2,4-tris(2-mercaptoethyleneoxy)benzene, le 1,3,5- tris(2-mercaptoethyleneoxy)benzene, le 1,2,3,4-tetramercaptobenzene, le 1,2,3,5- tetramercaptobenzene, le 1,2,4,5-tetramercaptobenzene, le 1,2,3,4- tetrakis(mercaptomethyl) benzene, le 1,2,3,5-tetrakis(mercaptomethyl) benzene, le 10 1,2,4,5-tetrakis(mercaptomethyl) benzene, le 1,2,3,4-tetrakis(2-mercaptoethyl) benzene, le 1,2,3,5-tetrakis(2-mercaptoethyl) benzene, le 1,2,4,5-tetrakis(2-mercaptoethyl) benzene, le 1,2,3,4-tetrakis(2-mercaptoethyleneoxy) benzene, le 1,2,3,5-tetrakis(2- mercaptoethyleneoxy) benzene, le 1,2,4,5-tetrakis(2-mercaptoethyleneoxy) benzene, le 1,2,3-tris(2-mercaptoethylthio)benzene, le 1,2,4-tris(2-mercaptoethylthio) benzene, le 15 1,3,5-tris(2-mercaptoethylthio) benzene,le 1,2,3,4-tetrakis(2-mercaptoethylthio) benzene, le 1,2,3,5-tetrakis(2-mercaptoethylthio) benzene, le 1,2,4,5-tetrakis(2-mercaptoethylthio) benzene, le 3,4-thiophenedithiol. Selon un dixième mode de réalisation, le composé à motif thiol de formule (lia) est tel 20 que n = 2 ou 3 ou 4 et W désigne un triglycéride d'acide gras ou une huile végétale, éventuellement substitués, étant entendu que lorsque le radical W est substitué, les fonctions thiols peuvent être portées par le/les substituants(s). Selon ce mode de réalisation, le composé à motif thiol peut être choisi par exemple parmi : les triglycérides d'acides gras ou les huiles végétales modifiées par des groupes 25 thiols par réaction chimique comme par exemple les huiles de soja thiolées et les huiles de sojahydroxylées et thiolées notamment les produits polymercaptan® de la société Chevron Phillips tel que le polymercaptan 358 (mercaptanised soybean oil) et le polymercaptan 407 (mercapto hydroxy soybean oil) ,IL(cH2)1,cH3 SH -0-LL(CH2), SH HS r\--- REVENDICATIONS1. Procédé cosmétique de traitement des matières kératiniques comprenant l'application topique sur les matière kératiniques d'une composition, notamment cosmétique, comprenant, dans un milieu physiologiquement acceptable, un polymère de chitosane dont les groupes amino sont greffés de groupements à fonction thiol de formule (I) : H[-O HO 01H NH (I) R'/ dans laquelle R' représente indépendamment H ou un groupement acétyle ou un groupement -CO-L-SH , le polymère renfermant au moins un groupement R' = -CO-LSH , L étant un groupe divalent hydrocarboné comprenant de 1 à 20 atomes de carbone, de préférence de 2 à 10 atomes de carbone, linéaire, ramifiée ou cyclique, saturé ou insaturé, et pouvant être interrompu par un ou plusieurs hétéroatomes non adjacents choisis parmi l'oxygène, le soufre ou groupements -NH-, -CO-, -CONH-, -000-, -0- CO-N(Ra)-, en particulier -0-C0-NH-, -N(Rb)-C0-N(Rc)-, en particulier -NH-CO-NH-, ledit groupe divalent pouvant éventuellement être substitué pour un ou plusieurs groupes choisi parmi les groupes hydroxyle, amine -N(Ra)(Rb)(Rc), thiol, acide carboxylique, esters -002Ra, amide -N(Ra)00-(Rb)' cyano, acyl(C1-C4)amino, uréido -N(Ra)-00- N(Ra)(Rb) avec Ra, Rb, Rc désignant indépendamment un atome d'hydrogène ou un radical alkyle Cl-06 linéaire ou ramifié , de préférence linéaire ; n varie de 5 à 2000. 2. Procédé selon la revendication précédente, caractérisé en ce que le chitosane greffé (I) a un taux molaire de greffage en groupements -CO-L-SH allant de 0,1 à 50 %, de préférence allant de 1 à 30 (:)/0, et préférentiellement allant de 1 à 20 %. 3. Procédé selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que L est un radical divalent hydrocarboné en C1-020, de préférence en C1-010, linéaire, ramifié ou cyclique, saturé ou insaturé (dont aromatique), pouvant être interrompu par un ou plusieurs hétéroatomes non adjacents choisi parmi l'oxygène ou par un ou plusieurs groupements non adjacents choisis parmi -NH- , -CO- , - 0-00- , -NH-00- . 4. Procédé selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que le chitosane greffé (I) a un degré d'acétylation ( -00-0H3) allant de 0 à 50 %, de préférence allant de 5 à 30 %, et plus préférentiellement allant de 10 à 30 %. 3039765 39 5. Procédé selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que n varie de 5 à 280, de préférence de 15 à 165. 5 6. Procédé selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que le polymère de chitosane greffé est de formule (la) : 0-H (la) OH O O NH CH3C0 HO NH C CO-L-SH H 10 dans laquelle le chitosane greffé comprend a motifs portant un groupe amino libre, b motifs portant un groupe amino N-acétylé et c motifs portant un groupe amino greffé d'un groupe -CO-L-SH ; b va de 0 à 0,5, de préférence de 0,05 à 0,30, et mieux de 0,1 à 0,30 ; 15 c va de 0,001 à 0,5 , de préférence de 0,01 à 0,3, et mieux de 0,01 à 0,2 ; eta+b+c= 1 L et n ayant les significations selon la revendication 1. 20 7. Procédé selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que L est choisi parmi les groupes suivants : *N *-CHTECH2-** *NH ** H2 m = 1 -4 COCH3 * représentant la liaison avec le groupement thiol ; ** représentant la liaison avec le groupement C(0)NH du chitosane; 25 8. Procédé selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que L est le groupe divalent ** *N H2 * représentant la liaison avec le groupement thiol ; ** représentant la liaison 30 avec le groupement C(0)NH du chitosane 3039765 9. Procédé selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que le chitosane greffé (I) ou (la) est présent dans la composition en une teneur allant de 0,1 à 10 % en poids, par rapport au poids total de la composition, de préférence allant de 0,5 % à 10 % en poids, et préférentiellement allant de 1 à 8 % en poids, et plus 5 préférentiellement allant de 1 % à 6 % en poids. 10. Procédé selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce qu'il comprend les étapes suivantes : 10 l'application topique sur les matières kératiniques d'une composition, notamment cosmétique, comprenant le chitosane greffé (I) ou (la) , éventuellement en laissant poser pendant un temps compris entre 5 secondes et 10 minutes ; suivie éventuellement d'une étape de rinçage des matières kératiniques, par exemple avec de l'eau. 15 11. Procédé selon l'une des revendications 1 à 9, caractérisé en ce qu'il comprend les étapes suivantes : l'application topique sur les matières kératiniques d'au moins un agent réducteur (II), de préférence un agent réducteur (II), ou d'une composition, notamment cosmétique, le 20 contenant (composition A) , en laissant poser pendant une durée allant de 1 minute à une heure ; l'application sur les matières kératiniques traitées d'une composition, notamment cosmétique, comprenant au moins un polymère chitosane greffé (I) ou (la) (composition B), 25 l'agent réducteur (II) étant distinct du chitosane greffé (I) ou (la). 12. Procédé selon l'une des revendications 1 à 9, caractérisé en ce qu'il comprend l'application topique sur les matières kératiniques d'une composition, notamment cosmétique, comprenant au moins un polymère chitosane greffé (I) ou (la) et au moins 30 un agent réducteur (II), de préférence un agent réducteur (II), l'agent réducteur (II) étant distinct du chitosane greffé (I) ou (la), en laissant poser pendant une durée allant de 1 minute à une heure. 13. Procédé selon l'une des revendications 11 ou 12, caractérisé en ce que l'agent 35 réducteur est choisi parmi : (i) les réducteurs thiolés organiques non polymérique de formule (Ila) W(SH)n 40 3039765 41 dans laquelle n désigne un entier supérieur ou égal à 1, de préférence compris entre 1 et 10, de préférence entre 1 et 4 et W désigne un radical monovalent (n =1) ou multivalent (au moins divalent) (n > 1) C2-C80 linéaire ou ramifié ou (hétéro)cyclique, saturé, un radical aromatique, un radical 5 cyclique hétéroaromatique, W pouvant en outre contenir un ou plusieurs hétéroatomes tels que O, N, S, Si et/ou une ou plusieurs fonctions choisies parmi les fonctions acides carboxyliques, esters, cétones, amides, urées, isocyanurate de préférence esters, cétones, acides carboxyliques) et/ou être substitué par un ou plusieurs groupements alkyles C1-010 linéaires ou ramifiés, hydroxyle, amino, (alkyl C1-06) amino, acide 10 carboxylique, carboxylate, alcoxy C1-010 linéaires ou ramifié, étant entendu que lorsque le radical W est substitué, les fonctions thiols peuvent être portées par le/les substituant(s) ; et leurs sels. 15 (ii) les réducteurs thiolés polymériques de formule (11b) : POL(SH)n (11b) dans laquelle n désigne un entier supérieur ou égal à 5, de préférence compris entre 5 et 5000, de préférence entre 5 et 1000. 20 et POL désigne un radical polymèrique multivalent (au moins pentavalent) carboné ou silicone, POL pouvant en outre renfermer un ou plusieurs hétéroatomes tels que O, N, S, et/ou une ou plusieurs fonctions choisies parmi les fonctions esters, cétones, amides, urées, carbamates, et/ou être substitué par un ou plusieurs groupements alkyles C1-010 linéaires ou ramifiés, alcoxy C1-010 linéaires ou ramifiés, étant entendu que lorsque 25 POL est substitué, les fonctions thiols peuvent être portées par le/les substituant(s). (iii) les réducteurs non thiolés choisi dans le groupe comprenant des sulfites, des bisulfites, des sulfinates, des phosphines, des sucres, des réductones et des hydrures. 30 14. Procédé selon la revendication précédente, caractérisé en ce que le composé thiolé (11b) a une masse molaire comprise entre 70 et 1500 g/mole et de préférence entre 70 et 500 g/mole. 15. Procédé selon la revendication 13, caractérisé en ce que le réducteur thiolé est 35 choisi parmi : l'acide thioglycolique, l'acide thiolactique, l'acide thiomalique, l'acide 2- mercaptoproprionique, l'acide 3-mercaptoproprionique, l'acide thiosalicylique, l'acide thioproprionique, le glutathion, la cystéine, la N-acétyl cystéine, l'homocystéine, l'acide mercaptosuccinique , et leurs esters d'alcool en C1-04 ; la cystéamine, la N-acétyl 40 cystéamine ; le thioglycérol, le 2- mercaptoéthanol , le 1-mercapto-2-propanol, le 3- mercapto-l-propanol, le 2-(triméthylsilyl)éthanethiol, le (3-mercaptopropyl)triéthoxysilane. 3039765 42 les composés de formule HS-(CH2)n-NH-(CH2)m-NH2 , n et m étant des entiers allant de 1 à 4 , l'ortho-aminothiophénol, le méta-aminothiophénol, le para-aminothiophénol ; le 1,2-ethanedithiol, le 1,2-propanedithiol, le 1,3-propanedithiol, le 1,4-butanedithiol, le 1,6-hexanedithiol, le 1,7-heptanedithiol, le 1,8-octanedithiol, le 1,9-nonanedithiol, le 1,10- 5 decanedithiol, le 1,12-dodecanedithiol, le 2,2-dimethy1-1,3-propanedithiol, le 3-methyl- 1,5-pentanedithiol, le 2-methy1-1,8-octanedithiol ; le 1,1,1-tris(mercaptomethyl)ethane, le 2-ethy1-2-mercaptomethy1-1,3-propanedithiol, le 1,2,3-propanetrithiol ; le bis(2-mercaptoethyl)ether, le bis(2-mercaptoethyl)sulfure , bis-(2-mercaptoethylthio-3- 10 mercaptopropane)sulfide ; le bis(2-mercaptoethylthio)methane, le 1,2-bis(2-mercaptoethylthio)ethane, le 1,3-bis(2- mercaptoethylthio)propane, le 1,2-bis(2-mercaptoethylthio)propanethiol, le 1,2-bis(2- mercaptoethyl)thio-3-mercaptopropane, le 1,2,3-tris(2-mercapto ethylthio) propane ; l'ethylene glycol bis(2-mercaptoacetate) , ethylene glycol bis(3-mercaptopropionate), 15 l'ethylene glycol bis(thioglycolate), le trimethylolpropane tris (thioglycolate), le trimethylolpropane tris (beta-mercaptopropionate), le pentaerythritol tetrakis (thioglycolate), le pentaerythritol tetrakis (.beta.-mercaptopropionate), le dipentaerylthritol hexakis (.beta.-mercaptoproprionate), le trimethylolpropane tris(2-mercaptoacetate), le trimethylolpropane tris(3-mercaptopropionate), le pentaerythritol tetrakis(2- 20 mercaptoacetate), le pentaerythritol tetrakis(3-mercaptopropionate), le pentaerythritol tetrakis(3-mercaptobutanate) , le dipentaerythritol hex-3-mercaptopropionate ; le tétrakis(2-mercaptoethylthiomethyl) méthane, le bis-(2-mercaptoethylthio-3- mercaptopropane)sulfure ; le 1,4-cyclohexane dithiol, le 1,4-bis(mercaptomethyl) cyclohexane, le 1,1-cyclohexane 25 dithiol, le 1,2-cyclohexane dithiol, le 1,1-bis(mercaptomethyl)cyclohexane, le 2,5- dimercapto-1,4-dithiane ; le tris((mercaptopropionyloxy)-ethyl)isocyanurate ; le 1,2-dimercaptobenzene, le1,3-dimercaptobenzene, le 1,4-dimercaptobenzene, le 1,2-bis(mercaptomethyl)benzene, 30 le 1,3-bis(mercaptomethyl)benzene, le 1,4-bis(mercaptomethyl)benzene, le 1,2-bis(2-mercaptoethyl)benzene, le 1,3-bis(2-mercaptoethyl)benzene, le 1,4-bis(2-mercaptoethyl)benzene, 35 le 1,2-bis(2-mercaptoethyleneoxy)benzene, le 1,3-bis(2-mercaptoethyleneoxy)benzene, le 1,4-bis(2-mercaptoethyleneoxy)benzene, le 1,2,3-trimercaptobenzene, le 1,2,4-trimercaptobenzene, 40 le 1,3,5-trimercaptobenzene, le 1,2,3-tris(mercaptomethyl)benzene, 3039765 43 le 1,2,4-tris(mercaptomethyl)benzene, le 1,3,5-tris(mercaptomethyl)benzene, le 1,2,3-tris(2-mercaptoethyl)benzene, le 1,2,4-tris(2-mercaptoethyl)benzene, 5 le 1,3,5-tris(2-mercaptoethyl)benzene, le 1,2,3-tris(2-mercaptoethyleneoxy)benzene, le 1,2,4-tris(2-mercaptoethyleneoxy)benzene, le 1,3,5-tris(2-mercaptoethyleneoxy)benzene, le 1,2,3,4-tetramercaptobenzene, 10 le 1,2,3,5-tetramercaptobenzene, le 1,2,4,5-tetramercaptobenzene, le 1,2,3,4-tetrakis(mercaptomethyl)benzene, le 1,2,3,5-tetrakis(mercaptomethyl)benzene, le 1,2,4,5-tetrakis(mercaptomethyl)benzene, 15 le 1,2,3,4-tetrakis(2-mercaptoethyl)benzene, le 1,2,3,5-tetrakis(2-mercaptoethyl)benzene, le 1,2,4,5-tetrakis(2-mercaptoethyl)benzene, le 1,2,3,4-tetrakis(2-mercaptoethyleneoxy)benzene, le 1,2,3,5-tetrakis(2-mercaptoethyleneoxy)benzene, 20 le 1,2,4,5-tetrakis(2-mercaptoethyleneoxy)benzene, le 2,2'-dimercaptobiphenyl, le 4,4'-dimercaptobiphenyl, le 4,4'-dimercaptobibenzyl, le 2,5-toluenedithiol, 25 le 3,4-toluenedithiol, le 1,4-naphthalenedithiol, le 1,5-naphthalenedithiol, le 2,6-naphthalenedithiol, le 2,7-naphthalenedithiol, 30 le 2,4-dimethylbenzene-1,3-dithiol, le 4,5-dimethylbenzene-1,3-dithiol, le 9,10-anthracenedimethanethiol, le 1,3-bis(2-mercaptoethylthio)benzene, le 1,4-bis(2-mercaptoethylthio)benzene, 35 le 1,2-bis(2-mercaptoethylthiomethyl)benzene, le 1,3-bis(2-mercaptoethylthiomethyl)benzene, le 1,4-bis(2-mercaptoethylthiomethyl)benzene, le 1,2,3-tris(2-mercaptoethylthio)benzene, le 1,2,4-tris(2-mercaptoethylthio)benzene, 40 le 1,3,5-tris(2-mercaptoethylthio)benzene, le 1,2,3,4-tetrakis(2-mercaptoethylthio)benzene, 3039765 44 le 1,2,3,5-tetrakis(2-mercaptoethylthio)benzene, le 1,2,4,5-tetrakis(2-mercaptoethylthio)benzene, le 3,4-thiophenedithiol. le dithiothréitol, le 2,3-dimercapto-1-propanol ; 5 l'acide méso-2,3-dimercaptosuccinique et ses esters d'alcool en Cl-C4. 16. Procédé selon l'une quelconque des revendications 13, caractérisé en ce que le composé thiol est choisi parmi la cystéine, la cystéamine, l'acide thioglycolique et ses sels, le (3-mercaptopropyl)triéthoxysilane, le dithiothréitol , le pentaerhytritol tetra(3- 10 mercaptopropionate) . 17. Procédé selon l'une quelconque des revendications 11 à 16, caractérisé en ce que le réducteur appliqué sur les matières kératiniques est laissé poser pendant une durée allant de 3 à 30 minutes à une heure, de préférence allant de 5 à 45 minutes. 15 18. Procédé selon l'une quelconque des revendications 11 à 16, caractérisé en ce qu'après l'étape d'application du réducteur sur les matières kératiniques on effectue une étape de rinçage avec de l'eau, éventuellement en mélange avec un tensioactif. 20 19. Procédé selon la revendication précédente, caractérisé en ce qu'après l'étape de rinçage, on effectue une étape d'élimination de l'excès d'eau à la surface des matières kératiniques traitées. 20. Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce 25 qu'il comprend une étape d'application d'une composition comprenant un agent oxydant chimique, cette étape étant effectuée après l'étape d'application du chitosane greffé (I). 21. Procédé selon la revendication précédente, caractérisé en ce que l'agent oxydant chimique est choisi parmi le peroxyde d'hydrogène, le peroxyde d'urée, les bromates de 30 métaux alcalins, les persels tels que les perborates et persulfates, et de préférence le peroxyde d'hydrogène. 22. Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce qu'il est effectué sur la peau pour traiter les odeurs corporelles humaines en particulier 35 les odeurs axillaires et éventuellement la transpiration humaine. 23. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 21, caractérisé en ce qu'il est effectué sur le cuir chevelu pour lutter contre la formation des pellicules du cuir chevelu, notamment celles provoquées par les levures du genre Malassezia. 40 3039765 24. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 21, caractérisé en ce qu'il est effectué sur les cheveux pour conférer aux cheveux de la douceur et/ou facilité le peignage des cheveux. 5 25. Composition comprenant, dans un milieu physiologiquement acceptable, un polymère (I) ou (la) tel que défini dans l'une des revendications 1 à 8 et un additif cosmétique choisi parmi les émulsionnants, les conservateurs, les parfums, les épaississants, les huiles, les cires, les polymères filmogènes, les matières colorantes. 10 26. Composition selon la revendication précédente, caractérisée en ce que le polymère (I) ou (la) est présent en une teneur allant de 0,1 à 10 % en poids, par rapport au poids total de la composition, de préférence allant de 0,5 % à 10 % en poids, et préférentiellement allant de 1 à 8 % en poids, et plus préférentiellement allant de 1 % à 6 % en poids. 15 27. Composition selon l'une des revendications 25 ou 26, caractérisée en ce qu'elle comprend un agent réducteur tel que défini dans l'une des revendications 13 à 16. 28. Composition selon la revendication précédente, caractérisée en ce que l'agent 20 réducteur est présent en une teneur allant de 0,1 à 10 % en poids, par rapport au poids total de la composition, et de préférence allant de 1 à 10 % en poids. 29. Kit comprenant une première composition, notamment cosmétique, comprenant au moins un chitosane greffé (I) tel que défini dans l'une des revendications 1 à 8 et une 25 deuxième composition, notamment cosmétique, comprenant au moins un agent réducteur tel que défini dans l'une des revendications 13 à 16, les première et deuxième compositions étant conditionnées chacune dans un ensemble de conditionnement distinct. 30