Brevet FR3046878A1 — publié le 20170721

PROCEDE DE FABRICATION D'UNE INTERCONNEXION COMPRENANT UN VIA S'ETENDANT AU TRAVERS D'UN SUBSTRAT DOMAINE DE L'INVENTION La présente invention concerne un procédé de fabrication d'une interconnexion comprenant un via s'étendant au travers d'un substrat. ARRIERE PLAN DE L'INVENTION Pour la réalisation de circuits intégrés, il est connu de fabriquer, au sein d'un substrat, par exemple de silicium, destiné à être connecté électriquement par ses deux faces principales à des composants électroniques, des vias traversants (TSV, acronyme du terme anglo-saxon « Through Silicon Via »). La fabrication d'une telle interconnexion comprend typiquement : - la formation d'un trou (en général non débouchant) dans l'épaisseur du substrat, - le dépôt d'une couche de nitrure de titane ou de tantale sur la surface principale du substrat et sur la surface intérieure du trou, - le dépôt d'une couche de cuivre sur la couche de nitrure de titane de sorte à amorcer l'étape suivante, - le remplissage en cuivre du trou, - l'enlèvement d'une partie du substrat opposée à la face principale sur laquelle les couches de nitrure de titane ou de tantale et de cuivre ont été déposées, jusqu'à exposer l'intérieur du trou, rendant ainsi le via traversant. La couche de nitrure de titane ou de tantale a une fonction de barrière destinée à éviter la diffusion du cuivre dans le substrat. Pour permettre une bonne conduction électrique par le via, les couches déposées doivent être conformes et de bonne qualité. Par « couche conforme » on entend une couche dont l'épaisseur mesurée dans une direction perpendiculaire à une surface sur laquelle elle est déposée est constante. En d'autres termes, la surface de ladite couche est parallèle à la surface sur laquelle elle est déposée. Une conformité parfaite peut être obtenue au moyen d'un dépôt successif de monocouches atomiques par la technique ALD (acronyme du terme anglo-saxon « Atomic Layer Deposition ») mais ce dépôt est relativement lent, de sorte que le dépôt d'une couche de 100 à 200 nm d'épaisseur nécessite plusieurs heures et est donc particulièrement onéreux. Le dépôt physique en phase vapeur (« PVD », acronyme du terme anglo-saxon « Physical Vapor Deposition ») est plus rapide et donc moins onéreux, mais procure une moins bonne conformité. 3046878 2 Or, dans le cas des trous présentant un fort facteur de forme (rapport profondeur / largeur), c'est-à-dire un facteur de forme supérieur ou égal à 5: 1, voire supérieur ou égal à 10 : 1, une faible conformité du dépôt impose de déposer une forte épaisseur de matériau sur la surface principale du substrat pour parvenir à obtenir une épaisseur 5 suffisante dans le fond du trou. Au moins une partie de cette surépaisseur de matériau doit ensuite être retirée de la surface par polissage mécano-chimique (CM P, acronyme du terme anglo-saxon « Chemical Mechanical Polishing »), ce qui augmente le coût et la durée de l'étape et pose des problèmes de contamination de la surface polie, nécessitant un nettoyage ultérieur. 10 Enfin, le dépôt chimique en phase vapeur (CVD, acronyme du terme anglo-saxon « Chemical Vapor Deposition ») procure une meilleure conformité que le procédé PVD mais il présente l'inconvénient d'introduire des contaminants (notamment du carbone) qui diminuent la qualité de la couche formée. Or, la fabrication des vias nécessite le dépôt de couches de bonne qualité, c'est-à- 15 dire notamment dépourvues d'impuretés, afin de minimiser l'apparition d'un phénomène d'électromigration du cuivre qui endommage le via au fil du temps. BREVE DESCRIPTION DE L'INVENTION Un but de l'invention est de concevoir un procédé de fabrication d'une 20 interconnexion comprenant un via s'étendant au travers d'un substrat qui permette d'éviter les problèmes susmentionnés et qui permette en particulier d'améliorer la conformité des couches déposées et d'éviter le dépôt d'une surépaisseur de matériau à retirer ensuite de la surface principale du substrat. Un autre but de l'invention est également de procurer des interconnexions dont la fiabilité au cours du temps est accrue. 25 Conformément à l'invention, il est proposé un procédé de fabrication d'une interconnexion comprenant un via s'étendant au travers d'un substrat, comprenant successivement : (a) le dépôt d'une couche de nitrure de titane ou de nitrure de tantale sur une surface principale du substrat et sur la surface intérieure d'au moins un trou 30 s'étendant dans au moins une partie de l'épaisseur dudit substrat, (b) le dépôt d'une couche cuivre sur ladite couche de nitrure de titane ou de nitrure de tantale, (c) le remplissage du trou par du cuivre, ledit procédé étant caractérisé en ce que pendant l'étape (a) le substrat est agencé 35 dans une première chambre de dépôt et en ce que ladite étape (a) comprend l'injection d'un précurseur de titane ou de tantale en phase gazeuse dans la chambre de dépôt par une première voie d'injection selon une première séquence d'impulsions et l'injection d'un gaz réactif à base d'azote dans la chambre de dépôt par une seconde voie d'injection 3046878 3 distincte de la première voie d'injection selon une seconde séquence d'impulsions, la première séquence d'impulsions et la seconde séquence d'impulsions étant déphasées. De par sa mise en oeuvre séquentielle et impulsionnelle, le dépôt de la couche de nitrure de titane ou de tantale permet une réaction chimique plus rapide mais aussi une 5 meilleure conformité que le procédé CVD conventionnel. Par ailleurs, il favorise la réaction sur la surface du substrat et limite ainsi toute contamination de ladite surface due à des réactions parasites. Par « largeur », on entend la plus petite dimension du trou dans le plan formé par la surface principale du substrat. Dans le présent texte, le terme « trou » désigne une 10 ouverture de forme quelconque pratiquée dans une surface principale du substrat, et inclut par exemple une tranchée présentant une longueur supérieure à sa largeur, ou encore mais de manière non limitative un orifice circulaire (dans ce dernier cas, la largeur correspond au diamètre du trou). Selon d'autres caractéristiques avantageuses dudit procédé, prises isolément ou en 15 combinaison : - l'étape (c) de remplissage du trou est mise en oeuvre par électrodéposition de cuivre ; - le remplissage du trou est réalisé en poursuivant le dépôt de cuivre réalisé à l'étape (b) ; 20 - l'épaisseur de la couche de nitrure de titane ou de nitrure de tantale déposée à l'étape (a) est inférieure ou égale à 100 nm ; - l'épaisseur de la couche de cuivre déposée à l'étape (b) est comprise entre 50 et 300 nm ; - le dépôt de la couche de cuivre à l'étape (b) est réalisé dans une seconde chambre 25 de dépôt différente de la première chambre ; - l'étape (b) est mise en oeuvre par dépôt chimique en phase vapeur ; - la première et la seconde chambre de dépôt sont connectées séparément de manière étanche à une chambre intermédiaire et entre les étapes (a) et (b), le substrat est transféré de la première chambre à la seconde chambre par la chambre intermédiaire 30 sous vide d'air ; - le via présente un facteur de forme supérieur ou égal à 5: 1 ; - le procédé comprend, après le remplissage du trou, l'enlèvement d'au moins une partie de l'épaisseur du substrat opposée à la surface principale sur laquelle la couche de nitrure de titane ou de nitrure de tantale et la couche de cuivre ont été déposées de sorte 35 à exposer l'intérieur du via de sorte à rendre ledit via traversant ; - après l'étape (a), le procédé comprend un nettoyage de la chambre dans laquelle la couche de nitrure de titane ou de nitrure de tantale a été déposée pour éliminer ledit nitrure de titane ou nitrure de tantale déposé sur une paroi intérieure de ladite chambre, 3046878 4 ledit nettoyage étant effectué avec un gaz réactif composé de fluor et activé par une source plasma ; - après l'étape (b), le procédé comprend un nettoyage de la chambre dans laquelle la couche de cuivre a été déposée pour éliminer ledit cuivre déposé sur une paroi 5 intérieure de ladite chambre, ledit nettoyage comprenant les étapes suivantes : (i) oxydation du cuivre ; (ii) injection, selon une séquence d'impulsions, d'espèces chimiques adaptées pour volatiliser ledit cuivre oxydé, ladite étape (ii) débutant après le début de l'étape (i). 10 Un autre objet concerne un dispositif pour la mise en oeuvre du procédé susmentionné. Ledit dispositif est caractérisé en ce qu'il comprend : - une première chambre de dépôt étanche connectée à une source d'un précurseur de titane ou de tantale par une première voie d'injection et à une source d'un gaz réactif à base d'azote par une seconde voie d'injection distincte de la première voie, 15 - une seconde chambre de dépôt étanche connectée à une source de cuivre et - une chambre intermédiaire à laquelle sont connectées séparément de manière étanche la première et la seconde chambre de dépôt. BREVE DESCRIPTION DES DESSINS 20 D'autres caractéristiques et avantages de l'invention ressortiront de la description détaillée qui va suivre, en référence aux dessins annexés sur lesquels : - les figures 1A à 1E illustrent différentes étapes du procédé selon un mode de réalisation de l'invention, - la figure 2 est un schéma de principe d'un dispositif pour la mise en oeuvre du 25 procédé. Pour des raisons de lisibilité des figures, celles-ci ne sont pas nécessairement réalisées à l'échelle. DESCRIPTION DETAILLEE DE L'INVENTION 30 Les figures 1A à 1E illustrent des étapes successives de la formation d'une interconnexion. En référence à la figure 1A, on fournit un substrat 1 dans lequel au moins un trou 10 a été formé à partir d'une surface principale 1A du substrat. Le substrat peut être tout substrat adapté pour la réalisation de circuits électroniques. Le substrat peut être massif 35 (c'est-à-dire constitué d'un unique matériau) ou composite (c'est-à-dire constitué d'un empilement de différents matériaux). Par exemple mais de manière non limitative, le substrat peut être un substrat de silicium. 3046878 5 Généralement, le trou n'est pas traversant, c'est-à-dire que sa profondeur est inférieure à l'épaisseur du substrat. De manière avantageuse, le trou présente un facteur de forme supérieur à 5 : 1, de préférence supérieur à 10: 1. Toutefois, l'invention peut être mise en oeuvre quel que soit 5 le facteur de forme du trou. On dépose tout d'abord une couche conforme 11 de nitrure de titane (TiN) ou de nitrure de tantale (TaN) sur la surface principale 1A du substrat, sur la paroi latérale 10A du trou et sur le fond 10B du trou. Ledit dépôt est réalisé par dépôt chimique en phase vapeur mis en oeuvre de 10 manière pulsée. Plus précisément, on introduit le substrat dans une première chambre de dépôt (repère 100 sur la figure 2) comprenant deux voies d'injection distinctes : une première voie permet de connecter la chambre à une source d'un précurseur de titane ou de tantale et seconde voie permet de connecter la chambre à une source d'un gaz réactif à 15 base d'azote. Par « à base d'azote » on entend que ledit gaz réactif contient majoritairement de l'azote mais qu'il peut éventuellement contenir d'autres espèces, telles que de l'hydrogène. Selon un mode de réalisation avantageux, la première voie d'injection comprend une première pluralité de canaux par lesquels le précurseur de titane ou de tantale est injecté 20 dans la chambre de dépôt et la seconde voie d'injection comprend une seconde pluralité de canaux par lesquels le gaz réactif à base d'azote est injecté dans la chambre de dépôt, l'ensemble desdits canaux débouchant dans la chambre de dépôt en regard de la surface du substrat. De manière connue en elle-même, le substrat est mis en place dans la chambre de 25 dépôt sur un porte substrat comprenant éventuellement un système de chauffage du substrat à une température avantageuse pour le dépôt. Le dépôt comprend l'injection dudit précurseur de titane ou de tantale en phase gazeuse dans la chambre de dépôt par la première voie d'injection selon une première séquence d'impulsions et l'injection du gaz réactif à base d'azote dans la chambre de 30 dépôt par la seconde voie d'injection distincte de la première voie d'injection selon une seconde séquence d'impulsions, la première séquence d'impulsions et la seconde séquence d'impulsions étant déphasées. Par « séquence d'impulsions », on entend au minimum une impulsion par séquence. Ce procédé est appelé CVD pulsé. Un tel procédé a été décrit, pour des applications et 35 des matériaux différents de ceux visés dans la présente invention, dans le document VVO 2015/140261. Le temps de parcours des espèces injectées dans la chambre est défini par le temps nécessaire auxdites espèces pour parcourir la distance comprise entre la sortie de 3046878 6 la voie d'injection respective et la surface libre du substrat. L'injection des différentes espèces est réalisée selon une séquence adaptée pour que la réaction entre lesdites espèces se déroule essentiellement sur la surface libre du substrat. De manière avantageuse le système de chauffage du porte substrat chauffe le 5 substrat à une température supérieure à la température à laquelle les espèces sont injectées dans la chambre. La vitesse de réaction entre les espèces étant croissante avec la température, ladite vitesse de réaction est ainsi supérieure sur la surface libre du substrat. La première séquence d'impulsions et la seconde séquence d'impulsions sont 10 déphasées, c'est-à-dire qu'il existe au cours du procédé de dépôt successivement des instants pendant lesquels seul le précurseur de titane ou de tantale est injecté dans la chambre de dépôt et des instants pendant lesquels seul le gaz réactif à base d'azote est injecté dans la chambre de réaction. Eventuellement, il peut également exister des instants pendant lesquels une injection simultanée est mise en oeuvre et/ou des instants 15 pendant lesquels aucune injection n'a lieu. Par ailleurs, la pression dans la chambre de dépôt est supérieure à une valeur prédéterminée pendant toute la durée du procédé contrairement aux techniques de dépôt par couche atomique (ALD). En effet, le dépôt par ALD comprend l'injection d'un seul type d'espèce à la fois, et nécessite une purge complète de la chambre avant que l'autre type 20 d'espèce ne soit injecté. Dans le cas de la présente invention, il est possible de s'affranchir de systèmes de pompages complexes et des étapes de purges ralentissant les vitesses de dépôt de couches sur les substrats. Par exemple, la pression dans la chambre de dépôt est supérieure à 500 mTorr, de préférence supérieure à 1 Torr. Grâce à ce procédé, il est possible de conserver l'avantage d'une vitesse de dépôt 25 d'une couche sur la surface d'un substrat comparable à la technique de dépôt en phase vapeur (CVD). Par ailleurs, la conformité du dépôt de la couche est grandement améliorée par rapport à la technique de dépôt en phase vapeur conventionnelle. En outre, ce procédé favorise une réaction entre le précurseur de tantale ou de titane et le gaz réactif à base d'azote sur la surface du substrat, limitant ainsi les réactions parasites et 30 une contamination susceptible de dégrader les propriétés de la couche formée sur la surface du substrat. On dépose ainsi une couche conforme 11 de nitrure de titane ou de nitrure de tantale, ladite couche présentant avantageusement une épaisseur inférieure ou égale à 100 nm. Ladite couche remplit une fonction de barrière à la diffusion du cuivre utilisé pour 35 remplir le trou vers le substrat. En référence à la figure 1B, on forme ensuite, sur la couche 11, une couche conforme 12 de cuivre, sur une épaisseur généralement comprise entre 50 et 300 nm. 3046878 7 A cet effet, le substrat 1 recouvert de la couche 11 est avantageusement déplacé vers une seconde chambre de dépôt (repère 200 sur la figure 2) distincte de la première chambre et isolée vis-à-vis de celle-ci. De manière préférée, ledit déplacement est effectué sans mise à l'atmosphère du substrat, ce qui évite toute contamination ou 5 oxydation. En effet, une contamination ou une oxydation des couches déposées est susceptible de diminuer l'adhésion desdites couches et de favoriser une électromigration du cuivre lors du fonctionnement d'un dispositif comprenant le via. Le dépôt de la couche 12 peut être mis en oeuvre par toute technique appropriée. De manière avantageuse, ledit dépôt est réalisé par dépôt chimique en phase vapeur, 10 pulsé ou non. En référence à la figure 10, on remplit le trou 10 de cuivre. Dans le cas où le trou présente une largeur inférieure à 1 pm, ledit remplissage peut être effectué en poursuivant le dépôt de cuivre effectué à l'étape précédente. De manière alternative, et notamment dans le cas où le trou présente une largeur supérieure à 1 pm, le remplissage 15 du trou peut être réalisé par électrodéposition, cette technique étant plus rapide et moins onéreuse que le dépôt chimique en phase vapeur. En référence à la figure 1D, on rend traversant le via V ainsi formé en retirant au moins une partie 1B de l'épaisseur du substrat opposée à la surface principale 1A. Ce retrait peut être réalisé par exemple par polissage, notamment par polissage mécano- 20 chimique (CM P). En référence à la figure 1E, on retire au moins une partie des couches de nitrure de tantale ou de titane et de cuivre de la surface principale 1A du substrat par polissage mécano-chimique. Les étapes illustrées sur les figures 1D et 1E peuvent éventuellement être 25 interverties. Selon une forme d'exécution de l'invention, la chambre 100 et/ou la chambre 200 peut être nettoyée après l'étape de dépôt, une fois que le substrat a été retiré de la chambre. En ce qui concerne la première chambre de dépôt 100, ledit nettoyage est effectué 30 avantageusement en injectant dans la chambre un gaz réactif composé de fluor et en activant ledit gaz par une source plasma située in-situ ou à distance de la chambre. En ce qui concerne la seconde chambre de dépôt 200, ledit nettoyage comprend les étapes suivantes : (i) oxydation du cuivre ; 35 (ii) injection, selon une séquence d'impulsions, d'espèces chimiques adaptées pour volatiliser ledit cuivre oxydé, ladite étape (ii) débutant après le début de l'étape (i) et se déroulant soit après la fin de l'étape (i) soit pendant une partie de l'étape (ii). En 3046878 8 d'autres termes, la première impulsion de l'étape (ii) est mise en oeuvre après le début de l'étape (i), que ladite étape soit terminée ou non. L'étape (i) peut être exécutée par injection d'espèces oxydantes comprenant au moins une des espèces suivantes : oxygène, ozone, protoxyde d'azote. Lesdites espèces 5 oxydantes peuvent être injectées en continu durant toute la durée du procédé de nettoyage. Dans le cas du cuivre, les espèces chimiques utilisées pour volatiliser le cuivre oxydé comprennent du hfacH (hexafluoroacetylacetone). Cependant, lesdites espèces chimiques adaptées pour volatiliser le dépôt métallique oxydé pourraient également réagir 10 avec le dépôt de cuivre, et ainsi passiver la surface exposée dudit dépôt. Cette réaction de passivation du dépôt métallique 2 est une réaction parasite qui limite ou bloque toute réaction d'oxydation dudit dépôt par les espèces oxydantes. Afin d'éviter cette réaction parasite, les espèces chimiques adaptées pour volatiliser le dépôt de cuivre oxydé sont injectées, à l'étape (ii), selon une séquence d'impulsions. La chambre 200 peut être 15 maintenue à une température comprise entre 20 et 250°C de manière à maintenir sous forme gazeuse les espèces chimiques adaptées pour volatiliser le dépôt de cuivre. De préférence, la température de la chambre 200 est maintenue à une température comprise entre 20 et 150°C, de préférence encore entre 20 et 100°C. De manière avantageuse, la durée des impulsions de la séquence d'impulsions est 20 ajustée de sorte que la couche de cuivre oxydé ne soit pas intégralement volatilisée. Ainsi, la portion de couche de cuivre oxydé restante forme une barrière à la passivation du dépôt métallique par les espèces chimiques injectées à l'étape (ii). La réaction de passivation se trouve alors bloquée. Dit autrement, au cours de l'injection des espèces chimiques pour volatiliser le dépôt métallique oxydé, lors de l'impulsion la plus tardive de 25 deux impulsions successives, les espèces chimiques sont injectées en quantité sous- stoechiométrique par rapport à la quantité du dépôt métallique oxydé entre lesdites deux impulsions successives. La quantité sous-stoechiométrique susmentionnée est déterminable par la connaissance à la fois de la quantité du dépôt de cuivre oxydé à l'étape (i) entre deux impulsions de la séquence d'impulsions de l'étape (ii), et du 30 mécanisme de réaction de volatilisation dudit dépôt de cuivre oxydé avec les espèces chimiques. Le mode d'injection des espèces chimiques adaptées pour volatiliser le dépôt de cuivre oxydé présente ainsi de nombreux avantages. Le premier avantage est de procurer un procédé de nettoyage efficace. En effet, la réaction parasite comprenant la passivation 35 du dépôt de cuivre par les espèces chimiques injectées est ainsi neutralisée. La neutralisation de ladite réaction parasite évite d'avoir à ouvrir la chambre 200, et d'avoir recours à un processus de décontamination de cette dernière. Le second avantage est de 3046878 9 pouvoir contrôler la quantité d'espèces chimiques injectées à l'étape (ii), et permet ainsi de réduire le coût du procédé de nettoyage. Ce nettoyage permet de minimiser le risque de dépôt de particules sur la surface du substrat 1 et ainsi d'améliorer la qualité des couches déposées. Cela permet aussi 5 d'augmenter le nombre de plaques qui peuvent être déposées avant un nettoyage par bain chimique de la chambre. Il résulte des différentes mesures décrites plus haut que les couches de nitrure de titane ou de tantale et de cuivre sont non seulement formées avec une bonne conformité dans un temps réduit (typiquement, de l'ordre de 2 minutes pour une couche de 40 nm), 10 mais aussi qu'elles présentent une meilleure qualité qui minimise le risque d'électromigration ultérieure du cuivre. Ainsi, l'interconnexion est plus fiable et ce, dans une plus longue durée, que les interconnexions existantes. On va maintenant décrire un exemple d'un dispositif permettant la formation du via selon le procédé décrit ci-dessus. 15 En référence à la figure 2, ledit dispositif comprend une première chambre de dépôt 100 étanche et apte à être mise sous vide, connectée par une première voie d'injection à une source d'un précurseur de titane ou de tantale (non représentée) et par une seconde voie d'injection à une source d'un gaz réactif à base d'azote (non représentée), ainsi qu'une seconde chambre de dépôt 200 étanche connectée à une source de cuivre (non 20 représentée). Le dispositif comprend en outre un sas d'entrée/sortie 400 par lequel on introduit les substrats sur lesquels on doit former les couches de nitrure de tantale ou de titane et de cuivre et on retire les substrats sur lesquels lesdites couches ont été formées. Ledit sas d'entrée/sortie 400 débouche dans une chambre intermédiaire 300 25 étanche, laquelle est apte à communiquer séparément avec la première chambre de dépôt 100 et avec seconde chambre de dépôt 200. Un système de manipulation et de transport du substrat (non représenté) est agencé à l'intérieur du dispositif pour permettre le déplacement du substrat d'une chambre à une autre. L'atmosphère dans la chambre 300 est contrôlée, de sorte à éviter toute 30 contamination d'un substrat circulant entre les différentes chambres. Ainsi, au cours de la formation de la couche de nitrure de tantale ou de titane, le substrat se déplace entre la chambre intermédiaire 300, la chambre de dépôt 100 et la chambre de dépôt 200, lesdites chambres étant fluidiquement isolées les unes des autres pendant la mise en oeuvre des étapes du procédé. Ainsi, on évite toute contamination 35 mutuelle des chambres susceptible de générer des dépôts difficiles à nettoyer sur les parois internes des chambres. REVENDICATIONS1. Procédé de fabrication d'une interconnexion comprenant un via (V) s'étendant au travers d'un substrat (1), comprenant successivement : (a) le dépôt d'une couche (11) de nitrure de titane ou de nitrure de tantale sur une surface principale (1A) du substrat et sur la surface intérieure (10A, 10B) d'au moins un trou (10) s'étendant dans au moins une partie de l'épaisseur dudit substrat, (b) le dépôt d'une couche (12) de cuivre sur ladite couche (11) de nitrure de titane ou de nitrure de tantale, (c) le remplissage du trou (10) par du cuivre, ledit procédé étant caractérisé en ce que pendant l'étape (a) le substrat (1) est agencé dans une première chambre de dépôt (100) et en ce que ladite étape (a) comprend l'injection d'un précurseur de titane ou de tantale en phase gazeuse dans la chambre de dépôt par une première voie d'injection selon une première séquence d'impulsions et l'injection d'un gaz réactif à base d'azote dans la chambre de dépôt par une seconde voie d'injection distincte de la première voie d'injection selon une seconde séquence d'impulsions, la première séquence d'impulsions et la seconde séquence d'impulsions étant déphasées. 2. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que l'étape (c) de remplissage du trou (10) est mise en oeuvre par électrodéposition de cuivre. 3. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que le remplissage du trou (10) est réalisé en poursuivant le dépôt de cuivre réalisé à l'étape (b). 4. Procédé selon l'une des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que l'épaisseur de la couche (11) de nitrure de titane ou de nitrure de tantale déposée à l'étape (a) est inférieure ou égale à 100 nm. 5. Procédé selon l'une des revendications 1 à 4, caractérisé en ce que l'épaisseur de la couche (12) de cuivre déposée à l'étape (b) est comprise entre 50 et 300 nm. 6. Procédé selon l'une des revendications 1 à 5, caractérisé en ce que le dépôt de la couche (12) de cuivre à l'étape (b) est réalisé dans une seconde chambre de dépôt (200) différente de la première chambre (100). 3046878 11 7. Procédé selon la revendication 6, caractérisé en ce que l'étape (b) est mise en oeuvre par dépôt chimique en phase vapeur. 8. Procédé selon l'une des revendications 6 ou 7, caractérisé en ce que la 5 première et la seconde chambre de dépôt (100, 200) sont connectées séparément de manière étanche à une chambre intermédiaire (300) et en ce qu'entre les étapes (a) et (b), le substrat est transféré de la première chambre (100) à la seconde chambre (200) par la chambre intermédiaire (300) sous vide d'air. 10 9. Procédé selon l'une des revendications 1 à 8, caractérisé en ce que le via (V) présente un facteur de forme supérieur ou égal à 5 : 1. 10. Procédé selon l'une des revendications 1 à 9, caractérisé en ce qu'il comprend, après le remplissage du trou (10), l'enlèvement d'au moins une partie (1B) de 15 l'épaisseur du substrat (1) opposée à la surface principale (1A) sur laquelle la couche de nitrure de titane ou de nitrure de tantale et la couche de cuivre ont été déposées de sorte à exposer l'intérieur du via (V) de sorte à rendre ledit via traversant. 11. Procédé selon l'une des revendications 1 à 10, caractérisé en ce qu'après 20 l'étape (a), il comprend un nettoyage de la chambre (100) dans laquelle la couche (10) de nitrure de titane ou de nitrure de tantale a été déposée pour éliminer ledit nitrure de titane ou nitrure de tantale déposé sur une paroi intérieure de ladite chambre, ledit nettoyage étant effectué avec un gaz réactif composé de fluor et activé par une source plasma. 25 12. Procédé selon l'une des revendications 1 à 11, caractérisé en ce qu'après l'étape (b), il comprend un nettoyage de la chambre (200) dans laquelle la couche (11) de cuivre a été déposée pour éliminer ledit cuivre déposé sur une paroi intérieure de ladite chambre, ledit nettoyage comprenant les étapes suivantes : (i) oxydation du cuivre ; 30 (ii) injection, selon une séquence d'impulsions, d'espèces chimiques adaptées pour volatiliser ledit cuivre oxydé, ladite étape (ii) débutant après le début de l'étape (i). 13. Dispositif pour la mise en oeuvre d'un procédé selon l'une des revendications 1 35 à 12, caractérisé en ce qu'il comprend : - une première chambre de dépôt (100) étanche connectée à une source d'un précurseur de titane ou de tantale par une première voie d'injection et à une source d'un gaz réactif à base d'azote par une seconde voie d'injection distincte de la première voie, 3046878 12 - une seconde chambre de dépôt (200) étanche connectée à une source de cuivre et - une chambre intermédiaire (300) à laquelle sont connectées séparément de manière étanche la première et la seconde chambre de dépôt (100, 200). 5