Brevet FR3026323A1 — publié le 20160401

SYSTÈME ET PROCÉDÉ DE NETTOYAGE PAR ULTRASONS D'UNE SURFACE ENCRASSÉE COMPORTANT UN DISPOSITIF GÉNÉRATEUR D'ONDES ULTRASONORES DESCRIPTION DOMAINE TECHNIQUE La présente invention se rapporte au domaine général des systèmes de nettoyage de surfaces encrassées, et tout particulièrement au domaine des systèmes de nettoyage des surfaces de miroirs pour des centrales solaires, et plus spécifiquement pour de telles centrales solaires comportant des réflecteurs à miroirs de Fresnel linéaires (ou encore « CLFR » pour « Compact Linear Fresnel Reflector »). L'invention trouve des applications dans différents domaines, par exemple pour le nettoyage de surfaces planes encrassées situées sur des bâtiments tels que des habitats, des locaux industriels ou encore des serres. De telles surfaces peuvent par exemple être en polymère, en aluminium ou le plus souvent en verre. Il peut par exemple s'agir de surfaces de panneaux photovoltaïques. Toutefois, de façon privilégiée, l'invention s'applique au domaine du solaire thermique à concentration (ou encore domaine du « CSP » pour « Concentrated Solar Power » anglais), et plus particulièrement au domaine des collecteurs linéaires de Fresnel, voire encore au domaine des héliostats des centrales à tour. L'invention propose ainsi un système de nettoyage par ultrasons d'une surface encrassée comportant un dispositif générateur d'ondes ultrasonores, une centrale solaire comportant un tel système de nettoyage, ainsi qu'un procédé de nettoyage associé. ÉTAT DE LA TECHNIQUE ANTÉRIEURE Parmi les technologies connues de la filière du solaire thermodynamique, il existe la technologie du solaire thermique à concentration (CSP) qui utilise des miroirs pour concentrer le rayonnement solaire sur une petite surface. La technologie CSP consiste plus précisément à utiliser le rayonnement solaire pour chauffer un fluide caloporteur servant de source chaude dans un cycle thermodynamique. La concentration permet d'atteindre des températures plus ou moins élevées, et ainsi de bénéficier de rendements de conversion thermodynamique plus ou moins importants. Les techniques développées autour de la technologie CSP se distinguent par leur méthode de concentration des rayons solaires, leur méthode de transport, et éventuellement de stockage, de la chaleur, notamment par le biais d'un ou plusieurs fluides caloporteurs, et leur méthode de conversion thermodynamique, par exemple par le biais de turbines à vapeur, de turbines à gaz, de moteurs du type Stirling, entre autres. On rencontre ainsi typiquement quatre familles de systèmes solaires à concentration appartenant à la technologie CSP, à savoir : les collecteurs cylindro- paraboliques à foyer linéaire, les collecteurs linéaires de Fresnel, les centrales à tour à récepteur central, et les collecteurs paraboliques à foyer mobile. Les collecteurs cylindro-paraboliques et les collecteurs linéaires de Fresnel constituent des systèmes solaires à concentration linéaire, tandis que les centrales à tour et les collecteurs paraboliques constituent des systèmes solaires à concentration ponctuelle. Par ailleurs, les centrales à tour et les collecteurs linéaires de Fresnel constituent des systèmes solaires à concentration avec récepteurs fixes, tandis que les collecteurs paraboliques et les collecteurs cylindro-paraboliques constituent des systèmes solaires à concentration avec récepteurs mobiles. Un élément clé de tels systèmes solaires à concentration est le champ de réflecteurs primaires. Par exemple, dans le cas des collecteurs linéaires de Fresnel (technologie CLFR), le champ de réflecteurs primaires, en suivant la course du soleil d'est en ouest au cours d'une journée, reçoit les rayons lumineux directs et les réfléchit en direction du récepteur fixe. Le facteur de concentration pour de tels collecteurs linéaires de Fresnel est typiquement de l'ordre de 50, ce qui signifie que le flux solaire au récepteur est égal à environ 50 fois le flux solaire qui impacte le sol. Les fonctions des réflecteurs à miroirs de Fresnel linéaires sont de réfléchir, de concentrer et d'orienter le flux solaire incident. La réflexion des miroirs doit donc être spéculaire. Par « réflexion spéculaire », on désigne la quantité de lumière réfléchie dans une direction précise d'incidence. En particulier, le rayon de lumière réfléchi de façon spéculaire est le rayon qui se trouve à la symétrie du rayon incident par rapport à la normale de la surface réfléchissante. Par ailleurs, l'expression « réflexion diffuse » désigne toute la quantité de lumière réfléchie autre que celle réfléchie de façon spéculaire. Ainsi, la réflexion totale d'un miroir correspond à la somme de la réflexion spéculaire et de la réflexion diffuse. Or, lorsque ces miroirs de Fresnel sont sales, leur réflexion totale baisse légèrement mais surtout leur réflexion spéculaire diminue considérablement, impactant ainsi les fonctionnalités premières de tels miroirs. En effet, une réflexion diffuse importante procure certes une réflectivité élevée, mais elle n'assure pas la fonction d'orientation et de concentration vers la cible précise qu'est celle du récepteur. Ces fonctionnalités et besoins en nettoyage associés, exposés ci-dessus pour les collecteurs linéaires de Fresnel, se retrouvent pour les quatre familles de la technologie CSP. En effet, pour toute cette technologie, les réflecteurs ont pour fonction de réfléchir et de concentrer l'ensemble de l'irradiation solaire directe incidente vers le récepteur, situé à quelques mètres ou quelques dizaines de mètres des réflecteurs. Ils sont composés de miroirs assemblés à une structure montée sur des systèmes de rotation permettant de suivre la course du soleil au cours de la journée. Toutes les familles de la technologie CSP utilisent donc des miroirs similaires, soumis aux mêmes conditions environnementales et aux mêmes exigences de durabilité. Aussi, toutes les technologies issues de la technologie CSP requièrent un nettoyage des miroirs pour leur bon fonctionnement. En particulier, des trois familles de matériaux existantes pour la conception des miroirs, à savoir en polymère, en aluminium et en verre, les miroirs en verre représentent plus de 80 % des miroirs installés sur les centrales solaires thermodynamiques. C'est ainsi pour ce type de miroirs que les problématiques de nettoyage sont les plus critiques pour les industriels ayant mis en oeuvre, ou envisageant d'installer, une centrale solaire thermique à concentration. Dans le cas de la technologie CLFR des collecteurs linéaires de Fresnel, les spécificités de celle-ci doivent être prises en compte lors de l'élaboration de solutions de nettoyage des miroirs. En particulier, les lignes de réflecteurs présentent une longueur importante, par exemple de l'ordre de 100 à 300 m, voire jusqu'à 900 m. De plus, environ entre 10 et 20 lignes de réflecteurs sont montées en parallèle, illuminant le même récepteur. Les miroirs de Fresnel sont en outre peu courbés (les rayons de courbure sont compris entre environ 15 et 30 m), contrairement par exemple aux miroirs des collecteurs cylindro-paraboliques. Par ailleurs, les miroirs de Fresnel d'une même ligne forment une surface non continue, car il existe un espace entre réflecteurs tous les 6 à 10 m du fait que les réflecteurs sont supportés par des structures métalliques fixées au sol sur lesquelles ils sont mis en rotation. Des solutions de nettoyage des miroirs de centrales solaires, et notamment de miroirs de centrales solaires comportant des réflecteurs à miroirs de Fresnel linéaires, ont déjà été envisagées dans l'art antérieur. De façon générale, ces solutions doivent pouvoir répondre aux problématiques posées par le nettoyage des miroirs. En particulier, les miroirs se salissant, cela diminue leur réflectivité et donc la puissance thermique et électrique générée par une centrale solaire. Les salissures peuvent provenir de nombreuses sources, et par exemple de particules d'aérosols, de matières non organiques provenant de l'érosion du sol (terres agricoles à proximité), de matières organiques (telles que pollen, bactéries, algues, lichen, fientes), ou encore de sable et/ou de poussière d'un environnement désertique. Une revue des sources d'encrassement possibles, de leur effet et des possibilités de nettoyage a d'ailleurs été réalisée dans l'ouvrage intitulé « A comprehensive review of the impact of dust on the use of solar energy : History, investigations, results, literature, and mitigation a pproaches », T. Sa rver et al, Renewable and Sustainable Energy Reviews, Volume 22, juin 2013, pages 698-733. Dans la technologie CSP, la perte de réflectivité est particulièrement sensible aux dépôts de poussière en surface puisque seule la réflectivité spéculaire est exploitée. La présence de poussière sur un miroir ayant tendance à faire diffuser la lumière réfléchie, le problème d'encrassement a des conséquences bien plus fortes que dans le cas d'un système photovoltaïque sur la productivité, à savoir la puissance thermique générée, d'une centrale CSP puisqu'il impacte directement la ressource solaire exploitable. Comme indiqué précédemment, les miroirs en verre sont les plus utilisés dans les installations de centrales solaires à concentration. De tels miroirs se composent d'un substrat de verre, d'une épaisseur d'environ 2 à 5 mm, sur lequel est déposée une fine couche d'argent réflectrice protégée par une couche métallique en face arrière. Un système de plusieurs couches de peinture est appliqué en face arrière du miroir pour protéger les couches métalliques contre la corrosion. Nettoyer un miroir revient donc à nettoyer du verre généralement, voire une couche dure déposée en surface pour les miroirs en aluminium et en polymère. Les centrales solaires à concentration (CSP) sont généralement installées dans des zones du monde où l'ensoleillement est fort, mais le plus souvent des zones arides et sèches où l'encrassement des miroirs peut être rapide. Dans ces zones, le nettoyage « naturel » des miroirs par la pluie est peu présent, même s'il peut y avoir la présence de rosée au matin sur les miroirs. Ainsi, le nettoyage régulier des miroirs est requis pour maintenir la performance du champ solaire, à moindre coût et à moindre consommation d'eau qui est une ressource rare dans les zones adaptées à la technologie CSP. Il est en effet à noter que les pertes de réflectivité peuvent aller de moins de 1 % par semaine à plus de 10 % en fonction notamment du lieu, de la présence de vent ou d'une tempête de sable par exemple. La méthode de nettoyage la plus employée depuis les années 1980, sur les champs solaires consiste à pulvériser, sous pression ou non, de l'eau distillée sur les miroirs et à les brosser. Elle n'est néanmoins pas entièrement satisfaisante, notamment du fait du besoin d'eau en grande quantité qu'elle implique et du fait du risque d'abrasion dans la durée au contact des brosses. En outre, des techniques préventives ont également été étudiées pour envisager des traitements de surface pour rendre les miroirs hydrophobes ou autonettoyants. Toutefois, ces techniques supposent la mise au point de traitements de surface qui n'altèrent pas la réflectivité des miroirs et qui résistent dans le temps aux conditions climatiques, telles que les fortes variations de température, l'abrasion ou les rayonnements ultra-violets. Par ailleurs, d'autres technologies de procédés de nettoyage de miroirs de centrales solaires ont été décrites dans l'art antérieur. Elles sont présentées ci-après. Ainsi, la demande de brevet US 2012/0152281 Al, la demande internationale WO 2010/106195 Al et la demande internationale WO 2011/106665 A2 décrivent par exemple des techniques de nettoyage utilisées sur les champs solaires de type cylindroparabolique, mettant en oeuvre un véhicule, de type camion ou tracteur, qui porte un bras de nettoyage et transporte une grande quantité d'eau. Avec de tels systèmes, le bras de nettoyage nettoie le miroir par aspersion d'eau, couplée ou non à un brossage mécanique. Toutefois, ces systèmes n'ont été mis au point que pour les centrales cylindro-paraboliques. Ils sont également très consommateurs d'eau, celle-ci n'étant généralement pas récupérée et/ou recyclée. De plus, lorsque des brosses sont utilisées en plus de la pulvérisation d'eau distillée, le nettoyage est amélioré mais le risque de casse est important. Les véhicules utilisés sont également très lourds car ils doivent emporter beaucoup d'eau, ce qui nécessite une préparation du sol adaptée au roulage répété de lourds engins. Or, cette préparation de sol peut être difficile, voire impossible, par exemple dans le désert. De plus, elle est également très coûteuse. Le nettoyage régulier avec de tels véhicules engendre l'apparition d'ornières sur le sol. Par ailleurs, lorsqu'ils se déplacent, les véhicules soulèvent de la poussière qui peut se redéposer sur les miroirs et les encrasser de nouveau. En outre, ces solutions nécessitent la présence d'un opérateur. On connaît également le système de nettoyage « PARIS» (PARabolic trough cleaning System), développé par la société SENER Aerospace, qui prévoit l'utilisation d'un engin autonome, sans conducteur, et moins lourd que les véhicules décrits précédemment. Le nettoyage s'effectue également par brossage avec pulvérisation d'eau, et la consommation d'eau est importante. Les systèmes décrits ci-dessus, utilisant des véhicules avec des bras déportés pour le nettoyage, ne sont pas adaptés au champ solaire de miroirs du type Fresnel, du fait justement de l'utilisation de bras déportés. En effet, un champ solaire de miroirs de Fresnel comporte plusieurs lignes de miroirs parallèles qui sont placés sous le récepteur, la largeur totale de ces lignes dépassant les 10 m et pouvant aller jusqu'à 20 m. Un véhicule, par exemple un camion, circulant sur le bord du champ solaire aurait donc à déplier un bras de nettoyage d'une longueur très importante pour pouvoir nettoyer les miroirs, ce qui paraît difficilement réalisable. De plus, le récepteur est soutenu en hauteur par des pieds, ou poutres, avec dans la plupart des cas des câbles de renfort ancrés au sol, ce qui gêne l'accès par les côtés du champ solaire en périphérie de celui-ci et gêne également l'accès entre deux lignes de miroirs. D'autres technologies sont apparues dans l'art antérieur pour le nettoyage spécifique des champs solaires de type Fresnel. Ainsi, la demande internationale WO 2011/113555 A2, en lien avec le système « HECTOR» (HEliostats Cleaning Team Oriented Robot) développé par la société SENER Aerospace, décrit un robot autonome en énergie destiné à rouler sur un miroir pour le nettoyer, guidé par un système optique et n'emportant que la quantité d'eau nécessaire au nettoyage d'une ligne de miroirs. Le nettoyage se fait par brossage et aspersion d'eau. Ce système est coûteux et complexe, car il requiert la gestion d'une flotte de petits robots avec un système de transport, chaque robot devant être rempli en eau et rechargé en énergie en bout de lignes de réflecteurs de Fresnel. De plus, le guidage par système optique implique un contrôle de commande fiable, un entretien du système optique et comporte des risques de défaillance, par exemple en cas de chute du robot. Le brevet US 8,240,320 B2 décrit encore un robot guidé sur la structure du réflecteur, nettoyant les miroirs par brossage avec eau. Ce système présente l'inconvénient d'utiliser une brosse et donc de générer un contact mécanique entre le moyen de nettoyage et le miroir. Ce système induit ainsi un risque sur le long terme d'abrasion du miroir à cause du frottement de la brosse. Le risque est même amplifié si, au cours de l'exploitation, il arrive que l'alimentation en eau de la brosse soit défaillante. Dans ce cas, un brossage à sec du miroir empoussiéré conduit rapidement à sa dégradation. Enfin, le modèle d'utilité CN 202 336 465 U décrit l'utilisation d'un nettoyage par soufflage d'air, autoporté sur le miroir. Le nettoyage par soufflage d'air est toutefois très consommateur d'énergie, pour comprimer l'air, et inefficace pour les poussières collées au miroir. Par ailleurs, l'art antérieur a également envisagé d'utiliser les ondes ultrasonores pour effectuer le nettoyage de miroirs de centrales solaires. Ainsi notamment, des travaux ont été réalisés pour les laboratoires Sandia dans une publication intitulée « Preliminary Design Report : New ldeas For Heliosat Reflector Cleaning Systems », J. Schumacher et al, décembre 1979, Schumacher and Associates, Inc. Dans ces travaux, il est imaginé d'utiliser un robot qui se déplace à la surface des miroirs avec des inducteurs ultrasonores placés à faible distance de la surface des miroirs, l'idée étant que les ondes ultrasonores peuvent réduire les forces d'adhésion entre la poussière et la surface du miroir. Associé à un soufflage par air comprimé pour chasser la poussière rendue mobile par l'action des ondes ultrasonores, cette technique peut donc conduire au nettoyage de cette surface. Néanmoins, cette technique n'est pas entièrement satisfaisante. En effet, elle induit un échauffement du système d'inducteur ultrasonore et une difficulté à transmettre les ondes dans l'air. En effet, l'air est un milieu peu adapté à la propagation des ondes ultrasonores. De plus, même lorsque l'action des ondes ultrasonores propagées dans l'air est suffisante pour déstabiliser la couche encrassante à la surface du miroir, le fait de souffler les poussières par un jet d'air incliné entraîne des inconvénients majeurs : les poussières soufflées peuvent se redéposer à la surface des miroirs à proximité des miroirs nettoyés ; le fait de générer de l'air comprimé nécessite beaucoup d'énergie et semble peu compatible avec le fait d'avoir un robot mobile pas trop lourd et apte à rouler sur les miroirs. Une autre technique utilisant les ondes ultrasonores a été développée par l'université de Cranfield et présentée à la conférence SolarPACES en septembre 2013, intitulée « A Comparison of Polymer Film and Glass Collectors for Concentrating Solar Power », C. Sa nsom et al. L'idée est de projeter de l'eau à la surface du miroir, et de créer des bulles dans une buse d'injection par un inducteur ultrasonore placé en sortie de buse. Les bulles ainsi créées et projetées à la surface du miroir avec l'eau doivent ainsi caviter et créer un impact sur la surface bien supérieur à celui d'un simple jet d'eau. Il ne s'agit donc pas véritablement d'un nettoyage par ultrasons, mais d'un nettoyage par jet d'eau avec effet de bulles créées par ultrasons. Cette technique présente l'inconvénient de consommer beaucoup d'eau, de ne traiter qu'une faible surface de miroir, et de nécessiter beaucoup d'énergie pour la compression de l'eau. De plus, cette technique de laboratoire est très difficilement transposable sur un système de nettoyage d'un champ solaire. En outre, une autre technique de nettoyage par ultrasons a été exposée dans la thèse de Gérald Mazue pour le nettoyage de coques de bateaux, intitulée « Caractérisation de l'activité ultrasonore forte puissance à basse fréquence en présence d'une hydrodynamique perturbée », soutenue le 21 décembre 2012 à l'Université de Franche Comté. L'idée est de nettoyer les coques de bateaux par un système à ultrasons immergé et positionné au bout d'un bras articulé. Cette technique n'est pas adaptée au nettoyage de miroirs de centrales solaires et n'envisage pas le déplacement d'une lame d'eau pour le nettoyage. EXPOSÉ DE L'INVENTION Il existe par conséquent un besoin pour proposer une solution alternative pour permettre le nettoyage de surfaces encrassées, et notamment le nettoyage des surfaces des miroirs de centrales solaires, en particulier des centrales solaires comportant des réflecteurs à miroirs de Fresnel linéaires. Plus spécifiquement, il existe un besoin pour concevoir un système de nettoyage de miroirs permettant de maintenir efficacement la réflectivité uniforme et à haut niveau sur le champ de miroirs, de minimiser ou de supprimer la consommation d'eau, et de ne pas endommager les miroirs par abrasion. Un tel système de nettoyage doit également être prévu pour être économe en énergie, et pour ne pas casser les miroirs (absence de contact mécanique entre le moyen de nettoyage et la surface des miroirs) et ne pas endommager le terrain environnant. De même, il doit pouvoir être d'un coût de fabrication faible, et apte à tolérer les conditions climatiques, telles que la pluie ou le vent, tout en pouvant fonctionner jour et nuit. L'invention a pour but de remédier au moins partiellement aux besoins mentionnés ci-dessus et aux inconvénients relatifs aux réalisations de l'art antérieur. L'invention a ainsi pour objet, selon l'un de ses aspects, un système de nettoyage par ultrasons d'une surface encrassée, caractérisé en ce qu'il comporte : - une structure principale formant châssis comportant des moyens de déplacement du système de nettoyage sur la surface encrassée, - un réservoir de liquide de nettoyage porté par la structure principale, - un dispositif générateur d'ondes ultrasonores pour le nettoyage de la surface encrassée, porté par la structure principale et comportant : - une pluralité de transducteurs piézo-électriques, aptes à générer des ondes ultrasonores, dont les faces actives sont fixées à au moins une plaque de transmission pour la transmission de la puissance acoustique au liquide de nettoyage, - une structure support, solidarisée à la structure principale, dans laquelle sont situés les transducteurs piézo-électriques, - au moins un élément souple de nettoyage, en particulier au moins un élément souple de nettoyage arrière ou proximal, situé de manière la plus rapprochée du réservoir de liquide de nettoyage, s'étendant depuis au moins un bord de la structure support et délimitant, avec un ou plusieurs éléments de fermeture s'étendant depuis le ou les autres bords de la structure support, une cavité, ainsi sensiblement fermée, d'écoulement du liquide de nettoyage provenant du réservoir de liquide de nettoyage, les ondes ultrasonores étant émises dans la cavité au contact du liquide de nettoyage par les transducteurs piézo-électriques, - un dispositif d'écoulement du liquide de nettoyage dans la cavité, prélevé depuis le réservoir de liquide de nettoyage. Grâce à l'invention, il peut être possible d'obtenir une grande efficacité de nettoyage de surfaces encrassées par le biais de l'utilisation des ultrasons. Le nettoyage peut se faire sans contact mécanique entre les moyens de nettoyage formés par les ultrasons et la surface encrassée, évitant ainsi tout risque de dégradation de la surface encrassée. De plus, le système de nettoyage selon l'invention peut ne nécessiter qu'une très faible consommation en énergie (absence d'air) et ainsi présenter une importante autonomie. Les salissures décollées par ultrasons de la surface encrassée sont par ailleurs confinées dans la cavité (absence de projection), avant d'être le cas échéant évacuées au passage entre deux surfaces encrassées adjacentes. Le système de nettoyage peut en outre être utilisé pendant la nuit afin de ne pas nuire à l'exploitation d'une centrale solaire, par exemple. Le besoin en main d'ceuvre est également très réduit, voire quasiment inexistant. Enfin, la consommation en liquide de nettoyage, notamment en eau, est très réduite en comparaison avec les solutions de l'art antérieur, par exemple de 0,15 L/m2 jusqu'à moins de 0,03 L/m2. Le système de nettoyage selon l'invention peut en outre comporter l'une ou plusieurs des caractéristiques suivantes prises isolément ou suivant toutes combinaisons techniques possibles. De façon avantageuse, la surface encrassée n'est jamais en contact avec la plaque de transmission de sorte à ne pas détériorer celle-ci. Préférentiellement, le dispositif générateur d'ondes ultrasonores peut comporter au moins deux éléments souples de nettoyage s'étendant sensiblement parallèlement depuis au moins deux bords opposés de la structure support et délimitant, avec un ou plusieurs éléments de fermeture s'étendant depuis le ou les autres bords de la structure support, la cavité d'écoulement du liquide de nettoyage. Le système de nettoyage est par ailleurs avantageusement configuré pour que le volume de la cavité d'écoulement du liquide de nettoyage soit totalement rempli par du liquide de nettoyage en fonctionnement, afin de mettre en contact la plaque de transmission, à partir de laquelle sont émises les ondes ultrasonores, avec le liquide de nettoyage. Les moyens de déplacement du système de nettoyage sur la surface encrassée peuvent comporter des roues. Le réservoir de liquide de nettoyage peut comporter de l'eau. L'eau peut par exemple être une eau déminéralisée à une température inférieure ou égale à 60°C, notamment comprise entre 40 et 60°C. Le système de nettoyage peut encore comporter des moyens d'alimentation en énergie du dispositif générateur d'ondes ultrasonores, notamment une batterie et/ou des panneaux solaires, embarqués sur la structure principale. En particulier, les moyens d'alimentation en énergie peuvent comporter une batterie, éventuellement rechargée par des cellules photovoltaïques de panneaux solaires pouvant couvrir la surface supérieure du système de nettoyage, notamment du réservoir. Les cellules photovoltaïques peuvent permettre de recharger la batterie hors fonctionnement du système mais également d'apporter un peu d'énergie lors du fonctionnement en journée. Il peut également s'agir d'un groupe électrogène portatif. La plaque de transmission peut être métallique, notamment réalisée en acier inoxydable. Le ou les éléments souples de nettoyage peuvent être réalisés en matériau élastique, notamment en caoutchouc, formant ainsi des raclettes de nettoyage. Le ou les éléments souples de nettoyage peuvent présenter une hauteur, entre la plaque de transmission et la surface encrassée, comprise entre 2 et 20 mm, notamment d'environ 10 mm. Les transducteurs piézo-électriques peuvent par exemple présenter une puissance électrique d'environ 75 W et une fréquence comprise entre 20 et 28 kHz. En outre, l'invention a aussi pour objet, selon un autre de ses aspects, une centrale solaire, caractérisée en ce qu'elle comporte une pluralité de réflecteurs solaires et un système de nettoyage tel que défini précédemment, le système étant apte à permettre le nettoyage de miroirs encrassés des réflecteurs solaires. La centrale solaire peut notamment correspondre à un collecteur linéaire de Fresnel, comportant une pluralité de lignes parallèles de réflecteurs du type à miroir de Fresnel linéaire. Par ailleurs, l'invention a également pour objet, selon un autre de ses aspects, un procédé de nettoyage par ultrasons d'une surface encrassée, caractérisé en ce qu'il est mis en oeuvre par l'intermédiaire d'un système de nettoyage tel que défini précédemment, et en ce qu'il comporte l'étape de déplacement du système de nettoyage sur la surface encrassée. Le système de nettoyage peut être utilisé pour permettre le nettoyage d'au moins deux surfaces encrassées consécutives, espacées l'une de l'autre par un vide. De plus, le liquide de nettoyage présent dans la cavité d'écoulement du liquide de nettoyage et chargé en salissures peut être évacué dans ledit vide lors du passage du système de nettoyage d'une surface encrassée à l'autre. En particulier, le système de nettoyage peut être utilisé pour le nettoyage d'une ligne de plusieurs réflecteurs d'une centrale solaire et le vide peut correspondre à l'espace formé entre deux réflecteurs consécutifs. En outre, la vitesse de déplacement du système de nettoyage peut être réduite à proximité dudit vide, juste avant de parvenir audit vide et juste après franchissement dudit vide, pour amplifier le nettoyage des surfaces encrassées à proximité dudit vide. En effet, lorsque le système de nettoyage arrive par exemple au niveau de l'espace entre deux réflecteurs d'une centrale solaire, au moins un élément souple de nettoyage peut se retrouver dans cet espace de sorte que le liquide de nettoyage peut être au moins en partie perdu par écoulement dans cet espace. Dans ce cas, le nettoyage optimal peut nécessiter une durée de nettoyage plus longue à proximité de cet espace. Le système de nettoyage, la centrale solaire et le procédé de nettoyage selon l'invention peuvent comporter l'une quelconque des caractéristiques énoncées dans la description, prises isolément ou selon toutes combinaisons techniquement possibles avec d'autres caractéristiques. BRÈVE DESCRIPTION DES DESSINS L'invention pourra être mieux comprise à la lecture de la description détaillée qui va suivre, d'un exemple de mise en oeuvre non limitatif de celle-ci, ainsi qu'a l'examen des figures, schématiques et partielles, du dessin annexé, sur lequel : - la figure 1 représente, en perspective et de façon partielle, un exemple de système de nettoyage conforme à l'invention, placé sur la surface encrassée d'un miroir de réflecteur de type CLFR, - la figure 2 illustre, en perspective et partiellement, un détail de réalisation du dispositif générateur d'ondes ultrasonores du système de nettoyage de la figure 1, - la figure 3 illustre, en perspective et partiellement, une autre représentation sous forme éclatée d'un détail du dispositif générateur d'ondes ultrasonores du système de nettoyage de la figure 1, - la figure 4A représente, en coupe, un exemple de transducteur piézoélectrique utilisé dans le dispositif générateur d'ondes ultrasonores du système de nettoyage de la figure 1, avec présence d'une plaque de transmission, et - la figure 4B représente, en perspective, l'exemple de transducteur piézo- électrique de la figure 4A. Dans l'ensemble de ces figures, des références identiques peuvent désigner des éléments identiques ou analogues. De plus, les différentes parties représentées sur les figures ne le sont pas nécessairement selon une échelle uniforme, pour rendre les figures plus lisibles. EXPOSÉ DÉTAILLÉ D'UN MODE DE RÉALISATION PARTICULIER En référence aux figures 1 à 4B, il est présenté ci-après un exemple de réalisation d'un système de nettoyage 1 par ultrasons de surfaces encrassées M conforme à l'invention. Dans cet exemple, on considère que la surface encrassée est constituée par un miroir M d'un réflecteur du type CLFR, c'est-à-dire un réflecteur à miroir de Fresnel linéaire, d'une centrale solaire du type Fresnel. Ce miroir M comporte par exemple une surface à nettoyer constituée par du verre. La figure 1 représente ainsi, en perspective et de façon partielle, le système de nettoyage 1 selon l'invention placé sur la surface du miroir du réflecteur du type CLFR. Sur cette figure 1, les panneaux photovoltaïques 17 n'ont pas été représentés par souci de clarté. Par ailleurs, la figure 2 illustre, en perspective et partiellement, un détail de réalisation du dispositif 5 générateur d'ondes ultrasonores du système de nettoyage 1 de la figure 1. Sur cette figure 2, seuls l'élément de fermeture 10b et la raclette de nettoyage 9a ont été représentés, et pas la raclette de nettoyage 9b et l'élément de fermeture 10a. La figure 3 illustre quant à elle, en perspective et partiellement, une autre représentation du dispositif 5 générateur d'ondes ultrasonores du système de nettoyage 1 de la figure 1. Les figures 4A et 4B représentent enfin un exemple de transducteur piézoélectrique 6 utilisé dans le dispositif 5 générateur d'ondes ultrasonores du système de nettoyage 1 de la figure 1. Plus précisément, la figure 4A représente, en coupe, un tel exemple de transducteur piézo-électrique 6 avec présence de la plaque de transmission 7, et la figure 4B représente, en perspective, cet exemple de transducteur piézo-électrique 6. Conformément à l'invention, le système de nettoyage 1, ou robot de nettoyage 1, comporte un châssis 2 comportant des moyens de déplacement 3, sous la forme de roues, du système de nettoyage 1 sur la surface du miroir M. Le châssis 2 a pour fonction de devoir supporter l'ensemble des composants du robot de nettoyage 1. Le déplacement des roues 3 sur la surface du miroir M peut se faire de façon automatisé, notamment avec un guidage assuré de manière mécanique, par exemple par des galets, ou encore de manière optique. La figure 3 illustre par le biais de la flèche F le déplacement du robot de nettoyage 1 sur la surface du miroir M. De plus, sur cette structure principale formant châssis 2, sont situés un réservoir 4 d'eau de nettoyage et une batterie 12, éventuellement rechargeable par des panneaux photovoltaïques 17 (visibles uniquement sur les figures 2 et 3 par souci de clarté de la figure 1) placés sur la surface extérieure du réservoir 4, pour l'alimentation en énergie électrique d'un dispositifs générateur d'ondes ultrasonores pour le nettoyage de la surface du miroir M. Cette batterie 12 peut également, de façon plus générale, être utilisée pour l'alimentation électrique de tous les composant électriques du robot de nettoyage 1. Ce dispositif 5 générateur d'ondes ultrasonores est porté par la structure principale 2, et comporte une pluralité de transducteurs piézo-électriques 6, qui sont aptes à générer des ondes ultrasonores. Les faces actives 6a des transducteurs piézo-électriques sont fixées à une plaque de transmission 7 métallique, par exemple en acier inoxydable, pour la transmission de la puissance acoustique à l'eau de nettoyage. Ceci permet de ne pas mettre directement en contact l'eau de nettoyage, les salissures du miroir M et les bulles de cavitation, avec les matériaux céramiques des transducteurs piézo-électriques 6 pour ne pas les détériorer. La fixation des matériaux céramiques piézo-électriques à une surface métallique est bien connue par l'Homme du métier du domaine des bains de nettoyage ultrasonore. En outre, le dispositif 5 générateur d'ondes ultrasonores comporte une structure support 8, solidarisée à la structure principale 2, dans laquelle sont situés les transducteurs piézo-électriques 6. Afin de permettre le nettoyage du miroir M, deux raclettes souples de nettoyage 9a et 9b s'étendent depuis les deux bords longitudinaux opposés 8a et 8b de la structure support 8, de façon parallèle. Ces raclettes de nettoyage 9a, 9b sont par exemple semblables à des raclettes du type essuie-glace ou des raclettes industrielles de laveuses de supermarché. Elles peuvent notamment se présenter sous la forme de lamelles striées en caoutchouc, avec un renflement supérieur pour le positionnement. La raclette de nettoyage 9a est optionnelle. En effet, la raclette de nettoyage 9a pourrait, le cas échéant, entraîner un risque d'abrasion de la surface du miroir M. De ce fait, la raclette de nettoyage avant ou distale 9a (la plus éloignée du réservoir 4) peut éventuellement être remplacée par un rouleau en mousse, apte à assurer une étanchéité correcte avec un roulement privilégié par rapport aux frottements et donc moins d'endommagement potentiel. La raclette de nettoyage 9a peut également selon une variante non représentée ne pas équiper le système de nettoyage selon l'invention. En effet, la présence seule de la raclette de nettoyage 9b et des deux éléments de fermeture 10a, 10b va créer un « mascaret », c'est-à-dire une vague d'eau poussée vers l'avant, lors du déplacement du système. On peut alors, lors de la réalisation, positionner le dispositif 5 générateur d'ondes ultrasonores de façon suffisamment proche de la raclette de nettoyage 9b afin d'avoir les transducteurs 6 toujours dans une partie d'eau poussée par la raclette de nettoyage 9b. Ces raclettes de nettoyage 9a, 9b, et tout particulièrement la raclette de nettoyage arrière ou proximale 9b (la plus proche du réservoir 4), ont une fonction très importante sur la qualité du nettoyage. En effet, si celles-ci n'assurent pas une étanchéité correcte, le niveau d'eau de nettoyage peut baisser, remplaçant ainsi l'eau par de l'air. Ceci aurait alors pour effet d'augmenter l'impédance au niveau de la surface active formée par la plaque de transmission 7, dégradant irrémédiablement et à court terme les transducteurs piézo-électriques 6. De plus, l'eau viendrait à stagner sur le miroir M et alors l'encrasserait de nouveau, rendant ainsi le nettoyage inutile. De plus, les autres bords de la structure support 8, à savoir les deux bords transversaux opposés, sont fermés par deux éléments de fermeture 10a et 10b. De cette façon, les deux éléments de fermeture 10a, 10b et les deux raclettes de nettoyage 9a, 9b définissent ensemble une cavité 11 fermée d'écoulement de l'eau de nettoyage, provenant du réservoir 4. Ainsi, le volume de la cavité 11 est entièrement occupé par l'eau de nettoyage, de sorte que la plaque de transmission 7 soit au contact de l'eau de nettoyage. Les ondes ultrasonores sont alors émises par les transducteurs piézo-électriques 6 au contact de l'eau de nettoyage. La cavité 11 étant fermée ou délimitée par les raclettes de nettoyage 9a, 9b, voire uniquement délimitée par la raclette de nettoyage 9b, et les éléments de fermeture 10a, 10b, toute perte d'eau peut être évitée ou du moins limitée. De façon avantageuse, cela permet alors de former un « coussin d'eau » ou une « lame d'eau » qui se déplace le long de la surface du miroir M et dans laquelle les ondes ultrasonores sont émises afin d'éliminer la saleté située sur le miroir M. Les raclettes de nettoyage 9a, 9b permettent le maintien uniforme de cette lame d'eau et son déplacement le long du miroir M en même temps que le robot de nettoyage 1. La longueur L des raclettes de nettoyage 9a, 9b, représentée sur la figure 3, peut par exemple être de l'ordre d'1 m. La hauteur H des raclettes de nettoyage 9a, 9b, représentée également sur la figure 3, est de façon optimale proche de 10 mm. Elle définit également l'épaisseur de la lame d'eau. Cette épaisseur de la lame d'eau, ou encore distance entre la plaque de transmission 7 et la surface du miroir M, doit être suffisante pour éviter tout contact accidentel entre la surface active de la plaque de transmission 7 et le miroir M, qui serait destructeur pour le miroir M. Toutefois, cette épaisseur doit aussi être choisie pour garantir la densité des bulles de cavitation nécessaire au nettoyage efficace par ultrasons. Par ailleurs, pour un nettoyage optimal de la surface du miroir M, il est préférable de prévoir que le dispositif 5 générateur d'ondes ultrasonores présente une forme épousant la forme du miroir M. En particulier, la plaque de transmission 7 peut être prévue plane ou courbée en fonction de la forme du miroir M. Elle peut notamment suivre le même rayon de courbure que le miroir, soit par exemple entre 15 et 30 m. De cette façon, il peut être possible de garantir que les transducteurs piézo-électriques 6 soient constamment à la même distance du miroir M. La taille typique des transducteurs piézo-électriques 6, d'une puissance égale à environ 75 W et d'une fréquence de 20 ou 28 kHz, est par exemple de 70 mm de diamètre. Les figures 4A et 4B sont spécifiques à un exemple d'un tel transducteur piézo-électrique 6. Celui-ci comporte une vis de serrage 13, une contre-masse 14 métallique, un empilement céramique/cuivre 15 comprenant une couche céramique 15b entre deux couches d'électrodes 15a et 15c en cuivre, et un cône de diffusion 16 métallique. Le cône de diffusion 16 est fixé sur la plaque de transmission 7 métallique par l'intermédiaire d'un moyen adhésif 6a, notamment d'une colle. Pour pouvoir réaliser le dispositif 5 générateur d'ondes ultrasonores du robot de nettoyage 1, et les transducteurs piézo-électriques 6, de nombreux systèmes susceptibles de produire des ultrasons sont déjà connus. De façon générale, un appareil produisant des ultrasons est communément appelé transducteur ou convertisseur d'ultrasons. La technologie des transducteurs peut être basée sur des générateurs pneumatiques, tels que des sifflets ou des sirènes, électrodynamiques, tels que des haut-parleurs, ou électriques. Dans ce dernier cas, on utilise des matériaux magnétostrictifs ou piézoélectriques pour convertir l'énergie électrique en une énergie mécanique ultrasonore. Les matériaux les plus utilisés actuellement sont les matériaux piézoélectriques. Ces matériaux ont l'avantage, par rapport aux autres systèmes, de présenter de bonnes performances et d'être disponibles dans des géométries très diverses. L'inconvénient de ces matériaux est toutefois qu'ils sont sensibles à la chaleur et peuvent cesser de fonctionner lorsque l'on atteint leur température de Curie, soit entre environ 60 et 70°C. Aussi, dans le système de nettoyage 1 selon l'invention, l'eau présente sous le dispositif 5 générateur d'ondes ultrasonores peut éventuellement être utilisée pour permettre un refroidissement de celui-ci. L'eau peut alors s'écouler du réservoir jusqu'à la cavité 11 en s'écoulant sur la surface externe des transducteurs 6 pour les refroidir. On peut aussi intégrer la contre-masse 14 du générateur à l'intérieur du réservoir d'eau pour créer ainsi un puits de chaleur qui permet de refroidir l'empilement 15 qui génère la chaleur. Par ailleurs, ces matériaux se présentent le plus souvent sous la forme d'un disque ou d'un anneau sur les faces duquel sont déposées deux électrodes métallisées. Lorsqu'une tension électrique est appliquée sur ces deux électrodes, le matériau se dilate ou se comprime selon l'orientation de la tension par rapport à la polarisation de la céramique. Pour fournir une onde ultrasonore, le principe consiste à fournir aux systèmes ultrasons une tension électrique dont la fréquence est égale à leur fréquence de résonance. Un générateur électrique doit être utilisé pour transformer la tension secteur (220 V - 50/60 Hz) en une tension alternative à la fréquence de résonance du système ultrasons (par exemple 20 kHz - 1000 V). Un contrôle permanent des conditions de résonance est nécessaire pour corriger les déviations entre la fréquence fournie par le générateur électronique et la fréquence de résonance ultrasons, ceci afin d'éviter une mauvaise transmission de la puissance. Les sons sont émis par des corps animés d'un mouvement vibratoire et se propagent sous la forme d'ondes mécaniques susceptibles de subir des réflexions, des réfractions et des interférences. Les ultrasons se propagent à une vitesse qui sera fonction de la nature du milieu, indépendamment de la fréquence d'onde. La propagation des sons ne peut se faire que dans la matière. Le milieu traversé subit des phénomènes de compression et de relaxation successifs. Les matériaux présentent une certaine résistance au passage des ultrasons. Cette résistance, appelée impédance, sera fonction du module d'élasticité et de la densité du milieu considéré. L'impédance est différente d'un matériau à l'autre et la limite entre deux corps constitue une interface. L'onde sonore en déplacement dans un milieu donné est caractérisée par sa fréquence et sa longueur d'onde. L'énergie développée par la cavitation ultrasonore combine plusieurs effets, produisant le développement de forces près de la surface à nettoyer qui induisent l'apparition de violents micro-jets liquides orientés vers la surface à nettoyer, produisant également le nettoyage dans les pores et crevasses de la surface, et produisant aussi la dispersion des contaminants dans le fluide sous l'influence de mouvements turbulents provoqués par le champ ultrasonore. Le nettoyage par ultrasons présente de nombreux avantages par rapport aux procédés conventionnels. En effet, la taille microscopique des bulles de cavitation permet le nettoyage de pièces aux surfaces irrégulières et complexes, sans trace de brossage, et induit aussi l'élimination de manipulations pénibles. Pour obtenir de bons résultats de nettoyage, il faut tenir compte de plusieurs paramètres, tels que les puissances et fréquences ultrasonores engendrant le phénomène de cavitation dans le liquide, la température du bain, la composition du bain, et la durée du traitement ultrasonore. Les principes physiques du nettoyage par ultrasons sont exposés ci-après. Les ultrasons, lorsqu'ils sont émis dans un fluide tel que l'eau, dont les propriétés physiques lui permettent de caviter facilement, génèrent différents phénomènes hydrodynamiques. Le premier consiste en la génération et l'implosion de bulles de cavitation sous l'effet du champ ultrasonore, sous réserve de dépasser le seuil de puissance acoustique nécessaire. Ces bulles, en implosant près des parois à nettoyer, induisent la génération de puissants micro-jets de fluide capables de décoller la poussière cimentée. Ces bulles de cavitation, comme toutes formes d'entités générant des interfaces entre milieux d'états différents, ont besoin de nucléi préexistants pour apparaître. Or, les poussières ainsi que la crasse présentes à la surface des miroirs sont constellées d'anfractuosités dans lesquelles se nichent des bulles de gaz. Ceci permet de dire qu'une forte activité cavitationnelle se concentrera au niveau de la surface encrassée des miroirs. Le deuxième phénomène physique mis en jeu consiste en un courant acoustique induit par la dissipation visqueuse au second ordre de l'énergie acoustique dans le fluide. Ce phénomène, bien qu'incapable de décoller la crasse cimentée, permet néanmoins de générer des courants convectifs agitant le milieu. Ceci permet d'empêcher que la pellicule de crasse précédemment décollée ne se redépose sur les miroirs par sédimentation. Enfin, le troisième phénomène est dû au micro courant lié à l'interaction entre les bulles de cavitation et le champ acoustique. Cet effet induit un déplacement des bulles de cavitation dans le champ acoustique. Il s'en suit alors la génération d'un fort cisaillement au niveau de l'interface liquide/gaz de la paroi de la bulle. Le cisaillement est également bénéfique au nettoyage de la surface des miroirs. Ce phénomène est en effet utilisé dans les échangeurs de chaleur de type spirale pour prévenir et traiter l'encrassement. Par ailleurs, de manière générale, la puissance ultrasonore utilisée est de l'ordre de 10 à 20 W/litre de bain pour les basses fréquences ultrasonores, soit entre 20 et 40 kHz. La fréquence ultrasonore influence la taille des bulles de cavitation et le type d'effet généré par leur implosion. Les hautes fréquences ultrasonores, soit entre 400 kHz et 10 MHz, sont en effet reconnues pour libérer des entités radicalaires du type OH et sont utilisées en sonochimie, notamment en traitement des effluents. Les ultrasons permettent ainsi de dégrader des molécules organiques polluantes comme les phénols. Les basses fréquences quant à elles génèrent des effets mécaniques importants capables d'éroder des surfaces métalliques ou de décoller des couches de crasse cimentée ou de graisse. Ainsi, pour les applications de dégraissage et autres applications nécessitant le décapage des surfaces à nettoyer, les ondes ultrasonores sont générées avec des fréquences de l'ordre de 20 à 40 kHz. Sachant que plus la fréquence augmente, et plus la taille des bulles diminue, les fréquences autour de 20 kHz sont plutôt utilisées pour décoller les salissures en surface alors que les fréquences autour de 40 kHz, voire autour de 100 kHz, permettent de décaper jusque dans les anfractuosités et les pores des pièces. A basse fréquence, autour de 20 kHz, les effets du courant acoustique sont plus faibles qu'a haute fréquence, autour de 1 MHz. Cependant, comme ce dernier n'a qu'un effet jouant un rôle secondaire dans le nettoyage des miroirs, cet inconvénient est minime. Enfin, les hautes fréquences ultrasonores, notamment autour de 1 MHz, génèrent des ondes acoustiques très directives, voire focalisées. En effet, les dimensions caractéristiques de longueurs d'ondes pour ces fréquences sont de l'ordre du millimètre. Par conséquent, un transducteur de quelques centimètres de diamètre émet plusieurs sources d'ondes qui, par un jeu d'interférences destructives et constructives, vont se focaliser à un point précis pour diverger derrière ce point. A basses fréquences, ce phénomène est bien moins prononcé car les dimensions du transducteur sont de l'ordre de grandeur de la longueur d'onde émise. Par conséquent, le champ acoustique est très peu directif, irradiant une zone plus importante que celle du transducteur. Aussi, de façon préférentielle, la meilleure fréquence des ondes ultrasonores est située entre 20 et 28 kHz. En effet, les miroirs présentant un état de surface relativement lisse, il n'y a pas de besoin pour des fréquences plus élevées. Malgré un courant acoustique plus faible à ces fréquences, l'agitation au sein du milieu sera largement suffisante pour empêcher tout nouveau dépôt de salissures à condition de choisir les dimensions du bac à ultrasons convenablement. En outre, il est généralement admis que pour les applications de nettoyage à basse fréquence, la meilleure efficacité est obtenue pour des températures de bain de l'ordre de 40 à 60°C. De manière générale, l'ajout d'un détergent dans l'eau du bain, qui s'il est de type surfactant diminue la tension superficielle de l'eau et favorise également la cavitation, est importante afin d'attaquer chimiquement les salissures et de favoriser leur enlèvement par l'implosion des bulles de cavitation. Cependant, il faut veiller à ce que le produit n'attaque pas la pièce à nettoyer. La durée nécessaire au nettoyage dépend du bain, de sa température, du type et du degré de salissures. Elle peut varier de quelques secondes à plusieurs dizaines de minutes. De façon préférentielle, le système de nettoyage 1 utilise de l'eau déminéralisée à une température proche de la température ambiante ou encore légèrement supérieure lorsque le réservoir comporte de l'eau entre 40 et 60°C. Toutefois, la température de l'eau déminéralisée ne doit préférentiellement pas dépasser 60 à 70°C car les matériaux céramiques de type PZT (Titano-Zirconate de Plomb) pouvant être utilisés dans les inducteurs piézoélectriques pour les ultrasons présentent une température de Curie de 60 à 70°C. Au-delà d'une telle température, l'effet piézoélectrique est perdu. Par ailleurs, le système de nettoyage 1 est préférentiellement prévu pour ne pas utiliser de détergent lors du nettoyage, car la face arrière des miroirs, typiquement une couche d'argenture et des couches de peinture, est sensible à la dégradation chimique par les produits nettoyants. En particulier, les miroirs ne sont qualifiés en vieillissement qu'au contact d'eau déminéralisée. Lors du procédé d'utilisation du robot de nettoyage 1, les espèces encrassantes du miroir M sont décollées par l'effet des ondes ultrasonores. Elles sont alors mises en suspension dans la lame d'eau et déplacées en même temps que le robot de nettoyage 1. La lame d'eau est préférentiellement déchargée, ou vidangée, entre deux réflecteurs. Toutefois, en variante, on peut aussi imaginer un système de circulation de l'eau dans la lame, avec aspiration, filtration et retour de l'eau dans la lame d'eau. Cela nécessiterait alors de mettre le robot de nettoyage 1 sur une pompe et d'utiliser un filtre, mais l'avantage en consommation d'eau serait conséquent puisque celle-ci pourrait être recyclée. En ce qui concerne la puissance électrique fournie aux transducteurs piézo- électriques 6, il faut tenir compte de plusieurs aspects. Tout d'abord, il faut apporter une densité de puissance suffisante pour dépasser le seuil de cavitation en dessous duquel la cavitation n'est pas transitoire, donc non implosive, ce qui signifie non nettoyante. Il ne faut cependant pas atteindre une densité de puissance qui induise une dégradation de la surface du miroir M. Ensuite, les transducteurs 6 ont des rendements de conversion mécanique de l'énergie électrique apportée de 50 à 60 % maximum. Par conséquent, si l'on souhaite mettre par exemple sept transducteurs 6 fonctionnant à une puissance acoustique de 30 W sur une longueur d'1 m, soit un transducteur 6 tous les 3 cm, il faudra fournir une puissance électrique de 420 W. En ce qui concerne par ailleurs la vitesse d'avancement du robot de nettoyage 1 sur le miroir M, elle peut être comprise entre 0,1 et 0,5 m/s. La cavitation est en effet pas ou peu impactée par les vitesses d'écoulement. Seule le courant acoustique est impacté. Aussi, le fait de nettoyer le miroir M par ultrasons n'a pas d'impact sur la vitesse du robot de nettoyage 1. Ainsi, de façon avantageuse, l'invention permet le nettoyage de miroirs M de centrales solaires par le biais d'ultrasons dans une lame d'eau de faible épaisseur, générée temporairement entre la plaque de transmission 7 et la surface du miroir M, entre les deux raclettes de nettoyage 9a, 9b entraînées en mouvement. On combine ainsi l'effet bénéfique de l'eau et des ultrasons, l'eau permettant de limiter la puissance des ultrasons car c'est un excellent milieu pour la propagation. Les poussières décollées restent dans le volume de la lame d'eau pendant un temps correspondant au déplacement sur le miroir M d'un réflecteur, la lame d'eau étant ensuite vidangée dans l'espace inter-réflecteurs de sorte à recréer une lame d'eau propre pour le prochain réflecteur à nettoyer. Bien entendu, l'invention n'est pas limitée à l'exemple de réalisation qui vient d'être décrit. Diverses modifications peuvent y être apportées par l'homme du métier. L'expression « comportant un » doit être comprise comme étant synonyme de « comportant au moins un », sauf si le contraire est spécifié.20 REVENDICATIONS1. Système de nettoyage (1) par ultrasons d'une surface encrassée (M), caractérisé en ce qu'il comporte : - une structure principale (2) formant châssis comportant des moyens de déplacement (3) du système de nettoyage (1) sur la surface encrassée (M), - un réservoir (4) de liquide de nettoyage porté par la structure principale (2), - un dispositif (5) générateur d'ondes ultrasonores pour le nettoyage de la surface encrassée (M), porté par la structure principale (2) et comportant : - une pluralité de transducteurs piézo-électriques (6), aptes à générer des ondes ultrasonores, dont les faces actives (6a) sont fixées à au moins une plaque de transmission (7) pour la transmission de la puissance acoustique au liquide de nettoyage, - une structure support (8), solidarisée à la structure principale (2), dans laquelle sont situés les transducteurs piézo-électriques (6), - au moins un élément souple de nettoyage (9a, 9b) s'étendant depuis au moins un bord (8a, 8b) de la structure support (8) et délimitant, avec un ou plusieurs éléments de fermeture (10a, 10b) s'étendant depuis le ou les autres bords de la structure support (8), une cavité (11), ainsi sensiblement fermée, d'écoulement du liquide de nettoyage provenant du réservoir (4) de liquide de nettoyage, les ondes ultrasonores étant émises dans la cavité (11) au contact du liquide de nettoyage par les transducteurs piézo-électriques (6), - un dispositif d'écoulement du liquide de nettoyage dans la cavité (11), prélevé depuis le réservoir (4) de liquide de nettoyage. 2. Système selon la revendication 1, caractérisé en ce que le dispositif (5) générateur d'ondes ultrasonores comporte au moins deux éléments souples de nettoyage (9a, 9b) s'étendant sensiblement parallèlement depuis au moins deux bords opposés (8a, 8b) de la structure support (8) et délimitant, avec un ou plusieurs élémentsde fermeture (10a, 10b) s'étendant depuis le ou les autres bords de la structure support (8), la cavité (11) d'écoulement du liquide de nettoyage. 3. Système selon la revendication 1 ou 2, caractérisé en ce qu'il est configuré pour que le volume de la cavité (11) d'écoulement du liquide de nettoyage soit totalement rempli par du liquide de nettoyage en fonctionnement, afin de mettre en contact la plaque de transmission (7), à partir de laquelle sont émises les ondes ultrasonores, avec le liquide de nettoyage. 4. Système selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que les moyens de déplacement (3) du système de nettoyage (1) sur la surface encrassée (M) comportent des roues. 5. Système selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que le réservoir (4) de liquide de nettoyage comporte de l'eau. 6. Système selon la revendication 5, caractérisé en ce que l'eau est une eau déminéralisée à une température inférieure ou égale à 60°C, notamment comprise entre 40 et 60°C. 7. Système selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce qu'il comporte des moyens d'alimentation en énergie (12) du dispositif (5) générateur d'ondes ultrasonores, notamment une batterie (12) et/ou des panneaux solaires embarqués sur la structure principale (2). 8. Système selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que la plaque de transmission (7) est métallique, notamment réalisée en acier inoxydable. 25 9. Système selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que le ou les éléments souples de nettoyage (9a, 9b) sont réalisés en matériau élastique, notamment en caoutchouc, formant ainsi des raclettes de nettoyage. 10. Système selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que le ou les éléments souples de nettoyage (9a, 9b) présentent une hauteur (H), entre la plaque de transmission (7) et la surface encrassée (M), comprise entre 2 et 20 mm, notamment d'environ 10 mm. 11. Système selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que les transducteurs piézo-électriques (6) présentent une puissance électrique d'environ 75 W et une fréquence comprise entre 20 et 28 kHz. 12. Centrale solaire, caractérisée en ce qu'elle comporte une pluralité de réflecteurs solaires et un système de nettoyage (1) selon l'une quelconque des revendications précédentes, le système (1) étant apte à permettre le nettoyage de miroirs (M) encrassés des réflecteurs solaires. 13. Centrale solaire selon la revendication 12, caractérisée en ce qu'elle correspond à un collecteur linéaire de Fresnel, comportant une pluralité de lignes parallèles de réflecteurs du type à miroir de Fresnel linéaire. 14. Procédé de nettoyage par ultrasons d'une surface encrassée (M), caractérisé en ce qu'il est mis en oeuvre par l'intermédiaire d'un système de nettoyage (1) selon l'une quelconque des revendications 1 à 11, et en ce qu'il comporte l'étape de déplacement du système de nettoyage (1) sur la surface encrassée (M). 15. Procédé selon la revendication 14, caractérisé en ce que le système de nettoyage (1) est utilisé pour permettre le nettoyage d'au moins deux surfaces encrassées (M) consécutives, espacées l'une de l'autre par un vide, et en ce que le liquidede nettoyage présent dans la cavité (11) d'écoulement du liquide de nettoyage et chargé en salissures est évacué dans ledit vide lors du passage du système de nettoyage (1) d'une surface encrassée (M) à l'autre. 16. Procédé selon la revendication 15, caractérisé en ce que la vitesse de déplacement du système de nettoyage (1) est réduite à proximité dudit vide, juste avant de parvenir audit vide et juste après franchissement dudit vide, pour amplifier le nettoyage des surfaces encrassées (M) à proximité dudit vide.