Brevet FR3033512A1 — publié le 20160916

ARRIERE-PLAN [0001] La présente invention concerne des tampons de polissage mécano-chimique ayant des fenêtres. Plus particulièrement, la présente invention concerne un tampon de polissage mécano-chimique comprenant une couche de polissage; une fenêtre de détection de point final; un sous- tampon; et un adhésif d'empilement; où le sous-tampon inclut une pluralité d'ouvertures en communication optique avec la fenêtre de détection de point final; et où la surface de polissage de la couche de polissage est adaptée pour polir un substrat. [0002] La production des semi-conducteurs met en jeu typiquement plusieurs processus de planarisation mécano-chimique (CMP). Dans chaque processus de CMP, un tampon de polissage, éventuellement en combinaison avec une solution de polissage, comme une suspension de polissage ("slurry") contenant un abrasif ou un liquide réactif sans abrasif, retire du matériau d'un substrat d'une manière qui planarise ou maintient la planéité pour recevoir une couche subséquente. L'empilement de ces couches se combine d'une manière qui forme un circuit intégré. [0003] Une étape importante dans les processus de polissage utilisés dans la fabrication des galettes est la détermination d'un point final du polissage (détermination de la fin de l'opération de polissage). De ce fait, différents procédés de détection de point final de planarisation ont été développés, par exemple des procédés mettant en jeu des mesures optiques in situ de la surface de la galette. La technique optique comprend le fait de munir le tampon de polissage d'une fenêtre qui est transparente à des longueurs d'onde lumineuses choisies. Un faisceau lumineux est dirigé à travers la fenêtre sur la surface d'une galette qui est en cours de traitement, sur laquelle il est réfléchi, traverse de nouveau la fenêtre et parvient sur un détecteur. Sur la base du signal de retour, les propriétés de la surface de la galette peuvent être mesurées pour faciliter la détermination du moment de l'achèvement de l'étape de polissage. 3033512 2 [0004] Des tampons de polissage mécano-chimique ayant des fenêtres sont décrits, par exemple, par Roberts dans le brevet U.S. No. 5,605,760. [0005] Cependant, les configurations de tampons de polissage 5 mécano-chimique ayant des fenêtres conventionnelles sont susceptibles de défauts de polissage accrus attribués à des problèmes de saillie des fenêtres. Dans certaines configurations de tampons de polissage ayant des fenêtres, la fenêtre fait saillie vers l'extérieur et vers le haut depuis le plateau de polissage. On considère qu'une telle saillie de la fenêtre vers 10 l'extérieur et vers le haut conduit à des défauts de polissage accrus du fait d'une interaction mécanique entre la fenêtre en saillie et le substrat. [0006] Les configurations de tampons de polissage mécano- chimique ayant des fenêtres conventionnelles sont aussi susceptibles d'une usure non uniforme de la fenêtre pendant le polissage du substrat 15 et le conditionnement de la surface de polissage du tampon de polissage. C'est-à-dire qu'avec un polissage et un conditionnement prolongés, les fenêtres des tampons de polissage mécano-chimique conventionnels ont tendance à présenter au niveau des bords une usure plus importante qu'au niveau du centre de la fenêtre. Il en résulte qu'au cours du temps 20 l'épaisseur de la fenêtre mesurée perpendiculairement au côté polissage varie sur le profil de la fenêtre. La variation accrue de l'épaisseur de la fenêtre conduit à des erreurs dans la détermination du point final de polissage. Pour éviter de telles erreurs de détermination de point final, les tampons de polissage sont remplacés et jetés prématurément (c'est-à-dire 25 alors que la couche de polissage a encore une surface utile pour le polissage). [0007] Ainsi, il existe un besoin continu de conceptions de tampons de polissage mécano-chimique qui atténuent les problèmes de saillie des fenêtres et d'usure non uniforme des fenêtres qui sont associés avec les 3033512 3 tampons de polissage mécano-chimique ayant des fenêtres conventionnels. EXPOSE DE L'INVENTION 5 [0008] La présente invention fournit un tampon de polissage mécano-chimique comprenant: une couche de polissage ayant un axe central, un périmètre externe, une surface de polissage, une surface de base et une épaisseur de couche de polissage, Tp, perpendiculairement au plan de la surface de polissage, mesurée de la surface de polissage à la 10 surface de base; une fenêtre de détection de point final ayant un côté polissage, un côté plateau et une épaisseur de fenêtre, Tw, perpendiculairement au côté polissage, mesurée du côté polissage au côté plateau; un sous-tampon ayant une surface supérieure, une surface inférieure, une pluralité d'ouvertures, un bord externe et une épaisseur de 15 sous-tampon, Ts, perpendiculairement à la surface supérieure, mesurée de la surface supérieure à la surface inférieure; et un adhésif d'empilement; où la fenêtre de détection de point final est incorporée dans le tampon de polissage mécano-chimique, où le côté polissage est disposé vers la surface de polissage de la couche de polissage; où l'adhésif 20 d'empilement est disposé entre la surface de base de la couche de polissage et la surface supérieure du sous-tampon; où la pluralité d'ouvertures est en communication optique avec la fenêtre de détection de point final; et où la surface de polissage de la couche de polissage est adaptée pour polir un substrat. 25 [0009] La présente invention fournit un tampon de polissage mécano-chimique comprenant: une couche de polissage ayant un axe central, un périmètre externe, une surface de polissage, une surface de base et une épaisseur de couche de polissage, Tp, perpendiculairement au plan de la surface de polissage, mesurée de la surface de polissage à la 30 surface de base; une fenêtre de détection de point final ayant un côté 3033512 4 polissage, un côté plateau et une épaisseur de fenêtre, Tw, perpendiculairement au côté polissage, mesurée du côté polissage au côté plateau; un sous-tampon ayant une surface supérieure, une surface inférieure, une pluralité d'ouvertures, un bord externe et une épaisseur de 5 sous-tampon, Ts, perpendiculairement à la surface supérieure, mesurée de la surface supérieure à la surface inférieure; et un adhésif d'empilement; où la fenêtre de détection de point final est incorporée dans le tampon de polissage mécano-chimique, où le côté polissage est disposé vers la surface de polissage de la couche de polissage; où l'adhésif 10 d'empilement est disposé entre la surface de base de la couche de polissage et la surface supérieure du sous-tampon; où la pluralité d'ouvertures est en communication optique avec la fenêtre de détection de point final; où le sous-tampon comprend en outre une pluralité de membres transversaux; où la pluralité d'ouvertures sont séparées par la 15 pluralité de membres transversaux; et où la pluralité d'ouvertures comprend au moins trois ouvertures; de préférence où la pluralité d'ouvertures consiste en trois ouvertures adjacentes; où les trois ouvertures adjacentes consistent en une ouverture interne, une ouverture centrale et une ouverture externe; où l'ouverture interne a une aire en 20 section droite d'ouverture interne, A1, parallèlement au plan de la surface de polissage; où l'ouverture centrale a une aire en section droite d'ouverture centrale, Ac, parallèlement au plan de la surface de polissage; où l'ouverture externe a une aire en section droite d'ouverture externe, A0, parallèlement au plan de la surface de polissage; où la pluralité de 25 membres transversaux consiste en un membre interne et un membre externe; où le membre interne sépare l'ouverture interne de l'ouverture centrale; où le membre externe sépare l'ouverture centrale de l'ouverture externe; où l'aire en section droite d'ouverture interne, Ai, est sensiblement constante sur l'épaisseur de sous-tampon, Ts; où l'aire en 30 section droite d'ouverture centrale, Ac, est sensiblement constante sur 3033512 5 l'épaisseur de sous-tampon, Ts; où l'aire en section droite d'ouverture externe, Ao, est sensiblement constante sur l'épaisseur de sous-tampon, Ts; où l'ouverture externe a une aire en section droite moyenne d'ouverture externe, Ao-avg, parallèlement au plan de la surface de 5 polissage sur l'épaisseur de sous-tampon, Ts; où l'ouverture interne a une aire en section droite moyenne d'ouverture interne, Ai-avg, parallèlement au plan de la surface de polissage sur l'épaisseur de sous-tampon, Ts; où l'ouverture centrale a une aire en section droite moyenne d'ouverture centrale, Ac-avg, parallèlement au plan de la surface de polissage sur 10 l'épaisseur de sous-tampon, Ts; où 0,75*Ao-avg 5. Au-avg 5 1,25*A0-avg; où 0,5*(Ai_avg+Aa-avg) . Ac 1,25*(Ai-avg+Aa-avg); où la fenêtre de détection de point final a une aire en section droite de fenêtre, Wa, parallèlement au plan de la surface de polissage; où l'aire en section droite de fenêtre, Wa, est sensiblement constante sur l'épaisseur de fenêtre, Tw; 15 où la fenêtre de détection de point final a une longueur de fenêtre, W1, parallèlement au plan de la surface de polissage, mesurée suivant une grande dimension de fenêtre, LDw, de la fenêtre de détection de point final; où la fenêtre de détection de point final a une largeur de fenêtre, Ww, parallèlement au plan de la surface de polissage, mesurée suivant 20 une petite dimension de fenêtre, SDw, de la fenêtre de détection de point final; où la grande dimension de fenêtre, LDw, est perpendiculaire à la petite dimension de fenêtre, SDw; où la couche de polissage a une ligne radiale de couche de polissage, PLR, dans le plan de la surface de polissage, qui coupe l'axe central et s'étend à travers le périmètre externe 25 de la couche de polissage; où la fenêtre de détection de point final est incorporée dans le tampon de polissage mécano-chimique de telle manière que la grande dimension de fenêtre, LDw, projette une projection de grande dimension de fenêtre, pLDw, sur le plan de la surface de polissage; où la projection de grande dimension de fenêtre, pLDw, 30 coïncide sensiblement avec la ligne radiale de couche de polissage, PLR; 3033512 6 où la pluralité d'ouvertures a une longueur d'ouverture, AL, parallèlement au plan de la surface de polissage, mesurée suivant une grande dimension d'ouverture, LDA, de la pluralité d'ouvertures; où la pluralité d'ouvertures a une largeur d'ouverture, Aw, parallèlement au plan de la surface de 5 polissage, mesurée suivant une petite dimension d'ouverture, SDA, de la pluralité d'ouvertures; où la grande dimension d'ouverture, LDA, est perpendiculaire à la petite dimension d'ouverture, SDA; où la pluralité d'ouvertures est intégrée dans le sous-tampon de telle manière que la grande dimension d'ouverture, LDA, projette une projection de grande 10 dimension d'ouverture, pLDA, sur le plan de la surface de polissage; où la projection de grande dimension d'ouverture, pl-DA, coïncide sensiblement avec la projection de grande dimension de fenêtre, pLDw; où le membre interne a une largeur de membre interne, Wim, parallèlement au plan de la surface de polissage, mesurée suivant la grande dimension d'ouverture, 15 LDA, de la pluralité d'ouvertures; où le membre externe a une largeur de membre externe, Wom, parallèlement au plan de la surface de polissage, mesurée suivant la grande dimension d'ouverture, LDA, de la pluralité d'ouvertures; où l'ouverture interne a une dimension d'ouverture interne, DI, parallèlement au plan de la surface de polissage, mesurée suivant la 20 grande dimension d'ouverture, LDA, de la pluralité d'ouvertures; où l'ouverture externe a une dimension d'ouverture externe, Do, parallèlement au plan de la surface de polissage, mesurée suivant la grande dimension d'ouverture, LDA, de la pluralité d'ouvertures; où la longueur d'ouverture, AL, de la pluralité d'ouvertures est essentiellement 25 constante sur l'épaisseur de sous-tampon, Ts, et sur la largeur d'ouverture, Aw, de la pluralité d'ouvertures; où la pluralité d'ouvertures a une longueur d'ouverture moyenne, Ai_avg, sur l'épaisseur de sous-tampon, Ts, et sur la largeur d'ouverture, Aw, de la pluralité d'ouvertures; où la largeur d'ouverture, Aw, de la pluralité d'ouvertures est 30 essentiellement constante sur l'épaisseur de sous-tampon, Ts, et sur la 3033512 7 longueur d'ouverture, AL, de la pluralité d'ouvertures; où la pluralité d'ouvertures a une largeur d'ouverture moyenne, Aw-avg, pour la pluralité d'ouvertures sur l'épaisseur de sous-tampon, Ts, et sur la longueur d'ouverture, AL, de la pluralité d'ouvertures; où AL-avg_ L-avg W , OÙ AW-avg 5 5_ Ww_avg; et où la surface de polissage de la couche de polissage est adaptée pour polir un substrat. [0010] La présente invention fournit un procédé de polissage, comprenant: la fourniture d'un appareil de polissage mécano-chimique ayant une table, une source lumineuse et un photocapteur; la fourniture 10 d'un substrat; la fourniture d'un tampon de polissage mécano-chimique selon la présente invention; l'installation sur la table du tampon de polissage mécano-chimique avec la surface de polissage disposée à distance de la table; éventuellement, la fourniture d'un milieu de polissage à une interface entre la surface de polissage et le substrat; la création 15 d'un contact dynamique entre la surface de polissage et le substrat, où au moins une certaine quantité de matériau est retirée du substrat; et la détermination d'un point final de polissage par transmission de la lumière depuis la source lumineuse à travers la fenêtre de détection de point final et analyse de la lumière réfléchie par le substrat, qui traverse de nouveau 20 la fenêtre de détection de point final et qui est incidente sur le photocapteur. BREVE DESCRIPTION DES DESSINS [0011] La figure 1 est une représentation d'une vue de dessus en 25 perspective d'un tampon de polissage mécano-chimique de la présente invention. [0012] La figure 2 est une vue de dessus d'un tampon de polissage mécano-chimique de la présente invention. [0013] La figure 3 est une vue de dessus de la fenêtre de 30 détection de point final de la figure 2. 3033512 8 [0014] La figure 4 est une vue de dessus en coupe avec arrachement d'un tampon de polissage mécano-chimique de la présente invention suivant la ligne X-X de la figure 1. [0015] La figure 5 est un détail de la pluralité d'ouvertures de la 5 figure 4. [0016] La figure 6 est une représentation d'une vue en élévation en coupe avec arrachement d'un tampon de polissage mécano-chimique de la présente invention. [0017] La figure 7 est une représentation d'une vue en élévation 10 en coupe avec arrachement d'un tampon de polissage mécano-chimique de la présente invention. [0018] La figure 8 est une représentation d'une vue en élévation en coupe avec arrachement d'un tampon de polissage mécano-chimique de la présente invention. 15 [0019] La figure 9 est une représentation d'une vue en élévation en coupe avec arrachement d'un tampon de polissage mécano-chimique de la présente invention. [0020] La figure 10 est une représentation d'une vue en élévation en coupe avec arrachement d'un tampon de polissage mécano-chimique 20 de la présente invention. [0021] La figure 11 est une représentation d'une vue de dessus en perspective d'un tampon de polissage mécano-chimique de la présente invention. 25 [0022] La figure 12 est une vue de dessus d'une pluralité d'ouvertures. [0023] La figure 13 est une vue de dessus d'une pluralité d'ouvertures. [0024] La figure 14 est une vue de dessus d'une pluralité d'ouvertures. 3033512 9 [0025] La figure 15 est une vue de dessus du côté polissage d'une fenêtre de détection de point final. DESCRIPTION DETAILLEE 5 [0026] La demanderesse a constaté de manière surprenante que les fenêtres dans les tampons de polissage mécano-chimique configurés selon la présente invention sont résistantes à la saillie des fenêtres et à une usure non uniforme des fenêtres, ce qui contribue à minimiser les défauts de polissage attribuables à la saillie des fenêtres et à maximiser la durée 10 de vie des tampons de polissage en réduisant l'usure non uniforme des fenêtres et le retrait prématuré des tampons de polissage associé. [0027] Le terme "épaisseur totale, TT" tel qu'il est utilisé ici en référence à un tampon de polissage mécano-chimique (10) ayant une couche de polissage (20) avec une surface de polissage (14) signifie 15 l'épaisseur du tampon de polissage mécano-chimique mesurée dans une direction perpendiculaire à la surface de polissage (14), de la surface de polissage (14) à la surface inférieure (27) du sous-tampon (25). (Voir les figures 1 et 6-10). [0028] Le terme "épaisseur totale moyenne, TT.avg" tel qu'il est 20 utilisé ici en référence à un tampon de polissage mécano-chimique (10) ayant une couche de polissage (20) avec une surface de polissage (14) signifie la moyenne de l'épaisseur totale, TT, du tampon de polissage mécano-chimique mesurée dans une direction perpendiculaire au plan (28) de la surface de polissage (14), de la surface de polissage (14) à la 25 surface inférieure (27) du sous-tampon (25). (Voir les figures 1 et 6-10). [0029] Le terme "épaisseur de fenêtre, Tw" tel qu'il est utilisé ici en référence à une fenêtre de détection de point final (30) ayant un côté polissage (31) signifie l'épaisseur de la fenêtre de détection de point final 30 mesurée dans une direction perpendiculaire au côté polissage (31), du 3033512 10 côté polissage (31) au côté plateau (32) de la fenêtre de détection de point final (30). (Voir les figures 6-10). [0030] Le terme "épaisseur de fenêtre moyenne, Tw_avg" tel qu'il est utilisé ici en référence à une fenêtre de détection de point final 5 (30) ayant un côté polissage (31) signifie la moyenne de l'épaisseur de fenêtre, Tw, mesurée dans une direction perpendiculaire au côté polissage (31), du côté polissage (31) au côté plateau (32) de la fenêtre de détection de point final (30). (Voir les figures 6-10). [0031] Le terme "épaisseur de couche de polissage, Tp" tel qu'il 10 est utilisé ici en référence à une couche de polissage (20) ayant une surface de polissage (14) signifie l'épaisseur de la couche de polissage mesurée dans une direction perpendiculaire à la surface de polissage (14), de la surface de polissage (14) à la surface de base (17) de la couche de polissage (20). (Voir les figures 6-10). 15 [0032] Le terme "épaisseur de couche de polissage moyenne, Tp-avg" tel qu'il est utilisé ici en référence à une couche de polissage (20) ayant une surface de polissage (14) signifie la moyenne de l'épaisseur de couche de polissage, Tp, mesurée dans une direction perpendiculaire à la surface de polissage (14), de la surface de polissage (14) à la surface de 20 base (17) de la couche de polissage (20). (Voir les figures 6-10). [0033] Le terme "épaisseur de sous-tampon, Te" tel qu'il est utilisé ici en référence à un sous-tampon (25) ayant une surface supérieure (26) signifie l'épaisseur de sous-tampon mesurée dans une direction perpendiculaire à la surface supérieure (26), de la surface 25 supérieure (26) à la surface inférieure (27) du sous-tampon (25). (Voir les figures 6-10). [0034] Le terme "épaisseur de sous-tampon moyenne, TS-avg" tel qu'il est utilisé ici en référence à un sous-tampon (25) ayant une surface supérieure (26) signifie la moyenne de l'épaisseur de sous-30 tampon, Ts, mesurée dans une direction perpendiculaire à la surface 3033512 11 supérieure (26), de la surface supérieure (26) à la surface inférieure (27) du sous-tampon (25). (Voir les figures 6-10). [0035] Le terme "aire en section droite d'ouverture" tel qu'il est utilisé ici en référence à une ouverture donnée (par exemple une aire en 5 section droite d'ouverture interne, Ai; une aire en section droite d'ouverture centrale, Ac; une aire en section droite d'ouverture externe, A0) signifie l'aire en section droite géométrique de l'ouverture dans un plan parallèle au plan (28) de la surface de polissage. (Voir la figure 5). [0036] Le terme "aire en section droite moyenne" tel qu'il est 10 utilisé ici en référence à une ouverture donnée (par exemple une aire en section droite moyenne d'ouverture interne, Ai...g; une aire en section droite moyenne d'ouverture centrale, Ac-avg; une aire en section droite moyenne d'ouverture externe, Ao-avg) signifie l'aire en section droite géométrique moyenne de l'ouverture dans un plan parallèlement au plan 15 (28) de la couche de polissage (20) sur l'épaisseur de sous-tampon, Ts. (Voir la figure 5). [0037] Le terme "sensiblement constante" tel qu'il est utilisé ici en référence à une aire en section droite donnée (par exemple une aire en section droite d'ouverture interne, AI; une aire en section droite 20 d'ouverture centrale, Ac; une aire en section droite d'ouverture externe, Ad, une aire en section droite de fenêtre de détection de point final, Wa) signifie que l'aire en section droite varie de moins de 10% sur l'épaisseur en question (par exemple la plus petite aire en section droite pour une ouverture donnée parallèlement au plan de la surface de polissage est 25 k. 0,90 * la plus grande aire en section droite pour cette ouverture parallèlement au plan de la surface de polissage sur l'épaisseur de sous-tampon, Ts; la plus petite aire en section droite de la fenêtre de détection de point final parallèlement au plan de la surface de polissage est ?_. 0,90 * la plus grande aire en section droite de la fenêtre de détection 3033512 12 de point final parallèlement au plan de la surface de polissage sur l'épaisseur de fenêtre, Tw). (Voir les figures 3 et 5). [0038] Le terme "essentiellement constante" tel qu'il est utilisé ici en référence à une dimension donnée (par exemple une largeur 5 d'ouverture, Aw; une longueur d'ouverture, AL; une longueur de fenêtre, WL; une largeur de fenêtre, Ww; une dimension d'ouverture interne, Dr, une dimension d'ouverture externe, D.; une largeur de membre interne, Wim; une largeur de membre externe, Wom) signifie que la dimension varie de moins de 10% pour la caractéristique en question sur l'épaisseur 10 en question (par exemple la plus petite longueur de fenêtre est k 0,90 * la plus grande longueur de fenêtre de la fenêtre de détection de point final sur l'épaisseur de fenêtre, Tw, et sur la largeur de fenêtre, Ww; la plus petite largeur de membre interne est ? 0,90 * la plus grande largeur de membre interne sur l'épaisseur de sous-tampon, Ts, et sur la 15 largeur d'ouverture, Aw, de la pluralité d'ouvertures). (Voir les figures 1- 10). [0039] Le terme "coïncide sensiblement avec" tel qu'il est utilisé ici en référence à une projection sur le plan (28) de la surface de polissage (14) (par exemple une projection de grande dimension de 20 fenêtre, pLDw; une projection de grande dimension d'ouverture, pLDA) et une ligne radiale de couche de polissage, PLR, dans le plan (28) signifie que la projection (par exemple pLDw, pLDA) coupe la ligne radiale de couche de polissage, PLR, à une angle de 0 à 10°. (Voir la figure 1). [0040] Le terme "section droite sensiblement circulaire" tel 25 qu'il est utilisé ici en référence à un tampon de polissage mécano- chimique (10) signifie que le plus grand rayon, r, de la section droite depuis l'axe central (12) jusqu'au périmètre externe (15) de la surface de polissage (14) de la couche de polissage (20) est 5_ 20% plus long que le plus petit rayon, r, de la section droite depuis l'axe central (12) jusqu'au 3 033 5 12 13 périmètre externe (15) de la surface de polissage (14). (Voir la figure 1). [0041] Le terme "milieu de polissage" tel qu'il est utilisé ici inclut les solutions de polissage contenant des particules et les solutions de 5 polissage sans particules, comme les solutions de polissage sans abrasif et à liquide réactif. [0042] Le terme "poly(uréthane)" tel qu'il est utilisé ici inclut (a) les polyuréthanes formés par la réaction (i) d'isocyanates et (ii) de polyols (y compris des diols); et (b) les poly(uréthanes) formés par la réaction (i) 10 d'isocyanates avec (ii) des polyols (y compris des diols) et (iii) de l'eau, des amines (y compris des diamines et des polyamines) ou une combinaison d'eau et d'amines (y compris des diamines et des polyamines). [0043] Le tampon de polissage mécano-chimique (10) de la 15 présente invention est de préférence adapté pour la rotation autour d'un axe central (12). De préférence, le tampon de polissage mécano-chimique (10) est adapté pour la rotation dans le plan (28) de la surface de polissage (14) qui forme un angle, y, de 85 à 95° (de préférence encore, de 88 à 920; de manière particulièrement préférable, de 90°) avec l'axe 20 central (12). (Voir les figures 1 et 11). [0044] De préférence, le tampon de polissage mécano-chimique (10) de la présente invention est conçu pour faciliter le polissage d'un substrat choisi parmi au moins l'un d'un substrat magnétique, d'un substrat optique et d'un substrat semi-conducteur. De préférence encore, 25 le tampon de polissage mécano-chimique (10) de la présente invention est conçu pour faciliter le polissage d'un substrat semi-conducteur. [0045] Le tampon de polissage mécano-chimique (10) de la présente invention comprend: une couche de polissage (20) ayant un axe central (12), un périmètre externe (15), une surface de polissage (14), 30 une surface de base (17) et une épaisseur de couche de polissage, Tp, 3033512 14 perpendiculairement au plan (28) de la surface de polissage (14), mesurée de la surface de polissage (14) à la surface de base (17); une fenêtre de détection de point final (30) ayant un côté polissage (31), un côté plateau (32) et une épaisseur de fenêtre, Tw, perpendiculairement 5 au côté polissage (31), mesurée du côté polissage (31) au côté plateau (32); un sous-tampon (25) ayant une surface supérieure (26), une surface inférieure (27), une pluralité d'ouvertures (40), un bord externe (29) et une épaisseur de sous-tampon, Ts, perpendiculairement à la surface supérieure (26), mesurée de la surface supérieure (26) à la 10 surface inférieure (27); et un adhésif d'empilement (23); où la fenêtre de détection de point fi nal (30) est incorporée dans le tampon de polissage mécano-chimique (10), où le côté polissage (31) est disposé vers la surface de polissage (14) de la couche de polissage (20); où l'adhésif d'empilement (23) est disposé entre la surface de base (17) de la couche 15 de polissage (20) et la surface supérieure (26) du sous-tampon (25); où la pluralité d'ouvertures (40) est en communication optique avec la fenêtre de détection de point final (30); et où la surface de polissage (14) de la couche de polissage (20) est adaptée pour polir un substrat. (Voir les figures 1-11). 20 [0046] De préférence, dans le tampon de polissage mécano- chimique (10) de la présente invention, la couche de polissage (20) est en un matériau polymérique comprenant un polymère choisi parmi les polycarbonates, les polysulfones, les nylons, les polyéthers, les polyesters, les polystyrènes, les polymères acryliques, les poly(méthacrylates de 25 méthyle), les poly(chlorures de vinyle), les poly(fluorures de vinyle), les polyéthylènes, les polypropylènes, les polybutadiènes, les polyéthylène imines, les poly(uréthanes), les polyéthersulfones, les polyamides, les polyétherimides, les polycétones, les époxydes, les silicones, EPDM, et leurs combinaisons. De préférence encore, la couche de polissage 30 comprend un poly(uréthane). De manière particulièrement préférable, la 3033512 15 couche de polissage comprend un polyuréthane. De préférence, la couche de polissage (20) comprend en outre une pluralité de microéléments. De préférence, la pluralité de microéléments sont dispersés uniformément dans la couche de polissage (20). De préférence, la pluralité de 5 microéléments est choisie parmi les bulles de gaz piégées, les matériaux polymériques à noyau creux, les matériaux polymériques à noyau creux remplis de liquide, les matériaux solubles dans l'eau, un matériau en phase insoluble (par exemple huile minérale) et une combinaison de ceux-ci. De préférence encore, la pluralité de microéléments est choisie parmi 10 les bulles de gaz piégées et les matériaux polymériques à noyau creux distribués uniformément dans toute la couche de polissage (20). De préférence, la pluralité de microéléments a un diamètre moyen en poids inférieur à 150 pm (de préférence encore inférieur à 50 pm; de manière particulièrement préférable de 10 à 50 pm). De préférence, la pluralité de 15 microéléments comprend des microballons polymériques ayant des parois d'enveloppe en polyacrylonitrile ou en un copolymère de polyacrylonitrile (par exemple Expancel® de Akzo Nobel). De préférence, la pluralité de microéléments sont incorporés dans la couche de polissage (20) à une porosité de 0 à 35 vol% (de préférence encore à une porosité de 10 à 25 20 vol%). L'homme du métier moyen saura choisir une couche de polissage (20) ayant une épaisseur de couche de polissage, Tp, appropriée pour être utilisée dans un tampon de polissage mécano-chimique (10) pour une opération de polissage donnée. De préférence, la couche de polissage (20) présente une épaisseur de couche de polissage moyenne, Tp-avg, 25 perpendiculairement au plan (28) de la surface de polissage (14). De préférence encore, l'épaisseur de couche de polissage moyenne, TP-avgi est 0,51 à 3,81 mm (20 à 150 mils (1 mil = 10-3 pouce = 0,0254 mm)) (de préférence encore 0,76 à 3,30 mm (30 à 130 mils); de manière particulièrement préférable 1,78 à 2,29 mm (70 à 90 mils). (Voir les 30 figures 6-10). 3033512 16 [0047] De préférence, dans le tampon de polissage mécano- chimique (10) de la présente invention, la couche de polissage (20) a une surface de polissage (14), où la surface de polissage (14) a au moins l'une d'une macrotexture et d'une rnicrotexture pour faciliter le polissage 5 d'un substrat. De préférence, la surface de polissage (14) a une macrotexture, où la macrotexture est conçue pour réaliser au moins l'un de (i) atténuer au moins l'aquaplanage; (ii) influencer le débit de milieu de polissage; (iii) modifier la rigidité de la couche de polissage; (iv) réduire les effets de bord; et (y) faciliter le transfert des débris de polissage 10 depuis la zone entre la surface de polissage et le substrat. [0048] De préférence, dans le tampon de polissage mécano- chimique (10) de la présente invention, la couche de polissage (20) a une surface de polissage (14), où la surface de polissage (14) a une macrotexture choisie parmi au moins l'une des perforations et des 15 rainures. De préférence, les perforations s'étendent depuis la surface de polissage (14) sur une partie ou sur la totalité de l'épaisseur de couche de polissage, Tp, de la couche de polissage (20). De préférence, la surface de polissage (14) a des rainures disposées sur la surface de polissage (14) de telle manière que, lors de la rotation du tampon de polissage 20 mécano-chimique (10) pendant le polissage, au moins une rainure balaie le substrat. De préférence, les rainures sont choisies parmi les rainures incurvées, les rainures linéaires et leurs combinaisons. Les rainures présentent une profondeur .k. 0,25 mm (10 mils); de préférence de 0,25 à 3,81 mm (10 à 150 mils). De préférence, les rainures forment un motif de 25 rainures qui comprend au moins deux rainures ayant une combinaison d'une profondeur choisie parmi k 0,25 mm (10 mils), ? 0,38 mm (15 mils) et 0,38 à 3,81 mm (15 à 150 mils); une largeur choisie parmi k 0,25 mm (10 mils) et 0,25 à 2,54 mm (10 à 100 mils); et un pas choisi parmi ? 0,76 mm (30 mils), ? 1,27 mm (50 mils), 1,27 à 5,10 mm (50 à 200 mils), 30 1,78 à 5,10 mm (70 à 200 mils), et 2,29 à 5,10 mm (90 à 200 mils). 3033512 17 [0049] De préférence, dans le tampon de polissage mécano- chimique (10) de la présente invention, la fenêtre de détection de point final (30) est choisie dans le groupe consistant en une fenêtre intégrée et une fenêtre mise en place. De préférence encore, la fenêtre de détection 5 de point final (30) est choisie dans le groupe consistant en (a) une fenêtre intégrée, où la fenêtre intégrée est incorporée dans la couche de polissage (20) (Voir les figures 6-7); (b) une fenêtre mise en place, où la fenêtre mise en place est incorporée dans le tampon de polissage mécano-chimique sur le sous-tampon (25) (Voir la figure 8); (c) une 10 fenêtre mise en place, où la fenêtre mise en place est incorporée dans le tampon de polissage mécano-chimique sur l'adhésif d'empilement (23) (Voir les figures 9-10). De manière particulièrement préférable, la fenêtre de détection de point final (30) est une fenêtre intégrée, où la fenêtre intégrée est incorporée dans la couche de polissage (20) (Voir les 15 figures 6-7). L'homme du métier moyen saura comment choisir un matériau de construction approprié pour la fenêtre de détection de point final (30). [0050] De préférence, dans le tampon de polissage mécano- chimique (10) de la présente invention, la fenêtre de détection de point 20 final (30) a une aire en section droite de fenêtre, Wa, parallèlement au plan (28) de la surface de polissage (14), et une aire en section droite moyenne de fenêtre IN - a-avg - De préférence, l'aire en section droite de fenêtre, Wa, est sensiblement constante sur l'épaisseur de fenêtre, Tw. (Voir les figures 1-3). 25 [0051] De préférence, dans le tampon de polissage mécano- chimique (10) de la présente invention, la fenêtre de détection de point final (30) a une longueur de fenêtre, W1, mesurée suivant une grande dimension de fenêtre, LDw, de la fenêtre de détection de point final (30) parallèlement au plan (28) de la surface de polissage (14); où la fenêtre 30 de détection de point final (30) a une largeur de fenêtre, Ww, mesurée 3033512 18 suivant une petite dimension de fenêtre, SDw, de la fenêtre de détection de point final (30) parallèlement au plan (28) de la surface de polissage (14); où la grande dimension de fenêtre, LDw, est perpendiculaire à la petite dimension de fenêtre, SDw; où la couche de polissage (20) a une 5 ligne radiale de couche de polissage, PLR, dans le plan (28) de la surface de polissage (14) qui coupe l'axe central (12) et s'étend à travers le périmètre externe (15) de la couche de polissage (20); où la fenêtre de détection de point final (30) est incorporée dans le tampon de polissage (10) de telle manière que la grande dimension de fenêtre, LDw, projette 10 une projection de grande dimension de fenêtre, pLDw, sur le plan (28) de la surface de polissage (14); où la projection de grande dimension de fenêtre, pLDw, coïncide sensiblement avec la ligne radiale de couche de polissage, PLR. (Voir la figure 1). De préférence, la longueur de fenêtre, WL, est essentiellement constante sur l'épaisseur de fenêtre, Tw. De 15 préférence encore, la longueur de fenêtre, WL, est essentiellement constante sur l'épaisseur de fenêtre, Tw, et sur la largeur de fenêtre, W. De préférence, la fenêtre de détection de point final (30) a une longueur de fenêtre moyenne, WL-avg, sur l'épaisseur de fenêtre, Tw, et sur la largeur de fenêtre, Ww; où la longueur de fenêtre moyenne, W - L-avg, est 20 35 à 75 mm (de préférence encore, 44 à 70 mm; de préférence encore, 50 à 65 mm; de manière particulièrement préférable, 55 à 60 mm). De préférence, la largeur de fenêtre, Ww, est essentiellement constante sur l'épaisseur de fenêtre, Tw. De préférence encore, la largeur de fenêtre, Ww, est essentiellement constante sur l'épaisseur de fenêtre, Tw, et sur la 25 longueur de fenêtre, WL. De préférence, la fenêtre de détection de point final (30) a une largeur de fenêtre moyenne, Ww-avg, sur l'épaisseur de fenêtre, Tw, et sur la longueur de fenêtre, WL; où la largeur de fenêtre moyenne, Ww-avg, est 6 à 40 mm (de préférence encore, 10 à 35 mm; de préférence encore, 15 à 25 mm; de manière particulièrement préférable, 30 19 à 21 mm). (Voir les figures 1-3). 3033512 19 [0052] De préférence, dans le tampon de polissage mécano- chimique (10) de la présente invention, le sous-tampon (25) comprend un matériau choisi dans le groupe consistant en une mousse à alvéoles ouverts, une mousse à alvéoles fermés, un matériau tissé, un matériau 5 non tissé (par exemple des matériaux feutrés, non tissés et aiguilletés), et leurs combinaisons. L'homme du métier moyen saura choisir un matériau approprié pour être utilisé dans le sous-tampon (25). [0053] De préférence, dans le tampon de polissage mécano- chimique (10) de la présente invention, le sous-tampon (25) a une 10 pluralité d'ouvertures (40), où la pluralité d'ouvertures (40) s'étend de la surface inférieure (27) du sous-tampon (25) à la surface supérieure (26) du sous-tampon (25). (Voir les figures 6-10). [0054] De préférence, dans le tampon de polissage mécano- chimique (10) de la présente invention, le sous-tampon (25) comprend 15 en outre une pluralité de membres transversaux (35); où la pluralité d'ouvertures (40) sont séparées par la pluralité de membres transversaux (35); et où la pluralité d'ouvertures (40) comprend au moins trois ouvertures. (Voir les figures 4-10). [0055] De préférence, dans le tampon de polissage mécano- 20 chimique (10) de la présente invention, le sous-tampon (25) a une pluralité d'ouvertures (40), où la pluralité d'ouvertures (40) consiste en trois ouvertures adjacentes (41); où les trois ouvertures adjacentes (41) consistent en une ouverture interne (42), une ouverture centrale (45) et une ouverture externe (47); où l'ouverture interne (42) a une aire en 25 section droite d'ouverture interne, Ai, parallèlement au plan (28) de la surface de polissage (14); où l'ouverture centrale (45) a une aire en section droite d'ouverture centrale, Ac, parallèlement au plan (28) de la surface de polissage (14); où l'ouverture externe (47) a une aire en section droite d'ouverture externe, A0, parallèlement au plan (28) de la 30 surface de polissage (14); où la pluralité de membres transversaux (35) 3033512 20 consiste en un membre interne (33) et un membre externe (36); où le membre interne (33) sépare l'ouverture interne (42) de l'ouverture centrale (45); et où le membre externe (36) sépare l'ouverture centrale (45) de l'ouverture externe (47). De préférence, l'aire en section droite 5 d'ouverture interne, Ai, est sensiblement constante sur l'épaisseur de sous-tampon, Ts. De préférence, l'aire en section droite d'ouverture centrale, Ac, est sensiblement constante sur l'épaisseur de sous-tampon, Ts. De préférence, l'aire en section droite d'ouverture externe, A., est sensiblement constante sur l'épaisseur de sous-tampon, Ts. De préférence 10 encore, l'aire en section droite d'ouverture interne, Ai, est sensiblement constante sur l'épaisseur de sous-tampon, Ts; l'aire en section droite d'ouverture centrale, Ac, est sensiblement constante sur l'épaisseur de sous-tampon, Ts; et l'aire en section droite d'ouverture externe, A0, est sensiblement constante sur l'épaisseur de sous-tampon, Ts. (Voir les 15 figures 4-10). [0056] De préférence, dans le tampon de polissage mécano- chimique (10) de la présente invention, le sous-tampon (25) a une pluralité d'ouvertures (40), où la pluralité d'ouvertures (40) a une longueur d'ouverture, AL, mesurée suivant une grande dimension 20 d'ouverture, LDA, de la pluralité d'ouvertures (40) parallèlement au plan (28) de la surface de polissage (14); où la pluralité d'ouvertures (40) a une largeur d'ouverture, Aw, parallèlement au plan (28) de la surface de polissage (14), mesurée suivant une petite dimension d'ouverture, Spa, de la pluralité d'ouvertures (40); où la grande dimension d'ouverture, 25 LDA, est perpendiculaire à la petite dimension d'ouverture, SDA; où la pluralité d'ouvertures (40) est intégrée dans le sous-tampon (25) de telle manière que la grande dimension d'ouverture, LDA, projette une projection de grande dimension d'ouverture, ILD A, sur le plan (28) de la surface de polissage (14); où la projection de grande dimension 30 d'ouverture, pLDA, coïncide sensiblement avec la projection de grande 3033512 21 dimension de fenêtre, pLDw. De préférence, la longueur d'ouverture, AL, de la pluralité d'ouvertures (40) est essentiellement constante sur l'épaisseur de sous-tampon, Ts. De préférence encore, la longueur d'ouverture, AL, de la pluralité d'ouvertures (40) est essentiellement 5 constante sur l'épaisseur de sous-tampon, Ts, et sur la largeur d'ouverture, Aw, de la pluralité d'ouvertures (40). De préférence, la pluralité d'ouvertures (40) a une longueur d'ouverture moyenne, AL-avg, sur l'épaisseur de sous-tampon, Ts, et sur la largeur d'ouverture, Aw, de la pluralité d'ouvertures (40); où la longueur d'ouverture moyenne, AL-avg, 10 est 28 à 69 mm (de préférence, 37 à 64 mm; de préférence encore, 43 à 59 mm; de manière particulièrement préférable, 48 à 54 mm). De préférence, la pluralité d'ouvertures (40) a une longueur d'ouverture moyenne, AL-avg; OÙ AL-avg -. W - - L-avg (de préférence, AL_avg REVENDICATIONS1. Tampon de polissage mécano-chimique caractérisé en ce qu'il comprend: une couche de polissage (20) ayant un axe central (12), un périmètre externe (15), une surface de polissage (14), une surface de base (17) et une épaisseur de couche de polissage, Tp, perpendiculairement au plan (28) de la surface de polissage (14), mesurée de la surface de polissage (14) à la surface de base (17); une fenêtre de détection de point final (30) ayant un côté polissage (31), un côté plateau (32) et une épaisseur de fenêtre, Tw, perpendiculairement au côté polissage mesurée du côté polissage (31) au côté plateau (32); un sous-tampon (25) ayant une surface supérieure (26), une surface inférieure (27), une pluralité d'ouvertures (40), un bord externe (29) et une épaisseur de sous-tampon, Ts, perpendiculairement à la surface supérieure mesurée de la surface supérieure (26) à la surface inférieure (27); et un adhésif d'empilement (23); où la fenêtre de détection de point final (30) est incorporée dans le tampon de polissage mécano-chimique (10), où le côté polissage (31) est disposé vers la surface de polissage (14) de la couche de polissage (20); où l'adhésif d'empilement (23) est disposé entre la surface de base (17) de la couche de polissage (20) et la surface supérieure (26) du sous-25 tampon (25); où la pluralité d'ouvertures (40) est en communication optique avec la fenêtre de détection de point final (30); et où la surface de polissage (14) de la couche de polissage (20) est adaptée pour polir un substrat. 3033512 32 2. Tampon de polissage mécano-chimique selon la revendication 1 caractérisé en ce que la pluralité d'ouvertures (40) s'étend de la surface inférieure (27) du sous-tampon (25) à la surface supérieure (26) du sous-tampon (25). 5 3. Tampon de polissage mécano-chimique selon l'une quelconque des revendications précédentes caractérisé en ce que le sous- tampon (25) comprend en outre une pluralité de membres transversaux (35); où la pluralité d'ouvertures (40) sont séparées par la pluralité de membres transversaux (35); et où la pluralité d'ouvertures comprend au 10 moins trois ouvertures. 4. Tampon de polissage mécano-chimique selon la revendication 3 caractérisé en ce que la pluralité d'ouvertures consiste en trois ouvertures adjacentes (41); 15 les trois ouvertures adjacentes consistent en une ouverture interne (42), une ouverture centrale (45) et une ouverture externe (47); l'ouverture interne (42) a une aire en section droite d'ouverture interne, Ai, parallèlement au plan de la surface de polissage; l'ouverture centrale (45) a une aire en section droite d'ouverture 20 centrale, Ac, parallèlement au plan de la surface de polissage; l'ouverture externe (47) a une aire en section droite d'ouverture externe, A., parallèlement au plan de la surface de polissage; la pluralité de membres transversaux consiste en un membre interne (33) et un membre externe (36); le membre interne (33) sépare l'ouverture interne (42) de l'ouverture centrale (45); et le membre externe (36) sépare l'ouverture centrale (45) de l'ouverture externe (47). 5. Tampon de polissage mécano-chimique selon la revendication 4 caractérisé en ce que l'aire en section droite d'ouverture 3033512 33 interne, AI, est sensiblement constante sur l'épaisseur de sous-tampon, Ts; l'aire en section droite d'ouverture centrale, Ac, est sensiblement constante sur l'épaisseur de sous-tampon, Ts; et l'aire en section droite d'ouverture externe, A0, est sensiblement constante sur l'épaisseur de 5 sous-tampon, Ts. 6. Tampon de polissage mécano-chimique selon la revendication 5 caractérisé en ce que l'ouverture externe (47) a une aire en section droite moyenne d'ouverture externe, A...g, parallèlement au plan de la surface de polissage sur l'épaisseur de sous-tampon, Ts; 10 l'ouverture interne (42) a une aire en section droite moyenne d'ouverture interne, Ai..avg, parallèlement au plan de la surface de polissage sur l'épaisseur de sous-tampon, Ts; l'ouverture centrale (45) a une aire en section droite moyenne d'ouverture centrale, Ac-avg, parallèlement au plan de la surface de 15 polissage sur l'épaisseur de sous-tampon, Ts; et 0,75 * Ao-avg :5 Ai-avg 1,25 * Ao-avg; et 0,5 * ( Ai-avg + Ao-avg) 5. Ac 5 1,25 * ( Ai-avg + Ao-avg). 7. Tampon de polissage mécano-chimique selon l'une quelconque des revendications 1 à 6 caractérisé en ce que la fenêtre de 20 détection de point final (30) a une aire en section droite de fenêtre, Wa, parallèlement au plan (28) de la surface de polissage (14); où l'aire en section droite de fenêtre, Wa, est sensiblement constante sur l'épaisseur de fenêtre, Tw. 8. Tampon de polissage mécano-chimique selon la 25 revendication 7 caractérisé en ce que la fenêtre de détection de point final (30) a une longueur de fenêtre, W1, parallèlement au plan de la surface de polissage, mesurée suivant une grande dimension de fenêtre, LDw, de la fenêtre de détection de point final; 3033512 34 la fenêtre de détection de point final a une largeur de fenêtre, Ww, parallèlement au plan (28) de la surface de polissage (14) mesurée suivant une petite dimension de fenêtre, SDw, de la fenêtre de détection de point final; 5 la grande dimension de fenêtre, LDw, est perpendiculaire à la petite dimension de fenêtre, SDw; la couche de polissage (20) a une ligne radiale de couche de polissage, PLR, dans le plan (28) de la surface de polissage (14) qui coupe l'axe central (12) et s'étend à travers le périmètre externe (15) de la 10 couche de polissage; la fenêtre de détection de point final est incorporée dans le tampon de polissage mécano-chimique (10) de telle manière que la grande dimension de fenêtre, LDw, projette une projection de grande dimension de fenêtre, pLDw, sur le plan de la surface de polissage; où la projection 15 de grande dimension de fenêtre, pLDw, coïncide sensiblement avec la ligne radiale de couche de polissage, PLR; la pluralité d'ouvertures (40) a une longueur d'ouverture, AL, parallèlement au plan de la surface de polissage, mesurée suivant une grande dimension d'ouverture, LDA, de la pluralité d'ouvertures; 20 la pluralité d'ouvertures (40) a une largeur d'ouverture, Aw, parallèlement au plan de la surface de polissage, mesurée suivant une petite dimension d'ouverture, SDA, de la pluralité d'ouvertures; la grande dimension d'ouverture, LDA, est perpendiculaire à la petite dimension d'ouverture, SDA; et 25 la pluralité d'ouvertures (40) est intégrée dans le sous-tampon (25) de telle manière que la grande dimension d'ouverture, LDA, projette une projection de grande dimension d'ouverture, pLDA, sur le plan (28) de la surface de polissage (14); où la projection de grande dimension d'ouverture, pLDA, coïncide sensiblement avec la projection de grande 30 dimension de fenêtre, pLDw. 3033512 9. Tampon de polissage mécano-chimique selon l'une quelconque des revendications 4 à 8 caractérisé en ce que le membre interne (33) a une largeur de membre interne, Wim, parallèlement au plan (28) de la surface de polissage (14), mesurée 5 suivant la grande dimension d'ouverture, LDA, de la pluralité d'ouvertures; le membre externe (36) a une largeur de membre externe, Wom, parallèlement au plan (28) de la surface de polissage (14), mesurée suivant la grande dimension d'ouverture, LDA, de la pluralité d'ouvertures; l'ouverture interne (42) a une dimension d'ouverture interne, Di, 10 parallèlement au plan (28) de la surface de polissage (14), mesurée suivant la grande dimension d'ouverture, LDA, de la pluralité d'ouvertures; l'ouverture externe (47) a une dimension d'ouverture externe, Do, parallèlement au plan (28) de la surface de polissage (14), mesurée suivant la grande dimension d'ouverture, LDA, de la pluralité d'ouvertures; 15 la longueur d'ouverture, AL, de la pluralité d'ouvertures (40) est essentiellement constante sur l'épaisseur de sous-tampon, Ts, et sur la largeur d'ouverture, Aw, de la pluralité d'ouvertures (40); la pluralité d'ouvertures (40) a une longueur d'ouverture moyenne, AL_avg, sur l'épaisseur de sous-tampon, Ts, et sur la largeur d'ouverture, 20 Aw, de la pluralité d'ouvertures (40); la largeur d'ouverture, Aw, de la pluralité d'ouvertures (40) est essentiellement constante sur l'épaisseur de sous-tampon, Ts, et sur la longueur d'ouverture, AL, de la pluralité d'ouvertures (40); la pluralité d'ouvertures (40) a une largeur d'ouverture moyenne, 25 Aw_avg, pour la pluralité d'ouvertures (40) sur l'épaisseur de sous-tampon, Ts, et sur la longueur d'ouverture, AL, de la pluralité d'ouvertures (40); et AL-avg WL-avg; et Aw-avg WW-avg- 10. Procédé de polissage caractérisé en ce qu'il comprend: 3033512 36 la fourniture d'un appareil de polissage mécano-chimique ayant une table, une source lumineuse et un photocapteur; la fourniture d'un substrat; la fourniture d'un tampon de polissage mécano-chimique (10) selon 5 l'une quelconque des revendications précédentes; l'installation sur la table du tampon de polissage mécano-chimique avec la surface de polissage (14) disposée à distance de la table; éventuellement, la fourniture d'un milieu de polissage à une interface entre la surface de polissage et le substrat; 10 la création d'un contact dynamique entre la surface de polissage et le substrat, où au moins une certaine quantité de matériau est retirée du substrat; et la détermination d'un point final de polissage par transmission de la lumière depuis la source lumineuse à travers la fenêtre de détection de 15 point final (30) et analyse de la lumière réfléchie par le substrat, qui traverse de nouveau la fenêtre de détection de point final et qui est incidente sur le photocapteur.