Brevet FR3030311A1 — publié le 20160624

DOMAINE TECHNIQUE DE L'INVENTION La présente invention appartient au domaine de la purification par photocatalyse des fluides, notamment de l'air et de l'eau. On entend par purification, la destruction des polluants chimiques (tels que les composés organiques volatils, les pesticides, ...) et des microorganismes (bactéries, virus, champignons, ...). Elle a pour objet un procédé de préparation par voie chimique, à pression atmosphérique et température modérée, d'un média photocatalytique de haute surface spécifique offrant une réactivité améliorée. Elle a également pour objet l'utilisation de ce média en lit fluidisé pour la purification d'un fluide gazeux ou liquide, dans un réacteur conçu pour la mise oeuvre de cette purification. ETAT DE LA TECHNIQUE On sait que la photocatalyse fait partie des Procédés d'Oxydations Avancées (POA), qui sont des techniques très prometteuses utilisées dans la purification des fluides. Elles reposent sur la formation d'entités chimiques très réactives qui vont décomposer les molécules les plus récalcitrantes en molécules biologiquement dégradables ou en composés minéraux tels que CO2 et H20. Elles sont notamment utilisées dans le traitement de l'eau. Parmi les POA, la photocatalyse a plusieurs avantages, un des plus importants étant la génération des radicaux hydroxyles, qui possèdent un pouvoir oxydant supérieur à celui des oxydants traditionnels tels que C12, C102 ou 03. Les photocatalyseurs actuels sont pour la plupart élaborés à partir de nanoparticules, mais leur utilisation à l'état libre n'est pas possible pour la 25 purification des fluides à l'échelle industrielle. Le recours à un media photocalytique obtenu par fixation des particules sur un support est nécessaire. Ils peuvent être élaborés par adhésion physique ou par dépôt par voie chimique. Dans le premier cas, les médias photocatalytiques utilisés sont élaborés par adhésion physique de nanoparticules sur des supports qui peuvent être de 30 différentes natures (charbon actif, céramiques poreuses, polymères, verres, métaux, etc.). On peut obtenir la fixation de la phase active à l'aide d'un liant inorganique. Ce type de dépôt conduit à la réalisation d'un média plus stable par rapport aux médias élaborés par la simple imprégnation ou dispersion aqueuse du photocatalyseur sur la surface du support. Le support le plus utilisé dans ce cas est la fibre de silice, préférée du fait de sa transparence aux UV et de la faible perte de charge générée par la fibre au passage de l'air. Néanmoins, la surface exposée à la lumière est très faible. En outre, l'utilisation de ce type de médias reste très limitée à cause de nombreux problèmes liés à leur fragilité pouvant causer des problèmes de santé liés à l'inhalation de nanoparticules, à la difficulté d'utilisation pour la purification de l'eau, ainsi qu'à d'autres problèmes liées à l'application de ce type de média. Pour éviter les inconvénients des médias supportés élaborés par adhésion physique, on peut recourir au dépôt in situ par voie chimique. Plusieurs techniques ont été développées pour réaliser un système phase active - support résistant : dépôt chimique en phase vapeur, (Chemical Vapour Deposition ou CVD), dépôt moléculaire en couche (Molecular Layering Deposition ou MLD), dépôt en couches minces atomiques (Atomic Layer Deposition ou ALD), dépôt physique en phase vapeur (Arc Ion Plating), pulvérisation cathodique (Sputtering), dépôt chimique en phase vapeur induit par laser (Laser Photo-Induced CVD), etc. Le dépôt par les techniques de croissance de couches minces, notamment par CVD et techniques dérivées, sont très chères car elles nécessitent des installations complexes, fonctionnant sous vide, à des hautes températures et/ou utilisant du plasma... Un autre inconvénient est le fait que le dépôt est réalisé seulement sur la surface supérieure du substrat à modifier et que l'épaisseur du dépôt est fonction du temps de synthèse. Ceci rend cette technique inadaptée pour la modification des grandes quantités de support. Les techniques de dépôts dits autocontrôlés (ou self-limited), par exemple le dépôt en couches minces atomiques, semblent plus adaptées pour déposer de grandes quantités de matière, car l'épaisseur du film obtenu est contrôlée par le 30 nombre de cycles de synthèse. Plusieurs composés semi-conducteurs peuvent faire office de photocatalyseurs. Le plus utilisé est le dioxyde de titane (Ti02) du fait de ses propriétés, notamment une longueur de la zone interdite convenable de 3,2 eV. Le dépôt est obtenu par réaction entre un précurseur du dioxyde de titane et les sites réactifs OH présents à la surface du support. Il existe plusieurs précurseurs permettant le dépôt du Ti02, comme classiquement le tétrachlorure de titane (TiCI4) et le tétraisopropoxyde de titane ou TTIP (C12H2804Ti), ou de nouveaux précurseurs développés plus récemment, par exemple des molécules de type Ti(Ri-R5Cp)x(ER6R7)y(Cy-amines)z décrites dans le document W02013/177292. L'utilisation du TTIP est aisée par le fait qu'il contient déjà la molécule de Ti02, ce qui peut faciliter la synthèse. Par contre, en termes de volatilité, le TiCI4 présente de meilleures caractéristiques. Le dépôt du dioxyde de titane TiO2 à partir du précurseur chloré TiCI4 selon la technique ALD classique est réalisé en cinq étapes (voir figure 1): 1 - Conditionnement thermique du support, 2 - Chimisorption du précurseur TiCI4 sur le support, 3 - Désorption de l'excès de précurseur et des produits intermédiaires (HCI), 4 - Hydrolyse avec de la vapeur d'eau H20 (deuxième précurseur) et 5 - Conditionnement. Ce dépôt peut se faire à haute température, ce qui pose toujours des problèmes de coûts liés à l'utilisation de matériaux qui doivent résister simultanément aux températures élevées et à des précurseurs souvent très corrosifs. La consommation électrique est importante et la mise en oeuvre des installations est compliquée par l'utilisation du vide. En outre, des réactions parasites avec le support ont lieu pendant l'étape de chimisorption (étape 2) par exemple Si-OH +HCI Si-CI +H20 où un atome de chlore occupe un site réactionnel (Si-OH) du support. Ceci fait que certains sites de dépôt sont rendus inexploitables et la molécule de H20 formée réagit avec le précurseur en y formant un nouveau site de dépôt à un endroit aléatoire. Ceci engendre l'agglomération du TiO2 sur la surface du support. Or, la morphologie irrégulière de la surface est un obstacle majeur à la séparation des porteurs de charge libres. Ces phénomènes sont représentés en figure 2. Le dépôt à des températures basses pourrait résoudre les contraintes évoquées ci-dessous. En revanche, le dépôt par ALD à basse température ne permet pas l'hydrolyse complète du précurseur, car les conditions ne sont pas favorables : la phase active (Ti02) obtenue n'est pas cristallisée ce qui fait que la couche déposée est amorphe et n'a pas d'activité photocatalytique. Au demeurant, elle est moins stable que les phases cristallisées. Deux techniques de cristallisation des phases actives déposées à basse température ont pu être identifiées. La première met en oeuvre une étape de calcination à haute température. Outre le problème d'augmentation des coûts de fabrication, cette méthode ne permet pas d'obtenir un dépôt actif. L'autre méthode consiste en la réalisation du dépôt par la méthode MLD avec des précurseurs fortement dilués. Cependant, l'application de cette méthode à l'échelle industrielle n'est pas viable car le temps de fabrication est trop long (quelques dizaines de fois plus long que dans le cas de la technique ALD classique). Une autre contrainte, spécifique au dépôt en phase gazeuse, est la création des chemins préférentiels du gaz porteur à travers le support, ce qui conduit à la réalisation d'un dépôt irrégulier. La Figure 3 illustre le schéma de principe des étapes 2 et 4 d'un dépôt ALD à partir de TiCI4 à basse température. Ces medias sont destinés à être utilisés dans des dispositifs de purification des fluides, et peuvent être mis en oeuvre soit sous une forme fixe (avec passage léchant ou traversant, ou autre), soit en mouvement sous forme de lit fluidisé. Les types de médias sont très variés, mais doivent tous respecter les mêmes exigences à savoir : une grande surface géométrique, des pertes de charge minimales, un bon contact avec le fluide à traiter et une exposition optimale à la source lumineuse. Parmi les medias fixes, on trouve ceux utilisant comme support des mousses céramiques ou métalliques, des fibres ou des tissus de verre, quartz ou silice, des fibres optiques,... Avec ces médias, un problème d'exposition à la lumière d'une surface assez importante de phase active se pose, qui conduit soit à une mauvaise efficacité soit à la réalisation de dispositifs très encombrants et onéreux. Concernant la cinétique de réaction avec médias fixes, en conditions industrielles les débits de fluide à traiter étant relativement importants, la vitesse de passage dans la zone réactionnelle est très élevée par rapport au temps de réaction nécessaire à la photocatalyse. Cela influence de manière négative la diffusion interne des polluants à dégrader et conduit à une faible efficacité du média, en favorisant la formation des sous-produits d'oxydation intermédiaires. De plus, dans une configuration classique en flux de fluide unidirectionnel, la même partie du média fixe est sollicitée en premier lieu. Dans des conditions de fortes concentrations de polluants et/ou des molécules difficiles à dégrader, la surface de cette partie du média sera bientôt encombrée avec des produits intermédiaires d'oxydation. La conséquence est la désactivation rapide du média. Une autre difficulté rencontrée en photocatalyse est liée à l'utilisation des lampes UV comme source lumineuse. Ces lampes provoquent un échauffement du média et du fluide à traiter, ce phénomène empêchant l'adsorption des polluants sur le photocatalyseur. L'activité photocatalytique est ainsi diminuée. L'utilisation de la configuration dite en lit fluidisé, utilisant un support sous forme de particules, semble plus adaptée pour les réactions catalytiques dans un fluide en mouvement. En effet, on s'attend à résoudre ainsi les problèmes liés à la vitesse de réaction et à diminuer également la formation des sous-produits d'oxydation. Le risque de désactivation progressive du photocatalyseur est également limité car les particules de photocatalyseurs sont constamment en mouvement. Toutefois, plusieurs difficultés sont à prendre en compte lors de la mise en place d'un lit fluidisé. Le contrôle du lit est un point assez compliqué car nécessitant un calcul très précis de la vitesse de passage en fonction de la taille et de la masse volumique des particules. Un débit de fluide à traiter trop faible ne va pas conduire à la fluidisation, tandis qu'un débit trop élevé peut entraîner les particules actives. Elles peuvent, dans ce cas, sortir du réacteur ou colmater le filtre en sortie, créant ainsi de grandes pertes de charge. Le lit fluidisé doit donc être contrôlé par le débit du fluide et/ou par la variation du diamètre intérieur sur la hauteur du réacteur. Cependant, même dans le cas d'un bon dimensionnement, des morceaux de particules issues de l'attrition des particules initiales peuvent toujours être générés et causer les problèmes exposés ci-dessus, d'autant plus que l'intégrité physique à la fois des particules de catalyseur et des parties constituantes du dispositif est mise à rude épreuve en raison des collisions se produisant dans un tel système. Ainsi, si les techniques photocatalytiques en lit fluidisé apparaissent comme les mieux adaptées à l'épuration des fluides, un certain nombre d'inconvénients sont rencontrés qui n'ont pas pu être surmontés jusqu'à présent. Il existe donc un besoin de disposer d'une technique pour obtenir des medias photocalytiques adaptés à l'épuration des fluides par photocatalyse, qui soit simple et efficace, et fournisse des supports de haute réactivité permettant de traiter de grands volumes, et ne nécessitant pas une maintenance fréquente. Il est recherché également que cette technique soit peu coûteuse, tant en ce qui concerne la production des médias que leur mise en oeuvre dans des réacteurs d'épuration. En particulier, il est recherché un procédé de préparation de medias qui aboutisse à un dépôt homogène sur toutes les particules, réalisé à pression atmosphérique et basse température. Un autre objectif de l'invention est de maîtriser l'épaisseur du dépôt effectué, de manière à ce que la bande interdite ait la longueur voulue pour la réaction catalytique. Il est recherché aussi que ces medias puissent être mis en oeuvre en lits fluidisés, avec une longue durée d'activité et avec une grande capacité de traitement d'un flux liquide ou gazeux. OBJET DE L'INVENTION Afin de résoudre les problèmes d'élaboration de médias photocatalytiques par synthèse chimique, une méthode a été mise au point. La nouvelle méthode est une méthode de dépôt autocontrôlée, à basse température et pression atmosphérique, qui combine des étapes en phase gazeuse et en phase liquide. On pourra la désigner de manière abrégée « VLD » (Vapor-Liquid Deposition). Plus précisément, la présente invention a pour objet un procédé de préparation par voie chimique d'un média photocatalytique comprenant un support particulaire poreux et un composé apte à catalyser une réaction de photocatalyse, ledit composé étant lié chimiquement audit support particulaire, ce procédé comprenant de se munir d'un précurseur dudit composé et d'un support particulaire dont la surface comporte des sites réactionnels hydroxyles aptes à réagir avec ledit précurseur, et de réaliser les étapes de : a) conditionnement thermique des particules support, b) adsorption chimique du précurseur sur tout ou partie des sites réactionnels desdites particules, c) désorption de l'excès de précurseur et des produits intermédiaires formés durant l'étape b), d) hydrolyse en phase liquide du précurseur lié aux sites réactionnels, e) conditionnement des particules recouvertes dudit composé pour obtenir un média particulaire doté de propriétés photocatalytiques. On note que toutes les étapes du procédé sont réalisées à la pression atmosphérique. Les températures mises en oeuvre sont faibles à modérées, 10 comme il sera exposé en détail plus loin. Certaines étapes peuvent avantageusement être réalisées à la température ambiante. Le support particulaire doit contenir à sa surface de nombreux sites hydroxyles, c'est-à-dire des centres OH sur lesquels la phase active sera déposée. On choisit de préférence un support ayant une grande surface 15 spécifique. On peut citer à titre d'exemple l'alumine activée, la silice, les zéolites. Le support conseillé pour l'élaboration des médias photocatalytiques est la silice en raison de ses propriétés de transparence aux rayonnements UV. Le conditionnement thermique (étape a) du support est très important pour obtenir une morphologie adéquate de la surface, car si la phase active est 20 trop épaisse, les porteurs de charge vont se recombiner avant d'arriver à la surface du matériau. Si l'épaisseur est trop faible, les porteurs de charge ne pourront pas se former. La phase active doit avoir une épaisseur optimale, adaptée aux distances pouvant être parcourues par les porteurs de charge. Le conditionnement thermique permet de contrôler la morphologie du 25 dépôt du point de vue de son épaisseur mais aussi de sa régularité, par la gestion de la concentration des groupes OH réactifs à la surface du support, car il existe plusieurs types de groupes OH dont la résistance à la température est différente. Plus la température de conditionnement est élevée, plus la concentration des OH va diminuer. Une grande concentration surfacique des OH mène à l'obtention 30 d'une morphologie homogène 2D du dépôt, tandis qu'une faible concentration des OH conduit à un dépôt plus hétérogène sous forme de gros agrégats (morphologie 3D). En outre, à basse température, le dépôt se produit de manière très homogène sur la surface du support. Avec l'augmentation de la température de synthèse, on observe la formation d'agrégats plus en plus nombreux (morphologie 3D) et un dépôt plus hétérogène. Cette étape est réalisée obligatoirement en phase gazeuse, par circulation d'ai sec, qui va débarrasser les particules des groupes faiblement liés au support. C'est pourquoi, selon une caractéristique préférée du procédé selon l'invention, l'étape a) de conditionnement thermique est réalisée par circulation d'un gaz sec entre 80°C et 300°C durant au moins si heures. De préférence, elle est réalisée à une température entre 100°C et 250°C Le gaz sec peut être de l'air, ou un autre gaz inerte tel que l'azote. Une étape d'adsorption chimique du précurseur est ensuite réalisée. C'est une étape décisive doit respecter une les conditions suivantes : - elle doit avoir une durée suffisante pour atteindre la saturation du support en précurseur et - la température doit être inférieure ou égale à la celle du conditionnement thermique. Ainsi, selon l'invention, l'étape b) d'adsorption chimique du précurseur est réalisée en phase gazeuse, par circulation d'un gaz porteur dudit précurseur, à une température inférieure ou égale à celle du conditionnement thermique réalisé à l'étape a). Elle peut être réalisée avantageusement selon l'invention, entre 100°C et 250°C. La figure 4 montre l'impact de la èmpérature de dépôt sur la morphologie de la surface des particules. Par ailleurs, le débit du gaz porteur est de préférence largement supérieur aux débits habituels qui sont de l'ordre de 0,001 m/s pour un dépôt MLD (sans toutefois influer sur l'efficacité de la phase active ainsi déposée), afin d'éviter la formation des chemins préférentiels et forcer le mélange gazeux à se distribuer de manière homogène dans tout le volume du support à modifier. Cette augmentation de la vitesse de passage permet aussi de réduire le temps de synthèse. Ainsi, selon une caractéristique préférée de l'invention, l'étape b) d'adsorption chimique du précurseur, la vitesse de circulation (le débit) dudit gaz porteur, et du précurseur qu'il véhicule, est comprise entre 0,005 m/s et cinq m/s. De préférence, cette vitesse est supérieure à 0,05 m/s. La durée du processus va varier selon la température et le débit choisis. On pourra déterminer la saturation du support par tout moyen connu de l'homme du métier. Par exemple, quand le précurseur est le TiCI4, à saturation, l'excès de TiCI4 forme des fumées blanches en présence d'eau. Dans les conditions d'une zone de réaction des grandes dimensions, avec des débits de gaz porteur élevés, des gradients de température peuvent se former. Pour éviter ce phénomène, le réacteur peut être placé dans une étuve (avantage du dépôt à basse température) et le gaz porteur doit être chauffé à la température de dépôt, par exemple à l'aide d'une spirale se trouvant dans la même étuve en amont de l'entrée du réacteur. A la fin de l'étape de chimisorption, l'excès de précurseur doit être éliminé afin d'éviter des dépôts parasites et improprement attachés au support. Une attention particulière doit être accordée à cette étape dans des conditions de dépôt à basses températures, car les quantités de précurseur adsorbées sont largement supérieures à celle adsorbées à des hautes températures. Pour ce faire, on fait circuler un gaz inerte, par exemple de l'air sec ou de l'azote. Pour limiter le temps de désorption, le débit de gaz peut dépasser celui de la synthèse. Dans ce cas, on peut réaliser avantageusement cette étape c) de désorption, avec une vitesse de circulation du gaz au moins égale à la vitesse du gaz durant l'étape b) d'adsorption. Dans une variante d'exécution du procédé selon l'invention, l'étape b) d'adsorption chimique du précurseur peut être réalisée en phase liquide. On peut procéder de différentes manières, selon les techniques connues de la technique. On peut travailler à une température inférieure ou égale à celle du conditionnement thermique, par exemple entre 100°C et 250°C, et de préférence avantageusement à la température ambiante. Les deux dernières étapes du procédé objet de l'invention sont très importantes. Elles ont pour but d'hydrolyser complètement le précurseur fixé et d'obtenir une phase active cristalline. Au moins une étape d'hydrolyse doit être réalisée, obligatoirement en phase liquide. Plusieurs modes de réalisation sont possibles. La quantité d'eau utilisée peut être celle correspondante à la capacité d'adsorption du support ou elle peut être ajoutée en excès. Dans ce dernier cas, un volume d'eau minimum égal au volume de média sera utilisé. Il est également possible de réaliser plusieurs rinçages du média afin de faciliter la sortie de l'acide chlorhydrique formé. Le paramètre le plus important est la température de l'eau pendant l'hydrolyse. Elle doit être supérieure à 70°C, de préférence supérieure à 80°C. L'eau peut être ajoutée soit directement chaLde sur le média à hydrolyser soit à température ambiante et chauffée par la suite et maintenue à la température souhaitée. Ainsi, selon l'invention, à l'étape d) d'hydrolyse, la température de l'eau est maintenue supérieure à 70°C. De préférence, elb est supérieure à 80°C. A pression atmosphérique, elle sera de fait limitée aux alentours de 100°C. Selon l'invention également, à l'étape d) d'hydrolyse, on utilise un volume d'eau au moins égal au volume de support particulaire, ou bien on réalise plusieurs rinçages successifs. Le conditionnement final est lui aussi très important et doit se réaliser à une température de préférence supérieure à 105°C, pendant au moins 12 heures. Le traitement peut être poursuivi pendant 24 heures ou plus, avec apport d'oxygène, par exemple par de l'air insufflé à travers le média. Ainsi, dans un mode de réalisation préféré du procédé selon l'invention, à l'étape e), le conditionnement des particules est réalisé par circulation d'air sec à une température supérieure à 105°C, pendant au moins 12heures. Pour la réalisation du média, on choisit de manière avantageuse un support constitué de particules de silice amorphe poreuse dont la granulométrie est dans un intervalle choisi entre 0,1 mm et 10 mm de diamètre. De préférence, on utilise des particules de diamètre inférieur à un millimètre, et encore de préférence des particules allant de 200 pm à 500 ilm. On aura ainsi une poudre fine de particules support, dotées d'une couche nanométrique de composé photocatalytiquement réactif. On pourra aussi de manière préférée choisir comme composé photocatalytique fixé au support le dioxyde de titane Ti02, et son précurseur pourra être choisi parmi le tétrachlorure de titane (TiCI4), ou le tétra-isopropoxyde de titane C12H2804Ti (TTIP), ou d'autres encore à la disposition de l'homme de l'art. Une étape préliminaire notée ao peut être prévue, qui est une hydrolyse du support. Cette étape est optionnelle, puisque certains supports peuvent être déjà hydratés. Dans le cas d'un support non hydraté ou partiellement hydraté, cette étape est importante car elle permet de créer un nombre maximal des sites réactifs de dépôt. Elle peut être réalisée en phase vapeur, ou en phase liquide avec une étape supplémentaire de séchage. C'est pourquoi, dans une variante d'exécution de l'invention, le procédé de préparation du média photocatalytique comporte avant l'étape a) de conditionnement thermique des particules support, une étape ao), d'hydratation par hydrolyse des sites réactifs du support. Également de manière optionnelle, on peut ajouter une étape d'hydrolyse en phase gazeuse, précédant l'hydrolyse en phase liquide. Cette hydrolyse en phase gazeuse est sensiblement identique à ce qui est habituellement pratiqué dans les techniques conventionnelles et n'est pas suffisamment efficace à elle seule pour obtenir une hydrolyse complète des sites greffés. Dans ce cas, le procédé selon l'invention comporte avant les étapes d) et e), deux étapes do) et e0), où do) est une hydrolyse en phase gazeuse du précurseur lié aux sites réactionnels, et e0) est un conditionnement des particules, qui peut être fait par circulation d'air ou de dioxygène. Le média photocatalytique obtenu par le procédé qui vient d'être décrit est particulièrement actif. De manière inattendue et particulièrement intéressante, il est apparu que le précurseur du composé actif pouvait se fixer sur des sites en surface, mais aussi dans la porosité du matériau particulaire, offrant ainsi un media doté d'une surface spécifique très élevée de l'ordre de 350 m2/g. Sa méthode de fabrication est facilitée par rapport aux techniques de type CVD, notamment du fait que l'on travaille à basse température et à pression atmosphérique. Il a en outre un coût de fabrication réduit. Grâce à la surface spécifique très élevée, il est possible d'utiliser le média catalytique dans des dispositifs compacts de purification, ce qui offre de nombreux avantages tant pour les coûts d'installation et de maintenance que du point de vue de la modularité. Il a une forte efficacité (du fait de sa surface spécifique élevée, de son utilisation commode en lit fluidisé, et d'un support transparent aux UV). Le nombre de lampes UV nécessaires est réduit. Il présente ainsi un intérêt technique et économique indéniable. Est ainsi objet de la présente invention un média photocatalytique susceptible d'être obtenu par le procédé selon l'une des revendications précédentes, comprenant un support particulaire poreux et un composé apte à catalyser une réaction de photocatalyse, ledit composé étant lié chimiquement au support particulaire poreux, -sur une profondeur d'au moins 0,5 mm pour les particules de diamètre supérieur à un millimètre, -et dans l'intégralité de la porosité interne pour les particules de diamètre compris entre 0,2 mm et 0,5 mm. Est également objet de la présente invention l'utilisation d'un média photocatalytique susceptible d'être obtenu par le procédé selon l'invention, pour la purification d'un fluide gazeux ou liquide. Il peut s'agir de purifier l'air ambiant d'un atelier, d'un établissement de soins hospitaliers, d'une crèche, ou autres. L'utilisation du média selon l'invention est également adaptée pour la purification de l'eau dans différents domaines. On peut citer le traitement final des eaux de STEP (stations d'épuration des eaux domestiques ou industrielles) et des eaux issues du traitement des déchets hospitaliers, la purification des eaux de rinçages des fruits et légumes, ou autres. La présente invention a également pour objet l'utilisation du média photocatalytique obtenu par le procédé décrit plus haut, pour la purification d'un fluide gazeux ou liquide, dans un réacteur conçu pour la mise oeuvre de cette purification. Un tel réacteur a été conçu pour titrer le plus grand profit des propriétés du média en question. Est ainsi objet de la présente invention, un réacteur pour la purification d'un fluide gazeux ou liquide, lequel comporte une enceinte comportant : i) en partie inférieure un conduit d'entrée dudit fluide et en partie supérieure un conduit de sortie dudit fluide, ii) entre lesdits conduits, une chambre interne contenant une quantité de média photocatalytique selon la revendication 14, la cloison inférieure de la chambre étant constituée d'un filtre apte à retenir les particules dudit media et à laisser circuler ledit fluide, et iii) une lampe émettrice de rayons UV, s'étendant dans ladite chambre à proximité dudit média, entre les conduits d'entrée et de sortie du fluide, de sorte que le média photocatalytique constitue un lit fluidisé éclairé par la lampe, qui est apte à purifier ledit fluide lorsque celui-ci traverse le réacteur. Selon un mode de réalisation avantageux du réacteur objet de l'invention, l'enceinte peut être agencée selon un cylindre externe vertical, et est munie d'un tube transparent aux UV s'étendant selon son axe longitudinal central, lequel contient ladite lampe UV. Ainsi, la lampe est placée à la verticale au milieu du lit fluidisé. Ceci, compte tenu également du fait que les particules sont transparentes aux UV, permet d'éclairer l'ensemble du média en même temps et même à l'intérieur des pores. En sachant que la phase active y est aussi déposée, on bénéficie ainsi d'une très grande surface de réaction, d'environ 350 m2/g, qui est en même temps éclairée et en contact avec les polluants à dégrader. Quant au problème de chauffage du média par la lampe, qui est à éviter, cette configuration offre une bonne solution. La lampe peut être placée dans un tube permettant le passage des UV, par exemple en quartz. Le refroidissement de la lampe est en conséquence possible en utilisant l'espace se trouvant entre le tube et la lampe. Dans cet espace l'air de refroidissement peut être propulsé de différentes manières. Selon une première manière possible, le tube est monté traversant de part en part l'enceinte et est relié à des moyens de circulation d'un flux gazeux apte à assurer le refroidissement de la lampe UV. Cette configuration est adaptée pour le traitement de l'air, mais aussi de l'eau car la lampe n'entre pas en contact avec le fluide à traiter. La circulation du flux gazeux peut être naturelle : le débit est alors contrôlé par le diamètre du tube (par l'espace compris entre la lampe et le tube). Il peut être assuré par une pompe ou un ventilateur. On peut aussi faire circuler de l'air à l'intérieur du tube à l'aide d'une pompe (ou d'un ventilateur) indépendamment de celle assurant la circulation de l'air à traiter dans la zone réactionnelle. Dans ce cas, le débit est contrôlé avec la pompe. Selon une autre manière possible, le tube est monté traversant à son extrémité inférieure le filtre constituant la cloison inférieure de la chambre, et à son extrémité supérieure la paroi supérieure de l'enceinte, de sorte qu'une partie du fluide pénétrant dans le réacteur est apte à circuler dans le tube et à assurer le refroidissement de la lampe UV. La configuration verticale exposé ci-dessus peut poser des problèmes d'intégrité physique tant des particules que des éléments constituants du réacteur dans son ensemble, notamment dans le cas du traitement des gaz dans des conditions de grands débits. Pour remédier à cela, une solution plus adaptée est proposée. Pour le même volume de produit, le réacteur est en forme de caisson : moins haut et plus large. La vitesse de passage est ainsi réduite pour permettre la création d'un lit fluidisé plus calme, avec un mouvement des particules minimisé. Les lampes sont installées à l'horizontale au-dessus des particules de photocatalyseur. Deux variantes sont possibles. Celle dont la hauteur du lit est assez faible pour permettre l'excitation lumineuse simultanée de l'ensemble des particules et celle dont le mouvement continu des particules permet leur excitation successive par la lampe. Les particules se trouvant en dessous vont adsorber dans un premier temps les polluants qu'elles dégraderont une fois arrivées dans la partie supérieure, sous l'effet de l'excitation par la lampe. Le problème de l'échauffement du photocatalyseur par les lampes est évité dans cette configuration, les lampes se trouvant dans la partie supérieure de l'enceinte et en sortie du réacteur. Pour des raisons de sécurité des lampes, la sortie du fluide peut se trouver plus basse que la lampe. La trajectoire des particules emportées s'arrêtera au niveau de la sortie du fluide, évitant ainsi l'impact avec les lampes. Cette configuration convient également au traitement des fluides. Pour éviter un éventuel contact du liquide avec les lampes (en cas de monté du niveau de liquide causé par exemple par le colmatage du filtre en sortie ou par une augmentation du débit), les lampes peuvent aussi être placées dans des tubes en quartz. Ainsi, selon un second mode de réalisation avantageux du réacteur objet de l'invention, l'enceinte est agencée selon un caisson externe, et ladite lampe UV est placée horizontalement dans la partie supérieure de l'enceinte, sensiblement au niveau du conduit de sortie du fluide, de sorte que le fluide traversant le réacteur est apte à assurer le refroidissement de la lampe UV. La lampe peut être placée au-dessus ou au-dessous du conduit de sortie, mais on préfèrera sa position légèrement au-dessus du conduit de sortie au-dessus, ce qui assure un meilleur éclairage du media et un refroidissement plus efficace, car il est plus éloigné du lit fluidisé. Dans ce cas, la lampe peut être placée dans un tube transparent aux UV lequel est monté traversant de part en part l'enceinte et est relié à des moyens de circulation d'un flux gazeux apte à assurer le refroidissement de la lampe UV, avec 10 les mêmes variantes et avantages que précédemment exposés. Par ailleurs, que le réacteur adopte une structure verticale ou en caisson, peut être prévue une disposition visant à limiter les difficultés liées au dimensionnement et au contrôle grâce à un changement brusque de direction d'écoulement du fluide. C'est pourquoi, selon une caractéristique intéressante du 15 réacteur objet de la présente invention, le conduit de sortie du fluide est orienté perpendiculairement au sens de circulation du fluide dans l'enceinte lorsque celui-ci à traversé la chambre interne. On peut en outre munir l'orifice du conduit de sortie d'un filtre disposé parallèlement à la direction initiale d'écoulement, et ménager une zone tampon 20 libre au-dessus de l'orifice de sortie. En cas d'écoulement du fluide à des débits modérés, les particules auront tendance à s'arrêter avant la sortie, car dans cette zone la vitesse de passage est brusquement diminuée au niveau de la sortie. Pour un débit élevé de fluide ou en cas d'attrition du média, les particules auront tendance à suivre, par inertie, leur trajectoire initiale. Elles seront projetées vers le 25 haut, dans la zone tampon libre, évitant ainsi le colmatage du filtre. De manière générale, l'homme du métier saura adapter le système, en fonction des débits de fluide et des concentrations à traiter, en agrandissant le diamètre du réacteur et en installant plusieurs unités en parallèle ou en série. L'augmentation du diamètre se fera compte tenu de la distance sur laquelle la 30 lumière UV est capable de pénétrer à travers le média. BREVE DESCRIPTION DES FIGURES La présente invention sera mieux comprise, et des détails en relevant apparaîtront, grâce à la description qui va être faite de variantes de réalisation des différents aspects de l'invention, en relation avec les figures annexées, dans lesquelles : - la figure 1 présente le schéma de principe des étapes 2 et 4 selon la technique ALD connue de l'état de l'art pour un dépôt sur support de silice à partir de TiCI4 ; - la figure 2 représente le schéma de principe des réactions possibles à haute température dans les étapes 2 et 4 selon la technique ALD pour un dépôt sur silice à partir de TiCI4 ; - la figure 3 représente le schéma de principe selon la technique ALD à basse température (détail étapes 2 et 4) pour un dépôt à partir de TiCI4 ; - la figure 4 montre la morphologie de la surface en fonction de la 15 température de dépôt : a) dépôt à 175°C ; b) dépôtà 350°C ; c) dépôt à 500°C; - la figure 5 présente les spectres relatifs à l'état de cristallinité des photocatalyseurs supportés élaborés selon l'invention : a) dépôt à 110°C, b) dépôt à 175°C, c) dépôt à 350°C, d) dépôt à 500°C; - la figure 6 montre l'oxydation du toluène par des médias élaborés à 20 différentes températures : a) 110°C, b) 175°C ; c)350°C ; d) 500°C; - les figures 7a, 7b, 7c et 7d présentent un réacteur de purification à lit fluidisé vertical selon l'invention ; - les figures 8a, 8b, et 8c présentent un réacteur à lit fluidisé horizontal selon l'invention et 25 - les figures 9a (test A) et 9b (test B) présentent l'oxydation du toluène dans un réacteur selon l'invention. DESCRIPTION D'EXEMPLES DE REALISATION DE L'INVENTION 30 EXEMPLE 1 : Préparation de médias photocatalytiques Différents medias recouverts d'une nanocouche de composé photocatalytique ont été préparés sur support de silice, selon les quatre protocoles suivants présentés ci-après. Pour tous les protocoles présentés ici, le support utilisé est : - support : gel de silice (Si02), taille des particules 0,200 - 0,500 mm, diamètre des pores 60 À, fournisseur AcrosOrganics. Le précurseurs et du tétrachlorure de titane (TiCI4), pureté >98%, fournisseur Fluka. Média 1 : dépôt sur lOg de support à 110°C n° Étape Phase Débit Temps Température [I/min] [h] [°C] 0 Hydrolyse gazeuse 0,25 7,5 ambiante 1 Conditionnement thermique gazeuse 6 16 110 2 Chimisorption précurseur gazeuse 0,1 10 110 3 Désorption gazeuse 0,1 24 110 4 Hydrolyse gazeuse 0,25 48 110 5 Conditionnement 6 Hydrolyse liquide 2 80 7 Conditionnement gazeuse 12 110 Media 2 : dépôt sur 125 g de support à 175°C n° Étape Phase Débit Temps Température [I/min] [h] [OC] 0 Hydrolyse liquide - 2 ambiante 1 Conditionnement thermique gazeuse 1,5 7 175 2 Chimisorption précurseur gazeuse 0,5 30 175 3 Désorption gazeuse 1,5 30 175 4 Hydrolyse gazeuse 0,5 24 175 5 Conditionnement - - - 6 Hydrolyse liquide - 2 80 7 Conditionnement gazeuse - 48 110 Media 3 : dépôt sur 10 g de support à 500°C n° Étape Phase Débit Temps Température [I/min] [h] [°C] 0 Hydrolyse liquide 2 ambiante 1 Conditionnement thermique gazeuse 0,25 24 500 2 Chimisorption précurseur gazeuse 0,25 6 500 3 Désorption gazeuse 0,25 24 500 4 Hydrolyse gazeuse 0,25 10 500 Conditionnement 6 Hydrolyse liquide 2,5 80 7 Conditionnement gazeuse 48 110 Media 4 : dépôt sur 100 g de support à 175°C n° Étape Phase Débit Temps Température [I/min] [h] [°C] 0 Hydrolyse - - - 1 Conditionnement thermique gazeuse 0,5 48 175 2 Chimisorption précurseur gazeuse 6 10 175 3 Désorption gazeuse 6 14 175 4 Hydrolyse gazeuse 6 11 175 5 Conditionnement gazeuse 0,5 2 175 6 Hydrolyse liquide - 3 80 7 Conditionnement gazeuse - 48 110 EXEMPLE 2 : Caractérisation L'état de cristallinité des photocatalyseurs supportés élaborés par le procédé selon l'invention a été analysé par diffractométrie de rayons X (DRX). Les spectres sont présentés à la figure 5. Ils montrent que la phase active déposée est 5 cristalline même dans le cas de la fabrication à basse température. Seule la phase anatase est formée dans le cas des produits élaborés à basse température, alors que dans les autres cas, la formation de la phase rutile peut également être observée. Surface spécifique Le procédé selon l'invention permet d'obtenir des photocatalyseurs avec dépôt de matière active même à l'intérieur des pores du support. Une très grande surface de produit est alors disponible pour la réaction. La profondeur de dépôt à l'intérieur des particules a été déterminée à partir d'un échantillon fabriqué sur un support en silice d'un diamètre important (des particules de trois à cinq millimètres), par analyse MEB-EDX (microscopie électronique à balayage - microanalyse par rayons X). On observe aisément (cliché non fourni) que la phase active (partie plus claire sur l'image) a été déposée également dans les pores à l'intérieur du support sur une profondeur allant ici jusqu'à environ 600 pm. Dans le cas des particules habituellement utilisée ayant un diamètre compris entre 200 pm et 500 pm, l'intégralité de la surface interne est modifiée. EXEMPLE 3 : Activité photocatalytique Des tests d'activité photocatalytique ont été conduits avec des échantillons de médias élaborés à différentes températures : a) 110°C, b) 175°C; c) 350°C; d) 500°C. On a vérifié l'oxydation de tduène, avec passage unique dans le réacteur, média fixe (flux léchant), taux d'hydratation 40-50%, débit 150 ml/min, vitesse de passage 0,0032 m/s. On relève Co, la concentration en entrée du réacteur, et Cav la concentration en sortie. Les résultats sont présentés à la figure 6. Les photocatalyseurs élaborés à des températures de synthèse basses (110°C et 175°C) présentent une très bonne activitéphotocatalytiqe en régime stationnaire. L'activité photocatalytique est inversement proportionnelle à la température de synthèse. Le produit fabriqué à 350°C commence à perdre son activité au bout d'environ quatre heures de fonctionnement. Le produit dont le dépôt à été réalisé à 500°C cesse de fonctionner agès seulement une heure. EXEMPLE 4: Réacteur vertical Le réacteur représenté aux figures 7a, 7b, 7c et 7d comporte l'enceinte 1 comportant : i) en partie inférieure le conduit d'entrée 10 du fluide à traiter, et en partie supérieure le conduit de sortie 20 dudit fluide, ii) entre les conduits 10, 20, la chambre interne 2 contenant une quantité de média photocatalytique 100 formant un lit fluidisé. La cloison inférieure de la chambre 2 est constituée d'un filtre 3 retenant les particules dudit media 100 et laissant circuler le fluide, iii) la lampe 4 émettrice de rayons UV, s'étendant dans la chambre 2 à proximité du média 100, entre les conduits d'entrée 10 et de sortie 20 du fluide. De la sorte, le média photocatalytique constitue un lit fluidisé éclairé par la lampe, qui est apte à purifier ledit fluide lorsque celui-ci traverse le réacteur. L'enceinte 1 est agencée selon un cylindre externe vertical. Elle est munie du tube 6 en quartz, transparent aux UV s'étendant selon son axe longitudinal central. Le tube 6 contient ladite lampe UV 4. Ainsi, la lampe est placée à la verticale au milieu du lit fluidisé. Le refroidissement de la lampe 4 est obtenu en utilisant l'espace se trouvant entre le tube 6 et la lampe 4, dans lequel de l'air de refroidissement est propulsé. Comme montré aux figures 7b et 7d, le tube peut être monté traversant de part en part l'enceinte. Il est relié à des moyens de circulation d'un flux gazeux apte à assurer le refroidissement de la lampe UV. Comme montré aux figures 7a et 7c, le tube 6 peut être monté traversant à son extrémité inférieure le filtre 3 constituant la cloison inférieure de la chambre 2, et à son extrémité supérieure la paroi supérieure de l'enceinte 1, de sorte qu'une partie du fluide pénétrant dans le réacteur est apte à circuler dans le tube et à assurer le refroidissement de la lampe UV. EXEMPLE 5 : Réacteur en caisson Le réacteur représenté aux figures 8a, 8b, et 8c comporte l'enceinte 1 comportant : i) en partie inférieure le conduit d'entrée 10 du fluide à traiter, et en partie supérieure le conduit de sortie 20 dudit fluide, ii) entre les conduits 10, 20, la chambre interne 2 contenant une quantité de média photocatalytique 100 formant un lit fluidisé. La cloison inférieure de la chambre 2 est constituée du filtre 3 retenant les particules dudit media 100 et laissant circuler le fluide, et iii) la lampe 4 émettrice de rayons UV, s'étendant horizontalement dans toute la longueur de la chambre 2 à proximité du média 100, au niveau du conduit de sortie 20 du fluide. De la sorte, le média photocatalytique constitue un lit fluidisé éclairé par la lampe, qui est apte à purifier ledit fluide lorsque celui-ci traverse le réacteur. L'enceinte 1 est agencée selon un caisson externe. La lampe 4 au dessus du lit fluidisé, peut être nue (fig. 8a et 8b), ou bien elle est protégée par le tube 6 en quartz, transparent aux UV s'étendant horizontalement dans la partie supérieure de l'enceinte (fig. 8c). Le refroidissement de la lampe 4 est obtenu en utilisant l'espace libre se trouvant entre le lit fluidisé et le haut du caisson, ou le cas échéant entre la lampe 4 et le tube 6 dans lequel de l'air de refroidissement est propulsé. EXEMPLE 6 : Tests Un réacteur selon l'exemple 4, figures 7b et 7d, a été chargé en média photocatalytique obtenu comme décrit à l'exemple 1 (Média 4). Oxydation du toluène Deux tests d'activité photocatalytique ont été réalisés pour l'oxydation du toluène : A) On réalise un passage unique dans le réacteur équipé avec une lampe UV-A, en lit fluidisé, taux d'hydratation 40-50%, débit 9,4 l/min, vitesse de passage 0,2 m/s. On relève Co = concentration en entrée du réacteur, et Cav = concentration en sortie du réacteur. B) On réalise un passage unique dans le réacteur équipé avec une lampe UV-C, en lit fluidisé, taux d'hydratation 40-50%, débit 63 l/min, vitesse de passage 0,4 m/s. On relève Co = concentration en entrée du réacteur, et Cav= concentration en sortie (points .). Les résultats sont présentés figures 9a (test A) et 9b (test B). Oxydation du méthyl orange Des tests d'activité photocatalytique ont été réalisés pour l'oxydation du méthyl orange en phase aqueuse. Le traitement est conduit en circuit fermé, lit fluidisé, taux d'hydratation 40-50%, débit 500 ml/min, vitesse de passage 0,0075 m/s. La concentration initiale est de 10 mg/I, le volume de la solution est de deux litres. La réaction colorée indique que l'oxydation complète est obtenue après 16 mn. Vieillissement des fruits Le retardement du vieillissement des fruits par traitement de l'air dans l'espace de stockage, a été démontré. Le test est réalisé sur lit fluidisé, débit 10 1/min, vitesse de passage dans le réacteur 0,2 m/s, lampe UV-A. On compare le vieillissement de bananes placées dans des ballons. Dans un premier ballon, de l'air non traité circule ; dans un second ballon, de l'air traité circule. Enfin, des fruits sont placés à l'air ambiant. Au bout de quatre jours, les fruits placés à l'air libre ont bruni sur 50% de leur surface, ceux placés dans le ballon sans traitement présentent quelques taches. Les fruits sous ambiance purifiée sont indemnes. Au bout de huit jours, les premiers fruits sont totalement gâtés (100 % de surface brune), les fruits du premier ballon ont une surface pour moitié brune. Enfin les fruits du second ballon (sous atmosphère purifiée) présentent quelques tavelures. Le retardement du vieillissement des fruits est particulièrement net. REVENDICATIONS1. Procédé de préparation par voie chimique d'un média photocatalytique comprenant un support particulaire poreux et un composé apte à catalyser une réaction de photocatalyse, ledit composé étant lié chimiquement audit support particulaire, caractérisé en ce qu'il comporte de se munir d'un précurseur dudit composé et d'un support particulaire dont la surface comporte des sites réactionnels hydroxyles aptes à réagir avec ledit précurseur, et de réaliser les étapes de : a) conditionnement thermique des particules support, b) adsorption chimique du précurseur sur tout ou partie des sites réactionnels desdites particules, c) désorption de l'excès de précurseur et des produits intermédiaires formés durant l'étape b), d) hydrolyse en phase liquide du précurseur lié aux sites réactionnels, e) conditionnement des particules recouvertes dudit composé pour obtenir un média particulaire doté de propriétés photocatalytiques. 2. Procédé selon la revendication 1, dans lequel l'étape a) de conditionnement thermique est réalisée par circulation d'un gaz sec entre 80°C et 300°C durant au moins six heures. 3. Procédé selon l'une des revendications 1 ou 2, dans lequel l'étape b) d'adsorption chimique du précurseur est réalisée en phase gazeuse, par circulation d'un gaz porteur dudit précurseur, à une température inférieure ou égale à celle du conditionnement thermique réalisé à l'étape a). 4. Procédé selon la revendication 3, dans lequel, à l'étape b) d'adsorption chimique du précurseur, la vitesse de circulation dudit gaz porteur est comprise entre 0,005 m/s et cinq m/s, de préférence supérieur à 0,05 m/s. 5. Procédé selon l'une des revendications 1 ou 2, dans lequel l'étape b)d'adsorption chimique du précurseur est réalisée en phase liquide. 6. Procédé selon l'une des revendications 1 à 5, dans lequel, l'étape d) l'hydrolyse, est réalisée à une température supérieure à 70°C. 7. Procédé selon la revendication 6, dans lequel, à l'étape d) d'hydrolyse, on utilise un volume d'eau au moins égal au volume de support particulaire, ou bien on réalise plusieurs rinçages successifs. 8. Procédé selon l'une des revendications 1 à 7, dans lequel, à l'étape e), le conditionnement des particules est réalisé par circulation d'air sec à une température supérieure à 105°C, pendant au moins 12 heures. 9. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 8, dans lequel le 15 support est constitué de particules de silice amorphe poreuse dont la granulométrie est dans un intervalle choisi entre 0,1 mm et 10 mm de diamètre. 10. Procédé selon l'une des revendications 1 à 9, dans lequel le composé photocatalytique fixé au support est le dioxyde de titane Ti02, et son précurseur 20 est choisi parmi le tétrachlorure de titane TiCI4, le tétra-isopropoxyde de titane C12H2804Ti. 11. Procédé selon l'une des revendications 1 à 10, qui comporte, avant l'étape a) de conditionnement thermique des particules support, une étape ao), 25 d'hydratation par hydrolyse des sites réactifs du support. 12. Procédé selon l'une des revendications 1 à 11, caractérisée en ce qu'il comporte avant les étapes d) et e), deux étapes do) et e0), où do) est une hydrolyse en phase gazeuse du précurseur lié aux sites 30 réactionnels, et e0) est un conditionnement des particules. 13. Média photocatalytique susceptible d'être obtenu par le procédé selon l'une des revendications 1 à 12, comprenant un support particulaire poreux et un composé apte à catalyser une réaction de photocatalyse, dans lequel ledit composé est lié chimiquement au support particulaire poreux, - sur une profondeur d'au moins 0,5 mm pour les particules de diamètre supérieur à un millimètre et - dans l'intégralité de la porosité interne pour les particules de diamètre compris entre 0,2 mm et 0,5 mm. 14. Utilisation d'un média photocatalytique susceptible d'être obtenu par le procédé selon l'une des revendications 1 à 12, pour la purification d'un fluide gazeux ou liquide. 15. Réacteur pour la purification d'un fluide gazeux ou liquide, caractérisé en ce qu'il comporte une enceinte (1) comportant : i) en partie inférieure un conduit d'entrée (10) dudit fluide et en partie supérieure un conduit de sortie (20) dudit fluide, ii) entre lesdits conduits, une chambre interne (2) contenant une quantité de média photocatalytique (100) selon la revendication 13, la cloison inférieure de la chambre étant constituée d'un filtre (3) apte à retenir les particules dudit media et à laisser circuler ledit fluide, et iii) une lampe (4) émettrice de rayons UV, s'étendant dans ladite chambre à proximité dudit média, entre les conduits d'entrée (10) et de sortie (20) du fluide, de sorte que le média photocatalytique constitue un lit fluidisé éclairé par la lampe (4), qui est apte à purifier ledit fluide lorsque celui-ci traverse le réacteur. 16. Réacteur selon la revendication 15, dans lequel l'enceinte (1) est agencée selon un cylindre externe vertical, et est munie d'un tube (6) transparent aux UV s'étendant selon son axe longitudinal central, lequel contient ladite lampe UV. 17. Réacteur selon la revendication 16, dans lequel le tube (6) est monté traversant de part en part l'enceinte (1) et est relié à des moyens de circulationd'un flux gazeux apte à assurer le refroidissement de la lampe UV (4). 18. Réacteur selon la revendication 16, dans lequel le tube (6) est monté traversant à son extrémité inférieure le filtre (3) constituant la cloison inférieure de la chambre (2), et à son extrémité supérieure la paroi supérieure de l'enceinte (1), de sorte qu'une partie du fluide pénétrant dans le réacteur est apte à circuler dans le tube et à assurer le refroidissement de la lampe UV. 19. Réacteur selon la revendication 15, dans lequel l'enceinte (1) est agencée selon un caisson externe, et la lampe UV (4) est placée horizontalement dans la partie supérieure de ladite enceinte, sensiblement au niveau du conduit de sortie (20) du fluide, de sorte que le fluide traversant le réacteur est apte à assurer le refroidissement de la lampe UV. 20. Réacteur selon la revendication 19, dans lequel la lampe UV (4) est placée dans un tube (6) transparent aux UV, lequel est monté traversant de part en part l'enceinte (1) et est relié à des moyens de circulation d'un flux gazeux apte à assurer le refroidissement de la lampe UV (4). 21. Réacteur selon l'une des revendications 15 à 20, dans lequel le conduit de sortie (20) dudit fluide est orienté perpendiculairement au sens de circulation du fluide dans l'enceinte lorsque celui-ci à traversé la chambre interne (2).