Brevet FR3012753A1 — publié le 20150508

La présente invention concerne une machine de saupoudrage d'une matière particulaire sur une plaque profilée de couverture de toiture comportant des motifs en relief. Elle permet une répartition homogène, c'est-à-dire d'épaisseur constante, de la matière particulaire, en l'espèce de particules solides, sur la surface de la plaque malgré la présence d'éléments en relief sur celle-ci. Elle a des applications industrielles dans le domaine de la fabrication d'éléments de couverture, en particulier de plaques ondulées en fibres cellulosiques imprégnées de bitume. Pour conférer des propriétés particulières aux plaques de couvertures ondulées, il est parfois nécessaire de déposer à la surface de ces dernières, en quantité identique en tout point, des particules solides telles que des paillettes ou des granulés, matières qui sont appelées ici d'une manière générique « matières particulaires ». Pour des raisons évidentes liées à la géométrie, le film de particules solides obtenu après dépose gravitaire classique par voie sèche n'est pas d'épaisseur constante et dépend directement du profil géométrique de la plaque. Cette dépose gravitaire se fait classiquement avec une trémie déversant la matière particulaire sous forme d'un rideau linéaire sur la surface de la plaque. La Figure 1 montre le profil théorique de recouvrement lié à ce que l'on appelle, dans ce document, l'effet « Géométrie ». Lorsque l'on vient déposer un film, supposé d'épaisseur e, en sommet d'onde ou en creux d'onde d'une plaque ondulée 1, par projection géométrique, l'épaisseur de film induit sur les flancs/parties en pente des ondes sera de l'ordre de 0,68*e avec les valeurs indiquées d'angle (47°) et de longJeur L de pente. En plus de l'effet « Géométrie », vient s'additionner un autre effet que l'on appelle, dans ce document, l'effet « Gravité » lié au glissement des particules solides sur les plans inclinés, en particuliers les flancs/parties en pente des ondes, où le coefficient de frottement est inférieur à la force de gravité. La Figure 2 montre un nouveau profil théorique de répartition des particules solides dégradée par l'effet « Gravité ». Une partie des particules solides appliquées sur les flancs d'onde de la plaque ondulée 1 glisse vers les vallées d'où une accumulation et une augmentation de la quantité à cet endroit et, par voie de conséquences, un appauvrissement de la quantité à l'endroit du glissement. Seule, en sommet d'onde, la quantité déposée correspond à la valeur cible. En d'autres termes, lorsque l'on vient déposer un film de particules solides d'épaisseur e en sommet d'onde, par projection géométrique puis par glissement lié à la gravité, l'épaisseur du film induit sur les flancs d'onde sera de l'ordre de 0,34*e et dans les vallées de l'ordre de 1,34*e. Cet effet est représenté sur la Figure 3 qui représente un agrandissement d'une partie d'une plaque ondulée de couverture de toiture et où l'on voit que les flancs/parties en pente ont finalement moins de matière particulaire et que cette dernière à tendance à s'accumuler dans les creux, en bas desdites parties en pente. Il est donc souhaitable de trouver une solution afin de rendre la répartition des particules solides sur la surface du profil ondulé la plus homogène possible et ce, pour tout élément de surface. On peut envisager plusieurs moyens pour atteindre cet objectif. Par exemple la mise en oeuvre de systèmes de soufflage d'air permettant le déplacement de l'excès de matière en vallée du profil vers les parties en pente/flancs d'ondes ou l'utilisation d'une racle profilée dans le but de modifier la concentration du rideau de particules solides au départ de l'application et correspondant aux besoins. Toutefois, dans le cas particulier d'une plaque de couverture ondulée, ces deux techniques, connues de l'homme du métier, génèrent des dysfonctionnements gênants comme par exemple un glissement des particules, un soufflage d'air difficile à régler entre un excès et une insuffisance, une racle qui est mal adaptée à des particules lamellaires. Il est donc proposé une autre solution et qui est basée sur l'utilisation de déflecteurs venant perturber le flux de particules solides tombant en chute libre sur la plaque, encore appelé rideau de particules/matière particulaire, afin de mieux répartir sur la surface de la plaque ces particules en tenant compte des deux effets décrits précédemment, c'est-à-dire de l'effet « Géométrie » et de l'effet « Gravité ». 15 L'invention concerne donc une machine de saupoudrage d'une forme par une matière particulaire, ladite forme étant une plaque profilée de couverture de toiture comportant des motifs en relief étendus dans le sens de sa longueur, lesdits motifs en relief comportant des parties surélevées séparées latéralement de parties en creux par des parties en pente inclinée, ladite plaque ayant une largeur déterminée, la machine comportant un moyen de saupoudrage 20 formant un rideau linéaire de matière particulaire tombant transversalement, sur la largeur de la plaque et des moyens d'entraînement permettant un déplacement relatif en translation de la plaque par rapport au rideau de matière particulaire. Selon l'invention, des déflecteurs du rideau de matière particulaire sont disposés au-dessus des zones des bas des parties en pente inclinée de la plaque de manière à détourner 25 transversalement la direction de l'écoulement vertical de parties du rideau de matière particulaire au-dessus desdites zones des bas des parties en pente inclinée pour redistribuer la matière particulaire détournée vers un niveau intermédiaire de chaque partie en pente inclinée correspondante afin que la quantité de matière particulaire en surface de ladite plaque soit finalement sensiblement homogène après glissement vers le bas de ladite partie en pente 30 inclinée d'une partie de la matière particulaire qui avait été détournée. Ainsi, la répartition finale homogène de la matière particulaire sur la surface ondulée de la plaque de couverture est obtenue par le principe qui consiste à intercepter la matière particulaire qui tombe en rideau vers la plaque, dans les parties du rideau en regard/au-dessus des parties basses de parties en pente pour la redistribuer, latéralement/transversalement, à 35 une hauteur intermédiaire de la partie en pente correspondante, une partie de la matière particulaire redistribuée finissant par glisser le long de la partie en pente pour égaliser la répartition en surface de la plaque. Dans divers modes de mise en oeuvre de l'invention, les moyens suivants pouvant être utilisés seuls ou selon toutes les combinaisons techniquement possibles, sont employés : - la plaque est notamment une plaque de couverture ondulée, - la plaque se déplace longitudinalement sous le rideau linéaire de matière particulaire, - chaque partie surélevée forme un motif convexe vers le haut et les deux parties en pente latérales, de chaque côté de la partie surélevée, sont divergentes vers le bas, - la plaque peut se terminer latéralement par une partie surélevée terminale, ladite partie surélevée terminale n'ayant alors qu'une partie en pente latérale, - l'interception de la matière particulaire par le déflecteur est totale, la zone en regard/sous le déflecteur ne recevant pas directement de matière particulaire du rideau de matière particulaire, - l'interception de la matière particulaire par le déflecteur est partielle, la zone en regard/sous le déflecteur ne recevant directement qu'une partie de la matière particulaire du rideau de matière particulaire, ledit déflecteur étant formé d'une grille ou trame laissant passer une partie de la matière particulaire du rideau de matière particulaire et redistribuant le reste vers un niveau intermédiaire de la partie en pente inclinée, - l'interception de la matière particulaire par le déflecteur est mixte, une partie du déflecteur interceptant la totalité de la matière particulaire et une autre partie seulement partiellement pour la redistribuer, - chaque déflecteur comporte au moins une face supérieure d'interception et déflexion de la matière particulaire du rideau, chaque face supérieure ayant une inclinaison de sens uniforme inverse du sens de l'inclinaison de la partie en pente au-dessus de laquelle elle se trouve. - l'inclinaison est de sens uniforme car elle ne change pas de signe pour une face supérieure au-dessus d'un bas de partie en pente inclinée donné, - une face supérieure de déflecteur se termine d'un côté, sensiblement en regard/au-dessus du point bas de la partie en pente ou en regard/au-dessus de la partie en creux et, de l'autre côté, en regard/au-dessus d'un point intermédiaire de la partie en pente correspondante, - l'écoulement du rideau de matière particulaire n'est pas modifié au-dessus des parties surélevées de la plaque, - la plaque est une plaque de couverture ondulée à ondulations régulières et chaque déflecteur comporte deux faces supérieures et est de forme transversale convexe vers le haut, chaque déflecteur étant disposé en regard/au-dessus des parties en creux des ondulations, chacune desdites formes convexes vers le haut ayant une ligne de sommet/crête et étant symétriques par rapport à sa ligne de sommet/crête allongée dans le sens de la longueur de la plaque, perpendiculairement au rideau de matière particulaire - chaque déflecteur de forme convexe comporte deux faces supérieures d'interception de la matière particulaire, latérales à la ligne de sommet/crête, choisies parmi : - les faces planes, - ou les faces incurvées vers le bas, chacune des deux faces supérieures du déflecteur étant alors partiellement concave vers le haut, - ou les faces incurvées vers le haut, chacune des deux faces supérieures du déflecteur étant alors partiellement convexe vers le haut, - le déflecteur a une forme transversale en V inversé, - le déflecteur en forme de V inversé à faces supérieures planes est creux, - le déflecteur est en forme de V inversé à faces supérieures planes et est plein, - le déflecteur à faces supérieures incurvées vers le haut présente une forme transversale en arc de cercle ou de partie de sinusoïde, - le déflecteur est symétrique, - la plaque est une plaque de couverture ondulée à ondulations alternées, deux ondulations adjacentes formant deux parties surélevées étant séparées par une zone plane formant une partie en creux et chaque déflecteur comporte une face supérieure ayant une inclinaison de sens uniforme inverse du sens de l'inclinaison de la partie en pente au-dessus de laquelle elle se trouve, - la face supérieure de chaque déflecteur est choisie parmi : - une face plane, - ou une face incurvée vers le bas, ladite face supérieure du déflecteur étant alors partiellement concave vers le haut, - ou une face incurvée vers le haut, ladite face supérieure du déflecteur étant alors partiellement convexe vers le haut, - le moyen de saupoudrage destiné à produire le rideau linéaire homogène de matière particulaire comporte un moyen de pulvérisation à air de la matière particulaire, - les déflecteurs sont réglables en hauteur par rapport à la plaque, - l'inclinaison des faces supérieures des déflecteurs est réglable, - le moyen de saupoudrage est une trémie de distribution de la matière particulaire disposée au-dessus de la plaque, ladite trémie de distribution répartissant de manière uniforme ladite matière particulaire sur sa largeur et comportant une extrémité aval linéaire orientée selon la largeur de la plaque et de laquelle extrémité aval ladite matière particulaire tombe librement vers ladite plaque en formant un rideau linéaire homogène de matière particulaire, - le rideau de matière particulaire est homogène car la quantité de matière le long du rideau est identique en tout point en sortie de trémie, - la trémie de distribution est vibrante, - la plaque est vibrée, - les déflecteurs sont vibrants, - en alternative, la plaque profilée de couverture est fixe pendant le saupoudrage, le moyen de saupoudrage formant le rideau linéaire et homogène de matière particulaire tombant sur la plaque étant mobile sur la longueur de la plaque, - la machine comporte des moyens d'entraînement régulier de la plaque profilée de couverture et le moyen de saupoudrage formant le rideau linéaire et homogène de matière particulaire tombant sur la plaque est fixe, - la machine comporte des moyens d'entraînement régulier de la plaque profilée de couverture et le moyen de saupoudrage formant le rideau linéaire et homogène de matière particulaire tombant sur la plaque est mobile mais dans un sens inverse de l'entraînement de la plaque, - la plaque est à ondulations sinusoïdales, - la plaque est une plaque de couverture ondulée comportant en outre au moins une partie en pente verticale entre une partie surélevée et une partie en creux et aucun déflecteur n'est présent au-dessus d'une partie en pente verticale. L'invention concerne également le procédé qui permet d'obtenir une répartition homogène de matière particulaire sur la surface d'une plaque de toiture à motifs en reliefs par utilisation de déflecteurs et selon toutes les modalités de mise en oeuvre. En particulier, on détourne transversalement, grâce à des déflecteurs, la direction de l'écoulement vertical des parties du rideau de matière particulaire au-dessus des zones des bas des parties en pente inclinée pour redistribuer la matière particulaire détournée vers un niveau intermédiaire de chaque partie en pente inclinée correspondante afin que la quantité de matière particulaire en 15 surface de ladite plaque soit finalement sensiblement homogène après glissement vers le bas de ladite partie en pente inclinée d'une partie de la matière particulaire qui avait été détournée. La présente invention, sans qu'elle en soit pour autant limitée, va maintenant être exemplifiée avec la description qui suit de modes de réalisation et de mise en oeuvre en relation avec : 20 la Figure 1 qui représente trois graphiques superposés avec, de haut en bas, l'épaisseur e de matière supposée être déposée en surface de la plaque, le profil ondulé de la plaque, l'épaisseur obtenue en surface de la plaque (par calcul simplifié tenant compte du seul profil de la plaque), la Figure 2 qui représente quatre graphiques superposés avec, de haut en bas, l'épaisseur e de 25 matière supposée être déposée en surface de la plaque, le profil ondulé de la plaque, l'épaisseur obtenue en surface de la plaque (par calcul simplifié tenant compte du seul profil de la plaque), l'épaisseur obtenue en surface de la plaque (par calcul simplifié tenant compte à la fois du profil de la plaque et de la gravité faisant que la matière particulaire glisse/roule le long de la partie en pente), 30 la Figure 3 qui représente un agrandissement d'une partie de la plaque vue en profil dans l'axe de sa longueur et montrant l'effet d'inhomogénéité sur la répartition de la matière particulaire à la fois du profil de la plaque et de la gravité faisant que la matière particulaire glisse/roule le long de la partie en pente, la Figure 4 qui représente le principe de la déflexion de la matière particulaire pour parvenir à 35 une répartition homogène de la matière particulaire en surface de la plaque, la Figure 5 qui représente deux applications de l'invention à deux types de plaques de couverture, la première avec une plaque avec des ondulations régulières et la seconde avec des ondulations alternant avec des plats, la Figure 6 qui représente plusieurs exemples de déflecteurs avec, sur la ligne du haut, des déflecteurs adaptés pour une plaque avec des ondulations régulières et, sur les deux lignes du bas, des déflecteurs adaptés pour une plaque avec des ondulations alternant avec des plats, la Figure 7 qui représente des variables dimensionnelles influant sur le résultat de l'invention, et la Figure 8 qui représente une vue schématique de la machine de l'invention. L'invention permet donc d'uniformiser la répartition de matière particulaire, par exemple un revêtement particulaire anti-feu, sur la surface d'une plaque ondulée 1, 1' de couverture, en particulier une plaque de cellulose imprégnée de bitume, lors d'une opération de saupoudrage de la plaque avec un rideau particulaire linéaire 3 permettant de déposer le long d'une ligne la matière particulaire sur la plaque. Lors de cette opération, la plaque se déplace perpendiculairement au rideau particulaire 3, ce dernier étant de préférence étendu sur la largeur de la plaque et la plaque se déplaçant selon sa longueur de plaque sous le rideau de matière particulaire. La plaque comporte des motifs en relief étendus dans le sens de sa longueur, lesdits motifs en relief comportant des parties surélevées séparées latéralement de parties en creux par des parties en pente inclinée du haut vers le bas et latéralement. Chaque partie surélevée forme donc un motif convexe vers le haut et les deux parties en pente inclinée, latérales, de chaque côté de la partie surélevée, sont divergentes vers le bas. Pour uniformiser la répartition de la matière particulaire 2 sur la plaque 1, 1', un déflecteur 4, 4' est installé au-dessus et en regard de (ou autrement dit à l'aplomb de) la zone inférieure ou partie basse de chaque partie en pente de plaque. Un exemple de mise en oeuvre est illustré par la Figure 4 pour une plaque à ondulations régulières 1 pour laquelle chaque déflecteur comporte deux faces supérieures d'interception/déflexion 5a-5b d'inclinaisons opposées à celles du bas de la partie en pente respective en regard/au-dessus de laquelle elles sont disposées. A titre d'exemple, on a représenté Figure 6 l'inclinaison 7 de la face supérieure 5b du déflecteur 4 et l'inclinaison 8 de la partie en pente au-dessus de laquelle elle se trouve, ces inclinaisons 7 et 8 sont opposées entre elles. On précise ici la double fonction « interception/déflexion » car on comprend que la déflexion n'a lieu que parce qu'il y a aussi interception de l'écoulement de la matière particulaire du rideau 3. On verra que pour une plaque à ondulations alternées par des plats 1', chaque déflecteur ne comporte qu'une face supérieure d'interception/déflexion 5a' ou 5b'. On peut optimiser l'égalisation de la répartition de la matière particulaire 2 sur la plaque 1 en jouant sur plusieurs paramètres. Parmi ces paramètres, on peut citer : - Le nombre de déflecteurs 4, 4', à choisir en fonction du profil de la plaque ondulée, - La forme géométrique et la dimension du déflecteur, notamment de sa face supérieure d'interception/déflexion 5a-5b, 5a' ou 5b', - Le positionnement dans l'espace de chaque déflecteur selon le profil de la plaque ondulée, - La matière ou l'état de surface des déflecteurs 4, 4'. Le nombre de déflecteurs est lié au profil géométrique de la plaque ondulée et plus spécialement, au nombre d'ondulations et donc de parties en pente étant donné qu'il faut une face supérieure d'interception/déflexion en regard/au-dessus de chaque zone de bas de la partie en pente si l'on veut obtenir finalement une répartition uniforme sur toute la largeur de la surface de la plaque. Ce paramètre est donc relativement contraint. Ainsi, Figure 5, on a, en haut, pour la plaque à ondulations régulières 1, un déflecteur 4 à deux faces supérieures de déflection 5a-5b chacun en regard/au-dessus de chaque partie en creux de la plaque. Toujours sur la Figure 5, on a, en bas, pour la plaque à ondulations alternées 1' (parties surélevées entre plats), un déflecteur 4' à une face supérieure d'interception/déflection 5a' ou 5b' chacun en regard/au-dessus de chaque zone de bas de la partie en pente. On comprend que la forme de la/des faces supérieures d'interception/déflexion 5a-5b, 5a' ou 5b' peut être optimisée en fonction des besoins, notamment en tenant compte d'un effet de cette forme pour envoyer plus ou moins loin latéralement du déflecteur la matière particulaire 15 qui a été interceptée. A titre d'exemple on a représenté plusieurs types généraux de formes de déflecteurs sur la Figure 6. Sur la ligne du haut, les déflecteurs 4 sont adaptés à une plaque 1 avec des ondulations régulières et, de gauche à droite, on a des faces supérieures d'interception/déflexion 5a-5b : planes ; des faces incurvées vers le haut c'est-à-dire que 20 chaque face supérieure d'interception/déflexion est partiellement convexe vers le haut ; et des faces incurvées vers le bas c'est-à-dire que chaque face supérieure d'interception/déflexion est partiellement concave vers le haut. Sur les deux lignes du bas de la Figure 6, les déflecteurs 4' sont adaptés à une plaque 1' avec des ondulations alternant avec des plats, et, de gauche à droite, on a une face 25 supérieure d'interception/déflexion 5a' ou 5b' : plane ; une face incurvée vers le haut c'est-à- dire à face supérieure d'interception/déflexion partiellement convexe vers le haut ; et une face incurvée vers le bas c'est-à-dire à face supérieure d'interception/déflexion partiellement concave vers le haut. Sur La Figure 6, on peut ajuster la dimension Ld (largeur projetée du déflecteur) en 30 fonction de la forme de l'onde, notamment de la Hauteur d'onde H, et du Pas de l'onde P, variables dimensionnelles que l'on a représentées Figure 7. Dans le cas d'une plaque à ondulations régulières, dans l'axe horizontal, l'axe de symétrie du déflecteur doit se confondre avec l'axe de symétrie du motif géométrique répété du profil de la plaque considéré comme situé à la partie basse des motifs. Dans l'axe vertical, le 35 positionnement du déflecteur en hauteur h s'ajuste de façon expérimentale, avec la hauteur d'onde H du profil de la plaque. La longueur de chaque déflecteur doit être suffisante pour intercepter effectivement et redistribuer la matière particulaire du rideau de matière particulaire. L'état de surface du déflecteur doit être choisi en fonction de la particule à déposer afin d'éviter les problèmes de charges électrostatiques, les problèmes liés aux frottements (coefficient de frottement), les problèmes d'usure. Cette liste n'est pas exhaustive. Dans le cas d'une dépose de paillettes en graphite, un déflecteur en aluminium apparaît particulièrement adapté. En tenant compte des quatre variables d'ajustement décrites précédemment, on a pu montrer dans une machine mettant en oeuvre des déflecteurs selon l'invention, que l'homogénéité de la répartition des particules solides appliquées par gravité à la surface d'une plaque ondulée était grandement améliorée. Dans la machine en question, on a mis en oeuvre des déflecteurs en aluminium brossé de forme géométrique du type cornière de 25 mm, positionnés dans l'axe de symétrie des ondes à une hauteur h=1,5*H. A noter que sauf optimisation poussée, par exemple avec interception partielle de la matière particulaire, il est en pratique impossible de compenser totalement l'effet « Géométrie ». Toutefois, dans la pratique courante d'un déflecteur à interception totale, le profil corrigé par l'utilisation d'un déflecteur choisi, adapté et réglé permet de se rapprocher très fortement du profil idéal (iso-épaisseur). Grace à l'invention, le dépôt de paillettes en graphite en surface des plaques ondulées pour améliorer la résistance au feu a permis de passer avec succès tous les tests de résistance à un feu extérieur contrairement aux plaques ondulées pour lesquelles le dépôt avait été fait sans la mise en oeuvre des déflecteurs de l'invention. Sur la Figure 8 la machine de l'invention est schématisée en vue longitudinale et une plaque ondulée 1 se déplace en translation sous une trémie fixe 6 qui produit un rideau de matière particulaire 3. Des déflecteurs 4 interceptent et redistribuent la matière particulaire du rideau de matière particulaire en regard/au-dessus des parties en creux de la plaque ondulée pour renvoyer ladite matière particulaire interceptée plus haut le long des parties en pente de la plaque ondulée 1. REVENDICATIONS1. Machine de saupoudrage d'une forme par une matière particulaire, ladite forme étant une plaque profilée (1, 1') de couverture de toiture comportant des motifs en relief étendus dans le sens de sa longueur, lesdits motifs en relief comportant des parties surélevées séparées latéralement de parties en creux par des parties en pente inclinée, ladite plaque ayant une largeur déterminée, la machine comportant un moyen de saupoudrage formant un rideau linéaire (3) de matière particulaire tombant transversalement, sur la largeur de la plaque et des moyens d'entraînement permettant un déplacement relatif en translation de la plaque (1, 1') par rapport au rideau (3) de matière particulaire, caractérisé en ce que des déflecteurs (4, 4') du rideau de matière particulaire sont disposés au-dessus des zones inférieures des parties en pente de la plaque, de manière à détourner transversalement la direction de l'écoulement vertical de portions du rideau de matière particulaire au-dessus desdites zones inférieures des parties en pente pour redistribuer la matière particulaire détournée vers un niveau intermédiaire de chaque partie en pente correspondante afin d'homogénéiser la quantité de matière particulaire (2) en surface de ladite plaque après glissement, vers le bas de ladite partie en pente, des portions détournées de matière particulaire. 2. Machine selon la revendication 1, caractérisée en ce que chaque déflecteur comporte au moins une face supérieure d'interception et déflexion (5a-5b ; 5a' ou 5b') de la matière particulaire du rideau, chaque face supérieure ayant une inclinaison de sens uniforme inverse du sens de l'inclinaison de la partie en pente au-dessus de laquelle elle se trouve. 3. Machine selon l'une des revendications 1 ou 2, caractérisée en ce que l'écoulement du rideau de matière particulaire n'est pas modifié au-dessus des parties surélevées de la plaque. 4. Machine selon l'une des revendications 1, 2 ou 3, caractérisée en ce que la plaque est une plaque de couverture ondulée à ondulations régulières (1) et en ce que chaque déflecteur (4) comporte deux faces supérieures (5a-5b) et est de forme transversale convexe vers le haut, chaque déflecteur étant disposé au-dessus des parties en creux des ondulations, chacune desdites formes convexes vers le haut ayant une ligne de sommet et étant symétriques par rapport à sa ligne de sommet allongée dans le sens de la longueur de la plaque, perpendiculairement au rideau de matière particulaire. 5. Machine selon la revendication 4, caractérisée en ce que chaque déflecteur (4) de forme convexe comporte deux faces supérieures d'interception (5a-5b) de la matière particulaire, latérales à la ligne de sommet, choisies parmi : - les faces planes, - ou les faces incurvées vers le bas, chacune des deux faces supérieures du déflecteur étant alors partiellement concave vers le haut, - ou les faces incurvées vers le haut, chacune des deux faces supérieures du déflecteur étant alors partiellement convexe vers le haut. 6. Machine selon la revendication 1, 2 ou 3, caractérisée en ce que la plaque est une plaque de couverture ondulée à ondulations alternées (1'), deux ondulations adjacentes formant deux parties surélevées étant séparées par une zone plane formant une partie en creux et en ce que chaque déflecteur comporte une face supérieure (5a' ou 5b') ayant une inclinaison de sens uniforme inverse du sens de l'inclinaison de la partie en pente au-dessus de laquelle elle se trouve. 7. Machine selon la revendication 6, caractérisée en ce que la face supérieure (5a' ou 5b') de chaque déflecteur (4') est choisie parmi : - une face plane, - ou une face incurvée vers le bas, ladite face supérieure du déflecteur étant alors partiellement concave vers le haut, - ou une face incurvée vers le haut, ladite face supérieure du déflecteur étant alors partiellement convexe vers le haut. 8. Machine selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en ce que les déflecteurs (4, 4') sont réglables en hauteur par rapport à la plaque. 9. Machine selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en ce que le moyen de saupoudrage est une trémie de distribution (6) de la matière particulaire disposée au-dessus de la plaque, ladite trémie de distribution répartissant de manière uniforme ladite matière particulaire sur sa largeur et comportant une extrémité aval linéaire orientée selon la largeur de la plaque et de laquelle extrémité aval ladite matière particulaire tombe librement vers ladite plaque en formant un rideau linéaire homogène (3) de matière particulaire. 10. Machine selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en ce qu'elle comporte des moyens d'entraînement régulier de la plaque profilée de couverture (1, 1') et en ce que le moyen de saupoudrage formant le rideau linéaire et homogène de matière particulaire tombant sur la plaque est fixe. 11. Machine selon l'une quelconque des revendications 1 à 9, caractérisée en ce qu'elle comporte des moyens d'entraînement régulier de la plaque profilée de couverture et en ce que le moyen de saupoudrage formant le rideau linéaire et homogène de matière particulaire tombant sur la plaque est mobile mais dans un sens inverse de l'entraînement de la plaque.