Brevet FR3022814A1 — publié le 20160101

La présente invention concerne des feutres de polissage mécano-chimique comprenant une couche de polissage mécano-chimique de polyuréthane avec une tolérance de traitement et un procédé de polissage mécano-chimique d'un substrat. La présente invention concerne plus particulièrement un feutre de polissage mécano-chimique comprenant une couche de polissage de polyuréthane présentant une composition et une surface de polissage ; dans lequel la composition de couche de polissage de polyuréthane présente un indice acide 0,5 mg (KOH)/g ; dans lequel la surface de polissage est adaptée pour polir un substrat ; et, dans lequel la surface de polissage présente une tolérance de traitement 80%. La production de semi-conducteurs implique typiquement plusieurs procédés de planarisation mécano-chimique (CMP). Dans chaque procédé CMP, un feutre de polissage en combinaison avec une solution de polissage, telle qu'une suspension de polissage contenant un abrasif ou un liquide réactif exempt d'abrasif, élimine de la matière en excès de sorte à planariser ou à maintenir la planéité pour recevoir une couche subséquente. L'empilement de ces couches est combiné de manière à former un circuit intégré. La fabrication de ces dispositifs de semiconducteurs continue à devenir plus complexe en raison des exigences pour des dispositifs avec des vitesses de fonctionnement plus élevées, des courants de fuite plus faibles et une consommation de courant réduite. En termes d'architecture de dispositif, celle-ci se dirige vers des géométries d'aspects plus fines et vers des niveaux de métallisation plus élevés. Ces exigences toujours plus contraignantes de la conception d'un dispositif mènent à l'adoption d'une métallisation de cuivre en association avec de nouvelles matières diélectriques présentant des constantes diélectriques plus faibles. Les propriétés physiques réduites, fréquemment associées à des matières de faible k et de k ultra-faible, en combinaison avec la complexité plus élevée des dispositifs, ont mené à des demandes plus importantes sur les consommables CMP, tels que les feutres de polissage et les solutions de polissage. Les diélectriques à faible k et k ultra-faible ont en particulier tendance à présenter une résistance mécanique inférieure et une adhérence plus médiocre en comparaison avec des diélectriques classiques, rendant la planarisation plus difficile. De plus, comme les dimensions de dispositifs de circuits intégrés diminuent, la défectivité induite par CMP, telle que les égratignures, devient un problème plus important. L'épaisseur de film réduite des circuits intégrés exige de plus des améliorations en ce qui concerne la défectivité tout en fournissant simultanément une topographie acceptable à un substrat de galette (connu sous la dénomination de « wafer » en anglais) - ces exigences de topographie nécessitent des spécifications de planarité, de polissage et d'érosion de plus en plus exigeantes. Les feutres de polissage de polyuréthane relèvent de la chimie principale des feutres utilisée pour différentes applications de polissage exigeantes en précision. Les feutres de polissage de polyuréthane sont efficaces pour polir des galettes de silicium, des galettes à motif, des affichages à panneaux plats et des disques de stockage magnétiques. Les feutres de polissage de polyuréthane fournissent en particulier l'intégrité mécanique et la résistance chimique pour la plupart des opérations de polissage utilisées pour fabriquer des circuits intégrés. Les feutres de polissage de polyuréthane présentent par exemple une résistance élevée pour résister au déchirement ; une résistance à l'abrasion pour éviter les problèmes d'usure pendant la polissage ; et une stabilité pour résister à l'attaque par des solutions de polissage acides fortes et caustiques fortes. Une famille de couches de polissage de polyuréthane est décrite par Kulp et al. dans le brevet U.S. 8 697 239. Kulp et al. décrivent un feutre de polissage approprié pour polir des substrats de semi-conducteurs à motifs contenant au moins un parmi le cuivre, un diélectrique, une barrière et le tungstène, le feutre de polissage comprenant une matrice polymère, la matrice polymère étant constituée d'un produit de réaction de polyuréthane constitué d'une combinaison de polyols, d'une polyamine ou d'un mélange de polyamines et d'un diisocyanate de toluène, la combinaison de polyols étant un mélange de 15 à 77 pourcent en poids au total de polypropylène glycol et de polytétraméthylène éther glycol et le mélange de polypropylène glycol et de polytétraméthylène éther glycol présentant un rapport massique du polypropylène glycol au polytétra- 302 2 8 1 4 3 méthylène éther glycol de 20 : 1 à 1 : 20, la polyamine ou le mélange de polyamines étant constitué de 8 à 50 pourcent en poids dans un mélange liquide, et le diisocyanate de toluène étant de 20 à 30 pourcent en poids au total d'un monomère de diisocyanate de toluène ou d'un monomère de 5 diisocyanate de toluène ayant partiellement réagi, tous sur la base du poids total de la matrice polymère. Il existe néanmoins un besoin continu de feutres de polissage mécano-chimique qui présentent un équilibre approprié des propriétés, lequel fournit le degré de planarisation souhaité tout en minimisant la 10 formation de défauts et qui présente un degré élevé de tolérance de traitement. La présente invention fournit un feutre de polissage mécano-chimique, comprenant : une couche de polissage de polyuréthane présentant une composition et une surface de polissage ; dans lequel la 15 composition de couche de polissage de polyuréthane présente un indice acide k 0,5 mg (KOH)/g ; dans lequel la surface de polissage est adaptée pour polir un substrat ; et, dans lequel la surface de polissage présente une tolérance de traitement 80%. La présente invention fournit un feutre de polissage mécano- 20 chimique, comprenant : une couche de polissage de polyuréthane présentant une composition et une surface de polissage ; dans lequel la composition de couche de polissage de polyuréthane présente un indice acide z 0,5 mg (KOH)/g ; dans lequel la surface de polissage est adaptée pour polir un substrat ; dans lequel le substrat est choisi dans le groupe 25 constitué d'au moins un parmi un substrat magnétique, un substrat optique et un substrat semi-conducteur ; et, dans lequel la surface de polissage présente une tolérance de traitement k 80%. La présente invention fournit un feutre de polissage mécano-chimique, comprenant : une couche de polissage de polyuréthane 30 présentant une composition et une surface de polissage ; dans lequel la composition de couche de polissage de polyuréthane présente un indice acide z 0,5 mg (KOH)/g ; dans lequel la surface de polissage est adaptée pour polir un substrat ; et, dans lequel la surface de polissage présente une tolérance de traitement k 80% ; et, dans lequel la couche de 35 polissage de polyuréthane présente une densité supérieure à 0,6, une dureté Shore D de 5 à 80 et un allongement à la rupture de 100 à 450%. La présente invention fournit un feutre de polissage mécano-chimique, comprenant : une couche de polissage de polyuréthane présentant une composition et une surface de polissage ; dans lequel la composition de couche de polissage de polyuréthane est le produit de réaction d'ingrédients, comprenant : (a) un isocyanate polyfonctionnel ; (b) un système de durcisseur, comprenant : (i) un durcisseur polyfonctionnel contenant un acide carboxylique ayant une moyenne d'au moins deux hydrogène actifs et au moins un groupe fonctionnel d'acide carboxylique par molécule ; et, (c) éventuellement, plusieurs micro- éléments ; dans lequel la composition de couche de polissage de poly- uréthane présente un indice acide 0,5 mg (KOH)/g ; dans lequel la surface de polissage est adaptée pour polir un substrat ; et, dans lequel la surface de polissage présente une tolérance de traitement _?.. 80%. La présente invention fournit un feutre de polissage mécano- chimique, comprenant : une couche de polissage de polyuréthane présentant une composition et une surface de polissage ; dans lequel la composition de couche de polissage de polyuréthane est le produit de réaction d'ingrédients, comprenant : (a) un isocyanate polyfonctionnel ; (b) un système de durcisseur, comprenant : (i) un durcisseur polyfonctionnel contenant de l'acide carboxylique ayant une moyenne d'au moins deux hydrogène actifs et au moins un groupe fonctionnel d'acide carboxylique par molécule ; et, (ii) au moins un d'une diamine ; d'un diol ; d'un durcisseur de polyol initié par une amine ; et, d'un durcisseur de polyol de masse moléculaire élevée ayant une masse moléculaire moyenne en nombre, MN, de 2 000 à 100 000, et une moyenne de 3 à 10 groupes hydroxyle par molécule ; et, (c) éventuellement, plusieurs microéléments ; dans lequel la composition de couche de polissage de polyuréthane présente un indice acide ?_ 0,5 mg (KOH)/g ; dans lequel la surface de polissage est adaptée pour polir un substrat ; et, dans lequel la surface de polissage présente une tolérance de traitement ? 80%. La présente invention fournit un feutre de polissage mécano-chimique, comprenant : une couche de polissage de polyuréthane présentant une composition et une surface de polissage ; dans lequel la composition de couche de polissage de polyuréthane est le produit de réaction d'ingrédients, comprenant : (a) un prépolymère d'uréthane à terminaisons isocyanate, dans lequel le prépolymère d'uréthane à 302 2 8 1 4 5 terminaisons isocyanate est le produit de réaction d'ingrédients, comprenant : (i) un isocyanate polyfonctionnel ; et, (ii) une matière polyfonctionnelle contenant de l'acide carboxylique ayant une moyenne d'au moins deux hydrogène actifs et au moins un groupe fonctionnel 5 d'acide carboxylique par molécule ; et, (iii) un polyol prépolymère ; et, (b) un système de durcisseur, comprenant au moins un durcisseur polyfonctionnel ; et, (c) éventuellement, plusieurs microéléments ; dans lequel la composition de couche de polissage de polyuréthane présente un indice acide .?._ 0,5 mg (KOH)/g ; dans lequel la surface de polissage est 10 adaptée pour polir un substrat ; et, dans lequel la surface de polissage présente une tolérance de traitement ._?. 80%. La présente invention fournit un feutre de polissage mécano-chimique, comprenant : une couche de polissage de polyuréthane présentant une composition et une surface de polissage ; et, une fenêtre 15 de détection de point limite ; dans lequel la composition de couche de polissage de polyuréthane présente un indice acide _. 0,5 mg (KOH)/g ; dans lequel la surface de polissage est adaptée pour polir un substrat ; et, dans lequel la surface de polissage présente une tolérance de traitement 80%. 20 La présente invention fournit un procédé de polissage mécano- chimique d'un substrat, comprenant : la fourniture d'un substrat ; le choix d'un feutre de polissage mécano-chimique comprenant une couche de polissage de polyuréthane présentant une composition et une surface de polissage ; dans lequel la surface de polissage est adaptée pour polir un 25 substrat ; dans lequel la surface de polissage de polyuréthane est choisie pour présenter un indice acide 0,5 mg (KOH)/g ; et, dans lequel la surface de polissage présente une tolérance de traitement k 80% ; la création d'un contact dynamique entre la surface de polissage et le substrat pour polir une surface du substrat ; et, le traitement de la surface 30 de polissage avec un agent de traitement abrasif. 35 DESCRIPTION DETAILLEE 302 2 8 1 4 6 Dans des procédés de polissage mécano-chimique classiques, le choix du disque de traitement peut être essentiel pour faciliter la formation et la conservation d'une texture appropriée sur la surface de polissage de la couche de polissage du feutre de polissage mécano-5 chimique destiné au polissage. Pour des couches de polissage de polyuréthane classiques, le choix du disque de traitement a un grand impact sur la vitesse de retrait réalisée pendant le polissage. C'est-à-dire que les couches de polissage de polyuréthane classiques sont connues pour présenter une tolérance de traitement limitée. Des vitesses de retrait 10 stables peuvent ainsi être difficiles à obtenir dans la pratique. Le demandeur a trouvé de manière surprenante que des compositions de couches de polissage de polyuréthane choisies pour présenter un indice acide 0,5 mg (KOH)/g fournissent une tolérance de traitement 80 %. Le terme "poly(uréthane)" comme utilisé ici et dans les reven15 dications annexées englobe (a) des polyuréthanes formés par la réaction de (i) isocyanates et de (ii) polyols (incluant des diols) ; et, (b) du poly(uréthane) formé à partir de la réaction de (i) isocyanates avec des (ii) polyols (incluant des diols) et de (iii) l'eau, d'amines (incluant des diamines et des polyamines) ou d'une combinaison d'eau et d'amines 20 (incluant des diamines et des polyamines). Le terme "indice acide" comme utilisé ici et dans les revendications annexées en référence à une composition de couche de polissage de polyuréthane est une détermination des constituants acides dans les polyols de matières premières utilisés dans la formation de la composition 25 de couche de polissage de polyuréthane exprimée en milligrammes d'hydroxyde de potassium nécessaires pour neutraliser un gramme des matières premières, mg (KOH)/g, comme déterminé par le procédé de test ASTM D7253-06 (réapprouvé en 2011). Le terme "tolérance de traitement" comme utilisé ici et dans 30 les revendications annexées en faisant référence à la surface de polissage d'une couche de polissage de polyuréthane est déterminé selon l'équation suivante : CT = [(TEOSA/TE0Sm) * 100 °h] où CT est la tolérance de traitement (en %) ; TEOSA est la vitesse de 35 retrait de TEOS (en Â/min) pour la couche de polissage de polyuréthane mesurée selon la procédure donnée dans les Exemples en utilisant un 302 2 8 1 4 7 disque de traitement agressif ; et, TEOSM est la vitesse de retrait de TEOS (en krinin) pour la couche de polissage de polyuréthane mesurée selon la procédure donnée dans les Exemples en utilisant un disque de traitement doux. 5 Le feutre de polissage mécano-chimique de la présente invention comprend : une couche de polissage de polyuréthane présentant une composition et une surface de polissage ; dans lequel la composition de couche de polissage de polyuréthane présente un indice acide 0,5 mg (KOH)/g (de préférence de 0,5 à 25 mg (KOH)/g ; encore 10 mieux de 2,5 à 20 mg (KOH)/g ; bien mieux encore de 5 à 15 mg (KOH)/g ; particulièrement de préférence de 10 à 15 mg (KOH)/g)) ; dans lequel la surface de polissage est adaptée pour polir un substrat ; et, dans lequel la surface de polissage présente une tolérance de traitement _?_ 80% (de préférence ?.. 85 % ; encore mieux 90 % ; bien mieux encore 15 _>_ 95 % ) . Le feutre de polissage mécano-chimique de la présente invention comprend de préférence : une couche de polissage de polyuréthane présentant une composition et une surface de polissage ; dans lequel la composition de couche de polissage de polyuréthane est le 20 produit de réaction d'ingrédients, comprenant : (a) un isocyanate poly- fonctionnel ; (b) un système de durcisseur, comprenant au moins un durcisseur polyfonctionnel; et, (c) éventuellement, plusieurs microéléments ; dans lequel la composition de couche de polissage de polyuréthane présente un indice acide 0,5 mg (KOH)/g (de préférence 25 de 0,5 à 25 mg (KOH)/g ; encore mieux de 2,5 à 20 mg (KOH)/g ; bien mieux encore de 5 à 15 mg (KOH)/g ; particulièrement de préférence de 10 à 15 mg (KOH)/g)) ; dans lequel la surface de polissage est adaptée pour polir un substrat ; et, dans lequel la surface de polissage présente une tolérance de traitement .?_ 80 % (de préférence ?.. 85 % ; encore 30 mieux __ 90 °h ; bien mieux encore .?_ 95 °h). La couche de polissage de polyuréthane du feutre de polissage mécano-chimique de la présente invention présente une surface de polissage adaptée pour polir un substrat. La surface de polissage est de préférence adaptée pour polir un substrat choisi parmi au moins un d'un 35 substrat magnétique, d'un substrat optique et d'un substrat semi- conducteur. La surface de polissage est encore mieux adaptée pour polir un substrat semi-conducteur. La surface de polissage présente de préférence une macrotexture choisie parmi au moins une de perforations et de rainures. Les perforations peuvent s'étendre à partir de la surface de polissage en partie ou sur la totalité à travers l'épaisseur de la couche de polissage de polyuréthane. Des rainures sont de préférence disposées sur la surface de polissage de sorte que lors d'une rotation du feutre de polissage mécano-chimique pendant le polissage, au moins une rainure balaye la surface du substrat à polir. La surface de polissage présente de préférence une macrotexture incluant au moins une rainure choisie dans le groupe constitué de rainures courbées, de rainures linéaires et de combinaisons de celles-ci. La couche de polissage de polyuréthane du feutre de polissage mécano-chimique de la présente invention présente de préférence une surface de polissage adaptée pour polir le substrat, dans laquelle la surface de polissage présente une macrotexture comprenant un motif à rainures formé dans celle-ci. Le motif à rainures comprend de préférence plusieurs rainures. Le motif à rainures est encore mieux choisi parmi une conception de rainures. La conception de rainures est de préférence choisie dans le groupe constitué de rainures concentriques (qui peuvent être circulaires ou hélicoïdales), de rainures courbées, de rainures hachurées (par exemple disposées comme une grille X-Y à travers la surface du feutre), d'autres conceptions régulières (par exemple hexagones, triangles), des motifs de type bande de roulement de pneu, des conceptions irrégulières (par exemple motifs de fractales), et des combinaisons de ceux-ci. La conception de rainures est encore mieux choisie dans le groupe constitué de rainures aléatoires, de rainures concentriques, de rainures hélicoïdales, de rainures hachurées, de rainures à grilles X-Y, de rainures hexagonales, de rainures triangulaires, de rainures de fractales et de combinaisons de celles-ci. La surface de polissage présente bien mieux encore un motif à rainures hélicoïdales formé dans celle-ci. Le profil à rainures est de préférence choisi parmi un profil rectangulaire avec des parois latérales linéaires ou la section transversale de rainures peut être de forme "V", de forme "U", en dents de scie, et des combinaisons de celles-ci. L'isocyanate polyfonctionnel utilisé dans la formation de la couche de polissage de polyuréthane du feutre de polissage mécano-chimique de la présente invention contient de préférence une moyenne d'au moins deux groupes isocyanate réactifs (c'est-à-dire NCO) par molécule. L'isocyanate polyfonctionnel utilisé dans la formation de la couche de polissage de polyuréthane du feutre de polissage mécano-chimique de la présente invention contient encore mieux une moyenne de deux groupes isocyanate réactifs (c'est-à-dire NCO) par molécule. L'isocyanate polyfonctionnel utilisé dans la formation de la couche de polissage de polyuréthane du feutre de polissage mécano-chimique de la présente invention est de préférence choisi dans le groupe constitué d'un isocyanate polyfonctionnel aliphatique, d'un isocyanate polyfonctionnel aromatique, et d'un mélange de ceux-ci. L'isocyanate polyfonctionnel utilisé dans la formation de la couche de polissage de poly- uréthane du feutre de polissage mécano-chimique de la présente invention est encore mieux choisi dans le groupe constitué d'un diisocyanate choisi dans le groupe constitué de diisocyanate de 2,4-toluène ; diisocyanate de 2,6-toluène ; diisocyanate de 4,4'-diphénylméthane ; 1,5-diisocyanate de naphtalène ; diisocyanate de tolidine ; diisocyanate de para-phénylène ; diisocyanate de xylylène ; diisocyanate d'isophorone ; diisocyanate d'hexaméthylène ; diisocyanate de 4,4'dicyclohexylméthane ; diisocyanate de cyclohexane ; et, mélanges de ceux-ci. L'isocyanate polyfonctionnel utilisé dans la formation de la couche de polissage de polyuréthane du feutre de polissage mécano-chimique de la présente invention est bien mieux encore le diisocyanate de 4,4'- dicyclohexylméthane. L'isocyanate polyfonctionnel est de préférence combiné avec certains autres constituants pour former un prépolymère d'uréthane à terminaisons isocyanate qui est ensuite utilisé dans la formation de la couche de polissage de polyuréthane du feutre de la présente invention. Le prépolymère d'uréthane à terminaisons isocyanate utilisé dans la formation de la couche de polissage de polyuréthane de la présente invention est de préférence le produit de réaction d'ingrédients, comprenant : un isocyanate polyfonctionnel ; et, au moins un parmi (i) un durcisseur polyfonctionnel contenant un acide carboxylique ayant une moyenne d'au moins deux hydrogène actifs et au moins un groupe 302 2 8 1 4 10 fonctionnel d'acide carboxylique par molécule ; et, (ii) un polyol prépolymère. Le prépolymère d'uréthane à terminaisons isocyanate utilisé dans la formation de la couche de polissage de polyuréthane de la présente invention est encore mieux le produit de réaction d'ingrédients, 5 comprenant : un isocyanate polyfonctionnel ; un durcisseur polyfonctionnel contenant un acide carboxylique ayant une moyenne d'au moins deux hydrogène actifs et au moins un groupe fonctionnel d'acide carboxylique par molécule ; et, un polyol prépolymère. La matière polyfonctionnelle contenant un acide carboxylique 10 utilisée pour former le prépolymère d'uréthane à terminaisons isocyanate est de préférence choisie dans le groupe de matières ayant une moyenne d'au moins deux hydrogène actifs et au moins un groupe fonctionnel d'acide carboxylique par molécule, dans lesquelles le au moins un groupe fonctionnel d'acide carboxylique survit à la réaction pour former le 15 prépolymère d'uréthane à terminaisons isocyanate. La matière poly- fonctionnelle contenant un acide carboxylique est encore mieux choisie dans le groupe constitué des (a) matières ayant une moyenne de deux groupes hydroxyle et un groupe fonctionnel d'acide carboxylique par molécule, dans lesquelles le au moins un groupe fonctionnel d'acide 20 carboxylique survit à la réaction pour former le prépolymère d'uréthane à terminaisons isocyanate ; et, des (b) matières ayant une moyenne de deux hydrogène d'amine actifs et un groupe fonctionnel d'acide carboxylique par molécule, dans lesquelles le au moins un groupe fonctionnel d'acide carboxylique survit à la réaction pour former le 25 prépolymère d'uréthane à terminaisons isocyanate. La matière polyfonctionnelle contenant un acide carboxylique est bien mieux encore choisie dans le groupe constitué de matières ayant une moyenne de deux groupes hydroxyle et un groupe fonctionnel d'acide carboxylique par molécule, dans lesquelles le au moins un groupe fonctionnel d'acide 30 carboxylique survit à la réaction pour former le prépolymère d'uréthane à terminaisons isocyanate. La matière polyfonctionnelle contenant un acide carboxylique est encore mieux choisie dans le groupe de matières constituées de polyester diols linéaires saturés avec un groupe fonctionnel d'acide carboxylique suspendu, présentant la formule générale 35 où m et n sont des nombres entiers indépendamment choisis dans le groupe constitué de 0 à 100 (de préférence de 1 à 50 ; encore mieux de 2 à 25 ; bien mieux encore de 4 à 10). Le polyol prépolymère utilisé dans la préparation du prépolymère d'uréthane à terminaisons isocyanate est de préférence choisi dans le groupe constitué de diols, polyols, polyol diols, copolymères de ceux-ci, et mélanges de ceux-ci. Le polyol prépolymère est de préférence choisi dans le groupe constitué de polyéther polyols (par exemple poly(oxytétraméthylène)glycol, poly(oxypropylène)glycol, poly(oxyéthylène)glycol) ; polycarbonate polyols ; polyester polyols ; polycaprolactone polyols ; mélanges de ceux-ci ; et, mélanges de ceux-ci avec un ou plusieurs polyols de faible masse moléculaire choisis dans le groupe constitué de l'éthylène glycol (EG) ; 1,2-propylène glycol ; 1,3-propylène glycol ; 1,2-butanediol ; 1,3-butanediol ; 2-méthyl-1,3-propanediol ; 1,4- butanediol (BDO) ; néopentyl glycol ; 1,5-pentanediol ; 3-méthy1-1,5- pentanediol ; 1,6-hexanediol ; diéthylène glycol ; dipropylène glycol ; et, tripropylène glycol. Le polyol prépolymère est encore mieux choisi dans le groupe constitué d'au moins un de polycaprolactone polyols ; polytétra- méthylène éther glycol (PTMEG) ; polypropylène éther glycols (PPG), et polyéthylène éther glycols (PEG) ; éventuellement mélangé avec au moins un polyol de faible masse moléculaire choisi dans le groupe constitué d'éthylène glycol (EG) ; 1,2-propylène glycol ; 1,3-propylène glycol ; 1,2- butanediol ; 1,3-butanediol ; 2-méthyl-1,3-propanediol ; 1,4-butanediol (BDO) ; néopentyl glycol ; 1,5-pentanediol ; 3-méthyl-1,5-pentanediol ; 1,6-hexanediol ; diéthylène glycol ; dipropylène glycol ; et, tripropylène glycol. Le polyol prépolymère comprend bien mieux encore au moins un de polycaprolactone diol ; éthylène glycol (EG) ; 1,2-propylène glycol ; 1,3-propylène glycol ; 1,2-butanediol ; 1,3-butanediol ; 2-méthy1-1,3- propanediol ; 1,4-butanediol (BDO) ; néopentyl glycol ; 1,5-pentanediol ; 3-méthy1-1,5-pentanediol ; 1,6-hexanediol ; diéthylène glycol ; dipropylène glycol ; et, tripropylène glycol. Le système de durcisseur utilisé dans la formation de la couche de polissage de polyuréthane comprend de préférence au moins un durcisseur polyfonctionnel. Le durcisseur polyfonctionnel est encore mieux choisi dans le groupe constitué de : (i) diamines, (ii) diols, (iii) durcisseurs polyfonctionnels contenant un acide carboxylique ayant une moyenne d'au moins deux hydrogène actifs et au moins un groupe fonctionnel d'acide carboxylique par molécule ; (iv) durcisseurs de polyols initiés par une amine ; et, (y) durcisseurs de polyols de masse moléculaire élevée ayant une masse moléculaire moyenne en nombre, MN, de 2 000 à 100 000 et une moyenne de 3 à 10 groupes hydroxyle par molécule ; et mélanges de ceux-ci. Les diamines sont de préférence choisies dans le groupe constitué par la diéthyltoluènediamine (DETDA) ; la 3,5-diméthylthio-2,4- toluènediamine et des isomères de celle-ci ; la 3,5-diéthyltoluène-2,4- diamine et des isomères de celle-ci (par exemple la 3,5-diéthyltoluène-2,6- diamine) ; le 4,4'-bis-(sec-butylamino)-diphénylméthane ; le 1,4-bis-(secbutylamino)-benzène ; la 4,4'-méthylène-bis-(2-chloroaniline) ; la 4,4'- méthylène-bis-(3-chloro-2,6-diéthylaniline) (MCDEA) ; le poly(oxyde de tétraméthylène)-di-p-aminobenzoate ; le N,N'-dialkyldiaminodiphényl- méthane ; la p,p'-méthylènedianiline (MDA) ; la m-phénylènediamine (MPDA) ; la 4,4'-méthylène-bis-(2-chloroaniline) (MBOCA) ; la 4,4'- méthylène-bis-(2,6-diéthylaniline) (MDEA) ; la 4,4'-méthylène-bis-(2,3- dichloroaniline) (MDCA) ; le 4,4'-diamino-3,3'-diéthy1-5,5'-dirnéthyl- diphénylméthane ; le 2,2',3,3'-tétrachlorodiaminodiphénylméthane ; le di- p-aminobenzoate de triméthylèneglycol ; des isomères de ceux-ci ; des diols ; et des mélanges de ceux-ci. La diamine est de préférence la 4,4'- méthylène-bis-(2-chloroani li ne) (MBOCA). Les diols sont de préférence choisis dans le groupe constitué de polycaprolactone diol ; éthylène glycol (EG) ; 1,2-propylène glycol ; 1,3- propylène glycol ; 1,2-butanediol ; 1,3-butanediol ; 2-méthyl-1,3-propane- diol ; 1,4-butanediol (BDO) ; néopentyl glycol ; 1,5-pentanediol ; 3-méthy1-1,5-pentanediol ; 1,6-hexanediol ; diéthylène glycol ; dipropylène glycol ; tripropylène glycol ; et, mélanges de ceux-ci. Les diols sont encore mieux choisis dans le groupe constitué de polycaprolactone diol ; éthylène glycol (EG) ; 1,2-propylène glycol ; 1,3-propylène glycol ; 1,2-butanediol ; 1,3-butanediol ; 2-méthyl-1,3-propanediol ; 1,4-butanediol (BDO) ; néopentyl glycol ; 1,5-pentanediol ; 3-méthyl-1,5-pentanediol ; 1,6- hexanediol ; diéthylène glycol ; dipropylène glycol ; tripropylène glycol ; et, mélanges de ceux-ci. Les diols sont bien mieux encore choisis dans le groupe constitué de polycaprolactone diol ; éthylène glycol (EG) ; 1,2- butanediol ; 1,3-butanediol ; et, mélanges de ceux-ci. Le polycaprolactone diol est de préférence un polycaprolactone diol initié par de l'éthylène glycol. Le polycaprolactone diol est encore mieux choisi parmi des matières ayant la formule générale OU où m et n sont des nombres entiers indépendamment choisis dans le groupe constitué de 1 à 100 (de préférence de 1 à 50 ; encore mieux de 2 à 25 ; bien mieux encore de 4 à 10). Le polycaprolactone diol utilisé présente de préférence une masse moléculaire moyenne en nombre, MM, de 1 000 à 10 000 (encore mieux de 1 000 à 5 000 ; bien mieux encore de 1 500 à 3 000). Les durcisseurs polyfonctionnels contenant un acide carboxylique sont de préférence choisis dans le groupe de matières ayant une moyenne d'au moins deux hydrogène actifs et au moins un groupe fonctionnel d'acide carboxylique par molécule, dans lesquelles le au moins un groupe fonctionnel d'acide carboxylique survit à la réaction pour former le prépolymère d'uréthane à terminaisons isocyanate polyfonctionnel. Les durcisseurs polyfonctionnels contenant un acide carboxylique sont encore mieux choisis dans le groupe constitué de (a) matières ayant une moyenne de deux groupes hydroxyle et un groupe fonctionnel d'acide carboxylique par molécule, dans lesquelles le au moins un groupe fonctionnel d'acide carboxylique survit à la réaction pour former le prépolymère d'uréthane à terminaisons isocyanates polyfonctionnel ; et, de (b) matières ayant une moyenne de deux hydrogène d'amine actifs et un groupe fonctionnel d'acide carboxylique par molécule, dans lesquelles le au moins un groupe fonctionnel d'acide carboxylique survit à la réaction pour former le prépolymère d'uréthane à terminaisons isocyanate polyfonctionnel. Les durcisseurs polyfonctionnels contenant un acide carboxylique sont bien mieux encore choisis dans le groupe constitué de matières ayant une moyenne de deux groupes hydroxyle et un groupe fonctionnel d'acide carboxylique par molécule, dans lesquelles le au moins un groupe fonctionnel d'acide carboxylique survit à la réaction pour former le prépolymère d'uréthane à terminaisons isocyanate polyfonctionnel. Les durcisseurs polyfonctionnels contenant un acide carboxylique sont bien mieux encore choisis dans le groupe de matières constituées de polyester diols linéaires saturés avec un groupe fonctionnel d'acide carboxylique suspendu, ayant la formule générale où m et n sont des nombres entiers indépendamment choisis dans le groupe constitué de 0 à 100 (de préférence de 1 à 50 ; encore mieux de 2 20 à 25 ; bien mieux encore de 4 à 10). Le durcisseur de polyol initié par une amine contient de préférence une moyenne d'au moins deux atomes d'azote (de préférence de un à quatre atomes d'azote ; encore mieux de deux à quatre atomes d'azote ; bien mieux encore deux atomes d'azote) par molécule et une 25 moyenne d'au moins trois (de préférence de trois à six ; encore mieux de trois à cinq ; bien mieux encore quatre) groupes hydroxyle par molécule. Le durcisseur de polyol initié par une amine présente de préférence une masse moléculaire moyenne en nombre, MN, 700 (encore mieux de 150 à 650 ; bien mieux encore de 200 à 500 ; particulièrement de préférence 30 de 250 à 300). Le durcisseur de polyol initié par une amine présente de préférence un indice hydroxyle (comme déterminé par le procédé de test ASTM D4274-11) de 350 à 1 200 mg de KOH/g (encore mieux de 400 à 1 000 mg de KOH/g ; bien mieux encore de 600 à 850 mg de KOH/g). Des exemples de durcisseurs de polyols initiés par une amine disponibles dans le commerce comprennent la famille Voranol® de polyols 5 initiés par une amine (disponibles chez The Dow Chemical Company) ; les Quadrol® Specialty Polyols (N,N,N',N'-tétrakis(2-hydroxypropyléthylènediamine)) (disponibles chez BASF) ; les polyols à base d'amine Pluracol® (disponibles chez BASF) ; les polyols à base d'amine Multranol® (disponibles chez Bayer MaterialScience LLC) ; la triisopropanolamine 10 (TIPA) (disponible chez The Dow Chemical Company) ; et, la triéthanolamine (TEA) (disponible chez Mallinckrodt Baker Inc.). De nombreux durcisseurs de polyols initiés par une amine préférés sont listés dans le TABLEAU 1. Durcisseur de polyol initié par Nombre de MN Nombre hydroxyle une amine groupes OH par (mg de KOH/g) molécule Triéthanolamine 3 149 1130 Triisopropanolamine 3 192 877 Polyol MULTRANOL® 9138 3 240 700 Polyol MULTRANOL® 9170 3 481 350 Polyol VORANOL® 391 4 568 391 Polyol VORANOL® 640 4 352 638 Polyol VORANOL® 800 4 280 801 Polyol QUADROL® 4 292 770 Polyol MULTRANOL® 4050 4 356 630 Polyol MULTRANOL® 4063 4 488 460 Polyol MULTRANOL® 8114 4 568 395 Polyol MULTRANOL® 8120 4 623 360 Polyol MULTRANOL® 9181 4 291 770 Polyol VORANOL® 202 5 590 475 Le durcisseur de polyol de masse moléculaire élevée présente de préférence une moyenne de trois à dix (encore mieux de quatre à huit ; bien mieux encore de cinq à sept ; particulièrement de préférence 20 six) groupes hydroxyle par molécule. Le durcisseur de polyol de masse moléculaire élevée présente de préférence une masse moléculaire moyenne en nombre, MN, de 2 000 à 100 000 (encore mieux de 2 500 à 15 100 000 ; bien mieux encore de 5 000 à 50 000 ; particulièrement de préférence de 7 500 à 15 000). Des exemples de durcisseurs de polyols de masse moléculaire élevée disponibles dans le commerce comprennent les polyols Specflex®, les polyols Voranol® et les polyols Voralux® (disponibles chez The Dow Chemical Company) ; les Multranol® Specialty Polyols et les Ultracel® Flexible Polyols (disponibles chez Bayer MaterialScience LLC) ; et les Plucarol® Polyols (disponibles chez BASF). De nombreux durcisseurs de polyols de masse moléculaire élevée préférés sont listés dans le TABLEAU 2. TABLEAU 2 Durcisseur de polyol de masse Nombre de MN Nombre hydroxyle moléculaire élevée groupes OH par (mg de KOH/g) molécule Polyol Multranol® 3901 3,0 6 000 28 Polyol Pluracol® 1385 3,0 3 200 50 Polyol Pluracol® 380 3,0 6 500 25 Polyol Pluracol® 1123 3,0 7 000 24 Polyol ULTRACEL® 3000 4,0 7 500 30 Polyol SPECFLEX® NC630 4,2 7 602 31 Polyol SPECFLEX® NC632 4,7 8 225 32 Polyol VORALUX® HF 505 6,0 11 400 30 Polyol MULTRANOL® 9185 6,0 3 366 100 Polyol VORANOLC) 4053 6,9 12 420 31 Le rapport stoechiométrique des groupes hydrogène réactifs (c'est-à-dire la somme des groupes amine (NH2) et des groupes hydroxyle (OH)) dans le système de durcisseur aux groupes isocyanate (NCO) n'ayant pas réagi dans l'isocyanate polyfonctionnel est de 0,6 à 1,4, (encore mieux de 0,80 à 1,30 ; bien mieux encore de 1,1 à 1,25). La composition de couche de polissage comprend éventuellement de plus plusieurs micro-éléments. Les plusieurs micro-éléments sont de préférence uniformément dispersés d'un bout à l'autre de la couche de polissage. Les plusieurs micro-éléments sont de préférence choisis parmi des bulles de gaz piégées, des matériaux polymères à noyaux creux, des matériaux polymères à noyaux creux remplis de liquide, des matériaux solubles dans l'eau, et un matériau de phase insoluble (par exemple huile minérale) et une combinaison de ceux- ci. Les plusieurs micro-éléments sont encore mieux choisis parmi des bulles de gaz piégées et des matériaux polymères à noyaux creux uniformément distribués d'un bout à l'autre de la couche de polissage. Les plusieurs micro-éléments présentent de préférence un diamètre moyen en masse inférieur à 150 pm (encore mieux inférieur à 50 pm ; bien mieux encore de 10 à 50 pm). Les plusieurs microéléments comprennent de préférence des microballons polymères avec des parois d'enveloppe soit de polyacrylonitrile, soit d'un copolymère de polyacrylonitrile (par exemple Expancel® chez Akzo Nobel). Les plusieurs micro-éléments sont de préférence incorporés dans la couche de polissage à une porosité de 0 à 35 % en vol (encore mieux une porosité de 10 à 25 % en vol). La composition de couche de polissage de polyuréthane utilisée dans le feutre de polissage mécano-chimique de la présente invention présente un indice acide _. 0,5 mg (KOH)/g. La composition de couche de polissage de polyuréthane utilisée dans le feutre de polissage mécano- chimique de la présente invention présente de préférence un indice acide de 0,5 à 25 mg (KOH)/g (encore mieux de 2,5 à 20 mg (KOH)/g ; bien mieux encore de 5 à 15 mg (KOH)/g ; particulièrement de préférence de 10 à 15 mg (KOH)/g). La couche de polissage de polyuréthane utilisée dans la couche de polissage mécano-chimique de la présente invention présente de préférence une surface de polissage qui présente une tolérance de traitement 80 Vo. La couche de polissage de polyuréthane utilisée dans le feutre de polissage mécano-chimique de la présente invention présente de préférence une surface de polissage qui présente une tolérance de traitement 85 % (encore mieux ?.. 90 °A) ; bien mieux encore ?._ 95 %). La couche de polissage de polyuréthane peut être fournie dans des configurations à la fois poreuses et non poreuses (c'est-à-dire non remplies). La couche de polissage de polyuréthane présente de préférence une densité supérieure à 0,6 mesurée selon ASTM D1622. La couche de polissage de polyuréthane présente encore mieux une densité de 0,6 à 1,5 (encore mieux de 0,7 à 1,3 ; bien mieux encore de 0,95 à 1,25) mesurée selon ASTM D 1622. La composition de couche de polissage de polyuréthane 35 présente de préférence une dureté Shore D de 5 à 80 mesurée selon ASTM D2240. La couche de polissage présente encore mieux une dureté 302 2 8 1 4 18 Shore D de 40 à 80 (encore mieux de 50 à 70 ; bien mieux encore de 60 à 70) mesurée selon ASTM D2240. La couche de polissage de polyuréthane présente de préférence un allongement à la rupture de 100 à 500 % mesuré selon 5 ASTM D412. La couche de polissage de polyuréthane présente de préférence un allongement à la rupture de 100 à 450 % (encore mieux de 125 à 450 %) mesuré selon ASTM D412. La couche de polissage de polyuréthane contient de préférence TABLEAU 5 Ex Couche de polissage Vitesse de retrait de TEOS (Â/min) MPC C 1 905 MP1 1 2 542 MP2 2 2 474 MP3 3 2 948 MP4 4 2 260 MP5 5 2 023 Exemple Comparatif APC et Exemples AP1-AP5 Exemples de polissage avec traitement agressif On a stratifié les couches de polissage de polyuréthane préparées selon l'Exemple Comparatif C et les Exemples 1-5 sur un sous-feutre SubaTM IV (disponible dans le commerce chez Rohm and Haas Electronic Materials CMP Inc.) en utilisant un adhésif sensible à la pression 10 pour chacun de l'Exemple Comparatif APC et des Exemples AP1-AP5. On a réalisé les expériences de vitesse de retrait de polissage sur des galettes de feuilles de TEOS 15k témoins de 200 mm de chez Novellus Systems. On a utilisé un dispositif de polissage Applied Materials 200 mm Mirra®. On a réalisé toutes les expériences de polissage en 15 utilisant une force descendante de 20,7 kPa (3 psi), un débit de composition de suspension de polissage mécano-chimique de 150 ml/min, une vitesse de rotation de table de 93 tr/min et une vitesse de rotation de support de 87 tr/min. La composition de suspension de polissage mécano-chimique utilisée était une dilution 1:3 de suspension Asahi CES333F avec 20 de l'eau désionisée et un pH de 5,1. On a utilisé un agent de traitement de feutre au diamant 8031C1 (disponible dans le commerce chez Saesol Diamond Ind. Co., Ltd.) pour traiter la surface de polissage. On a rompu la surface de polissage avec l'agent de traitement en utilisant une force descendante de 7 livres (3,18 kg) pendant 40 minutes. On a de plus traité 25 la surface de polissage in situ pendant le polissage à 10 balayages/min de 1,7 à 9,2 pouces du centre du feutre de polissage avec une forte descendante de 7 livres (3,18 kg). On a déterminé les vitesses de retrait en mesurant l'épaisseur de film avant et après le polissage en utilisant un outil de métrologie KLA-Tencor FX200 utilisant un balayage hélicoïdal à 49 points avec une exclusion de bord de 3 mm. Les résultats des expériences de vitesse de retrait agressif sont fournis dans le TABLEAU 6. La tolérance de traitement des couches de polissage calculée à partir des expériences de vitesse de retrait est donnée dans le TABLEAU 7. TABLEAU 6 Ex Couche de polissage Vitesse de retrait de TEOS (Â/min) APC C 1 228 AP1 1 2 382 AP2 2 2 333 AP3 3 2 814 AP4 4 2 011 AP5 5 1 704 TABLEAU 7 Couche de polissage Tolérance de traitement (en %) C 64,5 1 93,7 2 94,3 3 95,5 4 89,0 5 84,2 REVENDICATIONS1. Feutre de polissage mécano-chimique, caractérisé en ce qu'il comprend : une couche de polissage de polyuréthane présentant une composition et une surface de polissage ; dans lequel la composition de couche de polissage de polyuréthane présente un indice acide 0,5 mg (KOH)/g ; la surface de polissage est adaptée pour polir un substrat ; et, la surface de polissage présente une tolérance de traitement 80 %. 2. Feutre de polissage mécano-chimique selon la revendication 1, caractérisé en ce que le substrat est choisi dans le groupe constitué d'au moins un parmi un substrat magnétique, un substrat optique et un substrat semi-conducteur. 3. Feutre de polissage mécano-chimique selon la revendication 1, caractérisé en ce que la couche de polissage de polyuréthane présente une densité à 0,6, une dureté Shore D de 5 à 80 ; un allongement à la rupture de 100 à 450 %. 4. Feutre de polissage mécano-chimique selon la revendication 1, caractérisé en ce que la composition de couche de 20 polissage de polyuréthane est le produit de réaction d'ingrédients, comprenant : (a) un isocyanate polyfonctionnel ; (b) un système de durcisseur, comprenant : (i) un durcisseur polyfonctionnel contenant un acide 25 carboxylique ayant une moyenne d'au moins deux hydrogène actifs et au moins un groupe fonctionnel d'acide carboxylique par molécule ; et (c) éventuellement, plusieurs micro-éléments. 5. Feutre de polissage mécano-chimique selon la revendication 4, caractérisé en ce que le système de durcisseur comprend de plus au 30 moins un parmi : une diamine ; un diol ; un durcisseur de polyol initié par une amine ; et, un durcisseur de polyol de masse moléculaire élevée ayant une 35 masse moléculaire moyenne en nombre, MN, de 2 000 à 100 000 et une moyenne de 3 à 10 groupes hydroxyle par molécule. 6. Feutre de polissage mécano-chimique selon la revendication 1, caractérisé en ce que la composition de couche de polissage de polyuréthane est le produit de réaction d'ingrédients, comprenant : (a) un prépolymère d'uréthane à terminaisons isocyanate, dans lequel le prépolymère d'uréthane à terminaisons isocyanate est le produit de réaction d'ingrédients, comprenant : (i) un isocyanate polyfonctionnel ; et, (ii) une matière polyfonctionnelle contenant un acide 10 carboxylique ayant une moyenne d'au moins deux hydrogène actif et au moins un groupe fonctionnel d'acide carboxylique par molécule ; et, (iii) un polyol prépolymère ; et, (b) un système de durcisseur, comprenant au moins un durcisseur polyfonctionnel ; et, 15 (c) éventuellement, plusieurs micro-éléments. 7. Feutre de polissage mécano-chimique selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'il comprend de plus : une fenêtre de détection de point limite. 8. Feutre de polissage mécano-chimique selon la 20 revendication 7, caractérisé en ce que la fenêtre de détection de point limite est choisie dans le groupe constitué d'une fenêtre intégrale et d'une fenêtre bouchon en place. 9. Procédé de polissage mécano-chimique d'un substrat, caractérisé en ce qu'il comprend : 25 la fourniture d'un substrat ; le choix d'un feutre de polissage mécano-chimique comprenant une couche de polissage de polyuréthane présentant une composition et une surface de polissage ; dans lequel la surface de polissage est adaptée pour polir le substrat ; la composition est choisie pour présenter un indice 30 acide ?_. 0,5 mg (KOH)/g ; et, la surface de polissage présente une tolérance de traitement _. 80 % ; la création d'un contact dynamique entre la surface de polissage et le substrat pour polir une surface du substrat ; et, le traitement de la surface de polissage avec un agent de 35 traitement abrasif. 10. Procédé selon la revendication 9, caractérisé en ce que le substrat est choisi dans le groupe constitué d'au moins un parmi un substrat magnétique, un substrat optique et un substrat semi-conducteur.