Brevet FR3019075A1 — publié le 20151002

La présente invention concerne un feutre de polissage mécano-chimique avec une fenêtre de détection de point limite. La présente invention concerne également un procédé de polissage mécano-chimique d'un substrat utilisant un feutre de polissage mécano-chimique avec une fenêtre de détection de point limite. Dans la fabrication de circuits intégrés et d'autres dispositifs électroniques, de multiples couches de matériaux conducteurs, semiconducteurs et diélectriques sont déposées sur ou retirées d'une surface d'une galette semi-conductrice. De minces couches de matériaux conducteurs, semi-conducteurs, et diélectriques peuvent être déposées par de nombreuses techniques de dépôt. Des techniques de dépôt classiques dans un traitement moderne comprennent le dépôt physique en phase vapeur (PVD), également connu comme pulvérisation cathodique, le dépôt chimique en phase vapeur (CVD), le dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD), et le plaquage électrochimique (ECP). Lorsque des couches de matériaux sont successivement déposées et retirées, la surface supérieure de la galette devient non-plane. Comme le traitement subséquent du semi-conducteur (par exemple la métallisation) exige que la galette présente une surface plane, la galette doit être planarisée. La planarisation est utile pour éliminer une topographie de surface et des défauts de surface non souhaités, tels que des surfaces rugueuses, des matériaux agglomérés, une détérioration de réseau cristallin, des égratignures et des couches ou des matériaux pollués. La planarisation mécano-chimique, ou polissage mécano- chimique (CMP), est une technique classique utilisée pour planariser des substrats, tels que des galettes semi-conductrices. Dans un CMP classique, une galette est fixée sur un assemblage de support et est positionnée en contact avec un feutre de polissage dans un appareil CMP. L'assemblage de support fournit à la galette une pression pouvant être contrôlée, la comprimant contre le feutre de polissage. Le feutre est déplacé (par exemple mis en rotation) par rapport à la galette par une force de commande externe. Un milieu de polissage (par exemple une suspension) est simultanément fourni entre la galette et le feutre de polissage. La surface de galette est ainsi polie et rendue plane par l'action chimique et mécanique de la surface du feutre et du milieu de polissage. Un défi présenté par le polissage mécano-chimique est la détermination du moment où le substrat a été poli dans la mesure souhaitée. Des procédés in situ pour déterminer les points limites du polissage ont été développés. Les techniques optiques de détermination de point limite in situ peuvent être classées en deux catégories de base : (1) le contrôle du signal optique réfléchi à une seule longueur d'onde ou (2) le contrôle du signal optique réfléchi à partir de longueurs d'onde multiples. Les longueurs d'onde typiques utilisées pour la détermination optique du point limite comprennent celles du spectre visible (par exemple de 400 à 700 nm), du spectre des ultraviolets (315 à 400 nm), et du spectre des infrarouges (par exemple de 700 à 1 000 nm). Dans le brevet U.S. 5 433 651, Lustig et al. ont décrit un procédé de détection de point limite en polymère utilisant une seule longueur d'onde, dans lequel de la lumière provenant d'une source laser est transmise sur une surface de galette et le signal réfléchi est surveillé. Lorsque la composition sur la surface de galette change d'un métal à l'autre, le coefficient de réflexion varie. Cette variation du coefficient de réflexion est ensuite utilisée pour détecter le point limite de polissage. Dans le brevet U.S. 6 106 662, Bibby et al. ont décrit l'utilisation d'un spectromètre pour obtenir un spectre d'intensité de lumière réfléchie dans l'intervalle de la lumière visible du spectre optique. Dans des applications de CMP de métaux, Bibby et al. citent l'utilisation du spectre entier pour détecter le point limite de polissage. On a développé des feutres de polissage mécano-chimiques présentant des fenêtres pour adapter ces techniques optiques de détermination de point limite. Roberts décrit par exemple dans le brevet U.S. 5 605 760 un feutre de polissage dans lequel au moins une partie du feutre est transparente à la lumière laser sur un intervalle de longueurs d'onde. Roberts enseigne dans certains des modes de réalisation décrits un feutre de polissage qui comprend une pièce de fenêtre transparente dans un feutre sinon opaque. La pièce de fenêtre peut être une barre ou un bouchon de polymère transparent dans un feutre de polissage moulé. La barre ou le bouchon peut être inséré à l'état moulé dans le feutre de polissage (c'est-à-dire une "fenêtre intégrale"), ou il peut être installé dans une découpe dans le feutre de polissage après l'opération de moulage (c'est-à-dire une "fenêtre à bouchon-en-place"). Des matériaux de polyuréthane à base d'isocyanate aliphatique, tels que ceux décrits dans le brevet U.S. 6 984 163 ont fourni une transmission améliorée de la lumière sur un large spectre de lumière. La durabilité nécessaire exigée pour des applications de polissage exigeantes fait malheureusement défaut à ces fenêtres en polyuréthane aliphatique, inter alfa. Les fenêtres de détection de point limite à base de polymère classiques présentent souvent une dégradation indésirable lors d'une exposition à de la lumière ayant une longueur de 330 à 425 nm. It y a cependant de plus en plus de pression pour utiliser de la lumière avec des longueurs d'onde plus courtes à des fins de détection de point limite dans des applications de polissage de semi-conducteurs pour faciliter des couches de matériaux plus minces et des tailles de dispositifs plus petites. De plus, les dispositifs de semi-conducteurs deviennent de plus 15 en plus complexes avec des aspects plus fins et plus de couches de métallisation. Cette tendance exige une performance améliorée pour les consommables de polissage afin de maintenir une planarité et de limiter les défauts de polissage. Ces derniers peuvent créer des ruptures ou des courts-circuits électriques des lignes conductrices qui rendraient le 20 dispositif de semi-conducteur non fonctionnel. On sait en général qu'une approche pour réduire les défauts de polissage, tels que les micro-égratignures ou marques d'usinage, consiste à utiliser un matériau de couche de polissage plus souple. Il existe par conséquent une tendance allant vers l'utilisation de matériaux de couches de polissage plus souples 25 pour faciliter une performance de défectivité améliorée. Néanmoins, les formulations de fenêtres classiques ne s'adaptent pas bien à de tels matériaux de couches de polissage plus souples, ayant tendance à augmenter la défectivité du polissage. Il existe par conséquent un besoin continu de formulations 30 améliorées de fenêtres de détection de point limite en polymères pour une utilisation dans des feutres de polissage mécano-chimiques. Il existe en particulier un besoin continu de formulations de fenêtres de détection de point limite en polymères présentant une dureté La présente invention fournit un procédé de fabrication d'un feutre de polissage mécano-chimique de la présente invention, comprenant : la fourniture d'une couche de polissage présentant une surface de polissage ; la fourniture d'un prépolymère d'uréthane à terminaisons isocyanate ayant de 2 à 6,5 % en poids de groupes NCO qui n'ont pas réagi ; la fourniture d'un système de durcisseur, comprenant : au moins 5 % en poids d'un durcisseur aromatique difonctionnel ; au moins 5 % en poids d'un durcisseur de polyol initié par une amine ayant au moins un atome d'azote par molécule et une moyenne d'au moins 3 groupes hydroxyle par molécule ; de 25 à 90 % en poids d'un durcisseur de polyol de masse moléculaire élevée ayant une masse moléculaire moyenne en nombre, MN de 2 000 à 100 000 et une moyenne de 3 à 10 groupes hydroxyle par molécule ; la combinaison du prépolymère d'uréthane à terminaisons isocyanate et du système de durcisseur pour former une combinaison ; le laisser réagir de la combinaison pour former un produit ; la formation d'une fenêtre de détection de point limite à partir du produit ; l'assemblage de la fenêtre de détection de point limite à la couche de polissage pour fournir un feutre de polissage mécano-chimique. Dans un mode de réalisation particulier, la fenêtre de détection de point limite est une fenêtre intégrale. La présente invention fournit un procédé de polissage d'un substrat, comprenant : la fourniture d'un appareil de polissage mécano- chimique présentant un disque, une source de lumière et unphotocapteur ; la fourniture d'au moins un substrat ; la fourniture d'un feutre de polissage mécano-chimique de la présente invention ; l'installation sur le disque (ou platine) du feutre de polissage mécano-chimique ; éventuellement, la fourniture d'un milieu de polissage à une interface entre la surface de polissage et le substrat ; la création d'un contact dynamique entre la surface de polissage et le substrat, dans lequel au moins une certaine quantité de matière est retirée du substrat ; et, la détermination d'un point limite de polissage par transmission de lumière à partir de la source de lumière à travers la fenêtre de détection de point limite et l'analyse de la lumière réfléchie à partir de la surface du substrat en retour à travers la fenêtre de détection de point limite de manière incidente sur le photocapteur. Dans un mode de réalisation particulier, le au moins un substrat est choisi dans le groupe constitué d'au moins un parmi un substrat magnétique, un substrat optique et un substrat semi-conducteur. DESCRIPTION DETAILLE Le feutre de polissage mécano-chimique de la présente invention présente une fenêtre de détection de point limite comprenant le produit de réaction d'un unique jeu d'ingrédients, lequel produit de réaction présente une combinaison unique de faible dureté (c'est-à-dire Shore D 30 %) pour faciliter la détection du point limite de polissage ; dans lequel la formulation de fenêtre de détection de point limite ne présente pas une déformation de fenêtre indésirable (c'est-à-dire un renflement excessif) et présente la durabilité exigée pour des applications de polissage exigeantes. Le terme "milieu de polissage" comme utilisé ici et dans les revendications annexées englobe des solutions de polissage contenant des particules et des solutions de polissage ne contenant pas de particules, telles que des solutions de polissage liquides réactives et exemptes d'abrasif. Le terme "transmission à double passage" ou "DPT" comme utilisé ici et dans les revendications annexées en faisant référence à une fenêtre de détection de point limite est déterminé en utilisant l'équation suivante : DPT = (IW51- IWD) (IAsi - IAD) où IW51, IWD, IAsi, et IAD sont mesurés en utilisant un Verity SP2006, Spectral Interferometer comprenant un spectrographe SD1024F, une lampe flash au xénon et un câble de fibre optique de 3 mm en plaçant une surface émettant de la lumière du câble de fibre optique de 3 mm 10 contre (et perpendiculairement à) une première face de la fenêtre de détection de point limite en un point d'origine, en dirigeant la lumière à travers l'épaisseur, Tw, de la fenêtre et en mesurant au point d'origine l'intensité de la lumière réfléchie en retour à travers l'épaisseur de la fenêtre, Tw, à partir d'une surface disposée contre une seconde face de la 15 fenêtre de détection de point limite pratiquement parallèle à la première face ; où IWsi est une mesure de l'intensité de lumière qui passe à travers la fenêtre à partir du point d'origine et qui est réfléchie à partir de la surface d'une galette témoin de silicium placée contre une seconde face de la fenêtre en retour à travers la fenêtre vers le point d'origine ; où IWD 20 est une mesure de l'intensité de lumière qui passe à partir du point d'origine à travers la fenêtre et qui est réfléchie à partir de la surface d'un corps noir et en retour à travers la fenêtre vers le point d'origine ; où IA51 est une mesure de l'intensité de lumière qui passe à partir du point d'origine à travers une épaisseur d'air équivalente à l'épaisseur, Tw, de la 25 fenêtre de détection de point limite, qui est réfléchie à partir de la surface d'une galette témoin de silicium placée perpendiculairement à la surface émettant de la lumière du câble de fibre optique de 3 mm et qui est réfléchie en retour à travers l'épaisseur d'air vers le point d'origine ; et, où IAD est une mesure de l'intensité de lumière réfléchie à partir d'un corps 30 noir sur la surface émettant de la lumière du câble de fibre optique de 3 mm. Le terme "DPT400" comme utilisé ici et dans les revendications annexées est la DPT présentée par une fenêtre de détection de point limite pour de la lumière ayant une longueur d'onde de 400 nm. Le terme "DPT800" comme utilisé ici et dans les revendications annexées est la DPT présentée par une fenêtre de détection de point limite pour de la lumière ayant une longueur d'onde de 800 nm. Le feutre de polissage mécano-chimique de la présente 5 invention, comprend : une couche de polissage présentant une surface de polissage ; et, une fenêtre de détection de point limite ; dans lequel la fenêtre de détection de point limite comprend un produit de réaction d'ingrédients, comprenant : un prépolymère d'uréthane à terminaisons isocyanate ayant de 2 à 6,5 % en poids (de préférence de 3 à 6 % en 10 poids ; encore mieux, de 5 à 6 % en poids ; bien mieux encore, de 5,5 à 6 % en poids) de groupes NCO qui n'ont pas réagi ; et, un système de durcisseur, comprenant : au moins 5 % en poids (de préférence de 5 à 70 % en poids ; encore mieux de 10 à 60 % en poids ; bien mieux encore, de 20 à 40 % en poids) d'un durcisseur difonctionnel ; au moins 15 5 % en poids (de préférence de 5 à 25 % en poids ; encore mieux de 5 à 20 % en poids ; bien mieux encore de 5 à 15 % en poids) d'un durcisseur de polyol initié par une amine ayant au moins un atome d'azote (de préférence de un à quatre atomes d'azote ; encore mieux de deux à quatre atomes d'azote, bien mieux encore deux atomes d'azote) par 20 molécule et une moyenne d'au moins trois (de préférence de trois à six ; encore mieux de trois à cinq ; bien mieux encore quatre) groupes hydroxyle par molécule ; et, de 25 à 90 % en poids (de préférence de 35 à 90 % en poids ; encore mieux de 40 à 75 % en poids ; bien mieux encore de 50 à 65 % en poids) d'un durcisseur de polyol de masse 25 moléculaire élevée ayant une masse moléculaire moyenne en nombre, MN, de 2 000 à 100 000 (de préférence de 2 500 à 100 000 ; encore mieux de 5 000 à 50 000 ; bien mieux encore de 7 500 à 15 000) et une moyenne de trois à dix (de préférence, de quatre à huit ; encore mieux de cinq à sept ; bien mieux encore six) groupes hydroxyle par molécule. 30 La couche de polissage du feutre de polissage mécano- chimique de la présente invention présente une surface de polissage adaptée pour polir un substrat. La surface de polissage est de préférence adaptée pour polir un substrat choisi parmi au moins un parmi un substrat magnétique, un substrat optique et un substrat semi-conducteur. La 35 surface de polissage est encore mieux adaptée pour polir un substrat semi-conducteur. La surface de polissage présente de préférence une macrotexture choisie parmi au moins une parmi des perforations et des rainures. Les perforations peuvent s'étendre à partir de la surface de polissage partiellement ou sur la totalité à travers l'épaisseur de la couche de polissage. Les rainures sont de préférence disposées sur la surface de polissage de sorte que lors d'une rotation du feutre de polissage mécano-chimique pendant le polissage, au moins une rainure balaye la surface du substrat qui est polie. La surface de polissage présente de préférence une macro-texture comprenant au moins une rainure choisie dans le groupe constitué de rainures courbées, de rainures linéaires et de combinaisons de celles-ci. La couche de polissage du feutre de polissage mécano-chimique de la présente invention présente de préférence une surface de polissage adaptée pour polir le substrat, dans laquelle la surface de polissage présente une macro-texture comprenant un motif de rainures formé dans celle-ci. Le motif de rainures comprend de préférence plusieurs rainures. Le motif de rainures est encore mieux choisi parmi une conception de rainures. La conception de rainures est de préférence choisie dans le groupe constitué de rainures concentriques (qui peuvent être circulaires ou hélicoïdales), de rainures courbées, de rainures hachurées (par exemple disposées comme une grille X-Y à travers la surface du feutre), d'autres conceptions régulières (par exemple hexagones, triangles), des motifs de type bande de roulement de pneu, des conceptions irrégulières (motifs de fractales), et des combinaisons de ceux-ci. La conception de rainures est encore mieux choisie dans le groupe constitué de rainures arbitraires, de rainures concentriques, de rainures hélicoïdales, de rainures hachurées, de rainures de grille X-Y, de rainures hexagonales, de rainures triangulaires, de rainures fractales et de combinaisons de celles-ci. La surface de polissage présente encore mieux un motif de rainures hélicoïdales formé dans celle-ci. Le profil de rainures est de préférence choisi parmi un profil rectangulaire avec des parois latérales droites ou la section transversale de rainures peut être de forme "V", de forme "U", en dents de scie, et des combinaisons de celles-ci. Le prépolymère d'uréthane à terminaisons isocyanate utilisé dans la formation de la fenêtre de détection de point limite du feutre de polissage mécano-chimique de la présente invention comprend de préférence : un produit de réaction d'ingrédients, comprenant un isocyanate polyfonctionnel et un polyol prépolymère. L'isocyanate polyfonctionnel utilisé dans la préparation du prépolymère d'uréthane à terminaisons isocyanate est de préférence choisi dans le groupe constitué d'isocyanates polyfonctionnels aliphatiques, d'isocyanates polyfonctionnels aromatiques, et de mélanges de ceux-ci. L'isocyanate polyfonctionnel utilisé est encore mieux un diisocyanate choisi dans le groupe constitué par le diisocyanate de 2,4-toluène ; le diisocyanate de 2,6-toluène ; le diisocyanate de 4,4'-diphénylméthane ; le naphtalène-1,5-diisocyanate ; le diisocyanate de tolidine ; le diisocyanate de para-phénylène ; le diisocyanate de xylylène ; le diisocyanate d'isophorone ; le diisocyanate d'hexaméthylène ; le diisocyanate de 4,4'- dicyclohexylméthane ; le diisocyanate de cyclohexane ; et, des mélanges de ceux-ci. L'isocyanate polyfonctionnel utilisé est encore mieux un diisocyanate choisi dans le groupe constitué par le diisocyanate de 2,4- toluène ; le diisocyanate de 2,6-toluène ; et, des mélanges de ceux-ci. Le polyol prépolymère utilisé dans la préparation du prépolymère d'uréthane à terminaisons isocyanate est de préférence choisi dans le groupe constitué de diols, de polyols, de polyols diols, de 20 copolymères de ceux-ci, et de mélanges de ceux-ci. Le polyol prépolymère est encore mieux choisi dans le groupe constitué par des polyéthers polyols (par exemple poly(oxytétraméthylène)glycol, poly(oxypropylène)- glycol, poly(oxyéthylène)glycol) ; des polycarbonates polyols ; des polyesters polyols ; des polycaprolactones polyols ; des mélanges de ceux- 25 ci ; et, des mélanges de ceux-ci avec un ou plusieurs polyols de faible masse moléculaire choisis dans le groupe constitué par l'éthylèneglycol ; le 1,2-propylèneglycol ; le 1,3-propylèneglycol ; le 1,2-butanediol ; le 1,3- butanediol ; le 2-méthyl-1,3-propanediol ; le 1,4-butanediol ; le néopentylglycol ; le 1,5-pentanediol ; le 3-méthyl-1,5-pentanediol ; le 1,6- 30 hexanediol ; le diéthylèneglycol ; le dipropylèneglycol ; et, le tripropylèneglycol. Le polyol prépolymère est bien mieux encore choisi dans le groupe constitué d'au moins un parmi le polytétraméthylèneétherglycol (PTMEG) ; les polypropylèneétherglycols (PPG), et les polyéthylèneétherglycols (PEG) ; éventuellement, mélangés avec au moins 35 un polyol de faible masse moléculaire choisi dans le groupe constitué par l'éthylèneglycol ; le 1,2-propylèneglycol ; le 1,3-propylèneglycol ; le 1,2- butanediol ; le 1,3-butanediol ; le 2-méthyl-1,3-propanediol ; le 1,4butanediol ; le néopentylglycol ; le 1,5-pentanediol ; le 3-méthy1-1,5- pentanediol ; le 1,6-hexanediol ; le diéthylèneglycol ; le dipropylèneglycol ; et le tripropylèneglycol. Le polyol prépolymère comprend encore mieux PPG mélangé avec au moins un parmi l'éthylèneglycol ; le 1,2- propylèneglycol ; le 1,3-propylèneglycol ; le 1,2-butanediol ; le 1,3butanediol ; le 2-méthyl-1,3-propanediol ; le 1,4-butanediol ; le néopentylglycol ; le 1,5-pentanediol ; le 3-méthyl-1,5-pentanediol ; le 1,6- hexanediol ; le diéthylèneglycol ; le dipropylèneglycol ; et, le tripropylèneglycol. Le prépolymère uréthane à terminaisons isocyanate utilisé dans la formation de la fenêtre de détection de point limite du feutre de polissage mécano-chimique de la présente invention contient de préférence une moyenne de deux groupes isocyanate réactif (c'est-à-dire NCO) par molécule. Le prépolymère d'uréthane à terminaisons isocyanate utilisé dans la formation de la fenêtre de détection de point limite du feutre de polissage mécano-chimique de la présente invention présente de 2 à 6,5 % en poids (de préférence de 3 à 6 % en poids ; encore mieux de 5 à 6 % en poids ; bien mieux encore de 5,5 à 6 % en poids) de groupes NCO qui n'ont pas réagi. Le prépolymère d'uréthane à terminaisons isocyanate utilisé dans la formation de la fenêtre de détection de point limite du feutre de polissage mécano-chimique de la présente invention est de préférence un prépolymère d'uréthane à terminaisons isocyanate libre faible présentant une teneur en monomère de diisocyanate de toluène (TDI) libre inférieure à 0,1 % en poids. Des exemples de prépolymères d'uréthane à terminaisons isocyanate à base de PTMEG disponibles dans le commerce comprennent les prépolymères Imuthane® (disponibles chez COIM USA, Inc., tels que PET-80A, PET-85A, PET-90A, PET-93A, PET-95A, PET-60D, PET-70D, PET-75D) ; les prépolymères Adiprene® (disponibles chez Chemtura, tels que LF 800A, LF 900A, LF 910A, LF 930A, LF 931A, LF 939A, LF 950A, LF 952A, LF 600D, LF 601D, LF 650D, LF 667, LF 700D, LF 750D, LF751D, LF752D, LF753D et L325) ; les prépolymères Andur® (disponibles chez Anderson Development Company, tels que 70APLF, 80APLF, 85APLF, 90APLF, 95APLF, 60DPLF, 70APLF, 75APLF). Des exemples de prépolymères d'uréthane à terminaisons isocyanate à base de PPG disponibles dans le commerce comprennent les 5 prépolymères Imuthane® (disponibles chez COIM USA, Inc., tels que PPT-80A, PPT-90A, PTT-95A, PPT-65D, PPT-75D) ; les prépolymères Adiprene® (disponibles chez Chemtura, tels que LFG 963A, LFG 964A, LFG 740D) ; et, les prépolymères Andur® (disponibles chez Anderson Development Company, tels que 8000APLF, 9500APLF, 650DPLF, 10 7501DPLF). On peut également utiliser des prépolymères d'uréthane à terminaisons isocyanate qui ne sont pas à base de TDI. Les prépolymères d'uréthane à terminaisons isocyanate comprenant par exemple ceux formés par la réaction de diisocyanate de 4,4'-diphénylméthane (MDI) et 15 de polyols, tels que le polytétraméthylèneglycol (PTMEG) avec des diols éventuels, tels que le 1,4-butanediol (BDO), sont acceptables. Lorsqu'on utilise de tels prépolymères d'uréthane à terminaisons isocyanate, la concentration en isocyanate qui n'ont pas réagi (NCO) est de préférence de 4 à 10 % en poids (encore mieux de 4 à 8 % en poids, bien mieux 20 encore de 5 à 7 % en poids). Des exemples de prépolymères d'uréthane à terminaisons isocyanate disponibles dans le commerce dans cette catégorie comprennent les prépolymères Imuthane® (disponibles chez COIM USA, Inc., tels que 27-85A, 27-90A, 27-95A) ; les prépolymères Andur® (disponibles chez Anderson Development Company, tels que 25 IE75AP, IE80AP, IE85AP, IE90AP, IE95AP, IE98AP) ; et, les prépolymères Vibratane® (disponibles chez Chemtura, tels que B625, B635, B821). Le durcisseur difonctionnel utilisé dans la formation de la fenêtre de détection de point limite du feutre de polissage mécano-chimique de la présente invention est de préférence choisi parmi des diols 30 et des diamines. Le durcisseur difonctionnel est encore mieux un durcisseur aromatique difonctionnel choisi dans le groupe constitué par la diéthyltoluènediamine (DETDA) ; la 3,5-diméthylthio-2,4-toluènediamine et des isomères de celle-ci ; la 3,5-diéthyltoluène-2,4-diamine et des isomères de celle-ci (par exemple la 3,5-diéthyltoluène-2,6-diamine) ; le 35 4,4'-bis-(sec-butylami no)-diphényl méthane ; le 1,4-bis-(sec-butylamino)- benzène ; la 4,4'-méthylène-bis-(2-chloroaniline) ; la 4,4'-méthylène-bis- (3-chloro-2,6-diéthylaniline) (MCDEA) ; le poly(oxyde de tétraméthylène)- di-p-aminobenzoate ; le N,N'-dialkyldiaminodiphénylméthane ; la p,p'- méthylènedianiline (MDA) ; la m-phénylènediamine (MPDA) ; la 4,4'- méthylène-bis-(2-chloroaniline) (MBOCA) ; la 4,4'-méthylène-bis-(2,6- diéthylaniline) (MDEA) ; la 4,4'-méthylène-bis-(2,3-dichloroaniline) (MDCA) ; le 4,4'-diamino-3,3'-diéthy1-5,5'-diméthyldiphénylméthane ; le 2,2',3,3'-tétrachlorodiaminodiphénylméthane ; le di-p-aminobenzoate de triméthylèneglycol ; et des mélanges de ceux-ci. Le durcisseur aromatique difonctionnel utilisé est bien mieux encore choisi dans le groupe constitué par la 4,4'-méthylène-bis-(2-chloroaniline) (MBOCA) ; la 4,4'-méthylène- bis-(3-chloro-2,6-diéthylaniline) (MCDEA) ; et des isomères de celles-ci. Le durcisseur aromatique difonctionnel utilisé est bien mieux encore la 4,4'- méthylène-bis-(2-chloroaniline) (MBOCA). Le durcisseur de polyol initié par une amine utilisé dans la 15 formation de la fenêtre de détection de point limite du feutre de polissage mécano-chimique de la présente invention contient au moins un atome d'azote (de préférence de un à quatre atomes d'azote ; encore mieux de deux à quatre atomes d'azote ; bien mieux encore deux atomes d'azote) par molécule et une moyenne d'au moins trois (de préférence de trois à 20 six ; encore mieux de trois à cinq ; bien mieux encore quatre) groupes hydroxyle par molécule. Le durcisseur de polyol initié par une amine utilisé dans la formation de la fenêtre de détection de point limite du feutre de polissage mécano-chimique de la présente invention présente de préférence une masse moléculaire moyenne en nombre, MN, Le durcisseur de polyol de masse moléculaire élevée utilisé dans la formation de la fenêtre de détection de point limite du feutre de polissage mécano-chimique de la présente invention présente de préférence une masse moléculaire moyenne en nombre, MN, de 2 000 à 100 000 (encore mieux de 2 500 à 100 000 ; bien mieux encore de 5 000 à 50 000 ; particulièrement de préférence de 7 500 à 15 000). Le durcisseur de polyol de masse moléculaire élevée utilisé dans la formation de la fenêtre de détection de point limite du feutre de polissage mécano-chimique de la présente invention présente de préférence une moyenne de trois à dix (encore mieux de quatre à huit ; bien mieux encore de cinq à sept ; particulièrement de préférence six) groupes hydroxyle par molécule. Le durcisseur de polyol de masse moléculaire élevée utilisé dans la formation de la fenêtre de détection de point limite du feutre de polissage mécano-chimique de la présente invention présente de préférence une masse moléculaire moyenne en nombre, MN, qui est supérieure à la masse moléculaire moyenne en nombre, MN, du durcisseur de polyol initié par une amine utilisé dans le système de durcisseur ; et, présente un nombre hydroxyle qui est inférieur au nombre hydroxyle du durcisseur initié par une amine utilisé dans le système de durcisseur. Des exemples des durcisseurs de polyols de masse moléculaire élevée disponibles dans le commerce comprennent les polyols Specflex®, les polyols Voranol® et les polyols Voralux® (disponibles chez The Dow Chemical Company) ; les Multranol® Specialty Polyols et les Ultracel® Flexible Polyols (disponibles chez Bayer MaterialScience LLC) ; et les Plucarol® Polyols (disponibles chez BASF). De nombreux durcisseurs de polyols de masse moléculaire élevée préférés sont listés dans le TABLEAU 2.30 TABLEAU 2 Durcisseur de polyol de masse Nombre de MN Nombre hydroxyle moléculaire élevée groupes OH par (mg de KOH/g) molécule Polyol Multranol® 3901 3,0 6,000 28 Polyol Pluracol® 1385 3,0 3,200 50 Polyol Pluracol® 380 3,0 6,500 25 Polyol Pluracol® 1123 3,0 7,000 24 Polyol ULTRACEL® 3000 4,0 7,500 30 Polyol SPECFLEX® NC630 4,2 7,602 31 Polyol SPECFLEX® NC632 4,7 8,225 32 Polyol VORALUX® HF 505 6,0 11,400 30 Polyol MULTRANOL® 9185 6,0 3,366 100 Polyol VORANOL® 4053 6,9 12,420 31 La somme des groupes hydrogène réactif (c'est-à-dire la somme des groupes amine (NH2) et des groupes hydroxyle (OH)) 5 contenus dans les constituants du système de durcisseur divisée par les groupes isocyanate (NCO) qui n'ont pas réagi dans le prépolymère d'uréthane à terminaisons isocyanate (c'est-à-dire le rapport stoechiométrique) utilisé dans la formation de la fenêtre de détection de point limite du feutre de polissage mécano-chimique de la présente 10 invention est de préférence de 0,7 à 1,2 (de préférence de 0,8 à 1,10 ; encore mieux de 0,95 à 1,05 ; bien mieux encore de 0,98 à 1,02). La fenêtre de détection de point limite du feutre de polissage mécano-chimique de la présente invention présente de préférence une densité > 1 g/cm3 (de préférence de 1,05 à 1,2 g/cm3 ; encore mieux de 15 1,1 à 1,2 g/cm3 ; bien mieux encore de 1,1 à 1,15 g /cm3) ; une porosité inférieure à 0,1 % en volume ; une dureté Shore D de 10 à 50 (de préférence de 15 à 45 ; encore mieux de 20 à 40 ; bien mieux encore de 25 à 35) ; et un allongement à la rupture Le feutre de polissage mécano-chimique de la présente invention comprend éventuellement de plus au moins une couche supplémentaire reliée à la couche de polissage. Le procédé de fabrication d'un feutre de polissage mécano-chimique de la présente invention, comprend : la fourniture d'une couche de polissage présentant une surface de polissage ; la fourniture d'un pré- polymère d'uréthane à terminaisons isocyanate ayant de 2 à 6,5 % en poids (de préférence de 3 à 6 % en poids ; encore mieux de 5 à 6 % en poids ; bien mieux encore de 5,5 à 6 % en poids) de groupes NCO qui n'ont pas réagi ; la fourniture d'un système de durcisseur, comprenant : au moins 5 % en poids (de préférence de 5 à 70 % en poids ; encore mieux de 10 à 60 % en poids ; bien mieux encore de 20 à 40 % en poids) d'un durcisseur, de préférence aromatique, difonctionnel ; au moins 5 en poids (de préférence de 5 à 25 % en poids ; encore mieux de 5 à 20 en poids ; bien mieux encore de 5 à 15 % en poids) d'un durcisseur de polyol initié par une amine ayant au moins un atome d'azote (de préférence de un à quatre atomes ; encore mieux de deux à quatre atomes d'azote ; bien mieux encore deux atomes d'azote) par molécule et une moyenne d'au moins trois (de préférence de trois à six ; encore mieux de trois à cinq ; bien mieux encore quatre) groupes hydroxyle par molécule ; et, de 25 à 90 % en poids (de préférence de 35 à 90 % en poids ; encore mieux de 40 à 75 % en poids ; bien mieux encore de 50 à 65 % en poids) d'un durcisseur de polyol de masse moléculaire élevée ayant une masse moléculaire moyenne en nombre, MN, de 2 000 à 100 000 (de préférence de 2 500 à 100 000 ; encore mieux de 5 000 à 50 000 ; bien mieux encore de 7 500 à 15 000) et une moyenne de trois à dix (de préférence de quatre à huit ; encore mieux de cinq à sept ; bien mieux encore six) groupes hydroxyle par molécule ; la combinaison du prépolymère d'uréthane à terminaisons isocyanate et du système de durcisseur pour former une combinaison ; le laisser réagir de la combinaison pour former un produit ; la formation d'une fenêtre de détection de point limite à partir du produit ; l'assemblage de la fenêtre de détection de point limite à la couche de polissage pour fournir un feutre de polissage mécano-chimique. La fenêtre de détection de point limite est de préférence reliée à la couche de polissage comme une fenêtre intégrale incorporée dans la couche de polissage en utilisant des techniques connues, ou comme une fenêtre bouchon-en-place incorporée dans le feutre de polissage mécano-chimique en utilisant des techniques connues. La fenêtre de détection de point limite est encore mieux incorporée dans la couche de polissage comme une fenêtre intégrale. Une étape importante dans les opérations de polissage de substrat est la détermination d'un point limite au procédé. Un procédé in situ classique pour une détection de point limite implique la fourniture d'un feutre de polissage avec une fenêtre, laquelle est transparente pour choisir des longueurs d'onde de lumière. Un faisceau de lumière est pendant le polissage dirigé à travers la fenêtre vers la surface de galette, où il est réfléchi et passe en retour à travers la fenêtre vers un détecteur (par exemple un spectrophotomètre). Sur la base du signal de retour, des propriétés de la surface de substrat (par exemple l'épaisseur de films sur son dessus) peuvent être déterminées pour la détection du point limite. Afin de faciliter de tels procédés de point limite sur la base de la lumière, le feutre de polissage mécano-chimique de la présente invention comprend une fenêtre de détection de point limite. La fenêtre de détection de point limite est de préférence choisie parmi une fenêtre intégrale incorporée dans la couche de polissage ; et, un bloc de fenêtre de détection de point limite bouchon-en-place incorporé dans le feutre de polissage mécano-chimique. L'homme de l'art saura choisir un procédé approprié pour incorporer la fenêtre de détection de point limite dans le feutre de polissage mécano-chimique. Le procédé de la présente invention pour le polissage mécano-chimique d'un substrat comprend : la fourniture d'un appareil de polissage mécano-chimique présentant un disque, une source de lumière et un photocapteur (de préférence un spectrographe multi-détecteur) ; la fourniture d'au moins un substrat à polir (où le substrat est de préférence choisi dans le groupe constitué d'au moins un parmi un substrat magnétique, un substrat optique et un substrat semi-conducteur ; où le substrat est encore mieux un substrat semi-conducteur ; où le substrat est bien mieux encore une galette semi-conductrice) ; la fourniture d'un feutre de polissage mécano-chimique de la présente invention ; l'installation sur le disque du feutre de polissage mécano-chimique ; éventuellement, la fourniture d'un milieu de polissage à une interface entre une surface de polissage du feutre de polissage mécano-chimique et le substrat (où le milieu de polissage est de préférence choisi dans le groupe constitué d'une suspension de polissage et d'une formulation liquide réactive ne contenant pas d'abrasif) ; la création d'un contact dynamique entre la surface de polissage et le substrat, dans lequel au moins une certaine quantité de matière est retirée du substrat ; et, la détermination d'un point limite de polissage par transmission de lumière à partir de la source de lumière à travers la fenêtre de détection de point limite et l'analyse de la lumière réfléchie à partir de la surface du substrat en retour à travers la fenêtre de détection de point limite de manière incidente sur le photocapteur. Le point limite de polissage est de préférence déterminé sur la base d'une analyse d'une longueur d'onde de lumière réfléchie par la surface du substrat et transmise à travers la fenêtre de détection de point limite, où la longueur d'onde présente une longueur d'onde > 370 nm à 800 nm. Le point limite de polissage est encore mieux déterminé sur la base d'une analyse de longueurs d'onde multiples de lumière réfléchie à partir de la surface du substrat et transmise à travers la fenêtre de détection de point limite, où une des longueurs d'onde analysée présente une longueur d'onde > 370 nm à 800 nm. Certains modes de réalisation de la présente invention seront maintenant décrits de manière détaillée dans les exemples suivants. Exemples comparatifs C1-C23 et exemples 1-12 On a préparé des fenêtres de détection de point limite selon les détails de formulation fournis dans le TABLEAU 3. On a mélangé le prépolymère de fenêtre avec les constituants du système de durcisseur en utilisant un mélangeur vortex à 1 000 tr/min pendant 30 secondes. On a maintenu la totalité des matières premières à l'exception du durcisseur difonctionnel (c'est-à-dire MBOCA et MCDEA) à une température de pré-mélange de 60°C. On a maintenu MBOCA et MCDEA, lorsqu'ils sont utilisés, à une température de pré-mélange de 120°C. Le rapport stoechiométrique entre le prépolymère de fenêtre et le système de durcisseur utilisé pour les fenêtres de détection de point limite est fourni dans le TABLEAU 3 comme le rapport des groupes hydrogène réactif (c'est-à-dire la somme des groupes -0H et des groupes -NH2) dans le système de durcisseur par rapport aux groupes isocyanate NCO qui n'ont pas réagi dans le prépolymère d'uréthane à terminaisons isocyanate. Dans chacun des exemples, le prépolymère d'uréthane à terminaisons isocyanate et le système de durcisseur ont été mélangés ensemble en utilisant une tête de mélange à cisaillement élevé. Après la sortie de la tête de mélange, la combinaison a été distribuée dans un moule de poche de dimensions 2 mm x 125 mm x 185 mm. Le moule de poche avec la combinaison distribuée a ensuite été durci dans un four pendant dix-huit (18) heures. La température du point de réglage pour le four était initialement fixée à 93°C pour les premières vingt (20) minutes ; à 104°C pour les quinze (15) heures et quarante (40) minutes suivantes ; et a ensuite été abaissée à 21°C pendant les deux (2) heures finales. Le moule de poche et ses contenus ont été ensuite retirés du four et la fenêtre de détection de point limite produite a ensuite été retirée du moule de poche. TABLEAU 3 Ex n° Prépolymère (% Système de durcisseur NCO) Durcisseur Pi Durcisseur P2 Durcisseur P3 Durcisseur P4 (H actif/ aromatique (% en de MW (% en initié par une (% en non-amine (% en NCO) (P1) poids) élevée (P2) poids) amine (P3) poids) (P4) poids) stoechio- métrique Cl A 6,67 MbOCA 14,20 H 73,41 J 12,39 -- -- 1,0 C2 A 6,67 MbOCA 12,39 H 75,22 J 12,39 -- -- 1,0 C3 A 6,70 MbOCA 14,16 H 73,49 J 12,35 -- -- 1,0 C4 A 6,70 MbOCA 33,33 H 57,25 J 9,42 -- -- 1,0 C5 C 8,88 MbOCA -- H 85,62 J 14,38 -- -- 1,0 C6 C 8,88 MbOCA -- I 85,78 J 14,22 -- -- 1,0 C7 B 5,72 MbOCA -- H 85,84 J 14,16 -- -- 1,0 C8 D 8,94 MbOCA -- H 85,68 J 14,32 -- -- 1,0 C9 D 8,94 MbOCA -- I 85,82 J 14,18 -- -- 1,0 C10 A 6,67 MCDEA -- I 85,59 J 14,41 -- -- 1,0 Cil A 6,70 MbOCA -- H 85,68 J 14,32 -- -- 1,0 C12 G 4,15 MbOCA 100 -- -- -- -- -- -- 1,0 C13 B 5,83 MbOCA 100 -- -- -- -- -- 1,0 C14 E 2,86 MbOCA 100 -- -- -- -- -- 1,0 C15 F 3,80 MbOCA 100 -- -- -- -- -- 1,0 C16 B 5,83 MbOCA 14,26 H 85,74 -- -- -- -- 1,0 C17 B 5,83 MbOCA 14,25 I 85,75 -- -- -- -- 1,0 C18 B 5,72 MbOCA 14,38 H 73,44 -- -- K 12,18 1,0 C19 B 5,72 MbOCA 33,33 H 56,98 -- -- K 9,69 1,0 C20 A 6,67 MbOCA 14,29 H 85,71 -- -- -- -- 1,0 C21 A 6,67 MbOCA 14,29 I 85,71 -- -- -- -- 1,0 C22 A 6,70 MbOCA 14,37 H 73,52 -- -- K 12,11 1,0 C23 A 6,70 MbOCA 33,22 H 57,09 -- -- K 9,69 1,0 1 B 5,83 MbOCA 14,24 H 73,51 J 12,25 1,0 2 B 5,83 MbOCA 14,15 H 73,54 J 12,31 -- -- 1,0 TABLEAU 3 (SUITE) Ex n° Prépolymère (% Durcisseur P1 Durcisseur P2 Durcisseur P3 Durcisseur P4 (H actif/ NCO) aromatique (% en de MW (% en initié par une (% en non-amine (% en NCO) (P1) poids) élevée (P2) poids) amine (P3) poids) (P4) poids) stoechio- métrique 3 B 5,72 MbOCA 14,38 H 73,24 J 12,38 -- 1,0 4 B 5,72 MbOCA 33,33 H 57,32 J 9,35 -- 1,0 5 B 5,83 MbOCA 14,24 H 73,51 J 12,25 -- -- 1,0 6 B 5,83 MbOCA 14,24 H 77,15 J 8,61 -- -- 0,84 7 B 5,83 MCDEA 14,29 H 79,12 J 6,59 -- -- 1,0 8 B 5,83 MbOCA 21,94 H 66,91 J 11,15 -- -- 1,0 9 B 5,83 MbOCA 31,76 H 58,43 J 9,81 -- -- 1,0 B 5,83 MbOCA 43,67 H 48,47 J 7,86 -- 1,0 11 B 5,83 MbOCA 58,33 H 35,78 J 5,89 -- -- 1,0 12 B 5,83 MbOCA 14,24 H 79,14 J 6,62 -- -- 0,76 A est le prépolymère d'uréthane à terminaisons isocyanate Adiprene® LF667 comprenant une combinaison de 50/50 pourcents en poids d'Adiprene® LF950A et d'Adiprene® LF600D disponible chez Chemtura. B est le prépolymère d'uréthane à terminaisons isocyanate Adiprene® LFG963A disponible chez Chemtura Corporation. C est le prépolymère d'uréthane à terminaisons isocyanate Adiprene® LFG740D disponible chez Chemtura Corporation. 5 D est le prépolymère d'uréthane à terminaisons isocyanate Adiprene® LFG750D disponible chez Chemtura Corporation. E est le prépolymère d'uréthane à terminaisons isocyanate Adiprene® LF800A disponible chez Chemtura Corporation. F est le prépolymère d'uréthane à terminaisons isocyanate Adiprene® LF900A disponible chez Chemtura Corporation. G est le prépolymère à terminaisons TDI à base de polyéther Vibrathane® B628 disponible chez Chemtura Corporation. H est le durcisseur de polyol de masse moléculaire élevée Voralux® HF505 ayant une masse moléculaire moyenne en nombre, MN, de 11 400 et une 10 moyenne de six groupes hydroxyle par molécule disponible chez The Dow Chemical Company. I est le polytétraméthylèneétherglycol ayant une masse moléculaire moyenne en nombre, MN, de 2 000 et une moyenne de deux groupes hydroxyle par molécule disponible chez Sigma-Aldrich. J est le durcisseur de polyol initié par une amine Voranol® 800 ayant une masse moléculaire moyenne en nombre, MN, de 280 et une moyenne de quatre groupes hydroxyle par molécule disponible chez The Dow Chemical Company. K est le durcisseur de polyol ne contenant pas d'amine Voranol® 230-660 ayant une masse moléculaire moyenne en nombre, MN, de 255 et une moyenne de trois groupes hydroxyle par molécule disponible chez The Dow Chemical Company. On a analysé des fenêtres de détection de point limite préparées selon chacun des exemples comparatifs C1-C23 et des exemples 1-12 pour déterminer les propriétés physiques comme citées dans le TABLEAU 4. On a déterminé les données de transmission DPT400 et DPT800 citées pour les fenêtres de détection de points limite en utilisant l'équation suivante : DPT = (IW51- IWD) (IA5; - IAD) où IW5;, IWD, IA9, et IAD sont mesurés en utilisant un Verity SP2006 Spectral Interferometer comprenant un spectrographe SD1024F, une lampe flash au xénon et un câble de fibre optique de 3 mm en plaçant une surface émettant de la lumière du câble de fibre optique de 3 mm contre (et perpendiculairement à) une première face de la fenêtre de détection de point limite en un point d'origine, en dirigeant la lumière à une longueur d'onde donnée (c'est-à-dire respectivement à 400 nm et 800 nm) à travers l'épaisseur, Tw, de la fenêtre et en mesurant au point d'origine l'intensité de lumière de la longueur d'onde donnée réfléchie en retour à travers l'épaisseur de la fenêtre, Tw, à partir d'une surface disposée contre une seconde face de la fenêtre de détection de point limite sensiblement parallèle à la première face ; où IW51 est une mesure de l'intensité de lumière à la longueur d'onde donnée qui passe à travers la fenêtre à partir du point d'origine et qui est réfléchie à partir de la surface d'une galette témoin de silicium placée contre une seconde face de la fenêtre en retour à travers la fenêtre vers le point d'origine ; où IWD est une mesure de l'intensité de lumière à la longueur d'onde donnée qui passe à partir du point d'origine à travers la fenêtre et qui est réfléchie à partir de la surface d'un corps noir et en retour à travers la fenêtre vers le point d'origine ; où IA5; est une mesure de l'intensité de lumière à la longueur donnée qui passe à partir du point d'origine à travers une épaisseur d'air équivalente à l'épaisseur, Tw, de la fenêtre de détection de point limite, qui est réfléchie à partir de la surface d'une galette témoin de silicium placée perpendiculairement à la surface émettant de la lumière du câble de fibre optique de 3 mm et qui est réfléchie en retour à travers l'épaisseur d'air vers le point d'origine ; et, où IAD est une mesure de l'intensité de lumière à la longueur d'onde donnée réfléchie à partir d'un corps noir sur la surface émettant de la lumière du câble de fibre optique de 3 mm. Les données de densité citées pour les fenêtres de détection de point limite ont été déterminées selon ASTM D1622. Les données de dureté Shore D citées pour les fenêtres de détection de point limite ont été déterminées selon ASTM D2240. Les propriétés de traction des fenêtres de détection de point limite (c'est-à-dire résistance à la traction et allongement à la rupture) ont été mesurées selon ASTM D1708-10 en utilisant un dispositif de test mécanique Alliance RT/5 disponible chez MTS Systems Corporation comme une vitesse de tête transversale de 2,54 cm/min. La totalité du test des propriétés de traction a été réalisée dans un laboratoire contrôlé en température et en humidité, réglé à 23°C et à une humidité relative de 50 %. Tous les échantillons de test ont été conditionnés dans les conditions de laboratoire citées pendant 5 jours avant la réalisation du test. On a déterminé la résistance à la traction (MPa) et l'allongement à la rupture (%) cités pour chaque matériau de fenêtre de détection de point limite à partir de courbes de tractions-déformations de quatre échantillons dupliqués.20 TABLEAU 4 Ex. n° Propriétés DPT Densité Dureté Résistance Allongement à (en %) à (g/cm3) Shore D à la traction la rupture (%) (15s) (MPa) 400 nm 800 nm Cl 0 0 1,11 17 8,38 426 C2 0 0 1,10 24 8,56 279 C3 2 1 1,09 6 3,55 287 C4 0 18 1,08 22 9,78 306 C5 0 0 1,07 10 2,81 131 C6 0 0 1,08 14 6,70 223 C7 16 41 1,08 14 2,48 160 C8 0 0 1,11 12 6,02 199 C9 0 0 1,07 10 8,18 345 C10 0 9 1,06 17 2,17 146 C11 1 0 1,07 6 2,91 262 C12 38 68 1,13 32 18,68 807 C13 8 64 1,13 55 24,94 492 C14 48 70 1,06 28 12,22 768 C15 26 53 1,08 38 27,32 860 C16 0 0 1,10 24 7,58 362 C17 0 0 1,07 9 1,82 145 C18 0 4 1,10 23 6,30 284 C19 0 31 1,11 32 12,22 404 C20 0 0 1,08 29 8,96 337 C21 0 0 1,07 14 2,89 517 C22 0 10 1,09 28 7,08 247 C23 0 8 1,09 36 15,08 353 1 55 70 1,12 21 6,30 242 2 38 61 1,07 26 6,63 196 3 44 70 1,10 15 5,19 281 4 37 66 1,10 25 11,05 390 42 59 1,11 24 7,21 248 6 25 68 1,12 29 6,98 152 7 50 61 1,13 23 6,88 243 8 51 70 1,11 28 6,30 255 9 50 75 1,12 34 9,77 328 47 74 1,13 38 12,98 379 11 32 68 1,13 42 14,50 356 12 22 54 1,12 28 5,79 146 REVENDICATIONS1. Feutre de polissage mécano-chimique caractérisé en ce qu'il comprend : une couche de polissage présentant une surface de polissage ; et, une fenêtre de détection de point limite ; dans lequel la fenêtre de détection de point limite comprend un produit de réaction d'ingrédients, comprenant : un prépolymère d'uréthane à terminaisons isocyanate ayant de 2 à 6,5 % de groupes NCO qui n'ont pas réagi ; et, un système de durcisseur, comprenant : au moins 5 % en poids d'un durcisseur difonctionnel ; au moins 5 % en poids d'un durcisseur de polyol initié par une amine ayant au moins un atome d'azote par molécule et une moyenne d'au moins trois groupes hydroxyle par molécule ; et, de 25 à 90 % en poids d'un durcisseur de polyol de masse moléculaire élevée ayant une masse moléculaire moyenne en nombre, MN, de 2 000 à 100 000 et une moyenne de 3 à 10 groupes hydroxyle par molécule. 2. Feutre de polissage mécano-chimique selon la revendication 1, caractérisé en ce que la surface de polissage est adaptée pour polir un substrat choisi dans le groupe constitué d'au moins un parmi un substrat magnétique, un substrat optique et un substrat semi-conducteur. 3. Feutre de polissage mécano-chimique selon la revendication 1, caractérisé en ce que le système de durcisseur présente plusieurs groupes hydrogène réactif et le prépolymère d'uréthane à terminaisons isocyanate présente plusieurs groupes NCO qui n'ont pas réagi ; et, dans lequel un rapport stoechiométrique des groupes hydrogène réactif aux groupes NCO qui n'ont pas réagi est de 0,7 à 1,2. 4. Feutre de polissage mécano-chimique selon la revendication 1, caractérisé en ce que la fenêtre de détection de point limite présente une densité > 1 g/cm3 ; une porosité inférieure à 0,1 % en volume ; une dureté Shore D de 10 à 50 ; un allongement à la rupture 5. Feutre de polissage mécano-chimique selon la revendication 4, caractérisé en ce que la fenêtre de détection de point limite présente également une transmission à double passage à 400 nm, DPT400, de 25 à 100 °A). 6. Feutre de polissage mécano-chimique selon la revendication 2, caractérisé en ce que la surface de polissage présente un motif de rainures héliocoïdales formé dans celle-ci. 7. Procédé de fabrication d'un feutre de polissage mécano-chimique selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'il comprend : la fourniture d'une couche de polissage présentant une surface de polissage ; la fourniture d'un prépolymère d'uréthane à terminaisons isocyanate ayant de 2 à 6,5 % en poids de groupes NCO qui n'ont pas réagi ; la fourniture d'un système de durcisseur, comprenant : au moins 5 % en poids d'un durcisseur, de préférence aromatique, difonctionnel ; au moins 5 % en poids d'un durcisseur de polyol initié par une amine ayant au moins un atome d'azote par molécule et une moyenne d'au moins 3 groupes hydroxyle par molécule ; de 25 à 90 % en poids d'un durcisseur de polyol de masse molécule élevée ayant une masse moléculaire moyenne en nombre, MN, de 2 000 à 100 000 et une moyenne de 3 à 10 groupes hydroxyle par molécule ; la combinaison du prépolymère d'uréthane à terminaisons isocyanate et du système de durcisseur pour former une combinaison ; le laisser réagir de la combinaison pour former un produit ; la formation d'une fenêtre de détection de point limite à partir du produit ; l'assemblage de la fenêtre de détection de point limite à la couche de polissage pour fournir un feutre de polissage mécano-chimique. 8. Procédé selon la revendication 7, caractérisé en ce que la fenêtre de détection de point limite est une fenêtre intégrale. 9. Procédé de polissage d'un substrat, caractérisé en ce qu'il 35 comprend :la fourniture d'un appareil de polissage mécano-chimique présentant un disque , une source de lumière et un photocapteur; la fourniture d'au moins un substrat ; la fourniture d'un feutre de polissage mécano-chimique selon la revendication 1 ; l'installation sur le disque du feutre de polissage mécano-chimique ; éventuellement, la fourniture d'un milieu de polissage à une interface entre la surface de polissage et le substrat ; la création d'un contact dynamique entre la surface de polissage et le substrat, dans lequel au moins une certaine quantité de matière est retirée du substrat ; et, la détermination d'un point limite de polissage par transmission de lumière à partir de la source de lumière à travers la fenêtre de détection de point limite et l'analyse de la lumière réfléchie à partir de la surface du substrat en retour à travers la fenêtre de détection de point limite de manière incidente sur le photocapteur. 10. Procédé selon la revendication 9, caractérisé en ce que le au moins un substrat est choisi dans le groupe constitué d'au moins un parmi un substrat magnétique, un substrat optique et un substrat semi- conducteur.