Brevet FR3006453A1 — publié le 20141205

B12424 1 DISPOSITIF OPTIQUE ROTATEUR DE POLARISATION INTÉGRÉ DANS UN SUBSTRAT DE VERRE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CE DISPOSITIF Domaine La présente demande concerne le domaine de l'optique intégrée. Elle vise plus particulièrement un dispositif rotateur de polarisation intégré dans un substrat de verre, et un procédé 5 de fabrication de ce dispositif. Exposé de l'art antérieur Il est connu de réaliser des dispositifs optiques intégrés dans des substrats en verre, en introduisant des ions dans le substrat. Les ions ont pour effet de modifier localement 10 l'indice de réfraction du substrat, et donc d'affecter la propagation de la lumière dans celui-ci. Divers types de composants optiques peuvent ainsi être intégrés dans des substrats de verre, parmi lesquels des guides d'onde. Les dispositifs optiques intégrés dans des substrats 15 de verre sont généralement très sensibles à la polarisation de la lumière. Ainsi, dans de nombreux cas, il est souhaitable d'avoir un état de polarisation bien défini de la lumière. Il existe un besoin pour un dispositif optique intégré dans un substrat de verre, permettant de modifier de façon 20 contrôlée l'état de polarisation de la lumière. B12424 2 Résumé Un objet d'un mode de réalisation de la présente invention est de prévoir un dispositif optique rotateur de polarisation intégré dans un substrat de verre. Un autre objet d'un mode de réalisation de la présente invention est de prévoir un procédé de fabrication d'un dispositif optique rotateur de polarisation intégré dans un substrat de verre. Ainsi, un mode de réalisation prévoit un dispositif 10 optique comportant au moins un guide d'onde intégré dans un substrat en verre, dans lequel le guide a la forme d'un ruban torsadé autour de son axe central longitudinal. Selon un mode de réalisation, les axes propres du guide ont une première orientation au niveau d'une face d'entrée 15 du guide, et une deuxième orientation distincte de la première orientation au niveau d'une face de sortie du guide. Selon un mode de réalisation, le guide comprend, entre sa face d'entrée et sa face de sortie, une portion de transition dans laquelle les axes propres du guide tournent progressivement 20 autour de l'axe central longitudinal du guide pour passer de la première à la deuxième orientation. Selon un mode de réalisation, la rotation des axes propres du guide dans la portion de transition est de 1 degré tous les 20 à 100 pin. 25 Selon un mode de réalisation, le ruban a, en section transversale, une forme sensiblement ovale ou rectangulaire. Selon un mode de réalisation, la largeur du ruban est comprise entre 0,5 et 10 pin, et l'épaisseur du ruban est comprise entre 0,5 et 5 gm. 30 Selon un mode de réalisation, le guide comprend une région du substrat dans laquelle des ions ont été introduits pour modifier localement l'indice de réfraction du substrat. Selon un mode de réalisation, les ions sont des ions argent ou thallium. B12424 3 Selon un mode de réalisation, le guide est enterré à une profondeur d'au moins 5 gm sous une face supérieure du substrat. Un autre mode de réalisation prévoit un procédé de 5 fabrication d'un dispositif optique, comportant : former un guide d'onde en forme de ruban dans un substrat en verre, en introduisant dans le substrat des ions modifiant localement l'indice de réfraction du substrat ; et enterrer au moins une portion du guide dans le substrat en lui appliquant un champ 10 électrique d'intensité variable en section transversale du guide. Selon un mode de réalisation, lors de l'étape d'enterrage, au moins une portion du guide reçoit un champ électrique variable en section longitudinale du guide. 15 Selon un mode de réalisation, l'étape de formation du guide comprend une étape de diffusion d'ions depuis une face du substrat. Selon un mode de réalisation, le procédé comporte en outre la formation d'un masque sur au moins une face du 20 substrat, la forme du masque étant adaptée à conférer la variabilité au champ électrique reçu par le guide lors de l'étape d'enterrage. Selon un mode de réalisation, en vue de dessus, le masque est situé à une distance non nulle du guide. 25 Selon un mode de réalisation, le masque comprend, en regard d'une première portion du guide, une portion présentant, en vue de dessus, un bord parallèle à la première portion du guide, et, en regard d'une deuxième portion du guide, une portion présentant, en vue de dessus, un bord courbe s'éloignant 30 progressivement de la deuxième portion du guide. Brève description des dessins Ces caractéristiques et avantages, ainsi que d'autres, seront exposés en détail dans la description suivante de modes de réalisation particuliers faite à titre non limitatif en 35 relation avec les figures jointes parmi lesquelles : B12424 4 les figures LA à 1D représentent de façon schématique un exemple d'un guide d'onde optique intégré dans un substrat en verre ; les figures 2A à 2E représentent de façon schématique 5 un exemple d'un mode de réalisation d'un dispositif optique rotateur de polarisation intégré dans un substrat en verre ; et les figures 3, 4A, 4B, aA, 5B, 6A et 6B illustrent de façon schématique des étapes d'un exemple d'un procédé de fabrication d'un dispositif optique rotateur de polarisation 10 intégré dans un substrat en verre. Par souci de clarté, de mêmes éléments ont été désignés par de mêmes références aux différentes figures et, de plus, comme cela est habituel dans la représentation des dispositifs optiques intégrés, les diverses figures ne sont pas 15 tracées à l'échelle. Description détaillée Dans la suite de la description, sauf indication contraire, les termes "approximativement", "sensiblement", "environ" et "de l'ordre de" signifient "à 10 % près". 20 Les figures LA à 1D illustrent schématiquement un exemple d'un dispositif optique comportant un substrat de verre 101, et un guide d'onde 103 intégré dans le substrat 101. La figure LA est une vue de dessus, et les figures 1B, 1C et 1D sont des vues en coupe respectivement selon les plans B-B, C-C 25 et D-D de la figure LA. Le guide d'onde 103 est constitué par une région du substrat 101 dans laquelle des ions ont été introduits pour modifier localement les propriétés optiques du substrat, et notamment son indice de réfraction. Dans cet exemple, le guide 30 d'onde 103 a la forme d'un ruban rectiligne à section transversale de forme approximativement ovale, et est disposé dans le substrat 101 parallèlement à une face supérieure (dans l'orientation des figures) du substrat. Dans l'exemple représenté, le guide 103 est enterré dans le substrat 101, par 35 exemple à une profondeur de l'ordre de 5 à 20 gm de la face B12424 supérieure du substrat. La largeur 1 et l'épaisseur e du ruban formant le guide peuvent être relativement faibles. A titre d'exemple, la largeur 1 du guide est de l'ordre de 0,5 à 10 lm, et l'épaisseur e du guide est de l'ordre de 0,5 à 5 lm. 5 A titre d'exemple, le guide 103 peut être réalisé par une méthode dite d'échange d'ions, dans laquelle des ions initialement présents dans le substrat de verre 101, tels que Na+ (sodium) et/ou K+ (potassium), sont remplacés par d'autres ions, par exemple Ag + (argent) et/ou Tl + (thallium). Pour cela, le substrat peut être traité avec des bains de sels fondus contenant les ions à substituer aux ions initialement contenus dans le substrat. Ce traitement peut être effectué à une température relativement élevée, par exemple comprise entre 200 et 600°C, pour favoriser la diffusion des ions dans le verre. La durée de traitement dépend du profil d'indice de réfraction (et donc du profil de concentration) souhaité. Pendant le traitement, le substrat peut être revêtu d'un masque délimitant la forme du guide en vue de dessus. Un tel traitement permet d'obtenir un guide d'onde affleurant la surface du substrat. Pour obtenir un guide d'onde enterré tel que celui représenté sur les figures LA à 1D, on peut par exemple prévoir une étape supplémentaire d'application d'un champ électrique pour faire migrer en profondeur les espèces ioniques introduites dans le substrat. Le verre du substrat 101 est par exemple un verre borosilicate, contenant des ions Na+ et/ou K+. Dans la présente description, on utilisera les conventions et notations suivantes. On définit, pour une onde électromagnétique optique ayant des composantes de champ électrique et de champ magnétique orthogonales à la direction de propagation, se propageant dans un guide d'onde optique en forme de ruban, un état de polarisation principal Pl et un état de polarisation secondaire P2. Dans l'état de polarisation principal Pl (ou considéré comme tel quand le champ est très majoritairement polarisé Pl), la composante de champ électrique E est parallèle à la plus grande direction privilégiée du ruban B12424 6 en section transversale ou largeur du ruban (par exemple le plus grand axe pour un ruban à section elliptique ou ovale ou le plus grand côté pour un ruban à section rectangulaire). Dans l'état de polarisation secondaire P2 (ou considéré comme tel quand le champ est très majoritairement polarisé P2), la composante de champ électrique est parallèle à la plus petite direction privilégiée du ruban en section transversale ou épaisseur du ruban (par exemple le plus petit axe pour un ruban à section elliptique ou ovale ou le plus petit côté pour un ruban à section rectangulaire). Ceci est illustré en figure 1C. En section transversale du guide, on appellera ci-après les axes propres du guide un axe principal, ou axe Pl, passant par la plus grande direction privilégiée (ou largeur) du ruban, et un axe secondaire, ou axe P2, orthogonal à l'axe Pl, passant par la plus petite direction privilégiée (ou épaisseur) du ruban. Dans un guide d'onde optique en ruban du type décrit en relation avec les figures LA à 1D, les états de polarisation Pl et P2 ne se propagent généralement pas à la même vitesse. On parle alors de dispersion en polarisation ou, de manière équivalente, de biréfringence du guide d'onde. Ainsi, pour une lumière ayant une polarisation rectiligne arbitraire, comportant une composante Pl et une composante P2, le guide induit un déphasage entre la composante Pl et la composante P2, ce qui se traduit par une modification de l'état de polarisation en sortie du guide d'onde. Pour éviter des modifications de polarisation non contrôlées de la lumière, les guides d'onde du type décrit en relation avec les figures LA à 1D sont de préférence utilisés pour transporter des signaux polarisés exclusivement Pl (ou quasi Pl) ou exclusivement P2 (ou quasi P2). En effet, pour de tels signaux, la polarisation du signal est préservée par le guide. Il existe un besoin pour des dispositifs optiques intégrés dans des substrats de verre, permettant de modifier de façon contrôlée l'état de polarisation d'un signal lumineux. B12424 7 Les figures 2A à 2E représentent de façon schématique un exemple d'un mode de réalisation d'un dispositif d'optique intégrée 200 permettant de modifier de façon contrôlée l'état de polarisation d'un signal lumineux. La figure 2A est une vue de dessus, et les figures 2B, 2C, 2D et 2E sont des vues en coupe respectivement selon les plans B-B, C-C, D-D et E-E de la figure 2A. Le dispositif 200 comprend un substrat 201 en verre, et un guide d'onde 203 intégré dans le substrat 201. Comme dans l'exemple des figures LA à 1D, le guide d'onde 203 comprend une région du substrat 201 en forme de ruban, dans laquelle des ions ont été introduits pour modifier localement les propriétés optiques du verre. Dans cet exemple, en section transversale, le guide d'onde 203 a une forme ovale ou elliptique, de dimensions similaires à celles du guide d'onde 103 des figures LA à 1D. On notera toutefois que les modes de réalisation décrits ci-après s'appliquent aussi à des guides d'onde ayant, en section transversale, d'autres formes, par exemple une forme approximativement rectangulaire, et/ou d'autres dimensions. Dans cet exemple, la surface en section transversale du guide 203 est approximativement constante sur toute la longueur du guide. Selon un aspect des modes de réalisation décrit, le guide 203 a la forme générale d'un ruban torsadé autour de son axe longitudinal central, c'est-à-dire l'axe passant par les centres de ses sections transversales, correspondant à l'axe principal de propagation de la lumière. On notera que l'axe du guide n'est pas nécessairement rectiligne. Ainsi, au niveau d'une face d'entrée E de la lumière dans le dispositif 200, les axes propres Pl et P2 du guide 203 ont une première orientation, ou orientation d'entrée, et, au niveau d'une face de sortie S de la lumière du dispositif 200, les axes propres Pl et P2 du guide 203 ont une deuxième orientation, ou orientation de sortie, différente de l'orientation d'entrée. Dans l'exemple représenté, l'axe Pl du guide 203 est approximativement parallèle à la face supérieure B12424 8 du substrat 201 au niveau de l'entrée E du dispositif, et forme un angle d'approximativement 45 degrés avec la face supérieure du substrat 201 au niveau de la sortie S du dispositif. Entre l'entrée E et la sortie S du guide d'onde 203, se trouve une zone de transition dans laquelle les axes propres Pl et P2 tournent lentement par rapport à l'axe central longitudinal, pour passer progressivement de leur orientation d'entrée à leur orientation de sortie. Les essais effectués par les inventeurs ont montré que lorsque l'on injecte, à l'entrée du guide d'onde 203, un signal lumineux polarisé Pl, la polarisation du signal évolue tout au long du trajet dans le guide 203, en suivant sensiblement la rotation de l'axe propre Pl du guide, c'est-à-dire qu'elle tourne progressivement autour de l'axe longitudinal central du guide. Un phénomène similaire se produit lorsqu'un signal polarisé P2 est injecté à l'entrée du guide d'onde 203 (la polarisation du signal suit sensiblement la même évolution que l'axe propre P2 du guide). Ainsi, le dispositif 200 permet de faire tourner d'un angle prédéfini, sensiblement égal à l'angle entre l'orientation d'entrée et l'orientation de sortie des axes propres du guide 203, la polarisation d'un signal reçu à l'entrée du dispositif avec une polarisation Pl ou P2 par rapport à la section transversale d'entrée du guide 203. Dans l'exemple représenté, la rotation de polarisation subie par le signal est d'approximativement 45 degrés. Toutefois, selon les besoins, on pourra augmenter ou diminuer la torsion du guide d'onde 203, pour obtenir d'autres angles de rotation de polarisation. Pour obtenir une rotation de polarisation adiabatique, c'est-à-dire sans pertes d'énergie ou avec de faibles pertes, on prévoit de préférence une rotation lente des axes propres du guide 203 entre l'entrée et la sortie du dispositif. A titre d'exemple, on peut prévoir une rotation continue ou quasi continue des axes propres du guide 203 d'environ 1 degré tous B12424 9 les 20 à 100 lm, ce qui revient à prévoir une zone torsadée s'étirant sur environ 1 à 5 millimètres de longueur pour une rotation de polarisation de 45 degrés. Ces valeurs peuvent être modifiées, notamment en fonction des conditions de guidage - confinement de la lumière dans le guide et biréfringence. Pour obtenir des pertes faibles, il est préférable que le guide d'onde 203 soit fortement biréfringent, par exemple qu'il propage la lumière polarisée Pl de façon nettement privilégiée par rapport à la lumière polarisée P2. Ceci permet de limiter les couplages parasites entre les modes Pl et P2 lors de la rotation des axes propres du guide. Les figures 3, 4A, 4B, SA, 5B, 6A et 6B illustrent de façon schématique des étapes d'un exemple d'un procédé de fabrication d'un dispositif optique rotateur de polarisation du 15 type décrit en relation avec les figures 2A à 2E. Les figures 3, 4A et 4B illustrent une structure de départ comportant un substrat 201 en verre, dans lequel un guide d'onde optique 203 a préalablement été intégré. La figure 3 est une vue de dessus de la structure, et les figures 4A et 4B sont 20 des vues en coupe selon les plans A-A et B-B de la figure 3 respectivement. Le guide d'onde 203 comprend une région du substrat 201 en forme de ruban, dans laquelle des ions ont été introduits pour modifier localement les propriétés optiques du substrat. A 25 ce stade du procédé, le guide d'onde 203 a la forme d'un ruban rectiligne dont une face supérieure affleure à la surface du substrat 201. Le guide d'onde 203 est par exemple réalisé par une méthode d'échange d'ions du type décrit en relation avec les figures LA à 1D. Toutefois, toute autre méthode permettant 30 d'introduire des ions dans le substrat 201 pour modifier localement son indice de réfraction peut être utilisée pour former le guide 203, par exemple une méthode d'implantation ionique. A ce stade du procédé, les axes propres Pl et P2 du guide d'onde 203 ont la même orientation sur toute la longueur 35 du guide 203. Dans cet exemple, l'axe Pl est parallèle à la B12424 10 surface du substrat, et l'axe P2 est orthogonal à la surface du substrat, comme cela apparaît notamment sur les vues en coupe des figures 4A et 4B. Après la formation du guide 203, un masque 305 est formé en regard d'une partie de la face supérieure du substrat 201. Le masque 305 a pour rôle, lors d'une étape ultérieure d'enterrage d'au moins une partie du guide 203 par application d'un champ électrique, de moduler l'intensité du champ électrique reçu par le guide. Le masque 305 peut être en un matériau diélectrique, par exemple en oxyde de silicium (Si02), en alumine (A1203) ou en un polymère diélectrique. De façon alternative, le masque 305 peut être en un matériau électriquement conducteur, par exemple en aluminium. Les modes de réalisation proposés ne se limitent toutefois pas à ces matériaux particuliers. On notera en outre que l'effet recherché de modulation du champ électrique d'enterrage du guide, qui sera décrit plus en détail ci-après, peut aussi être obtenu à l'aide d'un masque disposé du côté de la face inférieure du substrat. Selon un aspect d'un mode de réalisation, pour obtenir 20 un guide d'onde torsadé du type décrit en relation avec les figures 2A à 2E, on prévoit ici : - D'enterrer une portion L3 du guide 203 à l'aide d'un champ électrique d'intensité variable en section transversale du guide, de façon à enfouir l'un des bords latéraux de la 25 portion L3 du guide plus profondément que l'autre, et donc à incliner les axes propres de la portion L3 par rapport à leur orientation avant enterrage. De préférence, l'intensité du champ électrique d'enterrage appliqué à la portion L3 du guide varie linéairement ou approximativement linéairement en 30 section transversale du guide. D'enterrer une portion Li du guide 203 à l'aide d'un champ électrique d'intensité uniforme en section transversale du guide, de façon à enfouir la portion Li sans modifier l'orientation de ses axes propres. B12424 11 - D'enterrer une portion L2 du guide 203, située entre la portion Li et la portion L3, à l'aide d'un champ électrique dont la variabilité d'intensité en section transversale du guide part d'une valeur approximativement nulle (champ uniforme en section transversale du guide) au niveau de la jonction avec la portion Li, et augmente progressivement lorsque l'on se rapproche de la portion L3, jusqu'à atteindre, au niveau de la jonction avec la portion L3, la même variabilité, en section transversale, que celle appliquée à la portion L3. Ceci permet d'obtenir une portion L2 torsadée formant une zone de transition dans laquelle les axes propres du guide tournent progressivement autour de l'axe longitudinal du guide, pour passer de l'orientation d'entrée du dispositif (portion L1) à l'orientation de sortie (portion L3). La forme du masque 305 est choisie pour permettre d'obtenir la modulation recherchée du champ électrique d'enterrage du guide, étant entendu que les zones masquées du substrat sont soumises à un champ électrique plus faible que les zones non masquées, et que, au voisinage des bords du masque, se trouve une zone de transition dans laquelle l'intensité du champ électrique varie en fonction de la distance au bord du masque. C'est cette variabilité dans la zone de transition qui est utilisée pour obtenir l'effet recherché d'enterrage à profondeur variable en section transversale du guide dans l'exemple des figures 3 à 6B. En pratique, au bord du masque (à l'interface entre une zone masquée et une zone non masquée), le champ électrique est relativement intense en raison d'un effet de pointe. Lorsque l'on s'éloigne du bord du masque, le champ décroit en fonction de la distance au bord du masque, puis se stabilise à la fin de la zone de transition. Dans l'exemple représenté, le masque 305 comprend, en regard de la portion L3 du guide, une portion 305a ayant, vu de dessus, la forme d'une bande rectangulaire, parallèle à l'axe longitudinal du guide. Dans cet exemple, en vue de dessus, une B12424 12 distance d, par exemple de l'ordre de 1 à 5 pin, sépare la portion 305a du masque de la portion L3 du guide. Dans cet exemple, le masque 305 comprend en outre, en regard de la portion L2 du guide 203, une portion 305b 5 présentant un bord courbe situé à la distance d du guide au niveau de la jonction entre la portion L3 et la portion L2, et s'éloignant progressivement du guide lorsque au fur et à mesure que l'on se rapproche de la portion Li. L'augmentation progressive de la distance entre le bord du masque et le guide 10 d'onde, permet d'obtenir, dans la portion L2 du guide, la transition recherchée entre l'orientation d'entrée et l'orientation de sortie des axes propres du guide. Dans cet exemple, le masque 305 est interrompu en regard de la portion Li du guide (ou suffisamment éloigné de la 15 portion Li du guide), de façon que le champ reçu par la portion Li du guide soit uniforme. Les figures SA et 5B sont des vues en coupe selon les mêmes plans que les figures 4A et 4B respectivement, illustrant l'étape d'enterrage du guide d'onde 203 proprement dite. Lors de 20 cette étape, un champ électrique comportant une composante 307 approximativement uniforme et orthogonale à la surface du substrat 201 dans cet exemple, est appliqué à la structure illustrée aux figures 3, 4A et 4B. Au niveau du guide d'onde 203, le champ électrique est modulé en intensité par le masque 25 305. En particulier, comme cela apparaît sur les figures SA et 5B respectivement, le champ appliqué à la portion Li du guide est sensiblement uniforme en section transversale du guide, et le champ appliqué à la portion L3 du guide varie en section transversale du guide. 30 Les figures 6A et 6B sont des vues en coupe selon les mêmes plans que les figures 4A et 4B respectivement, illustrant la disposition du guide d'onde 203 dans le substrat 201 à l'issue de l'étape d'enterrage des figures SA et 5B. Dans cet exemple, la forme du guide, à l'issue de l'étape d'enterrage, 35 est similaire à celle décrite en relation avec les figures 2A à B12424 13 2E. En particulier, comme cela apparaît sur les figures 6A et 6B respectivement, l'axe Pl dans la portion Li du guide est approximativement parallèle à la surface du substrat 201, et l'axe Pl de la portion L3 du guide forme un angle d'approximativement 45 degrés avec la surface du substrat 201. Après l'étape d'enterrage du guide, le masque 305 peut être retiré. Pour faire varier les conditions d'enterrage du guide d'onde 203, les principaux paramètres sont la durée d'enterrage, l'intensité du champ électrique appliqué, la distance (en vue de dessus) entre le masque et le guide à enterrer, et la température. A titre d'exemple, l'étape d'enterrage est effectuée à une température relativement élevée, par exemple comprise entre 200 et 600°C. Un avantage des modes de réalisation proposés est qu'ils permettent d'obtenir un dispositif rotateur de polarisation intégré dans un substrat de verre. Un autre avantage est que le dispositif rotateur de polarisation proposé peut, le cas échéant, être réalisé en 20 introduisant une seule espèce ionique, par exemple Ag+ ou Tl+ dans le substrat en verre de départ. Un autre avantage est que le dispositif rotateur de polarisation proposé est relativement compact. En effet, l'encombrement du dispositif proposé est du même ordre de 25 grandeur que celui d'un simple guide d'onde rectiligne intégré dans un substrat en verre. Un autre avantage est que le dispositif rotateur de polarisation proposé peut aisément être enterré dans le substrat, ce qui permet de réduire les pertes lors de la 30 propagation de la lumière dans le dispositif, et facilite le couplage avec des fibres optiques d'un dispositif extérieur. On notera que dans les exemples décrits ci-dessus, la profondeur d'enterrage du guide d'onde 203 est sensiblement constante longitudinalement. Les modes de réalisation proposés ne se 35 limitent toutefois pas à ce cas particulier. Selon les besoins, B12424 14 on pourra prévoir d'enterrer plus profondément que d'autres certaines portions longitudinales du dispositif, en prévoyant une zone de transition en pente douce entre les portions profondes et les portions moins profondes du dispositif. On 5 notera que le procédé proposé permet aisément d'enterrer le rotateur de polarisation à une profondeur choisie, en même temps que l'on réalise la torsion des axes propres du guide d'onde initial. L'enterrage du dispositif et la torsion des axes propres du guide initial sont de préférence réalisés lors d'une 10 même étape. Des modes de réalisation particuliers ont été décrits. Diverses variantes et modifications apparaîtront à l'homme de l'art. En particulier, on a décrit, en relation avec les 15 figures 3, 4A, 4B, SA, 5B, 6A et 6B, un mode de réalisation préféré d'un procédé de fabrication d'un dispositif rotateur de polarisation intégré dans un substrat en verre. Toutefois, l'homme de l'art saura prévoir d'autres procédés de fabrication permettant d'obtenir un dispositif rotateur de polarisation du 20 type décrit ci-dessus, c'est-à-dire comportant un guide d'onde en forme de ruban tordu hélicoïdalement autour de son axe longitudinal central, intégré dans un substrat en verre. A titre d'exemple, après l'étape susmentionnée de formation d'un premier guide d'onde rectiligne affleurant la 25 surface du substrat (figures 3, 4A et 4B), au lieu d'enterrer le guide par application d'un champ électrique d'intensité variable, on peut prévoir une deuxième étape d'introduction d'ions, visant à rétablir l'indice de réfraction d'origine du substrat dans une partie supérieure du guide. Lors de cette 30 deuxième étape, le profil de diffusion des ions peut être choisi de façon que la partie (inférieure) du premier guide non affectée par la deuxième diffusion ait la forme en ruban hélicoïdal recherchée. A titre de variante, après l'étape susmentionnée de 35 formation d'un premier guide d'onde rectiligne affleurant la B12424 15 surface du substrat (figures 3, 4A et 4B), au lieu d'enterrer le guide par application d'un champ électrique d'intensité variable, on peut prévoir de graver localement une partie supérieure du guide pour y insérer un autre matériau rétablissant l'indice de réfraction d'origine du substrat. A titre de variante, après l'étape susmentionnée de formation d'un premier guide d'onde rectiligne affleurant la surface du substrat (figures 3, 4A et 4B), au lieu d'enterrer le guide par application d'un champ électrique d'intensité variable, on peut prévoir d'enterrer le guide par rediffusion thermique des ions, en appliquant à certaines portions du guide, un gradient de température variable en section transversale du guide, de façon à obtenir l'effet recherché de rotation des axes propres du guide. A titre de variante, on peut prévoir un procédé de fabrication comportant plusieurs itérations successives d'un cycle comprenant la formation et l'enterrage (par application d'un champ électrique uniforme) d'une portion longitudinale élémentaire, de petite section transversale, d'un guide d'onde. Les portions élémentaires successivement formées peuvent être légèrement décalées les unes par rapport aux autres, et enterrées plus ou moins profondément de façon à obtenir un guide complet ayant la forme en ruban torsadé recherchée. A titre de variante, on peut prévoir d'enterrer le guide sous un champ électrique uniforme (sans masquage), mais d'utiliser plusieurs espèces ioniques de mobilité différentes pour réaliser le guide d'onde rectiligne initial, les espèces ioniques étant disposées de façon à obtenir, après enterrage sous champ uniforme, la configuration hélicoïdale recherchée. A titre de variante, on peut prévoir l'utilisation d'une seconde espèce ionique à mobilité relativement faible, créant localement un plot de contrainte ou barrage forçant les ions d'une première espèce à mobilité plus élevée, ou ions du guide, à se détourner selon une trajectoire contrôlée lors d'un enterrage sous champ électrique uniforme. B12424 16 En outre, d'autres façons d'obtenir un champ électrique variable que celles décrites ci-dessus peuvent être utilisées. Par exemple, le guide peut être revêtu d'un masque d'épaisseur variable et/ou de porosité variable pour moduler le champ. A titre de variante, le substrat peut avoir une épaisseur, ou une composition (et donc une permittivité) variable de façon à courber et moduler les lignes de champ. REVENDICATIONS1. Dispositif optique (200) comportant au moins un guide d'onde (203) intégré dans un substrat (201) en verre, dans lequel le guide (203) a la forme d'un ruban torsadé autour de son axe central longitudinal. 2. Dispositif (200) selon la revendication 1, dans lequel les axes propres (Pl, P2) du guide (203) ont une première orientation au niveau d'une face d'entrée (E) du guide (203), et une deuxième orientation distincte de la première orientation au niveau d'une face de sortie (S) du guide. 3. Dispositif (200) selon la revendication 2, dans lequel le guide (203) comprend, entre sa face d'entrée (E) et sa face de sortie (S), une portion (L2) de transition dans laquelle les axes propres (Pl, P2) du guide (203) tournent progressivement autour de l'axe central longitudinal du guide pour passer de la première à la deuxième orientation. 4. Dispositif (200) selon la revendication 3, dans lequel la rotation des axes propres (Pl, P2) du guide dans la portion (L2) de transition est de 1 degré tous les 20 à 100 pin. 5. Dispositif (200) selon l'une quelconque des 20 revendications 1 à 4, dans lequel ledit ruban a, en section transversale, une forme sensiblement ovale ou rectangulaire. 6. Dispositif (200) selon l'une quelconque des revendications 1 à 5, dans lequel la largeur du ruban est comprise entre 0,5 et 10 pin, et l'épaisseur du ruban est 25 comprise entre 0,5 et 5 pin. 7. Dispositif (200) selon l'une quelconque des revendications 1 à 6, dans lequel le guide (203) comprend une région du substrat (201) dans laquelle des ions ont été introduits pour modifier localement l'indice de réfraction du 30 substrat (201). 8. Dispositif (200) selon la revendication 7, dans lequel lesdits ions sont des ions argent ou thallium. 9. Dispositif (200) selon l'une quelconque des revendications 1 à 8, dans lequel le guide (203) est enterré àB12424 18 une profondeur d'au moins 5 gm sous une face supérieure du substrat (201). 10. Procédé de fabrication d'un dispositif optique (200), comportant : former un guide d'onde (203) en forme de ruban dans un substrat (201) en verre, en introduisant dans le substrat des ions modifiant localement l'indice de réfraction du substrat (201) ; et enterrer au moins une portion (L2, L3) du guide (203) 10 dans le substrat (201) en lui appliquant un champ électrique (307) d'intensité variable en section transversale du guide. 11. Procédé selon la revendication 10, dans lequel, lors de l'étape d'enterrage, au moins une portion (L2) du guide reçoit un champ électrique variable en section longitudinale du 15 guide (203). 12. Procédé selon la revendication 10 ou 11, dans lequel l'étape de formation du guide (203) comprend une étape de diffusion d'ions depuis une face du substrat (201). 13. Procédé selon l'une quelconque des revendications 20 10 à 12, comportant en outre la formation d'un masque (305) sur au moins une face du substrat (201), la forme dudit masque (305) étant adaptée à conférer ladite variabilité au champ électrique reçu par le guide (203) lors de l'étape d'enterrage. 14. Procédé selon la revendication 13, dans lequel, en 25 vue de dessus, le masque (305) est situé à une distance (d) non nulle du guide (203). 15. Procédé selon la revendication 13 ou 14, dans lequel le masque comprend, en regard d'une première portion (L3) du guide (203), une portion (305a) présentant, en vue de dessus, 30 un bord parallèle à ladite première portion (L3) du guide, et, en regard d'une deuxième portion (L2) du guide (203), une portion (305b) présentant, en vue de dessus, un bord courbe s'éloignant progressivement de ladite deuxième portion (L2) du guide.