Brevet FR2981497A1 — publié le 20130419

SYSTEME D'IRRADIATION PAR FAISCEAU D'ENERGIE ET MECANISME DE TRANSFERT D'OUVRAGE Domaine technique La présente invention concerne un système d'irradiation par faisceau d'énergie pour irradier un faisceau d'énergie, tel qu'un dispositif d'implantation ionique ou un dispositif d'irradiation par faisceau d'électrons, et un mécanisme de transport d'ouvrage utilisé pour celui-ci. Art associé Dans un dispositif d'implantation ionique de type d'une seule pièce divulgué dans le document de brevet 1, deux mécanismes d'entraînement de plaquettes sont fournis de manière à mettre en orbite des plaquettes indépendamment les unes des autres. En outre, les orbites de deux plaquettes sont adaptées pour correspondre l'une à l'autre dans une région d'irradiation par faisceau ionique et la vitesse d'orbite ou la phase d'orbite de chaque plaquette est commandée. De cette manière, l'une quelconque des deux plaquettes passe toujours à travers la région d'irradiation par faisceau ionique. Il est donc possible d'accroître le rendement d'irradiation du faisceau ionique sur les plaquettes. Et, dans le document de brevet 1, les orbites des plaquettes correspondent l'une à l'autre dans une portion d'orbite droite comprenant une région d'irradiation par faisceau et une portion autre que la portion d'orbite droite est divisée en deux parties des deux côtés de la portion d'orbite droite. Document de brevet 1 : JP-A-10-134 761 Résumé Néanmoins, selon cette configuration, il y a un 5 problème en ce qu'un espace suffisant pour assurer deux orbites est nécessaire et il est donc difficile d'obtenir un dispositif d'implantation ionique compact au-delà d'un certain niveau. Et, un tel problème est généralement commun à un système d'irradiation par 10 faisceau d'énergie pour irradier un faisceau d'énergie sur un ouvrage ainsi qu'au système d'implantation ionique. La présente invention a été faite pour résoudre le problème susmentionné, et un objet de la présente 15 invention consiste à prévoir un système d'irradiation par faisceau d'énergie capable de permettre une configuration remarquablement compacte tout en irradiant efficacement un faisceau d'énergie sur un ouvrage. 20 C'est-à-dire, un système d'irradiation par faisceau d'énergie selon la présente invention comprend un mécanisme d'émission de faisceau d'énergie et des premier et deuxième mécanismes de mise en orbite. Le mécanisme d'émission de faisceau d'énergie émet un 25 faisceau d'énergie vers une région d'irradiation prédéterminée pour irradier au moins un premier ouvrage et au moins un deuxième ouvrage en tant qu'objets. Le premier mécanisme de mise en orbite met en orbite l'au moins un premier ouvrage le long d'une première orbite 30 prédéterminée comprenant la région d'irradiation. Le deuxième mécanisme de mise en orbite met en orbite l'au moins un deuxième ouvrage le long d'une deuxième orbite prédéterminée comprenant la région d'irradiation. Une première région entourée par la première orbite et une deuxième région entourée par la deuxième orbite se 5 chevauchent au moins partiellement, comme on le voit à partir d'une direction perpendiculaire aux surfaces orbitales formées par les première et deuxième orbites. Dans les présentes, le terme « chevauchement » n'inclut pas un état dans lequel la première région 10 entourée par la première orbite et la deuxième région entourée par la deuxième orbite sont en contact l'une avec l'autre. Dans un mode de réalisation spécifique, chacune des première et deuxième orbites comprend des orbites 15 droites parallèles l'une à l'autre et des orbites semi-circulaires reliant des extrémités des orbites droites. Dans la première orbite, une orbite semi-circulaire a un premier centre et l'autre orbite semi-circulaire a un deuxième centre. Dans la deuxième orbite, une orbite 20 semi-circulaire a un troisième centre et l'autre orbite semi-circulaire a un quatrième centre. Le premier centre de la première orbite correspond au troisième centre de la deuxième orbite, et le deuxième centre de la première orbite correspond au quatrième centre de la 25 deuxième orbite, comme on le voit à partir de la direction perpendiculaire aux surfaces orbitales des première et deuxième orbites. Selon cette configuration, les deux orbites correspondent l'une à l'autre, et il est ainsi possible 30 de contribuer à la compacité. En outre, des rayons de rotation d'orbites semi-circulaires des deux orbites peuvent être approximés l'un à l'autre même si les deux orbites ne correspondent pas l'une à l'autre. Il est donc possible de contribuer en outre à la compacité. Un mode de réalisation préféré avec la plus grande 5 contribution à la compacité a une configuration dans laquelle chacune des première et deuxième orbites correspondent l'une à l'autre. Pour accroître le rendement d'irradiation du faisceau d'énergie en utilisant deux orbites, il est 10 préférable que l'au moins un deuxième ouvrage entre dans la région d'irradiation avant que l'au moins un premier ouvrage qui est entré dans la région d'irradiation ne traverse complètement la région d'irradiation. 15 Dans ce cas, lorsque l'au moins un premier ouvrage et l'au moins un deuxième ouvrage sont agencés tous deux côte à côte selon des directions orbitales respectivement de la première orbite et de la deuxième orbite, le faisceau d'énergie peut être irradié sur un 20 ouvrage de l'au moins un premier ouvrage ou de l'au moins un deuxième ouvrage pendant une plus longue durée. Pendant ce temps, on peut se permettre de mettre en orbite et de déplacer l'autre ouvrage à une position derrière l'ouvrage en question. Il est donc facile 25 d'irradier continuellement le faisceau d'énergie. Dans ce cas où chacun de l'au moins un premier ouvrage et de l'au moins un deuxième ouvrage revient à son angle de rotation initial en orbitant une fois sur une orbite correspondante, comme on le voit dans la 30 direction perpendiculaire aux surfaces orbitales, la torsion ou la déconnexion du câblage à cause de la torsion peut être empêchée. En plus des effets susmentionnés, pour réduire l'influence du faisceau d'énergie en traversant le côté arrière de la région d'irradiation du faisceau d'énergie, chacun de l'au moins un premier ouvrage et de l'au moins un deuxième ouvrage a un côté d'irradiation par faisceau d'énergie faisant face à une direction d'irradiation par faisceau d'énergie et un côté arrière du côté d'irradiation par faisceau d'énergie, et tourne de 180 degrés tout en se déplaçant de la région d'irradiation à une région de côté arrière lorsque le côté arrière fait face à la direction d'irradiation par faisceau d'énergie. Et, chacun de l'au moins un premier ouvrage et de l'au moins un deuxième ouvrage tourne de moins 180 degrés tout en se déplaçant de la région de côté arrière à la région d'irradiation de sorte que chacun de l'au moins un premier ouvrage et de l'au moins un deuxième ouvrage tourne à son angle de rotation initial. Effet de l'invention Selon la présente invention ainsi configurée, deux mécanismes de mise en orbite sont prévus et il est ainsi possible d'améliorer le rendement d'irradiation du faisceau d'énergie. De plus, puisqu'une région de la première orbite et une région de la deuxième orbite dans deux mécanismes de mise en orbite se chevauchent au moins partiellement, le dimensionnement d'une taille correspondant aux deux orbites n'est pas nécessaire et il est ainsi possible de réduire les dimensions par la région de chevauchement. Une configuration compacte peut donc être réalisée. Brève description des dessins La figure 1 est une vue en perspective schématique illustrant un système d'irradiation par faisceau d'énergie selon un mode de réalisation de la présente invention ; la figure 2 est une vue frontale illustrant un 10 mécanisme de mise en orbite dans le mode de réalisation ; la figure 3 est une vue en plan illustrant une orbite dans le mode de réalisation ; les figures 4A, 4B et 4C sont des vues 15 explicatives schématiques illustrant un déplacement de plaquettes dans le mode de réalisation ; les figures 5D, 5E et 5F sont des vues explicatives schématiques illustrant un déplacement de plaquettes dans le mode de réalisation ; 20 la figure 6 est une vue en plan illustrant un déplacement de plaquettes dans un autre mode de réalisation de la présente invention ; la figure 7 est une vue explicative illustrant un mécanisme de mise en orbite en vue frontale et une 25 orbite en vue en plan dans encore un autre mode de réalisation de la présente invention ; la figure 8 est une vue explicative illustrant un mécanisme de mise en orbite en vue frontale et une orbite en vue en plan dans encore un autre mode de 30 réalisation de la présente invention ; la figure 9 est une vue en plan schématique illustrant des aspects de maintien de plaquettes d'un plateau selon la présente invention. Description détaillée Un système d'irradiation par faisceau d'énergie selon la présente invention va être décrit ci-après en référence aux dessins annexés. Comme cela est illustré sur la figure 1, le système d'irradiation par faisceau d'énergie 100 irradie un faisceau ionique IB en tant que faisceau d'énergie sur des plaquettes W en tant qu'ouvrages sur lesquels implanter des ions. Le système d'irradiation par faisceau d'énergie 100 comprend un mécanisme d'émission de faisceau ionique (non illustré) pour émettre le faisceau ionique IB dans une salle d'implantation d'ions prévue dans une chambre sous vide (non illustrée) et un mécanisme de transport de plaquettes 10 pour transporter les plaquettes W à une position à laquelle le faisceau ionique IB peut être irradié. Le mécanisme d'émission de faisceau ionique est configuré pour émettre un faisceau ionique en forme de ruban IB, par exemple, vers une région d'irradiation P (cf. figures 4A à 4C, etc.) qui est établie dans la salle d'implantation d'ions. Le mécanisme d'émission de faisceau ionique est bien connu et ne va donc pas être décrit en détail dans les présentes. Le mécanisme de transport de plaquettes 10 30 comprend un mécanisme de chargement et déchargement (non illustré), des mécanismes de mise en orbite 1, 2 et un mécanisme de transfert. Le mécanisme de chargement et de déchargement déplace les plaquettes entre un sas de chargement (non illustré) prévu adjacent à la salle d'implantation ionique et une 5 position d'attente prévue dans la salle d'implantation ionique. Les mécanismes de mise en orbite 1, 2 mettent en orbite les plaquettes W1 (W2) au milieu de la région d'irradiation P du faisceau ionique IB. Le mécanisme de transfert transfère les plaquettes W1 (W2) entre le 10 mécanisme de chargement et de déchargement et les mécanismes de mise en orbite 1, 2. Les configurations du mécanisme de chargement et de déchargement et du mécanisme de transfert sont bien connues à partir de JP-B-4 766 156 par exemple, et on 15 omettra donc de les illustrer et de les décrire. Les mécanismes de mise en orbite 1, 2 en tant que configuration spécifique du système d'irradiation par faisceau d'énergie 100 de la présente invention vont être décrits en détail ci-après. 20 Dans le présent mode de réalisation, deux mécanismes de mise en orbite 1, 2 sont prévus. Chacun des mécanismes de mise en orbite 1, 2 comprend respectivement des montants 11, 21, des bras 12, 22 faisant saillie dans une direction radiale à partir des 25 montants 11, 21, des unités de rotation 13, 23 pour tourner les bras 12, 22 autour d'un axe des montants 11, 21, des organes de support de plaquettes en forme de plaques 14, 24 attachés à une portion d'extrémité des bras 12, 22 et s'étendant parallèlement à l'axe des 30 montants 11, 21 et des unités de déplacement linéaire 15, 25 pour déplacer linéairement les montants 11, 21 avec les bras 12, 22 et les organes de support de plaquettes 14, 24 dans une direction perpendiculaire à leur axe. Le premier mécanisme de mise en orbite 1 va 5 d'abord être décrit en détail en référence aux figures 1 et 2. Le montant 11 du premier mécanisme de mise en orbite 1 est en forme de colonne qui se dresse à partir d'une base 16. 10 Le bras 12 est en forme de plaques faisant saillie dans une direction radiale à partir d'une portion d'extrémité 11b du montant 11. L'unité de rotation 13 est par exemple un moteur et elle comporte un arbre d'entraînement (non illustré) 15 relié à une portion de base 11a du montant 11. Et, l'unité de rotation est configurée pour tourner le bras 12 par la rotation du montant 11 autour d'un axe de celui-ci. L'unité de rotation peut être configurée pour tourner directement le bras 12 sans rotation du montant 20 11. L'organe de support de plaquettes 14 (auquel il est fait ci-après référence en tant que plateau) est par exemple en forme approximativement de plaque longue. L'organe de support de plaquettes 14 supporte une 25 pluralité de plaquettes W1 sur une surface de celui-ci par un mandrin électrostatique par exemple. L'organe de support de plaquettes 14 est suspendu à une portion d'extrémité du bras 12 de manière à ce qu'une direction longitudinale de celui-ci soit parallèle à l'axe du 30 montant 11 et une portion de plaque de surface de celui-ci soit placée perpendiculairement à une direction d'extension du bras 12. Dans le présent mode de réalisation, puisque le plateau 14 est supporté de manière à pouvoir pivoter sur le bras 12, le plateau peut être tourné entre un état suspendu dans lequel le plateau 14 est suspendu par rapport au bras 12 et un état parallèle dans lequel le plateau 14 est placé parallèlement au bras 12, comme cela est illustré sur la figure 1, etc. Cela est destiné à transférer les plaquettes entre le mécanisme de transfert et l'organe de support de plaquettes. Spécifiquement, le plateau 14 est placé dans l'état parallèle lors du transfert des plaquettes W1 entre le mécanisme de transfert et l'organe de support de plaquettes et il est placé dans l'état suspendu lors de la mise en orbite des plaquettes W1. Par exemple, l'unité de déplacement linéaire 15 comprend un trou de vis 151, un organe de vis 152 vissé dans le trou de vis 151 et un actionneur 153 tel qu'un moteur pour faire tourner l'organe de vis 152. Le trou de vis 151 est formé pour pénétrer à travers la base 16 supportant la portion de base 11a du montant 11 dans une direction perpendiculaire à l'axe du montant 11. L'unité de déplacement linéaire 15 est configurée par un type d'alimentation de vis dans lequel la base 16 est déplacée linéairement vers l'avant et vers l'arrière dans une direction d'extension de l'organe de vis 152 en faisant tourner l'organe de vis 152 dans une direction vers l'avant et vers l'arrière. L'unité de déplacement linéaire 15 n'est pas limitée au type d'alimentation de vis, mais elle peut employer divers mécanismes tels qu'un type d'alimentation par courroie. En outre, le premier mécanisme de mise en orbite 1 comprend une unité de commande (non illustrée) comportant un circuit électrique pour commander l'unité de rotation 13 et l'unité de déplacement linéaire 15. Plus spécifiquement, l'unité de commande commande les moteurs 13, 153 prévus dans chaque unité 13, 15. L'unité de commande est configurée pour mettre en orbite et déplacer les plaquettes W1 en effectuant à répétition quatre opérations, comme cela est illustré sur la figure 3. Dans les présentes, les quatre opérations comprennent une opération de déplacement en ligne droite des plaquettes W1 dans une direction, une opération de rotation des plaquettes W1 de 180 degrés, une opération de déplacement en ligne droite des plaquettes W1 dans une direction inverse et une opération de rotation des plaquettes W1 de moins 180 degrés, comme on le voit dans une direction axiale du montant 11. Comme cela est représenté sur la figure 3, une orbite (première orbite) 01 du premier mécanisme de mise en orbite 1 est une orbite formée par la mise en orbite du plateau 14 du premier mécanisme de mise en orbite 1, en vue dans la direction axiale. C'est-à-dire, l'orbite (première orbite) 01 du premier mécanisme de mise en orbite 1 comprend des orbites droites L11, L12 de longueur égale qui sont parallèles entre elles et des orbites semi-circulaires C11, C12 qui relient des extrémités des orbites droites L11, L12. L'orbite semi-circulaire C11 a un premier centre et l'orbite semi- circulaire C12 a un deuxième centre respectivement. Plus spécifiquement, lorsque les plaquettes W1 sont déplacées en ligne droite, l'unité de commande actionne l'unité de déplacement linéaire 15 et commande en outre à l'unité de rotation 13 de fixer un angle du 5 bras 12 perpendiculairement à la direction de déplacement en ligne droite afin que des surfaces des plaquettes soient face à l'extérieur de l'orbite 01. Le faisceau ionique IB est irradié verticalement sur les surfaces des plaquettes W1 pendant que les plaquettes 10 sont déplacées en ligne droite sur un côté. C'est-à-dire, la région d'irradiation P du faisceau ionique IB progressant verticalement sur les surfaces des plaquettes W1 est prévue au milieu de l'orbite droite L11 sur un côté. 15 Pendant ce temps, lorsque les plaquettes W1 sont tournées, l'unité de commande arrête l'unité de déplacement linéaire 15 et actionne en outre l'unité de rotation 13 pour tourner le bras 12 de 180 degrés dans une direction vers l'avant ou dans une direction vers 20 l'arrière. De cette manière, l'angle de rotation du bras au cours de l'opération de rotation est réglé à plus 180 degrés sur un côté et à moins 180 degrés sur l'autre côté. Cela est destiné à empêcher la rotation des plaquettes W1 en raison de l'orbite des plaquettes 25 W1 lorsque les plaquettes W1 sont mises en orbite une fois. C'est-à-dire, par une telle configuration, un angle de rotation de l'organe de support de plaquettes 14 supportant les plaquettes W1, le bras 12 et le montant 11 est réglé de sorte que les plaquettes 30 reviennent à leur position d'origine lorsqu'elles sont mises en orbite une fois. En outre, il n'y a pas de problème de torsion ni de déconnexion de câbles électriques connectés à l'organe de support de plaquettes 14, au bras 12 et au montant 11 en raison de leur rotation même lorsque les plaquettes W1 sont mises en orbite plusieurs fois. Ensuite, le deuxième mécanisme de mise en orbite 2 va être décrit en détail ci-après en référence aux figures 1 et 2. Le montant 21 du deuxième mécanisme de mise en orbite 2 est suspendu à une structure suspendue 27 et est placé de sorte qu'un axe de celui-ci corresponde à l'axe du montant 11 et qu'une surface d'extrémité de celui-ci soit opposée à une surface d'extrémité du montant 11 du premier mécanisme de mise en orbite 1, vu dans la direction de déplacement en ligne droite. La structure suspendue 27 a une forme approximativement de L et elle comprend une base 26, un organe droit 271 s'étendant à partir de la base 26 et un corps de suspension 272 s'étendant verticalement à partir d'une portion d'extrémité de l'organe droit 271. Le montant 21 est suspendu vers le bas à une portion d'extrémité du corps de suspension 272 par l'intermédiaire de l'unité de rotation 23 (qui va être décrite ci-après). Le bras 22 est en forme de plaque faisant saillie 25 dans une direction radiale à partir d'une portion d'extrémité du montant 21. L'unité de rotation 23 est par exemple un moteur et elle comporte un arbre d'entraînement relié à une portion de base 21a du montant 21. Et, comme pour le 30 premier mécanisme de mise en orbite 1, l'unité de rotation est configurée pour tourner le bras 22 et en outre l'organe de support de plaquettes 24 en faisant tourner le montant 21 autour d'un axe de celui-ci. Dans le présent mode de réalisation, le rayon de rotation de l'organe de support de plaquettes 24 est réglé pour être égal à celui de l'organe de support de plaquettes 14 du premier mécanisme de mise en orbite 1. Comme pour le premier mécanisme de mise en orbite 1, le plateau 24 a approximativement une forme de plaque longue par exemple. Le plateau 24 supporte une pluralité de plaquettes W2 sur une surface de celui-ci par un mandrin électrostatique, par exemple. Le plateau 24 est suspendu de manière à pouvoir tourner à une portion d'extrémité du bras 22 de sorte qu'une direction longitudinale de celui-ci soit parallèle à l'axe du montant 21 et qu'une portion de plaque de surface de celui-ci soit placée perpendiculairement à une direction d'extension du bras 22. Une région de support de plaquettes 24a du plateau 24 est réglée pour être à niveau avec une région de support de plaquettes 14a du plateau 14 du premier mécanisme de mise en orbite 1. L'unité de déplacement linéaire 25 comprend un trou de vis 251, un organe de vis 252 vissé dans le trou de vis 251 et un actionneur 253 tel qu'un moteur pour faire tourner l'organe de vis 252. Le trou de vis 151 est formé pour pénétrer à travers la base 26 supportant le montant 21 par l'intermédiaire de la structure suspendue 27. Comme pour le premier mécanisme de mise en orbite 1, l'unité de déplacement linéaire 25 est configurée de sorte que la base 26 soit déplacée linéairement vers l'avant et vers l'arrière dans une direction d'extension de l'organe de vis 252 en faisant tourner l'organe de vis 252 dans une direction vers l'avant et vers l'arrière. La direction d'extension de l'organe de vis 252 est réglée pour être parallèle à la direction d'extension de l'organe de vis 152 du premier mécanisme de mise en orbite 1. En outre, comme pour le premier mécanisme de mise en orbite 1, le deuxième mécanisme de mise en orbite 2 comprend une unité de commande comportant un circuit électrique pour commander l'unité de rotation 23 et l'unité de déplacement linéaire 25. Dans les présentes, l'unité de commande est configurée pour mettre en orbite les plaquettes W1, W2 sur la même orbite et de la même manière que pour le premier mécanisme de mise en orbite 1. Comme cela est illustré sur la figure 3, une orbite (deuxième orbite) 02 du deuxième mécanisme de mise en orbite 2 est une orbite formée par la mise en orbite du plateau 24 du deuxième mécanisme de mise en orbite 2, en vue dans la direction axiale. C'est-à- dire, l'orbite (deuxième orbite) 02 du deuxième mécanisme de mise en orbite 2 comprend des orbites droites L21, L22 de longueur égale qui sont parallèles entre elles et des orbites semi-circulaires C21, C22 qui relient des extrémités des orbites droites L21, L22. L'orbite semi-circulaire C21 a un troisième centre et l'orbite semi-circulaire C22 a un quatrième centre respectivement. Cette unité de commande peut être physiquement commune au premier mécanisme de mise en orbite 1 ou 30 elle peut être fournie en tant que corps distinct. Ensuite, un fonctionnement du système d'irradiation par faisceau d'énergie 100 ainsi configuré va être décrit. Par exemple, une description commence à un état avant que les plaquettes (auxquelles il est fait ci-après référence en tant que premières plaquettes) W1 mises en orbite par le premier mécanisme de mise en orbite 1 ne traversent complètement la région d'irradiation P et dans lequel les plaquettes (auxquelles il est fait ci-après référence en tant que deuxièmes plaquettes) W2 mises en orbite par le deuxième mécanisme de mise en orbite 2 commencent à entrer dans la région d'irradiation P, comme cela est illustré sur la figure 4A. Dans un état illustré sur la figure 4A, chacune des plaquettes W1, W2 se déplace à une vitesse d'implantation ionique prédéterminée, égale à celle des autres. Après cela, les premières plaquettes W1 quittent d'abord la région d'irradiation P et se mettent en orbite à une vitesse de déplacement accrue, comme cela est illustré sur les figures 4A et 4B. Pendant ce temps, les deuxièmes plaquettes W2 restant dans la région d'irradiation P se déplacent continuellement à la vitesse d'implantation ionique. Et, les premières plaquettes W1 rattrapent les deuxièmes plaquettes W2 avant que les deuxièmes plaquettes W2 ne traversent complètement la région d'irradiation P, comme cela est illustré sur la figure 5D. Et ensuite, les premières plaquettes W1 entrent dans la région d'irradiation P et leur vitesse revient à la vitesse d'implantation ionique. Puis les deuxièmes plaquettes W2 quittent la région d'irradiation P et se mettent en orbite à une vitesse de déplacement accrue, comme cela est illustré sur les figures 5E et 5F. Pendant ce temps, les premières plaquettes W1 restant 5 dans la région d'irradiation P se déplacent continuellement à la vitesse d'implantation ionique. Et, les deuxièmes plaquettes W2 rattrapent les premières plaquettes W1 et ce procédé revient à l'état de la figure 4A. 10 De cette manière, chacune des plaquettes W1, W2 est mise en orbite un nombre de fois prédéterminé et une dose prédéterminée d'ions est ainsi implantée sur les plaquettes W1, W2. Chaque plaquette W1 a un côté d'irradiation par 15 faisceau d'énergie face à une direction d'irradiation par faisceau d'énergie du faisceau ionique IB et un côté arrière du côté d'irradiation par faisceau d'énergie. En vue dans la direction perpendiculaire à la surface orbitale de l'orbite 01, les plaquettes W1 20 tournent de 180 degrés tout en se déplaçant de la région d'irradiation P à une région de côté arrière dans laquelle le côté arrière est face à la direction d'irradiation par faisceau d'énergie. Et, les plaquettes W1 tournent de moins 180 degrés en se 25 déplaçant de la région de côté arrière à la région d'irradiation de sorte que les plaquettes W1 tournent à leur angle de rotation initial. Plus spécifiquement, le plateau 14 a un côté d'irradiation par faisceau d'énergie sur lequel se 30 trouvent les plaquettes W1 et qui est face à la direction d'irradiation par faisceau d'énergie du faisceau ionique IB. Et, le plateau 14 a un côté arrière du côté d'irradiation par faisceau d'énergie. Lorsque le plateau 14 comportant les plaquettes W1 se déplace dans la région de côté arrière, les plaquettes W1 sur le côté d'irradiation par faisceau d'énergie ne sont pas irradiées par le faisceau ionique IB puisque le faisceau ionique IB est irradié sur le côté arrière du plateau 14, et non pas irradié sur le côté d'irradiation par faisceau d'énergie. Chaque plaquette W2 a un côté d'irradiation par faisceau d'énergie face à la direction d'irradiation par faisceau d'énergie du faisceau ionique IB et un côté arrière du côté d'irradiation par faisceau d'énergie. En vue dans la direction perpendiculaire à la surface orbitale de l'orbite 02, les plaquettes W2 tournent de 180 degrés en se déplaçant de la région d'irradiation P à une région de côté arrière dans laquelle le côté arrière est face à la direction d'irradiation par faisceau d'énergie. Et, les plaquettes W2 tournent de moins 180° tout en se déplaçant de la région de côté arrière à la région d'irradiation de sorte que les plaquettes W2 tournent à leur angle de rotation initial. Plus spécifiquement, le plateau 24 a un côté d'irradiation par faisceau d'énergie sur lequel se trouvent les plaquettes W2 et qui est face à la direction d'irradiation par faisceau d'énergie du faisceau ionique IB. Et, le plateau 24 a un côté arrière du côté d'irradiation par faisceau d'énergie. Lorsque le plateau 24 comportant les plaquettes W2 se déplace dans la région de côté arrière, les plaquettes W2 sur le côté d'irradiation par faisceau d'énergie ne sont pas irradiées par le faisceau ionique IB puisque le faisceau ionique IB est irradié sur le côté arrière du plateau 24, et non pas irradié sur le côté d'irradiation par faisceau d'énergie. Dans cette configuration, puisque deux mécanismes de mise en orbite 1, 2 sont utilisés pour envoyer continuellement les plaquettes W1, W2 dans la région d'irradiation P du faisceau ionique IB, des effets de base d'amélioration du rendement d'implantation peuvent être obtenus. En outre, bien que deux mécanismes de mise en orbite 1, 2 soient fournis, la première orbite 01 et la deuxième orbite 02 correspondent l'une et l'autre et les deux mécanismes de mise en orbite peuvent donc être prévus à des dimensions correspondant à une orbite, en vue dans une direction perpendiculaire aux surfaces orbitales. Il est donc possible d'obtenir une configuration remarquablement compacte. Plus spécifiquement, le premier centre de l'orbite semi-circulaire C11 et le troisième centre de l'orbite semi-circulaire C21 correspondent l'un à l'autre, en vue dans la direction perpendiculaire aux surfaces orbitales. Et, le deuxième centre de l'orbite semi-circulaire C12 et le quatrième centre de l'orbite semi- circulaire C22 correspondent l'un à l'autre, en vue dans la direction perpendiculaire aux surfaces orbitales. C'est-à-dire, un axe de rotation de l'orbite semi-circulaire C11 et un axe de rotation de l'orbite semi-circulaire C21 correspondent l'un à l'autre, comme cela est représenté sur les figures 2 et 3. Et, un axe de rotation de l'orbite semi-circulaire C12 et un axe de rotation de l'orbite semi-circulaire C22 correspondent l'un à l'autre, comme cela est représenté sur les figures 2 et 3. La présente invention n'est pas limitée au mode de 5 réalisation ci-dessus. Par exemple, le nombre de plaquettes placées sur le plateau peut être seulement égal à un. En variante, une pluralité de plaquettes peuvent être placées sur le plateau. Dans ce cas, la capacité de traitement est 10 accrue. De plus, les plaquettes W1 ou les plaquettes W2 peuvent être disposées en pluralité côte à côte dans la direction axiale des montants 11, 21, comme cela est représenté sur les figures 1, 2, 7 et 8. Les plaquettes W1 ou les plaquettes W2 peuvent être disposées en 15 pluralité côte à côte dans une direction orbitale de la première orbite 01 ou de la deuxième orbite 02, qui est perpendiculaire à la direction axiale des montants, comme cela est représenté sur la figure 9. En outre, lorsque le nombre de plaquettes montées 20 sur un plateau est accru, un temps nécessaire pour le traitement des plaquettes montées sur chaque plateau augmente. On peut donc se permettre de déplacer un plateau vers une position derrière l'autre plateau et ainsi on réalise facilement un traitement 25 d'implantation continu. Dans ce cas, une direction longitudinale du plateau peut être perpendiculaire à l'axe du montant, dans une configuration du plateau. Puisque le nombre de plateaux à transporter peut être supérieur ou égal à deux, la présente invention 30 peut prendre une configuration dans laquelle une pluralité de plateaux sont transportés. De cette manière, il est possible d'améliorer la capacité de traitement et de réaliser facilement le traitement d'implantation continu. Le nombre de faisceaux ioniques n'est pas limité à 5 un. Par exemple, deux faisceaux ioniques IB ou plus peuvent être irradiés, comme cela est illustré sur la figure 6. Lorsque deux faisceaux ioniques IB sont irradiés, il est préférable que le nombre de plateaux soit supérieur ou égal à trois pour utiliser 10 efficacement le faisceau ionique IB. Dans les présentes, la figure 6 illustre trois plateaux 14, 24, 34 et trois plaquettes W1, W2, W3 montées sur les plateaux. En outre, une région entourée par la première orbite 01 et une région entourée par la deuxième orbite 15 02 peuvent se chevaucher au moins partiellement. Dans ce cas, il n'est pas nécessaire que les axes de rotation de chaque mécanisme de mise en orbite 1, 2 correspondent l'un à l'autre. Par exemple, comme cela est illustré sur la figure 7, l'axe de rotation peut 20 être différent pour chaque mécanisme de mise en orbite, en vue dans la direction de déplacement droit. En outre, comme cela est illustré sur la figure 8, une position de l'axe de rotation est égale à l'autre, mais les rayons de rotation peuvent être différents l'un de 25 l'autre. Dans les deux cas, puisqu'une région entourée par la première orbite 01 et une région entourée par la deuxième orbite 02 se chevauchent au moins partiellement, il est possible d'obtenir une configuration compacte par la région de chevauchement. 30 La présente invention peut être appliquée à un système d'irradiation d'un faisceau d'énergie (par exemple, un faisceau d'électrons, un faisceau de lumière ou un faisceau quantique aussi bien qu'un faisceau ionique) sur un ouvrage. Par exemple, la présente invention peut être appliquée à un système d'irradiation par faisceau d'électrons, à un instrument de pulvérisation ou à un système de dopage plasma, etc. Dans ce cas, les mêmes effets peuvent être obtenus. Pour accroître le rendement d'irradiation du faisceau d'énergie, il est très souhaitable qu'au moins une plaquette se trouve dans la région d'irradiation. Néanmoins, la présente invention n'est pas limitée à cette configuration. Par exemple, il y a un cas où au moins une plaquette ne se trouve pas dans la région d'irradiation en fonction de la taille du faisceau d'énergie ou d'une configuration du plateau. Dans ce cas, il est souhaitable de déplacer continuellement chaque plaquette à travers le faisceau d'énergie le plus longtemps possible. La forme du faisceau n'est pas particulièrement limitée. Par exemple, le faisceau peut avoir une forme en coupe transversale d'un carré ou d'un point. En outre, la forme des plaquettes peut être circulaire ou rectangulaire, par exemple. Dans les présentes, le transport des plaquettes jusqu'au plateau peut être effectué manuellement. En outre, la présente invention n'est pas limitée aux modes de réalisation décrits ci-dessus et elle peut être modifiée de diverses manières sans sortir du cadre de la présente invention.30 REVENDICATIONS1. Système d'irradiation par faisceau d'énergie (100), caractérisé en ce qu'il comprend : un mécanisme d'émission de faisceau d'énergie qui émet un faisceau d'énergie (IB) vers une région d'irradiation (P) prédéterminée pour irradier au moins un premier ouvrage (W1) et au moins un deuxième ouvrage (W2) en tant qu'objets ; un premier mécanisme de mise en orbite (1) qui met en orbite l'au moins un premier ouvrage (W1) sur une première orbite (01) prédéterminée comprenant la région d'irradiation (P) ; et un deuxième mécanisme de mise en orbite (2) qui 15 met en orbite l'au moins un deuxième ouvrage (W2) sur une deuxième orbite (02) prédéterminée comprenant la région d'irradiation (P), dans lequel une première région entourée par la première orbite (01) et une deuxième région entourée 20 par la deuxième orbite (02) se chevauchent au moins partiellement, en vue dans une direction perpendiculaire à des surfaces orbitales formées par les première et deuxième orbites (01, 02). 25 2. Système d'irradiation par faisceau d'énergie (100) selon la revendication 1, dans lequel chacune des première et deuxième orbites (01, 02) comprend des orbites droites (L21, L22) parallèles entre elles et des orbites semi-circulaires (C21, C22) 30 reliant des extrémités des orbites droites (L21, L22),dans la première orbite (01), une orbite semi-circulaire (C21, C22) a un premier centre et l'autre orbite semi-circulaire (C21, C22) a un deuxième centre, dans la deuxième orbite (02), une orbite semi- circulaire (C21, C22) a un troisième centre et l'autre orbite semi-circulaire (C21, C22) a un quatrième centre, et le premier centre de la première orbite (01) et le troisième centre de la deuxième orbite (02) correspondent l'un à l'autre, et le deuxième centre de la première orbite (01) et le quatrième centre de la deuxième orbite (02) correspondent l'un à l'autre, en vue dans la direction perpendiculaire aux surfaces orbitales des première et deuxième orbites (01, 02). 3. Système d'irradiation par faisceau d'énergie (100) selon la revendication 1 ou 2, dans lequel chacune des première orbite (01) et deuxième orbite (02) correspondent l'une à l'autre. 4. Système d'irradiation par faisceau d'énergie (100) selon l'une quelconque des revendications 1 à 3, dans lequel l'au moins un deuxième ouvrage (W2) entre dans la région d'irradiation (P) avant que l'au moins un premier ouvrage (W1) qui est entré dans la région d'irradiation (P) ne traverse complètement la région d'irradiation (P). . Système d'irradiation par faisceau d'énergie (100) selon l'une quelconque des revendications 1 à 4, dans lequel l'au moins un premier ouvrage (W1) et l'au moins 5 un deuxième ouvrage (2) sont agencés en pluralité côte à côte dans des directions d'orbite respectivement de la première orbite (01) et de la deuxième orbite (02). 6. Système d'irradiation par faisceau d'énergie (100) selon l'une quelconque des revendications 1 à 5, dans lequel chacun de l'au moins un premier ouvrage (W1) et de l'au moins un deuxième ouvrage (W2) revient à son angle de rotation initial lorsqu'il est mis en orbite une fois sur une orbite correspondante, en vue dans la direction perpendiculaire aux surfaces orbitales. 7. Système d'irradiation par faisceau d'énergie (100) selon la revendication 6, dans lequel, en vue 20 dans la direction perpendiculaire aux surfaces orbitales, chacun de l'au moins un premier ouvrage (W1) et l'au moins un deuxième ouvrage (W2) a un côté d'irradiation par faisceau d'énergie face à une 25 direction d'irradiation par faisceau d'énergie et un côté arrière du côté d'irradiation par faisceau d'énergie, et tourne de 180 degrés tout en se déplaçant de la région d'irradiation (P) à une région de côté arrière dans laquelle le côté arrière est face à la 30 direction d'irradiation par faisceau d'énergie, etchacun de l'au moins un premier ouvrage (W1) et l'au moins un deuxième ouvrage (W2) tourne de moins 180 degrés en se déplaçant de la région de côté arrière à la région d'irradiation (P) de sorte que chacun de l'au moins un premier ouvrage (W1) et de l'au moins un deuxième ouvrage (W2) tourne à son angle de rotation initial. 8. Mécanisme de transport d'ouvrage (10), caractérisé en ce qu'il comprend : un premier mécanisme de mise en orbite (1) qui met en orbite au moins un premier ouvrage (W1) le long d'une première orbite (01) prédéterminée comprenant une région d'irradiation (P) d'un faisceau d'énergie (IB) ; et un deuxième mécanisme de mise en orbite (2) qui met en orbite au moins un deuxième ouvrage (W2) le long d'une deuxième orbite (02) prédéterminée comprenant la région d'irradiation (P), dans lequel une première région entourée par la première orbite (01) et une deuxième région entourée par la deuxième orbite (02) se chevauchent au moins partiellement, en vue dans une direction perpendiculaire à des surfaces orbitales formées par les première et deuxième orbites (01, 02).