Brevet FR2979355A1 — publié le 20130301

CON 1-11.:X. T: DE L'INVENTION mention .1 trait à MI L'h:Mt:11T Je L',11..11.1C I \ CUI J: ii ,l1 H-41;11 'IC du nitrure j,pre cubique pnlycristallin tPeL3N)) d'un système de te \reicniciit qui comporte une ,die dc re^êtemcnt J carbonitrure de titane appliqt,ee par CVD dans lequel les :nehites d'oxc,irhonitrurc Je titane possèdent, la mesure étant Lute dans la vue en plan à 15 deux dimensions par la technique détaillée ci-dessous, une longueur moyenne supérieure environ 1,0 uni, une largeur moyenne supérieure à environ 0,2 am, et un rapport d'.1spect moven supérieur à environ 2,0. [00021 Jusqu'à présent, l'acétonitrile (CI-1-4CN) a été utilisé dans un mélange gazeux pour déposer par CVD une couche de re'êtcmcnt. Le brevet U.S. n- 7 455 91 S au nom de 20 Gaies. Jr. et al. énumérc un certain nornhre de compositions .:.1;1/CLIC",. qui comprennent de l'acewnitrile, qui peut être utilHé pur déposer une couche modiricatrice cornpucti,int de 1111.11(1111C- e Iehe CIIL'1111;1111 .1^' \ 11.1101111.111.-L"' de tit.titc. Voirt:«4 I '^ 1k.l'1:1(. I i ,;^1 1 H '--, ;Hi inie ,I, Il H eet::eiuileilt en 'f1-1111111C11011,11\ ""I'_"llé 1ecl,aIrItc L1IIli' Hi 1CIWILC HI/Ci'I \ sh11C. J .1/, t.I.L'IL:TI'à '11,1r1.11.0 de tiLtne. ct Je {rH L'uropcCil ii I , I,' II-:ct rie Hid.ii.tiJe. Li elle 11:(,11:1,_' (1;111,,H1110;C CIL( :\ C1111111'...'lLTH ;1111H, ,If ,11111.., 1,1 TiiiCTiiH,l np.,1::-': ll 1,..1 )( N. \.irn HJH I , 1'.1:1:1 (.() -,',.1:1 I- Il I I Le Cil Ci ',j'il:LU:1,2 j;:r 1.)1"111Cr lu euJic dc rc eh en L1L, [o(1111 I 1:111\ C111H11 \Cl 11 ".'11 up.c eii. s Je !C etCtt L'LI I. HI polycr lIlCll:IflI Je e 1.111,t,1 111;111C. i:iHIHjJCI - r ' '11C11" .1 dC ..1C1 dl ..111Wki ,,111,'11',[111 11,',1,;11111),:111 peur t('\Dt' par ottattic dans une qtLanite 10 n n-11pCIH'111-c Cil\ Ct_'111 C11 iiicJu 003] Mit parie d un inchnge eiieu utilise pour Jdcr f (\ [Hia ci,eJic dc de titane c rHomtrure. àrnsi otU"' :1 l I q1L11.1lre l'UotilICII,,11 C^111l:..11.111t \ I() compris caro,initrurc de Halle(1[1x. N). [00041 La publication de la demande de brevet américaine n US2007/02')8280 au nom irOinori et al. di\ (ligue lutiIiiiiion d'acétonitrile pour déposer une conclue de ete]nant. de carbonitrure de titane. 11 y est indiqué da atieon générale iiitiIi:uii ii acétunitrile pour déposer par CVD une couche de re\ e..tcnient d \ vcarbonitruai de titane. 15 Voir les paragraphes [0057] à [0060]. La demande de I .)re\ et européen n 1 138 800 Al au nom de Kodama et al. a pour objet l'utilisation d'éthane dans la production d'un re\ étement dur qui contient de l'oxycarbonitrure de titane. Cependant, il est mentionné que l'on pourrait utiliser de l'acétonitrile à la place d'éthane dans le procédé. Voir les paragraphes [0021140024]. 20 [00051 La demande dc bre\ ci cm\ ,p,:en n° 1160 353 Al au nom d'Hirakawa cl al. diiJiuc in: ollCI1C Je TICN. 1,,;:x un.2.1.;IdlC111. dc enccri1rrtim IH^lla'11C l COlk2:Ill'al ion 11.CN dans le rnéltin c de gai CH un JeL;ACLIF- 1.111 impact sur la 'ant \LL L,iIL. Hq:1111',11:!ehicciI \\ ()()/52 I aRal1111Lall ,IL' 11111 H._ ail), HilL h( I . rail L1HHi iHlH Je l'ire\ l'( .\ Li , in publftiation de 'Te\ et P(' I \\ r() ciii h HU1C tTLIL tan Li .1 ,Litcy ('U ou CO.- au 1inr;ition de TiCtN. Dans les e\ ( Il(N iiluni que Je OC tan pas appel à It11111()1ii niI'Hc.iicticnm,aIt 1 .:111, ] ,., -ii)o(ii t), da Pitio,,'i ,Ionh_nie nt' is iiiir iie ( II ( ss 'nt. Ln: la : ii:;: eLcile .e :,:J'.,,11- ^l lin i :Hen .,iiii'oini tridn I :Hinium. \ on le taiii.a.iii LH etaHlean II. I a 'ut a. milennaiila \ mer s.:_o(ii.i, r2- aii nom R. ,-; yr .i.. dr\ in iiiilisar.on 1:1:11 !ll '''', l ni'c dcii, L'...HVi n ii ne 30 qL11,..2 wi.,...nlu:Ji;lik: i i pI: i 1( )( N I, Ii H: 1- du :11,3:11,.^ tig.: L,Iin. ()OH ati i :nient -,.iiHi,,ii it iilli:si,,n I 111..I111,,:,IIIH ^IC CI I C \ 1) ' LIIIC L I 11,1:1 'HI \! . ..o ) \ I i..,.1fl', I,k1...ICIIC \.. Il 1,111111:111:IL'IICLII I / CI :AH 11:)1 I', ,.II iit.., 2, z:): « ,.,1 -III)H I .1 /.i I ( -:'. HIIIC- 100071 I Cl :'..111- H..IIIL ',1/,111\ I,' ellH-er Hili...' .,..,'1.1):i1C Jc Fe% Ck2:HCI1:. nri-orinriire d- in.ine : I,: , ecn n f i 131 ,iii lion] .\1, p.2.ttehi et al.. pc,..-ii n t .,, 7-,ti.. uoin ,I', k-,,i,i et Ji., I .mande de H , 1 ehr,t , .n 0 ((i() .,(,t) :\ .7_ ,,a H.,H, d Liaik.,1\\ ,i ci Ill.,. h: ", Cl 1.-.S. nc 5 th`.7;1 ()_5! ui n,,m 1: Y ,,himuru eL 11 I) \ 1 l .S ii 5`/|5 I f2 :111 nom Jc|ihin0ciui,}`/r~`1( --13() H iti ilow 111/4,i/st:luth. bre\ el chu, IO Bi au nom de \Lik.'rials. H-é \ catop,. n 1 157 14 Hl de keiniametal Inc., et brevet européen n U 709 131 au nom de Mitsubishi Materials. [00081 L'adhérence du système de revêtement au substrat est une caractéristique importante pour un élément de coupe revëtu. 1..ns^stenh.' de revêtement qui possède une adhérence améliorée est bénéfique à la pC1:1.01:111.111(1e. 11,serait donc particulièrement 15 souhaitable de disposer d'un élément de coupe revêtu qui présente une adhérence améliorée du s\ stème de revêtement au substrat. [00091 Dan. certains systèmes de revêtement destinés à être utilisés a\ cc un élément de coupe revêtu, une couche de revêtement en alumine est jointe à une couche de revêtement de cdrbonitrure de titime \1I-TiCN) à température modérée vH une couche de 20 liaison. decou ert qu'en utilisant une e,itiche de revêtement en trichites (ic Hlor''_ec-, comme couche dc trichites 111,111C JUR' d1111L11:1-iiill's CI ) 11:IC 1111HIIIIIIIIio ' ..RillércilL'c (.ii In ^.: ". '111:' kit.' I.L.'\ è(CI11,111 CH ',IIIIIIIIffi -, n`:01111,;1... ,.: :III' TIHI:: ' ;ILIIIC. H ',CLIII d," t'IL IIIICI:.'ilICHI ,,,,lh.H.I;IHIC 75 ,, Ill ,.I II -.),1,..111C ^I'. IC\ ..,. HIC'il II,..T;ICHII,11.11 Iln-II H'I I IC I.LIL.' ..;J:1',.'k.'ils ,. IIIIL ' I I I ;IIIICtli, IIICIIII - I " H ,.s:IICI1 d., L, H \ CIll W. I ' IL' H_ `/:``n| I: HilrIIIC II ;I:IC .i.11: pl; ' 1.111,... I..t.ii:s11,,IH., ,IIH, 1 II,.....1, i H 1 `IIIII !ILI:h' ,',111 ):C.. ilL.:_^ di111,..111,,,,,11), Cl. 30 , ,H I II, I 1p/011' I I I ,,_ ILC111 I kl! I I Ji I '1:C/. 0101 mmir J la couche de Fe\ L'ici-us1 J \ \ Iii III L' ti.rtc(ions ^ I [,,:h 1..», Li\\CIrnIIilrurcéialit laite d;Itis la \ tic c \ Ptu le cli^Jli: "1".0^,211-0 dpJ ..'ti'..c J eny, m ..1 Hie 1,"-.2,2[1:. t) \LttMC-lli),-.1C11:',.: J ,21I\ :1', - [I ;21 1.1'.: r',:i j tot MW\ C -11;',':IL':11. ,1 L'H'. Ir Il _ :I LIL.".I'. -' ' 'I .1111 [-Il,' LI1.1.1.111:L: c :1.11: , Eill:11,. .I W, le 111;$1,11E, 1s, Hi er L e rele C CiCI ) \ 111 il 11; rt: I ,.IL'Ct \ itt LH:WILL' ma \1:11;,1c ,1;,,,',,[011111-11,2 LI [it. Icimé1;in ;111 r,,cire.[Incrictirc tu cI1\ itn 0,15 pur cent en moles du Lunc '2ait.'u,s. Il serait donc pdlliculieremem s"'ohaiiohle de 10 disposer titi) élément (le coupe IC\eliu liltis (1,:rc\ elcmc("1 comportant une couche d,' le\ éteint:nt quel le inelon."L.' utilisc pour déposer 1;1 couche dc êtcment d'o.\ éarbonarure de titane aura une teneur reluite uc est- dire non supérieure à environ 0,15 pour cent en moles du mélange gozeuxi diuccioniliile 100111 La demanderesse a découvert qu'il y avait un avantage à une couche de 15 liaison en oxycarbonitrure de titane. pui améliore l'adhérence de la couche dc revêtement en alumine, à une température de dépôt par CVD plus basse. C'est particulièrement vrai pour le dépôt par CVD de la couche dox \ carbonitrure de titane sur un substrat de nitrure de bore cubique pot (PcI3N r Le substrat de PM:\ peut se dégrader lors du dépôt par CVD de le couche d'oxycarbonitrure de titane si la température de dépôt est trop 20 ele\ ce. I _H Li upérature de dépôt plus basse est inférieure à environ 1000°C. Dans une alternati e. I ellipérature de dépôt HI C\ es' entre environ 00°C et environ ()50°C. Dans une autre alternative, la teiupcioLuie de dépôt pal' CVD est entre environ (1/47015 C et CILiCi 125-3C. 11 11 ^,.M11LL'I Ils 1.1r, ), I 1..`1.1^111,_ tIti L 'IlieIlIIlflC lei dm", iwc orw:' ic \ 30 iUICc CL CIL 11011peut déposer p;:(.c v ':' du inéllt,in q ;11111C C lii I Ce]lf CR\ (),5 poLli CCIII Cil ill('^IL-2-7, u21. -CM! C11 ii ic du clil-rare \ [1,q11,', H',. SOp nu CCI CH ceHL Hile q11;l1V,LC CiHC eilHc Cii^ 11.011 _),(_) puuh ccul cii de 1 i'nitrflcJcnt dins une quantité comprise entre en \tron 0,02 pour cent un nioles I environ 0.15 pour cent crmoles du mer ^ tic de c.irbone présent d:ins une quantité .:npi-Hc cotre I() environ 0,4 pour cclit en moles et en\ iron 2,0 pour cent en moles, et de l'hydrogène présent dans une quantité comprise entre environ 41,85 pour cent en moles et environ 93,88 pour cent en moles. antagetiscment, le mélange gitieu \ sert à déposer la couche dC FC \ êicinent 15 d'oxycarbonitrure de titane comprend de l'azote présent dans une quantité comprise cuire environ 10 pour cent en !noies et environ 35 pour cent en moles, du méthane paiscnt Jwi une quantité comprise cii e en' iron I pour cent en nttic ci environ 6,0 pour cent en moles. du chlorure d'H drogene entuellemcnt prc'sent (Idris une quantité allant jusqu'à en\ iron 1,0 pour cent en moles. du tétrachlorure Je titane prescrit (laits une (itidnrite 20 comprke Cuire C11\ lrua 05 JOuI Lcrut cri rimles ci cH\ irai 2,5 pui tipi en iiic. de tonitrile sssiii J. iu turc qulirlirlé cnnpri,c entre cir ir,)n 002 tir cciii en n1c ci ilM11N, ,ILLL -6- I HI. I .,;11 I \L1 \ 'I"InrCnd [.1/' C111, 11'1)11\ç. HietIL[ri 11:. Cfl IC11,1,1 )111Ii' ' pli 'Ili ,A;;11-1.1,ii._ bit\ (WC" CLLUVLIIC LIL ()JI_ qt1:11IIH2 compri,c cntrc L.H\ [rom ().,-10r,t1I- cent Cil MO IT-Hd^:-, 1 c.e, l'h^ dru u.- présent daiis une ciaantité comprise entre environ 58,87 pour cent en moles et en \ troll pour eent en moles. Avantageusement, le mélange gazeu sen ant a déposer la couché rc\ etement 15 d'oxyearbonitrure de titane comprend : l'azote présent dans une quantité égale à environ 25,4 pour cent en moles, du méthane présent dans une quantité égale environ 1,7 pour cent en moles, du chlorure d'hydrogène présent dans une quantité égale a environ 1,4 pour cent en 'miles, du tétrachlorure de titane présent dans une quantité égale environ 0,7 pour cent en lui )les. e racétonitrile pr une quantité égale environ 0,03 pour 20 moles, du mono\ vile de pre-,cnt dans une guanine egale H environ 0,6 pour ccnt en nioles de 1 h drogenc pré,eilt dans une quantité égal- a environ 70,2 pour L-cnt cn moles, 25 ni 11,2H ,1 - u:Lip;,:i.,[tu-L' Ir 1 situe eitlft (-0 1r,) ..`.11f) \ .11.,-11 -7- :ttlortl -': I i !) I. ) ! i eni s etr, pour 1.1letrà,':hlortirc de 1:1,111c prescrit Liric cornprisc cinre environ u,; eciu cil nioles ci cn\:;er4...)11 1,0 ;),-: - nen! en moles, tle I cétonin 111W111le compris,t2 L'HW.' cil\ 0,0-;- pour cent cn 11:. \ :t ../ :1',01e- i 'LU ri ir L. daie, une q C I 1 1 0 et csn\ U-on 0.tPe, pour cent en . Ju mono \ t_-..11-1)ililc i..1;111-, 1111e compvisc entre en\ ci 0.7 pour en moles t environ 1,1 pour ^:;.:nt cn moles c 11\ dro,,Ièrk' rc>cnt (Lins une quantité comprise entre cn \ iron 62,84 pour cent en moles et en\ iron 66,96 pour cent en moles. 15 Avantageusement, le mélange gazeux servant à déposer la couche de revêtement doxycarhonitrure de titane comprend : de l'azote présent dans une quantité egille environ 27 pour cent en moles. du méthane pu. seni dans une quantitéégide à environ -1.5 pour cent en moles. du chl^lcure d'hydrogène present dans une quantité gale à environ 1,8 pour cent en nioles. du iétniehloruk: ,Ic p sent dans une quiintité egale en\ iron 0.8 pour cent 20 en moles. dc LI;In, une quunint.: cgak en\ iron 0.05 rour cent en mple,. du mono\ \ de de c,il),ne pte,,cni une tiudut nt: e len\ iron 0,9 pour cent en nte1e, el Lie 11ln,,,In _1-He prt:-ent (Lm, un, ju,Hiint..: \ irdn cent en \ I L'LipC k. L.:(1 CHR' I-1 en\ 150 H:imites. 1 r p--,er un, I I ',111 .1111, :new d:ans 1c groupe const tue par : de titatic, L:ai bore x 1:` ",^ P.1! ,F1`0111:1111"e (IC du carbure de La Hum, du ,nitrurc ;IL, H1 d11 I C,,,Ifille 7i /Il 011111111 H1'-, F tH \ t - I L't; I ' l^tt ( çtt ^2 :1 Ill `RI t VI :tL H1.1 \ eniunt, la co rt uche de revétement intew'ciiiiire est diti !ln/ré le tit:iine. ut le imprend out] dép.` 1 WU.' \elle \ (111C pkin1111.0 Ite \ C C Ment \^,1 )1,1 e aire s du ru\ etemeni, et,inprt:iid la couche de te..etenient eaffion 11.1U.e Jc tildlle et la couche de reveteint: 10 d'o\ ^,),Irl)onitrure de titane. Aviintautiscinunt, le procédé comprend en outre étape consistant déposer une couche de revelcuient d'alumine sur la couche de revêtement d'oxycarhonitrurc de titane. 15 vantapeusument, le procédé comprend en outre l'étape consistant ü déposer sur la couche de revétement en alumine une réi2ion d'un système Jc revétement pour surcouche extérieur comprunaut un des systèmcs Je revêtement pour sureonelie extérieurs suivants : (A) une série de re\ élut-ricins constituée d'une de rc\ étement (ro\ \ carbonitrure Je titane et d'une couche rcvetement de nitr:ire d,: titane ; .13) (JIU: 20 eiitiellu té\ élément de 1111111R: de lilitHe et d'utt_ ou rc\ aitrure -1. titane tqktrIC Incrdt, 1/4.:11,1;(11t2,.: e%^lii,...he eit.":111:111 H Hi' Hi111:1 t^.:\ etelltelIt LH 1'11[1.1.11'C c i( 11:k: Li' it)\ element i\\ .iirPoiiitrure d- tita)c el d'une d tirk.. 11- du te\ (»einem Je te-e de (iLiii,,) : I )- [ 1,: p (-, .,1.1i :.,1 Il,' (Liu,: il 1-1H. mp.i.. 1 L[[...;: [ 1.,:\ ,1::1 1:1),,mirm 1:1:inc cl 1.1::': ,H,J -::ic:1 iu:i-ty. lit;u.h.. lik' 1;.' k:[[ \ 1 .H[lic- 1 I in-, [us:11,' L .2[,:wcil:---, .iiiri.--.1,1 j.,.' :cx/ml:I, 'illi1111' 1 1 1' ,..,...A.1,...11,,.: 1 i ii..,,int ,,,-,i,itliti.Lii ,I,) t 1,1i., . , ,i` une ,),: .1,...) de i.,.i\eit)ii ill Jr nitru:',. i. :Hi:. _9_ . 1. -L~ la couche 1|1111111C 1.111,.' t.1C FL'\ C\IL.'1U'111i2 \ I -,111C111. I I 11 ;11 I'1111111:: \ k_J.1 ' 111;111 L'I11;1111. \11t,' IIiI111 ^11111L'11',1%111^, ux i,ntx/ux Wu\ L'1111;..' n\ lit ,0 11,1111:.' ',11.111,1\-,..".111C , cl 1;11 11T, 1 \ .211 CI1\ 1R)II 10 Avantageusement, la couche de re^etement d'oxycarbonitrure Je titane comprend des trichites d'oxycarbonitrure de titane pr sentant, la mesure étant faite dans une vue en plan à deux dimensions, une longueur moyenne entre environ 1,5 um et environ 1,9 um, une largeur moyenne entre environ 0,49 tt m et environ 0,94 um, un rapport d'aspect moyen 15 entre environ 2,0 et environ 3,3. .\ vantagetli,:mcnt, l'étape de dépôt permet de déposer de Foxycarbonitrure de titane sur la `surface du substrat. 1^'\ \ il'h,"11111.111'ç' Malle aronitrur, \ .111 1 -10- a:ie. ',C111111, L. I L'IlH 11 :,,... 1 ''.:In 1,1,1;1111 ,I 11:1C 1C'.2.1 1 le C\ t.'1CMCill.le );111)ftT;I: tv::,: l'1,,r I '1 Ille pie 11,:',11,,C, '-, .1:1CI lléC, s, I l I , t ^ t I. I C, I ' I «I C ti Li 1 : ,.. ; II ! ) I I i I 1.l I : I 1 1.1C , : I L ' [ 1,1::,. ,- 11i 11:11 1 1.1 I,.' ; et i ) 111',1. 1 .:: 1 , LI ,:e1,..11iC le111C. ell 1^.'11:C11: )t: \ 1. I 1,1 C 1 1: !III llll s bsti 1.1,2 J wic Llll s\ siCmc I [L'\ CLCHIL'Ilt sur la substrat : 10 s\ stème re\ eeitient comportant une couche de rL_ ,clement do\ carbonitrure de Cane. r"\ cdrh, nitrure de titane comprend des trichites d'oxycarbonitrure de titane pré entant. la mesure étant faite dans une vue en plan à deux dimensions, une longueur ino^enuL: supérieure a environ 1,0 atm, une largeur moyenne supérieure à environ 0,2 tt m, et un rapport d'aspect moyen supérieur à environ 2,0. 15 AvLincuscmcni, la couche de re\ ekanent do\ earb,,n[trure ale titane comprend des trichnes ).\\ cdrbonitrure de titane présentant. itu:,Hrc étant !rite dans une \ Lie en plan à deux dimcmsions. une longueur ninvenne entre environ 1,5 pin et en 1.9 Il m, une une C1111'e en \ `11 9.-P) IInl et CH \ Il -in 0,94 l m, un rapport d ispect rao\ ^211I: \ ,«L.,.1') et CU\ IfUll .1111;1:..:C1 1 - 11,HP. Ilinrcn1 l'IL'tli'l1l ii I C Ili.c e riche ,2temer:1- 1.t."^^-.' .111C".1 - I I " I'..'llieiti ,uitritr,2 titane ; et lm eiLsinerl emérieur de nitrure dc t"I.h._ de re\ etemeni d alumine. etiscmen[. 'mem tire reHon 1 etemeni n,xx H11,2 H1.1r,ilik.' I):11! I UL'111L'HI. t21 "'Ou1111:1"t: .tit. '",t.'111,2111 s_",t11,0111:11IR' ' :mem. conip,ntain eli cqure 1 L'\ tiC I" I -I,s cL..\ !L-.11L'nt inH(lc.nuche est sur Li IL: de te\ efetilLan LI nitrure de 10 titane, le ,teine re\ etcnicH comportant. en une couelie LIcl"C\ d'alumine sur 1.,1 Lie \ eouelie ; et le \ sterne LIL re\ eRnient eompçmtint en outre une concile de re\ eternent de nitrure de titane sur la couche de revetement (Valut-11'111e. 1 5 AvantiftIcLHeinent, l'oxycarhonitrure de titane a pour formule TitO,C,.N,), dans laquelle x s'échelonne entre environ 0,005 et environ 0,15, y s'échelonne entre environ 0,3 et environ 0,8 et z s'échelonne entre environ 0,2 et environ 0,8. ,onitrure de titane a pour formule Ti(O, (Lins laquelle x 20 Laure en L iron 0.01 et environ 0,1, v Lehelonne entre environ 0,3 et environ -'ehelonne enirL' environ 0,3 et environ 0.7. t2I1 utr I t." WU' L ti I ,.'l i \ 111;C:"'l - I;t11, 1"^,(11',: Liu e Lie titane. `,"1"1111".: 11;. 1 rut:11 I.Hnitnii nilrtirL' t21 ^I /11C0111:;:lh sl",;11 L/.` ^."' ' ittérit hait, litiirc cutre 1,, H. :1 \ Cli ^,111.:"C U C HC;IICI1: 11r,' I I )Al I 1:1:f t.lit I,: LH. I h -I, II. 1.tl'111.111 1111 iii III. I /1 btile de onium CI LIH cL1rHimitrui.;.- ,L1H, Icqu,:l ,LiA, C \I .1-1C1.11C née du substrat Lit.te le te \,etenterit u CIIIh 'nllrllre de titane. I() Av:ii la!,',Clls.C111.,:Ilt, le substrat est choisi dans le roupe constitué par les carbures 'eittentes les cutaniques le borure cubique polycristallin (PCBN) et les cermets. Avantageusement, l'élément de coupe revêtu comprend en outre une couche de revêtement 15 d'alumine sur la couche de revetement cwbonitrure de titane. Avtinttti2eu,clbeitt, élément de coupe Fe\ eut comprend une couche de re\ elcineut d'alumine ',Ur la COLICht de reAeli Illeilt d()\ \ .--,1111()C1111'Ll.:. A' I i1,111C et Cl)H11)1"ClIJ eIl ()Lare, \ :L X11 ,run R OLrnc eleniclit polir 20 ,-.1.1.:, tk ill.' li L:0111 1rCILIH. [III ,,IC'-, s,iti'll;1/4., tie ic,,...'aertient potil 111"Col I 1IL'als I (.\ ''l une sér,_ lle Il '\ etements Lifté .ét IT,t,'\t', iturtii I a .a le ;:t 1111h.' C, %HIC \ CL.1.1 LI ^ le 11111.1.1i, .' Ile : 1 I itk.'11: H1:-.1. Iaec viik- ., 1.^.'`,t'k. I Ill Hill ill. ,1,' 11:,11,' Ç.'i ,I tiu' [ i ::::.1- 1;1: ,2!;:iik. I): ,I,... run,: i...1,irk. , urk: . i 1111,:c i...cic ;.q. tI m'A: C U ,c:,..-wcil: i cic-- I 1;1.:^:111 (111,' \ \ - LIC:IC Jn j n\ein itnniH mi:rw'c in t Enlie une plittE. iii 1,1\ CI:111111H, liil IC Lidue jeu d(. 'c \ è1L`MCHI ci. Wh.' L UHIC :lnn in eniij' 1 le 111,1:1.,:. ,:niinn enneerne i.aissi un élément de co prcul p '0111111CH.lilt OL.11.;IC1.1111 ^;1:),1'..- dune ; dcposer pu t dept n HIL1LIC en plusse incL couche etement IO J un cuitonitaire dc Li tunc à partir pni 11f J u ii nélwp,Ic prenant : de l'azote présent dans une quantité compriseentre environ 5 pour cent en moles et environ 40 pour cent cii noies. du méthane présent dans une quantité comprise entre environ 0,5 pour cent en inoies et environ 8,0 pour cent en moles, 15 du chlorure d'hydroene éventuellement présent dans une quantité allant jusqu'à environ 5.0 pour cent en moles, du tétrachlorure de 111,01c présent quimilic comprise entre environ 0,2 pour cent en moles ct environ 3,0 pour cent en moles, lu 1raC(.10111tflie 111,11C,i':11 1,111', urc' quwvile comprisse eut e environ 7,0 Li' pour cent en nn,le-ni cm n ni u.15 our ccitt en mole,. III r ii li de Cuir nc prc C11\ 11011 P,; .110L111 Cent 241 .0, nul e cm\ ;), -14- .\\tlllltl1lellien1. L ,:ollehe Je l',1'.1,2111 \ \ n-lloni;rure 111,ir pre-,.':11,1:1. ine'u:-,_ \ ik' Lii pli: Li 11 Hile ilileur 1,1 \ ,:rns I U nul. :nu 1.1CHei11. ,t o el 11.: 2,0. AvtiitiHeii'nient. evelemenr do\ \ carl,onitrure de tiudne comoren I 1 1,1'o:1M-tire de I iOule li.eeH Hi H Iii mcsur'.- eLiul aite dHle, une \ e en pion ii dcH\ ,iimicH,ionss. une ion,,nieur mo\ erme entre en\ iron 1,5 !lm et en\ oi 1.1) H in, une 1.,trcur I H o c[nte entre en environ 0,49 n in et environ 0,94 nm, un report JtupcUl Iit en enire en\ iroi 2,0 et environ 3,3. A.vani;cucinent, l'étape de dépôt permet de déposer de l'oxycarhonitrure de titane sur la surface du snhstrat ; et le procédé comprenant en outre l'étape consistant à déposer, sur la couche de rc \ êtement d'oxvcarbonitrure de titane, une des surcouches de IL.'' étement suivantes de nitrure de tu tu u de carbonitrure de titane ou d'alpha-alumine. dans lequel la surcouche de revék'mcni cl une épiii,cur entre environ 1 micron et environ 3 microns. RESI.N11.: DE L'INVENTION 1110121 H ti, Crnit,j) rC^idt: d,111`, LIH 1.1 )cini,..11,11 f,il^ri^iuer 1111 ci HOU I qlp, . hi L oilli11: ' 11,t1.I I, UiuLi couooiuttl c l':,'^. l'IL' 1111 \llI'Ulti sl ii.i. I I I ;,^-'1 ^1i1111.»,lil, '.'1) I ,1,, un,: Li; ,,>' c 1, ,:n1,,m :11.1u.s. ii 'tri il Hui d HI,tft _:i, en ,ntren,fflt : lite qw,n1;ii,_ In;,:i cnt e Li N i I t f Li CC ti , .,.1,.,ne 'I H , une imil d -.: (i.7, i tu .11; ,,'11 11.1,11 ,_ Il \ 1H .i 1 fliuiiLti CLl Htfe. Liii tiLle j il \jh III,. 1 1:1,:11: .,,I ;HI', Hic ,.111,11'1111C liiHi IiJtiueiI\ il 1 i''',.11 L, 1 , ii I:i .:11 H. II,i,_ I l In': 111,111C Ili iiCi Ilm,: ;111,1[11;b: ,:,,iii)ri,,,,.. entre cl:\ 11.; ill 0.2 p tir cent en luole, L.1 en \ !Lon25 I \ I :Hi `1`.11)1 q111 . 11HC -iL ,Hr -15- C0HIT)I-r-C ,111e CHVH.OH Ir0I1 H \ - :11;:H 'HW]. 1 .1,11),,IL,11. It:\ C0111i)011::xn rt.:\ C1,111,..:11 \ \ C;11.H ill;i11C \ C;.libt^HIHUR.. !WHIC ,201111)1";211,1 dcs, Indulc^ \ 111:111e.'W, ,'H \ C.H.NorifirlIrt.' de di:Inc ;J\ nuit 1011rUCLIr HW\ CIII1C supérieun !environ 1,0 ti.1.1.1, largeur supérieure à en\ iron 0.2_ !i in el un rapport d'aspect tiniu.iir:t environ 2,0, mesures dans la vue en plan 'à Lieu\ ilimcn,ion, [00141 Sous un autre J,Lcei.lin\ ention réidc dans un élément de coupe rL^1.1u produit par le procédé comprenwit les étap se procurer un substrat d, ^té 15 d'une surface ; déposer par dépôt chimique en phase \ apeur une couche de revêtement d'oxycarbonitrure de titane ü partir d'un mélange gaieux comprenant : de l'azote 1.,:scrit dans une quantité comprise entre environ 5 pour cent en moles et environ 40 pour cc nt en moles, du méthine présent dans une quantité comprise entre environ 0,5 pour cent en moles et wu iron 8,0 pour cent en moles, du chlorure d'hydrogène é\etucllemeni pre,ent 20 dan, une quantité allant jusqu'à environ 5,0 pour cent en nioles, du tétrachlorure de titane présent dans une ,Inpri,c entre en iron 0.2 pour eeni cn nioles et: environ 3,0 pour cent en moles. de facétonitrii,: present Win, une quantité qljprkc cry, iron pour cent en mole, 0.15 pour ceii; du I (LH, ':1R- CH\ ir - 1:1 LI I ,11\ ,:ént en mol Ili\ ,cm ur Cent Cli moles et ^s11\ Bk. DESCIZIPTION DES DESSINS I 00 1 5' I I MIL' H. I, -16- 100171 La fiirc n inecn cnn en re 1:CHI :L'HUC I et H 100IS] La fii2tire 2.\ esi tin,' LH ie eeiitant Lin ^L'11:111;1 illL 'iinliniC en coupe trans\ crsaic d'un autre mode de 'ails:Ilion spL, nique d'un s\ siCiiie \ eiei ['eut sur un 10 stibstritt ; [00191 I.Lt tiii2ure 3 est une \ ne représentant un schéma mécanique en coupe transversale d'encore un autre mode dc realisation spécifique d'un système de revêtement sur un substrat ; [0020] La figure 3A est une vue représentant un schéma mécanique en coupe 15 transversale d'un autre mode de réalisation spécifique supplémentaire d'un système de revêtement sur un substrat ; [00211 La figure 4 est une vue représentant un schéma mécanique en coupe transversale d'un autre mode de réalisation spécifique d'un ,^siHie de lie\ êtemient sur un substrat ; 20 [0022] La fii,mirc cst une vue represciiiiint 1111 --- tenta mccailique en conne ns I H nitie nie Je quc d'uH HIH etement stirun di 10023! I tiaine 5 et nen \'ne ej'iHe11;:t11! c re 1 '.111 ',lir lin 100241 I 11,. lin 1i,fl\\eiy:l d'unduite - -1',11',1)CL:111 1,1,1 lur,1 II ',11: I" iiiie vue n de Ria iii .11 [00161 cl' in elépuiint Liment tint (i_i\ inhis int d iirionar -17- I00251 Ici li,'llR.' (3 ',.'',i, HiPs.' 11 L H; 10111ft'l 1. -111,1:1^111C 0e la '',1.11-L Li I CIL' r ''(..' 11;;IlLs 1:ri rc \,,mpic , ...[H.,1) n I 1 I --, ' , n i 1 i e : ii I i S I . \ 1 ici 1 1: I 'I 1,1 oue a un,.'. I ,. 1111CR,111eile.,, ; [00271 ne inuige omicri,',1.;[phit. surface de la c,,uche dc lemeni d cdrhonitrure iirec I cselmlple dc rinscniion nû rH: opc électronique à balaya.,'c photomicrographique a une cche de 5 inicroilieircs. DUSCRIPTION DETAILLEE L'invention a trai nt de coupe revêtu, possède un substrat avec un sssL''me de revêtement, et un procédé permettant de fabriquer l'élément de coupe revêtu du sssi.ne de revêtement. Le système le revetement comporte une couche de reveicincia d oxycarboniirure 1c titane deposee par dut chimique cu phase sapeur (CVD) à partir d'un méliingc Lin c \einrle particulier dc ,uic cst un substrat de PcPNr. Commê Vd le (ljCrire d;11) I dC-I\ 1111.12.L2', (par C \ellIrk1 WU' adlléRal ;lu1111a0Rjt..1) lié,. I LI (alChe dc uenicnt de de \lu Li .l11-lace vil pi'code de ri!) \ H11 :C's 01111.111 Rippi,11 sssielifts de dc. 111F):: 111.,.111illal / 1,, Ira.,.1111 ;IL' 1:11^.',. I, a:11, Hi, 11:;aall, ', 11 1; 1 ».II a LI [Hl. 100291 irR. 'cri ;; 111..,111R. - .11L' al:.1 11.1: 1 -18- [00301 C0111flo,i1 H'. Il ,. )0,,c1.1 "C\ ,'_11Ic111 11'1,01111r111-Ls 1:11I1C I ///J .1 1 ,,11 1 1:1 Il II Hi H.HILLIL t cime 1:\ H i),;" en\ iron >.f! pour ,:ent cul w. ehLynN.: 'w. 1 CH\ , .{) pou \ 0,2 pour eri t en !roll 1 .1L_ j,in- ql1;11111k.' C1111-C L'il\ 11.0 1, "1H e'1'11 C1.1\11.1,11 01') Pour ccnt 10 rnoles, Jc mono \ de de ,11.1)01) Hnc. 4L!111.11L2CollirrkC entre environ 0,4 pour cent en moles el C11\ l'on 2.H1..) ,H.2111 h \ prés.eni (.1:11p., une quantité comprise entre environ -11,S5 cela- cn ii)olc, ,alviron 93,;;s cent en moles. [00311 Comme autre option pour la composition du mélange gazeux servant à I 5 déposer lit c, ,uche de revétement d'oxycarhonitrure de titane, la composition comprend de l'azote présent- dans une quantité comprise entre environ 10 pour cent en moles et environ 35 pour cent en moles, du méthane présent dans une quantité comprise entre environ 1 pour cent en moles et environ 6,0 pour cent en moles, du chlorure d'hydrogène é \.21-1wcIlement prt.sent dans une quantité allant. jusqu'à environ 4,0 pour cent en moles, du 20 téiraclilorure i,. e titane pre,ela dans une quantité comprise entre em iron 0,5 pour cent en moli_s et en\ iron 2,5 pour cent en mlole.,, ,H I'd,:jioniiriL. présent dans une quantité c(-,rItIrke ;:nirc en\ iron 0.02 pour cent en moles el en \ irou 0,1 pour cent en moles. du m,,Ili,Hr 'Jecil present dan, turc tiu,lntiic e,)iiTri .'n:ire en\ 'roll 0.1 putIr ,,.citi cn 1 lc, .'l ,'11'.,11H.11 .>'; polir /u11 :.. I 1C', l't 1.11\ tirOLCH ',Cil' (LIII, line q ,HIIEIH COI:1 I ' ,:nr,-(- (,-nviron 50,(,) poul. 1 Ce H 1,.'`, Cl CH \ IH ,0>, r',,, ï en tHo CT,:inic ,Itit:, I ' l sCILI,, 1 ,,L1 1%,\111,111 ^.11.1 ;11,.1;:11::2C .'....I/CW\ I ' ',1 ,'L'fliC11; t. . ',.,111,,':111r1.;1^ dC :11;:11C, 1;1 011:1 -111,,:l ,,,,111p:',211,1 ,.:',2 i w fi.-.: 'nt 11;.,.' J ;;11;i:,..' lp ,.H- H),1! ,snirr c dc'-.11-IL'IL lr Lrnc I \it LUI\ d`I I \pe I rirre u ne-Hrri [00391 I ne en sw-f..1,:e 36 du sul,s, p molt Cl Il I I, \ Jij',IIli 'iii III ;1/L'in, I( I cri III 'les [ row.e.liettt: dcicitipernitures i^pr.le pLu ,:dn..pot par r L'Il e ]I' I 11H.2 Cc eteinert,:. ulHles dip,: du iii nie ire pci cri en,inprt..' 100401 :1 1 terri rcdi.Hrc Me ,pirc lu rit rire CVD dch eouche de re etem,:in de nitrure du tirrirle 11'\ t..`1r'v"ift HI() ( - 10 environ 950 C. Une autre Mirrulicilu i.inpéritures pour le ddpdr par ni D de Lr couac de uc dteiiient de nitrure de tiLine couvre entre environ 850 C et environ 920 C. Une temperature préférée pour le dépt) p.h CVD de la couche de revêtement de nitrure de titane 38 est doute a environ 890 C. l'ne Lourchctle de pressions t^ pique pour le dépôt par CVD de la couche de revêtement de nitrure Je titane s'échelonne entre environ 60 torrs et 15 environ 380 torrs. Une autre fourchette de pressions pour le dépôt par CVD de la couche de revêtement de nitrure de titane s'échelonne entre environ 80 torrs et environ 150 torrs. Une fourchette de durées typique pour le dépôt par CVD de la couche de revêtement de nitrure de titane s'échelonne entre environ 10 minutes et environ 60 minutes. Une variante de fourchette de durées pour le dépôt par CVD de la couche de re êtement de nitrure de 20 titane s'échelonne entre environ 20 n'Ulules et environ 50 n'imites. 1. ep;iiseur de la couche de révklenit.mt de nitrure de titane est d en\ iron 0,5 microniëli-c. Une fourchette puriiciilidre Mur r'.1")dkcul. L'ol1L1.1t2 ale re\ elenleill Lie rliirimre de araire co. entre \ 'II 0.1 muicrrnrdtrc el CH \ liii H'ii- rida me-. I ne ;uiti'c I ^lk.' ',t'ill. I (Ir de C ii J e Lic re ctcil remit dc ii tOue Ir.: I tI:Hie cf cuiR. eri I ,n 0,2 L-J cire clC 25 miL:rotii,lp, itelits de 30 !ii.[ /IlC r iii r ri euHtruie de zrreururm I 00411 lriecouche ré', chcTilenfl dc earbonitrure (le matte p-r '('\ ' riique Cil li Ltse )etir ino\ curic température \I I ( \ I)] Hi \ ;I ' I 1;11).: i rH .iiiti. ..n :,,tircent.:,..i, il, ,lati ,.. du ine e '._-'ticu \ Ti( I. : f )99 cc, 11 ,le-. N o)(, ' môle- . I I H. H t.:111:1 Cil( N 1 L'Il ]]iHH,...- Etc:1 I ] iL I uicic- ' dc I HM r0'0 111.11.0 : \ rkitl,...' (L'I'01 I. (._i_ \'1-.) de la 11.1,'hC i ).,iliauré ,le titane 40 il \ re entre environ ,_ C et Cil\ Ir 950 c.' :mile lourcliene dc Hniper,iture,, L. dépôt par CVI) de Li couche IO \ etc]]]-]]1 lic HH]H0Ilitrnfe dc LilIc dU eut] \ e entr,_ in ri 770°C et environ 900 C. Une température picicicc jc111.H lilpo! par C\' D de Li couche dL.' re etementde carbonitrure de titane 40 e,1 ccc H c cu rni 890 C. Une fourchette dé prés,ion, t\ pique pour le dépôt par CVD de la couche de revetement de carbonitrure de entre environ 40 torrs et environ 150 torrs. Une autre fourchette de pressions pour le dépôt 15 par CVD de la couche de revêtement de carbonitrure de titane s'échelonne entre environ 40 torrs et environ 100 torrs. Une fourchette de durées typique pour le dépôt par CVD de la couche de revêtement de carbonitrure de titane s'échelonne entre environ 60 minutes et environ 360 minutes. Une variante de fourchette de durées pour le dépôt par CVD de la couche de revêtement de carbonitrure de titane s'échcl,,nne entre environ 60 minutes et 20 environ 180 minutes. L'épal-enr de la couche (.1'.' ëtement de earbi,nitrure de titane 40 es] d'environ 7 micromètres. Une fourchette particulière pour l'épais',cur de la couche de ëicruent de carbonitrure de titane 40 est entre en \ Ir0f1 2 inicr,.,Intre, ci environ 12 riliCr0Hlircs. Une autre fourchette pur lépaisseur de In cuHic dc IH\Liement dc cal bonitrure k Man st cuire L.'11\ i1.011 3 micromètres et environ 9 micrômetre. 25 P10.421 11 c s.erver que de-, leincuts earhônitrnre de ler0 c ; a'bo ultrt i I r 111;L'ITI i;11111.^..' ;111i ^«,11.1 CCI le I tR. luira u. car 1,,' {:. :1';;2:11 '.11/4' I I Li- ) ^1:11)1,2 nkpi,,ML.11L -24- [00431 Lit ,....t uch,s.: tic c\ cft-c;,:n" d \ sIc I TriMe i 1 ct Hcp»sdc par (^11-) '.ii li'u.-1.1,..L.' (-[: li cuclic,1- 1.',...' ICHICIL irbonni inélsinêe I Il Lit -- I IJc ci c acle I CM,'Ill iiijiiiJcjji:rn5 H il) eau IN ",relicile. Je 1,iiiip,n'alan,J CVD de enicrn nitr' e 11 \ 1,2 cn:Jc , j III C Ci crn t.,0 L e ,ici e ,nr ic (\ I) cc L1 ricIc en:re ern 92i ne leniperainre pic fiNi ic titi Ci prir C1'F) dc ri cc dc ic\ cicrc ilt10111i1.1.11,_' tic -3t--1 dl,: 001) HicHurelictic dc prc,,,,wn, 10 tvpiquc pour le ticfu p,r CVD dc la e ijie dc re\ eicineni ibonitrure tic tilaiie schelonnc cnirc environ 60 torrs el environ 500 torrs, ru,».'^1^'11', pour le dépôt par CVD de la couche de étcmcnt c5]].11,,nitriire dc tibmc CejiellIlIne entre en ^ trou 120 torrs et environ 400 L01.1S. On peut donc constater qu'un ensemble de parainêt,-, reliiiirs a l'étape de dépôt pour la couche de re\ etement di \\ carbonitrure de 15 titime coluprend une température comprise entre environ 800 C et en environ 950QC et une pression comprise entre environ 60 torrs et environ 500 torrs. Un autre ensemble de paramètres pour le dépôt de la couche de revêtement doxvcarbonitrure de titane comprend une température comprise entre environ 895°C et environ 925°C, et une prcs,ion comprise entre environ 120 torrs et environ 400 torrs. 20 [0044] Une fourchette de diluées, 1\ pique pour le dépôt par CVD de la couche de re \ etement d'o\vearbonitrure de titane NdeIicHnne entre environ 25 minutes et environ 120 minutes. 1. 'ne variante de fourchette de ilnrees pour le depôt par CVD de la couche de lc\cicliictli nlionitrure de titane s'échelonne entre en\ iron -10 rrHrtiic ct Cil \ iron ()0 L ep.a ,cur dc la ouche tic rc cicin al ;Arhnitriire de en\ i- rl ( t en\ii I I r r î on k ii ii I i I h. ii 1!^ ' [004:7 ' '.:,H IC c " 11:',C CJe Je I.0 \ 1:1 due 11.,:iiJ ,1 cmr, tis:11,..' ,i.,> r L'il: ,1c 11:.iiIC.c :rcrrc cl I. i ..,'1,'IM',.':11 ,I, :11"b011:11.alfC Je ii::"ne, Par aille,as, il cornier': d bsci 'CL q"." L^11,.2 ,... G '1,1C, de ciii e,trH cii ' T:1:^.' 11 1111LT, rc-- 1i1ctLLiicinicllcHcp Ipjcide 'innii.e de OLdiiC 44 L entre environ U,) nnew ire crar la cotielle ,_itIl'i.ill'.1Ii..ir' Iii;Ii'ii CI H C IC\ CIL'HICIII. P ,\ \ ^...,irl)iiIIIII I 1.1.Li, I i-c\ (il ri o.itL.iiici: rc ;).,..nti ,soi,i .sli..,.. i:ii,.. ou iiIH,Li ' 1.il lio-:ii.n:-c Lin. Hoii,.. c,,,uil l'ILI ,..,I,' ',I1,iN,..'. ,..',Ill'HI,_ .5 ',11.:1 '11,1L', :Ili ic d ' lit,a:e »Hl i . r.' d'' luaioitid: id e 11,1r'' ,I,' h:Liiihoni. du :u1,0 PLI ' /II ori:L1111.-1 in carliiiiitriire 1)4H Une couche de r16 d,:pô par CVD sur 1:'! surta,': 'ouL, le d. cicd-km: d'ox Hq:nrure welan 4111 10 sert a d r COLICIIC Jc iL \ :ôniprend typiquement compris le \,diume L'n pourcentages molaires du mélui,2c g.,i/cum : AlC1,3 (1,53 H en mole,), CO, '; en moles) et 1-1-, (8-1,95 1, ci: moles), I 1,8 (0,13 en moles) et HC1 ; en moles,. La fourchette de températures i^ pique pour le dépôt par CVD de la couche de revêtement d'alpha-alumine 46 couvre entre environ 800 C et environ 950"C. 15 Une autre fourchette de températures pour le dépOt par CVD de la couche dc Fe\ etement d'alpha-alumine 46 couvre entre environ 850"C et environ 920"C. Une tempér:aure préférée pour le dépôt pur [\/[) de la couche de revêtement d'alpha-alumine 46 est L''.2ale environ 900 "C. | ocf,'v/dN|edeprcyyionxiypiqucpour|cdé 'tpur[V[)dc|ucooc|u: de revêtement d'alpha-alumine s'échelonne entre environ 40 torrs et environ 150 torrs. 20 Une autre fourchme de pressions pour le dépôt par CVD de la couche de ué ëicrnent dalpha-aluidiné ,iéchclonne entre environ 60 torrs et en% in ')() torrs. Une fourchette de durées typique pair le déi)i)t par CVD de la couche dé rc\ cicidcw d'alpha-alumine s'éche- 1,,Iiih: cruk: L'In, IL )11 hl) Ci Cll 600 I1C \jrillliC rOUrCill.11C durcv. pour Ic lépot 'VD d- 'ment 41:a.-alumine secheionnc cuite \ 12,U 1.11.1ii, enviion 1 i lUiiIII:Ii.2 1 - 1 ' .I il I 11',i11.^.',. I IlL ICiIt.',... IIIC ilIC C|`.11, I, I rt.", 1,..II: C;I:i,H1 ,Ii'W.1111..' CHII^.: t2:1\ ircifli I I.i:^_ lu In,. li,1 1C:ri'', I IiiiIi. I I i ,HrJr I:: H,.I '1,:il:(.111 L'Il \ IP I [(111-171 HP, \In. LH: >LIH,11...ii -26- Ili il, - ri' Ill 1.1.11-C 'MF -(`vD), -I() 11Clikl '[,21 L'1)1'211!' ,I.1.1)11;1 ; 1110-181 ;:icincrit 22' H NI,ortc -hc /r\ùuouo cmcricurc ti - nitrure de titan ce qui eu,..(2:11,2 oper.[Hir,:s perinewint de déposer eotIchc cleinent de nitrure de titan- le !Held: J/en-,. oui ',cri ep,,seri.icuclic fc\ ;2R..mcni dc indure de litime comprend pidikunent (y compris le volume en pourcenta.:2es en moles), NT, (18,)8 inoles) et H: (79,11 en inolc.). fourchette de temp_ir,itures typique pour le dépôt par CVD de la couche de revêtement de nitrure de titane couvre entre environ 800 C et environ 950°C, Une autre fourchette de températures pour le dépôt par CVD de la couche de re êtement de nitrure de titane couvre entre \ iron 850"C et environ 920°C. Une température préférée pour le dépôt pur [\/D de la couche de revêtement de nitrure de titane est é?..ale à en'iron 890°C. Une fourchette de pressions typique pour le dépôt par CVD de la couche de revêtement de nitrure de titane s'échelonne entre environ 60 torrs et environ 380 torrs. Une autre fourchette de pressions pour le dépt'o CVD de la couche de revèlement Je nitrure de titane s'échelonne entre environ 80 ions et environ 150 torrs. Une fourcliciic de durées t \ pique pour 1- lepôt par CVD de la couche de re\ étement de nitrure de titaiie s'ecliehmme entre 1() minutes environ (C! minuic,. ("ne miaule dc fourchette de durées pour le dép.'[ (TU dê cotich;.' de ,ulicru de nilrnre de s u8/r \ 11111111;Cs, L'Il \ IIIIIIIII.', i i s 'in (1.-> iii; C kill'R'lli, d.' l'Hilit^I'.> tlk.: IILlne ril.kii.','Ilft'llc I H,: l IFLUSil I) I l,i11,,It. I riti*.;l1 dc !d mirwc '0.[ I I CH\ ibll Mi il _ :Hi I ftlYil:i le,,,,,,_ I ' iii..L.' Ci;l' Mi ki:: n'III Olt' d H,Ire ^ ei Il : :1: 1:ICl 30 loo-191 dH:111,L nraure de titane sin la ' :1/4111C11( un (1,2 ,Cernes -27- eteuwilt pH! sut, )11a, carl)ouItture de titane / nitrure de tHne; nitr,. I, Hut», '[1.1)otittrur,... I ire , tittt:tit.' ; ilittHi Hittut I out : 'Hutu, ,fo\ HL. malle bliture iticid' no, fi, po:tr \ 1,2\ ni. I ICi in ()Lie ^11 , I iC H HI H. 1.00.7-01 sc lent.tinectiniqtte en coupe ensale d'un Jou \ L'Hie modt UIH tAis.diiiin dun trik.iiment uprenant tut H st[bstral 7- III etre ,ruel,uttique [),111111 10 un niLiiiI 11n11;i1iC LIC111,[1é1-1"1' \ LU uH IrH pItlfr]n nklIl I IIIII\!!tlll CII 1,;111 LlLiclLincnt de coupc. \tu,str,it 52 ptt.. ,1-,1c 1.I .;.t 511),sset. Li tin \1,2111C (IL' \ flitr(iC\\11:\. I L HIclIic LIC 5( LllIllpICI1CI [WC CutICI1C de r,)\ etement (In base en nitrure tic titane 58 depos e par CVD surlisurfdee 5-1 du substrat 52. Le mélange pieu\ qui sert U déposer la couche de revetebient de nitrure de 15 titane 58 comprend typiquement I^ compris le volume en pourcenLH.rcs molaires du mélange gazeux) : TiCI4 (0,1)3 `: C11 moles), N (18,08 )U en nioles) et IL, (79,11 % en moles). La fourchette de températures typique pour le dépôt par CVD de, la couche de revêtement de nitrure de titane 58 couvre entre environ 800°C et environ 950°C. Une autre fourchette de températures pour le dépôt par CVD de la couche de revetcincnt de 20 nitrure de titane 58 couvre entre environ 850°C et en\ ion 020°C. Une température préférée pttur le déplu par CVD couche de revêtement de nitrure de titane 58 est et)a vioin ti(-)0 C.L. Une fourchette Je pressions H piquc pour le depot pur LVD de la cotte e LIC Fe\ Lumen! de nitrure Jn tiLinc cchelonne entre CH\ 1H Il LOIT\ Cl on viron 380 IL' Juive loureildie 1L p1nii ,-ur le tlt p11 (-'- il) do rd t'ouche CIL ti nuniic LIC iiirie iJ] Hl torrs cil tini, 151} iorrç Une k iiC!iL'l IL' ds: r( \ I) .1,i riii couic ,uilre LII n Ii I :Hulule, ni n Ii u, I IR ikIIL 1:111.11..C:1^2 30 IlI1IC H I I I I] \ I I '1 51) uiiHIIIn I I I I CIHiulI ILS IIIC1IIILLC.litItc ).diss lir kL In 111,1:1C ().1 2 IiHnHH ICIIn I IL uttulin tucI HIC Inun HPuII°'nIIJn -28- la couche dc rc e(cmcm dc liirliic im\[[[[-[n 0,2 micronftHre el cn ion micromètre. [ 0051 1 Ck.'111LIIL (11;u1LIC ' 'n cri) ^1C L',[1.1),^11:Inc.-C, de ,)\ci-NDi tri cc ii IL L I 1 Il J .1 riîcrn N dc hinirci. \ cii L ii a tu,ri.tmt)t c pdci iiprc dc ic dc rit:\ LttcHicrit 62. Lu rourcheme de tenipeiL[H1,-, 1\ pique p r Ic Jcpôt Uss, D Lic r,111.c,, 10 dc cuLn_ lies de le e:eincla 62 COLI \ c clic CI1\ i011 /50 Cci CII\ '11.011 ()50cC, Unc tille fourchette de temp,..'ruturcs pour le dépôt pur CVD dc s pu es de couches de revêtement 62 couvre entre environ 770°C et en^ina )00°C, Une icniperiiturc pididôc pour le dépôt par CVD des paires de couches de Le\ eiement éalc a environ N)0 C. Une fourchette de pressions typique pour le dépôt par CVD des paires de couches de revêtement 15 s'échelonne entre environ 40 torrs et environ 500 torrs. Une autre fourchette dc pressions pour le dépôt par CVD des p.ii.res de couches de revêtement s'échelonne entre environ 60 torrs et environ 400 torrs. Une fourchette de durées typique pour le dépôt par CVD des paires Je couches de revciement s'échelonne entre environ 10 minutes et environ 150 ntii]ules. I [ne variante dc fourchette dc durées pour le dépôt par CVD des "mires de 20 couacs dc revêtement s'échelonne entre environ 40 minutes et environ 120 minutcs, [0052] Pour clinique Hire de couches dc Cicment 62. léplII\cLIr d'une paire de Henlein d'en\ iron 1,5 micromeirc. Une rourchei[c w-ticulièrç.' pour ;Io paire de couL.Tics, \ Ic\cldiuicIIl 07 ci entre enviti,(1 (1.2 titticrorn;'^P,tt ci Iurlc 111.\:11CLc irr'i'éptj tctIurc II!"C 30 inc CIL iii 1)5 hilL :Ldirc t cri\ ii ruimiqrç..--t. 100531 [int.iiir., I.1 1: i :il \ II, 1 i [ [ [ [ ni[.. H- le:luk.' 'ii [il d c Ht einvir u [ [ r:[:[[,: Ik[ iiiic ii [Hi ttirrt HI 1.1111k' cL 11H cO C: 11!"C cn \ 0.5 rijdirIkI:c L) C11\ HL 01k rà'liC d )0(1:[ par \ D ,I,' 'ouche D: r,, CICH L'H de L. o n I t ,nu re le '1[;ille 1-1,'1111:: ell:L: L'H\ iri,n, 40 tor:', L'::\ 1.,,n I 5N 1 i 1. nt; ..itilk.' tucicit.,,' i i- ir Ic r»): ! r (.\ D ,I,.' I" :1"Iil de ' lin] cl),-,.., cr, \ r,,,, .0),,,,T., i 10H .11C '1.11"C 1,1 ,111q, o(\/) I miluitc-, ci.:\ P num, ;r1;;111.L.' 1%,i1,:t.'L'IL , 1.0 \ i2M1^:111, 'LLs ,1 's 10054] Pour | vxelie e ;liement d','\ cirbonitrilre de titane 68. epaissenr 10 la couche (1,' \ CICInCni ifoxvcarbonitrure titane 68 est d'en\ iron 0.3 micromète. t'ne fourchette de pi-.2.ssions typique pour le dépôt par CVD Jc la couette de re etement d'oxycarhonitrure de titane s'échelonne cl It ne environ 60 torrs et environ 500 :orrs. Une autre fourchette dc prc.ions pour le dépOt par CVD de la couche de re\ êtement d'oxycurhoni|nuvede titane s'échelonne entre environ 120 torrs et environ 100 torrs. Une I 5 fourchette de durées t)pique pour le dépôt par CVD de la couche dc revêtement d'oxycarbonitrure de titane s'échelonne entre environ 10 minutes et environ 150 minutes. Une variante de fourchette de durées pour le dépôt par CVD de la couche de revêtement dloxycarbonitrure de titane s'échelonne entre environ 20 minutes et environ 80 minutes. Une fourchette particulière pour l'épiHseur de la couche de re^etcment d'oxycarhonitrure 20 dc titane est entre environ 0,1 microtilèlre et ci-IN-troll 2 micr^qnèrc,,. 1.ne autre fourchette pour I'Lpiisscur de la couche de ic\ eten Rlit d' \yearbonitrurc est entre environ 0,2 micromètre et environ 1 mier,,nietre. 0055 line couche ( re\ 'emelt dl: ha-altunine 7? est (Uni. par CVD sur la 11,11,». ,..\ Le itiel;inèe Leu\ qui -C I Ce "f I o|nud |'`/ I -30- Iej pret e pour 1,, Hir( \ I) Je IL .,011,11L, cHcinciv _ Lon p:ir couche hci(InnR: -0) Cr:\ I I ;);',1 - ( I) eneiie Je I iicionhc enlic ,f,) 1 Ji,et Cil\ )() -,-:rchcl!c Lie LI le \ Ci, I 1 ale la ccll 1 ' miiie ,ditre 61( envircu 66H die.. de pour L.LteflLl rCDde la coi ilp la .LLLLiime entre iroil 120 minute- 360 !Mutile,. lep.,( IO sd d cl-1\ Hom micrtmicnc-.. t iie otik hcute partioati,d-e )Our lépaisseur de la couche de Le\ élément d'alpha-alumine 72 est entre environ 1 micrometre CI en\ iroii 10 micromètres. Une autre rourchetie pour lépaisseur de la couche de re\ êtement d'alpha. alumine 72 est entre en\ non 3 micromeu-cs ci. environ 8 micromètres. [0056] On -e rérêrc h la figure 3A, qui présente un autre mode de réalisation 15 spJeirique 50' d'un système de re\ éteineut 56' sur un substrat 52', Le système de revêtement 56' comporte une couche de re êtement de base en nitrure de titane 58'. Le systcme de revêtement 56' comporte en outre une région (accolade 60') qui comprend une pluralité de paires (voir accolade 62') de couche Je revêtement. Chaque paire de couches de ru tement 62' comprend une couche, de revêtement de carbonitrure de titane 66' et une 20 couche de revêtement- d'oxycarbonitrure de titane 68'. Nlenie si trois paires sont représentee , on n'a pas 1 miel-mon LIc limiter le nombre de paire, de re\ éteint:ni noinbre spc,. irk ue. Le s^steme de ré\ etement 56' comporte en outre une couche de em Ton .(06 ( 1 1^.,1.1: 'I rc,'\cichlc:t1 iLLiphia-alumine Je eiieIie Jeré\ etement nJ meules qui con ueIie Je LeLeteliLeut, e la paire"( plus Ls.\ terne ('4 - nt 68 et 2 Je es en ce Hi! ^211 :/^21.1\ 11111571 111II IL Le Je ie\ cRI lu 1 11( -31- (I i. CII MOI .-:',..1IN ' ,Cri niole er. II) (79,1 l ', li hiole . H trclrer1eJe i.tl:e riLjcI ( \ I ) de i.i. Lici1:ell,2 Je 1 \ eieniLini de .1:1!'lli'C ,1,..' I ' L Ili' I'A.H. pour 1,.: ILT' i 1 si, ( \ I ) HL j L CL IL CC CiC]ILI)t ili' HI',H1;': en\ :i >,,50 L Il LI) ( .L i.:,1 pi:lionne L\ LILiLLIII L 1111r1.11:' Je I iinIic Ci C I 1 1,1.,1 I 1, J.'I ^I l',.,I U 1 enehe Je . ,,'I,'HICII de iiiirilre L1:LHI.' séclieldn nilL 11 \ 11'011 H ) HIN en\ non 3S0 I1 ,iutre l`iiini_ leu 10 en\ iron c, environ LI tords. Une tourcheite de iuICC N pl(111C ntIt11. CVD de la couche de rc\ etement de nitrure rie titan,: ,'L'eliclonne entre en \ iron 10 minur,-, et environ 60 minutes. l ne variante de four eurees chette de 1 pour le LlepOt par CVD de la couche de re \ Cumula de nitrure de titane s'échilonne entre environ 21) minutes et environ 50 miiiut. L'epaisseur de la couche de revêtement de nitrure de titane est irciiviron 0,5 micron-lei ic. l'ne rourchette particulière pour l'clmisscur de la couche de ie \ ;luit-rent de nitrure de titane est entre environ 0.1 micromètre et environ 2 micromètres. Une autre fourchette pour l'épais-,eur de la couche de revêtement de nitrure de titane est entre environ 0,2 nucromètre et environ 1 micromètre. 100581 La demanderesse en' isitpc que, plutôt que d'utiliser une surcouche de 20 nitrure de titane sur la couche de rct. Hcnicint en alumine. on puisse utiliser un des 5\ sternes rie re ptIII iircouche su; itnis : oxvearborilirtirL' de titane / nitrure de tiiime nitrure de unie / edrhonitrure de titane / nitrure de titane ; ox ciirbonitrure / eilrlioniimre Je t Luire / nitrure de il urne; multicouche-, \ Lhdrkinitrurc de (itwie / nitrure iiiiIilC et iiitilincouelles il'ox \ Ldrrioniiritre de duale e;111)oniiruk: Je ninie. I es lelie Je d. fme,tt riche 25 paits1; que 11 ii tI flI L*r H: J,\eN iwtHriati,\. Je iC\eu1icrIt sont les meules que ceux de L LYHI a re dcre\ererucrit 107 con-Torté nit'tInis cHlv,ent illIIII'L' ,1 1 i \H ( \ l) HU). Lit': ,e Ire'.c,11: L e Celle de I ,t1C1ItClil , 1111Et:IC i.lt.:111C IH t I C, ,,t' E'',21 il, :,:lki:',t111 t.L.' l',11C' ,i, 1'.1 H(t '11[ rt:';iPtitiL'Htt_'11^ L1:1,..1t1,:, t:ti \ 11!,01, Ill, [IL' I 111...1.1l. I 1 N11. ( \ I) ':0 ,1,, I ,al, J IIHH 1 1 HIcH1 1.^-^ con:pre:1;.11,.:1.... regi,,n I r ) s) LILII Collt1C11; 1.1:U: 'J ui'tJ le ,tire, , ttli..'h;»,dc it.t \ clt_twe:'.1 c,11-11,,,M[rul",: fIrth H1.111k'''IR ^.trtt21.11t)tri, .1)01.1r ki:_pt 'I' ' [H^oillimpt :1;;.;11,' pl',ItICills_IH,'111 Ie IiiCIIie qtk.' itïlie 1"tr t_ttLICIIC CH111C1]1 \ t ')11111t:IC de turrire Cl ce 1.111,2,rr 10 u,Ime...res opératoires udit'',H LU t.:Cpt,C1 I ,i JIIL-HIIUI U He PIHHHLIeII1CUI!C, 111C111C, que ceux 'm'Irise lotir le (lérot de Li etemerit cralplta-alumine 46 d,'1,tri,..,.tire 2. [00601 On se réfère J la figure 4A, qui présente encore un autre mode de réalisation spécifique 100' d'un s\ stérile de re\ etement 107' sur un substrat 102'. Le 15 système de re\ étement 107' possède une couche de revêtement de base en nitrure de titane 104, une couche L rcetuet-it par MT-CVD de carbonitrure de titane 106', et une région 108- comprenant une pluralité de paires de couches de revêtement d'o.\ \ carbonitrure de titane et d'alpha-alumine. les couches de revêtement 104' et 106' et la région 108' sont pratiquement les mêmes que ILH couclies dc revêtement 104 et 106 et la région de 20 re\ etemem 108 de la figure J I e Rme de revêtement 107' comporte en outre une couche de re\ ètemcut e ft:Heure d nitrure de tiirme 110. En ce qui concerne les p',.tranlètrc cpi JI, 'ires pérnieuunt (le dépos'er 11 couche de revêtement de nitrure de titane, 1,,.. Inelai.._,.._J/cit\ qui eit ii dép. 1 H Huche de tH\eieweîii de ilitl'H1C IL' [ibn(' lui rend t^piqueitkall H colin,' H I ,alith... en our,.';.'ni,i2c, rridanres du nielane ce/e1 ICI (),,, Hr ir r I :;.(N H ,:r1 riuiereI Il 1 I eu '1, L.', IrChClte Ie (eIrij'eriHle 'jiH:e ,.111. H t I. ( \ I) i L'1re ,1C111C111 Je iii I I tii ,I1 .'Hit ( I C11 I ' 'LH) ( I i ,11.11:L I 1L1I'21L t I. ( \1 ) d: L H ueîlede re\ eH 1, rr. ;le reu Hrql ' (. I ir,.. iL..yru,),,I"'e pinielee Hill' le .ri. re,r c;eirr;.Til - ir HtirrH Ci LClH. j en\ irr,11 >mi) cr (CC I\ Hi!ne t C\ LIL' \ Ckstitc::1 d: '11\ ' :',>11 W.ILFC ssions pour le de'pr'',t par CVD de la couche de rè\ è lierir de nitrure de 'HIonne entre envi n,illT\ Irk)11 15n [,,1 I 'JC Jure: 11`1q1.1',pin. le .le r(\ 1)d, J :t 'I n d ri.. \ eteirk..itt Li ii unie de titane ...lielonne ,t)ii1:1-1"1.. eii:di (1)1H:Hri..' dei, i i 'VI> 1,1 ql, :1 ' III ,Ic in-tik: dc iit;iii, IL luilric eue Ck'HICII: Je !mare tit,me est d n:. Ion ILS micrrnJire 11C ,l11,11e: r.11-11CHICP,' j',,(1!" dr ieu dc coudre -,'\ étèmeni d,: nitrure n: titane est carre emdron CLI m ,omètre et environ 2 micromètres. I .,utre pur rép.iisseur Je lut cache Je re\ etement de nitrure 10 de titane est entre environ 0,2 mic(omètre, ci environ 1 micromètre. [00611 On se réfère à la figure 5, qui présente un mole de réalisai nui spécifique 150 ("tu s\ stèlne d rt.'\ cièrnent 159 sur un substrat 152. L stème de rcvètemcnt 159 comporte une ré.2ion de revêtement de base 154, qui comprend une pluralité de paires de nanocouches, chaque couche ayant une épaisseur égale a moins de 100 nanometres. dans 15 laquelle la paire de nanocouches comprend du nitrure de titane et du carbonitrure de titane. Dans l'alternative, la région de ré\ ctcm..'nt de base peut comprendre une pluralité de paires rie nanocouches dans laquelle les nanocouches peuvent être de l'oxycarbonitrure de titane et du nitrure de titane ou les nanocouches peuvent être de l'oxycarbonitrure de titane et du carbonitrure de titane. Le système de revêtement 159 comporte en outre une couche de 20 re etemed( de carbonitrure IL titan: par MT-CVD 156 déposée iii moyen de paramètres opératoirè, scinblahic J :ii: pour dépt è.qtehé dL. Fe\ etement t1,2 nitrure ,L MT-C\.1) (.1;.' In î turc 2. Le SYStèllIC de reveleni,:rit 159 OMR' (111:' 1.C\ j^. \ cari ni!nufc in Li .1c re\ è'i,:iliç'rif. de c.à1-,,,idtrui Iclit'duss i 1 \I I ( \ I) I 50. I : flurFur1ILLI: tperuiltdes 75 inilis s p, i .1.'T I. incité L e\ ek.ii,',_ i J \ \ L'ai-honni ;it, Je lit tu: nt :tiqueineii: le, I i flidur,.' i lu,' l ; . ne L'eu\ ittilis 1. tu,: _ 1 il di. I,' i I ci- Ln . ,,...P.c 1 I. ck'inciii i I \ ,' die i icrlicii; ;2\1 1 ..1,2 ; ,:ltimme (tilt ei leItee:::: HP' L I I I q: iP vi;I;Itl:l I i' L 11:,::1:^:-., ,il CH \ :.I I ,»Ui ldp er 30 tel'. ' uerrer i pli i Itimine -I() .L H.2tire _ -34- 100621 On se referc à la finure 5A i.n p ente erieori.: un :ire lipide dc u,,ilis.ilion 'eifiu Hit PH: ..,.nie dc i - 'men! 159. Pr tin ,ubsiriit HP. Le -1):Li, d,, .,q.L.ar, ht I ..-, LiHoite min mc î] Pc :e\ éleni)::1 dc Hc .I. LI I ,:le111.TI: H1.111 ' :1:IIC ! .1: \1.1 ( \ I ) H 1.,11): ). ^,1 'I' ' I l', ILL i :Lille I il ). 1.1,1. 1,' I ^...'1,'Illerr \ II ('\ I) une cs:Jelie \ Lumen: Jalpha- sdc .1(.(') siii pr.01)!A'ni.'ni cieI1).'nt 154, Ho. 1 et I( L'H\ cnks le ri iJiime 100631 ,:,-)teinc dc in\ciclltelit lU de 5.^ comporte en )111.tis une 10 couche \ e\terieure de nitrure de titane 1(-)2 eon\ Kilt J),1,s,:r\ cr que, dans certaines sitniii ions, la demanderesse en^isage l'élimination de la couche de revêtement extérieur,: LL) nitrure de titane par iLLtnc humide. Ceci nU applicable pour ce mode de réalisation ,ii usi que pour tous les modes de réalisation antérieurs comp, irtiint une couche de revêtement extérieure en nitrure de titane. Généralement parlant, quand on effectue un 1 sablage humide du nitrure de titane pour exposer l'alumine, la contrainte imposée sur la couche d'alumine exposée passe d'une contrainte de traction initiale à une contrainte de compression. La publication de la i-lcmande de brevet américaine n US 2011/0107679 AI au nom de Sotthc et al. et cédée à Lennamctal Inc. de Latrobe. Penns\ hania 15650 montre le sabla e humide de la couche (le re% eteillent c\lericure sur une couche de tic\ êtentent en 20 alumine meut,: si la couche de lie\ etement extérieure n'est pas du nitrure de titane. 1006-41 Ln ce qui eiineernc les pantiiclmns operatoiRss permettant de dJptner la couche de Fe\ etemem il): nitrure de titane. le mcl:nne mm/eu\ nui sert il dcj)sei ht couche (le revelcmneîii de nitrure de Hurle Hnpren)I typl)pL)nierit ,:oltune en - rit));:lit - lu ineh )1/C \ i( Cil linI>,.();- cri I n t r unel met le de Icinper.owe pique Hui ,2r1,«1 I n :Il il r ( I) Je I, L licite ^ )1: re\ cl cirent el,uneill mienil ciel te le lIUIiIe de \ s'ui n Plume^.:11s, i-C cuLe cii iii; 30 \ D Je m eouche de rc\ eter.-1.,2:.t H JtYilC dc lilium ccmnamie cuire eaHJL1PU Hl]: -35- L'H\ iron .>() torrs. fine ,iiitrc HurcilL.ti,....- LIC fiL'ssions poilr [ r \ I 1,011clic i. \ ,..'teilier iiitriii.e ilLine .' ,iiri., "iti-,' ,"' Ti \ 1 H 1H! H JH .1.111,_ ,1 i ,ilik. : ,I1 ( \ I ) LI,: i .,,Licii,, C 1- I,,,,n, ni riiiii t ..né -....reliHorine litre ,iii 10 iir,.11.ii a ii i 0 irmiii, l iii, ai' IL' dCl ( \)l) 11_1 li ) HI),,._ ),:ill.1)._ ,11\ II l)H111i .. w:1111I^ )11111111H-). llilli) ._ \ ',_1.C).11C111,..IC 111111.1: i. H1,, l JHI!' 1),Ili U.:' ll'I,H lotirchelle IHi ILICHIlt.sli,' ; l I 1),11, I IL' l 1 H CL. ls Lit.: '..'\ )S1)_111C111 LIC 11111111'C JH 111,1:). L.'...lç.2n11)...' C:1\ IFIlil 1111L1))11:L1.1L' '..1) )21\ Il HI J 111.1.1 HIièll,._,) t 11:: ;ILlirC li,),Ilt_llk )I.0 p, 'ii lépitissciii 10 la 1.,..-nicnt de nitairc de, t environ 0,2 micromeirc C en\ liOn I [0065,1 La demanderesse en \ ULCC que, plutôt que d'utiliser une surcouche de nitrure de titane sur la couche de re\ etement en alumine, on puisse utiliser un des systèmes de revêtement pour surcouche suivants : ox\ carbonitrure de titane / nitrure de titane ; 15 nitrure de titane / carbonitrure de titane / nitrure Je titane ; oxycarbonitrure de titane / carbonitrure de titane / nitrure de titane ; multicouches d'oxycarbonitrure de titane / nitrure de titane ; et multicouches d', \ ycarbonitrure de titane / carbonitrure de titanc. Les paramètres du procédé pour ce, divers matériaux de revétement sont les iiicitrc que ceux que l'on a déjà décrits ici pour ces matériaux. 20 [00661 La dcmandere I',d2C en outre que le s ste.me de revêtement pi i C(1111rull 1 1111C L'01111C LIC IC\ èiC111C111 C\lé11'.111)C. LII CCIICIIC LIC IL) \ dld11`) I '..2.1)011pC til;t11C. dii Ltil,urc dc tilalIC. dii ..dibt,ilititir;:kk: ,1t: H:, '1.-1;tlintiiit, e.abilie I1)1!111 )111. 11:;1111Hil, /1), H:1111. Il ll-L'111'.) ^ILs 111,,`11111[11,2 '5 rein c\icileine ' Hue le 11,11'01111.nlk: 1 11111()71 I u \ , iii,-:,., HHCitiUIiC r1)11 Cit.:MIL ,Ill'',' IL'\ C ll: I- I )t.'' . V.:h:ln L 1:1 --Lir Liic C-1.1.,'1'.,, I I I ,IiIIHI: H H I ,:lic ,,1111,..,-, I 1,11k-,,,,,,, .,\ r:-, H.! .11 I.,1;-.. ,c,i1 ,:u , r ( \ I) ,. 30 1:k: ii),' I l'L'ill l' i) \I ' 1:C\ CIL'! CHIC J, 'a C.Hrisoniirtire Ht,i [006S1 La lHire (1 est une iruag,: piotomicrographique Jeh stirlace Je lu c LLCIH de re\ék'ment d i\\CuIHnlfltrlIIe Je titane tirée de I \emple de l'invention u 1 pri,C au microscope électromiquL I hala\ age I:N1) et [image photomicrographique a une échelle de 10 micromètres, L'examen Je limage phtIoaiLurographique (figure 4) montre la formation d'une structure de trichites de longueur mo\ enne 1,85 um, de largeur ino\ enne 10 0,94 [lm et de rapport d'aspect moven 2,05. Ces \.aleurs moyennes ont été déterminées selon la technique suivante : On tire un trait au hasard sur le champ de vision et les grains que coupe ce trait sont utilisés pour mesurer leur longueur et leur largeur, qui peuvent être utilisées pour calculer le rapport d'aspect (rapport d'aspect = longueur/largeur). Répéter ce mode opératoire pour cinq photographies. On fait ensuite la moyenne des rapports d'aspect 15 de tous les grains cuape-par Ic trait pour obtenir le rapport d'aspect final. [0069] 1.a figuii, 7 est une image pli(nornierographique de la surface de la couche de 1-cvciement (ro\ \ carbonitrure de titane de 'art ;intéricur prise au niicroseope electro- Hque [ [ii aHe i.SI..\1; Lt liniane pholoinicro iphique ..1 une eeiltSikl Je 5 mieromètres. ,atien d,'' I ii [1, oliotoniicroliapliiqu, 1 montre I iwat:,'Ii diiii,.' structure 20 tri,..Iutes bien rl.:, r ii1,' lue Htilionsle (iirseutIou H e 111,21.11. HI,'\,....11C 0. 1 -..11,1p.,Al: 1 '.\,iiite )(){., au. eton 1-11,pr1 1 uee i ,\ cil dt I, Je la ',tillent - 'Hic de Lut.'ir.té:-iettr. I et 2 I I Jiie I .,.11 '. su r;10. u: eu[eiu.er le c-11: -37- ilans ssi-eul \ cc un c I0uil:lift I iii' I de rapport ispcct mo\yci, 100711 isw2c (lu CoLIK 1«.'\ 01111)1-Cri- lire un ,u1-,,t[.,1( i1tl1 po,Cdc une L'oui:lie de r,2^, ,ileinclit \^c-[1-1)0iii rure [donc d po chrc,:icnient sur la sui:race du stMstrdi. lie 31usieurs [11.couchec ctcmcw sui :InIc- sont déposccs sur la Slifit? I couche tic revetcment d'o irbimuirure de Irc mil: !' Ill i"dIlICta II: .1111L'Il d. l' HI titane nitrure de titane ou carhoni[rure de ne ou itlph [-alumine. L'épaisseur totale de la couche de revêtement d'oxycarbonitrure de titane et de la surcouche de revetement est 15 entre environ 3 microns et environ 4 microns. La couche de lev etcmcnt d'oxycarhonitrure de titane possède une épaisseur entre environ 0,5 microns et environ 1 micron. La sur-couche de re^ étement possède une épaisseur entre environ 2 microns et environ 3 microns. [0072] On a fait appel Cl une opération interrompue d'un cycle de tournage hu comme de découpe métallurgique pour comparer un élément de ,t[p,' de l'invention n élénicnt (11' coup,: presentait les p[rainett-cs sui \ anis : élément de : 11.1\ [ci. dueliic tii)- \ à I '()() CIIITt.'\ par minute (Un) ,l C 1.1 1'1 r ['[ur, et 1,1 1 I [1..2[11 ;Hu*, 1),,[1,:c 30 1.e s\ siL.Hne de Fe\ êteincnt pour l'élément de coupe classique était constitué de couche de nilrure de tuant. 'otiehe de carbonitrure de titane par NIT-CVD couche de litnson \ carbonitrure de titane / ctniche HII1Cti CC-nielle de carbonitrure de titane / Liche d- nitrure Je I otrehe de Httison C11 \ [rth de titane q le, couches ,iitiOes t L: I lotirelteue Jc !empertoures Jc (Y,H P1'1) ( I 0 [0074] Le tableau C ,[1' donne les résultats de la durée de vie de l'outil. 1 ttble.d. Durée de vie ;le l'outil pour unt' 1\1 ion !:hth:Tonip rpr!rde|nxn/. shxruide -38- TaNc.013 :cincrit Hitt], - 5(11) 75 [11(1751 cril Ji.imi,,,k, 1 1:iiiiin, ,:hiciv. ,.'1,:i111,-..-.^).(it pou., Hl!!,: H: (1.1 2_ , l Ullim ',In, l'HIJH 'liri LW,' / : ()») ..-11..1',2 (ipe 1)1.. olUIL' : O.() - I n i , roll pletre ,ou tisnic 0 0' )-I p;Liec [it`,1 11 nui terc. 0076 t'..11 évidence t1l1e -1111C1101-,P.1011 Finance imentiou eompai eneur m'eue l'en :ilion et 1.111C rCI :111;.111CC iio:L Les out is presente WU' d Lii!l-ncc cite en coup,: pi Jhile. -1: pain, le 1;1 I ,fflc conditions interrompues. (e mecanisinc détail:lance es' IL à l'adherenee du re etement a la profondeur de coup- Ltonnamment, l'invention, avec une couche de Iiiison Cal ON \ rare de titane dépose a 'ma température modérée ail moyen de CI I 'CN comme calai\ sour montre en fait une adhérence lé è-ement améliorée 15 comparée à l'art antérieur avec une couche de liaison en oxvcarhonitrure de dép"Isée à une température plus dieu je, 100771 Comme on l'a expliqué ci-dessus, l'adhérence du système de rcNélCII1C111 au substrat- est une caractéristique importante pour un élément de coupe revêtu. Il est clair d'après la description qui précède que la présente invention procure un élément lie cou -)e 20 revêtu qui présente une adhérence anicliiirée du s\ stème de re'êtement ail substr.u. II est clair eiplement que L présente invention prUClift: 1111 élé111^21.0 lie C(Itipt: comportant ull s\ s'élue de ieAetelllelli renfermant de l'oxycarbonitrure de titane qui possède nue Par aillents. il est clan qiie 1)r(... nie 'mention procure thn éleilknIt