Brevet FR2965204A1 — publié le 20120330

ARRIERE-PLAN DE L'INVENTION La présenté invention concerne en général le domaine du polissage mécano-chimique. La présente invention concerne E ri peiticuller un teutre de polissage mécano-chimique avec une fenêtre de détection point limite en pelymère stebic à la lumiére. La présente invention concerne également un procede de polissage mécano-chimique d'un substrat utilisant un feutre de polissage mécano-chimique avec une fenêtre de détection de point limite en polymére stable à la lumiére. Dans la fabrication de circuits intégrés et d'autres dispositifs électroniques, de multiples couches de matériaux conducteurs, semi-conducteurs et diélectriques sont déposés sur ou retirés d'un surface d'une galette semi-conductrice. De minces couches de matériaux conducteurs, semi-conducteurs et diélectriques peuvent être déposées par de nombreuses techniques de dépôt. Les techniques de dépôt classiques dans un traitement moderne comprennent le dépôt physique en phase vapeur (PVD), également connu comme pulvérisation cathodique, le dépôt chimique en phase vapeur (CVD), le dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD) et le placage électrochimique (ECP). Lorsque des couches de matériaux sont successivement déposées et retirées, la surface supérieure de la galette devient non-plane. Comme le traitement subséquent du semi-conducteur (par exemple la métallisation) exige que la galette présente une surface plane, la galette être planarisée5. La planarisation est utile pour éliminer une topographie de surface et des défauts de surface non souhaités, tels que des surfaces rugueuses des matériaux agglomérés, une détérioration de réseau cristeliii î, des Lgr angnures, et des couches des matériaux pC)IUti La Inli(,~Je (CLIP) C? Jbstrets, tels g a lette ést tr ee Sur un essernbl ace. ie support 't est po`_Itionnre' t'n un feutre' d poi CI'-1P L, '3 sage m écano- n'c1LJt, Gtil15 c r poncif ISt'J C. s cialetti"" `em onclu t r Dans CL1P cil' situ ent tut-te 1 tait mpL mis en i tenon) rrim andr c tc i Un 111111('( l r;'~l';rc rst '] ll it_f r c1r I_ln f')rl c de est simultanément fourni antre la galette et le fF utre de polissage. La surface de la galette est ainsi polie et rendue plante par l'action mimique et. mecanique de la surface du feutre et du milieu de polissage, Un défi présenté par le polissage mécano-chimique est la détermination du moment OU le substrat a été poli dans la mesure souhaitée. Des procédés in situ pour déterminer les points limitas du polissage ont été développés. Les techniques de détermination optiques de points limites ire situ peuvent titre ciassées en deux catégories de base : (1) le contrôle du signal optique réfléchi a une seule longueur d'onde ou (2) le contrôle du signal optique réfléchi a partir de longueurs d'onde multiples. Les longueurs d'onde typiques utilisées pour la détermination optique du point limite comprennent celles du spectre visible (par exemple de 400 â 700 nm), du spectre des ultraviolets (315 â 400 nm), et du spectre des infrarouges (par exemple de 700 â 1000 nm). Lustig et al. ont décrit dans le brevet U.S. 5 433 651 un procédé de détection de point limite en polymère utilisant une seule longueur d'onde, dans lequel de la lumière provenant d'une source laser est transmise sur une surface de la galette et le signal réfléchi est contrôlé. Lorsque la composition sur la surface de la galette change d'un métal â l'autre, le coefficient de réflexion varie. Cette variation du coefficient de réflexion est ensuite utilisée pour détecter le point limite de polissage. Bibby et al. ont décrit dans le brevet U.S. 6 106 662 l'utilisation d'un spectromètre pour obtenir un spectre d'intensité de lumière réfléchie dans l'intervalle de la lumière visible du spectre optique. BIbby et al. citent, dans des applications de CLIP de métaux, l'utilisation du spectre entier pour dLte(tLr le point imite de p lins, r. On a développe des feutres oll ssage mécano-chimiques st_ ratant d s fenetr, :our adapter _t techniques optiques de _t1.erminati n de)oint ll'la PesC d~:crit par empira clans le lJ.S. 5 60 760 un feutre cle pol da I 'Uq,;-1 au moins un . du teutre est transParent0 a la lumière laser sur un intervalle de longueurs d'on F c arts cite clans ; r rtains modri.i d r rr_'aliscrtIOn toits uta `rtrc transe rf nte ,sans tre pr. IILLaat: qui o~ r ~rd Gn `eutf r' sinon LaDdr:ia Li peut F'trc' U(n r~li('r~_ t "nirlLi en'. jans ~'~ `' Lit' d' ~C11rida n b` r{ r Ir DC l C"on r .ut étr« !n , 1 était rrr;ulr 3n 1 telitr polissage est-à-dire une "fenêtre intégrale"} ou il peut être installé dans une découpe dans le feutre de polissage aptes l'opeiation de moulage (c'est-a-dire une "fenêtre à bouchon-en place "). Des matériau, de polyuréthane à base d'isocyanate aliphatique, tels que ceu décrits dans le b ce,et U.S. b 984 163, ont fourni une transmission améliorée de la lumière sur un large spectre de lumière. La durabilité nécessaire eAigce pour des applications de polissage exigeantes fait malheureusement défaut à ces fenêtres en polyuréthane aliphatique. Les fenêtres de détection de point limite à basé de polymere classiques présentent souvent une dégradation désavantageuse lors d'une: exposition â de la lumière ayant une longueur d'onde de 330 â 425 nm. Ceci est particulièrement vrai pour des fenêtres de détection de point limite en polymères dérivés de polyamines aromatiques, qui ont tendance â se décomposer ou â jaunir lors d'une exposition à de la lumière dans le spectre des ultraviolets. Des filtres ont été quelquefois utilisés dans le passé sur la trajectoire de la lumière utilisée à des fins de détection du point limite pour atténuer la lumière présentant de telles longueurs d'onde avant l'exposition â la fenêtre de détection de point limite. On cherche cependant de plus en plus à utiliser de la lumière avec des longueurs d'onde plus courtes à des fins de détection du point limite dans des applications de polissage de semi-conducteurs afin de faciliter des couches de matière plus minces et des tailles de dispositif plus petites. Ainsi, ce qui est nécessaire, c'est une fenêtre de détection de point limite en polymère stable à la lumière qui permet l'utilisation de lumière présentant une longueur d'onde et d'un polyol prépoiymere â terminaisons isocyanate contenant des groupements -NCO gui n'ont pas réagi ; et, un constituant stabilisant a la lumière comprenant du moins un absorbeUr d'UV ou une amine encombree stablllsatnce a la lupdere ; ou la polyamine aromatique et le polyol pr"épolyMete a terminaisons isocyanate sont fournis dans un rapport steuchiometrique de groupement amine a groupement -NCO gui n'a pas réagi `E_netu- de c _trrrti) ~ - point I'ditl 1 f', r~le ~t LJMl°r Manlere InCldorlte S Ur Ir CI" ,_'Ctc'Ur l fi t' ;; I rl {;l DESCRIPTION DETAILLEE Le feutre de polissage mécano-chimique de la présente 10 invention est utile pour polir un substrat choisi parmi un substrat magnétique, un substrat optique et un substrat serai-conducteur. Le feutre de polissage mécano-chimique de la présente invention est en particulier utile pour polir des galettes semi-conductrices - particulièrement pour des applications développées telles que des 15 applications de barrière de cuivre ou d'isolation en tranchées peu profondes (STI) gui utilisent une détection de point Le terme "milieu de polissage" comme utilisé ici et dans les revendications annexées englobe des solutions de polissage contenant des particules et des solutions de polissage ne contenant pas de particule, 20 telles que des solutions de polissage liquides réactives et exemptes d'abrasif. erme "poly(uréthane)" comme utilisé et dans les revendications annexées englobe (a) des polyuréthanes formés par la réaction de (i) d'isocyanates et (ii) de polyols (comprenant des diols) ; et, 25 (b) du poly(uréthane) formé à partir de la réaction de (i) d'isocyanates avec (ii) des polyols (comprenant ciras diols) et. (iii) de l'eau, des amines (incluant des diamines et des polyamines) ou une combinaison d'eau et d'aminci (incluant des diamines et des polyamin Le terme "transmission à double passage" cu "DPT" 0 )mme utile >r' ici et Jing les .'fl_ i ati on` arme. al`;ant rt't f 1C2 a ia Îi nE'b dc' détection ci point limite 'r polyn È f `sable c 1 3 lumière t dm _-min utilisant 1 u at nn _,_ar/`;nte DPT = dans laquelle IWs;, IWp, IAs, et IAa sont mesurés en utilisant le Verity SP2006 Spectral Interferometer comprenant un spectrographe SD1024F, une lcu-npe flash au xénon et un câble de fibre npticruc de 3 mm en plaçant une surface émettant de la lumiére du cahier de fibre optique de 3 mm contre (et perpendiculairement !) une première face de la fenêtre de détection de point limite en polymère stable a la lumiur"e en un point d'origine, en dirigeant la lumière ù travers l'épaisseur de la fenêtre et en mesurant au point d'origine l'intensité de la lumière de 380 nm réfléchie en retour a travers l'épaisseur de la fenêtre a partir d'une surface disposée centre une seconde face de la fenêtre de détection de point limite en polymère stable à la lumière pratiquement parallèle à la première face ; où IWs, est une mesure de l'intensité de lumière de 380 nm qui passe à travers la fenêtre â partir du point d'origine et qui est réfléchie à partir de la surface d'une galette témoin de silicium placée contre une seconde face de la fenêtre en retour â travers la fenêtre vers le point d'origine ; où IWa est une mesure de l'intensité de lumière de 380 nm qui passe â partir du point d'origine â travers la fenêtre et qui est réfléchie â partir de la surface d'un corps noir et en retour â travers la fenêtre vers le point d'origine ; où IAs, est une mesure de l'intensité de lumière de 380 nm qui passe à partir du point d'origine â travers une épaisseur d'air équivalente â l'épaisseur de la fenêtre de détection de point limite en polymère stable à la lumière, qui est réfléchie â partir de la surface d'une galette témoin de silicium placée perpendiculairement â la surface émettant de la lumière du câble de fibre optique de 3 nom et qui est réfléchie en retour â travers !'épaisseur d'air vers le point d'origine ; et, où IAa est une mesure de l'intensité de lumière de 380 n1-n Iéflei_hie a partir" d'un corps noir sui" la surface emettant de ra lumrere du câble de fibre optique de 3 mm. Le terme "transmission à double passage initiale" ou "DPTI ornmr uuiisé Ici et cians le rr e indications ar 1r st. I r DPT 0 hibc _ par une feneti de d :; .. tien cr 'ir1 man en polyme star.le i lumier por.!r c ia lumière ne -sentant uni_ Inrqueur d'end, dt 380 nm ,'r`: ce a rail "c 3tlon :`.art l' ., nuslllen la I '1 're ul,r a'crie (i l'ltel i` f th 3 )dur, p i'" un, Inmpi urt d 'sri ,i r1,, nr' herduette di r dlamr_'t ~Jlihrpour an,: d(. ~i(lO rl~°~ _m , Le terme "transmission à double passage après exposition' ou "DPTE" comme utilisé ci et dans les revendications ennexees c'st la DPT exhibée par une fenetre de dci4ection de point limite en polymère stable à la lumière pour de la lumière ayant une longueur d'ond de 380 nm après urge t xposition à ale la 1ur111ère ultraviolette d'Intensité élevee produite par" une lampe a arc court a vapeur de mercure de 100 W à travers une baguette de fibre optique de diamètre 5 mm calibrée pour fournir une puissance de 500 mW/cm2. Le terme "stabilité accélérée à la lumière" ou "ALS" comme 10 utilisé ici et dans les revendications annexées est déterminé en utilisant l'équation suivante DPTr ALS - 15 DPTI pour de la lumière d'une longueur d'onde de 380 nm. Le terme "fenêtre transparente" comme utilisé ici et dans les revendications annexées en faisant référence à la fenêtre de détection de 20 point limite en polymère stable à la lumière indique que la fenêtre de détection de point limite en polymère stable à la lumière présente une transmission à double passage initiale >_ 15 % pour de la lumière d'une longueur d'onde de 380 nm, Le terme "fenêtre résistante au fluage" comme utilisé ici et 25 dans les revendications annexées en faisant référence à la fenêtre de deteetion de point limite en pol'ymeie stable à la lumiere indique que la fenètre de détection de peint limite en polymère stable à la lumière présente une deformation au cours der temps 0,02 incluant rrrrri~3~lo' > n tent. 1 ea d une température constante de l: Le feutre de polissage mécano-chimique de (a présente invention contient une fenêtre de détection de point limite en polymere stable à la lumière qui permet une détection optique de point limite pour d s opérations de polissage die substrats. Les fenêtres de détection de point limite erg polymère stable à la lumière présentent de préférence plusieurs critères de procédé, comprenant une transmission optique acceptable (c'est-a- dire que ce sont des fenetres transparentes) ; une faible introduction de défauts sur la surface à polir avec le feutre de polissage mécano--chimique ; et, l'aptitude à résister aux: contraintes du procédé de polissage comprenant l'exposition à de la lumière de longueur d'onde de 330 â 425 nm sans dégradation optique importante {c'est-à-dire qu'elles présentent une ALS 0,65 pour de la lumière de longueur d'onde de 380 nm}. La fenêtre de détection de point limite en polymère stable â la lumière dans le feutre de polissage mécano-chimique de la présente invention comprend : un produit polyuréthane obtenu par réaction d'une polyamine aromatique contenant des groupements amine et d'un polyol prépolymére â terminaisons isocyanate contenant des groupements -NCO qui n'ont pas réagi; et, un constituant stabilisant â la lumière comprenant au moins un absorbant d'UV ou une amine encombrée stabilisante â la lumière. La fenêtre de détection de point limite en polymère stable â la lumière dans le feutre de polissage mécano-chimique de la présente invention est formulée pour présenter une stabilité accélérée â la lumière ` 0,65 rade préférence ? 0,70, encore mieux 0,90) ; et, une trail I111ssiVi, double pa-f5dye rnitlaie iU (de preference â0 ) a 100 ` encore rllieux 15 >l , bien mieux encore 15 Ï5 %) pour la lumiere de longueur d'ond isocyanate, où la polyamine aromatique et le polyol ptépolymére terminaisons isocyanate sont fournis dans un rapport stoechiométrique de groupement amine à groupement -NCO qui n'a pas réagi _ 15 % â une longueur d'onde de 380 nm pour une épaisseur de fenêtre de 1,3 mm. Les rapports stoechiométriques iüriilr litJ Lie ia fenêtre d Ci teLtiOn dt_ point limite n polynir re stable à la 1umiére tout en maintenant une transmission adequate de r!mirvr sont: des polyutethanes qui se COntractont de manière élastique avec la tempér"eture, une contramte ou Ur U combinaison de temperature et de contrainte, Ii est par exernple possible, pour un duD_issement incomplet de la funetre de détection de point Ilnhte en polymère stable à la lumière ou pour urge contrainte non dègagee associèe a sa fabrication, d'aboutir à une contraction des dimensions physiques de la reinette lots d'une position à la contrainte et au, températures elevees assoco_tes au polissage d'un substrat (particulièrement d'une galette sen-conductrice). Une tenètre de détection de point limite en polymère stable a la lumlere compter-liant un polyuréthane métastable peut présenter une déformation négative au cours du temps lorsqu'elle est mesurée avec une charge de traction axiale constante de 1 kPa â une température constante de 60°C â 100 min. Cette déformation négative au cours du temps communique â la fenêtre de détection de point limite en polymère stable â la lumière une excellente résistance au fluage. Les polyamines aromatiques utilisables dans la préparation de la fenêtre de détection de point limite en polymère de la présente invention comprennent par exemple : la diéthyltoluènediamine ("DETDA") ; la 3,5-diméthylthio-2,4-toluènediamine et ses isomères ; la 3,5-diéthyltoluéne-2,4-diamine et ses isomères (par exemple la 3,5-diéthyltoluéne-2,6-diamine) ; le 4,4`-bis-(sec-butylamino)-diphényl- méthane ; le 1,4-bis-(sec-butylamino)-benzène ; la 4,4`-méthylène-bis-(2-chloroaniline) ("MOCA") ; la 4,4'-méthylène-bis-(3-chloro-2,6-diéthylaene) ("MCDEA") ; le di-p-aminobenzoate de poly(o,.yde de le N/Nodialkyldianiinvdiphénylmethane ; la p,) irrolpemrio `lts -Nélh) Clui n ,gin` pd Ç;I ut lisaptetraméthylène); m-phenylènediar 5 t'ai ~;ntenant -tétr achïorodlaniinodiphénylmétl,,a e di-p-d iinobF nzoate de 'vnlp'end de prc , DEI DA. 2nr ld yCO ; et de Mélana de c DETDA, poiyarllr e c;! _)n lt C,',1 ' N'1DA"1 ; la 1,4 méthy n -bis- nilin( n éth,l~'~~' .~rodniiint_ It' `},-::' hlanOno-J,_i d~èti ~d'- -dir `'thyid ;.?ieni 11,! a',ares rnéthyienedianiline e ("MPDA") "f.,1DCiA") OtIratlOn a fienétrF de détection dry point limite: en polymere stable a la lunure de la présente In`/enbon sont produits par la r. action d'un diisocyanate aliphatique ou cycloaliphat_ique et d'un polyol dans un mulange i.xepolymere. Le polyol prepolymere a E rr~llnalSOnS Isocyanate preSente une moyenne ~ 2 groupements -NCO qui n'ont pas réagi par molécule pour promouvoir une reUculation dans ia fer Utre de détection de point limite en po lymere stable a la lungere. Les polyisocyanates aliphatiques utilisables dans la production du polyol grépolymere à terminaisons isocyarlate contenant des 10 groupements -NCO qui n'ont pas réagi comprennent par exemple : le méthylène- bis(isocyanate de 4-cyclohexyle) (" HuMDI") ; le diisocyanate de cyclohexyle ; le diisocyanate d'isophorone ("IPDI") ; le diisocyanate d'hexaméthylène ("HDI') ; le 1,2-diisocyanate de propylène ; le 1,4-diisocyanate de tétraméthylène ; le diisocyanate de 15 1,6-hexaméthylène; le 1,12-diisocyanate de dodécane ; le 1,3-diisocyanate de cyclobutane; le 1,3-diisocyanate de cyclohexane ; le 1,4-diisocyanate de cyclohexane ; le 1-isocyanato-3,3,5-triméthyl-5-isocyanatométhylcyclohexane ; le diisocyanate de méthylcyclohexylène ; le triisocyanate de diisocyanate 20 d'hexaméthylène ; le triisocyanate de diisocyanate de 2,4,4-triméthyl-1,6-hexane ; l'uretdione de diisocyanate d'hexaméthylène ; le diisocyanate d'éthylène ; le diisocyanate de 2,2,4-triméthylhexaméthylène ; le diisocyanate de 2,4,4-trimethylhexaméthylène ; le diisocyanate de dicyelohexylmethane ; 25 et des mélanges de ceux-ci. Le polyisocyanate aliphatique présente de préférence moins de 14 % en l~lasse de groupt's ist)cyalldLI u pas po l','vrS ut111sabl d~ ans la poodut tlon élu r~oIVOI prepO[yrlère ypor' Ir'nts -NO ...D sui n'ont pas tri r y .1 ciu polybcltad ene déri Ss partellement/totale ment aprolac ,on I pclyéthylénepropyleneglycol ; le polyge,prop,,eneglycol ; le poli( adipate d'éthylene ggeol ; le poly(adipate de butylene)glycoC ; poly(adipate d' ethyleneprogvIene)glycol ; l'o-phthalate-1,6-hugxanediol ; poly(adipate d'riexamethylene)glyc l ; ia pogcaprolactone 1,6-he anediol-initlée; Ça polycaprolactone diéthyleneglycol-initiée; la polycaprolactone trimethylolpropane-initiée ; la polycaprolactone néopentylglycol-initiée ; la polycaprolactone 1,4-butanediol-init1ée ; la polycaprolactone PTMEG-initiée ; le polyphtafate carbonate ; le poVcarbonatg d'hexaméth,»ege)glycol ; le 1,4-butanediol ; le diéthyléneglycol ; le tripropyléneglycol et des mélanges de ceux-ci. Le polyol que l'on préfère le plus est PTMEG. Des agents d'extension de chaïne éventuels utilisables dans la production de la fenêtre de détection de point limite en polymère stable â la lumière de la présente invention comprennent par exemple : des diols, triols et tétrols â terminaisons hydroxy. Les agents d'extension de chaîne préférés comprennent l'éthyléneglycol ; le diéthyléneglycol ; le polyéthyléneglycol ; le propyléneglycol ; le polypropyléneglycol ; le polytétraméthyléneétherglycol ; le 1,3-bis(2-hydroxyéthoxy)benzéne ; le 1,3-bis-[2-(2-hydroxyéthoxy)éthoxy]benzéne ; le 1,3-bis-9-[2-9-hydroxyéthoxy)éthoxy]éthoxy}benzène ; le 1,4-butanediol ; le 1,5-pentanediol ; le 1,6-hexanediol ; le résorcinol-di-(bêta-hydroxyéthyl)éther ; l'hydroquinone-di-(bêta-hydroxyéthyl)éther ; et des mélanges de ceux-ci. Les agents d'extension de chaîne que l'on préfère le plus comprennent le 1,3-bis( )-hydroxyethoxy)ben ene ; 1,3-bis-12-(2-hydror ygthgxy)étho.=.y]benzene ; 1,3-bl s-{2-`2-(2-hydi-gxyéthoxy)éth g , ]t thoxy} b nzr ne ; le 1,4-h'utaned ol ; et b s nl'alangc s de eux- ci. Les agents c ,il=)i,Ur' T e f d, 1 Ine ~ C ~~ ~ ~.~~ 1ntrlel_C ~ pe_u.\ I~"1nt _3ror~l ~cggue, F_t licgg. 3gturés, Insa'ur és. agensc, cl gnsl n de t. ne gg uels peuvent dt' (glus comprendre ln halog _'ne. LE'S ggt' ti l7 r" t '_nsl0il ll".jP ü Dr"'. s'_nt.'!lt dpreter nce au 'llàns trols grougenl et5 ieac t `s par gl E- lipefile sl.;nt chois i s m[-m i -OH _ l\g-i rationreact!cin ge pcl/urethane ;D'ut 111'c anisi MEY ' 5,11C Olt 11 le le Clr ,i,ll,' groupements isocyanate réactifs présentes dans la polyamine aromatique (c'est-a-dire -OH et -NH, ) et tout agent d'extension de Came .eentuel utilisé pour produire le produit de réaction de polyuréthane. lin autre mecenlsme utilise un prePOI/Mere contenant plus de deux c'1roupt's isocyanate diiphatiques qui n'ont pas réagi. La réaction de durcissement des prépolymeres contenant plus de (Jeu, groupes isocyanate aliphatiques qui n'ont pas réagi résulte en une structure avantageuse qui est plus facilement réticulée. Un autre mécanisme utilise un polyol de réticulation avec plus de deux groupements isocyanate réactifs (c'est-a- dire -01-i et -NFI4) ; une polyamine de reticulation avec plus de deux groupements isocyanate réactifs (c'est-à-dire -OH et -NH2) ; ou une combinaison de ceux-ci. Le produit de réaction de polyuréthane est éventuellement choisi pour présenter une réticulation plus importante afin de communiquer une résistance au fluage à la fenêtre de détection de point limite en polymère stable à la lumière. Le constituant stabilisant à la lumière utilisable dans la préparation de la fenêtre de détection de point limite en polymère stable à la lumière de la présente invention comprend par exemple des composés stabilisants à la lumière qui n'atténuent pas fortement la transmission de lumière d'une longueur d'onde de 370 nm à 700 nm. Les constituants stabilisants à la lumière comprennent des composés d'amines encombrées et des composés stabilisants aux M. Les composés stabilisants à la lumière préférés comprennent des composés d'amines encombrées, des composés de tris-aryltriazines, des hydroxyphényltnazines, des composés de benzotriasols, des composés de benzophénones, des composés de bpiisÜrd/Hullt's, des Co(llp(.)st.l)S de cydnoaciylateS, Ces ComposeS fonctionnels d am1des et des melanaes de heur -ci. Les composes stabilisants )mp ,e>t d arllirl il unc OML,n ilOMp s Ci b. n. ,trlaz )!s, Hl( 3 n,Jlc's d~ uLÇ.orilH: pr )'L la Onli2rE' que pon prr fére plus cc,mpr , r1ent. des on». d'hy«-,o 'phenvlthasinr st Ji lllsants a la iumlerc.' aillé_ Lon HT»«- rint-nt ;l1 cUlllr)HTUU On drLJrl corllpOS) Crd(' rint' nCOn'!h t'C' ~'t der, 101ns Uri parnl' CornpOS hE"lZ.ophr)Toril rnpCLie ('t U) (JlirD'~ d 'l Vd!')xV"phen`/Itrl zine, oa ~) pClnt I [Mu e.1 IlJrlllOH_2 tl'IS 't-' Clans 1t'.ut'( +r p I15SUgr irlti -lo-c nlmlque G présente Invention contient de préférence de 0 1 à 5 % en masse d'un constituant stabilisant à la lumière. La fenétr de détection de point limite en pcl`/ruer stable a la lumlere contient encore Alleu/ de 0,Z a masse ~blc r mien> encore de 0,25 a 2 en masse, encore mien à 1,5 % en masse) de constituant stabilisant a la lumi re. L fenetre dr detecuon de polnt bmitf' en polymère stable a la lumieie utallsée dans le feutre de polissa ,r mécano-chlmidue de la présente invention est choisie parmi une fenetre a bouchon-en-place et une fenetre intégrale. La couche de polissage dans le feutre de polissage mécano-chimique de Ça présente invention est un matériau polymère comprenant un polymère choisi parmi des polycarbonates, des polysulfones, des nylons, des polyesters, des polyesters, des polystyrènes, des polymères acryliques, des polyméthacrylates de méthyle), des poly{chlorures de vinyle}, des poly(fluorures de vinyle), des polyéthylènes, des polypropylènes, des polybutadiènes, des polyéthyièneimines, des polyuréthanes, des polyéthersulfones, des polyamides, des polyétherimides, des polycétones, des époxy, des silicones, EPDM, et des combinaisons de ceux-ci. La couche de polissage comprend de préférence un polyuréthane. L'homme de l'art saura choisir une couche de polissage présentant une épaisseur utilisable dans le feutre de polissage mécano-chimique pour une opération de polissage donnée. La couche de polissage présente de préférence une épaisseur moyenne de 20 à 150 millièmes de pouces (encore mieux de 30 à 125 millièmes de pouces ; bien mieux encore de 40 à 12.0 millièmes de pouces). Le feutre de polissage n~r c adhésifs sensibles a 1 3 presslen, sirs m tu`._:li)ir;'s, contas rrr_UCP hindi Cl adheot t de pi& f- r, nun adhésif Mu r~rotus b e eu un adhr la me, -Inn . >re mieux on , clhe tl-rni r /: n de 0, D tIilvenhen plu`., 'rit _Ilç'r l 'rrt ne C J iCi"l r' Clé' rase moins une couche supplémentaire =nectt e avec et intercalée entre l ~ couche de polissage et la couche de base. Les différentes couchas peuvent etre ev`ntUellement for t' 'S ensemble en utilisant un adheslf. L'adnesif peut ,Litre choisi parmi des adhr:_ -ifs sensibles d la pression, des adhésifs thern ofusiblus, des adhésifs de contact t des combinaisons d ceu,-ci. L'adhésif- est de preference un adheslt thermofusibie ou un adhésif sensible a la pression. L'adhésif est bien mieU, encore un adhésif thermofusee. Le feutre de polissage mécano-chimique de le présente invention est de préférence adapté peur être connecté à un cylindre d'une machine de polissage, Le feutre de polissage mécano-chimique de la présente invention est éventuellement adapté pour être fixé au cylindre en utilisant au moins un parmi un adhesit sensible â la pression et le vide, La surface de polissage de la couche de polissage du feutre de polissage mécano-chimique de la présente invention présente éventuellement au moins une parmi une macrotexture et une microtexture pour faciliter le polissage du substrat. La surface de polissage présente de préférence une macrotexture, où la macrotexture est mise au point pour réaliser au moins une action parmi (i) éviter au moins l`hydroplanage ; (il) influencer l'écoulement du milieu de polissage ; (iii) modifier la rigidité de la couche de polissage ; (iv) réduire les effets de bord ; et, (v) faciliter le transfert des débris de polissage â partir de la surface entre la surface de polissage et le substrat. La surface de polissage de la couche de polissage du feutre de polissage mécano-c:hirZigue de la présente invention présente ~v~~ntueilenl~nt Urle nlaCrotextUl e L! lM5ir,2 parllli au IllUinS di s perforations et drus rainures. Les perforations peuvent dry pr iférence s'étendre a partir ci _ l.Jrfat.(' de p il 5(1,13 3artlt'llef1lent Ou tOtdiurlent 3 trar,rerS ayant une combinaison d'une profondeur choisie parmi 10 millièmes pouces, 15 millièmes de pouces et d 15 à 150 milliernes de pour d'une largeur choisie parmi i0 hall emes de pouces et de 1 100 millièmes de pouces ; et d'un pas choisi parmi 30 millièmes de pouces, 50 millièmes dry pouces, de 50 à 200 meemes qc pouces, de 70 à 200 milliémes de pouces, et de 90 200 millièmes de pouces. Le procède de la présente invention pour un polissage mecanochimique d'un substrat comprend : la fourniture d'un appareil de polissage mécano-chimique présentant un cylindre, une source de lumière et un détecteur photoélectrique (de préférence un spectrographe multidétecteur) ; la fourniture d'au moins un substrat choisi parmi un substrat magnétique, un substrat optique et un substrat semi-conducteur (de préférence un substrat semi-conducteur ; encore mieux une galette semi-conductrice) ; la fourniture d'un feutre de polissage mécano- chimique de la présente invention ; l'installation sur le cylindre du feutre de polissage mécano-chimique ; la fourniture éventuelle d'un milieu de polissage â une interface entre la surface de polissage et le substrat ; la création d'un contact dynamique entre la surface de polissage et le substrat, dans lequel au moins une certaine partie de matière est éliminée du substrat ; et, la détermination d'un point limite de polissage par transmission de lumière â partir de la source de lumière â travers la fenêtre de détection de point limite en polymère stable â la lumière et par analyse de la lumière réfléchie à partir de la surface du substrat en retour â travers la fenêtre de détection de point limite en polymère stable â la lumière de manière incidente sur le détecteur photoélectrique. Le point limite de poissssage est de préférence défet miné sur la base d'une analyse d'une longueur d'onde de lumière réfléchie à partir c la surface du b`_;trat Exemple comparatif C et exemples 1-10 Préparation de fenêtres de détection de point limite Un a préparé des blocs de fenêtres de détection de point limite peur une intégration dans des couches de polissag( mécano-chirniyue 10 comme fenêtres intégrales comme suit. On a mélange le paquet de stabilisant ("SP'") indiqué dans le tableau 1 avec une polyamine aromatique ("AP") (c'est-à-dire la diethyltoluénediamine "DEl`DA") dans la quantité indiquée dans le tableau 1. On a ensuite mélangé la combinaison de stabilisant/polyamine aromatique avec un polyol prépolymére â 15 terminaisons isocyanate ("I PP") (c'est-à-dire LW570 disponible chez Chemtura) au rapport stoechiométrique de -NN2 â -NCO de 80 %. On a ensuite introduit le matériau résultant dans un moule. On a ensuite fait durcir les contenus du moule dans un four pendant dix-huit (18) heures. On a fixé la température de consigne du four â 93°C pour les premières 20 vingt (20) minutes ; 104°C pour les quinze (15) heures suivantes et quarante (40) minutes suivantes ; et on l'a ensuite abaissée â 21°C pour les deux (2) heures finales. On a ensuite découpé les blocs de fenêtres â bouchons pour faciliter l'incorporation dans des gâteaux de feutres de polissage par un moyen classique. 17 chimique utilisé dans (e procedé de la présente invention est préferr nce une fenétre résistante au fluag Qn décrira maintenant en ci('tail dans Ces t.ner certains n des du réalisation de la présenta invention 25 18 Tableau 1 E SPI i SP ajouté (en pph» aucun :contrôle», Tinuvin 123 Tinuvin 662 Tinuvin 765 UnIvul 3059 Tinuvin PUR 866 Univuli 303 9 10 Tinuvin 123 + Univule 3039 Tinuvin`' 765 + Univul@ 3039 0,8 0,3 0,5 + 0,5 0,5+0,5 pph indique la partie de SP pour 100 parties de (AP + ITPP) ; e le matériau Univul 3039 cité provenait de chez Aldrich, tous les autres matériaux SP cités dans le tableau 1 provenaient de chez BASF. Exemple 11 : Dureté On mesure la dureté d'une fenêtre de détection de point limite 10 en polymère stable à la lumière préparée selon l'exemple 5 selon ASTM D2240-05 et elle est déterminée comme étant de 67 Shore D. Exemple 12 Test de transmission e stabilité accélérée à la lumière 15 C?n a `l,_ le ir Lui transmission -e Verieyi SP2006 pectret fnterferceneter constitue d'un Lerographe SDIO24F d'une rnpe fiash ..ce-ion et d'un càble ide fibre optique cle enfin. On 3 rea., croc nyn,)t de dOnnéeS UtIlISjnt: Lil VerSIOn C..k2 rogramfne applications SpectreVieieii -410. L. erity SP2006 presente intervalle Li 200 Les mesures de transmission utilisées pour le calcul de DPTE ont été déterminées pour chaque échantillon en mesurant IWs; et MD après exposition à de la lumière ultraviolette d'intensité élevée produite par une lampe â arc court â vapeur de mercure de 100 W â travers une baguette de fibre optique de diamètre 5 mm, où la baguette a été calibrée peur fournir 500 mW/cm2. On a dans chaque cas placé l'échantillon sur une table d'exposition d'échantillon et on l'a exposé â de la lumière de la baguette de fibre optique de diamètre 5 mm disposée 2,54 cm au-dessus de la surface de la table d'exposition d'échantillon sur une durée de deux (2) minutes. On a ensuite calculé ALS pour chaque échantillon â partir de l'équation suivante avec les résultats fournis dans le tableau 2. DPTE ALS = DPTI La longueur d'onde limite de transe isslon ("40 )cite pour les échantillons listes dans le tableau 2 est la longueur d'onde à laquelle et en dessous de laquelle le DPTI calcule E ..st: régal ~ zéro. On note que: a t (let r~nàin utilisent d _'n+li'r .oui n'ont Ià `ocre r' C luire - ' u tr.ipao ettr dt?_. 20 Tableau 2 A S Ex. en nm (À = 380 nm 330 0 66 _ 330 1 2 330 ,330 1 4 1 370 1 ! 360 10,93 1 370 0,94 0,82 7 1 370 8 70 370 1 0,79 0,89 370 0t.84 Exemple 13 : Résistance au fluage On a réalisé une analyse de fluage sous traction sur un échantillon d'une fenêtre de détection de point limite en polymère stable à la lumière résistante au fluage préparée selon la procédure décrite dans l'exemple 5 pour mesurer la déformation au cours du temps, e(t), de l'échantillon lorsqu'il a été soumis à une contrainte constante appliquée, Go. La (information au cours du temps est une mesure du degré de déformation d'un échantillon et est définie comme suit : 100 La contrainte an r. efInIt.I.-2 C-Onin-1 Id ÎC dppliqUL't-2. \,"Is par ia et on transverstiic:2 du spi amer, st.e,. Lqptitude ~lU , action, D( qetinie cnin-nc suit L'aptitude au fluage est typiquement reportée sur une échelle logarithmique. Puisque lu valeui de déformaton e{pénmentale était` negatp,re et que le logarithme d'un nombre négatif ne peut pas tare défini, on cite à la place de l'aptitude au fluage la valeur de déformation pour la 10 fenétre de détection de point [imite en polymère stable à la lumière, résistante au fluage. Les deux valeurs sont synonymes sous une contrainte constante. La valeur de déformation mesurée du matériau de fenêtre de détection de point limite en polymère, stable à la lumière, résistant au fluage est d'une importance technique. 15 On trace l'aptitude au fluage en fonction du temps et on représente un exemple de la réponse au fluage (déformation) d'un polymère viscoélastique en fonction du temps tirée d'un manuel dans la figure 1. On applique la contrainte a à t = 0. Le polymère se déforme initialement de manière élastique et continue à s'étirer lentement (fluage) 20 au cours du temps (courbe gauche). Lorsque la contrainte est éliminée, le polymère se détend (courbe droite). Une matière viscoélastique ne se rétracte pas complètement alors qu'une matière purement élastique revient â sa longueur initiale. On a réalisé les mesures de fluage en utilisant le TA 25 Instruments Q800 DMA utilisant des montages de colliers élastiques. On a e- e toutes es Cypen enees fluage a pour su-mule` la temperature de polissagf . On a laisse l'échantillon teste s'équilibrer a la tEJr11t )fatum. dl., test pendant min avant l' lr plie 3tion ~11 la contr 3 nte l c, CJMr"u n'!' a; 'qUE' -: J nrillnn de l 4»d O! ~ ne ' sure u i) llfl 1` U I`_ d St CrI it;'n CIE' t , T t'n ULIIIM(i:Mr ln) MIE_ c?i11 't E;'. c3Vc3n`l eimenslc ns nominal 'charlbi.on 'talç_:r, dE-' 1 i men nlr'l f' rem Or ï [ i;llqutr 1 1 cor 'mule J l' . 0ant l'en ndunt ' )0 n1in. 0- a r _'Ire le r entm nies , -Mquue a:~20 min e5 Me` lIM Clam` IO mie supidementï: r Or a uni, d' t mtltui arl 'Mar_ E mot_ le nt''au C,1 t'(_E ~?n`-1111," _'n '