Brevet FR2961899A1 — publié le 20111230

PROCEDE DE FONCTIONNALISATION DES VEINES FLUIDIQUES CONTENUES DANS UN DISPOSITIF MICROMECANIQUE, DISPOSITIF MICROMECANIQUE COMPRENANT DES VEINES FONCTIONNALISEES ET SON PROCEDE DE REALISATION. La présente invention concerne un procédé de fonctionnalisation d'une ou plusieurs veines fluidiques recouvertes d'une paroi opaque, par exemple en silicium. Elle concerne également des dispositifs contenant des veines fluidiques susceptibles d'être fonctionnalisées ainsi que leur procédé de réalisation. 10 Dans la description ci-après on entend par « veine fluidique », toute structure tubulaire comprenant une paroi périphérique délimitant latéralement un espace où peut circuler un fluide, et comprenant une entrée et une sortie. La section transversale d'une veine fluidique peut être quelconque (circulaire, 15 polygonal etc.) constant ou non le long de la veine. Un capillaire, un conduit, une canalisation sont autant de synonymes de la notion de veine fluidique utilisée dans l'invention. La fonctionnalisation d'une surface est l'opération par laquelle on parvient à 20 fixer une ou plusieurs molécule(s) d'intérêt sur une surface, de façon à ce qu'elle(s) y conserve(nt) tout ou partie de ses (leurs) propriétés. La fonctionnalisation d'une surface suppose donc que l'on dispose de la molécule d'intérêt et d'un procédé associé pour la fixer sur la surface. 25 Plusieurs types de procédés de fonctionnalisation de surface sont connus de l'art antérieur. Traditionnellement, ils consistent à modifier la surface à fonctionnaliser par le biais de réactions chimiques visant à générer des fonctions susceptibles d'être réactives vis-à-vis d'une molécule sonde. Ladite molécule sonde étant alors utilisée pour capter une cible dont on cherche à 30 détectes in fine la présence. Les principales difficultés rencontrées lors de ces fonctionnalisations de surface résident dans le choix des fonctions chimiques réactives susceptibles d'être mises en oeuvre pour obtenir l'immobilisation de la sonde sur la surface d'un support. Par exemple, il convient de prendre en compte la nature chimique de la surface du support. Dans le cas de substrat en silicium, les molécules de types silanes sont largement utilisées. On emploie alors une molécule présentant une fonction silane susceptible de réagir avec le support en silicium via les silanols de surface et une fonction réactive masquée ou non vis-à-vis d'une molécule sonde, éventuellement chimiquement modifiée. Une fois le silane fixé en surface du support, la molécule sonde est positionnée sur la molécule silane via l'emploi de fonctions réactives complémentaires. Pour délimiter sur un support, en silicium par exemple, les zones qui devront subir une fonctionnalisation, on utilise classiquement des techniques de réactions localisées par automate (ou « spotting » en anglais) permettant de localiser précisément l'éjection du silane et par conséquent, de définir des zones successives et isolées fonctionnalisées par des silanes de natures 20 différentes. Néanmoins, cette technique ne peut être envisagée dans le cas où la surface du support est rendue inaccessible au spotting. En particulier, dans le cas où l'on cherche à discrétiser les zones d'une surface située sur la face interne 25 d'une cavité fermée. Dans cette hypothèse, il peut être prévu, par exemple, de modifier localement la mouillabilité de la surface du support préalablement à sa mise en place dans un dispositif plus complexe pour ultérieurement guider préférentiellement 30 les réactifs au nombre desquels les silanes vers les zones de mouillabilité modifiées. Egalement, on peut modifier la surface du support via l'introduction de plots métalliques électriquement connectés et pouvant servir à de l'électrogreffage. Cependant, les techniques précitées nécessitent des modifications conséquentes de la structure de la surface, ajoutant à la complexité de la réalisation de dispositifs micromécaniques suffisamment complexes par ailleurs. II existe également des silanes disposant d'une fonction masquée par un groupement photolabile. Après fixation sur la surface d'un support, lesdits silanes sont déprotégés pour libérer une fonction elle-même réactive vis-à-vis d'une fonction complémentaire portée par une molécule sonde. Par l'emploi d'une insolation sélective, la photo déprotection peut-être localisée et permettre de différencier des zones en surface du support. De l'emploi de ce type de silane, on comprend la nécessité de rendre la surface accessible aux conditions d'insolation, ce qui pose, par conséquent, un problème lorsque la surface à fonctionnaliser sélectivement fait partie d'une cavité close dont les parois sont opaques, par exemple en silicium ou en un autre matériau opaque. Les plupart de procédés de fonctionnalisation par la voie photochimique connus s'appliquent à la fonctionnalisation d'une surface plane, directement éclairée pour la réaction photochimique. Puisque l'éclairage de la surface est direct, la nature du support n'intervient que sur la réaction chimique elle-même, et non sur la possibilité de l'activer par un éclairage. Les supports utilisés peuvent donc être en plastique, en verre, en silicium, ou tout autre matériau opaque. La fonctionnalisation de l'intérieur d'une cavité close (telle qu'une veine fluidique), ou de supports tubulaires sous forme de capillaires ou de canaux, nécessite obligatoirement l'utilisation d'un matériau transparent à l'éclairage. En effet, pour éclairer la surface interne des veines fluidiques, il faut que la lumière traverse la paroi, ce qui constitue un éclairage indirect de la surface. Un procédé de fonctionnalisation des substrats ayant, entre autre, la forme de capillaire, a été décrit dans le document WO 2006/024722. La fonctionnalisation des capillaires a été réalisée en déprotégeant des fonctions réactives d'un composé par l'insolation à l'aide d'une lampe ultraviolette, puis la mise en contact de la surface des capillaires activée avec une solution des molécules biologiques d'intérêt. Les capillaires ainsi activés sont obligatoirement en verre et sont transparents à la lumière UV. En résumé, les techniques de fonctionnalisation standard ne peuvent donc pas être envisagées pour greffer de manière locale une molécule d'intérêt (par exemple une sonde) à l'intérieur d'une cavité close, et en particulier à l'intérieur d'une veine fluidique recouverte d'une couche de silicium ou d'autres matériaux opaques, telle qu'on peut en rencontrer dans des dispositifs micromécaniques. De tels dispositifs sont connus par exemple du document FR 2 931 549. Il existe donc un besoin de proposer un procédé efficace permettant la fonctionnalisation d'une veine fluidique ou d'un canal ayant des parois comprenant au moins une couche opaque, c'est-à-dire dans la présente invention, non transparente à la lumière de photodéprotection (généralement la lumière ultraviolette) pouvant être contenus ou non dans un dispositif tel que celui décrit dans la demande FR 2 931 549. Le but de la présente invention est donc de fournir un procédé de fonctionnalisation des veines fluidiques dont les parois comprennent une couche opaque. L'invention a donc pour objet un procédé de fonctionnalisation d'un dispositif micro mécanique muni d'une veine fluidique comprenant une paroi30 périphérique présentant une surface externe à la veine et une surface interne délimitant un espace dans lequel est susceptible de circuler un fluide, la paroi périphérique comprenant au moins partiellement une couche de silicium, caractérisé en ce qu'il comprend les étapes suivantes : a) la mise à disposition d'un dispositif dont la paroi périphérique comprenant au moins partiellement la couche de silicium présente, au moins localement, une épaisseur comprise entre 100 et 200 nm exclu, avantageusement entre 160 et 180 nm, la silanisation d'au moins la surface interne de la veine fluidique, 10 d) la photodéprotection localisée et sélective sur au moins la surface interne du dispositif silanisé par insolation de la paroi périphérique là où elle présente une épaisseur comprise entre 100 et 200 nm exclu, avantageusement entre 160 et 180 nm. 15 Par convention, les étapes sont réalisées par ordre alphabétique. Avantageusement, le procédé peut comprendre une étape b) d'hydratation d'au moins la surface interne de la veine fluidique. 20 Avantageusement, le dispositif est un dispositif micromécanique, comme par exemple un résonateur utilisé comme capteur gravimétrique. Selon des caractéristiques particulières du procédé de l'invention, avant l'étape de silanisation, la surface interne de la veine fluidique est hydratée. 25 L'étape d'hydratation peut comprendre l'immersion du dispositif dans une solution à base d'alcool et d'hydroxyde de métal ou une solution acide alcoolique. Selon un autre développement de l'invention, avant la silanisation, la surface 30 interne de la veine fluidique est traitée par un plasma oxygène. Selon une particularité de l'invention, l'étape de silanisation peut comprendre l'immersion du dispositif dans une solution contenant des silanes photosensibles. Le silane utilisé à l'étape de silanisation peut être un silane oxyamine photosensible. Selon l'invention, on entend par silane photosensible, une molécule de type silane comprenant un groupement silanisé apte à réagir avec une surface de type silicium et un groupement photolabile protecteur d'une fonction réactive en vue du greffage d'une molécule sonde. 10 Selon d'autres caractéristiques particulières du procédé de l'invention : - l'insolation peut être réalisée par une lampe à lumière UV. De préférence, cette lampe possède une puissance de 100W et une intensité de 20 à 25 mW/cmz, de préférence de l'ordre de 24 mW/cmz ; 15 - l'insolation peut être effectuée de manière séquentielle ou simultanée; - la durée d'insolation est généralement comprise entre 5 et 30 secondes ; - l'insolation séquentielle peut être réalisée avec un rayon de lumière UV qui passe à travers une ouverture mécanique de largeur ajustable ; - l'insolation séquentielle ou simultanée peut être réalisée sur un dispositif 20 recouvert d'une couche de motifs opaques aux longueurs d'ondes d'irradiation du silane ; - l'insolation séquentielle ou simultanée peut être réalisée en utilisant un masque de photolithographie en quartz comprenant des motifs microniques capables de filtrer la lumière UV ; 25 - l'insolation séquentielle ou simultanée peut être réalisée en utilisant un masque de photolithographie combiné avec un masquage de motifs opaques - l'insolation peut être réalisée de manière simultanée en pleine plaque à travers un masque de photolithographie ou à travers des motifs opaques. 30 Selon un autre mode de réalisation, le procédé de la présente invention peut comprendre en outre une étape de greffage d'au moins une molécule sur les silanes fixes sur au moins une surface d'une veine fluidique par la mise en5 oeuvre d'un couple de fonctions chimiques portées par la molécule à greffer et les silanes. En d'autres termes, le silane déprotégé est susceptible de réagir avec une molécule sonde chimiquement modifiée ou non pour immobiliser ladite molécule sonde sur la surface interne de la veine fluidique. Selon encore d'autres caractéristiques du procédé de l'invention : - les molécules à greffer peuvent être des macromolécules, choisies parmi des acides nucléiques, des lipides et/ou des protéines ; - les molécules à greffer peuvent être des sondes de type oligonucléotide. 10 Selon encore un autre mode de réalisation, le procédé de la présente invention peut comprendre en outre une étape d'hybridation, suivie d'une étape de lecture en fluorescence. 15 Selon encore un autre mode de réalisation, le procédé de la présente invention peut comprendre en outre une étape d'hybridation, suivie d'une étape de détection et/ou caractérisation de l'hybridation. En particulier, cette étape de détection peut se faire grâce à des moyens électriques. 20 La présente invention a également pour but de mettre à disposition un dispositif micromécanique contenant des veines fluidiques dont la paroi comprend, au moins partiellement, une couche de matériaux opaque et qui est susceptible d'être fonctionnalisé par le procédé de l'invention. 25 Un autre objet de la présente invention est donc, la mise à disposition d'un dispositif micromécanique susceptible d'être fonctionnalisé par le procédé de l'invention, le dispositif étant muni d'une veine fluidique comprenant une paroi périphérique présentant une surface externe à la veine et une surface interne délimitant un espace dans lequel est susceptible de circuler un fluide, la paroi 30 périphérique comprenant au moins partiellement une couche de silicium, le dispositif présentant, au moins localement, une épaisseur comprise entre 1005 et 200 nm exclu, de préférence entre 160 et 180 nm, et la surface interne étant silanisée. Selon d'autres caractéristiques du dispositif de la présente invention : - la surface interne silanisée peut être au moins localement déprotégée là où l'épaisseur de la paroi est comprise entre 100 et 200 nm exclu, de préférence entre 160 et 180 nm ; - la surface interne silanisée localement déprotégée peut comprendre des molécules greffées ; - les molécules greffées peuvent être des sondes. Par sonde, on entend des molécules aptes à la détection de cibles spécifiques. Selon un mode de réalisation particulier, le dispositif de la présente invention peut être un dispositif pour la détection gravimétrique de particules en milieu fluide, comprenant un oscillateur électromécanique plan, des moyens de support de l'oscillateur et des moyens d'actionnement dudit oscillateur, lesdits moyens étant agencés pour assurer la vibration de l'oscillateur, ledit dispositif comportant en outre un canal pour le passage du fluide, l'oscillateur électromécanique comprenant une veine fluidique traversante en communication fluidique amont et aval avec ledit canal, la veine présentant une surface interne délimitant un espace dans lequel est susceptible de circuler un fluide, et étant délimitée au moins partiellement par une paroi périphérique comprenant une couche de silicium et présentant, au moins localement, une épaisseur comprise entre 100 et 200 nm exclu, de préférence entre 160 et 180 nm, la surface interne étant silanisée. Selon des caractéristiques particulières du dispositif de la présente invention : la surface interne silanisée peut être au moins localement déprotégée là où l'épaisseur de la paroi est comprise entre 100 et 200 nm exclu, de préférence entre 160 et 180 nm - la surface interne silanisée localement déprotégée peut comprendre des molécules greffées par mise en contact desdites molécules avec la fonction photodéprotégée du silane; - les molécules greffées peuvent être des sondes ; - l'oscillateur électromécanique peut présenter une forme prise parmi un disque, un anneau et un polygone, de préférence un carré ; - l'oscillateur peut être de forme carrée et présente une largeur et une épaisseur telles que le rapport de la largeur sur l'épaisseur est compris entre 10 et 30, de préférence 10 ; - l'oscillateur électromécanique peut être obtenu à partir d'une couche de substrat en matériau polycristallin ; - l'oscillateur électromécanique peut être obtenu préférentiellement à partir d'un substrat en matériau monocristallin ; - le substrat peut être à base de silicium ; - l'oscillateur électromécanique peut comporter ou être obtenu à partir de métaux déposés par procédé PVD (dépôt en phase vapeur), évaporation ou croissance électrolytique ; - la veine fluidique traversante de l'oscillateur et/ou le canal contient des piliers dont la section transversale est de forme prise parmi un cercle, une ellipse, et 20 un polygone. - La paroi périphérique comprenant la couche de silicium peut comporter un matériau métallique en vue d'une détection par transduction (piezométallique, capacitive, thermoélastique), éventuellement sous forme de piste. Avantageusement, ledit matériau métallique peut avoir une fonction de 25 masque pour la photodéprotection et une fonction de détection dans le cadre de l'invention. La présente invention se rapporte également à un procédé de réalisation d'un dispositif selon l'invention, comprenant les étapes suivantes : 30 la sélection d'un substrat approprié à la détection gravimétrique envisagée, comprenant, au moins partiellement une couche de silicium, - la réalisation à partir dudit substrat d'un oscillateur électromécanique plan et comprenant au moins partiellement la couche de silicium, - la réalisation d'une veine fluidique dans ledit oscillateur, de telle sorte que la paroi comprenant au moins partiellement la couche de silicium présente, au moins localement, une épaisseur comprise entre 100 et 200 nm exclu, de préférence entre 160 et 180 nm, - la réalisation d'un canal pour le passage du fluide, ledit canal étant en communication fluidique avec ladite veine fluidique ménagée dans l'oscillateur. La présente invention se rapporte également à l'utilisation d'un procédé de fonctionnalisation par photochimie avec un dispositif muni d'au moins une veine fluidique présentant une paroi au moins partiellement opaque aux longueurs d'ondes utilisées par l'insolation pour activer la réaction photochimique, dans laquelle le dispositif est muni d'une veine fluidique dont une paroi périphérique comprend au moins partiellement une couche de silicium et présente, au moins localement, une épaisseur comprise entre 100 et 200 nm exclu, de préférence entre 160 et 180 nm. D'autres caractéristiques de l'invention seront énoncées dans la description détaillée ci-après faite en référence aux figures qui représentent, respectivement la figure 1, une vue schématique en coupe d'une partie d'un dispositif comprenant une veine fluidique susceptible d'être 25 fonctionnalisée selon le procédé de l'invention ; la figure 2, une vue schématique en coupe (figure 2b) et vue de dessus (figure 2a) d'un dispositif semblable à celui de la figure 1 lors d'une insolation séquentielle; - la figure 3, une vue schématique en coupe (figure 3b) et 30 vue de dessus (figure 3a) d'un dispositif semblable à celui de la figure 1 lors d'une insolation séquentielle avec un masque de motifs opaques ; - la figure 4, une vue schématique en coupe (figure 4b) et vue de dessus (figure 4a) d'un dispositif semblable à celui de la figure 1 lors d'une insolation séquentielle avec un masque de photolithographie ; - les figures 5, une vue schématique en coupe (figure 5b) et vue de dessus (figure 5a) d'un dispositif semblable à celui de la figure 1 lors d'une insolation séquentielle avec un masque de photolithographie combiné avec le masque de motifs opaques - la figure 6, une vue schématique en coupe (figure 6b) et vue de dessus (figure 6a) d'un dispositif semblable à celui de la figure 1 lors d'une insolation de manière simultanée en pleine plaque avec un masque de photolithographie ; - la figure 7, une vue schématique en coupe (figure 7b) et vue de dessus (figure 7a) d'un dispositif semblable à celui de la figure 1 lors d'une insolation de manière simultanée en pleine plaque avec un masque de motifs opaques ; - la figure 8, une vue schématique en coupe (figure 8b) et vue de dessus (figure 8a) d'un dispositif semblable à celui de la figure 1 lors de l'étape de fixation de sonde après une insolation séquentielle; - la figure 9, une vue schématique en coupe (figure 9b) et vue de dessus (figure 9a) d'un dispositif semblable à celui de la figure 1 lors de l'étape de fixation de sonde après une insolation séquentielle avec le masque de motifs opaques ; - la figure 10, une vue schématique en perspective d'un exemple de réalisation d'un dispositif fonctionnalisable selon le procédé de 25 l'invention ; - la figure 11, une vue schématique en perspective montrant l'intérieur de la veine fluidique du dispositif de la figure 10 - la figure 12, une vue schématique en coupe d'un exemple de réalisation d'un dispositif selon l'invention 30 - la figure 13, une vue schématique en perspective d'un dispositif semblable à celui des figures 10 et 11 ; - la figure 14, une vue schématique en coupe d'un exemple de réalisation d'un dispositif selon l'invention comprenant une couche métallique structurée sur la couche en silicium de la veine fluidique. Le procédé de fonctionnalisation selon l'invention est utile pour la fonctionnalisation d'un dispositif micromécanique comme celui présenté sur la figure 1. Ce dispositif est muni d'au moins une veine fluidique 1 b comprenant une paroi périphérique 5 présentant une surface externe 2 à la veine et une surface interne 3 délimitant un espace dans lequel est susceptible de circuler un fluide. La paroi périphérique 5 comprend, au moins partiellement, une couche de silicium 5a, présentant, au moins localement, une épaisseur e comprise entre 100 et 200 nm exclu, de préférence entre 160 et 180 nm. Le procédé de fonctionnalisation selon l'invention comprend une première étape de mise à disposition d'un dispositif tel que présenté sur la figure 1, suivi d'une étape d'hydratation d'au moins une surface de la veine fluidique du dispositif. L'étape d'hydratation comprend l'immersion du dispositif muni des veines fluidiques 1 dans une solution qui pénètre dans les veines par le biais des accès fluidiques E et S. Cette solution est une solution aqueuse ou alcooloaqueuse à PH basique ou acide. Parmi elles, on peut citer la solution à base d'éthanol et de l'hydroxyde de sodium (1g NaOH, 4 mL H2O, 3 mL EtOH). Le dispositif est laissé dans la solution pendant 1 heure et ensuite, il est lavé à l'eau pure, et séché à l'azote. Alternativement, on peut employer un plasma 02. Le dispositif ainsi hydraté est soumis à une étape de silanisation. L'étape de silanisation comprend l'immersion du dispositif dans une solution contenant 10 mM de silane photosensible qui pénètre et « tapisse » l'intérieur des canaux par le biais des accès fluidiques. Le dispositif est immergé dans une solution contenant du trichloréthylène, et incubé pendant une durée de 6 à 48 heures, en moyenne de l'ordre de 12 heures à température ambiante. Après un lavage dans le solvant de silanisation (trichloréthylène par exemple), puis l'éthanol, le dispositif est séché sous azote. A ce stade, le silane recouvre toutes les surfaces du dispositif, à moins que des zones de protection soient ménagées sur ces surfaces au moyen d'un matériau empêchant la silanisation. 10 Le silane utilisé est un silane oxyamine photosensible dont la synthèse et formulation est décrite ci-dessous : O-NH-NPPC ~ONHz N O-NH-NPPOC 1/ Protection 2/ Hydrosylilation NPPOC = groupe photosensible EtO- Si -OEt OEt Silane oxyamine photosensible 15 Bien entendu, l'homme du métier sera en mesure d'utiliser n'importe quel silane oxyamine photosensible tel que décrit par exemple dans le document W02006/024722. Par la suite, le dispositif silanisé est soumis à une étape de photo-20 déprotection. Cette étape de photodéprotection comprend la mise en contact d'au moins une surface du dispositif avec une solution aqueuse de pyridine à 5% ou une solution aqueuse de soude à 20 mM. De préférence, cette solution est 25 confinée dans la veine fluidique pour empêcher ou limiter son évaporation. Par exemple, ce confinement est obtenu en obturant les accès E et S. Le5 dispositif est ainsi monté sur le plateau d'un microscope, équipé d'une lampe à mercure 100 ayant, de préférence, une puissance de 100 W et une intensité comprise entre 20 et 25 mW/cm2, de préférence 24 mW/cm2. La lampe 100 a pour but d'irradier la couche de silane et notamment celle contenue dans les veines fluidiques 1 b. A ce titre, l'épaisseur de la paroi comprenant la couche en silicium recouvrant la veine fluidique est suffisamment fine (en l'occurrence entre 100 et 200 nm exclu, de préférence entre 160 et 180 nm), et choisie judicieusement pour permettre la transmission d'une partie de rayon lumineux pour qu'une énergie suffisante d'insolation traverse cette partie de la paroi. L'irradiation du silane entraîne la déprotection et l'activation de la fonction que ce silane comporte, et qui est destinée à fixer une sonde 110 (voir figure 14). Plusieurs manières d'insolation sont possibles ainsi que la taille désirée des zones actives 120 (zones où seront immobilisées les sondes), le nombre de sites à insoler, la précision de localisation de ces mêmes sites par rapport à la géométrie des veines. Les méthodes d'insolation utilisées dans le procédé de fonctionnalisation selon la présente invention sont choisies parmi l'insolation séquentielle et l'insolation simultanée en pleine plaque. 25 La figure 2 illustre le dispositif de l'invention lors d'une insolation séquentielle. Lors de cette insolation, la veine fluidique lb où l'on souhaite greffer les sondes est insolée de manière séquentielle par un flash UV 100 qui est émis et dont le faisceau passe librement à travers une ouverture mécanique 101 de largeur ajustable (diaphragme + obturateur). Chaque flash intervient après le 30 déplacement du plateau sur lequel repose le dispositif. La taille des spots insolés 120 dépend de la largeur de l'ouverture mécanique, et est avantageusement de l'ordre 100pm de diamètre mais peut être réduite 20 davantage si nécessaire. La taille des spots peut varier d'un site à l'autre, et le cas échéant nécessitera l'ajustement de l'ouverture du diaphragme du flash. La figure 3 illustre le dispositif de l'invention lors d'une insolation séquentielle avec un masque de motifs opaques 130. Ces motifs sont définis dans un matériau opaque aux longueurs d'onde d'irradiation du silane. Ce masque 130 recouvre localement la paroi 1' ayant une épaisseur entre 100 et 200 nm exclu, de préférence entre 160 et 180 nm, et comprenant la couche de silicium. Ce masque 130 est structuré par des techniques de dépôt en couche mince et gravure chimique ou sèche. Il s'agit par exemple de disposer des motifs en chrome, or, ou autre matériau sur la paroi 1'. La seule condition est que le matériau de masque soit opaque aux longueurs d'onde d'irradiation du silane et que son épaisseur empêche toute transmission d'énergie UV de déprotection des silanes. Ce matériau peut également revêtir des fonctions de nature électrique (par exemple, électrodes pour la concentration par DEP, électrodes de détection piézométallique, etc.). Dans le cas de l'utilisation d'un matériau formant un masque de nature métallique, il est souhaitable de réaliser le dépôt métallique sur une surface de silicium passivé avec un isolant par exemple de la silice obtenue par oxydation thermique. D'autre part, ce masque 130 d'un matériau opaque peut, dans une version préférentielle, disposer de propriétés de surface chimiques qui empêchent la silanisation locale. La figure 4 illustre un dispositif selon l'invention lors d'une insolation séquentielle avec un masque de photolithographie 140. L'insolation séquentielle peut se faire à l'aide de la lampe UV 100 seule ou en couplant cette lampe et le microscope avec l'utilisation d'un masque de photolithographie 140 en quartz recouvert de motifs en chrome 141, de taille micronique (de l'ordre du micromètre ou plus) voire submicronique, qui filtrent ainsi la lumière UV. Le microscope est équipé d'une porte masque que l'on appose et aligne au dessus du support de l'échantillon (reprenant le même principe que celui de la photolithographie dans les procédés classiques en microélectronique). Entre chaque flash UV, le porte masque est déplacé en X, Y (à la manière d'un « Stepper » ou photorépéteur) d'une valeur qui dépend de l'emplacement des sites à insoler dans la veine fluidique. On peut coupler cette dernière méthode à l'utilisation de masques 130 opaques structurés sur le dispositif (figure 3) qui présenteraient une taille ou un espacement plus petit que les motifs du masque de photolithographie. Une telle combinaison est présentée sur la figure 5. 10 Les deux avantages d'une telle combinaison sont l'utilisation de masques 130 de faible résolution qui est moins coûteuse et la diminution de la surface recouverte par les motifs opaques. En effet, dans le cas des capteurs ou une partie de la paroi périphérique 5 peut être mise en vibration (voir figures 10 à 15 14) la présence desdits motifs peut générer une dégradation de la fréquence de résonance (et donc une baisse de la sensibilité) car ils alourdissent la paroi. En outre, cela permet de ne retenir que les motifs remplissant une fonction de nature électrique, mécanique, chimique, propre au dispositif. Par exemple, la couche opaque, lorsqu'il s'agit d'un métal (par exemple de l'Or, de 20 l'AISi, du Chrome, Nickel, Tungstène...) peut servir de piste piézométallique pour réaliser une détection piézométallique associée au capteur gravimétrique, plutôt qu'une détection capacitive par exemple. Dans ce cas, il est nécessaire de structurer une couche métallique au dessus de la paroi du capteur gravimétrique. 25 Comme cela est présenté sur la figure 6, l'insolation peut être faite de manière simultanée sur toute la surface que l'on souhaite fonctionnaliser. Cette insolation est dite en « pleine plaque ». L'insolation"pleine plaque est faite à travers un masque de photolithographie 140. Pour cette technique il s'agit 30 d'insoler un nombre de sites en une seule fois, à travers un masque de photolithographie aligné par rapport à la position de la veine 1 b et des motifs 120 que celui-ci doit comporter.5 En reprenant le procédé précité, dans un mode de réalisation préférentiel illustré sur la figure 7, on dépose et on structure des motifs 130 dans un matériau opaque à l'égard des longueurs d'onde d'irradiation du silane. Ce matériau (chrome, or, ou autre matériau) étant directement intégré sur le dispositif et recouvre localement la paroi 1' munie de la couche de silicium 5a et ayant une épaisseur entre 100 et 200 nm exclu, de préférence entre 160 et 180 nm. L'ensemble de la plaque est insolé en une seule fois permettant la déprotection des silanes 120 qui ne sont pas situés en dessous des motifs opaques déposés sur la paroi de la veine fluidique. L'insolation pleine plaque permet d'insoler le dispositif en une seule fois, afin d'irradier l'ensemble des zones d'intérêt de manière collective, et de ne pas recourir à des insolations multiples du silane, comme c'est le cas pour l'insolation séquentielle. Ce procédé est donc plus rapide. Après l'insolation UV, durant l'étape de greffage, le dispositif est rincé à l'eau est mis en contact avec une solution aqueuse contenant la molécule à greffer. On privilégie les méthodes de greffage par réaction spécifique, c'est-à-dire que l'immobilisation de la sonde 110 sur les silanes déprotégés met en oeuvre un couple de fonctions chimiques portées sur la sonde 110 et le silane déprotégé est fixé sur la surface de la veine fluidique. Cette notion de couple de fonctions chimiques s'appuie sur la réactivité entre un nucléophile et un électrophile par exemple. Le greffage a lieu uniquement aux endroits où le silane, recouvrant le dispositif, a été préalablement irradié donc déprotégé. Dans le cas d'un modèle de reconnaissance biologique du type hybridation, l'immobilisation établit, par conséquent, des liaisons de type covalent entre la sonde 110 déposée (séquence d'oligonucléotides avec fonction chimique associée) et le silane irradié. Le greffage d'oligonucléotides s'effectue par immersion du dispositif dans une solution de sodium périodate oxydée contenant les oligonucléotides à fixer (comportant des fonctions diols vicinaux aux extrémités 3' ou 5' ou comportant un ribose en 3') à 20 pM, pendant 15 minutes à température ambiante. Le dispositif est ensuite rincé à l'eau puis séché sous flux d'azote. Les figures 8 et 9 illustrent respectivement un dispositif selon l'invention lors de l'étape de fixation de sonde à l'intérieur de la veine fluidique après une insolation séquentielle avec un masque de photolithographie 140 (non représenté) ou après une insolation séquentielle avec le masque 130 de motifs opaques. 10 Après l'étape de fixation des sondes d'oligonucléotides, le procédé selon l'invention comprend une étape ultérieure d'hybridation. Lors de cette étape, le dispositif est mis en contact avec une solution contenant les cibles (par exemple des séquences complémentaires d'oligonucléotides) présentes en une concentration équivalente à 100 nM, 15 marquées à l'aide d'un fluorophore Cy3®. Le temps d'immersion du dispositif est d'une heure à 39°C. Le dispositif est ensuite rincé dans une solution tampon : 2X SSC (Sigma Aldrich). Cette étape d'hybridation est suivie par une étape de lecture en fluorescence. 20 Par exemple, on peut utiliser un scanner de marque GeneTACTMLS IV, solutions génomiques (longueur d'onde d'émission Cy3: 570nm ; longueur d'onde d'excitation Cy3: 550nm). Il est important de préciser que pour toutes les étapes d'immersion du 25 dispositif, le liquide peut pénétrer librement dans les veines fluidiques par le biais des accès fluidiques E et S. Un dispositif selon l'invention peut être un capteur permettant une détection gravimétrique. Un tel dispositif est représenté en figure 10 et 11, et comprend 30 un oscillateur électromécanique plan 1 comportant un fond 1 a carré et des flancs l c définissant une cavité traversante 1 b. L'oscillateur 1 comprend donc une veine fluidique lb. En regard de chacun des flancs, et à une distance g déterminé, une électrode 2a, 2b, 2c et 2d est disposée dans le même plan que l'oscillateur. Dans l'ensemble de la demande, on entend par une disposition dans le même plan, le fait que les électrodes sont en regard des flancs de l'oscillateur, parallèles à son fond et sensiblement de même épaisseur. D'autre part, la distance g doit être aussi petite que possible, sa valeur étant limitée principalement par la résolution des outils de lithographie ainsi que par l'épaisseur TSQ de la plaque 1 dans laquelle est gravé l'oscillateur 1 (typiquement g est de l'ordre de TSQ/30 et supérieur à 100nm). En référence à la figure 12, est illustrée la paroi 1d, opposée au fond la. L'ensemble des parois la, 1 c et Id constituent la paroi périphérique 5 de la veine fluidique lb. La paroi Id comprend au moins partiellement une couche de silicium 5a, et présente, au moins localement, une épaisseur comprise entre 100 et 200 nm exclu, avantageusement entre 160 et 180 nm. En outre, l'oscillateur 1 est supporté par des moyens de support au-dessus d'une ouverture 3a (voir figure 12) de telle sorte qu'il puisse entrer en vibration, de préférence à sa fréquence de résonance (selon un mode de lamé, ou d'extension volumique par exemple), sensiblement dans son plan, par couplage électrostatique par l'intermédiaire des électrodes latérales. Ce faisant, le détecteur gravimétrique selon l'invention présente un coefficient de qualité élevé puisque le volume de fluide déplacé est localisé à l'intérieur de la veine fluidique de l'oscillateur. Le dispositif comporte en outre, un canal 4 de passage d'un fluide agencé pour être en communication fluidique avec la cavité traversante lb de l'oscillateur 1. Ainsi, comme illustré par la flèche F en figure 10, le fluide entre dans le dispositif par une entrée fluidique E, traverse la cavité 1 b de l'oscillateur 1 puis ressort du dispositif par la sortie fluidique S.30 Ainsi, le fluide analysé par le dispositif est isolé de manière étanche de l'environnement dans lequel l'oscillateur est actionné et qui est, préférentiellement, un milieu sec. Selon un mode préféré de réalisation, l'oscillateur électromécanique plan se présente sous la forme d'une plaque avec une largeur Lsq et une épaisseur Tsq telle que le rapport Lsq / Tsq de la largeur sur l'épaisseur totale de l'oscillateur est compris entre 10 et 30, de préférence 30. De cette manière, la plaque présente un comportement vibratoire différent d'une membrane. 10 Dans un mode préféré de réalisation, les moyens de support sont répartis aux quatre sommets de l'oscillateur. Ils peuvent se présenter sous la forme de pièces massives telles que des pavés 6 et des paires de bras 7, comme illustré sur la figure 11. Sur cette figure, on voit que les deux pièces 6 et 15 respectivement les deux paires de bras 7 sont dans le prolongement des diagonales de l'oscillateur 1. Lesdites paires de bras sont usinées de sorte à permettre la circulation de fluide au sein de la cavité traversante lb traversant l'oscillateur 1. 20 Les moyens d'actionnement sont mis en oeuvre et agencés par rapport à l'oscillateur pour que celui-ci puisse entrer en vibration, dans son plan, selon un mode de vibration déterminé. Selon la manière dont sont activés les moyens d'actionnement, l'oscillateur peut vibrer selon différents modes, tels que le mode de Lamé, le mode d'extension volumique ou, selon le mode dit 25 « du verre à vin » (en particulier pour un oscillateur circulaire ou annulaire). L'oscillateur 1 peut être mis en vibration, dans son plan, par couplage électrostatique, par l'intermédiaire d'au moins une des quatre électrodes 2a à 2d, ou, dans un mode préféré, de deux électrodes adjacentes. 30 D'autres moyens d'actionnement peuvent cependant êtres intégrés sur l'oscillateur 1 en structurant par exemple une couche de nature piézoélectrique (Nitrure d'aluminium ou PZT par exemple) sur la surface externe de la paroi supérieure 1d de l'oscillateur, on peut réaliser un actionnement piézoélectrique. De la même façon, la détection des amplitudes de vibration de l'oscillateur peut se faire par couplage capacitif par l'intermédiaire d'au moins une des quatre électrodes 2a à 2d, ou, dans un mode préféré, de deux électrodes adjacentes. D'autres moyens de détection peuvent être envisagés tels qu'une détection piézoélectrique, piézométallique ou piézorésistive. Afin de miniaturiser les différents éléments du dispositif de détection gravimétrique, il est souhaitable de les réaliser à l'aide de techniques de micro ou nanostructuration d'un substrat pouvant être constitué soit d'une couche de polysilicium déposé sur un oxyde thermique, soit d'un substrat de SOI (Silicon On Insulator). Ce dernier substrat est constitué de deux couches de silicium monocristallin entre lesquelles est disposée une couche de dioxyde de silicium (SiO2). L'un des avantages de cette technologie repose sur la plus faible sujétion aux mécanismes de dissipation mécanique que celle des matériaux polycristallins (par exemple le polysilicum) dans lesquels sont souvent observés des phénomènes de relaxation des joints de grain. La réalisation d'un dispositif de détection gravimétrique selon l'invention comprend, d'une manière générale, les étapes suivantes : - la sélection d'un substrat approprié à la détection gravimétrique envisagée, comprenant, au moins partiellement une couche de silicium, - la réalisation à partir dudit substrat d'un oscillateur électromécanique plan, et comprenant au moins partiellement une couche de silicium, - la réalisation d'une cavité traversante dans ledit oscillateur, de telle sorte que la paroi de l'oscillateur comprenant au moins partiellement la couche de silicium présente, au moins localement, une épaisseur e comprise entre 100 et 200 nm exclu, de préférence entre 160 et 180 nm, - la réalisation d'un canal pour le passage du fluide, ledit canal étant en communication fluidique avec ladite veine fluidique ménagée dans l'oscillateur. Un exemple de réalisation d'un dispositif est illustré en coupe à la figure 12, en coupe transversale. Le dispositif comprend un oscillateur 1 d'épaisseur totale Tso, entre deux cavités 3a et 3b. La cavité 3b est définie entre l'oscillateur 1, un capot 50 transparent, (de préférence, en verre ou en Pyrex) ou une couche 60 de support du capot (en polymère biocompatible ou en silicium hautement résistif). Le dispositif peut comprendre également une couche 71 en métal pour constituer des électrodes (voir figure 14). La partie de la paroi 1 a et/ou 1d présente au moins localement une épaisseur e comprise entre 100 et 200 nm exclu, de préférence entre 160 et 180 nm. Ces parois comprennent une couche 5a en silicium issue de la couche 21 (ou 31 : voir figure 14) du substrat SOI utilisé lors de la fabrication du dispositif. Un exemple de fabrication est donné dans le document FR 2 931 549. L'intérêt de prévoir des parois 1 a et 1 d ayant une épaisseur entre 100 et 200 nm exclu, de préférence entre 160 et 180 nm réside dans la possibilité de fonctionnaliser la face intérieure de l'oscillateur après la fabrication du dispositif, et pas obligatoirement lors de cette fabrication comme suggérée dans le document FR 2 931 549. L'invention permet donc de proposer des oscillateurs en silicium pouvant être fonctionnalisés ultérieurement selon les besoins. Comme illustré en figure 13, des piliers peuvent être disposés en amont et/ou en aval de la cavité 1 b usinée dans l'oscillateur (c'est-à-dire avant et/ou après le passage des bras 7 indiqués en figure 13). En amont de l'oscillateur, ils peuvent servir à capturer les molécules qui ne sont pas d'intérêt et qui sont amenées par l'entrée fluidique E. Pour cela, l'espacement entre ces piliers est ajusté de sorte à laisser circuler de l'entrée E à la sortie S les molécules d'intérêt mais pas les autres molécules. Disposer des piliers en aval de l'oscillateur permet d'intervertir le sens de circulation du fluide et, ainsi de faciliter l'utilisation du dispositif de détection selon l'invention qui ne dépend pas du sens d'écoulement du fluide. Lorsque les piliers sont intégrés dans l'oscillateur, ils servent à supporter et à renforcer la paroi 1 d recouvrant la cavité 1 b ménagée au sein de l'oscillateur. Ils servent également à augmenter l'aire de capture disponible pour le greffage des objets biologiques d'intérêt, afin d'accroître la probabilité de capture et la sensibilité du capteur. Les piliers ont une section transversale de forme circulaire, elliptique ou polygonale. La figure 14 montre un dispositif en coupe longitudinale, semblable à la figure 12 et dont la face intérieure de la cavité de l'oscillateur a été fonctionnalisée par le procédé selon l'invention. Ce dispositif comprend, au dessus de la paroi fonctionnalisée de l'oscillateur, une couche métallique 71 servant de masque lors de la fonctionnalisation, et, avantageusement, à des fonctions électriques, telles que la concentration par DEP (diélectrophorèse) ou la détection piézoélectrique. REVENDICATIONS1. Procédé de fonctionnalisation d'un dispositif micromécanique muni d'une veine fluidique (1 b) comprenant une paroi périphérique (5) présentant une surface externe (2) à la veine et une surface interne (3) délimitant un espace (1 b) dans lequel est susceptible de circuler un fluide, la paroi périphérique comprenant au moins partiellement une couche de silicium (5a), caractérisé en ce qu'il comprend les étapes suivantes : a) la mise à disposition d'un dispositif dont la paroi périphérique (5) comprenant au moins partiellement la couche de silicium (5a) présente, au moins localement, une épaisseur (e) comprise entre 100 et 200 nm exclu, avantageusement entre 160 et 180 nm, c) la silanisation d'au moins la surface interne de la veine fluidique, d) la photodéprotection localisée et sélective sur au moins la surface interne du dispositif silanisé par insolation de la paroi périphérique (5) là où elle présente une épaisseur (e) comprise entre 100 et 200 nm exclu, avantageusement entre 160 et 180 nm. 2. Procédé selon la revendication 1, comprenant une étape b) l'hydratation 20 d'au moins la surface interne de la veine fluidique, 3. Procédé selon la revendication 2, dans lequel l'étape d'hydratation comprend l'immersion du dispositif dans une solution à la base d'alcool et d'hydroxyde de métal. 4. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 3, dans lequel l'étape de silanisation comprend l'immersion du dispositif dans une solution contenant de silane photosensible. 30 5. Procédé selon la revendication 4, dans lequel le silane utilisé à l'étape de silanisation est un silane oxyamine photosensible. 25 6. Procédé selon l'une des revendications 1 à 5, dans lequel l'insolation est réalisée par une lampe ultraviolet. 7. Procédé selon la revendication 6, dans lequel la lampe ultraviolet a une 5 puissance de 100W et une intensité comprise entre 20 et 25 mW/cm2, de préférence de 24 mW/cm2. 8. Procédé selon l'une des revendications 1 à 7, dans lequel l'insolation à l'étape d) est effectuée de manière séquentielle. 9. Procédé selon la revendication 8, dans lequel l'insolation séquentielle est réalisée avec un rayon de lumière UV qui passe à travers une ouverture mécanique de largeur ajustable. 15 10. Procédé selon l'une des revendications 1 à 7, dans lequel l'insolation à l'étape d) est réalisée en pleine plaque à travers un masque de photolithographie ou à travers des motifs opaques. 11. Procédé selon l'une des revendications 1 à 10, dans lequel l'insolation est 20 réalisée sur un dispositif recouvert d'une couche de motifs opaques aux longueurs d'ondes d'irradiation du silane. 12. Procédé selon l'une des revendications 1 à 10, dans lequel l'insolation est réalisée en utilisant un masque de photolithographie en quartz comprenant 25 des motifs microniques capables de filtrer la lumière UV. 13. Procédé selon les revendications 11 et 12, dans lequel l'insolation est réalisée en utilisant un masque de photolithographie combiné avec un masquage de motifs opaques. 14. Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, comprenant en outre l'étape suivante : 10 30e) le greffage d'au moins une molécule sur au moins une surface d'une veine fluidique par la mise en oeuvre d'un couple de fonctions chimiques portées par la molécule à greffer et ladite au moins une surface de la veine fluidique. 15. Procédé selon la revendication 14, dans lequel les molécules à greffer sont des macromolécules, choisis parmi des acides nucléiques, des lipides et/ou des protéines. 16. Procédé selon la revendication 14, dans lequel à l'étape e) les molécules 10 à greffer sont des sondes oligonucleotidiques. 17. Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, comprenant en outre une étape d'hybridation, suivie d'une étape de lecture en florescence. 15 18. Dispositif micro mécanique pour la mise en oeuvre du procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 17, le dispositif étant muni d'une veine fluidique (1 b) comprenant une paroi périphérique (5) présentant une surface externe (2) à la veine et une surface interne (3) délimitant un espace dans 20 lequel est susceptible de circuler un fluide (4'), caractérisé en ce que la paroi périphérique comprend au moins partiellement une couche de silicium et présente, au moins localement, une épaisseur comprise entre 100 et 200 nm exclu, de préférence entre 160 et 180 nm, et en ce que la surface interne est silanisée. 25 19. Dispositif micro mécanique susceptible d'être obtenu par le procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 17, dans lequel la surface interne silanisée est au moins localement déprotégée là où l'épaisseur de la paroi est comprise entre 100 et 200 nm exclu, de préférence entre 160 et 180 nm. 20. Dispositif selon la revendication 19, dans lequel la surface interne silanisée localement déprotégée comprend des molécules greffées. 30 21. Dispositif selon la revendication 20, dans lequel les molécules greffées sont des sondes. 22. Dispositif selon l'une des revendications 18 à 21 pour la détection gravimétrique de particules en milieu fluide, comprenant un oscillateur électromécanique (1) plan, des moyens de support de l'oscillateur et des moyens d'actionnement dudit oscillateur, lesdits moyens étant agencés pour assurer la vibration de l'oscillateur (1) dans son plan, ledit dispositif comportant en outre un canal (4) pour le passage du fluide, l'oscillateur électromécanique plan (1) comprenant une cavité traversante (lb) en communication fluidique amont et aval avec ledit canal, la veine présentant une surface interne délimitant un espace dans lequel est susceptible de circuler un fluide, et étant délimitée au moins partiellement par une paroi périphérique comprenant une couche de silicium et présentant, au moins localement, une épaisseur comprise entre 100 et 200 nm exclu, de préférence entre 160 et 180 nm, la surface interne étant silanisée. 23. Dispositif selon la revendication 22, dans lequel la surface interne 20 silanisée est au moins localement déprotégée là où l'épaisseur de la paroi est comprise entre 100 et 200 nm exclu, de préférence entre 160 et 180 nm. 24. Dispositif selon la revendication 23, dans lequel la surface interne silanisée localement déprotégée comprend des molécules greffées. 25 25. Dispositif selon la revendication 24, dans lequel les molécules greffées sont des sondes. 26. Dispositif selon l'une des revendications 22 à 25, dans lequel l'oscillateur 30 électromécanique présente une forme prise parmi un disque, un anneau et un polygone, de préférence un carré. 27. Dispositif selon la revendication 26, dans lequel l'oscillateur est de forme carrée et présente une largeur (Lsq) et une épaisseur (Tsq) telles que le rapport de la largeur sur l'épaisseur (Lsq/Tsq) est compris entre 10 et 30, de préférence 30. 28. Dispositif selon l'une des revendications 22 à 27, dans lequel ledit oscillateur électromécanique est obtenu à partir d'un substrat en matériau polycristallin. 10 29. Dispositif selon l'une des revendications 22 à 27, dans lequel ledit oscillateur électromécanique est obtenu à partir d'un substrat en matériau monocristallin. 30. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 22 ou 29, dans lequel 15 le substrat est à base de silicium. 31. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 22 à 30, dans lequel ladite veine fluidique traversante de l'oscillateur et/ou le canal contient des piliers dont la section transversale est de forme prise parmi un cercle, une 20 ellipse, et un polygone. 32. Procédé de réalisation d'un dispositif selon l'une des revendications 22 à 31, comprenant les étapes suivantes : a) la sélection d'un substrat approprié à la détection gravimétrique envisagée, 25 comprenant, au moins partiellement une couche de silicium, b) la réalisation à partir dudit substrat d'un oscillateur (1) électriquement plan, comprenant au moins partiellement la couche de silicium, c) la réalisation d'une veine fluidique (1 b) dans ledit oscillateur, de telle sorte que la paroi comprenant au moins partiellement la couche de silicium 30 présente, au moins localement, une épaisseur comprise entre 100 et 200 nm exclu, de préférence entre 160 et 180 nm,5d) la réalisation d'un canal (4) pour le passage du fluide, ledit canal étant en communication fluidique avec ladite veine fluidique (lb) ménagée dans l'oscillateur.