Brevet FR2967992A1 — publié le 20120601

PREPARATION DE SOLS D'OXYDES METALLIQUES STABLES, UTILES NOTAMMENT POUR LA FABRICATION DE FILMS MINCES A PROPRIÉTÉS OPTIQUES ET RESISTANTS A L'ABRASION DESCRIPTION DOMAINE TECHNIQUE La présente invention se rapporte à un procédé de préparation de sols, ou solutions 10 colloïdales, d'oxydes métalliques, à composante aqueuse, qui sont stables dans le temps et qui permettent notamment de fabriquer des films minces présentant à la fois des propriétés optiques (antireflets, -) et de résistance à l'abrasion 15 remarquables. L'invention se rapporte également à un procédé de fabrication de films à partir de ces sols et, en particulier, de films minces à propriétés optiques et résistants à l'abrasion. 20 De tels films trouvent une multitude d'applications, notamment dans la fabrication de composants optiques du type lentilles, hublots, écrans anti-débris, réseaux et lames de phase, destinés à entrer dans la constitution de lasers de puissance, 25 dans la fabrication de fibres optiques, de tubes cathodiques et, d'une manière générale, de supports optiques transparents, ainsi que sur des substrats utilisés en micro-électronique dans lesquels une couche à faible constante diélectrique est requise 30 (condensateurs, isolants, _). 2 ÉTAT DE LA TECHNIQUE ANTÉRIEURE La fabrication de films optiques par la technique sol-gel peut être réalisée selon deux voies de synthèse distinctes : * la voie polymérique, qui consiste à élaborer une solution d'un matériau précurseur d'un oxyde métallique sous forme monomérique ou oligomérique qui est converti en oxyde après application sur un substrat. Cette solution vraie voit évoluer sa viscosité lors de l'évaporation du solvant et gélifie éventuellement sur la surface. La conversion en oxyde est généralement obtenue après un apport d'eau (hydrolyse ambiante) et un traitement thermique. Un film dense, à haut indice de réfraction et résistant mécaniquement, est ainsi obtenu mais la perte de masse implicite et le rétreint du film engendrent fréquemment des contraintes dans le dépôt. * la voie colloïdale, où la conversion en oxyde est réalisée chimiquement en solution avant le dépôt sur le substrat. Les couches obtenues sont poreuses, à bas indice de réfraction, fragiles mécaniquement mais elles sont sans contraintes internes. Pour la réalisation de films minces antireflets, on privilégie la voie de synthèse colloïdale qui offre, non seulement une plus grande facilité de mise en oeuvre (pas d'étape thermique), mais également de meilleures performances, notamment en ce qui concerne l'indice de réfraction des films obtenus. Actuellement, cette voie de synthèse colloïdale est mise en oeuvre en milieu alcoolique comme cela est, par exemple, décrit dans la demande de brevet FR-A-2 703 791 [1]. Or, à une échelle industrielle, l'utilisation d'alcools génère des contraintes, notamment en termes de sécurité et de respect de l'environnement. Il serait donc souhaitable de pouvoir réaliser des films antireflets à partir de sols d'oxydes métalliques aqueux ou, à tout le moins, en partie aqueux de sorte à réduire les quantités d'alcools utilisées à défaut de supprimer totalement l'utilisation d'alcools. Or, le problème que posent, d'une manière générale, les sols d'oxydes métalliques préparés en milieu aqueux ou partiellement aqueux est leur absence de stabilité et leur difficulté à être déposés en films compte tenu de leur faible mouillabilité sur les surfaces. La solution généralement préconisée pour stabiliser des particules métalliques présentes dans une phase aqueuse consiste à utiliser des agents stabilisants. Ainsi, par exemple, Gulley et al. (Journal of Colloid and Interface Science, 241 (2001) 340-345, [2]) ont montré que l'utilisation de polyols à faible chaîne carbonée permet de stabiliser une silice colloïdale aqueuse très diluée (0,052% massique), même dans des conditions de pH élevé. Les polyols forment une cage de solvatation autour des particules de silice qui ralentit leur agrégation. Neel et al. (Journal of Colloid and Interface Science, 230 (2000) 244-253, [3]) ont, eux, montré qu'il est possible d'obtenir un sol homogène de silice colloïdale, c'est-à-dire un sol dans lequel les particules de silice sont régulièrement dispersées, en y incorporant un surfactant tel qu'un oxyde de polyéthylène, qui joue le rôle d'agent fluidifiant et empêche les particules de silice de former des agrégats. Par ailleurs, des sols aqueux de silice colloïdale, concentrés (à 30%, 40% en masse de silice), de différents pH et stabilisés par des agents de stabilisation tels que le sodium ou des chlorures, sont disponibles commercialement (LudoxTM, KlebosolTM, etc). Toutefois, il s'avère que des sols aqueux d'oxydes métalliques qui renferment un ou plusieurs agents stabilisants ne peuvent pas être utilisés pour la réalisation de films minces antireflets car la présence d'agents stabilisants, quelle que soit leur nature, ne permet pas d'obtenir les propriétés optiques de transparence et les propriétés mécaniques requises pour ce type de films. Les Inventeurs se sont donc fixé pour but de fournir un procédé qui permette de réaliser des sols d'oxydes métalliques aqueux ou partiellement aqueux qui soient stables pendant une période de plusieurs mois, voire d'une année, et ce, sans avoir recours à un quelconque agent stabilisant. Or, dans le cadre des travaux qu'ils mènent depuis des années sur l'élaboration de films optiques, et en particulier de films minces antireflets, les Inventeurs ont constaté que, de manière tout à fait surprenante, il est possible de disposer de sols d'oxydes métalliques, aqueux ou à forte teneur en eau et présentant néanmoins une remarquable stabilité dans le temps, sous réserve que ces sols, d'une part, aient un pH supérieur ou égal à 8, et, d'autre part, soient préparés à partir de sols préalablement obtenus par hydrolyse-condensation de précurseurs de ces oxydes métalliques en milieu alcoolique, de pH neutre ou basique. Ils ont constaté, de plus, que ces sols d'oxydes métalliques, aqueux ou à forte teneur en eau, présentent des propriétés physico-chimiques intrinsèques telles qu'ils permettent de fabriquer des films minces antireflets dont la résistance à l'abrasion est très nettement supérieure à celle de films minces obtenus à partir des sols alcooliques ayant servi à préparer ces sols aqueux ou à forte teneur en eau. Et c'est sur ces constatations qu'est basée la présente invention. EXPOSÉ DE L'INVENTION L'invention a donc, en premier lieu, pour objet un procédé de préparation d'un sol d'un oxyde métallique, aqueux ou partiellement aqueux et de pH supérieur ou égal à 8, lequel procédé comprend : (i) le remplacement par de l'eau de tout ou partie de l'alcool ou des alcools présents dans un sol alcoolique dudit oxyde métallique, de pH neutre ou basique, et éventuellement (ii) l'ajustement du pH du sol aqueux ou partiellement aqueux ainsi obtenu à une valeur d'au moins 8. Dans ce qui précède et ce qui suit, on entend par « sol », une solution colloïdale. Par ailleurs, on entend par « sol alcoolique », un sol dont le solvant est un alcool ou un mélange d'alcools et qui ne contient pas d'eau, et par sol « aqueux », un sol dont le solvant est de l'eau et qui ne contient pas d'alcool. Un sol dont le solvant est un mélange d'eau et d'alcool sera, donc, qualifié, dans ce qui suit, de « partiellement aqueux » ou d'« hydroalcoolique ». Dans un premier mode de mise en oeuvre préféré du procédé selon l'invention, le sol alcoolique de l'oxyde métallique est préalablement obtenu par : (a1) hydrolyse d'un précurseur dudit oxyde métallique à un pH allant de 8 à 14, avantageusement de 9 ± 0,3, dans un alcool ou un mélange d'alcools additionné d'une base, par exemple de l'ammoniaque ou de la soude, puis (b1) mûrissement du sol ainsi obtenu à température ambiante. Dans ce cas, le remplacement par de l'eau de tout ou partie de l'alcool ou des alcools présents dans le sol alcoolique est alors, de préférence, réalisé par : (c1) dilution de ce sol par addition d'un mélange d'eau et d'un ou plusieurs alcools pour obtenir un sol hydroalcoolique, l'alcool ou les alcools étant, de préférence, identiques à celui ou à ceux déjà présents dans le sol alcoolique, puis (d1) concentration du sol hydroalcoolique ainsi obtenu, dans des conditions qui permettent d'éliminer de ce sol tout ou partie de l'alcool ou des alcools qu'il renferme sans en éliminer l'eau, pour obtenir un sol aqueux ou partiellement aqueux. Il est, par ailleurs, souhaitable que l'étape de concentration du sol hydroalcoolique soit réalisée dans des conditions telles que ce sol ne se transforme pas en un gel au cours de cette étape. C'est la raison pour laquelle on préfère concentrer ce sol par évaporation de l'alcool ou des alcools dans un évaporateur rotatif, à une température allant de 20 à 55°C, par exemple de 40°C, et sous une pression allant de 20 à 200 mPa, par exemple de 100 mPa. Il va de soi que le taux de dilution du sol alcoolique par le mélange eau/alcool(s), le rapport massique de l'eau à l'alcool ou aux alcools présents dans ce mélange et le niveau de concentration du sol hydroalcoolique sont choisis en fonction des teneurs massiques en eau et en oxyde métallique que doit présenter le sol aqueux ou partiellement aqueux que l'on souhaite préparer, compte tenu de la teneur massique en oxyde métallique que présente le sol alcoolique utilisé pour sa préparation. Dans un autre mode de mise en oeuvre préféré du procédé selon l'invention, le sol alcoolique de l'oxyde métallique est préalablement obtenu par : (a2) hydrolyse d'un précurseur dudit oxyde métallique à un pH neutre dans un alcool ou un mélange d'alcools, puis (b2) mûrissement du sol ainsi obtenu à température ambiante. Dans ce cas, le remplacement par de l'eau de tout ou partie de l'alcool ou des alcools présents dans le sol alcoolique est alors, de préférence, réalisé par : (c2) dialyse de ce sol dans de l'eau pour obtenir un sol hydroalcoolique, par exemple en plaçant ledit sol dans un sac constitué d'une membrane semiperméable en cellulose, puis, après fermeture du sac, en immergeant ce dernier dans un volume d'eau maintenu à une température de 40°C ± 5°C et le maintenant dans ce volume d'eau pendant une période de temps suffisante pour obtenir la pénétration dans le sac de la quantité d'eau voulue, puis (d2) concentration du sol hydroalcoolique ainsi obtenu, dans des conditions qui permettent d'éliminer de ce sol tout ou partie de l'alcool ou des alcools qu'il renferme sans en éliminer l'eau, pour obtenir un sol aqueux ou partiellement aqueux. Là également, cette opération de concentration est, de préférence, réalisée par évaporation de l'alcool ou des alcools dans un évaporateur rotatif, en utilisant des conditions de température et de pression analogues à celles précédemment mentionnées, et la durée de la dialyse ainsi que le niveau de concentration du sol hydro- alcoolique sont choisis en fonction des teneurs massiques en eau et en oxyde métallique que doit présenter le sol aqueux ou partiellement aqueux que l'on souhaite préparer, compte tenu de la teneur massique en oxyde métallique que présente le sol alcoolique utilisé pour sa préparation. Le sol aqueux ou partiellement aqueux, obtenu à l'issue de l'étape (d2), ayant en principe un pH neutre ou très proche de la neutralité, son pH est nécessairement ajusté à une valeur au moins égale à 8, par addition d'une base, faible ou forte, par exemple de l'ammoniaque ou de la soude. Quel que soit le mode par lequel le procédé selon l'invention est mis en oeuvre, on préfère utiliser de l'éthanol absolu comme alcool, et de l'ammoniaque (NH4OH) comme base. Par ailleurs, on préfère que le sol aqueux ou partiellement aqueux d'oxyde métallique soit un sol de silice, de zircone, d'alumine ou d'oxyde de titane et, en particulier, un sol de silice. Aussi, le sol alcoolique est-il, de préférence, préalablement obtenu par hydrolyse-condensation d'un précurseur d'oxyde métallique de formule AXMy dans laquelle M représente un métal ou un métalloïde choisi parmi le silicium, le zirconium, l'aluminium et le titane, tandis que A représente un groupe hydrolysable, par exemple choisi dans le groupe comprenant un halogénure (comme un fluorure, chlorure, bromure ou iodure), un nitrate, un oxalate, un carbonate, un sulfate, un alcoolate de formule R-O- où R est un groupe alkyle linéaire ou ramifié, comprenant de préférence de 1 à 10 atomes de carbone et, mieux 10 encore, de 1 à 3 atomes de carbone, ou un groupe phényle. Ainsi, des précurseurs d'oxyde métallique particulièrement préférés sont le tétraméthoxysilane, encore connu sous le nom de tétraméthylorthosilicate (TMOS), et le tétraéthoxysilane, encore connu sous le nom de tétraéthylorthosilicate (TEOS), qui conduisent à des sols de silice. On préfère aussi que le sol aqueux ou partiellement aqueux d'oxyde métallique ait une teneur massique en oxyde métallique allant de 1 à 10% et, mieux encore, de 2 à 6 une teneur massique en eau supérieure à 20% et, mieux encore, supérieure à 40% et un pH allant de 8 à 10 et, mieux encore, de 9 ± 0,3. Le procédé décrit ci-dessus conduit à l'obtention de sols aqueux ou partiellement aqueux d'oxyde métallique, dont la viscosité varie au plus de ± 35% sur une période de temps d'au moins un an. L'invention a aussi pour objet un procédé de fabrication d'un film, lequel procédé comprend le dépôt sur un substrat d'une ou plusieurs couches d'un sol aqueux ou partiellement aqueux d'un oxyde métallique tel qu'obtenu par le procédé décrit ci-dessus, et le séchage de cette(ces) couche(s). Conformément à l'invention, le dépôt de la couche ou des couches du sol sur le substrat peut être réalisé par l'une quelconque des techniques classiquement utilisées pour déposer un sol sur un substrat comme, par exemple la pulvérisation (ou « spray-coating » en langue anglaise), l'enduction centrifuge (ou « spin-coating » en langue anglaise), le dépôt à la goutte (ou « drop-coating » en langue anglaise), le trempage-retrait (ou « dip-coating » en langue anglaise), l'enduction laminaire (ou « meniscuscoating » en langue anglaise), l'épandage (ou « soak- coating » en langue anglaise), l'enduction au rouleau (ou « roll to roll process » en langue anglaise) ou encore l'enduction au pinceau (ou « painting-coating » en langue anglaise). Parmi ces techniques, on préfère, notamment dans le cas où l'on souhaite réaliser un film mince antireflet, l'enduction centrifuge, le trempage-retrait et l'enduction laminaire, car ce sont celles qui permettent le mieux de contrôler l'épaisseur des couches de sol déposées sur le substrat. Quelle que soit la technique de dépôt utilisée, le solvant présent dans le sol est éliminé par évaporation, celle-ci pouvant se faire naturellement à l'air libre ou pouvant être facilitée, par exemple par application d'un flux gazeux, par chauffage thermique ou radiatif pour autant que la température n'altère ni le sol, ni le substrat sous-jacent ou encore par des moyens mécaniques tels que la rotation du substrat comme lors d'un dépôt par enduction-centrifuge. On obtient ainsi un film à forte porosité (supérieure à 50%), dont l'indice de réfraction va de 1,22 à 1,28 et qui présente un pourcentage de transmission optique supérieur à 99%. Ce film est donc adapté à être utilisé comme film antireflet. Dans le cas où l'on souhaite lui conférer des propriétés de résistance à l'abrasion, le procédé comprend, de plus, le traitement du film par une base en milieu liquide ou gazeux. Ce traitement peut notamment être réalisé comme décrit dans la demande de brevet FR-A-2 703 791, déjà citée. Ainsi, on peut utiliser comme base, de la soude, de la potasse, de l'hydroxyde de tétraméthyl- ammonium, de l'hydroxylamine ou de l'ammoniac(que), et traiter le film soit par une solution de l'une de ces bases, soit par des vapeurs dans le cas de l'ammoniac, ce qui peut être fait en maintenant le substrat recouvert dudit film, par exemple pendant 12 à 24 heures, dans une enceinte hermétiquement close du type dessiccateur, dans laquelle est placée une solution aqueuse d'ammoniac ou que l'on alimente par des vapeurs d'ammoniac. En l'espèce, on préfère traiter le film par des vapeurs d'ammoniac. Conformément à l'invention, le film ainsi obtenu peut encore être soumis à un post-traitement propre à améliorer l'une de ses propriétés en fonction de l'usage auquel ce film est destiné. Ainsi, notamment, il peut être soumis à un post-traitement propre à améliorer son hydrophobicité comme, notamment, un post-traitement par de l'hexaméthyldisilazane (HMDS) ou de fluorosilanes en milieu liquide ou gazeux. En milieu liquide, ce post-traitement peut, par exemple, être réalisé en immergeant le film mince dans un sol alcoolique à 5% massique d'HMDS, par exemple pendant 10 à 15 heures et en retirant ensuite ce film du sol à une vitesse de l'ordre de 3 cm/min avec une vitesse d'extraction, tandis que, en milieu gazeux, il peut être réalisé en maintenant le film mince, par exemple pendant 48 heures, dans une enceinte hermétiquement close dans laquelle est placé un sol d'HMDS. Quoi qu'il en soit, le film est, de préférence, un film mince, c'est-à-dire un film mince qui mesure de 5 à 500 nm d'épaisseur et, mieux encore, de 10 à 250 nm d'épaisseur, et, qui plus est, un film mince de silice. D'autres caractéristiques et avantages de l'invention ressortiront mieux à la lecture du complément de description qui suit, qui se réfère à des exemples de préparation de sols de silice colloïdale et de films minces par les procédés selon l'invention et de mise en évidence des caractéristiques et propriétés des sols et films ainsi préparés. Bien entendu, ces exemples ne sont donnés qu'à titre d'illustrations de l'objet de l'invention et ne constituent en aucun cas une limitation de cet objet. BRÈVE DESCRIPTION DES DESSINS La figure 1 illustre les résultats d'analyses thermiques différentielles réalisées sur des poudres respectivement obtenues à partir de deux sols de silice colloïdale préparés par le procédé selon l'invention (courbes B et C) et du sol alcoolique de silice colloïdale utilisé pour préparer ces sols (courbe A). La figure 2 représente les spectres RMN CP/MAS 29Si présentés par des poudres respectivement obtenues à partir de deux sols de silice colloïdale préparés par le procédé selon l'invention (courbes B et C) et du sol alcoolique de silice colloïdale utilisé pour préparer ces sols (courbe A). La figure 3 représente les spectres RMN CP/MAS 29Si présentés par des poudres respectivement obtenues à partir d'un sol de silice colloïdale préparé par le procédé selon l'invention (courbe D), du sol alcoolique de silice colloïdale utilisé pour préparer ce sol (courbe B), d'un sol de silice colloïdale préparé par un procédé différent du procédé selon l'invention (courbe C) et du sol alcoolique de silice colloïdale utilisé pour préparer ce sol (courbe A). EXPOSÉ DÉTAILLÉ DE MODES DE RÉALISATION PARTICULIERS Par souci de simplification, les sols de silice colloïdale et les films minces préparés par les procédés selon l'invention seront respectivement dénommés, dans ce qui suit, « sols selon l'invention » et « films minces selon l'invention ». EXEMPLE 1 : Préparation de sols selon l'invention On prépare, tout d'abord, un sol de silice colloïdale en milieu alcoolique, qui sera dénommé ci-après SM1, de pH 9 et de teneur massique en SiO2 de 3,80% Pour ce faire, on mélange 3 880 g d'éthanol absolu à 507 g de tétraorthosilicate (TEOS) dans un flacon sous agitation pendant 15 minutes, puis on ajoute 134 g d'ammoniaque concentré à 28%. On poursuit l'agitation encore 15 minutes après quoi on laisse la solution au repos pour la laisser mûrir. Les taux d'hydrolyse (H2O/Si) mol et (OH -/ TEOS)mo sont respectivement de 2,2 et de 0,91. Après 3 semaines de mûrissement, on obtient un sol stable de couleur nacrée, monodisperse, qui présente une viscosité de 1,44 cP et une tension superficielle de 23,40 mN/m et dans lequel les particules de silice ont une taille moyenne de particules de 20 nm. On prépare ensuite une série de sols selon l'invention en ajoutant, dans un ballon, 200 mL de SM1 (pH 9) à 200 mL d'un mélange d'eau et d' éthanol absolu dont le rapport massique eau/éthanol est choisi en fonction de la teneur massique en eau devant être présentée par les sols. Après agitation, on soumet les solutions ainsi obtenues à une évaporation à l'évaporateur rotatif (RotavaporTM) à 40°C, sous une pression de l'ordre de 100 mPa, jusqu'à ramener la teneur massique en SiO2 des sols aux environ de 3,50%. L'évaporation est conduite au goutte à goutte pour éviter d'évaporer l'eau présente dans le sol. Puis, on filtre les sols sur un filtre WHATMAN en polypropylène de 0,45 µm. On prépare ainsi : un sol à 5% massique d'eau, ci-après dénommé So15, en utilisant un mélange eau/éthanol 5/95 (m/m) ; un sol à 24% massique d'eau, ci-après dénommé So124, en utilisant un mélange eau/éthanol 24/76 (m/m) ; un sol à 41% massique d'eau, ci-après dénommé So141, en utilisant un mélange eau/éthanol 41/59 (m/m) ; un sol à 44% massique d'eau, ci-après dénommé So144, en utilisant un mélange eau/éthanol 44/56 (m/m) ; un sol à 46% massique d'eau, ci-après dénommé So146, en utilisant un mélange eau/éthanol 46/54 (m/m) ; - un sol à 65% massique d'eau, ci-après dénommé So165, en utilisant un mélange eau/éthanol 65/35 (m/m) ; - un sol à 67% massique d'eau, ci-après dénommé So167, en utilisant un mélange eau/éthanol 67/33 (m/m) ; un sol à 77% massique d'eau, ci-après dénommé So177, en utilisant un mélange eau/éthanol 77/23 (m/m) ; un sol à 87% massique d'eau, ci-après dénommé So187, en utilisant un mélange eau/éthanol 87/13 (m/m) ; et un sol à 91% massique d'eau, ci-après dénommé So191, en utilisant un mélange eau/éthanol 91/9 (m/m). Tous ces sols présentent un pH compris entre 8 et 9. Leur teneur massique en eau est déterminée à partir d'abaques réalisés sur des mesures de densité par picnométrie et de tension superficielle de différents mélanges eau/éthanol absolu. Elle est donc obtenue par des mesures croisées de densité et de tension superficielle. L'erreur relative est inférieure à 4% sur le pourcentage massique en eau. A des fins strictement comparatives, on prépare un autre sol alcoolique de silice colloïdale mais qui, lui, présente un pH de 7, en chauffant 1 L de SM1 au reflux de l'éthanol (79°C) pendant 12 heures afin d'éliminer l'ammoniaque présent dans ce sol. Le sol ainsi obtenu sera dénommé ci-après SM2. Puis, on prépare un sol de teneur massique en eau de 45%, ci-après dénommé So145, en suivant un protocole opératoire identique à celui décrit ci-dessus pour la préparation des sols selon l'invention, à ceci près que l'on ajoute, dans le ballon, 200 mL de SM2 à 200 mL d'un mélange eau/éthanol absolu 45/55 (m/m). Le pH du So145 ainsi obtenu est de 7. EXEMPLE 2 : Caractéristiques des sols selon l'invention 2.1. Stabilité des sols On apprécie la stabilité des sols selon l'invention en mesurant leur viscosité le jour de leur préparation, puis à intervalles sur une période d'un an à compter de ce jour. Ces mesures de viscosité sont réalisées à 21°C, en utilisant un viscosimètre à cylindre de marque Rhéovisco", modèle ELV-8 et en ayant préalablement 18 soumis les sols à une agitation magnétique pendant 5 minutes. Le tableau I ci-après donne les valeurs de viscosité telle qu'obtenues pour les So124, So144, So177 et So191 le jour de leur préparation (to) et 20 jours (tmi,,$) après et, pour les So144, So177 et So191, six mois (t6 mois) et un an (tlan) après. Y sont également indiquées, à titre comparatif, les valeurs de viscosité obtenues pour le SM1 utilisé pour préparer ces sols. TABLEAU I Viscosité (cP) Sols t0 t20jours t6mois tlan SMl 1, 63 1, 53 2, 17 1, 94 So124 2,71 2,72 - - So144 3,48 3,39 3,56 4,04 So177 3,09 2,86 2,38 2,04 So191 2, 09 1, 84 1, 54 1, 61 Ce tableau montre que la viscosité des sols 15 selon l'invention change peu sur une période d'un an, ce qui traduit une excellente stabilité de ces sols. 2.2. Réactivité de surface des particules de silice présentes dans les sols La réactivité de surface des particules de 20 silice présentes dans les sols est un facteur primordial de la cohésion mécanique des films minces obtenus à partir de ces sols. Elle est donc appréciée en transformant les sols selon l'invention en poudres, par évaporation de la phase liquide de ces sols obtenue par prélèvement de solution et mis à l'étuve ventilée pendant 24 heures à la température de 21°C, et en soumettant les poudres ainsi obtenues à une série d'analyses dont notamment : * des analyses thermiques différentielles (ATD), * des analyses par résonance magnétique nucléaire (RMN) du silicium C9Si) avec une séquence de polarisation croisée couplée à une rotation de l'angle magique (CP/MAS pour « Cross Polarisation/Magic Angle Spinning »), et * des analyses texturales par adsorption/ désorption d'azote. A des fins strictement comparatives, des poudres obtenues à partir du SNI, du SM2 ainsi que du So145, dans les mêmes conditions que celles précisées ci-dessus, sont également soumises à ces analyses. 2.2.a. Mise en évidence d'une couche d'eau de solvatation sur les particules de silice Les analyses ATD, qui permettent de mesurer l'énergie dégagée ou absorbée par les particules de silice au cours d'un cycle de chauffage, sont réalisées en chauffant les poudres des sols de 30 à 700°C, à raison de 10°C/min et sous atmosphère d'air. Les résultats sont illustrés sur la figure 1 sous la forme de courbes qui représentent les flux de chaleur, exprimés en microvolts, tels que mesurés entre 45 et 250°C pour les poudres du So141 (courbe B), du So187 (courbe C) et, à titre comparatif, pour la poudre du SM1 (courbe A). Cette figure montre que le pic endothermique relatif à l'eau physisorbée sur les particules de silice est situé à des températures plus élevées pour les sols selon l'invention que pour le sol alcoolique SM1 utilisé pour leur préparation, ce qui traduit une adsorption plus forte de l'eau physisorbée sur les particules de silice présentes dans les sols selon l'invention. Les analyses RMN 29Si CP/MAS permettent de suivre l'évolution des seuls atomes de silicium proches des protons et, donc, situés à la surface des particules de silice, compte tenu qu'à l'intérieur des particules, il n'existe que des liaisons Si-0-Si. Un transfert des protons vers les atomes de silicium ne peut se produire que si les atomes sont relativement proches spatialement, c'est-à-dire situés à quelques angstrôms les uns des autres. Ainsi, on observe principalement les atomes de silicium portant 1 groupe hydroxyle (-Si(OH) ou Q3) ou 2 groupes hydroxyles (-Si(OH)2 ou Q2). On suit l'évolution des pics Q3 (SiOH) et Q2 (Si(OH)2), le pic Q4, correspondant à un atome de silicium sans liaison hydroxyle, sert de pic de référence avec une aire identique pour toutes les poudres. La figure 2 illustre les spectres ainsi obtenus pour les poudres du So141 (courbe B), du So187 (courbe C) et, à titre comparatif, pour la poudre du 30 SM1 (courbe A). Cette figure montre que l'intensité du pic Q3 augmente lorsque la teneur massique en eau des sols dont sont issues les poudres augmente. On observe donc plus de signal sur les silanols SiOH. Cette augmentation d'intensité du pic Q3 est liée à la présence d'eau liée autour de ces sites. Les analyses texturales par adsorption/ désorption d'azote permettent, elles, notamment de déterminer la surface spécifique des particules de silice. Les résultats obtenus pour les poudres du So15, du So145, du So187 et, à titre comparatif, pour la poudre du SM1 sont consignés dans le tableau 2 ci-après. TABLEAU 2 Sols Surface spécifique (m /4) SM1 482 So15 458 So141 391 So187 336 Ce tableau montre que la surface spécifique des particules de silice présentes dans les sols selon l'invention diminue lorsque la teneur massique en eau de ces sols augmente. Cette diminution de surface spécifique correspond à une diminution de l'accessibilité de l'azote à la surface des particules de silice, due à la présence d'une couche d'eau de solvatation autour des particules. 2.2.b. Influence de la charge de surface des particules de silice Afin d'apprécier l'influence de la charge de surface des particules de silice sur la réactivité de surface de ces particules, on compare les spectres RMN 29Si CP/MAS des poudres obtenues à partir du So142 et du SM1 à ceux des poudres obtenues à partir du So145 et du SM2. On compare aussi les surfaces spécifiques de ces poudres telles que déterminées par adsorption/ désorption d'azote. Les spectres sont illustrés sur la figure 3, la courbe B correspondant à la poudre du SM1, la courbe A à la poudre du SM2, la courbe C à la poudre du So145 et la courbe D à la poudre du So146, tandis que les surfaces spécifiques sont présentées dans le tableau 3 ci-après. TABLEAU 3 Sols Surface spécifique (m /4) SMl 496 SM2 485 So146 327 So145 455 La figure 2 montre que la poudre obtenue à partir du SM1 (au pH de 9) présente un pic Q3 d'intensité plus élevée que celle du pic Q3 de la poudre obtenue à partir du SM2 (au pH de 7).20 De manière similaire, la poudre obtenue à partir du So146, qui a été préparé à partir du SM1, présente un pic Q3 d'intensité plus élevée que celle du pic Q3 de la poudre du So145 qui, lui, a été préparé à partir du SM2 et sans ajustement de son pH à une valeur au moins égale à 8. La présence d'eau liée aux silanols SiOH situés à la surface des particules de silice est donc d'autant plus importante que le pH d'une part, et la teneur en massique en eau d'autre part, des sols sont plus élevés. Par ailleurs, le tableau 3 ne montre pas de différence significative entre les surfaces spécifiques présentées par les poudres du SM1 et du SM2, ces surfaces spécifiques se situant aux alentours de 490 m2/g. Par contre, il montre qu'une augmentation de la teneur massique en eau entraîne une diminution significative de la surface spécifique dans le cas de la poudre du So146 (S = 327 m2/g) mais pas dans le cas de celle du So145 (S = 455 m2/g). L'adsorption de la couche d'eau de solvatation autour des particules est donc plus forte dans le So146 que dans le So145. EXEMPLE 3 Réalisation de films minces selon l'invention 3.1. Préparation des substrats On prépare une série de substrats tous identiques, en verre de silice, mesurant 50 mm de 30 diamètre sur 10 mm d'épaisseur. La qualité du polissage est de 1 a, (X = 1064 nm) et l'indice de réfraction est de 1,45 à 600 nm de longueur d'onde. Ces substrats sont lavés avec une solution d'acide fluorhydrique diluée à 1% en volume. Ils sont ensuite rincés à l'eau désionisée, nettoyés avec une solution détergente de savon végétal (Green Soap" de la société ELLI LILLY Co.), puis rincés à nouveau successivement à l'eau pure et à l'éthanol absolu. 3.2. Dépôt des sols sur les substrats Les dépôts des sols sur les substrats sont réalisés en salle blanche afin d'éviter une pollution particulaire et de garantir une reproductibilité d'un échantillon à l'autre. La température de la salle est de 21 ± 1°C tandis que son degré d'humidité est de 45 ± 5°C. Par ailleurs, ces dépôts sont réalisés par enduction centrifuge en utilisant une tournette (ou « spin-coater ») CONVAC, modèle CONVAC" 1001. Les sols sont injectés sur les substrats en rotation au moyen d'une seringue de 2 mL munie d'un filtre WHATMANN" en polypropylène de 0,45 µm. Les deux faces d'un même substrat sont recouvertes du même sol. Pour chaque sol, la vitesse de rotation du substrat et le nombre de couches déposées sur les deux faces du substrat sont réglées de sorte à obtenir un film mince de 200 nm environ d'épaisseur, ce qui correspond à un spectre de transmission à un pic maximum X/4 situé à 1000 nm. A titre illustratif, le tableau 4 ci-après présente les vitesses de rotation des substrats utilisées pour réaliser les dépôts de différents sols selon l'invention ainsi que l'épaisseur des films 5 minces respectivement obtenus. TABLEAU 4 Sols Vitesse de rotation Epaisseur (tours/min) (nm) So15 2100 195 So141 1700 210 So146 1700 180 So165 3000 200 (en 2 couches) So167 3500 184 (en 2 couches) So187 3000 200 (en 2 couches) A des fins strictement comparatives, on 10 prépare également des films minces par dépôt du SM1, du SM2 et du So145 sur des substrats préparés comme décrit ci-dessus et dans les mêmes conditions opératoires que celles utilisées pour le dépôt des sols selon l'invention. A titre illustratif, les vitesses de 15 rotation des substrats utilisées pour réaliser les dépôts de ces trois sols ainsi que les épaisseurs des films minces obtenus sont présentées dans le tableau 5 ci-après. 20 TABLEAU 5 Sols Vitesse de rotation Epaisseur (tours/min) (nm) SM1 2200 187 SM2 2200 190 So145 1700 184 3.3. Traitement des films minces par des vapeurs 5 d'ammoniac On traite des films minces obtenus comme décrit au point 3.2 du présent exemple par des vapeurs d'ammoniac en maintenant ces films pendant 17 heures dans un dessiccateur dans lequel est placée une 10 solution aqueuse d'ammoniaque à 28%. 3.4. Post-traitement par l'hexaméthyldisilazane de films minces préalablement traités par l'ammoniac On traite des films minces préalablement traités par des vapeurs d'ammoniac comme décrit au 15 point 3.3 du présent exemple par des vapeurs d'hexaméthyldisilazane (HMDS) de formule (CH3)3-Si-NHSi-(CH3)3r en maintenant ces films pendant 48 heures dans un dessiccateur dans lequel est placé un cristallisoir contenant de l'HMDS pur. 20 EXEMPLE 4 Propriétés des films minces selon l'invention 4.1. Films minces traités par des vapeurs d'ammoniac On apprécie les propriétés optiques et de 25 résistance à l'abrasion des films minces traités par l'ammoniac en soumettant ces films, avant et après ce traitement, à : * d'une part, des mesures optiques en transmission sur un spectrophotomètre PERKIN-ELMER" Lambda 19 dans la gamme spectrale 200-1500 nm qui permettent de déterminer, pour chaque film, le pourcentage de transmission à X/4 = 1000 nm, son épaisseur et son indice de réfraction (n), et * d'autre part, un test de résistance à l'abrasion « modéré » selon la norme US-MIL-C-0675C qui permet de déterminer le nombre d'allers retours que doit effectuer une gomme abrasive sur la surface d'un film pour obtenir la destruction complète de ce film, c'est-à-dire la mise à nu du substrat sous-jacent, et en comparant les résultats obtenus. Le tableau 6 ci-après présente les pourcentages de transmission (%T) à X/4, les indices de réfraction (n), les épaisseurs (e) et le nombre d'allers retours (A/R) tels que déterminés, avant et après traitement ammoniacal, pour des films minces réalisés avec des sols selon l'invention, à savoir les So15, So141, So146, So167 et So187, et, à titre comparatif, pour des films minces réalisés avec le SM1, le SM2 et le So145. 30 TABLEAU 6 %T à X/4 n e (nm) A/R Sols Avant Après Avant Après Avant Après Avant Après SM1 99,89 99,98 1,22 1,22 209 181 1 4 So15 99,84 99,99 1,22 1,22 221 216 1 8 So141 99,73 99,76 1,25 1,25 178 172 1 35 So146 99,83 99,76 1,24 1,24 195 195 1 35 So167 99,74 99,77 1,25 1,25 177 170 1 40 So187 99,68 99,34 1,26 1,28 172 169 1 40 SM2 99,90 99,81 1,22 1,24 200 185 1 3 So145 99,91 99,83 1,22 1,25 210 210 1 5 Ce tableau montre, tout d'abord, que la présence d'eau dans des sols de silice colloïdale se traduit - sauf dans le cas où cette teneur est très faible (So15) - par une légère augmentation de l'indice de réfraction des films minces réalisés avec ces sols. Il montre aussi qu'un traitement ammoniacal peut avoir pour effet d'augmenter encore légèrement cet indice de réfraction mais que celui-ci reste, en tout état de cause, inférieur à 1,29 pour le film mince réalisé avec le sol selon l'invention présentant la teneur massique la plus élevée en eau (So187), ce qui est tout à fait compatible avec une utilisation des films minces selon l'invention en tant que films antireflets. Il montre également qu'en l'absence de traitement ammoniacal, les films minces réalisés avec des sols selon l'invention ne présentent pas une résistance à l'abrasion supérieure à celle du film mince réalisé avec le sol alcoolique SM1 ayant servi à la préparation de ces sols. Par contre, après traitement ammoniacal, les films minces réalisés avec des sols selon l'invention montrent une augmentation spectaculaire de leur résistance à l'abrasion que l'on n'observe ni pour le film mince réalisé avec le sol alcoolique SM1, ni pour le film mince réalisé avec le sol alcoolique SM2 de pH 7, ni pour le film mince réalisé avec le So145 qui a été préparé à partir du SM2. 4.2. Films minces traités par des vapeurs d'ammoniac puis post-traités par des vapeurs d'hexaméthyldisilazane On apprécie l'effet d'un post-traitement par l'HMDS en soumettant des films minces selon l'invention, avant traitement ammoniacal, après traitement ammoniacal et après post-traitement par l'HMDS, non seulement aux mesures optiques en transmission et au test de résistance à l'abrasion précédemment mentionnés au point 4.3 du présent exemple, mais également à des mesures de l'angle de contact, et en comparant les résultats obtenus. Les mesures de l'angle de contact sont réalisées avec un goniomètre GBX, modèle DGD-Fast/60, et consistent à mesurer l'angle de contact formé par une goutte d'eau désionisée lorsque cette goutte est déposée sur la surface d'un film mince. Plus la valeur de cet angle est élevée, c'est-à-dire supérieure à 90°, plus la surface du film est hydrophobe. A titre illustratif, le tableau 7 ci-après présente les pourcentages de transmission (%T) à X/4, les indices de réfraction (n), les épaisseurs (e), le nombre d'allers retours (A/R) et les angles de contact (0) tels que déterminés, avant traitement ammoniacal, après traitement ammoniacal et après post-traitement par l'HMDS, pour un film mince réalisé avec un sol selon l'invention, en l'espèce le So165. TABLEAU 7 %T à n (ne m) A/R (e) ~/4 Avant 99,75 1,25 196 1 8 traitement par NH3 Après 99,39 1,27 196 40 65 traitement par NH3 Après 98,96 1,30 195 20 126,5 traitements par NH3 et HMDS Ce tableau montre qu'un post-traitement par l'HMDS entraîne une augmentation de l'indice de réfraction du film mince de So165 de 1,27 à 1,30 situant le pic de transmission autour de 99% à X/4 = 1000 nm. Il montre également que ce post-traitement entraîne une diminution de la résistance à l'abrasion du film de So165 puisque celle-ci passe de 40 allers retours à 20 allers retours. Toutefois, la résistance à l'abrasion reste bien supérieure à celle d'un film mince de So165 n'ayant subi aucun traitement. Quant à l'hydrophobicité de surface, on constate qu'elle est largement améliorée à la fois par le traitement ammoniacal, puis par le post-traitement par l'HMDS puisque l'angle de contact passe successivement de 8 à 65°, puis de 65° à 126,5°. REFERENCES CITEES [1] FR-A-2 703 791 [2] Gulley et al. (Journal of Colloid and Interface Science, 241 (2001) 340-345 [3] Neel et al. (Journal of Colloid and Interface Science, 230 (2000) 244-253 REVENDICATIONS1. Procédé de préparation d'un sol d'un oxyde métallique, aqueux ou partiellement aqueux et de pH supérieur ou égal à 8, lequel procédé comprend : (i) le remplacement par de l'eau de tout ou partie de l'alcool ou des alcools présents dans un sol alcoolique dudit oxyde métallique, de pH neutre ou basique, et éventuellement (ii) l'ajustement du pH du sol aqueux ou partiellement aqueux ainsi obtenu à une valeur d'au moins 8. 2. Procédé selon la revendication 1, dans 15 lequel le sol alcoolique de l'oxyde métallique est préalablement obtenu par : (a1) hydrolyse d'un précurseur dudit oxyde métallique à un pH allant de 8 à 14 dans un alcool ou un mélange d'alcools additionné d'une base, puis 20 (b1) mûrissement du sol ainsi obtenu à température ambiante. 3. Procédé selon la revendication 2, dans lequel le remplacement par de l'eau de tout ou partie 25 de l'alcool ou des alcools présents dans le sol est réalisé par : (c1) dilution de ce sol par addition d'un mélange d'eau et d'un ou plusieurs alcools pour obtenir un sol hydroalcoolique, puis 30 (d1) concentration du sol hydroalcoolique ainsi obtenu, dans des conditions qui permettentd'éliminer de ce sol tout ou partie de l'alcool ou des alcools qu'il renferme sans en éliminer l'eau, pour obtenir un sol aqueux ou partiellement aqueux. 4. Procédé selon la revendication 3, dans lequel l'étape (d1) est réalisée par évaporation de l'alcool ou des alcools dans un évaporateur rotatif, à une température allant de 20 à 55°C et sous une pression allant de 20 à 200 mPa. 5. Procédé selon la revendication 1, dans lequel le sol alcoolique de l'oxyde métallique est préalablement obtenu par : (a2) hydrolyse d'un précurseur dudit oxyde 15 métallique à un pH neutre dans un alcool ou un mélange d'alcools, puis (b2) mûrissement du sol ainsi obtenu à température ambiante. 20 6. Procédé selon la revendication 5, dans lequel le remplacement par de l'eau de tout ou partie de l'alcool ou des alcools présents dans le sol alcoolique est réalisé par : (c2) dialyse de ce sol dans de l'eau pour 25 obtenir un sol hydroalcoolique, puis (d2) concentration du sol hydroalcoolique ainsi obtenu, dans des conditions qui permettent d'éliminer de ce sol tout ou partie de l'alcool ou des alcools qu'il renferme sans en éliminer l'eau, pour 30 obtenir un sol aqueux ou partiellement aqueux. 7. Procédé selon la revendication 6, dans lequel l'étape (d2) est réalisée par évaporation de l'alcool ou des alcools dans un évaporateur rotatif, à une température allant de 20 à 55°C et sous une pression allant de 20 à 200 mPa. 8. Procédé selon la revendication 6 ou la revendication 7, dans lequel le pH du sol aqueux ou partiellement aqueux obtenu à l'étape (d2) est ajusté à une valeur au moins égale à 8, par addition d'une base. 9. Procédé selon l'une quelconque des revendications 2 à 8, dans lequel l'alcool est de l'éthanol absolu. 10. Procédé selon la revendication 2 ou la revendication 8, dans lequel la base est de l'ammoniaque. 11. Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel le sol aqueux ou partiellement aqueux d'oxyde métallique est un sol de silice, de zircone, d'alumine ou d'oxyde de titane. 12. Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel le sol aqueux ou partiellement aqueux d'oxyde métallique est un sol de silice. 30 13. Procédé selon la revendication 11, dans lequel le sol alcoolique est préalablement obtenu par 20 25hydrolyse-condensation d'un précurseur d'oxyde métallique de formule AXMy dans laquelle M représente un métal ou un métalloïde choisi parmi le silicium, le zirconium, l'aluminium et le titane, tandis que A représente un groupe hydrolysable choisi dans le groupe comprenant un halogénure, un nitrate, un oxalate, un carbonate, un sulfate, un alcoolate de formule R-O- où R est un groupe alkyle linéaire ou ramifié ou un groupe phényle. 14. Procédé selon la revendication 13, dans lequel le groupe alkyle est un groupe en Cl à en et, mieux encore, en Cl à c3. 15. Procédé selon la revendication 13 ou la revendication 14, dans lequel le précurseur d'oxyde métallique est choisi parmi le tétraméthoxysilane et le tétraéthoxysilane. 16. Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel le sol aqueux ou partiellement aqueux d'oxyde métallique présente une teneur massique en oxyde métallique allant de 1 à 10% et, mieux encore, de 2 à 6%. 25 17. Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel le sol aqueux ou partiellement aqueux d'oxyde métallique présente une teneur massique en eau supérieure à 20% et, mieux 30 encore, supérieure à 40%. 20 18. Procédé selon l'une quelconque des revendications, dans lequel le sol aqueux ou partiellement aqueux d'oxyde métallique présente un pH allant de 8 à 10 et, mieux encore, de 9 ± 0,3. 19. Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, qui conduit à l'obtention d'un sol aqueux ou partiellement aqueux d'oxyde métallique, dont la viscosité varie au plus de ± 35% sur une période de temps d'au moins un an. 20. Procédé de fabrication d'un film, qui comprend le dépôt sur l'une ou les deux faces d'un substrat d'une ou plusieurs couches d'un sol aqueux ou partiellement aqueux d'un oxyde métallique tel qu'obtenu par le procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 19, et le séchage de cette(ces) couche(s). 21. Procédé selon la revendication 20, dans lequel le dépôt de la couche ou des couches du sol sur le substrat est réalisé par enduction centrifuge, trempage-retrait ou enduction laminaire. 22. Procédé selon la revendication 20 ou la revendication 21, qui comprend, de plus, un traitement du film par une base en milieu liquide ou gazeux. 23. Procédé selon la revendication 22, dans 30 lequel le traitement du film par une base en milieu 25liquide ou gazeux est un traitement par des vapeurs d'ammoniac. 24. Procédé selon la revendication 22 ou la revendication 23, qui comprend, en outre, un post-traitement du film par de l'hexaméthyldisilazane en milieu liquide ou gazeux. 25. Procédé selon l'une quelconque des revendications 20 à 22, dans lequel le film est un film mince qui mesure de 5 à 500 nm d'épaisseur et, mieux encore, de 10 à 250 nm. 26. Procédé selon l'une quelconque des revendications 20 à 25, dans lequel le film est un film mince de silice.