Brevet FR2942007A1 — publié le 20100813

Domaine de l'invention La présente invention concerne une installation d'étuvage pour la préparation de pièces destinées à être exposées à un vide poussé ou ultravide. L'invention concerne également un procédé d'étuvage d'une pièce exposée à ultravide. Etat de la technique Il existe de nombreux domaines de la recherche scientifique et en médecine, utilisant des installations d'ultravide. Il s'agissait jusqu'à une date récente d'un vide de l'ordre de 10-8 jusqu'à 10-9 mbar et la tendance actuelle est de pousser l'ultravide jusqu'à 10-12 mbar. Les pièces utilisées dans ces installations qui sont, en général, des enceintes en acier inox, doivent être particulièrement nettoyées de toutes traces susceptibles de polluer l'enceinte. Il s'agit de traces de pro- duits utilisés en cours de fabrication ou de traces de doigts, correspondant à des produits à base de carbone. Pour éliminer ces différents composés polluants à l'intérieur des pièces d'équipement destinées à l'ultravide, il faut pomper le volume intérieur des pièces pour éliminer toutes les molécules qui peuvent rester à l'intérieur des pièces. Ce nettoyage des pièces se fait par l'étuvage. Pour cela, il faut réaliser le vide dans le volume de la pièce en pompant de façon progressive, d'abord avec une pompe primaire puis, une pompe secondaire et enfin, une pompe ionique pour éliminer et piéger autant que faire se peut, les molécules. Ces opérations se font en général en chauffant la piè- ces à une température de l'ordre de 200°C de manière à agiter les molécules et à les décrocher de la paroi intérieure de la pièce pour pouvoir les piéger par les pompes qui éliminent ces molécules ou par une pompe ionique qui piège les molécules. De façon générale, il existe actuellement deux procédés 30 pour le nettoyage ou dégazage de pièces destinées à des installations travaillant dans l'ultravide. L'un des procédés consiste à utiliser des fours de dégazage qui sont en fait des étuves permettant d'obtenir une température de l'ordre de 200°C et une pression de 10-2 mbar. Mais ce procédé se limite à 35 un vide primaire et non pas à un vide secondaire ou à l'ultravide. Les pièces sont introduites dans l'étuve et on mesure la température obtenue en paliers sans pouvoir définir et déterminer un cycle de température et de vide. 2 De plus, les étuves ne permettent de traiter que des pièces ayant un volume limité. Ce procédé ne permet pas d'étuver des installations de grandes dimensions. Il n'y a pas non plus de contrôle final possible puis-5 qu'aucune analyse de gaz n'est faite et aucun essai de tenue à l'ultravide n'est réalisable. Un deuxième procédé existant consiste à réaliser un en-semble d'étuvage en ligne. Ainsi, on entoure l'équipement à étuver avec des cordons chauffants et on utilise le système de pompage de 10 l'équipement. Cet étuvage est réalisé sur le site de l'installation qui peut également utiliser un spectromètre de masse branché sur un piquage de façon à analyser les gaz résiduels avant et après l'étuvage. Ce procédé permet d'obtenir de meilleurs résultats que le premier procédé mais le chauffage est relativement aléatoire et peut précis. Il n'y a ni contrôle, ni 15 programmation de la montée en température. De plus, les phases d'étuvage sont très longues car la montée en température ne peut être optimisée. Il en est de même de la mise sous vide secondaire ou ultravide. Enfin, la chambre à étuver doit être équipée d'un matériel de pompage. But de l'invention 20 La présente invention a pour but de développer une installation et un procédé d'étuvage permettant de traiter efficacement des pièces, même de grandes dimensions, destinées à travailler dans l'ultravide en contrôlant de façon précise l'étuvage et son résultat. Exposé et avantages de l'invention 25 A cet effet, la présente invention concerne une installation comprenant une chambre principale recevant la pièce ou branchée sur la pièce, - un équipement de chauffage de la chambre et de la pièce, - une installation de pompage de vide pour le vide primaire et le vide se- 30 condaire reliée à la chambre principale et munie d'une vanne de cou-pure pour couper la liaison entre l'installation de pompage et la chambre principale, - une installation de pompage d'ultravide reliée séparément à la chambre principale, 35 une centrale de commande comprenant - un circuit de gestion de fonctionnement avec un microprocesseur, des programmes et une entrée de commandes et de données, relié à un en-semble de jauges à vide et de capteurs de température associés à la 3 chambre principale et au système de pompage de vide, et aussi à un analyseur de gaz résiduels, relié à la chambre principale, et - un circuit de puissance alimentant les systèmes de pompage de vide et d'ultravide et les moyens de chauffage. L'invention concerne également un procédé d'étuvage de pièce destinée à être exposée à un vide poussé pour mettre en oeuvre une telle installation, ce procédé étant caractérisé en ce qu' on effectue un premier cycle d'étuvage pour une lecture du vide limite à froid puis un second cycle pour un vide limite et la détermination du spectre des espèces présentes dans l'enceinte, selon lequel - au cours du premier cycle d'étuvage, à froid, on effectue un pompage primaire puis un pompage turbomoléculaire dans la pièce suivi d'un pompage avec une pompe ionique et quand l'équilibre des pressions est atteint, on sépare le circuit de pompage primaire et le circuit de pom- 15 page turbomoléculaire pour mesurer le vide à froid dans l'enceinte et on fait une analyse de gaz à froid, et - au cours du second cycle d'étuvage on arrête la pompe ionique et on ouvre la vanne pour effectuer un pompage secondaire, on chauffe l'enceinte en contrôlant la montée en température et on maintient la 20 température à une valeur donnée pour décrocher les molécules et les pomper avec la pompe secondaire qui les évacue, puis on abaisse la température et à une température de 80°C, on démarre la pompe ionique et quand l'équilibre des pressions est atteint, on ferme l'enceinte et on fait une lecture du vide limite à chaud, on analyse les gaz résiduels 25 et on arrête le pompage, puis on injecte de l'azote dans l'enceinte pour remonter en pression et on ouvre l'enceinte L'installation d'étuvage et son procédé de mise en oeuvre permettent de traiter efficacement des pièces ayant un grand volume avec analyse des gaz et essais de tenue à l'ultravide. L'installation et le procédé 30 permettent de programmer la montée en température et d'optimiser le cy- cle de montée en température pour les phases d'étuvage très longues. De façon générale, l'invention constitue un ensemble spécialement conçu pour l'étuvage et permettant de maîtriser le cycle thermique avec un équipement de mise sous vide primaire, secondaire et 35 d'ultravide jusqu'à 10-12 mbar. L'installation et le procédé permettent un contrôle final grâce à la mise sous ultravide et mesure de la pression minimale qu'il est possible d'atteindre et de mesurer la composition des gaz résiduels. Ce 4 contrôle final permet, le cas échéant, de renouveler l'opération si les objectifs ne sont pas atteints. Ainsi, l'installation réalise l'étuvage et les tests contrôlant ou justifiant la qualité des résultats. Le procédé assure un traitement rapide par rapport aux procédé et installation connus et surtout un traitement plus fiable. Ces résultats sont d'ailleurs accessibles à l'utilisateur qui pourra interroger la centrale de commande pour suivre l'évolution de l'étuvage et contrôler les résultats. La qualité des résultats sera conservée jusqu'au montage de la pièce sur l'installation à laquelle elle est destinée car l'azote pur injecté tapisse les parois et empêche une pollution extérieure de la pièce ou de son enceinte. L'azote a l'avantage de se décrocher très facilement lors du pompage suivant fait sur l'installation équipée de la pièce. Cette protec- tion, limitée dans le temps, est suffisante pour les opérations de livraison et de montage.. Suivant une autre caractéristique avantageuse, l'installation de pompage de vide comporte une pompe primaire et une pompe secondaire pour réaliser respectivement un vide primaire et un vide secondaire, ainsi qu'une jauge de pression, la pompe primaire, la pompe secondaire et la jauge de pression étant reliées à une conduite en aval de la vanne reliant la conduite à la chambre principale. Suivant une autre caractéristique avantageuse, la pompe primaire est une pompe primaire sèche et la pompe secondaire est une 25 pompe turbomoléculaire Suivant une autre caractéristique avantageuse, la chambre principale est équipée d'une jauge à cathode froide et d'une jauge Pirani. Suivant une autre caractéristique avantageuse, l'installation de pompage d'ultravide est constituée par une pompe ioni- 30 que. Suivant une autre caractéristique avantageuse, la chambre principale est reliée à une alimentation en azote. Dessins La présente invention sera décrite ci-après de manière plus 35 détaillée à l'aide d'un exemple d'installation et de procédé d'étuvage pour l'ultravide, représenté dans les dessins annexés dans lesquels ; - la figure 1 est un schéma par blocs de l'installation selon l'invention, - la figure 2 est une vue en perspective d'un exemple d'installation d'étuvage selon l'invention, - la figure 3 est schéma du procédé d'étuvage selon l'invention. Description de modes de réalisation de l'invention 5 La figure 1 montre de façon très générale une installation selon l'invention d'étuvage de pièces pour l'ultravide. Une pièce P est représentée schématiquement par un rectangle correspondant à un volume ou une enceinte qui doit être nettoyé pour en évacuer les molécules et les traces de produits polluants restant à l'intérieur du volume de la pièce et qui ne permettent pas d'atteindre un vide poussé, pour utiliser cette pièce dans une installation d'ultravide. La pièce P est placée dans l'installation ou est branchée sur celle-ci suivant les dimensions de la pièce. L'installation d'étuvage selon l'invention se compose d'une chambre principale 10, par exemple sous la forme d'un volume cylindri- que dans lequel peut se placer la pièce à étuver P si celle-ci est de petites dimensions ou sur laquelle se branche le volume de la pièce à étuver par une liaison étanche. Ce cas est schématiquement représenté à la figure 1. La chambre principale 10 est reliée d'une part, à une installation de pompage de vide primaire et de vide secondaire 20 et d'autre part, à une installation de pompage d'ultravide 30. La chambre 10 est équipée de capteurs de pression 13, 14, 15 et de température 18, 19 ainsi que d'un analyseur de gaz 16 et d'une source d'azote N2 (17). L'installation comporte une centrale de commande 40 munie d'une entrée 44 telle qu'un clavier et d'un système d'enregistrement 45 ainsi que d'une liaison 46 avec un système déporté 50, par exemple installé chez l'utilisateur de la pièce pour la transmission de données. La centrale de commande 40 est reliée aux capteurs 13, 14, 15, 18, 19 et à l'analyseur 16 dont elle reçoit les signaux pour les traiter et commander le fonctionnement de l'installation. Selon des programmes établis, elle commande les moyens de chauf- fage 11, 12 de la chambre principale 10 et, le cas échéant, de la pièce P lorsque celle-ci n'est pas placée dans la chambre principale, le fonctionnement des deux pompes 23, 24 du système de pompage de vide primaire et de vide secondaire et le système de pompage d'ultravide 30. La centrale de commande est reliée à une entrée 44 telle qu'un clavier et à un enregistreur 45, par exemple une mémoire de masse et/ou une imprimante. Par la liaison d'échange de données 46, l'utilisateur 50 peut accéder aux données relatives à l'étuvage de sa pièce P et notamment au résultat de l'étuvage. 6 La centrale de commande 40 comporte un microprocesseur 41, une mémoire des programmes 42 et un circuit de puissance 43 pour commander et alimenter les différents équipements. De façon plus détaillée, la chambre principale 10 comporte un équipement de chauffage 11 qui peut être dédoublé par un équipement de chauffage 12 placé sur la pièce à étuver P si celle-ci est extérieure à la chambre principale. Ces moyens de chauffage 11, 12 sont reliés au circuit de puissance 43 qui les alimente de façon commandée. L'installation de pompage de vide primaire et de vide secondaire 20 est formé par une conduite 21 reliée à travers une vanne commandée 22 à la chambre principale 10 ; la conduite 21 est reliée en amont de la vanne 22 à une pompe secondaire 24 puis à une pompe primaire 23. La pompe primaire 23 est par exemple une pompe primaire sèche travaillant jusqu'à une pression d'environ 10-2 mbar ; la pompe 15 secondaire 24 est une pompe turbomoléculaire prenant la relève pour pomper le vide jusqu'à 10-6 mbar. La conduite 21 est équipée d'une jauge de pression 25 en amont de la vanne 22. La chambre principale 10 est reliée directement à une pompe ionique 30 et à des jauge de pression telles qu'une jauge à cathode 20 froide 13 et une jauge Pirani 14. La jauge à cathode froide 13 mesure des pressions de 10-3 à 10-12 mbar et la jauge Pirani 14 permet de mesurer une plage de vide jusqu'à 10-3 mbar. Cette jauge 14 est utilisée en parallèle avec la jauge à cathode froide 13 dans le cas d'une remise à l'atmosphère de la chambre 10 25 uniquement, la vanne 22 restant fermée. La pompe ionique 30 réalise des vides compris entre 10-6 et 10-12 mbar. La chambre principale 10 est aussi reliée à un analyseur de gaz 16 et à une source d'azote 17, par exemple une bouteille d'azote. La 30 température de la chambre principale 10 et celle de la pièce P sont mesurées par des capteurs de température 18, 19. La centrale de commande 40 reçoit les signaux de la jauge de pression 25 par une ligne S25, les signaux des jauges de pression 13 et 14 par des lignes de signaux S13, S14, ceux du capteur de tempéra- 35 ture 18 de la chambre principale 10 par la ligne de signaux S18 et la température du capteur de température 19 de la pièce P par la ligne de signaux S19. 7 En fonction des signaux ainsi reçus et du programme d'étuvage choisi précisant notamment les paramètres de l'étuvage et les objectifs à atteindre, la centrale de commande 40 définit des signaux de commande transmis à la vanne 22 par la ligne C22, la commande de la pompe primaire 23 par la ligne de commande C23, la commande de la pompe secondaire 24 par la ligne de commande C24. L'élément de chauffage 11 est commandé par la ligne de commande C 11, l'élément de chauffage 12 de la pièce P est commandé par la ligne de commande C12 et la pompe ionique 30 est commandée par la ligne de commande C30. A la fin des cycles d'étuvage ou en cours de cycle, l'analyseur de gaz 16 transmet les résultats de l'analyse par la ligne de signaux S16 à la centrale de commande 40. La figure 2 montre un mode de réalisation de l'installation d'étuvage décrite de manière générale à l'aide de la figure 1. La chambre principale 10 est constituée par un cylindre muni de différents moyens de branchement sous forme de brides, par exemple une bride 101 pour le branchement de la pièce P ainsi qu'à son autre extrémité, une bride 102 pour brancher l'installation de pompage primaire et secondaire 20. La chambre cylindrique 10 est entourée de moyens de chauffage 11 en forme de serpentin. Il en est de même de la pièce P qui est munie des serpentins de chauffage 12, répartis autour de différents éléments de la pièce, par exemple des raccords. Toutes les brides de la pièce P sont scellées hermétiquement par des brides pleines. La chambre principale 10 est reliée à l'installation de pompage primaire et secondaire 20 par la vanne 22 commandée électropneumatiquement 221. En sortie de la vanne 22, la jauge 25 est reliée à la conduite 21 constituée par un ensemble de tuyaux à brides portant également la pompe secondaire 24 qui est une pompe turbomoléculaire et la pompe primaire 23. La chambre principale 10 est également reliée à la pompe ionique 30. Elle comporte un analyseur de gaz 16. Sur un côté, elle est équipée de la jauge Pirani 14 et sur l'autre côté, elle comporte la jauge à cathode froide 13. La bouteille d'azote n'est pas représentée. L'ensemble de cet équipement est installé sur un bâti 200. 35 La liaison avec la centrale de commande 40 et les équipements attachés à cette centrale ne sont pas représentés. La figure 3 est une schéma montrant le procédé d'étuvage selon l'invention, réalisé avec une installation prise au sens général 8 comme celle de la figure 1 ou au mode de réalisation de cette installation représenté à la figure 2. Le procédé d'étuvage se compose d'un premier cycle à froid et d'un second cycle à chaud. 1 er cycle d'étuvage Au cours du premier cycle, on exécute les étapes suivantes : - Tout d'abord dans l'étape El, on branche la pièce P sur la chambre principale 10 de façon à faire communiquer le volume intérieur de la pièce avec le volume intérieur de la chambre 10 et former l'enceinte dans laquelle on puisse pomper. - Dans l'étape E2, on branche l'installation de pompage primaire et secondaire 20 en ouvrant la vanne 22. - Puis dans une première étape de pompage E3, la pompe primaire 23 pompe le vide jusqu'à environ 10-2 mbar - Ensuite le pompage secondaire permet d'atteindre 10-8 mbar 15 - Une fois cette pression atteinte on démarre le pompage ionique 30 dans la chambre 10 (vanne 22 toujours ouverte) - on surveille la mesure de la pression fournie par la jauge à cathode froide 13 et la jauge 25 par les étapes de mesures E6 et E7. - On compare (étape E8) les deux pressions mesurées PR et PR'. 20 - En cas d'égalité des deux pressions, on commande la vanne 22 (étape E9) pour la fermer et isoler l'enceinte de la chambre principale 10 et de la pièce P. - On laisse la pompe ionique 30 aller au maximum du pompage - On mesure (étape E10) la pression du vide à froid et l'analyseur 16 25 (étape E 11) analyse les gaz. - On arrête la pompe ionique 30 (étape E12) et on enregistre les résultats (étape E14), c'est-à-dire le vide limite à froid et les espèces ou le spectre des espèces présentes dans l'enceinte formée par la chambre principale 10 et la pièce P. 30 2ème cycle d'étuvage Après ce premier cycle d'étuvage, on passe au second cycle d'étuvage avec pour conditions de départ, le vide limite à froid et le spectre de toutes les espèces présentes dans l'enceinte formée par la chambre principale 10 et le volume de la pièce P. Au cours de second cycle 35 d'étuvage, on effectue les opérations suivantes : - On arrête la pompe ionique 30 9 - On ouvre la vanne 22 (étape E20) pour faire communiquer la chambre 10 et la pièce P avec l'installation de pompage de vide primaire et secondaire 20. - La pompe de vide secondaire 24, qui n'a pas été arrêtée, continue de pomper (étape E21). - En même temps, on commande le chauffage (étape E22) de la chambre principale 10 et de la pièce P ; on surveille la température (étape E23) ainsi que la durée de chauffage. Cette étape peut durer plusieurs jours. Le chauffage agite les molécules qui se détachent des surfaces auxquel- les elles sont accrochées de sorte que la pression augmente. Il s'agit du phénomène de dégazage. L'évacuation des molécules se fait par un pompage autre qu'un pompage ionique de façon à évacuer les molécules vers l'extérieur. - Puis, dans une étape suivante E24, on abaisse la température jusqu'à atteindre la limite de 80°C (étape E25) et on met en route la pompe ionique 30 (étape E26) ; le pompage ionique n'évacue pas les molécules vers l'extérieur mais il les capte simplement. On surveille le pompage en mesurant la pression de la jauge 25 et de la jauge à cathode froide 13 (pressions PR et PR') (étape E27). - En cas d'égalité des deux pression (étape E28), on commande la fermeture de la vanne 22 (étape E29). La chambre 10 et la pièce P sont de nouveau isolées - On attends que le pompage ionique 30 atteigne le maximum. - On arrête le pompage (étape E30) et on analyse les gaz (étape E31) avec l'analyseur 16. - Le cycle se termine par l'injection d'azote (étape E32) pour neutraliser provisoirement la pièce. Les cycles d'étuvage sont gérés de façon totalement automatique et les opérations peuvent être faites efficacement et rapidement. L'étuvage selon l'invention permet d'augmenter le vide limite, c'est-à-dire de pousser le vide limite au delà des limites actuelles et de baisser la quantité de certaines espèces qui subsistent, tel que de l'eau. En fin d'étuvage, l'injection d'azote pur, tapisse les parois de la pièce pour empêcher une pollution de l'enceinte tout en pouvant ulté- rieurement se décrocher très facilement lorsqu'un pompage est effectué une fois la pièce mise en place sur l'installation à laquelle elle est destinée. 10 15 10 La protection assurée par le revêtement d'azote est suffisante pour permettre le démontage de la pièce par rapport à l'installation d'étuvage, sa fermeture, le transport sur le site et sa réinstallation. Les différentes étapes des cycles d'étuvage peuvent être sui- vies par l'utilisateur de la pièce pour qu'il contrôle lui-même l'efficacité des opérations. Si l'analyse faite en fin de deuxième cycle d'étuvage montre que les résultats obtenus sont insuffisants, on recommence le cycle d'étuvage. Les pièces ainsi étuvées sont des pièces destinées principalement à des chambres à vide ou des enceintes à vide. Ces pièces s'utilisent dans des installations fonctionnant sous vide telles que les accélérateurs à particules comme par exemple les synchrotrons et les cyclotrons. Les chambres à vide s'utilisent également dans des applications médicales, par exemple pour le domaine de la hadronthérapie. Enfin, de telles installations sont utilisées en physique nucléaire dans de nombreux laboratoires de recherche. 20 REVENDICATIONS1 °) Installation d'étuvage pour la préparation de pièces destinées à être exposées à un vide poussé ou à l'ultravide, caractérisée en ce qu' elle comprend A- une chambre principale (10) recevant la pièce (P) ou branchée sur la pièce (P), - un équipement de chauffage (11, 12) de la chambre (10) et de la pièce (P), lo - une installation de pompage de vide (20) pour le vide primaire et le vide secondaire reliée à la chambre principale (10) et munie d'une vanne de coupure (22) pour couper la liaison entre l'installation de pompage (20) et la chambre principale (10), - une installation de pompage d'ultravide (30) reliée séparément à la 15 chambre principale (10) , B- une centrale de commande (40) comprenant un circuit de gestion de fonctionnement avec un microprocesseur (41), des programmes (42) et une entrée de commande et de données (44), relié à un ensemble de jauges à vide (13, 14, 25) et de capteurs de tem- 20 pérature (18, 19) associées à la chambre principale (10) et au système de pompage de vide (20), et aussi à un analyseur (16) de gaz résiduels, relié à la chambre principale (10), et - un circuit de puissance (43) alimentant les systèmes de pompage de vide (20, 30) et d'ultravide (30) et les moyens de chauffage (11, 12). 25 2°) Installation d'étuvage selon la revendication 1, caractérisée en ce que l'installation de pompage de vide (20) comporte une pompe primaire (23) et une pompe secondaire (24) pour réaliser respectivement un vide primaire 30 et un vide secondaire, ainsi qu'une jauge de pression (25), la pompe primaire (23), la pompe secondaire (24) et la jauge de pression (25) étant reliées à une conduite (21) en aval de la vanne (22) reliant la conduite (21) à la chambre principale (10). 35 3°) Installation d'étuvage selon la revendication 2, caractérisée en ce que la pompe primaire (23) est une pompe primaire sèche et la pompe secondaire (24) est une pompe turbomoléculaire. 51012 4°) Installation d'étuvage selon la revendication 1, caractérisée en ce que la chambre principale (10) est équipée d'une jauge à cathode froide (13) et d'une jauge Pirani (14). 5°) Installation d'étuvage selon la revendication 1, caractérisée en ce que l'installation de pompage d'ultravide (30) est constituée par une pompe ionique. 6°) Installation d'étuvage selon la revendication 1, caractérisée en ce que la chambre principale (10) est reliée à une alimentation en azote (17). 15 7°) Procédé d'étuvage d'une pièce destinée à être exposée à un vide poussé pour mettre en oeuvre l'installation selon l'une quelconque des revendications 1 à 6, caractérisé en ce qu' on effectue un premier cycle d'étuvage pour une lecture du vide limite, à 20 froid, puis un second cycle pour un vide limite et la détermination du spectre des espèces présentes dans l'enceinte de la pièce, au cours du premier cycle d'étuvage, à froid, on effectue un pompage primaire puis un pompage secondaire dans l'enceinte forme par la chambre principale (10) et la pièce (P), suivi d'un pompage avec la pompe ioni- 25 que (30) et quand l'équilibre des pressions est atteint, on sépare le circuit de pompage primaire et secondaire (20) pour mesurer le vide limite à froid dans l'enceinte (10, P) et on fait une analyse des gaz à froid puis, on effectue le second cycle d'étuvage selon lequel on arrête la pompe ionique (30) et on ouvre la vanne (22) pour effectuer un 30 pompage secondaire (24) et on chauffe (11, 12) l'enceinte (10) ou la pièce (P) en contrôlant la montée en température et on maintient la température à une valeur donnée pour décrocher les molécules et les pomper avec la pompe secondaire (24) qui les évacue, puis on abaisse la température et à une température de 80°C, on démarre la pompe ionique (30) et 35 quand l'équilibre des pressions est atteint, on ferme l'enceinte (10) et on fait une lecture du vide limite à chaud, on analyse (16) les gaz résiduels et on arrête le pompage, puis on injecte de l'azote (17) dans l'enceinte (10) pour remonter en pression et on ouvre l'enceinte (10, P).