Brevet FR2928913A1 — publié le 20090925

SUBSTRAT MUNI D'UN EMPILEMENT A PROPRIETES THERMIQUES L'invention concerne un substrat transparent notamment en un matériau rigide minéral comme le verre, ledit substrat étant revêtu d'un empilement de couches minces comprenant une couche fonctionnelle de type métallique pouvant agir sur le rayonnement solaire et/ou le rayonnement infrarouge de grande longueur d'onde. L'invention concerne plus particulièrement l'utilisation de tels substrats pour fabriquer des vitrages d'isolation thermique et/ou de protection solaire. Ces vitrages peuvent être destinés aussi bien à équiper les bâtiments que les véhicules, en vue notamment de diminuer l'effort de climatisation et/ou d'empêcher une surchauffe excessive (vitrages dits � de contrôle solaire �) et/ou diminuer la quantité d'énergie dissipée vers l'extérieur (vitrages dits � bas émissifs �) entraînée par l'importance toujours croissante des surfaces vitrées dans les bâtiments et les habitacles de véhicules. Ces vitrages peuvent par ailleurs être intégrés dans des vitrages présentant des fonctionnalités particulières, comme par exemple des vitrages chauffants ou des vitrages électrochromes. Un type d'empilement de couches connu pour conférer aux substrats de telles propriétés est constitué d'une couche métallique fonctionnelle à propriétés de réflexion dans l'infrarouge et/ou dans le rayonnement solaire, notamment une couche fonctionnelle métallique à base d'argent ou d'alliage métallique contenant de l'argent. Dans ce type d'empilement, la couche fonctionnelle se trouve ainsi disposée entre deux revêtements antireflets comportant chacun en général plusieurs couches qui sont chacune en un matériau diélectrique du type nitrure et notamment nitrure de silicium ou d'aluminium ou oxyde. Du point de vu optique, le but de ces revêtements qui encadrent la couche fonctionnelle métallique est � d'antirefléter � cette couche fonctionnelle métallique. -2- Un revêtement de blocage est toutefois intercalé parfois entre un ou chaque revêtement antireflet et la couche métallique fonctionnelle, le revêtement de blocage disposé sous la couche fonctionnelle en direction du substrat favorise la croissance cristalline de cette couche et la protège lors d'un éventuel traitement thermique à haute température, du type bombage et/ou trempe et le revêtement de blocage disposé sur la couche fonctionnelle à l'opposé du substrat protège cette couche d'une éventuelle dégradation lors du dépôt du revêtement antireflet supérieur et lors d'un éventuel traitement thermique à haute température, du type bombage et/ou trempe. Actuellement, il existe des empilements de couches minces bas-émissifs à une seule couche fonctionnelle (désignés par la suite sous l'expression empilement monocouche fonctionnelle �), à base d'argent, présentant une émissivité normale EN de l'ordre de 3 %, une transmission lumineuse dans le visible TL de l'ordre de 80 % et une sélectivité de l'ordre de 1,3 lorsqu'ils sont montés dans un double vitrage classique, comme par exemple en face 3 d'une configuration : 4-16(Ar-90%)-4, constituée de deux feuilles de verre de 4 mm séparée par une lame de gaz à 90 % d'argon et 10 % d'air d'une épaisseur de 16 mm, dont l'une des feuilles est revêtu de l'empilement monocouche fonctionnelle : la feuille la plus à l'intérieur du bâtiment lorsque l'on considère le sens incident de la lumière solaire entrant dans le bâtiment ; sur sa face tournée vers la lame de gaz. Pour mémoire, la sélectivité correspond au rapport de la transmission lumineuse TLV;S dans le visible du vitrage sur le facteur solaire FS du vitrage et 25 est telle que : S = TLV;S / FS. Le facteur solaire d'un vitrage est le rapport de l'énergie totale entrant dans le local à travers ce vitrage sur l'énergie solaire incidente totale. L'homme du métier sait que positionner l'empilement de couches minces en face 2 du double vitrage (sur la feuille la plus à l'extérieur du bâtiment 30 lorsque l'on considère le sens incident de la lumière solaire entrant dans le -3- bâtiment et sur sa face tournée vers la lame de gaz) lui permettra de diminuer le facteur solaire et d'augmenter ainsi la sélectivité. Dans le cadre de l'exemple ci-dessus, il est alors possible d'obtenir une sélectivité de l'ordre de 1,35. Pour augmenter l'émissivité, l'homme du métier sait aussi que l'épaisseur de la couche d'argent peut être augmentée. Cela permet d'augmenter la sélectivité à une valeur de l'ordre de 1,5 lorsque l'empilement en positionné en face 2 du double vitrage, mais cela se traduit par une baisse de la transmission lumineuse dans le visible et surtout une augmentation de la réflexion lumineuse dans le visible jusqu'à des valeurs difficilement acceptables de l'ordre de 35 % à 45 %. En outre, cela peut se traduire par une coloration non acceptable, notamment en réflexion, en particulier dans le rouge. La solution la plus performante consiste alors à employer un empilement à plusieurs couches fonctionnelles, positionné en face 2 du vitrage et notamment un empilement à deux couches fonctionnelles (désigné par la suite sous l'expression � empilement bicouches fonctionnelles �), afin de garder une transmission lumineuse dans le visible élevée, tout en maintenant une faible réflexion lumineuse dans le visible. Il est ainsi possible d'obtenir par exemple, une sélectivité > 1,4, voire > 1,5 et même > 1,6 et une réflexion lumineuse de l'ordre de 15 %, voire de l'ordre de 10 %. Cette solution peut en outre permettre d'obtenir une coloration acceptable, notamment en réflexion, en particulier qui ne soit pas dans le rouge. Toutefois, du fait de la complexité de l'empilement et de la quantité de matière déposée, ces empilements à plusieurs couches fonctionnelles coûtent plus cher à fabriquer que des empilements monocouche fonctionnelle. Le but de l'invention est de parvenir à remédier aux inconvénients de l'art antérieur, en mettant au point un nouveau type d'empilement de couches monocouche fonctionnelle, empilement qui présente une faible -4-résistance par carré (et donc une faible émissivité), une transmission lumineuse élevée et une couleur relativement neutre, en particulier en réflexion côté couches (mai aussi côté opposé : � côté substrat �), et que ces propriétés soient de préférence conservées dans une plage restreinte que l'empilement subisse ou non, un (ou des) traitement(s) thermique(s) à haute température du type bombage et/ou trempe et/ou recuit. Un autre but important est de proposer un empilement monocouche fonctionnelle qui présente une émissivité faible tout en présentant une faible réflexion lumineuse dans le visible, ainsi qu'une coloration acceptable, notamment en réflexion, en particulier qui ne soit pas dans le rouge. L'invention a ainsi pour objet, dans son acception la plus large, un substrat verrier muni sur une face principale d'un empilement de couches minces comportant une couche fonctionnelle métallique à propriétés de réflexion dans l'infrarouge et/ou dans le rayonnement solaire, notamment à base d'argent ou d'alliage métallique contenant de l'argent, et deux revêtements antireflet, lesdits revêtements comportant chacun au moins une couche diélectrique, ladite couche fonctionnelle étant disposée entre les deux revêtements antireflet, d'une part la couche fonctionnelle etant éventuellement déposée sur un revêtement de sous-blocage disposé entre le revêtement antireflet sous-jacent et la couche fonctionnelle et d'autre part la couche fonctionnelle étant éventuellement déposée directement sous un revêtement de sur-blocage dispose entre la couche fonctionnelle et le revêtement antireflet sus-jacent, caractérisé en ce que l'épaisseur optique e6o en nm du revêtement antireflet sus-jacent est : e60 = 5 x e40 + a, où e40 est l'épaisseur géométrique en nm de la couche fonctionnelle telle que 13 e40 25, et de préférence 14 e4Ô 18, et où a est un nombre = 25 � 15. a est un nombre de préférence = 25 � 10, voire a est un nombre = 25� 5, qui représente une variable de la définition de l'épaisseur optique, en nm. Par � épaisseur optique e60 en nm du revêtement antireflet sus-jacent � on entend au sens de l'invention l'épaisseur optique totale de la ou de toutes -5- les couches diélectriques de ce revêtement qui est ou sont disposées au-dessus de la couche métallique fonctionnelle, à l'opposé du substrat, ou au-dessus du revêtement de sur-blocage s'il est présent. De même, par � épaisseur optique e20 en nm du revêtement antireflet sous-jacent � on entend au sens de l'invention l'épaisseur optique totale de la ou de toutes les couches diélectriques de ce revêtement qui est ou sont disposées entre le substrat et la couche métallique fonctionnelle ou entre le substrat et le revêtement de sous-blocage s'il est présent. La couche diélectrique qui est au minimum comprise dans chaque revêtement antireflet, comme défini ci-avant, présente un indice optique mesuré à 550 nm compris entre 1,8 et 2,5 en incluant ces valeurs, ou, de préférence, entre 1,9 et 2,3 en incluant ces valeurs. L'empilement selon l'invention est un empilement bas-émissif de telle sorte que la résistance par carré R en ohms par carré de la couche fonctionnelle est, de préférence, telle que : R x e402 - A En outre, pour obtenir un compromis acceptable entre une transmission lumineuse élevée, des couleurs neutres en réflexion et une sélectivité relativement élevée, le rapport E de l'épaisseur optique e20 en nm du revêtement antireflet sous-jacent sur l'épaisseur optique e60 en nm du revêtement antireflet sus-jacent est, de préférence, tel que : 0,3 E 0,7, voire 0,4 E 0,6. Dans une variante particulière, lesdits revêtements antireflet sous-jacent et antireflet sus-jacent comportent chacun au moins une couche diélectrique à base de nitrure de silicium, éventuellement dopé à l'aide d'au moins un autre élément, comme l'aluminium. -6- Dans une variante particulière, la dernière couche du revêtement antireflet sous-jacent, celle la plus éloignée du substrat, est une couche de mouillage à base d'oxyde, notamment à base d'oxyde de zinc, éventuellement dopé à l'aide d'au moins un autre élément, comme l'aluminium. Dans une variante toute particulière, le revêtement antireflet sous-jacent comprend au moins une couche diélectrique à base de nitrure, notamment de nitrure de silicium et/ou de nitrure d'aluminium et au moins une couche de lissage non cristallisée en un oxyde mixte, ladite couche de lissage étant en contact avec une couche de mouillage sus-jacente cristallisée. De préférence, le revêtement de sous-blocage et/ou le revêtement de sur-blocage comprend une couche fine à base de nickel ou de titane présentant une épaisseur géométrique e telle que 0,2 nm e 1,8 nm. Dans une version particulière, au moins une couche fine à base de nickel, et notamment celle du revêtement de sur-blocage, comprend du chrome, de préférence dans des quantités massiques de 80 % de Ni et 20 % de Cr. Dans une autre version particulière, au moins une couche fine à base de nickel, et notamment celle du revêtement de sur-blocage, comprend du titane, de préférence dans des quantités massique de 50 % de Ni et 50 % de Ti. Par ailleurs, le revêtement de sous-blocage et/ou le revêtement de sur- blocage peut comprendre au moins une couche fine à base de nickel présent sous forme métallique si le substrat muni de l'empilement de couches minces n'a pas subi de traitement thermique de bombage et/ou trempe après le dépôt de l'empilement, ledit alliage étant au moins partiellement oxydé si le substrat muni de l'empilement de couches minces a subi au moins un traitement thermique de bombage et/ou trempe après le dépôt de l'empilement. La couche fine à base de nickel du revêtement de sous-blocage et/ou la couche fine à base de nickel du revêtement de sur-blocage lorsqu'elle est présente est, de préférence, directement au contact de la couche fonctionnelle. -7- La dernière couche du revêtement antireflet sus-jacent, celle la plus éloignée du substrat, est, de préférence, à base d'oxyde, déposée de préférence sous stoechiométrique, et notamment est à base de titane (TiOX) ou à base d'oxyde mixte de zinc et d'étain (SnZnOX), éventuellement par un autre élément à raison de 10 % en masse au maximum. L'empilement peut ainsi comporter une dernière couche (� overcoat � en anglais), c'est-à-dire une couche de protection, déposée de préférence sous stoechiométrique. Cette couche se retrouve oxydée pour l'essentiel stoechiométriquement dans l'empilement après le dépôt. Cette couche de protection présente, de préférence, une épaisseur comprise entre 0,5 et 10 nm. Le vitrage selon l'invention incorpore au moins le substrat porteur de l'empilement selon l'invention, éventuellement associé à au moins un autre substrat. Chaque substrat peut être clair ou coloré. Un des substrats au moins notamment peut être en verre coloré dans la masse. Le choix du type de coloration va dépendre du niveau de transmission lumineuse et/ou de l'aspect colorimétrique recherchés pour le vitrage une fois sa fabrication achevée. Le vitrage selon l'invention peut présenter une structure feuilletée, associant notamment au moins deux substrats rigides du type verre par au moins une feuille de polymère thermoplastique, afin de présenter une structure de type verre/empilement de couches minces/feuille(s)/verre. Le polymère peut notamment être à base de polyvinylbutyral PVB, éthylène vinylacétate EVA, polyéthylène téréphtalate PET, polychlorure de vinyle PVC. Le vitrage peut alors présenter une structure de type verre/empilement de couches minces/feuille(s) de polymère. Les vitrages selon l'invention sont aptes à subir un traitement thermique sans dommage pour l'empilement de couches minces. Ils sont donc éventuellement bombés et/ou trempés. Le vitrage peut être bombé et/ou trempé en étant constitué d'un seul substrat, celui muni de l'empilement. Il s'agit alors d'un vitrage dit -8-monolithique �. Dans le cas où ils sont bombés, notamment en vue de constituer des vitrages pour véhicules, l'empilement de couches minces se trouve de préférence sur une face au moins partiellement non plane. Le vitrage peut aussi être un vitrage multiple, notamment un double- vitrage, au moins le substrat porteur de l'empilement pouvant être bombé et/ou trempé. Il est préférable dans une configuration de vitrage multiple que l'empilement soit disposé de manière à être tourné du côté de la lame de gaz intercalaire. Dans une structure feuilletée, le substrat porteur de l'empilement peut être en contact avec la feuille de polymère. Le vitrage peut aussi être un triple vitrage constitué de trois feuilles de verre séparée deux par deux par une lame de gaz. Dans une structure en triple vitrage, le substrat porteur de l'empilement peut être en face 2 et/ou en face 5, lorsque l'on considère que le sens incident de la lumière solaire traverse les faces dans l'ordre croissant de leur numéro. Lorsque le vitrage est monolithique ou multiple du type double-vitrage, triple vitrage ou vitrage feuilleté, au moins le substrat porteur de l'empilement peut être en verre bombé ou trempé, ce substrat pouvant être bombé ou trempé avant ou après le dépôt de l'empilement. Lorsque ce vitrage est monté en double-vitrage il présente, de 20 préférence une sélectivité S > 1,4 voire S > 1,4, ou S > 1,5 voire S > 1,5. L'invention concerne également le procédé de fabrication des substrats selon l'invention, qui consiste à déposer l'empilement de couches minces sur son substrat par une technique sous vide du type pulvérisation cathodique 25 éventuellement assistée par champ magnétique. Il n'est toutefois pas exclu que la première (ou les premières) couche(s) de l'empilement puisse(nt) être déposée(s) par une autre technique, par exemple par une technique de décomposition thermique de type pyrolyse. L'invention concerne en outre un procédé de fabrication d'un 30 empilement selon l'invention dans lequel le revêtement antireflet sus-jacent est déposée selon une épaisseur optique e60i en nm : e60 = 5 x e40 + a , où e4o -9- est l'épaisseur géométrique en nm de la couche fonctionnelle et où a est un nombre = 25 � 15. L'invention concerne en outre l'utilisation du substrat selon l'invention, pour réaliser un double vitrage qui présente une sélectivité S > 1,4, voire S > 1,4, ou S > 1,5 voire S > 1,5. Le substrat selon l'invention peut-être en particulier utilisé pour réaliser une électrode transparente d'un vitrage chauffant ou d'un vitrage électrochrome ou d'un dispositif d'éclairage ou d'un dispositif de visualisation ou d'une cellule photovoltaïque. Avantageusement, la présente invention permet ainsi de réaliser un empilement de couches minces monocouche fonctionnelle présentant dans une configuration vitrage multiple, et notamment double vitrage, une sélectivité importante (S > 1,40), une faible émissivité (EN 3 %) et une esthétique favorable (TLV;S > 60 %, RLV;S 30 %, couleurs neutres en réflexion), alors que jusqu'ici, seuls des empilements bicouches fonctionnelles permettaient d'obtenir cette combinaison de critères. L'empilement monocouche fonctionnelle selon l'invention coûte moins cher à produire qu'un empilement bicouches fonctionnelles présentant des caractéristiques similaires. Il est même possible de réaliser dans le cadre de l'invention un empilement monocouche fonctionnelle qui présente une émissivité plus faible qu'un empilement bicouches fonctionnelles qui aurait pourtant une épaisseur totale de couche fonctionnelle supérieure à celle de cet empilement monocouche fonctionnelle. Les détails et caractéristiques avantageuses de l'invention ressortent des exemples non limitatifs suivants, illustrés à l'aide de la figure 1 ci-jointe illustrant un empilement monocouche fonctionnelle selon l'invention, la couche fonctionnelle étant pourvue d'un revêtement de sous-blocage et d'un -10- revêtement de sur-blocage et l'empilement etant en outre pourvu d'un revêtement de protection optionnel. Dans cette figure, les proportions entre les épaisseurs des différentes couches ne sont pas rigoureusement respectées afin de faciliter leur lecture. Par ailleurs, dans tous les exemples ci-après l'empilement de couches minces est déposé sur un substrat 10 en verre sodo-calcique d'une épaisseur de 4 mm. En outre, pour ces exemples, dans tous les cas où un traitement thermique a été appliqué au substrat, il s'agissait d'un recuit pendant environ 8 minutes à une température d'environ 620°C suivi d'un refroidissement à l'air ambiant (environ 20°C), afin de simuler un traitement thermique de bombage ou de trempe. Ainsi, pour chacun des exemples, lorsqu'une caractéristique a été mesurée avant ce traitement thermique elle est classée dans la colonne : BHT et lorsqu'elle a été mesurée après ce traitement thermique elle est classée dans la colonne : AHT. Pour tous les exemples ci-après, pour le montage en double vitrage, l'empilement de couches minces a été déposé en face 2, c'est-à-dire sur la feuille la plus à l'extérieur du bâtiment lorsque l'on considère le sens incident de la lumière solaire entrant dans le bâtiment ; sur sa face tournée vers la lame de gaz. La figure 1 illustre une structure d'empilement monocouche fonctionnelle déposé sur un substrat 10 verrier, transparent, dans laquelle la couche fonctionnelle 40 unique est disposée entre deux revêtements antireflet, le revêtement antireflet sous-jacent 20 situé en dessous de la couche fonctionnelle 40 en direction du substrat 10 et le revêtement antireflet sus-jacent 60 disposé au-dessus de la couche fonctionnelle 40 à l'opposé du substrat 10. Ces deux revêtements antireflet 20, 60, comportent chacun au moins une couche diélectrique 22, 24, 26 ; 62, 64, 66. -11- Eventuellement, d'une part la couche fonctionnelle 40 peut être déposée sur un revêtement de sous-blocage 30 disposé entre le revêtement antireflet sous-jacent 20 et la couche fonctionnelle 40 et d'autre part la couche fonctionnelle 40 peut être déposée directement sous un revêtement de sur- blocage 50 disposé entre la couche fonctionnelle 40 et le revêtement antireflet sus-jacent 60. Sur la figure 1 on constate que le revêtement antireflet 20 inférieur comporte trois couches antireflet 22, 24 et 26 , que le revêtement antireflet 60 supérieur comporte deux couches antireflet 62, 64, et que ce revêtement antireflet 60 se termine par une couche de protection optionnelle 66, en particulier à base d'oxyde, notamment sous stoechiométrique en oxygène. Selon l'invention, l'épaisseur optique e6Ô en nm du revêtement antireflet sus-jacent 60 est : e60 = 5 x e40 + a, (relation (1)) où e40 est l'épaisseur géométrique en nm de la couche fonctionnelle 40 telle que 13 e40 25, et de préférence 14 e40 18, et où a est un nombre (pas nécessairement entier) représentant une épaisseur en nm et étant compris entre 25 + 15 et 25 - 15, c'est-à-dire compris entre 40 et 10. Par ailleurs, de préférence, la résistance par carré R en ohms par carré de la couche fonctionnelle 40 en nm (mesurée sans traitement thermique du type bombage, trempe du substrat revêtu de l'empilement) est telle que : R x e402 - A Dans cette formule, Rc désigne la résistance par carré, t désigne l'épaisseur du film mince en nm, p désigne la résistivité intrinsèque du -12 - matériau formant la couche mince et Y correspond à la réflexion spéculaire ou diffuse des porteurs de charges au niveau des interfaces. L'invention permet d'obtenir une résistivité intrinsèque p telle que p est de l'ordre de 25 Q.nm et une amélioration de la réflexion des porteurs telle que Y est égal ou inférieur à 600 (nm)20hms. Des valeurs très faibles de Y peuvent être obtenues par exemple en mettant en oeuvre la technologie divulguée dans la demande internationale de brevet déposée sous le numéro : PCT/FR2008/050009. En outre, de préférence, le rapport E de l'épaisseur optique e20 en nm du revêtement antireflet sous-jacent 20 sur l'épaisseur optique e60 en nm du revêtement antireflet sus-jacent 60 est tel que : 0,3E0,7,voire 0,4E0,6(relation (3)) Une simulation numérique a dans un premier temps été réalisée (exemples 1, 2 et 3 ci-après), puis un empilement de couches minces a effectivement été déposé : l'exemple 4. Le tableau 1 ci-après illustre les épaisseurs en nanomètres de chacune des couches ou des revêtements des exemples 1 à 3 et les principales 20 caractéristiques des ces exemples : -13- Couche Ex. 1 Ex. 2 Ex. 3 Epaisseur optique e20 60 60 60 Epaisseur géométrique 12 16 16 e40 Epaisseur optique e60 88 88 105 a 28 8 25 TL,;S (%) 80,6 77,4 73,9 FS (%) 57,3 50,1 49,6 S 1,39 1,53 1,48 aRg * -0,2 9,0 0,6 bRg * -7,0 0,3 -3,4 Tableau 1 Dans ce tableau, les caractéristiques optiques présentées consistent en : TLV;S, transmission lumineuse TL dans le visible en %, mesurées selon l'illuminant D65, facteur solaire FS sélectivité S correspondant au rapport de la transmission lumineuse TLV;S dans le visible sur le facteur solaire FS tel que : S = TLV;S / FS, et couleurs en réflexion aRg* et bRg* dans le système LAB mesurées selon l'illuminant D65, côté du substrat opposé à la face principale sur laquelle est déposée l'empilement de couches minces, la transmission lumineuse TLV;S, le facteur solaire FS et la sélectivité S étant considérés dans la configuration double-vitrage 4-16 (Ar 90%)-4. Pour l'exemple 1, un empilement monocouche argent a été modélisé afin que l'épaisseur optique e60 en nm du revêtement antireflet sus- jacent 60 vérifie la relation (1) avec a = 28. La sélectivité est faible pour cette épaisseur d'argent : S = 1,39. En augmentant l'épaisseur d'argent de l'empilement à 16 nm, sans changer les épaisseurs de diélectriques, afin d'obtenir l'exemple 2, la valeur - 14 - de a trouvée est hors de la relation (1) : a = 8. Si la sélectivité est très bonne du fait de l'abaissement du facteur solaire, le produit n'est pas acceptable en ce qu'il présente une couleur rouge en réflexion, comme le traduit la valeur élevée de aRg . En adaptant l'épaisseur du revêtement antireflet sus-jacent 60 de façon à vérifier la relation (1) avec a = 25, afin d'obtenir l'exemple 3, on retrouve une esthétique convenable, et la sélectivité reste bonne : S = 1,48. L'exemple 4 a été réalisé sur la base de la structure d'empilement monocouche fonctionnelle illustrée figure 1 dans laquelle la couche fonctionnelle 40 est pourvue d'un revêtement de sous-blocage 30 et d'un revêtement de sur-blocage 50 respectivement immédiatement sous et immédiatement sur la couche fonctionnelle 40. Toutefois, dans le cadre de l'exemple 4, il n'y a pas eu de revêtement de sous-blocage 30. Dans la structure d'empilement par ailleurs, un revêtement antireflet 20 inférieur est déposé immédiatement sous le revêtement de sous-blocage 30 et au contact du substrat 10 et un revêtement antireflet 60 supérieur est déposé immédiatement sur le revêtement de sur-blocage 50. Le tableau 2 ci-après illustre les épaisseurs géométriques (et non pas les épaisseurs optiques) en nanomètres de chacune des couches de l'exemple 4 : Couche Matériau Ex. 4 66 SnZnOX:Sb 4 64 Si3N4:Al 28 62 ZnO:Al 20 50 NiCr 1 40 Ag 15,6 26 ZnO:Al 4 24 SnZnOX:Sb 5 22 Si3N4:Al 19 Tableau 2 -15- Conformément à l'enseignement de la demande internationale de brevet N° WO 2007/101964, le revêtement antireflet sous-jacent 20 comprend une couche diélectrique 22 à base de nitrure de silicium et au moins une couche de lissage 24 non cristallisée en un oxyde mixte, en l'occurrence un oxyde mixte de zinc et d'étain qui est ici dopé à l'antimoine (déposé à partir d'une cible métallique constitué des rapports massiques 65:34:1 respectivement pour Zn:Sn:Sb), ladite couche de lissage 24 étant en contact avec ladite couche de mouillage 26 sus-jacente. Dans cet empilement, la couche de mouillage 26 en oxyde de zinc dopé à l'aluminium ZnO:Al (déposé à partir d'une cible métallique constitué de zinc dopé à 2 % en masse d'aluminium) permet d'améliorer la cristallisation de l'argent, ce qui améliore sa conductivité ; cet effet est accentué par l'emploi de la couche de lissage amorphe de SnZnOX:Sb, qui améliore la croissance de ZnO et donc de l'argent. Les couches en nitrure de silicium 22, 64 sont en Si3N4 dopé à 10 % en masse d'aluminium. Cet empilement présente de plus l'avantage d'être trempable. L'épaisseur du revêtement antireflet sus-jacent 60 vérifie la relation (1). En théorie, selon cette relation, l'épaisseur optique e60 en nm devrait être de 103 pour une valeur a = 25. En pratique, une épaisseur optique e60 en nm de 105 a été mesurée, ce qui donne une valeur a = 27. L'épaisseur optique e20 en nm du revêtement antireflet sous-jacent 20 est : e20 = 63. Le rapport E des épaisseurs optiques E = e20 / e60 est de 0,6 ; il vérifie donc bien la relation (3). Les caractéristiques de résistivité, optiques et énergétiques de cet exemple sont reportées dans le tableau 3 ci-après : Dans ce tableau, les caractéristiques optiques présentées consistent en : -16- TLV;S, transmission lumineuse TL dans le visible en %, mesurées selon l'illuminant D65, qui est > 50 % et même > 60 %, RLV;S, réflexion lumineuse RL dans le visible en %, mesurée côté extérieur du double vitrage, selon l'illuminant D65, qui est 35 % et même30%, couleurs en réflexion aRg* et bRg* dans le système LAB mesurées selon l'illuminant D65, côté du substrat opposé à la face principale sur laquelle est déposée l'empilement de couches minces, qui sont neutres, légèrement dans le bleu, facteur solaire FS qui est 50 %, et même 45 %, sélectivité S = TLV;S / FS et qui est > 1,4, et même > 1,5, la transmission lumineuse TLV;S, la réflexion lumineuse RLV;S, le facteur solaire FS et la sélectivité S étant considérés dans une configuration double-vitrage 4-16 (Ar 90%)-4. Ex. R TLvis RLv;S(%) aRg * bRg * FS S (ohms/ ) (%) (%) 4 BHT 2,4 64,5 26,4 -0,2 -11,1 43,4 1,5 4 AHT 1,9 66,7 25,7 1,9 -6,5 44,4 1,5 Tableau 3 Ainsi, la résistance par carré de l'empilement tant avant qu'après traitement thermique de l'exemple 4 selon l'invention est toujours inférieure à 3 ohms par carré et elle se traduit par une émissivité normale EN dans la plage de 1 à 2,5 % avant traitement thermique et dans la plage de 1 à 2 % après traitement thermique. Par ailleurs, 25 x e40 = 390, et R x e402 - 580 = 4,064 ; ce qui est bien inférieur à 390. La résistance par carré R de la couche fonctionnelle 40 avant traitement thermique vérifie donc bien : R x e402 - A L'empilement de l'exemple 4 est ainsi un empilement trempable au sens de l'invention puisque la variation de transmission lumineuse dans le visible est inférieure 5 et même inférieure à 3. Il est donc difficile de distinguer des substrats selon l'exemple 4 ayant subi un traitement thermique de substrats respectivement de ce même exemple n'ayant pas subi de traitement thermique, lorsqu'ils sont disposés côte à côte. En outre, la résistance mécanique de l'empilement selon l'invention est très bonne grâce à la présence de la couche de protection 66. Par ailleurs, la tenue chimique générale de cet empilement de l'exemple 25 4 est globalement bonne. Du fait de l'épaisseur important de la couche d'argent (et donc de la faible résistance par carré obtenue) ainsi que des bonnes propriétés optiques (en particulier la transmission lumineuse dans le visible), il est possible, par 30 ailleurs d'utiliser le substrat revêtu de l'empilement selon l'invention pour réaliser un substrat électrode transparent. - 18 - Ce substrat électrode transparent peut convenir pour un dispositif électroluminescent organique, en particulier en remplaçant la couche 64 en nitrure de silicium de l'exemple 4 par une couche conductrice (avec en particulier une résistivité inférieur à 105 Q.cm) et notamment une couche à base d'oxyde. Cette couche peut être par exemple en oxyde d'étain ou à base d'oxyde de zinc éventuellement dopé Al ou Ga, ou à base d'oxyde mixte et notamment d'oxyde d'Indium et d'étain ITO, d'oxyde d'Indium et de zinc IZO, d'oxyde d'étain et de zinc SnZn éventuellement dopé (par exemple avec Sb, F). Ce dispositif électroluminescent organique peut être utilisé pour réaliser un dispositif d'éclairage ou un dispositif de visualisation (écran). D'une manière générale, le substrat électrode transparent peut convenir pour vitrage chauffant, pour tout vitrage électrochrome, tout écran de visualisation, ou encore pour une cellule photovoltaïque et notamment pour une face arrière de cellule photovoltaïque transparente. La présente invention est décrite dans ce qui précède à titre d'exemple. Il est entendu que l'homme du métier est à même de réaliser différentes variantes de l'invention sans pour autant sortir du cadre du brevet tel que défini par les revendications. REVENDICATIONS 1. Substrat (10) transparent muni sur une face principale d'un empilement de couches minces comportant une couche fonctionnelle (40) métallique à propriétés de réflexion dans l'infrarouge et/ou dans le rayonnement solaire, notamment à base d'argent ou d'alliage métallique contenant de l'argent, et deux revêtements antireflet (20, 60), lesdits revêtements comportant chacun au moins une couche diélectrique (22, 24, 26 ; 62, 64, 66), ladite couche fonctionnelle (40) étant disposée entre les deux revêtements antireflet (20, 60), d'une part la couche fonctionnelle (40) étant éventuellement déposée sur un revêtement de sous-blocage (30) disposé entre le revêtement antireflet sous-jacent (20) et la couche fonctionnelle (40) et d'autre part la couche fonctionnelle (40) étant éventuellement déposée directement sous un revêtement de sur-blocage (50) disposé entre la couche fonctionnelle (40) et le revêtement antireflet sus-jacent (60), caractérisé en ce que l'épaisseur optique e60 en nm du revêtement antireflet sus-jacent (60) est : e60 = 5 x e40 + a, où e40 est l'épaisseur géométrique en nm de la couche fonctionnelle (40) telle que 13 e40 25, et de préférence 14 e40 18, et où a est un nombre = 25 � 15. 2. Substrat (10) selon la revendication précédente, caractérisé en ce que a est un nombre = 25 � 10, voire a est un nombre = 25 � 5. 3. Substrat (10) selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que la résistance par carré R en ohms par carré de la couche fonctionnelle (40) est telle que : R x e402 - A 4. Substrat (10) selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que le rapport E de l'épaisseur optique e20 en nm du revêtement antireflet sous-jacent (20) sur l'épaisseur optique e60 en nm-20 - du revêtement antireflet sus-jacent (60) est tel que : 0,3 E 0,7, voire 0,4 E 0,6. 5. Substrat (10) selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que lesdits revêtements antireflet sous- jacent (20) et antireflet sus-jacent (60) comportent chacun au moins une couche diélectrique (22, 64) à base de nitrure de silicium, éventuellement dopé à l'aide d'au moins un autre élément, comme l'aluminium. 6. Substrat (10) selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que la dernière couche du revêtement antireflet sous-jacent (20), celle la plus éloignée du substrat, est une couche de mouillage (26) à base d'oxyde, notamment à base d'oxyde de zinc, éventuellement dopé à l'aide d'au moins un autre élément, comme l'aluminium. 7. Substrat (10) selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que le revêtement antireflet sous-jacent (20) comprend au moins une couche diélectrique (22) à base de nitrure, notamment de nitrure de silicium et/ou de nitrure d'aluminium et au moins une couche de lissage (24) non cristallisée en un oxyde mixte, ladite couche de lissage (24) étant en contact avec une couche de mouillage (26) sus-jacente cristallisée. 8. Substrat (10) selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que le revêtement de sous-blocage (30) et/ou le revêtement de sur-blocage (50) comprend une couche fine à base de nickel ou de titane présentant une épaisseur géométrique e telle que 0,4 nm e 1,8 nm. 9. Substrat (10) selon la revendication précédente, caractérisé en ce qu'au moins une couche fine à base de nickel, et notamment celle du revêtement de sur-blocage (50), comprend du chrome, de préférence dans des quantités massique de 80 % de Ni et de 20 % de Cr.- 21 - 10. Substrat (10) selon la revendication 8, caractérisé en ce qu'au moins une couche fine à base de nickel, et notamment celle du revêtement de sur-blocage (50), comprend du titane, de préférence dans des quantités massique de 50 % de Ni et 50 % de Ti. 11. Substrat (10) selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que le revêtement de sous-blocage (30) et/ou le revêtement de sur-blocage (50) comprend au moins une couche fine à base de nickel présent sous forme métallique si le substrat muni de l'empilement de couches minces n'a pas subi de traitement thermique de bombage et/ou trempe après le dépôt de l'empilement, ledit alliage étant au moins partiellement oxydé si le substrat muni de l'empilement de couches minces a subi au moins un traitement thermique de bombage et/ou trempe après le dépôt de l'empilement. 12. Substrat (10) selon l'une quelconque des revendications 8 à 11, caractérisé en ce que la couche fine à base de nickel du revêtement de sous-blocage (30) et/ou la couche fine à base de nickel du revêtement de sur-blocage (50) est directement au contact de la couche fonctionnelle (40). 13. Substrat (10) selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que la dernière couche du revêtement antireflet sus-jacent (60), celle la plus éloignée du substrat, est à base d'oxyde, déposée de préférence sous stoechiométrique, et notamment est à base de titane (TiOX) ou à base d'oxyde mixte de zinc et d'étain (SnZnOX). 14. Vitrage incorporant au moins un substrat (10) selon l'une quelconque des revendications précédentes, éventuellement associé à au moins un autre substrat. 15. Vitrage selon la revendication précédente monté en monolithique ou en vitrage multiple du type double-vitrage ou triple vitrage ou vitrage feuilleté, caractérisé en ce qu'au moins le substrat porteur de l'empilement est bombé et/ou trempé.- 22 - 16. Vitrage selon la revendication 14 ou 15 monté en double-vitrage, caractérisé en ce qu'il présente une sélectivité S > 1,4 voire S > 1,4, ou S > 1,5 voire S > 1,5. 17. Procédé de fabrication d'un substrat (10) verrier muni sur une face principale d'un empilement de couches minces, notamment du substrat selon l'une quelconque des revendications 1 à 13, l'empilement comportant une couche fonctionnelle (40) métallique à propriétés de réflexion dans l'infrarouge et/ou dans le rayonnement solaire, notamment à base d'argent ou d'alliage métallique contenant de l'argent, et deux revêtements antireflet (20, 60), lesdits revêtements comportant chacun au moins une couche diélectrique (24, 64), ladite couche fonctionnelle (40) étant disposée entre les deux revêtements antireflet (20, 60), d'une part la couche fonctionnelle (40) étant éventuellement déposée sur un revêtement de sous-blocage (30) disposé entre le revêtement antireflet sous-jacent (20) et la couche fonctionnelle (40) et d'autre part la couche fonctionnelle (40) étant éventuellement déposée directement sous un revêtement de sur-blocage (50) disposé entre la couche fonctionnelle (40) et le revêtement antireflet sus-jacent (60), caractérisé en ce que le revêtement antireflet (60) sus-jacent est déposée selon une épaisseur optique e60i en nm : e60 = 5 x e40 + a , où e40 est l'épaisseur géométrique en nm de la couche fonctionnelle (40) et où a est un nombre = 25 � 15. 18. Utilisation du substrat selon l'une quelconque des revendications 1 à 13, pour réaliser un double vitrage qui présente une sélectivité S > 1,4 voire S > 1,4, ou S > 1,5 voire S > 1,5. 19. Utilisation du substrat selon l'une quelconque des revendications 1 à 13, pour réaliser une électrode transparente d'un vitrage chauffant ou d'un vitrage électrochrome ou d'un dispositif d'éclairage ou d'un dispositif de visualisation ou d'une cellule photovoltaïque.