Brevet FR2933310A1 — publié le 20100108

Domaine de l'invention L'invention concerne : - un plateau de colonne de mise en contact gaz-liquide équipé d'une chambre liquide avec injection optimisée des phases gaz et liquide permettant un cisaillement amélioré ; - une colonne de mise en contact gaz-liquide comportant au moins un plateau équipé d'une chambre liquide selon l'invention ; une méthode de mise en contact gaz-liquide utilisant une colonne comportant au moins un plateau équipé d'une chambre liquide selon l'invention. L'invention s'applique au traitement de tout effluent gazeux, plus précisément au captage du CO2 ou au traitement du gaz naturel par exemple. L'invention s'applique également à la distillation ou à la distillation réactive. Cadre de l'invention et description de l'art antérieur : Les plateaux de colonne pour colonnes de distillation de lavage ou de traitement de gaz ont été développés depuis de nombreuses années et leur dimensionnement est bien établi pour ce qui relève de plateaux standards (cf. Figure 1) (cf. par exemple Engineering Data Book edited by Gas Processors Association, 1998). Les plateaux sont essentiellement mis au point à partir des règles établies par les applications de distillation, et rarement pour des applications de traitement de gaz, qui ne sont pas du tout limitées par les mêmes phénomènes. Dans le cas des applications de distillation, les équilibres thermodynamiques sont extrêmement limitants et les plateaux actuels obtiennent des efficacités proches de 100 %. On définit l'efficacité comme le ratio entre la conversion obtenue avec le plateau réel et celle obtenue pour un plateau théorique parfaitement mélangé. Les phénomènes de transfert sont peu limitants, et il faut privilégier les aspects thermodynamiques. Dans le cas des applications d'absorption réactive, comme par exemple, de manière non limitative, le traitement des gaz par un lavage aux amines, les efficacités des plateaux sont très faibles, de l'ordre de 20%. Par conséquent, les 1 aspects thermodynamiques sont peu limitants et les contraintes liées au transfert de masse deviennent prépondérantes. Actuellement, la phase gaz et la phase liquide sont mises en contact sur le plateau. Une technologie relativement simple et ancienne est le plateau perforé, à travers lequel le gaz circule de manière ascendante, et rencontre le liquide qui s'écoule perpendiculairement sur le plateau. De nombreuses technologies ont par la suite été développées avec pour principal objectif d'améliorer le contact entre le gaz et le liquide. Ainsi, on a pu voir l'apparition de plateaux à calottes, à fentes, à cloches ou à clapets. Ces dispositifs ont tous pour objectif de disperser le gaz dans la phase liquide de manière efficace. Pour cela, des restrictions de surface de passage provoquent des accélérations importantes de la phase gaz. Aucune de ces technologies ne comprend un dispositif permettant d'accélérer le liquide et de lui faire rencontrer le gaz à forte vitesse. Afin de retrouver une efficacité convenable pour les plateaux de colonne d'absorption réactive, tout en améliorant le contact gaz-liquide, il convient de mettre au point un système permettant d'améliorer le cisaillement entre les deux phases et donc le transfert. En effet, il apparaît nécessaire d'améliorer notablement le transfert de matière entre le gaz et le liquide, notamment dans la zone immédiatement en aval de la chambre liquide. En effet, dans la partie haute de la dispersion gaz/liquide, il y a nécessairement coalescence des bulles et diminution inévitable de l'efficacité. Le système de chambre liquide décrit dans la présente invention permet de fortement accélérer le liquide et le gaz, et de les mettre en contact immédiatement. Le cisaillement entre les deux phases est alors important, provoquant un renouvellement continuel de la surface de contact entre le gaz et le liquide. Description de l'invention Résumé de l'invention 30 L'invention concerne un plateau de colonne de contact gaz-liquide, qui comprend une chambre de liquide (13B) munie d'orifices (14B) sur sa face supérieure déterminés pour accélérer le liquide en aval desdits orifices, des moyens d'injection du gaz vers ladite face supérieure situés à proximité desdits orifices pour constituer 35 des moyens de cisaillement gaz-liquide. Avantageusement les moyens d'injection du gaz comprennent un tube vertical (15B) coaxial avec un des orifices (14B) formant une couronne de passage liquide située entre la paroi du tube (15B) et ledit orifice (14B). Dans un premier mode de réalisation, les moyens d'injection comprennent des moyens d'obturation partielle du tube (15B), de préférence une plaque circulaire formant couronne pour le passage du gaz (16B) ou un clapet (19E) à l'extrémité du tube (15). Dans un autre mode de réalisation, les moyens d'injection du gaz comportent un venturi, lesdits orifices de passage du liquide débouchant en aval du venturi. De préférence, ledit venturi est formé par un rétrécissement d'un tube d'injection 10 du gaz (15F). L'extrémité du tube vertical (15B) peut affleurer la face supérieure de la chambre de liquide ou être située à l'intérieur de la chambre de liquide. 15 L'invention concerne également une colonne de contact gaz-liquide comprenant au moins un plateau tel que décrit précédemment. L'invention concerne enfin une méthode de mise en contact gaz-liquide dans laquelle : 20 - on dispose un plateau de colonne de contact gaz-liquide qui comprend une chambre de liquide (13B) munie d'orifices (14B) sur sa face supérieure, - on détermine lesdits orifices pour accélérer le liquide, - on constitue des moyens de cisaillement gaz-liquide en plaçant des moyens d'injection du gaz vers ladite face supérieure à proximité desdits orifices. 25 Dans un mode de réalisation, on dispose l'injection du gaz coaxialement auxdits orifices. Dans un autre mode de réalisation, les moyens d'injection du gaz comprennent un 30 venturi, et on accélère le liquide en plaçant lesdits orifices (21F) en aval du venturi. Ladite méthode peut être avantageusement utilisée pour au moins l'une des applications suivantes: le captage du CO2, le traitement de gaz. la distillation réactive ou non.5 Description détaillée de l'invention La présente invention (cf. Figures 4, 5 et 6) consiste à réaliser un plateau disposant d'une chambre liquide, munie d'un ou plusieurs dispositifs d'injection coaxiale du gaz et du liquide comprenant des moyens de cisaillement gaz-liquide. La chambre liquide est équipée d'orifices situés sur le dessus. La phase liquide provenant du plateau amont se répartit dans la chambre, puis est évacuée vers le haut au niveau des orifices, en même temps que le gaz provenant du plateau situé au-dessous. Dans un mode de réalisation, la phase gaz provenant du plateau inférieur circule dans des tubes verticaux qui traversent de part et d'autre la chambre liquide. Ces tubes débouchent alors au-dessus de ladite chambre liquide, au niveau des orifices précédemment décrits. Les orifices permettant le passage du liquide sont généralement situés au plus près des tubes contenant le gaz, et de manière plus préférée entourent les tubes sous forme de couronnes. A l'échelle d'un plateau, on passe d'un écoulement croisé gaz-liquide à un écoulement vertical co-courant, contrairement aux plateaux classiques. Le dispositif d'injection conjointe gaz-liquide comprend le tube vertical et la couronne formée entre la paroi du tube et le bord de l'orifice. Le dispositif de la présente invention permet d'assurer un très fort cisaillement entre le gaz et le liquide générant ainsi de nombreuses bulles de petite taille qui se renouvellent à grande vitesse. La création de bulles et leur renouvellement est très favorable au transfert de matière gaz/liquide, dont le paramètre principal est l'aire interfaciale entre les deux phases. Cet effet de cisaillement est obtenu par des moyens de cisaillement au sein de la chambre liquide. Ces moyens peuvent opérer notamment par effet d'obstruction (au moyen d'une plaque sensiblement horizontale obstruant partiellement la sortie du tube) ou par effet de rétrécissement de la section de passage gaz (effet venturi : tube de diamètre inférieur en sortie). Mode de réalisation avec effet d'obstruction Dans ce cas, le contact entre le gaz et le liquide est favorisé en utilisant des tubes simples, de diamètres de tube compris entre 1 et 10 cm, et de manière préférée entre 3 et 5 cm et une épaisseur de couronne côté liquide comprise entre 0.5 et 5 cm, et de manière préférée entre 0.5 et 1 cm. Dans ce cas, la vitesse liquide au 4 niveau du passage restreint est au moins supérieure à 0.5 m/s. Un compromis entre cette vitesse et la perte de charge du plateau est à trouver. En effet, une réduction trop importante de la section de passage va entraîner une augmentation de la perte de charge, et par conséquence une augmentation forte du niveau liquide dans le déversoir amont (jusqu'à éventuellement un engorgement complet du déversoir et du plateau). Dans ce mode de réalisation, la sortie du tube est partiellement obturée par une plaque horizontale. Seule une couronne subsiste alors pour laisser passer le gaz. Des pattes de fixation maintiennent la plaque horizontale précédemment citée sur le tube. La réduction de la surface de passage à la sortie du tube permet d'accélérer fortement le gaz. Pour cette couronne côté gaz, on choisira un entrefer compris entre 0.2 et 1 cm et de manière préférée entre 0.5 et 0.7 cm. La vitesse locale du gaz au niveau de la restriction de passage est de l'ordre de 20 m/s. De manière très préférée, le système selon l'invention comprend deux couronnes placées de façon coaxiale, une alimentée en liquide et l'autre alimentée en gaz. Les fortes vitesses des deux phases permettent d'améliorer considérablement le contact gaz/liquide. Une variante de ce mode de réalisation (cf. Figure 7) consiste à considérer une sortie différente pour le tube gaz. Dans ce cas, la sortie du tube comprend un dispositif pour dévier le gaz. En présence d'une pièce, de type "clapet", le mouvement du gaz devient majoritairement horizontal. Dans ce cas, aux abords du clapet, se situe le point de rencontre entre le gaz majoritairement en mouvement horizontal et le liquide en mouvement vertical. Cette configuration tend à favoriser le cisaillement gaz/liquide et ainsi à créer des bulles de gaz de petite taille. Dans cette configuration de l'invention et dans celle de la variante, la zone, située immédiatement en aval de ladite chambre liquide, est constituée de bulles de faible diamètre, augmentant considérablement l'aire interfaciale gaz/liquide. La chambre liquide et le contact spécifique entre le gaz et le liquide permettent un gain important en efficacité. Au-dessus de la chambre liquide, le volume de contact entre la phase gaz et la phase liquide s'étend jusqu'au déversoir. Celui-ci peut être dénué de tout interne, mais de façon privilégiée des plaques perforées à fort taux d'ouverture ou la mise en place de garnissages (vracs ou structurés) est fortement préconisé. Mode de réalisation avec effet Venturi Dans un autre mode de réalisation de l'invention (cf. Figure 8), la mise en contact entre le gaz et le liquide est réalisée au sein même des tubes de la chambre liquide, au moyen de tubes modifiés par exemple. Le gaz alimente ces tubes précédemment cités et subit une accélération importante à cause d'une restriction de sa surface de passage. Le diamètre au niveau de la restriction de passage gaz est compris entre 1 et 8 cm, et de manière préférée entre 2 et 5 cm. Le liquide quant à lui entre dans les tubes latéralement par des orifices et rencontre le tube d'injection de gaz. Le diamètre des orifices est compris entre 0.5 et 2 cm, et de manière préférée entre 0.5 et 1 cm. Le nombre d'orifices autour du tube est compris entre 1 et 4, et de manière préférée entre 2 et 3. Le liquide suit ensuite un mouvement vertical ascendant, à cause du tube d'injection gaz qui constitue un obstacle. La présence de baffles provoque une accélération du liquide en amont de la mise en contact avec le gaz. Les fortes vitesses des deux phases provoquent la formation de bulles de petite taille au niveau du point de rencontre situé au-dessus du tube d'injection gaz. Par effet Venturi, le liquide est aspiré par le gaz, ce qui favorise l'accélération et le contact intime entre les deux phases. La dispersion gaz liquide se dirige alors vers la sortie du tube de la chambre liquide avec une surface de contact sensiblement élevée, avant de rejoindre la zone de contact sur le plateau. Ce dispositif présente plusieurs avantages : - la formation de bulles de très petite taille dans la zone proche de la chambre liquide. L'invention permet la diminution d'un facteur 10 de la taille des bulles. Grâce à l'invention précédemment décrite, il est possible de créer des bulles de diamètre 2 mm, quand leur diamètre est de 2 cm dans une configuration standard de plateau. - des transferts de masse gaz liquide très efficaces dans une zone locale proche de la sortie des tubes gaz et des orifices laissant passer le liquide. Le gain en efficacité peut être quantifié par une augmentation importante de l'aire interfaciale gaz/liquide d'un facteur 10, cela sur une fraction de la dispersion gaz/liquide totale comprise entre 5 et 50 %, valeur dépendant de la hauteur de déversoir comprise entre 10 cm et plusieurs mètres et de façon préférée entre 50 cm et 1 m. L'invention permet d'atteindre des aires interfaciales de l'ordre de 600 m2/m3 dans la zone proche de la chambre liquide, alors que les valeurs pour un plateau standard sont de l'ordre de 60 m2/m3. Cet avantage doit permettre de réduire la hauteur des colonnes d'absorption actuelles de 20 à 50 %, en diminuant le nombre de plateaux (cf. Figure 2). - cette configuration du plateau est favorable à une bonne distribution des phases liquide et gaz, notamment pour les colonnes de grand diamètre. D'une part, la phase liquide est uniformément répartie sur le plateau grâce à la résistance générée par les orifices. D'autre part, la présence de la couronne gaz à la sortie des tubes, ou de dispositifs de type "clapets", ou bien encore de tubes rétrécis en sortie assure la distribution côté gaz. Par ailleurs, il peut être avantageux d'associer au système selon l'invention, en particulier pour les colonnes de grand diamètre, des plateaux de colonnes comportant un barrage de rétention liquide d'une hauteur supérieure aux barrages conventionnels -par exemple ayant une hauteur H de barrage telle que le rapport H/D entre la hauteur de barrage et le diamètre de colonne D soit supérieur à 0.05, voire supérieur à 0.07- de préférence et à écoulement co-courant. Le gain très important sur le transfert de matière observé grâce au dispositif de la présente invention de mise en contact des phases gaz et liquide est maintenu à un bon niveau grâce à l'utilisation de hauteurs de barrage liquide importantes (hauts déversoirs). La présence d'internes peut permettre également de continuer à assurer un contact intime entre le gaz et le liquide. Exemple de mise en oeuvre : Cas d'une décarbonatation par lavage aux amines On considère dans cet exemple une colonne d'absorption de diamètre 1.5 m et composée de 17 plateaux (l'espace inter-plateau étant de 600 mm). Le mode de réalisation illustré ici à titre non limitatif est celui d'un plateau comprenant une chambre liquide munie de tubes obstrués partiellement en sortie par une plaque horizontale, de manière à former une couronne pour le passage du gaz. L'exemple concerne le traitement d'un gaz acide contenant environ 20 % de CO2 avec une amine de type DEA (diéthanolamine 30 % poids). Le profil de concentration en CO2 dans la colonne (équipée en plateaux standards), tel que calculé par un simulateur de procédés, en considérant les aspects cinétiques, thermodynamiques et hydrodynamiques du système CO2 / DEA est représenté sur la Figure 10. La teneur en CO2 à la sortie est de 3000 ppm avec un plateau standard. Dans le cas de la présente invention, l'aire interfaciale est fortement augmentée dans une zone locale au-dessus de la chambre liquide. Ainsi, on considère que l'injection originale du gaz et du liquide sur le plateau permet d'augmenter l'aire interfaciale d'un facteur 10 sur une hauteur correspondant à 10 °h de l'espacement inter-plateau. La valeur de hauteur associée h (cf. Figure 9) est de 6 cm. Dans ce cas, la teneur en CO2 à la sortie de la colonne a diminué pour atteindre 280 ppm. Le profil de CO2 obtenu est joint à celui du plateau standard et est représenté sur la Figure 10. Une autre façon de mettre en évidence le caractère avantageux de l'invention est de s'intéresser au gain de hauteur potentiel qu'un tel système peut amener. Pour cela, la teneur cible en CO2 à la sortie de la colonne est fixée à 3000 ppm. Dans le cas des plateaux standards, 17 plateaux sont nécessaires pour atteindre la performance. Dans le cas de la présente invention, la performance est atteinte avec 12 plateaux, pour une hauteur h de 6 cm. Ainsi, l'invention doit permettre de réduire potentiellement la hauteur de la colonne de 30 %. Description des figures La figure 1 représente le schéma d'une colonne équipée de 12 plateaux standard (3). Le gaz entre en fond de colonne (1E) et sort en tête de colonne (1S). Le liquide entre en tête de colonne (2E) et sort en fond de colonne (2S). La figure 2 représente le schéma d'une colonne équipée de 8 plateaux équipés de chambres liquides (4) correspondant à la présente invention. La circulation des fluides à l'échelle de la colonne reste inchangée : le gaz entre en fond de colonne (1E) et sort en tête de colonne (1S). Le liquide entre en tête de colonne (2E) et sort en fond de colonne (2S). La figure 3 représente le schéma d'un plateau standard. La phase liquide issue du plateau supérieur tombe dans un déversoir (4) dans une direction essentiellement verticale descendante (flèche pleine pour la phase liquide) en entraînant du gaz avec elle ; le gaz se désengage et la phase liquide devient claire, dépourvue de toute phase gaz, dans la jambe de descente (5). Le liquide peut s'écouler sur le plateau selon une direction essentiellement horizontale dans la zone de contact (6). Le liquide franchit le barrage (7) pour tomber à nouveau vers le plateau inférieur (n-1) dans la zone (8). Le gaz suit un mouvement essentiellement vertical (flèches en pointillés). Il provient de l'espace inter plateau) en (9) pour traverser le plateau en (10), puis la zone de contact gaz liquide (6). Il se désengage des gouttes de liquide entraînées dans la zone (11), et arrive dans la zone inter plateau dépourvue de phase liquide (12), qui est identique à la zone (9). La figure 4 représente le premier mode de réalisation d'un plateau selon la présente invention, dans lequel le cisaillement est amélioré par une obstruction de la sortie du tube gaz. Comme pour le plateau standard, la phase liquide issue du plateau supérieur (n) tombe dans un déversoir (4B). Après désengagement du gaz entraîné, elle devient claire dans la jambe de descente (5B). Le liquide s'écoule alors dans la chambre liquide (13B) selon une direction horizontale sur le plateau. Après le remplissage complet de la chambre, le liquide est évacué au niveau de couronnes (14B) entourant les tubes gaz (15B), l'ensemble formé par la couronne et le tube constituant le dispositif d'injection (18B). Le liquide est fortement accéléré en raison de la faible surface de passage. Le gaz suit un mouvement essentiellement vertical (flèches en pointillés). Il provient du plateau inférieur (n-1) et entre ensuite dans les tubes gaz (15B). A la sortie des tubes, le gaz passe à travers des couronnes (16B), formées par obturation partielle des extrémités du tube, où il est fortement accéléré comme le liquide. Les fortes accélérations des deux phases permettent d'intensifier fortement le contact entre le gaz et le liquide. Le gaz et le liquide suivent alors un mouvement essentiellement co-courant vertical dans la zone de contact (6B). Dans le cas d'une application avec des déversoirs optimisés par augmentation de la hauteur de barrage de rétention liquide tels que décrits précédemment, les zones hachurées correspondent à des internes de contact (17B), qui peuvent être ajoutés de manière à maintenir l'aire interfaciale entre le gaz et le liquide élevée dans toute la zone de contact (6B). Le liquide franchit ensuite le barrage (7B) pour tomber à nouveau vers le plateau inférieur dans le déversoir (8B). La zone de désengagement du gaz (11B) se situe au-dessus de la zone de contact (6B). La figure 5 est une vue en coupe A-A de la figure 4 d'un plateau selon l'invention; Le liquide provenant du plateau situé au-dessus s'écoule dans le déversoir (4C). Les couronnes par lesquelles passent le liquide (14C) et le gaz (16C) sont représentées au niveau de chaque dispositif d'injection (18C). Ces dispositifs sont avantageusement répartis sur toute la surface de la zone de contact (6C), avec de préférence un pas triangulaire. Après avoir été mis en contact avec le gaz, le liquide est évacué vers le plateau inférieur par le déversoir (8C). La figure 6 regroupe des vues tridimensionnelles de la chambre liquide (a et b) et d'un tube gaz avec la mise en évidence des couronnes d'injection gaz et liquide (c et d). Les vues de dessous et de dessus des dispositifs d'injection sont représentées en a) et b). Un élément a été isolé en vue de dessous et de dessus respectivement en c) et d). Le gaz entre dans le tube (15D) et est accéléré au niveau de la couronne de sortie du tube (16D). Il rencontre le liquide circulant dans la chambre liquide (13D) et évacué par la couronne située autour du tube gaz (14D). La figure 7 représente le schéma d'un plateau selon la présente invention avec présence de dispositifs de type "clapets" à la sortie des tubes gaz. Le schéma est similaire à celui de la Figure 4, hormis la sortie des tubes gaz (15E). A la sortie du tube, le gaz soulève un dispositif de type "clapet" (19E) et suit alors un mouvement horizontal très localement. Il rencontre le liquide qui est évacué de la chambre liquide (13E) dans un mouvement vertical au niveau des couronnes (14E) entourant le tube gaz. La figure 8 représente le schéma d'un plateau selon la présente invention avec présence de tubes modifiés par restriction de la surface de passage gaz, dans lesquels se produit la mise en contact entre le gaz et le liquide. Le gaz est injecté dans les tubes (15F) sous la chambre liquide (13F), puis est accéléré à cause d'une restriction de surface de passage (20F). Le liquide circulant dans la chambre liquide entre dans les tubes au niveau d'orifices (21F). Il est accéléré d'une part par la présence de baffles (22F) et d'autre part par aspiration (effet Venturi). Le contact entre les deux phases a lieu en aval des baffles et du tube d'injection de gaz. La figure 9 représente le schéma d'un plateau selon la présente invention avec mise en évidence de la zone d'intensification du transfert gaz-liquide (hauteur h) et de l'espacement inter-plateau. Au-dessus du dispositif d'injection de gaz et de liquide, le transfert est fortement intensifié dans une zone de hauteur h. Cette hauteur représente une fraction de l'espacement inter-plateau de hauteur H. La figure 10 montre les profils de concentration CO2 le long de l'absorbeur avec des plateaux standards et avec des plateaux selon la présente invention pour un cas d'application donné. Les profils de concentration CO2 dans l'absorbeur sont représentés dans le cas des plateaux standards (23H) et des plateaux selon la présente invention (24H) avec une hauteur d'intensification du transfert entre le gaz et le liquide h de 6 cm (figure 9). Pour une performance donnée de 3000 ppm, le nombre de plateaux peut être diminué de 30% en considérant les plateaux de la présente invention. REVENDICATIONS1. Plateau de colonne de contact gaz-liquide, caractérisé en qu'il comprend une chambre de liquide (13B) munie d'orifices (14B) sur sa face supérieure déterminés pour accélérer le liquide en aval desdits orifices, des moyens d'injection du gaz vers ladite face supérieure situés à proximité desdits orifices pour constituer des moyens de cisaillement gaz-liquide. 2. Plateau de colonne selon la revendication 1 dans lequel les moyens d'injection du gaz comprennent un tube vertical (15B) coaxial avec un des orifices (14B) formant une couronne de passage liquide située entre la paroi du tube (15B) et ledit orifice (14B). 3. Plateau de colonne selon la revendication 2 dans lequel les moyens d'injection comprennent des moyens d'obturation partielle du tube (15B). 4. Plateau de colonne selon la revendication 3 dans lequel les moyens d'obturation du tube comprennent une plaque circulaire formant couronne pour 20 le passage du gaz (16B). 5. Plateau de colonne selon la revendication 3 dans lequel les moyens d'obturation du tube comprennent un clapet (19 E) à l'extrémité du tube (15). 25 6. Plateau de colonne selon la revendication 1, dans lequel les moyens de cisaillement du dispositif d'injection comprennent des moyens d'injection du gaz comportant un venturi, lesdits orifices de passage du liquide débouchant en aval du venturi. 30 7. Plateau de colonne selon la revendication 6, dans lequel ledit venturi est formé par un rétrécissement d'un tube d'injection du gaz (15F). 8. Plateau de colonne selon l'une des revendications 2 à 7 dans lequel l'extrémité du tube vertical (15B) affleure la face supérieure de la chambre de 35 liquide. 9. Plateau de colonne selon l'une des revendications 2 à 8 dans lequel l'extrémité du tube vertical (15B) est située à l'intérieur de la chambre de liquide. 10. Colonne de contact gaz-liquide comprenant au moins un plateau selon l'une des revendications 1 à 9. 11. Méthode de mise en contact gaz-liquide dans laquelle : - on dispose un plateau de colonne de contact gaz-liquide qui comprend une chambre de liquide (13B) munie d'orifices (14B) sur sa face supérieure, - on détermine lesdits orifices pour accélérer le liquide, on constitue des moyens de cisaillement gaz-liquide en plaçant des moyens d'injection du gaz vers ladite face supérieure à proximité desdits orifices. 12. Méthode selon la revendication 11, dans laquelle on dispose l'injection du gaz coaxialement auxdits orifices. 13. Méthode selon la revendication 11, dans laquelle les moyens d'injection du gaz comprennent un venturi, et on accélère le liquide en plaçant lesdits orifices (21F) en aval du venturi. 14. Méthode selon l'une des revendications 11 à 13, pour au moins l'une des applications suivantes: le captage du CO2, le traitement de gaz. la distillation réactive ou non.25