Brevet FR2932598A1 — publié le 20091218

DISPOSITIF D'AFFICHAGE ELECTRONIQUE ET SON PROCEDE DE FABRICATION. La présente invention concerne un dispositif d'affichage électronique notamment utilisable pour constituer un badge lumineux, et son procédé de fabrication. L'invention s'applique en particulier à un dispositif émetteur de lumière de type à diodes électroluminescentes organiques (� OLED � pour � organic light-emitting diode �) monochrome ou polychrome à zones de couleurs. De manière connue, les dispositifs émissifs à diodes électroluminescentes organiques comprennent : - une zone d'émission lumineuse formée par une structure émettrice de lumière qui comprend au moins un film organique et qui est intercalée entre deux électrodes inférieure et supérieure dont l'une au moins est transparente ou semi-transparente à la lumière émise, et - une zone de contact électrique, qui est en général agencée de manière adjacente à cette zone d'émission et qui comprend au moins une zone de contact avec l'électrode inférieure et une zone de contact avec l'électrode supérieure, chaque zone pouvant être constituée physiquement d'une pluralité de connexions afin de minimiser les résistances d'accès. Ces dispositifs sont usuellement protégés de l'humidité et de l'oxygène de l'air ambiant par une plaque de protection par exemple en verre, ou bien par une ou plusieurs couches d'encapsulation assemblées sur la zone d'émission. Pour l'obtention de motifs lumineux prédéterminés sur des dispositifs � OLED �, on procède usuellement à une structuration préalable de l'électrode inférieure au moyen d'un masque de photolithographie avant d'y déposer la structure émettrice à film organique, du fait qu'une telle structure ne peut pas supporter sans dommages un traitement par photolithographie. Un inconvénient de ces dispositifs � OLED � connus réside dans la nécessité de fabriquer autant de masques de photolithographie que de motifs souhaités en vue de la structuration de cette électrode inférieure, ce 30 qui génère un coût global de fabrication relativement élevé pour l'obtention d'un nombre donné de dispositifs à motifs variés. Un autre inconvénient est que la structuration a lieu pendant la réalisation du dispositif émissif. Un but de la présente invention est de proposer un dispositif d'affichage électronique permettant notamment de remédier à ces inconvénients, ce dispositif comprenant un substrat revêtu sur l'une au moins de ses faces d'une unité électroluminescente, laquelle comprend une zone d'émission à base de matériaux organiques et une zone de contact électrique connectée à cette zone d'émission, cette unité incorporant une structure émettrice de lumière intercalée entre deux électrodes respectivement proximale et distale vis-à-vis de la face externe de la zone d'émission, laquelle comprend au moins une région désactivée non émettrice de lumière formée par ablation laser locale d'au moins l'électrode proximale. A cet effet, un dispositif selon l'invention est tel que le reste de la zone d'émission est constitué d'une région active continue émettrice de lumière définie par la partie non ablatée de l'électrode proximale, laquelle s'étend continûment pour l'alimentation électrique de cette région active par la zone de contact. Avantageusement, la ou chaque unité électroluminescente de ce dispositif d'affichage selon l'invention peut être monochrome ou bien polychrome à zones distinctes émettant respectivement différentes couleurs. Par � région active continue � au sens de la présente description, on entend une région optiquement active qui est formée d'un seul tenant (i.e. en un seul morceau) autour et/ou à l'intérieur de la ou chaque région désactivée, optiquement inactive du fait de cette ablation. En particulier, cette région active peut être formée de plusieurs régions géométriquement connexes, en ce sens qu'elles communiquent entre elles. On notera que l'ablation laser a déjà été proposée dans le domaine des écrans � OLED �, par exemple dans le document US-B- 7 332 263 qui présente un dispositif d'affichage � OLED � de type matriciel, plus spécifiquement à matrice passive. Dans ce document, la zone d'émission est pixellisée par ablation laser de sorte que les portions non ablatées (i.e. optiquement actives) forment les pixels de la matrice, c'est-à-dire des plots électriquement indépendants séparés les uns des autres par une portion ablatée (i.e. optiquement désactivée) ne comportant plus ni l'électrode supérieure, ni la partie de la structure émettrice sous-jacente, ni l'électrode inférieure. Il s'agit donc uniquement dans ce document d'individualiser les pixels de la matrice et non pas, comme dans la présente invention, de se servir des zones ablatées pour réaliser un ou des motif(s), ce qui nécessite de maintenir une zone active continue. Selon une autre caractéristique de l'invention, ladite ou chaque région désactivée est avantageusement formée par ablation laser de ladite électrode proximale et optionnellement de ladite structure émettrice, par exemple au moyen d'un rayonnement laser à excimères émis de préférence dans le domaine ultraviolet. On notera que cette ablation laser permet ainsi de former de manière précise, reproductible et à moindre coût les motifs prédéterminés souhaités dans la zone d'émission de l'unité électroluminescente, tout en remédiant à l'inconvénient précité d'avoir à utiliser un masque de photolithographie dédié à chaque motif à préformer par structuration de l'électrode inférieure (i.e. distale). Selon une autre caractéristique de l'invention, la ou chaque région désactivée, sensiblement noire, peut former en relation avec la région active des motifs divers et variés sans limitation aucune, tels qu'une inscription et/ou un dessin, ces motifs étant visibles par contraste lumineux entre ces deux régions. On notera que ce contraste lumineux obtenu par l'ablation selon l'invention de l'électrode proximale et de la structure émettrice permet de former de manière relativement simple une infinité de motifs sur la zone d'émission de l'unité électroluminescente, sans avoir à utiliser un masque de photolithographie conçu à cet effet. Selon une autre caractéristique de l'invention, ce dispositif d'affichage comporte en outre avantageusement au moins une couche de protection qui recouvre ladite électrode proximale. Cette couche est réalisée en un matériau inorganique sensiblement transparent à la lumière émise par l'unité électroluminescente, et elle est avantageusement déposée par une technique de dépôt de couche atomique (� ALD �) d'un composé inorganique choisi dans le groupe constitué par les oxydes d'aluminium, les oxydes de silicium, les oxydes de zinc et les nitrures de silicium. De préférence, la couche ainsi déposée présente une épaisseur comprise entre 25 nm et 50 nm. Ces matériaux présentent l'avantage d'assurer par ailleurs un confinement optique pour le rayonnement laser UV, ce qui facilite l'ablation et permet si besoin de réduire la puissance du laser. Cette technique � ALD � est dite � conformante �, du fait qu'elle permet à la couche ainsi déposée de présenter une densité élevée et une perméabilité très réduite et d'épouser au plus près les microreliefs ou nanoreliefs de la surface qu'elle recouvre. Cette technique peut être mise en oeuvre à basse température et ne saurait être confondue avec une méthode de dépôt chimique en phase vapeur (� CVD � pour � Chemical Vapor Deposition � en anglais) ou d'évaporation, méthodes non � conformantes �. Selon un mode préférentiel de réalisation de l'invention, la ou l'une au moins de ces couche(s) de protection ainsi déposée(s) recouvre en outre le fond de la ou chaque région désactivée, cette couche pouvant alors former une encapsulation étanche de l'unité électroluminescente qui permet d'assurer une barrière efficace non seulement à l'humidité et à l'oxygène extérieurs, mais encore à la pénétration de poussières ou d'autres particules susceptible d'altérer le fonctionnement du dispositif en y provoquant par exemple des courts-circuits. En variante, le dispositif d'affichage selon l'invention peut également être protégé par une plaque formant capot de protection qui est collée sur l'unité électroluminescente et qui peut être réalisée en tout matériau transparent à la lumière émise, tel que le verre ou une matière plastique. Selon un premier exemple de réalisation de l'invention, la ou chaque région désactivée est inscrite en creux sur la zone d'émission, la région active définie par ladite électrode proximale s'étendant alors continûment sur tout le reste de la zone d'émission. Dans ce cas, l'un au moins des motifs formés par la ou chaque région désactivée peut se refermer sur lui-même par exemple à la manière d'une boucle, mais en présentant au moins une discontinuité prévue pour faire communiquer l'intérieur de ce motif avec le reste de la région active, de sorte à assurer la continuité de celle-ci. Selon un second exemple de réalisation de l'invention, la ou chaque région désactivée forme un environnement en creux pour la région active en formant ces motifs de manière continue à la manière d'un négatif. Dans ce cas, les motifs formés par la région active peuvent communiquent tous entre eux par une pluralité de canaux actifs dérivés qui partent respectivement de ces motifs et rejoignent tous un même canal actif collecteur formé en un bord de la zone d'émission et connecté à ladite zone de contact électrique. Avantageusement, ces motifs peuvent former en totalité ou en partie une inscription de caractères alphanumériques qui font du dispositif d'affichage selon l'invention un badge lumineux, par exemple de surface comprise entre 20 cm2 et 200 cm2. Un procédé de fabrication selon l'invention d'un dispositif d'affichage tel que défini ci-dessus comprend les étapes suivantes : a) on ablate sélectivement par un rayonnement laser par exemple à excimères émis de préférence dans le domaine ultraviolet, en la ou chaque région à désactiver de forme prédéterminée, au moins ladite électrode proximale recouverte de cette couche de protection, de telle manière que la ou chaque région désactivée obtenue forme des motifs donnés, en relation avec le reste de la zone d'émission qui est constitué de la région active continue, ces motifs étant visibles par contraste lumineux entre ces deux régions, puis b) on nettoie la zone d'émission ainsi traitée, de préférence par soufflage. Avantageusement et antérieurement à l'étape a) précitée, l'on peut déposer sur ladite électrode proximale, de préférence par une technique de dépôt de couche atomique (� ALD �), au moins une couche de protection telle que décrite précédemment et qui est conçue pour faciliter l'ablation laser 5 mise en oeuvre à l'étape a). Dans ce cas et postérieurement à l'étape b) précitée, l'on peut avantageusement déposer sur la région active recouverte de ladite couche de protection et sur le fond de la ou chaque région désactivée, une autre couche de protection analogue à la précédente pour la formation d'une encapsulation 10 étanche de l'unité électroluminescente. D'une manière générale, on notera qu'il est ainsi possible de fabriquer des � dalles � électroluminescentes formant chacune une multitude de dispositifs � OLED � structurés différemment pour l'obtention d'autant de motifs distincts, par exemple en vue de la fabrication de badges lumineux à la 15 demande. On notera également que la présente invention n'est pas limitée à la fabrication de badges lumineux, mais peut également trouver des applications pour l'éclairage de grandes surfaces intérieures ou extérieures de bâtiments, incluant des revêtements de sols lumineux. 20 D'autres avantages, caractéristiques et détails de l'invention ressortiront du complément de description qui va suivre en référence à des dessins annexés, donnés uniquement à titre d'exemples et dans lesquels : la figure 1 est une vue schématique de dessus de l'unité électroluminescente d'un dispositif d'affichage selon l'invention montrant sa 25 zone d'émission lumineuse et sa zone de contact électrique, avant désactivation sélective de cette zone d'émission par ablation laser localisée, la figure 2 est une vue partielle en coupe transversale de la zone d'émission du dispositif de la figure 1 montrant le dépôt d'une couche de protection sur l'électrode supérieure du dispositif, préalablement à cette 30 ablation laser, la figure 3 est une vue partielle en coupe transversale de la zone d'émission du dispositif de la figure 2 après cette ablation laser localisée, montrant la formation d'une région désactivée dans cette zone d'émission, la figure 4 est une vue partielle en coupe transversale de la zone d'émission du dispositif de la figure 3 selon une variante de l'invention, après dépôt d'une couche supplémentaire de protection à la fois sur l'électrode supérieure restante et sur chaque région désactivée, la figure 5 est une vue schématique partielle, éclatée et en perspective de la zone d'émission d'un dispositif selon l'invention 10 correspondant à la figure 3 ou 4, montrant la formation d'un motif constitué de la lettre A selon un premier exemple de réalisation de l'invention, la figure 6 est une vue de dessus de l'unité électroluminescente d'un dispositif selon l'invention en référence à la figure 1, après formation d'un motif constitué des deux lettres A et B espacées entre 15 elles selon ce premier exemple de réalisation de l'invention, et la figure 7 est une vue de dessus de l'unité électroluminescente d'un dispositif selon l'invention, également en référence à la figure 1, après formation d'un motif constitué des deux lettres A et B reliées entre elles, selon un second exemple de réalisation de l'invention. 20 Le dispositif d'affichage électronique 1, 1', 1" selon l'invention illustré aux exemples des figures 5 à 7 est de type � OLED � à émission monochrome. Ce dispositif comprend de manière connue, en référence aux figures 2 à 5, un substrat (non visible) typiquement en silicium ou en un autre matériau, comme le verre ou le plastique, revêtu d'une unité 25 électroluminescente 3, 3' (voir figures 3 et 4) qui comprend une zone d'émission 4 (voir figure 1) et une zone de contact électrique 5 extérieure à la zone 4. La zone de contact 5 est par exemple formée d'un alignement de contacts ou connecteurs électriques pour l'établissement d'une 30 différence de potentiel entre des électrodes 6 et 7 de l'unité 3, 3'. Dans cet exemple d'unité � OLED � 3, 3', une structure émettrice 8 de lumière monochrome de type à film organique (monocouche ou multicouches) est intercalée entre les deux électrodes inférieure 6 et supérieure 7 du dispositif 1, qui peuvent servir respectivement d'anode et de cathode et dont l'une au moins (typiquement l'électrode 6) est transparente à la lumière émise afin de faire rayonner la lumière émise vers l'extérieur du dispositif 1. Cette structure émettrice 8 est conçue pour transférer les électrons et les trous qui proviennent des électrodes 6 et 7 et qui sont recombinés pour générer des excitons et donc l'émission de lumière. En variante, ce dispositif pourrait être non pas monochrome mais à zones de couleurs, c'est-à-dire comporter des zones avec des empilements organiques 8 localement distincts de façon à générer pour chaque zone une émission de couleur différente. Comme illustré à la figure 2, pour former un ou des motifs prédéterminés sur la zone d'émission 4, on peut commencer par déposer sur l'électrode supérieure 7 une couche de protection 9 inorganique, avantageusement par une technique de dépôt � ALD �, de manière que cette couche 9 présente une épaisseur très réduite, de préférence comprise entre 25 nm et 50 nm pour limiter les pertes (bien entendu, la couche 9 n'est pas représentée à l'échelle à la figure 2 vis-à-vis des électrodes 6 et 7 et de la structure émettrice 8 pour des raisons de clarté). Il serait cependant possible de déposer cette couche de protection 9 par d'autres techniques, notamment par dépôt chimique en phase vapeur (� CVD �). Cette couche 9 est avantageusement à base d'un matériau diélectrique inorganique sensiblement transparent à la lumière émise par la structure 8 et qui est de préférence constitué d'un oxyde d'aluminium de formule AI203, d'un oxyde de silicium de formule SiO2, d'un oxyde de zinc de formule ZnO ou d'un nitrure de silicium de formule SiXNY. Cette couche 9 présente notamment une densité élevée et une perméabilité très réduite à l'humidité ambiante. Ces matériaux présentent par ailleurs l'avantage d'assurer par ailleurs un confinement optique pour le rayonnement laser UV, ce qui facilite l'ablation et permet si besoin de réduire la puissance du laser. Comme illustré à la figure 3 et dans l'exemple correspondant de la figure 5, on procède ensuite à une ablation laser localisée de la couche de protection 9 et d'au moins l'électrode supérieure 7 pour la formation d'une ou de plusieurs régions RD localisées de géométrie(s) prédéterminée(s) qui sont optiquement désactivées du fait de cette ablation, et d'une région optiquement active RA qui n'est pas visée par cette ablation. On utilise à cet effet un rayonnement laser à excimères de préférence émis dans le domaine ultraviolet. Comme illustré dans l'exemple de la figure 3, cette ablation peut entraîner simultanément l'ablation de tout ou partie de la structure émettrice 8 sous jacente, voire de l'électrode inférieure 6. A titre d'exemple, pour une unité électroluminescente 3, 3' comportant une structure émettrice 8 de 100 nm d'épaisseur, une électrode supérieure 7 d'argent de 15 nm d'épaisseur et une électrode inférieure 6 d'AISi, on pourra utiliser un laser à excimères dont l'intensité est de l'ordre de 50 à 500 mJ/cm2. On notera que le dépôt de la couche de protection 9 avant l'ablation est facultatif, servant essentiellement à protéger le dispositif de toute contamination. L'ablation pourrait en effet être réalisée in situ après ce dépôt, au travers d'un hublot par exemple. De manière optionnelle et comme illustré à la figure 4, on peut avantageusement déposer une nouvelle couche extérieure de protection 9' sur toute la face externe de l'unité électroluminescente 3' pour que cette couche 9' recouvre, d'une part, la région active non ablatée RA de l'électrode supérieure 7 recouverte de la couche de protection 9 et, d'autre part, le fond de la ou de chaque région désactivée RD par ablation qui est formé par l'électrode inférieure 6 dans cet exemple. Cette couche extérieure 9' est de préférence réalisée en un matériau identique à celui de la couche 9 et est avantageusement déposée par la même technique � ALD �. On peut ainsi obtenir via ces deux couches de protection 9 et 9' une encapsulation étanche à l'oxygène et à l'humidité ambiants, ainsi qu'aux poussières et diverses particules pouvant altérer le fonctionnement ultérieur de l'unité 3'. En variante, la protection de l'unité 3' pourrait être obtenue au moyen d'un capot, par exemple de verre, que l'on vient coller sur celle-ci. 2932598 io Dans l'exemple de la figure 5 qui se borne à illustrer la formation, à titre de motif, d'une unique lettre A, on forme par l'ablation laser sélective précitée en relation avec la figure 3 une seule région désactivée 10 formée en creux par les deux jambages du A et par sa barre transversale, de 5 telle manière que cette barre laisse un interstice 12 avec l'un de ces jambages pour que la partie non ablatée 13 de l'électrode supérieure 7 comprise entre les jambages et la barre communique avec toute la partie restante 14 de cette électrode 7. Ainsi, cette ablation laser forme une région optiquement active 12, 13, 14 qui est continue autour de la région optiquement inactive 10, ce qui 10 revient à dire qu'il n'existe pas de portion de l'électrode 7 qui soit électriquement isolée par cette ablation laser. La figure 6 reprend le motif d'ablation 10 de la figure 5 en forme de lettre A en y ajoutant à la suite et de manière espacée la lettre B formant une autre région optiquement inactive 10'. Comme précédemment, on 15 a veillé dans cet exemple à ménager un interstice 15a, 15b pour chacune des deux boucles à former pour obtenir cette lettre B, de manière à faire communiquer l'intérieur 16, 17 de chaque boucle avec toute la partie restante 14 de l'électrode 7 demeurée intacte (incluant notamment la partie 13 interne à la lettre A). 20 On comprend que dans ce premier exemple de l'invention commun aux figures 5 et 6, la région désactivée formée par l'ablation de chaque lettre A, B est inscrite en creux sur la zone d'émission 4 et est visible du fait de sa couleur noire contrastant avec la couleur émise par la région active, définie par la partie intacte 12, 13, 14, 15a, 15b, 16, 17 de l'électrode 7 25 s'étendant continûment autour de ces régions noires A et B. La figure 7 illustre un second exemple de réalisation de l'invention où, à l'inverse du précédent, ce sont les motifs 10" et 10ùrespectivement formés dans cet exemple par les lettres A et B qui demeurent intacts après l'ablation laser, laquelle concerne donc l'environnement 14' 30 destiné à former ces motifs à la manière d'un négatif photographique. Plus précisément, on ablate dans ce cas, d'une part, l'espace noir interne à la lettre A (dépourvue d'interstice) et les deux espaces noirs respectivement internes 2932598 Il aux deux boucles de la lettre B (également dépourvues d'interstices) et, d'autre part, tout l'espace entourant ces lettres A et B et des canaux de liaison 18a, 18b et 19 qui sont formés en négatif, en plus des lettres A et B, sur une surface réduite de l'électrode 7 laissée intacte et qui débouchent sur la zone 5 de contact 5 de l'unité électroluminescente 3. Comme visible à la figure 7, l'ablation laser réalisée dans ce second exemple est telle que demeurent intacts sur l'électrode 7 les canaux de liaison 18a, 18b et 19 qui relient entre elles les lettres A et B, également intactes, et qui comprennent : 10 - deux courts canaux dérivés 18a et 18b qui partent respectivement de zones inférieures des lettres A et B en communiquant avec ces dernières, et - un même canal collecteur 19 dans lequel débouchent par exemple à angle droit les canaux 18a et 18b et qui est formé en un bord 15 inférieur de la zone d'émission 4 à la manière d'un soulignement des lettres A et B, ce canal 19 communiquant avec la zone de contact 5 pour assurer la connexion électrique et donc la seule illumination des lettres A et B et de ces canaux 18a, 18b et 19. On comprend que dans ce second exemple, sont visibles 20 dans la couleur d'émission choisie les motifs A et B ainsi que les canaux de liaison 18a, 18b et 19, par contraste avec la couleur noire caractérisant les espaces internes et externes à ces motifs et ceux entourant ces canaux. On notera d'une manière générale que les exemples de réalisation de motifs selon les figures 5 à 7 ont été choisis pour illustrer le plus 25 simplement possible la manière d'obtenir des lettres visibles par contraste lumineux sur la face d'émission d'une unité électroluminescente, et que l'invention ne se limite pas à de tels motifs alphabétiques mais englobe tous motifs alphanumériques ou non, tels que des dessins pouvant présenter une infinité de formes, pouvant être obtenus : 30 - en ablatant ces seuls motifs pour les faire apparaître en noir sur un fond coloré constituant ladite région active continue, ou 5 - en ablatant tout ce qui n'est pas destiné à former ces motifs et les canaux les reliant électriquement entre eux et à la zone de contact, pour que ces motifs et ces canaux formés par défaut constituent ensemble ladite région active continue et apparaissent en couleur sur le fond noir ablaté. Quant aux dimensions des zones d'émission ainsi obtenues, elles peuvent varier dans une large mesure, étant par exemple de l'ordre de 100 cm2 pour des badges lumineux. REVENDICATIONS1) Dispositif d'affichage électronique (1, 1', 1") comprenant un substrat revêtu sur l'une au moins de ses faces d'une unité électroluminescente (3, 3'), laquelle comprend une zone d'émission (4) et une zone de contact électrique (5) connectée à cette zone d'émission, cette unité incorporant une structure émettrice de lumière (8) à base de matériaux organiques intercalée entre deux électrodes respectivement proximale (7) et distale (6) vis-à-vis de la face externe de la zone d'émission, laquelle comprend au moins une région désactivée (RD, 10, 10', 14') non émettrice de lumière formée par ablation laser locale d'au moins l'électrode proximale, caractérisé en ce que le reste de la zone d'émission est constitué d'une région active continue (RA, 12, 13, 14, 15a, 15b, 16, 17, 10", 10w, 18a, 18b, 19) émettrice de lumière définie par la partie non ablatée de l'électrode proximale, laquelle s'étend continûment pour l'alimentation électrique de cette région active par la zone de contact. 2) Dispositif d'affichage (1, 1', 1") selon la revendication 1, caractérisé en ce que la ou chaque unité électroluminescente (3, 3') est 20 monochrome ou bien polychrome à zones distinctes émettant respectivement différentes couleurs. 3) Dispositif d'affichage (1, 1', 1") selon la revendication 1 ou 2, caractérisé en ce que ladite ou chaque région désactivée (RD, 10, 10', 14') 25 est formée par ablation laser de ladite électrode proximale (7) et de ladite structure émettrice (8). 4) Dispositif d'affichage (1, 1', 1") selon une des revendications précédentes, caractérisé en ce qu'il comporte en outre au 30 moins une couche de protection (9, 9') qui recouvre ladite électrode proximale (7). 5) Dispositif d'affichage (1, 1', 1") selon la revendication 4, caractérisé en ce que ladite ou l'une au moins desdites couche(s) de protection (9') recouvre en outre le fond de ladite ou chaque région désactivée (RD), cette couche formant une encapsulation étanche pour l'unité électroluminescente (3'). 6) Dispositif d'affichage (1, 1', 1") selon la revendication 4 ou 5, caractérisé en ce que ladite ou chaque couche de protection (9, 9') est déposée par une technique de dépôt de couche atomique (� ALD �) d'un composé inorganique choisi dans le groupe constitué par les oxydes d'aluminium, les oxydes de silicium, les oxydes de zinc et les nitrures de silicium, cette couche de protection présentant de préférence une épaisseur comprise entre 25 nm et 50 nm. 7) Dispositif d'affichage (1, 1', 1") selon une des revendications précédentes, caractérisé en ce que ladite ou chaque région désactivée (RD, 10, 10', 14'), sensiblement noire, forme en relation avec ladite région active (RA, 12, 13, 14, 15a, 15b, 16, 17, 10", 10"', 18a, 18b, 19) des motifs, tels qu'une inscription et/ou un dessin, qui sont visibles par contraste lumineux entre ces deux régions. 8) Dispositif d'affichage (1, 1') selon la revendication 7, caractérisé en ce que ladite ou chaque région désactivée (10, 10') est inscrite en creux sur la zone d'émission (4), ladite région active (12, 13, 14, 15a, 15b, 16, 17) définie par ladite électrode proximale (7) s'étendant continûment sur tout le reste de la zone d'émission. 9) Dispositif d'affichage (1, 1') selon la revendication 8, caractérisé en ce que l'un au moins desdits motifs formés par ladite ou 30 chaque région désactivée (10, 10') se referme sur lui-même par exemple à la manière d'une boucle, en présentant au moins une discontinuité (12, 15a,15b) prévue pour faire communiquer l'intérieur de ce motif avec le reste de ladite région active (14). 10) Dispositif d'affichage (1") selon la revendication 7, 5 caractérisé en ce que ladite ou chaque région désactivée (14') forme un environnement en creux pour ladite région active (10", 10"', 18a, 18b, 19) en formant lesdits motifs de manière continue à la manière d'un négatif. 11) Dispositif d'affichage (1") selon la revendication 10, 10 caractérisé en ce que lesdits motifs formés par ladite région active (10", 10', 18a, 18b, 19) communiquent tous entre eux par une pluralité de canaux actifs dérivés (18a et 18b) qui partent respectivement de ces motifs et qui rejoignent tous un même canal actif collecteur (19) formé en un bord de la zone d'émission (4) et connecté à ladite zone de contact électrique (5). 15 12) Dispositif d'affichage (1, 1', 1") selon une des revendications 7 à 11, caractérisé en ce que lesdits motifs (10, 10', 10", 10"', 18a, 18b, 19) comprennent une inscription de caractères alphanumériques (10, 10', 10", 10w) qui font de ce dispositif un badge lumineux, par exemple 20 de surface comprise entre 20 cm2 et 200 cm2. 13) Procédé de fabrication d'un dispositif (1, 1', 1") selon une des revendications précédentes, comprenant les étapes suivantes : a) on ablate sélectivement par un rayonnement laser de 25 préférence à excimères émis dans le domaine ultraviolet, en la ou chaque région à désactiver de forme prédéterminée, au moins ladite électrode proximale, de telle manière que la ou chaque région désactivée obtenue (RD, 10, 10', 14') forme des motifs donnés, tels qu'une inscription et/ou un dessin, en relation avec le reste de la zone d'émission (4) qui est constitué de ladite 30 région active continue (RA, 12, 13, 14, 15a, 15b, 16, 17, 10", 10w, 18a, 18b, 19), ces motifs étant visibles par contraste lumineux entre ces deux régions, puisb) on nettoie la zone d'émission ainsi traitée, de préférence par soufflage. 14) Procédé selon la revendication 13, caractérisé en ce qu'antérieurement à l'étape a), on dépose sur ladite électrode proximale (7), de préférence par une technique de dépôt de couche atomique (� ALD �), au moins une couche de protection (9). 15) Procédé selon la revendication 14, caractérisé en ce que postérieurement à l'étape b), l'on dépose sur la région active (RA) recouverte de ladite couche de protection (9) et sur le fond de la ou chaque région désactivée (RD), une autre couche de protection (9') analogue à la précédente pour la formation d'une encapsulation étanche de l'unité électroluminescente (3'). 16) Procédé selon une des revendications 13 à 15, caractérisé en ce que ladite ou chaque couche de protection (9, 9') est à base d'un composé inorganique choisi dans le groupe constitué par les oxydes d'aluminium, de silicium, de zinc et les nitrures de silicium, cette couche de protection présentant de préférence une épaisseur comprise entre 25 nm et 50 nm.