Brevet FR2934611A1 — publié le 20100205

Elaboration de couche d'oxyde transparente et conductrice pour utilisation dans une structure photovoltaïque La présente invention concerne l'élaboration d'une couche mince de revêtement 5 utilisable au sein d'un dispositif photovoltaïque tel qu'une cellule solaire par exemple. Cette couche de revêtement peut typiquement être une couche conductrice et transparente pour servir d'électrode � avant � dans la structure photovoltaïque. Les propriétés requises pour cette couche sont d'être : 10 transparente dans le visible et conductrice dans la cellule solaire. Cette couche de revêtement est souvent réalisée dans un matériau comportant majoritairement un oxyde tel que l'oxyde de zinc (ZnO). 15 On se réfère à la figure 1 représentant schématiquement une structure photovoltaïque susceptible de comporter une telle couche de revêtement. Une couche métallique MET (par exemple à base de molybdène) est déposée sur un substrat SUB (par exemple par évaporation sous vide ou par pulvérisation ou 20 � sputtering �). Le substrat peut être en verre classique. Cette couche métallique MET présente une épaisseur qui peut être comprise entre 0,5 et 1 micron. Ensuite, une couche à propriétés photovoltaïques PHO est déposée sur la couche métallique MET. Le matériau de la couche PHO peut être du silicium, du CdTe ou 25 encore un alliage I-III-VI2 comportant typiquement : du cuivre, de l'indium, du gallium et/ou de l'aluminium et du sélénium et/ou du soufre. La couche PHO est typiquement d'épaisseur d'environ 2 microns. Elle est 30 généralement déposée par évaporation sous vide, par pulvérisation cathodique, par dépôt chimique en phase vapeur, par sérigraphie ou encore par électrochimie. Il est habituellement déposé sur cette couche photovoltaïque PHO une couche d'interface INT, appelée � couche tampon �, souvent à base de sulfure de cadmium, à base de sulfure de zinc ou de sulfure d'indium. Elle peut être déposée par voie chimique en solution (technique de dépôt appelée � CBD � pour � chemical bath deposition �), sous vide ou en phase vapeur . Son épaisseur est comprise généralement entre 5 et 100 nm. Les deux couches suivantes, référencées respectivement ELE et TRA, qui sont déposées sur la couche tampon INT dans l'exemple illustré sur la figure 1, font en particulier l'objet de la présente invention. La couche TRA, en elle-même, est optionnelle mais la couche superficielle ELE joue le rôle d'électrode dans la structure photovoltaïque. La couche TRA doit être transparente pour laisser la lumière atteindre la couche photovoltaïque PHO. Elle peut être à base d'oxyde (par exemple à base de ZnO peu dopé) et présenter une épaisseur d'environ 50 à 100 nm. Elle est généralement déposée par pulvérisation cathodique ou par voie chimique en phase vapeur (ou � CVD �). La couche ELE est d'épaisseur variant de 0,5 à 1 micron. Elle peut être à base d'oxyde (par exemple d'oxyde de zinc) comme la couche TRA. La couche ELE est dopée, quant à elle, dans le but de rendre cette couche ELE conductrice pour servir d'électrode � avant �. Le dopage peut être de type n, par exemple à l'aluminium. La couche ELE doit être transparente dans le visible pour que la couche photovoltaïque PHO puisse être éclairée. Elle doit être aussi conductrice dans la cellule solaire. Les cellules solaires à base d'alliages de type CuInSe2 utilisant l'addition du soufre, du gallium ou de l'aluminium sont à la base d'une nouvelle filière photovoltaïque dont l'essor industriel commence. Les performances de telles cellules vont jusqu'à 19,9% en laboratoire, avec en général des valeurs standard en laboratoire de 15-17 %. Les modules ont des rendements de : 11-14% pour la filière utilisant le gallium ajouté à l'alliage photovoltaïque I-III-VI2 et de l'ordre de 6-8% pour la filière utilisant le soufre. Tous ces dispositifs photovoltaïques présentent, sans exception, la structure illustrée 5 sur la figure 1. Habituellement, la couche superficielle ELE est déposée par pulvérisation sous vide. Dans certains cas, elle peut être déposée par dépôt chimique en phase vapeur et dopée au bore. 10 Toutefois, pour une mise en oeuvre à l'échelle industrielle, il est préférable d'utiliser une méthode de dépôt atmosphérique, telle qu'un dépôt par électrochimie en solution. Cette technique est simple. Elle ne nécessite pas l'application de vide. Elle présente un avantage net en matière de coût de production, d'investissement, et de capacité de 15 traitement de grandes surfaces (comme dans le domaine de la galvanoplastie notamment). Par ailleurs, comme cette technique de dépôt se situerait dans la continuité du dépôt par voie chimique de la couche sous-jacente TRA (par exemple à base de CdS ou de 20 ZnS), voire même de la couche à propriétés photovoltaïques PHO déposée par électrochimie, la cohérence de la chaine d'élaboration est respectée, avec une approche dite de � face avant � entièrement déposée par voie humide. L'avantage en termes de coût de production est significatif. 25 La synthèse électrochimique d'un matériau couramment utilisé pour la fabrication de la couche superficielle ELE ou de la couche TRA, en particulier l'oxyde de zinc ZnO, a été décrite dans le document WO96/31638. Dans ce document, l'apport d'oxygène provient de l'oxygène moléculaire dissous dans le bain d'électrolyse. Dans un autre document (M. Izaki, T. Omi, T.A. Pattinson, AppL Phys.Lett, 68, 2439, 1996), 30 l'oxygène provient d'ions nitrate. Le document : D. Lincot, B. Cavana, S. Quenet, S. Peulon, H.W. Schock, Proceedings 14th EC Photovoltaic Solar Energy Conference, Stephen and Ass. Ed, 2168, 1997, montre en outre qu'il est possible de déposer des couches superficielles d'oxyde de zinc directement sur un empilement de molybdène et d'un alliage I-III-VI2 avec un rendement proche de 10%. L'électrodépôt peut donc être utilisé dans la synthèse de couches conductrices de ZnO en tant que couche fenêtre dans des cellules photovoltaïques à base d'un alliage de type dit � CIS � (pour Cu(In,Ga)(Se,S)2). Le document : D. Gal, G. Hodes, D. Lincot, H.W. Hodes, Thin Solid Films, 361-362, 79, 2000, traite du dépôt direct de couches d'oxyde transparent INT de ZnO sur CIS, à partir d'un milieu comportant du dimethylsulfoxide (DMSO) porté à 130°C et en présence d'oxygène dissous. L'empilement est ensuite complété par une couche ELE de ZnO dopé à l'aluminium. Cette couche est donc conductrice et elle est déposée par pulvérisation (ou �sputtering �). Ainsi, dans ce document, il n'est pas question de remplacer la technique de dépôt (sputtering) de la couche conductrice ELE superficielle, mais d'appliquer la technique d'électrodépôt à la synthèse de la couche sous-jacente TRA (à base de ZnO) et d'éventuelles autres couches tampon. Ainsi, le dépôt de couches d'oxyde transparent conducteur, au-dessus de la couche à propriétés photovoltaïques, par électrochimie, est une technique particulièrement avantageuse. Elle a déjà vu le jour dans le domaine des cellules photovoltaïques. Toutefois, les résultats obtenus peuvent encore être améliorés. En particulier, l'adhérence des couches ainsi déposées, leur homogénéité et leur qualité morphologique méritent encore des perfectionnements. La présente invention vient améliorer la situation. Elle propose à cet effet un procédé de fabrication d'une structure photovoltaïque, comportant une couche mince de revêtement déposée au-dessus d'une sous-couche à propriétés photovoltaïques. Selon l'invention, le dépôt de la couche de revêtement est réalisé par électrochimie et assisté en partie ou en totalité par un éclairement issu d'une source de lumière. Il a pu être observé alors que l'éclairement de la couche photovoltaïque provoquait un effet électrique propre à favoriser un dépôt uniforme et homogène de la couche de revêtement, au moins en début de croissance de la couche de revêtement (étape appelée �nucléation �). L'effet de l'éclairement peut s'expliquer par une densité de charge générée par la couche photovoltaïque qui est uniformément répartie sur la surface accueillant le dépôt de la couche de revêtement, ce qui favorise une bonne morphologie homogène de la couche de revêtement. Il a été observé en outre que l'éclairement permettait aussi d'augmenter la vitesse de croissance de la couche de revêtement. L'épaisseur de la couche de revêtement peut alors aller jusqu'à quelques microns et présenter néanmoins une bonne stabilité mécanique. Comme indiqué précédemment, la couche de revêtement peut être à base d'un oxyde transparent, par exemple à base d'oxyde de zinc (ZnO). Mais d'autres variantes de matériaux déposables sur une couche photovoltaïque, ou sur une couche photovoltaïque revêtue d'une couche conductrice, sont possibles. Déjà, il peut s'agir d'une autre forme d'oxyde, mais aussi de sulfures ou séléniures. Dans le cas où la couche de revêtement est une telle couche d'oxyde, elle peut être destinée à intervenir comme fenêtre transparente et/ou conductrice d'une cellule photovoltaïque. Toutefois, le matériau de la couche de revêtement n'est pas nécessairement transparent pour la mise en oeuvre de l'invention dès lors que la nucléation seulement de la couche de revêtement a besoin d'être assistée par un éclairement. Par exemple, la couche de ZnO peut être déposée par électrolyse dans un milieu 30 aqueux ou dans un milieu non aqueux, ou leur mélange, à partir d'ions zinc dissous et d'un donneur d'oxygène tel que de l'oxygène dissous, ou d'un autre précurseur, par une réaction cathodique. L'éclairement peut être dans le visible, sous forme monochromatique ou polychromatique. Par exemple, une gamme spectrale comprise entre 200 et 1300 nm (éclairement solaire) a donné de bons résultats, avec une puissance incidente comprise entre 1 mW/cm2 et 300 mW/cm2. La couche de revêtement peut être dopée ou non, par exemple par au moins un élément lo introduit en solution parmi le chlore, le fluor, l'iode, le brome, le gallium, l'indium, le bore et l'aluminium, et, dans une réalisation courante, elle peut être dopée au chlore en particulier. Comme indiqué précédemment, la sous-couche photovoltaïque peut être à base d'un 15 alliage I-III-VI2 du type Cu(In,Ga,Al)(S,Se)2 déposé par électrochimie, ou par toute autre technique telle que l'évaporation, la pulvérisation ou �sputtering �, la sérigraphie, ou par jet d'encre, et ce partiellement ou totalement. Par exemple, les éléments I-III peuvent être déposés par électrolyse, ou encore par 20 sputtering, puis une sélénisation et/ou une sulfurisation peuvent être menées ultérieurement. Une réalisation préférentielle est celle décrite dans le document WO-03/094246 où l'alliage I-III-VI2 est déposé entièrement par électrochimie puis recuit par un processus rapide. Toutefois, d'autres matériaux photovoltaïques sont envisageables (par exemple du silicium en couche mince ou massif, ou autres). 25 La couche de revêtement peut être déposée directement sur la sous-couche photovoltaïque ou, en variante, être déposée sur une ou plusieurs couches d'interface situées au dessus de la sous-couche photovoltaïque. 30 D'ailleurs, ces autres couches d'interface peuvent être déposées par électrochimie ou par d'autres techniques. Les matériaux constituant ces couches peuvent être par exemple du sulfure de cadmium (CdS) et/ou du sulfure de zinc (ZnS) et/ou de sulfure d'indium (déposables par voie chimique en phase vapeur ou en solution, notamment CBD, ou par voie physique, évaporation pulvérisation cathodique, ou autres). Ces couches peuvent être elles-mêmes couvertes d'une couche intermédiaire d'oxyde de zinc, ou d'un alliage d'oxyde de zinc avec en particulier du magnésium (ZnMgO), déposée par pulvérisation cathodique, par CVD ou en solution. L'invention vise bien en fait la formation d'une couche de revêtement sur un matériau photovoltaïque couvert ou non par d'autres couches préalables. Par exemple, les types d'hétérostructures suivants peuvent être envisagés : CIS/CdS, CIS/ZnS, CIS/CdS/ZnO, CIS/ZnS/ZnO, CIS/ZnO, ou autres, avec la couche de ZnO pouvant être dopée ou non, ou encore scindée en une couche dopée et une couche complémentaire non dopée. La couche d'interface à base de ZnO peut être, comme indiqué précédemment, à base de (Zn,Mg)O. La présente invention vise aussi, en référence à la figure 2, une installation pour la mise en oeuvre du procédé ci-avant, et comportant en particulier un bain d'électrolyse 1 et une source de lumière 2 éclairant ce bain. Pour la commodité de représentation de la figure 2, la rampe d'éclairage 2 est représentée au-dessus du bain. Toutefois, dans une réalisation préférentielle, l'éclairement vient de coté, sensiblement perpendiculaire au substrat, et non par-dessus. La couche peut être déposée en milieu aqueux, organique ou dans leur mélange. La source d'oxygène peut être prévue sous forme d'un bullage 3 d'air ou d'oxygène moléculaire 02 dissous dans le bain. L'invention vise aussi la structure photovoltaïque comportant une couche mince de revêtement déposée au-dessus d'une sous-couche à propriétés photovoltaïques, et dans laquelle en particulier la couche de revêtement est une couche d'oxyde transparent déposée directement sur la sous-couche photovoltaïque et présente une morphologie uniforme et homogène au moins à l'interface avec la sous-couche photovoltaïque. La couche de revêtement peut être caractérisée par une rugosité de surface contrôlée, sous forme de facettes cristallines, de grains colonnaires et/ou d'aiguilles, de façon à pouvoir augmenter le photo-courant que génère la cellule photovoltaïque. On comprendra ainsi que la mise en oeuvre de l'invention offre une voie possible de synthèse en solution de la couche d'oxyde conductrice et/ou transparente (notamment d'oxyde de zinc), dans les conditions atmosphériques et ne nécessitant pas l'utilisation de réactifs en phase gazeuse. L'invention permet, comme on le verra dans les exemples de réalisation décrits ci-après, l'obtention de couches d'oxyde de zinc transparentes et conductrices conduisant à des dispositifs de rendement similaire à celui obtenu avec la technique de dépôt classique de sputtering. L'invention ouvre donc la voie au remplacement des techniques sous vide pour la fabrication de la couche transparente et conductrice par une méthode électrochimique, très simple, peu coûteuse et à bas coût. En effet, parmi les avantages que procure l'invention : le dépôt de la couche de revêtement peut être effectué à basse température (inférieure à 100°C) ne nécessitant pas d'appareillage coûteux de dépôt sous vide ou en phase vapeur ; il est possible de réaliser les dépôts sur de grandes surfaces par une technique de revêtement reproductible sur le plan industriel, et de grand intérêt pour la production de panneaux photovoltaïques à grande échelle et à bas coût ; il est possible, comme on le verra, de supprimer la couche TRA de la figure 1 (notée � ZnO :i � ci-après, c'est-à-dire la couche d'interface transparente � intrinsèque � (non dopée) recevant habituellement le dépôt de la couche dopée conductrice ELE), ce qui permet de supprimer une étape dans le procédé de fabrication de la cellule solaire ; il est possible aussi d'éviter, comme on le verra plus loin, l'élément toxique cadmium pour la fabrication de la couche d'interface 1NT. D'autres caractéristiques et avantages de l'invention apparaîtront à l'examen de la 30 description détaillée ci-après, et des dessins annexés sur lesquels, outre les figures 1 et 2 décrites ci-avant : la figure 3A est une vue obtenue au microscope électronique à balayage en coupe latérale d'un empilement sur verre de molybdène, alliage I-III-VI2, interface CdS, fenêtre de ZnO intrinsèque, et ZnO électrodéposé au sens de l'invention, la figure 3B est un grossissement de la vue de la figure 3A, la figure 3C est une vue de dessus de l'empilement des figures 3A et 3B, la figure 3D est un grossissement de la vue de la figure 3C, la figure 3E représente la caractéristique J-V de l'empilement des figures 3A à 3D, la figure 4A est une vue obtenue au microscope électronique à balayage en coupe latérale d'un empilement sur verre de molybdène, alliage I-III-VI2, interface ZnS, lo et ZnO directement électrodéposé au sens de l'invention, la figure 4B est une vue de dessus de l'empilement de la figure 4A, la figure 4C est un grossissement de la vue de la figure 4B, la figure 4D représente la caractéristique J-V de l'empilement des figures 4A à 4C, la figure 5A est une vue obtenue au microscope électronique à balayage en coupe 15 latérale d'un empilement sur verre de molybdène, d'un alliage I-III-VI2 et de ZnO directement électrodéposé au sens de l'invention sur l'alliage photovoltaïque, la figure 5B est un grossissement de la vue de la figure 5A, la figure 5C est une vue de dessus de l'empilement des figures 5A et 5B, la figure 5D est un grossissement de la vue de la figure 5C, 20 la figure 5E représente la caractéristique J-V d'un empilement sur verre de molybdène, d'alliage I-III-VI2, et de ZnO directement électrodéposé au sens de l'invention sur l'alliage photovoltaïque, la figure 6 représente la caractéristique J-V d'un empilement sur verre de molybdène, alliage I-III-VI2, interface CdS, et ZnO électrodéposé au sens de 25 l'invention, la figure 7 représente la caractéristique J-V d'un empilement sur verre de molybdène, alliage I-III-VI2, fenêtre de ZnO intrinsèque, et ZnO électrodéposé au sens de l'invention, sur une grande surface (17,5 cm) alors que les autres caractéristiques J-V ont été relevées sur des petites surfaces (0,1 cm2). 30 Dans les exemples de réalisation décrits ci-après, la couche de revêtement est à base d'oxyde de zinc déposé par voie électrochimique, à partir d'un sel de zinc dissous dans un solvant aqueux, en présence d'une espèce donneuse d'oxygène, qui peut être très avantageusement de l'oxygène gazeux dissous. L'électrolyte contient également un sel support afin de le rendre conducteur. Le dépôt se fait par application d'un potentiel cathodique à l'électrode suivant la réaction électrochimique suivante : Zn(II) + 0,5 02 + 2e ZnO On comprendra alors que l'apport des électrons notés 2e est favorisé par le photo-courant que produit la couche photovoltaïque PHO pendant son éclairement. L'oxyde ZnO est déposé sur l'électrode sous forme d'une couche mince, dont l'épaisseur est contrôlée par la quantité d'électricité échangée pendant la réaction. En référence à nouveau à la figure 1, l'électrode recevant le dépôt peut être constituée de l'empilement suivant : sur le substrat de verre SUB, la couche MET de molybdène (Mo), la couche PHO d'alliage I-III-VI2 tel que du Cu(In,Ga,Al)(S,Se)2 (noté CIS ci-après), la couche avant INT (à base de CdS ou de ZnS ), la couche avant TRA (ZnO :i), dont il est possible de se passer, de façon avantageuse. Il convient de rappeler encore que le dépôt de ZnO par électrolyse a pu être effectué directement sur la couche du matériau photovoltaïque à base de l'alliage I-III-VI2. Le dépôt est typiquement effectué dans de l'eau à une température autour de 70°C. Il dure environ une heure ou moins et conduit à la formation d'une couche dense d'épaisseur comprise entre 500 et 800 nm. Des conditions de dépôt, à titre d'exemple, sont décrites ci-après.30 L'électrolyte utilisé (appelé "bain chlorure") contient une concentration de 5.10-3 M d'ions Zn2+ introduits dans de l'eau déminéralisée (18 M.cm 3) sous forme de sel de ZnC12 et 0,1 M d'ions Cl" introduits sous forme de sel KC1. Le bain est saturé en oxygène par le recours à un bullage d'oxygène gazeux. Le bain est maintenu à une température de 70°C pendant toute la durée de l'électrodépôt. L'agitation est assurée par l'utilisation d'un barreau aimanté. La référence de potentiel est une électrode au sulfate mercureux saturée en K2SO4 (Hg/Hg2SO4/K2SO4(saturé) (ESM)). Elle est placée dans un compartiment séparé de la solution d'électrolyse par un fritté d'alumine de faible porosité rempli d'une solution saturée de sulfate de potassium. Un pont électrolytique permet de la maintenir à température ambiante afin d'éviter toute fluctuation de potentiel pouvant apparaître sous l'effet de la température lorsque le bain est chauffé. Le potentiel de dépôt a été fixé à -1,4V/ESM. Une plaque de zinc est utilisée comme contre-électrode et permet à la fois le passage du courant dans le circuit extérieur et la régénération de l'électrolyte en ions Zn2+ évitant ainsi son épuisement par consommation à l'électrode de travail. La conductivité des couches est obtenue par ajout dans la solution d'impuretés dopantes, par exemple et comme décrit ci-avant des ions chlorures incorporés dans la couche, laquelle présente alors une conductivité élevée et stable dans le temps, ce qui constitue une propriété avantageuse pour le fonctionnement des dispositifs solaires. Au sens de l'invention, une source de lumière est utilisée pour assister le dépôt, au moins pendant la phase de nucléation. Le flux lumineux est fourni par un simulateur solaire dont le flux lumineux homogène est d'environ 100 mW/cm2 à 15 cm de distance. Ce flux peut être ajusté en modifiant la distance entre la lampe et la couche, jusqu'à 5 m dans la configuration utilisée, ce qui permet de réduire le flux arrivant à la surface de l'échantillon jusqu'à quelques mW/cm2. Dans les conditions de cet exemple, les densités de courant utilisées durant le dépôt sont situées entre 0,1 et 0,4 mA/cm2. Afin de favoriser la transmission de la lumière à travers le réacteur électrochimique et gagner en homogénéité d'illumination, une cellule parallélépipédique en verre est utilisée, l'échantillon étant placé verticalement dans cette configuration, et l'éclairement étant effectué horizontalement. Le dépôt de la couche de ZnO dure généralement entre une demi-heure et une heure. Une fois le dépôt réalisé, les cellules sont complètes et sont caractérisées de façon classique. Le dépôt des couches de ZnO par électrolyse suivant le procédé de l'invention a permis l'obtention de rendements de conversion photovoltaïque de plus de 12%, atteignant dans certains cas 16,3%. Ces rendements sont d'un même ordre que ceux obtenus avec la technique de dépôt du ZnO par pulvérisation (� sputtering �). On a représenté, en référence aux figures 3A à 3D, la morphologie d'un empilement de type Mo/CIS (ou CIGS pour une légère incorporation de gallium)/CdS/ZnO :i et ZnO par électrodépôt au sens de l'invention. Ainsi, on a remplacé ici la couche conductrice de ZnO préparée habituellement par sputtering par une couche de ZnO déposée par électrolyse au sens de l'invention. Les images sont obtenues par microscopie électronique à balayage. On observe un bon recouvrement compact et homogène du ZnO électrodéposé (figure 3A) sur les couches sous-jacentes, notamment de CIGS. En particulier, la couche de ZnO électrodéposée est très couvrante et homogène en épaisseur. En référence à la figure 3D, la couche de ZnO est, dans l'exemple représenté, de surface à facettes cristallines. La caractéristique densité de courant surfacique v/ tension (notée ci-après � caractéristique J-V �) de ce type d'empilement est représentée sur la figure 3E sur laquelle on note une tension en circuit ouvert Voc de 704mV et une densité de photo-courant de court-circuit Jsc de -29mA/cm2 pour un facteur de forme FF de 75,8% et un rendement Il de 15,8%. Ce rendement est bien comparable à celui de 16,2% pour un même empilement réalisé dans les mêmes conditions mais avec une couche de ZnO superficielle obtenue par sputtering au sens de l'état de l'art. Il convient d'indiquer que l'électrodépôt de ZnO au sens de l'invention peut être effectué sur des structures CIGS/CdS /ZnO :i préparées de façon classique, sans aucune adaptation. D'ailleurs, sur des échantillons CIGS/CdS /ZnO :i provenant d'un autre centre d'essai, une couche de ZnO a été électrodéposée par le procédé au sens de l'invention et les résultats sont très similaires : Voc = 649 mV, Jsc = -30,1 mA.cm 2, FF=71,7% r1=14,7%, ce qui exprime bien la flexibilité de la technique de dépôt par électrolyse. La caractéristique J-V de la figure 3E est notée REF et les caractéristiques J-V des empilements décrits ci-après sont comparées à cette caractéristique REF. En référence maintenant aux figures 4A à 4D, dans le cas d'un empilement de type Mo/CIGS/ZnS et ZnO par électrodépôt au sens de l'invention, on observe encore une couche superficielle bien compacte de ZnO à facettes cristallines (figure 4C). La couche de ZnS est déposée par voie chimique en solution (technique de dépôt appelée � CBD � pour � chemical bath deposition �). La caractéristique J-V de ce type d'empilement est représentée sur la figure 4D sur laquelle on note les paramètres Voc =656mV et Jsc =-30,8mA/cm2 pour un facteur de forme FF =73,1% et un rendement il de 15,5%, nonobstant le remplacement du CdS par du ZnS et la suppression de la couche de ZnO non dopée. En référence maintenant au cas d'un empilement de type Mo/CIGS/CdS et ZnO par électrodépôt au sens de l'invention, il a pu être observé encore une couche superficielle de ZnO homogène et compacte. La caractéristique J-V de ce type d'empilement est représentée sur la figure 6 sur laquelle on note les paramètres Voc =652mV et Jsc =-29,3mA/cm2 pour un facteur de forme FF =63% et un rendement il de 12,1%, nonobstant la suppression de la couche de ZnO non dopée. On relèvera néanmoins ici 25 que le remplacement du cadmium par du zinc dans la couche d'interface TNT procurait de meilleurs résultats dans l'exemple précédent des figures 4A à 4D. On peut donc constater que la gamme de rendements obtenus est comparable à celle où une couche de ZnO intrinsèque est pulvérisée avant l'électrodépôt du ZnO. Le procédé selon l'invention peut s'appliquer donc directement après l'étape classique de dépôt de CdS ou de ZnS sans nécessiter le retour sous vide pour déposer la couche de ZnO :i. Les résultats semblent en outre plus performants lorsque la couche d'interface est à base de ZnS plutôt que de CdS. En référence maintenant aux figures 5A à 5E dans le cas d'un empilement de type Mo/CIGS et ZnO déposé directement par électrodépôt au sens de l'invention, on observe encore une couche superficielle de ZnO à facettes cristallines (figure 5D) d'homogénéité et de compacité satisfaisantes (Figure 5A). On a représenté sur la figure 5E la caractéristique J-V d'un empilement de type ZnO électrodéposé directement sur CIGS et on relève des résultats qui restent néanmoins satisfaisants avec : Voc =580mV, Jsc =-29,8mA/cm2, FF = 67,5%, et le rendement q =11,7%. Certes, les performances sont sensiblement moins bonnes qu'avec les couches tampon de CdS ou de ZnS, mais elles restent cependant nettement supérieures à 10%, ce qui valide cette mise en oeuvre de l'invention dans les applications photovoltaïques. La technique de dépôt au sens de l'invention peut être appliquée sur de grandes surfaces de façon homogène, avec des résultats allant jusqu'à 9,5 % en rendement pour l'empilement Verre/Mo/CIS(EVAP)/CdS(CBD)/ZnO :i(SPUT)/ZnO (ED), sur des plaques de 17,5 cm2. La figure 7 représente la caractéristique J-V d'une telle structure. 30 L'utilisation de la lumière pour assister l'électrodépôt, au sens de l'invention, provoque une amélioration spectaculaire de l'homogénéité latérale du dépôt. Cet avantage se présente comme un point clé de l'application du procédé au sens de l'invention aux grandes surfaces. Typiquement, le dépôt pourrait être effectué sur des surfaces allant jusqu'à l'ordre de 1 m2 ou au-delà grâce à un dispositif d'électrolyse approprié. Globalement, les rendements obtenus sont élevés pour des cellules à base de CIS avec une couche fenêtre à base de CdS. L'utilisation de substrats CIS avec des couches d'interface à base de ZnS est originale et très prometteuse. Par ailleurs, le dépôt par électrolyse de la couche superficielle de ZnO permet de s'affranchir définitivement de la couche sous-jacente intrinsèque de ZnO (ou ZnMgO) déposée habituellement par sputtering (référence TRA de la figure 1). Bien entendu, la présente invention ne se limite pas à la forme de réalisation décrite ci-avant à titre d'exemple ; elle s'étend à d'autres variantes. Par exemple, l'électrodépôt de la couche de revêtement d'oxyde transparent et/ou conducteur peut être effectué en fixant le potentiel à l'électrode (en mode dit � potentiostatique �, dans une réalisation préférée) ou en fixant le courant traversant l'électrode (en mode dit � intentiostatique �).25 Revendications1. Procédé de fabrication d'une structure photovoltaïque, ladite structure comportant une couche mince de revêtement déposée au-dessus d'une sous-couche à propriétés photovoltaïques, caractérisé en ce que le dépôt de la couche de revêtement est réalisé par électrochimie et assisté au moins en partie par un éclairement issu d'une source de lumière. 2. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que l'éclairement de la sous- couche photovoltaïque provoque un effet électrique propre à favoriser un dépôt uniforme et homogène de la couche de revêtement, au moins en début de croissance de la couche de revêtement. 3. Procédé selon l'une des revendications 1 et 2, caractérisé en ce que la couche de revêtement est à base d'un oxyde transparent et en ce que la couche de revêtement est destinée à intervenir comme fenêtre transparente et/ou conductrice d'une cellule photovoltaïque. 4. Procédé selon la revendication 3, caractérisé en ce que la couche de revêtement est à 20 base d'oxyde de zinc. 5. Procédé selon la revendication 4, caractérisé en ce que la couche est déposée par électrolyse à partir d'ions zinc dissous dans un bain d'électrolyse, par une réaction cathodique. 6. Procédé selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que la couche de revêtement est dopée par au moins un élément introduit en solution parmi le chlore, le fluor, l'iode, le brome, le gallium, l'indium, le bore et l'aluminium. 16 7. Procédé selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que l'éclairement est dans une gamme spectrale comprise entre 200 et 1300 nm et de puissance incidente comprise entre 1 mW/cm2 et 300 mW/cm2. 8. Procédé selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que la sous-couche photovoltaïque est constituée d'un alliage I-III-VI2 du type Cu(In,Ga,Al)(S,Se)2. 9. Procédé selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que la couche 1 o de revêtement est déposée directement sur la sous-couche photovoltaïque. 10. Procédé selon l'une des revendications 1 à 8, caractérisé en ce que la couche de revêtement est déposée sur au moins une couche d'interface située au dessus de la sous-couche photovoltaïque. 11. Procédé selon la revendication 10, caractérisé en ce que la couche d'interface est une couche à base de sulfure de cadmium. 12. Procédé selon la revendication 10, caractérisé en ce que la couche d'interface est 20 une couche à base de sulfure de zinc. 13. Procédé suivant la revendication 10, caractérisé en ce que la couche d'interface est une couche à base de sulfure d'indium. 25 14. Procédé selon l'une des revendications 11 à 13, caractérisé en ce que la couche d'interface est recouverte d'une couche d'oxyde de zinc non dopé ou d'un alliage d'oxyde de zinc non dopé. 15. Installation pour la mise en oeuvre du procédé selon l'une des revendications 30 précédentes, caractérisée en ce qu'elle comporte un bain d'électrolyse et une source de lumière éclairant la couche photovoltaïque. 15