Brevet FR2898886A1 — publié le 20070928

TETRAFLUORURE DE CERIUM, SES PROCEDES DE SYNTHESE ET SES UTILISATIONS DESCRIPTION DOMAINE TECHNIQUE La présente invention se rapporte à un tétrafluorure de cérium qui est apte à générer réversiblement du fluor moléculaire pur (F2). Elle se rapporte également à des procédés permettant de synthétiser ce tétrafluorure de cérium, ainsi qu'aux utilisations de ce dernier comme forme de stockage et de transport de fluor moléculaire, agent de purification de fluor moléculaire, agent de catalyse ou encore comme agent de fluoration. Elle se rapporte de plus à un procédé permettant de produire du fluor moléculaire à partir de ce tétrafluorure de cérium. Elle se rapporte en outre à un dispositif permettant de produire du fluor moléculaire à partir d'un tétrafluorure de cérium, mais également pour régénérer ce dernier, ainsi qu'à des installations utilisant ce dispositif. ÉTAT DE LA. TECHNIQUE ANTÉRIEURE Le fluor moléculaire, noté F2, est un gaz très réactif, très toxique et très corrosif, qui se prête particulièrement mal à un stockage et à un transport dans des emballages sous pression. Ainsi, par exemple, une bouteille B50, c'est-à-dire d'une contenance de 50 litres, ne contient au maximum que 2,2 kg de fluor car la pression dans la bouteille est limitée à 28 bars par voie réglementaire, alors qu'elle peut contenir jusqu'à 37,5 kg de 002 sous une pression de 200 bars. Par ailleurs, la synthèse de fluor par électrolyse d'un bain de sel fondu KF/2HF, est extrêmement coûteuse, notamment parce qu'elle utilise du fluorure d'hydrogène anhydre dont la dangerosité nécessite des mesures de surveillance et de maintenance particulièrement strictes pour éviter les recombinaisons explosives H2 + F2. Elle n'est donc pas envisageable pour des industriels n'utilisant que quelques centaines de kg de fluor par an. Or, il s'avère que le fluor moléculaire est de plus en plus utilisé dans l'industrie, notamment comme agent de gravure (par exemple, pour graver le silicium et ses oxydes), agent de nettoyage (par exemple, pour nettoyer les enceintes de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) servant à réaliser les dépôts en couches minces, par exemple de tungstène) et comme agent de fluoration (c'est-à-dire, pour traiter la surface de matériaux en vue de leur donner des propriétés particulières comme, par exemple, une résistance à la corrosion, à l'humidité, aux micro-organismes, une hydrophobie, une adhérence, etc., ou pour augmenter des propriétés qu'ils ont déjà). Un certain nombre de travaux ont donc été réalisés dans l'objectif de fournir aux industriels du fluor sous une forme qui soit plus facilement stockable et transportable que ne l'est F2, et qui soit apte à libérer du fluor sous forme moléculaire ou éventuellement atomique (puisque le fluor atomique se recombine avec le temps en fluor moléculaire). Ces travaux répondent principalement à deux concepts différents, à savoir : * l'adsorption/désorption du fluor sur des matériaux présentant de fortes surfaces spécifiques du type zéolithes ou charbons actifs ; toutefois, la réactivité du fluor, ou de certaines impuretés comme HF, vis-à-vis des matériaux adsorbants et son faible point d'ébullition font que ce concept n'est pas adapté à un stockage et à un transport de quantités importantes de fluor dans des conditions fiables ; * la synthèse de composés fluorés solides capables de servir de sources génératrices de fluor par 15 décomposition thermique. Il a ainsi notamment été proposé de générer du fluor à partir de KC1F4r de K3NiF-7, de tétrafluorure de manganèse (MnF4), de trifluorure de cobalt (CoF3), de tétrafluorure de terbium (TbF4) ou de sous-fluorures du 20 terbium. Il s'avère que la décomposition de KC1F4 conduit à la formation de fluor mais également d'espèces du type C1F3 ou C1F en sorte que le fluor produit est impur. 25 K3NiF7 présente, lui, l'inconvénient d'être toxique, hygroscopique, de ne contenir que 6% de fluor générable et d'avoir une synthèse qui est longue. La synthèse de MnF4 est, elle, très délicate, puisqu'elle doit se faire sous UV et utilise 30 un mélange de fluor gazeux et de fluorure d'hydrogène anhydre. Si CoF3 présente l'avantage de libérer 16% de fluor actif, sa température de décomposition est voisine de 600 C, ce qui pose de sérieux problèmes, notamment de corrosion. Quant au TbF4 et aux sous-fluorures de terbium, la faible abondance du terbium et donc son coût s'opposent à ce qu'ils puissent être utilisés à une échelle industrielle. Le cérium, qui est proche du terbium, présente également un fluorure de haute valence, à savoir le tétrafluorure de cérium, noté CeF4. Les composés du cérium presentent l'avantage d'être abondants et peu toxiques en général. Toutefois, non seulement peu d'études ont été réalisées à ce jour sur l'utilisation du CeF4 comme source potentielle de fluor, mais il s'avère de plus que les résultats obtenus sont relativement contradictoires. Ainsi, si Cunningham et al. ont montré dans une publication datant de 1954 (Journal of the American Chemistry Society, 76 (1954) 3361-3363, [1]), que du CeF4 synthétisé à 320 C est largement converti en trifluorure de cérium (CeF3) avec libération de fluor en 10 minutes lorsqu'il est chauffé à 230 C sous vide, Kim et al. (Journal of Fluorine Chemistry, 120 (2003) 111-116, [2]) ont rapporté depuis n'avoir jamais réussi à décomposer du CeF4 obtenu par la méthode décrite par Cunningham et al. en CeF3. Plusieurs auteurs (Rau et al., Journal de Physique IV, France, 11 (2001), [3] ; Gibson et al., Journal of the Less Common Metals, 144 (1988), 123-131, [4] ; Asker et al., Australian Journal of Chemistry, 18 (1964) 959-968, [5]) ont, par ailleurs, montré que le CeF4 ne se décompose qu'à de très hautes températures et qu'alors il se sublime également (T > 500 C). Dans leur publication précitée, Kim et a1. indiquent qu'en effectuant une fluoration ménagée, c'est-à-dire une fluoration à une température inférieure à 250 C, de CeF3 fourni par Shin Etsu Chem. Corp., on obtient un composé instable au cours du temps, de formule CeF3+X avec x Par ailleurs, Kim et al. n'ont pas pu apporter de preuve indiscutable que le composé libérait bien du F2. En effet, la fluoration de NaCl en NaF peut être obtenue soit avec du fluor moléculaire, soit avec du fluorure d'hydrogène (dans le cas où des traces d'humidité sont présentes). Enfin, il est à noter que Kim et al. rapportent également n'avoir jamais réussi à obtenir du CeF4 par fluoration de dioxyde de cérium (CeO2) sous atmosphère de fluor moléculaire, mais seulement du CeF3 via l'oxyfluorure CeOF. Or, il se trouve que, non seulement les Inventeurs sont parvenus à synthétiser du tétrafluorure de cérium,, notamment par fluoration d'une poudre de dioxyde de cérium, mais que, de plus, ce tétrafluorure de cérium s'est révélé apte à se décomposer en trifluorure de cérium, à des températures ne dépassant pas 400 C, en libérant du fluor moléculaire pur. EXPOSÉ DE L'INVENTION La présente invention a, donc, en premier lieu pour objet un tétrafluorure de cérium qui est apte à se décomposer en trifluorure de cérium, à des températures ne dépassant pas 400 C, en libérant du fluor moléculaire pur et qui est caractérisé, sur le plan structurel, en ce qu'il comprend des cristallites de tétrafluorure de cérium de taille nanométrique. Dans ce qui précède et ce qui suit, le terme "taille", appliqué à des cristallites, désigne la plus grande dimension de ces cristallites et le terme "nanométrique" signifie de 1 à 100 nanomètres. Les cristallites de taille nanométrique que comprend le tétrafluorure de cérium selon l'invention sont donc des cristallites dont la plus grande dimension va de 1 à 100 nanomètres. De préférence, ces cristallites ont une 25 taille d'au plus 50 nm et, mieux encore, d'au plus 10 nm. De préférence encore, ces cristallites sont dispersées dans une phase amorphe de tétrafluorure de cérium. 30 Par ailleurs, le tétrafluorure de cérium selon l'invention présente, avantageusement, une autre caractéristique structurelle, à savoir celle d'être exempt de trifluorure de cérium. Dans le cadre de l'invention, on considère qu'un tétrafluorure de cérium est exempt de trifluorure de cérium lorsqu'une analyse par diffraction des rayons X ne permet pas de détecter la présence de trifluorure de cérium, ce qui signifie, en l'état actuel des limites de détection de cette technique, que, si du trifluorure de cérium était toutefois présent, alors sa teneur massique serait nécessairement inférieure à 5%. L'invention a également pour objet des procédés de synthèse d'un tétrafluorure de cérium tel que précédemment défini. Selon un premier procédé, cette synthèse comprend la fluoration d'une poudre de dioxyde de cérium comprenant des cristallites de dioxyde de cérium de taille nanométrique. Par souci de commodité, cette poudre de dioxyde de cérium est appelée, dans ce qui suit, "poudre de dioxyde de cérium nanométrique". Des poudres de dioxyde de cérium nanométriques sont, par exemple, disponibles auprès des sociétés Aldrich, Rhodia et Applied Nanoworks. Conformément à l'invention, ces poudres de dioxyde de cérium nanométriques peuvent être fluorées telles quelles ou bien être préalablement dégazées pour éliminer l'eau susceptible d'être adsorbées sur ces poudres, ou bien encore être préalablement calcinées, par exemple pendant 2 heures, à 500 C environ et à l'air. Ces dernières conditions permettent d'éliminer certaines impuretés (nitrate par exemple) souvent présentes dans les poudres nanométriques. Par ailleurs, la fluoration de la poudre de dioxyde de cérium nanométrique peut être réalisée sous atmosphère de fluor moléculaire, éventuellement dilué par un gaz neutre, par exemple de l'argon, ou sous atmosphère de fluorure d'hydrogène anhydre. Toutefois, on préfère utiliser du fluor moléculaire "pur", c'est-à-dire non dilué par un gaz neutre, ou du fluorure d'hydrogène anhydre, ces deux milieux gazeux permettant, en effet, de réaliser la fluoration en une seule étape, contrairement à du fluor dilué par un gaz neutre qui nécessite de la réaliser en plusieurs étapes. Ainsi, dans un premier mode de mise en œuvre préféré du premier procédé de synthèse selon l'invention, la fluoration de la poudre de dioxyde de cérium nanométrique est réalisée en maintenant cette poudre à une température de 20 à 400 C environ et, de préférence, de 200 à 300 C, sous un flux de fluor moléculaire, éventuellement après une opération de dégazage de la poudre. A titre indicatif, la durée de cette fluoration est généralement de l'ordre de 1 à 10 heures et, de préférence, de 3 à 5 heures. L'opération de dégazage de la poudre de dioxyde de cérium nanométrique et sa fluoration peuvent être effectuées de manière séparée dans le temps pour autant que la poudre, une fois dégazée, soit conservée dans des conditions propres à éviter qu'elle ne se recharge en eau. Toutefois, on préfère réaliser ces deux opérations successivement dans le réacteur servant à la fluoration, ce qui peut être fait, par exemple, en dégazant la poudre dans le réacteur pendant 1 à 2 heures, à 150 C environ et sous vide dynamique, puis en introduisant dans le réacteur le fluor moléculaire nécessaire à la fluoration. Dans un autre mode de mise en œuvre préféré du premier procédé de synthèse selon l'invention, la fluoration de la poudre de dioxyde de cérium nanométrique est réalisée en maintenant cette poudre à une température de 200 à 800 C environ, sous un flux de HF anhydre, auquel cas la poudre de dioxyde de cérium peut être utilisée telle quelle ou bien être dégazée ou calcinée pendant 2 heures à 500 C à l'air, ces dernières conditions permettant d'éliminer certaines impuretés (nitrates en particulier) souvent présentes dans les poudres nanométriques. A titre indicatif, la durée de cette fluoration est généralement de l'ordre de 1 à 2 heures. Là également, on réalise préférentiellement l'opération de dégazage de la poudre de dioxyde de cérium nanométrique et sa fluoration successivement dans le réacteur servant à la fluoration. Dans tous les cas, on utilise, de préférence, une poudre de dioxyde de cérium dont les cristallites ont une taille allant de 5 à 50 nm. Ainsi, par exemple, d'excellents résultats ont été obtenus en utilisant une poudre présentant des cristallites de l'ordre de 5 nm. Selon un deuxième procédé, la synthèse du tétrafluorure de cérium comprend : a) la précipitation de trifluorure de cérium (CeF3) à partir de trinitrate de cérium (Ce(NO3)3) ou de trichlorure de cérium (CeCl3), en milieu HF-aqueux et sous micro-ondes ; puis b) la fluoration du trifluorure de cérium formé à l'étape a), sous atmosphère de fluor moléculaire. Dans un mode de mise en oeuvre préféré de ce deuxième procédé, celui-ci comprend de plus, entre les étapes a) et b), un séchage du trifluorure de cérium, ce séchage étant, de préférence, réalisé sous micro-ondes et sous atmosphère d'un gaz neutre pour éviter qu'il ne s'oxyde et/ou que la taille de ses cristallites n'augmente. Par ailleurs, la fluoration du trifluorure de cérium est, de préférence, réalisée en maintenant ce dernier à une température de 150 à 500 C environ, sous un flux de fluor moléculaire. A titre indicatif, la durée de cette fluoration est de l'ordre de 1 à 10 heures et, de préférence, de 3 à 5 heures. Le tétrafluorure de cérium selon l'invention, qui se présente avantageusement sous forme d'une poudre mais qui peut être mis sous d'autres formes aisément stockables et transportables sous atmosphère inerte comme, par exemple, des granulés ou des comprimés, s'est révélé apte à se décomposer entièrement en trifluorure de cérium, à des températures ne dépassant pas 400 C, en libérant une quantité de fluor moléculaire pur pouvant aller jusqu'à 8,8% de son poids. Aussi, est-il, en premier lieu, susceptible d'être utilisé comme forme de stockage et de transport de fluor moléculaire, puis comme source génératrice de ce fluor. En variante, le CeF4 selon l'invention peut également être utilisé comme agent de purification d'un fluor moléculaire contenant, par exemple, de l'oxygène, de l'azote et/ou du fluorure d'hydrogène. En effet, le fluor moléculaire généré par électrolyse contient des impuretés. Si le fluorure d'hydrogène peut facilement être éliminé de ce fluor par passage sur NaF, il en est autrement pour l'oxygène et l'azote qui ont des points d'ébullition très proches de celui de F2. En piégeant sélectivement du fluor moléculaire sur du CeF3r on peut ainsi purifier ce fluor. Il peut aussi être utilisé comme agent de catalyse, par exemple dans les réactions Cl/F pour l'obtention de substituts aux chlorofluorocarbures (CFC), à la place de A1F3 ou SbF5 par exemple (Manzer et Rao, Adv. Catalysis, 39 (1993) 329, [6]). Il peut encore être utilisé comme agent de fluoration., en particulier sur les systèmes aromatiques à la place de CoF3 et F2 comprimé (Desmurs et Raton, Roots of Organic Developments, Elsevier 1996, [7]). L'invention a aussi pour objet un procédé de production. de fluor moléculaire, qui est caractérisé en ce qu'il comprend la décomposition thermique d'un tétrafluorure de cérium tel que précédemment défini en trifluorure de cérium. La décomposition thermique du tétrafluorure de cérium est, de préférence, réalisée en maintenant le tétrafluorure de cérium à une température de 300 à 400 C environ, soit sous un flux d'un gaz neutre, auquel cas on obtient un mélange de gaz neutre et de fluor moléculaire, soit sous vide, auquel cas on obtient du fluor moléculaire pur. Conformément à l'invention, on préfère réaliser cette décomposition thermique en maintenant le tétrafluorure de cérium à une température de 400 C environ, sous un flux d'argon ou sous vide et, tout particulièrement, sous vide primaire. Avantageusement, le tétrafluorure de cérium est dispersé dans une matrice, de préférence, à l'état de poudre, de manière à éviter les phénomènes d'attrition. Cette matrice est, de préférence, en un matériau poreux, à pourcentage de vide élevé, c'est-à-dire en pratique d'au moins 70%. Ainsi, par exemple, des mousses métalliques comme les mousses de nickel commercialisées par la Société RECEMAT (Pays-Bas), qui présentent un pourcentage de vide pouvant aller jusqu'à 95%, se sont avérées particulièrement bien convenir. L'invention a encore pour objet un dispositif utile pour la production de fluor moléculaire par décomposition thermique d'un tétrafluorure de cérium, et notamment d'un tétrafluorure de cérium tel que précédemment défini, et/ou pour la régénération d'un tétrafluorure de cérium par fluoration du trifluorure de cérium résultant de sa décomposition. Conformément à l'invention, ce dispositif comprend une enceinte comportant une première extrémité munie d'une ouverture d'entrée de gaz ou de mise sous vide et une deuxième extrémité munie d'une ouverture de sortie de gaz ou de mise sous vide, et est caractérisé en ce que l'enceinte renferme une matrice dans laquelle est dispersé ledit tétrafluorure de cérium ou ledit trifluorure de cérium. Selon une première disposition préférée du dispositif, celui-ci comprend des moyens pour chauffer la partie de l'enceinte dans laquelle se situe la matrice, lesquels moyens comprennent avantageusement un four électrique qui entoure ladite partie. En variante, le dispositif peut également être prévu sans moyens de chauffage propres, auquel cas la partie de l'enceinte dans laquelle se situe la matrice peut, par exemple, être chauffée par application sur ladite partie d'enceinte d'un élément chauffant tel qu'une résistance électrique. Selon une autre disposition préférée du dispositif, l'enceinte de ce dispositif renferme, entre sa première extrémité et la matrice, un garnissage qui est constitué d'un matériau isolant thermique et perméable aux gaz. Ce matériau est destiné, en condition de fonctionnement du dispositif, d'une part, à servir d'écran thermique et, d'autre part, à assurer une répartition homogène, à l'intérieur de l'enceinte, du flux gazeux susceptible de traverser cette enceinte, que ce soit au cours de la décomposition thermique du tétrafluorure de cérium lorsque celle-ci est réalisée sous un flux de gaz neutre, ou au cours de la fluoration du trifluorure de cérium. Avantageusement, l'enceinte comprend, entre le garnissage et la matrice, un filtre perméable perméable aux gaz dont la fonction est d'éviter que ce garnissage et cette matrice ne se mélangent. L'enceinte peut encore comprendre deux autres filtres perméables aux gaz dont l'un est situé entre la première extrémité et le garnissage et a pour fonction d'empêcher ce dernier de s'échapper de l'enceinte par l'ouverture que comporte ladite première extrémité, et dont l'autre est situé entre la matrice et la deuxième extrémité de l'enceinte et a pour fonction d'empêcher le tétrafluorure de cérium ou le trifluorure de cérium dispersé dans la matrice de s'échapper par l'ouverture que comporte ladite deuxième extrémité. Comme précédemment, la matrice est, de préférence, en un matériau poreux à pourcentage de vide au moins égal à 7o%, par exemple en une mousse métallique du type de celles précitées. Par ailleurs, le tétrafluorure de cérium ou le trifluorure de cérium est, de préférence, dispersé dans la matrice à l'état de poudre. Le garnissage est, lui, avantageusement constitué de billes de céramique(s) oxyde(s) comme des billes d'alumine. Quant au ou aux filtres présents dans l'enceinte du dispositif, ils sont, de préférence, des frittés métalliques, par exemple à base de nickel comme des frittés de Monel ou d'In.conel . Selon encore une autre disposition préférée du dispositif, l'enceinte de ce dispositif présente une section circulaire et sa paroi est avantageusement en nickel ou en un alliage à base de nickel, par exemple en Monel ou en Inconel , ou comporte, sur sa face interne, une couche de nickel ou d'un alliage à base de nickel. Selon une disposition particulièrement préférée du dispositif, celui-ci se présente sous la forme d'une structure compacte, portable ou tractable par une seule personne. Le dispositif selon l'invention présente de nombreux avantages et en particulier celui de permettre aux industriels utilisant du fluor moléculaire de disposer d'un système générateur de fluor sous cette forme, qui est aisément stockable, qui est directement utilisable puisque, pour produire du fluor moléculaire avec ce dispositif, il suffit de le relier à un système de mise sous vide ou à une alimentation en un gaz neutre (selon que l'on souhaite obtenir du fluor moléculaire pur ou mélangé à un gaz neutre) et de chauffer la partie de l'enceinte dans laquelle se situe la matrice, et qui, en outre, est régénérable, ce qui est très intéressant d'un point de vue économique. L'invention a de plus pour objet une installation pour produire du fluor moléculaire, qui est caractérisée en ce qu'elle comprend : un dispositif tel que précédemment défini dans lequel la matrice contient du tétrafluorure de cérium ; et - des moyens pour alimenter ce dispositif 25 en un gaz neutre et/ou pour faire le vide dans ce dispositif. L'invention a en outre pour objet une installation pour régénérer un tétrafluorure de cérium, qui est caractérisée en ce qu'elle comprend : - un dispositif tel que précédemment défini dans lequel la matrice contient du trifluorure de cérium ; et - des moyens pour alimenter ledit 5 dispositif en fluor moléculaire. L'invention sera mieux comprise à la lecture des exemples qui suivent et qui se réfèrent aux figures annexées. Il va de soi que ces exemples ne sont donnés 10 qu'à titre d'illustrations de l'objet de l'invention et ne doivent en aucun cas être interprétés comme une limitation de cet objet. BRÈVE DESCRIPTION DES DESSINS La figure 1 illustre quatre diffractogrammes 15 obtenus par diffractométrie X sur poudres, la partie A de cette figure correspondant à celui d'une poudre de Ce02 nanométrique, la partie B correspondant à celui d'un CeF4 selon l'invention, obtenu par fluoration de cette poudre de Ce02 sous atmosphère de F2, la partie C 20 correspondant à celui du CeF3 résultant de la décomposition thermique de ce CeF4 et la partie D correspondant à celui du CeF4 mal cristallisé obtenu par fluoration de ladite poudre de Ce02 sous atmosphère de HF anhydre à 200 C. 25 La figure 2 correspond à une image prise au microscope électronique à transmission, à un grandissement de 50 000 x, sur une poudre de Ce02 nanométrique. La figure 3 représente un schéma de principe 30 d'une installation utile pour la synthèse d'un CeF4 selon l'invention, notamment par fluoration d'une poudre de Ce02 rianométrique, pour la production de F2 par décomposition thermique de ce CeF4 en CeF3, et pour la régénération dudit CeF4 par fluoration de ce CeF3. La figure 4 correspond à deux images prises au microscope électronique à transmission sur un CeF4 selon l'invention, obtenu par fluoration de la poudre de Ce02 montrée sur la figure 2 sous atmosphère de F2 à 300 C, la partie A de cette figure correspondant à un grandissement de 50 000 x et la partie B correspondant à un grandissement de 10 000 x. La figure 5 correspond à deux images prises au microscope électronique à transmission sur un CeF4 selon l'invention, obtenu par fluoration de la poudre de Ce02 montrée sur la figure 2 sous atmosphère de HF anhydre à 200 C, la partie A de cette figure correspondant à un grandissement de 50 000 x et la partie B correspondant à un grandissement de 20 000 x. La figure 6 illustre schématiquement, vu en coupe longitudinale, un exemple d'un dispositif selon l'invention. La figure 7 représente un schéma de principe d'une installation pour la production de fluor moléculaire utilisant un dispositif tel que montré sur la figure 6. La figure 8 représente un schéma de principe d'un exemple d'une installation pour régénérer le tétrafluorure de cérium d'un dispositif tel que montré sur la figure 6. EXPOSÉ DÉTAILLÉ DE MODES DE RÉALISATION PARTICULIERS EXEMPLE 1 : Synthèse d'un CeF4 à partir d'une poudre de Ce02 nanométrique On synthétise un tétrafluorure de cérium selon l'invention par fluoration d'une poudre de dioxyde de cérium nanométrique selon la réaction : Ce02 + 2F2 -* CeF4 + 02 en maintenant cette poudre à 300 C pendant 4 heures, sous atmosphère de fluor moléculaire. On vérifie préalablement la taille des cristallites de la poudre de Ce02 manométrique par, d'une part, diffractométrie X sur poudres (ou méthode de Debye-Scherrer) et, d'autre part, une analyse au microscope électronique à transmission (MET). On obtient ainsi le diffractogramme correspondant à la partie A de la figure 1 et l'image MET de la figure 2. La diffractométrie X sur poudres conduit à une valeur de 5 nm environ, ce que confirme l'analyse MET. Pour réaliser la fluoration, on utilise l'installation 10 illustrée schématiquement sur la figure 3. Comme le montre cette figure, cette installation comprend une nacelle 11 qui est logée dans un réacteur 12, de préférence de forme tubulaire et dont la partie centrale est elle-même logée dans un four 13. Le réacteur 12 comporte un fond 14 percé d'un orifice d'où s'échappe une première conduite 15. Cette conduite se divise en deux branches dont l'une sert à relier le réacteur 12 à une source d'alimentation 16 en F2 (une bouteille sous pression par exemple), tandis que l'autre sert a relier ce même réacteur à une source d'alimentation 17 en un gaz neutre pour le cas où l'on souhaite effectuer la fluoration de la poudre de CeO2 nanométrique sous atmosphère de fluor moléculaire dilué par un gaz neutre. A l'opposé du fond 14, le réacteur 12 comporte une ouverture 18 qui permet d'accéder à la nacelle 11 et qui, en condition de fonctionnement, est couplée, par des moyens d'assemblage mécaniques, à une deuxième conduite 19. Cette conduite se divise également en deux branches dont l'une sert à relier le réacteur 12 à un piège 20 à chaux (CaO), lequel est destiné à piéger le F2 n'ayant pas réagi avec la poudre de dioxyde de cérium, tandis que l'autre sert à relier ce même réacteur à. un système 24 permettant de faire le vide, par exemple une pompe aspirante. Les deux branches de la conduite 15 ainsi que la branche de la conduite 19 qui rejoint le piège à CaO sont munies de vannes, respectivement 21, 22 et 23, permettant de contrôler les flux de F2 et de gaz neutre, entre leur sortie des sources d'alimentation 16 et 17 et leur entrée dans le réacteur 12 d'une part, et entre leur sortie de ce réacteur et leur entrée dans le piège 20 d'autre part. La branche de la conduite 19 rejoignant le système générateur de vide 24 est également munie d'une vanne 25 permettant d'isoler le réacteur 12 de ce système. Pour une fluoration sous atmosphère de F2 30 dilué ou non par un gaz neutre, la nacelle 11 et le réacteur 12 sont, de préférence, en nickel ou en un alliage à base de nickel du type Monel , Inconel ou analogue. On place 1 g environ de la poudre de CeO2 nanométrique dans la nacelle 11. Puis, après avoir couplé l'ouverture 18 du réacteur 12 à la conduite 19,on chauffe ce réacteur au moyen du four 13 jusqu'à porter sa température interne à 300 C tout en l'alimentant en F2, à une pression de 1 atmosphère absolue (ou pression atmosphérique) et avec un débit de 10 mL/minute. La montée en température est choisie entre 2 et 3 C/minute. Si une opération de dégazage est nécessaire, le réacteur 12 est préalablement mis sous vide dynamique grâce au système générateur de vide 24 et la poudre de CeO2 est chauffée à 150 C pendant 1 heure environ. Puis, le F2 est introduit dans le réacteur 12 et la fluoration est effectuée comme décrit ci-dessus. On laisse la fluoration du CeO2 s'effectuer à 300 C pendant 4 heures puis on abaisse la température du réacteur 12 à raison de 3 C/minute. On obtient ainsi une poudre de couleur blanche que l'on soumet à une analyse élémentaire, à une analyse par diffractométrie X sur poudres, ainsi qu'à une analyse MET. L'analyse par diffractométrie X conduit au diffractogramme correspondant à la partie B de la figure 1 qui permet de confirmer, conjointement avec l'analyse élémentaire, qu'il s'agit bien de CeF4. L'analyse MET permet, elle, d'obtenir les images correspondant aux parties A et B de la figure 4, qui mettent en évidence que ce CeF4 est constitué de . cristallites de CeF4 de taille nanométrique (de l'ordre de 5 à 50 nm), entourés d'une gangue amorphe de même composition. Ce CeF4 est porté à une température de 400 C, d'une part, sous vide primaire et, d'autre part, sous un flux d'argon. Dans les deux cas, il est entièrement décomposé au bout de 5 heures en un produit dont l'analyse par diffraction X conduit au diffractogramme X correspondant à la partie C de la figure 1, qui est celui du CeF3. La perte de poids est de 8,8%, ce qui correspond bien à la perte en fluor moléculaire attendue. Il est à noter que des résultats similaires sont obtenus en réalisant la fluoration de la poudre de Ce02 nanométrique sous atmosphère de F2 dilué à 10% par de l'argon, à condition d'effectuer cette fluoration en deux étapes successives séparées par un broyage de la poudre en boite à gants. EXEMPLE 2 Synthèse d'un CeF4 selon l'invention à partir d'une poudre de Ce02 nanométrique On synthétise un tétrafluorure de cérium selon l'invention par fluoration d'une poudre de dioxyde de cérium nanométrique identique à celle utilisée dans l'exemple 1 ci-avant, en maintenant cette poudre à 200 C pendant 1 à 2 heures, sous atmosphère de fluorure d'hydrogène anhydre. Pour ce faire, on utilise une installation analogue à celle représentée sur la figure 3 mais dans laquelle la nacelle 11 et le réacteur 12 sont en platine plutôt qu'en nickel, la source d'alimentation 16 en F2 est remplacée par une source d'alimentation en HF anhydre, et le four est, de préférence, un four à induction pour obtenir une montée et une descente rapides en température. On place 1 g environ de la poudre de Ce02 nanométrique dans la nacelle 11. Puis, après avoir couplé l'ouverture 18 du réacteur 12 à la conduite 19, on chauffe ce réacteur au moyen du four 13 de manière à porter sa température interne à 200 C en 1 heure tout en l'alimentant en HF anhydre, à une pression de 1 atmosphère absolue et avec un débit d'environ 50 mL/ minute. On laisse la fluoration du Ce02 s'effectuer à 200 C pendant 1 à 2 heures puis on abaisse la température du réacteur 12 à raison de 10 C/minute. Là également, on obtient une poudre de couleur blanche dont une analyse élémentaire et une analyse par diffractométrie X sur poudres permettent de confirmer qu'il s'agit bien de CeF4. Le diffractogramme correspondant à la partie D de la figure 1 montre que le CeF4 ainsi obtenu est très mal cristallisé. Par ailleurs, la morphologie de ce CeF4 est vérifiée par une analyse MET. Comme le montrent les parties A et B de la figure 5, cette morphologie est la même que celle du CeF4 obtenu dans l'exemple 1 ci-avant, à savoir que la poudre est formée de cristallites nanométriques de CeF4 entourées d'une gangue amorphe de même composition. Des essais de fluoration de la poudre de Ce02 nanométrique, toujours sous atmosphère de HF anhydre, mais à une température de 800 C, pendant 1 à 2 heures, ont permis d'obtenir des résultats similaires du point de vue composition. Toutefois, l'analyse cristallographique montre que le CeF4 est très bien cristallisé et le diffractogramme X est similaire à celui illustré sur la partie B de la figure 1. EXEMPLE 3 Synthèse d'un CeF4 selon l'invention à partir de Ce(NO3)3 On synthétise un tétrafluorure de cérium selon l'invention par précipitation de trifluorure de cérium à partir de trinitrate de cérium, en milieu aqueux et sous micro-ondes, puis fluoration du trifluorure de cérium ainsi formé sous atmosphère de fluor moléculaire. Pour ce faire, on mélange 10 mL d'une solution aqueuse 2,92 M de Ce(NO3)3 à 40 mL d'eau distillée. On agite ce mélange pour l'homogénéiser, puis on lui ajoute 5 mL de fluorure d'hydrogène en solution aqueuse à 40%. Cette solution est versée dans un réacteur en polytétrafluoroéthylène (Téflon ). On homogénéise de nouveau par agitation, puis on ferme le réacteur grâce à une flasque également en Téflon . Le réacteur est ensuite placé dans un système CEM-Mars 5 (Microwaved Activation Digestion System) dont on règle la puissance à 300 W. Le cycle de chauffage est le suivant . montée en température de 25 à 85 C en 15 minutes, suivi d'un palier de 30 minutes à 85 C. Le refroidissement est, lui, effectué en 15 minutes environ. La phase de séchage du produit formé utilise un dispositif étanche de tubulures en Téflon qui permet d'évaporer le solvant sous un courant d'argon et qui évite ainsi toute entrée d'air susceptible d'oxyder ou de faire croître les grains de ce produit. Le cycle de séchage, qui est également mis en œuvre à une puissance de 300 W, est le suivant . montée en température de 25 à 90 C en 15 minutes, suivie d'un palier de 50 minutes à cette dernière température. Après refroidissement sous argon, on obtient 5 g d'une poudre que l'on broie finement et dont une analyse élémentaire et une analyse par diffractométrie X sur poudres permettent de vérifier qu'il s'agit bien de CeF3 . La fluoration de ce CeF3 est ensuite réalisée en utilisant la même installation et les mêmes conditions opératoires que ceux décrits dans l'exemple 1 ci-avant pour la fluoration de la poudre de CeO2 nanométrique sous atmosphère de F2. Là également, on obtient une poudre de couleur blanche dont une analyse élémentaire et une analyse par diffractométrie X sur poudres permettent de vérifier qu'il s'agit bien de CeF4. Ce dernier, porté pendant 5 heures à 400 C sous vide primaire, se décompose entièrement en CeF3 avec une libération de fluor moléculaire correspondant à 8,8% de son poids initial. EXEMPLE 4 Synthèse d'un CeF4 selon l'invention à partir de CeCl3 On synthétise un tétrafluorure de cérium selon l'invention par précipitation de trifluorure de cérium à partir de trichlorure de cérium, en milieu aqueux et sous micro-ondes, puis fluoration du trifluorure de cérium ainsi formé sous atmosphère de fluor moléculaire. La précipitation du CeF3 est réalisée en utilisant le même matériel et les mêmes conditions opératoires que ceux décrits dans l'exemple 3 ci-avant, à ceci près que l'on utilise 9,3 g de cristaux de CeCl3,7H2O dans 40 mL d'eau distillée en lieu et place des 9,5 g de cristaux de Ce(NO3)3. La fluoration du CeF3 est, quant à elle, réalisée en utilisant la même installation et les mêmes conditions opératoires que ceux décrits dans l'exemple 1 ci-avant pour la fluoration de la poudre de CeO2 nanométrique sous atmosphère de F2. Là également, on obtient une poudre de couleur blanche dont une analyse élémentaire et une analyse par diffractométrie X sur poudres permettent de vérifier qu'il s'agit bien de CeF4. Ce dernier, porté pendant 5 heures à 400 C sous vide primaire, se décompose entièrement en CeF3 avec une libération de fluor moléculaire correspondant à 8,8% de son poids initial. EXEMPLE 5 : Production de F2 par décomposition thermique d'un CeF4 selon l'invention et régénération de ce CeF4 Pour produire du fluor moléculaire par décomposition thermique d'un tétrafluorure de cérium tel que produit dans les exemples 1 à 4 ci-avant, et régénérer ultérieurement ce tétrafluorure de cérium, il est tout d'abord possible d'utiliser une installation analogue à celle illustrée sur la figure 3. En mode "production de F2", on place la poudre de CeF4 dans la nacelle 11, on couple l'ouverture 18 du réacteur 12 à la conduite 19, on supprime le piège 20 à CaO et on raccorde la branche de la conduite 19 qui était reliée à ce piège à un système de stockage (non représenté sur la figure 3) comprenant, par exemple, un compresseur et des bouteilles. On peut alors décomposer le CeF4 : * soit sous un flux de gaz neutre, auquel cas on chauffe le réacteur 12 au moyen du four 13 de manière à porter sa température interne à une valeur allant de 300 à 400 C mais préférentiellement à 400 C tout en l'alimentant en gaz neutre, par exemple à une pression de 1 atmosphère absolue et avec un débit, par exemple de 6 mL/minute ; * soit sous vide, auquel cas on met le réacteur 12 sous vide à l'aide du système générateur de vide 24 et on chauffe ce réacteur comme indiqué ci-dessus. Sous l'effet de la chaleur, le CeF4 se décompose en CeF3 et libère du fluor moléculaire pur qui 30 s'échappe, tel quel ou mélangé au gaz neutre, hors du réacteur 12 par l'ouverture 18 de ce réacteur et qui est acheminé par la conduite 19 jusqu'au système de stockage. En mode "régénération du CeF4", on revient à la configuration montrée sur la figure 3 et on soumet le CeF3 issu de la décomposition du CeF4 à une fluoration sous atmosphère de F2, dans des conditions opératoires analogues à celles décrites dans l'exemple 1 ci-avant pour la fluoration de la poudre de CeO2 nanométrique. On peut également utiliser les installations 30 et 40 illustrées schématiquement sur les figures 7 et 8. Ces installations ont en commun de comprendre, comme élément principal, un dispositif 60 qui comprend une enceinte 61 dont la partie centrale est logée dans un four 62 et dont les deux extrémités, respectivement 63 et 64, sont situées hors de ce four. Dans l'installation 30 représentée sur la figure 7, qui est conçue pour utiliser le dispositif 60 en mode "production de F2", l'enceinte 61 est connectée, au niveau de son extrémité 63, à une première conduite 31 qui se divise en deux branches permettant de relier cette enceinte, d'une part, à une source d'alimentation 32 en un gaz neutre, avantageusement de l'argon, et, d'autre part, à un système 33 permettant de faire le vide, par exemple une pompe aspirante. L'enceinte 61 est, par ailleurs, connectée, au niveau de son extrémité 64, à une deuxième conduite :34 qui permet d'acheminer le fluor moléculaire produit dans l'enceinte 61 jusqu'à un système de stockage (non représenté sur la figure 7) comprenant, par exemple, un compresseur et des bouteilles. Comme montré sur la figure 7, la conduite 34 peut optionnellement être raccordée de plus à une cartouche 35 à iodure de potassium si l'on souhaite vérifier, par exemple au début d'un cycle de production de fluor moléculaire, que le flux gazeux libéré par l'enceinte 61 comprend bien du fluor moléculaire. Les conduites 31 et 33 sont munies de vannes, respectivement 36, 37, 38 et 39 permettant de contrôler les flux gazeux en amont et en aval de l'enceinte 61 ainsi que d'isoler cette enceinte du système producteur de vide 33, certaines de ces vannes, comme la vanne 37, pouvant comprendre un clapet antiretour. Dans l'installation 40 représentée sur la figure 8, qui est conçue pour utiliser le dispositif 60 en mode "régénération du CeF4", l'enceinte 61 est connectée, au niveau de son extrémité 63, à une première conduite 41 qui se divise en deux branches permettant de relier cette enceinte, d'une part, à une source d'alimentation 42 en fluor moléculaire et, d'autre part, à un système 43 permettant de faire le vide dans cette enceinte avant de la mettre sous flux de fluor moléculaire afin d'éviter une dilution de ce gaz. L'enceinte 61 est, par ailleurs, connectée, au niveau de son extrémité 64, à une conduite 44 permettant de la relier à un piège à CaO destiné à piéger le F2 n'ayant pas réagi avec le trifluorure de cérium en condition de fonctionnement du dispositif 60. Là également, les conduites 41 et 44 sont 30 munies de vannes, respectivement 46, 47, 48, 49, 50 et 51, dont certaines comprennent optionnellement un clapet anti-retour. On se réfère à présent à la figure 6 qui représente, vu en coupe longitudinale, le dispositif 60 tel qu'il se présente avant que l'enceinte 61 ne soit connectée aux conduites 31 et 34 (dans l'installation 30) ou 41 et 44 (dans l'installation 40). Comme le montre cette figure, l'enceinte 61 de ce dispositif présente, de préférence, la forme d'un tube, d'axe de symétrie a, et est munie à chacune de ses extrémités d'un embout, respectivement 65 et 66. Ces embouts sont tous deux traversés par une ouverture, respectivement 67 et 68, au niveau de laquelle se fait la connexion de l'enceinte 61 avec les conduites 31 et 34 ou 41 et 44. L'enceinte 61 renferme successivement, de l'embout 65 vers l'embout 66 : * un premier filtre 68 apte à laisser passer les gaz ; * un garnissage 69 dont le rôle est à la fois de servir d'écran thermique et d'assurer une répartition homogène, au sein de l'enceinte 61, du flux gazeux susceptible de traverser cette enceinte en condition de fonctionnement (gaz neutre en mode "production de F2", fluor moléculaire en mode "régénération du CeF4") ; * un deuxième filtre 70, apte, comme le précédent,, à laisser passer les gaz ; * une matrice 71, dans laquelle est dispersé, de préférence, sous la forme d'une poudre, le CeF4 ou le CeF3 selon que l'on utilise le dispositif en mode "production de F2" ou "régénération du CeF4" et dont le rôle est d'augmenter la surface de contact entre ces composés et le flux gazeux susceptible de traverser le dispositif en condition de fonctionnement et d'éviter, ainsi, les phénomènes d'attrition ; * un espace vide 72 qui est fermé par un troisième filtre 73 apte, comme les deux précédents, à laisser passer les gaz et dont le rôle est d'éviter que l'intérieur de l'enceinte ne monte en pression en condition de fonctionnement (système de sécurité) ; puis de nouveau * un espace vide 74 qui, lui, est fermé par l'embout 66. Les filtres 68 et 70 servent à empêcher que le garnissage 69 d'une part, ne s'échappe par l'ouverture 67 de l'embout 65 et, d'autre part, ne se mélange à la matrice 71. De manière similaire, le filtre 73 sert à empêcher que la poudre de CeF4 ou de CeF3 présente dans cette matrice rie s'échappe par l'ouverture 68 de l'embout 66. Comme précédemment indiqué, la partie centrale de l'enceinte 61, qui est celle dans laquelle se trouve la matrice 71, est logée dans un four 62 dont l'élément générateur de chaleur est constitué d'un collier 75 qui entoure la paroi 76 de cette enceinte. Par ailleurs, un tube 77, coaxial avec l'enceinte 61, plonge dans cette enceinte jusqu'à la surface du garnissage 69 située au contact du deuxième filtre 70, en traversant successivement l'embout 66, l'espace 74, le troisième filtre 73, l'espace 72, la matrice 71 et le deuxième filtre 70. Ce tube, dont l'extrémité située à l'extérieur de l'enceinte 61 est ouverte, mais dont l'extrémité située au contact du garnissage 69 est fermée, loge un moyen 78 permettant de vérifier la température interne de cette enceinte comme, par exemple, un thermocouple. L'enceinte 61 peut être réalisée en un matériau quelconque pour autant que ce matériau résiste à une température au moins égale à 400 C. Par contre, il est souhaitable que sa paroi 76, à défaut d'être en nickel ou en un alliage à base de nickel, soit recouverte sur sa face interne d'une couche de nickel ou d'un alliage à base de nickel du type Monel , Inconel ou analogue. De manière similaire, la paroi 79 du tube 77 est, de préférence, en en nickel ou en un alliage à base de nickel ou recouverte sur sa face externe d'une couche de nickel ou d'un alliage à base de nickel. Les filtres 68, 70 et 73 sont, de préférence, des frittés métalliques, par exemple à base de nickel comme des frittés de Monel ou d'Inconel . Le garnissage 69, qui doit être en un matériau isolant thermique pour pouvoir assurer son rôle d'écran thermique, est avantageusement constitué de billes de céramiques oxyde(s), par exemple d'alumine, tandis que la matrice 71 est, elle, avantageusement en un matériau poreux à pourcentage de vide au moins égal à 70% comme, par exemple, en une mousse de nickel du type de celles commercialisées par la Société RECEMAT (Pays-Bas), qui présentent un pourcentage de vide pouvant aller jusqu'à 95% et des pores de l'ordre de 0,5 mm. Comme visible, ce type de mousse peut être utilisé sous la forme d'un empilement de rondelles préalablement usinées pour être adaptées au diamètre intérieur de l'enceinte 61. Il est souhaitable que les embouts 65 et 66 ainsi que tous les éléments dans l'enceinte 61 soient amovibles pour pouvoir procéder à leur nettoyage, à leur remplacement en cas d'usure, ainsi qu'au nettoyage de la face interne de la paroi 76 de l'enceinte 61. En variante du mode de réalisation du dispositif 60 illustré sur la figure 6, il est possible de remplir l'espace vide 74 d'un deuxième garnissage, avantageusement de même nature que le garnissage 69 (billes d'alumine par exemple) et ce, en vue de diminuer encore le risque de voir le CeF4 ou le CeF3 dispersé dans la matrice s'échapper de l'enceinte 61 par l'ouverture 68 de l'embout 66, notamment lorsqu'ils sont présents dans cette matrice à l'état de poudres. En mode "production de F2" (installation 30), on peut décomposer le CeF4 présent dans l'enceinte 61 : * soit sous un flux de gaz neutre, auquel cas on chauffe cette enceinte au moyen du four 62 de manière à porter sa température interne à une valeur allant de 300 à 400 C mais préférentiellement à 400 C tout en l'alimentant en gaz neutre, par exemple à une pression de 1 atmosphère absolue et avec un débit, par exemple de 6 mL/minute ; * soit sous vide, auquel cas on met l'enceinte 61 sous vide à l'aide du système générateur de vide 43 et on chauffe cette enceinte comme indiqué ci-dessus. Sous l'effet de la chaleur, le CeF4 se décompose en CeF3 et libère du fluor moléculaire pur qui s'échappe, tel quel ou mélangé au gaz neutre, hors de l'enceinte 61 par l'ouverture 68 et qui est acheminé par la conduite 34 jusqu'au système de stockage. En mode "régénération du CeF4", on fait le vide dans l'enceinte 61, puis on porte sa température interne à 300 C tout en l'alimentant en F2 pur, à une pression de 1 atmosphère absolue et avec un débit, par exemple de 10 mL/minute. EXEMPLE 6 (exemple comparatif) : Synthèse d'un CeF4 à partir d'une poudre de Ce02 micrométrique On soumet une poudre de Ce02 micrométrique (taille de cristallites : 1 à 10 m - Références : Ce02 alpha et Ce02 Opaline -Rhodia) à une fluoration sous atmosphère de HF anhydre. On réalise cette fluoration en utilisant le même dispositif et les mêmes conditions opératoires que ceux décrits dans l'exemple 2 ci-avant pour la fluoration de la poudre de Ce02 nanométrique sous atmosphère d'HF anhydre, à ceci près que la poudre de Ce02 micrométrique est chauffée à une température de 700 à 800 C et que la montée en température est effectuée en 2 heures. Une analyse élémentaire et une analyse par diffractométrie X sur poudres du produit ainsi obtenu montrent que la fluoration n'a pas conduit à la formation de CeF4 mais s'est arrêtée à CeF3. En effet, le diffractogramme de ce produit est analogue à celui représenté sur la partie C de la figure 1. Par ailleurs, aucune décomposition de ce produit n'est observée lorsqu'il est porté à 400 C sous vide primaire. REFERENCES CITEES [1] Cunningham et al., Journal of the American Chemistry Society, 76 (1954) 3361-3363 [2] Kim et al., Journal of Fluorine Chemistry, 120 (2003) 111-116 [3] Rau et al., Journal de Physique IV, France, 11 (2001) [4] Gibson et al., Journal of the Less Common Metals, 144 (1988), 123-131 [5] Asker et al., Australian Journal of Chemistry, 18 (1964) 959-968 [6] Manzer et Rao, Adv. Catalysis, 39 (1993) 329 [7] Desmurs et Raton, Roots of Organic Developments, Elsevier 1996 REVENDICATIONS 1. Tétrafluorure de cérium, caractérisé en ce qu'il comprend des cristallites de tétrafluorure de 5 cérium de taille nanométrique. 2. Tétrafluorure de cérium selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'il comprend des cristallites de tétrafluorure de cérium dont la taille 10 est d'au plus 50 nm et, de préférence, d'au plus 10 nm. 3. Tétrafluorure de cérium selon la revendication 1 ou la revendication 2, caractérisé en ce que les cristallites de tétrafluorure de cérium sont 15 dispersés dans un phase amorphe de tétrafluorure de cérium. 4. Tétrafluorure de cérium selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé 20 en ce qu'il présente une teneur massique en trifluorure de cérium inférieure à 5%. 5. Procédé de synthèse d'un tétrafluorure de cérium tel que défini dans l'une quelconque des 25 revendications 1 à 4, caractérisé en ce qu'il comprend la fluoration d'une poudre de dioxyde de cérium comprenant des cristallites de dioxyde de cérium de taille nanométrique. 30 6. Procédé de synthèse selon la revendication 5, caractérisé en ce que la fluoration de la poudre de dioxyde de cérium est réalisée sous atmosphère de fluor moléculaire, éventuellement dilué par un gaz neutre, ou sous atmosphère de fluorure d'hydrogène anhydre. 7. Procédé de synthèse selon la revendication 5 ou la revendication 6, caractérisé en ce que la fluoration de la poudre de dioxyde de cérium est réalisée en maintenant cette poudre à une température de 20 à 400 C environ, sous un flux de fluor moléculaire, éventuellement après une opération de dégazage de ladite poudre. 8. Procédé de synthèse selon la revendication 7, caractérisé en ce que la fluoration de la poudre de dioxyde de cérium est réalisée en maintenant: cette poudre à une température de 200 à 300 C environ, pendant 3 à 5 heures environ, sous le flux de fluor moléculaire. 9. Procédé de synthèse selon la revendication 6, caractérisé en ce que la fluoration de la poudre de dioxyde de cérium est réalisée en maintenant cette poudre à une température de 200 à 800 C 25 environ, sous un flux de fluorure d'hydrogène anhydre, après une opération de dégazage de ladite poudre. 10. Procédé de synthèse selon la revendication 7 ou la revendication 9, caractérisé en ce 30 que l'opération de dégazage de la poudre de dioxyde de cérium est. réalisée en maintenant cette poudre à 150 C environ, pendant 1 à 2 heures, sous vide dynamique. 11. Procédé de synthèse selon l'une quelconque des revendications 5 à 10, caractérisé en ce que la poudre de dioxyde de cérium comprend des cristallites de dioxyde de cérium dont la taille va de 5 à 50 nm. 12. Procédé de synthèse d'un tétrafluorure de cérium tel que défini dans l'une quelconque des revendications 1 à 4, caractérisé en ce qu'il comprend : a) la précipitation de trifluorure de cérium à partir de trinitrate de cérium ou de trichlorure de cérium en milieu fluorure d'hydrogène-eau et sous micro-ondes ; et b) la fluoration du trifluorure de cérium formé à l'étape a), sous atmosphère de fluor moléculaire. 13. Procédé de synthèse selon la revendication 12, caractérisé en ce qu'il comprend de plus, entre les étapes a) et b), un séchage du trifluorure de cérium, ce séchage étant réalisé sous micro-ondes et sous atmosphère d'un gaz neutre. 14. Procédé de synthèse selon la revendication 12 ou la revendication 13, caractérisé en ce que la fluoration du trifluorure de cérium est réalisée en maintenant ce dernier à une température de 150 à 500 C environ, sous un flux de fluor moléculaire. 15. Utilisation d'un tétrafluorure de cérium tel que défini dans l'une quelconque des revendications 1 à 4, comme forme de stockage et de transport de fluor 5 moléculaire. 16. Utilisation d'un tétrafluorure de cérium tel que défini dans l'une quelconque des revendications 1 à 4, comme source génératrice de fluor moléculaire. 17. Utilisation d'un tétrafluorure de cérium tel que défini dans l'une quelconque des revendications 1 à 4, comme agent de purification de fluor moléculaire. 18. Utilisation d'un tétrafluorure de cérium tel que défini dans l'une quelconque des revendications 1 à 4, comme agent de catalyse. 19. Utilisation d'un tétrafluorure de cérium 20 tel que défini dans l'une quelconque des revendications 1 à 4, comme agent de fluoration. 20. Procédé de production de fluor moléculaire, caractérisé en ce qu'il comprend la 25 décomposition thermique d'un tétrafluorure de cérium selon l'une quelconque des revendications 1 à 4 en trifluorure de cérium. 21. Procédé de production selon la 30 revendication 20, caractérisé en ce que la décomposition thermique du tétrafluorure de cérium est réalisée en 10 15 maintenant ce tétrafluorure de cérium à une température de 300 à 400 C environ, sous un flux d'un gaz neutre ou sous vide. 22. Procédé de production selon la revendication 20 ou la revendication 21, caractérisé en ce que la décomposition thermique du tétrafluorure de cérium est réalisée en maintenant ce tétrafluorure de cérium à une température de 400 C environ sous un flux d'argon ou sous vide et, de préférence, sous vide. 23. Procédé selon l'une quelconque des revendications 20 à 22, caractérisé en ce que le tétrafluorure de cérium est dispersé dans une matrice, de préférence à l'état de poudre. 24. Procédé selon la revendication 23, caractérisé en ce que la matrice est en un matériau poreux à pourcentage de vide au moins égal à 70%. 25. Procédé selon la revendication 23 ou la revendication 24, caractérisé en ce que la matrice est en une mousse métallique, en particulier une mousse de nickel. 25 26. Dispositif (60) utile pour la production de fluor moléculaire par décomposition thermique d'un tétrafluorure de cérium et/ou pour la régénération de ce tétrafluorure de cérium par fluoration du trifluorure de 30 cérium résultant de sa décomposition, comprenant une enceinte (61) comportant une première extrémité (65)20 munie d'une ouverture (67) d'entrée de gaz ou de mise sous vide et une deuxième extrémité (67) munie d'une ouverture (68) de sortie de gaz ou de mise sous vide, caractérisé en ce que l'enceinte renferme une matrice (71) dans laquelle est dispersé ledit tétrafluorure de cérium ou ledit trifluorure de cérium. 27. Dispositif selon la revendication 26, caractérisé en ce qu'il comprend des moyens (62) pour chauffer la partie de l'enceinte (61) dans laquelle se situe la matrice (71). 28. Dispositif selon la revendication 27, caractérisé en ce que les moyens (62) pour chauffer la partie de l'enceinte dans laquelle se trouve la matrice comprennent un four électrique qui entoure ladite partie. 29. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 26 à 28, caractérisé en ce que l'enceinte (61) renferme, entre sa première extrémité (65) et la matrice (71), un garnissage (69) constitué d'un matériau isolant thermique et perméable aux gaz. 30. Dispositif selon la revendication 29, caractérisé en ce que l'enceinte (61) renferme, entre le garnissage (69) et la matrice (71), un filtre (70) perméable aux gaz. 31. Dispositif selon la revendication 29 ou la revendication 30, caractérisé en ce que l'enceinte (61) renferme, entre sa première extrémité (65) et le garnissage (69), un filtre (68) perméable aux gaz. 32. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 26 à 31, caractérisé en ce que l'enceinte (61) renferme, entre la matrice (71) et sa deuxième extrémité (67), un filtre (73) perméable aux gaz. 33. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 26 à 32, caractérisé en ce que la matrice (71) est un matériau poreux à pourcentage de vide au moins égal à 70%. 34. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 26 à 33, caractérisé en ce que la matrice (71) est en une mousse métallique, en particulier une mousse de nickel. 35. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 29 à 34, caractérisé en ce que le garnissage (69) est constitué de billes en céramique(s) oxyde(s). 36. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 30 à 32, caractérisé en ce que le ou les filtres (68, 70, 73) présents dans l'enceinte (61) sont des frittés métalliques. 37. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 26 à 36, caractérisé en ce que l'enceinte (61) est à section circulaire. 38. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 26 à 37, caractérisé en ce que l'enceinte (61) a une paroi (76) en nickel ou en un alliage à base de nickel ou comportant, sur sa face interne, une couche de nickel ou d'un alliage à base de nickel. 39. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 26 à 38, caractérisé en ce qu'il se présente sous la forme d'une structure compacte, portable ou tractable par une seule personne. 40. Installation (30) de production de fluor moléculaire, caractérisée en ce qu'elle comprend : un dispositif (60) tel que défini dans l'une quelconque des revendications 26 à 39 dans lequel la matrice contient du tétrafluorure de cérium ; et - des moyens (31, 32) pour alimenter ce dispositif en un gaz neutre et/ou des moyens (31, 33) pour faire le vide dans ce dispositif. 41. Installation (40) de régénération d'un tétrafluorure de cérium, caractérisée en ce qu'elle comprend : un dispositif (60) tel que défini dans l'une quelconque des revendications 26 à 39 dans lequel la matrice contient du trifluorure de cérium ; et - des moyens (41, 42) pour alimenter ce dispositif en fluor moléculaire.30