Brevet FR2901892A1 — publié le 20071207

DISPOSITIF ET PROCEDE DE TRAITEMENT PHOTOGRAPHIQUE La présente invention concerne un dispositif et un procédé de traitement photographique, et plus particulièrement, un dispositif et un procédé de traitement photographique destinés à améliorer le rendement par minimisation d'un agencement entier de la chaîne de traitement photographique. En général, un traitement photographique est utilisé pour appliquer des motifs à un substrat lors de la fabrication d'un dispositif à semi-conducteur, un dispositif d'affichage plat, etc. Le traitement photographique comprend les étapes consistant à appliquer un revêtement de résine photosensible sur un substrat, accomplir une exposition de la résine photosensible appliquée sur le substrat, et accomplir un développement du substrat exposé. Lors de l'accomplissement de l'exposition, la résine photosensible appliquée est exposée de manière sélective. La figure 1 est un agencement destiné à illustrer de manière simplifiée un dispositif photographique de l'art connexe. Tel que représenté sur la figure 1, le dispositif photographique de l'art connexe est prévu avec une unité de chargement/déchargement 10 qui charge ou décharge un substrat ; une unité de nettoyage 20 qui nettoie le substrat ; une chaîne d'application de revêtement qui applique un revêtement de résine photosensible sur le substrat nettoyé ; une unité d'exposition 110 qui applique un traitement d'exposition à la résine photosensible dont est revêtu le substrat ; une titreuse 120 qui forme un code d'identification sur le substrat exposé ; et une chaîne de développement qui met en pratique un traitement de développement du substrat par l'intermédiaire de la titreuse 120. L'unité de chargement/déchargement 10 charge le substrat dans l'unité de nettoyage 20 après avoir extrait le substrat d'un chargeur déplacé par un dispositif de transport. De même, l'unité de chargement/déchargement 10 décharge le substrat de la chaîne de développement, puis charge le substrat dans le chargeur. L'unité de nettoyage 20 nettoie le substrat qui est chargé par l'unité de chargement/déchargement 10. L'unité de nettoyage 20 est prévue avec un transporteur de nettoyage qui transporte le substrat jusqu'à la chaîne d'application de revêtement ; et une partie de nettoyage qui pulvérise une solution de nettoyage sur le substrat transporté afin de nettoyer le substrat. La chaîne d'application de revêtement est prévue avec un premier bras robotisé 30 qui sort le substrat nettoyé de l'unité de nettoyage 20 ; une étuve de déshydratation (DHP) 40 qui déshydrate le substrat amené par le premier bras robotisé 30 ; un premier transporteur 50 qui transporte le substrat déshydraté ; une R:1Brevets\25800\25813--060926-Demande.doc 1/28 27/09/200617:19 unité d'application de revêtement 60 qui applique le revêtement de résine photosensible sur le substrat transporté par le premier transporteur 50 ; un dessiccateur sous vide (VCD) 70 qui fait durcir la résine photosensible appliquée sur le substrat ; un dispositif d'élimination de solvant 80 qui élimine du solvant du substrat ; un tampon 90 qui stocke temporairement le substrat à partir duquel le solvant est éliminé ; un réducteur de température 92 qui réduit une température de substrat amené par le tampon 90 ; et un deuxième bras robotisé 100 qui amène le substrat du tampon 90 à un réducteur de température 92, charge le substrat ayant la température réduite dans l'unité d'exposition 110, sort le substrat exposé de l'unité d'exposition 110, et charge le substrat exposé dans la titreuse 120. Le premier bras robotisé 30 sort le substrat nettoyé de l'unité de nettoyage 20, et charge le substrat nettoyé dans l'étuve de déshydratation 40. De même, le premier bras robotisé 30 sort le substrat déshydraté de l'étuve de déshydratation 40, et charge le substrat déshydraté dans le premier transporteur 50. L'étuve de déshydratation 40 est formée d'une plaque chauffante qui est chauffée à une température comprise entre 110 C et 130 C. De même, l'étuve de déshydratation 40 déshydrate le substrat, chargé par le premier bras robotisé 30, au moyen de la plaque chauffante. Le premier transporteur 50 transporte le substrat déshydraté chargé par le premier bras robotisé 30 jusqu'à l'unité d'application de revêtement 60. L'unité d'application de revêtement 60 est prévue avec un troisième bras robotisé 62 qui sort le substrat du premier transporteur 50 ; un applicateur de revêtement 64 qui applique le revêtement de résine photosensible sur le substrat chargé par le troisième bras robotisé 62 ; et un quatrième bras robotisé 66 qui sort le substrat de l'applicateur de revêtement 64 et charge celuiùci dans le VCD 70, et extrait le substrat du VCD 70 et charge celuiùci dans le dispositif d'élimination de solvant 80. Le troisième bras robotisé 62 sort le substrat du premier transporteur 50, et charge le substrat dans l'applicateur de revêtement 64. L'applicateur de revêtement 64 applique le revêtement de résine photosensible sur le substrat chargé par le troisième bras robotisé 62. Après avoir appliqué le revêtement de résine photosensible sur le substrat au moyen de l'applicateur de revêtement 64, le quatrième bras robotisé 66 sort le substrat revêtu de la résine photosensible de l'applicateur de revêtement 64, et charge celuiùci dans le dessiccateur sous vide 70. De même, après durcissement de la résine photosensible appliquée sur le substrat au moyen du dessiccateur sous vide 70, le quatrième bras robotisé 66 extrait le substrat durci du dessiccateur sous vide 70, et charge celuiùci dans le dispositif d'élimination de solvant 80. R:\13revels\2580012 5 8 1 3--06092 6-Demande.doc -2/28 27/09/2006 17:19 Le dessiccateur sous vide 70 dessèche la résine photosensible du substrat chargé par le quatrième bras robotisé 66 à l'état de vide peu poussé. Le dispositif d'élimination de solvant 80 est prévu avec un four d'élimination de solvant 82 qui élimine le solvant du substrat avec une plaque chauffante molle (SHP) ; et un cinquième bras robotisé 84 qui extrait le substrat du four d'élimination de solvant 82 et charge celuiùci dans le tampon 90. Le four d'élimination de solvant 82 élimine le solvant du substrat chargé par le quatrième bras robotisé 66 avec la plaque SHP qui est chauffée à une température comprise entre 110 et 130 . Après avoir éliminé le solvant du substrat dans le four d'élimination de solvant 82, le cinquième bras robotisé 84 sort le substrat exempt de solvant du four d'élimination de solvant 82, et charge celuiùci dans le tampon 90. Le tampon 90 stocke temporairement le substrat chargé par le cinquième bras robotisé 84. Le réducteur de température 92 abaisse la température du substrat chargé par le cinquième bras robotisé 84 jusqu'à environ 23 C. Pour ce faire, le réducteur de température 92 est formé selon une structure à double couche comportant une plaque froide. Le deuxième bras robotisé 100 extrait le substrat, qui est temporairement stocké, du tampon 90, et charge celuiùci dans le réducteur de température 92. De même, au fur à mesure que la température du substrat est réduite par le réducteur de température 92, le deuxième bras robotisé 100 extrait du réducteur de température 29 le substrat ayant la température réduite et charge celuiùci dans l'unité d'exposition 110. De même, le deuxième bras robotisé 100 extrait le substrat exposé de l'unité d'exposition 110, et charge celuiùci dans la titreuse 120. L'unité d'exposition 110 agence le substrat chargé par le deuxième bras robotisé 100, et applique des motifs à la résine photosensible sur le substrat par application d'une lumière sur le substrat agencé. La titreuse 120 forme le code d'identification sur un côté du substrat chargé par le deuxième bras robotisé 100. A cet instant, la titreuse 120 est disposée sur le transporteur afin de former le code d'identification sur le substrat transporté. La chaîne de développement est prévue avec une unité de développement 130 qui développe le substrat ; une unité de dessiccation 140 qui dessèche le substrat développé ; un transporteur tournant qui tourne la direction de transport du substrat desséché ; et un second transporteur 160 qui transporte le substrat tourné vers l'unité de chargement/déchargement 10. L'unité de développement 130 développe le substrat qui est exposé par l'unité d'exposition 110 et est prévue avec le code d'identification formé par la titreuse. Pour R313revels\25800\258 13-060926-Demande.doc -3/28 27/09/2006 17:19 ce faire, l'unité de développement 130 est prévue avec un transporteur de développement raccordé à la titreuse 120 ; et une partie de développement destinée à développer le substrat par pulvérisation d'un révélateur sur le transporteur de développement. L'unité de dessiccation 140 est prévue avec un four de dessiccation 142 qui dessèche le substrat développé au moyen d'une plaque chauffante dure (HHP) ; et un sixième bras robotisé 144 qui extrait le substrat du four de dessiccation 142 et charge celuiùci dans le transporteur tournant 150. Le four de dessiccation 142 chauffe et dessèche le substrat transporté par le 10 transporteur de développement de l'unité de développement 130 avec la plaque HHP qui est chauffée à une température comprise entre 110 et 130 . Après dessiccation du substrat par le four de dessiccation 142, le sixième bras robotisé 144 extrait le substrat du four de dessiccation 142, et charge celuiùci dans le transporteur tournant 150. 15 Le transporteur tournant 150 tourne la direction de transport du substrat chargé par le sixième bras robotisé 144 vers le second transporteur. Le second transporteur 160 transporte le substrat tourné par le transporteur tournant 150 vers l'unité de chargement/déchargement 160. Le dispositif de traitement photographique de l'art connexe est prévu avec 20 l'unité de nettoyage 20, la chaîne d'application de revêtement, l'unité d'exposition 110, la titreuse 120, et la chaîne de développement, qui sont agencées en une chaîne. Ainsi, le substrat chargé par l'unité de chargement/déchargement 10 est traité par un nettoyage, une application de revêtement, et une exposition en séries, puis on fait passer le substrat à travers les chaînes de titrage et de développement, moyennant 25 quoi le traitement photographique est achevé. Cependant, le dispositif et le procédé de traitement photographique de l'art connexe présentent les inconvénients suivants. Dans le dispositif photographique de l'art connexe, la chaîne d'application de revêtement et l'unité d'exposition reliées à la chaîne de développement sont formées 30 comme une chaîne de traitement photographique, moyennant quoi l'agencement entier est accru. De même, la chaîne d'application de revêtement, la chaîne de développement et la chaîne d'exposition présentent des temps de traitement différents, de sorte qu'un temps d'attente est généré, ce qui accroît de ce fait le temps total de traitement. 35 Si des problèmes apparaissent dans l'une quelconque des unités du dispositif de traitement photographique, le rendement entier est abaissé. Si les problèmes apparaissent dans l'unité d'exposition 110, il est impossible de faire fonctionner la chaîne d'application de revêtement, la titreuse et la chaîne de développement. R:\Brevets\25800\258 13--060926-Demande.doc -4/28 27/09/200617:19 Par conséquent, la présente invention consiste à mettre à disposition un dispositif et un procédé de traitement photographique, qui permettent de résoudre sensiblement un ou plusieurs problèmes dus aux limitations et aux inconvénients de l'art connexe. Un objet de la présente invention consiste à mettre à disposition un dispositif et un procédé de traitement photographique destinés à améliorer le rendement par minimisation de l'agencement complet de la chaîne de traitement photographique. Pour atteindre ces objectifs et autres avantages et conformément à l'objet de l'invention, un dispositif de traitement photographique comprend une unité de chargement/déchargement qui charge ou décharge un substrat ; une chaîne d'application de revêtement qui applique un revêtement de résine photosensible sur le substrat ; une chaîne d'exposition qui expose la résine photosensible appliquée sur le substrat ; une chaîne de développement qui développe le substrat exposé ; et une chaîne de transfert qui stocke temporairement le substrat revêtu de la résine photosensible et charge celuiùci dans la chaîne d'exposition, et stocke temporairement le substrat exposé et charge celuiùci dans la chaîne de développement. De préférence, la chaîne d'application de revêtement comprend un premier bras robotisé qui charge le substrat ; un applicateur de revêtement qui applique le revêtement de résine photosensible sur le substrat chargé par le premier bras robotisé ; un deuxième bras robotisé qui extrait de l'applicateur de revêtement le substrat revêtu de la résine photosensible ; un dessiccateur sous vide qui fait durcir la résine photosensible du substrat chargée par le deuxième bras robotisé ; un dispositif d'élimination de solvant qui élimine un solvant du substrat durci au moyen du dessiccateur sous vide ; un premier réducteur de température qui réduit une température du substrat duquel le solvant est éliminé ; et un troisième bras robotisé qui extrait du premier réducteur de température le substrat ayant la température réduite, et charge celuiùci dans la chaîne de transfert. Le dispositif d'élimination de solvant comprend préférentiellement : un quatrième bras robotisé qui extrait du dessiccateur sous vide le substrat exempt de solvant ; et un four d'élimination de solvant qui élimine le solvant du substrat. La chaîne de transfert comprend préférentiellement un premier transporteur qui transporte le substrat revêtu au moyen de la chaîne d'application de revêtement ; un second transporteur qui transporte le substrat exposé vers la chaîne de développement ; une machine à empiler qui stocke temporairement le substrat revêtu transporté par le premier transporteur, et stocke temporairement le substrat exposé par la chaîne d'exposition ; et une unité de transfert qui transporte le substrat entre les premier et second transporteurs et la machine à empiler. R~\Breve1s\25800\25813--060926-Demande.doc -5/28 27/09/200617:19 Le dispositif de traitement photographique peut en outre comprendre une chaîne de titrage qui forme un code d'identification sur le substrat exposé transporté à partir du second transporteur, et transporte le substrat ayant le code d'identification jusqu'à la chaîne de développement. La chaîne de titrage comprend préférentiellement : un sixième bras robotisé qui extrait le substrat exposé du second transporteur; et une titreuse qui forme le code d'identification sur le substrat chargé par le sixième bras robotisé. La chaîne d'exposition comprend préférentiellement : un second dispositif de commande de température qui maintient la température du substrat transporté par la io chaîne de transfert pour être appropriée au processus d'exposition ; un cinquième bras robotisé qui extrait le substrat du second dispositif de commande de température; et une unité d'exposition qui expose le substrat chargé par le cinquième bras robotisé. Préférentiellement, le dispositif de traitement photographique comprend en 15 outre une chaîne de nettoyage qui nettoie le substrat chargé par l'unité de chargement/déchargement, et amène le substrat nettoyé jusqu'à la chaîne d'application de revêtement. L'unité de chargement/déchargement comprend préférentiellement : une partie de chargement agencée en liaison avec la chaîne de nettoyage pour amener le 20 substrat jusqu'à la chaîne de nettoyage; et une partie de déchargement agencée en liaison avec la chaîne de développement pour transporter le substrat mis à disposition par la chaîne de développement vers l'extérieur. Dans un autre aspect de la présente invention, un dispositif de traitement photographique comprend une pluralité de chaînes de traitement photographique 25 agencées en parallèle, chaque chaîne de traitement photographique comportant une unité de chargement/déchargement destinée à charger ou décharger un substrat, une chaîne d'application de revêtement destinée à appliquer un revêtement de résine photosensible sur le substrat, une chaîne d'exposition destinée à exposer la résine photosensible appliquée sur le substrat, et une chaîne de développement destinée à 30 développer le substrat exposé ; et une chaîne de transfert qui transporte le substrat vers la chaîne d'application de revêtement, la chaîne d'exposition, et la chaîne de développement dans chaque chaîne de traitement photographique conformément à l'état d'avancement de la chaîne de traitement photographique. De préférence, la chaîne de transfert stocke temporairement le substrat revêtu 35 de la résine photosensible au moyen de chaque chaîne d'application de revêtement, et charge le substrat revêtu de la résine photosensible dans la chaîne d'exposition pour chaque chaîne de traitement photographique qui nécessite le substrat revêtu ; ou la chaîne de transfert stocke temporairement le substrat exposé par la chaîne R:\Brevets\25800\2 5 8 1 3--060926-Demande.doc -6/28 27109/2006 17:19 d'exposition, et charge le substrat exposé dans la chaîne de développement pour chaque chaîne de traitement photographique qui nécessite le substrat exposé. La chaîne de transfert comprend préférentiellement : un premier transporteur qui transporte le substrat revêtu au moyen de la chaîne d'application de revêtement; un second transporteur qui transporte le substrat exposé vers la chaîne de développement; une machine à empiler qui stocke temporairement le substrat revêtu transporté par le premier transporteur, et stocke temporairement le substrat exposé par la chaîne d'exposition; et une unité de transfert qui transfert le substrat parmi les premier et second transporteurs et la machine à empiler. to Le dispositif de traitement photographique peut en outre comprendre : une chaîne de titrage qui forme un code d'identification sur le substrat exposé transporté à partir du second transporteur, et transporte le substrat ayant le code d'identification jusqu'à la chaîne de développement. Chaque chaîne de titrage peut avantageusement comprendre : un sixième bras 15 robotisé qui extrait le substrat exposé du second transporteur; et une titreuse qui forme le code d'identification sur le substrat chargé par le sixième bras robotisé. Chaque chaîne d'application de revêtement comprend préférentiellement : un premier bras robotisé qui charge le substrat ; un applicateur de revêtement qui applique le revêtement de résine photosensible sur le substrat chargé par le premier 20 bras robotisé; un second bras robotisé qui extrait de l'applicateur de revêtement le substrat revêtu de la résine photosensible ; un dessiccateur sous vide qui fait durcir la résine photosensible du substrat chargée par le deuxième bras robotisé; un dispositif d'élimination de solvant qui élimine un solvant du substrat qui est durci par le dessiccateur sous vide; un premier dispositif de commande de température qui réduit 25 une température du substrat duquel le solvant est éliminé ; et un troisième bras robotisé qui extrait du premier dispositif de commande de température le système ayant la température réduite, et charge celuiùci dans la chaîne de transfert. Chaque dispositif d'élimination de solvant comprend préférentiellement : un quatrième bras robotisé qui extrait du dessiccateur sous vide le substrat exempt de 30 solvant ; et un four d'élimination de solvant qui élimine le solvant du substrat. Chaque chaîne d'exposition comprend préférentiellement : un second dispositif de commande de température qui maintient la température du substrat transporté par la chaîne de transfert pour qu'elle soit appropriée au processus d'exposition ; un cinquième bras robotisé qui extrait le substrat du second dispositif de commande de 35 température; et une unité d'exposition qui expose le substrat chargé par le cinquième bras robotisé. Chaque chaîne de traitement photographiques peut en outre comprendre une chaîne de nettoyage qui nettoie le substrat chargé par l'unité de R:\Brevets\25800\25813--060926-Demande.doc -7/28 27/09/200617:19 chargement/déchargement pour chaque chaîne de traitement photographique, et amène le substrat nettoyé jusqu'à la chaîne d'application de revêtement. Chaque unité de chargement/déchargement comprend préférentiellement : une partie de chargement agencée en liaison avec la chaîne de nettoyage afin d'amener le substrat jusqu'à la chaîne de nettoyage; et une partie de déchargement agencée en liaison avec la chaîne de développement afin de transporter le substrat mis à disposition par la chaîne de développement vers l'extérieur. Dans un autre aspect de la présente invention, un procédé de traitement photographique comprend les étapes consistant à charger un substrat ; appliquer un revêtement de résine photosensible sur le substrat chargé ; stocker temporairement le substrat revêtu de la résine photosensible ; recevoir le substrat temporairement stocké, et exposer le substrat revêtu de la résine photosensible ; stocker temporairement le substrat exposé ; recevoir le substrat temporairement stocké, et développer le substrat exposé ; et décharger le substrat développé. De préférence, le traitement d'application de revêtement comprend les étapes consistant à appliquer le revêtement de résine photosensible sur le substrat chargé ; faire durcir la résine photosensible appliquée sur le substrat ; éliminer un solvant du substrat durci ; et réduire la température du substrat duquel le solvant est éliminé. Le procédé de traitement photographique peut en outre comprendre l'étape consistant à former un code d'identification sur le substrat exposé après réception du substrat temporairement stocké avant le traitement de développement. Le traitement d'exposition comprend préférentiellement les étapes consistant à : recevoir le substrat temporairement stocké, et maintenir la température du substrat revêtu pour qu'elle soit appropriée au traitement d'exposition ; et exposer le substrat qui est maintenu à la température appropriée au traitement d'exposition. Le procédé de traitement photographique peut en outre comprendre l'étape consistant à nettoyer le substrat chargé avant d'appliquer le revêtement de résine photosensible sur le substrat. Dans un autre aspect de la présente invention, un procédé de traitement photographique, qui comporte une pluralité de chaînes de traitement photographique agencées en parallèle, chaque chaîne de traitement photographique comportant une unité de chargement/déchargement destinée à charger ou décharger un substrat, une chaîne d'application de revêtement destinée à appliquer un revêtement de résine photosensible sur le substrat, une chaîne d'exposition destinée à exposer la résine photosensible appliquée sur le substrat, et une chaîne de développement destinée à développer le substrat exposé, comprend des étapes consistant à charger le substrat dans chaque chaîne d'application de revêtement afin d'appliquer le revêtement de résine photosensible sur chaque substrat ; stocker temporairement le substrat revêtu RABrevets\25800\25813--060926-Demande.doc -8/28 27/09/2006 17:19 dans chaque chaîne d'application de revêtement au moyen d'une chaîne de transfert destinée à transporter le substrat vers la chaîne d'application de revêtement, la chaîne d'exposition et la chaîne de développement ; exposer la résine photosensible appliquée sur le substrat par chargement du substrat dans la chaîne d'exposition pour chaque chaîne de traitement photographique qui nécessite le substrat revêtu par l'intermédiaire de la chaîne de transfert ; stocker temporairement le substrat exposé dans chaque chaîne d'exposition au moyen de la chaîne de transfert ; développer le substrat exposé par chargement du substrat exposé dans la chaîne de développement pour chaque chaîne de traitement photographique qui nécessite le substrat exposé par l'intermédiaire de la chaîne de transfert ; et décharger le substrat au moyen de l'unité de chargement/déchargement. De préférence, le traitement d'application de revêtement comprend les étapes consistant à appliquer le revêtement de résine photosensible sur le substrat chargé ; faire durcir la résine photosensible appliquée sur le substrat ; éliminer du solvant à partir du substrat durci ; réduire la température du substrat duquel le solvant est éliminé ; et amener le substrat à la température réduite jusqu'à la chaîne de transfert. Le procédé de traitement photographique peut en outre comprendre les étapes consistant à former un code d'identification sur le substrat exposé amené par la chaîne de transfert, et amener le substrat ayant le code d'identification jusqu'à la chaîne de développement. Le traitement d'exposition comprend préférentiellement les étapes consistant à : maintenir la température du substrat revêtu amené par la chaîne de transfert pour qu'elle soit appropriée au traitement d'exposition ; et exposer le substrat qui est maintenu à la température appropriée au traitement d'exposition. Le procédé de traitement photographique peut en outre comprendre les étapes consistant à nettoyer le substrat chargé par l'unité de chargement/déchargement, et amener le substrat nettoyé jusqu'à la chaîne d'application de revêtement. Les dessins annexés, qui sont inclus pour fournir une meilleure compréhension de l'invention, illustrent des modes de réalisation de l'invention décrits de façon détaillée à titre d'illustration sans que l'invention leur soit limitée. Sur les dessins : la figure 1 est un agencement illustrant de manière simplifiée un dispositif de traitement photographique de l'art connexe ; la figure 2 est un agencement illustrant de manière simplifiée un dispositif de traitement photographique selon un mode de réalisation préféré de la présente invention ; et la figure 3 est un agencement illustrant de manière simplifiée un dispositif de traitement photographique selon un autre mode de réalisation préféré de la présente invention. R:\Brevets\25800\258 13--060926-Dernande.doc -9/28 27/09/2006 17:19 Référence sera maintenant faite en détail aux modes de réalisation préférés de la présente invention, dont des exemples sont illustrés sur les dessins annexés. Quand cela est possible, les mêmes numéros de référence seront utilisés sur l'ensemble des dessins pour se référer aux parties identiques ou analogues. Ciùaprès, un dispositif et un procédé de traitement photographique selon la présente invention seront expliqués avec référence aux dessins annexés. La figure. 2 est un agencement illustrant de manière simplifiée un dispositif de traitement photographique selon un mode de réalisation préféré de la présente invention. On se réfère à la figure 2, sur laquelle le dispositif de traitement photographique selon un mode de réalisation préféré de la présente invention est prévu avec une unité de chargement/déchargement 300 qui charge ou décharge un substrat ; une chaîne de nettoyage 400 qui nettoie le substrat ; une chaîne d'application de revêtement 500 qui applique le revêtement de résine photosensible sur le substrat nettoyé ; une chaîne d'exposition 700 qui expose la résine photosensible appliquée sur le substrat ; une chaîne de titrage 800 qui forme un code d'identification dans le substrat exposé ; une chaîne de transfert 600 qui stocke temporairement le substrat revêtu de la résine photosensible et transfert celuiùci vers la chaîne d'exposition 700, ou stocke temporairement lesubstrat exposé et transfert celuiùci vers la chaîne de titrage 800 ; et une chaîne de développement 900 qui développe le substrat par l'intermédiaire de la chaîne de titrage 800, et charge le substrat développé dans l'unité de chargement/déchargement 300. L'unité de chargement/déchargement 300 charge le substrat dans la chaîne de nettoyage 400 après avoir extrait le substrat d'un chargeur déplacé au moyen d'un dispositif de transfert. De même, l'unité de chargement/déchargement 300 extrait le substrat de la chaîne de développement 900, puis charge le substrat dans le chargeur. Dans ce cas, bien que cela ne soit pas représenté, l'unité de chargement/déchargement 300 comporte au moins un bras robotisé qui charge et décharge le substrat. Entre temps, l'unité de chargement/déchargement 300 peut être constituée d'une partie de chargement qui comporte un bras robotisé destiné à charger le substrat dans la chaîne de nettoyage 400, et une partie de déchargement qui comporte un bras robotisé destiné à décharger le substrat exposé depuis la chaîne de développement 900. Pendant que l'on met à disposition l'unité de chargement/déchargement 300 constituée de la partie de chargement et de la partie de déchargement, il est possible de diminuer un temps de traitement pour le chargement et le déchargement du substrat. R: \Brevets\25800\25813--060926-Demande.doc -10/28 27/09/2006 17:19 La chaîne de nettoyage 400 nettoie le substrat déchargé de l'unité de chargement/déchargement 300. La chaîne de nettoyage 400 est prévue avec un transporteur de nettoyage 410 qui transporte le substrat jusqu'à la chaîne d'application de revêtement 500, et une unité de nettoyage 420 qui nettoie le substrat par pulvérisation d'une solution de nettoyage sur le substrat. La chaîne d'application de revêtement 500 est prévue avec un premier bras robotisé 510 qui extrait le substrat nettoyé du transporteur de nettoyage 410 ; un applicateur de revêtement 520 qui applique le revêtement de résine photosensible sur le substrat chargé par le premier bras robotisé 510 ; un deuxième bras robotisé 530 qui extrait de l'applicateur de revêtement 520 le substrat revêtu de la résine photosensible ; un dessiccateur sous vide (VCD) 540 qui durcit la résine photosensible appliquée sur le substrat chargé par le deuxième bras robotisé 530 ; un dispositif d'élimination de solvant 550 qui élimine un solvant à partir du substrat dont la résine photosensible est durcie ; un premier dispositif de commande de température 560 qui abaisse la température dans le substrat duquel le solvant est éliminé ; et un troisième bras robotisé 570 qui extrait du premier dispositif de commande de température 560 le substrat ayant la température abaissée. Le premier bras robotisé 560 extrait le substrat nettoyé du transporteur de nettoyage 410, et charge le substrat nettoyé dans l'applicateur de revêtement 520. Grâce à l'applicateur de revêtement 520 qui utilise un procédé rotationnel ou irrotationnel, la résine photosensible est appliquée sur le substrat chargé par le premier bras robotisé 510. Après avoir appliqué le revêtement de résine photosensible sur le substrat au moyen de l'applicateur de revêtement 520, le second bras robotisé 530 extrait de l'applicateur de revêtement 520 le substrat revêtu de la résine photosensible, et charge, le substrat dans le dessiccateur sous vide 540. Le dessiccateur sous vide 540 dessèche la résine photosensible du substrat chargé par le second bras robotisé 530 à l'état de vide peu poussé, moyennant quoi la résine photosensible du substrat est durcie. Le dispositif d'élimination de solvant 550 est constitué d'un quatrième bras robotisé 552 qui extrait du dessiccateur sous vide 540 le substrat dont la résine photosensible est durcie, et un four d'élimination de solvant 554 qui élimine le solvant à partir du substrat au moyen d'une plaque de cuisson douce (SHP). Le quatrième bras robotisé 552 extrait du dessiccateur sous vide 540 le substrat dont la résine photosensible est durcie, et charge le substrat dans le four d'élimination de solvant 554. De même, le quatrième bras robotisé 552 extrait du four d'élimination de solvant 554 le substrat, dont le solvant est éliminé, et charge le substrat dans le premier dispositif de commande de température 560. R:Brevets\25800\2 58 1 3--060926-Demande.doc -11/28 27/09/2006 17i9 Le four d'élimination de solvant 554 chauffe le substrat chargé par le quatrième bras robotisé 552 à une température comprise entre 110 et 130 au moyen de la plaque SHP, pour éliminer de ce fait le solvant à partir du substrat. Le premier dispositif de commande de température 560 chauffe ou refroidit le substrat chargé par le quatrième bras robotisé 552, pour que le substrat soit de ce fait à la température d'environ 23 . Pour ce faire, le premier dispositif de commande de température 560 est formé selon une structure à double couche. Après que la température du substrat a été réduite par le premier dispositif de commande de température 560, le troisième bras robotisé 570 extrait le substrat du premier dispositif de commande de température 560, et charge le substrat dans la chaîne de transfert 600. La chaîne de transfert 600 est prévue avec un premier transporteur 610 qui transporte le substrat chargé par le troisième bras robotisé 570 ; un second transporteur 640 qui transporte le substrat exposé vers la chaîne de titrage 800 ; une machine à empiler 630 qui stocke temporairement le substrat revêtu transporté par le premier transporteur 610, et stocke temporairement le substrat exposé dans la chaîne d'exposition 700 ; et une unité de transfert (AGV) 620 qui transfert le substrat entre les premier et second transporteurs 610 et la machine à empiler 630. Le premier transporteur 610 transporte le substrat revêtu qui est chargé par le troisième bras robotisé 570 jusqu'au chargeur non représenté sur les dessins. Pendant que l'unité de transfert 620 est déplacée le long d'un trajet prédéterminé entre le premier transporteur 610 et la machine à empiler 630, l'unité de transfert 620 stocke le chargeur, dans lequel la pluralité de substrats sont logés, dans la machine à empiler 630. Lors du déplacement de l'unité de transfert 620 le long d'un trajet prédéterminé entre le second transporteur 640 et la machine à empiler 630, l'unité de transfert 620 amène le chargeur, qui loge la pluralité de substrats exposés dans la machine à empiler 630, jusqu'au second transporteur 640. La machine à empiler 630 stocke temporairement le chargeur qui loge la pluralité de substrats revêtus de la résine photosensible et transportés par l'unité de transfert 620. De même, la machine à empiler 630 stocke temporairement le chargeur qui loge la pluralité de substrats exposés par la chaîne d'exposition 700. Le second transporteur 640 extrait le substrat exposé du chargeur transporté par l'unité de transfert 620, et transporte le substrat exposé vers la chaîne de titrage 800. La chaîne d'exposition 700 est prévue avec un second dispositif de commande de température 710 qui reçoit le chargeur comportant la pluralité de substrats provenant de la machine à empiler 630, et maintient la température du substrat de façon à ce qu'elle soit appropriée au traitement d'exposition ; un cinquième bras robotisé 720 qui extrait le substrat du second dispositif de commande de température R:\Brevets\25800\25813--060926-Demande. doc -12/28 27/09/200617:19 710 ; et une unité d'exposition 730 qui expose le substrat chargé par le cinquième bras robotisé 720. Le second dispositif de commande de température 710 chauffe ou refroidit le substrat logé dans le chargeur, pour que le substrat soit de ce fait à la température d'environ 23 . Pour ce faire, le second dispositif de commande de température 710 est formé selon une structure à double couche. Entreùtemps, le second dispositif de commande de température 710 comporte une unité d'élimination de particules qui pulvérise de l'air à haute pression sur le substrat afin d'éliminer des particules du substrat. Le cinquième bras robotisé 720 extrait le substrat du second dispositif de commande de température 710, et charge le substrat dans l'unité d'exposition 730. De même, après que le traitement d'exposition a été achevé, le cinquième bras robotisé 720 extrait le substrat exposé de l'unité d'exposition 730, et charge le substrat exposé dans le chargeur prévu dans la machine à empiler 630. L'unité d'exposition 730 agence le substrat chargé par le cinquième bras robotisé 720, et applique la lumière sur le substrat agencé afin de modeler les contours de la résine photosensible sur celuiùci. La chaîne de titrage 800 est constitué d'un sixième bras robotisé 810 qui sort le substrat du second transporteur 640, et une titreuse 820 qui forme le code d'identification dans le substrat chargé par le sixième bras robotisé 810. Le sixième bras robotisé 810 extrait le substrat exposé du second transporteur 640, et charge le substrat exposé dans la titreuse 820. La titreuse 820 forme le code d'identification du substrat sur un côté du substrat chargé par le sixième bras robotisé 810. A cet instant, la titreuse 820 est installée sur le transporteur, de façon à former le code d'identification du substrat. La chaîne de développement 900 est prévue avec un transporteur de développement 910 qui transporte le substrat ayant le code d'identification, et une unité de développement 920 qui développe le substrat par pulvérisation d'un révélateur sur le substrat. Le transporteur de développement 910 transporte le substrat ayant le code d'identification de la titreuse 820 à l'unité de chargement/déchargement 300. L'unité de développement 920 pulvérise le développateur sur le substrat transporté par le transporteur de développement 910. Par conséquent, le substrat exposé par l'unité d'exposition 730 et la titreuse 820 est développé par le révélateur pulvérisé à partir de l'unité de développement 920. Dans le dispositif et le procédé de traitement photographique selon la présente invention, la chaîne de nettoyage 400 et la chaîne d'application de revêtement 500 sont agencées en une chaîne, moyennant quoi le substrat revêtu de la résine R:\Brevets\25800\25813-060926-Demande.doc -13/28 27/09/200617:19 photosensible est temporairement stocké dans la chaîne de transfert 600, et le substrat stocké dans la chaîne de transfert 600 est amené jusqu'à la chaîne d'exposition 700, pour poursuivre de ce fait le traitement d'exposition. Puis, le substrat exposé par la chaîne d'exposition 700 est temporairement stocké dans la chaîne de transfert 600, et le substrat stocké dans la chaîne de transfert 600 est amené jusqu'à la chaîne de titrage 800, moyennant quoi le traitement de titrage se poursuit. Après cela, le substrat est amené jusqu'à la chaîne de développement 900, afin d'accomplir le traitement de développement, puis le substrat est déchargé vers l'extérieur. Dans le dispositif et le procédé de traitement photographique selon la présente invention, la chaîne d'application de revêtement 500, la chaîne d'exposition 700 et la chaîne de développement 900 sont agencées séparément les unes des autres. Dans cet état, la chaîne de transfert 600 est prévue pour transporter le substrat parmi la chaîne d'application de revêtement 500, la chaîne d'exposition 700 et la chaîne de développement 900, afin de diminuer de ce fait l'agencement entier de la chaîne de traitement photographique. De même, bien que la chaîne d'application de revêtement 500, la chaîne de développement 600 et la chaîne d'exposition 700 aient des temps de traitement différents les unes des autres, il est possible de diminuer le temps de traitement complet de la chaîne de traitement photographique en stockant temporairement le substrat par l'intermédiaire de la chaîne de transfert 600. Bien qu'il y ait des problèmes dans l'une quelconque des chaînes, cela n'a aucun effet négatif sur la chaîne de traitement dans son entier, de sorte qu'il soit possible d'améliorer le rendement. Tel que représenté sur la figure 3, le dispositif de traitement photographique selon la présente invention comporte la pluralité de chaînes de traitement photographique (2001 à 200n) agencées en parallèle. Chaque chaîne de traitement photographique (2001 à 200n) est la même du point de vue de la structure que le dispositif de traitement photographique représenté sur la figure 2. Parmi la chaîne d'application de revêtement 500, la chaîne d'exposition 700 et la chaîne de développement 900, la chaîne d'exposition 700 a la durée de traitement la plus longue, et la chaîne de développement 900 a la durée de traitement la plus courte. Ainsi, afin de maximiser le temps de traitement dans chaque chaîne, il est possible de commander le nombre de chaînes. Par exemple, si la chaîne d'exposition 700 est agencée en 12 chaînes, la chaîne de nettoyage 400 et la chaîne d'application de revêtement 500 agencées en une chaîne sont formées par 9 chaînes, et la chaîne de titrage 800 et la chaîne de développement 900 agencées en une chaîne sont formées par 6 chaînes pour maximiser de ce fait le rendement dans chaque chaîne. R:\13revets\25800\258 13--060926-Demande.doc -14/28 27/09/2006 17:19 La chaîne de transfert 600 est constituée d'au moins une unité de transfert 620, dans laquelle l'unité de transfert 620 transfert le substrat vers la chaîne de revêtement 500, la chaîne d'exposition 700 et la chaîne de titrage 800 pour chaque chaîne de traitement photographique (2001 à 200n). On se réfère à la figure 3 associée à la figure 2, sur lesquelles au moins une unité de transfert 620 stocke le substrat revêtu de la résine photosensible au moyen de chaque chaîne d'application de revêtement 500 dans la machine à empiler 630. Sur la base de l'état d'avancement du traitement dans chaque chaîne d'exposition 700, l'unité de transfert 620 extrait le substrat revêtu de la résine photosensible de la machine à empiler 630, et charge le substrat revêtu de la résine photosensible dans la chaîne d'exposition 700 de la chaîne de traitement photographique (2001 à 200n). De même, au moins une unité de transfert 620 stocke le substrat exposé par chaque chaîne d'exposition 700 dans la machine à empiler 630. Sur la base de l'état d'avancement du traitement pour chaque chaîne de développement 900, au moins une unité de transfert 620 extrait le substrat exposé de la machine à empiler 630, et charge le substrat exposé dans la chaîne de titrage 800 pour la chaîne de traitement photographique (2001 à 200n). Dans le dispositif de traitement photographique selon un autre mode de réalisation de la présente invention, une pluralité de chaînes de traitement photographique (2001 à 200n) sont agencées par mise à disposition séparée d'une chaîne d'application de revêtement 500, une chaîne d'exposition 700 et une chaîne de développement 900. Dans cet état, le substrat est transféré vers chaque chaîne de traitement photographique (2001 à 200n) au moyen de la chaîne de transfert 600, pour diminuer de ce fait l'agencement entier. De même, le substrat est transporté sur la base de l'état d'avancement du traitement pour chaque chaîne de traitement photographique (2001 à 200n), de sorte qu'il soit possible de diminuer le temps de contact total. Bien qu'il y ait des problèmes dans l'une quelconque des chaînes, cela n'a aucun effet sur la chaîne de traitement entière étant donné que l'autre chaîne de traitement photographique (2001 à 200n) remplace la chaîne rencontrant les problèmes, de sorte qu'il soit possible d'améliorer le rendement. Tel que cela est mentionné ciùdessus, le dispositif et le procédé de traitement photographique selon la présente invention présentent les avantages suivants. Tout d'abord, la chaîne d'application de revêtement, la chaîne d'exposition et la chaîne de développement sont agencées séparément. Dans cet état, le substrat est transféré parmi la chaîne d'application de revêtement, la chaîne d'exposition, et la chaîne de développement au moyen de la chaîne de transfert, pour diminuer de ce fait l'agencement entier de la chaîne de traitement photographique. R:\Brevets\25800\25813--060926-Demande.doc -15/28 27/09/2006 17:19 Bien que la chaîne d'application de revêtement, la chaîne de développement et la chaîne d'exposition aient des temps de traitement différents, le substrat est temporairement stocké par la chaîne de transfert, moyennant quoi le temps de traitement total du traitement photographique est réduit. Si des problèmes quelconques sont générés dans l'une quelconque des chaînes pour chaque chaîne, cela n'a aucun effet négatif sur les autres chaînes de traitement, ce qui améliore de ce fait le rendement. Sur la base de l'état d'avancement du traitement pour chaque chaîne de traitement photographique, le substrat est transféré pour diminuer de ce fait le temps 10 de contact entier du traitement photographique. Bien qu'un problème quelconque soit généré dans l'une quelconque des chaînes pour chaque chaîne de traitement photographique, elle peut être remplacée par l'autre chaîne de traitement photographique, de sorte qu'il soit possible d'améliorer le rendement. 15 Les hommes du métier constateront que diverses modifications et variantes peuvent être apportées à la présente invention sans s'éloigner de l'esprit ou de la portée de l'invention. Ainsi, il est prévu que la présente invention couvre les modifications et les variantes de cette invention à condition qu'elles s'inscrivent dans la portée selon les revendications annexées et leurs équivalents. 20 R:1Brevets\25800\25813--060926-Demande.doc -16/28 27/09/200617:19 REVENDICATIONS 1. Dispositif de traitement photographique comprenant : une unité de chargement/déchargement (10, 300) qui charge ou décharge un 5 substrat ; une chaîne d'application de revêtement (500) qui applique un revêtement de résine photosensible sur le substrat ; une chaîne d'exposition (700) qui expose la résine photosensible appliquée sur le substrat ; 1 o une chaîne de développement (900) qui développe le substrat exposé ; et une chaîne de transfert (600) qui stocke temporairement le substrat revêtu de la résine photosensible et charge celuiùci dans la chaîne d'exposition (700), et stocke temporairement le substrat exposé et charge celuiùci dans la chaîne de développement (900). 15 2. Dispositif de traitement photographique selon la revendication 1, dans lequel la chaîne d'application de revêtement (500) comprend : un premier bras robotisé (300, 150) qui charge le substrat ; un applicateur de revêtement (64, 520) qui applique le revêtement de résine 20 photosensible sur le substrat chargé par le premier bras robotisé (30, 150) ; un deuxième bras robotisé (100, 530) qui extrait de l'applicateur de revêtement (64, 520) le substrat revêtu de la résine photosensible ; un dessiccateur sous vide (70, 540) qui fait durcir la résine photosensible du substrat chargé par le deuxième bras robotisé (100, 530) ; 25 un dispositif d'élimination de solvant (80, 550) qui élimine du solvant du substrat durci au moyen du dessiccateur sous vide (70, 540) ; un premier réducteur de température (92, 560) qui réduit une température du substrat duquel le solvant est éliminé ; et un troisième bras robotisé (62, 570) qui extrait du premier réducteur de 30 température (92, 560) le substrat ayant la température réduite et charge celuiùci dans la chaîne de transfert (600). 3. Dispositif de traitement photographique selon la revendication 2, dans lequel le dispositif d'élimination de solvant (80, 550) comprend : 35 un quatrième bras robotisé (66, 552) qui extrait du dessiccateur sous vide (70, 540) le substrat exempt de solvant ; et un four d'élimination de solvant (82, 554) qui élimine le solvant du substrat. R:\Brevets\25800\258 13--060926-Demande.doc -17/28 27/09/2006 17:19 4. Dispositif de traitement photographique selon l'une quelconque des revendications 1 à 3, dans lequel la chaîne de transfert (600) comprend : un premier transporteur (610) qui transporte le substrat revêtu au moyen de la chaîne d'application de revêtement (500) ; un second transporteur (640) qui transporte le substrat exposé vers la chaîne de développement (900) ; une machine à empiler (630) qui stocke temporairement le substrat revêtu transporté par le premier transporteur (610), et stocke temporairement le substrat exposé par la chaîne d'exposition (700) ; et to une unité de transfert (620) qui transfert le substrat entre les premier et second transporteurs (610, 640) et la machine à empiler (630). 5. Dispositif de traitement photographique selon l'une quelconque des revendications 1 à 4, comprenant en outre une chaîne de titrage (800) qui forme un 15 code d'identification sur le substrat exposé transporté à partir du second transporteur (640), et transporte le substrat ayant le code d'identification jusqu'à la chaîne de développement (900). 6. Dispositif de traitement photographique selon la revendication 5, dans 20 lequel la chaîne de titrage (800) comprend : un sixième bras robotisé (144, 810) qui extrait le substrat exposé du second transporteur (640) ; et une titreuse (120, 820) qui forme le code d'identification sur le substrat chargé par le sixième bras robotisé (144, 810). 25 7. Dispositif de traitement photographique selon l'une quelconque des revendications 1 à 6, dans lequel la chaîne d'exposition (700) comprend : un second dispositif de commande de température (710) qui maintient la température du substrat transporté par la chaîne de transfert (600) pour être 30 appropriée au processus d'exposition ; un cinquième bras robotisé (84, 720) qui extrait le substrat du second dispositif de commande de température (710) ; et une unité d'exposition (110) qui expose le substrat chargé par le cinquième bras robotisé (84, 720). 35 8. Dispositif de traitement photographique selon l'une quelconque des revendications 1 à 7, comprenant en outre une chaîne de nettoyage (400, 420) qui R:113revcts125800125813--060926-Demande.doc -18/28 27/09/200617:19nettoie le substrat chargé par l'unité de chargement/déchargement (10, 300), et amène le substrat nettoyé jusqu'à la chaîne d'application de revêtement (500). 9. Dispositif de traitement photographique selon la revendication 8, dans lequel l'unité de chargement/déchargement (10, 300) comprend : une partie de chargement agencée en liaison avec la chaîne de nettoyage (400, 420) pour amener le substrat jusqu'à la chaîne de nettoyage (400, 420) ; et une partie de déchargement agencée en liaison avec la chaîne de développement (900) pour transporter le substrat mis à disposition par la chaîne de développement (900) vers l'extérieur. 10. Dispositif de traitement photographique comprenant : une pluralité de chaînes de traitement photographique agencées en parallèle, chaque chaîne de traitement photographique comportant une unité de chargement/déchargement (10, 300) destinée à charger ou décharger un substrat, une chaîne d'application de revêtement (500) destinée à appliquer un revêtement de résine photosensible sur le substrat, une chaîne d'exposition (700) destinée à exposer la résine photosensible appliquée sur le substrat, et une chaîne de développement (900) destinée à développer le substrat exposé ; et une chaîne de transfert (600) qui transfert le substrat vers la chaîne d'application de revêtement (500), la chaîne d'exposition (700), et la chaîne de développement (900) dans chaque chaîne de traitement photographique selon l'état d'avancement de la chaîne de traitement photographique. 11. Dispositif de traitement photographique selon la revendication 10, dans lequel la chaîne de transfert (600) stocke temporairement le substrat revêtu de la résine photosensible par chaque chaîne d'application de revêtement (500), et charge le substrat revêtu de la résine photosensible vers la chaîne d'exposition (700) pour chaque chaîne de traitement photographique qui nécessite le substrat revêtu ; ou la chaîne de transfert (600) stocke temporairement le substrat exposé par la chaîne d'exposition (700), et charge le substrat exposé vers la chaîne de développement (900) pour chaque chaîne de traitement photographique qui nécessite le substrat exposé. 12. Dispositif de traitement photographique selon la revendication 10 ou 11, dans lequel la chaîne de transfert (600) comprend : un premier transporteur (610) qui transporte le substrat revêtu au moyen de la chaîne d'application de revêtement (500) ; R: \Brevets\25800\258 13--060926-Demande.doc -19/28 27/09/200617:19un second transporteur (640) qui transporte le substrat exposé vers la chaîne de développement (900) ; une machine à empiler (630) qui stocke temporairement le substrat revêtu transporté par le premier transporteur (610), et stocke temporairement le substrat exposé par la chaîne d'exposition (700) ; et une unité de transfert (620) qui transfert le substrat parmi les premier et second transporteurs (610, 640) et la machine à empiler (630). 13. Dispositif de traitement photographique selon l'une quelconque des revendications 10 à 12, comprenant en outre : une chaîne de titrage (800) qui forme un code d'identification sur le substrat exposé transporté à partir du second transporteur (640), et transporte le substrat ayant le code d'identification jusqu'à la chaîne de développement (900). 14. Dispositif de traitement photographique selon l'une quelconque des revendications 10 à 13, dans lequel chaque chaîne de titrage (800) comprend : un sixième bras robotisé (144, 810) qui extrait le substrat exposé du second transporteur (640) ; et une titreuse (120, 820) qui forme le code d'identification sur le substrat chargé par le sixième bras robotisé (144, 810). 15. Dispositif de traitement photographique selon l'une quelconque des revendications 10 à 14, dans lequel chaque chaîne d'application de revêtement (500) comprend : un premier bras robotisé (30, 510) qui charge le substrat ; un applicateur de revêtement (64, 520) qui applique le revêtement de résine photosensible sur le substrat chargé par le premier bras robotisé (30, 510) ; un second bras robotisé (100, 530) qui extrait de l'applicateur de revêtement (74, 120) le substrat revêtu de la résine photosensible ; un dessiccateur sous vide (70, 540) qui fait durcir la résine photosensible du substrat chargée par le deuxième bras robotisé (100, 530) ; un dispositif d'élimination de solvant (80, 550) qui élimine un solvant du substrat qui est durci par le dessiccateur sous vide (70, 540) ; un premier dispositif de commande de température (92, 560) qui réduit une température du substrat duquel le solvant est éliminé ; et un troisième bras robotisé (62, 570) qui extrait du premier dispositif de commande de température (92, 560 le système ayant la température réduite, et charge celuiùci dans la chaîne de transfert (600). R:\Brevets\25800\25813--060926-Demande.doc -20128 271092006 17:19 16. Dispositif de traitement photographique selon la revendication 15, dans lequel chaque dispositif d'élimination de solvant (80, 550) comprend : un quatrième bras robotisé (66, 552) qui extrait du dessiccateur sous vide le substrat exempt de solvant ; et un four d'élimination de solvant (82, 554) qui élimine le solvant du substrat. 17. Dispositif de traitement photographique selon l'une quelconque des revendications 10 à 16, dans lequel chaque chaîne d'exposition comprend : un second dispositif de commande de température (710) qui maintient la température du substrat transporté par la chaîne de transfert (600) pour qu'elle soit appropriée au processus d'exposition ; un cinquième bras robotisé (84, 720) qui extrait le substrat du second dispositif de commande de température (710) ; et une unité d'exposition (110) qui expose le substrat chargé par le cinquième bras robotisé (84, 720). 18. Dispositif de traitement photographique selon l'une quelconque des revendications 10 à 17, dans lequel chaque chaîne de traitement photographiques comprend en outre une chaîne de nettoyage (400, 420) qui nettoie le substrat chargé par l'unité de chargement/déchargement (10, 300) pour chaque chaîne de traitement photographique, et amène le substrat nettoyé jusqu'à la chaîne d'application de revêtement (500). 19. Dispositif de traitement photographique selon la revendication 18, dans lequel chaque unité de chargement/déchargement (10, 300) comprend : une partie de chargement agencée en liaison avec la chaîne de nettoyage (400, 420) afin d'amener le substrat jusqu'à la chaîne de nettoyage (400, 420) ; et une partie de déchargement agencée en liaison avec la chaîne de développement (900) pour transporter le substrat mis à disposition par la chaîne de développement (900) vers l'extérieur. 20. Procédé de traitement photographique comprenant les étapes consistant à: charger un substrat ; appliquer un revêtement de résine photosensible sur le substrat chargé ; stocker temporairement le substrat revêtu de la résine photosensible ; R:\Brevets\25800\25813--060926-Demande.doc -21/28 27/09/2006 17:19recevoir le substrat temporairement stocké, et exposer le substrat revêtu de la résine photosensible ; stocker temporairement le substrat exposé ; recevoir le substrat temporairement stocké, et développer le substrat exposé ; et s décharger le substrat développé. 21. Procédé de traitement photographique selon la revendication 20, dans lequel le traitement d'application de revêtement comprend les étapes consistant à : appliquer le revêtement de résine photosensible sur le substrat chargé ; 10 faire durcir la résine photosensible appliquée sur le substrat ; éliminer du solvant du substrat durci ; et réduire la température du substrat duquel le solvant est éliminé. 22. Procédé de traitement photographique selon la revendication 20 ou 21, 15 comprenant en outre l'étape consistant à former un code d'identification sur le substrat exposé après réception du substrat temporairement stocké avant le traitement de développement. 23. Procédé de traitement photographique selon l'une quelconque des 20 revendications 20 à 22, dans lequel le traitement d'exposition comprend les étapes consistant à : recevoir le substrat temporairement stocké, et maintenir la température du substrat revêtu pour qu'elle soit appropriée au traitement d'exposition ; et exposer le substrat qui est maintenu à la température appropriée au traitement 25 d'exposition. 24. Procédé de traitement photographique selon l'une quelconque des revendications 20 à 23, comprenant en outre l'étape consistant à nettoyer le substrat chargé avant d'appliquer le revêtement de résine photosensible sur le substrat. 30 25. Procédé de traitement photographique, qui comporte une pluralité de chaînes de traitement photographique agencées en parallèle, chaque chaîne de traitement photographique comportant une unité de chargement/déchargement (10, 300) destinée à charger ou décharger un substrat, une chaîne d'application de 35 revêtement (500) destinée à appliquer un revêtement de résine photosensible sur le substrat, une chaîne d'exposition (700) destinée à exposer la résine photosensible appliquée sur le substrat, et une chaîne de développement (900) destinée à développer le substrat exposé, comprenant les étapes consistant à : R:\Brevels\25800\25813--060926-Demande.doc -22/28 27/09/200617.19charger le substrat dans chaque chaîne d'application de revêtement (500) pour appliquer le revêtement de résine photosensible sur chaque substrat ; stocker temporairement le substrat revêtu dans chaque chaîne d'application de revêtement (500) au moyen d'une chaîne de transfert destinée à transférer le substrat jusqu'à la chaîne d'application de revêtement (500), la chaîne d'exposition (700) et la chaîne de développement (900) ; exposer la résine photosensible appliquée sur le substrat par chargement du substrat dans la chaîne d'exposition (700) pour chaque chaîne de traitement photographique qui nécessite le substrat revêtu par l'intermédiaire de la chaîne de transfert (600) ; stocker temporairement le substrat exposé dans chaque chaîne d'exposition (700) au moyen de la chaîne de transfert (600) ; développer le substrat exposé par chargement du substrat exposé dans la chaîne de développement (900) pour chaque chaîne de traitement photographique qui nécessite le substrat exposé par l'intermédiaire de la chaîne de transfert (600) ; et décharger le substrat au moyen de l'unité de chargement/déchargement (10n, 300). 26. Procédé de traitement photographique selon la revendication 25, dans lequel le traitement d'application de revêtement comprend les étapes consistant à : appliquer le revêtement de résine photosensible sur le substrat chargé ; faire durcir la résine photosensible appliquée sur le substrat ; éliminer du solvant du substrat durci ; réduire la température du substrat duquel le solvant est éliminé ; et amener le substrat de température réduite jusqu'à la chaîne de transfert (600). 27. Procédé de traitement photographique selon la revendication 25 ou 26, comprenant en outre les étapes consistant à former un code d'identification sur le substrat exposé amené par la chaîne de transfert (600), et amener le substrat ayant le code d'identification jusqu'à la chaîne de développement (900). 28. Procédé de traitement photographique selon l'une quelconque des revendications 25 to 27, dans lequel le traitement d'exposition comprend les étapes consistant à : maintenir la température du substrat revêtu amené par la chaîne de transfert (600) pour qu'elle soit appropriée au traitement d'exposition ; et exposer le substrat qui est maintenu à la température appropriée au traitement d'exposition. R:\Brevets\25800\25813--060926-Demande.doc -23/28 27/09/2006 17:19 29. Procédé de traitement photographique selon l'une quelconque des revendications 25 à 28, comprenant en outre les étapes consistant à nettoyer le substrat chargé par l'unité de chargement/déchargement (10, 300), et amener le substrat nettoyé jusqu'à la chaîne d'application de revêtement (500). R: \13revets\25800\25513--060926-Demande.doc -24/28 27/09/2006 17:19