Brevet FR2902925A1 — publié le 20071228

APPAREIL ET PROCEDE DE FABRICATION D'UN MOTIF DE COUCHES MINCES ET SOLUTION DE RESERVE DE GRAVURE UTILISEE L'invention concerne un procédé de fabrication d'un motif de couches minces d'un écran d'affichage et, plus particulièrement, un dispositif d'impression par réserve inversée, et un procédé de fabrication d'un motif de couches minces utilisant celui-ci. Récemment, différents dispositifs d'affichage à écran plat, qui peuvent réduire le poids et la taille qui constituent un inconvénient d'un tube cathodique, ont pris de l'essor. Les dispositifs d'affichage à écran plat incluent les écrans à cristaux liquides, les écrans à émission par effet de champ, les écrans à plasma, les écrans à diodes électroluminescentes organiques (auxquels on se réfère ci-après en tant que EL ), etc. Parmi ces écrans, les dispositifs d'affichage à cristaux liquides commandent la transmittance des cristaux liquides en utilisant un champ électrique, affichant ainsi une image. À cette fin, un dispositif d'affichage à cristaux liquides inclut un écran à cristaux liquides dans lequel les cellules à cristaux liquides sont disposées sous forme de matrice, ainsi qu'un circuit de commande pour commander l'écran à cristaux liquides. L'écran à cristaux liquides inclut un substrat de réseau de transistors à couches minces et un substrat de réseau de filtres colorés, les deux se faisant face; un espaceur maintenant un espace de cellule fixe entre les deux substrats; et des cristaux liquides remplissant l'espace de cellule. Un substrat de réseau de transistors à couches minces inclut des lignes de grille et des lignes de données, un transistor à couches minces formé en tant que dispositif de commutation sur chacune des parties de croisement des lignes de grille et des lignes de données; une électrode de pixel formée par l'unité d'une cellule à cristaux liquides devant être connectée au transistor à couches minces; et une pellicule d'alignement étalée sur celui-ci. Les lignes de grille et les lignes de données reçoivent des signaux des circuits de commande via des pastilles, respectivement. Le transistor à couches minces fournit un signal de pixel, fourni au niveau de la ligne de données à une électrode de pixel, en réponse à un signal de balayage fourni à la Iigne de grille. Un substrat de réseau de filtres chromatiques inclut des filtres colorés formés par l'unité d'une cellule à cristaux liquides; une matrice à fond noir pour diviser les filtres chromatiques, et réfléchir une lumière externe; une électrode commune pour HIRSCH643REVETS Brevets26666266., 66!_~iI-tradl XT doc- 6 décembre 2006 1.16 fournir généralement une tension de référence aux cellules à cristaux liquides; et une pellicule d'alignement étalée sur celui-ci. Pour réaliser l'écran à cristaux liquides, on fabrique séparément le substrat de réseau de transistors à couches minces et le substrat de réseau de filtres chromati- ques, puis on les relie ensemble. On injecte ensuite des cristaux liquides, et on scelle l'écran. Un processus de photolithographie et un processus de gravure forment les motifs de couche mince, dans les écrans à cristaux liquides de l'art apparenté. Cependant, le processus de photolithographie inclut un certain nombre de processus, tels qu'un processus d'exposition, un processus de développement, un processus de nettoyage, un processus d'inspection, etc., qui entraînent ainsi une augmentation du coût de fabrication de l'écran à cristaux liquides. Un procédé pour réaliser un motif de couches minces par un procédé d'impression par réserve inversée est, par conséquent, utilisé à la place du processus de photolithographie. La figure 1 représente un schéma représentant un dispositif d'impression par réserve inversée. Le dispositif d'impression par réserve inversée représenté sur la figure 1 inclut un dispositif de rouleau imprimeur 10 ayant une forme de rouleau, où est enroulé un blanchet 15 composé de polydiméthylsiloxane (PDMS). Un dispositif de pulvérisa- tion de solution de réserve de gravure 12 pulvérise une solution de résine de réserve de gravure, et une plaque d'impression 20 gravée inclut une rainure 20a qui a la même forme qu'un motif de couches minces à former, et une partie saillante 20b qui encadre la rainure 20a. Les figures 2A à 2E sont des schémas qui expliquent la formation d'un motif de couche mince au moyen du dispositif d'impression par réserve inversée de la figure 1. En particulier, les figures 2A à 2D représentent un processus de formation d'un motif de grille de l'écran à cristaux liquides, en utilisant le procédé d'impression par réserve inversée. Tout d'abord, comme représenté sur la figure 2A, une solution de réserve de gravure 14a est pulvérisée, à partir du dispositif de pulvérisation de solution de réserve de gravure 12, sur le blanchet 15 qui est enroulé autour du dispositif de rouleau imprimeur 10. Le dispositif de rouleau imprimeur 10 est mis en rotation pour enduire le blanchet 15 avec la solution de réserve de gravure 14A. Ensuite, comme représenté sur la figure 2B, la solution de réserve de gravure 14a est transférée uniquement sur la partie saillante 20b, dans le dispositif de rouleau imprimeur 10, tandis que le dispositif de rouleau imprimeur 10, enduit avec la réserve de gravure 14a, est mis en rotation, et entre en contact simultanément avec la plaque d'impression 20. Par conséquent, comme représenté sur la figure 2C, une HIRSCW BRE\ h PS Brecns 26000-2601,0_ub C01-03dTXT doc - 6 décembre 7006 lb solution de réserve de gravure 14b ayant une forme de motif de couches minces souhaitée reste sur le dispositif de rouleau imprimeur 10. Ensuite, comme représenté sur la figure 2D, la solution de réserve de gravure 14b, qui a été transférée sur le dispositif de rouleau imprimeur 10, est à nouveau transférée sur un substrat 30, où est formée une couche métallique désignée, par exemple une couche métallique de grille. La réserve est ensuite durcie. Par conséquent, comme représenté sur la figure 2E, le motif de réserve de gravure 14C pour réaliser le motif de la couche métallique 32a peut être formé. On réalise ensuite le motif de la couche métallique 32a, qui ne chevauche pas le motif de réserve de gravure 14C, formant ainsi le motif de couches minces souhaité sur le substrat 30. Ici, si on forme le motif de grille tel que la ligne de grille, l'électrode de grille, etc., de l'écran à cristaux liquides, le motif de grille peut être formé en utilisant du chrome (Cr), de l'aluminium-néodyme (AINd), etc., comme couche métallique 32a. La solution de réserve de gravure 14a, utilisée dans le dispositif d'impression par réserve inversée, est formée d'un polymère de base, tel que de la novolaque, etc., un solvant de support, un solvant d'impression, un agent de surface, etc. Ici, le solvant de support est un solvant qui réduit la viscosité de la solution de réserve de gravure 14a pulvérisée par le dispositif de pulvérisation de solution de réserve de gravure 12, de sorte que la solution de réserve de gravure 14a puisse être enduite uniformément sur le blanchet 15. Le solvant d'impression est utilisé pour la solution de réserve de gravure 14a enduite sur le blanchet 15, pour attribuer une caractéristique d'adhérence ou d'adhésivité. L'agent de surface est un matériau qui est appliqué sur une interface, pour diminuer de façon importante la tension de surface de l'interface, et qui sert à diminuer la tension de surface de la solution de réserve de gravure 14a. Si on utilise un agent de surface à base de silicium, l'enduit peut être bon, mais le matériau à base de silicium contamine le blanchet. On utilise, par conséquent, un agent de surface à base de fluor. Cependant, l'agent de surface à base de fluor réduit l'énergie de surface de la solution de réserve de gravure 14a, ce qui rend la force adhésive entre la solution de réserve de gravure 14a et le blanchet 15 similaire à la force adhésive entre la solution de réserve de gravure 14a et la plaque d'impression 20. Cela entraîne la diminution de la caractéristique selon laquelle la solution de réserve de gravure 14a est transférée du blanchet 15 à la plaque d'impression 20, et détériore ainsi la fiabilité de formation du motif de couches minces par un procédé d'impression par réserve. Par conséquent, un objet de la présente invention est de proposer un procédé et un appareil de fabrication d'un motif de couches minces, qui améliore la fiabilité de la fom ation d'un motif de couches minces par un procédé d'impression par réserve, t HIRSCI16 ARES ETS Bre'ets 2600o 26030-06120 ad TNT doc - 6 décembre 2006 -3:16 par l'amélioration d'une caractéristique de transfert d'une solution de réserve de gravure. Afin de réaliser ces objets et d'autres de l'invention, un appareil de fabrication d'un motif de couches minces, selon un aspect de l'invention, inclut un dispositif de rouleau imprimeur en forme de rouleau autour duquel est enroulé un blanchet; un dispositif de pulvérisation, situé autour du dispositif de rouleau imprimeur, pour pulvériser une solution de réserve de gravure sur le blanchet; et une plaque d'impression d'une forme gravée, où sont formées une rainure d'une forme de couche mince souhaitée et une partie saillante en dehors de la rainure, et la solution de réserve de gravure comprend un agent de surface contenant un matériau polymère fluoré d'oxyde d'éthylène. Selon un mode de réalisation, le matériau polymère fluoré d'oxyde d'éthylène peut être CF3(CF2)n,(CH2CH2O)n, où m est d'environ 1 à 10, et n est d'environ 8 à 50, par exemple n'importe lequel parmi CF3(CF2)4(CH2CH2O)10 et CF3(CF2)5(CH2CH2O)14. Selon un autre mode de réalisation, la solution de réserve de gravure comprend un polymère de base de 4û20 %, un solvant de support de 40û60 %, un solvant d'impression de 2040 %, et l'agent de surface de 0,051 %. Selon un autre mode de réalisation, l'agent de surface a des structures molécu- laires hydrocarbonées et des radicaux fluorés, et les molécules hydrocarbonées et radicaux fluorés sont répartis de façon aléatoire dans la solution de réserve de gravure. Selon un autre mode de réalisation, la molécule du groupe hydrocarboné est au moins l'une quelconque parmi l'oxyde d'éthylène (CH2CH20), l'oxyde de propylène 25 (CH2CH2CH2O) ou l'amine (CH2N). Selon un autre mode de réalisation, une force adhésive entre la solution de réserve de gravure et la plaque d'impression est plus forte qu'une force adhésive entre la solution de réserve de gravure et le blanchet. Selon un autre mode de réalisation, le polymère de base est n'importe quel 30 polymère parmi la novolaque, et le PMMA (polyméthacrylate de méthyle) ou le PMA (polyacrylate de méthyle). Dans l'appareil de fabrication, le solvant de support est de préférence un groupe alcool. Selon un mode de réalisation, le solvant d'impression est au moins l'un 35 quelconque parmi le NMP (N-méthylpyrrolidone), le benzoate d'éthyle ou le triisopropylbenzène. L'invention propose également un procédé de fabrication d'un motif de couches minces qui inclut les étapes consistant à fournir un dispositif de rouleau J IIRSCH6rBR[VFTS Brevets 2600026030-0612OLtrafl XI - 6 décembre 2006-4'16 imprimeur en forme de rouleau, autour duquel est enroulé un blanchet; enduire le blanchet avec une solution de réserve de gravure contenant un agent de surface formé d'un polymère fluoré d'oxyde d'éthylène; fournir une plaque d'impression d'une forme gravée, où sont formées une rainure et une partie saillante, en dehors de la rainure; et transférer la solution de réserve de gravure seulement sur la partie saillante de la plaque d'impression, et laisser la solution de réserve de gravure d'une zone correspondant à la rainure dans le dispositif de rouleau imprimeur. Selon un mode de réalisation, le polymère fluoré d'oxyde d'éthylène a la formule générale CF3(CF2)m(CH2CH2O)n, où m est d'environ 1 à 10, et n est d'environ 8 à 50. Selon un autre mode de réalisation, le polymère fluoré d'oxyde d'éthylène est l'un quelconque parmi CF3(CF2)4(CH2CH2O)10 ou CF3(CF2)5(CH2CH2O)14. Selon un autre mode de réalisation, la solution de réserve de gravure comprend un polymère de base de 4ù20 %, un solvant de support de 4060 %, un solvant d'impression de 2040 % et l'agent de surface de 0,051 %. Selon un autre mode de réalisation, l'agent de surface a des structures moléculaires hydrocarbonées et des radicaux fluorés, et les molécules hydrocarbonées et radicaux fluorés sont répartis de façon aléatoire dans la solution de réserve de gravure. Selon un autre mode de réalisation, les molécules hydrocarbonées sont au moins l'une quelconque parmi l'oxyde d'éthylène, l'oxyde de propylène ou l'amine. Selon un autre mode de réalisation, une force adhésive entre la solution de réserve de gravure et la plaque d'impression est plus forte qu'une force adhésive entre la solution de réserve de gravure et le blanchet. Selon un autre mode de réalisation, le polymère de base est l'un quelconque parmi la novolaque, le polyméthacrylate de méthyle ou le polyacrylate de méthyle. Selon un mode de réalisation, le solvant de support est au moins un alcool. Selon un autre mode de réalisation, le solvant d'impression est au moins un solvant parmi le N-méthylpyrrolidone, le benzoate d'éthyle ou le triisopropyl-30 benzène. De préférence, le transfert de la solution de réserve de gravure sur la partie saillante de la plaque d'impression inclut en outre l'étape consistant à: mettre en contact la solution de réserve de gravure avec la surface de la partie saillante, tout en mettant en rotation le dispositif de rouleau imprimeur qui est enduit avec la solution 35 de réserve de gravure. Le procédé de fabrication peut comprendre en outre les étapes consistant à: fournir un substrat où est formée une couche mince; et transférer la solution de réserve de gravure restée dans le dispositif de rouleau imprimeur sur la couche mince HIRSCH6'BRF\ ETS Breccis 2600n26030 061201-uOdTXT doc - 6 décembre 2006 - 5IO pour former la réserve de gravure de la même forme qu'une rainure de la plaque d'impression sur la couche mince. L'invention propose également une solution de réserve qui inclut un polymère de base, un solvant d'impression, un solvant de support et un agent de surface conte-5 nant un polymère fluoré d'oxyde d'éthylène. Selon un mode de réalisation, le polymère fluoré d'oxyde d'éthylène a la formule générale CF3(CF2),,,(CH2CH2O)n, où m est d'environ 1 à 10, et n est d'environ 8 à 50. De préférence, le polymère fluoré d'oxyde d'éthylène est CF3(CF2)4-10 (CH2CH2O)10 ou CF3(CF2)5(CH2CH2O)14. Selon un mode de réalisation, le polymère de base est présent à 4û20 %, le solvant de support est présent à 4060 %, le solvant d'impression est présent à 2040 %, et l'agent de surface est présent à 0,051 %. On comprendra qu'à la fois la description générale précédente et la description 15 détaillée qui suit d'un ou plusieurs modes de réalisation de la présente invention sont exemplaires et explicatives de l'invention. La description qui suit d'un ou plusieurs modes de réalisation donnés à titre d'exemples non limitatifs, est faite en référence aux dessins annexés dans lesquels: la figure 1 représente un schéma présentant un dispositif d'impression par 20 réserve inversée de l'art apparenté; les figures 2A à 2E représentent des schémas présentant un processus de formation d'un motif de couches minces par un procédé d'impression par réserve inversée, étape par étape; la figure 3 représente un schéma d'une structure typique de composés internes 25 de la solution de réserve de gravure, incluant un agent de surface de groupe fluoré de l'art apparenté; la figure 4 représente un schéma présentant spécifiquement un processus d'enduit d'une réserve de gravure sur une plaque d'impression, et la figure 5 représente un schéma d'une structure typique de composés internes 30 d'une solution de réserve de gravure incluant un agent de surface, selon l'invention. Il va maintenant être décrit en détail un ou plusieurs modes de réalisation préférés de la présente invention, dont des exemples sont illustrés sur les dessins joints. En référence aux figures 3 à 5, on va maintenant expliquer des modes de réali-35 sation de l'invention, comme suit. Un procédé et un appareil de fabrication d'un motif de couches minces, selon un mode de réalisation préféré de l'invention, utilisent une solution de réserve de gravure qui inclut un agent de surface contenant un polymère fluoré d'oxyde "HIRSCFI6 BRE\ETS1Bresets"6000'61 ' -06I2OI-tradEX-1 do,: - 6 décembre 2006 - 6; 16 d'éthylène. La solution de réserve de gravure, incluant cet agent de surface, a une force adhésive plus forte avec la plaque d'impression qu'avec le blanchet, ce qui rend possible de transférer facilement la solution de réserve de gravure du blanchet à la plaque d'impression. Cela permet donc d'améliorer la fiabilité de la formation du motif de couches minces par un procédé d'impression par réserve. En référence aux figures 2A à 2D, on va expliquer plus en détail la solution de réserve de gravure de l'invention, conjointement à un procédé de fabrication d'un motif de couches minces par un procédé d'impression par réserve. Tout d'abord, comme représenté sur la figure 2A, une solution de réserve de gravure 14a d'un dispositif de pulvérisation de solution de réserve de gravure 12 est pulvérisée sur un blanchet 15, qui est enroulé autour du dispositif de rouleau imprimeur 10. Le dispositif de rouleau imprimeur 10 est mis en rotation pour enduire uniformément la solution de résine de réserve de gravure 14a sur le blanchet 15. Par conséquent, la solution de réserve de gravure 14a enduit le blanchet 15 du dispositif de rouleau imprimeur 10. Une composition typique de la solution de réserve de gravure est celle du tableau 1. Tableau 1 Polymère de base Solvant de support Solvant Agent de surface d'impression 4-20 % 40û60 % 20.40 % 0,051 % Ici, la novolaque, l'époxy novolaque, le PMMA (polyméthacrylate de méthyle), des copolymères PMMA, le PMA (polyacrylate de méthyle), des copolymères PMA, etc., sont utilisés comme polymère de base. Le solvant de support signifie un solvant utilisé pour enduire uniformément la solution de réserve de gravure 14a sur le blanchet, en réduisant la viscosité de la solution de réserve de gravure 14a pulvérisée par le dispositif de pulvérisation de solution de réserve de gravure 12. Le solvant de support peut être un alcool tel que le méthanol, l'éthanol, le propanol, l'alcool isopropylique, l'alcool butylique, etc. Des solvants sans alcool tels que le benzène peuvent être utilisés. Le solvant de support peut également être un mélange de solvants, par exemple un mélange d'alcools. Le point d'ébullition du solvant de support est préférablement de moins de 100 C. Le solvant d'impression est utilisé pour donner à la solution de réserve de gravure 14a, enduite sur le blanchet, une caractéristique d'adhérence ou d'adhésivité. Le solvant d'impression est un solvant qui dissout bien le polymère de base, tel que le NMP (N-méthylpyrrolidone), le benzoate d'éthyle, le triisopropylbenzène, etc. Le ,AHIRSCH6BREV ETS Brevets76(S 6030-061201-badTXT doc-6 décembre 2006 7 16 point d'ébullition du solvant d'impression n'est préférablement pas inférieur à 200 C. L'agent de surface est un matériau qui adhère solidement à l'interface pour diminuer de façon importante la tension de surface de l'interface, et qui agit pour 5 réduire la tension de surface de la solution de réserve de gravure 14a. L'agent de surface peut inclure un matériau polymère fluoré d'oxyde d'éthylène ayant la formule générale CF3(CF2),,,(CH2CH2O)n, où m est d'environ 1 à 10, et n est d'environ 8 à 50. Des exemples typiques de ce matériau incluent CF3(CF2)4(CH2CH2O)10, CF3(CF2)5(CH2CH2O)14, etc. À la place du groupe caracté- 10 ristique d'oxyde d'éthylène, des copolymères séquencés d'oxyde d'éthylène et d'oxyde de propylène peuvent également être utilisés. L'agent de surface, contenant le polymère fluoré d'oxyde d'éthylène, augmente l'énergie de surface de la solution de réserve de gravure 14a. Par conséquent, la solution de réserve de gravure 14a a une force adhésive plus forte avec la plaque d'impression 20 qu'avec le blanchet 15, 15 ce qui permet de transférer facilement la solution de réserve de gravure 14a, du blanchet 15 à la plaque d'impression 20. En référence aux figures 3 à 5, on va expliquer l'invention plus précisément, comme suit. La figure 3 représente un schéma d'une structure interne typique d'une solution 20 de réserve de gravure 14a, incluant un agent de surface fluoré de l'art apparenté, qui est enduit sur le blanchet 15. En référence à la figure 3, la plupart des radicaux hydrophiles 22 de l'agent de surface sont tournés en direction du blanchet 15, qui a une énergie de surface faible, et le radical fluoré correspondant au radical hydrophobe 23 de l'agent de surface est 25 tourné vers l'air dans la structure interne de la solution de réserve de gravure 14a, enduite sur le blanchet 15. Ici, l'énergie de surface y est l'énergie nécessaire pour former une interface avec l'air, et un matériau ayant une énergie de surface élevée y a des difficultés pour former une interface avec l'air. La caractéristique de formation de l'interface avec 30 une surface opposée devient plus forte que l'énergie de surface y de la surface opposée d'un état liquide ou d'un état solide, dans lequel son contact devient plus faible. C'est-à-dire que le matériau, ayant l'énergie de surface y élevée, peut largement répandre le matériau de fluide si un matériau de fluide ayant une énergie de surface y faible est étalé sur celui-ci. En outre, le matériau ayant l'énergie de surface y faible 35 ne forme pas facilement une interface avec le matériau opposé, se séparant ainsi facilement du matériau opposé et ayant une forte caractéristique de contact avec l'air. L'énergie de surface y est exprimée comme la somme d'une énergie de surface non `.II IRSCHMBRENETS`.Breccj 26000 20030-061201-VadTNT doc - 6 décembre 2006 - 8'16 9 polaire yd et d'une énergie de surface polaire yp, comme dans la formule mathématique 1. [Formule mathématique 1 I y=yd+yp En relation avec l'énergie de surface y, le tableau 2 représente les valeurs yd et yp du blanchet 15, de la solution de réserve de gravure 14a et de la plaque d'impression 20. [Tableau 21 yd (mN/m) yp (mN/m) Blanchet 18,8 1,6 Solution de réserve de gravure 13 0 (agent de surface de grouse fluoré inclus) Plaque d'impression 52 47 Ici, afin de transférer facilement la solution de réserve de gravure 14a, du blanchet 15 à la plaque d'impression 20, la force adhésive entre la solution de réserve de gravure 14a et le blanchet 15 devrait être plus faible que la force adhésive entre la solution de réserve de gravure 14a et la plaque d'impression 20. C'est-à-dire que, comme représenté sur la figure 4, si la solution de réserve de gravure 14a, enduite sur le blanchet 15, est transférée vers la plaque d'impression 20, la force adhésive Wb entre la solution de réserve de gravure 14a et la plaque d'impression 20 devrait être plus élevée que la force adhésive Wa entre le blanchet 15 et la solution de réserve de gravure 14a. Ici, la force adhésive W, en fonction de yd et yp dans deux interfaces, peut être représentée comme dans la formule mathématique 2. [Formule mathématique 21 W = 2 (yd l x yd2Y/2 + 2 (yp 1 x yp2)'/2 ydl et ypl représentent l'énergie de surface non polaire et l'énergie de surface polaire de l'une quelconque des interfaces qui sont différentes l'une de l'autre, et yd2 et yp2 représentent l'énergie de surface non polaire et l'énergie de surface polaire de l'autre interface entre les deux différentes interfaces. L'unité de W est mJ/m2. [0059) Selon le tableau I et la formule mathématique 2, la force adhésive Wb, entre la solution de réserve de gravure 14a et la plaque d'impression 20, est d'environ 52, et la force adhésive Wa entre le blanchet 15 et la solution de réserve de gravure 14a est d'environ 32, ainsi, la différence entre les deux forces adhésives n'est pas élevée. Ici, la force adhésive Wb calculée mathématiquement d'environ 52 entre la solution de réserve de gravure 14a et la plaque d'impression 20, et la force adhésive Wa d'environ 32 entre le blanchet 15 et la solution de réserve de gravure \AHIRSCH6SREVETS`Brevets','_600006030-06t?01-iradTXT doc. - 6 décembre 2006 - 9'16 30 14a, peuvent comporter une erreur ou une déviation en fonction des variables, telles que d'autres conditions de processus. Ainsi, la différence d'environ 20 n'est pas une différence permettant de réaliser un processus de transfert fiable. Par conséquent, si on réalise sensiblement le processus de transfert, cela 5 diminue la caractéristique de transfert de la solution de réserve de gravure 14a, du blanchet 15 à la plaque d'impression 20, et détériore ainsi la fiabilité de la formation du motif de couches minces par le procédé d'impression par réserve. Afin de résoudre les problèmes de l'art apparenté, l'invention utilise un agent de surface formé de (ou contenant) un matériau polymère fluoré d'oxyde d'éthylène, 10 ayant la formule générale CF3(CF2)n,(CH2CH2O)n, où m est d'environ 1 à 10, et n est d'environ 8 à 50, tel que CF3(CF2)4(CH2CH2O) 10i CF3(CF2)5(CH2CH2O)14, etc. La figure 5 représente un schéma d'une structure interne typique de la solution de réserve de gravure 14a dans un état où la solution de réserve de gravure 14a, incluse dans l'agent de surface de l'invention, est formée sur le blanchet 15. 15 En référence à la figure 5, dans la structure interne de la solution de réserve de gravure 14a enduite sur le blanchet 15, l'agent de surface est divisé en un radical fluoré correspondant au radical hydrophobe 23 et la chaîne hydrocarbonée 22. La chaîne hydrocarbonée 22 peut être, par exemple, de l'oxyde d'éthylène (CH2CH2O), de l'oxyde de propylène (CH2CH2CH2O), une amine (CH2N), etc. L'agent de surface 20 dans l'invention ayant une telle structure est un agent de surface partiellement fluoré, et l'énergie de surface de l'agent de surface lui-même est similaire à l'énergie de surface (environ 35 mN/m) d'une chaîne polymère, et il n'existe par conséquent pas d'orientation, et les molécules sont situées de façon aléatoire par rapport au polymère de réserve 24. 25 Par conséquent, après avoir adopté l'énergie d'interface dans l'invention, les valeurs yd et yp du blanchet 15, de la solution de réserve de gravure 14a et de la plaque d'impression 20, sont telles que dans le tableau 3. [Tableau 3] yd (mN/m) yp (mN/m) Blanchet 18,8 1,6 Solution de réserve de gravure 42,2 2,0 (agent de surface de groupe fluoré inclus) Plaque d'impression 52 47 C'est-à-dire que, si l'on compare le tableau 3 avec le tableau 2, les valeurs yd et yp de la solution de réserve de gravure (agent de surface semifluoré inclus) dans UHIRS( H6 BREVETS Hresets'.~600(r 26030-06 1 2 01-tradTXT doc - 6 décembre 2006 I0 16 l'invention sont connues pour être particulièrement plus élevées que celles de l'art apparenté du tableau 2. Quantitativement, la force adhésive Wa entre la solution de réserve de gravure 14a et la plaque d'impression 20 est d'environ 113, et la force adhésive Wb entre le blanchet 15 et la solution de réserve de gravure 14a est d'environ 58. C'est-à-dire que la force adhésive Wa entre la solution de réserve de gravure 14a et la plaque d'impression 20 est particulièrement plus élevée que la force adhésive Wb entre le blanchet 15 et la solution de réserve de gravure 14a. Ainsi, la solution de réserve de gravure 14a peut être facilement transférée du blanchet 15 à la plaque d'impression 20. La fiabilité du processus de transfert est par conséquent améliorée, ce quipermet ainsi d'améliorer la fiabilité de la formation du motif de couches minces par le procédé d'impression par réserve. Le motif de couches minces peut ensuite être formé en utilisant les dispositifs représentés sur la figure 1, selon le procédé expliqué en référence aux figures 2b à 2E. Le motif de grille, tel que l'électrode de grille, la ligne de grille, etc., du dispositif d'affichage à cristaux liquides peut être formé, quel que soit le motif de couches minces de l'écran à cristaux liquides, en utilisant l'appareil et le procédé de fabrication du motif de couches minces selon l'invention. En outre, l'invention n'est pas limitée à la fabrication des écrans à cristaux liquides, mais inclut la fabrication du motif de couches minces de n'importe quel dispositif d'affichage tel qu'un écran à émission par effet de champ (FED), un écran à plasma (PDP), un écran à diodes électroluminescentes organiques (OLED), etc. Comme décrit ci-dessus, l'appareil de fabrication du motif de couches minces, et le procédé de fabrication du motif de couches minces utilisant celui-ci, selon l'invention, utilisent une solution de réserve de gravure qui inclut un agent de surface de polymère fluoré d'oxyde d'éthylène ou de propylène. La solution de réserve de gravure contenant l'agent de surface a une force adhésive plus forte avec la plaque d'impression qu'avec le blanchet, et il est par conséquent possible de transférer faci- lement la solution de réserve de gravure, du blanchet à la plaque d'impression. Par conséquent, la fiabilité de la formation du motif de couches minces par le procédé d'impression par réserve peut être améliorée. Bien entendu, l'invention n'est pas limitée aux exemples de réalisation ciûdessus décrits et représentés, à partir desquels on pourra prévoir d'autres modes et d'autres formes de réalisation, sans pour autant sortir du cadre de l'invention. Ainsi, diverses modifications et variations peuvent apparaître à l'homme du métier qui restent comprises dans la portée des revendications. \1HIRSCH6`BRE VETS Brevets 26000\26030-061201-trad1 XT dot - 6 décembre 2006 - 1116 REVENDICATIONS 1. Un appareil de fabrication d'un motif de couches minces, comprenant: -un dispositif de rouleau imprimeur (10) en forme de rouleau, autour duquel 5 est enroulé un blanchet (15) ; - un dispositif de pulvérisation (12) situé autour du dispositif de rouleau imprimeur (10) pour pulvériser une solution de réserve de gravure (14a) sur le blanchet (15) ; et - une plaque d'impression d'une forme gravée, où sont formées une rainure 10 (20a) d'une forme de couche mince souhaitée et une partie saillante (20b) en dehors de la rainure (20a), et dans lequel la solution de réserve de Bavure (14a) inclut au moins un agent de surface contenant un polymère fluoré d'oxyde d'éthylène. 15 2. L'appareil de fabrication selon la revendication 1, dans lequel le polymère fluoré d'oxyde d'éthylène a la formule générale CF3(CF2)n,(CH2CH2O)n, où m est d'environ I à 10, et n est d'environ 8 à 50. 3. L'appareil de fabrication selon la revendication 1, dans lequel le 20 polymère fluoré d'oxyde d'éthylène est CF3(CF2)4(CH2CH2O)10 ou CF3(CF2)5-(CH2CH2O)14. 4. L'appareil de fabrication selon la revendication 1, 2 ou 3 dans lequel la solution de réserve de gravure (14a) comprend un polymère de base de 4û20 %, un 25 solvant de support de 40û60 %, un solvant d'impression de 20û40 %, et l'agent de surface de 0,05-1 %. 5. L'appareil de fabrication selon l'une quelconque des revendications 1 à 4, dans lequel l'agent de surface a des structures moléculaires hydrocarbonées et de 30 radicaux fluorés, et les molécules hydrocarbonées et radicaux fluorés sont répartis de façon aléatoire dans la solution de réserve de gravure (14a). 6. L'appareil de fabrication selon la revendication 5, dans lequel la molécule du groupe hydrocarboné est au moins l'une quelconque parmi l'oxyde 35 d'éthylène (CH2CH2O), l'oxyde de propylène (CH2CH2CH2O) ou l'amine (CH2N). `.,.Ii1RSCH6 BREVETS' Brevets 26000060?0-061 _201-[radT\T doc - 6 décembre 7006 - 12'16 7. L'appareil de fabrication selon la revendication 5, dans lequel une force adhésive (Wb) entre la solution de réserve de gravure (14a) et la plaque d'impression est plus forte qu'une force adhésive (Wa) entre la solution de réserve de gravure et le blanchet (15) . 8. L'appareil de fabrication selon l'une quelconque des revendications 5 à 7, dans lequel le polymère de base est n'importe lequel parmi la novolaque, le polyméthacrylate de méthyle ou le polyacrylate de méthyle. 10 9. L'appareil de fabrication selon l'une quelconque des revendications 4 à 8, dans lequel le solvant de support est au moins un alcool. 10. L'appareil de fabrication selon l'une quelconque des revendications 4 à 9, dans lequel le solvant d'impression est au moins un solvant parmi le N-méthyl-15 pyrrolidone, le benzoate d'éthyle ou le triisopropylbenzène. 11. Un procédé de fabrication d'un motif de couches minces, comprenant les étapes consistant à: - fournir un dispositif de rouleau imprimeur ayant une forme de rouleau, autour 20 duquel est enroulé un blanchet; - enduire le blanchet avec une solution de réserve de gravure incluant un agent de surface contenant un polymère fluoré d'oxyde d'éthylène; - fournir une plaque d'impression d'une forme gravée, où sont formées une rainure et une partie saillante en dehors de la rainure; et 25 - transférer la solution de réserve de gravure seulement sur la partie saillante de la plaque d'impression, et laisser la solution de réserve de gravure d'une zone correspondant à la rainure dans le dispositif de rouleau imprimeur. 12. Le procédé de fabrication selon la revendication 11, dans lequel le 30 polymère fluoré d'oxyde d'éthylène a la formule générale CF3(CF2)1,,(CH2CH2O)B, où m est d'environ 1 à 10, et n est d'environ 8 à 50. 13. Le procédé de fabrication selon la revendication 11, dans lequel le polymère fluoré d'oxyde d'éthylène est l'un quelconque parmi 35 CF3(CF2)4(CH2CH2O)10 ou CF3(CF2)5(CH2CH2O)14. 14. Le procédé de fabrication selon l'une quelconque des revendications 1 l à 13, dans lequel la solution de réserve de gravure comprend un polymère de base VAHIRSCHô'BRE V ETS Brevets _26000.26030-06120 1-oadTXT. doc - 6 décembre 2006 - 13165 14 de 4ù20 %, un solvant de support de 4060 %, un solvant d'impression de 2040 % et l'agent de surface de 0,051 %. 15. Le procédé de fabrication selon l'une quelconque des revendications 11 à 14, dans lequel l'agent de surface a des structures moléculaires hydrocarbonées et des radicaux fluorés, et les molécules hydrocarbonées et radicaux fluorés sont répartis de façon aléatoire dans la solution de réserve de gravure. 16. La procédé de fabrication selon la revendication 15, dans lequel les molécules hydrocarbonées sont au moins l'une quelconque parmi l'oxyde d'éthylène, l'oxyde de propylène ou l'amine. 17. Le procédé de fabrication selon l'une quelconque des revendications 11 à 16, dans lequel une force adhésive entre la solution de réserve de gravure et la 15 plaque d'impression est plus forte qu'une force adhésive entre la solution de réserve de gravure et le blanchet. 18. Le procédé de fabrication selon l'une quelconque des revendications 14 à 17, dans lequel le polymère de base est l'un quelconque parmi la novolaque, le 20 polyméthacrylate de méthyle ou le polyacrylate de méthyle. 19. Le procédé de fabrication selon l'une quelconque des revendications 14 à 18, dans lequel le solvant de support est au moins un alcool. 25 20. Le procédé de fabrication selon l'une quelconque des revendications 14 à 18, dans lequel le solvant d'impression est au moins un solvant parmi le N-méthylpyrrolidone, le benzoate d'éthyle ou le triisopropylbenzène. 21. Le procédé de fabrication selon l'une quelconque des revendications 30 11 à 20, dans lequel le transfert de la solution de réserve de gravure sur la partie saillante de la plaque d'impression inclut en outre l'étape consistant à: - mettre en contact la solution de réserve de gravure avec la surface de la partie saillante, tout en mettant en rotation le dispositif de rouleau imprimeur qui est enduit avec la solution de réserve de gravure. 35 22. Le procédé de fabrication selon l'une quelconque des revendications t l à 21, comprenant en outre les étapes consistant à: - fournir un substrat où est farinée une couche mince; et HIRSCII BREVETS'Brecets'26000A26030-061201-IradTXT doc 6 décembre 2006 14,16-transférer la solution de réserve de gravure restée dans le dispositif de rouleau imprimeur sur la couche mince pour former la réserve de gravure de la même forme qu'une rainure de la plaque d'impression sur la couche mince. 23. Une solution de réserve de gravure (14a), comprenant: - un polymère de base; - un solvant d'impression; - un solvant de support, et - un agent de surface contenant un polymère fluoré d'oxyde d'éthylène. 24. La solution de réserve de gravure selon la revendication 23, dans laquelle le polymère fluoré d'oxyde d'éthylène a la formule générale CF3(CF,)171(CH2CH2O),,, où m est d'environ 1 à 10, et n est d'environ 8 à 50. 25. La solution de réserve de gravure selon la revendication 23, dans laquelle le polymère fluoré d'oxyde d'éthylène est CF3(CF2)4(CH2CH2O)10 ou CF3(CF2)5(CH2CH2O)14. 26. La solution de réserve de gravure selon la revendication 23, dans laquelle le polymère de base est présent à 4ù20 %, le solvant de support est présent à 4060 %, le solvant d'impression est présent à 2040 %, et l'agent de surface est présent à 0,05ù1 %. 'dHIRSCH6`.BREV ETS`.Bresets',^_60001260J0.061 ^01-tmdTRT doc - 6 décembre 2006 - 15.16