Brevet FR2906933A1 — publié le 20080411

DISPOSITIF DE SEPARATION D'UNE STRUCTURE EMPILEE ET PROCEDE ASSOCIE DESCRIPTION 5 DOMAINE TECHNIQUE L'invention concerne un dispositif permettant de séparer partiellement ou totalement une structure empilée, ainsi qu'un procédé utilisant ce dispositif. ÉTAT DE LA TECHNIQUE ANTÉRIEURE Dans le domaine de la microélectronique, il est important de connaître avec précision l'énergie de collage de structures empilées, afin notamment de 15 garantir l'intégrité de ces structures lors de procédés ultérieurs. Une méthode permettant de mesurer l'énergie de collage a été décrite en 1988 dans le document [1]. Cette méthode consiste à insérer une lame de rasoir 20 entre deux plaques d'une structure collée, la lame étant introduite par translation vers le centre de la structure au niveau de l'interface de collage et de manière parallèle au plan de l'interface de collage. A cette époque, cette technique de l'insertion d'une lame 25 dans une structure n'était utilisée que pour réaliser la mesure de l'énergie de collage et ne provoquait qu'une ouverture partielle de la structure collée sur une certaine longueur L. Quelques années plus tard, divers auteurs 30 ont proposé d'utiliser cette technique de l'insertion 10 2906933 2 d'une lame afin de séparer complètement des structures collées. Pour induire cette séparation, la lame est insérée suivant un axe radial de la structure collée et dans le plan (ou du moins au voisinage) de l'interface de collage. Cette séparation complète de la structure collée est obtenue par la même technique de base que celle utilisée dans le document [1], en prenant soin de générer une séparation depuis un bord de la structure collée jusqu'au centre de la structure collée, voire jusqu'au bord diamétralement opposé de la structure. Selon une variante, plusieurs lames peuvent être insérées simultanément de façon radiale dans le plan de l'interface de collage des structures collées (voir document [2]). En utilisant plusieurs lames, on peut initier des séparations de la structure collée à partir de plusieurs zones périphériques, ces séparations se rejoignant dans la zone centrale pour obtenir un décollement total de la structure collée. Ces différentes techniques peuvent être utilisées pour séparer des structures au niveau d'une interface de collage, mais également suivant un plan de séparation correspondant à un plan de faiblesse ou à un plan de contraintes excessives existant dans la structure empilée. Pour induire de façon relativement automatique des séparations de structure empilée au niveau du plan d'une interface de collage, d'un plan de faiblesse ou d'un plan de contraintes excessives, il existe des équipements automatiques qui permettent d'induire la séparation par l'utilisation de lames de forme concave circulaire, dont le diamètre correspond à 2906933 3 celui de la structure à séparer. Le mouvement de ces lames est une translation de la périphérie vers le centre de la structure à séparer (voir par exemple le document [3]). Là encore, la lame est introduite dans 5 la structure par translation de la périphérie vers le centre de la structure à séparer. L'inconvénient de ces différentes techniques est qu'en introduisant la ou les lames entre les faces d'une structure collée et en les déplaçant 10 radialement entre ces faces, on introduit également sur toute la zone de déplacement (pouvant aller jusqu'au centre de la structure) des impuretés sur ces faces et/ou on les détériore (apparitions de rayures, de défauts...). 15 EXPOSÉ DE L'INVENTION Le but de l'invention est de proposer un dispositif et un procédé de séparation d'un empilement présentant une zone fragilisée, par exemple une 20 structure collée constituée de deux couches autour d'une interface de collage ou encore une structure présentant une zone fragilisée, obtenue par exemple par implantation d'espèces gazeuses (par exemple de l'hydrogène), qui permettent de séparer cet empilement 25 en deux couches distinctes de part et d'autre de la zone fragilisée tout en diminuant l'introduction d'impuretés et l'apparition de rayures sur les faces desdites couches séparées. Notons que dans cette description, le terme 30 séparation doit s'interpréter comme étant une dissociation ou encore un détachement. 2906933 4 Ce but et d'autres encore sont atteints, conformément à l'invention par un dispositif de séparation d'un empilement en deux parties distinctes, ledit empilement comprenant une première partie, une 5 seconde partie et une zone fragilisée interposée entre lesdites première et seconde parties, ledit dispositif comprenant au moins un séparateur apte à venir en contact avec la première partie de l'empilement en au moins un premier point de contact situé en périphérie 10 de l'empilement et apte à venir en contact avec la seconde partie de l'empilement en au moins un second point de contact situé en périphérie de l'empilement, le dispositif comprend en outre des moyens d'entraînement qui animent ledit séparateur et 15 l'empilement d'un mouvement relatif, caractérisé en ce que le séparateur est configuré de manière à ce que la distance entre le premier point de contact et le second point de contact augmente au cours du mouvement relatif, les premier et 20 second points de contact demeurant en périphérie de l'empilement au cours du mouvement relatif. Le séparateur et l'empilement sont animés d'un mouvement relatif de sorte que l'empilement peut progresser le long du périmètre du séparateur au niveau 25 de la zone fragilisée. Le périmètre du séparateur correspond à la circonférence du séparateur si le séparateur a un pourtour de forme circulaire. Le séparateur est configuré de manière à ce que la distance entre le premier point de contact et le 30 second point de contact augmente au fur et à mesure que le séparateur progresse le long du périmètre de 2906933 5 l'empilement de manière à écarter les deux parties l'une de l'autre. Le dispositif de séparation selon l'invention permet d'induire une séparation d'une 5 structure empilée, à partir de la zone périphérique de la structure empilée. Avantageusement, la séparation est assurée par une augmentation progressive de l'écart des points de contact, ces points de contact restant dans la zone périphérique de l'empilement, du fait du 10 mouvement relatif entre la structure et le séparateur. Ainsi, le mouvement relatif entre la structure et le séparateur est essentiellement tangentiel. Par zone périphérique, on entend une zone en bord de la structure empilée, telle que par exemple 15 la zone des chanfreins de bord de plaques, la zone où les plaques ont été détourées, la zone dans laquelle on ne prévoit pas de réalisation ultérieure de procédé... Dans le domaine de la microélectronique, la zone périphérique est généralement appelée zone d'exclusion, 20 par opposition à la zone active dans laquelle sont réalisées les circuits intégrés. Selon une première variante, le mouvement relatif du séparateur par rapport à l'empilement est en outre obtenu par rotation du séparateur sur lui-même. 25 Selon une deuxième variante, éventuellement combinée avec la première variante, le mouvement relatif du séparateur par rapport à l'empilement est en outre obtenu par mise en rotation de l'empilement autour du séparateur. 2906933 6 Avantageusement, le mouvement relatif du séparateur par rapport à l'empilement est en outre obtenu par rotation de l'empilement sur lui-même. Avantageusement, le mouvement relatif du 5 séparateur par rapport à l'empilement est en outre obtenu par mise en rotation du séparateur autour de l'empilement. Selon une troisième variante, le mouvement relatif du séparateur par rapport à l'empilement est en 10 outre obtenu par mise en translation du séparateur tangentiellement à l'empilement. Selon une quatrième variante, éventuellement combinée avec la troisième variante, le mouvement relatif du séparateur par rapport à 15 l'empilement est en outre obtenu par mise en translation de l'empilement le long du séparateur. Avantageusement, le mouvement relatif du séparateur par rapport à l'empilement est en outre obtenu par rotation de l'empilement sur lui-même. 20 Avantageusement, le mouvement relatif du séparateur par rapport à l'empilement est en outre obtenu par rotation du séparateur autour de l'empilement. Selon un mode de réalisation particulier, 25 le séparateur comporte un cône, tronqué ou non, la génératrice dudit cône étant apte à venir au contact de l'empilement au niveau du premier point de contact et la base dudit cône étant apte à venir au contact de l'empilement au niveau du second point de contact. 30 Ainsi, la génératrice du cône vient en contact avec la première partie de l'empilement et la base dudit cône 2906933 7 vient en contact avec la seconde partie de l'empilement. Selon un autre mode de réalisation particulier, le séparateur comportent deux cônes 5 tronqués ou non, superposés selon leurs bases, la génératrice du premier cône étant apte à venir au contact de l'empilement au niveau du premier point de contact et la génératrice du second cône étant apte à venir au contact de l'empilement au niveau du second 10 point de contact. Ainsi, la génératrice du premier cône vient en contact avec la première partie de l'empilement et la génératrice du second cône vient en contact avec la seconde partie de l'empilement. Avantageusement, les axes des deux cônes 15 sont décalés l'un par rapport à l'autre. Avantageusement, les axes des deux cônes sont inclinés l'un par rapport à l'autre. Par exemple, on peut ainsi réaliser un séparateur par l'intersection de deux cônes, dont les 20 axes sont confondus, sont décalés, ou sont inclinés l'un par rapport à l'autre. Selon un autre mode de réalisation particulier, le séparateur comporte un prisme, dont la base est apte à venir au contact de l'empilement au 25 niveau du premier point de contact et une des faces est apte à venir au contact de l'empilement au niveau du second point de contact, la base et ladite face formant un angle aigu, tronqué ou non. Ainsi, la base du prisme vient en contact avec la première partie de 30 l'empilement et la face du prisme formant un angle aigu 2906933 8 avec la base vient en contact avec la seconde partie de l'empilement. Selon un autre mode de réalisation particulier, le séparateur comportent deux prismes, 5 chaque prisme ayant une base et une face, la base et ladite face formant un angle aigu, tronqué ou non, et les prismes étant superposés selon leurs bases, les faces des deux prismes étant destinées à venir en contact respectivement avec la première et la seconde 10 parties de l'empilement. Avantageusement, la zone fragilisée est une interface de collage, un plan de faiblesse ou un plan de contraintes excessives. Selon un mode de réalisation particulier, 15 l'empilement comprend une zone adaptée à l'insertion du séparateur (par exemple une encoche), située en périphérie de l'empilement au niveau ou à proximité de la zone fragilisée, s'étendant sur tout ou partie de la périphérie, et dans laquelle le séparateur est inséré. 20 Cette zone est par exemple constituée par les deux chanfreins des plaques collées à séparer au niveau de cette interface de collage ou d'une zone fragilisée située au voisinage de cette interface de collage. Avantageusement, les première et seconde 25 parties sont des couches. Avantageusement, la séparation obtenue grâce au dispositif est complète ou partielle. L'invention concerne également un procédé 30 de séparation d'un empilement en deux parties distinctes, l'empilement comprenant une première 2906933 9 partie, une seconde partie et une zone fragilisée interposée entre lesdites première et seconde parties. Ce procédé comprend les étapes suivantes : a) insérer au moins un séparateur au niveau ou à 5 proximité de la zone fragilisée jusqu'à amener le séparateur en contact avec au moins la première partie de l'empilement au niveau d'un premier point de contact et la seconde partie de l'empilement au niveau d'un seconde point de contact, 10 b) animer le séparateur et l'empilement d'un mouvement relatif de manière à ce que la distance entre le premier et le second point de contact du séparateur avec la première et la seconde partie de l'empilement, respectivement, augmente et que lesdites parties 15 s'écartent l'une de l'autre, les premier et second points de contact demeurant en périphérie de l'empilement au cours du mouvement relatif. Ainsi, le mouvement relatif est principalement tangentiel. Avantageusement, dans l'étape a), le 20 séparateur est inséré dans une zone adaptée située en périphérie de l'empilement au niveau ou à proximité de la zone fragilisée. Selon une première variante, le mouvement relatif du séparateur et de l'empilement est en outre 25 obtenu par rotation du séparateur sur lui-même. Selon une deuxième variante, le mouvement relatif du séparateur et de l'empilement est en outre obtenu par rotation de l'empilement autour du séparateur. 2906933 10 Avantageusement, le mouvement relatif du séparateur et de l'empilement est en outre obtenu par rotation de l'empilement sur lui-même. Avantageusement, le mouvement relatif du 5 séparateur et de l'empilement est en outre obtenu par rotation du séparateur autour de l'empilement. Selon une troisième variante, le mouvement relatif du séparateur et de l'empilement est en outre obtenu par translation du séparateur tangentiellement à 10 l'empilement. Selon une quatrième variante, le mouvement relatif du séparateur et de l'empilement est en outre obtenu par translation de l'empilement le long du séparateur. 15 Avantageusement, le mouvement relatif du séparateur et de l'empilement est en outre obtenu par rotation de l'empilement sur lui-même. Avantageusement, le mouvement relatif du séparateur et de l'empilement est en outre obtenu par 20 rotation du séparateur autour de l'empilement. Selon un premier mode de réalisation, le séparateur est configuré de manière à ce que la distance entre le premier point de contact et le second point de contact augmente au cours du mouvement relatif 25 de l'empilement par rapport au séparateur. Avantageusement, le séparateur est un séparateur du dispositif de séparation précédemment décrit. Avantageusement, l'augmentation de ladite 30 distance entre le premier point de contact et le second point de contact est obtenue par un système qui adapte 2906933 11 en dynamique ladite distance sur le séparateur. Le système peut par exemple, si le séparateur vient en contact de l'empilement au niveau de deux de ces parois, écarter ces parois l'une de l'autre au cours du 5 temps, de manière avantageusement progressive en fonction du temps. Selon un second mode de réalisation, les étapes a) et b) du procédé sont répétées N fois (N >_ 2), chaque fois en utilisant un séparateur 10 différent ayant une distance entre le premier et le second point de contact du séparateur avec la première et la seconde partie de l'empilement maximale supérieure à la distance maximale du séparateur précédemment utilisé. La séparation s'effectue ainsi 15 par l'insertion successive de séparateurs ayant une distance maximale entre deux points de contact du séparateur avec l'empilement de plus en plus grande. Un cas particulier de ce second mode de réalisation consiste à utiliser des séparateurs dont la distance 20 maximale est constante (c'est-à-dire qu'elle n'évolue pas au cours du mouvement relatif du séparateur et de l'empilement, une fois le contact obtenu). Ainsi, si on utilise des séparateurs coniques, par exemple, dont la base et la génératrice viennent respectivement en 25 contact avec la première partie et la seconde partie de l'empilement, on choisira des séparateurs donc l'angle entre la base et la génératrice est de plus en plus grand. Avantageusement, la distance entre le 30 premier et le second point de contact du séparateur 2906933 12 avec la première et la seconde partie de l'empilement, respectivement, est constante pour chaque séparateur. BRÈVE DESCRIPTION DES DESSINS L'invention sera mieux comprise et d'autres avantages et particularités apparaîtront à la lecture de la description qui va suivre, donnée à titre d'exemple non limitatif, accompagnée des dessins annexés parmi lesquels : - les figures 1 à 4 représentent des exemples de séparateur ayant la forme de prisme, - la figure 5 représente un exemple de séparateur composé de deux cônes joints au niveau de leurs bases, 15 - la figure 6 représente une vue schématisée d'un cône présentant différents angles de génératrice, - les figures 7 à 16 représentent des vues de dessus d'un dispositif selon l'invention comprenant 20 un séparateur et un empilement (de forme circulaire), et en particulier : - les figures 7 à 10 illustrent des exemples de réalisation dans lesquels le séparateur ou l'empilement se déplace selon un mouvement de 25 translation par rapport à l'empilement ou au séparateur, respectivement, - les figures 11 et 12 illustrent des exemples de réalisation dans lesquels le séparateur, et éventuellement l'empilement, tournent sur eux-mêmes, 30 - les figures 13 à 16 illustrent des exemples de réalisation dans lesquels le séparateur ou 5 10 2906933 13 l'empilement tourne autour de l'empilement ou du séparateur, respectivement, - la figure 17 représente une vue de face d'un séparateur en contact avec un empilement selon 5 l'invention, - la figure 18 représente un détail agrandi de la figure 17, - la figure 19 représente une vue de face d'un empilement à séparer. EXPOSÉ DÉTAILLÉ DE MODES DE RÉALISATION PARTICULIERS Le dispositif de séparation permet de dissocier des couches d'une structure empilée. La séparation de l'empilement en deux parties distinctes 15 peut être réalisée au niveau d'une interface de collage entre deux couches, au niveau d'un plan correspondant à un plan de faiblesse ou au niveau d'une zone de contraintes excessives de la structure empilée. Pour les structures collées, l'interface de 20 collage correspond à un plan de liaisons faibles entre deux couches collées, par exemple, par adhésion moléculaire. Dans le cas de structures contenant des zones planes faibles ou contraintes, il s'agit de plans 25 autres ou plus faibles que les interfaces de collage, telles que, par exemple, des zones obtenues par implantation d'espèces gazeuses dans un substrat, une interface d'une couche déposée, une zone de nature ou de morphologie différente (par exemple une zone 30 enterrée d'oxyde ou de silicium poreux) ou des zones soumises à de fortes contraintes. 10 2906933 14 Le dispositif selon l'invention comprend au moins un séparateur. Le séparateur peut être tout corps apte à induire une progression de l'espacement entre les points de contact de ce séparateur avec 5 l'empilement à dissocier, ce contact se limitant à la zone périphérique de l'empilement. De préférence, comme en général le séparateur doit être introduit entre des plaques au niveau ou au voisinage d'une zone fragile de faible épaisseur, le séparateur sera formé de deux 10 parois qui se rejoignent pour former une partie saillante (angle aigu) ayant une arête. L'arête du séparateur peut être par exemple de forme circulaire ou rectiligne. En variante, cette arête pourra être tronquée. Par tronqué , on entend tronqué par un 15 plan ou une surface courbe. Pour réaliser un séparateur ayant une arête rectiligne, on peut utiliser tout corps ayant une partie biseautée selon une ligne droite, par exemple un prisme. Par exemple, le séparateur peut être un prisme 20 dont la base b1 et la face a1 faisant face à la base sont orientées de manière en former un angle aigu a et se rejoignent en formant une arête rectiligne 9 (figure 1). L'extrémité du prisme (c'est-à-dire la partie où la base et la face se rejoignent pour former un angle 25 aigu) peut également être tronqué. Le séparateur peut également être formé par l'association de deux prismes superposés selon leurs bases respectives b1 et b2. Dans la figure 2, on a illustré un exemple de deux prismes superposés, ayant leur extrémité tronquée et des angles 30 a1 et a2 identiques. Ici, les extrémités ont été tronquées selon un plan, mais on aurait également pu 2906933 15 les tronquer selon une surface courbe. Par ailleurs, les angles a1 et a2 auraient pu être différents. L'arête peut également avoir d'autres formes. Par exemple, le séparateur peut être un prisme 5 dans lequel la base b1 et la face a1 faisant face à la base se rejoignent selon un sommet pour former un angle aigu (figure 3). La base b1 et la face a1 faisant face à la base peuvent également se rapprocher l'une de l'autre, sans se rejoindre (figure 4). 10 Pour réaliser un séparateur ayant une arête de forme circulaire, on peut utiliser par exemple un cône, la génératrice de ce cône formant alors l'arête d'angle aigu. Dans ce cas, pour obtenir un séparateur ayant une hauteur variable entre les points de contact 15 entre le séparateur et les couches de l'empilement, on excentre l'axe de rotation du séparateur par rapport à son axe de symétrie, dans le cas où le séparateur est destiné à être mis en rotation, et/ou, si la structure à séparer est de forme circulaire et est destinée à 20 être mise en rotation, on excentre l'axe de rotation de la structure par rapport à son axe de symétrie. On peut également réaliser un séparateur ayant une arête de forme circulaire en joignant deux cônes au niveau de leurs bases. A partir de ces deux 25 cônes, on peut obtenir différentes hauteurs en modifiant l'angle des génératrices 1 des cônes et/ou l'angle entre les axes 2 des deux cônes. A titre d'exemple, le séparateur peut être réalisé en inclinant l'un par rapport à l'autre les axes 2 de deux cônes 30 d'un angle a d'environ 20 (voir figure 5). On peut également faire varier l'angle de la génératrice 1 par 2906933 16 rapport à l'axe 2 de chacun des cônes ; par exemple, cet angle peut être de 10 , 20 , 30 , 45 ou 60 . Selon l'angle de la génératrice 1 choisie al, a2, a3, a4, a5, le séparateur présente des hauteurs différentes hlr h2, 5 h3r h4, h5 respectivement pour une profondeur p donnée, comme illustré dans la figure 6, où le séparateur est constitué par un seul cône. Si le séparateur est constitué par deux cônes, les angles des génératrices des deux cônes 10 peuvent être choisis identiques ou différents. Pour réaliser la séparation, le séparateur et la structure empilée à dissocier doivent être animés d'un mouvement relatif essentiellement tangentiel à la structure empilée de sorte que l'écart entre les points 15 de contact entre le séparateur et les couches de l'empilement varie de façon à augmenter au cours du mouvement. Avantageusement, l'augmentation est progressive. Ce mouvement relatif peut être obtenu de différente façon par mouvement du séparateur et/ou de 20 la structure. Par exemple, si le séparateur 14 présente une arête 19 rectiligne et si la structure empilée 5 est de forme circulaire, on peut translater le séparateur 14 selon une direction tangentielle 11 à la 25 structure empilée (figure 7) pour induire l'écartement des points de contact. On peut également avoir le cas où le séparateur 14 reste fixe, tandis que l'empilement 5 effectue un mouvement de translation 12 le long de l'arête 19 (figure 8) ou une combinaison de ces deux 30 mouvements de translation. On pourra avantageusement prévoir dans ces variantes de faire tourner la 2906933 17 structure 5 sur elle-même (autour de son axe de rotation 7), afin d'initier la séparation sur une partie ou sur toute la périphérie de la structure et ainsi mieux répartir les contraintes générées sur la 5 structure (voir la figure 9, où l'empilement tourne sur lui-même, ou la figure 10, où l'empilement a un mouvement de translation et tourne sur lui même). Il pourrait également être possible (en alternative ou en combinaison) de faire tourner le séparateur 14 autour 10 de l'axe de rotation 7 de l'empilement 5 (non représenté). Les mouvements de translation et de rotation pourront être continus ou non, pour tout ou partie, simultanés ou non... Si le séparateur 4 et l'empilement 5 ont 15 une forme circulaire, pour initier la séparation, les cas suivants sont possibles (seuls ou en combinaison) . - le séparateur 4 tourne sur lui-même autour de son axe de rotation 6, tandis que l'empilement 5 reste fixe (figure 11), 20 - le séparateur 4 reste fixe, tandis que l'empilement tourne autour de l'axe de rotation 6 du séparateur (figure 13), Ces deux mouvements de base permettent de réaliser la séparation. Ces deux mouvements de base 25 peuvent être combinés. Ces mouvements de rotation peuvent être continus ou discrets, dans un même sens ou avec des changements de sens de rotation ponctuels. Une combinaison (simultanée ou non) de ces rotations est possible avec des rotations dans des sens opposés ou 30 non. 2906933 18 On initie ainsi la séparation localement sur la périphérie de la structure. Pour générer cette séparation sur une partie plus grande de la périphérie de la structure, voire sur toute la périphérie, afin de 5 mieux répartir les contraintes générées sur la structure, on peut donc prévoir en plus des mouvements de rotation précédemment décrits (et pour tout ou partie simultanée avec ces mouvements de rotation) . - un mouvement de rotation de la structure 10 sur elle-même (continu ou discret, alterné ou non) et/ou - un mouvement de rotation du séparateur autour de l'axe de la structure (simultané ou non). On peut ainsi avoir les cas suivants : 15 -le séparateur 4 et l'empilement 5 tournent sur eux-mêmes autour de leurs axes de rotation respectifs 6 et 7 (figure 12), - le séparateur 4 reste fixe, tandis que l'empilement tourne sur lui-même autour de son axe de 20 rotation 7, et autour de l'axe de rotation 6 du séparateur (figure 14), -le séparateur 4 tourne sur lui-même autour de son axe de rotation 6, tandis que l'empilement tourne sur lui-même autour de son axe de 25 rotation 7, et autour de l'axe de rotation 6 du séparateur (figure 15), -le séparateur 4 tourne autour de l'axe de rotation 7 de l'empilement 5 et tourne sur lui-même autour de son axe de rotation 6, tandis que 30 l'empilement tourne sur lui-même autour de son axe de rotation 7 (figure 16). 2906933 19 Selon un premier exemple de réalisation, la structure empilée à séparer peut être composée de deux plaques de silicium de 100 mm de diamètre et de 525 5 micromètres d'épaisseur. Dans cet exemple, les deux plaques de silicium sont collées par collage moléculaire, technique bien connue de l'homme du métier : les deux surfaces sont préparées pour être hydrophiles et propres, puis les deux plaques sont 10 collées à température ambiante. On obtient ainsi une énergie de collage de l'ordre de 0,8 J/m2 après un traitement thermique à 500 C pendant deux heures. Les plaques présentent en périphérie un chanfrein 10 (c'est-à-dire une zone d'épaisseur 15 réduite). Après collage, ces chanfreins génèrent en périphérie de structure au niveau de l'interface de collage une zone non collée 10, qui va faciliter l'insertion ultérieure du séparateur entre les deux plaques. 20 Dans cet exemple, le séparateur est réalisé en joignant deux cônes selon leurs bases, les deux cônes ayant leurs axes inclinés l'un par rapport à l'autre d'un angle d'environ 20 . Les sommets des cônes ont été tronqués. 25 Comme les axes des deux cônes sont inclinés, on obtient une hauteur de séparation variable. L'avantage d'avoir une hauteur de séparation variable est qu'on obtient un effet progressif et tangentiel de séparation des deux plaques. Lorsque le 30 séparateur effectue par exemple un quart de tour, la hauteur de séparation des plaques de la structure 2906933 20 empilée varie de quelques micromètres jusqu'à environ 3 mm, dans la zone périphérique de l'empilement. Dans cet exemple, on choisit de faire tourner le séparateur 4 sur lui-même autour de son axe 5 de rotation 6. De préférence, la rotation du séparateur est effectuéelentement. Par exemple, on utilise des vitesses de rotation de 0,1, 1, 2, ou 5 tours par heure. La mise en rotation du séparateur (de même 10 que la rotation éventuelle de l'empilement) peut être réalisée de façon électrique, automatique, progressive, dans un mode discret ou continu. Selon une variante, éventuellement combinée, la structure empilée à séparer peut être 15 animée d'un mouvement de rotation autour de l'axe du séparateur. On peut par exemple faire tourner le séparateur par pas d'un dixième (1/101ème) de tour et entre chaque pas, faire tourner la structure sur elle même d'au moins un tour complet. 20 Le séparateur 4 est mis en contact (101, 102) des bords de chacune des deux plaques de la structure 5 à séparer, au niveau de la zone non collée (formant une zone 10 adaptée à l'insertion de la lame). Cette zone non collée est au voisinage de l'interface 25 de collage 8, correspondant dans ce cas à la zone fragilisée au niveau de laquelle on souhaite obtenir une séparation (figures 17 et 18). Comme on peut le voir dans la figure 17, la hauteur de séparation h1 est inférieure à la hauteur de séparation h2 diamétralement 30 opposée : lorsque le séparateur aura effectué un demi- tour, la hauteur de séparation aura donc changé et la 2906933 21 pression exercée sur les parois au niveau des points de contact 101 et 102 aura elle aussi augmenté. La mise en contact nécessite un mouvement relatif radial entre la structure et le séparateur mais 5 qui se limite en bordure de structure. La zone périphérique dans laquelle il y a un contact (101, 102) entre le séparateur à effet progressif tangentiel et chacune des plaques de la structure collée est située à environ 49 mm du centre 10 de la structure collée pour des structures de diamètre 100 mm. La hauteur de séparation imposée en périphérie de plaques collées par la rotation du séparateur est suffisante pour induire une séparation complète de la structure empilée. 15 Dans une variante de cet exemple, la structure à séparer est placée sur un moyen de maintien, par exemple une platine, qui permet une rotation de la structure autour de son axe, continue ou non, dans un sens unique ou permettant une alternance 20 de sens, simultanée ou non par rapport à la rotation du séparateur. La vitesse de rotation peut-être constante ou variable. Dans cet exemple, la vitesse de rotation de la platine est continue et simultanée avec le séparateur. Elle peut être de 10 tours par heure, de 5 25 tours par heure, de 1 tour par heure ou de 0,1 tour par heure. Dans cet exemple, la rotation de la platine s'effectue dans le même sens et à la même vitesse que la rotation du séparateur. On constate qu'il n'y a pas besoin 30 d'effectuer une translation radiale du séparateur selon l'invention, c'est-à-dire de la bordure de la structure 2906933 22 à séparer vers son centre. En effet, la simple rotation du séparateur, une fois le séparateur en contact de l'empilement, suffit à écarter les deux parties qui doivent être séparées dans la structure empilée. 5 Néanmoins, il sera toujours possible de prévoir une légère composante radiale au mouvement relatif entre le séparateur et la structure. Cette composante devra être limitée pour limiter les risques d'introduction d'impuretés et de rayures en bordure de structure. 10 Selon un deuxième exemple de réalisation, la structure empilée à séparer peut être composée de deux plaques de silicium de 100 mm de diamètre et de 525 micromètres d'épaisseur. Comme dans l'exemple 15 précédent, les deux surfaces des plaques à coller ont été préparées pour être hydrophiles et compatibles avec un collage moléculaire ultérieur. Les deux plaques ont été collées et traitées thermiquement à 200 C pendant deux heures pour obtenir par exemple une énergie de 20 collage de l'ordre de 0,6 J/m2. Dans cet exemple, le séparateur a été réalisé en joignant, selon leurs bases, deux cônes coaxiaux tronqués. Les sommets des cônes ont été tronqués afin que le séparateur soit moins encombrant. 25 Dans cet exemple, on a choisi un angle de génératrice de 45 . Dans cet exemple, le séparateur ainsi que la structure empilée sont mis en rotation sur eux-mêmes. On choisit de décaler l'axe de rotation du 30 séparateur d'environ 2 mm par rapport à l'axe des 2906933 23 cônes, ce qui permet de modifier les hauteurs de séparation. Le séparateur est mis en contact avec les bords de chacune des deux plaques de la structure à 5 séparer, dans la zone où ces plaques ont un chanfrein. Le séparateur et la structure empilée sont mis en rotation sur eux-mêmes selon un même sens ou des sens opposés. De préférence, la rotation du séparateur est effectuée lentement, par exemple, avec des vitesses de 10 rotation de 5 tours par heure, de 2 tours par heure, de 1 tour par heure ou de 0,1 tour par heure. Comme l'axe de rotation du séparateur est décalé par rapport à l'axe des cônes, la hauteur de séparation du séparateur va progressivement changer au 15 fur et à mesure que le séparateur va tourner. De préférence, le séparateur est déplacé de manière à ce que la hauteur de séparation augmente. De préférence, on choisit de placer le séparateur dans le chanfrein au niveau où le séparateur possède une hauteur de 20 séparation minimale. Lorsque le séparateur effectue par exemple un 1/6 de tour, la hauteur de séparation des plaques de la structure empilée peut varier de quelques micromètres jusqu'à environ 1,5 mm, dans la zone 25 périphérique de la structure. Une telle hauteur de séparation imposée en périphérie des plaques collées est suffisante pour induire une séparation complète de la structure empilée. Le mouvement relatif du séparateur et de la 30 structure présente une composante radiale, mais qui reste inférieure à 2 fois l'écart entre l'axe de 2906933 24 rotation du séparateur et l'axe des cônes, voire inférieur si le séparateur effectue moins d'un tour, ce qui est faible par rapport aux dimensions de la structure. L'essentiel du mouvement relatif reste donc 5 tangentiel. Selon un troisième exemple de réalisation, la structure empilée à séparer est composée de deux plaques de silicium assemblées par collage moléculaire 10 selon une interface de collage 18. Avant collage, une des deux plaques a subi une implantation d'hydrogène pour créer une zone fragile enterrée de microcavités 22, par exemple à 1 m de sa surface (voir la figure 19). C'est au niveau de cette zone fragile enterrée que 15 doit s'effectuer la séparation. Un traitement thermique peut être réalisé après collage pour renforcer le collage et favoriser la coalescence des microcavités. Simultanément ou postérieurement à ce 20 traitement thermique, le séparateur selon l'invention est introduit à l'interface de collage, dans la zone de chanfrein 10 des plaques à proximité de la zone fragile comprenant des microcavités 22. La séparation s'opère alors par exemple par rotation du séparateur selon une 25 ligne de fracture 20, qui comme représentée sur la figure 19, est réalisée dans le plan comprenant les microcavités 22 et part de la zone de chanfrein 10 (la ligne de fracture 20 est représentée par une ligne en pointillés). 30 2906933 25 Le dispositif et le procédé de séparation selon l'invention permettent, en évitant l'introduction radiale d'une lame au sein d'un empilement, d'éviter d'introduire des impuretés sur les surfaces des plaques 5 séparées et/ou de rayer ces surfaces, tout en permettant d'induire la séparation de structures empilées à partir de la périphérie de l'empilement. La surface de la zone utilisable des plaques ainsi séparées est donc beaucoup plus importante que celle 10 obtenue par séparation selon les dispositifs antérieurs, qui nécessitent l'introduction radiale d'une lame. Dans les exemples précédents, on a utilisé un séparateur de forme circulaire. D'autres formes de 15 séparateurs sont également possibles. Par exemple, le séparateur peut être un corps comportant deux parois qui se rejoignent selon une arête rectiligne. Il peut s'agir par exemple d'une lame du type lame de cutter. De même, on a utilisé un séparateur de forme fixe, mais 20 il serait bien sûr possible d'utiliser un séparateur dont la forme varie au cours du temps, de façon à adapter en dynamique la distance entre les points de contact de ce séparateur avec l'empilement. Il pourrait s'agir d'un séparateur conique dont l'angle entre la 25 génératrice et la base peut varier dynamiquement, par exemple sous l'effet de forces pneumatiques. Dans les exemples qui précèdent, un seul séparateur est utilisé, mais il est tout à fait possible d'utiliser deux séparateurs ou plus en 30 combinaison. Les séparateurs peuvent être de formes 2906933 26 identiques ou non, en rotation ou non, à des vitesses et des sens de rotation variables. Sans sortir du cadre de l'invention qui vise à obtenir une séparation d'une structure au niveau 5 d'une zone fragile à l'aide d'un outil en limitant le contact entre l'outil et la structure en périphérie de cette structure, et ce afin d'éviter notamment toute contamination et/ou endommagement au niveau des faces obtenues après séparation, on pourra prévoir d'insérer 10 successivement, en périphérie de structure, différents séparateurs. Ces séparateurs pourront être avantageusement similaires à ceux décrit précédemment, c'est-à-dire induisant une variation de la distance entre les points de contact entre ce séparateur et la 15 structure, soit dynamiquement, soit au cours d'un mouvement relatif entre ledit séparateur et la structure. En variante, il est possible d'utiliser différents séparateurs de forme fixe choisis de sorte que les points de contact entre ces séparateurs et la 20 structure restent localisés en périphérie de structure, mais que la distance entre ces points de contact varie d'un séparateur à l'autre pour augmenter et ainsi conduire à la séparation de la structure. Par exemple, on pourra utiliser des séparateurs coniques dont 25 l'angle entre la base et la génératrice augmente progressivement d'un séparateur à l'autre au fur et à mesure des insertions. 2906933 27 BIBLIOGRAPHIE [1] W. P. Maszara et al., Journal of Appl. Phys., 5 n 64(10), 15 nov. 1988, p 4943. [2] J. Bagdahn et M. Petzold, Debonding of Wafer-Bonded Interfaces for Handling and Transfer Applications, Wafer Bonding Applications and 10 Technology, ed. Springer. [3] brevet EP 1 385 683 B1. REVENDICATIONS 1. Dispositif de séparation d'un empilement (5) en deux parties distinctes, ledit empilement comprenant une première partie, une seconde partie et une zone fragilisée interposée entre lesdites première et seconde parties, ledit dispositif comprenant au moins un séparateur (4, 14) apte à venir en contact avec la première partie de l'empilement en au moins un premier point de contact situé en périphérie de l'empilement et apte à venir en contact avec la seconde partie de l'empilement en au moins un second point de contact situé en périphérie de l'empilement, le dispositif comprend en outre des moyens d'entraînement qui animent ledit séparateur (4, 14) et l'empilement (5) d'un mouvement relatif, caractérisé en ce que le séparateur est configuré de manière à ce que la distance entre le premier point de contact et le second point de contact augmente au cours du mouvement relatif, les premier et second points de contact demeurant en périphérie de l'empilement au cours du mouvement relatif. 2. Dispositif de séparation selon la revendication précédente, caractérisé en ce que le mouvement relatif du séparateur (4, 14) par rapport à l'empilement (5) est obtenu par rotation dudit séparateur (4, 14) sur lui-même. 3. Dispositif de séparation selon la revendication 1 ou 2, caractérisé en ce que le 2906933 29 mouvement relatif du séparateur (4, 14) par rapport à l'empilement (5) est obtenu par mise en rotation de l'empilement autour du séparateur. 5 4. Dispositif de séparation selon la revendication 2 ou 3, caractérisé en ce que le mouvement relatif du séparateur (4, 14) par rapport à l'empilement (5) est en outre obtenu par rotation de l'empilement (5) sur lui-même. 10 5. Dispositif de séparation selon l'une quelconque des revendications 2 à 4, caractérisé en ce que le mouvement relatif du séparateur (4, 14) par rapport à l'empilement (5) est obtenu par mise en 15 rotation du séparateur (4, 14) autour de l'empilement (5). 6. Dispositif de séparation selon la revendication 1, caractérisé en ce que le mouvement 20 relatif du séparateur (4, 14) par rapport à l'empilement (5) est obtenu par mise en translation du séparateur tangentiellement à l'empilement. 7. Dispositif de séparation selon la 25 revendication 1 ou 6, caractérisé en ce que le mouvement relatif du séparateur (4, 14) par rapport à l'empilement (5) est obtenu par mise en translation de l'empilement le long du séparateur. 30 8. Dispositif de séparation selon la revendication 6 ou 7, caractérisé en ce que le 2906933 30 mouvement relatif du séparateur (4, 14) par rapport à l'empilement (5) est en outre obtenu par rotation de l'empilement sur lui-même. 5 9. Dispositif de séparation selon l'une quelconque des revendications 6 à 8, caractérisé en ce que le mouvement relatif du séparateur (4, 14) par rapport à l'empilement (5) est en outre obtenu par mise en rotation du séparateur autour de l'empilement. 10 10. Dispositif de séparation selon l'une quelconque des revendications 1 à 5, caractérisé en ce que le séparateur (4, 14) comporte un cône, tronqué ou non, la génératrice dudit cône étant apte à venir au 15 contact de l'empilement au niveau du premier point de contact et la base dudit cône étant apte à venir au contact de l'empilement au niveau du second point de contact. 20 11. Dispositif de séparation selon l'une quelconque des revendications 1 à 5, caractérisé en ce que le séparateur (4, 14) comportent deux cônes, tronqués ou non, superposés selon leurs bases, la génératrice du premier cône étant apte à venir au 25 contact de l'empilement au niveau du premier point de contact et la génératrice du second cône étant apte à venir au contact de l'empilement au niveau du second point de contact. 30 12. Dispositif de séparation selon la revendication précédente, caractérisé en ce que les 2906933 31 axes des deux cônes sont décalés l'un par rapport à l'autre. 13. Dispositif de séparation selon la 5 revendication 11 ou 12, caractérisé en ce que les axes des deux cônes sont inclinés l'un par rapport à l'autre. 14. Dispositif de séparation selon l'une 10 quelconque des revendications 6 à 9, caractérisé en ce que le séparateur (4, 14) comporte un prisme, dont la base est apte à venir au contact de l'empilement au niveau du premier point de contact et une des faces est apte à venir au contact de l'empilement au niveau du 15 second point de contact, la base et ladite face formant un angle aigu, tronqué ou non. 15. Dispositif de séparation selon l'une quelconque des revendications 6 à 9, caractérisé en ce 20 que le séparateur (4, 14) comportent deux prismes, chaque prisme ayant une base et une face, la base et ladite face formant un angle aigu, tronqué ou non, et les prismes étant superposés selon leurs bases, les faces des deux prismes étant destinées à venir en 25 contact respectivement avec la première et la seconde parties de l'empilement. 16. Dispositif de séparation selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé 30 en ce que la zone fragilisée (8) est une interface de 2906933 32 collage, un plan de faiblesse ou un plan de contraintes excessives. 17. Dispositif de séparation selon l'une 5 quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que l'empilement (5) comprend une zone adaptée à l'insertion du séparateur, située dans en périphérie de l'empilement au niveau ou à proximité de la zone fragilisée, s'étendant sur tout ou partie de la 10 périphérie, et dans laquelle le séparateur (4, 14) est inséré. 18. Procédé de séparation d'un empilement (5) en deux parties distinctes, ledit empilement 15 comprenant une première partie, une seconde partie et une zone fragilisée interposée entre lesdites première et seconde parties, ledit procédé comprenant les étapes suivantes . a) insérer au moins un séparateur (4, 14) au niveau ou 20 à proximité de la zone fragilisée (8) jusqu'à amener le séparateur en contact avec au moins la première partie de l'empilement (5) au niveau d'un premier point de contact et la seconde partie de l'empilement (5) au niveau d'un second point de contact, 25 b) animer le séparateur et l'empilement d'un mouvement relatif de manière à ce que la distance entre le premier et le second point de contact du séparateur avec la première et la seconde partie de l'empilement, respectivement, augmente et que lesdites parties 30 s'écartent l'une de l'autre, les premier et second 2906933 33 points de contact demeurant en périphérie de l'empilement au cours du mouvement relatif. 19. Procédé de séparation selon la 5 revendication précédente, caractérisé en ce que, dans l'étape a), le séparateur est inséré dans une zone adaptée (10) située en périphérie de l'empilement au niveau ou à proximité de la zone fragilisée. 10 20. Procédé de séparation selon la revendication 18 ou 19, caractérisé en ce que le mouvement relatif du séparateur et de l'empilement est obtenu par rotation du séparateur (4, 14) sur lui-même. 15 21. Procédé de séparation selon l'une quelconque des revendications 18 à 20, caractérisé en ce que le mouvement relatif du séparateur et de l'empilement est obtenu par rotation de l'empilement (5) autour du séparateur (4, 14). 20 22. Procédé de séparation selon la revendication 20 ou 21, caractérisé en ce que le mouvement relatif du séparateur et de l'empilement est en outre obtenu par rotation de l'empilement (5) sur 25 lui-même. 23. Procédé de séparation selon l'une quelconque des revendications 20 à 22, caractérisé en ce que le mouvement relatif du séparateur et de 30 l'empilement est obtenu par rotation du séparateur (4, 14) autour de l'empilement (5). 2906933 34 24. Procédé de séparation selon l'une quelconque des revendications 18 à 20, caractérisé en ce que le mouvement relatif du séparateur et de 5 l'empilement est obtenu par translation du séparateur (4, 14) tangentiellement à l'empilement (5). 25. Procédé de séparation selon la revendication précédente, caractérisé en ce que le 10 mouvement relatif du séparateur et de l'empilement est en outre obtenu par translation de l'empilement le long du séparateur. 26. Procédé de séparation selon la 15 revendication 24 ou 25, caractérisé en ce que le mouvement relatif du séparateur et de l'empilement est en outre obtenu par rotation de l'empilement (5) sur lui-même. 20 27. Procédé de séparation selon l'une quelconque des revendications 24 à 26, caractérisé en ce que le mouvement relatif du séparateur et de l'empilement est en outre obtenu par rotation du séparateur autour de l'empilement. 25 28. Procédé de séparation selon la revendication 18, caractérisé en ce que le séparateur est configuré de manière à ce que la distance entre le premier point de contact et le second point de contact 30 augmente au cours du mouvement relatif de l'empilement par rapport au séparateur. 2906933 29. Procédé de séparation selon la revendication précédente, caractérisé en ce que l'augmentation de ladite distance entre le premier 5 point de contact et le second point de contact est obtenue par un système qui adapte en dynamique ladite distance sur le séparateur. 30. Procédé de séparation selon la 10 revendication 28 ou 29, caractérisé en ce que les étapes a) et b) sont répétées N fois (N >_ 2), chaque fois en utilisant un séparateur différent ayant une distance entre le premier et le second point de contact du séparateur avec la première et la seconde partie de 15 l'empilement maximale supérieure à la distance maximale du séparateur précédemment utilisé. 31. Procédé de séparation selon la revendication 30, caractérisé en ce que la distance 20 entre le premier et le second point de contact du séparateur avec la première et la seconde partie de l'empilement, respectivement, est constante pour chaque séparateur.