Brevet FR2886866A1 — publié le 20061215

PROCEDE ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT D'EFFLUENTS GAZEUX DE PROCEDES INDUSTRIELS Les réacteurs de dépôt de couches minces pour la fabrication des dispositifs électroniques et optoélectronique ne consomment pas entièrement les gaz actifs mis en oeuvre et génèrent donc une quantité notable d'effluents gazeux qui sont généralement dangereux et/ou nuisibles pour l'environnement et doivent donc être traités avant leur rejet à l'atmosphère. Les précurseurs gazeux de matériaux solides utilisés pour les phases d'élaboration des couches minces par dépôt CVD (chemical vapor deposition) sont souvent inflammables, pyrophoriques, explosifs et généralement aussi plus ou moins toxiques, et les concentrations de ces gaz, admissibles dans le milieu ambiant, sont réglementées et très faibles. En outre, entre les phases de dépôt, on procède généralement à des nettoyages par plasma des parois des chambres de procédé pour en retirer les dépôts solides. Ceux-ci sont inévitables, dans la mesure où le dépôt ne se produit pas uniquement et de manière sélective sur le dispositif en cours de fabrication. Les gaz utilisés pour ce nettoyage sont de même nature que ceux employés pour la gravure par plasma des motifs de circuits intégrés, ce sont donc des molécules perfluorées comme C2F6, C-C4F8, C3F8, NF3 et, à un degré moindre, CF4 et SF6 Les deux derniers cités sont plus difficiles à dissocier et donnent lieu à des vitesses d'attaque des couches solides généralement insuffisantes pour l'application de nettoyage. Pas plus que dans le cas de la gravure, ces molécules ne sont consommées à un taux proche de l'unité. Les procédés de nettoyage de réacteurs de dépôt CVD sont donc généralement émetteurs de gaz perfluorés à effet de serre. Dans d'autres cas, on utilise NF3 comme gaz de nettoyage. NF3 a un taux de décomposition élevé, mais cela ne veut pas dire que le fluor atomique soit ensuite utilisé avec un rendement élevé pour attaquer les couches minces solides. En fait, une grande partie de ce fluor atomique, avant de parvenir aux parois de la chambre, se recombine sous forme de fluor moléculaire F2 que l'on retrouve en quantité très importante dans les effluents finaux. Or F2 est très agressif chimiquement, toxique et corrosif et pose des problèmes spécifiques de destruction. Notamment, les systèmes de neutralisation classique sur l'eau, sur la soude en solution, ou sur la chaux sodée sont mal adaptés au traitement du F2. La réaction sur une phase aqueuse est susceptible en particulier de générer du OF2r éventualité qui est inadmissible pour la plupart des utilisateurs en raison de la toxicité exceptionnellement élevée de ce composé (valeur limite d'exposition continue des travailleurs de 50 parties par milliard en volume). II faut donc transformer F2 en HF, si l'on utilise pour le post-traitement un adsorbant réactif solide à base de chaux sodée ou un laveur. Dans certains réacteurs (fours multi-plaques), le nettoyage est effectué au moyen de fluor moléculaire F injecté directement dans le réacteur et activé thermiquement sur les parois chaudes du réacteur. Le problème de dépollution est alors sensiblement le même que précédemment. Des technologies de dépollution d'effluents gazeux des procédés de fabrication des semi-conducteurs ont été développées, basées sur des plasmas micro-ondes à pression atmosphériques destinés à être implantés en aval de l'échappement des pompes à vides primaires des équipements. Ces plasmas micro-ondes atmosphériques ont des caractéristiques de densité électronique et de température bien adaptées pour la destruction efficace des gaz perfluorés à effet de serre. Ces solutions plasma post-pompe présentent de grands avantages par rapport à des techniques de dépollution plus classiques comme les systèmes à combustion ou électrothermiques. Toutefois, ces brûleurs mettent en oeuvre l'application d'un champ électrique micro-ondes à travers la paroi d'un tube diélectrique, pour y entretenir le plasma, et ne peuvent recevoir de gaz de procédé de dépôt. En effet, en un tel cas, des dépôts de matériaux solides se formeraient généralement sur la paroi interne du tube à décharge, modifiant les propriétés diélectriques en surface et perturbant la propagation de l'onde de surface assurant l'entretien du plasma. Dans un second temps, l'accumulation de solides conduirait à une augmentation de la perte de charge à travers le tube à décharge avant son obstruction pure et simple. Il est souhaitable de disposer d'une solution plasma post-pompe capable de traiter l'ensemble des effluents de procédés rejetés dans les, phases de dépôt et de nettoyage. Une telle solution est décrite dans le document WO 200235575. Le dispositif décrit dans ce document comporte une torche débouchant dans une chambre étanche assurant la collecte des gaz actifs traités, avant de les diriger vers des moyens appropriés de post-traitement. La conversion des précurseurs de dépôts CVD de couches minces solides donne lieu à la génération d'une quantité très importante de particules solides, celle-ci se produisant en aval de la buse. Ces particules n'auront pas d'influence sensible sur le fonctionnement de la torche si elles sont collectées en continu au niveau de la chambre du brûleur afin d'éviter leur accumulation indéfinie. Par ailleurs, dans les brûleurs connus, se pose le problème de donner des dimensions compactes à la chambre, de manière à respecter de futurs critères d'intégration industrielle, notamment dans les sous-sols des unités de fabrication de semi-conducteurs, où l'espace est limité et coûteux. Le diamètre de la chambre peut être imposé par des considérations électrodynamiques. La valeur minimale résulte de la garde à observer pour ne pas amorcer d'arc entre la pointe de la buse de torche et la paroi de la chambre. La valeur maximale est imposée par la nécessité d'éviter l'établissement de modes de propagation de guide coaxial parasites, c'est-à-dire que le diamètre reste en dessous de la valeur de coupure permettant l'établissement du premier mode à 2,45 GHz. Cela conduit au choix d'un diamètre de chambre de 300 mm environ. La hauteur de la chambre devrait être la plus grande possible afin que l'écoulement hydrodynamique des gaz perturbe le moins possible la stabilité de la flamme et du panache de plasma. Dans la pratique, on doit cependant se limiter à une valeur inférieure à 500 m[n pour une intégrabilité réaliste. De préférence, la chambre aura une hauteur comprise entre 300 mm et 400 mm. Dans ces conditions, on ne peut maintenir un écoulement laminaire dans la chambre, à moins de pomper les gaz à la sortie aval de la chambre, établissant une dépression modérée dans l'enceinte (350 à 500 torr soit 47 à 67 KPa). Ceci nécessite d'utiliser une pompe à membrane. Si cette dernière est installée immédiatement en aval de la chambre, elle va subir l'agression chimique de sous-produits corrosifs. Si elle est implantée en aval d'une cartouche solide de neutralisation, elle va devoir supporter la perte de charge à travers cette dernière, laquelle peut varier avec le niveau de saturation de l'adsorbant réactif. Dans tous les cas, le fonctionnement de cette pompe est incompatible avec la présence de quantités massives de particules solides. Le piégeage et la collecte d'une grande densité de particules solides peuvent s'effectuer industriellement suivant plusieurs techniques. Toutefois, peu d'entre elles présentent un encombrement caractéristique compatible avec les exigences de la présente application. En particulier, il n'existe pas de concept efficace fonctionnant à sec et d'une taille caractéristique de l'ordre de quelques dizaines de cm. C'est pourquoi tous les systèmes à combustion utilisent la voie liquide pour le post traitement des produits de conversion dans la flamme. Un problème est donc de faire fonctionner un brûleur à pression sensiblement atmosphérique, ou du moins à toute pression imposée par le fonctionnement du collecteur d'évacuation principal de l'unité de fabrication des semi- conducteurs. En même temps il doit conserver sa faible taille. L'invention concerne d'abord un dispositif de traitement de gaz par plasma, comportant des moyens formant guide d'onde, destinés à être raccordés à un générateur micro-ondes, des moyens de torche à plasma montés sur les moyens formant guide d'ondes, une chambre de traitement coiffant l'extrémité libre de la torche à plasma et étant munie, du côté opposé à la torche, d'un orifice d'évacuation de gaz de plasma, caractérisé en ce que des moyens d'injection d'un fluide de refroidissement sont disposés dans ladite chambre, sur le trajet d'un gaz sortant de la torche à plasma. Les conditions thermodynamiques des gaz en sortie de chambre sont alors compatibles avec un laveur disposé en sortie, qui va permettre traiter ces gaz. Selon un mode de réalisation préférée, les moyens d'injection de fluide de refroidissement permettant de former dans la chambre une nappe de fluide, par exemple ayant une forme conique. Les moyens d'injection de fluide de refroidissement peuvent permettre d'assurer une douche d'une partie des 10 parois de la chambre. Afin de réduire les risques d'arcs parasites dans la chambre, les moyens d'injection de fluide de refroidissement permettent d'injecter le fluide dans la chambre vers la torche à plasma, ce qui permet d'éloigner ces moyens d'injection de la source de champ dans la chambre. Des moyens de déflexion hydrodynamique peuvent en outre être prévus sur le trajet du gaz, afin de renforcer le caractère laminaire de l'écoulement. De préférence, les moyens de déflexion comportant des moyens de refroidissement. Les moyens de déflexion sont par exemple de forme symétrique de révolution autour d'un axe sensiblement aligné avec un axe de la torche. Les moyens formant torche à plasma et la chambre sont 25 disposés de sorte que l'ensemble fonctionne en flux descendant. Ainsi, la chambre est disposée sous la torche, le haut de la chambre étant disposé du côté de la torche, et le bas de la chambre du côté de l'orifice d'évacuation des gaz de plasma. L'invention concerne également un procédé de traitement de gaz issus d'une torche à plasma, dans lequel ce gaz pénètre en flux descendant dans une chambre, puis y est refroidi, par exemple à une température inférieure à 60 C, avant de se diriger vers un orifice de sortie de la chambre. Les effluents gazeux traités sont par exemple issus d'une unité de traitement de dépôt de couches minces ou de traitement de matériaux semiconducteurs. L'invention sera mieux comprise à la lecture de la description détaillée faite ci-dessous, en relation avec les figures 1A-3 qui représentent divers modes de réalisation de l'invention. Un premier exemple de réalisation de l'invention est illustré en figure 1A. Un tel dispositif peut être installé en sortie d'une installation de dépôt de couches minces ou de traitement de matériaux semi-conducteurs, par exemple derrière une pompe qui permet d'amener les effluents gazeux à pression sensiblement atmosphérique. Ces effluents contiennent des molécules perfluorées comme C2F6, et/ou c-C4F8r et/ou C3F8, et/ou NF3 et/ou CF4 et/ou SF6 Le brûleur 1 est installé sur une chambre 14, en flux descendant (buse pointant vers le bas) de manière à faciliter la gestion des sous-produits non gazeux. Ce brûleur, ou cette torche, est de type torche à injection axiale sur guide d'onde, comme décrit dans l'article de M.Moisan et al. Waveguide based single and multiple nozzle plasma torches: the TIAGO concept , Plasma Sources Sci. Tech., 10, 2001, p. 387 - 394. Ce brûleur est adapté sur l'entrée d'un laveur (qui sera décrit plus loin) , c'est-à-dire que la sortie 21 aval de la chambre 14 va être raccordée sur la colonne venturi d'entrée du laveur. Dans l'exemple représenté, un déflecteur hydrodynamique 20, disposé à l'extrémité aval de la chambre 14, permet de renforcer le caractère laminaire d'un écoulement gazeux, y compris à pression atmosphérique. Ce déflecteur peut être refroidi par une circulation interne d'eau. Il a par exemple une en forme approximative de goutte d'eau, symétrique de révolution et disposé perpendiculairement au flux de gaz. Ce dispositif étant en place, on constate que l'écoulement du gaz dans la chambre reste laminaire pour une assez large gamme de pressions, en particulier à la pression atmosphérique, et la flamme et que le panache de plasma restent stables. On peut donc ainsi éviter des conditions hydrodynamiques très perturbées, que pourraient notamment créer de forts gradients thermiques. De telles conditions hydrodynamiques seraient en effet incompatibles avec un fonctionnement normal du laveur, et notamment de son venturi. On peut même réduire sensiblement la hauteur h de la chambre jusqu'à environ 300 mm, sans perturber l'écoulement laminaire. Il est également possible d'en réduire le diamètre, d'autant plus que le risque de claquage entre la buse 12 de torche et la paroi 14 est atténuée à plus haute pression. Le gaz sort cependant encore du dispositif à une température élevée, demeurant incompatible avec l'entrée dans le venturi du laveur. En amont du déflecteur 20, des moyens d'injection d'eau, créant par exemple une nappe 30 de gouttelettes, permettent de refroidir tout gaz qui traverse cette nappe, et d'entraîner les particules solides qui pourraient s'accumuler en aval et boucher la sortie 21. Ces moyens comportent par exemple une buse 26 de conformation appropriée pour créer une nappe d'eau en forme de cône creux 30 dont la base intercepte la paroi cylindrique de la chambre 14. Plus généralement, on peut prévoir tout moyen permettant d'assurer une douche en pluie fine du déflecteur et/ou des parois de la chambre 14. En variante, le jet peut être simplement dirigé vers la face amont 23 du déflecteur et mouiller la surface de ce dernier. Si la nappe 30, ou les moyens permettant d'assurer une douche des parois de l'intérieur de la chambre, refroidissent très efficacement le gaz et créent un gradient thermique vers l'aval, donc un gradient de pression, il est également possible de supprimer le déflecteur 20. Un régime d'écoulement laminaire est alors maintenu. Ainsi, à la sortie de la chambre, le gaz est pratiquement à température ambiante (moins de 60 C), conditions que le laveur, et notamment ses matériaux polymères, peut supporter, alors qu'il ne pourrait pas supporter une température de l'ordre de plusieurs centaines de degrés. Les conditions créées par les moyens 26 d'injection de fluide de refroidissement et éventuellement par le déflecteur 20 permettent d'assurer une compatibilité avec les conditions de fonctionnement du laveur. Si les moyens permettant d'assurer une douche des parois ou une projection de gouttelettes, par exemple la buse 26, sont en un matériau métallique, un risque de développement d'arc existe entre la buse et les parois de la chambre 14, où le champ électrique possède une intensité importante. Pour éliminer ou réduire ce risque, on peut, comme illustré sur la figure 1B, injecter l'eau vers le haut, ce qui permet de localiser la buse ou les moyens 260 permettant de distribuer l'eau 300 dans la chambre 14 à une position plus basse, donc plus éloignée de la source de champ électrique. La distribution d'eau a alors encore une fonction de refroidissement, de création d'un gradient thermique, et donc d'un régime d'écoulement laminaire, et d'élimination ou d'entraînement des résidus ou particules solides provenant du plasma; L'invention permet de découpler le fonctionnement du brûleur plasma et du laveur, ce qui permet en particulier de les optimiser tout à fait séparément. La nappe d'eau 30 en cône creux, ou plus généralement la projection d'eau, permet également de débuter, au plus près du point de formation, la capture et l'entraînement des particules solides et d'éviter leur accumulation potentielle au niveau de l'échappement de la chambre, avant l'entrée des gaz dans le laveur proprement dit. L'ambiance humide régnant dans la chambre 14 est favorable à la conversion chimique des PFC puisque la vapeur d'eau est le gaz oxydant de choix pour le cas où le post traitement des sous-produits corrosifs s'effectue sur un laveur. En effet, dans ce cas, le principal produit de réaction est HF et non F2 ou COF2 ou SO2F2 dont la réaction sur l'eau pourrait donner du OF2. De préférence, des moyens sont prévus pour assurer une bonne étanchéité de la section de guide sur laquelle est construite la torche. En effet, par principe même de la torche utilisée, il existe un chemin libre pour le gaz à travers l'interstice circulaire 3 autour de la buse 12 (voir figure 1) servant à extraire la puissance micro-ondes du guide pour aller entretenir le plasma à la pointe de la buse. Ainsi, les sous-produits gazeux et non gazeux, ainsi que la vapeur et/ou le brouillard d'eau pourraient rétrodiffuser dans la section de guide, avec plusieurs conséquences: altération des propriétés électrodynamiques du guide d'ondes 2 par corrosion ou accumulation de solides diélectriques et/ou partiellement conducteurs. La formation des particules solides dans la flamme n'est pas en effet un processus contrôlé et ces particules n'ont pas de raison particulière d'être formées de matériaux très isolants à la fréquence de 2,45 GHz, -dégradation de la tête magnétron par corrosion et/ou accumulation de particules sur l'antenne de sortie ou le dôme en céramique, - fuite vers l'extérieur de gaz toxiques à travers la tête magnétron ou le piston d'accord. Une solution est de réaliser un piston d'accord étanche. Selon une autre solution, on prévoit un balayage d'azote dans la section de guide (avec un échappement au niveau de l'interstice de buse). Par exemple un tube 5 placé sur le guide 2 permet d'injecter l'azote qui s'échappe ensuite par l'interstice 3 autour du pied de la buse 12. Selon encore une autre solution, on peut ménager un obturateur en matériau diélectrique au niveau de cet interstice. Toutefois, le champ micro-ondes très intense à cet endroit peut amener un certain échauffement et une dilatation de cette pièce. Enfin, selon encore une autre solution, une fenêtre d'isolation, dans une section droite 50 du guide 2, du côté de l'arrivée de puissance microondes depuis le générateur, assure à la fois une étanchéité suffisante au gaz et permet une bonne transmission de la puissance, sans ajouter sensiblement à la fraction réfléchie. On peut utiliser pour le post-traitement tout laveur de gaz. Un tel laveur comporte par exemple un premier étage venturi pour assurer la dépression nécessaire au passage du gaz dans l'équipement. Il peut être réalisé en matériaux polymères pour résister à la corrosion. Plus précisément, un laveur de gaz comporte une canalisation d'entrée 51, qui est en général munie d'un venturi pour assurer la circulation du gaz à travers un laveur 56 compte tenu des différentes pertes de charge, de manière à ce qu'il règne une petite surpression en sortie pour le raccordement au collecteur principal des déchets gazeux, par exemple d'une unité de fabrication de semi-conducteurs. De manière alternative, il est possible de prévoir des moyens mécaniques de pompage du gaz assurant une légère surpression en sortie où le gaz circule de haut en bas en devant travers des nappes d'eau qui ont notamment pour but de capturer et d'entraîner une part importante des particules solides présentes dans le gaz. L'eau chargée en particules retombe en gouttelettes ou s'écoule le long des parois de la canalisation pour se retrouver dans un bac étanche 58 de stockage d'où elle est repompée en continu par des moyens 59 pour alimenter de nouveau les buses d'injection. Le gaz passe au contact de la surface d'eau puis repart en flux montant dans une colonne 60 à garnissage, de l'eau 62 étant injectée à la partie supérieure et circulant de haut en bas, à travers le lit de garnissage, en assurant une surface de contact maximale du liquide avec le gaz. Cette colonne à garnissage a pour fonction, une fois que le plus gros des particules solides ont été retirées, d'absorber les gaz acides dans de l'eau. Les particules sédimentent au fond du bac 58, tandis que l'eau est remplacée en continu au fur et à mesure que le contenu en fluor atteint une limite déterminée. L'eau usagée peut être neutralisée par un ajout de base 64 et la solution résultante, considérée comme inoffensive par la réglementation, peut alors être rejetée à l'égout. Le brûleur 1 est implanté en géométrie de flux descendant et la sortie de la chambre 14 est raccordée à l'entrée du laveur. Etant donné le poids de l'ensemble brûleur 1 + guide d'ondes 2 + tête magnétron 70 du générateur, un support séparé est généralement agencé pour ne pas faire porter de contraintes excessives sur la structure même du laveur, et en particulier ne pas utiliser la canalisation d'entrée elle-même comme support. Comme illustré sur la figure 3, le circuit micro- ondes comprend la tête magnétron 70 du générateur reliée par des câbles à la baie d'alimentation en puissance du magnétron, qui sera généralement un système à découpage à relativement haute fréquence pour obtenir un système compact et léger. En sortie du magnétron on trouve une section de guide d'ondes de format standard assurant l'amenée de la puissance micro-ondes vers la torche. Cette section de guide d'onde comporte un isolateur 72, à charge d'eau, assurant la protection du magnétron 70 contre les excès accidentels de puissance réfléchie, puis des moyens de mesure de la puissance réfléchie, par exemple un coupleur bidirectionnel 74 avec deux sorties munies d'atténuateurs et de sondes de mesure à diode ou à bolomètre reliées à un wattmètre. On entre ensuite dans la section 2 de guide sur laquelle est construite la torche. A l'opposé de l'amenée de puissance micro-ondes, peut se trouver un dispositif 80 d'accord d'impédance, par exemple un piston 82 de court-circuit coulissant en fond de guide. De manière préférée, pour une utilisation fiable sur de longues périodes à haute puissance, le piston est du type sans contact avec un piège quart d'ondes usiné dans la structure du plongeur. Si le brûleur a été conçu sur le plan électrodynamique pour offrir une caractéristique d'accord d'impédance relativement large, il peut être possible, une fois les conditions de fonctionnement bien établies pour la dépollution des gaz, de remplacer le court-circuit mobile réglable par un court-circuit fixe. On gagne ainsi notablement en encombrement et en coût pour les systèmes industriels. Le circuit de gaz comprend l'amenée des effluents depuis la pompe primaire vers le canal d'alimentation de la buse 120 de torche 12 (figure 1). Il peut être indiqué, dans certains cas, de prévoir des moyens de préfiltrage particulaire. En effet, certaines chimies de dépôt donnent lieu à un certain niveau de réactivité spontanée lorsque le gaz revient à la pression atmosphérique à la sortie de la pompe primaire, même si une dilution massive dans un diluant d'azote permet de réduire cette réactivité. Pour des raisons similaires il n'est pas forcément judicieux d'adjoindre un supplément de gaz oxydant avant l'injection dans la torche. Il peut se faire que, dans le cas de la destruction des PFC, l'eau présente dans la chambre suffise à assurer la chimie de conversion de manière assez complète. S'il n'en est pas ainsi, il est toujours possible d'ajouter de la vapeur d'eau, ou un autre gaz adjuvant oxydant, avant l'entrée des gaz dans le plasma. Dans le cas où les effluents gazeux venant de la pompe primaire sont susceptibles de réagir avec lesdits gaz adjuvants oxydants, on peut éventuellement utiliser un canal d'alimentation parallèle dans la torche. Une telle alimentation à deux canaux concentriques peut être prévue dans la buse 120 pour fournir un flux d'inertage de la pointe par de l'azote propre. REVENDICATIONS 1. Dispositif de traitement de gaz par plasma, comportant des moyens formant guide d'onde, destinés à être raccordés à un générateur microondes, des moyens de torche à plasma montés sur les moyens formant guide d'ondes, une chambre de traitement (14) coiffant l'extrémité libre de la torche à plasma et étant munie, du côté opposé à la torche, d'un orifice (21) d'évacuation de gaz de plasma, caractérisé en ce que des moyens (26) d'injection d'un fluide de refroidissement sont disposés dans ladite chambre (14), sur le trajet d'un gaz sortant de la torche à plasma. 2. Dispositif selon la revendication 1, les moyens d'injection de fluide de refroidissement permettant de former dans la chambre (14) une nappe de fluide {30). 3. Dispositif selon la revendication 2, la nappe de 20 fluide ayant une forme conique. 4. Dispositif selon l'une des revendications 1 à 3, les moyens d'injection de fluide de refroidissement permettant d'assurer une douche d'une partie des parois de 25 la chambre (14). 5. Dispositif selon l'une des revendications 1 à 4, les moyens d'injection de fluide de refroidissement permettant d'injecter le fluide dans la chambre vers la 30 torche à plasma. 6. Dispositif selon l'une des revendications 1 à 5, comportant en outre des moyens (20) de déflexion hydrodynamique. 7. Dispositif selon la revendication 6, les moyens (20) de déflexion comportant des moyens de refroidissement. 8 Dispositif selon la revendication 6 ou 7, les moyens de déflexion étant de forme symétrique de révolution autour d'un axe sensiblement aligné avec un axe de la torche. 9. Dispositif selon l'une des revendications 1 à 8, les moyens formant torche à plasma et la chambre étant disposés de sorte que l'ensemble fonctionne en flux descendant. 10. Dispositif selon l'une des revendications 1 à 9, comportant en outre, en sortie de chambre (14) des moyens de lavage d'un gaz ou d'un fluide. 11. Dispositif selon l'une des revendications 1 à 10, 20 caractérisé en ce que la torche à plasma est de type torche à plasma micro-ondes. 12. Dispositif selon la revendication 11, la torche étant alimentée par un guide d'ondes (2). 13. Dispositif selon la revendication 12, comportant en outre des moyens d'étanchéité de la section du guide sur laquelle est installée la torche. 14. Procédé de traitement de gaz issus d'une torche à plasma, dans lequel ce gaz pénètre en flux descendant dans une chambre (14), et y est refroidi, en se dirigeant vers un orifice de sortie (21) de la chambre. 15. Procédé selon la revendication 14, le gaz étant refroidi à une température inférieure à 60 C en sortie (21) de la chambre. 16. Procédé selon l'une des revendications 14 ou 15, le gaz étant à pression sensiblement atmosphérique en entrée de torche à plasma. 17. Procédé selon l'une des revendications 14 à 16, 10 le gaz sortant de la torche étant en outre défléchi par des moyens déflecteurs. 18. Procédé selon l'une des revendications 14 à 17, le gaz étant refroidi par un fluide injecté en direction de la torche. 19. Procédé selon l'une des revendications 14 à 18, le gaz traité étant issus d'une unité de traitement de dépôt de couches minces ou de traitement de matériaux semi- conducteurs.