Brevet FR2898123A1 — publié le 20070907

SUBSTRAT MUNI D'UN EMPILEMENT A PROPRIETES THERMIQUES L'invention concerne les substrats transparents, notamment en matériau rigide minéral comme le verre, lesdits substrats étant revêtus d'un empilement de couches minces comprenant une couche fonctionnelle de type métallique pouvant agir sur le rayonnement solaire et/ou le rayonnement infrarouge de grande longueur d'onde. L'invention concerne plus particulièrement l'utilisation de tels substrats pour fabriquer des vitrages d'isolation thermique et/ou de protection solaire. Ces vitrages peuvent être destinés aussi bien à équiper les bâtiments que les véhicules, en vue notamment de diminuer l'effort de climatisation et/ou d'empêcher une surchauffe excessive (vitrages dits de contrôle solaire ) et/ou diminuer la quantité d'énergie dissipée vers l'extérieur (vitrages dits bas émissifs ) entraînés par l'importance toujours croissante des surfaces vitrées dans les bâtiments et les habitacles de véhicules. Ces vitrages peuvent par ailleurs être intégrés dans des vitrages présentant des fonctionnalités particulières, comme par exemple des vitrages 20 chauffants ou des vitrages électrochromes. Un type d'empilement de couches connu pour conférer aux substrats de telles propriétés est constitué d'une couche métallique fonctionnelle à propriétés de réflexion dans l'infrarouge et/ou dans le rayonnement solaire, notamment une couche fonctionnelle métallique à base d'argent ou d'alliage 25 métallique contenant de l'argent. Cette couche fonctionnelle métallique est déposée sous une forme cristallisée sur une couche de mouillage également cristallisée favorisant L'orientation cristalline adéquate de la couche métallique déposée dessus. Cette couche fonctionnelle se trouve disposée entre deux revêtements 30 en matériau diélectrique du type oxyde ou nitrure métallique. L'empilement est généralement obtenu par une succession de dépôts effectués par une 2898123 - ? - technique utilisant le vide comme la pulvérisation cathodique éventuellement assistée par champ magnétique. Peuvent aussi être prévus un, voire deux, revêtement(s) très fin(s) appelé(s) revêtement de blocage , disposé(s) directement sous, sur ou de chaque côté de chaque couche métallique 5 fonctionnelle à base d'argent, le revêtement sous-jacent en tant que revêtement d'accrochage, de nucléation et/ou de protection lors d'un éventuel traitement thermique postérieurement au dépôt, et le revêtement sus-jacent en tant que revêtement de protection ou sacrificiel afin d'éviter l'altération de l'argent si une couche qui le surmonte est déposée 10 par pulvérisation cathodique en présence d'oxygène ou d'azote et/ou si l'empilement subit postérieurement au dépôt un traitement thermique. Il est ainsi connu de la demande de brevet européen N' EP 803 481, l'utilisation sous une couche de mouillage à base d'oxyde de zinc d'une couche amorphe à base d'oxyde mixte de zinc et d'étain directement au 15 contact du substrat. Il s'avère qu'une telle couche amorphe lorsqu'elle n'est pas déposée directement sur le substrat mais qu'elle est intercalée entre au moins une couche diélectrique sous-jacente et une couche de mouillage permet de modifier l'interface entre la couche diélectrique et la couche de mouillage située au-dessus et ainsi d'améliorer sensiblement la cristallisation de la couche de mouillage ainsi que la cristallisation de la couche métallique fonctionnelle. Toutefois, l'intégration d'une telle couche amorphe dans chaque revêtement sous-jacent à une couche fonctionnelle et pourvu d'au moins une couche diélectrique sous cette couche amorphe dans un empilement à plusieurs couches fonctionnelles ne permet pas de parvenir dans tous les cas à l'amélioration souhaitée de la cristallisation des couches fonctionnelles et ainsi à l'amélioration souhaitée de la résistivité de l'empilement complet. Le but de t'invention est de parvenir à remédier aux inconvénients de l'art antérieur, en mettant au point un nouveau type d'empilement de -3-couches du type de ceux décrits précédemment, empilement qui présente une résistivité améliorée, plus faible que dans un empilement similaire à épaisseur de couche fonctionnelle et revêtements équivalents, que l'empilement subisse ou non, un (ou des) traitement(s) thermique(s) à haute température du type bombage, trempe ou recuit et dans le cas où il subit un (ou plusieurs) tel(s) traitement(s), tout en préservant sa qualité optique et sa tenue mécanique. L'invention a ainsi pour objet, dans son acception la plus large, un substrat, notamment substrat verrier transparent, muni d'un empilement de couches minces comportant une couche fonctionnelle à propriétés de réflexion dans l'infrarouge et/ou dans le rayonnement solaire, notamment une couche fonctionnelle métallique à base d'argent ou d'alliage métallique contenant de l'argent, et deux revêtements, lesdits revêtements étant composés d'une pluralité de couches diélectriques, de manière à ce que la couche fonctionnelle soit disposée entre deux revêtements, la couche fonctionnelle étant déposée sur une couche de mouillage déposée elle-même directement sur un revêtement sous-jacent, caractérisé en ce que le revêtement sous-jacent comprend au moins une couche diélectrique à base de nitrure, notamment de nitrure de silicium et/ou de nitrure d'aluminium et au moins une couche de lissage non cristallisée en un oxyde mixte, ladite couche de lissage étant en contact avec ladite couche de mouillage sus-jacente. L'invention consiste ainsi à prévoir une couche de lissage non cristallisée sous la couche de mouillage qui elle est cristallisée pour permettre une 25 croissance adéquate de la couche fonctionnelle située au-dessus de cette couche de mouillage, directement au contact de la couche de mouillage ou par l'intermédiaire d'un revêtement de sous-blocage. Il est apparu que dans le cas où le revêtement sous-jacent comprend au moins une couche diélectrique à base de nitrure, notamment de nitrure de -4- silicium et/ou de nitrure d'aluminium, choisir une couche de lissage non cristallisée en un oxyde mixte permettait d'obtenir une bonne résistivité de l'empilement et des propriétés optiques adaptées aux attentes que le substrat subisse ou non un traitement thermique après dépôt. L'invention s'applique ainsi aux substrats dits trempables ou non dans la mesure où il est possible sur une même façade de bâtiment par exemple de disposer à proximité les uns des autres des vitrages intégrant des substrats trempés et des substrats non trempés, sans qu'il ne soit possible de les distinguer les uns des autres par une simple observation visuelle de la couleur en réflexion et de la réflexion lumineuse. Au sens de la présente invention lorsqu'il est précisé qu'un dépôt de couche ou de revêtement (comportant une ou plusieurs couches) est effectué directement sous ou sur une autre dépôt, c'est qu'il ne peut y avoir interposition d'aucune couche entre ces deux dépôts. La couche de lissage est dite non cristallisée dans le sens où elle peut être complètement amorphe ou partiellement amorphe et ainsi partiellement cristallisée, mais qu'elle ne peut pas être complètement cristallisée, sur toute son épaisseur. L'intérêt d'une telle couche de lissage est de permettre d'obtenir une interface avec la couche de mouillage directement sus-jacente qui est peu rugueuse. Cette faible rugosité est d'ailleurs observable au microscope électronique à transmission. Par ailleurs, la couche de mouillage se texture mieux et présente en outre une orientation cristallographique préférentielle plus marquée. 25 Le revêtement sous-jacent, qui comporte une couche de lissage, est au contact du substrat, directement ou indirectement par l'intermédiaire d'une couche de contact par exemple à base d'oxyde de titane (TiO2). De préférence, la couche de lissage, est une couche d'oxyde mixte à 30 base d'oxyde d'un ou de plusieurs des métaux suivants : Sn, Si, Ti, Zr, Hf, Zn, -5- Ga, ln et plus précisément une couche d'oxyde mixte à base de zinc et d'étain ou d'oxyde mixte de zinc et d'indium (ITO) déposée à froid. De préférence en outre, la couche de lissage, est une couche d'oxyde mixte non stoechiométrique en oxygène et plus particulièrement encore une couche d'oxyde mixte à base de zinc et d'étain sous-stoechiométrique dopée à l'antimoine (SnZnOx:Sb). Par ailleurs, la couche de lissage présente de préférence une épaisseur géométrique entre 0,1 et 30 nm et de préférence encore comprise entre 0,2 et 10 nm. Dans une variante préférée, au moins un revêtement de blocage est à base de Ni ou de Ti ou est à base d'un alliage à base de Ni, notamment est à base d'un alliage de NiCr. De plus, la couche de mouillage sous-jacente à la couche fonctionnelle est, de préférence, à base d'oxyde de zinc ; cette couche de mouillage peut 15 être en particulier à base d'oxyde de zinc dopé à l'aluminium. Le vitrage selon l'invention incorpore au moins le substrat porteur de l'empilement selon l'invention, éventuellement associé à au moins un autre substrat. Chaque substrat peut être clair ou coloré. Un des substrats au moins 20 notamment peut être en verre coloré dans la masse. Le choix du type de coloration va dépendre du niveau de transmission lumineuse et/ou de l'aspect colorimétrique recherchés pour le vitrage une fois sa fabrication achevée. Ainsi pour des vitrages destinés à équiper des véhicules, certaines 25 normes imposent que le pare-brise présente une transmission lumineuse TL d'environ 75% et d'autres normes imposent une transmission lumineuse TL d'environ 65% ; un tel niveau de transmission n'étant pas exigé pour les vitrages latéraux ou le toit-auto, par exemple. Les verres teintés que l'on peut retenir sont par exempte ceux qui, pour une épaisseur de 4 mm, 30 présentent une TL de 65 % à 95 %, une transmission énergétique TE de 40 % à 80 %, une longueur d'onde dominante en transmission de 470 nm à 525 nm -6- associée à une pureté de transmission de 0,4 % à 6 % selon l'Illuminant Dfi5, ce que l'on peut traduire dans le système de colorimétrie (L, a*, b*) par des valeurs de a* et b* en transmission respectivement comprises entre -9 et 0 et entre -8 et +2. Pour des vitrages destinés à équiper des bâtiments, le vitrage présente, de préférence, une transmission lumineuse TL d'au moins 75% voire plus pour des applications bas-émissif , et une transmission lumineuse TL d'au moins 40% voire plus pour des applications contrôle solaire . Le vitrage selon l'invention peut présenter une structure feuilletée, associant notamment au moins deux substrats rigides du type verre par au moins une feuille de polymère thermoplastique, afin de présenter une structure de type verre/empilement de couches minces/feuille(s)/verre. Le polymère peut notamment être à base de polyvinylbutyral PVB, éthylène vinylacétate EVA, polyéthylène téréphtalate PET, polychlorure de vinyle PVC. Le vitrage peut aussi présenter une structure de vitrage feuilleté dit asymétrique, associant un substrat rigide de type verre à au moins une feuille de polymère de type polyuréthane à propriétés d'absorbeur d'énergie, éventuellement associée à une autre couche de polymères à propriétés auto-cicatrisantes . Pour plus de détails sur ce type de vitrage, il est possible de se reporter notamment aux brevets EP-0 132 198, EP-0 131 523, EP-0 389 354. Le vitrage peut alors présenter une structure de type verre/empilement de couches minces/feuille(s) de polymère. Les vitrages selon l'invention sont aptes à subir un traitement thermique sans dommage pour l'empilement de couches minces. Ils sont donc éventuellement bombés et/ou trempés. Le vitrage peut être bombé et/ou trempé en étant constitué d'un seul substrat, celui muni de l'empilement. Il s'agit alors d'un vitrage dit monolithique . Dans le cas où ils sont bombés, notamment en vue de -7- constituer des vitrages pour véhicules, l'empilement de couches minces se trouve de préférence sur une face au moins partiellement non plane. Le vitrage peut aussi être un vitrage multiple, notamment un double-vitrage, au moins le substrat porteur de l'empilement pouvant être bombé et/ou trempé. Il est préférable dans une configuration de vitrage multiple que l'empilement soit disposé de manière à être tourné du côté de la lame de gaz intercalaire. Dans une structure feuilletée, le substrat porteur de l'empilement est de préférence en contact avec la feuille de polymère. Lorsque le vitrage est monolithique ou multiple du type double-vitrage ou vitrage feuilleté, au moins le substrat porteur de l'empilement peut être en verre bombé ou trempé, ce substrat pouvant être bombé ou trempé avant ou après le dépôt de l'empilement. L'invention concerne également le procédé de fabrication des substrats selon l'invention, qui consiste à déposer l'empilement de couches minces sur son substrat par une technique sous vide du type pulvérisation cathodique éventuellement assistée par champ magnétique, puis à effectuer sur le substrat revêtu un traitement thermique de bombage/trempe ou recuit sans dégradation de sa qualité optique et/ou mécanique. Il n'est toutefois pas exclu que la première ou les premières couches de 20 l'empilement puisse(nt) être déposée(s) par une autre technique, par exemple par une technique de décomposition thermique de type pyrolyse. Les détails et caractéristiques avantageuses de l'invention ressortent des exemples non limitatifs suivants, illustrés à l'aide des figures ci-jointes : 25 La figure 1 illustre l'évolution, avant traitement thermique, de la résistance par carré d'un empilement monocouche fonctionnelle pourvu d'un revêtement monocouche de sur-blocage, sans et avec une couche de lissage, en fonction de l'épaisseur de la couche diélectrique placée dessous ; 30 La figure 2 illustre l'évolution, après traitement thermique, de ta résistance par carré du même empilement monocouche fonctionnelle -8- qu'en figure 1, sans et avec une couche de lissage, en fonction de l'épaisseur de la couche diélectrique placée dessous ; La figure 3 illustre l'évolution, avant traitement thermique, de la résistance par carré d'un empilement monocouche fonctionnelle pourvu d'un revêtement monocouche de sur-blocage en fonction de l'épaisseur de la couche de lissage La figure 4 illustre l'évolution, après traitement thermique, de la résistance par carré du même empilement monocouche fonctionnelle qu'en figure 3 en fonction de l'épaisseur de la couche de lissage ; La figure 5 illustre un empilement monocouche fonctionnelle selon l'invention, la couche fonctionnelle étant pourvue d'un revêtement de sur-blocage mais pas d'un revêtement de sous-blocage ; La figure 6 illustre un empilement monocouche fonctionnelle selon l'invention, la couche fonctionnelle étant pourvue d'un revêtement de sous-blocage mais pas d'un revêtement de sur-blocage ; et La figure 7 illustre un empilement monocouche fonctionnelle selon l'invention, la couche fonctionnelle étant pourvue d'un revêtement de sous-blocage et d'un revêtement de sur-blocage. Dans les figures illustrant des empilements de couches, les proportions entre les épaisseurs des différents matériaux ne sont pas rigoureusement respectées afin de faciliter leur lecture. Par ailleurs, dans tous les exemples ci-après l'empilement de couches minces est déposé sur un substrat 10 en verre sodo-calcique d'une épaisseur 25 de 2 mm. Dans tous les cas où un traitement thermique a été appliqué au substrat, il s'agissait d'un recuit pendant environ 5 minutes à une température d'environ 660 C suivi d'un refroidissement à l'air ambiant (environ 20 C). -9- Les figures 1 à 4 ont pour but d'illustrer l'importance de la présence d'une couche de lissage dans un empilement du type de celui illustré sur la figure 5, qui illustre un empilement selon l'invention. Un exemple, numéroté 1 d'empilement monocouche fonctionnelle selon l'invention est du type : Substrat / Si3N4 / SnZnOx:Sb / ZnO / Ag /Ti / ZnO / Si3N4 Variable / Variable / 8nm / 10nm / 2nm 18nm / 20 nm Sur les figures 1 et 2, les courbes Cl et C11 illustrent ta variation de la résistance par carré (en ohms) de l'empilement en fonction de l'épaisseur de la couche de diélectrique à base de nitrure de silicium (e Si3N4) en contact avec le substrat, respectivement avant (BHT) et après (AHT) traitement thermique, lorsque l'empilement n'est pas pourvu d'une couche de lissage. Les courbes C2 et C12 illustrent la variation de la résistance par carré (en ohms) de l'empilement en fonction de l'épaisseur de la couche de diélectrique à base de nitrure de silicium (e Si3N4) en contact avec le substrat, respectivement avant et après traitement thermique, lorsque l'empilement est pourvu d'une couche de lissage en SnZnOx:Sb d'une épaisseur de 6 nm (x désigne un nombre non nul). Les courbes C3 et C13 illustrent la variation de la résistance par carré (en ohms) de l'empilement en fonction de l'épaisseur de la couche de diélectrique à base de nitrure de silicium (e Si3N4) en contact avec le substrat, respectivement avant et après traitement thermique, lorsque l'empilement est pourvu d'une couche de lissage à base de SnZnOx:Sb d'une épaisseur de 20 nm. Comme visible sur ces figures 1 et 2, pour une même épaisseur de diélectrique en contact avec le substrat (par exemple 20 nm), la résistance par carré de l'empilement est toujours plus faible - donc meilleure - pour les courbes C2, C3, C12 et C13 lorsque l'empilement comporte une couche de lissage à base de SnZnOx:Sb entre la couche de diélectrique à base de nitrure de silicium en contact avec le substrat et la couche de mouillage à base -10- d'oxyde de zinc ZnO sous-jacente à la couche fonctionnelle à base d'argent Ag et la résistance par carré de l'empilement est toujours plus faible pour une épaisseur de couche de lissage de 20 nm (courbes C3 et C13). En conséquence, la présence d'une couche de lissage améliore d'une manière importante la résistance par carré de l'empilement à épaisseur de diélectrique sous-jacent comparable et cette amélioration est d'autant plus forte que l'épaisseur de la couche de tissage en importante. Sur les figures 3 et 4, les courbes illustrent la variation de la résistance par carré (en ohms) de l'empilement en fonction de l'épaisseur de la couche de lissage à base d'oxyde de zinc et d'étain dopé à l'antimoine (e SnZnOx:Sb), respectivement avant (BHT) et après (AHT) traitement thermique, lorsque l'empilement est pourvu d'une couche à base de nitrure de silicium Si3N4 de 20 nm entre te substrat et la couche à base de SnZnOx:Sb. Comme visible sur ces figures 3 et 4 également, la présence d'une couche de lissage améliore d'une manière importante la résistance par carré de l'empilement pour une couche de lissage comprise entre 0 et 4 nm d'épaisseur et cette amélioration est d'autant plus forte que l'épaisseur de la couche de lissage en importante. Des constatations similaires peuvent être faites avec un empilement monocouche fonctionnelle pourvu d'un revêtement de sous-blocage et sans revêtement de sur-blocage ou pourvu d'un revêtement de sous-blocage et d'un revêtement de sur-blocage. Une autre série d'essai a été réalisée. Trois exemples, numérotés 2, 3 et 4, ont été réalisés sur La base de la structure d'empilement monocouche fonctionnelle illustrée figure 5 dans laquelle la couche fonctionnelle 40 est pourvue d'un revêtement de sur-blocage 45. Le tableau 1 ci-après illustre les épaisseurs en nanomètres de chacune des couches : 2898123 -11- Couche Matériau Ex. 2 Ex. 3 Ex. 4 64 Si3N4 40 40 40 62 ZnO 10 10 10 45 Ti 2 2 2 40 Ag 10 10 10 30 ZnO 10 10 10 26 SnZnOx:Sb -10 24 Si3N4 30 30 20 Tableau 1 Les caractéristiques de résistivité, optiques et énergétiques de ces exemples sont reportées dans le tableau 2 ci-après : Ex. R (ohms) RL (%) TL(%) a*(D65) b*(D65) E (%) 2 BHT 5,7 4,4 86,5 2,3 -5,2 6 2AHT - - - - - - 3 BHT 6,9 ' 4,4 85,6 2,9 -7, 8 8 3 AHT 5, 2 4, 5 87,1 6, 5 -6 4 BHT 5,8 5,7 87 1,3 -3,5 6 4 AHT 4,3 4,3 88,7 3,3 -5,7 5 Tableau 2 5 Ainsi, la résistivité de l'empilement tant avant qu'après traitement thermique de l'exemple 4 selon l'invention est toujours inférieure respectivement aux contre-exemples 3 et 2. De plus, la réflexion lumineuse RL, la transmission lumineuse TL 10 mesurées selon l'illuminant D65 et les couleurs en réflexion a* et b* dans le système LAB mesurées selon l'illuminant D65 côté couches ne varient pas de manière vraiment significative entre l'exemples selon l'invention et les contre-exemples 3 et 2. En comparant les caractéristiques optiques et énergétiques avant 15 traitement thermique avec ces mêmes caractéristiques après traitement thermique, aucune dégradation majeure n'a été constatée. 2898123 -12- D'autres essais ont été réalisés sur la base de la structure d'empilement monocouche fonctionnelle illustrée figure 6 dans laquelle la couche fonctionnelle 40 est pourvue d'un revêtement de sur-blocage 45 mais pas 5 d'un revêtement de sous-blocage 35. D'autres essais ont été réalisés sur la base de la structure d'empilement monocouche fonctionnelle illustrée figure 7 dans laquelle la couche fonctionnelle 40 est pourvue d'un revêtement de sous-blocage 35 et d'un revêtement de sur-blocage 45. 10 Tous ces essais ont permis d'arriver à des constatations similaires. Des essais ont en outre été conduis pour permettre de mesurer la rugosité des couches. Le tableau 3 ci-après illustre les rugosités mesurées par réflectométrie X 15 et exprimées en nm (la rugosité du substrat étant d'environ 0,4) : Couche(s) Epaisseur Rugosité o (nm) (nm) Si3N4 28,5 1,1 Verre Substrat SnO2 29,5 0,8 Verre Substrat SnZnOx:Sb 32,0 0,7 Verre Substrat SnZnOx:Sb 11,2 0,8 Si3N4 19,7 0,5 Verre Substrat 5nO2 10,4 0,8 Si3N4 19,3 0,5 Verre Substrat Tableau 3 Comme visible dans ce tableau, la rugosité de la couche à base de nitrure de silicium Si3N4 déposée seule sur le verre est élevée, mais la rugosité finale d'un empilement comprenant une couche à base de oxyde 20 d'étain SnO2 ou une couche à base d'oxyde mixte de zinc et d'étain SnZnOx:Sb déposée sur la couche à base de nitrure de silicium permet d'améliorer la rugosité, en la diminuant ; toutefois, l'utilisation de la couche - 13 - à base d'oxyde d'étain ne permet pas de réaliser un empilement trempable qui présenterait sensiblement les mêmes caractéristiques trempé ou non trempé. La présente invention est décrite dans ce qui précède à titre d'exemple. It est entendu que l'homme du métier est à même de réaliser différentes variantes de l'invention sans pour autant sortir du cadre du brevet tel que défini par tes revendications. REVENDICATIONS 1. Substrat (10), notamment substrat verrier transparent, muni d'un empilement de couches minces comportant une couche fonctionnelle (40) à propriétés de réflexion dans l'infrarouge et/ou dans le rayonnement solaire, notamment métallique à base d'argent ou d'alliage métallique contenant de l'argent, et deux revêtements (20, 60), lesdits revêtements étant composés d'une pluralité de couches diélectriques (24, 26 ; 64), de manière à ce que ta couche fonctionnelle (40) soit disposée entre les deux revêtements (20, 60), la couche fonctionnelle (40) étant déposées sur une couche de mouillage (30) déposée elle-même directement sur un revêtement sous-jacent (20), caractérisé en ce que le revêtement sous-jacent (20) comprend au moins une couche diélectrique (24) à base de nitrure, notamment de nitrure de silicium et/ou de nitrure d'aluminium et au moins une couche de lissage (26) non cristallisée en un oxyde mixte, ladite couche de lissage (26) étant en contact avec ladite couche de mouillage (30) sus-jacente. 2. Substrat (10) selon la revendication 1, caractérisé en ce que la couche de lissage (26) est une couche d'oxyde mixte à base d'oxyde d'un ou de plusieurs des métaux suivants : Sn, Si, Ti, Zr, Hf, Zn, Ga, ln. 3. Substrat (10) selon la revendication précédente, caractérisé en ce que la couche de lissage (26) est une couche d'oxyde mixte à base de zinc et d'étain éventuellement dopée ou d'oxyde mixte de zinc et d'indium (ITO) déposée à froid. 4. Substrat (10) selon l'une quelconque des revendications 25 précédentes, caractérisé en ce que la couche de lissage (26) est une couche d'oxyde non stoechiométrique en oxygène. 5. Substrat (10) selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que la couche de lissage (26) présente une épaisseur géométrique entre 0,1 et 30 nm et de préférence comprise entre 30 0,2 et 10 nm.-15- 6. Substrat (10) selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que la couche fonctionnelle (40) est disposée directement sur au moins un revêtement de blocage (35) sous-jacent et/ou directement sous au moins un revêtement de blocage (45) sus-jacent. 7. Substrat (10) selon la revendication précédente, caractérisé en ce qu'au moins un revêtement de blocage (35, 45) est à base de Ni ou de Ti ou est à base d'un alliage à base de Ni, notamment est à base d'un alliage de NiCr. 8. Substrat (10) selon l'une quelconque des revendications 10 précédentes, caractérisé en ce que la couche de mouillage (30) sous-jacente à la couche fonctionnelle (40) est à base d'oxyde de zinc. 9. Vitrage incorporant au moins un substrat (10) selon l'une quelconque des revendications précédentes, éventuellement associé à au moins un autre substrat. 15 10. Vitrage selon la revendication précédente monté en monolithique ou en vitrage multiple du type double-vitrage ou vitrage feuilleté, caractérisé en ce qu'au moins le substrat porteur de l'empilement est bombé ou trempé. 11. Procédé de fabrication du substrat (10) selon l'une quelconque des 20 revendications 1 à 8, caractérisé en ce qu'on dépose l'empilement de couches minces sur le substrat par une technique sous vide du type pulvérisation cathodique éventuellement assistée par champ magnétique, puis en ce qu'on effectue un traitement thermique du type bombage, trempe ou recuit sur ledit substrat, sans dégradation de sa qualité optique et/ou 25 mécanique.