Brevet FR2891187A1 — publié le 20070330

B0717FR La présente invention concerne un procédé de préparation d'un substrat dont au moins une surface est constituée par un polymère, un substrat obtenu par ce procédé, un procédé de dépôt orienté de molécules ou de macromolécules sur ce substrat, ainsi que différentes utilisations de ce substrat. Le procédé selon l'invention est plus particulièrement destiné à préparer des substrats dont la surface est à la fois orientée, à l'échelle moléculaire, et nanostructurée, permettant d'y déposer de façon orientée des systèmes moléculaires et macromoléculaires variés. Ces substrats sont utiles notamment dans le domaine de l'optique, de l'électronique plastique, ou pour la fabrication de transistors à effet de champ. On connaît déjà d'une part des méthodes permettant d'obtenir des surfaces polymères nanostructurées, et d'autre part des méthodes permettant de préparer des surfaces polymères orientées. La nanostructuration de substrats polymères permet de contrôler des propriétés physiques et physico-chimiques de surfaces aussi diverses que les propriétés optiques anti-reflet, l'adhésion et l'orientation de protéines moteur ou les propriétés de mouillabilité et d'écoulement au voisinage d'une surface. Les méthodes de nanostructuration périodique de surfaces polymères font intervenir, pour la majorité d'entre elles, des copolymères à bloc (tel que décrit notamment dans la publication de Li et Yokohama, Adv. Mat.17, 2005, 1432). Les copolymères à bloc utilisés sont amorphes. Par conséquent, ce type de surface nanostructurée ne permet pas d'orienter les molécules ou macromolécules déposées sur le substrat. La préparation de surfaces polymères orientées, permettant d'obtenir des surfaces importantes, de l'ordre de plusieurs cm2, a été réalisée par trois méthodes. Selon une première méthode, utilisée dans le domaine de l'affichage à cristaux liquides, des couches de polyimide à fort pouvoir orientant ont été obtenues par un procédé classique de brossage de surface qui induit une orientation B0717FR superficielle des chaînes polymères (S. Steudel et al., Appl. Phys. Lett. 85, 2004, 4400). Cette méthode présente toutefois plusieurs inconvénients: la nécessité de recourir à un prépolymère pour des raisons de solubilité, l'usage de températures élevées (300 C) difficilement compatibles avec les contraintes associées à l'élaboration de dispositifs tout-polymère, et une rugosité élevée du substrat polymère qui est inadaptée à l'élaboration de dispositifs du type transistors organiques à effet de champ. Selon une deuxième méthode, décrite dans US 5 731 405, on réalise une irradiation par UV-polarisé de films polyimide ou de matériaux polymère liquides cristallins qui nécessite la synthèse de polymères à caractère liquide cristallin. Le principal inconvénient de cette méthode réside dans le fait que la nature chimique de la surface polymère peut être fortement modifiée par l'irradiation UV, et ce de manière non contrôlée. Selon une troisième méthode, décrite par Wittmann et al., Nature 352, 414417 (1991), des films orientés de poly(tétrafluoroéthylène) (PTFE) sont fabriqués par une technique de transfert par friction d'un barreau de PTFE sur une surface plane. Cette méthode permet d'obtenir des films cristallins de PTFE d'épaisseur inférieure à 100 nm sur différents substrats, et les films obtenus permettent d'orienter un grand nombre de systèmes moléculaires et polymères. Toutefois, cette méthode présente des inconvénients majeurs: un problème de reproductibilité lié au contrôle difficile du taux de couverture en PTFE, et la discontinuité des films polymères obtenus ainsi que leur relativement forte rugosité (relief de surface de l'ordre de 30 nm). On connaît également une méthode de préparation de surfaces polymères orientées et nanostructurées (appelées SPONs) (J. Petermann et al., J. Mater Sci., 14, 1979, 2000 et I. Lieberwirth et al., Adv. Mat. 110, 1998, 997). Cette méthode consiste à orienter un film polymère fondu sans support par étirement à chaud puis cristallisation lors du refroidissement. Les inconvénients de cette méthode sont B0717FR liés d'une part à la difficulté de produire des films orientés sur un substrat donné, et d'autre part à l'impossibilité de contrôler précisément l'épaisseur des films, ce qui est indispensable si l'on cherche par exemple à utiliser le substrat polymère comme isolant de grille dans une architecture de type transistor organique à effet de champ. En effet, on sait que le transport de charges optimal dans une telle structure se fait au niveau des premières couches moléculaires en contact avec le diélectrique. Pour remédier à l'ensemble de ces inconvénients, l'invention propose un procédé permettant de préparer un substrat dont la surface, qui est constituée par un film de polymère, est à la fois orientée et nanostructurée, tout en contrôlant la rugosité de cette surface. En outre, ce procédé permet d'obtenir des substrats dont l'orientation et la structure demeurent stables pendant plusieurs heures, même à des températures élevées de l'ordre de 130 C. Ce procédé présente également l'avantage d'être simple à mettre en oeuvre, puisque la préparation du substrat peut être réalisée à température ambiante, et d'être reproductible, donc bien adapté à une mise en oeuvre à l'échelle industrielle. A cet effet, selon un premier aspect, l'invention propose un procédé de préparation d'un substrat dont au moins une surface est constituée par un polymère, ladite surface de polymère étant orientée et nanostructurée, ledit procédé comprenant les étapes successives suivantes: a) brossage de la surface polymère à l'état amorphe du substrat; b) mise en contact avec une vapeur d'un solvant, de la surface de polymère orienté obtenue à la fin de l'étape a), ledit solvant étant choisi de sorte que: -Spo1y Sso1 I / [ (6poly + Sso1) / 2] B0717FR L'étape a) permet d'orienter en surface les macromolécules du polymère dans une même direction, et l'étape b) permet de provoquer une cristallisation partielle du polymère, qui entraîne une nanostructuration de surface et modifie la rugosité de la surface résultant de l'étape a) de brossage. L'étape b) peut être réalisée avec des mélanges de solvants. Les valeurs des constantes ou paramètres de solubilité d'une large gamme de solvants et de polymères sont publiées dans la littérature, notamment dans US 4 529 563 et dans la publication de A.F.M. Barton, Chem. Rev., 75, n 6, 731, 1975. Selon une réalisation, le substrat est constitué par ledit polymère, c'est-à-dire que le substrat est une pièce massive de polymère dont au moins une surface est traitée par le procédé selon l'invention. Selon une autre réalisation, le substrat est constitué par un support formé d'un matériau chimiquement inerte, dont au moins une surface est revêtue d'un film de polymère. Le film polymère peut être déposé par diverses méthodes, par exemple par dépôt à la tournette, à l'aide d'une balayette, par extrusion du film polymère, ou autres. Le film de polymère déposé est typiquement d'épaisseur comprise entre 50 nm et plusieurs microns. Le support utilisé peut être une lame de verre, un wafer de silicium, un verre conducteur ITO (Indium Tin Oxide), une surface métallique. Dans tous les cas, il est nécessaire que le support ne 30 soit pas altéré par le procédé de dépôt du film polymère amorphe. Le polymère utilisé doit exister sous forme amorphe et sous forme semicristalline. Il est de préférence choisi dans le groupe comprenant les polyesters (polycarbonates (bisphénol A), polyéthylène téréphtalate et naphtalate, acide polylactique), et le polystyrène isotactique. Lorsque le polymère utilisé est le polycarbonate de bisphénol A, le solvant peut être choisi dans le groupe B0717FR constitué par l'acétone, le toluène, le chloro-benzène, tétrahydrofurane et la cyclohexanone. Lorsque le polymère utilisé est le polystyrène isotactique, le solvant peut être l'acétone. Le procédé selon l'invention peut comprendre une étape préliminaire pour la détermination des conditions nécessaires pour l'obtention d'une rugosité donnée de la surface polymère après l'étape b). Selon une première variante, cette étape préliminaire 10 comprend: - la mise en oeuvre de l'étape a) pour une série de substrats identiques dans des conditions identiques; - la mise en oeuvre de l'étape b) pour chaque substrat obtenu à la fin de l'étape a), à l'aide du même solvant, à la même température, en faisant varier la durée du traitement d'un substrat à l'autre; - la détermination de la rugosité obtenue à la surface de chaque substrat après l'étape b) ; - l'identification des conditions de mise en uvre 20 aboutissant à la rugosité souhaitée. La durée d'exposition du film brossé aux vapeurs de solvant dépend de la constante de diffusion d'un solvant donné dans un polymère donné ; elle est donc spécifique à chaque couple polymère/solvant. Cette durée est généralement comprise entre 1 minute et 30 minutes. Si le temps nécessaire pour atteindre la valeur de rugosité souhaitée est trop court, on peut prévoir d'utiliser un mélange de vapeur de solvant et d'air ou d'un gaz inerte, de manière à ralentir le processus de cristallisation. A l'inverse, la durée de traitement peut être réduite en augmentant la température durant l'exposition du film à la vapeur de solvant. Selon une deuxième variante, cette étape préliminaire 35 comprend: - la mise en oeuvre de l'étape a) pour une série de substrats identiques dans des conditions identiques; B0717FR - la mise en oeuvre de l'étape b) pour chaque substrat obtenu à la fin de l'étape a), à l'aide du même solvant, pendant la même durée, en faisant varier la température du traitement d'un substrat à l'autre; - la détermination de la rugosité obtenue à la surface de chaque substrat après l'étape b) ; -l'identification des conditions de mise en oeuvre aboutissant à la rugosité souhaitée. Après mise en oeuvre de l'étape préliminaire, le procédé selon l'invention comprend la mise en oeuvre des étapes a) et b) dans les conditions identifiées à la fin de l'étape préliminaire. L'homme du métier pourra donc, par des essais de routine, déterminer les conditions de température et de durée à mettre en uvre lors de l'étape b) pour obtenir un substrat dont la rugosité correspond à l'application recherchée. Selon un deuxième aspect, l'invention a pour objet un substrat dont au moins une surface est constituée par un polymère, ladite surface étant orientée et nanostructurée, et ladite surface présentant une structure périodique comprenant une alternance de zones amorphes et de lamelles cristallines, la périodicité caractéristique associée à une séquence lamelle cristalline / zone amorphe étant comprise entre 5 et 100 nm. Ce substrat peut être constitué par ledit polymère, ou bien être constitué par un support formé d'un matériau chimiquement inerte dont au moins une surface est revêtue d'un film de polymère. Ledit support peut être une lame de verre, un wafer de silicium, un verre conducteur ITO (Indium Tin Oxide) ou une surface métallique. L'invention porte également sur un procédé de dépôt orienté de molécules ou de macromolécules sur un substrat selon l'invention, consistant à former un film desdites molécules ou macromolécules sur le substrat par sublimation sous vide ou dépôt à partir d'une solution dans un solvant n'affectant pas la structure de surface du substrat, le B0717FR substrat étant maintenu à une température constante comprise entre 25 C et 130 C. L'invention a également pour objet l'utilisation d'un substrat selon l'invention pour le dépôt orienté de semiconducteurs organiques (moléculaires et polymères) tels que le pentacène, la phtalocyanine de zinc, le coronène, ou de colorants organiques, ou de particules colloïdales, par exemple des particules d'or. La présente invention est illustrée ci-après par des exemples concrets de réalisation, auxquels elle n'est cependant pas limitée. Les exemples 1 et 2 portent sur la préparation de substrats selon l'invention, et les exemples 3 à 7 portent sur l'utilisation de l'un de ces substrats pour le dépôt orienté de diverses molécules. Exemple 1 Cet exemple porte sur la préparation d'un substrat dont une surface est revêtue d'un film de polycarbonate de bisphénol A, le solvant utilisé pour la cristallisation étant l'acétone. On prépare une solution à 2% en masse d'un polycarbonate commercial (commercialisé par la société Acros, avec Mw = 64000) dans le dichlorométhane. Un film de polycarbonate amorphe est ensuite préparé par dépôt à la tournette sur des lames de verre propre 25 (référence Corning 2947) à 2000 tours/min. Pour la mise en oeuvre de l'étape de brossage, on utilise un appareil fabriqué selon un modèle décrit dans la publication de Becker et al., Mol. Cryst. & Liq. Cryst., 132, 167, 1986. Un cylindre métallique (diamètre 40 mm) recouvert d'un tissu de velours (polyamide ou coton) est appliqué sur le film polymère par un piston exerçant une pression de 2 bars. Lors de la mise en contact du rouleau avec l'échantillon de polymère, le cylindre tourne à une vitesse de 100300 tours/min., et l'échantillon est translaté à une vitesse constante de 1 cm/s. La longueur de brossage est de l'ordre de 200 cm. Le film brossé de polycarbonate est ensuite exposé à un jet d'azote. B0717FR Après brossage, le film présente une forte biréfringence optique. Les figures 1 et 2 sont des clichés d'un film obtenu après brossage, réalisés par microscopie à force atomique, à 5 deux échelles différentes. Il apparaît que la surface présente des sillons. La forte biréfringence optique traduit à la fois la présence des sillons orientés dans la direction du brossage (biréfringence de forme) et l'orientation préférentielle des chaînes de polymère en surface. Les chaînes de polymère ne sont orientées qu'en surface, sur une profondeur de quelques nanomètres. La présence de sillons conduit à une rugosité importante, de l'ordre de 5 nm (RMS), la rugosité étant mesurée par microscopie à force atomique (Tapping mode) avec un appareil Nanoscope III muni de pointes Si (25-50 N/m, 280-365 kHz) sur des surfaces de 2x2 m2. A ce stade, les films brossés n'induisent aucune orientation moléculaire significative des matériaux déposés. Pour la mise en uvre de la deuxième étape du procédé, le film brossé de polymère est exposé à des vapeurs d'acétone dans une enceinte en verre fermée et maintenue à température constante (20-25 C) en présence d'air. Dans ces conditions, la pression partielle de vapeur d'acétone est de l'ordre de 250 mbar. L'exposition du film brossé à des vapeurs d'acétone à température ambiante provoque d'une part la cristallisation orientée du film, qui entraîne une nanostructuration de surface, et d'autre part une réduction significative de la rugosité induite par brossage, étant entendu que la valeur de rugosité obtenue dépend de la durée d'exposition aux vapeurs d'acétone. Les résultats obtenus sont présentés sur la figure 3, qui est une courbe représentant la rugosité mesurée en fonction du temps d'exposition t, en minutes. Il apparaît qu'il existe un temps d'exposition optimal pour obtenir à la fois une rugosité minimale du film, un degré d'orientation important et une nanostructuration de surface. Cette valeur B0717FR minimale de la rugosité, égale à 0,5 nm, est obtenue pour un temps d'exposition de 2 minutes. Cette faible valeur est particulièrement requise pour certaines applications, telles que la fabrication de transistors à effet de champ. Les figures 4a-c sont des images de topographie réalisées par microscopie à force atomique, représentant la surface du film après un temps d'exposition aux vapeurs d'acétone respectivement égal à 1 minute, 2 minutes et 30 minutes. La rugosité mesurée est respectivement de 4-5 nm (figure 4a), 0,5 nm (figure 4b) et 12 nm (figure 4c). La nanostructuration de surface résulte de l'alternance de domaines cristallins et amorphes, qui ressort des figures 5a-b (correspondant à une image obtenue en mode topographie) et 6a-b (correspondant à une image en mode contraste de phase) qui mettent en évidence l'existence d'une alternance de domaines cristallins et amorphes à travers l'existence d'un contraste de phase. Il est connu que des zones cristallines et amorphes d'un polymère présentent des réponses viscoélastiques différentes donnant lieu au contraste de phase observé en microscopie à force atomique (S. S. Sheiko, Advances in Polymer Sciences vol 151, Springer Verlag, BerlinHeidelberg, 2000). Il apparaît que la périodicité totale est de l'ordre de 20 4 nm. Exemple 2 Un substrat dont une surface est revêtue d'un film de polystyrène isotactique a également été préparé, le solvant utilisé pour la cristallisation étant l'acétone. Les conditions de préparation du substrat sont similaires à celles décrites dans l'exemple 1, avec une longueur de brossage égale à 50 cm. Le film brossé de polymère a été exposé à des vapeurs d'acétone pendant 2 minutes, à une température de 23 C. Le résultat obtenu est représenté sur les figures 7a (image de topographie) et 7b (image en contraste de phase), 35 qui mettent en évidence l'existence d'une alternance de domaines cristallins et amorphes. B0717FR On décrit à présent plusieurs exemples d'application du substrat de polycarbonate dont la fabrication a été décrite dans l'exemple 1. Dans ces exemples, les films organiques de pentacène, de phtalocyanine de zinc et de colorants diazo ainsi que les films d'or sont préparés par sublimation sous vide sur le substrat de polycarbonate maintenu à une température constante comprise entre 25 C et 130 C. La fabrication d'un film par évaporation sous vide se fait typiquement en utilisant un évaporateur commercial du type Auto 306 (BOC Edwards). Le vide secondaire utilisé se situe dans la gamme 10-5 - 10-' mbar. Lorsque le produit à déposer est un matériau organique, la source d'évaporation est constituée d'un creuset en quartz contenant le produit à déposer. Le creuset est chauffé résistivement par un filament en tungstène. Une balance à quartz permet de mesurer la vitesse de dépôt (en nm/min) ainsi que l'épaisseur des films. Le substrat orienté de polymère est placé sur un porte-échantillon qui peut être chauffé, situé à une distance comprise entre 10 cm et 30 cm de la source. La température de chauffage du creuset est augmentée jusqu'à ce que la vitesse de dépôt souhaitée (entre 1 et 10 nm/min) soit atteinte. Un masque situé devant le substrat est alors retiré afin de démarrer le dépôt sur le substrat. Lorsque l'épaisseur souhaitée est atteinte, le masque est replacé devant l'échantillon. Ce dernier est sorti de l'évaporateur uniquement lorsque la température du substrat est revenue à une température proche de la température ambiante. Pour le dépôt de l'or, on utilise généralement comme source un simple fil de tungstène chauffé résistivement autour duquel on enroule un morceau de fil d'or à évaporer (1 cm environ de longueur, 25 microns de diamètre). Exemple 3: dépôt orienté de pentacène Cette molécule est un semiconducteur organique utilisé pour la fabrication de transistors à effet de champ. Les clichés de microscopie optique (figures 8a et 8b) et la B0717FR courbe représentant l'absorbance A en fonction de la longueur d'onde lambda, en nanomètres, (figure 9) font apparaître respectivement une biréfringence élevée ainsi qu'une forte anisotropie de l'absorption optique. Ces résultats impliquent un degré d'orientation élevé des molécules sur le substrat, et qui est semblable à celui obtenu pour des substrats de PTFE orienté (cf M. Brinkmann et al., J. Phys. Chem. B 107, 10531, 2003). Exemple 4: dépôt orienté de la phtalocyanine de zinc. Les figures 10a-c représentent des images topographiques obtenues par microscopie à force atomique de films minces de phtalocyanine de zinc ZnPc (50 nm) déposés sur un substrat de polycarbonate orienté pour des températures de dépôt respectives de 40 C, 75 C et 100 C. Les figures lia-b présentent respectivement une image en champ clair ainsi que le cliché de diffraction correspondant pour un film de phthalocyanine d'épaisseur 50 nm et déposé à une température du substrat Ts de 100 C. Les résultats obtenus font ressortir que le degré d'orientation de la phtalocyanine de zinc augmente avec la température du substrat, et que l'orientation du substrat est maintenue jusqu'à une température de 100 C. Des expériences complémentaires ont montré que le pouvoir orientant des substrats est maintenu au moins jusqu'à Ts=130 C. L'analyse par microscopie électronique du degré d'orientation fait apparaître la présence de cristaux allongés de phtalocyanine de zinc (figure lla) et l'obtention de taches de diffraction très fines (figure 11b), présentant une uniformité sur toute la surface. Exemple 5: dépôt orienté de coronène L'image topographique (figure 12a) obtenue par microscopie à force atomique d'un film mince de coronène (50 nm) déposé sur un substrat de polycarbonate orienté, à une température de substrat Ts = 29 C, montre une surface constituée de cristaux orientés alors que le cliché de diffraction correspondant (figure 12b) présente des taches de diffraction légèrement arquées, démontrant un fort degré B0717FR d'orientation semblable à celui observé pour la phthalocyanine. Exemple 6: dépôt orienté de nanoparticules d'or Le dépôt d'environ 10 nanomètres d'or par évaporation sur un substrat orienté et nanostructuré de polycarbonate donne lieu à la formation de nanoparticules d'or avec une distribution de taille relativement étroite. Par microscopie à force atomique (figure 13), on observe un alignement plus ou moins marqué des nanoparticules par la surface nanostructurée du substrat. L'absorption optique de ces films est polarisée et présente un maximum d'absorption vers 700 nm lorsque la polarisation de l'onde incidente est orientée perpendiculairement à la direction de brossage des substrats de polycarbonate (figure 14, représentant l'absorbance en fonction de la longueur d'onde lambda, en nanomètres). A noter que l'absorption optique a été mesurée en prenant comme référence un film d'or sur PC non orienté. Exemple 7: dépôt orienté de colorants azo L'image en champ clair obtenue par microscopie électronique en transmission d'un film mince (50 nm) de colorant diazo de formule (I) ci-dessous déposé sur un substrat de polycarbonate orienté, à une température de substrat Ts = 29 C, est présentée sur la figure 15. N=N (l N=N (I) Pour ce film, on observe par mesure d'absorption polarisée une anisotropie très importante de l'absorption optique. Le maximum d'absorption est obtenu lorsque la polarisation de l'onde incidente est orientée perpendiculairement à la direction de brossage. Le rapport dichroïque défini par le rapport d'absorption perpendiculaire sur l'absorption parallèle, mesurée à 560 nm, atteint aisément une valeur de l'ordre de 20. Les mesures de diffraction électronique montrent un cliché de diffraction présentant des taches légèrement arquées (figure 16), démontrant un fort degré d'orientation des films. B0717FR Revendications 1. Procédé de préparation d'un substrat dont au moins une surface est constituée par un polymère, ladite surface de polymère étant orientée et nanostructurée, ledit procédé étant caractérisé en ce qu'il comprend les étapes successives suivantes. a) brossage de la surface polymère à l'état amorphe du substrat b) mise en contact avec une vapeur d'un solvant, de la surface de polymère orienté obtenue à la fin de l'étape 10 a), ledit solvant étant choisi de sorte que: I Spoly Ssol I / [( Spoly + Sso1) / 2. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que le substrat est constitué par ledit polymère. 3 Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que le substrat est constitué par un support formé d'un matériau chimiquement inerte dont au moins une surface est revêtue d'un film de polymère. 4. Procédé selon la revendication 3, caractérisé en ce que le film de polymère est d'épaisseur comprise entre 25 50 nanomètres et plusieurs microns. 5. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 4, caractérisé en ce que ledit polymère est choisi dans le groupe comprenant les polyesters tels que les polycarbonates (bisphénol A), le polyéthylène téréphtalate et naphtalate, l'acide polylactique, et le polystyrène isotactique. 6. Procédé selon la revendication 5, caractérisé en ce que le polymère est le polycarbonate de bisphénol A. 7. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que le polymère est le polycarbonate de bisphénol A et le solvant est choisi dans le groupe constitué par l'acétone, B0717FR le toluène, le chlorobenzène, le tétrahydrofurane et la cyclohexanone. 8. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que ledit polymère est choisi dans le groupe comprenant les polyesters tels que les polycarbonates (bisphénol A), le polyéthylène téréphtalate et naphtalate, l'acide polylactique, et le polystyrène isotactique, et en ce que le solvant est l'acétone. 9. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en 10 ce que le polymère est le polystyrène isotactique et le solvant est l'acétone. 10. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'il comprend une étape préliminaire pour la détermination des conditions nécessaires pour l'obtention d'une rugosité donnée de la surface polymère après l'étape b). 11. Procédé selon la revendication 10, caractérisé en ce que l'étape préliminaire comprend: - la mise en oeuvre de l'étape a) pour une série de substrats identiques dans des conditions identiques; - la mise en oeuvre de l'étape b) pour chaque substrat obtenu à la fin de l'étape a), à l'aide du même solvant, à la même température, en faisant varier la durée du traitement d'un substrat à l'autre; - la détermination de la rugosité obtenue à la surface de chaque substrat après l'étape b) ; l'identification des conditions de mise en oeuvre aboutissant à la rugosité souhaitée. 12. Procédé selon la revendication 10, caractérisé en 30 ce que l'étape préliminaire comprend: - la mise en oeuvre de l'étape a) pour une série de substrats identiques dans des conditions identiques; - la mise en oeuvre de l'étape b) pour chaque substrat obtenu à la fin de l'étape a), à l'aide du même solvant, pendant la même durée, en faisant varier la température du traitement d'un substrat à l'autre; - la détermination de la rugosité obtenue à la surface de chaque substrat après l'étape b) ; B0717FR l'identification des conditions de mise en oeuvre aboutissant à la rugosité souhaitée. 13. Procédé selon l'une des revendications 11 ou 12, caractérisé en ce que, après mise en oeuvre de l'étape préliminaire, on effectue les étapes a) et b) dans les conditions identifiées à la fin de l'étape préliminaire. 14. Substrat dont au moins une surface est constituée par un polymère, ladite surface étant orientée et nanostructurée, caractérisé en ce que ladite surface présente une structure périodique comprenant une alternance de zones amorphes et de lamelles cristallines, la périodicité associée à une séquence lamelle cristalline / zone amorphe étant comprise entre 5 et 100 nm. 15. Substrat selon la revendication 14, caractérisé en ce qu'il est constitué par ledit polymère. 16. Substrat selon la revendication 14, caractérisé en ce qu'il est constitué par un support formé d'un matériau chimiquement inerte dont au moins une surface est revêtue d'un film de polymère. 17. Substrat selon la revendication 16, caractérisé en ce que ledit support est une lame de verre, un wafer de silicium, un verre conducteur ou une surface métallique. 18. Procédé de dépôt orienté de molécules ou de macromolécules sur un substrat selon l'une quelconque des revendications 14 à 17, caractérisé en ce qu'il consiste à former un film desdites molécules ou macromolécules sur ledit substrat soit par sublimation sous vide, soit par dépôt à partir d'une solution n'affectant pas la structure de surface dudit substrat, ledit substrat étant maintenu à une température constante comprise entre 25 C et 130 C. 19. Utilisation d'un substrat selon l'une quelconque des revendications 14 à 17 pour le dépôt orienté de semi-conducteurs organiques. 20. Utilisation selon la revendication 19, pour le 35 dépôt orienté de pentacène. 21. Utilisation selon la revendication 19, pour le dépôt orienté de phtalocyanine de zinc. B0717FR 22. Utilisation selon la revendication 19, pour le dépôt orienté du coronène. 23. Utilisation d'un substrat selon l'une quelconque des revendications 14 à 17 pour le dépôt orienté de 5 colorants organiques. 24. Utilisation d'un substrat selon l'une quelconque des revendications 14 à 17 pour le dépôt orienté de particules colloïdales. 25. Utilisation selon la revendication 24, pour le 10 dépôt orienté de particules d'or.