Brevet FR2889375A1 — publié le 20070202

STRUCTURE RÉSONANTE HYBRIDE DESCRIPTION DOMAINE TECHNIQUE L'invention appartient au domaine de la mesure à distance d'une grandeur physique, par l'intermédiaire notamment d'une liaison radiofréquence et d'un composant passif. Plus particulièrement, l'invention concerne les structures résonantes à ondes de volume au sein de films piézoélectriques. La structure selon l'invention est optimisée pour augmenter son facteur de qualité et son coefficient de couplage dans sa gamme de fréquence. L'invention se rapporte également à un 15 procédé de fabrication d'une telle structure hybride, et à diverses utilisations. ÉTAT DE LA TECHNIQUE ANTÉRIEURE Dans le domaine des transpondeurs et/ou capteurs, on utilise de façon croissante des dispositifs résonants à bande étroite, fonctionnant notamment dans la gamme des 500 MHz. En particulier, dès les années 1920, des résonateurs basés sur la mise en vibration d'une lame d'un matériau piézoélectrique ont été réalisés: tel que schématisé en figure 1, ce type de composant 1 comprend deux électrodes 2, 3 en regard enserrant une plaque de matériau piézoélectrique 4. L'application d'un champ radiofréquence RF aux bornes du dipôle 2, 3 ainsi constitué engendre, par effet piézoélectrique inverse, une déformation de la plaque 4 selon les couplages permis par l'orientation cristalline de son matériau constitutif. Un phénomène de résonance se produit lorsque la fréquence F d'excitation RF correspond à la vitesse V de phase du déplacement engendré divisée par deux fois l'épaisseur e de la plaque 4 (F = V/2e) : les déplacements en surface de la plaque 4 sont alors d'amplitude maximale, alors que les contraintes C atteignent leur maximum en son centre. Le quartz s'est révélé le matériau privilégié de ce type d'applications compte tenu de ses propriétés thermo- élastiques (coefficients de qualité mécanique élevés, existence d'orientations compensées des effets de température, etc.). Cependant, pour gagner en fréquence, il devient nécessaire d'amincir les matériaux massifs usuels jusqu'à des épaisseurs e rendant toute application industrielle (où l'épaisseur minimum des plaques est de l'ordre de 30}gym) hasardeuse: pour un résonateur 1 fonctionnant sur mode fondamental à 300 MHz par l'intermédiaire d'une onde de cisaillement à 3500 mÉs-1, l'épaisseur e de la plaque 4 d'une coupe AT du quartz devrait être de l'ordre de 6}gym. Même avec l'utilisation d'harmoniques supérieures et d'autres coupes de quartz (comme la coupe BT permettant d'utiliser une onde se propageant à 5100 mÉs-1), une fréquence de 1 GHz représente la limite pratique de mise en oeuvre des résonateurs classiques à ondes de volume. Ces dispositifs ont ainsi été supplantés, pour les applications de traitement du signal radiofréquence, par des composants passifs à ondes de surface (SAW: Surface Acoustic Waves ) qui se sont révélés capables d'atteindre des gammes de fréquence dépassant le gigahertz, et ont connu de nombreuses applications comme l'interrogation à distance de capteurs passifs. Cependant, de telles structures résonantes à ondes de surface impliquent un encombrement certain, lié à la longueur d'onde acoustique et à leur configuration même, qui réclame une longueur minimum pour réaliser leur fonction spectrale. Par ailleurs, la réalisation de couches minces piézoélectriques sur des substrats non piézoélectriques a été développée, et il est apparu possible d'exciter, au sein de films piézoélectriques, des ondes de volume, souvent à polarisation longitudinale, présentant simultanément de très hautes vitesses de propagation et un couplage piézoélectrique élevé (quelques %). Différents résonateurs à ondes de volume à films minces piézoélectriques 5 ont été mis au point: les résonateurs 6 à film mince sur substrat 7 (TFR: Thin Film Resonator ), usinés en surface ou dans le volume (FBAR: Film Bulk Acoustic Resonator , HBAR: Harmonic Bulk Acoustic Resonator ), sont respectivement illustrés en figures 2A et 2B, et le résonateur 8 à miroir de Bragg 9 (SMR: Solidely Mounted Resonator ) est illustré en figure 2C. La principale difficulté technologique de réalisation d'un tel composant réside dans l'élimination ou l'amincissement local du substrat 7 situé sur la face arrière de la couche 5 afin de permettre à la vibration de s'établir librement: le substrat 7 subsistant sous la membrane piézoélectrique 5 apparaît comme susceptible d'engendrer des modes parasites. Il a ainsi été envisagé une solution composite permettant de coupler les avantages liés à l'utilisation d'une couche piézoélectrique 5 dont la nature est dissociée de celle du substrat 7, basée sur le principe de fonctionnement des lignes à retard à ondes de volume. Les lignes à retard les plus simples sont constituées par une structure composite transducteur piézoélectrique/matériau de propagation/transducteur piézoélectrique au sein de laquelle se propagent des ondes de volume W: le retard dépend de la longueur du chemin acoustique à parcourir. Une version simplifiée de cette structure (figure 2D) confond les transducteurs d'entrée et de sortie, et le trajet acoustique implique une réflexion sur une surface plane. Cette dernière structure 6', dite structure résonante composite, présente une multiplicité de modes correspondant aux harmoniques possibles du mode fondamental de la structure 6', dont la fréquence est toujours donnée par la relation F = V/2e avec e l'épaisseur effective de la plaque composite couche mince 5 / substrat 7' et V la vitesse équivalente du mode, qui dépend principalement des propriétés élastiques du substrat 7' (de préférence un monocristal) légèrement perturbées par le film 5; la polarisation est fixée par les couplages piézoélectriques du film 5. Le choix des épaisseurs des différentes couches, et notamment de la lame monocristalline 7', est effectué pour que l'une des résonances harmoniques de rang N de l'empilement corresponde à la fréquence recherchée de fonctionnement Fo du résonateur 6' ; de plus, un dimensionnement de la structure permet d'obtenir un écart spectral entre deux résonances très supérieur à la bande de fréquence de travail (par exemple 1,8 MHz pour la bande centrée en 433,92 MHz). Ainsi, la résonance choisie peut être sélectionnée avec précision. Pour une structure composite 6' selon la figure 2D, il apparaît nécessaire de disposer d'un coefficient de couplage optimal pour limiter les pertes d'insertion. Or, dans les cas d'une couche 5 d'AlN déposée sur un substrat en silicium 7', même s'il est possible d'optimiser la valeur du coefficient de couplage Ko2 en faisant varier l'épaisseur du substrat 7', l'obtention d'une valeur de 1 so, coefficient de l'onde de Rayleigh sur le quartz qui est la limite inférieure pour un fonctionnement effectif du résonateur 6', est subordonnée à l'utilisation du mode fondamental. Un si faible coefficient de couplage est juste compatible avec la plupart des applications envisagées de mesure à distance. Il a certes été proposé (Shih-Yung Pao et coll. : Analysis and experiment of HBAR frequency spectra and application to characterize the piezoelectric thin film and to HBAR design , Proceedings of the IEEE International Frequency Control Symposium 2002; 8A-5) d'augmenter l'épaisseur de l'électrode supérieure 2 pour remédier à ce problème; cette optimisation du facteur de couplage KS se fait cependant aux détriments de la valeur du coefficient de surtension de la structure résonante 6', et donc de sa possible utilisation. EXPOSÉ DE L'INVENTION L'invention se propose de pallier certains des problèmes mentionnés plus haut concernant les structures résonantes. En particulier, l'invention se rapporte à un résonateur permettant de surmonter simultanément les difficultés rencontrées à haute fréquence avec la solution à ondes de volume, l'impossibilité de travailler en basse fréquence sur des structures FBAR simples, et l'absence d'un niveau de couplage suffisant lorsque l'on travaille sur des structures composites. Pour un résonateur à ondes de volume, il a été constaté que le couplage entre l'énergie électrique et le milieu piézoélectrique est maximal lorsque la contrainte maximale s'applique au milieu de la couche piézoélectrique. Pour limiter les effets néfastes sur la surtension liés à l'utilisation d'électrodes supérieures de forte masse, l'invention propose ainsi d'utiliser un matériau qui vient recouvrir l'électrode supérieure de façon à déplacer, par effet de propagation, la position du ventre de dilatation au sein de la couche piézoélectrique. Sous un de ses aspects, l'invention concerne donc une structure résonante acoustique comprenant un transducteur piézoélectrique qui comprend deux électrodes entourant une couche de matériau piézoélectrique, avantageusement sous forme de film mince. L'une des deux électrodes est mise en place sur un support, et l'autre est revêtue d'une couche additionnelle dont l'épaisseur est déterminée en fonction de l'épaisseur du substrat et des paramètres de fonctionnement du résonateur, pour optimiser la densité acousto-électrique au sein de la couche piézoélectrique. Le support peut être un substrat, avantageusement sous forme de lame, ou un miroir de Bragg positionné sur un substrat; la couche additionnelle peut elle aussi être recouverte par un miroir de Bragg. La structure résonante selon l'invention munie d'un miroir de Bragg peut avantageusement être enrobée, entièrement ou partiellement, dans une couche de protection, qui peut servir de boîtier; au moins un miroir de Bragg est choisi pour que son coefficient de réflexion soit maximal au voisinage de la fréquence de résonance de la structure. Le substrat peut être constitué de plusieurs matériaux, qui avantageusement possèdent des facteurs de qualité mécanique et diélectrique tels que le produit QF de la structure résonante dépasse 3 ou 5.1012; de préférence, il s'agit de quartz monocristallin, mais de nombreux matériaux sont possibles (verre, silice, La3Ga5SiO14r La3Ga5, 5Nbo,5O14, La3Ga5,5Tao,5O14, GaPO4r saphir, LiNbO3, KNbO3, LiTaO3, C, SiC, ...). La couche piézoélectrique est avantageusement composée de nitrure d'aluminium, qui peut être déposée par pulvérisation cathodique par exemple; si la couche piézoélectrique est composée d'un monocristal, il peut être rapporté par collage moléculaire suivi d'un amincissement. Les électrodes sont avantageusement des couches métalliques déposées ou intégrées sur leur support, à savoir substrat, miroir de Bragg ou couche piézoélectrique. La couche additionnelle peut être piézoélectrique ou non; de préférence, elle est mise en place par croissance épitaxiale d'un matériau monocristallin, mais elle peut également comprendre un matériau comme celui utilisé pour le substrat. La structure résonante selon l'invention, selon son utilisation, peut être associée à une autre structure de nature similaire, à un capteur capacitif, et/ou à une antenne pour réaliser une fonction de transpondeur. Le choix des caractéristiques, en particulier des matériaux, impédances et dimensions, de chaque structure résonante associée peut permettre une mesure différentielle de la température. L'invention se rapporte sous un autre aspect à un procédé pour fabriquer de telles structures résonantes. BRÈVE DESCRIPTION DES DESSINS Les caractéristiques et avantages de l'invention seront mieux compris à la lecture de la description qui va suivre et en référence aux dessins annexés, donnés à titre illustratif et nullement limitatifs. La figure 1, déjà décrite, illustre le principe d'un résonateur classique à ondes de volume. Les figures 2A, 2B, 2C et 2D, déjà décrites, schématisent différentes structures résonantes à film mince. La figure 3 montre une structure composite selon l'invention, et la position en son sein de la variation d'amplitude des contraintes et déformations. La figure 4 représente la variation du coefficient de couplage en fonction de l'épaisseur de la couche piézoélectrique. La figure 5 montre une autre structure composite selon l'invention. La figure 6 illustre l'utilisation d'une structure selon l'invention en tant que transpondeur. EXPOSÉ DÉTAILLÉ DE MODES DE RÉALISATION PARTICULIERS Pour une structure résonante hybride comprenant un film piézoélectrique, le couplage entre l'énergie électrique et le milieu piézoélectrique est maximal si le maximum de contrainte est appliqué au milieu de la couche piézoélectrique. Un épaississement de la couche supérieure permet ainsi de déplacer cette contrainte. Cependant, pour éviter de se trouver confronté à la dégradation importante du coefficient de surtension de la structure résonante, il importe que l'énergie élastique puisse se propager au sein de la couche rapportée sur l'électrode. Pour un dispositif selon l'invention, un diagramme, illustré en figure 3, montre ainsi l'évolution de l'intensité de la valeur de la contrainte de déformation 6 au sein (et en regard) de chaque couche du dispositif 10, dans le cas optimal où un ventre de contrainte (maximum d'intensité - en unité arbitraire) est positionné au centre de la couche piézoélectrique. Tel qu'illustré sur la figure 3, un résonateur 10 selon l'invention comprend donc une lame 12 d'un matériau faisant office de substrat. L'amincissement du substrat 12 pour le mettre à épaisseur peut être réalisé préalablement ou au cours du procédé de fabrication du résonateur 10; il est également possible de modifier l'épaisseur du substrat 12 une fois le résonateur 10 fabriqué, par exemple en mettant à profit l'opération pour réaliser un ajustage de la fréquence de résonance du dispositif 10. Selon l'invention, les épaisseurs sont reliées entre elles par un calcul détaillé plus loin, de sorte que de la lame faisant office de substrat 12 en fonction des caractéristiques de couches rapportées et des paramètres de de la structure résonante 10 (mode N, fréquence Fo). Avantageusement, le est fabriqué dans un matériau possédant des qualité mécanique et diélectrique les plus élevés possibles, permettant d'atteindre ainsi un produit facteur de qualité x fréquence de résonance (QF) du mode utile supérieur à 3.1012, par exemple un coefficient de qualité de la résonance du mode utile supérieur à 8000 au voisinage de 400 MHz. A titre d'exemple, le matériau peut être choisi parmi le quartz cristallin ou monocristallin, le verre ou la silice amorphe, la langasite La3Ga5SiO14 et ses variantes (langanite La3Ga5,5Nbo,5O14, langatate l'épaisseur e12 est optimisée l'ensemble des fonctionnement harmonique substrat 12 facteurs de La3Ga5, 5Tao, 5014, etc.), le phosphate de gallium, le saphir, le niobate de lithium, le tantalate de lithium, le carbone diamant, le carbure de silicium,... Sur la lame de substrat 12 est disposé un transducteur piézoélectrique 14. Le transducteur 14 comprend une première électrode 16, déposée à la surface de la lame 12; avantageusement, l'épaisseur e16 de la couche composant la première électrode 16 est inférieure à A16/20, avec A16 la longueur d'onde de l'onde acoustique se propageant à l'intérieur de la couche. La première électrode est constituée par un matériau de préférence bon conducteur électrique afin de limiter les pertes ohmiques; avantageusement il s'agit d'un métal (Al, Mo, Ni, Ag, Pt, Au, W, Cu, ...) , choisi de sorte qu'il est susceptible, si possible, de se déposer de façon orientée à la surface du substrat 12. De préférence, l'électrode 16 est déposée par épitaxie de façon à permettre la réalisation par épitaxie également de la couche piézoélectrique 18, et à garantir ainsi son orientation. En effet, le transducteur 14 comprend une couche de matériau piézoélectrique 18 mise en place au dessus de la première électrode 16; le procédé de mise en place, qui dépend de la nature du matériau piézoélectrique, est choisi pour minimiser les défauts de texture de la couche 18 qui constituent des sources de dissipation néfastes au confinement de l'énergie acousto-électrique dans l'épaisseur de la structure 10. On peut ainsi déposer du niobate de lithium, du niobate de potassium, du nitrure d'aluminium, de l'oxyde de zinc, et d'autres matériaux piézoélectriques, par pulvérisation cathodique. Plus généralement, la couche piézoélectrique peut être déposée par pulvérisation cathodique, ou laser, par dépôt chimique en phase vapeur par organométallique (MOCVD: Metal Organic Chemical Vapor Deposition ) ou par épitaxie par jet moléculaire (MBE: Molecular Beam Epitaxy ), ou obtenue par croissance épitaxiale. Une méthode particulièrement intéressante de dépôt de films piézoélectriques 18 repose sur le collage moléculaire d'une couche épaisse sur l'ensemble épais substrat 12 première électrode 16, suivi de l'érosion et du polissage du film 18 avec mise à l'épaisseur requise: il est envisageable d'utiliser ainsi n'importe quel monocristal orienté pour l'excitation sur n'importe quel monocristal orienté pour la propagation. De préférence, les caractéristiques du matériau piézoélectrique 18 permettent d'atteindre, pour le résonateur composite 10 dans le mode de fonctionnement retenu, un couplage électromécanique supérieur ou égal à celui des ondes de surface sur quartz en coupes (ST, X), soit 1 so. Avantageusement, des matériaux à fort coefficient de couplage sont utilisés, comme le nitrure d'aluminium (AIN) ou l'oxyde de zinc (ZnO) qui sont raisonnablement simples à mettre en oeuvre par différentes méthodes, en particulier sur silicium. Pour une longueur d'onde acoustique A18 au sein de la couche piézoélectrique 18, la variation du coefficient de couplage diélectrique KS2 au sein de la couche 18 en fonction de l'épaisseur relative de la couche piézoélectrique e18r exprimée ici en fraction de la longueur d'onde À 8, est illustrée en figure 4: le couplage optimal est obtenu pour une épaisseur de la couche e18 égale à À 8/2. Un optimum local est également obtenu pour un multiple impair de À 8/2, c'est-à-dire que l'épaisseur e18 est avantageusement sous la forme: e18 =(2n'+1).1, avec n' entier naturel. L'épaisseur e18 de la couche piézoélectrique 18 permettant de conserver un coefficient de couplage KS2 utile supérieur ou égal à 20 % de la valeur maximale sera comprise entre 0, 15 É À18 Pour une fréquence de fonctionnement donnée Fo, la longueur d'onde À est reliée aux propriétés du 20 matériau en fonction de la vitesse de propagation V de V l'onde dans ce matériau selon la relation À= Fo suivant le choix du mode de fonctionnement du dispositif 10, la vitesse V peut désigner la vitesse de compression ou la vitesse de cisaillement dans le matériau. Dans le cas présent, on obtient donc: V +1). 18, avec V18 la vitesse de propagation de 2ÉF0 l'onde acoustique au sein de la couche piézoélectrique 18. A titre d'exemple, pour une couche piézoélectrique 18 de nitrure d'aluminium AIN fonctionnant sur un mode de compression, l'évolution de l'épaisseur e18 de la couche permettant d'obtenir un couplage optimal en fonction de la fréquence de fonctionnement Fo du dispositif 10 est la suivante: Fo (MHz) e18 (}gym) 433 13 866 6,5 2450 2,3 A titre indicatif, si x est le facteur de réalisation en fonction du matériau et de sa filière de fabrication, comme e18 = (n' + x)É V18, on essaie d'obtenir Fo n' = 0 et x = 0, 5. Une contre électrode 20 est ensuite déposée à la surface du matériau piézoélectrique 18. Comme dans le cas de la première électrode 16, cette deuxième électrode 20 est constituée par un matériau de préférence bon conducteur électrique, avantageusement un métal susceptible de se déposer de façon orientée, ou mieux épitaxiee. De même, avantageusement, l'épaisseur ego de la couche d'électrode 20 est inférieure à À20/20, avec À20 la longueur d'onde de l'onde acoustique se propageant à l'intérieur du matériau de l'électrode 20. La surface en regard des deux électrodes 16, 20 permet d'ajuster les paramètres d'impédance et de capacité statique, et donc la fréquence de résonance de la structure 10. Cet empilement 12, 16, 18, 20 est complété, dans le cadre de l'invention, par une couche additionnelle 22 déposée à la surface de la contre électrode 20. Cet élément additionnel 22 est composé d'un ou plusieurs matériaux, choisis avec des facteurs de qualité mécanique et/ou diélectrique élevés, afin de limiter les pertes intrinsèques du dispositif 10. Avantageusement, selon la nature de la contre électrode 20, la couche 22 peut être réalisée par épitaxie, pour garantir ainsi son orientation. La couche 22 selon l'invention permet de concentrer l'énergie acoustoélectrique du mode utile dans la couche piézoélectrique 18; il s'agit, à la limite, d'un élément d'adaptation d'impédance globale du dispositif 10. L'épaisseur e22 de la couche additionnelle 22 dépend donc des épaisseurs e18 et e12 de la couche piézoélectrique 18 et du substrat 12. Avantageusement, la croissance de la couche additionnelle 22 est telle que cette couche 22 présente une texture permettant d'obtenir des valeurs de surtension suffisantes pour limiter les pertes intrinsèques du dispositif 10. Pour certaines applications particulières ne nécessitant pas un facteur de qualité Q élevé, cette couche 22 peut constituer l'électrode supérieure 20, dont l'épaisseur est alors déterminée de la même manière que celle de la couche additionnelle 22 (et non 22 Le choix des épaisseurs des différentes couches et notamment de la lame 12 est calculé pour que l'une des résonances harmoniques de rang N (N 1) de l'empilement 14, 22 corresponde à la fréquence Fo de fonctionnement de la structure résonante 10. Dans un mode de réalisation préféré, les éléments constitutifs sont choisis de sorte que la sensibilité à la contrainte soit la plus élevée possible, pour permettre, après intégration dans une structure déformable spécifique, la mesure des effets de contraintes induits par la déformation du corps au sein duquel elle se trouve. Le mode de calcul de l'épaisseur de la couche supplémentaire 22 est identique à celui de la couche de substrat 12: chacune dépend de l'épaisseur utilisée pour réaliser la couche piézoélectrique 18. Les épaisseurs e12 et e22 s'expriment en fonction de la longueur d'onde acoustique 2\12 et À22 se propageant dans la couche 12, 22 respective (la longueur d'onde Al2, À22 étant liée à la vitesse de propagation en compression ou cisaillement V12, V22 de l'onde acoustique au sein du matériau respectif 12, 22 et à la fréquence de fonctionnement Fo). Si, selon les contraintes de fabrication, les épaisseurs des couches métalliques destinées à la réalisation des électrodes 16, 20 sont telles que V 16 20ÉFo V22 20ÉFo il est possible de les e16 et e22 négliger, et l'épaisseur de la structure 10 selon l'invention est donnée par eu = e12 + e18 + e22. En considérant une harmonique de fonctionnement N de la structure pour une fréquence Fo, on peut exprimer l'épaisseur de chacune des couches en fonction de la vitesse de propagation du son dans leur matériau. n V +(1-2x')ÉV e12 = 1 Fo e22 , et donc Fo e = +(n'+x)ÉV18 + +x)É Fo n"Év22 + l-2x É 2 n V2+ V22 V22 +(1-2x')U n 22 2 4 avec N = n + 2n' + n", n, n' et n" entiers naturels (et de préférence n' = 0), x nombre réel déterminé en fonction des possibilités technologiques de la filière de fabrication, et optimisé en fonction du matériau (0 x 1, de préférence x = 0,5) et x' = x 20 % en fonction des contraintes de fabrication, c'est-à-dire 0 En particulier, en prenant comme exemple le 25 cas d'une structure 10 avec un film 18 de nitrure d'aluminium sur un substrat 12 en silicium, sur l'électrode supérieure 20 de laquelle a été rapportée une lame 22 de silicium d'épaisseur égale à celle utilisée pour le substrat 12 (configuration symétrique), une amélioration d'un facteur 5 à 10 du coefficient de couplage KS2 par rapport aux valeurs sans lame supérieure 22 a été constatée. Par ailleurs, et par analogie avec les structures de type TFR de la figure 2, il est possible de munir le résonateur 10 selon l'invention d'un miroir de Bragg au moins. Une structure résonante 24, illustrée en figure 5, comprend ainsi un miroir de Bragg 26 sur la face inférieure du transducteur 14, entre un substrat 12 et la première électrode 16, et/ou un miroir de Bragg 28 sur la face supérieure de la couche supplémentaire 22 destinée à concentrer l'énergie (avec cependant e10 = e12 + e18 + e22 par exemple). Tel qu'il est usuel, chaque miroir de Bragg 26, 28 est composé d'une alternance de couches de matériaux d'indices de réflexion différents dont l'épaisseur est un multiple impair de À/4, avec À longueur d'onde de l'onde qui se propage à l'intérieur du réseau 26, 28: les réflexions successives sur les diverses couches créent l'effet de miroir; par exemple, les empilements sont constitués par l'alternance de couches de Si et de SiXNy. Le coefficient de réflexion de chaque miroir 26, 28 est avantageusement choisi pour être maximal au voisinage de la fréquence de résonance de la structure 24. La structure des couches utilisées pour réaliser chaque miroir 26, 28 est choisie pour réaliser une bande d'arrêt (c'est-à-dire le domaine spectral dans lequel le miroir accomplit sa fonction de réflexion totale des ondes) centrée autour d'une résonance harmonique, elle-même choisie pour ses qualités propres de couplage, de coefficient de qualité, de sensibilité thermique, etc. Il peut également être intéressant, afin d'améliorer la pureté spectrale du résonateur 24, de réaliser une bande d'arrêt d'un miroir 26 de façon à ce que la largeur de bande soit inférieure à l'écart entre deux harmoniques de la structure résonante 24. Selon un mode de réalisation préféré, un absorbant acoustique, par exemple une couche de matériau organique, comme un polymère, notamment à base de résine époxy, est déposé à la surface d'au moins un miroir de Bragg 26, 28, ce qui permet d'éliminer la contribution des modes non réfléchis par le miroir à la réponse électrique du résonateur 24. Dans le cas où l'utilisation d'un double miroir 26, 28 s'avérerait utile, il est possible de jouer sur la structure respective de chacun des miroirs de façon à ce que leur réponse spectrale soit légèrement décalée: la fonction de filtrage est ainsi élargie par rapport à une configuration à un seul miroir ou à deux miroirs symétriques. Avantageusement, le miroiravant 28 est décalé de sorte que la fréquence de résonance Fo choisie soit dans la partie basse de la bande d'arrêt et le miroir arrière 26 est tel que la fréquence de résonance Fo se situe dans la partie haute de la bande d'arrêt, ou réciproquement. Le résonateur 10, 24 selon l'invention fonctionne avantageusement dans une gamme de fréquence comprise entre 250 MHz et 6000 MHz et plus particulièrement dans les bandes réservées, selon les pays, aux applications radio utilisant des composants à courte portée ( Short Range Devices ), qui sont centrées autour des valeurs suivantes: 300 MHz, 433,92 MHz, 866 MHz, 915 MHz, 2441,75 MHz, 5250 MHz et 5825 MHz, ainsi que dans les bandes utiles respectives associées: fréquences inférieures à, ou centrées sur, 1,74 MHz, 8 MHz, 26 MHz, 83,5 MHz, 200 MHz. En particulier, le résonateur 10, 24 selon l'invention peut être utilisé de façon passive, par exemple: comme transpondeur simple interrogeable à distance; ou comme transpondeur associé à un autre dispositif tel un capteur pour faire varier sa fréquence de résonance; ou comme capteur convertissant une grandeur physique en une variation de fréquence, ce capteur pouvant être interrogeable à distance en utilisant la fonction de transpondeur intrinsèque au dispositif; ou comme transpondeur associé à un moyen de moduler l'information de façon à réaliser un dispositif d'identification; ou comme filtre de bande en associant en parallèle ou en série plusieurs structures résonantes. Par exemple, si le produit QF d'un ensemble de deux structures résonantes est supérieur ou égal à 5. 1012, l'ensemble peut être utilisé pour stabiliser un circuit oscillant. Le résonateur peut également être utilisé en association avec une batterie ou une téléalimentation comme source de fréquence. Dans un mode de réalisation préféré, le résonateur selon l'invention peut être utilisé comme transpondeur 30, tel qu'illustré sur la figure 6. Un résonateur 10 est muni d'une antenne, ici à deux brins 32, 34, qui lui est raccordée: il est alors possible d'exciter la résonance électrique de la structure 10 en la plaçant dans le champ d'un émetteur fonctionnant dans la gamme de fréquences correspondante. Après excitation, la fréquence propre de la structure 12, 16, 18, 20, 22 sera réémise et pourra être analysée en utilisant un dispositif approprié. Il est ainsi possible de réaliser un transpondeur 30 dont le signal est asservi à l'état de la structure au moment de la réception. Un tel transpondeur 30 peut être associé à un autre résonateur 10, 24 selon l'invention. Dans ce cas, avantageusement, l'écart entre les impédances des structures résonantes est minimisé afin de permettre leur interrogation à distance tout en limitant le différentiel de pertes - dans la pratique, il serait souhaitable que cet écart n'excède pas 10 % ; ainsi, la réponse est homogène entre les différents résonateurs. Dans une autre utilisation préférée, la structure résonante 10, 24 selon l'invention est réalisée en utilisant un ensemble de matériaux qui accroissent sa sensibilité aux variations de température. Par exemple, on utilise de préférence des matériaux dont les coefficients de variation de la fréquence en fonction de la température (CFT) sont de mêmes signes, de façon à cumuler les effets, comme par exemple le niobate de lithium et le silicium, tous deux à CFT négatif. Dans un autre cas de figure, pour limiter la sensibilité aux variations de fréquence, par exemple lorsque la bande de fréquence disponible pour l'interrogation est faible, deux matériaux dont les CTF sont contra variants, comme AIN et Si, peuvent être utilisés. Ici, la fréquence de résonance de l'ensemble de la structure 10 varie alors en fonction de la température, et il est possible d'utiliser la fonction de transpondeur 30 par exemple pour suivre directement l'évolution des variations de température. Avantageusement, deux structures résonantes 10 sont utilisées conjointement de façon à ce que les fréquences des structures résonantes présentent des dérives opposées en fonction de la température, ce qui permet de doubler la sensibilité l'ensemble ainsi créé. En particulier, la sensibilité de la mesure électrique peut être optimisée en plaçant le résonateur à dérive thermique positive de la fréquence en entrée de la bande de fréquence autorisée, et celui à dérive thermique négative de la fréquence en sortie de ladite bande. Pour chaque résonateur séparément, on détermine l'écart entre sa fréquence de base et sa fréquence courante, et la somme des écarts mesurés pour chaque résonateur pour une même variation de température équivaut à une dérive thermique double de la valeur unitaire. Inversement, si l'ensemble des matériaux choisis est tel que la sensibilité en température de la fréquence de résonance utile (dans la bande d'interrogation choisie) est la plus faible possible, la structure résonante peut ensuite être intégrée dans une structure mécanique déformable spécifique pour une mesure directe des effets de contrainte: la déformation de la structure mécanique entraîne une modification des propriétés acoustiques du résonateur, ce qui se traduit par une variation proportionnelle de sa (ses) fréquence(s) de résonance. La structure mécanique déformable peut être sous forme d'une barre rigide connectée à une membrane déformable dont l'épaisseur est ajustée pour optimiser la gamme de contraintes à mesurer et la résonance utile, représentative de l'information recherchée. Par exemple, dans un MEMS comprenant des jauges de contraintes, actives, associées à la membrane, ces jauges peuvent être remplacées par une structure selon l'invention afin de rendre le MEMS passif. Il est possible par ailleurs de disposer plusieurs structures résonantes selon l'invention sur la même structure mécanique déformable, certaines étant disposées sur les parties sensibles à la contrainte et d'autres sur des parties non affectées par les contraintes ou sur une fibre neutre pour permettre de disposer d'une référence. La mesure de l'évolution de chaque fréquence par rapport à la référence fixe permet alors, d'une part d'isoler la dérive thermique résiduelle, et d'autre part de mesurer les effets de contraintes; on peut également remonter au sens (signe) des effets à mesurer. De la même manière, pour s'affranchir de la mesure de température, il est possible d'utiliser une référence qui présente une sensibilité thermique égale à celle du corps d'épreuve, de telle sorte que l'écart fréquentiel entre résonateur de référence et résonateurs de mesure soit constant quelle que soit la température de travail. Selon une autre utilisation, la structure résonante selon l'invention peut être couplée en série à un corps d'épreuve capacitif dont la valeur varie en fonction d'un paramètre physique à mesurer: la fréquence de résonance varie en fonction de la valeur de la capacité. L'ensemble des éléments constitutifs de la structure résonante est choisi de sorte que la sensibilité de la fréquence de résonance utile (dans la bande d'interrogation choisie) soit la plus faible possible, et la géométrie sélectionnée pour optimiser le couplage électromécanique afin d'effectuer une mesure de capacité par tirage de fréquence. L'interrogation se fait alors en utilisant la fonction de transpondeur de la structure résonante pour suivre directement l'évolution des variations de capacité. Avantageusement, la structure résonante a une capacité statique dont la valeur est proche de la capacité à caractériser. Pour optimiser la sensibilité, la structure est conçue dans ce cas de façon à ce que la capacité statique du résonateur soit sensiblement égale à la capacité typique du corps d'épreuve capacitif. Pour améliorer encore la sensibilité, il est possible d'utiliser un ensemble d'au moins deux structures résonantes dont une seule est couplée au corps d'épreuve, l'autre étant utilisée comme référence. Il est également possible d'exploiter l'invention en couplant le corps d'épreuve capacitif en parallèle. Quelle que soit l'utilisation envisagée pour l'invention, dans la configuration où la structure résonante est munie d'un ou plusieurs miroirs de Bragg, qui permettent de s'affranchir de la nécessité de disposer de surfaces libres, il est envisageable d'inclure une face ou l'ensemble de la structure selon l'invention dans un matériau d'enrobage; selon les applications, cet enrobage pourra faire office de boîtier. Lorsque l'invention est utilisée comme transpondeur passif, qu'il soit partiel ou total, l'enrobage laisse passer ou inclut les fils d'antenne. Avantageusement, on pourra sélectionner un matériau d'enrobage qui permette de réaliser une fonction d'absorbant acoustique, par exemple un plastique ou tout polymère à base d'éléments organiques. L'absence de boîtier autre que l'enrobage et l'intégration de l'ensemble des fonctions d'antenne et d'absorbant au sein de l'enrobage permettent une forte réduction du coût final du transpondeur. Un capteur selon l'invention peut donc être utilisé dans de nombreux domaines, en particulier dans toute application réclamant la mesure en environnement hostile de grandeurs physiques (pression, contraintes, température, accélération, etc.), que ce soit dans l'industrie pour le contrôle et la télémesure sur lignes de fabrication, ou la médecine, l'agro- alimentaire, ou encore la domotique en passant par le contrôle des flux de matière en transit, cette liste n'étant pas limitative. En particulier, les résonateurs selon l'invention présentent: une surtension importante de façon à déterminer la fréquence et sa variation avec une précision suffisante; des pertes d'insertion très faibles de façon à ne pas dissiper inutilement l'énergie reçue lors de la transduction; une robustesse aux conditions environnementales hostiles dans lesquels ils sont susceptibles d'être soumis soit lors de leur mise en place, soit lors de leur exploitation, par exemple avec une température entre -50 C et 500 C. REVENDICATIONS 1. Structure résonante acoustique (10) comprenant un support (12, 26) et un transducteur piézoélectrique (14) qui comprend une première électrode conductrice (16) mise en place sur le support (12, 26) et une deuxième électrode (20) conductrice séparées par une couche de matériau piézoélectrique (18), l'épaisseur (e18) de la couche de matériau piézoélectrique (18) étant donnée par la relation V =(n'+x)É 18, avec n' entier naturel, x nombre réel Fo inférieur à 1, V18 vitesse de propagation de l'onde acoustique dans le matériau piézoélectrique et Fo mode de fonctionnement de la structure résonante (10), caractérisée par une couche additionnelle (22) mise en place à la surface de la deuxième électrode (20) opposée à la couche piézoélectrique (18), l'épaisseur (e22) de la couche additionnelle (22) étant fixée pour optimiser la densité acousto-électrique au sein de la couche piézoélectrique (18). 2. Structure résonante selon la revendication 1, dans laquelle le support est sous forme de lame de substrat (12) constituée d'un matériau possédant des facteurs de qualité mécanique et diélectrique élevés afin d'atteindre un produit facteur de qualité x fréquence de résonance du mode utile (QF) supérieur à 3-1012, de préférence 5-1012. 3. Structure résonante selon la revendication 2 dans laquelle le substrat (12) comprend un matériau parmi: le quartz cristallin, le verre ou la silice amorphe, la langasite et ses dérivés langanite et langatate, le phosphate de gallium, le saphir, le niobate de lithium, le tantalate de lithium, le carbone diamant, le carbure de silicium. 4. Structure résonante selon la revendication 2 ou 3 dans laquelle la lame de substrat (12) est constituée d'un monocristal de silicium. 5. Structure résonante selon l'une des revendications précédentes dans laquelle la couche de matériau piézoélectrique (18) est une couche mince de nitrure d'aluminium. 6. Structure résonante selon l'une des revendications 1 à 5 dans laquelle la couche additionnelle (22) comprend au moins l'un des matériaux suivants: du nitrure d'aluminium, du quartz cristallin, du verre ou de la silice amorphe, de la langasite et ses variantes langanite et langatate, du phosphate de gallium, du saphir, du niobate de lithium, du tantalate de lithium, du carbone diamant, du carbure de silicium, du niobate de potassium. 7. Structure résonante selon l'une des revendications 1 à 6 dans laquelle la couche additionnelle (22) comprend au moins un matériau monocristallin. 8. Structure résonante suivant l'une des revendications précédentes comprenant en outre, sur la couche additionnelle (22) et/ou comme support du transducteur (14), un miroir de Bragg (26, 28) qui est composé d'une alternance de couches de coefficients de réflexion différents et dont le coefficient de réflexion est maximal au voisinage de la fréquence de résonance de la structure acoustique (24). 9. Structure résonante selon la revendication 8 comprenant en outre une couche d'enrobage de la structure au niveau du miroir de Bragg (26, 28) au moins. 10. Structure résonante selon l'une des revendications 1 à 9 dans laquelle les première et/ou deuxième électrodes (16, 20) sont des couches métalliques déposées ou intégrées sur, respectivement, le support (12, 26) et la couche de matériau piézoélectrique (18). 11. Structure acoustique résonante selon l'une des revendications 1 à 10 dans laquelle l'épaisseur (e22) de la couche additionnelle (22) est avec n" entier naturel tel que n' + n" 13. Filtre de fréquence comprenant un ensemble de plusieurs structures résonantes selon l'une des revendications précédentes. 14. Transpondeur radiofréquence (30) comprenant une antenne (32, 34) associée à une structure résonante selon l'une des revendications 1 à 12 ou à un filtre selon la revendication 13. 15. Transpondeur selon la revendication 14 associé à au moins une seconde structure acoustique résonante selon l'une des revendications 1 à 12, les caractéristiques de chaque structure résonante permettant une mesure différentielle de température. 16. Transpondeur selon la revendication 14 associé à au moins une structure acoustique résonante suivant l'une des revendications 1 à 12, dans lequel les impédances des diverses structures acoustiques résonantes associées diffèrent de moins de 10 %. 17. Procédé de fabrication d'une structure résonante comprenant la mise en place d'une couche de première électrode sur un support (12, 26), la mise en place d'un film piézoélectrique (18) sur la première électrode (14), la mise en place d'une deuxième électrode (20) sur le film piézoélectrique (18), et la mise en place d'une couche additionnelle (22) de matériau sur la deuxième électrode (20). 18. Procédé selon la revendication 17 dans lequel le film piézoélectrique (18) est reporté sur la première électrode (16) par collage moléculaire. 19. Procédé selon l'une des revendications 17 à 18 dans lequel la première électrode (16) est déposée sur un support comprenant un substrat plan (12) en quartz monocristallin. 20. Procédé selon l'une des revendications 17 à 18 dans lequel la première électrode (16) est 15 déposée sur un support comprenant un miroir de Bragg (26). 21. Procédé selon l'une des revendications 17 à 20 comprenant la mise en place d'un miroir de Bragg (28) sur la couche additionnelle (22). 22. Procédé selon l'une des revendications 20 ou 21 comprenant l'enrobage du miroir de Bragg (26, 28) au moins.