Brevet FR2874213A1 — publié le 20060217

DISPOSITIF COMPRENANT UN MICROSYSTEME ENCAPSULE ET PROCEDE DE FABRICATION DESCRIPTION 5 DOMAINE TECHNIQUE L'invention se rapporte au domaine des microdispositifs, en particulier des microsystèmes électromécaniques (ou MEMS) qui sont isolés dans des cavités hermétiques. L'invention concerne notamment un procédé de fabrication d'un tel MEMS permettant d'obtenir un dispositif plan, qui peut donc être utilisé comme support de fabrication. Le procédé selon l'invention permet par ailleurs l'intégration d'autres constituants dans le dispositif. L'invention concerne également des dispositifs plans comprenant un MEMS encapsulé, tels qu'ils peuvent être fabriqués par ce procédé. ÉTAT DE LA TECHNIQUE ANTÉRIEURE Les microsystèmes électromécaniques, actionneurs ou capteurs, connaissent un développement croissant. Dans de nombreux cas, le composant actif est de préférence isolé dans une cavité hermétique au gaz et à l'humidité, de manière à, par exemple, limiter son vieillissement ou augmenter la fiabilité des mesures. Il peut être souhaitable également de contrôler l'atmosphère à l'intérieur de la cavité, par exemple par un gaz neutre permettant d'éviter toute réaction chimique, ou de sceller la cavité sous un vide plus ou moins poussé. La création de ces cavités, c'est-à-dire l'encapsulation des microsystèmes (plus connue sous la terminologie anglo-saxonne de packaging ) est ainsi une clef du développement des microdispositifs. Le packaging peut être effectué à l'échelle du dispositif, avec positionnement de la puce dans un boîtier hermétique par exemple. Cette option est cependant relativement coûteuse, et limite la miniaturisation des ensembles. Une autre possibilité en expansion concerne l'encapsulation à l'échelle du substrat. Il est ainsi possible d'utiliser un capot reporté par scellement hermétique autour du microsystème. Une autre option consiste à réaliser une cavité étanche autour du microsystème par des technologies de surface appropriées, option connue sous la dénomination de packaging couche mince . Cette technique est par exemple décrite dans les documents EP-A-O 525 764 ou EP-A-1 101 730, et schématisée dans les figures 1: un microsystème 1, ici une poutre comprenant un matériau sacrificiel 2 sur une face, est positionné sur un substrat 3, puis un matériau sacrificiel 2' est mis en place pour identifier la cavité et le canal de libération 4 (figure 1A). Ensuite, un matériau d'encapsulation 5 est déposé sur le matériau sacrificiel 2'. Les matériaux sacrificiels 2, 2' sont gravés (figure 1B) pour libérer la poutre. Enfin, un matériau 6 comme SiN est déposé pour boucher la cavité (figure 1C) et former le microdispositif 7. 10 Cependant, le passage de conducteurs 8, parfois épais (par exemple 1 pm) de l'intérieur du capot 5 vers l'extérieur peut poser des problèmes pour le recouvrement par la couche de bouchage 6: par exemple, le dépôt par PECVD ( Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition ) n'est pas très couvrant, et le passage de marche est souvent défectueux. Le principal inconvénient de cette technique reste par ailleurs la forte topologie engendrée par le capot d'encapsulation 5, 6 ainsi créé. Or il peut être intéressant de fabriquer sur le même dispositif 7 des nouveaux composants, par exemple une capacité sur un résonateur radiofréquence. Ceci nécessite une plaque plane, c'est-à-dire un dispositif 7 sans topologie, à savoir un MEMS dit enterré . EXPOSÉ DE L'INVENTION L'invention se propose de pallier les inconvénients des techniques existantes. En particulier, l'invention propose une solution pour enterrer un dispositif de type MEMS dans une cavité, notamment hermétique, éventuellement sous vide. L'invention concerne également une technologie qui permet de co-intégrer des autres composants, par exemple des bobines radiofréquence, dans un dispositif dont le microsystème est encapsulé. Sous un de ses aspects, l'invention concerne un procédé de fabrication comprenant la mise en place de matériau sacrificiel sur un substrat pour délimiter une ou plusieurs cavités, l'encapsulation du matériau sacrificiel par une couche d'épaisseur supérieure à la première hauteur, et la mise à plat, ou aplanissement, connus également sous le terme de planarisation , de cette couche d'encapsulation. En particulier, la couche d'encapsulation peut être plus d'une fois et demi plus épaisse que l'épaisseur de matériau sacrificiel, et être composée d'oxyde ou nitrure de silicium, ou d'un bicouche de ces matériaux. Avantageusement, l'aplanissement de la couche d'encapsulation est accompagné d'un amincissement, en particulier tel que le matériau sacrificiel également est planarisé et aminci. L'ensemble peut alors être recouvert d'un capot d'encapsulation sous forme de couche, avec création préalable par exemple de canaux de matériau sacrificiel pour atteindre les cavités. De façon préférée, plusieurs cavités sont formées par le matériau sacrificiel, l'une d'entre elles au moins comprenant un microsystème. Les cavités sont formées par gravure du matériau sacrificiel, qui peut être effectuée de façon successive selon la destination de la cavité. En particulier, une cavité destinée à un système cointégré peut être libérée préalablement. Il est ensuite possible d'y effectuer une croissance électrolytique, par exemple de cuivre, puis d'aplanir le composé ainsi créé, et de recouvrir l'ensemble d'une couche de passivation. La cavité comprenant le microsystème peut alors être libérée, puis rebouchée par dépôt d'une couche d'enrobage, avec éventuelle mise sous atmosphère contrôlée. Sous un autre aspect, l'invention concerne un microdispositif qui peut avoir été fabriqué par le procédé décrit précédemment. En particulier, le dispositif selon l'invention est sous forme de plaque, c'est-à-dire qu'il possède une surface plane opposée au substrat, et il comprend une cavité, dont l'atmosphère peut être contrôlée, contenant un microsystème, comme un résonateur. La cavité est délimitée sur ses parois latérales par un matériau, par exemple SiO2, formant une couche d'épaisseur homogène sur la surface du substrat. De préférence, la paroi de la cavité opposée au substrat est composée d'un matériau formant une autre couche d'épaisseur homogène. Avantageusement, la couche du matériau formant les parois de la cavité comprend également d'autres composés électroniques constituant le microdispositif, comme des bobines ou des inductances. BRÈVE DESCRIPTION DES DESSINS Les caractéristiques et avantages de l'invention seront mieux compris à la lecture de la description qui va suivre et en référence aux dessins annexés, donnés à titre illustratif et nullement limitatifs. Les figures 1A-1C, déjà décrites, représentent schématiquement un procédé de fabrication d'un résonateur encapsulé selon l'état de la technique. Les figures 2A-2E montrent un procédé de fabrication selon l'invention. Les figures 3a-3D représentent une alternative pour un mode préféré de fabrication d'un dispositif selon l'invention. La figure 4 représente un autre mode de 5 réalisation d'un dispositif selon l'invention. EXPOSÉ DÉTAILLÉ DE MODES DE RÉALISATION PARTICULIERS Le procédé selon l'invention comprend principalement l'enrobage du matériau sacrificiel destiné à former la cavité par une couche épaisse, en particulier d'oxyde, suivi d'un amincissement accompagné d'un aplanissement, par exemple par un procédé CMP, c'est-à-dire en planarisation mécano chimique. Plus précisément, le procédé selon un mode 15 de réalisation préféré de l'invention peut être décrit en rapport avec les figures 2. Un microsystème 10, notamment un microsystème électromécanique, est d'abord réalisé sur un support 12, par exemple un substrat en silicium. Comme schématisé sur la figure 2A, le MEMS 10 peut comporter une couche sacrificielle 14 en résine photosensible destinée à libérer les deux faces du MEMS; il peut s'agir d'un résonateur, par exemple radiofréquence ou BAW (c'est-à-dire filtre à onde acoustique de volume), sous forme de poutre ou autre, mais le MEMS peut comprendre tous les composés connus comme des micro capteurs ou des micro actionneurs. Le substrat 12 peut être monocouche, ou composé d'un empilement de plusieurs couches de matériaux différents; il peut comporter ou non en surface des composants électroniques (circuits intégrés, inductances). Avantageusement, il présente en surface une face plane (à l'exception des ouvertures nécessaires aux reprises de contact) ; il peut présenter des cavités aux emplacements où sont réalisés les microsystèmes 10. Le matériau sacrificiel 16 destiné à former la cavité est ensuite mis en place: figure 2B. L'une des possibilités consiste par exemple à déposer une couche de polymère, d'une première épaisseur de 5 pm par exemple, correspondant ou supérieure à la hauteur de la cavité du MEMS 10, sur l'ensemble du substrat 12, puis de la recuire, par exemple à 350 C. Un masque dur 18, par exemple en métal comme le tungstène, est déposé pour recouvrir la cavité, et la couche est gravée, pour ne laisser que le matériau sacrificiel 16 destiné à former la cavité encapsulant le MEMS 10. L'emploi du masque dur 18 n'est cependant pas obligatoire, la couche sacrificielle 16 pouvant, selon le cas, être gravée directement selon des techniques de photolithographie. La couche d'encapsulation 20 est alors mise en place. Avantageusement, l'épaisseur de la couche d'encapsulation 20 est d'environ 1,5 à 1,7 fois celle de la couche de matériau sacrificiel 16. Le dépôt peut être effectué selon les techniques classiques; il peut être uniforme sur toute l'épaisseur ou composer un bicouche. Avantageusement, la couche d'encapsulation 20 est composée de SiO2, ou de SiN, ou d'un bicouche SiN/SiO2r par exemple sur environ 8 pm. La couche d'encapsulation 20 est ensuite planarisée , par exemple par un procédé mécano chimique. Cette mise à plat est de préférence accompagnée d'un amincissement de la couche d'encapsulation 20. Avantageusement, l'amincissement est effectué jusqu'à atteindre la résine sacrificielle 16, le masque 18 étant ainsi supprimé. En variante, l'amincissement peut débuter par un polissage mécano chimique et être poursuivi par une gravure sèche. Cette étape permet en particulier d'atteindre un composé schématisé sur la figure 2C, dont l'épaisseur de matériau sacrificiel 16 est égale à la hauteur de la cavité désirée, et dont la surface opposée au substrat 12 est plane. De préférence, on procède ensuite à la formation d'un canal destiné à la gravure du matériau sacrificiel 16. A cette fin, une couche mince (par exemple 300 nm) d'un polymère, éventuellement le même que le matériau sacrificiel 16, est déposée, puis recuite à 350 C. Une lithogravure permet de ne garder que le matériau destiné au canal 22. Ce canal 22 facilite le rebouchage ultérieur de la cavité, mais n'est pas obligatoire. Une deuxième couche d'encapsulation, ou capot, 24 peut être déposée (figure 2D). Il peut s'agir du même matériau que le premier matériau 20; la couche 24 peut faire 1 à 3 pm d'épaisseur, et être composée de SiO2 ou SiN par exemple. La cavité du MEMS peut alors être 30 libérée : figure 2E. Par exemple, le capot 24 est percé, avantageusement de façon décalée par rapport à la future cavité, et les divers matériaux sacrificiels (du canal 22, de la cavité 16, et du MEMS 14) sont gravés, par plasma oxygène par exemple. La cavité 26 ainsi créée peut être mise sous atmosphère contrôlée (gaz inerte ou vide), et rebouchée par dépôt d'une couche de matériau 28 comme un métal, SiO2 ou SiN. Ces deux étapes peuvent être effectuées simultanément, le dépôt se faisant à l'atmosphère contrôlée que l'on souhaite obtenir dans la cavité. Le microdispositif 30 selon l'invention comprend ainsi un substrat 12, une couche d'un premier matériau 20 dont la surface opposée au substrat 12 est plane. Une cavité hermétique 26 comprend un MEMS 10; elle est délimitée sur le fond par le substrat 12 et/ou le MEMS 10, latéralement par des parois latérales en premier matériau 20 et au sommet par une paroi sommet composée soit du premier matériau 20, soit d'un deuxième matériau qui forme une couche 24 sur la surface plane du premier matériau 20. Le microsystème 10 est encapsulé dans le dispositif 30, et la topologie de ce dernier est nulle, c'est-à-dire que le dispositif 30 est plan. Cet aspect est conservé même si des conducteurs (voir figure 1) sont présents: ces derniers sont noyés dans la couche épaisse 20, et ne peuvent perturber la fermeture du dispositif 30, ni la mise en place du capot 24, 28. Il est ainsi possible d'utiliser le dispositif 30 en tant par exemple que substrat dans d'autres procédés microélectroniques. Par ailleurs, on peut aussi positionner d'autres composés microélectroniques dans le dispositif 30; la fabrication de ces autres structures peut être effectuée avant la libération de la cavité 26, c'est-à-dire alors que le MEMS 10 est protégé par la résine sacrificielle 14, 16. En particulier, il est possible d'intégrer d'autres structures lors la fabrication du dispositif 30; il devient ainsi possible de co-intégrer des inductances ou des pistes électriques épaisses, ce qui est particulièrement avantageux lorsque le MEMS 10 encapsulé est un dispositif radiofréquence, de type interrupteur, inductance variable ou résonateur. L'un des procédés préférés pour cette co-intégration est décrit en référence aux figures 3. Le MEMS 10' est positionné sur le substrat 12', la couche sacrificielle 16' peut être déposée de façon similaire au procédé décrit dans la figure 2. Cependant, dans le procédé décrit ici, le masque dur 18' est plural, de sorte que la gravure de la couche sacrificielle 16' laisse subsister différentes zones schématisées en figure 3A: une partie de la couche sacrificielle 16' est destinée à former la cavité à atmosphère contrôlée autour du MEMS 10', mais la résine définit également des deuxièmes cavités 32, 34 destinées par exemple à mettre en place des conducteurs épais et/ou des inductances. Il est bien sûr possible d'avoir plusieurs cavités 26' destinées à des MEMS 10' identiques ou différents. Bien que la réalisation des deuxièmes zones sacrificielles 32, 34 puisse être faite dans la même 30 couche de matériau sacrificiel 16', il est clair qu'il est possible également de procéder à plusieurs mises en place successives de façon à obtenir des régions de natures différentes. Le procédé est ensuite poursuivi comme précédemment jusque l'étape de la figure 2D par exemple: le dispositif de la figure 3B comprend un substrat 12' sur lequel est positionné un MEMS 10' dans une cavité remplie de matériau sacrificiel 16'. Sur le substrat 12' se trouve une couche de matériau d'encapsulation 20' plane traversée de zones 16', 32, 34 de matériau sacrificiel. L'ensemble est recouvert d'un capot d'encapsulation 24' dans lequel est positionné un canal 22' de matériau sacrificiel. Il est possible à ce stade d'ouvrir préférentiellement les deuxièmes cavités 32, 34, et d'en graver le matériau sacrificiel tout en maintenant la cavité du MEMS dans son état rempli de matériau sacrificiel 16'. Les deuxièmes cavités 32, 34 peuvent alors être pourvues de leurs composés électroniques (figure 3C). Par exemple, il est possible de procéder à une croissance électrolytique 36 de métal, comme le cuivre, pour former une bobine, ou de déposer un matériau afin de former un conducteur épais. Ces étapes peuvent être simultanées ou séquentielles suivant la nature du composé à mettre en place et concernent toutes les techniques usuelles de mise en place et/ou fabrication. Une fois les cavités 32, 34 pourvues de leur composé 36, 38, un nouvel aplanissement est effectué, par exemple par procédé CMP. Puis, la surface est passivée 40, en particulier sur les conducteurs 38 et les inductances 36, par exemple par dépôt de SiO2. Le procédé peut ensuite être poursuivi comme précédemment en ce qui concerne la mise sous atmosphère contrôlée de la cavité entourant le MEMS 10' : perçage de l'ensemble couche de passivation 40 et capot 24', gravure de la résine 14', 16', bouchage par dépôt d'une couche 42. Le dispositif 44 de la figure 3D présente ainsi un MEMS 30' enterré ainsi que des composés 36, 38 intégrés, et il est sous forme de plaque plane. Grâce au procédé selon l'invention, le nombre d'étapes pour fabriquer le dispositif 44 de topologie nulle a été réduit par rapport aux procédés existants. De plus, la compatibilité entre les étapes de fabrication de chacun des composants ne pose plus aucun problème, ce qui allège d'autant le procédé et ouvre des perspectives d'associations de divers MEMS. L'invention s'applique plus particulièrement aux microsystèmes électromécaniques radiofréquence, ainsi qu'aux micro-capteurs et microactionneurs. De plus, les autres alternatives classiques de ce genre de dispositif sont comprises dans l'invention. Par exemple, bien que décrit avec un microsystème 10 positionné directement sur le substrat 12, il faut comprendre que le dispositif 130 selon l'invention peut être tel que le microsystème 110 est positionné sur tout support 114 usuel, comme sur un substrat 112 qui a été préparé, par exemple revêtu préalablement d'une couche d'oxyde 124, similaire éventuellement à la couche d'encapsulation 120: voir figure 4. De même, il n'est pas nécessaire que l'amincissement débouche sur le matériau sacrificiel 116; on prévoira dans ce cas dans le matériau d'encapsulation 120 (et le masque 118 s'il existe) un canal 122 pour permettre l'élimination du matériau sacrificiel. Le masque 118 peut ne pas avoir été détruit lors de l'aplanissement de la couche d'encapsulation 120, et un trou peut le traverser pour supprimer le matériau sacrificiel 116. Ce trou pourra être rebouché après suppression du matériau sacrificiel 116 si l'on souhaite contrôler l'atmosphère de la cavité. REVENDICATIONS 1. Procédé de fabrication d'un dispositif (30, 44, 130) comprenant un microsystème (10) encapsulé 5 dans une cavité (26) d'une première hauteur comprenant: - la fourniture du microsystème (10) sur un support (12) ; la mise en place localement d'un matériau 10 sacrificiel (16) destiné à former au moins la cavité (26) ; - le dépôt d'une couche d'encapsulation (20) sur le support (12) et le matériau sacrificiel (16) ; l'aplanissement de la surface de la couche d'encapsulation (20) opposée au support (12). 2. Procédé de fabrication selon la revendication 1 comprenant en outre un amincissement de 20 la couche d'encapsulation (20). 3. Procédé de fabrication selon la revendication 2 comprenant un amincissement de la couche d'encapsulation (20) et du matériau sacrificiel (16). 4. Procédé selon la revendication 3 comprenant en outre la mise en place d'un canal (22) d'un deuxième matériau sacrificiel vers le matériau sacrificiel (16) destiné à former la cavité. 5. Procédé selon l'une des revendications 1 à 4 dans lequel la mise en place du matériau sacrificiel (16) se fait par: dépôt d'une couche de matériau sacrificiel d'une première épaisseur au moins égale à la première hauteur de la cavité (26) et gravure du matériau sacrificiel (16). 6. Procédé selon la revendication 5 comprenant la mise en place d'un masque (18) sur le 10 matériau sacrificiel (16) avant sa gravure. 7. Procédé selon l'une des revendications 1 à 6 dans lequel la couche d'encapsulation (20) est réalisée avec une épaisseur supérieure ou égale à une fois et demie l'épaisseur du matériau sacrificiel (16). 8. Procédé selon l'une des revendication 1 à 7 dans lequel la couche d'encapsulation (20) est composée de SiO2, SiN ou d'un bicouche SiO2/SiN. 9. Procédé de fabrication selon l'une des revendications 1 à 8 suivi du dépôt d'un capot d'encapsulation (24). 10. Procédé selon la revendication 9 dans lequel le capot d'encapsulation (24) est de même nature que la couche d'encapsulation (20). 11. Procédé selon l'une des revendications 30 1 à 10 dans lequel le matériau sacrificiel (16) mis en place est destiné à former en outre au moins une deuxième cavité (32, 34). 12. Procédé selon la revendication 11 suivi 5 de la gravure du matériau sacrificiel des deuxièmes cavités (32, 34). 13. Procédé selon la revendication 12 suivi de la mise en place d'éléments microélectroniques (36, 10 38) dans les deuxièmes cavités (32, 34). 14. Procédé selon la revendication 13 dans lequel la mise en place d'au moins un élément microélectronique (36) s'effectue par croissance électrolytique de métal dans une deuxième cavité (34). 15. Procédé selon l'une des revendications 13 ou 14 comprenant l'aplanissement de la surface du dispositif formé opposée au support (12). 16. Procédé selon la revendication 15 suivi du dépôt d'une couche de passivation (40). 17. Procédé selon l'une des revendications 25 1 à 16 suivi de la gravure du matériau sacrificiel (16) destiné à la cavité (26). 18. Procédé selon la revendication 17 suivi de la mise sous atmosphère contrôlée de la cavité (26). 19. Procédé selon la revendication 17 ou 18 comprenant en outre l'étape de dépôt d'un matériau (28, 42) pour boucher la cavité (26). 20. Procédé selon la revendication 18 dans lequel la mise sous atmosphère contrôlée de la cavité (26) est simultanée avec le dépôt d'un matériau (28, 42) pour boucher la cavité (26). 21. Dispositif microélectronique comprenant: - un support (12), - une couche d'un premier matériau (20) sur le support (12), la surface de la couche opposée au support étant plane, - une cavité (26) comprenant une surface de fond délimitée par le support (12), des parois latérales délimitées par le premier matériau (20) et une paroi de sommet, - un microsystème (10) dans la cavité (26). 22. Dispositif selon la revendication 21 comprenant une couche d'un deuxième matériau (24) sur la surface de la couche de premier matériau (20) opposée au support (12) et dans lequel la paroi de sommet est composée du deuxième matériau. 23. Dispositif selon l'une des revendications 21 à 22 dans lequel le premier matériau (20) comprend du SiO2 et/ou du SiN. 24. Dispositif selon l'une des revendications 21 à 23 comprenant en outre des composés électroniques (36, 38) dans la couche de premier matériau (20). 25. Dispositif selon la revendication 24 dans lequel les composés électroniques sont des inductances et/ou des conducteurs. 26. Dispositif selon l'une des revendications 21 à 25 dans lequel la cavité (26) est hermétique et sous atmosphère contrôlée. 27. Dispositif selon l'une des 15 revendications 21 à 26 dans lequel la face du dispositif opposée au support (12) est plane.