Brevet FR2864698A1 — publié le 20050701

PROCEDE ET DISPOSITIF DE FABRICATION D'UN AFFICHAGE A ECRAN PLAT La présente invention concerne un dispositif d'affichage à écran plat, plus particulièrement elle concerne un procédé et un dispositif, pour fabriquer un dispositif d'affichage à écran plat. Ces dernières aimées, l'importance des dispositifs d'affichage dans la présentation d'une information visuelle a augmenté. Dans le passé, un tube à rayons cathodiques a été largement utilisé. Cependant, un tube à rayons cathodiques est lourd, gros et présente un profil volumineux. Un dispositif d'affichage à cristaux liquides (LCD), un dispositif d'affichage à émission de champ (FED), un écran d'affichage à plasma (PDP) et un dispositif à électroluminescence (EL) sont des dispositifs d'affichage à écran plat, disponibles sur le marché et ayant un profil mince. Le dispositif d'affichage à cristaux liquides est léger et son rendement de production en grande série est en amélioration permanente. Ainsi, l'affichage à cristaux liquides a remplacé rapidement le tube à rayons cathodiques dans de nombreux domaines. Un dispositif d'affichage à cristaux liquides de type à matrice active, qui commande des cellules à cristal liquide en utilisant des transistors à couche mince (appelés ci-après des "TFT"), présente une excellente qualité d'image et une faible consommation de puissance. Le dispositif d'affichage à cristaux liquides de type à matrice active s'est rapidement développé pour atteindre une plus grande taille et une plus grande résolution. En outre, la technologie de production en masse a augmenté le rendement de production d'un tel affichage à cristal liquide. En se référant à la FIG. 1, le dispositif d'affichage à cristaux liquides de type à matrice active comprend un substrat à matrice de filtre couleur 22 et un substrat à matrice TFT 23. Une plaque de polarisation 17 est fixée sur la surface inférieure du substrat à matrice TFT 23. Une couche de cristal liquide 15 est positionnée entre le substrat à matrice de filtre couleur 22 et le substrat à matrice TFT 23. Le dispositif d'affichage à cristaux liquides représenté sur la figure 1 représente uniquement une partie d'un dispositif d'affichage à cristaux liquides de type à matrice active. Dans le substrat à matrice de filtre couleur 22, un filtre couleur 13 et une électrode commune 14 sont formés sur la surface inférieure d'un substrat supérieur en verre 12. Une plaque de polarisation 11 est fixée sur la surface supérieure du substrat supérieur en verre 12. Le filtre couleur 13 comprend des couches de filtre de couleurs rouge R, verte G et bleue B qui transmettent les lumières d'une largeur de bande de longueur d'onde particulière pour afficher des couleurs leurs correspondant, R:\Brevets\23200\23279.doc - 3 décembre 2004 - 1/14 respectivement. Une matrice noire (non représentée) est formée entre les filtres couleur 13 adjacents les uns aux autres. Dans le substrat à matrice TFT 23, les lignes de données 19 et les lignes de grille 18 se croisent les unes les autres. Les TFT 20 sont respectivement formés aux croisements des lignes de données 19 et des lignes de grille 18. En plus, une électrode de pixel 21 est formée en une région de cellules définie entre les lignes de données 19 et les lignes de grille 18. La couche de cristal liquide 15 commande la quantité de lumière à transmettre à travers le substrat à matrice TFT 23 selon la quantité de champ électrique appliqué à travers la couche à cristal liquide 15. Les plaques polarisantes 11 et 17 transmettent de la lumière polarisée dans une direction, et leurs directions de polarisation se croisent les unes les autres. La lumière est transmise par les plaques de polarisation 11 et 17, via la couche à cristal liquide 15, lorsque ce cristal liquide 15 est en mode TN à 90 . Un film d'alignement (non représenté) est formé sur les surfaces opposées du substrat de matrice de filtre couleur 22 et du substrat de matrice TFT 23. Le procédé de fabrication, servant à produire l'affichage à cristaux liquides de type à matrice active, comprend un processus de nettoyage de substrat, un processus de mise en motif de substrat, un processus de formation d'alignement/frottement, un processus de liaison au substrat/injection de cristal liquide, un processus de montage, un processus d'inspection, un processus de réparation et analogue. Le processus de nettoyage de substrat supprime les impuretés qui contaminent la surface du substrat de l'affichage à cristal liquide. Le processus de mise en motif de substrat est subdivisé en un processus de mise en motif du substrat de filtre couleur et un processus de mise en motif du substrat de matrice TFT. Le processus de formation d'alignement/frottement de film consiste à revêtir par un film d'alignement chacun des substrats de filtre couleur et de matrice TFT et à frotter le film d'alignement avec une roue de frottement. Le processus de liaison au substrat/injection de cristal liquide lie le substrat de filtre couleur au substrat de matrice TFT par utilisation d'un produit d'étanchéité et injecte un cristal liquide et des éléments d'espacement par un trou d'injection de cristal liquide, puis ferme hermétiquement le trou d'injection de cristal liquide. Le processus de montage effectue une connexion d'un boîtier support de bande (TCP) à une partie de piste de connexion du substrat. Le TCP comprend des circuits intégrés, tel qu'un circuit intégré de commande de grille et un circuit intégré de commande de données. Le circuit intégré de commande peut également être directement monté sur le substrat par une technique puce-sur-verre (COG), en plus d'une technique à liaison automatisée de ruban (TAB) en utilisant le TCP. Le processus d'inspection comprend une inspection électrique, conduite après la formation des lignes de signal, tels que des lignes de données, des lignes de grille et R:\Brevets\23200\23279.doc - 3 décembre 2004 - 2/14 les électrodes de pixel sur le substrat à matrice TFT, et une inspection électrique additionnelle et une inspection à l'oeil nu, conduites après l'exécution du processus de liaison au substrat/injection de cristal liquide. Le processus de réparation opère une restauration d'un substrat considéré comme étant réparable, par le processus d'inspection. Le substrat qui est considéré comme n'étant pas réparable par le processus d'instruction est éliminé. Dans le procédé de fabrication du dispositif d'affichage à écran plat incluant le dispositif d'affichage à cristal liquide, un matériau en film mince, déposé sur le substrat, est mis en motif par un processus photolithographique. De façon générale, le processus photolithographique comprend une série de photo-processus, incluant des processus de revêtement par une résine photosensible, un alignement de masque, une exposition, un développement et un nettoyage. Cependant, des problèmes se posent dans le processus de photolithographie, en ce qu'il demande beaucoup de temps, qu'il entraîne un gaspillage de résine photosensible et de solution de pelage, et demande l'utilisation d'un équipement coûteux, tel qu'un équipement d'exposition. En plus, il existe des problèmes de présence de défauts dans le motif. Ainsi, la présente invention concerne un dispositif et un appareil de fabrication d'un dispositif d'affichage à écran plat, qui élimine pratiquement un ou plusieurs des problèmes venant des limitations et des inconvénients de l'art antérieur. Ainsi, un but de la présente invention est de fournir un dispositif et un appareil de fabrication d'un dispositif d'affichage à écran plat capable de réduire les temps de traitement et de minimiser les défauts des motifs. En particulier, l'invention concerne un procédé de fabrication d'un dispositif d'affichage à écran plat, comprenant: l'application d'un revêtement de réserve de gravure sur un film mince; la formation d'un moule souple ayant une gorge et une saillie pour la mise en motif du film mince; le traitement d'une surface d'extrémité de la saillie; l'application du moule souple sur la réserve de gravure pour former un motif de réserve de gravure; la séparation du moule souple du motif de réserve de gravure; et la gravure du film mince, en utilisant le motif de réserve de gravure, pour former un motif de film mince. Selon une caractéristique, le traitement du moule souple comprend: l'exposition à la lumière de la surface d'extrémité de la saillie; la fourniture d'ozone 03 sur la surface d'extrémité de la saillie exposée à la lumière; et R:\Brevets\23200\23279. doc - 3 décembre 2004 - 3/14 l'exposition de la surface d'extrémité de la saillie alimentée en ozone à un matériau d'auto-assemblage. Selon une caractéristique, la surface d'extrémité de la saillie présente une parmi une propriété hydrophile et une propriété hydrophobe, selon un groupe de 5 terminaison du matériau d'auto-assemblage. Selon un mode de réalisation, le groupe de terminaison comprend au moins l'un parmi -OH, -COOH et COH, et la surface d'extrémité de la surface en saillie présente une propriété hydrophile. Selon un mode de réalisation, la surface d'extrémité de la surface en l0 saillie présente une propriété hydrophobe et le groupe de terminaison comprend au moins l'un parmi Cl, -F, -I et CH3. Selon les applications, le dispositif d'affichage à écran plat comprend l'un quelconque parmi un dispositif d'affichage à cristaux liquides (LCD), un dispositif d'affichage à émission de champ (FED), un écran d'affichage à plasma (PDP) et un dispositif à électroluminescence (EL). Selon une caractéristique, le procédé comprend en outre la cuisson de la réserve de gravure pendant l'application du moule souple sur la réserve de gravure, afin de former le motif de réserve de gravure. Selon une caractéristique, le procédé comprend en outre le pelage du motif de réserve de gravure, après avoir procédé à la gravure du motif de film mince. Selon une caractéristique, le traitement de la surface d'extrémité produit une couche de répulsion sur la surface d'extrémité ayant une force répulsive contre la réserve de gravure. Selon une caractéristique, le formage d'un moule souple comprend l'utilisation 25 d'un parmi le polydiméthylsiloxane (DPMS), le polyuréthanne et une résine novolaque réticulée. Selon une caractéristique, le procédé comprend en outre: le nettoyage du moule souple avec des rayons ultraviolets UV et de l'ozone (03) ; et la réutilisation du moule souple pour un processus de mise en motif d'un autre film mince. L'invention concerne aussi un appareil de fabrication d'un dispositif d'affichage à écran plat, comprenant: des moyens pour appliquer un revêtement de réserve de gravure sur un film 35 mince; un moule souple ayant une gorge et une saillie pour la mise en motif du film mince, dans lequel une surface d'extrémité de la saillie a subi un processus de traitement de surface; R.\Brevets\23200\23279.doc - 3 décembre 2004 - 4/14 des moyens pour appliquer le moule souple à la réserve de gravure, afin de former un motif de réserve de gravure; des moyens pour séparer le moule souple du motif de réserve de gravure; des moyens pour graver le film mince, en utilisant le motif de réserve de 5 gravure pour former un motif de film mince. Selon une caractéristique, la surface d'extrémité comprend une couche de répulsion présentant une force répulsive contre la réserve de gravure. Selon une caractéristique, la couche répulsive du moule souple a une épaisseur d'environ plusieurs dizaines d'angstrôms (À). Selon un mode de réalisation, la couche de répulsion du moule souple présente une propriété hydrophobe et la réserve de gravure présente une propriété hydrophile. Selon un mode de réalisation, la couche de répulsion du moule souple comprend au moins un parmi Cl, -F, -I et CH3. Selon un mode de réalisation, la couche répulsive du moule souple présente 15 une propriété hydrophile et la réserve de gravure présente une propriété hydrophobe. Selon un mode de réalisation., la couche de répulsion du moule souple comprend au moins un parmi -OH, -COOH et COH. Selon une caractéristique, le moule souple comprend une gorge pouvant être remplie par une réserve de gravure et une saillie présentant la surface d'extrémité. Selon les applications, le dispositif d'affichage à écran plat comprend l'un quelconque parmi un dispositif d'affichage à cristaux liquides (LCD), un dispositif d'affichage à émission de champ (FED), un écran d'affichage à plasma (PDP) et un dispositif à électroluminescence (EL). Selon une caractéristique, l'appareil comprend en outre: des moyens pour nettoyer le moule souple avec des rayons ultraviolets W et de l'ozone (03) ; et des moyens pour réutiliser le moule souple pour un processus de mise en motif d'un autre film mince. Il est évident qu'à la fois la description générale précédente et la description détaillée ci-après sont données à titre d'exemple et d'explication et sont entendues comme fournissant une explication supplémentaire au sujet de l'invention tel qu'indiqué dans les revendications. Des caractéristiques et des avantages additionnels de l'invention vont être indiqués ci-après dans la description allant suivre et vont en partie être évidents à la lecture de cette description, ou peuvent être acquis par la mis en pratique de l'invention. Les buts et d'autres avantages de l'invention vont être réalisés et atteints par la structure particulièrement mise en évidence dans la description écrite et ses revendications ainsi que les dessins annexés. R:\Brevets\23200\23279.doc - 3 décembre 2004 - 5/14 Ces buts ainsi que d'autres buts de l'invention vont être évidents à la lecture de la description détaillée ci-après des modes de réalisation de la présente invention en référence aux dessins annexés. La figure 1 est une vue en perspective, illustrant un dispositif d'affichage à cristaux liquides du type à matrice active. La figure 2 est une vue en coupe, illustrant séquentiellement un procédé de fabrication d'un dispositif d'affichage à écran plat, selon un mode de réalisation de la présente invention. La figure 3 est une vue en coupe, illustrant un mouvement d'une solution de réserve de gravure lorsque le moule souple représenté sur la figure 2 est en contact avec le substrat. Les figures 4A à 4C sont des vues en coupe, représentant schématiquement divers types d'un motif de réserve de gravure. La figure 5 est une vue en coupe, représentant un procédé de traitement de surface utilisant le moule souple représenté sur la figure 2. Il va à présent être fait référence en détail aux modes de réalisation préférés de la présente invention, dont des exemples sont illustrés dans les dessins annexés. Ci-après, les modes de réalisation préférés de la présente invention vont être décrits en détail en référence aux figures 2 à 5. En se référant à la figure 2, un procédé de fabrication d'un dispositif d'affichage à écran plat selon un mode de réalisation de la présente invention comprend un procédé de revêtement par une réserve de gravure, dans lequel une solution de réserve de gravure 33a est appliquée en revêtement sur un substrat en verre 31 comprenant un film mince 32 formé sur lui, un processus de mise en motif de la solution de réserve de gravure 33a en utilisant un moule souple 34, un processus de gravure pour mettre en motif le film mince 32a et un processus de pelage pour enlever un reste du motif de réserve de gravure; et un processus d'inspection. Le film mince 32a formé sur le substrat en verre 31 est un matériau typique utilisé dans une matrice à pixel du dispositif d'affichage à écran plat, tel qu'un motif métallique, un motif organique et un motif non organique formés sur le substrat en verre 31 par un processus de revêtement ou un processus de déposition. La solution de réserve de gravure 33a présente des caractéristiques de résistance à la chaleur et de résistance aux produits chimiques, par exemple, une solution dans laquelle une résine novolaque est ajoutée pour environ 5 % en poids à 30 % en poids dans une solution d'éthanol. La solution de réserve de gravure 33a est appliquée en revêtement sur le film mince 32a, par un processus de revêtement ou enduction, par exemple en utilisant une pulvérisation au pistolet et un revêtement centrifuge. R: \Brevets\ 23200\23279.doc - 3 décembre 2004 - 6/14 Le moule souple 34 est réalisé en matériau du type caoutchouc, ayant une forte élasticité, par exemple du polydiméthylsiloxane (DPMS), polyuréthanne et de la résine novolaque réticulée. Le moule souple 34 présente une gorge 34a, formée en son sein et correspondant à un motif souhaité qui doit rester sur le substrat en verre 31, et une saillie 34a. Le moule souple 34 est aligné sur la solution de réserve de gravure 33a et est ensuite appliqué à la solution de réserve de gravure 33a. Par exemple, le moule souple 34 applique une pression sur le film mince 32a du fait de son poids propre. Au même moment, le substrat en verre 31 est cuit, pendant une durée d'environ 10 minutes à 2 heures, à une température d'environ moins que 130 C. Le solution de réserve de gravure 33a pénètre dans la gorge 34a du moule souple 34, tel que représenté sur la figure 3, sous l'effet de la force capillaire exercée par la pression intervenant entre le moule souple 34 et le substrat en verre 31 et par la force de répulsion exercée entre le moule souple 34 et la solution de réserve de gravure 33a. En résultat, le motif de réserve de gravure 33b est formé sur le film mince 32a comme un motif transféré en négatif. Ensuite, le moule souple 34 est séparé du substrat en verre 31, et ensuite un processus de gravure, utilisant un dispositif de gravure humide ou un dispositif de gravure sèche, est réalisé. A ce moment, le motif de réserve de gravure 33b agit comme un masque. Ainsi, seule la partie du film mince 32a placée sous le motif de réserve de gravure 33b est laissée sur le substrat en verre 31 et l'autre partie du film mince 32a est enlevée. Ensuite, le motif de réserve de gravure 33b est enlevé par un processus de pelage. Le motif de film mince 32b est jugé par mise en court-circuit ou ouverture par une inspection électrique et optique du motif en film mince 32b. Le moule souple 34, après avoir été séparé du substrat en verre 31, est nettoyé avec des rayons ultraviolets UV et d'ozone (03), puis réutilisé pour le processus de mise en motif d'un autre film mince 32a. Les figures 4A à 4C sont des vues en coupe représentant schématiquement divers types de motifs de réserve de gravure. Dans le processus de mise en motif du matériau de réserve de gravure, cependant, un film résiduel indésiré peut subsister le long du motif de réserve de gravure 33b sur le film mince 32a. Dans ce cas, il y a un défaut du motif dans le film mince 32a. Par exemple, si la force capillaire et la force répulsive exercées entre le moule souple 34 et la solution de réserve de gravure 32a deviennent fortes, alors le mouvement de la solution de réserve de gravure 33a devient progressif, résultant dans le motif de réserve de gravure 33b produit à la forme souhaitée, tel que représenté sur les figures 4A à 4B. Au contraire, si la force répulsive entre le moule souple 34 et la solution de réserve de gravure 33a devient faible, alors le mouvement de la solution de réserve de gravure 33a n'est pas progressif. Ainsi, tel que représenté sur la R:\Brevets\23200\23279.doc - 3 décembre 2004 - 7/14 figure 4C, un film résiduel 33c indésiré est formé en plus de la solution de réserve de gravure 33a et laissé sur le film mince 32a. Selon le procédé de fabrication, le dispositif d'affichage à écran plat dans les modes de réalisation de la présente invention, une surface du moule souple 34 opposée au matériau de réserve de gravure présente une grande force de répulsion contre la solution de réserve de gravure 33a en exécutant un processus de traitement de surface sur le moule souple 34. Le processus de traitement de surface fait que la force répulsive intervenant entre le moule souple 34 et la solution de réserve de gravure 33a est élevée de sorte que la solution de réserve de gravure 33a est l0 introduite progressivement dans la gorge 34a du moule souple 34 lorsque le moule souple 34 est appliqué sur la solution de réserve de gravure 33a. La figure 5 représente un procédé de traitement de surface séquentiel utilisant le moule souple 34 selon un mode de réalisation de la présente invention. Tel que représenté sur la figure 5, un photomasque 36 est aligné sur la surface du moule souple 34b qui va être opposée à une réserve de gravure. Tel que décrit ci-dessus, le moule souple 34 comprend un matériau à base de caoutchouc ayant une haute élasticité, par exemple, du polydiméthylsiloxane (DPMS), du polyuréthanne et une résine novolaque réticulée, dans laquelle une gorge 34a et une saillie 34b sont formées sur la surface du moule souple 34 qui va être opposée à la réserve de gravure. Lorsque la surface d'extrémité de la saillie 34b du moule souple 34 entre en contact avec le film mince 32a, la solution de réserve de gravure 33a se déplace pour remplir la gorge 34a. Le photomasque 36 présente une partie de transmission de la lumière qui expose à la lumière uniquement la surface d'extrémité de la saillie 34b du moule souple 34. Lorsque le photomasque 36 est aligné, un rayonnement ultraviolet est émis sur la surface d'extrémité de la saillie 34b du moule souple 34. Le rayon ultraviolet présente une longueur d'onde de 180 nm à 300 nm. Ensuite, un radical CH3 est vaporisé depuis la surface d'extrémité de la saillie 34b du moule souple 34 puis la phase de la surface d'extrémité 34b de la saillie est convertie en une couche d'oxyde de silicium (SiOx). Si de l'ozone (03) est fourni durant un tel processus d'exposition, la surface d'extrémité de la saillie 34b a temporairement une propriété hydrophile (pendant environ 2 heures) même si le moule souple 34 est réalisé en un matériau ultra-hydrophobe. Ensuite, un processus est exécuté pour faire réagir des matériaux d'autoassemblage (SAM) d'un état de vapeur ou d'un état liquide sur la surface d'extrémité de la saillie 34b du moule souple 34 converti en couche d'oxyde de silicium. Le SAM rend ultra-hydrophobe ou ultra-hydrophile la surface d'extrémité de la saillie 34b. Un exemple du SAM comprend de la vapeur de chlorure de silyl ayant la formule chimique 1 suivante. R:\Brevets\23200\23279.doc - 3 décembre 2004 - 8/14 Formule 1 CL3SiR-X Dans la formule 1, R représente un groupe alkyl, et X représente un groupe de terminaison. La surface d'extrémité de la saillie 34b dans le moule souple 34 devient ultra-hydrophobe ou ultra-hydrophile selon le groupe de terminaison X. Par exemple, lorsque le groupe de terminaison X est un élément chimique d'un radical alkyl, Cl, -F, -I ou CH3, la surface de la saillie 34b présente une propriété ultra-hydrophobe permanente. Au contraire, lorsque le groupe de terminaison X est un élément chimique d'un radical carboxyle -OH, -COOH ou COH, la surface d'extrémité de la saillie 34b présente une propriété ultra-hydrophile permanente. Une couche de répulsion 35 qui a été ultra-hydrophobe ou ultra-hydrophile sur la surface d'extrémité de la saillie 34b est mise en état de présenter une force de répulsion élevée face au matériau de réserve de gravure. Si la solution de réserve de gravure 33a présente une propriété hydrophile, alors la couche de répulsion 35 devrait être hydrophobe, et si la solution de réserve de gravure 33a présente une propriété hydrophobe, la couche de répulsion 35 devrait être hydrophile. La couche de répulsion 35 présente une épaisseur d'environ quelques dizaines d'angstrôms (Â). Le procédé et l'appareil de fabrication du dispositif d'affichage à écran plat selon des modes de réalisation de la présente invention sont applicables à un procédé de mise en motif d'une couche d'électrode, d'une couche organique et d'une couche non-organique d'un dispositif d'affichage à écran plat, tel qu'un dispositif d'affichage à cristaux liquides (LCD), un dispositif d'affichage à émission de champ (FED), un écran d'affichage à plasma (PDP) et un dispositif à électroluminescence (EL). Tel que décrit ci-dessus, le procédé et l'appareil de fabrication du dispositif d'affichage à écran plat selon des modes de réalisation de la présente invention sont capables de mettre en motif le film mince du dispositif d'affichage à écran plat sans avoir à utiliser de processus photographique par utilisation du moule souple et d'une réserve de gravure, réduisant de cette manière le temps de traitement. La force de répulsion entre le moule souple et la photoréserve est élevée grâce au processus de traitement de surface du moule souple, permettant de minimiser les défauts des motifs. Bien que la présente invention ait été explicitée par les modes de réalisation représentés dans les dessins décrits ci-dessus, il devrait être évident à l'homme de l'art ordinaire que l'invention n'est pas limitée aux modes de réalisation, mais que diverses variantes ou modifications de celle-ci sont réalisables sans quitter l'esprit de l'invention. De manière correspondante, le champ de l'invention devra être déterminé uniquement par les revendications annexées et leurs équivalents. R:\Brevets\23200\23279.doc - 3 décembre 2004 - 9/14 REVENDICATIONS 1. Procédé de fabrication d'un dispositif d'affichage à écran plat, comprenant: l'application d'un revêtement de réserve de gravure (33a) sur un film mince (32) ; la formation d'un moule souple (34) ayant une gorge (34a) et une saillie (34b) pour la mise en motif du film mince (32) ; le traitement d'une surface d'extrémité de la saillie; l'application du moule souple (34) sur la réserve de gravure (33a) pour former un motif de réserve de gravure; la séparation du moule souple (34) du motif de réserve de gravure; et la gravure du film mince (32), en utilisant le motif de réserve de gravure (33b), pour former un motif de film mince (32b). 2. Procédé selon la revendication 1, dans lequel le traitement du moule souple (34) comprend: l'exposition à la lumière de la surface d'extrémité de la saillie (34b) ; la fourniture d'ozone 03 sur la surface d'extrémité de la saillie (34b) exposée à la lumière; et l'exposition de la surface d'extrémité de la saillie (34b) alimentée en ozone à un matériau d'autoassemblage. 3. Procédé selon la revendication 2, dans lequel la surface d'extrémité de la saillie (34b) présente une parmi une propriété hydrophile et une propriété hydrophobe, selon un groupe de terminaison du matériau d'autoassemblage. 4. Procédé selon la revendication 3, dans lequel le groupe de terminaison comprend au moins l'un parmi -OH, -COOH et COH, et la surface d'extrémité de la surface en saillie (34b) présente une propriété hydrophile. 5. Procédé selon la revendication 3, dans lequel la surface d'extrémité de la surface en saillie (34b) présente une propriété hydrophobe et le groupe de 30 terminaison comprend au moins l'un parmi Cl, -F, -I et CH3. 6. Procédé selon la revendication 1, dans lequel le dispositif d'affichage à écran plat comprend l'un quelconque parmi un dispositif d'affichage à cristaux liquides (LCD), un dispositif d'affichage à émission de champ (FED), un écran d'affichage à plasma (PDP) et un dispositif à électroluminescence (EL). 7. Procédé selon la revendication 1, comprenant en outre la cuisson de la réserve de gravure (33a) pendant l'application du moule souple (34) sur la réserve de gravure (33a), afin de former le motif de réserve de gravure (33b). R:'Brevets\23200\23279.doc - 3 décembre 2004 - 10/14 8. Procédé selon la revendication 1, comprenant en outre le pelage du motif de réserve de gravure (33b), après avoir procédé à la gravure du motif de film mince (32). 9. Procédé selon la revendication 1, dans lequel le traitement de la surface d'extrémité produit une couche de répulsion sur la surface d'extrémité ayant une force répulsive contre la réserve de gravure (33a). 10. Procédé selon la revendication 1, dans lequel le formage d'un moule souple (34) comprend l'utilisation d'un parmi le polydiméthylsiloxane (DPMS), le polyuréthanne et une résine novolaque réticulée. 11. Procédé selon la revendication 1, comprenant en outre: le nettoyage du moule souple (34) avec des rayons ultraviolets UV et de l'ozone (03) ; et la réutilisation du moule souple (34) pour un processus de mise en motif d'un autre film mince (32). 12. Appareil de fabrication d'un dispositif d'affichage à écran plat, comprenant: des moyens pour appliquer un revêtement de réserve de gravure (33a) sur un film mince (32) ; un moule souple (34) ayant une gorge (34a) et une saillie (34b) pour la mise en 20 motif du film mince (32), dans lequel une surface d'extrémité de la saillie (34b) a subi un processus de traitement de surface; et des moyens pour appliquer le moule souple (34) à la réserve de gravure (33a), afin de former un motif de réserve de gravure (33b) ; des moyens pour séparer le moule souple (34) du motif de réserve de 25 gravure (33b) ; des moyens pour graver le film mince (32), en utilisant le motif de réserve de gravure (33b) pour former un motif de film mince (32b). 13. Appareil selon la revendication 12, dans lequel la surface d'extrémité comprend une couche de répulsion présentant une force répulsive contre la réserve 30 de gravure (33a). 14. Appareil selon la revendication 13, dans lequel la couche répulsive du moule souple (34) a une épaisseur d'environ plusieurs dizaines d'angstrdms (À). 15. Appareil selon la revendication 13, dans lequel la couche de répulsion du moule souple (34) présente une propriété hydrophobe et la réserve de gravure (33a) présente une propriété hydrophile. 16. Appareil selon la revendication 15, dans lequel la couche de répulsion du moule souple (34) comprend au moins un parmi Cl, -F, -I et CH3. R \Brevets\23200\23279. doc - 3 décembre 2004 - 11/14 17. Appareil selon la revendication 13, dans lequel la couche répulsive du moule souple (34) présente une propriété hydrophile et la réserve de gravure (33a) présente une propriété hydrophobe. 18. Appareil selon la revendication 17, dans lequel la couche de répulsion du moule souple (34) comprend au moins un parmi -OH, -COOH et COH. 19. Appareil selon la revendication 12, dans lequel le moule souple (34) comprend une gorge (34a) pouvant être remplie par une réserve de gravure (33a) et une saillie (34b) présentant la surface d'extrémité. 20. Appareil selon la revendication 12, dans lequel le dispositif d'affichage à écran plat comprend l'un quelconque parmi un dispositif d'affichage à cristaux liquides (LCD), un dispositif d'affichage à émission de champ (FED), un écran d'affichage à plasma (PDP) et un dispositif à électroluminescence (EL). 21. Appareil selon la revendication 12, comprenant en outre: des moyens pour nettoyer le moule souple (34) avec des rayons ultraviolets UV 15 et de l'ozone (03) ; et des moyens pour réutiliser le moule souple (34) pour un processus de mise en motif d'un autre film mince (32). R: \Brevets\23200\23279doc - 3 décembre 2004 - 12/14