Brevet FR2871172A1 — publié le 20051209

Domaine technique et art antérieur L'invention concerne le domaine des techniques d'épitaxies, en particulier en vue de la réalisation de couches de matériaux tels que le nitrure de gallium (GaN), le nitrure d'aluminium (AIN), le nitrure d'indium (InN) ou leurs composés. Elle concerne aussi le domaine des circuits radio-fréquences et hyperfréquences à base de matériaux comme le GaN, AIN et leurs composés. Il n'existe pas encore de méthode de tirage de lingot similaire à celle du silicium pour obtenir des substrats monocristallin de GaN ou d'autres nitrures. Ces matériaux sont obtenus majoritairement par formation d'un film mince par hétéro-épitaxie sur des substrats essentiellement de saphir (AI2O3) mais également dans quelques cas de carbure de silicium (SiC) ou de silicium (Si). Bien que l'utilisation sous forme de film mince pour les nitrures soit la plus répandue, on peut également trouver du GaN monocristallin sous forme de matériau massif. Ces substrats sont obtenus par hétéro-épitaxie d'une couche épaisse de GaN (typiquement de l'épaisseur du substrat) sur un substrat de nature différente, comme par exemple de l'arséniure de gallium (111) (GaAs) avec un motif (patterning) particulier à la surface, substrat qui est par la suite supprimé après épitaxie tel que décrit dans le brevet US 6 413 627. Cette approche permet d'obtenir des substrats de relativement bonne qualité mais en petite quantité (non industrielle) et à un coût assez élevé. Les matériaux à grand gap du type nitrure (GaN, AIN, InN et leurs composés) sont le sujet de projets de recherche et de développement très nombreux et très actifs. Les applications pour ces matériaux sont assez diverses. Une des propriétés importantes de ces matériaux est leur grand gap direct, qui leur donne la propriété d'émettre de la lumière bleue, ou de la lumière violette et ultra-violette lorsqu'ils sont composés avec d'autres espèces (nitrure de gallium-indium (InGaN) 2871172 2 par exemple) et utilisés dans des structures de composants adaptées (laser UV, LED bleue, LED blanche, etc...). Grâce à cette propriété de grand gap direct, les matériaux de la famille des nitrures (tels que GaN, AIN, InN1 etc...) s'appliquent à un grand nombre d'applications optoélectroniques. Mais, cette propriété de grand gap donne à cette famille de matériaux d'autres propriétés très intéressantes, pour les applications haute fréquence de puissance par exemple. Parmi ces matériaux, le GaN présente des caractéristiques, comme notamment le gap énergétique, le champ de claquage et la vitesse de saturation des porteurs de charge, très intéressantes du point de vue des applications haute-fréquences de puissance. Le SiC a également des propriétés très intéressantes, l'atout principal du SiC par rapport au GaN étant sa conductivité thermique, qui est plus de 4 fois supérieure à celle du GaN. Ce critère est important pour le fonctionnement de composants de puissance, puisque l'échauffement naturel du composant doit être évacué au maximum pour ne pas influencer son fonctionnement. Les nitrures, et notamment le GaN et ses composés sont obtenus par hétéroépitaxie sur un matériau étranger. Les principaux matériaux utilisés comme substrat ou support d'épitaxie de film mince sont le saphir (AI2O3), le carbure de silicium (SiC) et le silicium (111) (Si). Ces trois matériaux sont utilisés pour par exemple réaliser des couches simples de GaN ou des empilements plus complexes d'hétéro-structures et de superstructures pour les diodes électroluminescentes, les lasers, les composants radio et hyper-fréquences, etc... Le silicium est très avantageux du fait de sa facilité d'obtention, de son faible coût et de la maîtrise complète des technologies de microfabrication pour ce matériau. Mais, la qualité des couches de GaN obtenues sur du Si (111) 30 souffre de la différence de paramètre de maille et de la différence des coefficients de dilatation thermique entre le silicium et le GaN. Comme le silicium, le SiC a un coefficient de dilatation thermique inférieur à celui du GaN. Le film de GaN épitaxié sur du carbure de silicium est donc en tension lorsqu'on diminue la température après l'étape 2871172 3 d'épitaxie réalisée à haute température. Mais cet effet est plus marqué sur le silicium puisque la différence de coefficient de dilatation thermique est plus importante entre le Si et le GaN qu'entre le SiC et le GaN. La couche en tension de GaN a donc tendance à voir sa défectivité augmenter sur le silicium et, même, à se fissurer pendant le refroidissement. Pour cette raison, mais aussi du fait de la structure cristalline hexagonale du SiC et de son paramètre de maille, proche de celui du GaN, on obtient sur le SiC des couches de meilleure qualité que sur le silicium. Le saphir permet d'obtenir des couches épitaxiées de bonne qualité car, contrairement au silicium et au SiC, il possède un coefficient de dilatation thermique plus élevé que celui du GaN, ce qui permet de maintenir la couche de GaN épitaxiée en compression lorsqu'on descend la température après l'épitaxie. Cet état de compression est le meilleur moyen de limiter l'apparition de défauts dans la couche de GaN et, en particulier, la fissuration du film comme dans le cas du SiC. Cette fissuration possible étant liée à une épaisseur limite du GaN, l'utilisation du saphir permet donc d'obtenir des couches plus épaisses sans fissuration ou apparition de défauts. Or, l'épaississement de la couche permet de diminuer partiellement la défectivité (par annihilation entre défauts) induite par la différence de paramètre de maille cristalline entre le matériau épitaxié et le substrat. On arrive ainsi à obtenir des couches épitaxiées sur saphir de même qualité cristalline que sur le SiC. Actuellement l'essentiel des hétéro-épitaxies de GaN sont réalisées sur des substrats de SiC ou de saphir, quelle que soit l'application visée. Un grand nombre de techniques avancées d'épitaxies, comme l'utilisation de couche tampon (buffer layer) plus ou moins complexe, l'épitaxie par croissance latérale (Epitaxial Lateral OverGrowth) ou encore la pendéoépitaxie, ont permis d'obtenir des couches avec de moins en moins de défauts et des composants de plus en plus complexes et performants, comme par exemple les lasers à super-réseau quantique ou les transistors à électrons de haute mobilité (HEMT). La technique donnant les meilleures couches de GaN est bien-sûr l'homoépitaxie, c'est-à-dire l'épitaxie de GaN sur un substrat GaN. Ces substrats de GaN sont pour l'instant eux aussi obtenus à partir d'hétéro2871172 4 épitaxie et de nombreux défauts cristallins sont présents dans ces substrats. Néanmoins, leur densité est nettement inférieure à celle d'un film mince obtenu par hétéro-épitaxie (de 100 à 1000 fois moins importante pour les dislocations par exemple). Cela permet d'obtenir des couches d'excellente qualité mais avec certaines limitations comme la taille des substrats réalisés qui est pour l'instant inférieure à 50,8 mm (i.e. 2 pouces) ou leur nombre disponible sur le marché qui est trop faible pour assurer un approvisionnement suffisant. De plus, contrairement aux substrats de SiC, les substrats de GaN disponibles sont uniquement de type conducteur. Techniquement parlant, il a été possible de réaliser toutes sortes de composants, aussi bien sur silicium (111) que sur saphir ou SiC. Toutefois, deux critères sont à prendre en compte si l'on désire utiliser la structure épitaxiée obtenue pour des applications haute-fréquences de puissance: - l'évacuation thermique assurée par le substrat pour limiter l'auto- échauffement du composant et assurer la stabilité de son fonctionnement avec de bonnes performances, et - le caractère isolant du support du circuit, pour permettre la réalisation de composants passifs (capacité, inductance, etc...) et de lignes de transmission (guide pour l'onde électrique) avec de bonnes caractéristiques et un minimum de perte de signal. Le saphir est naturellement isolant et, comme déjà exposé ci-dessus, permet d'obtenir des couches de GaN et de ses composés de bonne qualité, mais sa conduction thermique limite l'évacuation de la chaleur. Le SiC possède une conduction thermique plus de 10 fois supérieure à celle du saphir et assure donc une très bonne évacuation de la chaleur pour les composants haute-fréquence de puissance réalisés à base de GaN. De plus, des techniques d'épitaxie existent maintenant pour obtenir des couches avec un minimum de défauts. Pourtant, le SiC est peu utilisé en raison de son prix excessivement élevé. En effet, par exemple, pour des traitements d'hétéro-épitaxie, un substrat SiC coûte entre 10 fois pour des plaques 2871172 5 (wafers) conductrices et 50 fois pour des plaques semi-isolantes le prix d'un substrat en saphir. Ce surcoût induit par l'utilisation de SiC limite l'utilisation de ce type de substrat pour les applications hautefréquence de puissance. D'autre part, les substrats de GaN massifs présentent encore trop d'inconvénients pour constituer une solution industrielle. En effet, ces substrats présentes des propriétés thermiques moins bonnes que celle du SiC, en particulier sa conductivité thermique est de l'ordre de celle du Si. De plus, le peu de matériau GaN qui est disponible sur le marché, ne l'est que dans des dimensions insuffisantes pour des applications industrielles et reste très cher (une à deux fois le prix d'un substrat SiC). Enfin, il n'existe pas encore de GaN semi-isolant sous forme de substrat mais seulement sous forme épitaxiée en film mince. L'état actuel de la technologie impose donc un choix entre des composants très performants, à un coût très élevé (sur SiC), et des composants peu performants, à un coût nettement plus faible (sur saphir ou même sur silicium). Il se pose donc le problème de trouver des technqiues alternatives d'épitaxies, et les substrats ou supports correspondants, permettant de réaliser des composants électroniques performants à un coût raisonnable, et notamment des composants à base de matériaux de type nitrure, tels que GaN, ou AIN ou InN ou leurs composés. Résumé de l'invention Selon l'invention, on réalise un support d'épitaxie hybride composé d'une couche mince d'un matériau semi-isolant ou isolant, de préférence en SiC ou en GaN, sur un support en matériau polycristallin ayant une conductivité thermique élevée. Un mode de réalisation d'un procédé selon l'invention comporte donc: 2871172 6 - la formation, dans un premier substrat en SiC ou en GaN monocristallin conducteur, d'une couche de SiC ou de GaN monocristallin isolant, - le report de cette couche de SiC ou de GaN monocristallin sur un 5 deuxième substrat en matériau céramique polycristallin ayant une conductivité thermique supérieure ou égale à 1,5 W.cm-1.K-1. Ainsi, en formant la couche de SiC monocristallin dans un substrat en SiC conducteur, on diminue significativement le coût de réalisation du support d'épitaxie. En effet, le coût d'un substrat SiC conducteur est 5 fois moins important que celui d'un substrat SiC semiisolant. Par ailleurs, dans le cas du GaN, la formation d'une couche semiisolante de GaN dans un substrat GaN conducteur permet d'obtenir des substrats GaN avec une conductivité électrique compatible avec des applications hautefréquences de puissance, ce qui est impossible avec le GaN actuellement disponible sous forme massive. Selon un mode particulier de réalisation, la couche de SiC ou de GaN monocristallin peut être réalisée par implantation ionique d'hydrogène ou de gaz rare comme de l'hélium ou de l'argon, ou encore une combinaison hydrogène/gaz rare (co-implantation) dans le premier substrat SiC monocristallin conducteur ou de GaN monocristallin conducteur. Ce mode de réalisation présente l'avantage que le SiC ou le GaN initialement conducteur, devient, après l'implantation, isolant ou semiisolant et ce, quel que soit le polytype du SiC utilisé au départ pour le premier substrat. Cette propriété de forte résistivité du film après transfert par implantation suivie d'un recuit haute température, perdure même après des recuits de plusieurs heures à 1300 C. Cette forte résistivité du film mince transféré sera donc conservée après, par exemple, épitaxie d'un nitrure (GaN, AIN, InN ou composés). Le deuxième substrat sur lequel la couche de SiC monocristallin isolant est reportée peut être un substrat de SiC polycristallin présentant 2871172 7 une résistivité électrique d'au moins 104 Q.cm ou un substrat de AIN polycristallin isolant ou présentant une résistivité électrique d'au moins 104 Q.cm. Le SiC polycristallin possède les mêmes propriétés de dilatation thermique et de conductivité thermique que le SiC monocristallin, et on peut l'obtenir sous forme semi-isolante, avec une résistivité supérieure ou égale à 104 Q.cm, par exemple comprise entre 104 S2.cm et 105 2cm. Le SiC polycristallin permet donc la réalisation de supports pour des circuits radio et hyper-fréquences qui présentent des propriétés électriques et thermiques équivalentes à celles obtenues avec du SiC monocristallin mais pour un coût bien moins important. La séparation non-destructive de la couche de SiC monocristallin d'une partie du premier substrat permet un recyclage ou une réutilisation de cette partie du premier substrat, par exemple pour réaliser d'autres supports d'épitaxie. Le report d'une couche de SiC monocristallin sur un support de SiC polycristallin peut se faire directement sans couche intermédiaire, ou bien via une couche d'isolant qui peut être de l'oxyde de silicium, ou du nitrure de silicium ou encore d'autres matériaux isolants avec une bonne conductivité thermique. Le nitrure de silicium est notamment bien adapté pour ce type d'application puisqu'il possède une conductivité thermique assez élevée de 0,3 W/cm/K qui est notamment plus importante que celle de l'oxyde de silicium. De plus, l'épaisseur de la couche isolante intermédiaire peutêtre minimisée (par exemple comprise entre 50 nm et 500 nm) pour avoir une influence très faible sur l'évacuation thermique, qui sera majoritairement assurée par le support de SiC polycristallin (qui peut avoir plusieurs centaines de micromètres d'épaisseur). Le report de la couche de SiC monocristallin peut être réalisée par fracture du premier substrat, par exemple le long d'une couche ou d'un plan de fragilisation, et de préférence à une température comprise entre 300 C et 1100 C. L'étape de report de la couche de SiC monocristallin sur le deuxième substrat peut être réalisée par assemblage des deux substrats 2871172 8 par adhésion moléculaire, être précédée d'une étape de nettoyage chimique ou mécano-chimique, et être suivie d'une étape de recuit à une température comprise entre 900 C et 1200 C. L'invention concerne également un support d'épitaxie comportant un substrat en matériau polycristallin ayant une conductivité thermique supérieure ou égale à 1,5 W.cm-1.1C1 et une couche de croissance épitaxiale en SiC ou GaN monocristallin isolant. Le substrat peut être un substrat de SiC polycristallin isolant ou un substrat de AIN polycristallin isolant ou présentant une résistivité électrique d'au moins 104 S2.cm. Le substrat peut encore être formé avec d'autres matériaux céramiques qui présentent une conductivité thermique supérieure ou égale à 1,5 W.cm-1.IC1 et une résistivité électrique d'au moins 104 S.cm. Selon une caractéristique de l'invention, le support d'épitaxie comporte en outre une couche isolante entre le substrat polycristallin et la couche en carbure de silicium monocristallin qui peut être en oxyde de silicium ou en nitrure de silicium. L'épaisseur de la couche isolante peut être comprise entre 10 nm et 3 pm. L'invention concerne en outre une structure électronique comportant un support d'épitaxie tel que décrit ci-dessus et au moins une couche d'un matériau de type nitrure dans lequel au moins un composant électronique est réalisé. Le matériau peut être du nitrure de gallium (GaN) ou du nitrure d'aluminium (AIN) ou du nitrure d'indium (InN) ou du nitrure de gallium-indium (InGaN) ou un composé de nitrure de gallium et de nitrure d'aluminium. La couche de matériau de type nitrure est obtenue par une croissance épitaxiale réalisée sur le support d'épitaxie décrit ci-dessus. Selon un aspect particulier, on réalise en outre une couche active conductrice sur au moins une partie de la couche de type nitrure. Cette couche active peut être ensuite gravée de manière à former un ou plusieurs composants électroniques tels qu'une inductance, et/ou une capacité et/ou une ligne de transmission et/ou un transistor. Brève description des figures - les figures 1A à 1F représentent des étapes d'un procédé selon l'invention, - les figures 2A et 2B représentent des étapes d'épitaxie et de réalisation de structures isolantes à l'aide d'un substrat d'épitaxie selon l'invention, - la figure 3 est un exemple de structure HEMT à base de GaN et d'AIGaN. Exposé détaillé de modes de réalisation de l'invention Des étapes d'un procédé selon l'invention sont représentées aux 15 figures 1A à 1F. Dans l'exemple considéré ici, un premier substrat 2 (figure 1A) est en carbure de silicium SiC monocristallin conducteur, standard, de polytype 6H, 4H ou 3C. Toutefois, conformément à l'invention, le premier substrat 2 peut être également en nitrure de gallium GaN monocristallin conducteur. Dans ce cas, les étapes du procédé décrites ci-dessous en relation avec un substrat SiC monocristallin sont mises en oeuvre avec un substrat en GaN monocritsallin à la place du substrat SiC, le substrat en GaN étant un substrat GaN massif ou un substrat GaN obtenu par épitaxie sur un autre substrat suivie d'une implantation d'hydrogène. Un second substrat 4 est en carbure de silicium SiC polycristallin isolant (typiquement d'une résistivité de 104 Ç2.cm ou plus). Selon une variante de réalisation de l'invention, le second substrat 4 peut être aussi en nitrure d'aluminium (AIN) polycristallin. Au cours de l'étape suivante (figure 1B), on réalise un dépôt ou une croissance de couches 6, 8 en un matériau isolant, par exemple du type oxyde de silicium ou nitrure de silicium. D'autres matériaux peuvent être utilisés s'ils sont isolants et ont une bonne conductivité thermique (on/nitrure de silicium par exemple). L'épaisseur de ces couches peut varier de 10 nm ou de quelques dizaines de nanomètres à 1 pm ou à plus d'un micromètre, par exemple 3 pm. Il est possible d'utiliser les deux 2871172 10 couches 6, 8 ou seulement une des deux. Ces couches peuvent être de même nature ou de nature différente. Dans le substrat 2 est réalisée (figure 1C), à travers la couche 6, une implantation atomique ou ionique 10, formant une mince couche 12 qui s'étend sensiblement parallèlement à une surface 13 du substrat 2. En fait, est ainsi formée une couche ou un plan de fragilisation ou de fracture délimitant dans le volume du substrat 2 une région 6, 14 destinée à constituer un film mince et une région 15 constituant la masse du substrat 2. Cette implantation est en général une implantation d'hydrogène, par exemple avec une dose comprise entre 1.1016 et 1.1017 H/cm2 et une énergie comprise entre 20 et 200 keV. L'implantation peut être aussi faite à l'aide d'autres espèces, ou encore avec une co- implantation H/He. On obtient donc une couche enterrée 12 de défauts créés par l'implantation. Cette couche sépare le substrat 2 d'une couche 14 de SiC monocristallin ayant une épaisseur comprise entre 10 nm et 1 pm, rendue semi-isolante par l'implantation ionique. Avant l'étape d'assemblage des substrats, on peut utiliser différentes méthodes pour préparer leurs surfaces au collage comme par exemple: le nettoyage chimique du type CARO ou RCA (SC1, SC2), le nettoyage dit "UVozone", l'activation de surface par plasma, le polissage mécano-chimique des couches 6 et 8, ou bien le nettoyage mécano-chimique du type "scrubber", ou encore, une combinaison de ces différentes méthodes pour arriver à obtenir un collage optimal. Selon des variantes de l'invention, la couche 6 et/ou la couche 8 peuvent être supprimées avant le collage pour obtenir un collage par adhésion moléculaire suivant toutes les configurations envisageables et, en particulier, pour avoir la possibilité de réaliser un collage direct entre les surfaces de la couche 14 et du substrat 4. On réalise alors l'assemblage des deux substrats (figure 1D), puis un recuit de transfert à une température comprise entre 300 C et 1100 C pour une durée allant de quelques minutes à plusieurs heures selon la température. Un exemple de procédé de transfert thermique pourrait être un recuit de 1 heure à 900 C éventuellement combiné à un apport 2871172 11 d'énergie mécanique. Il en résulte une séparation le long du plan de fragilisation formé par la couche ionique 12. Plus précisément, les deux substrats 2 et 4 sont assemblés par une technique de type "wafer bonding" ou par contact de type adhérant par exemple par adhésion moléculaire ou par collage. On pourra se reporter, en ce qui concerne ces techniques, à l'ouvrage de Q.Y. Tong et U. Gosele Semiconductor Wafer Bonding (Science and Technology), Wiley Interscience Publications. Une partie du substrat 2 est ensuite détachée par un traitement permettant de provoquer une fracture le long du plan de fragilisation 12. Un exemple de cette technique est décrit dans l'article de A.J. Auberton- Hervé et al. Why can Smart-Cut change the future of microelectronics ? paru dans International Journal of High Speed Electronics and Systems, Vol. 10, N .1 (2000), p. 131-146. On obtient ainsi la structure 16 (figure 1E) qui est entièrement isolante (substrat isolant 4 et couches 6 et 14 isolantes). Aucune des étapes suivantes ne changera cette propriété. On peut alors utiliser une étape de recuit haute température (entre 900 C et 1200 C) pour renforcer ou faire disparaître l'interface de collage, afin d'éviter, par la suite, tout risque de délaminage du film 14. Une oxydation sacrificielle, ou une étape de polissage mécano-chimique ou une combinaison de ces deux techniques, peuvent être utilisées pour diminuer la rugosité de la surface 18, afin de réaliser les futures épitaxies dans les meilleures conditions possibles. La rugosité de la surface 18 peut être également réduite par une étape de gravure sèche par plasma, par une étape de gravure par faisceau d'ions, ou par des opérations de recuits sous atmosphère non-oxydante. Il est alors possible de recycler le substrat 2 de SIC monocristallin (figure 1F), par exemple après polissage mécano-chimique et nettoyage chimique, afin notamment de le réutiliser pour le même type d'application. Ce recyclage permet notamment de diminuer grandement le coût final de la structure 16. On peut ensuite réaliser (figure 2A) une couche épitaxiale 22, par exemple de GaN ou de tout matériau, notamment de type nitrure (InN 2871172 12 ou AIN ou composé de GaN et de AIN), en vue de la réalisation des composants finaux. La technique d'épitaxie utilisée est par exemple la technique MOCVD ou MBE ou HVPE. Il est également possible de réaliser des structures complexes, 5 par exemple du type comportant des puits quantiques ou des gaz d'électrons de haute mobilité. De préférence, la température d'épitaxie ne dépasse pas 1300 C pendant plusieurs heures, et ceci afin de conserver le caractère isolant de la couche de SiC 14. Cette température est par exemple comprise entre 700 C et 1200 C. Selon un exemple, pour la réalisation d'un circuit hautefréquence de puissance, on épitaxie d'abord une couche 22 de GaN semiisolante et ensuite une couche active conductrice 24 comprenant un gaz d'électrons de haute mobilité pour la réalisation future d'un transistor HEMT. Le circuit final peut être fabriqué (figure 2B) en supprimant notamment la couche active par gravure sèche ou humide, dans les zones 30 où on désire réaliser des composants passifs (inductance, capacité, ligne de transmission, etc.). Dans les régions 30 où la couche conductrice 24 est supprimée, il ne reste plus qu'une structure totalement isolante possédant de très bonnes propriétés d'évacuation de la chaleur, ce qui permet d'obtenir des performances de très bonne qualité pour le circuit réalisé, même à haute fréquence et forte puissance. La figure 3 représente une structure de type HEMT en coupe, comportant un substrat 4 en SiC, muni d'une couche 14 de SiC monocristallin isolant, obtenue conformément à l'invention, et une structure épitaxiée, comportant une couche 22 de GaN et une couche 23 en AIGaN. La couche 26 est une couche de passivation. Les références S, G et D désignent respectivement la source, le drain et la grille du transistor obtenu. Le tableau suivant compare la structure proposée avec le SiC semi-isolant et le saphir. 2871172 13 SiC selon invention Si02 Poly SiC SiC Saphir (implanté H+forte S i3N4 SiC semi- dose) Conductivité 2,8 0,15-0,30 02,8 2,8 0,23 thermique 0, (W.cm.K") 0,5 Résistivité > 105 (4.cm) (T 104 N 105 Isolant Tableau 1: comparaison entre la structure proposée et les autres substrats utilisés. On voit que la structure proposée selon l'invention (couche SiC monocristallin isolant sur substrat SiC ou AIN polycristallin) aura des caractéristiques thermiques (évacuation de la chaleur) et électriques (caractère isolant de la structure) comparable à du SiC semi-isolant, mais avec un coût nettement inférieur (environ 3 fois moins cher qu'avec un substrat SiC semi-isolant monocristallin), surtout grâce à la possibilité de recycler le substrat 2 de SiC monocristallin qui représente la majeure partie du coût total de la structure. D'autre part, dans le cas de l'utilisation d'un substrat de départ en GaN monocristallin conducteur, il est possible de former des structures telles que celles décrites ci-dessus avec une couche de GaN semi-isolant sous forme de substrat, le GaN semi-isolant ne pouvant être jusqu'ici obtenu que par épitaxie et sous forme d'un film mince difficilement transférable d'un support à un autre (i.e. sur un substrat polycristallin SiC ou AIN). De plus, la structure selon l'invention est parfaitement compatible avec l'épitaxie de GaN, au même titre que le SiC monocristallin semiisolant. Ses propriétés, comme notamment son caractère isolant, ne seront pas modifiées lors de l'épitaxie. Le procédé selon l'invention utilisé pour réaliser une structure SiC monocristallin/SiC polycristallin, SiC monocristallin/isolant/SiC polycristallin, SiC monocristallin/AIN 2871172 14 polycristallin, SiC monocristallin/isolant/AIN polycristallin, GaN monocristallin/SiC polycristallin, GaN monocristallin/isolant/SiC polycristallin, GaN monocristallin/AIN polycristallin, ou bien GaN monocristallin/isolant/AIN polycristallin permet donc d'offrir une alternative à l'utilisation des substrats de SiC semi-isolant monocristallin ou GaN conducteur monocristallin pour l'épitaxie, notamment de nitrure, par exemple pour des applications haute-fréquence de puissance. REVENDICATIONS 1. Procédé de réalisation d'un support d'épitaxie, comportant: - la formation, dans un premier substrat (2) de carbure de silicium (SiC) ou de nitrure de gallium (GaN) monocristallin conducteur, d'une couche (14) de carbure de silicium monocristallin isolant ou de nitrure de gallium monocristallin isolant, - le report de cette couche de carbure de silicium ou de nitrure de gallium monocristallin sur un deuxième substrat (4) en matériau céramique polycristallin ayant une conductivité thermique supérieure ou égale à 1,5 W.cm-1.K-1. 2. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que la couche de carbure de silicium ou de nitrure de gallium monocristallin est réalisée par implantation ionique dans le premier substrat. 3. Procédé selon la revendication 2, caractérisé en ce que l'implantation ionique consiste en une implantation ionique d'hydrogène ou de gaz rare, ou encore une combinaison d'hydrogène et de gaz rare par co-implantation. 4. Procédé selon l'une des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que le deuxième substrat est un substrat de carbure de silicium polycristallin présentant une résistivité électrique d'au moins 104 Q.cm. 5. Procédé selon l'une des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que le deuxième substrat est un substrat de nitrure d'aluminium (AIN) polycristallin isolant ou présentant une résistivité électrique d'au moins 104 Q.cm. 6. Procédé selon l'une des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que la couche de carbure de silicium ou de nitrure de gallium monocristallin présente une résistivité comprise entre 104 et 105 S2.cm. 2871172 16 7. Procédé selon l'une des revendications 1 à 6, caractérisé en ce qu'il comporte en outre la réalisation d'une couche (6, 8) en un matériau isolant sur au moins l'un des premier et deuxième substrats. 8. Procédé selon la revendication 7, caractérisé en ce que chaque couche en matériau isolant présente une épaisseur comprise entre 10 nm et 3 pm. 9. Procédé selon l'une des revendications 1 à 8, caractérisé en ce que le report de la couche de carbure de silicium ou de nitrure de gallium monocristallin est réalisé par fracture du premier substrat. 10. Procédé selon la revendication 9, caractérisé en ce que la 15 fracture du premier substrat est réalisée le long d'une couche ou d'un plan de fragilisation (12). 11. Procédé selon la revendication 9 ou 10, caractérisé en ce que la fracture du premier substrat est réalisée à une température 20 comprise entre 300 C et 1100 C. 12. Procédé selon l'une des revendications 1 à 11, caractérisé en ce que l'étape de report comporte un assemblage des deux substrats (2, 4) par adhésion moléculaire. 13. Procédé selon l'une des revendications 1 à 12, caractérisé en que l'étape de report est précédée d'une ou plusieurs étapes de nettoyage choisie(s) parmi: nettoyage chimique, nettoyage mécano-chimique, nettoyage dit " UV-ozone ", activation de surface par plasma. 14. Procédé selon l'une des revendications 1 à 13, caractérisé en ce que l'étape de report est suivie d'une étape de recuit à une température comprise entre 900 C et 1200 C. 2871172 17 15. Support d'épitaxie (16) comportant: - un substrat (4) en matériau polycristallin ayant une conductivité thermique supérieure ou égale à 1,5 W.cm-1.K-1, et - une couche de croissance épitaxiale (14) en carbure de silicium ou nitrure de gallium monocristallin isolant. 16. Support d'épitaxie selon la revendication 15, caractérisé en ce que le substrat est en carbure de silicium polycristallin. 17. Support d'épitaxie selon la revendication 15, caractérisé en ce que le substrat est en nitrure d'aluminium (AIN) polycristallin. 18. Support d'épitaxie selon l'une des revendications 15 à 17, caractérisé en ce qu'il comporte en outre une couche isolante (6,8) entre le substrat (4) polycristallin et la couche en carbure de silicium ou nitrure de gallium monocristallin (14). 19. Support d'épitaxie selon la revendication 18, caractérisé en ce que la couche isolante est en oxyde de silicium ou en nitrure de silicium. 20. Support d'épitaxie selon la revendication 19, caractérisé en ce que l'épaisseur de la couche isolante est comprise entre 10 nm et 3 Pm. 21. Structure électronique comportant un support selon l'une 30 des revendications 16 à 20, et au moins une couche d'un matériau de type nitrure (22) dans lequel au moins un composant électronique est réalisé. 22. Structure selon la revendication 21, caractérisé en ce que le matériau est du nitrure de gallium (GaN) ou du nitrure d'aluminium (AIN) 2871172 18 ou du nitrure d'indium (InN) ou du nitrure de gallium-indium (InGaN) ou un composé de nitrure de gallium et de nitrure d'aluminium. 23. Procédé de croissance épitaxiale d'une couche d'un matériau 5 de type nitrure, dans lequel la couche est réalisée sur un support selon l'une des revendications 16 à 20. 24. Procédé selon la revendication 23, caractérisé en ce que le matériau est du nitrure de gallium (GaN) ou du nitrure d'aluminium (AIN) ou du nitrure d'indium (InN) ou du nitrure de gallium-indium (InGaN) ou un composé de nitrure de gallium et de nitrure d'aluminium. 25. Procédé selon la revendication 23 ou 24, caractérisé en ce qu'on réalise en outre une couche active conductrice (24). 26. Procédé selon la revendication 25, caractérisé en ce qu'on grave la couche active (24) de manière à former au moins un composant électronique. 27. Procédé selon la revendication 26, caractérisé en ce que le composant électronique comprend une inductance, et/ou une capacité et/ou une ligne de transmission et/ou un transistor.