Brevet FR2836240A1 — publié le 20030822

ECRAN DE RETROPROJECTION ET SON PROCEDE DE FABRICATION L'objet de l'invention est un écran de rétroprojection pour applications professionnelles et grand public (télévision, murs d'images, etc.). Un tel écran est décrit dans WO-A-00 67071. On pourra se référer à cette demande pour une discussion des propriétés idéales des écrans et pour les définitions du contraste, de la transmittivité et des autres paramètres définissant les écrans. Il existe encore un besoin d'un écran de rétroprojection, présentant des caractéristiques de contraste aussi bonnes que celles de WO-A-00 67071, mais qui soit d'une fabrication encore plus simple. L'invention propose donc, dans un mode de réalisation, un écran comprenant un support avec des éléments de focalisation et des ouvertures au voisinage des points de focalisation des éléments de focalisation, un diffuseur présentant une face active tournée vers le support et revêtue d'une couche opaque, la couche opaque présentant des ouvertures au voisinage des points de focalisation des éléments de focalisation. Dans un mode de réalisation, la couche opaque présente une épaisseur inférieure à 10 micromètres, de préférence inférieure à 5 micromètres. Avantageusement, les ouvertures de la couche opaque ont une surface inférieure à 10 % voire 5 % de la surface totale de l'écran. Dans un mode de réalisation, les éléments de focalisation sont 1. 1 monodimensionnels, et les ouvertures du support présentent une surface supérieure à 15 %, voire 20% de la surface totale de l'écran. Dans un autre mode de réalisation, les éléments de focalisation sont bidimensionnels, et les ouvertures du support présentent une surface supérieure à 20%, voire 30% de la surface totale de l'écran. Avantageusement, le support comprend un substrat avec des éléments de focalisation et une couche présentant des ouvertures, sur le substrat. Dans ce cas, la couche présentant des ouvertures a de préférence une épaisseur supérieure ou égale à 10 micromètres, voire supérieure ou égale à 20 micromètres. De préférence, le diffuseur est un diffuseur holographique. L'invention propose aussi un procédé de fabrication d'un écran, comprenant les étapes de - fourniture d'un un support avec des éléments de focalisation et des ouvertures au voisinage des points de focalisation des éléments de focalisation, - fourniture d'un diffuseur présentant une face active revêtue d'une couche opaque ; - application du diffuseur contre le support, avec la face active du diffuseur tournée vers le support ; et - formation d'ouvertures dans la couche opaque par irradiation à travers les éléments de focalisation. Dans un mode de mise en oeuvre, l'étape de fourniture d'un support comprend : - la fourniture d'un substrat avec des éléments de focalisation ; - le dépôt d'une couche sur le substrat ; et - l'irradiation de la couche à travers les éléments de focalisation pour former les ouvertures au voisinage des points de focalisation des éléments de focalisation. Dans un autre mode de mise en oeuvre, l'étape de fourniture d'un diffuseur comprend : - la fourniture d'un diffuseur et - l'application sur la face active du diffuseur d'une couche opaque par jet d'encre, flexographie ou sérigraphie. Avantageusement, le diffuseur est un diffuseur holographique. Dans un mode de mise en oeuvre, l'étape d'application comprend : - le dépôt d'une couche intermédiaire sur le support, et - l'application du diffuseur sur la couche intermédiaire. Dans un mode de mise en oeuvre, la couche intermédiaire est formée d'un film adhésif et l'étape de dépôt comprend : - l'application du film adhésif sur le support, et - l'enfoncement du film dans les ouvertures du support. Dans ce cas, la couche intermédiaire peut être formée d'un film thermoplastique et l'étape de dépôt comprend : - l'application du film thermoplastique sur le support, et - l'enfoncement du film dans les ouvertures du support, l'étape d'application du diffuseur comprenant le chauffage du diffuseur ou du support. La couche intermédiaire peut aussi être formée d'un adhésif et l'étape de dépôt comprend alors la pulvérisation de l'adhésif sur le support. Dans ce cas, l'adhésif peut être polymérisable et la pulvérisation est suivi d'une étape de polymérisation dans les ouvertures par irradiation à travers les éléments de focalisation. Il est alors avantageux que l'étape d'application du diffuseur comprenne l'irradiation de l'adhésif. On peut aussi prévoir que l'adhésif soit microencapsulé et que l'étape d'application du diffuseur comprenne l'application d'une pression. D'autres caractéristiques et avantages de l'invention apparaissent dans la description qui suit de divers modes de réalisation de l'invention, donnée à titre d'exemple et en référence aux figures qui montrent : Figure 1 : écran du type holographique suivant l'invention ; Figure 2 : autre écran du type holographique suivant l'invention ; Figure 3 : écran du type holographique à microbilles comme éléments de focalisation ; Figures 4 et 5 : différents modes de collage du diffuseur holographique sur le substrat ; Figure 6 : écran très haut contraste à diffuseur classique Figure 7 : écran holographique à structure voisine de l'écran de la figure 6. Figure 8 : écran haut contraste à structure diffusante à microbilles de quelques microns de diamètre. Les caractéristiques de l'écran sont un contraste (C > 500) et une transmission optique (T0, 75) très élevés, une résolution élevée si nécessaire pour l'application visée, une émission lumineuse à directivité contrôlée augmentant la luminance d'écran pour les angles de vision intéressant l'application. A la sortie de l'optique de Fresnel du rétroprojecteur, l'écran de rétro projection reçoit un flux lumineux collimaté qu'il focalise par une multitude d'éléments de focalisation dans des ouvertures pratiquées dans une couche opaque pour, à la sortie de cette couche opaque, conduire à une émission lumineuse à directivité contrôlée. Les éléments de focalisation sont des micro lentilles, des lenticulaires ou des micro-billes. La figure 1 illustre le principe de l'écran du type holographique à contraste très élevé, suivant un mode de réalisation de l'invention. Le substrat 1 à micro-éléments de focalisation comporte une couche épaisse 2 à ouvertures larges. La somme des épaisseurs du substrat 1 et de la couche 2 est égale ou très voisine de la distance focale des micro-éléments de focalisation du substrat 1. Le diffuseur holographique 3 noirci sur toute sa surface active, excepté aux points de focalisation des micro-éléments de focalisation du substrat 1, est collé sur la face externe de la couche 2. Aux points de focalisation, le diffuseur holographique présente dans les ouvertures de la microcouche noire une surface active inférieure à 10 % voire 5 % de la surface totale d'écran. Ainsi le diffuseur holographique présente sa face active vers le projecteur comme spécifié par le fabricant ; avec la face active orientée à l'envers vers l'observateur, le diffuseur holographique émet de la lumière anormalement élevée à angle élevé par rapport à la normale au détriment des angles intermédiaires. Les ouvertures de la microcouche noire pratiquée sur la surface active du diffuseur holographique sont donc en contact avec une chambre d'air ; ceci protège la couche active holographique dans les ouvertures de la microcouche noire d'être en contact avec de la colle qui viendrait anéantir ses propriétés diffusantes avec génération indésirable de"hot spot"dans les images transmises. Côté extérieur, vers l'observateur, l'écran peut être muni d'une couche antireflet. Cet écran du type holographique est très innovant par rapport à l'état de l'art pour lequel la couche holographique est collée sur un substrat teinté à transmission optique T=0,5 ce qui conduit à un rendement optique et un contraste d'écran limités. Un mode de fabrication de l'écran de la figure 1 est le suivant. Sur le substrat 1 muni de micro lentilles ou de lenticulaires sur une face et d'épaisseur inférieure de quelques dizaines de microns à la distance focale des éléments de focalisation, est appliquée par les moyens connus (sérigraphie, etc...) une couche d'encre noire épaisse de quelques dizaines de microns ; les ouvertures larges dans la couche noire 2 sont réalisées par exemple par irradiation au laser YAG (==1060nm) focalisée par les éléments de focalisation qu concentrent l'énergie YAG dans la couche noire provoquant la pulvérisation locale de celle-ci sous forme de poussières et fumées ; la largeur des ouvertures est obtenue par l'élargissement du cône d'irradiation YAG des éléments de focalisation. Un autre procédé de réalisation de la couche 2 est de napper une couche épaisse de résine photosensible positive sur le substrat 1 et de l'irradier aux rayons U. V. à travers les éléments de focalisation puis de le développer pour générer les cannelures ou creux autour des points de focalisation. Un autre procédé de réalisation de la couche 2 consiste à napper sur le substrat 1 une couche épaisse d'une résine thermoplastique à basse température de fusion ( Un autre procédé de réalisation de la couche 2 consiste à appliquer une couche épaisse d'adhésif liquide opaque car chargé en graphite puis après séchage de l'irradier au laser YAG focalisé par les micro-éléments pour dégager les ouvertures de la couche 2. Un adhésif aqueux convient bien. Le diffuseur 3 est alors laminé sur l'adhésif muni de ses ouvertures. Dans tous les cas, les ouvertures dans la couche épaisse sont larges, par rapport à focalisation des éléments de focalisation. Dans le cas d'éléments de focalisation suivant une seule dimension-cannelures ou écrans lenticulaires-les ouvertures dans la couche épaisse peuvent présenter une dimension allant jusqu'à 50% de la surface de la couche épaisse (ou plus exactement de la surface totale de l'écran). Une taille supérieure à 20, voire 30% est appropriée. Dans le cas d'éléments de focalication suivant deux dimensions-microlentilles, micro-billes ou autres-les ouvertures dans la couche épaisse peuvent présenter une dimension allant jusqu'à 50% de la surface de la couche épaisse (ou plus exactement de la surface totale de l'écran). Une taille supérieure à 15, voire 20% est appropriée. Les ouvertures dans la couche épaisse peuvent donc être obtenues facilement, sans précautions particulières dans la fabrication. Par rapport à la solution proposée dans WO-A-00 67071, la fabrication est plus simple ; on rappelle que les ouvertures proposées dans ce document présentent une surface de 10%, voire moins de 5% de la couche noire. Par ailleurs, la surface active du diffuseur holographique est noircie par les techniques connues comme le jet d'encre, la sérigraphie, la flexographie, etc... La microcouche noire sur la surface active holographique est très fine, d'épaisseur quelques microns au maximum, épousant juste la rugosité de la surface active pour limiter la quantité de matériau noir à pulvériser ultérieurement sous forme de poussières et fumées. Le diffuseur holographique ainsi noirci est collé sur la couche 2 externe en évitant tout contact de la colle avec la surface active holographique encore noircie à ce stade.-Des procédés de collage adéquats sont décrits plus loin figures 4 et 5 et ci-dessus. Finalement les ouvertures fines à l'endroit des points de focalisation sont générées dans la microcouche noire appliquée sur la surface holographique par une nouvelle irradiation au laser YAG focalisée par les micro-éléments de focalisationSous l'impact du faisceau laser focalisé, la microcouche noire est pulvérisée dans la chambre d'air adjacente définie par les ouvertures (cannelures ou creux) de la couche 2. Les poussières provenant de la pulvérisation se redéposent sur les surfaces délimitant la chambre d'air bien plus importantes (supérieur à dix fois au moins dans la plupart des cas) que la surface d'ouverture pratiquée dans la microcouche noire couchée sur la surface holographique. De ce fait, la redéposition des poussières ne génère pas un filtre neutre significatif sur le passage du faisceau lumineux et ne diminue donc pratiquement pas la transmission optique de l'écran de rétroprojection. Dans le cas d'éléments lenticulaires de focalisation qui génèrent des cannelures dans la couche 2 débouchant des deux côtés du substrat, il est possible d'éviter toute redéposition des poussières par microcirculation d'air comprimé dans les cannelures de la couche 2 pendant la phase d'irradiation ou laser YAG de la microcouche noire appliquée sur la surface holographique. En final, l'écran peut être muni d'une couche anti-reflet ou collé sur un support transparent lui-même muni d'une couche anti-reflet externe vers l'observateur. En résumé, la couche 2 cannelée ou creusée ne sert que de soutien et de protection par les chambres d'air pour la surface holographique ; cette couche n'est donc pas nécessairement noire, comme expliqué en référence à la figure 2. Le contraste élevé est obtenu par la micro-couche noire pratiquée directement sur la surface holographique ouverte au minimum aux points de focalisation pour le passage de la lumière. On sépare ainsi les deux fonctions de la couche noire du document WO-A-00 67071 : - assurer la présence d'air au voisinage des points du diffuseur holographique par lesquels passe la lumière dirigée vers l'observateur ; et - limiter le contraste en bloquant la lumière autour de ces points de passage de la lumière. La première fonction est assurée par la couche épaisse ; cette fonction mécanique est obtenue par une fabrication avec des tolérances plus élevées. La deuxième fonction est assurée par la couche noire fine déposée sur l'écran holographique. Cette fonction optique est obtenue facilement, du fait de la faible épaisseur de la couche noire correspondante. La figure 2 représente une variante de l'écran holographique de la figure 1 en ce que le dépôt de la couche 2 cannelée ou creusée n'est plus nécessaire : le substrat 1 est muni directement sur la face opposée aux éléments de focalisation de cannelures ou creux pratiqués selon l'état de l'art (moulage ; extrusion ; thermoformage...) ; cela est possible du fait de la très large tolérance de positionnement de ces cannelures ou creux par rapport aux éléments de focalisation. En d'autres termes, les ouvertures de large taille de la couche 2 de la figure 1 sont ménagées directement dans le substrat 1. Dans la mesure où ces ouvertures n'ont qu'une fonction mécanique, il n'est pas nécessaire qu'elles soient ménagées dans une couche noire ou opaque. Pour illustrer les dimensions des microstructures de l'écran, considérons par exemple une résolution de 40 Ipi (lignes par 25,4 mm) : - périodicité et tailles des éléments de focalisation = 640 microns ; - distance focale = 2,2 mm ; - épaisseur de la couche 2 de la figure 1 : quelques dizaines de microns-20 à 50 lem par exemple ; - taille des ouvertures de la couche 2 de la figure 1 : 300 microns par exemple ; - épaisseur de la microcouche noire sur la surface holographique : de l'ordre du micron à quelques microns ; taille des ouvertures dans la microcouche noire = inférieure à 32 um ou au plus à 64 um dans le cas de cannelures (lenticulaires de focalisation), infé- rieur à 140 am ou au plus 210 um dans le cas de creux (microlentilles de focalisation) ; - profondeur des cannelures ou creux dans le substrat 1 de la figure 2 : jusqu'à 500 m ; - taille des cannelures ou creux de la figure 2 : 300 um par exemple. On constate comme expliqué plus haut que les ouvertures dans la couche 2 de la figure 1 ou les cannelures ou creux de la figure 2 sont d'une dimension supérieure aux ouvertures dans la couche noire sur le diffuseur holographique. La figure 3 montre le nouvel écran de projection holographique utilisant des microbilles comme éléments de focalisation. Le substrat 1 transparent à faces parallèles sert de soutien à l'ensemble. Les microbilles sont collées sur le substrat 1 selon la technique décrite dans le brevet Kodak-Pathé FR-A-959 731 du 10/10/49, excepté le fait que la résine thermoplastique de collage des billes n'est pas noircie ou graphite mais reste transparente. En ce qui concerne la couche 2 et le diffuseur holographique 3 noirci, tout est identique à ce qui est décrit plus haut (figures 1 et 2). L'indice optique des microbilles est choisi peu supérieur à celui de la colle thermoplastique pour conduire à une distance focale plus importante permettant une épaisseur conséquente de la couche 2 ; ceci facilite la réalisation de larges ouvertures dans celle-ci et consolide la cohésion de l'ensemble pour le collage ultérieur du diffuseur 3. On décrit maintenant en référence aux figures 4 à ? ? ? divers procédés de collage du diffuseur holographique 4. Ces procédés s'appliquent au collage d'un diffuseur holographique pour la fabrication des écrans représentés aux figures 1 à 3. Ils s'appliquent aussi au collage d'un écran holographique pour l'écran décrit dans WO-A-00 67071. La figure 4 représente un principe de collage du diffuseur holographique 3. Le film 4 adhésif à haute transparence est utilisé par ailleurs pour le collage des différents étages des écrans TV à cristaux liquides. Le film 4 adhésif d'épaisseur standard (12 u.lm ; 25 um,...) est laminé sur le substrat 1 muni ou non de la couche 2 - substrat de la figure 1, de la figure 2 ou de la figure 3. Ensuite, le film 4 tendu sur la structure cannelée ou en creux/bosses est déchiré et enfoncé dans les cannelures ou creux du substrat 1 sous soufflage d'air comprimé en balayage sur toute la surface. Au sommet des bosses, le film 4 est maintenu. Finalement, le diffuseur holographique 3 est collé par lamination sans que le film 4 ne vienne en contact avec la surface active holographique, au voisinage des points de passage de la lumière vers l'observateur. Comme le film est transparent, la présence du film ou de fragments de films dans les ouvertures du substrat 1 ou de la couche 2 n'est pas gênante. Un film thermoplastique du type EVA (Ethyl-Vinyl-Acétate) à bas point de fusion (80 C) peut remplacer le film adhésif 4. Après soufflage pour déchirer et enfoncer le film thermoplastique, le diffuseur 3 est laminé à chaud (80 C) sur le film 4 thermoplastique maintenu sur les bosses du substrat 1. Ceci est possible compte tenu de la tenue en température du diffuseur holographique 3 : 100 C pendant 240 heures. La figure 5 représente le principe de collage du diffuseur 3 par micropulvérisation d'adhésif liquide ou de différentes colles. Sur le substrat 1 ou la couche 2 cannelés ou creusés, est appliquée une fine couche adhésive 5 de l'ordre du micron ou quelques microns par micropulvérisation balayée sur toute la surface. Cette couche adhésive peut être : - un simple adhésif aqueux ; une colle thermoplastique sur laquelle le diffuseur 3 sera laminé à chaud ; - une colle U. V. ; dans un premier temps, elle est polymérisée dans les cannelures ou creux par irradiation U. V. focalisée par les éléments de focalisation ; dans un deuxième temps, le diffuseur 3 est laminé sur le substrat 1 sous irradiation U. V. générale (sous tous les angles) à travers le substrat 1 pour polymériser la colle entre les bossages du substrat 1 et le diffuseur 3 ; une colle microencapsulée (capsules de l'ordre de quelques microns de diamètre) ; sous pression de laminage ces capsules éclatent entre les bossages du substrat 1 et le diffuseur 3 libérant la colle ; au fond des cannelures ou creux, les capsules ne subissant aucune pression, la colle n'est pas libérée et la surface active du diffuseur 3 est ainsi préservée ; la colle microencapsulée peut être avantageusement du type U. V. pour combiner les effets pression sur les bossages et durcissement U. V. dans les cannelures ou creux. Le diffuseur holographique diffuse la lumière du seul fait de la rugosité de la surface active. Pour un diffuseur classique, la diffusion de la lumière a lieu dans une couche épaisse de quelques microns à quelques dizaines de microns appliquée sur un support transparent. La figure 6 représente l'écran à diffuseur classique à contraste et transmission optique très élevés. Le substrat 1 ne comporte pas de microstructure cannelée ; le support du diffuseur classique 3 est collé ou laminé sur le substrat 1. Une microcouche noire est appliquée sur la surface externe du diffuseur 3 qui est dans le plan focal des éléments de focalisation du substrat 1. Les ouvertures de passage de la lumière sont pratiquées par irradiation laser YAG focalisée par les lentilles ; la surface de ces ouvertures représente 5 à 10 % maximum de la surface totale d'écran. Un substrat muni d'une couche anti-reflet peut être collé directement sur le diffuseur 3 noirci pour servir de support. La figure 7 représente un écran à diffuseur holographique qui se rapproche de la structure d'écran de la figure 6. Le diffuseur holographique 3 est collé à l'envers sur le substrat 1 sans structure cannelée ; pour rétablir l'émissivité correcte de la couche holographique avec la lumière venant de l'indice optique faible vers l'indice fort, la rugosité de la couche holographique est remplie et aplanie par une couche à indice optique plus élevé. Cette couche peut être réalisée par plasma réactif dans un équipement à plasma basse température ( Dans ce cas, les indices peuvent être les suivants : - indice optique du diffuseur 3 : 1, 4 - indice optique de la couche évaporée : 1, 9 pour une couche en Si3N4 2,2 pour une couche en Ti02 2,2 pour une couche en Ta2Os La présence de la couche à indice optique plus élevé assure un fonctionnement correct du diffuseur holographique-malgré l'absence d'air en face de la partie active du diffuseur. La microcouche noire externe responsable du contraste élevé est réalisée et implantée comme pour le cas de la figure 6. Un substrat support muni d'une couche anti-reflet peut être collé directement sur le diffuseur noirci. La figure 8 représente un écran haut contraste à structure diffusante à microbilles. Le substrat 1 est muni d'une couche 2 noire fine (e Sous insolation U. V. focalisée par les éléments de focalisation du substrat 1, la colle U. V. est polymérisée dans les ouvertures de la couche 2 provoquant le durcissement et le maintien de la couche de microbilles dans les ouvertures. Sur la couche noire, la colle U. V. n'étant pas polymérisée du fait de l'absence d'U. V., la couche de microbilles peut être enlevée pour récupération. La directrice d'émission de lumière par l'écran est liée à l'indice optique des microbilles, l'épaisseur de la couche de microbilles dans les ouvertures de la couche 2. L'écran peut être collé sur un support externe par l'intermédiaire d'un film adhésif transparent (identique au film 4 adhésif de la figure 4). L'écran de la figure 8 peut aussi, du fait du procédé de photopolymérisation utilisé, être envisagé pour la couleur par utilisation de microbilles colorées ; dans ce cas, le projecteur n'envoie que de la lumière blanche vers l'écran couleur . Le procédé de réalisation de l'écran couleur est séquentiel comme celui utilisé pour la réalisation des écrans T. V. L'écran de la figure 8 peut aussi être construit de façon séquentielle pour en final émettre de la lumière à directivité variable du centre vers les bords par exemple ; pour cela, les séquences de réalisation de l'écran font intervenir des microbilles d'indice différent et de microcouches d'épaisseur différente. REVENDICATIONS 1. Un écran comprenant - un support (1) avec des éléments de focalisation et des ouvertures au voisinage des points de focalisation des éléments de focalisation, - un diffuseur (3) présentant une face active tournée vers le support et revêtue d'une couche opaque la couche opaque présentant des ouvertures au voisinage des points de focalisation des éléments de focalisation. 2. L'écran de la revendication 1, caractérisé en ce que la couche opaque présente une épaisseur inférieure à 10 micromètres, de préférence inférieure à 5 micromètres. 3. L'écran de la revendication 1 ou 2, caractérisé en ce que les ouvertures de la couche opaque ont une surface inférieure à 10 % voire 5 % de la surface totale de l'écran. 4. L'écran de la revendication 1,2 ou 3, caractérisé en ce que les éléments de focalisation sont monodimensionnels, et en ce que les ouvertures du support présentent une surface supérieure à 15 %, voire 20% de la surface totale de l'écran. 5. L'écran de la revendication 1,2 ou 3, caractérisé en ce que les éléments de focalisation sont bidimensionnels, et en ce que les ouvertures du support présentent une surface supérieure à 20%, voire 30% de la surface totale de l'écran. 6. L'écran de l'une des revendications 1 à 5, caractérisé en ce que le support comprend : - un substrat avec des éléments de focalisation ; - une couche présentant des ouvertures, sur le substrat. 7. L'écran de la revendication 6, caractérisé en ce que la couche présentant des ouvertures a une épaisseur supérieure ou égale à 10 micromètres, de préférence supérieure ou égale à 20 micromètres. 8. L'écran de l'une des revendications 1 à 7, caractérisé en ce que le diffuseur est un diffuseur holographique. 9. Un procédé de fabrication d'un écran, comprenant les étapes de - fourniture d'un un support (1) avec des éléments de focalisation et des ouvertures au voisinage des points de focalisation des éléments de focalisation, - fourniture d'un diffuseur (3) présentant une face active revêtue d'une couche opaque ; - application du diffuseur contre le support, avec la face active du diffuseur tournée vers le support ; et - formation d'ouvertures dans la couche opaque par irradiation à travers les éléments de focalisation. 10. Le procédé de la revendication 9, caractérisé en ce que l'étape de fourniture d'un support comprend : - la fourniture d'un substrat avec des éléments de focalisation ; - le dépôt d'une couche sur le substrat ; et - l'irradiation de la couche à travers les éléments de focalisation pour former les ouvertures au voisinage des points de focalisation des éléments de focalisation. 11. Le procédé de la revendication 9 ou 10, caractérisé en ce que l'étape de fourniture d'un diffuseur comprend : - la fourniture d'un diffuseur et - l'application sur la face active du diffuseur d'une couche opaque par jet d'encre, flexographie ou sérigraphie. 12. Le procédé de la revendication 9,10 ou 11, caractérisé en ce que le diffuseur est un diffuseur holographique. 13. Le procédé de l'une des revendications 9 à 12, caractérisé en ce que l'étape d'application comprend : - le dépôt d'une couche intermédiaire sur le support, et - l'application du diffuseur sur la couche intermédiaire. 14. Le procédé de la revendication 13, caractérisé en ce que la couche intermédiaire est formée d'un film adhésif et en ce que l'étape de dépôt comprend : - l'application du film adhésif sur le support, et - l'enfoncement du film dans les ouvertures du support. 15. Le procédé de la revendication 13, caractérisé en ce que la couche intermédiaire est formée d'un film thermoplastique et en ce que l'étape de dépôt comprend : - l'application du film thermoplastique sur le support, et - l'enfoncement du film dans les ouvertures du support, l'étape d'application du diffuseur comprenant le chauffage du diffuseur ou du support. 16. Le procédé de la revendication 13, caractérisé en ce que la couche intermédiaire est formée d'un adhésif et en ce que l'étape de dépôt comprend : - la pulvérisation de l'adhésif sur le support. 17. Le procédé de la revendication 16, caractérisé en ce que l'adhésif est polymérisable et en ce que la pulvérisation est suivi d'une étape de polymérisation dans les ouvertures par irradiation à travers les éléments de focalisation. 18. Le procédé de la revendication 16 ou 17, caractérisé en ce que l'adhésif est polymérisable et en ce que l'étape d'application du diffuseur comprend l'irradiation de l'adhésif. 19. Le procédé de la revendication 16, 17 ou 18, caractérisé en ce que l'adhésif est microencapsulé et en ce que l'étape d'application du diffuseur comprend l'application d'une pression.