Brevet FR2834820A1 — publié le 20030718

à la masse (7. La présente invention concerne de manière générale le traitement des matériaux, et plus particulièrement de substrats pour l'électronique, I'optique ou l'optoélectronique. Plus précisément, I' invention concerne u n procédé de clivage de deux couches d'un wafer selon une surface de fragilisation définie entre les deux couches, le procédé comprenant un recuit thermique du wafer comprenant lesdites couches. On conna^'t déjà des procédés du type mentionné ci-dessus. En particulier, il est connu d'appliquer de tels procédés connus pour réaliser le clivage de deux couches de matériau provenant d'un même substrat, entre lesquelles on a préalablement défini une surface de fragilisation par implantation d'espèces dans le substrat. Les espèces implantées peuvent être des ions ou des atomes. Il est ainsi connu d'implanter un substrat d'un matériau semiconducteur tel que le siliclum avec une espèce telle que i'hydrogène ou l'hélium. Et la surface de fragilisation est déterminée en fonction de la nature du matériau, de la nature des espèces implantées et de l'énergie d'implantation (cette surface de fragilisation étant typiquement un plan parallèle à la face d'implantation du substrat). o 11 est également possible de réaliser la surface de fragilisation par tout autre moyen connu en soi, par exemple en construisant une région intermédiaire de matériau poreux entre deux régions de matériau dense, en constituant une couche d'oxyde enterrce dans un substrat (par exemple un substrat de type SOI), ou encore en effectuant un collage de deux couches, la zone de collage correspondant alors à la surface de fragilisation. Un tel clivage de deux couches séparées par une surface de fragilisation peut être mis en ceuvre pour réaliser des couches minces (dont i'épaisseur peut être comprise entre une fraction de micron et plusieurs microns), comme cela est décrit par exemple dans le document FR 2 681 3 0 472. Ce document décrit en effet un procédé connu sous le nom générique de SMARTCUT, qui a pour but de fabriquer des structures de type SOI (Silicon On Insulator selon la terminologie anglo-saxonne répandue). Les étapes majeures de ce procédé sont les suivantes: À Oxydation d'une plaque dite supérieure de silicium, pour créer une couche d'oxyde (qui correspond à la couche d'oxyde enterré de la structure SOI), À Implantation ionique d'hydrogène dans cette plaque supérieure afin de créer la surface de fragilisation, et de délimiter par cette surface d'une part la structure SOI (se trouvant du côté de l'oxyde enterré), et d'autre part un reliquat de silicium, o. Collage de la plaque supérieure sur une plaque support (qui peut être réalisée en siliclum, mais également dans un autre matériau), Recuit de clivage et de décollement, afin de: cliver d'une part une structure SOI comprenant la plaque support, la couche d'oxyde enterrée et la couche de siliclum située entre l'oxyde enterré et la surface de fragilisation, et d'autre part le reliquat de silicium situé de l'autre côté de la surface de fragilisation. On précise qu'au terme du clivage des forces de cohésion peuvent subsister entre les deux couches, qui restent ainsi solidaires l'une de l'autre, et décoller ies deux couches, c'est à dire les disjoindre physiquement, au-delà du clivage, À Traitement complémentaire destiné à réduire la rugosité de la surface du SOI issue du clivage et du décollement. On désignera dans la suite de ce texte les structures à décoller et les couches qui les constituent et que l'on décolle par le terme générique de " wafer ", qui correspond au terme français de " tranche ". L'état de surface des wafers est un facteur extrêmement important, des spécifications très sévères étant imposées en vue de l'utilisation ultérieure des wafers issus du décollement, par exemple pour constituer des composants pour l'électronique, I'optique ou l'optoélectronique. Cet état de surface est notamment caractérisé par la rugosité de surface des wafers issus du décollement. Il est ainsi courant de trouver des spécifications de rugosité ne devant pas dépasser 5 Angstroms en valeur rms (correspondant à l'acronyme anglosexon " root mean square ") Les mesures de rugosité sont généralement effectuces grâce à un microscope à force atomique (AFM selon l'acronyme qui correspond à l'appellation anglo-sexonne de Atomic Force Microscope). Avec ce type d'appareil, la rugosité est mesurée sur des surfaces balayées par la pointe du microscope AFM, allant de 1x1 m2à 10x10 1lm2 et plus rarement 50x50 1lm2, voire 100x100 m2. o On précise également qu'il est possible de mesurer la rugosité de surface par d'autres méthodes, en particulier par le biais d'une mesure de " haze " selon la terminologie anglo-saxonne répandue. Cette méthode présente notamment l'avantage de permettre de caractériser rapidement l'uniformité de la rugosité sur toute une surface. Ce heze, mesuré en ppm, est issu d'une méthode utilisant les propriétés de réflectivité optique de la surface à caractériser, et correspond à un " bruit de fond " optique diffusé par la surface, en raison de sa micro rugosité. Un exemple de lien entre le haze et la rugosité est représenté, dans 2 o le cas de la surface d'un SOI, sur la figure 1. On précise que les mesures de haze qui seront exposées dans ce texte, sont effectuées selon le même protocole et par le même dispositif, en l'occurrence par un instrument de type KLA Tencor Surfscan SPI (marque déposoe). On précise également que le procédé de type SMARTCUTé peut également être mis en _uvre pour constituer des structures autres que des SOI, par exemple des SOA (Silicon On Anything selon la terminologie anglosaxonne répandue: silicium sur un matériau quelconque), ou même des AOA (Anything On Anything selon la terminologie anglo-saxonne 3 o répandue: matériau quelconque sur un matériau quelconque). Les recuits de clivage et de décollement sont classiquement mis en _uvre dans des fours de recuits dont la configuration est illustrée sur la figure 2. De tels fours peuvent traiter simultanément une pluralité de wafers. La figure 2 montre ainsi une pluralité de wafers 10 disposés sur un réceptacle 11 tel qu'une nacelle en quartz, les wafers étant alignés parallèlement les uns aux autres. La nacelle 11 est elle-méme placée sur une pelle 12, fixée à une porte 13 d'obturation de la gueule du four. L'ensemble 100 formé par la porte 13, la pelle 12 et la nacelle et les owafers portés par la pelle est mobile par rapport à une structure de four 20, qui comprend un tube de process en quartz 21 autour duquel est enroulé un élément chauffant 22. Une canne pyrométrique 23 équipée de thermocouples est également prévue. sLe four de la figure 2 est représenté en position ouverte. En position fermée, I'ensemble 100 est engagé dans la structure de four 20, la porte 13 obstruant la gueule du four. A l'intérieur de chaque wafer à décoller, les deux couches constituant le wafer se font face de sorte que les surfaces utiles pour lesquelles on osouhaite contrôler de manière extrêmement précise l'état de surface sont placées face à face. Il est donc particulièrement important de prendre des mesures pour assurer un état de surface (notamment rugosité) le meilleur possible pour ces surfaces utiles. sReprenant l'état de la technique illustré sur la figure 2, on dispose ainsi les wafers à décoller verticalement. De la sorte, on prévient les mouvements des deux couches de chaque wafer à décoller qui ne bougent pas l'une par rapport à l'autre (notamment à l'issue du décollement, lorsque l'on retire les couches décollées du four). Un tel mouvement relatif des deux couches risquerait en effet de produire des rayures sur les faces des couches décollées. Et il est également très important que l'état de surface - et notamment la rugosité - de ces couches soit aussi homogène que possible, à la surface de la couche. La figure 3 illustre la rugosité de surface d'un wafer SOI après s décollement suite à un recuit de clivage réalisé de manière classique dans un four de recuit tel que représenté sur la figure 2. La rugosité est représentée au travers d'une mesure de heze. Cette figure illustre une dissymétrie de la rugosité du SOI, qui correspond à un haze moins élevé sur la partie du SOI situce dans la partie o basse du four (I'encoche - dite " notch " - du SOI qui est placée en bas lors du recuit étant située sur la figure à " 9 heures ", à gauche de la figure 3). Il appara^'t ainsi que si les recuits de décollement connus permettent effectivement d'éviter les mouvements pouvant conduire à la formation de rayures, ils favorisent les inhomogénéités de rugosité à la surface des couches issues du décollement. Ceci constitue un inconvénient, auquel l'invention se propose de répondre. Afin d'atteindre ce but, I'invention propose un procédé de clivage de deux couches d'un wafer selon une surface de fragilisation définie entre les deux couches, le procédé comprenant un recuit thermique du wafer comprenant lesdites couches, caractérisé en ce que lors du recuit ledit wafer est disposé sensiblement horizontalement. Des aspects préférés, mais non limitatifs de ce procédé sont les 2 5 suivants: on place la structure dans un logement entre deux électrodes chauffantes, À on prévoit des moyens pour réaliser une manutention des couches de matériau dans une position horizontale, 3 o. Iadite manutention est réalisée individuellement, pour chaque wafer, Iadite manutention est réalisée individuellement, pour chaque couche, on recuit simultanément une pluralité de wafers, chaque wafer étant placé entre deux électrodes chauffantes. Et l'invention propose selon un autre aspect l'application d'un procédé tel que mentionné ci-dessus pour cliver deux couches de matériau délimitées par une surface de fragilisation, ladite surface de fragilisation ayant été réalisée dans le cadre d'un procédé de type SMARTCUT@. Des aspects préférés, mais non limitatifs d' u ne tel le application sont les suivants: À Ies deux couches de matériau comprennent une couche de siliclum, o. Ies deux couches de matériau sont deux couches de silicium, une des deux couches correspondant à la couche superficielle d'un SOI, I'autre couche correspondant à un reliquat de silicium. Enfin, I'invention propose un dispositif de recuit de clivage d'un wafer, comprenant un four apte à recevoir au moins un wafer, caractérisé s en ce que chaque wafer est reçu dans un logement en position horizontale, de sorte que le recuit de clivage est réalisé tandis que le wafer est en position horizontale. Dans une variante, le dispositif comprend également des moyens de manutention des wafers et/ou des couches qui constituent lesdits wafers, à 2 o 1'horizontale. D'autres aspects, buts et avantages de l'invention appara^tront mieux à la lecture de la description suivante d'une forme de réalisation de l'invention, faite en référence aux dessins annexés sur lesquels, outre les figures 1 à 3 qui ont déjà été commentées en référence à 1'état de la 2 technique: Ia figure 4 représente schématiquement une installation de recuit de clivage permettant de mettre en ceuvre l'invention, Ies figures 5a et 5b représentent respectivement des répartitions spatiales de haze à ia surface de deux SOI, le SOI de la figure 5a ayant subi un recuit de clivage dans un four habituellement utilisé à cet effet selon l'état de la technique, le SOI de la figure 5b ayant quant à lui subi un recuit de clivage en étant disposé horizontaiement dans son four de recuit, selon l'invention. En référence maintenant à la figure 4, on a représenté un four 30 mis en _uvre selon l'invention pour réaliser un recuit de clivage d'une pluralité de wafers 10. On remarque tout d'abord que dans ce four, les wafers ne sont pas disposés verticalement comme dans l'état de la technique, mais horizontalement. Plus précisément, chaque wafer 10 est placé dans un logement 31 o défini par deux électrodes voisines 32 d'une pluralité d'électrodes du four 30. Et ces électrodes 32 s'étendant parallèlement les unes aux autres selon une direction horizontale, elles définissent des logements 31 horizontaux, pouvant chacun recevoir un wafer 10 à décoller, en position horizontale. Le chauffage est assuré par un gaz qui pénètre dans les logements 31 par des entrées respectives 310, ce gaz étant lui-même échauffé par les électrodes délimitant chaque logement. On précise que le gaz " chauffant " peut servir uniquement à diffuser la chaleur issue des électrodes sur les wafers. Il peut également avoir été préchauffé, avant son introduction dans le four. La configuration spécifique du four " horizontal " qui est utilisé selon l'invention pour réaliser un recuit de clivage permet d'éliminer les effets de gradient de température dans le four, entre les parties haute et basse du four. Ceci conduit à améliorer sensiblement l'homogénoité de la rugosité à la surface des couches, après leur décollement. A cet égard, on a illustré sur les figures 5a et Ob l'effet de l'utilisation selon l'invention d'un four " horizontal " pour un recuit de clivage. La figure 5a représente la répartition de haze à la surface d'un SOI décollé suite à un recuit de clivage classique, dans un four " vertical " tel qu'illustré sur la figure 2. Cette figure, analogue à la figure 3, fait appara^'tre une "zone dense " qui correspond dans la partie inférieure droite de la couche, à une inhomogénéité de rugosité. La figure 5b, au contraire, montre une rugosité parfaitement symétrique d'un SOI décollé suite à un recuit de clivage effectué dans un four " horizontal ", selon l'invention. Et cette rugosité ne présente plus la caractéristique de " zone dense " observée dans le cas du SOI de la figure 5a. Il appara^'t ainsi que l'utilisation selon l'invention d'un four o " horizontal " permet de s'affranchir des problèmes de " zone dense " de rugosité mentionnés ci-dessus à propos des recuits de clivage de l'état de la technique. On précise par ailleurs que des dispositions sont également prévues dans le cas du four " horizontai >> de la figure 4, pour éviter tout mouvement des couches qui pourrait générer des rayures - notamment lors du déchargement des couches décollées hors du four. A cet égard, on a représenté sur la figure 4 un robot de manutention , qui est apte à: saisir individuellement: o les wafers, pour les introduire dans le four, et les couches décollées, pour les sortir du four après le clivage. On précise qu'il est également envisageable de ne procéder qu'à un recuit de clivage sans achever le décollement des wafers, ce décollement pouvant être achevé hors du four après le s déchargement par le robot 40 des wafers clivés (par exemple par une action mécanique), et à se déplacer selon une direction 41 (ainsi que selon une direction " verticale " qui lui est perpendiculaire), pour effectuer les chargements et déchargements nocessaires (en traitant chaque wafer o individuellement) on précise que dans le cas o on réalise effectivement le décollement des deux couches du wafer lors du recuit, les deux couches du wafer qui se trouvent décollées peuvent étre déchargées séparément par le robot. A cet égard, le bras 42 du robot qui saisit les wafers eVou les couches peut comprendre un moyen tel qu'une ventouse pouvant étre mise en dépression sélectivement, ou encore un moyen manipulant les tranches par leur bord pour saisir chaque couche indépendamment de la couche dont elle a été décollée, ou bien encore un moyen permettant de manipuler les deux couches simultanément en vue de leur décoliement à l'extérieur du four. Lors de ces manutentions par le robot 40, les wafers et couches o demeurent horizontaux. On précise que si les exemples ci-dessus ont été décrits en référence à un clivage permettant de générer un SOI, en particulier par un procédé du type SMARTCUT@, I'invention s'applique au clivage de toute structure comportant une surface de fragilisation permettant de délimiter des couches. REVENDICATIONS 1. Procédé de clivage de deux couches d'un wafer selon une surface de fragilisation définie entre les deux couches, le procédé comprenant un recuit thermique du wafer comprenant lesdites couches, caractérisé en ce que lors du recuit ledit wafer est disposé sensiblement horizontalement. 2. Procédé selon la revendication précédente, caractérisé en ce que on o place la structure dans un logement (31) entre deux électrodes chauffantes (32). 3. Procédé selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que l'on prévoit des moyens (40) pour réaliser une manutention des couches de matériau dans une position horizontale. 4. Procédé selon la revendication précédente, caractérisé en ce que ladite manutention est réalisée individuellement, pour chaque wafer. o 5. Procédé selon l'une des deux revendications précédentes, caractérisé en ce que ladite maoutention est réalisoe individuellement, pour chaque couche. 6. Procédé selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que l'on recuit simultanément une pluralité de wafers, chaque wafer étant placé entre deux électrodes chauffantes. 7. Application d'un procédé selon l'une des revendications précédente(s) pour cliver deux couches de matériau délimitées par une surface de fragilisation, ladite surface de fragilisation ayant été réalisée dans le cadre d'un procédé de type SMARTCUT@. 8. Application selon la revendication précédente caractérisée en ce que les deux couches de matériau comprennent une couche de silicium. 9. Application selon l'une des deux revendications précédentes caractérisée en ce que les deux couches de matériau sont deux couches de siliclum, une des deux couches correspondant à la couche superficielle d'un SOI, I'autre couche correspondant à un reliquat de silicium. 10. Dispositif de recuit de clivage d'un wafer, comprenant un four (30) apte à recevoir au moins un wafer, caractérisé en ce que chaque wafer est reçu dans un logement en position horizontale, de sorte que le recuit de clivage est réalisé tandis que le wafer est en position horizontale. 11.Dispositif selon la revendication précédente caractérisée en ce que le dispositif comprend également des moyens (40) de manutention des