Brevet FR2834286A1 — publié le 20030704

réacteur selon leur activité. {: tr Dispositif pour la recharge de préforme pour fibre optique La présente invention se rapporte à un dispositif pour le dépôt externe de s silice, éventuellement dopée, sur un barreau en présence d'un plasma crcé par induction à l'aide d'un générateur haute fréquence. Ce procédé est également appelé procédé de recharge par plasma, cette opération étant traduite par le terme "plasma overcladding" en langue anglaise. Elle s'étend en outre à un dispositif pour la mise en _uvre de ce procédé. Ce procédé et ce dispositif servent o notamment à la fabrication de préformes destinces à être par la suite transformoes par étirage en fibres optiques pour câbies de télécommunications. La fabrication de fibres optiques à partir de préformes est classique. L'obtention d'une préforme par la technique de la recharge plasma est connue; elle est décrite, par exemple, dans le document EP- O 450 465. Un procédé connu s de fabrication ou de recharge de préformes destinées à la production de fibres optiques prévoit un dépôt de silice sur une préforme primaire qui est munie d'embouts de support à ses extrémités et qui est portée par des moyens lui permettant de se déplacer selon son axe et de tourner par rapport à une flamme d'une torche plasma inductive, dans laquelle des grains de silice d'origine naturelle ou synthétique sont iniectés et fondus. Ce procédé permet de récliser une préforme de diamètre déterminé, à partir d'une préforme primaire de diamètre moindre, par superposition d'une succession de couches de silice concentriquement réclisoes. Le document FR-2 253 723 décrit un équipement pour la préparation d'une préforme destince à fournir un guide d'onde optique. En partant d'un tobe ou d'un barreau appelé à constituer une région de c_ur, on effectue un dépôt interne ou externe d'une seconde composition. Le dépôt est réclisé par déplacement en translation du tobe ou barreau devant le dard d'un chalumeau à plasma dont la chambre de projection est alimentée en poudre ultra fine de la seconde composition. Le chalumeau recoit d'une source un gaz plasmagène, de préTérence de l'argon. La poudre fine servant à la formation du dépôt est 2 2834286 véhiculée par un gaz porteur, de préTérence de l'argon. Un chalumeau à plasma permet une vitesse de sortie de Ic poudre d'au moins 1 00m/s. Le document EP-0 401 742 décrit un procédé de dépôt externe sur un barreau de silice en présence d'un plasma créé par une bobine d'induction s alimentée par un générateur à haute fréquence. Un gaz plasmagène tel que de l'oxygène, de l'azote ou de l'argon est introduit dans la torche. Le dépôt s'effectue à l'aide d'une buse d'injection dirigeant vers le barreau un mélange d'oxygène et d'un composé du silicium, et éventuellement de composés dopants. Le document EP-0 658 520 décrit un procédé de recharge d'une préforme o pour fibre optique à l'aide d'une torche à plasma dans laquelle le gaz plasmagène est en particulier de l'air sauf pour l'amorcage de ia torche pour lequel l'air est remplacé par un courant d'argon. Des grains de silice naturelle ou synthétique sont injectés dans la flamme de la torche et la silice fondue est projetée sur la préforme prima ire en translation deva nt la fla m me. Le document US-5,861,047 décrit un procédé utilisant une torche plasma isotherme. On utilise par exemple de l'oxygène ou un plasma contenant de l'oxygène comme un mélange oxygène / argon. Le docoment EP-0 982 272 décrit un procédé de traitement de surface d'une préforme de fibre optique par un jet de plasma généré par une bobine RF alimentée par un générateur RF. On conna^'t une large variété de gaz susceptibles d'étre utilisés dans une torche à plasma isotherme. Par exemple les gaz contenant au moins de l'oxygène, de l'argon, de l'azote ou de l'hélium avec la possibilité d'y ajouter un autre gaz. La puissance de la torche plasma (c'est à dire du générateur RF) varie de 10 à 100kW selon la fréquence, et notamment de 20 à 60kW à environ 3MHz. Da ns un souci d'amél ioration de la prod uctivité du procédé de recharge, on cherche à augmenter la vitesse de recharge et le diamètre des préformes ainsi traitées. L'augmentation de la vitesse de recharge correspond à une augmentation de la quantité de matière fondue par unité de temps de procédé, la difficulté étant de réussir à fondre des quantités importantes de grain. L'accroissement du diamètre des préformes traitées entrane une augmentation de l'inertie thermique et de la surface à chauffer. La nature du gaz employé pour générer le plasma contribue à améliorer cette efficacité thermique. Dans l'état de l'art connu, on utilise de prélérence dans ce but un gaz diatomique tel que l'oxygène, I'azote ou avantageusement des l 3 2834286 mélanges de gaz diatomiques tels que l'air, car ce type de gaz possède intrinsèquement un pouvoir thermique supérieur à celui des gaz monoctomiques, grace à l'énergie de dissociation des molécules gazeuses: Gaz diatomique: exemple de l'oxygène s dissociation: 0 = 2 O avec la quantité d'énergie associée Gdjssocjatjon = 494 kJ/mol .. onsaton: 0 = 0+ + e avec la quatité d'énergie associée Gjonjsc',jon = 1308 kJ/mol Gaz monoctomique: exemple de l'argon 0 ionisation: Ar = Ar+ + e avec la quantité d'énergie associée AG'onjs (494 + 2*1308 = 3110 kJ/mol) ou de l'azote (962 + 2*1397 = 3756 kJ/mol). Dans les applications de faible puissance utilisant des plasmas dargon, il est connu d'ajouter une faible proportion de gaz diatomique (hydrogène, azote, oxygène...) pour augmenter significativement les propriétés thermiques du plasma diargon, tout en restant dans les possibilités de puissance du générateur et de résistance de la torche employée. Tous les moyens actuellement mis en _uvre consistent à augmenter l'efficacité thermique de la flamme plasma, soit par augmentation de la puissance du générateur qui alimente la torche, soit par augmentation de la taille de la torche (flamme plus large). Or le comportement hydrodynamique du plasma devient instable dans certaines conditions. En particulier il est difficile de stabiliser un plasma dans une torche de gros diamètre ce qui se traduit par une tendance à l'extinction. Ceci pose un problème puisqu'une torche de gros diamètre est indispensable à l'utilisation de fortes puissances électriques sans quoi, la proximité so entre la torche et le plasma conduisent à la destruction de la torche. La présente invention a pour but de proposer une installation pour la recharge dune préforme comprenant une torche à plasma inductif dans lequel la stabilité de la flamme plasma est améliorce. 4 2834286 L'objet de la présente invention est une installation pour la fabrication ou la recharge d'une préforme de fibre optique comportant une torche à plasma inductif obtenu par un gaz plasmagène et des moyens d'apport de matière, caractérisée en ce que ledit gaz plasmagène est un mélange d'un premier gaz choisi parmi les gaz diatomiques et les mélanges d'au moins deux gaz, et d'argon dans une proportion volumique comprise entre 0,5% et 10%. Par sa présence, I'arpon n'apporte pas d'amélioration des propriétés thermiques comme expliqué précédemment, mais il apporte une amélioration des propriétés électriques du plasma qui sont une des causes de stabilité et d'efficacité o de couplage électromagnétique. Il en ressort une plus grande concentration en électrons dans le gaz qui facilite le chauffage électromagnétique de l'ensemble du mélange gazeux, y compris du gaz plasmagène diatomique qui va apporter l'efficacité thermique du plasma Il est donc possible d'envisager des diamètres de torche supérieurs à ceux i5 actuellement utilisés, afin d'employer des générateurs de plus forte puissance. Ceci va dans le sens de vitesses de dépôt plus élevoes tout en maintenant une qualité de fusion du verre acceptable. La torche plasma selon l'invention a un diamètre compris entre 60mm et mm, et de préférence entre 60mm et 1 20mm. Sa puissance est comprise entre 20kW et 200kW. L'invention sera mieux comprise et d'autres avantages et particularités appara'^tront à la lecture de la description qui va suivre, donnce à titre non limitatif, accompagnée des dessins annexés parmi lesquels: - la figure 1 est la représentation schématique d'une préforme en cours de fabrication à 1'aide d'une installation selon 1'invention, - la figure 2 montre une vue schématique de 1'installation de la figure 1 selon l'axe longitudinal de la préforme, - la figure 3 est une vue en coupe d'une préforme après recharge selon l'invention. La figure 1 représente une installation pour la fabrication, notamment pour la recharge d'une préforme 1 primaire ayant une ame centrale support 2. Cette installation comprend des moyens de chauffage par torche à plasma 3 à induction et des moyens d'apport de matière positionnés radialement par rapport 2834286 à la préforme 1. Les moyens d'apport de matière non représentés associés à la torche à plasma 3 sont classiquement utilisés pour injecter des grains de silice dans la flamme de la torche 3 qui en assure la fusion. On a simplement illustré une torche à plasma 3 et la bobine d'induction 4 qui lui est associée de manière connue, sans le générateur d'énergie électrique relié à cette bobine 4. On a en outre représenté une conduite 5 débouchant dans le fond de la torche et servant à l'amenée d'un gaz plasmagène dans la torche. Dans le cas présent, le gaz plasmagène est de l'air, composé d'environ 80% en volume d'azote N2 et de 20% en volume d'oxygène 02, contenant 5% en volume d'argon. L'injection de grains o de silice naturelle ou synthétique dans la flamme de la torche pour la recharge de la préforme 1 à partir de ces grains est schématisé par la flèche 6. De préférence, ladite torche à plasma 3 est telle que la quasitotalité de la surface extérieure de la préforme atteint une température supérieure à 2000 C en cours de traitement, de façon encore plus préTérce supérieure à 2300 C. Cela correspond à un chauffage convectif de puissance d'induction généralement comprise entre 50 et 100kW, de préférence entre 70 et 1 00kW. La recharge d'une préforme 1 primaire en vue d'obtenir une préforme exploitable pour la production d'une fibre, est réclisoe par le dépôt, par passes successives, d'une suite de couches concentriques superpososs. De façon connue, I'installation permet un mouvement relatif de translation longitudinal de la torche à plasma 3 et des moyens d'apport de matière dans un plan transversal à l'axe longitudinal 7 de la préforme 1, de façon à ce que la quasi-totalité de la surface extérieure de la préforme 1 puisse être au moins une fois chauffée au cours du traitement. En outre la préforme 1 est en rotation sur elie-même selon son axe longitudinal 7. L'installation comprend des moyens de rotation 8 d'axe de rotation horizontal 7 sur lesquels est montée l'âme support 2 de la préforme 1 à recharger. Il est envisageable que la torche soit déplacée en translation par rapport à la préforme, mais plus classiquement la préforme est montée sur un tour et celui-ci assure les déplacements en translation de la préforme, tenue par ses extrémités, par rapport à la torche alors fixée. Dans la forme de réclisation représentée sur la figure 1, les moyens de rotation 8 sont embarqués sur un châssis mobile 9 en translation parallèlement à l'axe de rotation 7, la torche à plasma 3 et les moyens d'apport de matière étant fixes. La préforme 1 en cours de recharge est translatée en même temps que le châssis 9 auquel elle est attachée en deux points d'appui qui sont les points de montage8a, 8b de l'âme support2 sur les moyens de 6 2834286 rotation 8. La recharge de la préforme comprend une pluralité de passes de la préforme 1 en regard de la torche à plasma 3 et des moyens d'apport de matière. Cela permet avantageusement par un procédé automatisé de traiter la quasi-totalité de la surface extérieure de la préforme avec le meilleur rendement. Selon un tel mode de réclisation préféré, pour une préforme de diamètre compris entre 15mm et 200mm, la vitesse de déplacement relatif longitudinal du moyen de chauffage et de la préforme est compris entre 5 et 100 mm/mn et la préforme est en rotation sur elle-même selon son axe longitudinal avec une vitesse de rotation comprise entre 5 et 100 tours/mn. to De préférence, I'instailation comporte en outre des moyens de soutien commandés 10 disposés entre les points de montage 8a, 8b et constituant des points d'appui complémentaires de la préforme 1. Ainsi, si l'on choisit judicieusement l'emplacement des moyens de soutien commandés 10, on peut diminuer la flèche due à la masse de la préforme 1 en cours de fabrication ou en s cours de recharge. La figure 2 représente une vue dans une direction perpendiculaire à celle de la figure 1 de l'installation de recharge plasma dans laquelle peut étre mise en _uvre l'invention. Cette installation comprend, dans une enceinte21, pourvue d'u ne fenêtre tra nspa rente 22, la préforme 1 prima ire vue de bout, vers laquel le sont dirigés une torche à plasma 3 et des moyens d'alimentation 23 en grains de recharge. A l'extérieur de l'enccinte, une caméra 24 peut étre disposoe derrière la fenêtre 22 et pointée sur la préforme 1. Elle fournit une mesure du diamètre de la préforme, à l'endroit o elle est pointée, sous la forme d'une valeur transmise par une liaison 2!; à un dispositif de commande de processus de recharge 26. Ce 2s dernier recoit, par une liaison multiple 27, d'autres indications sur des conditions d'exécution du processus de recharge. Sous l'effet d'un programme interne de conduite de processus de recharge, le dispositif26 fournit, sur une liaison de sortie 28, une valeur de commande de débit de grains à un doseur de débit de grains 29 qui alimente en conséquence la buse 23. Le dispositif 26 aussi, sur une liaison multiple de sortie 30, d'autres valeurs de commande déterminant d'autres aspects de l'exécution du processus de commande. La recharge plasma s'opère par passes successives, de droite à gauche, puis de gauche à droite, au cours desquelles la torche à plasma 3 et la buse23 balaient la longueur de la préforme 1. Ces dispositions d'une installation de dépôt externe par plasma de silice sur une ébauche ou autre, notamment sur une préforme primaire, sont en tant que telles connues, notamment du document EP- 0 440 130, et ne sont de ce fait que partiellement représentées. Elles permettent de délivrer les grains de silice dans la flamme et de projeter la silice fondue sur la préforme primaire montée rotative et mobile en translation devant la flamme, la silice déposée latéralement su r la préforme prima ire se vitrifiant directement sur celle-ci. La technique de recharge par plasma de silice pure ou dopée permet de récliser directement la vitrification de la silice de recharge sur une préforme o primaire. Elle a aussi l'avantage de pouvoir être mise en _uvre sur une préforme réclisoe par l'un des différents procédés connus, tels que notamment le procédé dit MCVD, acronyme de "Modified Chemical Vapor Deposition"ou sa variante FCVD, acronyme de "Furnace Chemical Vapor Deposition" utilisant un four à la place d'un chalumeau. Dans le cadre d'une fabrication d'une préforme primaire par technologie dite MCVD, on réclise un dépôt successif de couches de silice éventuellement dopée à l'intérieur d'un tube en silice, puis on procède au rétreint du tube ainsi intérieurement revêtu en un barreau qui est la préforme primaire. La technique de recharge permet donc de compléter en épaisseur la couche externe de la préforme primaire, le matériau de recharge par plasma étant alors également aussi proche que possible de celui de la couche externe de la préforme primaire. Elle permet aussi de récliser la totalité de la gaine externe de la préforme finale issue de la recharge en partant d'une préforme primaire. Lors de la réclisation de la gaine externe, le matériau de recharge est choisi pour présenter un indice de réTraction différencié convenablement par rapport à celui de la gaine optique qu'il recouvre. La préforme primaire 1 de fibre optique avant traitement de recharge est une préforme primaire issue d'un procédé MCVD, réclisée par dépôt interne de couches à base de silice éventuellement dopée formant un c_ur optique 31 et une gaine optique 32 dans un tube 33, suivi d'une transformation, par rétreint, du tube ainsi intérieurement revêtu en un barreau qui est la préforme primaire 1. En se référant à la figure 3, on voit en coupe la préforme 34 après recharge selon l'invention, ou la fibre optique issue de cette préforme. La préforme34 est constituée de la préforme primaire 1 et d'un revêtement optique formé d'au moins une couche 35 de silice pure. Elle résulte de la recharge par plasma réclisée selon I'invention, conduisant au dépôt de la couche 35 sur la préforme primaire 1. Le , 2834286 c_ur 31 et la gaine optique 32 sont en silice dopée convenablement. Ils présentent, I'un par rapport à l'autre et relativement au revêtement constitué par la couche 35 de silice, des indices de réfraction différenciés, ainsi qu'il est bien connu pour la réclisation de préforme de fibre optique. 9 2834286 REVENDICATIONS 1. Installation pour la fabrication ou la recharge d'une préforme de fibre optique comportant une torche à plasma inductif obtenu par un gaz plasmagène et des moyens d'apport de matière, caractérisse en ce que ladit gaz s plasmagène est un mélange d'un premier gaz choisi parmi les gaz diatomiques et les mélanges d'au moins deux gaz, et d'argon dans une proportion volumique comprise entre 0,5% et 10%. 2. Installation selon la revendication 1, dans laquelle ladite torche à plasma a un diamètre compris entre 60mm et 200mm. o 3. Installation selon la revendication 2, dans laquelle ladite torche à plasma a un diamètre compris entre 60mm et 1 20mm. 4. Installation selon l'une des revendications précédentes, dans laquelle la puissance de ladite torche à plasma est comprise entre 20kW et 200kW. 5. Procédé de fabrication d'une fibre optique comprenant une opération s de recharge d'une préforme primaire réclisée au moyen de l'installation selon la revendication 1. 6. Procédé selon la revendication 5 dans lequel ladite préforme primaire est issue d'un procédé MCVD ou FCVD. 7. Préforme pour fibre optique réclisée par recharge d'une préforme primaire au moyen de l'installation selon la revendication 1. 8. Préforme selon la revendication 7 dans lequel ladite préforme primaire est issue d'un procédé MCVD ou FCVD. 9. Fibre optique obtenue à partir de la préforme de l'une des revendications 7 et 8.