Brevet FR2830976A1 — publié le 20030418

tion par un vérin (12) permettant de séparer la cloche du plateau (2, 3). GRILLES ANTI-DIFFUSANTES A FAIBLE ATTENUATION ET PROCEDE DE FABRICATION DE TELLES GRILLES L' invention concerne les grilles anti-diffusantes utilisées en imagerie par rayons X. Les appareils d'imagerie radiologique comprennent classiquement une source de rayons X et un récepteur d'image entre lesquels est positionné l'objet dont on souhaite réaliser une image. Le faisceau émis par la source traverse l'objet avant d'atteindre le détecteur. Il est en partie absorbé par la structure interne de 1'objet de sorte que 1'intensité du faisceau reçu par le détecteur se trouve atténuée. L'atténuation globale du fa isceau après traversée de l' objet est directement li ée à la distribution d'absorption dans l'objet. Le récepteur d'image comprend un détecteur opto-électronique ou un couple film/écran renforçateur sensible à 1'intensité du rayonnement. Par conséquent, I'image générée par le récepteur correspond en principe à la distribution des atténuations globales des rayons dues à la traversée des structures internes de l'objet. Une partie du rayonnement émis par la source est absorbée par la structure interne de 1'objet, I'autre partie est soit transmise (rayonnement primaire ou direct), soit diffusée (rayonnement secondaire ou diffusé). La présence de rayonnement diffusé conduit à une dégradation du contraste de l'image obtenue et à une réduction du rapport signal/bruit. Ceci est particulièrement gênant, en particulier lorsqu'on souhaite visualiser des détails de 1'objet. Une solution à ce problème consiste à intercaler une grille " anti diffusante " entre l'objet à radiographier et le récepteur d'image. Ces grilles sont habituellement formées d'une série de lames parallèles en matériau absorbant les rayons X. Dans les grilles dites a focalisées " (selon la terminologie définie par la norme CEI 60627 concernant les " Equipement de diagnostique par imagerie à rayonnement X - Caractéristiques des grilles antidiffusantes d'usage général et de memmographie "), tous les plans des lames se coupent suivant une même droite passant par le point focal du rayonnement émis par la source. Ainsi, ces grilles permettent de laisser passer le rayonnement direct et d'absorber le rayonnement diffusé. Ces grilles anti-diffusantes ont permis d'améliorer considérablement le contraste des images obtenues. Les grilles anti-diffusantes traditionnelles sont constituées d'une série de lames paral l èl es orientées constituées d' un matériau absorbant fortement les rayons X tel que le plomb par exemple, maintenues entre des interlames en matériau plus transparent aux rayons X que les lames, tel que l'aluminium ou les fibres cellulosiques (papier ou bois). L'inconvénient de telles grilles est qu'elles ne permettent pas de réduire le taux de rayonnement diffusé dans une direction parallèle au plan des lames. C'est pourquoi il existe des grilles croisées présentant deux séries de lames absorba ntes, l es de ux séri es étant position nées perpendiculairement l'une par rapport à l'autre. Ces grilles permettent d'obtenir un filtrage bidimensionnel et ainsi de réduire davantage l'angle solide sous lequel un point du récepteur voit l'objet. Cependant, la présence des interlames entre les lames réduit la transmission du rayonnement direct à travers la grille. Par conséquent, la dose de rayons X nécessaire pour obtenir une image de bonne qualité doit être augmentée (en particulier en memmographie). Récemment, plusieurs méthodes pour obtenir des grilles sans interlames ont été proposées. Une méthode pour obtenir un filtrage bidimensionnel consiste à superposer des grilles unidimensionnelles. Le document US 5 307 394 publié le 26 avril 1994 décrit un dispositif anti-diffusant comprenant une superposition de plusieurs grilles. Chaque grille présente des lames absorbantes para l l èl es séparées par des ouvertures, l es lames étant positionnées avec un angle compris entre O et 89,9 par rapport au faisccau central perpendiculaire au plan du récepteur. Ces grilles présentent une épaisseur telle que le rapport de l'épaisseur de la grille à la distance entre les lames est supérieur à 1. Cette caractéristique garantit un filtrage des rayons dont l 'angle d' incidence est élevé, afi n d'assurer u n bon fi ltrage des rayons diffusés. Une autre méthode consiste à réaliser directement des grilles bidimensionnelles dans un support monobloc. Cette solution présente l'avantage d'étre plus isotrope. Le document US 5 389 473 publié le 14 février 1995 décrit un procédé de fabrication d'une grille antidiffusante consistant à réaliser une grille à partir d'une plaque de verre en pratiquant des ouvertures dans ladite plaque par photogravure et attaque chimique (par exemple à l'acide fluorhydrique). Un tel procédé conduit à l'obtention d'un réseau de cellules séparéss par des cloisons. Les cloisons sont ensuite recouvertes d'une couche de matériau absorbant les rayons X. Le document WO 94/17533 publié le 4 août 1g94 décrit une grille anti-diffusante comprenant un treillis formé dans une plaque de verre constitué de cellules séparées par des cloisons. Les cloisons sont recouvertes d'une couche de matériau absorbant, non seulement à l'intérieur des cellules, mais aussi au niveau de leurs bordures correspondant aux surfaces supérieure et inférieure de la plaque de verre. L'inconvénient des grilles formées à partir d'une plaque de verre est qu'elles présentent une densité élevée, par conséquent elles absorbent une partie importante du rayonnement direct. Plus récemment, dans le domaine de la mammographie, un autre type de grille bidimensionnelle a été mis au point. Le document US 5 606 589 publié le 25 février 1997 décrit une grille anti-diffusante comprenant des fines plaques métalliques micro-gravées pour former un treillis. Les plaques sont superposées de man ière à former une gri l le focal isée. E l les sont maintenues empilées par collage. Une telle grille présente l'avantage de ne pas nécessiter d'interlames ou autres éléments intermédiaires qui réduisent la transmission des rayons X. Le document US 5 814 235 publié le 29 septembre 1998 décrit un procédé de fabrication d'une telle grille. Ce procédé consiste à former par photogravure dans une feuille métallique une structure en treillis comprenant des cellules séparées par des segments s'étendant dans des directions transverses. Les feuilles sont ensuite plongées individuellement dans un bain d'adbésif. Elles sont empilées les unes sur les autres de manière à aligner les segments pour former des cloisons entre les cellules puis serrées entre elles en position. Un tel procédé permet en particulier d'obtenir des grilles robustes. Le document US 6 075 840 généralise ce type de grilles pour des applications autres que la memmographie. L'inconvénient des méthodes qui précèdent est qu'elles sont basées sur une attaque chimique de couches de matériaux et entrainent par conséquent une perte importante de matière, donc des coûts importants. Par ailleurs, un inconvénient des grilles anti-diffusantes en général est qu'elles masquent une partie du récepteur d'image et laissent leur empreinte sur l'image obtenue. Pour résoudre ce problème, la solution la plus courante consiste à légèrement déplacer la grille durant la prise de vue. Ainsi, I'image obtenue consiste en la superposition d'images pour lesquelles la grille se trouve dans différentes positions. Dans certains cas, il n'est possible de translater la grille que suivant une seule direction (en particulier en memmographie o la direction de déplacement est parallèle à la cage thoracique du patient). Dans ce cas, les empreintes des segments ou des cloisons qui se trouvent positionnés parallèlement au sens de déplacement de la grille subsistent sur l'image obtenue. Le document US 5 970 118 publié le 19 octobre 1999 décrit une grille anti-diffusante formée dans une plaque de verre dans laquelle les cloisons des cellules ne sont pas parallèles au côté de la grille parallèle au sens de déplacement de celle-ci. Par exemple la grille peut être constituée de cellules présentant une forme carrée et orientées à 35 par rapport à un bord de la grille parallèle à la direction de déplacement. Un but de l'invention est de fournir une grille bidimensionnelle permettant de limiter le filtrage du rayonnement direct. A cet effet, I'invention propose une grille anti-diffusante pour appareil d'imagerie à rayons X du type comprenant un substrat présentant une pluralité de cloisons métallisoes qui définissent ensemble une pluralité de cellules réparties sur ledit substrat, ces cloisons permettant le passage des rayons X émis à partir d'une source se trouvant au droit de la grille, et absorbant les rayons X ne provenant pas directement de cette source, caractérisée en ce que le substrat est en un matériau polymère. Dans une mise en _uvre préférée de l'invention, les surfaces externes du substrat sont non métallisées, ce qui permet de laisser passer une partie du rayonnement direct à travers le substrat. Ceci permet d'augmenter encore la qualité de l'image sans augmenter les doses de rayonnement administrées au patient. Une telle grille présente l'avantage que le substrat constitué d'un matériau polymère est moins absorbant que les substrats en verre de l'art antérieur. Par conséquent, une telle grille laisse passer plus de rayonnement direct. Cette caractéristique permet en particulier de réduire les doses de rayonnement X administréss au patient. En outre, dans les grilles de l'art antérieur, I'épaisseur des cloisons devait être la plus réduite possible afin que le substrat absorbe le moins de rayonnement possible. Avec la grille de l'invention, dans la mesure o le substrat est moins absorbant que dans l'art antérieur, il peut répondre à des contraintes moins strictes de dimensionnement tout en présentant de meilleures performances. Un autre but de la présente invention est de fournir un procédé de fabrication rapide et économique de telles grilles. L'invention propose également un procédé de fabrication d'une grille antidiffusante comprenant un substrat en matériau polymère, selon lequel ledit substrat est obtenu par une technique de polymérisation sous I'effet d'un rayonnement, d'un monomère sensible à ce rayonnement. De telles techniques regroupent par exemple la photolithographie par laser (et en particulier la technique connue sous le terme " stéréolithographie ") ou la lithographie à rayons X. De manière préférée, le procédé de fabrication d'une grille anti diffusante comprend les étapes consistant à: - former par stéréolithographie un substrat présentant une pluralité de cloisons qui définissent ensemble une pluralité de cellules réparties sur ladit substrat, - déposer une couche de métal sur la surface du substrat. Avec un tel procédé, le substrat de la grille peut être formé dans une large gamme de matériaux de densité peu élevée. Il peut par exemple être constitué de résine époxyde ou résine acrylique qui sont des matériaux présentant une densité et un numéro atomique assez faibles pour être peu absorbants aux rayons X. Enfin, la formation du substrat par stéréolithographie permet d'obtenir des cellules de faibles dimensions. On préfèrera en particulier deux grands types de grilles: - des grilles présentant une ouverture de l'ordre de 200 à 300 m et comprenant des cloisons d'épaisseur comprise entre 50 et 100,um, - des grilles présentant un pas compris entre 50 et 100 m et comprenant des cloisons d'épaisseur comprise entre 20 et 50 m. D' autres caractéri sti ques et avantages de l 'i nvention ressortiront encore de la description qui suit laquelle est purement illustrative et non- limitative et doit être lue en regard des figures annexées parmi lesquelles: - la figure 1 est une représentation schématique du positionnement d'une grille anti-diffusante focalisée dans un dispositif de prise d'image, - la figure 2 est une représentation en coupe d'une grille conforme à un mode de réalisation de l' invention, elle illustre les chemins suivis par les rayonnements directs et diffusés à travers cette grille, - la figure 3 est une représentation schématique d'un substrat constitutif d'une grille anti-diffusante conforme à un mode de réalisation de l'invention, - la figure 4 est une représentation en coupe transversale avec des proportions exagérées d'un substrat focalisé obtenu par le procédé proposé par l'invention, - la figure 5 représente schématiquement une première étape de fabrication de la grille, cette étape correspond à la réalisation du substrat de la figure 4 par stéréolithographie, - la figure 6 représente schématiquement une étape intermédiaire de la réalisation du substrat durant laquelle une couche de polymère est réalisée par stéréolithographie, - la figure 7 est un schéma de détail de la grille obtenue. La figure 1 représente schématiquement le principe de fonctionnement d'une grille anti-diffusante focalisée 1 montée dans un appareil de prise d'image. La grille 1 est positionnée devant un écran 42 de détecteur de manière à ce que la source 44 de rayonnement soit située sur le point focal O de la grille 1. Une partie du rayonnement direct D émis par la source 44 traverse un objet 46 dont on souhaite obtenir l'image sans subir de déviation. Une autre partie d du rayonnement est diffusée par l'objet 46 de sorte qu'il arrive sur la grille avec un angle a par rapport à la direction de focalisation de la grille 1. Les cloisons internes de la grille 1 étant focaliséss, elles absorbent le rayonnement diffusé d. Sur la figure 2, on a représenté plus précisément les trejets de rayons X lors d'une prise d'image à travers une grille anti-diffusante conforme à un mode de réalisation de l'invention. Une telle grille comprend un substrat 2 en matériau polymère comprenant des cloisons 8 définissant des cellules 12. Les parois internes des cellules 12 sont recouvertes d'une couche métallique 14. Une partie D1 du rayonnement direct D traverse la grille 1 par le substrat 2 tandis qu'une autre partie D2 traverse la grille 1 par les cellules 12. A cause de la faible densité du polymère constituant le substrat 2, le rayonnement D1 se trouve peu atténué. Les parois internes des cellules 12 couvertes par une couche de métal 14 absorbent le rayonnement diffusé d arrivant sur la grille 1 avec un angle x trop important par rapport à la direction de focalisation de l'une des cellules 12. On préfèrera deux types de grilles: - un premier type de grilles présentant une ouverture x de l'ordre de 200 à 300,um et comprenant des cloisons d'épaisseur comprise entre 50 et 100 m, - un second type de grilles plus fines présentant un pas compris entre 50 et ,um et comprenant des cloisons d'épaisseur comprise entre 20 et 50 m. Il est actuellement d'usage de fabriquer des grilles pour la memmographie présentant un rapport (rapport de l'épaisseur de la grille à la d istance entre les cl oisons) compris entre 3 et 5. L' invention permet d'obtenir des grilles présentant des rapports supérieurs à 8 et ce qu'elles soient linéaires ou croisées. Cette caractéristique garantit le filtrage des rayons dont l'angle d'incidence dévie même faiblement de la direction du rayonnement direct et par conséquent conduit à des grilles présentant des propriétés de réjection extrêmement élevées. Dans le cas de grilles du premier type cité plus haut, on obtient une épaisseur de grille supérieure à 1,6 mm ou 2,4 mm et inférieure à 3 mm (cas o le rapport atteindrait 10). Dans le cas de grilles du second type, on obtient une épaisseur de grille supérieure à 0,4 mm ou 0,8 mm et inférieure à 1 mm (cas o le rapport atteindrait 10). De manière avantageuse, on peut choisir de fabriquer une grille présentant un pas (généralement désigné sous la terminologie anglo- sexonne superposition de la grille et du détecteur. La figure 3 représente la forme générale d'un substrat 2 qui sera utilisé dans la réalisation d'une grille anti-diffusante focalisée conforme à un mode de réalisation de l'invention. Un tel substrat se présente sous la forme d'un élément plan, d'épaisseur e comprenant deux faces principales supérieure 4 et inférieure 6. Ce substrat 2 est composé de cloisons 8 entrecroisées définissant des cellules 12 traversant le substrat de l'une de ses faces principales à l'autre. Le substrat 2 est " focalisé ": par définition, les plans contenant les cloisons 8 entre les cellules 12 comprennent tous un même point focal O. ainsi que représenté sur la figure 4. Sur la figure 3, les cellules 12 sont de forme carrée et définissent un motif quasi-périodique (ou plutôt dont le pas ou la période varie de manière continue). Le pas correspond ici à la distance entre deux cloisons parallèles successives. Bien entendu, on pourrait envisager des cellules présentant diverses formes. Néanmoins, les cellules présentent de préférence une forme de parallélogramme. En effet, le parallélogramme est la catégorie de formes qui minimise au maximum la surface occupée par les cloisons donc permet de minimiser l'absorption de la grille. On comprendra en outre que les cloisons séparant les cellules ne sont pas nécessairement alignées. Elles peuvent être parallèles et décalées d'une cellule à la suivante, ce qui confère à la grille certains avantages. En particulier, cette caractéristique permet de minimiser la génération d'empreintes des cloisons sur l'image obtenue lorsque celles-ci se trouvent sensiblement parallèles au sens de déplacement de la grille. On va maintenant décrire un mode de réalisation d'un tel substrat. Le substrat 2 est conçu par conception assistée par ordinateur. En fonction des propriétés désirées de la grille, on définit les caractéristiques géométriques du substrat 2. A partir de ces caractéristiques géométriques, on génère un modèle polyédrique de surface exportable au format STL (pour stéréolithographie). Ce format permet de décrire un objet sous la forme d'un polyèdre à facettes triangulaires. On définit ensuite les sections du substrat 2 à réaliser par un découpage successif de plans horizontaux parallèles. La distance entre chaque section correspond à l'épaisseur d'une couche. Sur la figure 5, on a représenté une première étape de fabrication d'un substrat par stéréolithographie. Un fluide précurseur 22 (résines liquides photosensible acrylate ou époxyde par exemple) est contenu dans une cuve 24 maintenue à une pression élevée (entre 300 et 7000 kPa) grâce à un dispositif de pompe 26 lié à la cuve 24 et en communication avec le fluide précurseur 22. La cuve 24 est fermée en sa partie supérieure par une vitre 28 (en quartz, en saphir ou en silice). Le dispositif comprend en outre une plate-forme 34 dont la surface principale est parallèle à la surface libre du fluide 22 et montée sur un élévateur non représenté pouvant être actionné en translation perpendiculairement au plan de la plate-forme 34. Le dispositif comprend également une source 32 émettant un rayonnement à travers une!entille 36 vers un arrangement de miroirs 38. La source 32 est par exemple une source laser à ultra-violet. Les miroirs 38 permettent de dévier le faisceau émis par la source 32 vers la surface libre du fluide précurseur 22. Les miroirs sont commandés en position par un ordinateur afin de rénliser un balayage point par point de la couche du fluide 22 proche de sa surface libre. Le rayonnement ultra-violet émis par la source 32 entrane la polymérisation locale du fluide précurseur 22. Les miroirs 38 sont commandés pour que le faisceau dessine à la surface du fluide un motif correspondant à la couche inférieure du substrat 2. Lorsqu'une première couche de polymère a été ainsi réalisoe, I'élévateur est commandé pour abaisser la plate-forme 34 supportant la couche polymérisée d'une hauteur correspondant à l'épaisseur d'une couche (lépaisseur d'une couche est déterminée par le niveau de viscosité du fluide précurseur choisi, elle est généralement inférieure au dixième de millimètre). Puis à nouveau, la source dessine un nouveau motif pour créer une deuxième couche sur la première couche. Chaque couche polymérisée présente une forme de treillis constitué de segments définissant des ouvertures. Les couches sont réalisées successivement de manière à ce que les segments de deux couches adjacentes soient superposés, formant ainsi les cloisons des cellules du substrat. Le substrat final obtenu est monobloc. Sur la figure 6, on a représenté une étape intermédiaire durant laquelle une couche 52 de polymère est réalisée par stérsolithographie sur la partie 54 du substrat déjà réalisée. Le substrat 2 final obtenu est bien monobloc. Finalement, lorsque le substrat 2 est terminé, le fluide précurseur 22 contenu dans la cuve 24 qui n'a pas réagi est évacué. Ainsi que représenté à la figure 4, les dimensions et positions relatives d es ouvertures et des segments vari ent prog ressivement d' une couche à la suivante. De cette manière, il est possible de construire un substrat 2 présentant des cellules 12 focalisées en vu de l'obtention d'une grille focalisée. On a décrit un mode particulier de mise en _uvre du procédé de l'invention dans lequel on utilise la stéréolithographie point par point. On comprendra qu'il est possibie d'utiliser d'autres techniques de prototypage rapide telles que par exemple la stéréolithographie par couches entières dans laquelle la source éclaire la surface du fluide à travers un masque définissant une forme complémentaire du motif à réaliser. Dans une deuxième étape, la surface du substrat 2 est métallisée par un procédé de dépôt par résction chimique en phase vapeur (généralement désigné sous l'abréviation CVD pour Chemical Vapor Deposition). Le détail d'une grille 1 ainsi obtenue est représenté à la hgure 7. Un tel procédé permet d'obtenir une couche métallique 14 présentant une épaisseur de l'ordre de quelques,um. La partie de la couche de métal couvrant les surfaces supérieures 4 et inférieures 6 du substrat sont éliminées par abrasion. Les métaux absorbants utilisés de préférence sont l'or (sous forme d'une couche de 2 à 5 1lm d'épaisseur), le cuivre (sous forme d'une couche de 10 à 20,um d'épaisseur), le tantale (sous forme d'une couche de 2 à 10 m d'épaisseur) ou éventuellement le plomb. Ces matériaux peuvent être utilisés seuis, en combinaison ou en association avec d'autres matériaux. On notera qu'il est également possible d'employer d'autres procédés de métallisation tels que par exemple un dépôt physique en phase gazeuse (généralement désigné sous l'abréviation PVD pour Physical Vapor Deposition) ou une électrolyse. On peut aussi déposer une première couche mince sur le substrat par puivérisation cathodique (généralement connu sous ie terme anglo-sexon " sputtering ") puis déposer une deuxième couche sur la première couche par une technique de galvanoplastie. Il est également possible, après l'étape de métallisation, de remplir les cellules 12 avec un polymère semblable au polymère constitutif du substrat 2. Cette opération supplémenta ire permet d' homogéné iser la g ri l le anti-diffusante et ai nsi de réparti r uniformément l' atténuati on pour rédui re I'artéfact qu'elle génère sur les images obtenues. Ceci est vrai principalement dans le cas des grilles présentant une épaisseur inférieure à 1 mm dont l'atténuation est négligeable. On a décrit ici la réalisation d'une grille plane, mais il est également possible de réaliser de la méme façon des grilles comprenant un substrat en matériau polymère présentant une forme différente. Par exemple, I'épaisseur de la grille n'est pas nécessairement constante. On peut ainsi réaliser des grilles dites " en toit " (terminologie employée dans la norme CEI). REVENDICATIONS 1. Grille anti-diffusante (1) pour appareil d'imagerie à rayons X du type comprenant un substrat (2) présentant une pluralité de cloisons (8) métallisées qui définissent ensemble une pluralité de cellules (12) réparties sur ledit substrat (2), ces cloisons (8) permettant le passage des rayons X émis à partir d'une source (44) se trouvant au droit de la grille (1), et absorbant les rayons X ne provenant pas directement de cette source (44), caractérisse en ce que le substrat (2) est en un matériau polymère. 2. Grille anti-diffusante (1) selon la revendication 1, caractérisée en ce que le substrat (2) est réalisé à partir de résine photopolymérisable. 3. Grille anti-diffusante (1) selon l'une des revendications qui précèdent, caractérisée en ce que les surfaces externes (4, 6) du substrat (2) sont non métallisées. 4. Grille anti-diffusante (1) selon l'une des revendications précédentes, caractérisée en ce qu'elle présente une forme générale plane. 5. Grille anti-diffusante (1) selon l'une des revendications précédentes caractérisoe en ce que les cloisons (8) sont orientéss pour former une grille focalisée. 6. Grille anti-diffusante (1) selon l'une des revendications qui précèdent, caractérisée en ce que les cellules (12) sont remplies avec un polymère. 7. Grille anti-diffusante (1) selon l'une des revendications 1 à 6, caractérisse en ce que les cellules présentent une ouverture x comprise entre 200 à 300 m et les cloisons présentent une épaisseur comprise entre et 100 1lm. 8. Grille anti-diffusante (1) selon l'une des revendications 1 à 6, caractérisée en ce qu'elle présente un pas compris entre 50 et 100,um et des cloisons d'épaisseur comprise entre 20 et 50,um. 9. Grille anti-diffusante (1) selon l'une des revendications précédentes, caractérisée en ce qu'elle est destinée à être installée dans un t appareil d'imagerie à rayons X comprenant un détecteur numérique et en ce qu'elle présente un7pas égal à la période du détecteur numérique. 10. Grille anti-diffusante (1) selon l'une des revendications qui précèdent, caractérisée en ce qu'elle présente un rapport supérieur à 8. 11. Grille anti-diffusante (1) selon l'une des revendications précédentes, caractérisée en ce qu'elle présente des cellules en forme générale de parallélogramme. 12. Grille anti-diffusante (1) selon l'une des revendications précédentes, caractérisée en ce que la métallisation des cloisons comprend au moins une couche formée d'un métal choisi parmi les métaux suivants: I'or, le cuivre, le tantale, le plomb. 13. Grille anti-diffusante (1) selon la revendication 12, caractérisé en ce que la métallisation comprend plusieurs couches, chacune étant formée d'un métal choisi parmi les métaux suivants: I'or, le cuivre, le tantale, le plomb. 14. Grille anti-diffusante (1) selon l'une des revendications 12 ou 13, caractérisée en ce que la métallisation présente une épaisseur de quelques micromètres. 15. Procédé de fabrication d'une grille anti- diffusante (1) comprenant un substrat (2), caractérisé en ce que ledit substrat (2) étant en matériau polymère, il est obtenu par une technique de polymérisation sous l'effet d'un rayonnement d'un monomère sensible à ce rayonnement. 16. Procédé de fabrication d'une grille anti-diffusante (1) selon la revendication 15, caractérisé en ce qu'il comprend les étapes consistant à: - former par polymérisation un substrat (2) présentant une pluralité de cloisons (8) qui définissent ensemble une pluralité de cellules (12) réparties sur ledit substrat (2), - déposer une couche (14) de métal sur la surface du substrat (2). 17. Procédé selon la revendication 16, caractérisé en ce que la couche de métal (14) couvrant la surface du substrat (2) est réalisée par dépôt par réaction chimique en phase vapeur. 18. Procédé selon la revendication 16, caractérisé en ce que la couche de métal (14) couvrant la surface du substrat (2) est réalisée par dépôt physique en phase gazeuse. 19. Procédé selon la revendication 16, caractérisé en ce que la couche de métal (14) couvrant les surfaces du substrat (2) est réalisée par puivérisation cathodique puis galvanoplastie. 20. Procédé selon l'une des revendications 16 à 19, caractérisé en ce qu'on dépose une couche métallique couvrant la totalité de la surface du substrat (2), puis on élimine le métal sur les surfaces externes (4, 6) du substrat (2) pour ne conserver que le métal (14) couvrant les cloisons (8) à l'intérieur des cellules (12). 21. Procédé selon la revendication 20, caractérisé en ce qu'on élimine la couche de métal sur les surfaces externes (4, 6) du substrat (2) par abrasion. 22. Procédé selon l'une des revendications 16 à 1g, caractérisé en ce qu'on dépose une métallisation (14) couvrant les cloisons (8) à l'intérieur des cellules (12) et non sur les surfaces externes (4, 6) du substrat (2). 23. Procédé selon la revendication 22, caractérisé en ce qu'on masque les surfaces externes (4, 6) du substrat durant l'étape de métallisation pour ne déposer le métal que sur les cloisons (8) à l'intérieur des cellules (12). 24. Procédé de fabrication d'une grille anti-diffusante (1) selon l'une des revendications 15 à 23, caractérisé en ce que la technique de polymérisation utilisée est la photolithographie. 25. Procédé de fabrication d'une grille anti-diffusante (1) selon l'une des revendications 15 à 23, caractérisé en ce que la technique de polymérisation utilisée est la stéréolithographie. 26. Procédé selon la revendication 25, caractérisé en ce que le substrat est obtenu par stéréolithographie point par point. 27. Procédé selon la revendication 25, caractérisé en ce que le substrat est obtenu par stéréolithographie par couches entières. 28. Procédé Solon rune des revendications 15 à 27, caractérisé en ce quill comprend une étape supplémentaire consistent à remplir les cellules