Brevet FR2832853A1 — publié le 20030530

Mandataire: Cabinet LAURENT ET CHARRAS - 1 2832853 PROCEDE DE FABRICATION D'UN COMPOSANT ELECTRONIQUE TNCORPORANT UN MICRO-COMPOSANT INDUCTIF Domaine Technique L'invention se rattache au domaine de la microélectronique. Plus précisément, elle vise un procédé permettant de réaliser des micro-composants inductifs sur un substrat, qui peut lui-même incorporer un circuit intégré. Ces composants peuvent notamment étre utilisé dans les applications de type radiofréquences, par exemple dans le domaine des télécommunications. L'invention vise plus spécifquement un procédé permettant d'obtenir des circuits possédant des performances nettement plus élevées que les composants existants, notamment en ce qui concerne la valeur du facteur de qualité. Le procédé objet de l'invention, limite également le nombre d'étapes nécessaires pour la ré alisation de tels compo s ants, et as sure une b onne reproductibilité des caractéristiques des composants qu'il permet de fabriquer. Techniques antérieures Dans le document FR 2 791 470, le Demandeur a décrit un procédé de fabrication permettant de réaliser des microinductances ou des microtrans formateurs au- dessus d'un substrat, et notamment au- dessus d'un circuit intogré. De façon résumoe, ce procédé consiste à déposer une couche de matériau de faible permittivité relative puis à réaliser une gravure de ce matériau au niveau d'une ouverture réalisée dans un masque dur, à l'aplomb d'un plot de connexion avec le reste du circuit intégré, de manière à défnir un trou d'interconnexion, également appelé "via". Après avoir déposé une résine au-dessus du masque dur, on grave cette dernière pour former les canaux définissant la géométrie des spires du composant inductif. On procède par la suite à un dépôt de cuivre, par voie électrolytique, au- dessus du plot de connexion, et dans les canaux définis dans la résine supérieure. 2 2832853 Un tel procédé présente un certain nombre d'inconvénients, parmi lesquels on peut noter essentiellement le fait que l'étape de dépôt éleckolytique assure à la fois la formation des spires du composant inductif, ainsi que le remplissage du trou d'interconnexion, permettant le contact avec le plot métallique relié au circuit intégré. Ces zones étant de profondeurs différentes, il s'ensuit que le dépôt électrolytique s'effectue de manière différente au niveau des spires et au niveau du trou d'interconnexion. On observe ainsi certaines irrégularités au niveau de la formation des spires qui sont préjudiciables à la bonne régularité des performances électriques du composant inductif. En outre, lors de l'étape de gravure de la résine supérieure, il est nécessaire d' effectuer une gravure plus longue au niveau du trou d'interconnexi on, par comparaison avec les zones dans lesquelles sont formés les canaux destinés à recevoir les spires. Cette différence de profondeur de gravure provoque une lib ération de c omp o s é s chimiques au nive au du fond du trou d'interconnexion, ce qui perturbe l'opération ultérieure de dépôt électrolytique de cuivre. Par ailleurs, la distance séparant le composant inductif du substrat est sensiblement égale à l'épaisseur de la couche de matériau de faible permittivité relative. Etant donné qu'il n'est pas possible d'augmenter l'épaisseur de cette couche de façon très importante, on conçoit qu'il n'est pas possible de diminuer la capacité parasite entre le composant inductif et le substrat en dessous d'une valeur dépendant de la mise en _uvre du procédé. Un des objectifs de l'invention est de pallier ces différents inconvénients, et notamment de permettre de réaliser des composants qui possèdent des caractéristiques dimensionnelles aussi précises que possible, de manière à conférer des performances électriques optimales. 3 2832853 Exposé de l'invention L'invention concerne donc un procédé de fabrication d'un composant électronique. Un tel composant incorpore un microcomposant inductif, tel qu'une inductance ou un transformateur, qui est situé audessus d'un substrat, et relié à ce substrat au moins par un plot métallique. Conformément à l'invention, ce procédé se caractérise en ce qu'il comporte les étapes suivantes: a) déposer sur le substrat et au moins deux fois consécutivement, une couche de matériau à faible perrnittivité relative et une couche formant un masque dur; b) réaliser une ouverture dans le masque dur situé en position supérieure' à l'aplomb des plots métalliques; c) graver la ou les couches de matériau à faible permittivité relative et la ou les couches de masque dure sousjacentes jusqu'au plot métallique, pour former un trou d'interconnexion; d) éliminer le reste du masque dur situé en position supérieure; e) déposer une couche formant barrière à la diffusion du cuivre; f) déposer une couche amorce de cuivre; g) déposer un masque de protection, et à l'éliminer au niveau du trou d'interconnexion; h) déposer du cuivre, par voie électrolytique, dans le trou d'interconnexion; i) déposer une couche de résine supérieure d'une épaisseur voisine de l'épaisseur des spires du microcomposant inductif; j) graver la couche de résine supérieure pour former des canaux définissant la géométrie des spires du microcomposant inductif; k) déposer du cuivre par voie électrolytique dans les canaux ainsi gravés; l) éliminer le reste de la couche de résine supérieure; m) graver la couche amorce de cuivre entre les spires de cuivre; n) graver la couche barrière à la diffusion du cuivre entre les spires du microcomposant inductif. Ainsi, le procédé conforme à l'invention enchaîne un certain nombre d'étapes qui procurent certaines améliorations par rapport aux procédés de l'Art antérieur. On notera notamment que l'on enchâîne le dépôt de plusieurs couches de matériau à faible permittivité relative, séparées chacune par une couche intermédiaire, de manière à augmenter très fortement la distance séparant le composant inductif du substrat. La capacité parasite entre le composant inductif et le substrat est donc fortement réduite, ce qui améliore grandement les performances de ce composant inductif, et notamment son facteur de qualité. On peut en effet, empiler au moins deux, trois, voire quatre ou cinq couches de matériau à faible permittivité relative, présentant chacune une épaisseur de l'ordre de dizaines de microns, ce qui permet d'espacer le composant inductif d'une distance de l'ordre ou supérieure à 50 microns par rapport au substrat. Cette valeur est à comparer à la dzaine de microns qui sépare la micro-inductance du substrat dans les procédés de l'Art antérieur. On notera également que le dépôt éleckolytique de cuivre intervient en deux étapes distinctes, à savoir tout d'abord une première étape permettant de combler le trou d'interconnexion, ce qui permet dans un premier temps de faire croître du cuivre jusqu'au niveau du plan inférieur du micro-composant inductif. Dans une seconde étape, on procède à un dépôt électrolytique de cuivre, qui forme simultanément les spires du composant inductif et la zone de liaison des spires avec la via déjà comblée dans l'étape de dépôt antérieur. De la sorte, en dissociant ces deux dépôts de cuivre, on assure une homogénéité de ce dépôt qui est favorable à la régularité de la forrne des spires, et donc à la qualité des performances électriques ainsi qu'à la reproductibilité du procédé. On notera également que ce procédé peut être utilisé sur différents types de substrat. Ainsi, dans une première famille d'application, le procédé peut être mis en 2832853 _uvre sur un substrat semi-conducteur, et notamment un substrat ayant été préalablement fonctionnalisé pour former un circuit intégré. Dans d'autres types d' applications, il peut s'agir d'un substrat spécifique, tel s qu'un substrat amorphe du type verre ou quartz, ou plus généralement un substrat possédant des propriétés électriques, optiques ou magnétiques approprices à certaines applications. En pratique, le matériau de faible permittivité relative, qui est déposé sur le substrat peut étre du beuzocyclobutène (BCB), ou voire encore un matériau analogue, dont la permittivité relative est typiquement inférieure à 3. En pratique, l'épaisseur de cette couche de matériau de faible permittivité relative peut être comprise entre 10 et 40 micromètres, étant préférentiellement voisine de 20 micromètres. L'épaisseur de cette couche définit sensiblement l'éloignement entre le composant inductif et le substrat. Cette distance, combinée avec la permittivité relative du matériau de cette couche définit la capacité parasite existant entre le composant inductif et le substrat, capacité qu'il est hautement souhaitable de .. mmlmlser. En pratique, le matériau utilisé pour former le masque dur au-dessus du BCB peut être choisi dans le groupe comprenant: Cr. SiC, SiN, Si3N4, SiO2, SiOC, SiON, Y2O3 pris isolément ou en combinaison. Ces matériaux présentent des propriétés de bonne compatibilité avec le BCB, notamment une forte adbésion comme masque dur sur la surface du BCB. Ces matériaux présentent des propriétés mécaniques adéquates pour leur utilisation en masquinage. Par ailleurs, cette couche servant de masque dur à des fins de gravure des trous d'interconnexion, une sélectivité élevée de la gravure du BCB par rapport - 6 2832853 à ces matériaux est requise, de manière à éviter toute sur-gravure du BCB et obtenir ainsi les profiles souhaités sans délaminage. Les contraintes entre le BCB et le masque dur pourraient en effet se transmettre j usqu' au sub strat, et provoquer d'éventuell es rupture s de ce dernier. C es phénomènes de trop fortes contraintes sont notamment observés dans les procédés de l'Art antérieur qui utilisent des couches épaisses de certains métaux pour réaliser le masque dur au-dessus d'une couche de BCB avec pour conséquence des risques de mauvaise adhésion. En pratique, et notamment lorsque le masque dur est conducteur, et typiquement à base de chrome, on peut procéder à l'élimination de ce masque dur, avant le dépôt de la couche barrière à la diffusion du cuivre, de façon à éliminer toute zone conductrice entre spires. - Selon une autre caractéristique de l'invention, on dépose une couche formant barrière à la diffusion du cuivre au-dessus de la couche de matériau de faible permittivité relative, lorsque le masque dur a été éliminé. Cette couche barrière permet d'isoler la couche sousjacente du cuivre qui va êke ultérieurement déposée, notamment sous la forme de la couche amorce. Cette couche barrière caractéristique évite la migration du cuivre à travers la couche de faible permittivité relative, ce qui aurait pour effet d'augmenter cette permittivité, et donc d'augmenter la capacité parasite entre le micro-composant inductif et le substrat et créer des sources de défectivité. Cette couche barrière évite également que le cuivre ne vienne migrer à l'intérieur du substrat, avec des conséquences préjudiciables sur la qualité ou le fonctionnement du circuit intogré. En pratique, la couche barrière peut étre réalisée en tungstène à partir d'un matériau choisi dans le groupe comprenant TiW, Ti, TiN, Ta, TaN, WN, Re, Cr. Os' Mo et Ru. Ces matériaux peuvent étre utilisés seuls ou en combinaison. 7 2832853 Avantageusement en pratique, la couche barrière à la diffusion peut présenter une épaisseur comprise entre 100 et 400 A. Selon une autre caractéristique de l'invention, le procédé peut comporter une étape d'enrichissement de la couche amorce de cuivre. Cette couche amorce joue le rôle d'électrode pour les dépôts ultérieurs de cuivre par voie électrolytique. Il peut s'avérer utile dans certaines conditions, d'améliorer la régularité et la morphologie, l'état d'oxydation du cuivre, la rugosité et le déficit de sites de nucléation de la couche amorce. Cette couche amorce est déposée par voie physico-chimique et plus particulièrement par la technique dite de pulvérisation et selon sa variante de métal ionisé à source plasma. Dans ce cas, on procède à une étape d'enrichissement de cette couche amorce en soumettant la couche amorce à un bain d'électrolytes. Ce bain comprenant des sels de cuivre permet un dépôt de cuivre dans les éventuels espaces existants entre les lots de cuivre préalablement déposés lors de la réalisation de la couche amorce. Cette étape d'enrichissement assure donc un lissage de cette couche amorce de manière à améliorer le dépôt électrolytique ultérieur. Avantageusement en pratique, on peut procéder à des étapes de recuit, permettant de faire croitre la taille des cristaux de cuivre déposés lors des étapes de dépôt électrolytique. Cette étape de recuit, typiquement par exposition du composant à une température comprise entre 150 et 400 C pendant une durce de quelques minutes, assure une uniformité cristalline du cuivre déposé, et donc 1' homogénéité et le caractère conducteur du cuivre qui formera les spires du composant inductif. On améliore ainsi les qualités électriques du composant en diminuant le nombre de singularités pouvant étre la source de points résistifs ou de faiblesses mécaniques. Avantageusement en pratique, on peut procéder à une étape de décontamination du cuivre susceptible de migrer dans le substrat, notamment au niveau des faces latérales et postérieures du substrat ainsi qu'à sa circonférence. En effet, lorsque le composant est soumis à un bain contenant des sels de cuivre solubles, il convient d'éliminer un excès de dépôt de cuivre. En effet, lorsque ce métal est déposé selon des techniques d'électrolyse et selon une distribution spécifique de courant entre la cathode et l'anode, on observe généralement un excès de dépôt de cuivre en circonférence du substrat. Par ailleurs, le processus de convection et de transfert de masse, qui est à la base de la technique de dépôt par électrolyse de l'élément de Cuivre, engendre sur les faces latérales ou postérieures du substrat un flux possible et une diffusion sur certaines zones du substrat. Afin d'éviter leur éventuelle migration dans le substrat, il est recommandé d'utiliser cette étape. Cette étape de décontamination peut également permettre de régulariser la forme des zones sur lesquelles s'est effectué le dépôt électrolytique de cuivre, notamment au niveau des arêtes des spires. En pratique, cette étape de décontamination peut avoir lieu après l'une ou l'autre des deux étapes de dépôt éleckolytique. En pratique, le masque de protection déposé lors de l'étape suivant le dépôt de couches amorc es de cuivre, peut être formé d'une ré sine photonégative, c eci permet son élimination de façon aisée au fond du trou d'interconnexion, dans lequel aura lieu ultérieurement le premier dépôt électrolytique de cuivre. La modification des propriétés de la résine photosensible permet de la durcir sur les zones exposoes lors de l'exposition du masque de lithographie. On évite ainsi un dépôt de cuivre en surface, grâce à l'écran ainsi formé à la surface de la couche amorce enrichie par la résine durcie. Avantageusement en pratique, avant l'étape de dépôt de la résine supérieure, on peut procéder à un traitement utilisant au choix l'hexamethyldisilazane (HMDS), ou le divinyltetramethyldisilazane (DVTMDS) . Ce traitement permet de conférer des propriétés de bonne adhésion du cuivre sur la résine, ce qui améliore la croissance du cuivre sur les flancs verticaux des canaux destinés à recevoir les splres. 9 2832853 Selon d'autres caractéristiques de l'invention, on peut procéder à certaines étapes de nettoyage par voie chimique non corrosive vis à vis du cuivre. Ces étapes de nettoyage peuvent intervenir postérieurement au dépôt électrolytique de cuivre, ainsi qu'après l'étape de dépôt de la couche amorce de cuivre, ou bien encore le dépôt de la couche barrière à diffision du cuivre. On peut également procéder au dépôt d'une couche de passivation, typiquement obtenue par un premier dépôt d'une couche de nickel sur les spires de cuivre, recouvert d'un second dépôt d'une couche d'or. L'invention concerne également un composant électronique pouvant être réalisé selon le procédé exposé ci-avant. Un tel composant incorpore un micro composant inductif situé sur un substrat, et relié à ce dernier par au moins un plot métallique. Ce composant comporte: - une succession de couches de matériau à faible permittivité relative, séparces par des couches de masque dur, la première couche de matériau à faible permittivité relative reposant sur la face supérieure du substrat; - un ensemble de spires métalliques, définies au-dessus de la succession de couches de matériau à faible permittivité relative; - une couche barrière à la diffusion du cuivre, interposce entre les spires métalliques et la couche sousjacente de matériau à faible permittivité relative. Description sommaire des figures La manière de réaliser l'invention ainsi que les avantages qui en découlent ressortiront bien de la description de l'exemple de réalisation qui suit, à l'appui des figures 1 à 24 annexces, qui sont des représentations en coupe, au niveau d'un plot de connexi on, du sub strat et des différentes couches qui s ont dépos ces au fur et à mesure des étapes du procédé. Les épaisseurs des différentes couches illustrées aux i :0 2832853 figures sont données pour permettre la compréhension de l'invention, et ne sont pas touj ours en rapport avec les épaisseurs et dimensions réelles. Manière de réaliser l'invention S Comme déjà évoqué, l'invention concerne un procédé permettant de réaliser des micro-composants inductifs sur un substrat. Dans l'exemple illustré aux figures, le substrat (1) utilisé est un substrat ayant préalablement été traité de manière à former un circuit intégré. Néanmoins, d'autres substrats différents peuvent être utilisés, tel que notamment des substrats à base de quartz ou de verre. Ainsi, un tel substrat (1), comme illustré à la figure 1 comporte le niveau supérieur (2) du circuit intégré proprement dit, surmonté d'une couche (3) de substrat dopé. Dans la figure représentée, le substrat (1) comporte également un plot métallique (4), réalisé en aluminTum, en alliage à base d'aluminium, ou en cuivre dont la face supérieure (5) est accessible. Les bords (6) de ce plot métallique, ainsi que la face supérieure (7) de la couche dopée sont recouverts d'une couche de passivation (8). Le procédé confonne à l'invention peut enchâîner les différentes étapes décrites ci-après, étant entendu que certaines peuvent être-réalisées de facon différente, tout en obtenant des résultats analogues. Certaines étapes peuvent être également considérces comme utiles mais non indispensables, et donc à ce titre être omises sans sortir du cadre de l'invention. Etape n 1 La première étape consiste à assurer un nettoyage de la face supérieure (S) du plot de connexion métallique (4) ainsi que de la couche de passivation (8) déposée sur le substrat. Ce nettoyage se réalise par voie chimique humide. Etape n 2 Comme illustré à la figure 2, on procède par la suite au dépôt d'une couche (10) de benzocycloDutène (BCB), ou d'un éventuel matériau équivalent, possédant une permittivité relative inférieure à 3. Ce dépôt est effectué par un procédé dit de "dépôt par rotation", également appelé "Spin on deposition". L'épaisseur déposée est voisine de 20 micromètres. Etape n 3 On procède par la suite à un nettoyage de la face supérieure (11) de la couche (10) de BCB. Ce nettoyage, effectué avec un bain approprié, assure le nettoyage et la préparation de la face supérieure (11) de la couche de BCB (10). Etape n 4 Comme illustré à la figure 3, on procède par la suite au dépôt d'une couche (12) formant un masque dur au-dessus de la couche de BCB (10) . Cette couche (12) présente une épaisseur de l'ordre de 200 A. Le matériau employé est prétérentiellement du carbure de silicium (SiC), mais il pourrait être également du SiOc, SiN, Si3N4, SiON, SiO4, SiO2, Cr ou de 1'Y2O3 ou tout autre matériau, dès lors que la sélectivité de gravure par rapport au matériau de la couche inférieure est au moins de 10: 1. Cette couche (12) de masque dur peut étre déposée par un procédé de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma, ou PECVD pour "Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition". Etape n 5 Par la suite, on procède à un dépôt d'une nouvelle couche (lOa) de BCB, de la même manière qu'il est procédé à l'étape n 2. Etape n 6 On procède par la suite à un nettoyage de la face supérieure (lla) de la couche (lOa) de BCB, comme pour l'étape n 3 décrite ci-avant. 4.2 2832853 Etape n 7 Comme illustré à la figure S. on procède au dépôt d'une nouvelle couche (12a) formant le masque dur au-dessus de la couche de BCB (lOa). Le mode opératoire est le méme que celui décrit précédemment pour l'étape n 4. ! Par la suite, il est possible de déposer de nouvelles couches de BCB surmontées d'un masque dur, autant de fois que nocessaire. Cet enchâînement d'étap es p erm et d'augrnenter la distance entre le substrat et le futur c ompos ant inductif. Dans la forme illustrée aux fgures, le composant ne comporte que deux couches de BCB, mais il va sans dire que l'invention couvre des variantes dans lesquelles le nombre de couches de BCB est supérieur, pouvant atteindre par exemple 5. Etape n 8 Par la suite, on réalise une ouverture (13) dans le masque dur (12a), comme illustré à la figure 6 par un procédé de lithographie et une gravure chimique appropriée utilisant un procédé par voie humide tel qu'un bain à base d'acide hypophosphorique à la température de 180 C, si le masque dur est composé de nitrure de silicium, ou une gravure sèche par plasma utilisant un gaz réactif de fluorine tel que le CF4: H2 par exemple. Etape n 9 Par la suite, on procède comme illustré à la figure 7 à la gravure isotrope de la couche de BCB (lOa), à l'aplomb du plot métallique (1) de connexion (4), de 2s manière à former la partie supérieure du trou d'interconnexion (14), également appelé via. La gravure de la couche de BCB peut s'effectuer notamment par l'emploi d'un mélange de gaz tel que le mélange Ar/CF4/O2 ou bien encore par un plasma radiofréquence utilisant d'autres réactants. Etapen 10 On procède par la suite, comme illustré à la fgure 8, à la gravure de la couche de masque dur (12), de manière qui est décrite à l'étape 8. 13 2832853 Etape n 11 On procède par la suite comme illustré à la fgure 9, à la gravure de la couche de BCB (10), de la même manière que décrit à l'étape 9. Etape n 12 Par la suite, comme illustré à la figure 10, on procède à l'élimination du masque dur qui demeurait sur les parties restantes de la couche de BCB (lOa). L'élimination de ce masque dur s'effectue par décapage, grâce à l'emploi d'une solution composée de Ce(SO4)2; 2(NH4)2SO4: HC104: Eau désionisée si le masque dur est en Chrome par exemple. Le masque dur peut également ne pas étre éliminé, et donc conservé sur la couche (10) de BCB, en fonction du matériau qui le constitue, et notamment s'il s'agit de SiC, SiN ou SiON par exemple. Etapen 13 On peut procéder par la suite à un nettoyage du trou d'interconnexion (14) selon différents procédés. Ainsi, il peut s'agir d'un nettoyage par voie chimique, mettant en _uvre un mélange semi-aqueux non corrosif. On peut également assurer un nettoyage par voie sèche, en utilisant un plasma d'argon, sous une puissance de l'ordre de 300 kilowatts, en soumettant la zone (14) à des ondes radioéquences pendant une durée voisine de la minute, et à température ambiante. Etapen 14 Comme illustré à la figure 11, on procède par la suite au dépôt d'une couche (15) barrière à la diffusion du cuivre. Cette couche (15) est prétérentiellement en en un alliage de Titane et Tungstène, ou bien en une superposition de Titane et de Nitrure de Titane, ou bien encore de Tantale et de Nitrure de Tantale. Cette couche (15) peut également étre réalisée en Nitrure de Tungstène, ou bien par une simple couche de Tungstène, de Molybdène, d'Osmium, ou de RuthénTum. Cette couche (15), d'une épaisseur comprise entre 200 et 400 A, peut 8tre déposée par différentes techniques, et notamment par pulvénsation, procédé également connu sous l'abréviation de PVD - IMP pour "Physical Vapor Deposition - Ionized Metal 14 2832853 Plasma", ou par des techniques de dépôt chimique en phase vapeur connue sous le nom de CVD "Chemical Vapor Deposition" et ALD "Atomic Layer Deposition". D'autres procédés tels que notamment ceux connus sous l'abréviation de IMP S pour "Ionised Metal Plasma" peuvent également être utilisés. Etape n 15 Comme illustré à la figure 12, on procède par la suite au dépôt d'une couche (16) amorce de cuivre. Cette couche amorce (16) peut être déposée par différentes techniques, et notamment par pulvérisation, procédé également connu sous l'abréviation de PVD - IMP pour "Physical Vapor Deposition- Ionized Metal Plasma", ou par des techniques de dépôt chimique en phase vapeur connue sous le nom de CVD " Chemical Vapor Deposition" et ALD "Atomic Layer Deposition ". La couche ainsi obtenue présente une épaisseur comprise typiquement entre 500 et 2000 . Etape n 16 Par la suite, et comme illustré à la figure 13, on procède à une étape d'enrichissement de la couche amorce (16) par voie électrolytique. On peut utiliser un bain des sels de cuivre, tels que CuSO4:5H2O. On peut également procéder par apport d'un agent réducteur tel que du diméthylamineDorane, en substitution du courant électrolytique. Cette étape d'enrichissement permet de combler les espaces entre les ^lots de cuivre qui ont été préalablement déposés pour former la couche amorce. La surface de la couche amorce (16) est donc ainsi lissée, ce qui favorise l'étape ultérieure de dépôt électrolytique. Cette étape permet d'augmenter l'épaisseur de la couche amorce à l'intérieur de la via, et plus particulièrement sur les faces intérieures et au fond du trou d'interconnexion. Etapen 17 Par la suite, comme illustré à la figure 14, on dépose sur les faces (17) de la couche amorce (16) parallèles au substrat, une couche (18) de résine 2832853 photonégative. Ce dépôt (20) a également eu lieu dans le fond (19) du trou d'interconnexion, mais pas sur les parois verticales (21) de ce méme trou. Cette couche (18,20) de résine photonégative présente une épaisseur de l'ordre de ooo A.! Etape n 18 Par la suite, comme illustré à la figure 15, on procède à l'élimination de la couche (20) de résine photonégative située au fond (19) du trou d'interconnexion (14). Le reste (18) de la résine photonégative n'est pas éliminée, par suite du processus de photo exposition qui durcit la résine exposée. Etapen 19 Par la suite, on procède à une étape de nettoyage par application d'une solution non corrosive pour le cuivre, de manière à obtenir un état de surface optimal en ce qui concerne le fond (19) du troud'interconnexion ainsi que ses parois latérales (21). Le bain utilisé est une solution aqueuse et peut contenir des molécules inhibitrices de corrosion telles que du benzotriazole. Etape n 20 Cornme illustré à la figure 16, on procède par la suite à un dépôt électrolytique de cuivre, de manière à assurer un remplissage (22) du trou d'interconnexion (14). Cette technique est basée sur l'utilisation d'un bain d'électrolytes dont la fornulation est judicieusement définie pour obtenir une qualité de Cuivre optimale, à savoir une résistivité avant croissance des grains lors d'un recuit compris entre 1,9Q.cm et 2,3Q.cm et prétérentiellement compris entre 2Q. cm et 2,15Q.cm. Par ailleurs, la détinition du dépôt est directement fonction de la géométrie de la cellule électrochimique, de la distance entre la cathode et l' anode, de la forme et des caractéristiques de chaque électrode ainsi que de la zone et de la surface sur laquelle on va déposer. Les bains utilisés peuvent étre par exemple ceux commercialisés sous la dénomination "Cu VIAFORM" par la société ENTHONE, ou,' Cu GLEAM ELECTRODEPO SIT 6000" par la société SHIPLEY. 16 2832853 Etape n 21 Par la suite on peut procéder à une étape de décontamination, permettant d'éliminer toute trace de cuivre qui serait susceptible de venir migrer dans le substrat ou dans tout autre partie sur laquelle les ions de cuivre ont pu se déposer. Cette étape de décontamination permet notamment de nettoyer l'arrière du substrat, ainsi que les zones périphériques du substrat. Parmi ces zones périphériques, on entend les faces latérales du substrat, perpendiculaires au plan principal du substrat ainsi que les arêtes du substrat sur lesquelles ont pu venir s'accumuler des dépôts superffus de cuivre. Cette étape de décontamination s'effectue par voie chimique et humide au moyen d'outil pennettant le traitement face par face du substrat, en utilisant un bain contenant un mélange de péroxyde d'hydrogène et d'acide sulturique. Etape n 22 Par la suite, on procède comme illustré à la fgure 17 à l'élimination par décapage du masque de résine photonégative qui protégeait la couche amorce de cuivre au-dessus des zones de BCB (lOa). Etape n 23 On procède par la suite à une étape de nettoyage par application d'un bain non corrosif pour le cuivre, de manière à éliminer toute trace de résine sur la couche amorce (10), en vue de faciliter le dépôt des couches ultérieures. Etape n 24 On procède par la suite à une étape dite de "recuit", permettant de réorganiser la structure cristalline du cuivre (22) déposé dans le trou d'interconnexion (14), en faisant croitre la taille des grains élémentaires cristallins. Cette étape utilise une technique connue sous le nom de "RTP" pour "Rapid Thermal Processing" pendant laquelle le composant est soumis à une température de l'ordre de 150 à 400 C, voisine préférentiellement de 300 C, pendant une durée de 10 secondes à 30 minutes et préférentiellement de l'ordre de 5 minutes. Le composant est maintenu 7 2832853 sous une atmosphère d'un gaz inerte ou bien sous vide évitant toute oxydation et diffusion de l'oxygène dans le milieu cristallin du cuivre. La définition des paramètres est judicieusement définie pour obtenir une qualité de Cuivre optimale à savoir une résistivité après croissance des grains compris entre 1,721lQ.cm et 1,82Q.cm. Etape n 25 Par la suite, on procède au dépôt d'une couche (25) de résine supérieure, comme illustrée à la figure 18. Cette résine (25) est du type photosensible, pour permettre les lithographies ultérieures. Cette résine (25) résiste aux chimies acides des dépôts électrolytiques. La couche (25) de résine supérieure ainsi déposce présente une épaisseur comprise entre 10 et 50 microns, préférentiellement comprise entre 20 et 40 microns, en fonction de la hauteur des spires du composant inductif. Etape n 26 On procède ensuite à un étalement par effet centrifuge soit d'hexaméthyledisilazane (HMDS) soit le divinyltetramethyldisilazane (DVTMDS). Ceci permet d'optimiser l'état de surface des flancs verticaux de la résine qui sera déposée ultérieurement, et dans laquelle pourront diffuser l'HDMS ou le DVTMDS lors des étapes de recuit, car ces additifs abaissent là tension de surface de cette résine. Ce traitement favorise une meilleure adhésion du cuivre sur les flancs verticaux de la résine déposée ultérieurement, et qui forment les parois de la via (14). Etape n 27 Par la suite, comme illustré à la figure 19, on procède à la gravure de cette couche de résine supérieure (25) pour définir entre les zones restantes (27) des canaux (28,29) qui recevront ultérieurement le cuivre qui formera les spires du composant inductif. Cette gravure s'effectue par un procédé de lithographie classique. 18 2832853 Etape n 28 Par la suite, et comme illustré à la figure 20, on procède à un dépôt électrolytique de cuivre, au-dessus de la couche amorce (16). On notera que l'épaisseur déposée dans les canaux périphériques (28) est la méme que celle dans le canal (29) situé à l'aplomb du trou d'interconnexion (4), de sorte que la croissance est sensiblement similaire. Le dépôt électrolytique du cuivre peut dans ce cas précisément se faire au moyen d'un outil de dépôt électrochimique utilisant une anode soluble de cuivre et un bain chimique choisi parmi les différents producteurs tels que le bain "Cu gleam electrodeposit 6000" commercialisé par la société Shipley. Le dépôt de cuivre remplit typiquement entre 70% et 90% des canaux (29), de manière à donner des épaisseurs de cuivre pour les spires supérieures à 10 micromètres. Etape n 29 Par la suite, on procède à une étape de décontamination identique à celle décrite à l'étape n 21. Etape n 30 Par la suite, on procède comme déjà évoqué à l'étape n 19 à une étape de nettoyage par l'application d'un bain non corrosif pour le cuivre afin de retirer tous les résidus engendrés par l'étape de lithographie dont le procédé chimique peut utiliser un composé d'Amines et de molécules anti-corrosives du Cuivre choisi parmi les fabricants de tels produits comme le produit ACT-970 commercialisé par la société Ashland. Etape n 31 Par la suite, on procède à l'élimination des zones (27) de résine supérieure qui définissaient les différents canaux (28-,29). L'élimination de cette résine (27) permet de libérer l'espace (32) entre spires (30-31), de manière à limiter la capacité entre spires. Cette élimination permet également de rendre accessible les couches métalliques (16,14) situées entre les spires (30-31) en vue de leur future élimination. 9 2832853 Etape n 32 Par la suite, on procède comme illustré à la fgure 21, à une gravure humide anisotrope de la couche amorce de cuivre (16), par exemple grâce à un bain d'acide sulfurique, ou un bain d'acide nitrique incluant du benzotriazole. Etape n 33 Par la suite, on procède comme déjà évoqué à l'étape n 24 à une étape de nettoyage par l'application d'un bain non corrosif pour le cuivre. Etapen 34 Par la suite, on procède comme illustré à la figure 22 à la gravure de la couche (15) barrière à la diffusion du cuivre qui est dépendant du choix du matériau de barrière de diffusion du cuivre. A titre d'exemple, lorsque la couche barrière de diffusion est une superposition de deux couches de Titane et de Nitrure de Titane, cette barrière de diffusion peut étre gravoe par une solution aqueuse composée d'éthylène diamine téka acétique acide (EDTA) et de peroxyde d'hydrogène selon un ratio de 2 pour 1, à une température comprise entre 45 C et C et préférentiellement, voisine de 65 C. Mais cet exemple n'est pas limitatif et d'autres bains chimiques peuvent être utilisés selon l'état de l'art de la technique. De la sorte, les différentes spires (30) et la partie centrale (31) du micro composant inductif sont donc électriquement indépendantes. Etape n 35 2s Par la suite, on procède à une étape de recuit analogue à celle décrite à l'étape n 19. Etape n 36 Par la suite, on procède à une étape de nettoyage par un bain non corrosif pour le cuivre tel qu'analogue à celui décrit dans les étapes n 24 et 27. 2 o 2832853 Etape n 37 Par la suite, on procède comme illustré à la fgure 24 au dépôt d'une couche de nickel, d'épaisseur comprise entre 300 et 600 A, au-dessus des spires (30, 31). S Etape n 38! Au-dessus de la couche de nickel, on procède par la suite au dépôt d'une couche d'or, assurant la passivation de l'ensemble. Cette couche d'or possède une épaisseur comprise entre 500 et 1000 Il ressort de ce qui précède que le procédé conforme à l'invention permet d'obtenir des micro-composants inductifs qui présentent un très fort facteur de qualité, du fait d'un éloignement très important entre le substrat et le plan principal du micro-composant inductif. T,vpiquement, les facteurs de qualité obtenus sont supérieures à 50, à des fréquences de l'ordre de 2 GigaHertz La décomp o siti on du dépôt él ectrolytique de cuivre en deux étap es distinctes permet d'assurer une optimisation de la régularité de la forme des différentes spires, sans augmentation du coût de fabrication, et ainsi donc une bonne reproductibilité du procédé conduisant à la réalisation de micro-composant possédant des caractéristiques électriques proches de celles défnies lors de la conception. Par ailleurs l'avantage de cette présente invention est de ma^triser les interfaces entre les différentes couches de matériaux déposés et formés ce qui a pour conséquence une nette amélioration des performances du dispositif et une nette réduction des sources de défectivité. 2 2832853 REVENDICATIONS 1/ Procédé de fabrication d'un composant électronique, incorporant un microcomposant inductif situé au-dessus d'un subskat (1), et relié à ce dernier par au moins un plot métallique (4), caractérisé én ce qu'il comporte les étapes suivantes, consistant successivement à: a) déposer sur le substrat (1) au moins deux fois consécutivement, une couche (10) de matériau à faible permittivité relative et une couche (12) formant un masque dur; b) réaliser une ouverture (13) dans le masque dur (12) situé en position supérieure, à l'aplomb des plots métalliques (4); c) graver la ou les couches (10) de matériau à faible perrnittivité relative et la ou les couches de masque dur sousjacent jusqu'au plot métallique, pour former un trou d'interconnexion ( 14); d) déposer une couche (15) formant barrière à la diffusion du cuivre; e) déposer une couche amorce de cuivre; () déposer un masque de protection (18,20), et à l'éliminer au niveau du fond (19) du trou d'interconnexion (14); g) déposer du cuivre, par voie éleckolytique, dans le trou d'interconnexion (14); h) éliminer le reste (18) du masque de protection; i) déposer une couche de résine supéneure (25) d'une épaisseur voisine de l'épaisseur des spires (30) du microcomposant inductif; j) graver la couche de résine (25) pour former des canaux (32) définissant la géométrie des spires du microcomposant inductif; k) déposer du cuivre par voie électrolytique dans les canaux (32) ainsi gravés; l) éliminer le reste (27) de la couche (25) de résine supérieure; m) graver la couche (16) amorce de cuivre entre les spires de cuivre (30-31); n) graver la couche (14) barrière à la diffusion du cuivre entre les spires (30) du microcomposant inductif; 22 2832853 2/ Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que le substrat (1) est un substrat semi-conducteur, formant un circuit intégré. 3/ Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que le substrat est un substrat amorphe du type verre ou quartz. 4/ Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que le matériau (10) de faible permittivité relative, déposé sur le substrat est du benzocycloDutène. 5/ Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que l'épaisseur de la couche (10) de matériau de faible permittivité relative est comprise entre 10 et 40 micromètres, préLérentiellement voisine de 20 micromèhes. 6/ Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que le matériau utilisé pour la couche (12) forrnant le masque dur est choisi dans le groupe comprenant: SiC, SiN, Si:N SiO2, SiOC, SiON, Cr. Y2O3 pris isolément ou en combinaison. 7/ Procédé selon la revendication 1, dans lequel le masque dur est réalisé en chrome, caractérisé en ce qu'il comporte également une étape d'élimination du masque dur (12) situé en position supérieure avant le dépôt de la couche (15) formant barrière à la diffusion du cuivre. 8/ Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que le matériau utilisé pour la couche (15) barrière à la diffusion du cuivre est choisi dans le groupe comprenant TiW, Ti, TiN, Ta, TaN,W, WN, Re, Cr. Os, Mo, Ru, pris isolément ou en . combmalson. 9/ Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que l'épaisseur de la couche (15) barrière à la diffusion du cuivre est comprise entre 100 et 400 A. / Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'il comporte une étape d'enTichissement de la couche (16) amorce de cuivre. 23 2832853 11/ Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'il comporte une étape de recuit, destinée à faire croitre la taille des cristaux de cuivre déposés lors des étapes de dépôt électrolytique. 12/ Procédé selon la revendication 1, caractérisé èn ce qu'il comporte une étape de décontamination du cuivre susceptible de migrer dans le substrat (1), notamment au niveau des faces latérales du substrat. 13/ Procédé selon la revendication 12, caractérisé en ce que l'étape de décontamination a lieu à la suite d'au moins une des étapes de dépôt électrolytique de cuivre. 14/ Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que le masque(l8, 20) de protection déposé lors de l'étape suivant le dépôt de la couche (16) amorce de cuivre est formé d'une résine photonégative. / Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'avant l'étape de dépôt de la couche (25) de résine supérieure, on procède à un traitement à l'hexamethyldisiloxane (HMDS) ou au divinyltetramethyldisilazane (DVTMDS), destiné à conférer des propriétés de bonne adbésion du cuivre sur la résine supérieure (25). 16/ Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'il comporte au moins une étape de nettoyage par voie chimique non corrosive vis à vis du cuivre postérieurement aux dépôts électrolytiques de cuivre, et/ou aux étapes de gravure de la couche amorce de cuivre, et /ou de la couche barrière à la diffusion du cuivre. 17/ Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'il comporte une étape de dépôt d'une couche de passivation au-dessus des spires de cuivre. 24 2832853 18/ Procédé selon la revendication 17, caractérisé en ce que la couche de passivation est obtenue par dépôt d'une couche de nichel, puis par dépôt d'une couche d'or. S 19/ Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que le dépôt de cuivre destiné à former les spires est effectué pour donner un épaisseur de cuivre supérieure à 10 micromètres. / Composant électronique, incorporant un micro-composant inductif situé au dessus d'un substrat (1), relié à ce dernier par au moins un plot métallique (4), caractérisé en ce qu'il cornporte: - une succession de couches (10) de matériau à faible permittivité relative séparées par des couches de masque dur, la première couche de matériau à faible permittivité relative, reposant sur la face supérieure du substrat (1); un ensemble de spires métalliques (30-31), définies au-dessus de la succession de couches (10) de matériau à faible permittivité relative; une couche (15) barrière à la diffusion du cuivre, interposée entre les spires métalliques (30-31) et la couche sousjacente de matériau à faible permittivité relative. 21/ Composant selon la revendication 20, caractérisé en ce que le substrat est un substrat semi-conducteur, formant un circuit intégré. 22/ Composant selon la revendication 20, caractérisé en ce que le substrat est un substrat amorphe du type verre ou quartz. 23/ Composant selon la revendication 20, caractérisé en ce que le matériau (10) de faible permittivité relative déposé sur le substrat est du benzocycloDutène. 2832853 24/ Composant selon la revendication 23, caractérisé en ce que l'épaisseur de la couche (10) d'un matériau de faible permittivité relative est comprise entre 10 et 40 micromètres, de prétérence voisine de 20 micromètres. 25/ Composant selon la revendication 20, caractérisé en ce que le matériau utilisé pour la couche (15) barrière à la diffusion du cuivre est choisi dans le groupe comprenant TiW, Ti, TiN, Ta, TaN, Mo, W. WN, Re, Cr. Os, et Ru, pris isolément OU en combmalson. 26/ Composant selon la revendication 20, caractérisé en ce que 1'épaisseur de la couche (15) barrière à la diffusion du cuivre est comprise entre 100 et 400 A. 27/ Composant selon la revendication 20, caractérisé en ce qu'il comporte une c ouche de pas sivation prés ente sur l es spires de cuivre, ladite c ouche incluant typiquement du nickel et de l'or. 28/ Composant selon la revendication 20, caractérisé en ce que l'épaisseur des spires (30,31) est supérieure à 10 micromètres. 29/ Composant selon la revendication 20, caractérisé en ce que le facteur de qualité du micro-composant inductif est supérieur à 50, à 2 (3igaHertz. / Composant selon la revendication 20, caractérisé en ce que la résistivité des spires est comprise entre 1,72 Q.cm et 182,uQ.cm. Déposant: MEMSCAP