Brevet FR2819594A1 — publié le 20020719

STRUCTURE OPTIQUE À POUTRE ISOLÉE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION La présente invention concerne le domaine de la transmission d'ondes optiques dans des structures de guidage optique. Pour transporter une onde optique, on utilise des guides optiques qui sont couramment constitués de fibres ou de micro-fibres optiques et/ou de composants intégrés qui comprennent des microguides optiques. Les fibres optiques comprennent en général un coeur de transmission de l'onde optique qui est entouré par une enveloppe tubulaire, l'indice de réfraction du ou des matériaux constituant le coeur étant supérieur à l'indice de réfraction du matériau constituant l'enveloppe. Les composants à micro-guides intégrés comprennent un coeur en général de transmission de l'onde optique formé entre deux couches, l'indice de réfraction du matériau constituant le coeur étant supérieur à l'indice de réfraction du ou des matériaux constituant ces couches. Différentes structures de guidage optique sont en particulier décrites dans les brevets FR-A-90 03 902 et FR-A-95 00201. Le brevet FR-A-90 03 902 décrit des commutateurs optiques intégrés dans lesquels une poutre flexible qui porte longitudinalement un micro-guide optique est susceptible d'être déformée par rapport à un corps fixe afin d'amener sélectivement l'extrémité du coeur du micro-guide de la poutre en coïncidence avec l'extrémité de microguides fixes. Le brevet FR-A-95 00 201 décrit des commutateurs optiques intégrés qui comprennent une plate-forme mobile placée entre deux parties d'un corps et reliée à ce dernier par des bras. La plate-forme porte des micro-guides optiques intégrés disposés de façon à commuter, lorsqu'elle est déplacée transversalement, une onde lumineuse arrivant par un micro-guide optique de l'une des parties du corps vers sélectivement deux micro-guides optiques de son autre partie. Les documents ci-dessus proposent aussi des organes d'actionnement de la poutre flexible et de la plate-forme déplaçable. Ces dernières sont en un matériau électriquement isolant et présentent des bras recouverts d'une couche métallique et les corps présentent des parties recouvertes d'une couche métallique. Ces couches sont placées à distance de façon à constituer les électrodes à effet capacitif ou inductif et sont reliées à des lignes d'alimentation par exemple par des pistes et/ou des ponts filaires. La présente invention a en particulier pour but d'améliorer et de simplifier la constitution d'organes d'actionnement dans des structures optiques à parties mobiles ou déformables assurant en particulier des commutations optiques. La présente invention a d'abord pour objet un procédé de réalisation d'une structure optique munie d'au moins un moyen de guidage optique en vue de la transmission d'au moins une onde optique ou lumineuse. Selon l'invention, ce procédé consiste à munir un substrat d'une première couche non conductrice de l'électricité et d'une seconde couche conductrice de l'électricité ; à réaliser un mur d'isolation électrique dans la seconde couche au moins jusqu'à la première couche, présentant deux extrémités opposées et entourant partiellement une première zone de cette couche ; et à creuser une cavité dans la seconde couche puis dans ladite première couche, entourant partiellement une seconde zone de la seconde couche, adjacente à ou prolongeant ladite première zone et dans laquelle débouche ledit mur, cette cavité comprenant un dégagement dans la seconde couche en dessous d'au moins une partie de la seconde zone ; de telle sorte que la partie fermée de la seconde couche correspondant auxdites zones est électriquement isolée du reste de cette couche et que la partie dégagée par en dessous de ladite seconde zone constitue une poutre. Selon une variante préférée de l'invention, le procédé consiste à munir un substrat d'une première couche non conductrice de l'électricité et d'une seconde couche conductrice de l'électricité ; à creuser une rainure dans la seconde couche au moins jusqu'à la première couche, présentant deux extrémités opposées et entourant partiellement une première zone de cette couche ; à remplir au moins en partie la rainure d'un matériau électriquement isolant ; et à creuser une cavité dans la seconde couche puis dans ladite première couche, entourant partiellement une seconde zone de la seconde couche, adjacente à ou prolongeant ladite première zone et dans laquelle débouche ladite rainure, cette cavité comprenant un dégagement dans la seconde couche en dessous d'au moins une partie de la seconde zone ; de telle sorte que la partie fermée de la seconde couche correspondant auxdites zones est électriquement isolée du reste de cette couche et que la partie dégagée par en dessous de ladite seconde zone constitue une poutre. Selon l'invention, le procédé consiste de préférence à réaliser un dégagement tel que ladite poutre est en porte-à-faux. Selon l'invention, le procédé consiste de préférence à réaliser au moins un moyen de guidage optique qui passe au-dessus de ladite rainure remplie et entre lesdites extrémités de cette rainure remplie. Selon l'invention, le procédé consiste de préférence, entre l'opération de remplissage de ladite rainure et l'opération de réalisation de ladite cavité, à réaliser au moins un micro-guide optique sur la seconde couche, qui passe au-dessus de ladite rainure remplie et qui passe entre lesdites extrémités de cette rainure. Selon l'invention, le procédé consiste de préférence, entre l'opération de remplissage de ladite rainure et l'opération de réalisation de ladite cavité, à réaliser au moins une rainure superficielle dans ladite seconde couche qui passe au-dessus de ladite rainure remplie et qui passe entre lesdites extrémités de cette rainure et, après l'opération de réalisation de ladite cavité et dudit dégagement, à fixer le long de cette gorge une micro-fibre optique. Selon l'invention, le procédé consiste de préférence à réaliser au moins une rainure superficielle qui passe au-dessus de la cavité à réaliser. Selon l'invention, le procédé consiste de préférence à réaliser une rainure qui présente des parties d'extrémité rapprochées. Selon l'invention, ce procédé consiste de préférence à réaliser une rainure qui délimite une première zone en forme de T qui présente une branche centrale dirigée vers ladite seconde zone et deux branches latérales opposées. Selon l'invention, le procédé consiste de préférence à réaliser un plot de connexion électrique sur ladite première zone. Selon une autre variante de l'invention, le procédé consiste à réaliser ledit mur d'isolation par dopage local de ladite seconde couche. La présente invention a également pour objet une structure optique munie d'au moins un moyen de guidage optique en vue de la transmission d'au moins une onde optique ou lumineuse. Selon l'invention, cette structure comprend successivement, sur un substrat, une première couche non conductrice de l'électricité, une seconde couche conductrice de l'électricité et des moyens de guidage optique. Selon une variante de l'invention, la seconde couche comprend une partie fermée dont la périphérie est délimitée par une rainure et une cavité qui sont creusées au moins jusqu'à la première couche de façon à isoler électriquement cette partie du reste de cette couche, ladite rainure étant au moins en partie remplie d'un matériau électriquement isolant et ladite cavité se prolongeant dans ladite première couche en ménageant un dégagement sous ladite seconde couche de façon que la seconde couche constitue une poutre au-dessus de ce dégagement. Selon l'invention, la structure comprend de préférence au moins un moyen de guidage optique s'étendant sur ladite seconde couche et passant au-dessus de ladite rainure remplie et entre les extrémités de cette rainure. Selon une autre variante de l'invention, la seconde couche comprend une partie fermée dont la périphérie est délimitée par un mur d'isolation électrique et une cavité qui sont creusées au moins jusqu'à la première couche de façon à isoler électriquement cette partie du reste de cette couche, ladite cavité se prolongeant dans ladite première couche en ménageant un dégagement sous ladite seconde couche de façon que la seconde couche constitue une poutre au-dessus de ce dégagement. La structure comprend au moins un moyen de guidage optique s'étendant sur ladite seconde couche et passant au-dessus dudit mur d'isolation et entre les extrémités dudit mur d'isolation. Selon l'invention, ladite rainure délimite de préférence une première zone en forme de T ou de C, qui présente une branche centrale dirigée vers ladite seconde zone et deux branches latérales opposées. Selon l'invention, ledit dégagement s'étend de préférence de façon à constituer une poutre en porte-à-faux. Selon l'invention, ledit moyen de guidage optique comprend de préférence un micro-guide optique intégré. Selon l'invention, ledit moyen de guidage optique comprend de préférence une rainure superficielle réalisée dans ladite seconde couche et au moins une micro-fibre optique installée le long de cette gorge. Selon l'invention, ledit moyen de guidage optique s'étend de préférence jusqu'au bord de ladite cavité. Selon l'invention, la structure comprend de préférence un plot de connexion électrique formé sur ladite première zone. Selon l'invention, la structure comprend de préférence un organe d'actionnement, ladite poutre comprenant au moins une partie de cet organe d'actionnement. La présente invention sera mieux comprise à l'étude de structures optiques et de leurs procédés de fabrication, décrits à titre d'exemples non limitatifs et illustrés par le dessin sur lequel : - la figure 1 représente une coupe d'une première structure de base selon la présente invention ; - la figure 2 représente une vue de dessus de la structure de base de la figure 1 après la réalisation d'une première opération de fabrication ; - la figure 3 représente une coupe transversale selon III-III de la structure de la figure 2 ; - la figure 4 représente une vue de dessus de la structure de base après une deuxième opération de fabrication ; - la figure 5 représente une coupe transversale selon IV-IV de la structure de la figure 4 ; - la figure 6 représente une vue de dessus de la structure de base après une troisième opération de fabrication ; - la figure 7 représente une coupe transversale selon VII-VII de la structure de la figure 6 ; - la figure 8 représente une vue de dessus de la structure de base après une quatrième opération de fabrication ; - la figure 9 représente une coupe selon IX-IX de la structure de la figure 8 ; - la figure 10 représente une vue de dessus de la structure de base après une cinquième étape de fabrication, qui constitue une première structure optique définitive selon la présente invention ; - la figure 11 représente une coupe transversale selon XI-XI de la structure optique définitive de la figure 10 ; - la figure 12 représente une coupe longitudinale d'une seconde structure de base après une première étape de fabrication, qui correspond à la première structure de base des figures 2 et 3 ; - la figure 13 représente une coupe transversale de la seconde structure de base après une deuxième étape de fabrication ; - la figure 14 représente une vue de dessus de la seconde structure de base après une deuxième étape de fabrication, qui constitue une seconde structure optique définitive selon la présente invention ; - la figure 15 représente une coupe transversale selon XV- XV de la structure optique définitive de la figure 14 ; - et la figure 16 représente une coupe transversale selon XVI-XVI de la structure optique définitive de la figure 14. En se reportant aux figures 1 à 11, on va tout d'abord décrire les différentes opérations permettant d'aboutir à une structure optique 100, représentée de façon définitive sur figures 10 et 11. En se reportant à la figure 1, on voit qu'on part d'une structure de base 1 multi-couches, qui comprend un substrat 2 par exemple en silicium, qui est recouvert par une première couche 3 en un matériau isolant tel que du dioxyde de silicium (SiO2), elle-même recouverte d'une seconde couche 4 en un matériau conducteur de l'électricité, par exemple en silicium. Comme le montrent les figures 2 et 3, on creuse la couche conductrice 4 de façon à réaliser une rainure 5 qui s'étend en profondeur jusqu'à la couche conductrice 3. Cette rainure 5 délimite et entoure partiellement une première zone 6 de la couche conductrice 4. Dans l'exemple représenté, la rainure 5 est, en vue de dessus, en forme de C dont les extrémités se prolongent par deux parties longitudinales d'extrémité 5a et 5b parallèles et rapprochées, de telle sorte que la zone 6 se présente, en vue de dessus, sous la forme d'un T à branches épaisses, ses deux branches latérales opposées étant délimitées par le C et sa branche centrale étant délimitée par les deux parties d'extrémité 5a et 5b et s'étendant longitudinalement. Après quoi, on procède au remplissage de la rainure 5 par une matière isolante électriquement 7, par exemple par de la silice ou du dioxyde de silicium. On obtient ainsi un mur d'isolation électrique constitué par la rainure 5 remplie de la matière 7. En se reportant aux figures 4 et 5, on voit qu'ensuite on creuse dans la couche conductrice 4, superficiellement, une rainure longitudinale 8, par exemple de section en forme de V, qui franchit la rainure remplie 5 et qui traverse axialement la zone 6 en passant entre ses parties longitudinales d'extrémité 5a et 5b. En se reportant aux figures 6 et 7, on voit qu'ensuite on creuse, dans la couche conductrice 4 et jusqu'à la couche isolante 3, une cavité 9 qui entoure partiellement une seconde zone 10 de cette couche 4 et dans laquelle débouche la cavité remplie 5. Dans l'exemple représenté, la seconde zone 10 prolonge longiudinalement la branche centrale de la première zone 6 et présente une surface transversale d'extrémité 11, opposée à la zone 6, qui s'étend à faible distance d'une paroi transversale 12 de la cavité 9 de façon à délimiter un espace 13. De plus, la rainure superficielle 8 s'étend longitudinalement à la seconde zone 12 et cette rainure 8 est interrompue par l'espace 13. Il en résulte que la première zone 6 et cette seconde zone 10 sont adjacentes et périphériquement complètement entourées par la rainure 5 et la cavité 9, de telle sorte que la partie fermée 14 de la couche conductrice 4 ainsi délimitée est électriquement isolée du reste de cette couche environnant la rainure 5 et la cavité 9. Comme le montrent les figures 8 et 9, on creuse ensuite la couche isolante 3 autour et en dessous de la zone 10 de la partie isolée 14 de la couche conductrice 4, de façon à ce que la cavité 9 approfondie présente un dégagement 15 en-dessous de la seconde zone 10 de la partie isolée 14 de la couche 4. Il en résulte que la zone 10 de la partie isolée 14 de la couche conductrice 4 constitue une poutre en porte-à-faux 16 qui s'étend librement dans la cavité 9 et qui est solidement encastrée par sa zone 6 entourée par la rainure remplie 5 et accrochée par en dessous à la couche isolante 3. En se reportant aux figures 10 et 11, on voit qu'ensuite on procède à la fixation d'une micro-fibre optique longitudinale 17 dans la partie de la rainure superficielle 8 de telle sorte qu'une extrémité de cette micro-fibre 17 coïncide avec l'extrémité 11 de la poutre 16 et qu'on procède à la fixation d'une fibre optique longitudinale 18 dans l'autre partie de la rainure 8 de telle sorte qu'une extrémité de cette micro-fibre 18 coïncide avec la paroi 12 de la cavité 9. Ainsi, les micro-fibres optiques 17 et 18 sont couplées optiquement par leurs extrémités et toute flexion de la poutre 16, obtenue par un organe d'actionnement que l'on décrira plus loin, permet de modifier ce couplage. On réalise ensuite un plot de connexion électrique 19 par exemple sur la zone 6 de la partie isolée 14 de la couche conductrice 4 et un plot de connexion électrique 20 en un endroit du reste de cette couche conductrice 4, de façon à pouvoir commander électriquement l'organe d'actionnement mentionné ci-dessus comme on le décrira plus loin. En se reportant aux figures 12 à 16, on va maintenant décrire les différentes étapes de fabrication d'une seconde structure optique 200, représentée de façon définitive sur les figures 16 et 17. En se reportant en particulier à la figure 12, on voit qu'on part d'une structure de base 21 identique à la structure de base 1 de l'exemple précédent, qui comprend un substrat 22 sur lequel est déposée une première couche 23 en un matériau isolant, sur laquelle est déposée une seconde couche 24 en un matériau conducteur de l'électricité. Comme décrit en référence aux figures 2 et 3, on creuse dans la couche conductrice 24 une rainure 25, de même forme que la rainure 5 de l'exemple précédent, que l'on remplit d'une matière isolante 26, cette rainure entourant partiellement et délimitant une première zone 27. En se reportant à la figure 13, on voit qu'ensuite on réalise, sur la couche conductrice 24, un micro-guide longitudinal intégré 28 en déposant une couche 29 et en réalisant un coeur longitudinal de transmission optique 30, la couche superficielle 29 étant en un matériau électriquement isolant, par exemple en silice non dopée, et le coeur de transmission 29 étant par exemple en silice dopée ou en nitrure de silicium. Comme la rainure superficielle 8 de l'exemple précédent, le coeur de transmission 30 s'étend longitudinalement en passant audessus de la rainure remplie 25 et entre les parties d'extrémité 25a et 25b de cette rainure. En se reportant aux figures 14 à 16, on voit qu'ensuite on creuse, dans la couche superficielle non conductrice 29, puis dans la couche conductrice 24, puis dans la couche non conductrice 23, une cavité 31 qui présente un dégagement 32, la rainure remplie 25 débouchant dans cette cavité 31. Comme dans l'exemple précédent, la cavité 31 délimite et entoure partiellement une seconde zone 33 adjacente à la première zone 27, de telle sorte que la couche conductrice 24 présente une partie isolée 34, dont la périphérie est entourée par la rainure 25 et la cavité 31, la zone 27 et la rainure 25 étant cette fois recouverte par la couche superficielle 29. Comme dans l'exemple précédent, une poutre longitudinale 35 en porte-à-faux est ainsi réalisée dans la cavité 31, dans la seconde zone 33 et dans le prolongement de la première zone 27, la surface transversale d'extrémité 36 de cette poutre 35 étant séparée d'une paroi transersale 37 de la cavité 31 par un espace 38. Etant coupé par l'espace 38, le micro-guide optique 28 présente une partie 28a dont le coeur de transmission s'étend le long de la poutre 35, jusqu'à son extrémité 36, et une partie 28b dont le coeur de transmission s'étend jusqu'à la paroi transversale 37 de la cavité 31, ces parties 28a et 28b étant couplées optiquement via l'espace 38. Ensuite, on creuse des trous dans la couche superficielle 29 jusqu'à la couche conductrice 24, que l'on remplit de matière conductrice de l'électricité de façon à constituer d'une part un plot de connexion électrique 39 sur la zone 27 de la partie 34 de la couche 24 et d'autre part un plot de connexion électrique 40 sur l'autre partie de cette couche, ces plots 39 et 40 étant destinés à établir une différence de potentiel entre ces parties isolées de la couche conductrice 24. Complémentairement, la cavité 31 et le dégagement 32 sont creusés de façon à constituer en outre, par les mêmes opérations, un organe d'actionnement 41 de la poutre 35. Cet organe d'actionnement 41 comprend, dans la cavité 31, un bras transversal 42 solidaire de la poutre 35, en un endroit proche de son extrémité 36, qui s'étend parallèlement à la paroi 37 de la cavité 31 et qui porte latéralement des branches opposées 43 et 44. L'organe d'actionnement 41 comprend en outre des branches opposées 45 et 46 qui sont ménagées en saillie dans la cavité 31 à partir de la paroi transversale 37 et d'une paroi transversale opposée 47 de la cavité 31, ces branches 45 et 46 s'étendant entre d'une part les branches 43 et d'autre part les branches 44. Comme la poutre 35, le bras latéral 42 et les branches 43, 44,45 et 46 sont réalisés dans la matière des couches 24 et 29. Ainsi, le bras latéral 42 et les branches 43 et 44 font partie de la seconde zone 33 isolée électriquement et sont reliés électriquement au plot 39 via la poutre 35, tandis que les branches 45 et 46 sont reliées électriquement au plot de connexion électrique 40. De préférence, les faces en vis-à-vis des branches 43 et 45 d'une part et des branches 44 et 46 d'autre part sont recouvertes, ultérieurement, de couches métalliques non représentées, de telle sorte que ces branches constituent des électrodes. Il résulte de ce qui précède que l'existence de la rainure remplie 25 d'isolation et le mode de réalisation de la cavité 31 permettent d'isoler électriquement la poutre 35 et les parties de l'organe d'actionnement 41 constituées par le bras latéral 42 et les branches 43 et 44, de telle sorte que l'alimentation en énergie électrique de cet organe d'actionnement 41 est simple. Il suffit en effet de relier électriquement, en particulier par des fils de connexion électrique, les plots 39 et 40 à un dispositif de commande non représenté, de façon à activer l'organe de d'actionnement 41 afin de faire fléchir à volonté la poutre 35 et ainsi modifier le couplage optique entre les deux parties 28a et 28b du micro-guide optique 28. Bien entendu, l'organe d'actionnement 41 tel qu'il vient d'être décrit peut être réalisé dans la structure optique 100 décrite en référence aux figures 1 à 11 lors de l'opération de la cavité 9. Dans un exemple concret de réalisation de la structure optique 200, l'épaisseur de la couche conductrice 24 pourrait être d'environ 60 microns et la largeur du coeur du micro-guide optique 28 pourrait être d'environ 8 microns. Dans ces conditions, la largeur et la longueur des branches de la première zone pourraient être d'environ 50 microns et la largeur de la rainure pourrait être d'environ 5 microns, la cavité 31 étant suffisamment large pour permettre les flexions de la poutre 35 et pour ne pas perturber électriquement le fonctionnement de l'organe d'actionnement 41. De telles dimensions sont également applicables à la structure optique 100. Selon une variante de l'invention, la rainure 5 remplie de matière 7 pourrait être remplacée par un dopage de la couche 4 afin de créer un mur d'isolation électrique intégré. D'une manière générale, les opérations permettant la réalisation des rainures, des cavités et de trous ainsi que les opérations de réalisation des micro-guides optiques peuvent être effectuées par des procédés de photolithographies, de gravures, de dépôts et de planarisations mécano-chimiques connus en micro-électronique. La présente invention ne se limite pas aux exemples cidessus décrits. Les structures optiques pourraient présenter des rainures remplies et des cavités adaptées pour constituer des poutres de toutes formes souihaitées, en particulier des plate-formes portées par des bras isolés électiquement et mobiles en translation. Les structures optiques pourraient présenter une multiplicité de microfibres optiques ou de micro-guides intégrés. Les organes d'actionnement pourraient présenter des dispositions différentes. La forme des rainures remplies d'isolation pourraient présenter des formes différentes. Bien des variantes sont en effet possibles sans sortir du cadre défini par les revendications annexées. REVENDICATIONS 1. Procédé de réalisation d'une structure munie d'au moins un moyen de guidage optique en vue de la transmission d'au moins une onde optique ou lumineuse, caractérisé par le fait qu'il consiste à munir un substrat d'une première couche (3) non conductrice de l'électricité et d'une seconde couche (4) conductrice de l'électricité ; à réaliser un mur d'isolation électrique (5) dans la seconde couche (4) au moins jusqu'à la première couche, présentant deux extrémités opposées (5a, 5b) et entourant partiellement une première zone (6) de cette couche ; et à creuser une cavité (9) dans la seconde couche puis dans ladite première couche, entourant partiellement une seconde zone (10) de la seconde couche (4), adjacente à ou prolongeant ladite première zone (6) et dans laquelle débouche ledit mur (5), cette cavité comprenant un dégagement (15) dans la seconde couche en dessous d'au moins une partie de la seconde zone ; de telle sorte que la partie fermée (14) de la seconde couche (4) correspondant auxdites zones (6,10) est électriquement isolée du reste de cette couche et que la partie dégagée (15) par en dessous de ladite seconde zone (10) constitue une poutre (16). 2. Procédé selon la revendication 1, caractérisé par le fait qu'il consiste, en vue de réaliser ledit mur d'isolation : à creuser une rainure (5) dans la seconde couche (4) au moins jusqu'à la première couche, présentant deux extrémités opposées (5a, 5b) et entourant partiellement une première zone (6) de cette couche ; et à remplir au moins en partie ladite rainure d'une matière (7) électriquement isolante ; ladite rainure (5) débouchant dans ladite cavité (9). 3. Procédé selon l'une des revendications 1 et, caractérisé par le fait qu'il consiste à réaliser un dégagement (15) tel que ladite poutre (16) est en porte-à-faux. 4. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 3, caractérisé par le fait qu'il consiste à réaliser au moins un moyen de guidage optique (28) qui passe au-dessus dudit mur d'isolation ou de ladite rainure remplie (5) et entre lesdites extrémités (5a, 5b) de cette rainure remplie. 5. Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé par le fait qu'il consiste, entre l'opération de réalisation dudit mur d'isolation ou de remplissage de ladite rainure et l'opération de réalisation de ladite cavité, à réaliser au moins un microguide optique (28) sur la seconde couche, qui passe au-dessus dudit mur d'isolation ou de ladite rainure remplie (25) et qui passe entre lesdites extrémités (25a, 25b) de ce mur d'isolation ou de cette rainure. 6. Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé par le fait qu'il consiste, entre l'opération de réalisation dudit mur d'isolation ou de remplissage de ladite rainure et l'opération de réalisation de ladite cavité, à réaliser au moins une rainure superficielle (8) dans ladite seconde couche (4) qui passe audessus dudit mur d'isolation ou de ladite rainure remplie (5) et entre lesdites extrémités (5a, 5b) de ce mur d'isolation ou de cette rainure remplie et, après l'opération de réalisation de ladite cavité et dudit dégagement, à fixer le long de cette rainure superficielle une microfibre optique (17,18). 7. Procédé selon la revendication 6, caractérisé par le fait qu'il consiste à réaliser au moins une rainure superficielle (8) qui passe au dessus de la cavité (6) à réaliser. 8. Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé par le fait qu'il consiste à réaliser de réalisation un mur d'isolation ou une rainure (5) qui présente des parties d'extrémité (5a, 5b) rapprochées. 9. Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé par le fait qu'il consiste à réaliser un mur d'isolation ou une rainure (5) qui délimite une première zone (6) en forme de T qui présente une branche centrale dirigée vers ladite seconde zone (10) et deux branches latérales opposées. 10. Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé par le fait qu'il consiste à réaliser un plot de connexion électrique (19) sur ladite première zone (6). 11. Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé par lefait qu'il consiste à réaliser ledit mur d'isolation par dopage local de ladite seconde couche (10). 12. Structure optique munie d'au moins un moyen de guidage optique en vue de la transmission d'au moins une onde optique ou lumineuse, caractérisée par le fait qu'elle comprend successivement, sur un substrat, une première couche (3) non conductrice de l'électricité, une seconde couche (4) conductrice de l'électricité et des moyens de guidage optique ; que la seconde couche comprend une partie fermée (14) dont la périphérie est délimitée par une rainure (5) et une cavité (9) qui sont creusées au moins jusqu'à la première couche de façon à isoler électriquement cette partie du reste de cette couche, ladite rainure étant au moins en partie remplie d'une matière (7) électriquement isolant et ladite cavité se prolongeant dans ladite première couche en ménageant un dégagement (15) sous ladite seconde couche de façon que la seconde couche constitue une poutre au-dessus de ce dégagement ; et qu'elle comprend au moins un moyen de guidage optique (16,28) s'étendant sur ladite seconde couche (4) et passant au-dessus de ladite rainure remplie (5) et entre les extrémités de cette rainure (5a, 5b). 13. Structure optique munie d'au moins un moyen de guidage optique en vue de la transmission d'au moins une onde optique ou lumineuse, caractérisée par le fait qu'elle comprend successivement, sur un substrat, une première couche (3) non conductrice de l'électricité, une seconde couche (4) conductrice de l'électricité et des moyens de guidage optique ; que la seconde couche comprend une partie fermée (14) dont la périphérie est délimitée par un mur d'isolation électrique (5) et une cavité (9) qui sont creusées au moins jusqu'à la première couche de façon à isoler électriquement cette partie du reste de cette couche, ladite cavité se prolongeant dans ladite première couche en ménageant un dégagement (15) sous ladite seconde couche de façon que la seconde couche constitue une poutre au-dessus de ce dégagement ; et qu'elle comprend au moins un moyen de guidage optique (16,28) s'étendant sur ladite seconde couche (4) et passant au-dessus dudit mur d'isolation (5) et entre les extrémités dudit mur d'isolation (5a, 5b). 14. Structure selon l'une des revendications 12 et 13, caractérisée par le fait que ladite rainure (5) délimite une première zone (6) en forme de T ou de C, qui présente une branche centrale dirigée vers ladite seconde zone et deux branches latérales opposées. 15. Structure selon l'une des revendications 12 et 14, caractérisée par le fait que ledit dégagement (15) s'étend de façon à constituer une poutre en porte-à-faux (16). 16. Structure selon l'une quelconque des revendications 12 à 15, caractérisée par le fait que ledit moyen de guidage optique comprend un micro-guide optique intégré (28). 17. Structure selon l'une quelconque des revendications 12 à 16, caractérisée par le fait que ledit moyen de guidage optique comprend une rainure superficielle (8) réalisée dans ladite seconde couche (4) et au moins une micro-fibre optique (17) installée le long de cette rainure superficielle. 18. Structure selon l'une quelconque des revendications 12 à 17, caractérisée par le fait que ledit moyen de guidage optique s'étend jusqu'au bord de ladite cavité (9). 19. Structure selon l'une quelconque des revendications 12 à 18, caractérisée par le fait qu'il comprend un plot de connexion électrique (19) formé sur ladite première zone (6) 20. Structure selon l'une quelconque des revendications 12 à 19, caractérisée par le fait qu'elle comprend un organe d'actionnement (41), ladite poutre (35) comprenant au moins une partie de cet organe d'actionnement.