Brevet FR2808098A1 — publié le 20011026

La présente invention concerne procédés et dispositifs assurant le pompage des gaz dans une chambre de procédés telle que celles utilisées dans la fabrication des composants électroniques à semi-conducteurs. Dans la fabrication des composants 'lectroniques à semi-conducteurs, une étape importante consiste à traiter un substrat semi-conducteur sous atmosphère contrôlée à très basse pression, par exemple pour des dépôts par plasma de couches de différents matériaux. Dans une production industrielle, les substrats, sous forme de tranche, sont conditionnés et amenés en succession dans chambre de procédés, au moyen d'un sas ou d'une chambre de transfert. Dans chambre de procédés, l'atmosphère doit être contrôlée de façon très précise, notamment pour éviter la présence de toute impureté et de toute pollution. Les progrès réalisés lors de ces dernières années dans l'industrie du semi conducteur sont essentiellement liés à l'accroissement de l'intégration de circuits électroniques sur des composants de quelques mm2, définis sur des tranches de silicium de plus en plus grandes. Les étapes technologiques nécessaires à la réalisation de tels circuits sont nombreuses (jusqu'à 400) et, au cours du proce , la pression dans la chambre de procédés subit des variations brusques entre différentes étapes au cours desquelles la pression doit être contrôlée et fixée à une valeur appropriée. La génération de l'atmosphère contrôlée à basse pression dans la chambre de procédés nécessite l'utilisation de systèmes de pompage efficaces, comprenant généralement une pompe primaire refoulant à l'atmosphère et dont l'entrée est raccordée à la sortie d'une pompe secondaire telle qu'une pompe turbomoléculaire dont l'entrée est reliée à la chambre de procédés. Les étapes de procédé dans la chambre de procédés nécessitent la présence de gaz particuliers, et génèrent par action sur le substrat des composés gazeux qu'il faut évacuer. II en résulte que le système de pompage doit pomper une atmosphère variable contenant des composés gazeux qu'il faut traiter par un dispositif de traitement des gaz, afin de refouler à l'atmosphère uniquement des composés inoffensifs. Actuellement, les systèmes de pompage et de traitement des gaz sont à distance de la chambre de procédés, c'est ' dire qu'ils sont reliés à la chambre de procédés par des canalisations longues coûteuses, de plus d'une dizaine de mètres. La raison de la présence de cette distance et de ces canalisations est que les systèmes actuels de pompage et de traitement des gaz sont lourds et encombrants, et génèrent des nuisances telles que des vibrations qu'il faut absolument éviter dans la chambre de procédés. Une usine de fabrication de composants électroniques est pour cela actuellement conçue dans un bâtiment ayant au moins deux niveaux, le niveau supérieur contenant la ou les chambres de procédés, le niveau inférieur contenant le ou dispositifs de pompage et de traitement des gaz. Les canalisations relient deux niveaux, pour transmettre le vide. Les canalisations, qui sont indispensables dans les structures connues présentent plusieurs inconvénients - canalisations elles-mêmes génèrent des vibrations ; - canalisations constituent une importante zone surfacique sur laquelle les gaz pompés peuvent se déposer sous forme de particules ; les particules ainsi déposées peuvent rétrodiffuser de la canalisation vers la chambre de procédés, et ainsi accroître la contamination de la chambre lors des étapes ultérieures du procédé ; - canalisations nécessitent des moyens de support mécaniques importants ; - pour réduire les dépôts dans les canalisations, il est possible d'effectuer un contrôle thermique, mais un tel contrôle est extrêmement coûteux et très difficile à mettre en oeuvre ; - nécessaire de prévoir un système de contrôle et de surveillance lourd à mettre en oeuvre pour la sécurité en cas de fuite, les gaz pompés étant nocifs ; - l'encombrement très important de l'ensemble nécessite des infrastructures importantes et une grande surface au sol pour les usines de production ; le coût en est tres élevé ; la déperdition sur la ligne de froid n'est pas négligeable. Le but de l'invention est d'intégrer au voisinage immédiat de la chambre de procédés les différents éléments composant la ligne de vide, en supprimant ainsi les problèmes liés aux canalisations. On cherche à concevoir ainsi un système pouvant se connecter directement sur la chambre de procédés, et diriger ainsi plus rapidement les effluents vers les dispositifs de traitement des gaz, améliorant ainsi leur efficacité. Mais le problème est alors que la proximité immédiate des organes actifs de la ligne de vide entraîne un risque accru de pollution de la chambre de procédés, cette pollution pouvant notamment être chimique, thermique ou mécanique. exemple, la proximité de la chambre de procédés provoque des dépôts de particules sur les organes actifs de la ligne de vide tels que les pompes ou les vannes augmentant ainsi les risques de pollution par rétrodiffusion vers la chambre de procédés. Pour cela, l'invention vise à la fois à abaisser le coût des installations évitant la présence des canalisations entre la chambre de procédés et le dispositif pompage et de traitement des gaz, et à réduire les risques de pollution de la chambre de procédés. Un autre objectif de l'invention est de faciliter l'adaptation du système de pompage à des structures diverses de chambre de procédés, en optimisant l'efficacité du contrôle processus dans la chambre de procédés. Un autre objectif de l'invention est d'améliorer l'efficacité du traitement des gaz, afin d'annuler ou de réduire dans des proportions convenables le rejet matière toxique vers l'atmosphère. Un autre objectif de l'invention est de permettre la disposition des moyens de pompage ' proximité immédiate de la chambre de procédés, notamment réduisant leur taille. Pour atteindre ces objectifs ainsi que d'autres, l'invention prévoit procédé de conditionnement de l'atmosphère dans une chambre de procédés pour traitement d' substrat, dans lequel - on pompe gaz hors de la chambre de procédés à l'aide d'une pompe primaire et d'au moins pompe secondaire, - on ajuste vitesse de pompage de manière à maintenir la pression adaptée a chaque étape de traitement dans la chambre de procédés, - on analyse les gaz aspirés en amont de la pompe primaire, - on utilise le résultat de l'analyse des gaz pour ajuster la vitesse de pompage fonction des gaz pompés, de manière à déterminer l'évolution de la pression dans chambre de procédés pendant les phases du traitement. Selon un mode de réalisation avantageux, pour l'ajustement de la vitesse de pompage en fonction des gaz pompés, on utilise une fonction de transfert préalablement enregistrée représentant, pour chaque mélange gazeux présent dans la chambre de procédés au cours du traitement, la relation entre la vitesse de pompage, le flux et la pression qui en résulte dans la chambre de procédés. Grâce à un contrôle amélioré des gaz pompés, on peut avantageusement prévoir que ladite au moins une pompe secondaire est raccordée à la chambre de procédés par canalisation de longueur inférieure à trois mètres. exemple, ladite au moins une pompe secondaire est adjacente à la chambre de procédés. De préférence, selon l'invention, on intègre la fonction de traitement de gaz dans la ligne de pompage, en - traitant les gaz en aval de la pompe primaire, analysant les gaz au refoulement de la pompe primaire pour connaître leur nature leur état et pour adapter des paramètres de pompage constitués parmi la température de la pompe primaire, l'injection de gaz de dilution, la vitesse de la pompe primaire, afin d'optimiser l'efficacité de leur traitement. De préférence, on analyse aussi les gaz en sortie de traitement pour adapter le traitement en fonction du résultat de ladite analyse. On peut eventuellement interrompre le pompage en cas de défaut de traitement détecté par ladite analyse des gaz en sortie de traitement. Pour faciliter l'adaptation des moyens de pompage à des structures diverses de chambre de procédés, on peut avantageusement prévoir que, au cours 'une étape préalable d'apprentissage, on fait varier la vitesse de pompage en présence de certains au moins des mélanges gazeux susceptibles d'être présents au cours des étapes de traitement dans la chambre de procédés et on mesure Ici pression qui en résulte dans la chambre de procédés, pour déterminer ladite fonction transfert. L'invention prévoit également un dispositif de conditionnement de l'atmosphère dans une chambre de procédés pour le traitement d'un substrat selon un procédé tel que défini ci-dessus, comprenant - une ligne de pompage comportant ladite pompe primaire, constituée une pompe primaire sèche à vitesse variable, et ladite au moins pompe secondaire, montée en amont de ladite pompe primaire, - des moyens de commande de vitesse de la pompe primaire, - des premiers moyens analyseurs de gaz adaptés pour analyser les gaz aspires en amont de la pompe primaire, et pour produire les premiers signaux d'analyse de gaz, - des premiers moyens de traitement de signal pour produire un signal de commande de vitesse en fonction desdits premiers signaux d'analyse de gaz pour transmettre ledit signal de commande de vitesse aux moyens de commande de vitesse de la pompe primaire. Selon un mode de réalisation avantageux, les premiers moyens de traitement de signal réalisent une correspondance relationnelle entre les premiers signaux d'analyse à leur entrée et le signal de commande de vitesse à leur sortie, à partir d'une fonction de transfert préalablement enregistrée représentant, pour chaque mélange gazeux présent dans la chambre de procédés au cours du traitement du substrat, une relation entre la vitesse de pompage, le flux du melange gazeux présent, et la pression qui en résulte dans la chambre de procédés. De préférence, le dispositif selon l'invention comprend - en aval de la pompe primaire, des moyens de traitement des gaz aspirés, - au refoulement de la pompe primaire, des seconds moyens analyseurs de gaz déterminant la nature et l'état des gaz pompés et produisant des seconds signaux d'analyse de gaz, - des seconds moyens de traitement de signal pour produire, en fonction des seconds signaux d'analyse de gaz, des seconds signaux de commande pouvant être envoyés au dispositif d'alimentation de la pompe primaire pour sa commande de vitesse. Selon un mode de réalisation avantageux, permettant d'améliorer encore le fonctionnement de la chambre de procédés, la pompe primaire, les moyens de traitement des gaz et les analyseurs de gaz sont enfermés ensemble dans une enceinte d'isolement. D'autres objets, caractéristiques et avantages de la présente invention ressortiront de la description suivante de modes de réalisation particuliers, faite en relation avec les figures jointes, parmi lesquelles: - la figure 1 est vue schématique structurelle d'un dispositif de pompage et de traitement des selon un mode de réalisation de la présente invention ; - la figure 2 illustre le diagramme temporel de la variation de pression avant, pendant et après une étape de traitement dans une chambre de procédés ; et - la figure 3 est diagramme dans l'espace illustrant une fonction de transfert pour un gaz pompé, donnant la relation entre la vitesse de pompage, le flux de pompage et la pression obtenue dans la chambre de procédés. Comme illustré sur la figure 1, le système selon l'invention permet de contrôler principalement la pression régnant à l'intérieur d'une chambre de procédés 1, par pompage a l'aide d'une ligne de pompage comprenant essentiellement une pompe secondaire 2 ayant une entrée d'aspiration raccordée à la chambre de procédés 1 et refoulant dans une pompe primaire 3 qui elle-même refoule l'atmosphère par une sortie 4 par l'intermédiaire d'un système de traitement des 5. La pompe primaire 3 est une pompe primaire sèche à vitesse variable adaptée pour refouler à la pression atmosphérique. La pompe secondaire 2 est par exemple une pompe turbomoléculaire, adaptée pour établir la pression basse appropriée dans la chambre de procédés 1, et pour refouler à la pression d'entrée de la pompe primaire 3. On prévoit des moyens de commande de vitesse de la pompe primaire 3, par exemple un contrôleur 6 raccordé à la pompe primaire 3 par une ligne de commande de pompe primaire 7. La pompe primaire 3 comprend, de façon connue en soi, un dispositif d'alimentation approprié pour réaliser la vitesse variable en fonction des signaux reçus sur la ligne de commande de pompe primaire 7. De même, on peut prévoir des moyens de commande de vitesse de la pompe secondaire 2, tels que par exemple le même contrôleur 6 raccordé à la pompe secondaire 2 par une ligne de commande de pompe secondaire 8. Des premiers moyens analyseurs de gaz 9 sont adaptés pour analyser les gaz aspirés en amont de la pompe primaire 3, et pour produire des premiers signaux d'analyse envoyés au contrôleur 6 par une première ligne de signaux d'analyse 10_ Le contrôleur 6 est programmé de façon à constituer des premiers moyens de traitement de signal pour produire un signal de commande de vitesse en fonction des premiers signaux d'analyse procurés par les premiers moyens analyseurs de gaz 9, et pour transmettre par la ligne de commande de pompe primaire 7 ledit signal de commande de vitesse au dispositif d'alimentation de la pompe primaire Pour cela, le contrôleur 6 comprend une mémoire dans laquelle est enregistrée une fonction de transfert permettant le calcul de la vitesse de pompe primaire 3 pour produire dans la chambre de procédés 1 les conditions de pression appropriées. Ainsi, les moyens de traitement implémentés dans le contrôleur 6 réalisent une correspondance relationnelle entre les premiers signaux d'analyse qui leur parviennent à leur première entrée 100 par la première ligne de signaux d'analyse 10 et le signal de commande de vitesse à leur sortie 70 raccordée à la pompe primaire 3 par la ligne de commande de pompe primaire selon une fonction de transfert préalablement enregistrée et représentant, pour chaque mélange gazeux présent dans la chambre de procédés au cours d'une étape du traitement, la relation entre la vitesse de pompage, le flux de ce mélange gazeux et la pression qui en résulte dans la chambre de procédés 1. Grâce au système d'analyse de gaz intégré dans le système génération vide comme représenté sur la figure 1, il devient possible de raccorder la pompe secondaire 2 à la chambre de procédés 1 par une canalisation de longueur courte, inférieure à 3 mètres. En réalité, il devient possible de placer la pompe secondaire 2 position adjacente à la chambre de procédés 1, dont elle séparée eventuellement par une vanne d'isolation 11. La fonction de transfert implémentée dans le contrôleur 6 est par exemple représentée sur la figure 3, pour un mélange gazeux particulier. Sur cette figure, on voit la forme d'une surface illustrant la relation dans un système tridimensionnel entre flux gazeux présent dans la chambre et représenté selon l'axe F, la pression qui en résulte représentée selon l'axe P et la vitesse de pompage représentée selon l'axe V. La première fonction assurée par le contrôleur 6 est d'ajuster la vitesse de pompage de manière à maintenir la pression à une valeur adaptée à chaque étape de traitement dans la chambre de procédés 1. En outre, le contrôleur 6 utilise l'analyse des gaz aspirés procurée par les premiers moyens analyseurs de gaz 9, le résultat de l'analyse étant utilisé pour ajuster la vitesse de pompage, en fonction des gaz pompés, de manière à déterminer l'évolution de la pression dans la chambre procédés 1 pendant les phases transitoires du traitement. Pour l'ajustement de la vitesse de pompage en fonction des gaz pompés, on utilise ainsi la fonction de transfert préalablement enregistrée dans le contrôleur 6, fonction de transfert qui représente, pour chaque mélange gazeux présent dans la chambre de procédés 1 au cours du traitement, la relation entre la vitesse de pompage V, le flux F et la pression P qui en résulte dans la chambre de procédés 1. Dans le mode de réalisation illustré la figure 1, en aval de la pompe primaire 3, se trouvent les moyens de traitement gaz 5 aspirés. Au refoulement de la pompe primaire 3, avant les moyens de traitement des gaz 5, on prévoit des seconds moyens analyseurs de gaz 12 qui permettent de déterminer la nature et l'état des gaz pompés, et qui produisent des seconds signaux d'analyse envoyés par une ligne de transmission 13 à des seconds moyens traitement de signal implémentés dans le contrôleur 6. Les seconds moyens de traitement de signal, dans le contrôleur 6, sont adaptés pour produire, en fonction signaux d'analyse reçus des seconds moyens analyseurs de gaz 12, des seconds signaux de commande pouvant être envoyés au dispositif de commande de vitesse la pompe primaire 3 par la ligne de commande de pompe primaire 7. Grâce aux informations données les seconds moyens analyseurs de gaz 12, le contrôleur 6 connaît la nature et l'état des gaz pompés et adapte les paramètres de pompage afin d'optimiser le traitement réalisé par le dispositif de traitement des gaz 5. Pour cela, on prévoit, associés à la pompe primaire 3, un dispositif de contrôle de température de pompe 14, et un injecteur de gaz de dilution 15. L'injecteur de gaz de dilution 15 permet d'injecter si nécessaire, et de façon contrôlée, des gaz de dilution dans la pompe primaire 3, permettant de diluer les gaz pompés et d'éviter leur condensation dans la pompe primaire 3. L'injecteur de gaz de dilution 15 et le dispositif de contrôle de température de pompe 14 sont commandés par le contrôleur 6, qui peut ainsi adapter les paramètres de pompage tels que la température du corps de pompe primaire 3 et l'injection de gaz de dilution, outre la vitesse de la pompe primaire 3. Ces possibilités permettent d'améliorer sensiblement l'efficacité moyens de traitement des gaz 5, afin de réduire mieux en sortie 4 la présence d'éléments toxiques. Ainsi, le dispositif comprend des moyens de conditionnement de pompage tels qu' source de chaleur du dispositif de contrôle de température de pompe 14 qui chauffe le corps de pompe primaire 3, et/ou des moyens d'injection de gaz de dilution 15 - des seconds signaux de commande sont également générés et envoyés audits moyens de conditionnement de pompage 14, 15 de manière à optimiser l'efficacité moyens de traitement des gaz 5. Dans le mode de réalisation illustré sur la figure 1, prévoit en outre des troisièmes moyens analyseurs de gaz 16, adaptés pour analyser gaz en sortie des moyens de traitement des gaz 5 et pour adapter les moyens de traitement des gaz 5 eux-mêmes en fonction du résultat de ladite analyse. En pratique, les troisièmes moyens analyseurs de gaz 16 produisent des signaux envoyés contrôleur 6 par la ligne de transmission 13, et le contrôleur 6 commande les moyens de traitement des gaz 5 par ligne de commande de traitement de gaz 17. Ainsi, on analyse les gaz en sortie traitement pour adapter le traitement lui-même en fonction du résultat de ladite analyse. Par exemple, on peut interrompre le pompage cas de défaut du traitement tel que détecté par les troisièmes moyens analyseurs gaz 16. Les moyens analyseurs de gaz 9, 12 et 16 peuvent a priori être de tous types connus permettant une analyse rapide des gaz dans les canalisations de courte longueur entre la pompe secondaire 2 et la pompe primaire entre la pompe primaire 3 et le dispositif de traitement des gaz 5, et en sortie du dispositif de traitement des gaz 5. Selon un mode de réalisation, un tel moyen analyseur de gaz peut comprendre un dispositif pour ioniser les gaz à analyser, constitue d'au moins une source de plasma dédiée à l'analyse et mise au contact des gaz de la canalisation, générant plasma à partir des gaz à analyser. Cette source de plasma est alimentée un générateur adapté au type de source de plasma choisi. Par exemple, la source de plasma peut être une source micro-onde de type cavité résonante ou de type utilisant le principe de propagation d'une surface d'onde, et le générateur est un générateur micro-onde. Dans une autre forme de réalisation, la source de plasma est une source plasma radiofréquence de ICP, et le générateur est un générateur RF. Les gaz ionisés peuvent être analysés par un dispositif d'analyse de gaz ionisé de type spectromètre optique, ayant une sonde située a proximité de la source de plasma dédiée, analysant l'évolution d'un spectre radiatif émis par le plasma généré. Les radiations émises par les atomes, molécules et ions excités par les électrons libres du plasma sont transmises au spectromètre d'émission optique, qui analyse les évolutions de ces radiations et en déduit des informations relatives aux constituants des gaz ionisés. Le moyen analyseur de gaz 9, 12 ou 16 peut être intégré série dans la canalisation dont on souhaite contrôler les effluents gazeux, ou est rapporté sur Ici canalisation par raccord extérieur. On comprend que le contrôleur 6 peut être réalisé de façon connue, à base d'un microprocesseur associé à des mémoires et des circuits d'entrée-sortie. Un programme adapté et des données sont enregistrés dans la mémoire contrôleur 6 pour piloter les organes du dispositif de génération et de contrôle de vide. Dans la mémoire, on peut en particulier entrer les données de la fonction transfert telle qu'illustrée la figure 3, données préalablement calculées en fonction notamment de la géométrie de la chambre de procédés 1 et des différents organes génération de vide. Selon l'invention, on peut avantageusement prévoir une étape préalable d'apprentissage, dans laquelle on fait varier la vitesse de pompage présence de certains moins des mélanges gazeux susceptibles d'être présents au cours des étapes traitement dans la chambre de procédés 1, et on mesure le flux et la pression qui en résulte dans la chambre de procédés 1 pour déterminer ladite fonction de transfert. Grâce à cette étape d'apprentissage, le dispositif selon l'invention peut s'auto-adapter à la chambre de procédés 1. On prévoit pour cela un capteur de pression 18, disposé dans la chambre de procédés 1, et raccordé par une ligne de pression 19 au contrôleur 6. Un programme d'apprentissage est enregistré dans la mémoire du contrôleur 6, pour commander les variations de vitesse de pompe primaire 3 et/ou de pompe secondaire 2 en présence des mélanges gazeux appropriés dans la chambre de procédés 1. La figure 2 illustre les conditions dans lesquelles est appelé à fonctionner le dispositif de pompage selon l'invention, dans une application au contrôle de l'atmosphère dans une chambre de procédés 1. La figure illustre un exemple connu de diagramme temporel de la pression en fonction du temps obtenu avec un dispositif de pompage selon l'état de la technique connu. Au cours 'une première période 20, on réalise le transfert d'un substrat dans la chambre de procédés 1. Au cours d'une seconde période 21, la pression est plus basse et on réalise alors le traitement du substrat dans la chambre de procédés 1. Cette étape de traitement peut correspondre à la présence de différents gaz de traitement. cours d'une troisième étape 22, la pression est plus élevée et on retire le substrat hors de la chambre de procédés 1. On constate, dans ce diagramme temporel connu, la presence d'irrégularités de pression notamment au voisinage des phases transitoires du traitement. Ces irrégularités de pression induisent des turbulences et des risques de pollution de la chambre de procédés 1. L'invention permet de réduire très sensiblement, voire d'annuler, ces irrégularités de pression et les risques de pollution en résultent. Le dispositif selon l'invention peut comprendre, comme illustré sur la figure 1, la pompe primaire 3 raccordée à une seule pompe secondaire pour pomper les gaz de la chambre de procédés 1. En alternative, de manière avantageuse, on peut prévoir la pompe primaire 3, avec le dispositif de traitement des gaz 5, raccordée ' plusieurs pompes secondaires 2 dédiées chacune à une chambre de procédés 1 distincte. En programmant de façon appropriée le contrôleur 6, qui commande la vitesse de la pompe primaire 3 et éventuellement de la pompe secondaire 2, ainsi que les paramètres de pompage tels que la température du corps de la pompe primaire 3 et l'injection de gaz de dilution par les dispositifs 14 15, on peut éviter selon l'invention les dépôts et turbulences dans la chambre de procédés 1, et on peut éviter les dépôts dans la ligne de pompage. On réalise ainsi une meilleure intégration des fonctions de pompage et de traitement des gaz, ce qui permet de réduire très sensiblement les coûts des installations de fabrication de semi conducteurs, d'augmenter la capacité de production, d'améliorer sensiblement la flexibilité par une plus grande facilité de disposition géographique des éléments de l'unité de production de semi-conducteurs. Simultanément, on améliore sensiblement le contrôle de la fonction vide et du procédé dans la chambre de procédés, et on améliore le traitement des gaz pompés. La figure 1 illustre un mode de réalisation particulièrement avantageux de la présente invention, comprenant des moyens d'isolement permettant de réduire encore les perturbations apportées par le dispositif de pompage sur la chambre de procédés 1. Pour cela, la pompe primaire 3, les moyens de traitement des gaz 5, et les moyens analyseurs de gaz 9, 12 et 16 sont enfermés ensemble dans une enceinte d'isolement 23. L'enceinte d'isolement 23 est une enceinte étanche qui forme un ensemble mécaniquement rigide. De préférence, l'enceinte d'isolement 23 comprend un dispositif de contrôle et de régulation de température 24 permettant de contrôler et de réguler la température du contenu de l'enceinte d'isolement 23, afin d'éviter de transmettre aux éléments extérieurs à l'enceinte d'isolement 23, notamment à la chambre de procédés 1, des perturbations thermiques. Egalement, de préférence, l'enceinte d'isolement 23 comprend des moyens de compensation active de vibrations 25, permettant de compenser activement les vibrations mécaniques générées par le contenu de l'enceinte d'isolement 23, en particulier par la pompe primaire 3. Les moyens de compensation active de vibrations 25 comprennent des capteurs de vibrations associés mécaniquement à l'enceinte d'isolement 23, et générateurs de vibrations pilotés pour produire des vibrations en opposition en phase avec celles produites par le contenu de l'enceinte d'isolement 23. On 'duit ainsi les perturbations mécaniques, thermiques et chimiques générées par dispositif de génération de vide, qui peut donc être disposé a proximité immédiate de la chambre de procédés 1. De préférence, l'enceinte d'isolement 23 enferme en outre le contrôleur 6 qui réalise les moyens de traitement de signal pour générer le signal de commande de vitesse de la pompe primaire 3 et/ou secondaire en fonction des signaux qu'il reçoit des moyens analyseurs de gaz 9 ou 12. On comprendra que les différents moyens d'isolement décrits ci-dessus pourraient chacun être adaptés à une ligne de vide indépendamment de la présence ou de l'absence des moyens analyseurs de gaz et des autres moyens selon l'invention pour piloter la vitesse des pompes et les autres organes actifs en fonction de l'analyse des gaz. Selon l'invention, le contrôleur 6 peut avantageusement être programmé de façon à piloter les organes actifs du dispositif (pompes, paramètres de pompage) de manière différente adaptée et appropriée en fonction du statut de l'équipement ' chambre de procédés 1 : phase de production ; phase de test ; phase maintenance ; phase d'attente. La présente invention n'est pas limitée aux modes de réalisation qui ont été explicitement décrits, mais elle en inclut les diverses variantes et généralisations qui sont à la portée de l'homme du métier. REVENDICATIONS 1 - Procédé de conditionnement de l'atmosphère dans une chambre de procédés (1) pour le traitement d'un substrat, dans leque - on pompe les gaz hors de la chambre de procédés (1) à l'aide d'une pompe primaire (3) reliée à au moins une pompe secondaire (2) amont, - on ajuste la vitesse de pompage de manière à maintenir la pression adaptée à chaque étape de traitement dans la chambre de procédés (1), - on analyse les gaz aspirés en amont de la pompe primaire (3), on utilise le résultat de l'analyse des gaz aspirés pour ajuster la vitesse de pompage fonction des gaz pompés, de manière à déterminer l'évolution de la pression dans chambre de procédés (1) pendant les phases du traitement. 2 - Procédé selon la revendication 1, caractérise en ce que, pour l'ajustement de la vitesse de pompage en fonction des gaz aspirés, on utilise une fonction de transfert préalablement enregistrée représentant, pour chaque mélange gazeux présent dans la chambre de procédés au cours du traitement, la relation entre la vitesse de pompage (V), le flux (F) de mélange gazeux présent, et la pression (P) qui en résulte dans la chambre de procédés (1). 3 - Procédé selon l'une des revendications 1 ou 2, caractérisé en ce que ladite au moins une pompe secondaire (2) est raccordée à la chambre de procédés (1) par une canalisation de longueur inférieure à trois mètres. 4 - Procédé selon l'une des revendications 1 ou 2, caractérisé en ce que ladite au moins une pompe secondaire (2) est adjacente à la chambre de procédés (1). 5 - Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 4, caractérisé en ce que - on traite les gaz en aval de la pompe primaire (3), on analyse les gaz au refoulement de la pompe primaire (3) avant traitement des pour connaître leur nature et leur état et pour adapter des paramètres de pompage, constitués par la température de la pompe primaire (3), une injection de gaz de dilution dans la pompe primaire, la vitesse de la pompe primaire (3), afin d'optimiser l'efficacité de leur traitement. 6 - Procédé selon la revendication 5, caractérisé en qu'on analyse les gaz en sortie de traitement pour adapter le traitement en fonction résultat de ladite analyse. 7 - Procédé selon la revendication 6, caractérisé en ce qu'on interrompt le pompage en cas de défaut de traitement. 8 - Procédé selon la revendication 2, caractérisé en ce que, au cours d'une étape préalable d'apprentissage, on fait varier la vitesse de pompage en présence de certains moins des mélanges gazeux susceptibles d'être présents cours des étapes traitement dans la chambre de procédés (1) et on mesure pression qui en résulte dans la chambre de procédés (1), pour déterminer ladite fonction de tra nsfert. - Dispositif de conditionnement de l'atmosphère dans chambre de procédés pour le traitement d'un substrat, pour la mise en oeuvre procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 8, comprenant - une ligne de pompage comportant ladite pompe primaire (3), constituée par une pompe primaire sèche à vitesse variable et ladite au moins pompe secondaire (2) amont, - des moyens de commande de vitesse de pompe primaire (6, 7), - des premiers moyens analyseurs de gaz (9) adaptés pour analyser gaz aspirés en amont la pompe primaire (3), et pour produire des premiers signaux d'analyse de - des premiers moyens de traitement de signal (6) pour produire signal de commande de vitesse en fonction desdits premiers signaux d'analyse gaz, et pour transmettre ledit signal de commande de vitesse à la pompe primaire (3). - Dispositif selon la revendication 9, caractérisé en ce que les premiers moyens de traitement de signal (6) réalisent une correspondance relationnelle entre les premiers signaux d'analyse à leur entrée (100) et le signal de commande de vitesse ' leur sortie (70), à partir d'une fonction de transfert préalablement enregistree représentant, pour chaque mélange gazeux présent dans la chambre de procédés (1) au cours du traitement du substrat, une relation entre la vitesse de pompage (V), le flux (F) du mélange gazeux présent, et la pression (P) qui en résulte dans la chambre de procédés (1). 11 - Dispositif selon l'une des revendications 9 ou 10, caractérisé en ce que la pompe secondaire (2) est raccordée à la chambre de procédés (1) par une canalisation de longueur inférieure à 3 mètres. 12 - Dispositif selon l'une quelconque des revendications 9 à 11, caractérisé en ce que la pompe secondaire (2) est adjacente à la chambre de procédés (1). 13 - Dispositif selon l'une quelconque des revendications 9 à 12, caractérisé en ce qu'il comprend - en aval de la pompe primaire (3), des moyens de traitement des gaz (5) aspirés, - au refoulement de la pompe primaire (3), des seconds moyens analyseurs de gaz (12) déterminant la nature et l'état des gaz pompés et produisant des seconds signaux d'analyse de gaz, - des seconds moyens de traitement de signal (6) pour produire, en fonction des seconds signaux d'analyse de gaz, des seconds signaux de commande de la vitesse de la pompe primaire (3). 14 - Dispositif selon la revendication 13, caractérisé en ce qu'il comprend en outre des moyens de conditionnement de pompage comportant un dispositif de contrôle de température de pompe (14) associé à ladite pompe primaire et un dispositif d'injection de gaz de dilution (15) dans ladite pompe primaire et recevant lesdits seconds signaux de commande pour leur propre commande de manière à optimiser l'efficacité des moyens de traitement des gaz (5). 15 - Dispositif selon l'une des revendications 13 ou 14, caractérisé en ce qu'il comprend des troisièmes moyens analyseurs de gaz (16), adaptés pour analyser les gaz en sortie des moyens de traitement des gaz (5) et pour adapter les moyens de traitement des gaz (5) en fonction de ladite analyse. 16 - Dispositif selon l'une quelconque des revendications 9 à 15, caractérisé en que la pompe primaire (3), les moyens de traitement des gaz (5) et les moyens analyseurs de gaz (9, 12, 16) sont enfermés ensemble dans une enceinte d'isolement (23). 17 Dispositif selon la revendication 16, caractérisé en que l'enceinte d'isolement (23) comprend un dispositif de contrôle et de régulation température (24) pour controler et réguler la température du contenu de l'enceinte d'isolement (23). 18 - Dispositif selon l'une des revendications 16 ou 17, caractérisé en ce que l'enceinte d'isolement (23) comprend des moyens de compensation active de vibrations (25) pour compenser les vibrations mécaniques générées le contenu de l'enceinte d'isolement (23). 19 - Dispositif selon l'une quelconque des revendications 16 à 18, caractérisé en que l'enceinte d'isolement (23) enferme en outre contrôleur (6), constituant lesdits moyens de traitement de signal pour générer le signal de commande de vitesse de pompe primaire et/ou secondaire en fonction des signaux reçus des moyens analyseurs de gaz (9 ; 12). 20 - Dispositif selon l'une quelconque des revendications 9 à 19, caractérisé en que ledit contrôleur (6) est adapté pour délivrer lesdits signaux de contrôle appropriés en fonction du statut de l'équipement à chambre de procédés (1) phase de production ; phase de test ; phase de maintenance ; phase d'attente.