Brevet FR2798223A1 — publié le 20010309

DISPOSITIF A SEMICONDUCTEUR ET PROCEDE DE FABRICATION DE CELUI-CI Domaine de l'invention La présente invention se rapporte à des dispositifs à semiconducteur et à des procédés de fabrication de ceux-ci dans lesquels des électrodes destinées à une connexion extérieure sont disposées sur des éléments de semiconducteur comportant des sections conductrices formées sur ceux-ci. Arrière-plan de l'invention Les dispositifs à semiconducteur qui sont montés sur des cartes de circuit de dispositifs électroniques sont fabriqués de telle sorte des broches ou des bosses métalliques de grilles de connexion sont reliées à des électrodes destinées à une connexion extérieure d'un élément de semiconducteur sur lequel un motif de circuit est réalisé, et ensuite, l'élément de semiconducteur entier est encapsulé par de la résine au cours d'un traitement d'encapsulation. Avec la diminution récente de la taille des dispositifs électroniques, les dispositifs à semiconducteur sont devenus toujours plus petits. Une attention particulière a ' ' portée sur les efforts pour rendre les éléments de semiconducteur aussi minces que possible. Des tranches de semiconducteur usinées finement sont divisées en éléments, grâce à quoi chacun présente un élément semiconducteur monté sur celui-ci, envoyés individuellement vers un traitement d'encapsulation. Classiquement, avant le traitement d'amincissement, afin d'améliorer la résistance mécanique des tranches, les tranches sont fixées à une feuille protectrice sur laquelle adhésifs sensibles à la pression sont appliqués. Après ce traitement, l'adhésivité des adhésifs sensibles à la pression réduite, et ensuite, les tranches amincies sont retirées de la feuille protectrice. Les tranches de semiconducteur amincies sont, cependant, vulnérables à une force extérieure, elles peuvent donc aisément être endommagées durant le retrait de la feuille protectrice. Même lorsque la feuille protectrice est retirée sans provoquer d'endommagement, les éléments de semiconducteur tendent à souffrir de problèmes tels que fissures dues à la chaleur, générées par une contrainte thermique lorsqu'ils sont encapsulés par de la résine. Ainsi, il difficile de garantir la fiabilité du produit. Les feuilles protectrices utilisées dans le procédé classique sont des consommables et sont jetées après une seule utilisation. Ceci augmente les déchets. Ainsi, le procédé classique n'est pas souhaitable en terme de coût et de protection de l'environnement. La présente invention a pour de réaliser des dispositifs à semiconducteur hautement fiables et des procédés de fabrication de ceux-ci. Résumé de l'invention Le procédé de fabrication d'un dispositif à semiconducteur de la présente invention comprend les étapes consistant en une étape de formation de couche de résine durant laquelle une face munie d'électrodes d'une tranche de semiconducteur comportant une pluralité d'éléments de semiconducteur montés sur celle-ci est revêtue d'une couche de résine qui présente une fonction de protection de la surface, et une étape d'amincissement menée ultérieurement, pendant laquelle la face arrière de tranche de semiconducteur est amincie. Le procédé de fabrication dispositif à semiconducteur de la présente invention comprend en outre un traitement de réalisation d'une section conductrice sur les électrodes de la tranche de semiconducteur munie d'une pluralité d'éléments de semiconducteur de telle sorte la section conductrice vienne en contact avec les électrodes. Le procédé de fabrication dispositif à semiconducteur de la présente invention comprend encore en outre un traitement de découpe de la tranche de semiconducteur comportant une pluralité d'éléments de semiconducteur le long des limites de chaque élément de semiconducteur. Durant le traitement d'amincissement, au moins un procédé sélectionné à partir d'un procédé d'amincissement mécanique, d'un procédé d'attaque chimique et d'un procédé d'attaque au plasma est utilisé. Les dispositifs à semiconducteur de la présente invention sont fabriqués par le procédé de fabrication qui précède. Conformément à la présente invention, une face d'une tranche de semiconducteur sur laquelle des électrodes sont disposées, est revêtue d'une couche de résine ' protège la surface munie d'électrodes, et ensuite, la face arrière de la tranche de semiconducteur est amincie par usinage. En d'autres termes, la tranche de semiconducteur est renforcee par la couche de résine pendant qu'elle est amincie. De fait, les tranches de semiconducteur peuvent être amincies de façon uniforme. En outre, comme les feuilles protectrices ne sont pas utilisées, les tranches de semiconducteur sont exemptes de destruction ou d'endommagement provoqués classiquement pendant que les feuilles protectrices sont retirées. De la même manière, les tranches de semiconducteur ne souffrent pas d'endommagement lorsque les tranches sont découpées (divisees) après le traitement d'amincissement, puisqu'elles sont renforcées par la couche de résine. Brève description des dessins La figure 1 représente un schéma de principe d'un procédé de fabrication d'un dispositif à semiconducteur conforme à un premier mode de réalisation préféré la présente invention. La figure 2 représente un schéma de principe du procédé de fabrication du dispositif à semiconducteur conforme au premier mode de réalisation préféré de la presente invention. La figure 3 représente un schéma de principe d'un procédé de fabrication d'un dispositif à semiconducteur conforme à un second mode de réalisation préféré la présente invention. La figure 4 représente un schéma principe d'un procédé de fabrication du dispositif à semiconducteur conforme au second mode de réalisation préféré de la presente invention. La figure 5 représente un schéma principe d'un procédé de fabrication d'un dispositif à semiconducteur conforme à un troisième mode de réalisation préfère de la présente invention. La figure 6 représente un schéma de principe du procédé de fabrication du dispositif à semiconducteur conforme au troisième mode de réalisation préféré de la presente invention. Description des modes de réalisation préféres Premier mode de réalisation préféré Les figures 1 et 2 représentent des schémas de principe du procédé de fabrication du dispositif à semiconducteur premier mode réalisation préféré de la présente invention. Les figures 1 et 2 illustrent le procédé de fabrication du dispositif à semiconducteur dans l'ordre du traitement. la figure 1(a), des électrodes 2 destinées à une connexion extérieure sont disposées sur la surface supérieure d'une tranche de semiconducteur 1 sur laquelle une pluralité d'éléments de semiconducteur sont formés. La tranche de semiconducteur 1 présente une épaisseur suffisante (environ 1 mm) pour résister à la contrainte thermique durant le traitement ultérieur de formation de la couche de résine. Comme le représente la figure 1(b), une couche de résine 3 est formée sur la surface supérieure de la tranche de semiconducteur 1 où les électrodes sont formées. La couche de résine 3 non seulement protège la surface de la tranche de semiconducteur 1 mais fonctionne également comme une résine de protection (passivation) même après que les éléments de semiconducteur soient découpés de la tranche de semiconducteur 1 en tant que dispositifs à semiconducteur indépendants. Ainsi, pour la couche de résine 3, des matériaux de résine supérieurs en ce qui concerne la fonction de protection en vue de protéger les éléments de semiconducteur sont sélectionnés. La fonct de protection représente ici une fonction en vue de protéger les matériaux fonctionnels composant les éléments de semiconducteur, en particulier les métaux qui composent les électrodes, tels que l'aluminium, le cuivre, le chrome et le titane d'une dissolution, d'une corrosion, et d'une érosion électrique. En d'autres termes, les matériaux de résine utilisés dans couche de résine 3 doivent présenter une résistance à l'humidité, une résistance à la migration adéquates, une résistance mécanique adéquate vis-à-vis d'une force extérieure ainsi des propriétés d'isolement électrique en tant que dispositif de protection. Les résines utilisées de façon générale en vue de produire des dispositifs à semiconducteur peuvent être utilisées. Pour obtenir des effets encore plus importants de la présente invention, les résines peuvent être mélangées avec des charges telles que de la silice, de l'alumine, de la zircone, des fibres de quartz, des fibres de verre et des fibres de résine afin d'améliorer la résistance mécanique. I1 est particulièrement efficace d'ajouter à la résine de fines particules inorganiques, capables d'absorber les impuretés ioniques à titre de protection des électrodes et d'empêchement de la migration. Un premier exemple de telles particules inorganiques est le produit "IXE" (nom commercial), fabrique par la Toa Gosei Chemical Industry Co., Ltd. Quant aux procédés de formation de la couche de résine, un procédé de collage de film de résine ou un procédé d'enduction de résine peut être utilisé. Dans le procédé d'enduction de film de résine, des matériaux de résine tels qu'une feuille de résine époxy ou de résine polyamide est enduite d'un adhésif sur une première surface et collée la tranche de semiconducteur 1. Ensuite, l'adhésif est polymérisé thermiquement pour lier étroitement le film de résine à la tranche de semiconducteur 1. Lorsque des adhésifs ne sont pas utilisés, une feuille de résine époxy à l'état B peut être collée et ensuite polymérisée thermiquement. La fonction de la couche de résine 3 ne se limite à la fonction protectrice des dispositifs à semiconducteur. Elle présente également une fonction efficace même après que le dispositif à semiconducteur a été monté sur la carte de circuit. Comme cela est mentionné ultérieurement dans cette description, le dispositif à semiconducteur de la présente invention utilise des tranches de semiconducteur extrêmement fines. En général, les dispositifs à semiconducteur utilisant des tranches de semiconducteur fines sont sensibles aux contrâintes infligées durant et après le montage sur une carte de circuit, dans certains cas, subissent des ruptures de connexions entre la carte circuit et les électrodes. Comme la couche de résine 3 amortit les contraintes, une connexion très stable et fiable peut être obtenue alors que le dispositif de semiconducteur de la présente invention utilise une tranche de semiconducteur extrêmement fine. Dans le procédé d'enduction de résine, de la résine liquide est enduite à une épaisseur prédéterminée sur la face d'une tranche de semiconducteur 1, où des électrodes sont disposées, et polymérisée. Dans ce cas, à part le procédé de polymérisation à chaud, un procédé de polymérisation par rayonnement, un procédé de polymérisation par faisceau d'électrons ou d'autres procédés peuvent être utilisés. La tranche de semiconducteur 1 enduite de la couche de résine 3 envoyée vers un traitement d'amincissement. Dans ce traitement comme le représente la figure 1(c), la face arrière de la tranche de semiconducteur 1, à savoir, la face sans la couche de résine 3, est polie et amincie par polissage mécanique jusqu'à moins de 300 Mm, de préférence environ 100 Mm. Durant ce procédé de issage, comme la tranche de semiconducteur 1 est renforcée la couche de résine 3, un endommagement ou une destruction la tranche de semiconducteur 1 provoqués durant le polissage peuvent être empêchés. En outre, comme la tranche de semiconducteur est renforcée par la couche de résine 3, la tranche de semiconducteur 1 peut être rendue aussi finë que moins de 50 Pour ce procédé d'amincissement, à part le procédé de polissage mécanique, un procédé d'attaque au plasma et un procédé d'attaque chimique utilisant des produits chimiques peuvent être utilisés pour attaquer et éliminer la couche de surface l'arrière de la tranche de semiconducteur 1. Dans le but d'attaquer chimiquement de façon précise, une tournette de dépôt utilisée de façon efficace. En outre, la face arrière de la tranche de semiconducteur 1 polie par le procédé de polissage mécanique, peut etre ensuite traitée par le procédé d'attaque au plasma. Le traitement d'attaque au plasma peut éliminer la couche présentant des micro-fissures sur la face arrière de la tranche de semiconducteur 1, et améliorer la résistance de tranche de semiconducteur 1. Au cours du procédé d'attaque au plasma, des dérivés du fluor ou du chlore sont utilisés en tant que gaz d'attaque. Au cours de l'attaque chimique de la tranche de icium, une solution mélangée d'acide fluorhydrique et d'acide nitrique peut être utilisée. En outre, la face arrière de la tranche de semiconducteur 1 polie par procédé de polissage mécanique peut etre ensuite traitée par le procédé d'attaque au plasma ou par le procédé d'attaque chimique. Le traitement d'attaque au plasma ou d'attaque chimique peut éliminer la couche présentant des micro-fissures sur la face arrière de la tranche de semiconducteur 1, et améliorer la résistance mécanique de la tranche de semiconducteur 1. Comme le représente la figure 2(a), des trous borgnes sont formés sur la couche de résine 3 grâce à un laser. En faisant rayonner une lumière laser sur les positions correspondant aux électrodes 2, des trous borgnes 4 qui atteignent la surface des electrodes 2 sont formés sur la couche de résine . Les lasers utilisables comprennent un laser au dioxyde de carbone, un laser des lasers à excimère. Le laser au dioxyde carbone est capable de faire des trous uniquement sur la couche de résine sans affecter les électrodes tandis que les lasers à excimère sont avantageux en terme de formation de trous fins. Ensuite, comme le présente la figure 2(b), trous borgnes sont remplis d'une pâte à souder 5, une pâte conductrice. Sur la pâte à souder 5 qui remplit les trous borgnes 4, des boules de soudure 6 sont alors montées comme représenté sur la figure 2(c). Après cette étape, la tranche de semiconducteur 1 chauffée par un procédé de refusion afin de faire fondre la pâte à souder 5 et les boules de soudure 6. Après la soudure fondue se soit solidifiée, des bosses de soudure faisant saillie 6' reliées aux électrodes sont formées sur la couche de résine 3. Après formation des bosses de soudure, tranche de semiconducteur 1 est envoyée vers un traitement de découpe où elle est découpée le long des limites de chaque élément de semiconducteur l' qui compose la tranche de semiconducteur 1, pour terminer un dispositif à semiconducteur 7. Le dispositif à semiconducteur 7 fabriqué de la manière décrite ci-dessus comporte une face munie d'électrodes protégées par la couche de résine 3. Par comparaison à des dispositifs à semiconducteur similaires fabriqués par un procédé classique, le dispositif à semiconducteur 7 fabriqué par le procédé de ce mode de réalisation présente des propriétés supérieures décrites ci- dessous. (1) Comme la tranche de semiconducteur est polie et amincie après que sa surface munie d'électrodes a été protégée par une couche de résine 3, la tranche de semiconducteur 1 est renforcée plus fermement par comparaison au procédé classique au cours duquel des feuilles protectrices sont utilisées. Ainsi, la tranche de semiconducteur 1 peut être polie de façon encore plus mince que par le procédé de fabrication classique, sans causer un endommagement quelconque. (2) Le processus d'enlèvement des feuilles protectrices après le traitement d'amincissement requis dans les procédés classiques n est plus nécessaire, de ce fait, la tranche de semiconducteur 1 est dépourvue d'endommagement provoqué la force externe appliquée durant l'enlèvement de la feuille protectrice même que durant la découpe. De ce fait un dispositif à semiconducteur présentant une fiabilité superieure peut être obtenu. En outre, comme les feuilles protectrices consommables ne sont pas utilisées, les problèmes de traitement des déchets provoqués par la mise au rebut des feuilles protectrices après utilisation n'existent pas. Second mode de réalisation préféré Les figures 3 et 4 représentent des schémas de principe du procédé de fabrication du dispositif à semiconducteur du second mode de réalisation préféré de la présente invention. Les figures 3 et 4 illustrent le procédé de fabrication du semiconducteur dans l'ordre du traitement. Sur la figure 3(a), de façon similaire à la tranche de semiconducteur du premier mode de réalisation préfère, une pluralité d'éléments de semiconducteur sont disposés une tranche de semiconducteur 11. Sur le dessus de la tranche de semiconducteur 11 se trouvent des électrodes 12 destinées une connexion extérieure. Comme le représente la figure 3(b) une section conductrice 13 est formée sur les électrodes 12 en vue d'une connexion extérieure. La section conductrice 13 est formée, par exemple, en stratifiant des couches de placage métallique sur la face du dessus des électrodes 12. La tranche de semiconducteur 11 présentant la section conductrice 13 formée sur celle-ci est protégée par une résine d'une façon similaire à celle du premier mode de réalisation préféré. Dans ce mode de réalisation, sur la surface de la tranche de semiconducteur 11 où les électrodes 12 et les sections conductrices 13 sont formées, une couche de résine 14 présentant une fonction protectrice est formée. Pour la couche de résine 14, des matériaux similaires à la couche de résine 3 du premier mode de réalisation préféré sont utilisés. tranche de semiconducteur 11 revêtue de la couche de résine 14 est envoyée vers un traitement d'amincissement. Au cours ce traitement, comme le représente la figure 4(a), la face arrière de la tranche de semiconducteur 11 est polie et amincie au cours d'un traitement de polissage d'une façon similaire au premier mode de réalisation préféré. Au cours de ce procédé de polissage, comme la tranche de semiconducteur 11 est renforcée par la couche de résine 14, un endommagement ou une destruction de la tranche de semiconducteur 11 provoqués durant le issage peuvent être empêchés. Pour ce traitement d'amincissement, à part le procédé de polissage mécanique, un procédé d'attaque au plasma ou un proce ' d'attaque chimique peuvent être utilisés pour éliminer la couche de surface sur la face arrière de la tranche de semiconducteur 11. En outre, la face arrière de la tranche de semiconducteur 11 polie par le procédé de polissage mécanique peut etre ensuite traitée par le procédé d'attaque au plasma. la section conductrice 13, des boules de soudure 15 sont montées comme représenté sur la figure 4(b). Après cette étape, la tranche de semiconducteur 11 est envoyée vers un traitement de refusion et chauffée au cours de ce traitement en vue de faire fondre les boules de soudure 15 et les relier à la section conductrice 13. Lorsque la soudure fondue est solidifiée, des bosses de soudure faisant saillie 15' (représentées sur la figure 4(c)) sont formées sur la couche de résine 14. Après formation des bosses de soudure, tranche de semiconducteur 11 est découpée en éléments le long des limites de chaque élément de semiconducteur 11' afin terminer un semiconducteur 16 dans lequel la couche de résine 14 protège la face où les électrodes destinées à une connexion extérieure sont disposées. Le dispositif à semiconducteur 16 présente des propriétés supérieures similaires à celles dispositif à semiconducteur 7 du premier mode de réalisation préféré. Dans le second mode de réalisation préféré, la section conductrice 13 est formée par plaquage, cependant, elle peut être formée grâce à des bosses à fils réalisées par soudure de fils ou à des bosses à boules réalisées en raccordant des boules métalliques. Les bosses à fils et les bosses à boules sont avantageuses par rapport au plaquage en terme de coût de réalisation de la section conductrice 13. Troisième mode de réalisation préféré Les figures 5 et 6 représentent des schémas de principe du procédé fabrication du dispositif à semiconducteur du second mode de réalisation préféré de la présente invention. Les figures et 6 illustrent le procédé de fabrication du semiconducteur dans l'ordre du traitement. Sur figure 5(a), des électrodes 22 destinées à une connexion extérieure sont disposées sur la surface supérieure d'une tranche de semiconducteur 21 où une pluralité d'éléments de semiconducteur sont formés d'une façon similaire à la tranche de semiconducteur du premier mode de réalisation préféré. Une feuille protectrice 23 est collée sur la surface inférieure de la tranche semiconducteur 21. La feuille protectrice 23 est préparée de telle sorte qu'une couche adhésive sensible @à la pression est enduite sur un film de.résine 23a. Lorsqu'elle est collée sur la tranche de semiconducteur 21, la feuille protectrice 23 renforce celle-ci. La tranche de semiconducteur 21 est envoyée vers un traitement de découpe tout en étant renforcée par la feuille protectrice 23, et découpée le long des limites de chaque élément de semiconducteur 21' comme représenté sur figure 5(b). Il résulte de cette étape que la tranche de semiconducteur 21 devient telle que chacun des éléments de semiconducteur 21' est relie par la feuille protectrice 23. Dans cet état, une couche de résine 24 est formee sur la surface la tranche de semiconducteurs reliés 21' (appelée ci-après, tranche de semiconducteurs reliés) où les electrodes sont disposées comme représenté sur la figure 5(c). Comme ceci est le cas avec les couches de résine 3 et 14 respectivement des premier et second modes de réalisation préférés, la couche de résine 24 présente une fonction de protection de surface munie d'electrodes. Ensuite, la couche protectrice 23 est enlevée de tranche de semiconducteurs reliés sur laquelle la couche de resine 24 est formée. Avec cette étape, la face de la tranche de semiconducteurs reliés où les électrodes sont disposees, est protégée avec la couche de résine 24 comme représenté sur la figure . La tranche de semiconducteurs reliés est envoyée vers un traitement d'amincissement dans cet état, et la face arrière chaque élément de semiconducteur 21' est polie et amincie par un traitement de polissage mécanique. Durant ce traitement de polissage, comme les éléments de semiconducteur 21' sont renforcés par la couche de résine 24, un endommagement ou une destruction provoqués par la contrainte durant le polissage peuvent être empêchés. Pour ce traitement d'amincissement, de façon similaire au premier mode de réalisation préféré, le procédé d'attaque au plasma ou procédé d'attaque chimique peuvent être utilisés pour éliminer couche de surface sur l'arrière de la tranche semiconducteurs 21, plutôt que le procédé de polissage mécanique. En outre, la face arrière de la tranche semiconducteurs 21 polie par le procédé de polissage mécanique peut être traitée ultérieurement par le procédé d'attaque au plasma. La tranche de semiconducteurs reliés est ensuite envoyée vers un traitement de formation de trous borgnes. De façon similaire au premier mode de réalisation préféré, au cours de ce traitement, des trous borgnes 25 qui atteignent la surface électrodes 22 sont formés sur la couche de résine 24 au niveau de positions correspondant aux électrodes 22, comme représente sur la figure 6(a). Ensuite, comme le représente la figure 6(b) les trous borgnes 25 sont remplis d'une pâte à souder 26. Sur pate à souder 26, des boules de soudure 27 sont disposées comme représenté sur la figure 6(c). Après cette étape, la tranche semiconducteurs reliés est chauffée au cours d'un traitement de refusion, la pâte à soudure 26 et les boules de soudure 27 sont fondues et des bosses de soudure faisant saillie 27', qui sont reliées aux électrodes 22, sont formées sur la couche de résine Après la formation des bosses de soudure, la tranche semiconducteurs reliés est envoyée vers un traitement de découpe où la couche de résine 24 est découpée le long des limites chaque élément de semiconducteur 21' comme représenté sur la figure 6(d) afin de terminer le dispositif de semiconducteur 28 sur lequel la surface munie d'électrodes destinées à une connexion extérieure est protégée par la couche de résine 24. La tranche de semiconducteurs 28 bénéficie également de propriétés supérieures similaires à celles du dispositif de semiconducteur 7 du premier mode de réalisation préféré. Comme décrit dans les premier, second et troisième modes réalisation préférés, conformément à la présente invention après que la couche de résine présentant une fonction protectrice est formée sur la surface de la tranche semiconducteur où des électrodes sont disposées, la face arrière de la tranche de semiconducteur est polie et amincie. Ce procède présente les effets suivants. (1) Des éléments de semiconducteur uniformes et minces peuvent être obtenus car la tranche de semiconducteur renforcee de façon adéquate durant le traitement d'amincissement. (2 Comme les feuilles protectrices n'ont pas besoin d'être retirées après le traitement d'amincissement, une destruction la tranche de semiconducteur ou un endommagement associés ne se produisent pas. (3 Comme des feuilles protectrices jetables ne sont nécessaires, non seulement le coût de fabrication peut être réduit mais, également, aucun déchet n'étant généré, contrainte appliquée à l'environnement peut être éliminée. Conformément à la présente invention, des dispositifs a semiconducteur fiables peuvent être fabriqués sainement pour l'environnement à faible coût. REVENDICATIONS 1. Procédé de fabrication d'un dispositif à semiconducteur comprenant les étapes consistant à former une couche de résine présentant une fonction de protection sur une face munie d'électrodes d'une tranche de semiconducteur qui comporte une pluralité d'éléments de semiconducteur montés sur celle-ci, et polir et amincir la face arrière de la tranche de semiconducteur après le traitement de formation de couche de résine. 2. Procédé de fabrication d'un dispositif à semiconducteur selon la revendication 1, comprenant en outre étape consistant à former une section conductrice sur les électrodes de la tranche de semiconducteur. 3. Procédé de fabrication d'un dispositif à semiconducteur selon la revendication 2, dans lequel la section conductrice est formée par un procédé parmi un procédé de plaquage, un procédé de soudure de fils et un procédé consistant à raccorder des boules métalliques. 4. Procédé de fabrication d'un dispositif à semiconducteur selon la revendication 1 ou la revendication 2, comprenant en outre une étape consistant à découper la tranche de semiconducteur le long de limites des éléments de semiconducteur. 5. Procédé de fabrication d'un dispositif à semiconducteur selon la revendication 1, la revendication 2 ou la revendication 4, dans lequel le traitement d'amincissement est exécuté par au moins un proce parmi un procédé de polissage mécanique, une attaque chimique et une attaque au plasma. 6. Dispositif à semiconducteur dans lequel une couche de résine est formée sur une face munie d'électrodes d'une tranche de semiconducteur comportant des éléments de semiconducteur, et l'épaisseur de la tranche de semiconducteur n'est pas supérieure à 300 jim. 7. Dispositif à semiconducteur selon la revendication 6, dans lequel la couche de résine comprend au moins un élément parmi la silice, l'alumine, la zircone, de la fibre de quartz, de la fibre de verre, de la fibre de résine et des particules inorganiques, capables d'absorber des impuretés ioniques.