Brevet FR2796388A1 — publié le 20010119

"Procédé et systèmes de préparation de surfaces avant dépôt d'un produit adhésif ou décoratif" DESCRIPTION La présente invention concerne un procédé pour préparer des surfaces avant dépôt d'un produit adhésif ou décoratif. Elle vise également des systèmes pour la mise en #uvre de ce procédé. I1 existe une demande croissante, notamment dans l'industrie aéronautique et dans de nombreux autres secteurs industriels, pour des techniques de collage à haute performance sur des matériaux de haute technologie tels que des matériaux à base de fibre de carbone ou des alliages légers. Si des techniques de collage désormais éprouvées satisfont déjà une grande partie des besoins industriels, il n'en demeure pas moins que la demande de performances toujours plus élevées suscite, d'une part, des travaux de recherche visant à mieux comprendre les mécanismes physico-chimiques mis en #uvre dans les procédés de collage et, d'autre part, des travaux de développement visant à proposer de nouvelles techniques de collage et de préparation des surfaces à coller. Pour expliquer les performances des collages, des travaux récents [1] ont mis en évidence un effet ventouse créé par de minuscules bulles enfermées entre la surface des objets et la colle. La rugosité d'un matériau dur se traduit, à une échelle microscopique, par une alternance de montagnes et de vallées dont la différence d'altitude est de l'ordre du um, la distance entre deux pics ne dépassant pas la dizaine de um. Un film d'adhésif présente lui aussi une rugosité avec des ondulations plus amples, hautes de 5um et espacées de 100pm. Ces travaux montrent que l'interaction entre la rugosité d'une surface à l'échelle du micron et un effet de ventouse peut conduire à des énergies bien plus élevées que les énergies thermodynamiques de surface. En ce qui concerne la préparation des surfaces avant collage, il existe déjà des procédés de préparation pour le collage de composites époxy-carbone comprenant un nettoyage par solvant et une abrasion manuelle. Par ailleurs, des travaux ont été réalisés sur la préparation des surfaces par interaction de faisceaux laser et sur les améliorations qualitatives obtenues sur les collages appliqués sur des surfaces ainsi traitées [2]. Ainsi, des traitements de surface ont été effectués au moyens d'un laser de longueur d'onde de 248 urn utilisé en mode impulsionnel à une fréquence variant de 1 à 200 Hz. Le traitement d'une surface est effectué en cumulant un nombre prédéterminé de tirs, puis en déplaçant d'une largeur de faisceau l'échantillon traité. Il est à noter que d'autres types de laser peuvent être utilisés pour réaliser des opérations semblables. C'est dans ce contexte que se situe l'invention dont l'objectif est de présenter un nouveau concept de préparation de surface avant dépôt d'un produit adhésif ou décoratif, qui contribue à de meilleures performances que celles obtenues avec les procédés de préparation actuels, en s'appuyant sur les résultats les plus récents en matière de compréhension des mécanismes physiques tout en proposant une approche résolument nouvelle en matière d'industrialisation de la préparation des surfaces. On atteint les objectifs précités avec un procédé pour préparer une surface avant dépôt d'un produit adhésif ou décoratif, caractérisé en ce qu'il comporte un traitement de cette surface pour en adapter la rugosité au produit adhésif ou décoratif à appliquer, en termes de profondeur perpendiculairement à ladite surface et de distribution spatiale dans le plan de ladite surface. On dispose ainsi d'un procédé de préparation particulièrement efficace, procurant en pratique une répétabilité des phénomènes escomptés et donc une industrialisation du process, et une diminution des contraintes liées à la préparation des surfaces avant collage. En outre, ce procédé permet d'améliorer l'économie industrielle du collage, car il peut être mis en #uvre sur des surfaces de collage délimitées à l'intérieur de surfaces plus grandes. Il est à noter qu'il existe depuis longtemps des techniques de préparation de surface avant collage, mettant en #uvre des moyens mécaniques visant à modifier la rugosité de la surface à traiter. La maîtrise du résultat est liée à la qualification des abrasifs, la durée des frottements, et à la pression exercée pendant les opérations. On peut citer, à titre d'exemple, le nettoyage, à la râpe, d'une chambre à air de bicyclette après crevaison, avant mise en place d'une rustine. Mais ces techniques de préparation mécanique ne permettent pas d'obtenir une distribution spatiale prédéterminée visant à adapter la rugosité à la colle de vulcanisation. Un mode particulièrement avantageux de mise en #uvre du procédé de préparation selon l'invention consiste par exemple en l'utilisation de moyens optiques pour adapter la rugosité de la surface du matériau à préparer. Dans un premier exemple de réalisation correspondant à ce mode optique, on met en jeu un phénomène connu d'ablation et on suppose une gestion de la distribution spatiale de l'énergie. I1 est à noter que la profondeur de l'ablation est directement liée à la différence d'énergie par élément de surface entre les points les plus illuminés et les points les moins illuminés. A titre indicatif, on peut obtenir une ablation de 0,1 pm par tir laser. La gestion de la distribution spatiale d'énergie peut aussi mettre en #uvre une méthode de granularité laser, désignée aussi par le terme "Speckle", dans laquelle le faisceau d'un laser non monochromatique présente des interférences sur les surfaces qu'il éclaire. Le pas des interférences est directement lié à la distance surface- laser et peut être déterminé par une projection directe du faisceau, avec réglage des distances, ou par une combinaison optique le modifiant. Ces interférences modulent naturellement l'énergie surfacique à l'intérieur de la zone éclairée. Cette modulation, couplée à la durée cumulée d'éclairement, permet de contrôler la profondeur de la photoablation. A titre indicatif, on peut obtenir un pas transverse entre O,Olpm et lmm. Pour palier le caractère aléatoire de la répartition des "montagnes" et des "vallées" sur la surface traitée obtenue par mise en #uvre de la méthode de granularité laser, le procédé de préparation selon l'invention peut inclure une maîtrise de la localisation des "montagnes" et "vallées" en scannant le faisceau laser focalisé sur la surface ou à très proche distance, à l'aide de moyens mécaniques (miroirs déflecteurs par exemple) ou de moyens optoélectroniques (modulateurs à cristaux ou cuves opto- acoustiques par exemple). La valeur de l'énergie du faisceau peut alors être couplée à la déflexion du faisceau. Il est à noter que les techniques de stéréolithographie entrent dans ce cadre. Le pas transverse correspondant à ces techniques est en pratique supérieur à 0,1 um. La technique de projection d'image peut aussi être mise en ceuvre pour réaliser une distribution spatiale d'énergie sur la surface à préparer. Cette technique consiste à projeter sur l'échantillon à préparer une image contenant des informations de distribution surfacique de l'énergie. Dans un premier exemple de réalisation d'un procédé de préparation selon l'invention mettant en ceuvre une technique de projection d'image, on utilise une grille à deux dimensions, elle-même éclairée par un front d'onde à énergie constante ou variable. Ce front d'onde traverse la grille. On réalise une image de la grille sur la surface à traiter. On peut également prévoir que cette grille soit utilisée en réflexion. Dans une variante de ce premier exemple de réalisation, la grille image comporte des barreaux plus ou moins opaques, obtenus par exemples par une épaisseur variable de la grille objet, ou par un défaut de mise au point. Dans un second exemple de réalisation, la grille est avantageusement remplacée par un hologramme, la distribution spatiale des zones claires et des zones sombres étant plus aléatoire, les bords de zone moins abrupts. On peut en pratique atteindre 2000 traits par mm. Dans un troisième exemple de réalisation, l'objet projeté sur la surface à préparer est l'image d'un verre dépoli absorbant à la longueur d'onde du faisceau lumineux. Un verre dépoli, du fait de sa structure, possède une distribution aléatoire de ses grains. Par projection de la surface du verre dépoli sur l'échantillon, on gère la géométrie des grains de l'échantillon dans le plan de sa surface. Par la transmission différentielle du verre dépoli entre ses parties creuses et ses parties pleines, couplée à la durée cumulée d'exposition, on gère la profondeur de modulation de l'échantillon. Il est à noter que, dans cet exemple de réalisation, il importe de réaliser un découplage entre d'une part, la fonction de support réalisée par le corps de ce verre et, d'autre part, la fonction de modulation réalisée par la couche mince superficielle de ce verre, qui présente l'effet de dépoli. Ainsi, une très faible épaisseur du verre de modulation rapportée à l'épaisseur globale de la pièce de verre est utilisée à des fins d'absorption. Le dépoli peut être obtenu soit par frottement, soit par sablage ou encore par une attaque chimique, notamment à base d'acide picrique. Selon une variante de cet exemple de réalisation, le verre dépoli est couplé avec un autre composant optique, collé ou non, ce qui permet d'augmenter ou de diminuer les effets du coefficient de transmission du verre optique. Le matériau du verre dépoli peut être avantageusement choisi de façon à être adapté par sa nature et sa transmission aux effets d'absorption qu'on veut lui faire jouer. Dans le cadre du mode de réalisation optique, on peut aussi mettre en #uvre des techniques connues de moiré qui peuvent permettre de projeter de l'énergie à pas variable sur un échantillon. Une particularité de l'application de ces techniques de moiré à la préparation de surfaces avant collage réside dans le fait qu'un réseau linéaire projeté peut provoquer un effet différentiel de collage, selon les deux directions parallèle et perpendiculaire à la direction du réseau linéaire. On peut aussi prévoir, toujours dans le cadre de l'application des techniques de moiré, de superposer deux réseaux linéaires au moins, de directions différentes, ces directions pouvant éventuellement être orientables par rapport à l'échantillon. Le pas obtenu avec mise en #uvre d'une technique de moiré est en pratique supérieur à O,lum. Dans un second mode de mise en #uvre du procédé selon l'invention, on utilise, pour changer la rugosité de la surface d'un substrat tel que silicium amorphe, le phénomène de cristallisation totale ou partielle de cette surface obtenu sous l'effet d'un laser excimère. L'adaptation de la rugosité de surface est obtenue par des réglages du laser en intensité, éventuellement en durée et en nombre d'impulsions. Le taux de cristallisation et la profondeur de cristallisation sont en étroite corrélation avec les paramètres énergétiques. Le pas escompté avec cette technique est de l'ordre de O,lnm par grain. La cristallisation peut aussi bien, pour cet exemple et d'autres supports, être réalisée par des moyens chimiques ou physiques autres qu'optiques. D'autres modes de mise en #uvre du procédé selon l'invention font appel à des techniques ponctuelles. Dans un premier exemple de réalisation, on utilise des lasers capables d'ablater ou de cristalliser une surface ou exploités pour le perçage de matériaux, pour piqueter la surface à coller. Le pas obtenu est en pratique inférieur à O,lum avec utilisation d'un objectif de microscope. Ces lasers sont focalisés sur la surface ou à proche distance de celle-ci. L'énergie surfacique peut alors être considérablement supérieure à celle des faisceaux non ou peu focalisés. Ceci permet d'utiliser des lasers de faible énergie, mais demandant un fort taux de répétition pour couvrir des surfaces suffisantes dans des temps raisonnables. Les impacts de faisceau dans la matière sont traités un à un, ou bien de façon matricielle, à répartition spatiale déterministe ou aléatoire, par division optique du faisceau initial. La matrice de faisceaux peut aussi être générée à partir d'une cavité laser multifaisceaux. La distribution géométrique de la rugosité est obtenue par des moyens optiques classiques ou à fibres de guidage du ou des faisceaux, la profondeur de modulation par les effets conjugués de la densité d'énergie et de la durée cumulée d'éclairement. Un troisième mode de mise en ceuvre du procédé de préparation selon l'invention consiste en l'utilisation de moyens mécaniques. Dans un premier exemple de réalisation, on utilise une technique d'emboutissage ou de poinçonnage. La surface à traiter subit un poinçonnage sous l'effet d'un poinçon ou d'une matrice. Le poinçon peut être un objet pointu déplacé point par point sur l'ensemble de la surface. on peut aussi utiliser une matrice permettant d'obtenir une surface présentant la rugosité demandée en une seule opération d'emboutissage, suivant par exemple une technique de réalisation d'un hologramme pressé, avec les modulations souhaitées tant en profondeur qu'en surface. L'hologramme pressé peut comporter des détails au pas de 500 traits par mm et une profondeur jusqu'à 1 um. Dans un second exemple de réalisation, on met en oeuvre des techniques de projection mécanique, telles que le sablage, le microbillage, la projection d'amidon ou autres techniques équivalentes, déjà utilisées par ailleurs pour le décapage et le durcissement de surface. Ces techniques peuvent être avantageusement utilisées pour leurs performances de modulation de surface en vue de la préparation d'une surface avant collage ou décoration par apport d'un matériau adhésif ou décoratif. Dans un quatrième mode de mise en #uvre du procédé selon l'invention, des techniques électriques sont utilisées, au nombre desquelles l'électroérosion qui permet d'obtenir en surface de certains matériaux une granularité utilisable dans la préparation de surface, et l'électrophorèse. Dans un cinquième mode de mise en oeuvre, on utilise des techniques chimiques pour obtenir une modulation en surface et en profondeur. Dans un premier exemple de réalisation mettant en ceuvre des techniques chimiques, on peut utiliser des produits actifs acides ou basiques qui sont appliqués sur la surface. Le pH du produit utilisé et la durée de l'interaction constituent des paramètres directeurs des résultats escomptés en termes de profondeur de vallée. A titre d'exemple, on peut envisager l'application d'acide picrique utilisé en miroiterie pour dépolir des verres. Dans un second exemple de réalisation, on met en ceuvre la technique dite des couches de Langmuir, dans laquelle on dépose un film monocouche ou multicouche dont les molécules sont orientées et distribuées. Les molécules utilisées présentent une longueur et un diamètre de quelques nanomètres. La rugosité de la surface traitée dépend de plusieurs paramètres au nombre desquels le caractère hydrophile ou hydrophobe, la grosseur des molécules formant le film, ainsi que la densité en nombre de molécules par unité de surface. D'autres particularités et avantages de l'invention apparaîtront encore dans la description ci-après. Aux dessins annexés donnés à titre d'exemples non limitatifs: - la figure 1 illustre de façon schématique les étapes générales d'un processus de collage incluant un procédé selon l'invention ; - la figure 2 est une vue synoptique d'un système de préparation selon l'invention en mode optique, mettant en ceuvre une technique de photoablation ; - la figure 3 est une vue synoptique d'un premier exemple de réalisation du système de préparation selon l'invention de type optique illustré en figure 2, mettant en #uvre une technique de projection d'image ; - la figure 4 est une vue synoptique d'un second exemple de réalisation du système illustré en figure 2, mettant en #uvre une technique par moiré ; - la figure 5 est une vue synoptique d'un système de préparation selon l'invention du type à photocristallisation ; - la figure 6 est une vue synoptique d'un système de préparation selon l'invention du type ponctuel; et - la figure 7 est une vus synoptique des étapes essentielles du procédé de préparation selon l'invention, dans un mode de réalisation faisant intervenir des couches de Langmuir. On va tout d'abord décrire le principe général du procédé de préparation selon l'invention, en référence à la figure 1. On considère (1) un échantillon E de matériau à coller présenter une rugosité naturelle RN. On soumet (2) cet échantillon E à un équipement de traitement pour obtenir (3) sur la surface à coller une rugosité contrôlée RP présentant une profondeur prédéterminée P et une distribution spatiale des cavités ou mamelons déterminée selon une matrice ou une distribution aléatoire de traitement MT. On peut alors appliquer (4) une couche de colle C présentant une rugosité spécifique RC plus ample que celle du matériau à coller. Le pas L de la rugosité contrôlée à la surface du matériau préparé est en pratique inférieur ou très inférieur à la distance moyenne entre deux dépressions à la surface de la couche de colle. On va maintenant décrire un premier mode de mise en #uvre du procédé de préparation selon l'invention, à partir de moyens optiques, en référence aux figures 2 à 4. Le principe général de ce mode optique, illustré par la figure 2, consiste en l'utilisation d'un faisceau généré par un équipement laser L, que l'on transfère par un système optique de transfert S vers un système optique MF de maîtrise du faisceau, appliquant un faisceau ainsi maîtrisé sur la surface d'un échantillon E à préparer dans le but d'obtenir une rugosité adaptée ou contrôlée RP par photoablation. Le système optique de maîtrise du faisceau peut être un système de projection d'image, en référence à la figure 3. Ce système de projection d'image SP comprend un dispositif EG d'éclairage, une grille GR et un dispositif CO de conjugaison optique de la grille avec l'échantillon E à préparer. On peut également prévoir un système optique de maîtrise du faisceau mettant en #uvre une méthode de moiré avec production d'interférences à partir de deux miroirs, comme l'illustre la figure 4. Le système SM de production d'interférences comprend en sortie d'un générateur laser L, une lentille L et deux miroirs M1, M2 décalés spatialement de façon à produire, sur la surface d'un échantillon E à traiter, un ensemble d'interférences contribuant à l'obtention d'une rugosité adaptée. L'adaptation de la rugosité à la surface d'un échantillon E de type substrat (par exemple en silicium amorphe) peut aussi être obtenue par photocristallisation au moyen d'un système d'homogénéisation de faisceau HF disposé entre le système optique de transfert S et l'échantillon à traiter, en référence à la figure 5. Dans le cas de l'utilisation de méthodes ponctuelles, le système de maîtrise du faisceau SC comprend, en référence à la figure 6, un dispositif optique GE de gestion de l'énergie du faisceau laser couplé à un dispositif optique GP de gestion de la position du faisceau laser qui est appliqué sur la surface de l'échantillon E à traiter. On va maintenant décrire un exemple de mise en #uvre d'une méthode de préparation chimique utilisant des couches de Langmuir, en référence à la figure 7. On utilise (A) une cuve CU remplie d'un bain BA à la surface duquel flotte une couche de Langmuir CL. On plonge alors (B) un échantillon E à traiter dans la cuve CU. L'échantillon E traverse la couche CL et s'imprègne de cette couche en pénétrant dans le bain. Lorsque l'échantillon E est retiré (C) du bain BA, il comporte alors sur sa surface une couche moléculaire CI dont la structure macroscopique est représentée schématiquement en (D). Cette couche moléculaire CI procure une rugosité qui peut être adaptée aux besoins du collage ou de la décoration de l'échantillon E. Grâce à la grande variété de méthodes possibles pour mettre en ceuvre le procédé de préparation selon l'invention, un choix technique significatif est offert à l'opérateur de ce procédé, qui devra être effectué en fonction des caractéristiques physiques du matériau à traiter, de sa géométrie et des dimensions propres de la zone de collage, et des caractéristiques du produit adhésif ou décoratif utilisé. Ainsi, les méthodes optiques seront particulièrement favorables lorsqu'il s'agit de préparer une zone de collage très limitée au sein d'une pièce complexe, alors que la méthode chimique sera intéressante dans le cas où l'ensemble de la surface externe d'une pièce devra être traitée. Les méthodes électriques seront mises en #uvre pour le traitement de pièces en matériau électriquement conducteur. Bien sûr, l'invention n'est pas limitée aux exemples qui viennent d'être décrits et de nombreux aménagements peuvent être apportés à ces exemples sans sortir du cadre de l'invention. Ainsi, de nombreuses variantes des systèmes optiques de maîtrise de faisceau décrits peuvent être envisagés. De même, la géométrie des profils de rugosité peut varier en fonction des caractéristiques des colles utilisées. REFERENCES [l ] L.LEIBNER et C.GAY Theory of Tackiness Physical Review Letters, Vo1.82, No 5, 1 Février 1999 [2] J.C. HENRI Préparation et nettoyage de surface par laser : application au collage des matériaux composites et des métaux Club "Lasers de Puissance" Bulletin de liaison n 26 REVENDICATIONS 1. Procédé pour préparer une surface avant dépôt d'un produit adhésif ou décoratif, caractérisé en ce qu'il comporte un traitement de cette surface pour en adapter la rugosité au produit adhésif ou décoratif à déposer, notamment en termes de profondeur perpendiculairement à ladite surface et de distribution spatiale dans le plan de ladite surface. 2. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'il comprend en outre une gestion spatiale des interactions mises en #uvre dans ce traitement. 3. Procédé selon l'une des revendications 1 ou 2, caractérisé en ce que le traitement de la surface comprend une création dans une zone déterminée d'un ensemble de creux ou vallées et d'un ensemble de pics ou montagnes selon une distribution spatiale et une profondeur pics- creux prédéterminées. 4. Procédé selon la revendication 3, caractérisé en ce que l'énergie mise en #uvre pour le traitement de la surface est appliquée sur ladite surface par voie optique, à partir de source de faisceau laser, et en ce que l'adaptation de la rugosité de ladite surface est obtenue par photoablation. 5. Procédé selon la revendication 4, caractérisé en ce que le traitement de la surface comporte une projection directe d'un faisceau laser sur ladite surface de façon à produire des interférences par effet de granularité laser. 6. Procédé selon la revendication 4, caractérisé en ce que le traitement de la surface comporte un balayage de ladite surface avec un faisceau laser focalisé sur ladite surface ou à très proche distance de ladite surface. 7. Procédé selon la revendication 4, caractérisé en ce que le traitement de la surface comporte une projection sur ladite surface d'une image produite par transmission et/ou réflexion d'un faisceau laser à travers un système optique de projection. 8. Procédé selon la revendication 4, caractérisé en ce que le traitement de la surface comporte une application sur ladite surface d'un moiré produit par une méthode d'interférences à partir d'un faisceau laser. 9. Procédé selon l'une des revendications 1 à 3, appliqué à un substrat, par exemple en silicium amorphe, caractérisé en ce que le traitement de surface induit une cristallisation totale ou partielle de la surface dudit substrat, par application d'un faisceau laser. 10. Procédé selon l'une des revendications 1 à 3, caractérisé en ce qu'il comprend un ensemble d'opérations ponctuelles d'impacts d'un faisceau laser en des points d'une surface à traiter. 11. Procédé selon la revendication 10, caractérisé en ce que des impacts de faisceaux laser sont réalisés un à un en des points distincts de la surface. 12. Procédé selon l'une des revendications 10 ou 11, caractérisé en ce que des impacts de faisceaux laser sont réalisés de façon matricielle ou aléatoire par division optique d'un faisceau laser initial. 13. Procédé selon l'une des revendications 10 à 12, caractérisé en ce que des impacts de faisceaux laser sont réalisés de façon matricielle ou aléatoire selon une matrice de faisceaux générée à partir d'une cavité laser multifaisceaux. 14. Procédé selon l'une des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que l'adaptation de la rugosité d'une surface à traiter est obtenue par emboutissage de ladite surface au moyen d'une matrice ou outil d'emboutissage. 15. Procédé selon l'une des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que l'adaptation de la rugosité d'une surface à traiter est obtenu par un déplacement point par point d'un poinçon sur l'ensemble de ladite surface. 16. Procédé selon l'une des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que le traitement de la surface comporte une électroérosion de ladite surface, opérée de façon à susciter une granularité sur ladite surface. 17. Procédé selon l'une des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que le traitement de la surface est réalisé par dépôt sur ladite surface d'un film monocouche ou multicouche dont les molécules sont orientées et distribuées de façon à procurer une rugosité adaptée au produit adhésif ou décoratif. 18. Procédé selon la revendication 17, caractérisé en ce que le dépôt du film monocouche ou multicouche est obtenu par mise en #uvre de la technique dite des couches de Langmuir. 19. Système pour préparer une surface avant dépôt d'un produit adhésif ou décoratif, mettant en ceuvre le procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce qu'il comprend des moyens pour adapter la rugosité de la surface au produit adhésif ou décoratif à déposer, notamment en termes de profondeur perpendiculairement à ladite surface et de distribution spatiale dans le plan de ladite surface. 20. Système selon la revendication 19, caractérisé en ce qu'il comprend en outre des moyens pour gérer des interactions mises en ceuvre dans ce traitement. 21. Système selon la revendication 20, caractérisé en ce qu'il comprend des moyens pour générer un faisceau laser et des moyens pour maîtriser ce faisceau laser et l'appliquer sur la surface à préparer, pour une adaptation de la rugosité de ladite surface par photoablation. 22. Système selon la revendication 21, caractérisé en ce qu'il comprend en outre des moyens pour projeter directement le faisceau laser sur la surface à préparer. 23. Système selon la revendication 21, caractérisé en ce qu'il comprend en outre des moyens pour balayer la surface à préparer avec un faisceau laser focalisé sur ladite surface ou à très proche distance de celle-ci. 24. Système selon la revendication 21, caractérisé en ce qu'il comprend en outre des moyens pour projeter sur la surface à préparer une image produite par transmission et/ou réflexion d'un faisceau laser à travers une grille. 25. Système selon la revendication 21, caractérisé en ce qu'il comprend en outre des moyens pour produire sur la surface à préparer un jeu d'interférences par moiré à partir d'un faisceau laser. 26. Système selon la revendication 21, adapté pour la préparation d'un substrat, caractérisé en ce qu'il comprend en outre des moyens pour appliquer sur la surface dudit substrat un faisceau laser réglé pour provoquer une cristallisation totale ou partielle de la surface dudit substrat. 27. Système selon l'une des revendications 19 ou 20, caractérisé en ce qu'il comprend en outre des moyens pour réaliser un ensemble d'impacts de faisceau laser. en des points d'une surface à traiter. 28. Système selon l'une des revendications 19 ou 20, caractérisé en ce qu'il comprend en outre des moyens pour emboutir une surface à préparer au moyen d'une matrice agencée de façon à obtenir une distribution spatiale et une profondeur prédéterminées de la rugosité de ladite surface. 29. Système selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce qu'il comprend en outre des moyens pour réaliser une électroérosion de la surface à préparer. 30. Système selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce qu'il comprend en outre des moyens pour déposer sur la surface à traiter un film monocouche ou multicouche dont les molécules sont orientées et distribuées de façon à procurer une rugosité adaptée au produit adhésif ou décoratif. 31. Système selon la revendication 30, caractérisé en ce que les moyens de dépôt mettent en #uvre la technique dite des couches de Langmuir.