Brevet FR2794285A1 — publié le 20001201

PROCEDE DE FABRICATION DE DISPOSITIFS BIPOLAIRES À JONCTION BASE-EMETER AUTOALIGNÉE La présente invention concerne, de façon générale, la fabrication de dispositifs bipolaires. Elle s'applique à la fabrication de transistors bipolaires en technologie bipolaire pure ou en technologie mixte bipolaire - MOS (BICMOS). La fabrication des jonctions base-émetteur des transis- tors bipolaires pose différents problèmes. Il est en particulier souhaitable de disposer de procédés de fabrication autoalignés pour réduire les dimensions des dispositifs. Il est également souhaitable de ne pas implanter la base ce qui crée inévitablement des profils de dopage gaussiens. L'idéal est de réaliser la base par un dépôt épitaxial dopé. Il est également souhaitable de minimiser la résistance d'accès à la base (résistance de base) et d'améliorer la réponse en fréquence des transistors. Pour ce faire, on a notamment pro- posé d'utiliser comme base une couche de silicium-germanium. Tou- tefois, l'utilisation du germanium, bien qu'améliorant considéra- blement la résistance d'accès d'un transistor bipolaire et le temps de transit dans la base, pose des problèmes de mise en oeuvre. Il est difficile d'apporter ce germanium par une implantation dans une couche de silicium, et une telle couche ne supporte pas d'être soumise à de hautes températures. Un objet de la présente invention est donc de proposer un nouveau procédé de fabrication de transistors bipolaires per- mettant de réaliser des jonctions base-émetteur de façon auto- alignée. Un autre objet de la présente invention est de proposer un tel procédé permettant de minimiser la résistance de base des transistors. Un autre objet de la présente invention est de proposer un tel procédé compatible avec l'utilisation d'une région de base en silicium-germanium. Pour atteindre ces objets, la présente invention pré- voit un procédé de fabrication de la jonction émetteur-base d'un transistor bipolaire sur une région active de silicium d'un pre- mier type de conductivité délimitée par une tranchée remplie d'un matériau d'isolement de champ, l'ensemble étant recouvert d'une première couche isolante. Ce procédé comprend les étapes consis- tant à graver la première couche isolante de façon à découvrir la surface de la région active; graver la surface de la région active sur une hauteur donnée; former des premier et deuxième espaceurs en silicium très fortement dopé du deuxième type de conductivité à la périphérie interne des reliefs abrupts résul- tant respectivement de la gravure de la première couche isolante et de la gravure de la région active; déposer par épitaxie une couche de base dopée du deuxième type de conductivité; former un troisième espaceur en un matériau isolant à la périphérie interne d'un relief de la couche de base correspondant au premier espa- ceur; déposer une couche d'émetteur de silicium fortement dopé du premier type de conductivité; et effectuer un polissage mécano-chimique, en utilisant la première couche et le troisième espaceur comme points d'arrêt. Selon un mode de réalisation de la présente invention, le procédé comprend, pour la gravure de la région active, les étapes de dépôt d'une couche de silicium d'une épaisseur prédé- terminée sur la première couche isolante; de masquage et d'éli- mination de ladite couche de silicium et de la première couche isolante au dessus de la zone active; et de gravure sélective du silicium avec détection et arrêt de gravure quand on atteint la première couche isolante. Selon un mode de réalisation de la présente invention, la formation des premier et deuxième espaceurs est suivie d'une surgravure de la région active. Selon un mode de réalisation de la présente invention, la première couche isolante est un multicouche constitué d'une couche d'oxyde de silicium et d'une couche de nitrure de sili- cium. Selon un mode de réalisation de la présente invention, les premier et deuxième espaceurs sont en silicium polycristallin dopé du deuxième type de conductivité. Selon un mode de réalisation de la présente invention, au moins le premier espaceur est en silicium monocristallin. Selon un mode de réalisation de la présente invention, la couche de base est constituée de silicium et de germanium. Selon un mode de réalisation de la présente invention, le gradient de germanium et le gradient de dopant du premier type de conductivité dans la couche de base sont tels que la concen- tration maximale de germanium et la concentration maximale du dopant sont à proximité respectivement de l'interface avec la région active et de l'interface avec la couche d'émetteur. Selon un mode de réalisation de la présente invention, le troisième espaceur est en oxyde de silicium. Ces objets, caractéristiques et avantages, ainsi que d'autres de la présente invention seront exposés en détail dans la description suivante de modes de réalisation particuliers faite à titre non-limitatif en relation avec les figures jointes parmi lesquelles: les figures 1 à 9 sont des vues en coupe partielles et schématiques d'un transistor bipolaire à différentes étapes d'un exemple de mise en oeuvre d'un procédé de fabrication selon un mode de réalisation de la présente invention. Par souci de clarté, les mêmes éléments ont été dési- gnés par les mêmes références aux différentes figures et, de plus, comme cela est habituel dans la représentation des circuits intégrés, les diverses figures ne sont pas tracées à l'échelle. La figure 1 représente l'état d'un substrat de silicium 1 d'un premier type de conductivité, par exemple de type P, après des étapes initiales d'un procédé selon un mode de réalisation de la présente invention. Le substrat comprend du côté de sa face supérieure des régions 2 et 3 du deuxième type de conductivité, par exemple N, respectivement fortement et faiblement dopées. La région 2 résulte par exemple d'une implantation/diffusion dans le substrat 1, et la région 3 d'une croissance épitaxiale. Des tran- chées renmplies d'un matériau d'isolement de champ 4, par exemple de l'oxyde de silicium (SiO2), délimitent dans la région 3 des zones actives. L'ensemble est recouvert d'une couche isolante 5. La couche 5 est recouverte d'une couche 6 de silicium, de préfé- rence polycristallin. L'épaisseur hi de la couche 6 est choisie de la façon qui sera expliquée ci-après. Selon un mode de réalisation de la présente invention, la couche 5 est un multicouche constitué de couches de matériaux isolants distincts gravables sélectivement les uns par rapport aux autres et par rapport au silicium. Il s'agira par exemple d'une couche inférieure 5-1 d'oxyde de silicium et d'une couche supérieure 5-2 de nitrure de silicium (Si3N4). Aux étapes suivantes dont le résultat est illustré en figure 2, on ouvre les couches 6 et 5 grâce à l'unique masque utilisé dans ce processus de façon à découvrir la surface active de la région 3 dans laquelle doit être formé un transistor bipo- laire, en débordant sur la région d'isolement de champ périphé- rique. Après formation de l'ouverture, on effectue éventuellement une implantation à haute énergie pour former au fond de la région 3, en contact avec la région 2, une région 7 fortement dopée de type N destinée à constituer le fond du collecteur du transistor bipolaire. Pour l'implantation de la région 7, on maintient de préférence la couche isolante 5-1. On pourra également éliminer la couche 5-1 puis faire croître un oxyde thermique. La formation d'un contact ohmique avec la région 2 se fait de façon classique et n'est pas décrite ni représentée ici. Aux étapes suivantes dont le résultat est illustré en figure 3, on élimine la couche 5-1 d'oxyde de silicium. Ensuite, on effectue une gravure anisotrope du silicium. Alors, la surface découverte de la région 3 au fond de l'ouverture est gravée en même temps que la couche 6. La gravure est arrêtée dès que la couche 6 est complètement éliminée. Un avantage de graver la couche 6 en même temps que la surface de la région 3 est de disposer d'une couche d'arrêt de gravure constituée par la couche isolante 5, ce qui fournit éga- lement une détection de fin d'attaque. Les différences de pro- priétés de gravure des matériaux constituant les couches 6 et 3 étant connues, l'épaisseur hl de la couche 6 permet de définir la hauteur h2 de la région 3 que l'on désire éliminer. Aux étapes suivantes dont le résultat est illustré en figure 4, on dépose une couche de silicium très fortement dopée de type P. Le dopage est de préférence effectué in situ. Ensuite, la couche très fortement dopée est gravée de façon anisotrope pour ne laisser en place que des portions 8-1 et 8-2 formant espaceurs le long des reliefs abrupts que constituent respective- ment le matériau d'isolement de champ 4 et la couche isolante 5. La largeur de la portion 8-1 est fixée par l'épaisseur initiale de la couche de silicium 6. On notera que la formation des portions 8-1 et 8-2 s'accompagne d'une surgravure volontaire de la région 3 de la couche épitaxiale. Cette surgravure est effectuée sur une épais- seur suffisamment importante pour éliminer un éventuel dopage parasite provenant de la diffusion des dopants de la portion 8-1 à la surface de la région 3, avant et éventuellement après la gravure de la couche fortement dopée. La surgravure de la région 3 est de préférence effectuée de façon à obtenir une pente douce entre la surface découverte de la région 3 et son point de contact avec la portion 8-1. Ensuite, on grave le matériau d'isolement de champ 4 sur une hauteur h3 inférieure à la hauteur maximale de la portion 8-1. Cette gravure a pour objet de former un évidement 9 à la périphérie externe de la portion 8-1. La portion 8-1 se retrouve donc partiellement en surélévation par rapport au matériau d'iso- lement de champ 4 qui l'entoure. Aux étapes suivantes dont le résultat est illustré en figure 5, on dépose de façon conforme une couche 10 de silicium sur une épaisseur au moins égale à la hauteur h3 de l'évidement 9 (figure 4). La couche 10 est destinée à constituer la base du transistor bipolaire et est déposée par épitaxie de façon à être monocristalline au moins au-dessus de la région 3. La couche 10 est faiblement dopée à l'aide d'un dopant de type P, par exemple du bore à une concentration de l'ordre de 5x1018 atomes/cm3. Le dépôt de la couche de silicium 10 ayant été effectué de façon conforme, la face supérieure de cette couche reproduit le relief des couches sous-jacentes et notamment les flancs inté- rieurs relativement abrupts de la couronne de silicium 8-1. On peut donc former, de la façon représentée, un espaceur annulaire 11, par dépôt puis gravure anisotrope d'une couche isolante, par exemple en oxyde de silicium. À l'étape suivante dont le résultat est illustré en figure 6, on dépose une couche 12 de silicium polycristallin fortement, de préférence dopée in situ à l'aide d'un dopant de type N. Le dopant sera un quelconque dopant connu, par exemple de l'arsenic ou du phosphore. La couche 12 est destinée à constituer l'émetteur du transistor bipolaire. À l'étape suivante dont le résultat est illustré en figure 7, on effectue selon la présente invention un polissage mécano-chimique. Ce polissage s'arrête quand on atteint les faces supérieures de la couche 5 et de l'espaceur 11. La planéité obtenue est d'autant meilleure que les dimensions, au moins dans une direction, sont faibles, et c'est toujours le cas des dispo- sitifs intégrés haute fréquence. Il ne subsiste alors de la couche 12 de silicium de type N qu'une partie d'émetteur interne à l'espaceur annulaire 11. La couche de silicium de type P reste en place dans une partie centrale de base. Il demeure également une partie périphérique 10- 1 de la couche 10 qui assure un contact entre les portions 8-1 et 8-2 de silicium fortement dopé de type P (dans la région correspondant à l'évidement 9 de la figure 4). On notera qu'il existe une continuité électrique entre les éléments 10, 8-1, 10-1 et 8-2. Aux étapes suivantes dont le résultat est illustré en figure 8, on effectue une siliciuration des surfaces conductrices apparentes. Il se forme ainsi un premier contact siliciuré de base 13 sur les surfaces supérieures des divers éléments de même premier type de dopage (P) 10, 81, 10-1 et 8-2. Une partie importante du contact siliciuré 13 se trouve être au-dessus de la région isolante 4. La capacité base-collecteur est donc réduite. Il se forme également sur la couche d'émetteur 12 un deuxième contact siliciuré 14. Ensuite, on dépose et on ouvre une couche isolante 15, par exemple en oxyde de silicium, de façon à décou- vrir partiellement les contacts 13 et 14. On notera que, en raison de l'extension du contact de base, due à la présence de siliciure 13 sur les régions 8-1, 10-1 et 8-2, le positionnement de l'ouverture de contact de base n'est pas critique, ce qui constitue un avantage notable de l'invention. Le procédé s'achève, comme l'illustre la figure 9, par le remplissage des ouvertures de la couche 15 par un matériau conducteur 16, par exemple métallique, de préférence du tungstène. On forme ainsi des prises de contact de base et d'émetteur 16-1 et 16-2, respectivement. Dans une étape ultérieure du procédé (non représentée) on formera également une reprise de contact avec la couche 2 de façon à former une prise de contact du collecteur 7, en dehors du plan représenté. La présente invention s'applique tout particulièrement à la formation de transistors dont la base est en silicium- germanium. En effet, lors de l'étape de dépôt épitaxial de la couche de base 10 décrite précédemment en relation avec la figure , il est possible de prévoir qu'une partie au moins de l'épaisseur de la couche 10 soit en alliage germanium silicium, selon un profil de concentration choisi. Les profils de concen- tration du germanium et du dopant, par exemple du bore, inséré dans la couche 10 sont de préférence tels que leurs pics de concentration maximale à l'intérieur de la couche 10 soient distincts et que celui de germanium soit plus proche de la jonc- tion substrat-base 3-10 que celui du bore. Un avantage du procédé selon la présente invention est de permettre la prise de contact de base sur un élément de sili- cium très fortement dopé plus facile à siliciurer qu'une couche comportant du germanium (couche 10). On notera que, le dopage des portions 8-1 et 8-2 étant très élevé, il se produit une diffusion importante dans les éléments voisins, et notamment dans la partie 10-1 assurant un contact entre elles. Dans un mode de réalisation de la présente invention les caractéristiques des diverses couches et gravures seront les suivantes: - région 2: épaisseur: de 1 à 3 gm, de préférence 2 /im; dopage: 2x1019 at./cm3 d'arsenic; - région 3 (formée par épitaxie): épaisseur: de 0,5 à 1 gm; dopage: lx1016 at./cm3 d'arsenic; - multicouche 5: couche 5-1 en oxyde de silicium, d'une épaisseur de 2 à 20 nm, de préférence de l'ordre de 5 nm; couche 5-2 en nitrure de silicium, d'une épaisseur de 40 à nm, de préférence de l'ordre de 55 nm; - épaisseur hl (figures 1 et 2) de la couche 6 de définition de l'arrêt de gravure de la région 3: de 100 à 250 nm, de préfé- rence de l'ordre de 150 nm; - hauteur h2 de gravure de la région 3 (figure 3): du même ordre que l'épaisseur hl; - portions 8-1 et 8-2: dopage lx1020 at./cm3 de bore; - surgravure de la surface de la région 3 (figure 4): sensible- ment égale à la hauteur hi; - hauteur h3 de l'évidement 9 (figure 4): comprise entre 30 et nm, de préférence de l'ordre de 60 nm; - couche de base 10 de germanium-silicium: épaisseur comprise entre 30 et 150 nm, de préférence de l'ordre de 60 nm (épaisseur plus élevé en présence de Ge); couche d'émetteur 12 de silicium polycristallin: dopage: 1020 à 2x1021 at./cm3 d'arsenic ou de phosphore; épaisseur dans la fenêtre active avant polissage (figure 6): de 100 à 250 nm, de préférence de l'ordre de 150 nm; épaisseur dans la fenêtre active après polissage (figure 7): de 80 à 200 nm, de préférence de l'ordre de 100 nm; - couche 15 en oxyde de silicium, d'une épaisseur comprise entre 300 et 2000 nm, de préférence de l'ordre de 800 nm; et - matériau de contact- métallisation 16-1, 16-2: tungstène ou aluminium ou alliage de ces métaux avec couche barrière de Ti/TiN entre métal et siliciure; les métallisations s'appuyant sur la couche 15 peuvent être en un matériau distinct d'un matériau de remplissage des ouvertures de cette même couche 15. Bien entendu, la présente invention est susceptible de diverses variantes et modifications qui apparaîtront à l'honmmne de l'art. En particulier, on a décrit et illustré précédemment les principes de l'invention appliqués à la formation d'un transistor bipolaire de type NPN. Toutefois, l'homme de l'art comprendra que l'on pourrait former selon les mêmes principes un transistor bipolaire de type PNP à condition de doper de façon complémen- taire les différentes parties, couches ou portions en silicium 1, 2, 3, 7, 8-1, 8-2, 10 et 12. REVENDICATIONS 1. Procédé de fabrication de la jonction émetteur-base d'un transistor bipolaire sur une région active (3) de silicium d'un premier type de conductivité délimitée par une tranchée remplie d'un matériau d'isolement de champ (4), l'ensemble étant recouvert d'une première couche isolante (5), caractérisé en ce qu'il comprend les étapes suivantes: graver la première couche isolante (5), de façon à découvrir la surface de la région active; graver la surface de la région active sur une hauteur donnée (h2); former des premier et deuxième espaceurs (8-1, 8-2) en silicium très fortement dopé du deuxième type de conductivité, à la périphérie interne des reliefs abrupts résultant respective- ment de la gravure de la première couche isolante et de la gravure de la région active; déposer par épitaxie une couche de base (10) dopée du deuxième type de conductivité; former un troisième espaceur (11) en un matériau isolant à la périphérie interne d'un relief de la couche de base correspondant au premier espaceur; déposer une couche d'émetteur (12) de silicium forte- ment dopé du premier type de conductivité; et effectuer un polissage mécano-chimique, en utilisant la première couche et le troisième espaceur comme points d'arrêt. 2. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'il comprend, pour la gravure de la région active (3), les étapes suivantes: dépôt d'une couche de silicium (6) d'une épaisseur prédéterminée (hl) sur la première couche isolante (5); masquage et élimination de ladite couche de silicium et de la première couche isolante au dessus de la zone active; et gravure sélective du silicium avec détection et arrêt de gravure quand on atteint la première couche isolante (5). 3. Procédé selon la revendication 1 ou 2, caractérisé en ce que la formation des premier et deuxième espaceurs (8-1, 8- 2) est suivie d'une surgravure de la région active (3). 4. Procédé selon la revendication 1 ou 2, caractérisé en ce que la première couche isolante (5) est un multicouche constitué d'une couche d'oxyde de silicium (5-1) et d'une couche de nitrure de silicium (5-2). 5. Procédé selon la revendication 1 ou 2, caractérisé en ce que les premier et deuxième espaceurs (8-1, 8-2) sont en silicium polycristallin dopé du deuxième type de conductivité. 6. Procédé selon la revendication 1 ou 2, caractérisé en ce que au moins le premier espaceur (8-1) est en silicium monocristallin. 7. Procédé selon la revendication 1 ou 2, caractérisé en ce que la couche de base (10) est constituée de silicium et de germanium. 8. Procédé selon la revendication 7, caractérisé en ce que le gradient de germanium et le gradient de dopant du premier type de conductivité dans la couche de base (10) sont tels que la concentration maximale de germanium et la concentration maximale du dopant sont à proximité respectivement de l'interface avec la région active (3) et de l'interface avec la couche d'émetteur (12). 9. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que le troisième espaceur (11) est en oxyde de silicium.