Brevet FR2796728A1 — publié le 20010126

L'invention concerne l'opto-électronique et plus particulièrement la réalisation de composants photoinscrits passifs ou actifs pour les réseaux optiques de télécommunications. La photoinscription est largement utilisée dans la réalisation des réseaux de Bragg, que ce soit sur fibres optiques ou sur guides planaires en silice sur silicium. On réalise un tel réseau en faisant varier le long du guide ou de la fibre optique l'énergie lumineuse transmise par unité de surface (la fluence). Il s'agit souvent de créer au niveau du guide (ou du c#ur de la fibre dans le cas d'une fibre optique), et normal à celui-ci, des franges d'interférence de pas A. Cette modulation d'éclairement engendre au niveau du guide une modulation spatiale de l'indice de réfraction le long de la direction de propagation de la lumière qui forme le réseau de Bragg. Tel qu'illustré sur la figure 3, dans son utilisation courante en propagation, le guide (ou le c#ur de fibre) photoinscrit réfléchira une longueur d'onde appelée longueur d'onde de Bragg (#B) dont la valeur est donnée par #B = 2.N (eff.).A, N (eff) indice de réfraction effectif du guide et A le pas du réseau. Pour obtenir un réseau de Bragg, c'est à dire un réseau d'indice modulé, il faut donc insoler le guide ou la fibre avec un faisceau UV modulé spatialement le long du guide. Deux montages d'interférences sont largement utilisés pour obtenir une modulation spatiale du faisceau UV : le masque de phase et le miroir de Lloyd. Ces montages sont présentés aux figures 1 et 2. Du fait que le faisceau est de largeur faible, la zone d'interférence lumineuse formée par le montage d'insolation est souvent plus courte que la longueur désirée pour le réseau On pallie cet inconvénient en déplaçant l'ensemble formé par le guide et le dispositif d'interférence devant le faisceau. La photoinscription de réseau de Bragg dans de la silice dopée au germanium entraîne deux phénomènes assez connus : une modulation d'indice créée par la figure d'interférences, et une augmentation de l'indice moyen Ces deux effets sont proportionnels, entre autres, à la fluence d'UV insolé et à la photosensibilité du matériau. Malheureusement, une amplitude de modulation constante telle que celle représentée à la figure 4 entraîne des spectres de réjection et d'extinction en forme de sinus cardinaux (transformée de Fourier du profil de modulation) avec des lobes latéraux assez importants qui sont indésirables en particulier pour les réseaux de Bragg des composants des réseaux de multiplexage à division d'onde (Wavelenght, Wave Division Multiplexing). Un tel spectre indésirable est représenté à la figure 4bis. De manière générale, on recherche un profil d'indice de réfraction modulé sensiblement gaussien et un indice moyen constant pour que le pic de réflexion caractéristique du réseau ait une largeur spectrale la plus faible possible et qu'il soit dépourvu de lobes latéraux. Une telle adaptation de modulation est appelée apodisation . Pour éliminer les lobes, il est connu d'adopter un profil (ou une enveloppe) de modulation qui est sensiblement gaussien, tout en gardant un indice moyen constant, comme illustré à la figure 6. Dans le cas d'un indice moyen de profil gaussien, tel qu'illustré à la figure 5, une cavité Fabry-Pérot peut se créer entre les bords du réseau, ces bords du réseau présentant alors, comme illustré sur la figure 5bis, une longueur d'onde de Bragg plus faible par rapport à celle réfléchie par le centre (#B = 2Aneff). Ce phénomène se traduit par l'apparition, du côté des faibles longueurs d'onde, de lobes latéraux parasites qui disparaissent lorsque l'indice moyen redevient uniforme le long du réseau On a rapporté en annexe une série de publications qui se rapportent aux techniques d'apodisation connues. Sur fibre, la solution retenue est de photoinscrire, en face dite avant de la fibre, à travers le masque de phase, la partie modulée gaussienne de l'indice et simultanément, en face dite arrière, une correction en continu de l'indice moyen, dans le but de le rendre constant. Les enveloppes gaussiennes de l'indice modulé et de la correction en continu sont obtenues, au cours du déplacement devant le faisceau de la fibre et du masque, par la variation spatiale de l'intensité laser du faisceau. Cette variation est obtenue, comme illustré à la figure 7, en plaçant devant chaque faisceau, et solidairement à la fibre, deux masques supplémentaires D1 et D2 présentant un taux de transmission variable selon l'emplacement considéré sur chaque masque. L'ensemble D1, D2, le masque de phase et la fibre se déplacent devant les deux faisceaux laser au cours de la photoinscription et l'enveloppe de la modulation d'indice est donnée par les deux répartitions de densités sur D1 et D2. Cette technique ne s'applique qu'à la fibre optique, en effet pour un guide silice sur silicium il est impossible de photoinscrire à travers le silicium. Mais il serait possible de réaliser le réseau apodisé en effectuant deux passages, l'un avec un masque D1 et le masque de phase, puis l'autre avec le masque D2 sans le masque de phase. Il resterait un inconvénient majeur : c'est la non coïncidence des densités D1 et D2 au cours des deux passages de photoinscription Une seconde solution pour apodiser consiste, en utilisant le masque de phase, à faire vibrer la fibre ou le masque de phase à l'aide d'un piézo- électrique avec une amplitude de vibration variant du bord au centre du réseau photoinscrit de telle sorte que l'insolation moyenne sur les bords soit quasi continue et que le brouillage des franges aille en décroissant pour ne plus exister au centre. Cette seconde technique peut s'appliquer à un guide silice sur silicium, puisque tout se passe en face avant, mais tout d'abord il est plus difficile de faire vibrer une plaque de silicium et d'autre part la vibration de la plaque risque de casser des collages réunissant un couple fibre/guide comme on en trouve habituellement dans les montages à guide de silice. Dans les deux cas, la répartition d'indice le long de l'axe de la fibre est préférentiellement apodisée avec l'enveloppe représentée à la figure 6. On a également proposé dans le document FR 2 764 394 d'ajouter, devant un masque de phase, un masque rotatif en forme d'hélice, qui interrompt le faisceau par intermittences au cours de sa rotation. Le masque rotatif est en outre prévu mobile transversalement au faisceau et, selon l'éloignement du faisceau par rapport au centre du masque rotatif, le taux d'occultation moyen du faisceau est plus ou moins élevé. On choisit une modulation des fluences appliquées à chaque portion de guide en faisant varier le positionnement transversal du masque rotatif par rapport au faisceau au cours du déplacement du guide devant le faisceau. Ce procédé, s'il donne des résultats satisfaisant, s'avère assez complexe à mettre en #uvre et donne qu'une précision sur l'apodisation qui doit encore être améliorée. C'est le but de l'invention, qui propose un procédé d'apodisation facilement mis en oeuvre sur guide, notamment sur guide de silice, et qui est particulièrement précis. Ce but est atteint selon l'invention grâce à un procédé d'insolation pour la réalisation d'un réseau de Bragg sur un guide ou une fibre optique photosensible dans lequel on parcourt le guide (la fibre) avec un faisceau lumineux et on prévoit des moyens pour moduler le temps d'insolation le long de la fibre en modulant la rapidité de progression du faisceau le long du guide (de la fibre) pour que celui-ci se trouve positionné face à chaque emplacement du guide (de la fibre) pendant une durée variable selon l'emplacement. D'autres caractéristiques, buts et avantages de l'invention apparaîtront mieux à la lecture de la description détaillée qui suit, faite en référence aux dessins annexés sur lesquels : - la figure 1 représente un montage à masque de phase, selon l'état de la technique ; - la figure 2 représente un montage à miroir de Lloyd, selon l'état de la technique ; - la figure 3 représente un réseau de Bragg de type connu ; - la figure 4 est un tracé représentatif d'une répartition d'indice de réfraction le long d'un guide optique, avec un indice moyen constant ; - la figure 4bis représente un spectre de réflexion d'un guide optique photoinscrit selon le tracé de la figure 4 ; - la figure 5 est un tracé d'apodisation à répartition d'indice moyen de type gaussien ; - la figure 5bis est un spectre de réflexion obtenu avec une répartition d'indice conforme à celle de la figure 5 ; - la figure 6 est un tracé d'apodisation à répartition d'indice à enveloppes gaussiennes et à indice moyen constant ; - la figure 6bis est un spectre de réflexion d'un guide apodisé selon le tracé de la figure 6 ; - la figure 7 représente un montage d'apodisation à masques d'intensité, conforme à l'état de la technique ; - la figure 8 représente un montage d'apodisation conforme à l'invention ; - la figure 9 représente une répartition de durée d'insolation le long d'un guide, obtenue selon un procédé de l'invention ; - la figure 10 est un tracé représentant une répartition d'indice de réfraction après une première étape d'apodisation selon l'invention ; - la figure 11 est un tracé représentant une modulation de durée d'insolation le long d'un guide, selon l'invention ; - la figure 12 représente une répartition d'indice de réfraction le long d'un guide optique après une second étape d'apodisation selon l'invention. - la figure 13 est une coupe transversale d'une fibre optique en cours d'insolation, selon l'état de la technique ; - la figure 14 est une coupe transversale d'une guide optique d'un guide optique en cours d'insolation, selon l'état de la technique ; - la figure 15 est un tracé représentatif de la réponse spectrale d'un guide optique selon l'invention ; - la figure 16 est un tracé représentatif de la réponse spectrale d'un guide optique selon l'état de la technique , - la figure 17 est une coupe transversale d'un ensemble formant guide optique selon l'état de la technique ; - la figure 18 est une coupe transversale d'un ensemble formant guide optique selon l'invention ; Le dispositif d'insolation de la figure 8 comprend notamment un moteur de translation 100 alimenté par un générateur électrique 220 qui est piloté par un ordinateur 230. Le moteur 100 est prévu pour déplacer un plateau supérieur 110 sur lequel est placé un ensemble comprenant un guide en silice 120 fixé sur une plaque de silicium 130 ainsi qu'un masque de phase 140. Un faisceau laser 300 est placé latéralement à ce montage, en position fixe de manière à former des franges sur le guide 120 par l'action du masque 140. L'ordinateur 230 est programmé de façon à faire générer à la source 220 des impulsions électriques propres à translater le plateau 110 selon un mouvement de type pas à pas, avec, entre chaque pas, un temps d'attente choisi, enregistré à l'avance dans la mémoire de l'ordinateur 230. L'indice de réfraction à chaque emplacement est proportionnel au temps d'immobilité du faisceau devant cet emplacement. L'ordinateur calcule de lui-même le temps d'immobilité à chaque pas en fonction de la répartition d'indice souhaitée. Plus précisément, l'ordinateur 230 propose à un utilisateur un menu dans lequel figurent diverses courbes de modulation d'indice de réfraction. Une fois choisie la courbe de l'enveloppe de modulation, l'ordinateur utilise des données de commande de la progression du chariot correspondante, c'est à dire une répartition des temps d'attente du faisceau à chaque pas, selon une courbe préenregistrée similaire à celle choisie par l'utilisateur. On propose donc une technique d'apodisation ne se basant pas sur la variation d'intensité du faisceau laser, mais dans laquelle on agit sur le temps d'exposition de celui-ci en fonction de sa position. Dans le présent exemple de réalisation, l'ordinateur 230 commande deux passages successifs du chariot 100 devant le faisceau, un premier passage étant effectué avec le masque de phase 140 disposé devant le guide 120, le deuxième passage étant effectué sans le masque 140. Ces deux passages sont effectués dans des sens opposés pour éviter un retour chariot entre les deux passages. Lors du premier passage avec le masque 140, le faisceau forme à chaque pas des franges d'interférence sur le guide dans une zone restreinte alignée avec le faisceau Le masque 140 forme donc des franges au pas du réseau de Bragg dont le temps d'insolation est fonction de leur position sur le guide et la durée de formation de chaque frange est modulée par le temps de présence du faisceau devant elle. Ainsi en adoptant pour le faisceau un temps de passage variable selon une courbe de type gaussienne comme celle représentée à la figure 9, on obtient une répartition de l'indice de réfraction telle que celle représentée à la figure 10, c'est à dire une répartition d'indice formant des sinusoïdes dont l'amplitude varie selon une courbe gaussienne. En d'autres termes, les franges d'interférence insolent le guide pendant une durée variable selon leur position, cette durée dépendant de la vitesse avec laquelle le faisceau se déplace. La courbe de la figure 9 représente, en fonction de la position le long du guide, le temps d'insolation ou temps de passage du faisceau devant cette position. En d'autres termes, les ordonnées de cette courbe sont inversement proportionnelles à celles d'une courbe représentant la vitesse moyenne du faisceau devant chaque emplacement considéré du guide, la vitesse moyenne en un point donné du guide étant définie par la largeur du faisceau sur le temps de présence du faisceau devant ce point. Le deuxième passage sans masque vise à appliquer une correction continue de l'indice de réfraction, c'est à dire sans franges d'interférence. Le tracé de la figure 11 représente ainsi le temps de passage du faisceau en fonction de la position considérée sur le guide au cours de cette deuxième étape. Cette courbe présente une forme gaussienne inversée. En d'autres termes, les extrémités du guide sont insolées avec une durée plus élevée que les parties centrales du guide. Ce deuxième passage produit donc une augmentation de l'indice de réfraction accentuée au niveau des extrémités du guide. Après cette deuxième insolation continue, l'indice moyen du réseau est de nouveau constant sur la partie photoinscrite. La répartition finale de l'indice après ces deux passages est représentée sur la figure 12, sur laquelle le tracé présente la forme d'une sinusoïdale oscillant entre deux enveloppes symétriques l'une à l'autre par rapport à une droite horizontale. L'indice de réfraction varie donc autour d'une valeur moyenne qui est la même tout au long du guide. On obtient ainsi une courbe d'apodisation optimale, ce tracé étant encore amélioré ici par un choix d'une fonction mathématique particulière de répartition de l'indice qui sera décrite maintenant. Pour la première étape d'apodisation, les formules classiques adaptées ici pour une répartition de la fluence Y sont les suivantes, où X est la position longitudinale du faisceau sur le guide, avec X = 0 au centre du guide, et où L est la longueur photoinscrite. - Formule de Gauss : Y = A.exp[-G(X/L)2]avec G = 15, - Formule de Hamming : = A. (1+Hcos[(2#X/L)/1+H] avec H = 0,55, - Formule de Blackman : Y=[1+(1+B)cos (2#X/L)+B cos (4#X/L)]/ (2+2B) avec B = 0,18. Nous proposons ici de travailler avec la formule suivante : Y1 = A.cos4(M.X/L) avec M = 2,78. Cette loi permet d'apodiser la modulation de l'indice de réfraction du réseau le long du guide planaire avec une très grande souplesse d'utilisation et une très grande précision dans la forme de l'enveloppe de modulation. Dans cette formule, Y1 est le temps d'insolation et A est la puissance du laser UV (244 nm). La constante M optimise l'enveloppe d'apodisation. Pour la deuxième étape d'insolation, on applique une répartition de la fluence Y2. La fluence est donnée par la formule : [puissance laser] . [temps] / [unité de surface] (solution proposée pour les fibres) ou dans l'exemple donné ici par le temps d'exposition. Y2(X) = (Y0-Y1(X))/2 Dans cette formule, Yo est la valeur de Y1 à l'abscisse 0, c'est à dire la valeur maximale de Y1 le long du guide. La coïncidence de positionnement entre les deux passages s'effectue avec une précision d'un pas (c'est à dire pour notre moteur une précision de 1 m). Les courbes : temps = f (position) sont programmées dans l'ordinateur qui est ici de type PC. L'unité de temps est celle de l'horloge du PC Dans un mode de réalisation préférentiel, le dispositif de commande propose un menu avec le choix : - de la formule utilisée (Blackman, Gauss...), - du coefficient appliqué, - de la longueur de photoinscription, - et du pas de déplacement, ce qui procure une extrême souplesse au procédé. Pendant la photoinscription, un affichage montre les courbes temps = f (position) , à la fois la courbe théorique et celle effectivement réalisée. On prévoit avantageusement une possibilité d'ajustement de la puissance du laser, et la possibilité d'ajouter un décalage (offset) sur les courbes préétablies. Dans l'exemple d'apodisation qui vient d'être donné ici, le guide est un guide droit en silice sur silicium. Le procédé d'apodisation décrit ici s'applique à tous les composants en silice sur silicium ou à fibre qui utilisent un réseau de Bragg photoinscrit. On décrira toutefois maintenant un ensemble formant guide optique particulièrement adapté pour être photoinscrit selon le procédé qui vient d'être précédemment décrit. L'invention permet notamment de réaliser une photoinscription d'un tel réseau de Bragg sur guide silice sur silicium qui soit de même qualité que celle obtenue sur fibre optique, notamment d'obtenir une largeur spectrale inférieure à 0,8 nm. Les inventeurs ont pu constater que la photoinscription sur guide silice sur silicium se heurte, contrairement à celle sur fibre, et surtout pour les réseaux de Bragg, à une réflexion parasite du faisceau d'inscription ultra-violet sur un dioptre qui est formé par la jonction entre une couche optiquement conductrice de silice et la base en silicium. En plus du faisceau incident, vient se superposer dans le guide un faisceau réfléchi. Ce faisceau non maîtrisé perturbe l'inscription directe au point de la rendre pratiquement inefficace. Dans le cas de la photoinscription sur fibre, tel qu'illustré sur la figure 13, le faisceau laser UV traverse une gaine optique qui est insensible à ce rayonnement, pour photoinscrire un réseau de Bragg par exemple dans le c#ur photosensible de la fibre. Dans ce cas particulier, le faisceau après photoinscription continue son trajet et sort de la fibre. Comme illustré aux figures 14 et 17, un ensemble formant guide optique silice sur silicium (Si/Si02) comporte habituellement une base ou plate-forme en silicium, sur laquelle est déposée d'abord une couche 20 appelée couche de gaine en silice pure, puis sur la couche de gaine 20, des guides optiques 30 constitués de silice dopée au germanium. Les guides 30 et la couche 20 sont recouverts par une couche de recouvrement en silice pure 40. Sur un guide planaire Si/Si02 le faisceau UV incident, référencé ici 50, traverse la couche de recouvrement 40 qui est insensible à ce rayonnement, pour photoinscrire le c#ur 30 selon un motif d'indice. Après inscription, le faisceau UV 50 traverse le dépôt de silice 20 et se réfléchit sur le dioptre Si?SiO2 formé entre la couche de gaine 20 et la base 10, avec un taux de réflexion proche de 60% à une longueur d'onde de 244 nm. Le faisceau réfléchi photoinscrit à nouveau le c#ur 30, mais avec des caractéristiques optogéométriques différentes de celles du faisceau incident. Dans le cas d'une fibre optique, le faisceau incident modulé spatialement par interférence inscrit un réseau de Bragg qui réfléchit #B avec typiquement une largeur spectrale inférieure à 0,8 nm et une amplitude supérieure à 35 dB. (ces valeurs sont données à titre indicatif). Dans le dispositif décrit ici, le faisceau UV réfléchi inscrit lui aussi un réseau de Bragg qui se superpose au réseau incident désiré, mais, comme le dioptre Si/SiO2 n'est pas un miroir parfait, les deux réseaux formés par les faisceaux incident et réfléchi ont des longueurs, notées ici respectivement #Bi et #Br, qui sont différentes l'une de l'autre. Les inventeurs ont pu constater que ces deux longueurs d'onde présentent typiquement une différence ##B égale à 0. 25 nm. On a représenté sur la figure 16 un spectre de transmission d'un réseau obtenu par la technique habituelle. Le spectre présente un pic de réflexion inexploitable, d'amplitude faible (6dB) et de largeur spectrale importante. Il est donc nécessaire de supprimer le faisceau réfléchi par le dioptre Si/Si02. On a représenté à la figure 18 un ensemble formant guide optique, conforme à un exemple de réalisation de l'invention. Cet ensemble reprend les différentes parties constitutives décrites précédemment en rapport aux dispositifs connus des figures 14 et 17, et comporte en outre un couche intermédiaire 15 située entre la couche de silicium 10 et les guides 30. Plus précisément, cette couche 15 s'étend ici entre la couche de gaine de silice pure 20 et la couche 10. Le rôle de cette couche 15 est de transmettre à travers la couche de silicium 10 la lumière incidente pénétrant à travers les couches depuis la face supérieure de l'ensemble. Cette couche 15 est une couche ayant une fonction anti-reflet vis à vis du faisceau incident 50. Cet ensemble est, comme pour les dispositifs de l'art antérieur décrits ci avant, réalisé par une série de dépôts successifs. Nous savons que le silicium absorbe le rayonnement UV et en particulier celui à la longueur d'onde de 244 nm utilisée ici. Pour que tout le rayonnement incident 50 soit absorbé par le silicium 10, il faut que cette couche 15 transmette l'ensemble de ce rayonnement. La couche anti-reflet 15 est mise en place au cours de la réalisation du dispositif par une technique de dépôt sous vide indépendante du process de dépôt de silice. Les inventeurs ont pour cela identifié des matériaux particulièrement efficaces et des épaisseurs particulières pour la couche 15, particulièrement adaptées à ce choix de matériaux L'indice de réfraction de cette couche 15 est ainsi préférentiellement proche de la racine du produit des indices des deux couches qui l'entourent et qui sont à son contact. Dans le cas présent, l'indice de la couche 15 N(anti-reflets) est donné par la formule : N (anti-reflet) = #N(Silice)N(Silicium) (1) Pour un angle incident a donné du faisceau incident, l'épaisseur Ep de la couche 15 est avantageusement : Ep = (2k + 1)# / 4NAR COS a (2) Où NAR est l'indice de réfraction de la couche 15, # la longueur d'onde du faisceau incident et k un nombre entier quelconque. Les indices de réfraction de la silice et du silicium, connus dans le visible, ont été ici calculés à la longueur d'onde de 244 nm, par extrapolation à partir de la formule de Cauchy et on a trouvé par exemple comme matériaux répondant au critère d'indice de la relation (1), le SiO, le Si3N4 ou le Ti02. L'épaisseur a été, dans l'exemple décrit ici, choisie pour k = 1 et a = 13 dans la relation (2). Dans un procédé de photoinscription à l'aide d'un dispositif d'interférences tel que le masque de phase 140 utilisé ici, on obtient en sortie du dispositif d'interférence, au niveau de la surface supérieure de la couche de revêtement 40, et pour chaque frange d'interférence, deux faisceaux incidents ayant des inclinaisons a et -a de 13 par rapport à la normale à la face supérieure du dispositif. On a alors obtenu une réflexion résiduelle particulièrement faible, de l'ordre de 4% et, cette réflexion ne semble constituée que par une réflexion due à un autre dioptre formé par une surface d'entrée entre l'air et la couche de silice 40 de recouvrement. Le coefficient de transmission de la couche anti-reflet 15 est donc très proche de 1. Comme on peut le voir sur la figure 15, le spectre de réflexion obtenu présente une longueur spectrale de 0,5 nm et une amplitude de 40dB. La photoinscription dans ces conditions ne souffre donc plus de l'effet parasite et non contrôlable du faisceau réfléchi et retrouve la qualité que l'on connaît sur fibre [1 B. MALO and AI. El Letters, V31, p. 223 (1995) (CRC, Ottawa). Premier passage sans masque de phase à travers un masque à densité variable (cos2) puis deuxième passage avec masque de phase à travers le masque complémentaire. [2] J. ALBERT and AI El Letters, V31, N 3, p. 222 (1995) (CRC, Ottawa) Photoinscription à l'aide d'un masque de phase ayant une profondeur de gravure non constante (gaussienne) [3] M. J. COLE and AI. Letters, V31, N 17, p. 488 (1995) (University of Southampton) and AI. Opt. Letters, V20, N 20, p. 2051 (1995) (University of Southampton) Photoinscription de réseaux brouillés aux bords et en phase au centre grâce à la vibration de la fibre contrôlée par des modules piézo-électriques (Amplitude de la fréquence de forme Gaussienne et Blackman) [4] R. KASHIAP and AI. Letters, V32, N 13, p. 226 (1996) (British Telecom, Ipswich) Photoinscription simultanée de deux réseaux décalés d'une demi période sur les bords et en phase au centre grâce à deux modules piézo-électriques étirant la fibre sur deux positions discrètes (Résultat de l'apodisation de forme cosinus). [5] M. GUY and AI. ECO 97, p.195 (INO, Sainte Foy (Québec) Photoinscription à l'aide d'un miroir monté sur un galvanomètre placé avant le masque de phase. Suivant son angle, les franges sont brouillées ou superposées. [6] K E. CHISHOLM and AI. ECOC 98, p. 385 (University of Birmingham)ldem COLE et LOH avec forme Gaussienne et cosinus. Module piézo-électrique sur le masque de phase. [7] H SINGH and AI. ECOC 98, p.189 (3M Bragg Grating Technologies, Bloomfield USA) Séparation du faisceau laser en deux parties. La première passe à travers un filtre ayant le profil d'apodisation souhaité puis sur le masque de phase avant d'insoler la fibre La deuxième partie insole la fibre par le sens opposé (sans être diffractée par le masque) à travers un filtre ayant un profil inverse au premier dans le but d'avoir un indice moyen constant). [8] P. MERCIER and AI. JNOG 98, p.359 (Alcatel, Marcoussis) Apodisation de forme Blackman [9] P.Y. CORTES and AI E Letters, V34, N 4, p. 396 (1998) (Université Laval Québec) Un montage interférométrique est placé derrière la fibre et le masque de phase dans le but de créer un réseau de frange d'amplitude gaussienne. [10] H.G. FROHLICH and R.KASHYAP, Opt Com, V157, p. 273 (déc. 1998) (BT, Ipswich) 2 méthodes grâce à un montage d'interférences de type fentes d'Young (sans masque de phase) : - en lumière incohérente (polychromatique) à des longueurs d'onde proches de 244 nm. Les franges d'interférences ont alors une enveloppe Gaussienne. - en lumière cohérente. Après une première photoinscription, on place dans un deuxième temps, sur un des faisceaux, un coin en silice qui introduit une différence de marche et de position qui créé des franges d'interférences se superposant aux premières pour donner finalement une amplitude de modulation d'enveloppe Gaussienne. [11] L. QUETEL and L. RIVOALLAN (Brevet 97) (Highware Optical Technologies, Lannion) Variation de la puissance UV insolée grâce à une pale toumante mobile de forme ad-hoc placée sur le trajet du faisceau qui induit une amplitude gaussienne de la modulation d'indice photoinscrite. [12] V MIZRAHI and J.E. SIPE (AT & T Bell labs and University Toronto) Optical properties of photosensitive fiber phase gratings Journal of lightware technology, V11, N 10, p 1513,1993 (Comparaison modélisation-expérience de l'effet Fabry-Pérot et du mode de gaine) [13] D. PASTOR and AI (ETSI telecommunication, Valencia) Design of apodized linearly chirped fiber gratings for dispersion compensation Journal of lightware technology, V.14, N 11, p1513, 1996 (Comparaison théorique de différentes fonctions d'apodisation) [14] J.CANNING and AI (APCRC, New South Wales (Australie) Characterization of apodized fiber Bragg gratings for rejection filter applications Applied optics, V36, N 36, p9378,1997 (Mesure précise des indices de réseaux de Bragg apodisés par diffusion Rayleigh) REVENDICATIONS 1. Procédé d'insolation pour la réalisation d'un réseau de Bragg sur un guide (120) ou une fibre optique (120) photosensible dans lequel on parcourt le guide (la fibre) (120) avec un faisceau lumineux (300) et on prévoit des moyens (100,220, 230) pour moduler le temps d'insolation le long du guide (de la fibre) en faisant varier la rapidité de progression du faisceau (300) le long du guide (120) (de la fibre) pour que celui-ci se trouve positionné face à chaque emplacement du guide (120) (de la fibre) pendant une durée variable selon l'emplacement. 2. Procédé d'insolation selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'il comprend l'étape consistant à placer devant le guide (110) (la fibre) un dispositif (140) apte à créer des franges d'interférences sur le guide (120) (la fibre) et à faire balayer au faisceau (300) le dispositif d'interférences (140) avec une rapidité de progression modulée le long de ce dispositif (140) 3. Procédé selon la revendication 2, caractérisé en ce qu'il comprend en outre l'étape consistant à faire parcourir le guide (120)(la fibre) par le faisceau selon une rapidité de progression modulée, sans placer de dispositif (140) d'interférences sur le trajet du faisceau (300). 4 Procédé selon l'une des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que l'on utilise un dispositif d'entraînement (100,220, 230) automatique à commande programmable (230) pour produire l'entraînement relatif du faisceau (300) et du guide (120) (de la fibre). 5. Procédé selon la revendication 4, caractérisé en ce que le dispositif d'entraînement (100,220, 230) est prévu pour produire un déplacement relatif du guide (120) (de la fibre) et du faisceau (300) qui est de type pas à pas et en ce que le dispositif de commande (230) comprend une mémoire dans laquelle sont enregistrées les durées d'immobilisation relative du faisceau (300) et du guide (120) (de la fibre) pour chaque pas. 6. Procédé selon les revendications 2 et 3 en combinaison, caractérisé en ce que le balayage avec dispositif d'interférences (140) est effectué avec une modulation de la durée d'insolation formant une élévation de la durée d'insolation en partie centrale du guide (120) (de la fibre) et le balayage sans dispositif d'interférence est effectué avec une modulation de la durée d'insolation présentant une diminution de la durée d'insolation en partie centrale du guide (120) (de la fibre). 7. Procédé selon l'une des revendications 1 à 6, caractérisé en ce qu'il est réalisé sur un ensemble formant guide optique (30) comprenant une partie constituée (30) d'un matériau dont l'indice de réfraction évolue lorsqu'il est exposé à un faisceau ultra-violet et une partie formant base pour la partie photosensible (30) aux ultra-violet et en ce que l'ensemble comporte un aménagement anti-reflet (15) entre la partie photosensible et la base (10). 8. Procédé selon la revendication 7, caractérisé en ce que la partie photosensible (30) est en silice et la base (10) est en silicium. 9. Procédé selon la revendication 7 ou la revendication 8, caractérisé en ce que l'aménagement anti-reflet (15) est constitué par une couche (15) ayant un indice de réfraction (NAR) voisin de la racine carrée du produit des indices de réfraction de deux couches (10,20) situées de part et d'autre et au contact de cette couche anti-reflet (15). 10. Procédé selon la revendication 8, caractérisé en ce que l'aménagement anti-reflet (15) est constitué d'une couche (15) située entre et au contact d'une couche de silice (20) et d'une couche de silicium (10). 11. Procédé selon l'une des revendications 7 à 10, caractérisé en ce que l'ensemble présente une modulation d'indice de réfraction le long du guide (30) qui est telle que ledit ensemble forme un réseau de Bragg. 12. Procédé selon l'une des revendications 7 à 11, caractérisé en ce que l'aménagement anti-reflet (15) est constitué d'un matériau choisi parmi ceux d'indices de réfraction compatibles tels que SiO, Si3N4 et Ti02 par exemple. 13. Procédé selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que l'on insole le guide (30) avec au moins un faisceau ayant une longueur d'onde # et un angle d'incidence a au niveau d'une face supérieure (40) de l'ensemble, a étant mesuré par rapport à la normale à cette face (40), et en ce que l'on dispose entre la partie photosensible (30) et la base (10) une couche anti-reflet (15) dont l'épaisseur est choisie sensiblement égale à un nombre impair de fois la valeur #/4N cos[alpha] où N est 4Ncosa l'indice de réflexion de la couche anti-reflet (15). 14. Procédé selon la revendication précédente, caractérisé en ce que l'on choisit l'épaisseur de la couche anti-reflet (15) sensiblement égale à : 3# 4Ncosa 15. Procédé selon la revendication 13 ou 14, caractérisé en ce que l'on adopte pour ledit au moins un faisceau incident des angles d'inclinaison a sensiblement égaux à 13 .