Brevet FR2781082A1 — publié le 20000114

STRUCTURE SEMICONDUCTRICE EN COUCHE MINCE COMPORTANT UNE COUCHE DE REPARTITION DE CHALEUR Domaine technique La présente invention concerne une structure semiconductrice en couche mince et des procédés de réalisation d'une telle structure. Par structure semiconductrice en couche mince, on entend une structure possédant en surface une fine couche semiconductrice dans laquelle seront fabriqués des dispositifs électroniques (cette couche est dite couche active) et un substrat jouant un rôle mécanique de support. Ce substrat est généralement isolé électriquement de la couche de surface. Le substrat est constitué soit d'un matériau massif isolant (un diélectrique dans le cas du SOS), soit d'un matériau conducteur ou semiconducteur. Dans ce dernier cas, il peut s'agir du même matériau que celui de la couche de surface (cas du SOI), isolé généralement de la couche de surface par une couche d'isolant. Dans le cas du SOI, le substrat mécanique est usuellement constitué d'un substrat de silicium avec une couche de silice en surface, mais il peut aussi être constitué d'un substrat massif de silice fondu (silicium sur quartz). On connait également d'autres structures semiconductrices en couche mince comme l'AsGa sur silicium, le SiC sur silicium ou le GaN sur saphir, etc. Ces structures sont réalisées soit par des techniques dites de "Wafer Bonding", soit par hétéroépitaxie. Etat de la technique antérieure Les structures semiconductrices en couche mince comme par exemple les structures SOI sont de plus en plus utilisées pour réaliser des dispositifs électroniques. Les structures SOI sont utilisées en particulier pour fabriquer des circuits VLSI logiques et analogiques ou pour fabriquer des composants de puissance. Une structure (ou substrat) SOI présente plusieurs avantages par rapport à un substrat massif de silicium. L'un de ces avantages est que l'isolant sous- jacent à la couche de silicium permet de diminuer les capacités parasites des dispositifs élaborés dans la couche de silicium, et cela d'autant plus que cet isolant est épais. Un procédé devenu classique de réalisation d'un substrat SOI est le procédé SIMOX (Separation by IMplanted OXygen). Selon ce procédé, l'isolant est une couche enterrée d'oxyde de silicium SiO2 obtenue par implantation uniforme d'oxygène dans un substrat de silicium. Cette technique est maintenant concurrencée par d'autres procédés du type appelé "Wafer Bonding" selon la terminologie anglo-saxonne, (et que l'on désignera par la suite sous l'appellation d'adhésion moléculaire), par exemple le procédé BSOI (décrit par J. HAISMA et al. dans Jap. J. Appl. Phys., vol. 28, page L 725, 1989) ou le procédé UNIBOND (décrit par M. BRUEL dans Electron. Lett., vol. 31, page 1201, 1995). La technique SIMOX est encore largement utilisée. Elle est basée sur une implantation d'oxygène à très forte dose. Elle permet la fabrication de couches enterrées de silice uniquement pour des épaisseurs comprises entre 100 et 400 nm. L'inconvénient majeur de cette technique est son coût dû à l'implantation ionique à forte dose, et la nécessité de recourir à des équipements non standard en microélectronique. Les techniques de type à adhésion moléculaire ne présentent pas cet inconvénient et permettent en outre, dans le principe, de moduler les épaisseurs de couches ainsi que la nature du matériau constituant l'isolant. Le procédé UNIBOND permet en outre un moindre coût et une meilleurs homogénéité de la couche de silicium. Tous les substrats SOI actuels utilisent la silice amorphe SiO2 comme matériau de base de la couche d'isolant enterré. Ce matériau est un bon isolant, est facile à fabriquer et donne de très bonnes interfaces avec le silicium du fait qu'il possède peu de charges fixes et d'états d'interface. Il a de plus une faible constante diélectrique, ce qui est un facteur favorable pour la rapidité des composants à cause de la diminution des capacités parasites. La silice présente toutefois un gros inconvénient: sa très faible conductibilité thermique qui est de l'ordre de 0,02 W.m'l.K-1. Ceci entraine un échauffement transitoire et localisé important, tout à fait gênant pour le bon fonctionnement des composants. Une méthode pour réduire cet échauffement est de diminuer l'épaisseur de la couche de silice enterrée. Cependant, cette diminution d'épaisseur a pour inconvénients d'une part d'augmenter les capacités parasites (donc de diminuer la rapidité des composants) et, d'autre part, de diminuer la tenue électrique. Par ailleurs, la diminution d'épaisseur de la couche d'isolant n'est pas aisée à obtenir dans la mise en oeuvre des procédés du type à adhésion moléculaire o une bonne qualité de collage est obtenue beaucoup plus facilement avec des couches dont l'épaisseur dépasse 300 nm. Il a donc été envisagé de remplacer la silice par un autre matériau isolant présentant une meilleure conductibilité thermique. Cependant, la résolution des problèmes électriques aux interfaces silicium/isolant avec les matériaux isolants proposes parait extrêmement hasardeuse. De plus, on ne sait pas actuellement fabriquer des substrats SOI avec ces matériaux. On ne sait pas en particulier obtenir un collage isolant/silicium permettant d'obtenir des structures par les techniques d'adhésion moléculaire. Il existe également les structures de type SiC sur silicium ou AsGa sur silicium avec généralement une couche isolante intermédiaire- Ces structures sont souvent utilisées pour la réalisation de composants hyperfréquence de puissance. De ce fait, la dissipation thermique dans le composant est énorme et la conductibilité thermique du silicium et/ou des diélectriques utilisés est insuffisante pour assurer une température de jonction qui ne soit pas rédhibitoire. Exposé de l'invention Pour remédier à ce problème, il est proposé, selon la présente invention, une structure semiconductrice en couche mince possédant plusieurs couches entre la couche superficielle semiconductrice, à partir de laquelle seront élaborés les composants électroniques, et le substrat support de façon à découpler les fonctions de conductibilité thermique et d'isolation électrique. Ce découplage permet d'optimiser, par un choix de matériaux adéquats ces deux fonctions, étant bien entendu que ces matériaux doivent permettre également une bonne qualité d'interface (tenue mécanique). Le matériau en contact avec la couche de semiconducteur doit en outre présenter une interface de bonne qualité électrique. Ainsi, la couche en contact avec la couche superficielle semiconductrice peut être réalisée au moyen d'une couche isolante offrant une bonne isolation électrique et une bonne qualité électrique d'interface. Une couche d'un matériau présentant une conductibilité thermique est utilisée pour remédier au problème de l'échauffement produit par les composants électroniques. Une autre couche peut être utilisée pour assurer la liaison de qualité avec le substrat support si la couche de bonne conductibilité thermique ne le permet pas. Elle peut être de faible conductibilité thermique. Si cette couche est isolante, son rôle peut être également de maintenir une épaisseur suffisante d'isolant de faible permittivité sous la couche superficielle semiconductrice afin de garder de faibles capacités parasites pour les composants électroniques et de permettre un collage aisé dans le cas de l'utilisation de la technique d'adhésion moléculaire. L'invention a donc pour objet une structure semiconductrice en couche mince comprenant une couche superficielle semiconductrice séparée d'un substrat support par une zone intermédiaire, caractérisée en ce que la zone intermédiaire est une multicouche et comprend au moins une couche isolante électriquement et au moins une couche de conductibilité thermique satisfaisante pour assurer un fonctionnement considéré comme correct du ou des dispositifs électroniques qui doivent être élaborés à partir de la couche superficielle semiconductrice, la couche en contact avec la couche semiconductrice présentant en outre une qualité électrique d'interface considérée comme suffisamment bonne avec la couche semiconductrice. De façon avantageuse, la zone intermédiaire doit présenter une épaisseur suffisante d'isolant de faible permittivité pour que les capacités parasites présentes entre la couche superficielle semiconductrice et le substrat soient suffisamment faibles pour assurer un fonctionnement considéré comme correct du ou des dispositifs électroniques qui doivent être élaborés à partir de la couche superficielle semiconductrice, et une adhérence considérée comme satisfaisante avec la couche superficielle semiconductrice d'une part et avec le substrat d'autre part, au moins pendant l'élaboration de la structure. La couche de bonne conductibilité thermique peut ne pas être isolante. Son épaisseur est ajustée en fonction des zones de génération de chaleur dans la couche semiconductrice. Elle peut notamment être multicouche. De façon plus précise, pour que la couche de bonne conductibilité thermique joue efficacement son rôle dans la diffusion de la chaleur générée dans les composants, son épaisseur devra être suffisante. A l'inverse, l'épaisseur de couches intermédiaires éventuelles de relativement faible conductibilité thermique entre cette couche et la couche semiconductrice devra être minimisée. Dans la pratique, les épaisseurs respectives de ces couches nécessaires à un bon fonctionnement thermique dépendront de la taille des composants et de leur fonctionnement (taille des zones de dissipation thermique) et des conductibilités thermiques des différents matériaux (couche semiconductrice, couche dissipatrice, sous-couches et substrat). Selon une première variante, la zone intermédiaire comprend une couche isolante adjacente à ladite couche superficielle semiconductrice et lui conférant ladite qualité électrique d'interface et ladite adhérence satisfaisante, une couche conférant ladite conductibilité thermique satisfaisante, et une couche conférant ladite adhérence satisfaisante avec le substrat si la couche de bonne conductibilité thermique ne le permet pas. Pour une structure SOI, la couche adjacente à la couche superficielle semiconductrice est avantageusement une couche d'oxyde de silicium obtenue, de préférence, par oxydation thermique. De préférence également, pour une structure SOI la couche conférant ladite adhérence satisfaisante avec le substrat est une couche d'oxyde de silicium. La couche conférant la conductibilité thermique satisfaisante peut être constituée d'un matériau choisi parmi le silicium polycristallin, le diamant, l'alumine, le nitrure de silicium, le nitrure d'aluminium, le nitrure de bore, le carbure de silicium. Selon une deuxième variante, la zone intermédiaire comprend une couche en contact avec la couche superficielle semiconductrice destinée à conférer ladite qualité électrique d'interface et ladite adhérence satisfaisante avec ladite couche superficielle, et conférant ladite conductibilité thermique satisfaisante. Cette couche est soit déposée, soit épitaxiée sur la couche superficielle et elle est par exemple une couche de carbure de silicium cubique pour une structure SOI. La zone intermédiaire comprend en outre une couche isolante déposée sur ladite couche de bonne conductibilité thermique et destinée à conférer l'isolation de ladite zone et ladite adhérence satisfaisante avec le substrat. Cette couche est avantageusement en oxyde de silicium pour une structure SOI. L'invention a aussi pour objet un procédé de réalisation d'une structure semiconductrice comprenant une couche superficielle semiconductrice séparée d'un substrat support par une zone intermédiaire, caractérisé en ce qu'il comprend les étapes suivantes: - fabrication sur une face d'un premier substrat d'une première couche d'un matériau présentant avec le premier substrat une qualité électrique d'interface considérée comme suffisamment bonne, - dépôt sur la couche fabriquée sur ladite face du premier substrat d'une deuxième couche de matériau, la première ou la deuxième couche possédant une conductibilité thermique satisfaisante pour assurer un fonctionnement considéré comme correct du ou des dispositifs électroniques qui doivent être élaborés à partir de la couche superficielle, la première et/ou la deuxième couche étant en outre isolante, - fabrication éventuellement d'une couche de collage sur un deuxième substrat destiné à constituer le substrat support de la structure, la couche de collage étant destinée à permettre un collage par adhésion moléculaire du deuxième substrat sur ladite face du premier substrat revêtue desdites première et deuxième couches de matériau, collage par exemple par adhésion moléculaire du premier et du deuxième substrat, procurant ainsi ladite zone intermédiaire, - réduction de l'épaisseur du premier substrat jusqu'à obtenir ladite couche superficielle. La couche de collage est avantageusement une couche d'oxyde de silicium obtenue par oxydation thermique pour une structure SOI. De même, la première couche est par exemple une couche isolante fabriquée sur ladite face du premier substrat, avantageusement une couche d'oxyde de silicium obtenue par oxydation thermique. La deuxième couche est par exemple la couche possédant une conductibilité thermique satisfaisante. Elle peut être une couche d'un matériau choisi parmi le silicium polycristallin déposé par LPCVD, le diamant déposé par PECVD, l'alumine déposée par pulvérisation cathodique réactive, le nitrure de silicium déposé par CVD, le nitrure d'aluminium déposé par CVD, le nitrure de bore déposé par CVD, du carbure de silicium déposé par CVD ou toute autre couche d'un matériau de bonne conductibilité thermique. Une couche de collage peut être également déposée sur ladite face du premier substrat revêtue desdites première et deuxième couches de matériau afin de contribuer au collage par adhésion moléculaire avec la couche de collage fabriquée sur le deuxième substrat. Cette couche de collage est avantageusement une couche d'oxyde de silicium déposée, par exemple, par CVD. La réduction de l'épaisseur du premier substrat peut être obtenue par l'utilisation d'une ou plusieurs techniques parmi: la rectification, l'attaque chimique, le polissage, la séparation suite à un traitement thermique le long d'un plan de clivage induit par implantation ionique. La fabrication de la première couche peut être obtenue par dépôt, épitaxie, oxydation,..., suivant la nature du matériau de ladite couche. L'invention a encore pour objet un procédé de réalisation d'une structure semiconductrice comprenant une couche superficielle semiconductrice séparée d'un substrat support par une zone intermédiaire, caractérisé en ce qu'il comprend les étapes suivantes: - épitaxie sur une face d'un premier substrat d'une première couche, - dépôt sur la première couche épitaxiée d'une deuxième couche, l'une des première ou deuxième couches possédant une conductibilité thermique satisfaisante pour assurer un fonctionnement considéré comme correct du ou des dispositifs électroniques qui doivent être élaborés à partir de la couche superficielle semiconductrice, l'autre des première et deuxième couches étant isolante et destinée à conférer à la zone intermédiaire une épaisseur suffisante d'isolant de faible permittivité pour que les capacités parasites présentes entre la couche superficielle semiconductrice et le substrat support soient suffisamment faibles pour assurer un fonctionnement considéré comme correct du ou des dispositifs électroniques qui doivent être élaborés dans la couche superficielle semiconductrice, et destinée à être rendue solidaire, par adhésion moléculaire, avec une adhérence considérée comme satisfaisante avec le substrat support, - implantation ionique, par des ions hydrogène, du premier substrat au travers des couches revêtant ladite face pour y induire, à une distance de ladite face correspondant à l'épaisseur de la couche superficielle semiconductrice, un plan de clivage le long duquel une séparation en deux parties du premier substrat pourra être obtenue grâce à un traitement thermique, solidarisation, par ladite adhésion moléculaire, du substrat support et du premier substrat revêtu desdites première et deuxième couches, traitement thermique afin d'obtenir ladite séparation en deux parties du premier substrat. La première couche épitaxiée peut être une couche de carbure de silicium cubique. L'implantation ionique mise en oeuvre peut être utilisée pour contribuer à parfaire l'isolation électrique de la couche de carbure de silicium cubique. Avantageusement, la deuxième couche déposée sur la couche épitaxiée est une couche d'oxyde de silicium. il Brève description des dessins L'invention sera mieux comprise et d'autres avantages et particularités apparaîtront à la lecture de la description qui va suivre, donnée à titre d'exemple non limitatif, accompagnée des figures annexées parmi lesquelles: - la figure 1 montre, en vue transversale, une structure semiconductrice à couche de répartition de chaleur selon la présente invention, - les figures 2A à 2D illustrent différentes étapes d'un premier procédé de réalisation d'une structure semiconductrice selon la présente invention, - les figures 3A et 3B illustrent différentes étapes d'un deuxième procédé de réalisation d'une structure semiconductrice selon la présente invention. Description détaillée de modes de réalisation de l'invention La figure 1 montre un premier exemple de structure semiconductrice selon l'invention. Cette structure comporte un substrat support 1 par exemple en silicium, une couche superficielle 2 en silicium et une zone intermédiaire 3. La zone intermédiaire 3 comporte au moins une couche 4 de bonne conductibilité thermique, une couche isolante 5 conférant une bonne qualité électrique de l'interface avec la couche semiconductrice superficielle 2 et une couche isolante 6, pouvant être de faible conductibilité thermique, adhérant au substrat support 1. Dans le cas d'une structure SOI mettant en oeuvre le procédé d'adhésion moléculaire, on peut en particulier réaliser la couche 6 en silice. Cette couche 6 peut bien sûr être une multicouche. Lorsque la couche 4 de bonne conductibilité thermique permet d'avoir directement une bonne interface électrique avec la couche superficielle en silicium 2, la couche 5 peut être omise. On peut également, si la couche 4 présente une bonne adhérence au substrat 1, omettre la couche 6. A titre d'exemple, on peut avoir un empilement du type couche superficielle 2 en SiC - couche 5 en SiO2 - couche 4 en SiC - support 1. La structure selon l'invention permet de garder les matériaux et les épaisseurs permettant à la fois une fabrication aisée et un bon fonctionnement des dispositifs électroniques qui seront réalisés sur ou dans la couche superficielle semiconductrice. La couche 4 (ou les couches 4) agit comme répartiteur de la chaleur et permet de diminuer l'élévation de la température au niveau du dispositif émetteur de chaleur tout en permettant de garder la ou les couches sous-jacentes de faible conductibilité thermique et de relativement forte épaisseur. La couche isolante 5 peut également être une multicouche isolante. L'intérêt de l'invention du point de vue thermique peut être montré grâce à l'exemple suivant se rapportant à une structure SOI. On suppose un échauffement localisé de 0,2 lm de diamètre, correspondant à peu près à l'échauffement créé par un transistor de génération avancée. On a calculé l'échauffement résultant en fixant la nature (silice) et l'épaisseur des matériaux des couches 5 et 6 (respectivement 0,1 et 0,3 Dm) et on a fait varier la nature et l'épaisseur de la couche 4. On a utilisé pour cela un modèle très simple, assimilant la structure à une structure hémisphérique. On constate que l'adjonction d'une couche de répartition 4 d'épaisseur modérée (de l'ordre de la dimension du dispositif électronique) fabriquée dans des matériaux divers de conductibilités thermiques variées, mais néanmoins toujours supérieures à celles de la silice, permet de s'approcher assez vite de l'échauffement correspondant à la présence de la seule couche de silice 5 de 0,1 pm d'épaisseur. Du point de vue rapidité du dispositif électronique, on a intérêt à choisir pour la couche 4 un matériau isolant et si possible de faible constante diélectrique. Ceci permet en effet de diminuer les capacités et les pertes diélectriques. Un premier procédé de réalisation d'une structure semiconductrice selon la présente invention va maintenant être décrit en relation avec les figures 2A à 2D. La figure 2A montre un premier substrat 10 par exemple en silicium ou en SiC sur une face duquel on a fabriqué une couche 15 d'un matériau isolant présentant avec le substrat 10 une qualité électrique d'interface considérée comme suffisamment bonne. De préférence, la couche 15 est une couche de silice obtenue par oxydation thermique. On dépose ensuite sur la couche 15 une couche 14 possédant une conductibilité thermique satisfaisante. Parmi les matériaux susceptibles d'être utilisés, on peut citer le silicium polycristallin déposé par LPCVD, le diamant déposé par PECVD, l'alumine déposé par pulvérisation cathodique réactive à partir d'une cible d'aluminium, le nitrure de silicium, le nitrure d'aluminium, le nitrure de bore déposés par CVD et le SiC déposé par CVD. Sur la couche 14, on peut éventuellement déposer une couche de collage 16', de préférence une couche de silice déposée par exemple par CVD, sauf si la couche 14 permet un collage direct avec un deuxième substrat 11. Le substrat en silicium 10 présente une couche 17 de microcavités disposée parallèlement à la face du substrat sur laquelle ont été obtenues les couches isolantes 15, 14 et 16'. Cette couche de microcavités 17 délimite dans le substrat 10 une couche 12 destinée à devenir la couche superficielle semiconductrice de la structure. Les microcavités ont été obtenues par implantation ionique d'hydrogène dans les conditions décrites dans le document FR-A-2 681 472 afin d'obtenir une séparation en deux parties du substrat 10 le long d'un plan de clivage lors d'un traitement thermique postérieur. L'opération d'implantation ionique peut être effectuée avant ou après l'obtention des couches isolantes 15, 14 et 16' ou entre le dépôt de l'une de ces couches et le dépôt d'une autre couche. La figure 2B montre un deuxième substrat 11 par exemple en silicium, servant de substrat support, sur une face duquel on a fabriqué une couche de collage 16". Cette couche de collage est de préférence une couche de silice réalisée par oxydation thermique. Elle n'est nécessaire que si la nature du substrat 11 ne permet pas un collage direct avec la couche 16' (ou avec la couche 14 en l'absence de couche 16'). La figure 2C illustre l'étape de collage, par adhésion moléculaire, des deux substrats par mise en contact des faces libres et préparées des couches de collage 16' et 16". Un traitement thermique approprié (voir le document FR-A-2 681 472) permet ensuite d'obtenir la séparation en deux parties du substrat 10 le long de la couche de microcavités 17. On obtient alors la structure représentée à la figure 2D, qui est une structure SOI comprenant un substrat support 11 et une couche superficielle 12 en silicium séparés par une zone intermédiaire 13. La zone 13 comprend une couche d'interface électrique 15, une couche 14 de conductibilité thermique satisfaisante et une bicouche 16 (formée des couches 16' et 16" en silice) assurant une bonne adhérence avec le substrat 11. La face libre de la couche superficielle 12 peut ensuite être conditionnée par polissage et nettoyage. Dans cet exemple de réalisation, la couche 14 aurait pu être réalisée directement sur le substrat 11il et le report de cet ensemble effectué par collage sur le premier substrat surmonté de la couche 15. Une couche d'adhérence 16 peut être déposée sur la couche 14 avant report. Un deuxième procédé de réalisation d'une structure semiconductrice selon la présente invention va maintenant être décrit en relation avec les figures 3A et 3B. La figure 3A montre un premier substrat 20 par exemple en silicium sur une face duquel on a réalisé, par exemple par épitaxie un matériau de bonne conductibilité thermique pour obtenir une couche correspondante 24. Le matériau épitaxié peut être du carbure de silicium cubique élaboré selon les techniques connues. Sur la couche 24, on dépose ensuite une couche isolante 26, par exemple une couche de silice. Comme précédemment le substrat en silicium présente une couche 27 de microcavités disposée parallèlement à la face du substrat sur laquelle ont été déposées les couches isolantes 24 et 26. Cette couche de microcavités 27 délimite dans le substrat 20 une couche 22 destinée à devenir la couche superficielle semiconductrice de la structure SOI. Comme précédemment, la couche 27 de microcavités a été réalisée dans les conditions décrites dans le document FR-A-2 681 472. Un deuxième substrat 21 par exemple en silicium, servant de substrat support, a été préparé. On réalise ensuite le collage des deux substrats, par adhésion moléculaire, par mise en contact de la face libre de la couche 26 (voir la figure 3A) avec une face libre du substrat 21. Le résultat obtenu est représenté à la figure 3B. Une étape de traitement thermique approprié permet ensuite d'obtenir la séparation en deux parties du substrat 20 le long de la couche de microcavités 27. Dans cet exemple de réalisation, il est avantageux de réaliser l'étape d'implantation ionique après l'épitaxie de la couche isolante 24. En effet, l'implantation ionique d'hydrogène dans le carbure de silicium, lorsque ce matériau est utilisé, rend celui-ci parfaitement isolant. Ceci permet d'obtenir une structure SOI de la qualité requise. On constate aussi que, dans cet exemple de réalisation, il n'y a pas de couche particulière pour obtenir l'interface électrique avec la couche de silicium superficielle. En effet, la couche 24 de bonne conductibilité thermique étant obtenue par épitaxie, l'interface avec la couche superficielle semiconductrice est a priori de qualité électrique satisfaisante. REVENDICATIONS 1. Structure semiconductrice en couche mince comprenant une couche superficielle semiconductrice (2, 12, 22) séparée d'un substrat support (1, 11, 21) par une zone intermédiaire (3, 13, 33), caractérisée en ce que la zone intermédiaire (3, 13, 33) est une multicouche et comprend au moins une couche isolante électriquement et au moins une couche de conductibilité thermique satisfaisante pour assurer un fonctionnement considéré comme correct du ou des dispositifs électroniques qui doivent être élaborés à partir de la couche superficielle semiconductrice (2, 12, 22), la couche en contact avec la couche semiconductrice présentant en outre une qualité électrique d'interface considérée comme suffisamment bonne avec la couche semiconductrice. 2. Structure semiconductrice selon la revendication 1, caractérisée en ce que la zone intermédiaire présente une épaisseur suffisante d'isolant de faible permittivité pour que les capacités parasites présentes entre la couche superficielle semiconductrice (2, 12, 22) et le substrat (1, 11, 21) soient suffisamment faibles pour assurer un fonctionnement considéré comme correct du ou des dispositifs électroniques qui doivent être élaborés à partir de la couche superficielle semiconductrice (2, 12, 22). 3. Structure semiconductrice selon l'une des revendications 1 ou 2, caractérisée en ce que la zone intermédiaire présente une adhérence considérée comme satisfaisante avec la couche superficielle semiconductrice (2, 12, 22) d'une part et avec le substrat (1, 11, 21) d'autre part, au moins pendant l'élaboration de la structure. 4. Structure semiconductrice selon la revendication 3, caractérisée en ce que la zone intermédiaire (3, 13) comprend une couche (5, 15) isolante adjacente à ladite couche superficielle semiconductrice (2, 12) et lui conférant ladite qualité électrique d'interface et ladite adhérence satisfaisante, une couche (4, 14) conférant ladite conductibilité thermique satisfaisante, et une couche (6, 16) conférant ladite adhérence satisfaisante avec le substrat (1, 11). 5. Structure semiconductrice selon la revendication 4, caractérisée en ce que, la structure semiconductrice étant une structure SOI, la couche (5, ) adjacente à ladite couche superficielle semiconductrice (2, 12) est une couche d'oxyde de silicium. 6. Structure semiconductrice selon la revendication 5, caractérisée en ce que la couche (5, ) adjacente à ladite couche superficielle semiconductrice (2, 12) est une couche d'oxyde de silicium obtenue par oxydation thermique. 7. Structure semiconductrice selon l'une quelconque des revendications 4 à 6, la structure semiconductrice étant une structure SOI, caractérisée en ce que la couche (6, 16) conférant ladite adhérence satisfaisante avec le substrat (1, 11) est une couche d'oxyde de silicium. 8. Structure semiconductrice selon l'une quelconque des revendications 4 à 7, caractérisée en ce que la couche (4, 14) conférant ladite conductibilité thermique satisfaisante est constituée d'un matériau choisi parmi le silicium polycristallin, le diamant, l'alumine, le nitrure de silicium, le nitrure d'aluminium, le nitrure de bore et le carbure de silicium. 9. Structure semiconductrice selon la revendication 3, caractérisée en ce que la zone intermédiaire (23) comprend une couche (24) en contact avec la couche superficielle semiconductrice (22) et destinée à conférer ladite qualité électrique d'interface et ladite adhérence satisfaisante avec ladite couche superficielle semiconductrice (22), et conférant ladite conductibilité thermique satisfaisante. 10. Structure semiconductrice selon la revendication 9, caractérisée en ce que, la structure semiconductrice étant une structure SOI, ladite couche (24) en contact avec la couche superficielle semiconductrice (22) est une couche de carbure de silicium cubique. 11. Structure semiconductrice selon l'une des revendications 9 ou 10, caractérisée en ce que la zone intermédiaire (23) comprend en outre une couche isolante (26) disposée sur ladite couche de conductibilité thermique satisfaisante et destinée à conférer l'isolation de ladite zone et ladite adhérence satisfaisante avec le substrat (21). 12. Structure semiconductrice selon la revendication 11, caractérisée en ce que, la structure semiconductrice étant une structure SOI, la couche (26) déposée sur ladite couche de conductibilité thermique satisfaisante est une couche d'oxyde de silicium. 13. Procédé de réalisation d'une structure semiconductrice comprenant une couche superficielle semiconductrice (12) séparée d'un substrat support (11) par une zone intermédiaire (13), caractérisé en ce qu'il comprend les étapes suivantes: - fabrication sur une face d'un premier substrat (10) d'une première couche d'un matériau (15) présentant avec le premier substrat (10) une qualité électrique d'interface considérée comme suffisamment bonne, - dépôt sur la couche (15) fabriquée sur ladite face du premier substrat (10) d'une deuxième couche de matériau (14), la première ou la deuxième couche possédant une conductibilité thermique satisfaisante pour assurer un fonctionnement considéré comme correct du ou des dispositifs électroniques qui doivent être élaborés à partir de la couche superficielle (12), la première et/ou la deuxième couche étant en outre isolante, - collage du premier substrat (10), du côté de ladite face, sur un deuxième substrat (11) destiné à constituer le substrat support de la structure, procurant ainsi ladite zone intermédiaire, réduction de l'épaisseur du premier substrat (10) jusqu'à obtenir ladite couche superficielle (12). 14. Procédé de réalisation d'une structure semiconductrice comprenant une couche superficielle semiconductrice séparée d'un substrat support par une zone intermédiaire, caractérisé en ce qu'il comprend les étapes suivantes: - fabrication sur une face d'un premier substrat d'une première couche d'un matériau présentant avec le premier substrat une qualité électrique d'interface considérée comme suffisamment bonne, - dépôt, sur une face d'un deuxième substrat destiné à constituer le substrat support de la structure, d'une deuxième couche de matériau, la première ou la deuxième couche possédant une conductibilité thermique satisfaisante pour assurer un fonctionnement considéré comme correct du ou des dispositifs électroniques qui doivent être élaborés à partir de la couche superficielle, la première et/ou la deuxième couche étant en outre isolante, - collage du premier substrat sur le deuxième substrat, du côté desdites faces, procurant ainsi ladite zone intermédiaire. 15. Procédé selon l'une des revendications 13 ou 14, caractérisé en ce que le collage du premier substrat (10) sur le deuxième substrat (11) est réalisé par adhésion moléculaire. 16. Procédé selon la revendication 15, caractérisé en ce qu'une couche de collage (16") a été fabriquée sur le deuxième substrat (11), la couche de collage (16") étant destinée à permettre ledit collage par adhésion moléculaire. 17. Procédé selon la revendication 16, caractérisé en ce que la couche de collage (16") fabriquée sur le deuxième substrat (11) est une couche d'oxyde de silicium obtenue par oxydation thermique. 18. Procédé selon l'une quelconque des revendications 13 à 17, caractérisé en ce que la première couche (15) fabriquée sur ladite face du premier substrat (10) est une couche d'oxyde de silicium obtenue par oxydation thermique. 19. Procédé selon l'une quelconque des revendications 13 à 18, caractérisé en ce que la couche possédant une conductibilité thermique satisfaisante est une couche d'un matériau choisi parmi le silicium polycristallin déposé par LPCVD, le diamant déposé par PECVD, l'alumine déposée par pulvérisation cathodique réactive, le nitrure de silicium déposé par CVD, le nitrure d'aluminium déposé par CVD, le nitrure de bore déposé par CVD et le carbure de silicium déposé par CVD. 20. Procédé selon l'une quelconque des revendications 13 à 19, caractérisé en ce qu'une couche de collage (16') est également déposée sur le premier substrat (10) du côté de ladite face afin de contribuer au collage par adhésion moléculaire avec le deuxième substrat (11). 21. Procédé selon la revendication 20, caractérisé en ce que la couche de collage (16') déposée sur le premier substrat (10) est une couche d'oxyde de silicium. 22. Procédé selon la revendication 21, caractérisé en ce que la couche de collage (16') déposée sur le premier substrat (10) est une couche d'oxyde de silicium déposée par CVD. 23. Procédé selon l'une quelconque des revendications 13 à 22, caractérisé en ce que la réduction de l'épaisseur du premier substrat (10) est obtenue par l'utilisation d'une ou plusieurs techniques parmi: la rectification, l'attaque chimique, le polissage, la séparation suite à un traitement thermique le long d'un plan de clivage induit par implantation ionique. 24. Procédé de réalisation d'une structure semiconductrice comprenant une couche superficielle semiconductrice (22) séparée d'un substrat support (21) par une zone intermédiaire (23), caractérisé en ce qu'il comprend les étapes suivantes: - épitaxie sur une face d'un premier substrat (20) d'une première couche (24), - dépôt sur la première couche épitaxiée (24) d'une deuxième couche (26), l'une des première ou deuxième couches possédant une conductibilité thermique satisfaisante pour assurer un fonctionnement considéré comme correct du ou des dispositifs électroniques qui doivent être élaborés à partir de la couche superficielle semiconductrice (22), l'autre des première et deuxième couches étant isolante et destinée à conférer à la zone intermédiaire (23) une épaisseur suffisante d'isolant de faible permittivité pour que les capacités parasites présentes entre la couche superficielle semiconductrice (22) et le substrat support (21) soient suffisamment faibles pour assurer un fonctionnement considéré comme correct du ou des dispositifs électroniques qui doivent être élaborés à partir de la couche superficielle semiconductrice (22), et destinée à être rendue solidaire, par adhésion moléculaire, avec une adhérence considérée comme satisfaisante avec le substrat support (21), - implantation ionique, par des ions hydrogène, du premier substrat (20) au travers des couches (24, 26) revêtant ladite face pour y induire, à une distance de ladite face correspondant à l'épaisseur de la couche superficielle semiconductrice (22), un plan de clivage le long duquel une séparation en deux parties du premier substrat (20) pourra être obtenue grâce à un traitement thermique, - solidarisation, par ladite adhésion moléculaire, du substrat support (21) et du premier substrat (20) revêtu desdites première et deuxième couches (24, 26), - traitement thermique afin d'obtenir ladite séparation en deux parties du premier substrat (20). 25. Procédé selon la revendication 24, caractérisé en ce que la première couche (24) épitaxiée sur ladite face du premier substrat (20) est une couche de carbure de silicium cubique. 26. Procédé selon la revendication 25, caractérisé en ce que ladite implantation ionique contribue à parfaire l'isolation électrique de la couche de carbure de silicium cubique (24). 27. Procédé selon l'une quelconque des revendications 24 à 26, caractérisé en ce que la deuxième couche (26) déposée sur la couche épitaxiée (24) est une couche d'oxyde de silicium.