Brevet FR2760742A1 — publié le 19980918

La présente invention a pour objcts un procédé de densification d'une structure poreuse avec circulation du précurseur et un dispositif utile à la mise en oeuvre dudit procédé. La présente invention constituc un perfectionnement à la technique de base dite de "densification par caléfaction ou densification rapide" selon laquelle les structures poreuses à densifier sont maintenues immergées dans un hydrocarbure liquidc et l'cnsemble structure poreuse/hydrocarbure liquide est chauffé (le chauffage mis en oeuvre est généralement un chauffage inductif et/ou résistif). Ladite technique de base, décrite notamment dans la demande FR-A-2 516 914 (déposée le 26 novembre 1981), permet d'obtenir des densifications, par du carbone, en un temps beaucoup plus court qu'avec les procédés classiques, tels: - I'infiltration chimique cn phase vapeur (dite CVI) (procédé selon lequel on place la structure à densifier dans un courant gazeux et on porte l'ensemble à une température élevée dc sorte que le carbone obtenu par décomposition dudit gaz (précurseur) se dépose en partie dans les vides de la structure. Les gaz les plus souvent employés sont le méthane, Ic propanc, le benzène et des hydrocarbures à bas poids moléculaire. Les procédés industricls emploient principalement le méthane); ou - l'imprégnation par des brais (procédé selon lequel on plongc la structure à densifier dans un bain liquide dc brai ct on pyrolyse cnsuite cn statique ledit brai). Ladite technique dc base a par ailleurs élargi son champ d'application, dans la mesure où elle a été adaptée pour mettre cn oeuvre des densifications par des composés céramiques (voir notamment FR-A-2 712 884). Elle test, dans cc contexte. aussi, révélée beaucoup plus performante que l'imprégnation par des polymères précurseurs dc ccramiqucs. La mise cn oeuvre dc ladite technique de base - performante - ne se révèle toutcfois pas optimisée à cc jour. II cxistc notamment de réels problèmes quant à l'homogénéité des dépôts, dc carbone ou dc céramique, entre le haut ct Ic bas d'une pièce traitée; problèmes d'autant plus aigus que la hauteur dc ladite pièce est importante. En effet, lors dc la mise en oeuvre dc ladite technique de base, Ic précurseur liquide est vaporisé à l'intérieur dc la structure poreuse (piècc) à densifier. Une partie de la vapeur (environ 10 %, dans Ic cas du cyclohexane à 1 100 C) est craquée au contact de la partie la plus chaude. La convection naturelle, engendrée par les gradients thermiques et de pression, conduit à l'expulsion, hors de la structure poreuse, de la vapeur surchauffée et des gaz de décomposition (de l'hydrogène ct des hydrocarbures légers principalement). Ces gaz et cette vapeur produits sous forme de bulles sur l'ensemble dc la surface de la pièce immergée remontrent Ic long de celle-ci, au travers du précurseur liquide, vers le haut du réacteur. La quantité de gaz et de vapeur mélangée au liquide précurseur croit donc du bas de la pièce au haut de celle-ci. La présence de ce gaz et/ou de cette vapeur est néfaste au bon déroulement du procédé de densification. Un obstacle est ainsi créé à la pénétration du précurseur dans la partie haute de la pièce (structure poreusc) traitée. Dans cette partie haute, on observe donc une concentration en précurseur plus faible ct de plus, une température plus élevée et un gradient thermique plus faible dans la zone de densification (la température et les gradients thermiques dépendant, en effet, fortement de l'évacuation des calories provenant de l'évaporation et du chauffage de la vapeur). Les conditions de dépôt deviennent donc généralement, à partir d'une certaine température, hétérogènes, avec une augmentation de l'écart de vitesse de densification entre Ic haut ct le bas de la pièce traitée. En effet, plus la pièce possède une hauteur importante, plus la quantité de gaz et vapeur est élevée cn partie haute. Dès une hauteur d'unc vingtainc de centimètres, ces perturbations dcvicnnent importantes à partir dc 1 150 - 1 200 .C. Pour une hauteur dc 50 cm, dans les mêmes conditions (même réacteur, même type de pièce), on obticnt des perturbations similaires dès 1 050-C. Dans des conditions extrêmcs, apparaissant pour une température limite, qui est fonction dc la pièce ct de la configuration du réacteur, il sc forme un bouchon dc gaz qui enveloppe la pièce ct le précurseur nc peut plus pénétrer dans la structure de manière satisfaisantc. En référence à cc problème d'homogénéité du dépôt ct/ou cn vue d'augmenter la vitesse dudit dépôt, on a déjà propose selon l'art antérieur, des adaptations ct/ou modifications à ladite technique dc base dc caléfaction, ainsi qu aux procédés classiqucs, notamment à la CVI. Lesdites adaptations et/ou modifications, présentées brièvement ci-après n'ont cn ricn suggéré le perfcctionncmcnt à ladite technique dc base, principal objet dc l'invention présentement revendiquée, décrit en détail plus avant dans Ic présent tcxtc. Pour améliorer la technique d'infiltration chimique en phasc vapeur (CVI), on a proposé - la création de gradients thermiques ("thermal gradient CVI"); - I'établissement d'une différence de pression ("forced flow CVI" or "pressure gradient CVI") - la génération de pulsations en pression et/ou débit, pour l'envoi du gaz précurseur ("pulsed CVI"). Des améliorations à la technique de base (caléfaction), principalement mise en oeuvre pour des densifications par du carbone, ont été proposées dans les brevets US-A-5,389,152 et US-A-5,547,717. Plus précisément, dans ledit brevet US-A-5,389,152, afin de remédicr aux problèmes d' hétérogénéité, il a été proposé les adaptations suivantes: - des inducteurs conçus de manière à générer des puissances de chauffage inductif différentes suivant les parties de la pièce traitée (afin de compenser les variations d'échanges thermiques suivant la hauteur); - I'emploi, en complément du chauffage inductif, d'un chauffage résistif; - le chauffage, de manière pulsée, de la pièce traitée (afin de permettre aux gaz de s'échapper et donc au précurseur liquide de diffuser plus facilement). Ces adaptations, proposées dans le même but que le principal objet de la présente invention, ne fonctionnent pas sur le même principe que celui-ci, comme cela va apparaître clairement à l'homme du métier à la considération de ce qui suit Elles ne sont par ailleurs pas d'une mise en oeuvre très simple; elles demandent notamment une mise au point différente pour chaque nouveau type d'échantillon. Dans le cadre de la présente invention, la Demanderesse propose une modification tcchnologique (un perfectionnement) originale audit procédé de base de densification par caléfaction d'une structure poreuse. Ladite modification peut intervenir aussi bien dans le cadre d'unc densification par du carbone que dans le cadre d'une densification par Un composé céramique; le précurseur intervenant étant choisi cn conséquence. Le procédé dc densification d'unc structure poreuse, premier objet de la présente invention, comprcnd donc, dc façon classique le mainticn dc ladite structure poreuse immergée dans un précurseur liquide ct le chauffage de l'ensemble structure poreuse/précurseur liquide dc sorte que le produit de décomposition - solide - dudit précurseur liquide se dépose en partie dans les pores de ladite structure poreuse. De façon caractéristique, il est mis en oeuvre avec ledit précurseur liquide qui circule verticalement, à un débit élevé, avantageusement selon un mouvcmcnt ascendant. Cette circulation, à débit élevé, du précurseur liquide, dans le réacteur (renfermant ledit précurseur liquide et la structure poreuse traitée, immergée en son sein) est particulièrement avantageuse, en référence aux problèmes techniques présentés en amont. Elle augmente en effet de manière importante l'évacuation des gaz de craquage et de la vapeur générés au sein de la structure, ce qui conduit à une meilleure diffusion du précurseur au sein de ladite structure et permet donc de corriger le caractère hétérogène de la densification qui se manifestc, classiquement, sur des pièces d'une hauteur supérieure à une vingtaine de centimètres. Il en résulte un gain important tant pour l'homogénéité des dépôts, que pour les vitesses de densification et les rendements. On a, dans le cadre de la présente invention, obtenu des densifications homogènes, même pour des pièccs de hauteur importantes, jusqu'à des températures supérieures à 1 00il. Les vitesses de densification ct les rendements en carbone augmentant de manière importante avec la température, cette modification est très importante du point de vue économique du procédé. A titre de comparaison, avec le cyclohexane comme précurseur, lorsque l'on peut travailler à 1 2000C au lieu de 1 000.C, l'on gagne un facteur 3 sur le rendemcnt et un facteur 10 sur la vitesse de densification. La circulation (selon un axe vcrtical à l'intérieur du réactcur) originale du précurseur liquide se fait, pour des raisons évidentes à l'homme du métier, avantageusement cn circuit bouclé; ledit circuit comportant évidemment les moyens adéquats pour l'évacuation des gaz de réaction ainsi qu'avantageusement des moyens de récupération, à l'état liquide, dudit précurseur liquide vaporisé ct/ou entraîné - sous forme d'aérosol - par lesdits gaz dc réaction. ladite circulation du précurseur liquide peut être mise en oeuvre selon différentes variantcs. Selon une première variante, il peut s'agir d'une circulation forcée, faisant intervenir des moyens dc pompage. Lcsdits moyens de pompage sont susceptibles de faire circuler ledit précurseur liquide, à l'intérieur du réacteur aussi bien du bas vers le haut que du haut vers le bas. Selon une seconde variante, ledit précurseur liquide peut circuler par convection naturcllc (principe du thermosiphon). Dans le cadre dc cette sccondc variante, ledit précurseur liquide ne circule à l'intérieur du réacteur que du bas vers le haut. Cc second mode de circulation du précurseur liquide est particulièrement préféré dans la mcsurc où il est d'une mise en oeuvre aisée ct peut permettre d'obtenir des débits élevés. Le dimensionnement des conduits de l'installation à prévoir pour une telle mise en oeuvre est obtenu par un calcul classique d'hydrodynamique, familier à l'homme du métier. On a indiqué que la circulation originale dudit précurseur liquide se fait, dans le cadre du procédé de l'invention, à un débit élevé. En effet, une telle circulation n'a rien à voir avec la pseudo-circulation qui se met en place, en fonctionnement classique, lorsque le précurseur vaporisé et/ou entraîné par les gaz de réaction est recyclé dans le réacteur. De façon nullement limitative, on peut préciser ici que ladite circulation est généralement mise en oeuvre dans le procédé de l'invention à un débit compris entre 1 l/min ct 3001/min pour environ 1 000 cm2 de surface de structure poreuse à densifier. Dans le cadre du procédé de caléfaction amélioré selon la présente invention par la circulation du précurseur liquide, la Demanderesse propose d'autres innovations. Le chauffage mis en oeuvre pour assurer la décomposition du précurseur utilisé dans le procédé de l'invention peut faire intervenir tout type de moyens. Il s'agit généralement d'un chauffage inductif ou d'un chauffage résistif, voire d'un chauffage inductif ct/ou résistif. La combinaison de ces deux types de chauffage (i.e. l'intervention conjointc dc moyens distincts, adéquats, pour assurer d'une part un chauffage par induction ct d'autrc part un chauffage par effet Joule) fait partie intégrante du cadre dc la présente invention. Toutefois, la Demanderesse préconise plutôt de mettre cn oeuvre le procédé dc l'invention soit avec un chauffage inductif soit avec un chauffage résistif. Lc chauffage inductif est particulièrement préconisé. La mise cn oeuvre d'un tel chauffage inductif fait avantageusement intervenir un susceptcur. L'homme du métier n'ignorc pas a priori l'intérêt d'un tel susccptcur (bicn évidemment en un matériau adéquat pour qu'il puissc ctrc chauffé par induction). La structure poreuse à densifier cst maintenue au contact dudit suscepteur. Un tel contact structure poreuse à densificr/susccptcur peut sc décliner selon plusicurs variantes. La surface dc contact peut notamment être planc ou courbe. On peut ainsi "associer" une structure poreuse planc ct un susccpteur plan, deux structures porcuscs planes de part et d'autre d'un susccptcur plan, une structure poreuse en forme dc manchon et un susccptcur cylindrique On rappelle incidemment ici que le procédé dc l'invention peut tout-àfait inclurc un chauffage inductif, sans faire intervenir dc susccpteur, dans des conditions électromagnétiques dc couplage différentes. Ccci se conçoit aisément pour l'homme du métier. Pour la mise en oeuvre d'un chauffage résistif, la structure poreuse à densifier peut constituer elle-même le résistor. Toutefois, il est généralement avantageux (au vu notamment de la nature de la pièce à densifier, de son épaisseur...) de faire intervenir un résistor, séparé, isolé électriquement de ladite structure poreuse à densifier. Ainsi trouve-t-on généralement entre un tel résistor et ladite structure poreuse, un isolant électrique, aussi bon conducteur thermique que possible, par exemple en nitrure de bore. On parle alors d'un quasi contact entre ladite structure et ledit résistor. Ledit quasi contact structure poreuse à densifier/résistor peut lui aussi sc décliner selon plusieurs variantes ; la surface de quasi contact pouvant elle aussi être notamment plane ou courbe. On peut aussi trouver au quasi contact d'un résistor plan une (deux) structure(s) poreuse(s) plane(s), au quasi contact d'un résistor cylindrique une structure poreuse en forme de manchon. Ledit contact ou quasi contact, suscepteur/structure poreuse à densifier, résistor/structure poreuse à densifier, pouvant poser des problèmes (d'autant plus aigus qu'il est plus intime ; par exemple, dans le cas où la structure poreuse, de forme tubulaire, entoure ledit susccptcur ou ledit résistor) - lors du refroidissement, en fin de procédé (apparition de fissures dans la structure poreuse densifiée cn raison des différences entre le coefficient de dilatation de ladite structure ct celui dudit suscepteur ou celui dudit résistor) et - lors de la récupération dc la structure poreuse densifiée (lors de sa désolidarisation dudit susccptcur ou dudit résistor), à l'issue dudit procédé la Demanderesse a trouve particulièrement opportun dc faire intervenir entre ladite structure poreuse et ledit susccptcur ou ledit résistor un joint dc dilatation. Un tel joint, pour dévcloppcr son action bénéfique présente généralement une épaisseur d'au moins 1 mm. Il présente avantageusement une épaisseur d'au moins 3 mm. Un tel joint peut avantageusement consistcr en du papier graphite. L'intervention d'un tel joint nc se révèle bien sûr opportunc que dans les contextes où intervient un suscepteur ct/ou un résistor. Elle est a fortiori opportunc, comme mentionné plus haut, lorsque la structure poreuse traitée cntourc ledit susccptcur ct/ou ledit résistor. Même lorsqu'un tel joint dc dilatation intcrvicnt, on parlc pour des raisons de simplification, de contact ou quasi contact, rcspcctivcmcnt entre la structure poreuse et le suscepteur et entre la structure poreuse ct le résistor. Pour obtenir par ailleurs la densification de la structure poreuse sur toute son épaisseur, qu'un susccptcur ou résistor intervienne ou pas, la Demanderesse propose une innovation. Elle préconise l'intervention d'une autre structure poreuse au contact de la(des) surface(s) librc(s) de ladite structure poreuse à densifier. L'épaisseur de ladite autre structure poreuse est d'au moins 3 mm pour l'obtention de l'effet escompté ; elle est généralement comprise entre 3 et 5 mm. Ladite autre structure poreuse peut consister en un feutre. ladite autre structure poreuse qui se trouve partiellement dcnsifiée à l'issue du procédé de densification de la structure poreuse, sur toute son épaisseur, intervicnt au contact de la (des) surface(s) de ladite structure poreuse qui, sans elle, scrai(cn)t directement au contact de l'hydrocarbure liquide dans lequel ladite structure poreuse à densifier est immergée. De plus, la Demanderesse a constaté que la température de la réaction de densification est avantageusement pilotée cn fonction du débit et de la composition des gaz de la réaction; i.e. qu'elle préconise la régulation de la puissance du générateur par le débit et la composition desdits gaz. Elle a, dans ces conditions, obtenu des résultats meilleurs par rapport à ceux obtenus avec un pilotage classique, en fonction de la température maximale de la structure poreuse traitée. Enfin, la Demanderesse tient à souligner que la mise en oeuvre de la présente invention, pour une densification par du carbone, se révèle particulièrement intéressante avec le précurseur dc référence de la technique de base, modifiée ou non, à savoir Ic cyclohexane. Toutefois, elle n'est nullement limite à l'utilisation dudit cyclohexane à titrc dc précurseur. D'autres précurseurs ont été cités dans les brevets US-A-5,389,152 ct US-A-5,547,717; d'autres précurseurs ont été tcstés par la Dcmandcrcssc. Ccrtains se révèlent, de façon toutà-fait surprcnantc, particulièrement performants, mis cn oeuvre selon ladite technique de base ou ladite technique dc base, telle qu'améliorée selon la présente invention. Il s'agit de composés aromatiqucs répondant à l'une ou l'autre des formules (I) ct (II) ci-aprcs: dans lesquelles : n = 1,2, 3 ou 4, m = (),i ,2 , 3 ou 4, R représente, indépendamment, un halogène, de préférence le chlorc, ou un groupcmcnt alkylc choisi parmi les groupes méthyle, éth'lc, n-propylc ou i-propyle. Il peut s'agir d'un mélange de tels composés. Il s'agit avantageusement du toluène ou du chlorobenzène. On rappelle incidemment ici que le procédé de l'invention convient également pour une densification par des composés céramiques. Les précurseurs adéquats, des types borazines, alcoolatcs, silanes sont, de la même façon originale, mis en circulation. Le procédé de l'invention est évidemment mis en oeuvre à une température adaptée à la nature du précurseur intervenant. Ledit précurseur doit se décomposer thermiquement pour générer l'agent de densification attendu. Ledit procédé de l'invention est généralement mis cn oeuvre à une température d'au moins 8000C; avantageusement à une température supérieure à 1 000-C. Ladite température du procédé est celle de la zone de dépôt (de densification). Elle est proche de la température du suscepteur ou du résistor, dans l'hypothèse où un tel suscepteur ou le résistor intervient. Pour ce qui concerne la pression sous laquelle ledit procédé est mis en oeuvre, elle est généralement comprise entre 0,8.105 et 2.105 Pa (entre 0,8 et 2 bars), avantageusement supérieure à 105 Pa (1 bar). On préconise de mettre en oeuvre ledit procédé à une pression supérieure à la pression atmosphérique avec des précurseurs de carbone dans la mesure où, dans de telles conditions, le carbone introduit dans la structure poreuse, se révèle parfaitement graphitisable. Les structures poreuses densifiées scion l'invention sont généralement, à l'issue du traitement de densification, traitées thermiquement, de préférence sous vide, pour élimincr de leur structure, toute trace du précurseur qui est intervenu. Elles peuvent ensuite être destinées à divers types d'applications. S'il est prévu de les traiter thermiquement à des fins dc graphitisation, on veillera bicn évidemment à mettre en oeuvre le procédé de l'invention dans des conditions tcllcs (notamment de pression) que le carbone dc densification déposé soit graphitisable. Pour ce qui conceme le champ d'application du procédé dc l'invention (ci-dessus décrit en termes généraux ct ci-aprcs détaille en référence à la figure annexée et illustré par un exemple), on peut préciser ce qui suit et indiquer d'ores et déjà qu'il est très vaste. Lc procédé de densification revendique peut notamment s appliquer à la densification de feutre, tissus et plus généralement de structurcs bi- ou tri-dimensionnelles, à base de fibres de carbone ou de fibres céramiques, pouvant être avantageusement utilisés, du fait de leur résistance mécanique élevée et de leur bonnc résistance aux chocs et à l'abrasion, pour la réalisation de disques de frein, notamment d'avions. Le procédé dc l'invention peut de la même façon être mis en oeuvre pour la rénovation de tcls disques de frein. Plus généralement, le procédé de l'invention convient pour la densification, par du carbone ou des composés céramiques, de toute structure poreuse, à base de fibres ou autres ... Il peut notamment convenir pour la densification de mousses à porosité ouverte, d'empilements de sphères (en carbone ou en céramiques, par exemple ...) Il peut également constituer un traitement complémentaire pour la densification de pièces présentant une très faible porosité, par exemple de l'ordre de S Go ... On en vient maintenant au deuxième objet de la présente invention, à savoir un dispositif utile à la mise en oeuvre de son premier objet, i.e. un dispositif utile à la densification par caléfaction d'une structu refroidissement et être ainsi aisément recyclé dans le réacteur (généralement par simple gravité). Par contrc, un précurseur - solide à la température ambiante - se cristalliserait au niveau de tels moyens de refroidissement, encrasserait lesdits moyens et ne pourrait être recyclé aisément dans le réacteur. Avec un tel précurseur lourd, on doit donc prévoir une combinaison de moyens de refroidissement et de moyens de chauffage pour recycler ledit précurseur lourd vaporisé et/ou entraîné par les gaz de réaction. Au niveau desdits moyens de refroidissement, ledit précurseur lourd vaporisé et/ou entraîné doit être condensé sans cristallisation et au niveau desdits moyens de chauffage ledit précurseur condensé (liquide) doit être maintenu en phase liquide. On notera incidemment ici que lesdits gaz de réaction consistent principalement en de l'hydrogène et des hydrocarbures légers du type méthane, éthylène, éthane ... lorsqu'un précurseur de carbone intervient. Pour ce qui concerne les moyens destinés à assurer le chauffage de l'ensemble structure poreusc/précurscur liquide, il peut notamment s'agir de moyens convenant pour un chauffage inductif et/ou résistif. Les moyens convenant pour un chauffage inductif comprennent une bobine d'induction. Ladite bobine d'induction peut être agencée à l'extérieur du réacteur. Elle est avantageusement disposée dans le réacteur, immergée dans le précurseur liquide, autour de la structure poreuse. A ladite bobine d'induction est avantageusement associé un suscepteur. Les moyens convenant pour un chauffage résistif comprennent avantageusement un résistor auquel on associe, comme précisé plus haut, un isolant électrique, aussi bon conductcur thermique que possible. Ainsi, selon des variantcs préférées, le réacteur du dispositif de l'invention renferme un susccptcur ct/ou un résistor, généralement un susccptcur ou un résîstor. Ledit susccptcur ct/ou résistor est prévu au (quasi) contact dc la structure poreuse à densifier. On trouve généralement ledit susccptcur ct/ou ledit résistor sur un support ménagé au sein du réacteur, ledit support pouvant avantageusement être rotatif. Ledit support convint également généralement pour supporter la structure poreuse à densifier et avantageusement l'autre structure poreuse qui peut intervenir au contact de la (des) surface(s) librc(s) dc ladite structure poreuse à densifier. Au (quasi) contact de ladite structure poreuse ct dudit suscepteur ct/ou résistor est avantageusement prévu, comme indiqué plus haut, un joint de dilatation. On se propose de décrire plus précisément les procédé ct dispositif de l'invention cn référence à l'unique figure annexée : la figure 1, sur laquelle on a schématisé une variante de dispositif de l'invention, susceptible d'être utilisée pour la mise en oeuvre du procédé de l'invention (avec chauffage inductif et un précurseur liquide à la température ambiante). A - Ledit dispositif comprend quatre parties, à savoir un réacteur 1, un thermosiphon 2 en parallèle avec ledit réacteur 1, un condenseur 3 ou échangeur de chaleur et un dévésiculeur 4 ou piège à aérosols. Le réacteur 1 et le thermosiphon 2, contenant le précurseur liquide 5 (cyclohcxane par exemple), sont dimensionnés afin de fonctionner sur le principe du thermosiphon. Ils sont entourés d'une enceinte de confinement ou boîte à gants 6 balayée intérieurement par un courant de gaz neutre. Celle-ci assure la sécurité du manipulateur en cas de rupture du réacteur et permet d'éviter l'inflammation ou l'explosion des gaz de réaction ainsi que l'inhalation du produit par le manipulateur. La structure poreuse à densifier 7 est avantageusement placée au contact d'un suscepteur 8 (par exemple un mandrin en graphite de façon à pouvoir être chauffé par induction). Cet ensemble 7+8 est positionne et maintenu dans le réacteur 1 par deux pièces de support et centrage 9 et 10, en alumine par exemple, coulissant au travers de la base 11 et du couvercle 12 de fermeture du réacteur 1. Le suscepteur 8 et la structure poreuse 7 sont chauffés au moyen d'un dispositif de chauffage par induction constitué de bobines 13 pouvant se situer à l'intérieur ou à l'extérieur du réacteur 1 (dans le dispositif représente sur la figure 1, lesdites bobines 13 sont agencées à l'intérieur dudit réacteur 1) et dans lesquelles circule un courant haute fréquence foumi par un générateur 14. Les températures de la structure poreuse 7 ct du susccptcur 8 sont mesurées par des thermocouples ou thermosondes 15 et 16 reliés à un programmatcur 17 permettant dc réguler la puissance du générateur 14 afin de contrôlcr la température de dépôt (dc densification). Un conduit 18 permet l'introduction dc précurseur à l'intérieur du réacteur 1, à partir dc la réserve 19, grâce à la pompe 20 et à la vanne 21. Le niveau du réacteur est maintenu constant à l'aide dc deux capteurs de niveau 22 qui commandent le déclenchement ct l'arrêt dc la pompe 20. Un conduit 23, muni d'une vanne 24 et d'une pompe 25, permet dc récupérer cn fin dc densification, les composés usagés. Le réacteur 1 est aussi muni d'un conduit d'amenée 26 d'azote ou autre gaz neutre servant à chasser l'air contcnu dans le réacteur I cn début de procédé. Le thermosiphon 2 est parallèle au réacteur 1 ct est relié à cclui-ci, cn partie haute par une tubulure latérale d'entre mélange gaz-liquide munie d'un filtre 27, et en partie basse par la canalisation 23. Celle-ci est munie d'une vanne 28 et d'un débitmètre 29 afin de pouvoir réguler, dans une certaine mesure, le débit de précurseur. Le condenseur 3 (type tubc à calandrcs) est situé au-dessus du thermosiphon 2 et permet, par refroidissement des vapeurs du précurseur et par condensation de celles-ci, de les renvoyer dans le réacteur 1 par l'intermédiaire du thermosiphon 2. Ce condenseur 3 peut comprendre plusieurs compartiments refroidis à des températures différentes. Le dévésiculeur 4, situé au-dessus du condenseur 3, a pour rôle d'éliminer le brouillard créé au niveau du réacteur 1. Les gaz de réaction sont évacués, par l'intermédiaire d'une vanne de régulation de pression 30, ct menés au travers d'un conduit jusqu'à une installation de traitement des gaz 31. La vanne de régulation de pression 30 est pilotée par un régulateur 32 relié à un pressostat 33. Le débit des gaz de craquage est mesuré par un débitmètre 34. La ligne 35 permet d'effectuer des analyses de gaz. L'installation comporte aussi des soupapes de sécurité 36 et 37 afin d'éviter une surpression dans le réacteur ou dans la colonne (tarage à 2 bar). Des explosimctrcs 38 et 39 sont situés dans l'enceinte 6 et dans la pièce où se trouve l'installation, afin de détecter toute fuite dc gaz. L'emploi de la pompe 20 et de la vanne 40 permet d'envoyer du solvant, en provenance dc la cuvc 41, afin de rinccr le réacteur 1 après densification. B - Ledit dispositif est utilisé comme indiqué ci-après. On positionne la pièce constituée dc la structure poreuse 7, du susccpteur 8 et des pièces dc ccntragc 9 ct 10 à l'intérieur du réacteur 1. Le susccptcur 8 peut avantageusement ctrc rccouvcrt d'une finc épaisseur dc papier graphite (quelques millimètres) afin dc pouvoir séparer plus facilement, cn fin dc manipulation, ledit susceptcur 8 dc la structure 7 densifiée. Ledit papier graphite joue aussi le rôle de joint de dilatation ct évite l'apparition dc fissurcs sur la pièce lors du refroidissement (en raison des différences dc coefficients dc dilatation du susccptcur 8 ct dc la structure 7 densifiée). La structure poreuse 7 peut avantageusement comportcr à sa périphérie un feutre dc 3 à 5 mm d'épaisseur afin d'obtenir une densification sur toute l'épaisseur dc ladite structure. On placc les thermosondes 15 ct 16 dans le susceptcur 8 ct la structure 7, on fermc le couvcrclc 12, puis on effectue un balayage du réacteur 1 ct de l'enceinte de confinement 6 à l'aide d'un gaz incrtc, afin dc chasscr l'oxygène éventuellement présent. On remplit alors le réacteur 1 avec un précurseur, le cyclohexane par exemple. Après avoir mis en fonctionnement Ic circuit réfrigérant du condenseur 3, I'installation de traitement des gaz 31 ct les alimcntations électriques, c'est-à-dire le générateur 14, le programmateur de température 17 ct Ic régulateur de pression 30, on démarre la montée en température de la pièce. La pression est fixée à 1,2 bars par l'intermédiaire du régulatcur de pression 32. Dès que le précurseur entre cn ébullition, on supprime le balayage de gaz inerte du réacteur 1. Le mélange liquidc-vapeur est animé d'un mouvemcnt ascendant au travers dudit réacteur 1. La vapeur ainsi que les aérosols formés vont dans le condenseur 3 et le dévésiculeur 4, tandis que le liquide issu du réacteur 1 et dudit condenseur 3 (vapeur recondensée) circule vers le bas du thermosiphon 2, puis retourne, à travers la canalisation 23, dans le bas dudit réacteur 1. La vanne 28 permet de moduler les vitesses dc circulation, qui sont mesurées par le débitmètre 29. Lorsqu'on atteint la température de craquage (environ 1000-C pour le cyclohexane), une partie. des vapeurs du précurseur formées se décomposent dans la structure poreuse 7, ce qui conduit au dépôt de carbone à l'intérieur des pores du substrat et à la formation de gaz de craquage. Plus précisément, le craquage se réalise au niveau des parois les plus chaudes de la structure poreuse 7. Lorsque ladite structure poreuse 7 est montée sur un susccpteur 8 (cas représenté), le front de densification sc propage dc l'intérieur dc la structure poreuse vers la paroi extérieure. (Lorsqu'il n'y a pas dc suscepteur, Ic front dc densification progresse depuis l'intérieur dc la structure poreuse vers scs parois extérieures placées au contact du précurseur liquide.) La vitesse d'avancée du front dc densification peut varier de quelques dixièmes dc mm/h au cm/h, cn fonction dc la température maximale de la pièce, dc son architecture ct dc sa naturc. La température est contrôlée par Ic programmateur 17 relié au thermocouplc 15 placé dans Ic susccptcur 7 (ou au ccntrc dc la structure poreuse, lorsqu'il n'y a pas dc susccptcur). La mesurc, par le débitmètre 3A, des débits de gaz dc réaction ct la connaissance dc Icur composition permettent de calculer la vitesse d'avancée du front dc densification. Le mélange vapeur non craquée, aérosols ct gaz de craquage est évacué cn partie haute du thermosiphon 2. Les aérosols ct les vapeurs sont condensés au niveau de l'échangeur 3 ct du dcvcsiculcur 4 ct les gaz de réaction sont cxtraits cn partie haute dc l'installation ct traités dans l'installation de traitement des gaz 31. Lorsque le niveau de précurseur atteint le niveau bas de la sonde 22, la pompe 20 injecte du précurseur jusqu'à ce que le niveau haut soit atteint. Lorsque le front de densification est à environ 3 mm du bord externe de la structure poreuse (du bord externe du feutre, lorsqu'un feutre intervient), le débit chute de manière importante, même pour une augmentation de manière significative de la puissance (10 %). Cela est dû à ce que l'épaisseur dans laquelle a lieu le dépôt devient de plus en plus étroite, compte tenu d'une augmentation du gradient thermique (la distance entre le front de température maximale et la zone où l'on est à la température d'ébullition se réduit). On diminue alors progressivement la température jusqu'à la temperature ambiante. Le réacteur 1 et le thermosiphon 2 sont alors vidés par l'intermédiaire de la ligne 23 en ouvrant la ligne 24 et en mcttant cn fonctionnement la pompe 25. La pièce obtenue est récupérée et subit un traitement thermique de 500-C environ à l'étuve sous vide afin de retirer le précurseur résiduel imprégnant les porosités restantes. Le suscepteur 8 est séparé de l'ensemble et la partie extérieure de la pièce non densifiée (structure ou feutre ajouté, s'il y en avait un) est usinée. Selon une variante avantageuse, on vidange le précurseur alors que la pièce traitée est encore chaude; ce qui permet de mettre en oeuvre son séchage sans manipulation de celle-ci. Le traitement thermique destiné à la débarrasser du précurseur résiduel imprégnant scs porosités restantes, peut alors être mis en oeuvre soit au sein du réacteur, soit comme indiqué plus haut dans une étuve. Les substrats densifiés obtcnus sont homogènes, dc densité supérieure ou egale à 1,7 ct possèdent, après caractérisation par microscopie optique en lumière polarisée, une structure laminaire rugucusc. La pièce peut ctre graphitée par traitement thermique à haute température ('4()()C par exemple). L'installation peut être rincée à partir dc la pompe 20 cn remployant un solvant contcnu dans la cuvc 41. Lc filtrc 27 est démonté ct nettoyé. On illustre maintcnant l'invention par l'exemple ci-après. Le dispositif utilisé est du type dc cclui schématisé sur la figure 1 (de façon caractéristique, il inclut un thermosiphon). Le réacteur a pour dimcnsions un diamètre intricur de 200 mm et une hauteur de 600 mm. L'inducteur possède une hauteur de 400 mm et est constitué de 15 spires de diamètres intérieur et extérieur ayant respectivement pour valeurs 230 et 250 mm. Le thermosiphon est constitué d'unc enceinte de séparation liquidevapeur de 25 cm de diamètre et de 50 cm de hauteur. Celle-ci est reliée au réacteur, en partie basse, par une canalisation de 4 cm de diamètre sur une longueur de 130 cm, ct, en partie haute, par une tubulurc dc 20 cm de diamètre sur 40 cm de long. La pièce intervenante est constituée de - la structure à densifier, qui est un tube en renfort à base de fibres de carbone, de dimensions quint = 90 mm, PCxt = 150 mm, H = 400 mm; - un suscepteur en carbone de dimensions cD = 86 mm, H = 396 mm, recouvert sur l'ensemble de sa surface dc deux couches de papicr graphite de 1 mm d'épaisseur; - un feutre de 3 mm d'épaisseur placé à la périphérie de la structure à densifier ainsi qu'en partie haute et basse de la pièce. Deux pièces de support ct de ccntrage en alumine sont emboîtées en partie haute et basse du suscepteur. Un thermocouple est fixé dans le suscepteur, un autre entre la structure fibreuse à densifier et le feutre. La pièce est placée dans le réacteur et celui-ci est refermé. Le précurseur employé est le cyclohexane (C6H12). La pression est fixée à 1,2 bar. La montée en température s'effectue à une vitesse de 500iC/h jusqu'à 12000C. La vitesse d'avancée du front de densification, déterminée par la mesure du débit des gaz de craquage et la connaissance de leur composition, est alors de 4 mm/h. Elle est gardée constante cn ajustant la puissance du générateur au cours du temps. Le débit de liquide dans Ic thermosiphon est d'environ 100 I/min. Après environ 8h de densification, la température du thermocouple extérieur atteint 115()C ct Ic débit chute de manière importante. On procède alors à la dcsccntc en température à une vitesse de 800'C/h. La pièce obtenu, après usinage des 3 mm extérieurs, possède une densité moyenne de 1,75, avec des écarts extrêmes, déterminés par tomodensimétrie, inférieurs à 5 %. Le rendement calculé en carbone, masse dc carbone déposé sur masse de carbone du cyclohexane consommé, est dc 20 %. Le carbone obtenu est de structure du type laminaire rugucux ct est graphitable. Par comparaison avec une densification sans thermosiphon, où la température est limitée à 1100 C (afin d'obtenir une densité ct une homogénéité similaires à celles indiquées plus haut), Ic thermosiphon permet - une durée de densification de 8 h au lieu de 24 h, - un rendement en carbone dc 20 % au lieu de 10 %, - un gain d'énergie consommée (pour masse identique de C déposé) d'environ 30 %. Revendications 1. Procédé de densification d'une structure poreuse comprenant le maintien de ladite structure poreuse immergée dans un précurseur liquide et le chauffage de l'ensemble structure poreuse/précurseur liquide de sorte que le produit de décomposition solide dudit précurseur liquide se dépose en partie dans les pores de ladite structure poreuse, caractérisé en ce que ledit précurseur liquide circule verticalement à un débit élevé, avantageusement selon un mouvement ascendant. 2. Procédé de densification selon la revendication 1, caractérisé en ce que ledit précurseur liquide circule dans un circuit bouclé. 3. Procédé de densification selon l'une des revendications 1 ou 2, caractérisé en ce que ledit précurseur liquide est mis en circulation forcée ou circule par convcction naturel le. 4. Procédé de densification selon l'une quelconque des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que ledit chauffage de l'ensemble structure poreuse/précurseur liquide est un chauffage inductif, avantageusement mis en oeuvre avec un suscepteur (8) ou un chauffage résistif, avantageusement mis en oeuvre avec un résistor; ladite structure poreuse à densifier (7) étant maintenue au contact dudit Suseepteur (8) ou au quasi contact dudit résistor, intervenant avantageusement. 5. Procédé de densification selon la revendication 4, caractérisé en ce que ledit chauffage est un chauffage inductif mis cn oeuvre avec un suscepteur (8) ou un chauffage résistif mis cn oeuvre avec un résistor ; un joint dc dilatation étant disposé entre ladite structure poreuse à densifier (7) ct ledit susccpteur (8) ou ledit résistor. 6. Procédé dc densification selon l'une quclconquc des revendications 1 à 5, caractérisé cn cc qu'une autre structure poreuse, d'unc épaisseur au moins égale à 3 mm, telle un feutre, est maintenue au contact de la (des) surface(s) libre(s) de ladite structure poreuse (7) à densifier, dc sorte que ladite structure (7) puisse être densifiée sur toute son épaisseur. 7. Procédé de densification selon l'une quelconque des revendications 1 à 6, caractérisé en ce que la température est pilotée cn fonction du débit ct de la composition des gaz dc la réaction. 8. Procédé dc densification selon l'une quelconque des revendications 1 à 7, caractérisé cn ce que ledit précurseur liquide est un précurseur dc carbone, choisi parmi: - le cyclohexane, - les composés aromatiques répondant à l'une ou l'autre des formulcs (I) ct (II) ci-aprcs: dans lesquelles : n = 1,2, 3 ou 4, m = 0,1,2 , 3 ou 4, R représente, indépendamment, un halogène, de préférence le chlore, ou un groupement alkyle choisi parmi les groupes méthyle, éthyle, n-propyle ou i-propyle; et avantageusement le toluène ou le chlorobenzene; - un mélange d'au moins deux composés aromatiques répondant à l'une et/ou l'autre desdites formules (I) et (Il) et consiste avantageusement en Ic cyclohexane. 9. Dispositif utile à la mise en oeuvre du procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, comprenant - un réacteur (1) au sein duquel la structure poreuse (7) est immergée dans un précurseur liquide; - des moyens pour assurer le chauffage de l'ensemble structure poreuse (7) / précurseur liquide - des moyens de récupération, à l'état liquide, du précurseur vaporisé ct/ou entraîné par les gaz de réaction; caractérisé cn cc qu'il comprcnd cn outrc des moyens pour assurer la circulation verticale, à un débit élevée, avantageusement selon un mouvement ascendant, dudit précurseur liquide dans ledit réacteur (1). 10. Dispositif selon la revendication 9, caractérisé en ce que lesdits moyens pour assurer la circulation dudit précurseur liquide inclucnt des moyens de pompagc ou des moyens formant thermosiphon. 11. Dispositif selon l'une des revendications 9 ou 10, caractérisé en ce que Redits moyens dc récupération du précurseur vaporisé ct/ou entraîné, comprennent, selon la nature dudit précurseur, soit des moyens dc refroidissement, soit une combinaison moyens de refroidissement/moyens dc chauffage, lesdits moyens de chauffage étant alors disposés au-dessus desdits moyens dc refroidissement. 12. Dispositif selon l'une quclconque des revendications 9 à 11, caractérisé en ce que lesdits moyens pour assurer le chauffage comprennent une bobine d'induction; avantageusement placée dans le précurseur liquide et cntourant la structure poreuse (7). 13. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 9 à 12, caractérisé en ce qu'il comprend au contact de ladite structure poreuse (7) un susceptcur (8) ou au quasi contact dc ladite structure poreuse (7) un résistor.