Brevet FR2744836A1 — publié le 19970814

SUBSTRAT EPITAXIAL A CONCENTRATION PROGRESSIVE POUR DISPOSITIF A SEMI-CONDUCTEURS A DIFFUSION PAR RESURF La présente invention concerne des dispositifs à semi-conducteurs, et concerne plus spécialement un nouveau substrat épitaxial destiné à recevoir les jonctions d'un semi-conducteur à haute tension utilisant la technique du double resurf. Les dispositifs à semi-conducteurs à haute tension emploient couramment une région de resurf qui est une région à faible concentration entre des zones à différence de potentiel élevée. La région de resurf s'appauvrit au fur et à mesure que la différence de tension augmente et est totalement épuisée avant que la différence de tension maximale ne soit appliquée. Dans la technique du double resurf il existe deux régions de resurf de polarités opposées, qui toutes deux s'appauvrissent au fur et à mesure que la différence de potentiel appliqué augmente. Un tel dispositif et les avantages découlant de l'utilisation de la technique du double resurf sont détaillés dans le brevet américain 4 866 495. Dans les dispositifs à haute tension employant la technique du double resurf, la région de resurf d'une polarité est créée par l'implantation et la diffusion de dopants appropriés dans une couche à croissance épitaxiale de polarité opposée. La région épitaxiale enserrée par les régions de resurf diffusées fait office de seconde région de resurf. Une tension de claquage élevée 2 0 est obtenue lorsque la charge dans la couche de resurf (diffusée) supérieure est réglée à environ lxl012 cm2 et la charge dans la région de resurf (épitaxiale enserrée) inférieure est réglée à environ 1,5 à 2x1012 cm2. Le résultat d'une telle configuration est que, étant donné que la profondeur de la couche de resurf diffusée varie légèrement, la charge dans la région épitaxiale enserrée varie dans 2 5 une proportion importante, ce qui fait que l'on n'a plus la maîtrise de la tension de claquage. Cet effet doit être compensé par l'utilisation d'une couche épitaxiale plus épaisse. La couche épitaxiale plus épaisse présente plusieurs inconvénients: 1. Des diffusions d'isolement plus profondes sont nécessaires pour isoler électriquement différentes parties du circuit dans un circuit intégré l'une de l'autre, nécessitant des temps de diffusion plus longs à des températures de, ou supérieures à, 1200 C, ce qui se traduit par une capacité de traitement relativement réduite. 2. Des temps de diffusion très long à 1200 C ou plus entraînent davantage de défauts, ce qui se traduit par des rendements relativement réduits. 3. Les longs temps de diffusion à 1200 C ou plus se traduisent également par une diffusion d'isolement relativement large, due à une diffusion latérale plus importante, réduisant ainsi l'étendue de la zone utile sur une puce. BREVE DESCRIPTION DE L'INVENTION L'invention remédie aux inconvénients précités en proposant un dispositif à semi-conducteurs comprenant un substrat de silicium plat comportant une couche épitaxiale de silicium monocristallin déposée sur celui-ci ayant une concentration de charge totale donnée en elle; ladite couche épitaxiale ayant une épaisseur globalement uniforme et une concentration progressive, par laquelle au moins environ 75% de la charge totale dans ladite couche épitaxiale se trouve à l'intérieur de la partie inférieure du reste de l'épaisseur de ladite couche épitaxiale; ladite couche épitaxiale comportant des jonctions de type P- N formées dans la surface supérieure de celle-ci; une desdites jonctions comprenant une jonction de resurf ayant une profondeur sensiblement inférieure à environ 75% de l'épaisseur de ladite couche épitaxiale, ce qui fait que 1'enserrement épitaxial sous ladite jonction de resurf se trouve dans une région de plus faible concentration de telle sorte qu'une légère variation de la profondeur de ladite jonction de resurf exerce une incidence relativement réduite sur le fonctionnement dudit dispositif. Avantageusement, ledit dispositif a une tension nominale supérieure à 3 0 600 volts, et ladite couche épitaxiale a une épaisseur d'environ 10 micromètres. Avantageusement, lesdits 75% au moins de la charge totale de ladite couche épitaxiale se trouvent dans moins qu'environ les 1 à 4 micromètres inférieurs de ladite couche épitaxiale. Avantageusement, lesdits 1 à 4 micromètres inférieurs de ladite couche épitaxiale ont une résistance de feuille supérieure à environ 3000 ohms par carré, et dans lequel la résistance de feuille des huit micromètres supérieurs de ladite couche épitaxiale est supérieure à environ 4000 ohms par carré. Avantageusement, ledit dispositif a une tension nominale supérieure à 600 volts, et dans lequel ladite couche épitaxiale a une épaisseur d'environ 10 micromètres. L'invention concerne aussi un procédé de préparation d'une tranche de silicium dans laquelle une pluralité de puces à semi-conducteurs espacées latéralement doivent être disposées, et o chacune desdites puces est destinée à un dispositif à haute tension comportant au moins une première et une seconde is surfaces isolées de jonction; ledit procédé comprenant les étapes consistant à sélectionner un substrat de tranche de silicium d'une concentration choisie pour une tension nominale inverse donnée; à former une première région d'une épaisseur de moins de 2 micromètres environ, qui a une première concentration d'un atome de dopage donné; à former une couche épitaxiale au-dessus de ladite première région, qui a une épaisseur supérieure à environ 7 micromètres et ayant une seconde concentration d'un atome de dopage donné qui est de la même polarité que ledit atome de dopage de ladite première région, mais qui a une concentration sensiblement inférieure à celle de ladite première région, ce qui fait qu'au moins 75 % environ de la charge totale dans ladite première région 2 5 et ladite couche épitaxiale sont disposés dans ladite première région. Selon la présente invention, l'épaisseur de la couche épitaxiale est sensiblement réduite, mais la distribution de la charge est modifiée. Ainsi, la majorité (supérieure à environ 75% et de préférence supérieure à 80%) de la charge de resurf inférieure (région épitaxiale enserrée) est contenue dans les 1 à 4 micromètres inférieurs de la couche épitaxiale ou dans environ les 25%, de préférence les 20%, inférieurs de la couche épitaxiale. La partie supérieure de la couche épitaxiale est beaucoup plus légèrement dopée et renferme une très faible proportion de la charge de resurf inférieure. La charge plus forte dans la région épitaxiale inférieure peut être introduite au début du processus de fabrication des tranches par l'un ou l'autre de deux moyens: 1. Par l'implantation de dopants appropriés dans les tranches de substrat, suivie d'une diffusion avant la croissance épitaxiale de la région légèrement dopée. 2. Par le processus de croissance épitaxiale, dans lequel il y a tout d'abord croissance d'une mince couche épitaxiale fortement dopée, suivie par la croissance d'une couche épitaxiale légèrement dopée plus épaisse. Dans la configuration résultante, une variation de la profondeur de la région de resurf (diffusée) supérieure exercera une incidence beaucoup plus réduite sur la charge contenue dans la région enserrée en dessous d'elle. Ceci se traduit par une meilleure maîtrise de la tension de claquage, avec une couche épitaxiale beaucoup plus mince pour une tension de claquage donnée. La couche épitaxiale plus mince, à son tour, réduit le temps de traitement par diffusion nécessaire pour former les diffusions d'isolement, et les diffusions d'isolement 2 0 ont une étendue latérale plus réduite et prennent moins d'espace sur la puce. En tant qu'autre caractéristique de l'invention, les caractéristiques de polarisation inverse à haute température d'un dispositif fini sont sensiblement améliorées par l'utilisation d'anneaux de polysilicium latéralement espacés dans l'oxyde d'isolement sur la surface du dispositif et par l'utilisation d'une métallisation sur l'oxyde recouvrant l'électrode de gâchette pour empêcher que des ions de contamination en provenance du boîtier en plastique ne soient entraînés dans la région des canaux. La robustesse du dispositif fini est améliorée par l'utilisation de barres de court-circuitage qui court-circuitent partiellement un dispositif semi-conducteur 3 0 à oxyde métallique à canal N dans un dispositif de décalage de niveau à canal N. BREVE DESCRIPTION DES DESSINS La figure 1 représente une vue en coupe latérale d'une portion d'une puce contenant une diode à haute tension dans un puits isolé dans une couche épitaxiale selon la technique antérieure classique. La figure 2 illustre la manière selon laquelle la présente invention redistribue la charge dans la couche épitaxiale représentée sur la figure 1, permettant l'utilisation d'une couche épitaxiale plus mince et une meilleure maîtrise de la tension de claquage. La figure 3 montre l'utilisation de l'invention pour un MOSFET à conduction latérale à canal de type N, qui peut se trouver dans un autre puits de la puce représentée sur la figure 2. La figure 4 montre la manière selon laquelle l'invention peut être mise en pratique dans un MOSFET à canal de type P à haute tension. La figure 5 montre une configuration à anneaux de polysilicium, dont certains anneaux sont flottants, pour terminer les régions à haute tension du dispositif représenté sur la figure 3 et montre les courts- circuits périodiques du NMOSFET. La figure 5a est une vue en plan de la figure 5. La figure 6 est une vue en coupe transversale d'une transition de contact 2 0 de source destinée à empêcher des contaminants ioniques d'atteindre la zone des canaux. DESCRIPTION DETAHIE DES DESSINS La figure 1, à laquelle on se reporte tout d'abord, montre une diode à conduction horizontale selon la technique antérieure, dont les jonctions sont formées dans un puits de type N- 10 d'une couche épitaxiale de type N- de silicium monocristallin, déposée au-dessus d'un substrat de type P 11. Une diffusion de type N+ fournit un contact à faible résistance à l'électrode formant anode 12 ayant la terminaison "A". L'électrode de forme annulaire 13 est la cathode du dispositif "K". La couche épitaxiale 10 (appelée parfois "couche épi") est divisée en une pluralité de puits 20, 21 et 22 comme par une ou plusieurs diffusions d'isolement de type P, telles que la diffusion 23 dont la topologie peut être annulaire, mais qui peut avoir n'importe quelle autre topologie désirée. Le contact de cathode 13 est déposé au- dessus de la région de type P+ 23. La diffusion 23 doit être suffisamment profonde pour intercepter la limite P/N entre les régions 10 et 11 de manière à isoler les régions ou puits 20, 21 et 22. Les puits 21 et 22 peuvent comporter tout type de jonction désiré, formant des diodes, des dispositifs à gâchette à semi-conducteurs à oxyde métallique et/ou des dispositifs bipolaires dans toutes les configurations de composants non intégrés ou de circuits intégrés désirés. Lorsque le dispositif représenté sur la figure 1 est un dispositif à haute tension, par exemple supérieure à 600 volts, une région de resurf de type P- de forme annulaire 30 peut être prévue, qui a une charge totale d'environ lx1012 atomes et qui a tendance à s'épuiser complètement lorsque la tension inverse maximale est appliquée entre les électrodes 12 et 13 de la diode. Pour empêcher qu'un claquage avec perforation ne se produise sous une polarisation inverse, la couche épitaxiale 10, selon la technique antérieure, pour une application à haute tension, par exemple 600 volts ou plus, était réalisée à une épaisseur d'environ 20 à 25 micromètres et avait une résistivité de type N- uniforme mesurée à sa surface d'environ 3 ohm cm. Par suite de la couche épitaxiale 10 relativement épaisse, la diffusion d'isolement de type P 23 devient également relativement large en raison de la diffusion latérale. Ceci amène la diffusion 23 à occuper une partie relativement importante de la surface totale de la puce, réduisant la surface utile des différents puits contenant les jonctions. En outre, la couche épitaxiale 10 plus épaisse augmente le coût de la tranche à partir de laquelle les différentes puces (ou dés) sont formés, augmente le temps de traitement et entraîne une détérioration supplémentaire en raison de la nécessité d'un temps de traitement à 3 0 haute température plus long. La région 30 a en règle générale une profondeur d'environ 5 micromètres. Etant donné que cette profondeur change en fonction de la variance de fabrication, la couche épitaxiale enserrée sous la région 30 exercera une action très importante sur la charge sous-jacente, à moins que cette concentration de charge ne soit réduite, comme en utilisant un volume de couche épitaxiale important sous la région 30. Selon la présente invention et comme il est indiqué sur la figure 2, sur laquelle les mêmes numéros repères que sur la figure 1 désignent les mêmes éléments, la même concentration totale de porteuses de type N dans la couche 10 sur la figure 1 est employée sur la figure 2, mais elle est redistribuée en plaçant un pourcentage important de la concentration totale dans une partie de faible épaisseur 40 à la partie inférieure de la couche épitaxiale 10. Par exemple, la région 40 peut avoir une épaisseur allant de 10 à 40% de l'épaisseur totale de la couche 10, mais aura de deux à quatre fois la concentration de la couche 10. Cependant, la combinaison de l'épaisseur et de la concentration de la région 40 doit se traduire par une charge totale de 1,2 à 1,5 x 1012 cm2 dans cette région. Dans le mode de réalisation préféré de l'invention, la région 40 a une épaisseur de 2 micromètres et a une concentration de dopage de l'ordre de 7 x 1015 cm3. En redistribuant la charge totale dans la région 10 ainsi qu'il est décrit ci-dessus, l'épaisseur de la couche ou de la région épitaxiale 10 est sensiblement réduite, par exemple de 20 micromètres à 10 micromètres pour une tension de claquage de 600 V. Ceci réduit alors sensiblement la profondeur nécessaire pour la diffusion d'isolement 23 et ainsi sa surface latérale. En conséquence, une plus grande surface est conservée sur la puce pour les circuits ou les composants actifs. En outre, le temps nécessaire pour réaliser la diffusion 23 est sensiblement réduit, par exemple de 24 heures pour une couche épitaxiale de 20 micromètres d'épaisseur à 6 heures pour une couche épitaxiale de 10 micromètres d'épaisseur. Enfin, étant donné que seule une faible partie de la charge totale dans la région épitaxiale enserrée sous la région de resurf 30 provient de la partie supérieure de la couche épitaxiale (région 10), la variation de la profondeur de la région 30 exercera une incidence plus réduite sur la charge dans la région épitaxiale enserrée. Le substrat 11 peut être n'importe quel substrat de type P classique et peut avoir une épaisseur allant de 5 à 25 mils (0,12 à 0,60 mm). La résistivité du substrat est choisie sur la base de l'exigence imposée en matière de tension de claquage. Par exemple, pour une tension de claquage de 600 V, la résistivité du substrat 11 est d'environ 60 ohm cm et pour 1200 V sa résistivité est approximativement de 150 ohm cm. La partie 40 de la couche épitaxiale pour un dispositif de 600 volts est constituée pour commencer avec une résistivité relativement faible, par exemple 0,5 à 1 ohm cm et une épaisseur de 1 à 4 micromètres. La combinaison de l'épaisseur et de la résistivité pour la région 40 est choisie de telle façon que la charge totale dans cette couche soit de 1,2 à 1,5 x 1012 cm_2, ce qui donne une résistance de feuille épitaxiale de 3000 à 4000 ohms par carré. La région 40 relativement fortement dopée (comparativement à la région ) peut également être créée en implantant des ions de phosphore ou d'arsenic directement dans le substrat de type P 11, suivi d'une diffusion pour faire migrer les dopants d'une profondeur de 1 à 2 micromètres. La dose d'implantation et les conditions de la diffusion de migration sont choisies pour obtenir une résistance de feuille de 3000 à 4000 ohms par carré. La couche épitaxiale 10 est ensuite constituée au-dessus de la diffusion 40. L'épaisseur de la couche épitaxiale supérieure (région 10) est choisie en fonction de la profondeur de la région de resurf de type P 30 et de l'espèce du dopant dans la région fortement dopée 40. Par exemple, une épaisseur d'environ 8 micromètres est choisie pour la région 10, si la région de resurf de type P- 30 a approximativement une profondeur de 5 micromètres et si un dopant à base 3 o d'arsenic est utilisé dans la région 40. Il est possible de réduire encore l'épaisseur de la couche épitaxiale supérieure (région 10) en réduisant l'épaisseur de la région de resurf de type P- 30. La résistivité de la région 10 peut aller de 2 à 4 ohm cm, en fonction des exigences imposées par d'autres parties du circuit intégré. Plus la résistivité de la région 10 sera fiable, plus il sera difficile de régler la charge dans la région de resurf de type P- 30. Le choix de l'épaisseur et de la résistivité de la région épitaxiale inférieure 40 et de la région épitaxiale supérieure 10 doit permettre d'obtenir une charge de couche épitaxiale enserrée (sous la région de resurf de type P- 30) de 1,5 à 2,0 x 1012 cm-2 ou une résistance de feuille de couche épitaxiale enserrée de 2800 à 3500 ohms par carré à la fin de toutes les étapes de traitement. La région 10 et sa sous-région 40 peut être dopées soit au phosphore soit à l'arsenic. L'arsenic est préféré lorsque des régions plus minces sont désirées, parce que l'arsenic a un coefficient de diffusion plus réduit que le phosphore et en conséquence a moins d'auto-dopage depuis la région fortement dopée 40 vers la région légèrement dopée 10. La figure 3 montre comment la présente invention peut être utilisée lorsqu'un MOSFET à conduction latérale est formé dans le puits 21 sur la figure 2. Les mêmes numéros que ceux indiqués sur la figure 2 désignent des parties 2 0 semblables. Sur la figure 3, la configuration de jonction comprend une diffusion de drain de commande 50 entouré par une diffusion de resurf de forme annulaire 51. Une base de type P de forme annulaire 55 contenant un anneau de source 56 est diffusée dans la surface supérieure de la région 10. Un oxyde de gâchette 60 approprié est formé sous l'anneau de gâchette de polysilicium 61 et toute la surface du puits 10 est recouverte par un oxyde de passivation 62. L'électrode de source 65, qui a une forme annulaire, est raccordée à la source 56 et à la base 55 et l'électrode de drain 66 est raccordée à la région de drain 50. Une électrode de gâchette 57 est raccordée à la gâchette de polysilicium 61. En fonctionnement, la configuration illustrée sur la figure 3 résistera à 3 0 une tension inverse élevée entre l'électrode de source 65 et l'électrode de drain 66, par exemple 600 V et plus. Pour amorcer le dispositif, une tension est appliquée à la gâchette 61, qui provoque l'inversion de la région du canal à l'intérieur de la base 55. Le courant électronique peut alors s'écouler de l'électrode de source 65, en passant par le canal inversé, sous la diffusion de resurf 51, vers le drain 66. Il est à noter que la configuration de jonction illustrée sur la figure 3 pourrait être toute autre configuration de jonction désirée et connue, et pourrait être cellulaire, interdigitalisée ou une autre du même genre. Dans un mode de réalisation de 600 volts, la distance latérale entre le bord extérieur de l'anneau de gâchette 61 et le bord de la diffusion d'isolement 23 est d'environ 25 micromètres. L'anneau de gâchette 61 a une largeur d'environ 10 micromètres. La distance latérale entre le bord intérieur de l'anneau 61 et le bord extérieur de la jonction 50 est d'environ 70 micromètres pour un dispositif de 600 volts et d'environ 140 micromètres pour un dispositif de 1200 volts. Le substrat 11 est une structure dopée au bore de 60 ohms centimètre, dont l'épaisseur est comprise entre 5 et 25 mils (0,12 à 0,60 mm).La couche épitaxiale 10 (mesurée de la surface supérieure à la partie supérieure de la région 40) a une épaisseur de 8 micromètres et a une résistivité d'environ 3 ohms cm plus ou moins environ 10%. La région 40 a une épaisseur d'environ 2 micromètres et une résistance de feuille de 3000 à 4000 ohms par carré. Les régions 10 et 40 peuvent être dopées soit au phosphore soit à l'arsenic. La région de resurf de type P 51 peut avoir une profondeur d'environ 5 micromètres. A noter que les variations de fabrication en ce qui concerne la profondeur de 5 micromètres auront une incidence réduite sur "'Tenserrement de couche épitaxiale" sous la région 51 étant donné que seulement un pourcentage relativement faible de la charge totale se trouve dans la région enserrée. Dans le cas du dispositif à 1200 volts, les dimensions précédentes peuvent être conservées. Cependant, la résistivité du substrat passe alors de 60 à l50 ohmcm. La figure 4 illustre la mise en application de l'invention avec un semi- conducteur à oxyde métallique à canal de type P à haute tension. Sur la figure 4, les composants qui sont les mêmes que sur les figures 2 et 3 sont identifiés par les mêmes repères numériques. Ainsi, les configurations représentées sur les figures 2 et 3 sont combinées et la gâchette 61 se trouve au-dessus du canal inversible entre la région de type P+ 100 et une région centrale de type P 101. Une région de contact de type P+ centrale 102 est prévue pour assurer le contact avec le contact de drain 66. Une région de contact de type N+ 103 est également prévue, en contact avec le bord de la région 100. Le contact de masse 13 est raccordé à la région de type P+ 23. Une région d'isolement de passivation 62a peut comporter des plaques de polysilicium espacées qui aident à boucler le champ électrique latéral sur la largeur de la surface de silicium sous-jacente. La figure 5 représente la moitié gauche de la figure 3, conjointement à la caractéristique supplémentaire consistant en un recouvrement d'anneaux de polysilicium accouplés de manière capacitive, qui font fonction de moyens pour boucler la haute tension entre les électrodes de source et de drain 65 et 66. Ainsi, comme il est indiqué sur la figure 5, on savait antérieurement utiliser des anneaux de polysilicium (poly) 200 à 206 accouplés de manière capacitive (un nombre quelconque désiré d'anneaux peut être utilisé). Les trois anneaux repérés 201, 203 et 205 sont déposés sur le premier niveau de polysilicium et les quatre autres anneaux repérés 200, 202, 204 et 206 sont configurés sur le second niveau de polysilicium. Les deux couches de polysilicium sont dopées de manière à les rendre conductrices. Une couche diélectrique 62a d'environ 500 nanomètres est intercalée entre les deux couches de polysilicium pour les isoler électriquement l'une de l'autre. Chaque anneau successif du second niveau de polysilicium recouvre les anneaux les plus proches du premier niveau de polysilicium dans la proportion de deux à cinq micromètres, comme il est indiqué sur la figure 5, accouplant ainsi de manière capacitive les anneaux l'un avec l'autre. La couche diélectrique 62a peut être créée par oxydation thermique de la première couche de polysilicium, ou elle peut être réalisée par dépôt d'oxyde de silicium ou de toute autre matière diélectrique telle que du nitrure de silicium. Ce diélectrique doit être capable de résister à environ 100 volts par lacune unitaire. Pour terminer la configuration toute entière est recouverte d'un oxyde de passivation 62. Le premier anneau 200 est raccordé à la source 65, ou potentiel le plus bas sur la largeur du dispositif et le dernier anneau 206 qui est raccordé au potentiel le plus élevé du dispositif, ou drain 66. La série d'anneaux de polysilicium accouplés de manière capacitive divise la chute de potentiel sur la largeur du dispositif en valeurs discontinues plus petites, réduisant ainsi la tendance à la concentration du champ électrique près de la surface du dispositif à haute tension. Ceci améliore la tension de claquage du dispositif. De plus, la configuration proposée protège la surface du dispositif à haute tension contre les charges électrostatiques parasites courantes dans les circuits intégrés, provoquées par les contaminants ioniques provenant du boîtier en plastique de recouvrement (non représenté) en contact avec la surface supérieure du dispositif représenté sur la figure 5. Les anneaux 200 à 206 améliorent de façon remarquable la fiabilité du dispositif à haute tension, notamment lorsqu'il est essayé dans des conditions de polarisation sous haute tension (HTB). La configuration en anneaux multiples peut être utilisée dans les dispositifs à haute tension à conduction latérale ou verticale, tels que les diodes, les MOSFET, IGBT, BJT et autres composants du même genre et à la fois dans les dispositifs de type classique et à resurf. Les anneaux de polysilicium peuvent être remplacés par d'autres conducteurs tels que des métaux ou des siliciures. Selon une autre caractéristique de la présente invention, et comme il est indiqué sur la figure 5, la configuration de bouclage par anneaux flottants est utilisée en combinaison avec un dispositif à double resurf du type illustré sur les figures 3 et 4. La figure 5 comporte également une configuration nouvelle destinée à rendre plus " rugueux" et "robuste" un circuit à décalage de niveau, qui peut être utilisée dans la puce. Plus particulièrement, un anneau de corps de type P 255 est diffusé de manière concentrique avec le corps de type P 55 et il vient en contact d'extrémité avec la région de resurf de type P51. Ceci forme un NMOSFET sous la gâchette 61. Une pluralité de courts-circuits de corps de type P 256 court-circuitent alors de manière périodique le corps de type P 55 et le corps de type P 255, comme il est indiqué sur la figure 5a. Les régions 256 court-circuitent le DMOSFET à canal de type N, ce qui réduit sa largeur de canal totale. Ceci réduit le courant de saturation du dispositif et peut augmenter de manière sensible la rugosité et la robustesse du dispositif. La figure 6 illustre une autre caractéristique de l'invention, destinée à fournir une protection améliorée contre les contaminants ioniques au niveau du chapeau du boîtier en plastique 300. La figure 6 montre également une petite partie de la figure 5, mais ajoute à celle-ci un métal de source nouveau 65 qui est déposé de manière continue sur la largeur de la partie supérieure de l'oxyde à basse température 62 qui se trouve au-dessus de la gâchette 61. Plus spécialement, dans les dispositifs à conduction latérale de la technique antérieure, le métal de la source était découpé ou séparé, ainsi qu'il est indiqué sur la figure 5 et ne s'étendait pas sur la partie supérieure de l'oxyde à basse 2 0 température 62 au-dessus de la gâchette 61. La région du canal entre le corps de type P 55 et la source 56 est très sensible aux contaminants ioniques. Selon une caractéristique de l'invention, le métal de la source62 s'étend sur la largeur de la région du canal sensible, assurant ainsi une protection physique par un métal (aluminium) contre la migration de contamninants ioniques qui se forment au niveau du boîtier en plastique 300, notamment à haute température. Ainsi, la protection métallique nouvelle représentée sur la figure 6 améliore sensiblement les caractéristiques du dispositif en présence d'une polarisation inverse à haute température (HTB). Bien que la présente invention ait été décrite en rapport avec des modes de réalisation particuliers de celle-ci, de nombreuses autres variantes ou modifications et autres utilisations seront évidentes pour les spécialistes de la technique. Il est préféré, en conséquence, que la présente invention soit limitée non pas par les présentations particulières effectuées dans la présente description, mais uniquement par les revendications ci-annexées. REVENDICATIONS 1. Dispositif à semi-conducteurs comprenant un substrat de silicium plat comportant une couche épitaxiale (10) de silicium monocristallin déposée sur celui-ci ayant une concentration de charge totale donnée en elle; ladite couche épitaxiale (10) ayant une épaisseur globalement uniforme et une concentration progressive, par laquelle au moins environ 75% de la charge totale dans ladite couche épitaxiale (10) se trouve à l'intérieur de la partie inférieure du reste de l'épaisseur de ladite couche épitaxiale; ladite couche épitaxiale (10) comportant des jonctions de type P-N formées dans la surface supérieure de celle-ci; une desdites jonctions comprenant une jonction de resurf ayant une profondeur sensiblement inférieure à environ 75% de l'épaisseur de ladite couche épitaxiale (10), ce qui fait que l'enserrement épitaxial sous ladite jonction de resurf se trouve dans une région de plus faible concentration de telle sorte qu'une légère variation de la profondeur de ladite jonction de resurf exerce une incidence relativement réduite sur le fonctionnement dudit dispositif. 2. Dispositif selon la revendication 1, dans lequel ledit dispositif a une tension nominale supérieure à 600 volts, et dans lequel ladite couche épitaxiale (10) a une épaisseur d'environ 10 micromètres. 3. Dispositif selon la revendication 2, dans lequel lesdits 75% au moins de la charge totale de ladite couche épitaxiale (10) se trouvent dans moins 2 0 qu'environ les 1 à 4 micromètres inférieurs de ladite couche épitaxiale. 4. Dispositif selon la revendication 3, dans lequel lesdits 1 à 4 micromètres inférieurs de ladite couche épitaxiale (10) ont une résistance de feuille supérieure à environ 3000 ohms par carré, et dans lequel la résistance de feuille des huit micromètres supérieurs de ladite couche épitaxiale (10) est supérieure à environ 4000 ohms par carré. 5. Dispositif selon les revendications qui précèdent, dans lequel ledit dispositif a une tension nominale supérieure à 600 volts, et dans lequel ladite couche épitaxiale (10) a une épaisseur d'environ 10 micromètres. 6. Procédé de préparation d'une tranche de silicium dans laquelle une pluralité de puces à semi-conducteurs espacées latéralement doivent être disposées, et o chacune desdites puces est destinée à un dispositif à haute tension comportant au moins une première et une seconde surfaces isolées de jonction; ledit procédé comprenant les étapes consistant à sélectionner un substrat de tranche de silicium d'une concentration choisie pour une tension nominale inverse donnée; à former une première région d'une épaisseur de moins de 2 micromètres environ, qui a une première concentration d'un atome de dopage donné; à former une couche épitaxiale au-dessus de ladite première région, qui a une épaisseur supérieure à environ 7 micromètres et ayant une seconde concentration d'un atome de dopage donné qui est de la même polarité que ledit atome de dopage de ladite première région, mais qui a une concentration sensiblement inférieure à celle de ladite première région, ce qui fait qu'au moins 75% environ de la charge totale dans ladite première région et ladite couche épitaxiale sont disposés dans ladite première région.