Brevet FR2732777A1 — publié le 19961011

La présente invention concerne le domaine technique général de l'opto- électronique et, plus précisément, un filtre multilongueur d'onde du type comprenant un faisceau de guides optiques réalisés sur un même substrat, agencés de manière à ce que la réponse en longueur d'onde du filtre dépende des déphasages subis par la lumière se propageant dans les guides. Diverses approches technologiques ont été proposées pour obtenir l'indépendance à la polarisation d'un tel filtre multilongueur d'onde. On peut citer à cet égard la publication "Polarization-Independent InPBased Phased-Array Wavelength Demultiplexer with Flattened Wavelength Response" L IH. Spiekmann et al., Conférence ECOC 94. Ainsi, on a proposé, comme rappelé dans l'article précité, une structure dans laquelle une lame de quartz demi-onde est placée à mi-chemin sur le faisceau de guides optiques pour permuter les modes de polarisation TE et TM. On a proposé, dans l'article de Zirngibl et al. intitulé "Polarization- Independent 8 x 8 Waveguide Grating Multiplexer on InP" paru, dans Electronic Letters, Vol. 29, pages 201-202, Janvier 1993, d'utiliser des ordres différents pour les modes de polarisation TM et TE. On peut également citer une méthode consistant à séparer spatialement les modes de polarisation TE et TM, proposée par M.R. Amersfoort et al. dans l'article intitulé "A phased-array wvavelength demultiplexer wvith flattened wvavelength response", paru dans Electronic Letters, Vol. 30, 1994. On peut encore citer une méthode consistant à séparer spatialement les modes de polarisation TE et TM tout en considérant des ordres différents, proposée par Spiekmann et al. dans le premier article précité. On a proposé, dans l'article "Polarization-Insensitive Arrayed- Waveguide Wavelength Multiplexer wvith Birefringence Compensating Film", Takahashi et al, IEEE Photonics Technology Letters, Vol 5, No. 6, juin 1993, de déposer un film de silicium amorphe présentant une géométrie particulière sur le faisceau de guides pour obtenir au moins pour chaque guide deux portions de biréfringences différentes. On peut également citer une méthode similaire décrite dans le brevet US- 5 341 444 de Henry et al. Les méthodes connues précitées n'offrent pas entière satisfaction. La méthode consistant à rapporter une lame de quartz présente l'inconvénient d'entraîner des pertes de couplage entre cette dernière et les guides optiques, et les performances des méthodes qui utilisent des ordres différents pour les modes de polarisation TE et TM sont limitées en termes du nombre de canaux de longueurs d'ondes différentes pouvant être séparés par le filtre. Les méthodes jouant sur la géométrie des guides optiques pour modifier la biréfringence sont difficiles à mettre en oeuvre technologiquement. Enfin, les méthodes consistant à modifier la biréfringence des guides par dépôt d'un film en surface ne se prêtent pas à une intégration monolithique du filtre. La présente invention a pour objet de remédier aux inconvénients précités et propose un nouveau filtre multilongueur d'onde, indépendant à la polarisation, qui soit de fabrication aisée, convienne à une intégration monolithique, et qui permette de réaliser le démultiplexage d'un grand nombre de canaux. L'invention y parvient en proposant un filtre du type dans lequel l'insensibilité à la polarisation est obtenue par une variation de la biréfringence des guides optiques, ces derniers ayant sur au moins deux portions de leur longueur des biréfringences différentes. De façon caractéristique, lesdites portions sont reliées par un adaptateur de mode. Dans une réalisation préférée de l'invention, les guides optiques dudit faisceau ont dans deux zones d'extrémité même biréfringence, et dans une zone intermédiaire une biréfringence différente de celle desdites zones d'extrémité, les transitions entre chaque zone d'extrémité et la zone intermédiaire s'étendant selon des plans respectifs inclinés par rapport à la direction de propagation de la lumière dans les guides. Dans une réalisation préférée de l'invention, l'adaptateur de mode présente une forme en sablier. Dans une réalisation préférée de l'invention, lesdites portions de guide reliées par l'adaptateur de mode présentent des structures respectivement de type dilué et simple hétérostructure. D'autres caractéristiques et avantages de la présente invention apparaitront à la lecture de la description détaillée qui va suivre, d'exemples de réalisation non limitatifs de l'invention, et à l'examen du dessin annexé sur lequel: - la figure 1 est une vue schématique d'un filtre multilongueur d'onde conforme à un premier exemple de réalisation de l'invention, - la figure 2 est une vue schématique d'un filtre multilongueur d'onde conforme à un deuxième exemple de réalisation de l'invention, - la figure 3 est une vue illustrant un détail de réalisation du filtre multilongueur d'onde représenté sur la figure 1, - la figure 4 représente en perspective et de façon schématique un premier exemple de réalisation d'un adaptateur de mode, - la figure 5 est une vue à échelle agrandie d'un détail de réalisation du filtre représenté sur la figure 1, - la figure 6 est une section selon le trait de coupe VI-VI de la figure 5, - la figure 7 est une section selon le trait de coupe VII-VII de la figure 5, - la figure 8 est une section selon le trait de coupe VIII-VIII de la figure 5, - la figure 9 représente en perspective et de façon schématique un deuxième exemple de réalisation d'un adaptateur de mode, et - la figure 10 représente en perspective et de façon schématique un troisième exemple de réalisation d'un adaptateur de mode. On a représenté sur la figure 1 un filtre multilongueur d'onde 1 conforme à un premier exemple de réalisation de l'invention. Ce filtre comporte un faisceau de n guides optiques gl,..., g n dont on n'a représenté que deux guides consécutifs gk, gk+1 (k compris ici entre 1 et n-1) dans un souci de clarté du dessin. Ce faisceau de guides optiques gl,..., gn relie deux zones d'expansion 2, 3 constituées dans l'exemple de réalisation décrit par des dioptres plans. Le dioptre 2 reçoit de la lumière par un guide optique 4 et la répartit dans les guides optiques gl,..., gn du faisceau. Ces derniers sont agencés de manière à faire parcourir à la lumière des chemins optiques différents. Les ondes lumineuses déphasées en sortie des guides optiques g 1, *, gn sont réunies dans le dioptre 3 et interfèrent selon le principe de l'interférométrie de Mach Zender. La lumière envoyée dans le filtre 1 par le guide optique 4 est ainsi filtrée en longueur d'onde et sort par au moins un guide optique 5 pour être dirigée par exemple vers un récepteur optique non représenté ou tout autre composant optique ou opto-électronique. Conformément à l'invention, pour obtenir l'indépendance à la polarisation du filtre, chaque guide optique gk (k compris ici entre 1 et n) présente au moins deux portions de guide de biréfringences différentes, reliées par un adaptateur de mode. Plus précisément, dans le premier exemple de réalisation de l'invention, chaque guide optique gk présente trois portions de guide s'étendant dans des zones respectivement référencées 6, 7 et 8, séparées par des zones de transition 9 et 10. La zone d'extrémité 6 s'étend depuis le dioptre plan 2 jusqu'à la zone de transition 9 et présente un indice effectif n et une biréfringence B2. La zone intermédiaire 7 s'étend entre les zones de transition 9 et 10, présente un indice effectif n' et une biréfringence B1. La zone d'extrémité 8 s'étend entre la zone de transition 10 et le dioptre plan 3, présente un indice effectif n et une biréfringence B2. Chaque zone de transition 9, 10 s'étend selon un plan coupant obliquement le faisceau de guides optiques g1,..., gn comme illustré schématiquement sur la figure 3. On a représenté sur la figure 2 un filtre 1' conforme à un deuxième exemple de réalisation de l'invention, comprenant un faisceau de guides optiques gl,..-, gn reliant deux zones d'expansion 2', 3'. La zone d'expansion 2' reçoit la lumière par un guide optique 4' pour la répartir dans les guides g l, *-, gn. Cette zone d'expansion 2' est constituée par un dioptre plan dans l'exemple décrit. En sortie des guides optiques gl,..., gn la lumière est collectée par la zone d'expansion 3', reliée à un guide optique 5'. La zone d'expansion 3' est constituée par un dioptre plan dans l'exemple décrit. Chaque guide optique gk du faisceau présente trois portions de guide s'étendant dans des zones respectivement référencées 11, 12 et 13, séparées par des zones de transition 14 et 15. Plus précisément, la zone d'extrémité 1 1 s'étend entre le dioptre plan 2' et la zone de transition 14, présente un indice effectif n' et une biréfringence B1. La zone intermédiaire 12 s'étend entre les zones de transition 14 et 15, présente un indice effectif n et une biréfringence B2. La zone d'extrémité 13 s'étend entre la zone de transition 15 et le dioptre plan 3', présente un indice effectif n' et une biréfringence B1. Pour la suite de la description, on notera AL le pas du faisceau de guides optiques gl,.... gn des filtres 1 ou 1', qui correspond à la différence de chemin optique entre deux guides optiques consécutifs gk et gk+l. On notera A1 la variation de chemin optique induite par une zone de transition 9, 10, 14 ou 15 sur deux guides consécutifs gk et gk+ l. On notera que l'inclinaison des zones de transition 9 et 10 est inverse de celle des zones de transition 14 et 15. Dans la réalisation de la figure 1, chaque guide gk+l parcourt davantage de chemin (2 AI en plus) dans les zones d'extrémité 6 et 8 que le guide gk, tandis que dans la réalisation de la figure 2 c'est le contraire. L'indépendance à la polarisation pour les filtres 1 ou 1' est obtenue lorsque la relation suivante est vérifiée: B1 AL + aB AI = 0, (1) avec AB = B2 - Bi. On a également les relations suivantes A1 = - B1A L / aB, (2) B1 = (n'TE n'TM) / n' (3) et B2 =(nTE - nTN) / n. (4) Conformément à l'invention, la transmission de la lumière entre deux portions d'un guide optique situées respectivement dans une zone d'extrémité et une zone intermédiaire s'effectue à l'aide d'un adaptateur de mode, se situant à l'intersection du guide concerné et de la zone de transition séparant ladite zone d'extrémité et ladite zone intermédiaire, comme cela va être précisé dans la suite. Les filtres multilongueurs d'onde 1 et 1' sont réalisés après dépôt par épitaxie en phase vapeur (MOCVD), en une seule étape, sur un substrat plan 16 en matériau binaire InP, de la succession de couches suivante: - une couche de confinement inférieure 17 en matériau binaire InP de 1 gtm d'épaisseur, - une couche de guidage inférieure 18, en matériau quaternaire InGaAsP, de 0,1 [tm d'épaisseur et de longueur d'onde de bande interdite Xg égale à 1,3 tam, d'indice de réfraction supérieur à celui de la couche de confinement inférieure 17, - une couche de confinement intermédiaire 19, en matériau binaire InP, de 1 tm d'épaisseur, d'indice de réfraction inférieur à celui de la couche de guidage inférieure 18, une couche de guidage intermédiaire 20, en matériau quaternaire InGaAsP, de 0,1 Ftm d'épaisseur, de longueur d'onde de bande interdite Xg égale à 1,3 tm, d'indice de réfraction supérieur à celui de la couche de confinement intermédiaire 19, - une couche de confinement supérieure 21, en matériau binaire InP, de 1 tm d'épaisseur et d'indice de réfraction inférieur à celui de la couche de guidage intermédiaire 20, - une couche de guidage supérieure 22, en matériau quaternaire InGaAsP, de 0,65 Utm d'épaisseur, de longueur d'onde de bande interdite Xg égale à 1,3 Pm et d'indice de réfraction supérieur à celui de la couche de confinement supérieure 21. Les guides optiques 4 et 5 du filtre 1 sont réalisés après formation d'un masque, de manière connue en soi, par enlèvement de la couche de guidage supérieure 22 et gravure en ruban de la couche de confinement supérieure 21. Les zones d'expansion 2 et 3 sont réalisées par enlèvement de la couche de guidage supérieure 22 et gravure, du côté des guides optiques 4 et 5, de la couche de confinement supérieure 21 et, du côté du faisceau de guides optiques gk, par gravure plus profonde jusqu'à la couche de guidage inférieure 18. Les guides optiques g1,..., gk sont réalisés, en ce qui concerne les portions s'étendant dans les zones d'extrémité 6 et 8, par enlèvement de la couche de guidage supérieure 22 et gravure jusqu'à la couche de guidage inférieure 18, et en ce qui concerne la portion intermédiaire 7, par gravure en ruban de la couche de guidage supérieure 22 et gravure plus profonde, de part et d'autre du ruban jusqu'à la couche de guidage inférieure 18. Dans les zones d'extrémité 6 et 8, la structure des guides optiques est du type "dilué" et dans la zone intermédiaire 7 la structure des guides optiques est du type "simple hétérostructure". La lumière se propage dans les portions de guides présentant la structure diluée avec un mode large et dans les portions de guide présentant la structure de type simple hétérostructure avec un mode étroit. La structure de type dilué présente un indice effectif, équivalent à l'ensemble des couches, proche de celui du substrat et la biréfringence est faible (relativement à la biréfringence d'une simple hétérostructure), de l'ordre de 5 10-3 dans les exemples de réalisation décrits. Chaque guide optique gk présente, dans les zones d'extrémité 6 et 8, une section trapézoïdale se rétrécissant vers le haut comme représenté sur la figure 6. La forme trapézoïdale améliore le confinement de la lumière dans les virages. La largeur des couches de confinement intermédiaire 19, de guidage supérieure 20 et de confinement supérieure 21 décroît vers le haut, valant 9,6,m à la base et 4 lm au sommet. Chaque guide optique gk est réalisé, dans la zone intermédiaire 7, par gravure en ruban de la couche de guidage supérieure 22, comme représenté plus particulièrement sur la figure 8. La largeur de ce ruban vaut 2 itm. Pour réaliser un adaptateur de mode T à la jonction d'une portion de guide optique située dans une zone d'extrémité 6 ou 8 et d'une portion de guide optique située dans la zone intermédiaire 7, on grave le guide optique en forme de sablier comme représenté sur les figures 3, 4 et 5. La largeur du guide optique situé dans la zone d'extrémité 6 décroît linéairement dans une région référencée 23 jusqu'à atteindre 2.m. Elle est ensuite constante dans une région référencée 24, constituant la partie centrale du sablier. Le ruban gravé dans la couche de guidage 22 arrive à mi-longueur environ de cette région 24. Dans cette dernière, le ruban 22 repose sur un empilement de couches de confinement intermédiaire 19, de guidage intermédiaire 20 et de confinement supérieure 21 présentant une section de forme trapézoïdale se rétrécissant vers le haut. La largeur de l'empilement croît linéairement dans une région référencée 25 en direction de la zone intermédiaire 7. Après élargissement, les couches sur lesquelles reposent les rubans associés à chaque guide gl,..., gn dans la zone intermédiaire 7 s'étendent continuement sous les rubans, comme représenté sur les figures 5 et 8. On a représenté sur la figure 9 une variante de réalisation d'adaptateur de mode pour un filtre 1 dans lequel le ruban gravé dans la couche de guidage supérieure 22 s'élargit dans la région de transition 25 pour atteindre 3 1m. Les guides optiques 4' et 5' du filtre multilongueur d'onde 1' sont réalisés, après formation d'un masque, par gravure en ruban de la couche de guidage supérieure 22. Les zones d'expansion 2' et 3' sont également réalisées par gravure de la couche de guidage supérieure 22. Les guides optiques g b,.., gn sont réalisés, en ce qui concerne leurs portions s'étendant dans les zones d'extrémité 11 et 13, par gravure en ruban de la couche de guidage supérieure 22 dans une région 26 adjacente à une zone d'expansion 2' ou 3' puis par gravure plus profonde, jusqu'à la couche de guidage inférieure 18, au-delà de cette région 26, comme cela apparaît sur la figure 9. Les guides optiques gl,..., gn sont réalisés, dans la zone intermédiaire 12, par enlèvement de la couche de guidage supérieure 22 et gravure jusqu'à la couche de guidage inférieure 18. Des adaptateurs de mode T' sont réalisés entre chaque portion de guide s'étendant dans une zone d'extrémité 11 ou 13 et la portion de guide s'étendant dans la zone intermédiaire 12. Chaque adaptateur de mode T' présente une forme en sablier comme représenté sur la figure 9. Plus précisément, la largeur de la portion de guide située dans une zone d'extrémité 11 ou 13 décroît linéairement dans une région référencée 27 pour passer de 3 Nom à 2,m. Elle est ensuite constante dans une région référencée 28, constituant la partie centrale du sablier. La couche de guidage supérieure 22 s'interrompt à mi-longueur environ de cette région 28. La largeur de l'empilement des couches de confinement intermédiaire 19, de guidage intermédiaire 20 et de confinement supérieure 21 s'élargit dans une région référencée 29 jusqu'à atteindre, dans l'exemple décrit, une largeur dans la zone intermédiaire 12 égale à 4 tm (mesurée au sommet de la section trapézoïdale). Finalement, l'invention permet de réaliser un filtre multilongueur d'onde insensible à la polarisation, pouvant être intégré au sein d'une structure monolithique avec d'autres composants optiques ou opto- électroniques. La configuration correspondant à la figure 1, dans laquelle la zone intermédiaire 7 présente une structure de type simple hétérostructure et les zones d'extrémité 6, 8 une structure de type dilué présente l'avantage de conduire à un filtre 1 d'encombrement réduit, du fait que la largeur des guides optiques est moindre sur leur portion située dans la zone intermédiaire, de type simple hétérostructure, que sur leur portion située dans les zones d'extrémité de type dilué. La configuration correspondant à la figure 2, dans laquelle les zones d'extrémité 11, 13 présentent une structure de type simple hétérostructure et la zone intermédiaire 12 une structure de type dilué, présente l'avantage d'augmenter le nombre de guides optiques que l'on peut coupler aux dioptres plans 2' et 3', toujours en raison du fait que la largeur des guides optiques est moindre quand leur structure est du type simple hétérostructure. Bien entendu, l'invention n'est pas limitée aux exemples de réalisation décrits. On peut notamment remplacer, en variante, une structure de type dilué par une autre structure présentant un indice effectif (indice équivalent à l'ensemble des couches) proche de l'indice du substrat, de manière à obtenir une biréfringence faible. On peut également enterrer les structures de filtre décrites dans un matériau présentant un indice de réfraction plus faible que celui des couches de guidage, par exemple de l'InP. REVENDICATIONS 1/ Filtre multilongueur d'onde (1; 1') à faisceau de guides optiques (g1, ., gn) réalisés sur un même substrat et agencés de manière à ce que la réponse en longueur d'onde du filtre dépende du déphasage subi par la lumière dans les guides optiques du faisceau, le filtre étant du type dans lequel l'insensibilité à la polarisation est obtenue par une variation de la biréfringence des guides optiques, ces derniers présentant chacun au moins sur deux portions de leur longueur des biréfringences différentes, caractérisé en ce que lesdites portions sont reliées par un adaptateur de mode..CLMF: (T; T'). 2/ Filtre selon la revendication 1, caractérisé en ce que les guides optiques dudit faisceau ont dans deux zones d'extrémité (6, 8; 11, 13) même biréfringence et dans une zone intermédiaire (7; 12) une biréfringence différente de celle desdites zones d'extrémité, les transitions entre chaque zone d'extrémité et la zone intermédiaire s'étendant selon des plans respectifs inclinés par rapport à la direction de propagation de la lumière dans les guides. 3/ Filtre selon l'une des revendications 1 et 2, caractérisé en ce que l'adaptateur de mode (T; T') présente une forme en sablier. 4/ Filtre selon l'une des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que lesdites portions de guide reliées par l'adaptateur de mode (T; T') présentent des structures respectivement de type dilué et simple hétérostructure. / Filtre selon la revendication 4, caractérisé en ce que ladite structure de type dilué comporte l'empilement de couches suivant: - une couche de confinement inférieure (17), de préférence en matériau binaire InP et de 1 tm d'épaisseur, - une couche de guidage inférieure (18), de préférence en matériau quaternaire InGaAsP et de 0,1 im d'épaisseur et de longueur d'onde de bande interdite kg égale à 1,3 lm, d'indice de réfraction supérieur à celui de la couche de confinement inférieure (17), - une couche de confinement intermédiaire (19), de préférence en matériau binaire InP et de 1.m d'épaisseur, d'indice de réfraction inférieur à celui de la couche de guidage inférieure (18), - une couche de guidage intermédiaire (20), de préférence en matériau quaternaire InGaAsP et de 0,1 lm d'épaisseur et de longueur d'onde de bande interdite Xg égale à 1,3 jtm, d'indice de réfraction supérieur à celui de la couche de confinement intermédiaire (19), - une couche de confinement supérieure (21), de préférence en matériau binaire InP et de 1 im d'épaisseur, d'indice de réfraction inférieur à celui de la couche de guidage intermédiaire (20). 6/ Filtre selon l'une des revendications 4 et 5, caractérisé en ce que ladite structure de type simple hétérostructure comporte l'empilement de couches suivant: - une couche de confinement inférieure (17), de préférence en matériau binaire InP et de 1 tm d'épaisseur, - une couche de guidage inférieure (18), de préférence en matériau quaternaire InGaAsP et de 0,1 rtm d'épaisseur et de longueur d'onde de bande interdite Xg égale à 1,3.m, d'indice de réfraction supérieur à celui de la couche de confinement inférieure (17), - une couche de confinement intermédiaire (19), de préférence en matériau binaire InP et de 1 [m d'épaisseur et d'indice de réfraction inférieur à celui de la couche de guidage inférieure (18), - une couche de guidage intermédiaire (20), de préférence en matériau quaternaire InGaAsP et de 0,1 [Lm d'épaisseur et de longueur d'onde de bande interdite Xg égale à 1,3 [tm, d'indice de réfraction supérieur à celui de la couche de confinement intermédiaire (19), - une couche de confinement supérieure (21), de préférence en matériau binaire InP et de 1 Ulm d'épaisseur, d'indice de réfraction inférieur à celui de la couche de guidage intermédiaire (20), - une couche de guidage supérieure (22), de préférence en matériau quaternaire InGaAsP et de 0,65.im d'épaisseur et de longueur d'onde de bande interdite kg égale à 1,3.tm, d'indice de réfraction supérieur à celui de la couche de confinement supérieure (21). 7/ Filtre selon l'une des revendications 5 et 6, caractérisé en ce que ledit empilement des couches de confinement intermédiaire (19), de guidage intermédiaire (20) et de confinement supérieure (21) est gravé de manière à présenter une section, prise dans un plan de coupe transversal à la direction de propagation de la lumière, trapézoïdale se rétrécissant vers le haut. 8/ Procédé de réalisation d'un filtre multilongueur d'onde (1) à faisceau de guides optiques (g1,..., gn), du type dans lequel l'insensibilité à la polarisation est obtenue par une variation de la biréfringence des guides optiques, ces derniers présentant au moins deux portions de leur longueur de biréfringences différentes, caractérisé en ce qu'il comporte les étapes consistant à: déposer par épitaxie la succession de couches suivante: une couche de confinement inférieure (17), de préférence en matériau binaire InP et de 1.tm d'épaisseur, - une couche de guidage inférieure (18), de préférence en matériau quaternaire InGaAsP et de 0,1 jlm d'épaisseur et de longueur d'onde de bande interdite Xg égale à 1,3 Ulm, d'indice de réfraction supérieur à celui de la couche de confinement inférieure (17), - une couche de confinement intermédiaire (19), de préférence en matériau binaire InP et de 1 lm d'épaisseur et d'indice de réfraction inférieur à celui de la couche de guidage inférieure (18), une couche de guidage intermédiaire (20), de préférence en matériau quaternaire InGaAsP et de 0,1 Ilm d'épaisseur et de longueur d'onde de bande interdite kg égale à 1,3 im, d'indice de réfraction supérieur à celui de la couche de confinement intermédiaire (19), - une couche de confinement supérieure (21), de préférence en matériau binaire InP et de 1 lm d'épaisseur, d'indice de réfraction inférieur à celui de la couche de guidage intermédiaire (20), - une couche de guidage supérieure (22), de préférence en matériau quaternaire InGaAsP et de 0,65 ilm d'épaisseur et de longueur d'onde de bande interdite Xg égale à 1,3 Ilm, d'indice de réfraction supérieur à celui de la couche de confinement supérieure (21). 25. former un masque, réaliser des guides optiques (4, 5) d'amenée et de départ de la lumière du filtre (1) par enlèvement de la couche de guidage supérieure (22) et gravure en ruban de la couche de confinement supérieure (21), réaliser des zones d'expansion (2, 3) reliées par le faisceau de guides optiques par enlèvement de la couche de guidage supérieure (22) et gravure, du côté des guides optiques (4, 5) d'amenée et de départ de la lumière du filtre (1), de la couche de confinement supérieure (21) et, du côté du faisceau de guides optiques (gl,..., gn), par gravure plus profonde jusqu'à la couche de guidage inférieure (18), réaliser des portions de guides optiques (g1,...., gn) s'étendant dans des zones d'extrémité (6, 8) par enlèvement de la couche de guidage supérieure (22) et gravure jusqu'à la couche de guidage inférieure (18), réaliser des portions de guides optiques (gl,..., gn) s'étendant dans une zone intermédiaire (7) reliant lesdites zones d'extrémité par gravure en ruban de la couche de guidage supérieure (22) et gravure plus profonde, de part et d'autre du ruban réalisé dans la couche de guidage supérieure (22) jusqu'à la couche de guidage inférieure (18), graver des adaptateurs de mode (T) en forme de sablier à la jonction des portions de guides respectivement situées dans une zone d'extrémité (6; 8) et dans la zone intermédiaire (7). 9/ Procédé de réalisation d'un filtre multilongueur d'onde (1') à faisceau de guides optiques (gl,..., gn), du type dans lequel l'insensibilité à la polarisation est obtenue par une variation de la biréfringence des guides optiques, ces derniers présentant au moins deux portions de leur longueur de biréfringences différentes, caractérisé en ce qu'il comporte les étapes consistant à: déposer par épitaxie la succession de couches suivante: une couche de confinement inférieure (17), de préférence en matériau binaire InP et de 1 tm d'épaisseur, -une couche de guidage inférieure (18), de préférence en matériau quaternaire InGaAsP et de 0,1 im d'épaisseur et de longueur d'onde de bande interdite Xg égale à 1,3 jlm, d'indice de réfraction supérieur à celui de la couche de confinement inférieure (17), - une couche de confinement intermédiaire (19), de préférence en matériau binaire InP et de 1 km d'épaisseur et d'indice de réfraction inférieur à celui de la couche de guidage inférieure (18), une couche de guidage intermédiaire (20), de préférence en matériau quaternaire InGaAsP et de 0,1.m d'épaisseur et de longueur d'onde de bande interdite Xg égale à 1, 3 ilm, d'indice de réfraction supérieur à celui de la couche de confinement intermédiaire (19), - une couche de confinement supérieure (21), de préférence en matériau binaire InP et de 1 tm d'épaisseur, d'indice de réfraction inférieur à celui de la couche de guidage intermédiaire (20), - une couche de guidage supérieure (22), de préférence en matériau quaternaire InGaAsP et de 0,65 i.m d'épaisseur et de longueur d'onde de bande interdite Xg égale à 1,3 1tm, d'indice de réfraction supérieur à celui de la couche de confinement supérieure (21). former un masque, réaliser des guides optiques (4', 5') d'amenée et de départ de la lumière du filtre par gravure en ruban de la couche de guidage supérieure (22), former des zones d'expansion (2', 3') reliées par le faisceau de guides optiques par gravure de la couche de guidage supérieure (22), réaliser des portions de guides optiques (gl,... , gn) s'étendant dans des zones d'extrémité (11, 13) par gravure en ruban de la couche de guidage supérieure (22) dans des régions (26) adjacentes aux zones d'expansion (2', 3') puis par gravure plus profonde, jusqu'à la couche de guidage inférieure (18), au-delà de ces régions (26), réaliser des portions de guides optiques (gl,..., gn) s'étendant dans une zone intermédiaire (12) reliant lesdites zones d'extrémité par enlèvement de la couche de guidage supérieure (22) et gravure jusqu'à la couche de guidage inférieure (18), 15. graver des adaptateurs de mode (T') en forme de sablier à la jonction des portions de guides respectivement situées dans une zone d'extrémité (11 13) et dans la zone intermédiaire (12).