Brevet FR2726905A1 — publié le 19960515

DISPOSITIF DE COMPENSATION DES DEFORMATIONS D'UNE PARTIE D'UN SYSTEME OPTOMECANIQUE OU MICROMECANIQUE DESCRIPTION Domaine technique auquel se rapporte '-n-.vent on L'invention concerne les techniques de compensation de déformations parasites, suivant certaines directions, de parties mobiles d'appareils de mesure, tels que des capteurs de vibration (par exemple, microphone) ou des accéléromètres, ou d'appareils tels que les commutateurs électro-optiques utilisés dans les réseaux de télécommunication. Ces techniques concernent essentiellement des microstructures. L'invention trouve donc essentiellement application dans les domaines de la micromécanique ou de l'optomécanique utilisant par exemple de l'optique intégrée. Etat de la technique Différentes techniques ont été proposées afin de résoudre, soit dans le domaine de l'optomécanique, soit dans le domaine de la micromécanique, les problèmes de déformation parasite, suivant une certaine direction, de certaines parties mobiles des appareils, la mobilité de ces parties ayant lieu suivant une ou des directions différentes de la direction suivant laquelle s'exerce la déformation. Généralement un système d'optomécanique utilisant de l'optique intégrée nécessite le dépôt de couches minces sur un substrat. De par les techniques et les matériaux utilisés, les couches ainsi réalisées présentent une inhomogénéité de contrainte dans leur épaisseur. Il s'ensuit une déformation parasite du 2 2726905 système, dans la direction perendculalre au n'an du substrat, lorsque l'on libère la szruc-_ure du substrat. En général, l'optique intégrée ne peur se permet tre de telles déformations, qui peuvent ccnduAre à désaxer ou à décaler des struccures de guide cptiue l'une par rapport à l'autre. Ern effet, dans de celles struccures, des décalages de l'ordre du micron enrra!nent dé&à des pertes optiques importantes. Jusqu'à présent, pour éviter ces problèmes de déformation, on a employé, dans le domaine de l'optomécanique, les techniques su- vantes: - ou bien on évite à tout prix de dégager des structures susceptibles de désaxer deux guides optiques l'un par rapport à l'autre, - ou bien on réalise des structures dont la déformation recherchée est commandée dans la directcin perpendiculaire au substrat, ce qui permet par là même de rattraper la déformation parasite due aux contraintes. Mais ces deux démarches lmicent de façon considérable les structures envisageables et donc, notamment, les applications de l'ootomLécanique. Dans le domaine de la micromecanique, les matériaux utilisés sont en majorité le siicium sous ses différentes formes, et plus ponctuellement la silice, le quartz,!'AsGa ou les polymères. Ces matériaux sont traités par des technologies qu'on peut classifier en deux groupes: - un premier groupe dans lequel la structure est réalisée dans le substrat lui-méme, à l'aide de la technique dite de gravure humide, en profitant des directions préférentielles de gravure des crisraux, - des techniques o la structure est réalisée dans les couches minces déposées auparavant sur un substrat, et ceci à l'aide des rechniaues de grav-es sèche et humide. La structure est ensuite -dégagée en gravant de manière isotrope une couche sacr:é cielle placée au-dessous. Dans la quasi-totalité de ces structures, excepté celles réalisées dans des mcnccisaux, on rencontre des problèmes de déforma:ions parasites dues aux contraintes internes. Ces contraintes sont de deux types: - contraintes thermiques, dues à La différence de coefficient de dilatation des diverses couches, - contraintes intrinsèques qui sont direccement iées a la structure des matériaux déposés. Les solutions qui ont été proposées pour résoudre ces problèmes de contraintes dépendent énormément du matériau et des techni-cues de dépôt. En général, ces solutions essayent de jouer sur les contraintes intrinsèques du matériau. Ainsi, on peut jouer sur: - la température de dépôt; _l es: préférable d'effectuer les dépôts à basse température pour limiter les contraintes, - le pourcentage d'azote dans le silicium; selon que l'on s'approche plus de la strucure Si3N4 ou de structure SiO2, on aura des couches en tension ou en compression. Ceci est détaillé dans l'article de C.M. Drum, intitulé: "A low-stress insulating film on silicon by chemical vapor deposi-Jon", aru dans Journal of Applied Physics, vol. 39, n 9, pp. 4458- 4459, août 1968. - le dopage; suivant la nature des atomes placés en substitution, on obtient des contraintes en compression ou en tension. On peut également utiliser une étape de recuit ("annealing" en terminologie anglo-saxonne), qui permet d'atteindre un relâchement des contraintes par chauffage. Ces:ech:iques sont décrites dans "Con-trol Cf residual stress of polysilicon thin film by heavy dcping in surface micromachining", M. ORP.ANA e: a., 1991, International Conference on Solid s:ate sensors and actuators, Digest of Tecni ca Papers, p. 957-960. Ces techniques, tout comme les technicues mentionnées ci-dessus dans le domaine de i'cptique intégrée, présentent les inconvénients suivants: elles nécessitent une intervent-on directe sur le matériau et/ou sur -a géométrie des composants, - elles nécessitent une étape technologique supplémentaire, même si ces étapes sont réalisées simultanément à la formation des composants. En outre, les solutions utiLi-sées en micromécanique sont très difficilement -transposables à l'optomécanique. En effet, dans le domaine de 'orDtomécanique, on utilise des couches minces déposées sur un substrat. Or, dans la majorité des cas, les:echnicues de la micromécanique appliquées à ces composants ont pour but de minimiser la contrainte totale "moyenne) dans la couche mince afin de limiter les déformations de l'ensemble substrat-couches minces. Dans le cas ou la structure est réalisée dans les couches minces uniquement, l'origine des déformations ne se trouve plus dans la contrainte moyenne de a couche mais dans le gradient de contraintes dans cette même couche. Ce gradient peut être dû: - à la différence de contraintes entre les diverses couches d'indices optiques différents, nécessaires à la structure optique intégrée (par exemple couche de silice de dopage en phosphore différent), 2726905 - à la différence de contrai nes nt insèaues ou thermiques, entre le matériau cons:i:uant!a structure optique (par exemple, :a solice), et une éventuelle couche mince déposée au-dessus cour obtenir une fonction par(icu!iere car exempLe, de l'aluminium pour réaliser des éleczrozes, au gradient de contraintes qui peu: exister dans une même couche, en fonction de la méthode de déeôt, des impuretés, etc., - au fait que les couches utilisées ne sont cas des couches monocristallines; elles sont déposées sur le substrat par des méthodes diverses (PECVD, LPCVD, APCVD, croissance thermique, pulvérisation, etc.) et ceci entraine forcément des problèmes de contrainte et donc de déformation parasite. En outre, on ne peut pas jouer Librement sur les épaisseurs des différentes couches optiques en vue d'équilibrer les contraintes, sans risquer de détériorer ou même de détruire le guidage optique. Par ailleurs, il existe, pour un composant optomécanique, des limitations au niveau du matériau. En effet, la réalisation d'un guidage optique nécessite un contrôle précis des indices optiques des matériaux. Or, tous les paramètres influant sur -a structure du matériau influent également sur son n--cce. Cec- rend donc très delicate L'utilisation des méthodes classiques de micromécanique sur sq'iciAn oui traitent, de façon parfois violente, le matériau dans son ensemble (par exemple par recuit thermique, par dopage, etc.). De plus, l'ajout de couches supplémentaires en vue d'équilibrer les contraintes entralne également des risques importants au niveau du guidage optique, toujours à cause des problèmes d'indice. 6 2726905 Exposé de l'invention La présente invention zherche à résoudre ces problèmes. Plus particulièrement, elle propose une solution permettant d'évite-r cou: ra temen: des substrats ou des couches des ccmposan-s renconrrés dans le domaine de la micromécanique ou rans e daomane de l'optomécanique. De façon plus précise, la présence invention a pour objet un dispositif de compensation des déformations, suivant une premiere dlrection, d'une partie mobile d'un appareil de micrcmécan-que ou d'un appareil comportant une structure optique guidante, la partie mobile présentant deux extrémiîes, dont l'une, dite extrémité fixe, se rattache à une partie fixe de l'appareil, et dont l'autre est dite extrémité libre, ladite partie mobile pouvant ainsi se déplacer suivant une deuxième direction, différente de la première direction, ledit dispositif de compensation étant caractérisé en ce qu'il comporte au moins un bras reliant d'une part l'extrémité libre de la partie mobile et d'autre part la partie fixe de l'appareil, ce (respectivement ces) bras présentant une souplesse suffisante selon la deuxième direction, de maniere à ne pas entraver le déplacement de la part e mobile selon cette deuxième direction, et une rigidié suffisante suivant la première direction, de manièere à limiter les déformations de la partie mobile suivant cette première direction. Le dispositif de compensation selon l'invention est entièrement mécanique et évite tout traitement de la structure ou de la partie mobile dont. on veut compenser la déformation, en parziculier tout traitement thermique ou tout traitemen_ chimique. Dans le cas o l'appareil présente des structures op:iques 7 2726905 guidantes, on n'a pas non opus à toucher a la eome:rie de ces structures. En outre, on evT:e toute etape technologique supplémentaire, par rapporE a celles relatives à la préparation des couches. Par exemc!e, si la partie mobile est gravée, la structure co:nesa-rice est gravée en même temps cue la sTrucTure... ae c'est-à- dire en même temos cue la par:ie mocie. En outre, la technique de gravure est une:echniaue de mise en oeuvre plus simple que les autres solutions qui cherchent à réaliser un équilibre des con:rainnes, par exemple par dopage ou par recuit. Avantageusement, le ou les bras de ccmcensation sont reliés à la partie fixe située latéralement a _a partie mobile ou à la partie fixe en regard de l'extrémité libre de ladite partie mcobie. La partie mobile peut comporter plusieurs poutres reliées entre elles. La présente invention concerne ega!ement un procédé de détermination du dimensionnement du ou des bras d'un dispositif de compensation tel que décrit ci- dessus, ce procédé étant caractérisé en ce cue - on détermine en un coint dit coin: critique une déformation parasite D de la partie mobile, suivant la première direction, dans le cas o la parTie mobile ne comporte pas de dispositif de cocmpensation des déformations, - on calcule quelle sollicitation mécanique écuiva!ence P, provoque la déformation parasite D au point critique, - on applique la sollicitation mécanique P à l'ensemble constitué par la partie mobile et car le dispositif de compensation et on en déduit la déformation mécanique parasite Dt de la partie mobile avec système de compensation, 8 2726905 - on détermine le dimers-cnnemen: du discs o i:- ce compensation pour que la déforma:ion mécanfque parasite Dt soit inférieure à une valeur mi1e souhaitée Dc. D'autres aspects de l'inventocn a-oaraissent dans les revendications dépendantes. Brève description des figures Les caractéristiques et avantages de l'invention apparaîtront mieux à la l'mière de la description qui va suivre. Cette description porte sur les exemples de réalisation, donnés à Hère explicatif et non limitatif, en se référant à des dessins annexés sur lesquels: - la figure 1 représente un comrmutateur optomécanique selon l'art antérieur, sans système de compensation, - les figures 2a et 2b représentent des étapes de réalisation d'un commutateur optomécanique selon l'art antérieur, avant (figure 2a) et après (figure 2b) gravure du substrat, - la figure 3a représente un commutateur optomécanique avec un système de compensation selon l'invention, - la figure 3b représente de façon plus détaillée un bras de compensation, - la figure 4 représente un commutateur optomécanique avec un dispositif de compensation selon une variante de l'invention, - les figures 5a et 5b illustrent des étapes d'un procédé de dimensionnement d'un dispositif de compensation selon la présente invention, - la figure 6 illustre un accéléromètre avec un dispositif de compensation selon l'invention. Description détaillée de modes de rea isation de l'invention L'invention va d'abord être cecrúe dans le cas de l'application à un com=utateur co-.mecan--ue. Un tel commutateur et son roceédé de fabrication sont décrits dans le brevet français FR-A-2 660 444 (brevet americain correscondant: US-A-5 078 514) La structure du c-.o.utateur décrit dans ce brevet va être brièvement racppelée, en iaison avec la figure 1. Le commutateur comprend une couch-e plane, ou structure guide 8 (qui peut être ccmposée d'une ou plusieurs couches), qui est réalisée sur un substrat 10 par exemple en silicium monocrista lin, et qui présente une face d'entrée E et une face de sortie S rigoureusement parallèles, obtenues par exemple par clivage. La structure guide 8 comporte par exemple une couche tampon 12 en oxyde de silicium (8 à 12 um d'épaisseur), et une couche supérieure 15 en silice (2 à 10 um d'épaisseur), cette dernière pouvant, pour certaines applications être remplacée par de l'air. La structure guide comprend également un microguide d'entrée 18 et deux microguides de sortie 20 et 22, en oxyde de silicium dopé par exemple par du choso. hore, de 2 à 6 pu de hauteur et de 2 à 8 um de large. Les microguides 18 et 20 sont paral èles à une direction x elle-même parallèle à la plus grande surface Sa de la couche plane ou structure guide 8, et ils sont disposés dans le prolongement l'un de l'autre e: de part et d'autre d'un évidement 24 traversant la structure guide 8. Un autre microguide de sortie 22 est situé du même côté de l'évidement 24 que le microguide 20 et est adjacent à ce dernier. Il comporte, du côté de la sortie S du commutateur, une partie 21, strictement 2726905 parallèle au microguide 20 et, du cote de 'eviement 24, une partie 23 formant un angle ren:ranr A avec la partie 21, d'une valeur comprise encre 0,06 et 6 environ, cette valeur étant liée à a dongueur de la poutre. On a donné ci-dessus un exemol e e éaisation particulier de structure guidante mals 'invention peut s'appliquer à d'autres types de st.ruc.res telles que par exemple celles obtenues par échange d'ions dans des substrats de type verre, niobate de lichium ou par dépôts ou gravures de couches du type silice, Si3N4, SiOxNy, AsGa, InP, etc..., le confinement latéraI dans le microguide n'étant pas forcément obtenu par gravure de la couche formant le microguide. L'évidement 24 définit, dans la structure 8 fixe, une poutre flexible 26 o-rienee au repos parallèlement à la direction x, cette coutre pouvant se déformer dans l'évidement 24 selon une direction y, parallèle à la surface 8a de la structure guide (qui, elle, définit une partie fixe) et perpendiculaire à la direction x. Cette poutre 26 comprend une extrémité fixe 28, solidaire de la structure guide 8, et une extrémité libre 30 apte à se déplacer dans l'évidement 24. Dans le prolongement du microguide '8 d'entrée, un microguide central 32 s'étend sur toute la ongueur de la poutre 26, son extrémité 33 débouchant à 'extrémité de celle-ci. La commutation du faisceau inc!dent véhiculé par le microguide d'entrée vers le i-crogui de de sortie 20 est assurée en amenant l'extrémité libre 33 du microguide central de a poutre en face et en coïncidence avec l'extrémité d'entrée 20a du microguide de sortie 20. La commutation vers le microguide de sortie 22 se fait en amenant l'extrémité libre 33 du microguide central en face et en coincidence avec 1 1 2726905 l'extrémité d'entrée 22a du microguide de sor:ie 22. La paroi interne de l'évidement 24, e regard de l'extrémité libre 30 de la poutre, est. .st.uée de deux parties 34a et 34b formant un angle rentrant de valeur proche ou identique à l'angle A. Les déformations de la ooutre cour amener celle-cien coincidence avec l'un ou l'autre des microguides de sortie, sont assurées, dans le mode de réalisation représenté sur la figure 1, à l'aide de ccndensateurs de capacité variable. A cet effet, les surfaces latérales de l'évidement 24, au niveau de _a structure guide 8, orientées selon la direction x, sont équipées de métallisations respectivement 36 et 46. Par ailleurs, les faces latérales de la poutre 26 en regard, orientées selon la direction x lorsque celle-ci est au repos, sont équipées de métallisations respectivement notées 38 et 44. Les métallisations 36 et 38 sont reliées à une source d'alimentation électrique 40, les métallisations 44 et 46 sont reliées à une source d'alimentation électrique 48. L'application d'une tension convenable aux bornes de la paire de condensateurs ainsi formée crée une force capacitive parallèle à la direction y et qui entraîne une déformation de la poutre 26 selon cette direction y. Cette force Fc permet un déplacement latéeral Yc de l'extrémité libre de la poutre 26, selon y, qui est donné par l'équation: Yc =3/2.Fc.h-1.(L)3.E-1 o E est le module d'Young, 1 la largeur de la poutre selon la direction y, L la longueur de la poutre selon la direction x et h l'épaisseur de la poutre selon la direction z. Le procédé de fabrication de cette structure est détaillé dans le brevet mentionné ci-dessus en référence. Ce procédé fait intervenir: 12 2726905 - une étape de formaticn de la couche '2, car exemple par oxydation thermique du substral ^, - le dépôt d'une couche de sp car -_CYD ou par PECVD, - une étape de gravure realisée à ravers un- masque défini par photolithographie our obteni-r Le microguide 32, - une étape de dépôt de la couche 16 car ecn e s de dépôt chimique en phase vapeur basse pression (LPCVD), ou assisté plasma (PECVD), - des étapes de gravure anisotrope et isotrope du type gravure ionique réactive avec, soit u Ci:3, soit du SF6; ces dernières étapes de gravure perme'tzent de dégager la poutre 26 de son substrat. L'étape de réalisation de la coutre en silice, par dépôt PECVD, avec différents dopages en phosphore, conduit à un gradient de contraintes selon la direction verticale y, qui est à l'origine d'une déformation du système. Ceci est illustré sur la figure 2a, o les références numériques identiques à cel es de la figure 1 y désignent les mêmes éléments. Cette figure représente la structure obtenue avant l'étape de dégagement de la poutre. Sur ce-te figure 2a, a2 désigne la contrainte à l'interface substrat 10-couche mince (12, 32, 16) et à, désigne la contrainte à la surface de la coucne mince. Du fait des difeérences de nature entre les sous-couches 12, 32 et 16, ainsi que des différences de dopage en phosphore dans la couche, il apparaît un gradient de contraintes dans la couche mince: la contrainte 02 est inférieure à La contrainte al. Ceci conduit, lorsque l'on dégage La poutre 26, c'est-à-dire lorsque l'on creuse la cavité 24 sous la poutre 26, à une déviation verticale de cette poutre qui désaxe complètement les guides optiques d'entrée et de sortie, ce qui rend le commutateur optique 13 2726905 parfaitement inopérant, comme illus-ré sur La figure 2b. Dans le cas du commuta teur co que, une première solution au problème, rencran: dans le cadre de la présente invention, es. ilustrée sur a figure 3a. Des références identiques a celles de la ficgure I y représentent les mêmes élémenrs. L'ensemble est représenté de manière plus schématiue que sur a figure 1. Le système de ccmpensation es_ constitué de deux bras 50, 52 qui relient l'extrémité libre de la poutre 26 au reste de la structure 3, qui est une partie fixe, puisque reliée au substrat 10 de silicium. Comme on le voit plus en détail sur la figure 3b, chaque bras 50, 52 peut être constitué d'un corps 51 en "U", une branche 53, 55 étant rajoutée à l'extrémité libre et de manière sensiblement perpendiculaire à chaque branche latérale du "U". L'extrémité libre d'une de ces branches 53, 55 est reliée à la poutre 26, l'extrémité libre de l'autre branche es. reliée au reste de la structure guide 8. Il en va de même pour le deuxième bras compensateur. La géométrie des bras compensateurs peut être envisagée de diverses façons. Néanmoins, les bras doivent être rigides dans le sens vertical (direction z) et souples dans le sens horizontal (plan xy). On peut jouer sur la géométrie des bras en augmentant le facteur de forme hauteur/largeur, la hauteur n et la largeur 1 étant identifiées sur la figure 3b comme étant la hauteur de la section du bras comcensateur dans une coupe verticale (suivant un plan parallèle à zx), et la largeur 1 étant la largeur du bras compensateur dans la même coupe verticale. En jouant sur ce facteur de forme, on peut obtenir une souplesse 14 2726905 suffisante, dans le plan xv, pour ne -as entraver les déplacements de la pouzre dans ce m-mre plan e: une rigidité suffisante, suivant la d- e on Z, pour limiter les déformations de la poutre suivanr cette même direction. Selon un autre noce de reaz sa- n, es bras sont droits ou de forme droite Un autre mode de réalisation des bras compensateurs, dans le cas d'un commutateur optomécanique, est illustré sur la figure 4. Sur cette figure, on voit encore deux bras comen-sateurs 56, 58, mais chaque bras est approximativement en forme d'équerre avec deux segments sensiblement perpendiculaires l'un a 'autre. -à encore, on jouera sur le rapport de forme hauteur/1argeur de 'a section de chaque bras, de façon à lui donner la rigidité désirée dans le sens vertical et la soupLesse souhaitée dans le plan horizontal. Le système peut aussi fonctionner avec un seul bras compensateur. Néanmoins, un mode préféré de réalisation est celui o Le système est symétrique dans le plan horizontal (comme sur les figures 3a et 4, par rapport à un plan médian parallèle à zOx). D'une façon plus générale, si la partie mobile donc on veut corriger les déformations présente ne certaine symétrie spatiale, il est souhaitable que Le système de compensation présente la même symétrie. Cete géométrie permet d'éviter les petites déformations latérales qui pourraient apparaître par flambage des bras, du fait que la silice, ou le matériau constitutif de la partie mobile, se trouve globalement en compression. La méthode suivante permet de modéliser et de simuler l'influence de l'inhomogénéité des contraintes 2726905 dans la structure pr/ncioa e, ou par-:e mcbile, dont on veut compenser la déformation, et d'en déduire un dimensionnement plus précis des bras coensateurs, de façon à ce que la déformation ne dépasse pas une valeur critique. La méthode est La suivante: - On prévoit ou on observe ur.e déaecrma:__o paraste D de la partie mobile, par exemple due à une répartition inhomogène des contraintes dans cette partie mobile. On mesure cette deéformation au point critique de la structure. - On calcule alors quelle solLicitation mécanique équivalente simple P (force, moment) provoquerait la même déformation D au point critique, sans système de compensation. - On applique théoriquement cette sollicitation ? à la structure complète, c'est-à-dire à la structure précédente à laquelle on a rajouté La structure de compensation. - On analyse alors la façon de dimensionner cette structure de compensation pour que la déformation parasite du système complet au point critique soit inférieure à une valeur limite souhaitée Dc. (On entend par point critique, Le centre de la poutre à l'extrémité libre de la poutre). On peut modéliser de manière analytique e système, en utilisant la théorie mécanique des poutres. Ainsi, dans un premier temps, avant Les étapes décrites ci-dessus, on peut ramener la partie mcobie en question à une poutre équivalente, ayant la même longueur, le même moment d'inertie et le même module d'Young que ladite partie mobile. La modélisation qui suit est valable pour des poutres de géométries différentes, les différences de géométrie se retrouvant dans le calcul des moments d'inertie de ces poutres. 16 2726905 Afin de préciser les notations, on se reportera aux figures 5a et 5b. La figure za représenhe la déviation D d'une poutre simmce de 'ongueur L, de rigidité E1xIl, sous l'action d'une force conc:uelle P appliquée à son extrémité libre. 7a - gure Sb représente la même poutre de longueur L avec son système de compensation. Ce dernier est ramene au modèle d'une poutre de longueur L-, dont une des extrémités est encastrée dans un support fixe, en un point A, alors que l'autre extrémie, ibre, es, reliée à l'extrémité libre de la poutre de icngueur L. Cete dernière est encastrée dans un supporc fixe en un point O, qu'on prend également comme origine d'un repère Oxz. L'ensemble des deux poutres a une longueur Lc=L+Lp. Le système de compensation a une rigidité -2xI2. De plus, on adopte les notations suivantes: - E1 représente le module d'Young de la poutre principale, - Il est le moment d'inertie de la poutre principale, - E2 représente le module d'Young de la poutre de compensation, - 12 est le moment d'inertie du système de compensation, - Dt est la déviation du point criticue à l'extrémité de la poutre principale avec système de compensation, - Dm est la déviation maximale du système complet (poutre principale + poutre de compensation), - xm représente la position longitudinale du point de déviation maximale du système complet. On observe d'abord une déviacion D, suivant la direction z, de la poutre principale, sans système de compensation. La force nécessaire pour obtenir cette déviation D de la poutre, sans système de compensation, est donnée par: P= 3 El1.D 17 2726905 On applique ensuie cette force P au système complet, c'est-à-dire poutre princiale - poutre de compensation, le point d'appidca:ion de P étant toujours situé à l'extrémité de la poutre principa!e au niveau du point critique. On car-len: alors, en utilisant la théorie des Doutres dans _e nomaine de La résistance des matériaux, à déterminer _a déformée du système, de part et d'autre du ooln: d'application, c'est-à-dire, pour chaque point d'abscisse x, le long de la poutre principale ou de a poutre de compensation, l'amplitude de la déviation étant respectivement zl(x) ou z2'x) Le système étudié est décrit sur la figure 5b. De par la nature des appcuis (2 encastrements), la structure étudiée constitue un système hyperstatique, c'est-à-dire que les équations de a statique ne suffisent plus à déterminer toutes les réactions d'appui. Il devient donc nécessaire d'établir des relations supplémentaires fondées sur ia considération de la déformée du système. Ces conditions supplémentaires résident dans le fait que la déformée du système doit présenter une tangente horizontale aux 2 points d'encastrement. en utilisant des hypothèses classiques de la mécanique des poutres (Loi deHooke, faibies déformations, flexion pure) ainsi que le théorème de superposition, on parvient à déterminer la déformée du système complet (poutre principale et système de compensation). On obtient alors la déformée du système pour 0 91 ___ /., E, ()('1.J3) Edl1W 9 1'1' _=IZ:1 [1. 11'9 iT ' W Yz- 3-l- - àY c 9W VL1 13).ú1 d z-x. 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On rappelle que l'objectif est de rigidifier 'en- semble dans le sens vertical pour aligner les guides optiques, couz en conservant la souplesse dans Le sens de la déviation, par exemple, électrostatique ou éleczromacnétique. On a choisi, pour l'application numérique, la configuration la plus simple, à savoir celle représentée sur la figure 4, les bras de compensation étant en équerre. Si chaque équerre possède deux segments de bras orthogonaux, un segment de longueur LI et un segment de longueur L2, chaque bras est assimilé à un bras droit dont la longueur L? est égale à L1+L2. Ceci signifie, en outre, qu'on néglige 'inuence de la torsion de la poutre de compensation au niveau de l'angle entre les deux segments de bras. Soient h la hauteur (suivant la direction z) et 1 la largeur (suivant la direction y) de la outre principale, et lp la largeur et hp la hauteur (toujours suivant la même direction z) de la section de la poutre de compensation. Le moment d'inertie de la structure principale vaut donc:11(Ixh)3 vaut donc:1=1=, pour une déviation suivant la direction z. Le moment d'inertie du système de compensation (Ipxhp)3 vaut:12 = 6, pour une déviation suivant la direction z. La méthode a été appliquée à un système dont les paramètres ont les valeurs suivantes: - poutre principale: E1 =7xlOlO0N/m2, L = 2000 um, 1 = 30 um, h = 25 un, - Système de compensation: 22 2726905 E2=7xlO010N/m2, lp = 2 hm i = 25 7, L= n Gueur a déterminer. Suivant la longueur des bras, on ratt-rape plus ou moins de déviations parasl:es. Les résultats, pour plusieurs cas, sont rasserblés dans le tableau ci dessous. Les valeurs indicuées dans ce:abeau son: les déviations au point d'application de!a force, c'est-à- dire en bout de poutre principale. Cette valeur ne correspond pas à la déviation maximale de la structure qui, en général, ne se situe pas au poin: d'acc!cacion de la force. TABLEAU I DEVIATION DEVATION DEVMTION DEVIATION PARASuE AVEC BRAS AVEC BRAS AVEC BRAS D (microns}:. (micrnons) (microns) (microns} Lt1000 microns L=50O microns Lp=200 microns 6,45 1,40 0,i5 2,58 0,56 0,06 1 0,13 0,03 0,00 D'après les résultats numériques, il est clair que le système de bras compensateur permet de ratt:raper une partie de la déviation parasite. Ainsi, par exemple, si l'on désire ramener les 20 um de déviation des poutres de 2 =m de longueur à une valeur inférieure au micron, très compatible avec l'optique intégrée, il faut ajouter le système de compensation constitué de deux bras de 500 um de long. Si l'on désire passer à une déviation inférieure à 0,1 gm, on utilisera deux bras de 200 umn de long. Une fois la longueur nécessaire des bras compensateurs déterminée, la réalisation du système est identique à la réalisation décrite dans le brevet 23 2726905 FR-A-2 660 444 (US-A-5 078 514). a __éalsation es bras s'effectue en même temps zue la -realisaion de la poutre principale, par gravure. Seule la géomeérie du masque choisi pour réalisé la gravure crange. Dans l'exemple de réa isati- oreécédemmen: donné, les bras sont donc formés par les couch-.es 12 e- 16. L'exemple qui suit (figure 6) se rapporte au domaine de l'accélérométrie, e: olus rare lièrement à un accéléromètre optomécanique. L'accélércmètre est réalisé dans une couche 76 (par exemple en silice) qui repose sur un substrat 80 (par exemple en silicium). Sous l'inf'luence d'une accélération y, une masse 68 placée à l'extrémité d'une poutre 66 se déplace atéralement, provocuant une déviation d'un guide optique 72 qui passe longitudinalement à travers cette poutre '6. En repos, la sortie de ce guide 72 se trouve en regard de l'entrée d'un guide 70, incorporé dans la partie fixe, à savoir la couche 76. L'accélération provoque un désaxement du guide d'entrée 72 et du guide de sortie , suivant la direction y. Un faisceau de uimiere d'entrée est véhiculé par le guide 72, e: on mesure en sortie du guide 70 l'intensité transmise. En cas d'accélération latérale (y) s'ensuit- une modification de l'intensité l'umineuse en sortie, qui est directement liée à l'accélération y!. Mais, afin de pouvoir réaliser une mesure correcte, les deux guides doivent être alignés dans la direction z au recos, d'o l'intérêt de bras de compensation mécaniques 60, 62. L'effet technique obtenu par ces deux bras est d'apporter une rigidité suffisante à la masse 68, suivant la direction verticale z, tout en la laissant libre de se déplacer suivant la direction y. Le 24 2726905 dimensionnement de ces deux bras peu trre réalisé à l'aide de la méehode décrice ci-dessus. On peut également utiliser des bras avant d'aures formes, car exemple celle de la figure 3b. D'une façon plus générale, I'invent on qui a été décrite permet de contrôler les -eéfor.ma-ons de structures mécaniques réalisées dans des couches minces présentant un gradient de contrain:es. On oarvient ainsi à conserver l'alignement des guides optiques sur les puces d'optiques intégrées présentant une structure mécanique. Cette invention s'applique donc à toutes les solutions industrielles nécessitant un système inzégré optomécanique, o l'alignement des guides optiques pose problème. On peut donc fabriquer des acceéeéromètres, des microphones, des capteurs de pression, etc., mais également des dispositifs actifs pour les télécommunications, comme le commutateur optomécanique qui permet de transférer un signal lumineux transporté par une fibre optique vers une quelconque fibre d'un réseau de fibres optiques de sortie. En outre, les applications ne son: oas limitées aux dispositifs o l'on rencontre des guides optiques, puisque le problème de la déviation d'une structure mobile suivant une direction car rappor à une structure fixe peut se poser auss bicen dans des appareils faisant intervenir, par exemple, des condensateurs à capacités variables, l'une des armatures du condensateur étant reliée à une structure mobile, l'autre armature à une structure fixe. 2726905 REVENDICATIONS 1. Dispositif de ccomensation des deformations, suivant une première direction (z), d'une aartie mcbile (26, 68) d'un appareil de micromécanirue ou d'un appareil comportant une structure ot uidante mobile suivant cette première direction. 2. Dispositif selon la revendicaticn L, le (ou les) bras de compensation étant relieés) à la partie fixe située latéralement à la partie mobile ou à la partie fixe en regard de l'extrémité libre de ladite partie mobile. 3. Dispositif selon l'une des revendications précédentes, la partie mobile comportant o!usieurs poutres reliées entre elles. 4. Dispositif de compensation selon une des revendications 1 à 3, la première (z) e: la deuxième (y) directions étant perpendiculaires entre elles. 26 2726905 5. Dispositif de compensat-c.n selon l'une des revendications 1 à 4, les bras 50, 52; 56, 58;60, 62) étant au nombre de deux. 6. Dispositif de compensatcon selon la revendication 5, la partie mobile orésentant une symétrie par rapport à un plan médian, les deux bras (50, 52; 56, 58; 60, 62) étant svmé ri-ques l'un de l'autre par rapport au même plan médian. 7. Dispositif de compensation selon l'une des revendications 1 à 6, le (ou les) cras o56, 58; 60, 62) ayant chacun une forme d'équerre, avec deux segments sensiblement perpendiculaires ''un par rapport à l'autre. 8. Dispositif de compensation selon l'une des revendications 1 à 6, le (ou les) bras (50, 52) comportant chacun un corps (51) en forme de "U", avec une branche (53, 55) rajoutée à l'extrémité libre de manière sensiblement perpendiculaire à chaque branche latérale du "U". 9. Dispositif de compensation selon l'une des revendications 1 à 6, le (ou les) bras étant de forme droite. 10. Commutateur optomécarnique comportant un dispositif de compensation selon l'une des revendications 1 à 9, la partie mobile comportant une poutre (26) équipée d'un microguide central 32). 11. Commutateur optomécanique selon a revendication 10, comportant en outre un substrat (10) supportant une structure guide (12, 16, 32), dans laquelle est définie la poutre (26) qui comporte le microguide (32), un évidement (24) pratique dans le substrat, un microguide d'entrée (18) et deux microguides de sortie (20, 22) définis dans la structure guide, les microguides d'entrée et de sortie étant disposés de part et d'autre de l'évidement (24), 27 2726905 et des moyens (36, 38, 44, 46, 40, 48) oour co.mmancer le déplacement de la poutre (26). 12. Accéléromèt-re otoomécan-que cmortant un dispositif de compensation sels- 'une des revendications 1 à 9, la partie mobile étant cc nsi uee par une masse (68) placée à 'extrémité d'une ou plusieurs poutres (66). 13. Accéléromètre selon la revendication 12, comportant en outre un substrat 380) supportant une couche (76) dans laquelle est définie _a masse (68) et la, ou les poutre(s) (66). 14. Accéléromètre selon la revendicaion 1 3, comportant un guide optique (72 qui passe longitudinalement à travers une poutre '66), au moins un guide optique (70) incorporé dans a couche 76) et situé en regard de l'extrémité mobile de la poutre. 15. Procédé de détermination du dimensionnement du ou des bras d'un dispositif de comeensation selon une des revendications I à 9, caractérisé en ce que: - on détermine, en un point dit point critique, une déformation parasite D de la partie mobile suivant la première direction (z), dans le cas o la partie mobile ne comporte pas de disposit-f de compensation, - on calcule quelle sollicitation mecanique équivalente P provoque la déformation parasite D au point critique, - on applique la sollicitation ? à i'ensemble constitué par la partie mobile et le disJosit' de compensation et on en déduit la déformation mécanique Dt de la partie mobile avec le disposi-if de compensation, - on en déduit le dimensionnement du disposit de compensation pour que la déformation parasite Dt soit inférieure à une valeur limite souhaitée Dc. 16. Procédé selon la revendication 15, dans lequel, de plus, on modélise la partie -mobile sous la 28 2726905 forme d'une poutre avan_ meme mcnmer, nene moment d'inertie et même module d'Young cue ladite parole mobile, et dans lequel cn mdcceése les bras compensateurs sous la forme d'une oo"ure _on: - er:ans paramètres sont à dé:erminer ncur oo:enir e dimensionnement du ou des bras. 17. Procédé selon ia revendca-:icn '6, dans lequel on détermine la longueur (L, e:/ou le module d'Young (E2) et/ou le moment d'inerie (I2) de la poutre qui modélise les bras compensa:eurs.-.