Brevet FR2732365A1 — publié le 19961004

Procédé continu d'électrozingage de bande métallique dans un bain d'électrolyse à base de chlorures pour obtenir des revêtements de faible rugosité sous des densités de courant élevées L'invention concerne un procédé électrolytique de dépôt de zinc à vitesse élevée et à faible rugosité de surface. II est connu qu'après un revêtement électrolytique de zinc sur la surface d'une tôle d'acier, la rugosité de la surface après dépôt est différente de la rugosité de la surface préalable au dépôt. Ainsi, on constate généralement une augmentation de la rugosité après dépôt électrolytique de zinc, notamment lorsqu'on utilise des bains d'électrolyse contenant des chlorures et notamment lorsque l'on procède sous des densités de courant élevées, par exemple supérieures à 50 A/dm2. Cette augmentation de rugosité , ou "prise de rugosité", peut atteindre 0,5 micromètres en terme de rugosité arithmétique (généralement notée Ra). D'une manière classique, on calcule la rugosité à partir de moyennes de plusieurs relevés profilométriques ou "profils" ; chaque profil est filtré en cours d'enregistrement au moyen d'un filtre électronique passe-haut réduisant l'amplitude des ondulations dépassant le seuil de filtrage à 75% de sa valeur dans le profil après filtrage ; le seuil de filtrage est par exemple de 0,8 mm ; l'étalement vertical de ce profil peut être représenté par la répartition de sa profondeur relativement à une ligne de référence donnée. Suivant la normalisation française (AFNOR E05.015/017/052), cette ligne de référence (Ox) est la droite menée parallèlement à la direction générale du profil et passant par ses points supérieurs . Sur l'axe des ordonnées (Oz), tracé perpendiculairement en O à Ox, sont portées les profondeurs du profil. L'écart du profil de rugosité par rapport à la ligne de référence Ox peut être considéré comme une variable aléatoire. Dans ce cas, L'ensemble des écarts ou profondeurs forme une certaine distribution statistique. On calcule ainsi la position de la ligne moyenne du profil et l'écart moyen arithmétique de la profondeur par rapport à la ligne moyenne, qui représente la rugosité arithmétique Ra. Pour obtenir des dépôts électrolytiques n'apportant qu'une faible augmentation de rugosité, dite "prise de rugosité", il est connu d'introduire dans le bain d'électrolyse des agents affineurs de grains, qui peuvent être par exemple à base de polyéthylène-glycol. Mais ces agents affineurs de grains présentent l'inconvénient de provoquer une cristallisation anarchique du revêtement et de dégrader l'état des rives de la bande à revêtir. Le brevet FR 2 682 290 décrit un procédé d'électrodéposition en continu de métal sur une bande permettant d'obtenir une faible prise de rugosité tout en formant un dépôt électrolytique présentant une forte adhérence et une bonne cohésion. Dans ce procédé où la bande défile successivement devant plusieurs anodes ou panneaux d'anodes et où on fait passer un courant électrique élevé entre ces anodes ou panneaux d'anodes et la bande formant cathode, on applique au niveau de la dernière anode une densité de courant beaucoup plus faible qu'au niveau des anodes précédentes. Ainsi, une tôle présentant une rugosité arithmétique avant dépôt de 1,3 microns, peut être revêtue d'une couche de zinc de 7,5 microns d'épaisseur et ne présenter, après dépôt, qu'une rugosité de 1,4 microns, soit une prise de rugosité de seulement 0,1 microns grâce à l'invention selon le document FR 2 682 290. Mais ce procédé nécessite de consentir une baisse du rendement au niveau des dernières anodes ou des dernières cellules d'une ligne d'électrodéposition, puisqu'on y abaisse la densité de courant, donc la quantité de matière électrodéposée. Dans la suite du document, on emploira indistinctement le terme anode pour désigner une anode elle-même ou un panneau d'anode, qui peut être par exemple composé de plusieurs plaques jointives accolées et connectées ensemble à la même borne d'alimentation électrique. Corrélativement à l'augmentation de rugosité, lors d'un dépôt électrolytique en continu sur une bande métallique, on constate l'apparition de dendrites sur les rives de la bande, notamment lorsqu'on procède dans un bain d'électrolyse à base de chlorures. Ces dendrites en rives correspondent à une surcharge de revêtement par rapport à l'épaisseur moyenne déposée sur le reste de la bande, et à un dépôt présentant une forte rugosité et une faible adhérence. Outre qu'elles constituent donc une hétérogénéité de dépôt, ces dendrites sont également gênantes puisqu'elles se détachent parfois de la bande en cours de process, encrassent les moyens d'électrodéposition, voire la bande elle-même (phénomène de "tartinage"). On sait que l'apparition de ces dendrites croît avec la densité du courant d'électrodéposition, donc avec la vitesse de dépôt. II s'agit donc d'un phénomène critique sur les lignes industrielles d'électrodépostion. L'invention a pour but de limiter la prise de rugosité de surface d'une bande métallique lors d'un électrozingage, notamment en milieu chlorure, tout en utilisant les installations d'électrodéposition au meilleur de leur rendement et de leurs performances, notamment à des densités de courant élevées. L'invention a également pour but de limiter, voire de supprimer, I'apparition de dendrites en rives de bande lors de l'électrozingage, même sous des densités de courant élevées. L'invention a pour objet un procédé continu d'électrozingage de bande métallique dans un bain d'électrolyse à base de chlorures dans lequel on fait défiler ladite bande face à une anode, on fait circuler à une vitesse V ledit bain dans l'intervalle séparant ladite bande de ladite anode, la vitesse V étant mesurée par rapport à ladite bande en défilement, on fait passer un courant électrique entre ladite bande formant cathode et ladite anode correspondant à une densité de courant J supérieure à 50 A/dm2, caractérisé en ce que on réalise le dépôt dans des conditions telles que - J/Jlim.- est inférieur ou égal à 0,15, - J2/JI;;m est inférieur ou égal à 22 A/dm2, où Jlim est la densité de courant limite, qui correspond au palier de densité de courant sur la courbe "intensité-potentiel1 caractéristique dudit bain d'électrolyse circulant à la vitesse V au voisinage de la bande. II est connu que Jlim correspond aussi à la densité de courant pour laquelle la concentration locale en ions de zinc du bain devient nulle au voisin nage immédiat de la bande à revêtir. Jlim correspond également à la densité de courant à partir de laquelle des phénomènes électrochimiques autres que la réduction des ions de zinc prennent place, notamment des dégagements d'hydrogène. Jlim correspond donc aussi à la densité de courant à partitr de laquelle le rendement électrochimique de dépôt de zinc chute sensiblement. Dans le domaine des valeurs possibles de vitesse du bain au voisinnage du substrat à revêtir dans les cellules industrielles d'électrozingage, on a constaté que Jlim.se calculait selon l'expression: Jlim. = A . V, où V est la vitesse moyenne de circulation de l'électrolyte entre la bande en défilement et les groupesd'anodes et où A est un facteur constant dont la valeur ne dépend que du bain d'électrozingage. Selon cette constatation, l'évaluation de Jlim se ramène à celle du facteur A. Le facteur constant A dépend notamment de la composition, de la température et de la viscosité du bain. On présente ici une méthode expérimentale d'évaluation du facteur A, donnée à titre d'exemple non limitatif. Le facteur A peut être évalué expérimentalement par des essais réalisés à l'échelle du laboratoire sur le même bain d'électrozingage, par la méthode, connue en elle-même, dite "de la droite de Levich". Cette méthode est basée sur des essais d'électrozingage sur un disque métallique en rotation dans un bain d'électrozingage face à une anode fixe ; on sait que, si ca est la vitesse de rotation du disque, Jîim , la densité de courant limite, peut s'exprimer sous la forme Jlim = k . 2;; J . les essais d'électrozingage permettent de déterminer expérimentalement la valeur de k qui dépend du bain d'électrozingage. Ainsi, pour un essai d'électrozingage à une vitesse de rotation o prédéterminée, on trace la courbe de polarisation dite courbe "intensitépotentiel" ; sur cette courbe représentant la densité de courant J en fonction de la tension U appliquée entre l'anode et le disque tournant, la position du premier palier de densité de courant indique la valeur de Jlim pour la vitesse prédéterminée o. Par ailleurs, entre un disque métallique tournant à la vitesse o dans un bain et une bande métallique défilant dans un bain à une vitesse relative bande-électrolyte V, on sait que les conditions hydrodynamiques sont comparables quand V et ed répondent à la relation V = k' ; quand V et osont exprimés respectivement en m/min. et tours/min., pour un disque présentant une surface de 0,1 cm2, k' = 2,97 m/(min.)0 5 Ainsi, le facteur A vaut alors k/k'. L'ensemble des conditions de dépôt selon l'invention peut être représenté sur un diagramme présentant la densité de courant J du dépôt en abscisse et la densité de courant limite du bain Jlim en ordonnée, comme indiqué à la figure 1, où la partie hachurée représente l'ensemble des conditions de dépôt selon l'invention. Pour mettre en oeuvre l'invention, on utilise d'une manière classique une installation industrielle d'électrozingage comportant une succession de cellules d'électrodéposition dotées d'anodes et contenant le bain d'électrozingage, des moyens pour faire défiler à une vitesse prédéterminée Vd la bande métallique à revêtir devant les anodes, des moyens pour faire circuler un courant électrique de densité J entre la bande en défilement et les anodes, et des moyens pour faire circuler le bain d'électrolyse à une vitesse prédéterminée Vg à contre-courant du défilement dans l'intervalle qui sépare les anodes de la bande en défilement. Ainsi, la vitesse moyenne V de circulation de l'électrolyte entre la bande en défilement et les groupesd'anodes est la somme de la vitesse de défilement de la bande Vd et de la vitesse de circulation du bain à contrecourant Vg. On a donc V = Vd + Vg. En pratique et d'une manière connue en elle-même, le choix des conditions de dépôt dans l'installation industrielle d'électrozingage dépend de l'épaisseur de zinc souhaitée appellée e. L'épaisseur e est proportionnelle à la densité de courant J et à la durée de passage de la bande dans l'installation, qui est elle-même inversement proportionnelle à la vitesse de bande Vd. Ainsi, la détermination de la vitesse de bande Vd dépend de l'épaisseur e à déposer sur la bande et de la densité de courant J. On a donc Vd = f(e) . J, où f(e) est une fonction qui dépend de l'épaisseur e. La vitesse V s'exprime alors : V = f(e) . J + Vg. La relation Jlim = A . V s'exprime alors sous la forme Jlim = A.Vg + A.f(e). J et se représente par une droite dite de "fonctionnement" dans le diagramme des conditions de dépôt ; l'ordonnée à l'origine de cette droite vaut A.Vg qui est caractéristique du bain d'électrozingage par le facteur A et de la vitesse de circulation du bain à contre-courant Vg. En pratique, à cause des limites de fonctionnement de l'installation industrielle d'électrozingage, L'ensemble des conditions de dépôt selon l'invention est limité, en plus des conditions propres à l'invention réprésentées à la figure 1, par les conditions suivantes - la densité de courant J pour le dépôt doit rester inférieure à une valeur maximale de densité de courant Jmax; ; en effet, si on appelle 1max l'intensité maximum qu'est capable de délivrer l'alimentation électrique d'une installation industrielle d'électrozingage, si on appelle Lc la longeur totale de bande immergée face aux anodes dans le bain d'électrozingage dans ladite installation en fonctionnement, si on appelle Lb la largeur de la bande à revêtir sur une face dans la dite installation, alors Jmax. = 1max /(Lc . Lb). - la densité de courant limite Jlim qui est fonction du bain (facteur A), des conditions hydrodynamiques de circulation du bain (vitesse Vg) et de l'épaisseur e de revêtement souhaitée, selon la relation déjà citée Jlim = A.Vg + A.f(e).J., doit rester inférieure à une valeur maximale correspondant à une vitesse maximum de circulation du bain à contrecourant Vg,,,. La densité de courant limite maximum Jlim.max se calcule selon la relation Jlim.max = A.VS,,, + A.f(e).J, où Vgmax est la vitesse maximum de circulation du bain qu'autorise l'installation d'électrozingage, compte tenu des caractéristiques géométriques des cellules, des caractéristiques et des limites en débit des moyens de circulation du bain. L'ensemble des conditions de dépôt selon l'invention est ainsi restreint à un domaine plus étroit représenté à la figure 2 par une zone hachurée, selon les mêmes conventions qu'à la figure 1. La position de la droite Jlim.max = A.Vgmax + A.f(e).J qui limite ce domaine dépend des éléments suivants. Pour mettre en oeuvre l'invention qui concerne l'électrozingage dans des bains à base de chlorures, on sait que les anodes des cellules de l'installation industrielle sont solubles. Puisque les anodes sont solubles, il est nécessaire de pouvoir les interchanger facilement, même au cours des opérations de dépôt. Dans les cellules de type radial, où la bande est supportée par un rouleau immergé dans le bain d'électrolyse, on utilise généralement plusieurs panneaux d'anodes successifs en forme d'arc de cercle pour épouser la forme du rouleau. On interchange ainsi les anodes de la cellule, généralement en les déplaçant transversalement à la direction de défilement de la bande, donc vers les côtés du rouleau immergé. Les différents panneaux d'anodes solubles d'une cellule radiale ne sont généralement pas jointifs, notamment pour faciliter les changements d'anode indépendamment les unes des autres ; ainsi, deux panneaux d'anodes successifs sont généralement séparées par une fenêtre étroite, qui présente une largeur, dans la direction du défilement de bande, généralement de l'ordre de 30 cm. Ainsi, la succession des panneaux d'anodes ne forme pas une surface continue ; on dit alors que le "lit" d'anodes solubles d'une cellule radiale n'est généralement pas continu. Lorsque l'on fait circuler à la vitesse Vg du bain d'électrolyse dans l'intervalle qui sépare les anodes d'une bande à revêtir, le bain a tendance à s'échapper par ces fenêtres étroites. Dans une installation industrielle comportant des cellules radiales à panneaux d'anodes solubles non jointifs, on utilise d'une manière classique plusieurs rampes d'injection comme moyen pour faire circuler le bain d'électrolyse à une vitesse prédéterminée Vg à contre-courant du défilement de la bande. Ces rampes d'injection de bain sont disposées dans ces fenêtres étroites entre les panneaux d'anodes et au moins une rampe d'injection est disposée au niveau de la dernière anode du côté où la bande sortante émerge du bain d'électrolyse, par exemple tel que décrit dans le document US 4 500 400. Ces moyens classiques de circulation du bain sont alimentés par des pompes capables de débiter un débit total maximum 0Pmax. Le débit total des pompes Qp est réparti entre les différentes rampes d'injection et le débit de chaque rampe détermine la vitesse Vg de circulation du bain. Ainsi la vitesse maximum de circulation Vgmax est directement proportionnelle à QPmax et dépend du nombre de rampes. La valeur de QPmax et le nombre de rampes permettent de déterminer la position de la droite Jlim.max = A.Vgmax + A.f(e).J qui limite le domaine des conditions de dépôt. Dans les installations industrielles classiques, il arrive que le domaine des conditions de dépôt soit trop étroit, voire inexistant, notamment à cause d'un débit total maximum QPmax des pompes insuffisant. II n'est alors pas possible de procéder au dépôt sans risquer une prise de rugosité trop élevée ou des dendrites en rives. Pour mettre en oeuvre le procédé selon l'invention malgré un débit total maximum QPmax des pompes insuffisant, I'invention a encore pour objet une cellule d'électrozingage du type radial et à anodes solubles, comportant des moyens pour faire défiler une bande métallique successivement devant lesdites anodes, des moyens pour faire circuler un courant électrique entre ladite bande et lesdites anodes, et des moyens pour faire circuler le bain d'électrolyse dans l'intervalle séparant les anodes de la bande en défilement, lesdites anodes étant séparées dans la direction de défilement de bande par des fenêtres étroites, caractérisée en ce qu'elle comporte aussi des moyens d'obturation électriquement isolants desdites fenêtres. Selon l'invention, il n'existe donc plus qu'une seule rampe d'injection par cellule, disposée au niveau de la dernière anode du côté où la bande sortante émerge du bain d'électrolyse et alimentée par la totalité du débit des pompes Qp. Cette disposition de la cellule, caractéristique de l'invention, permet d'augmenter sensiblement le maximum de vitesse de circulation du bain. On appelle V'g,,, ce nouveau maximum. Grâce à l'invention, la droite Jlim.max = A.V'grnx + A.f(e).J qui limite le domaine des conditions de dépôt est alors déplacée vers des valeurs plus élevées de Olim, ce qui étend ledit domaine et facilite la mise en oeuvre du procédé selon l'invention dans des installations industrielles classiques, notamment sans modifier les caractéristiques de débit maxiumum des pompes d'alimentation des rampes d'injection. Le nouveau domaine étendu selon l'invention est représenté par l'ensemble de la zone hachurée et d'une zone "pointillée" à la figure 2, selon les mêmes conventions que précédemment. Selon l'invention, lesdits moyens d'obturation sont constitués de préférence par des panneaux en matière plastique. Selon l'invention, lesdits moyens pour faire circuler le bain sont constitués de préférence par une rampe d'injection multitubulaire disposée au niveau de la dernière anode du côté où la bande sortante émerge dudit bain, du type comportant un conduit d'alimentation disposé transversalement par rapport au chemin de défilement de bande, ledit conduit débouchant par une pluralité de tubes parallèles se terminant par des buses d'éjection immergées dans ledit bain sous sa surface libre et dans l'intervalle séparant ladite bande de ladite anode. Ce type de rampe d'injection multitubulaire est notamment décrit dans le document FR 2 607 153, comme moyen pour faire circuler le bain d'électrolyse à une vitesse prédéterminée Vg à contre-courant du défilement de la bande. Selon ce document, ce type d'injecteur est particulièrement adapté à des conditions d'électrozingage sous vitesse Vg élevée de circulation de bain et se présente sous la forme d'une rampe d'injection disposée transversalement au chemin de défilement de bande dans la cellule et le long d'un rebord d'anode pour injecter du bain d'électrolyse dans l'intervalle séparant ladite anode d'une bande en défilement. Cette rampe d'injection comporte un conduit d'alimentation qui débouche dans une pluralité de tubes traversant la cloison dudit conduit. Les tubes de cette rampe sont parallèles entre eux et approximativement équidistants, plongent dans le bain d'électrolyse sous sa surface libre et forment à leur extrémité des buses d'injection de bain dans la direction opposée à celle du défilement de la bande, c'est à dire à contre-courant. Ces rampes multitubulaires d'injection se distinguent d'autres rampes d'injection couramment utilisées qui ne présentent qu'une seule buse d'injection en forme de fente étroite s'étendant sur toute la largeur de la bande. Comme indiqué dans le document FR 2 607 153 déjà cité, ces rampes multitubulaires d'injection présentent l'avantage de limiter les risques d'entrainement de bulles d'air dans le bain du fait de la dépression qui se crée au niveau des éjecteurs, risques qui s'acroissent lorsqu'on utilise des vitesses Vg élevées de circulation de bain. L'invention sera mieux comprise à la lecture de la description qui va suivre, donnée à titre d'exemple, et en référence aux figures annexées sur lesquelles - la figure 1 représente en zone hachurée le domaine des conditions de dépôt selon l'invention dans le diagramme densité de courant (J) densité de courant limite (Jlim )- - la figure 2 représente deux domaines de conditions de dépôt selon la même présentation que la figure 1, mais en tenant compte des limites de fonctionnement de l'installation d'électrozingage, dans deux configurations différentes des moyens d'injection d'électrolyte à contre-courant. - la figure 3 correspond à l'exemple 1 et représente la variation de la prise de rugosité d'un substrat consécutivement à un dépôt de zinc, en fonction du rapport J/Jlim ou de la densité de courant J, dans des conditions hydrodynamiques constantes, correspondant à la vitesse de circulation de l'électrolyte par rapport au substrat, dans une cellule à électrode tournante. - la figure 4 correspond à l'exemple 2 et représente la variation de la prise de rugosité en fonction du rapport J/Jlim, dans des conditions hydrodynamiques variables, correspondant à différentes vitesses de rotation o de l'électrode tournante de la cellule, la densité de courant J étant constante. - la figure 5 correspond à l'exemple 3 et représente la variation de la prise de rugosité en fonction du rapport J/Jlim suite à un revêtement de zinc réalisé en deux étapes, la première étape selon des conditions identiques, la deuxième étape selon des conditions variables caractérisées par le rapport J/Jlim - - la figure 6 correspond à l'exemple 4 et représente la variation de la prise de rugosité pour différentes épaisseurs de dépôt, réalisées selon deux séries de conditions de dépôt caractérisées par le rapport J/Jlim - la figure 7 correspond à l'exemple 5 et représente, dans un diagramme densité de courant limite (Jlim ) - densité de courant au carré (J2), la microstructure de dépôt de zinc en rive pour trois séries de conditions de dépôt, caractérisées par le rapport J2/Jlim - la figure 8 correspond à l'exemple 6 et représente la charge de dépôt de zinc en rive pour différentes conditions de dépôt, caractérisées par le rapport J2/Jljm - - la figure 9 figure le domaine (zone hachurée) des conditions de dépôt selon l'invention correspondant à l'exemple 7, dans une installation industrielle d'électrozingage, représenté dans le diagramme densité de courant (J) - densité de courant limite (Jlim ). - la figure 10 figure un domaine élargi (zone hachurée) de conditions de dépôt correspondant à l'exemple 8, lorsque, selon l'invention, on remplace les moyens d'injection d'électrolyte à deux rampes par des moyens d'injection à une seule rampe, dans les cellules de l'installation. La cellule d'électrozingage est du type radial. D'un manière classique, elle comprend une cuve contenant le bain d'électrolyse, un tambour à demi immergé dans le bain et tournant librement autour de son axe horizontal. Des moyens de défilement non représentés permettent de faire défiler d'une manière classique une bande métallique sur le tambour dans la cuve. Typiquement, la vitesse de défilement Vd peut être comprise entre 60 et 200 m/min. En face du tambour, à sa partie inférieure, se trouvent deux panneaux incurvés d'anodes solubles ; les deux panneaux d'anodes sont symétriques par rapport à un plan vertical passant par l'axe du tambour et sont disposés chacun de la même façon autour du tambour et écarté de celui-ci à distance à peu près constante. L'écartement moyen qui sépare les panneaux d'anodes d'une bande en défilement sur le tambour est généralement compris entre 20 et 60 mm. On appelle Sg le produit de cette distance moyenne séparant le tambour des panneaux d'anodes par la largeur du tambour, qui représente ainsi la section moyenne d'écoulement du bain entre les panneaux d'anode et la bande. Typiquement, pour un tambour de 2 m de large, pour un écartement moyen anodes-bande de 45 mm, la section moyenne d'écoulement Sg du bain est de 9 dm2. Vers le bas du tambour, les deux panneaux d'anodes sont séparés par une fenêtre étroite qui s'étend sur la largeur du tambour. D'une manière classique, la cellule d'électrodéposition comprend également des moyens pour faire circuler un courant électrique entre la bande en défilement et les panneaux d'anodes, capables de délivrer une intensité 1max donnée. D'une manière classique, la cellule d'électrodéposition comprend également des moyens pour faire circuler le bain d'électrolyse dans l'intervalle séparant les panneaux d'anodes de la bande dans le sens opposé à celui du défilement de la bande. Ces moyens de circulation du bain comprennent deux rampes d'injection, I'une disposée au fond de la cuve pour injecter du bain dans la fenêtre étroite séparant les deux panneaux d'anodes, L'autre disposée à proximité de la surface libre du bain le long du rebord d'un groupe d'anodes du côté où la bande en défilement émerge du bain. Les deux rampes d'injection sont alimentées par des pompes capables de débiter un débit total maximum QPmax. D'une manière connue en elle-même, à partir des valeurs de QPmax et de la section moyenne d'écoulement Sg, et en prenant en compte les performances d'éjection des rampes d'injection, on en déduit la vitesse maximum de circulation du bain Vgmax à contre-courant du défilement. Typiquement, le débit de bain Qg dans l'intervalle qui sépare les pannneaux d'anodes de la bande, peut être réglé entre 6 et 10 m3/min. Le débit de bain Qg et la vitesse de circulation du bain Vg sont reliés par la relation : Qg = Vg . Sg. Ainsi, pour une section moyenne d'écoulement Sg = 9 dm2, la vitesse de circulation maximum du bain Vgmax vaut 111 m/min. Le bain d'électrolyse contient les cations de zinc dans un milieu anionique à base de chlorures, et éventuellement d'autres additifs classiques, comme des affineurs de grain. Afin de parvenir à des vitesses de dépôt suffisamment élevées, la concentration en cations de zinc est supérieure, de préférence, a 1,6 moles/litres et la concentration en anions de chlorures, de préférence, est supérieure à 8,5 moles/litres. De préférence, la température du bain d'électrolyse est comprise entre 57 et 65 OC. On prélève un échantillon du bain d'électrozingage pour évaluer expérimentalement la valeur de la constante A nécessaire au calcul de Jlim selon la relation Jlim. = A . V, où V est la vitesse moyenne de circulation de l'électrolyte entre la bande en défilement et les panneaux d'anodes. On évalue le facteur A par la méthode, connue en elle-même et précédemment décrite, dite "de la droite de Levich" basée sur une série d'essais dans une cellule de laboratoire à disque métallique tournant contenant l'échantillon de bain. Si On calcule alors A selon la relation A = k/k' , où k' vaut 2,97 m/(min.)0#5 si le disque tournant de la cellule de laboratoire présente une surface de 0,1 cm2. Sans se départir de la présente invention, d'autres méthodes d'évaluation du facteur A peuvent être utilisées. De préférence, la bande à revêtir est en acier. Typiquement, la bande métallique à revêtir présente une largeur ou "format" Lb comprise entre 1 et 2 m. Compte tenu du degré de remplissage en bain d'électrolyse de la cellule, on connaît la longueur Lc de la partie immergée face aux panneaux d'anodes de la bande en défilement. A partir de l'intensité maximum 1max du courant électrique dans la cellule, du format de la bande Lb, de la longueur immergée Lc, on déduit la densité de courant maximum Jmax par la relation : Jmax = 1max /(Lb . Lc). Typiquement, la densité de courant J peut être réglée entre 50 et 150 A/dm2. La limite inférieure de 50 A/dm2 correspond à la limite couramment admise en deçà de laquelle on considère que les conditions de dépôt ne sont plus industrielles, c'est à dire suffisamment économiques. Pour déterminer par ailleurs la fonction f(e) de l'épaisseur e de dépôt de zinc qui relie la vitesse de défilement de bande Vd et la densité de courant J selon la relation Vd = f(e) . J, on exprime de deux façons différentes et connues en elles-mêmes la masse de zinc déposée Mzn: - d'une part en fonction du volume du dépôt et de la masse volumique Pzn du zinc : MZn = PZn . Lb . Lc . e; - d'autre part en fonction du nombre de moles Nzn d'ions de zinc réduites et donc déposées sur la bande, en tenant compte d'un rendement d'électrolyse R: = = R . 1/(2.F). J. (Lb.Lc).(Lc/Vd) , où F est la constante de Faraday. Si Uzn est la masse moléculaire du zinc, on a alors Mzn = NZn . Uzn On en déduit la relation entre Vd et J, donc l'expression de f(e) f(e) = R/(2.F) . Uzn /Pzn . Lc/e. Ainsi, en retenant un rendement R de 94%, en exprimant e en micromètres, Lc en mètres, Vd en mètre/minute, et J en ampères/dm2, on a: Vd = (0,266. Lc/e) . J ou f (e) = 0,266.Lc/e. On reporte ensuite sur un diagramme figurant J en abscisse et Jlim en ordonnée les courbes ou droites suivantes J/Jlim = 0,15, J2/Jlim = 22 A/dm2, Jlim = A-Vgmax + A.f(e).J - J = Jmax - J = 50 A/dm2 On définit ensuite le domaine des conditions de dépôt selon l'invention J/Jlim J2/Jlim -Jlim - J - J > 50 A/dm2 A partir de plusieurs relevés profilométriques sur la bande métallique, on mesure la rugosité arithmétique moyenne initiale Ra de la face à revêtir ; la rugosité arithmétique est définie en préambule de la présente demande. Selon l'invention, on choisit ensuite les conditions de dépôt à l'intérieur dudit domaine précédemment défini. Lorsque la cellule d'électrodéposition fait partie d'une ligne industrielle comportant plusieurs cellules successives, il peut être avantageux de ne procéder selon l'invention que dans les cellules d'extrémités de la ligne industrielle, les plus en aval et/ou les plus en amont dans le sens de défilement de la bande. Le procédé selon l'invention se ramène souvent à déterminer la valeur d'un seul paramètre, la vitesse de circulation de bain Vg ou le débit de bain Qg dans l'intervalle bande-anode, de telle sorte que les conditions de dépôt appartiennent au domaine selon l'invention. D'une manière connue en elle-même, qui tient compte de la géométrie particulière des rampes d'injection de bain dans la cellule, on alimente les rampes d'injection pour réaliser la valeur déterminée dudit paramètre Vg ou Qg, notamment en réglant le débit Qp des pompes alimentant à la fois les deux rampes d'injection. De préférence, parmi les conditions qui appartiennent au domaine selon l'invention, on choisit celles qui correspondent à des valeurs de la densité de courant J la plus élevée possible, pour obtenir une vitesse de dépôt élevée et optimiser l'exploitation de la cellule. On procède ensuite à l'électrozingage de la bande métallique selon ces conditions prédéterminées de dépôt selon l'invention. On obtient une bande métallique revêtue d'une couche de zinc d'épaisseur e souhaitée. On mesure ensuite la rugosité arithmétique moyenne Ra' de la face revêtue de la bande et on en déduit la prise de rugosité ARa = Ra' - RaO. On constate que, alors même que la cellule d'électrodéposition est utilisée au meilleur de ses performances, notamment en terme de vitesse de défilement Vd et/ou de densité de courant J, la prise de rugosité reste inférieure à 0,25 microns. On constate également qu'il n'y a pas ou quasiment pas de dendrites en rive sur la bande revêtue selon l'invention. Le procédé selon l'invention apporte les mêmes résultats concernant la faible prise de rugosité et l'absence de dendrites, pour d'autres conditions de dépôt dès lors qu'elles appartiennent au domaine selon l'invention ou quelle que soit l'épaisseur de dépôt souhaitée. L'invention s'applique également aux revêtement électrolytiques de zinc faiblement alliés, notamment contenant du nickel. Selon une variante avantageuse de l'invention, il est possible d'étendre le domaine des conditions de dépôt selon l'invention en modifiant la cellule d'électrozingage de la façon suivante. Selon l'invention, les moyens de circulation du bain ne comprennent plus qu'une seule rampe d'injection disposée comme précédemment le long du rebord d'un panneau d'anodes du côté où la bande en défilement émerge du bain. De préférence, cette rampe d'injection comporte un conduit d'alimentation disposé transversalement par rapport au chemin de défilement de bande et une pluralité de tubes parallèles débouchant du conduit et se terminant par des buses d'éjection immergées dans le bain sous sa surface libre et dans l'intervalle séparant la bande du rebord de panneau d'anode. D'une manière connue en elle-même, la rampe d'éjection est construite et installée de telle sorte que la somme des sections d'éjection des buses, ou section éjectante Se, soit adaptée à la section d'écoulement de bain Sg entre la bande et les groupes d'anodes. Avantageusement, cette configuration de la rampe d'injection permet d'entraîner le bain d'électrolyse entourant les buses sous l'effet de l'éjection forcée de bain par les buses elle-mêmes. De ce fait, le débit de bain Qg entre la bande et les panneaux d'anodes est largement supérieur au débit total de bain éjecté par les buses Qe. Comme il n'y a plus qu'une seule rampe d'injection, le débit total éjecté par les buses Qe équivaut au débit fourni par les pompes Qp. Selon l'invention également, dans cette cellule, la fenêtre étroite qui sépare les deux groupes d'anodes est obturée par un panneau isolant, de préférence en matière plastique. Ce panneau peut notamment être en polypropylène. Grâce à la cellule modifiée selon l'invention qui ne présente plus qu'une seule rampe d'injection, le débit des pompes est concentré sur une seule rampe d'injection et on constate alors qu'on peut atteindre un débit de bain ou une vitesse de circulation de bain Vg' entre la bande et les panneaux d'anodes très supérieur à celui qu'on obtenait auparavant. Ainsi la vitesse maximum de circulation de bain V 9max > V9max La droite Jlim = VSmax + A.f(e).J qui représente une limite du domaine selon l'invention est donc déplacée et le domaine selon l'invention est étendu. Comme, dans cette cellule selon l'invention, le "lit" d'anodes est continu grâce au panneau isolant qui obstrue la fenêtre entre les deux groupes d'anodes, la vitesse d'écoulement de bain Vg reste suffisamment homogène dans tout l'intervalle bande-anodes dans la direction de défilement de la bande. Grâce à la cellule modifiée selon l'invention, il est beaucoup plus facile de remplir les conditions de dépôt correspondant au domaine selon l'invention ainsi élargi, et ainsi d'obtenir le résultat concernant une prise de rugosité faible et l'absence de dendrites en rives, alors même qu'on procède à des densités de courant J élevées. Bien entendu, dans une cellule d'électrodéposition comportant plus de deux panneaux d'anodes répartis le long du chemin de défilement de bande, qui présenterait donc plusieurs fenêtres étroites séparant les groupes d'anodes, selon l'invention, on ne dispose comme précédemment qu'une seule rampe d'injection et on obture par des panneaux isolants toutes les fenêtres étroites pour rendre continu le "lit" d'anodes. Enfin, on peut également mettre en oeuvre le procédé selon l'invention dans d'autres types de cellules que des cellules radiales. Les exemples suivants illustrent l'invention. Exemole 1: Cet exemple a pour but d'illustrer la variation de la prise de rugosité d'une surface après revêtement en fonction du facteur J/J-lim. pour une vitesse d'écoulement constante de bain entre la surface à revêtir et une anode qui lui fait face. Avec une cellule du type à électrode tournante, on procède donc à une série d'essais d'électrodéposition de zinc dans un bain d'électrolyse à base de chlorures sur des disques identiques d'acier en rotation au dessus d'une anode soluble, à une vitesse constante de 1000 tours/minute et en faisant varier la densité de courant d'électrolyse J de 30 à 130 A/dm2. Le diamètre des disques d'acier est de 10 mm. Le bain d'électrolyse contient 2 moles/litre d'ions Zn2 + et 8,5 moles/l d'ions Cl-. Pendant le dépôt, la température du bain est de 600C environ. En procédant à la vitesse constante de 1000 tours/minute, on mesure la densité de courant limite Jlim en repérant la position du palier de densité de courant sur la courbe "intensité-potentiel", tel que précédemment décrit. Ainsi, on déduit Jlim = 314 A/dm2 Avant revêtement, on mesure la rugosité arithmétique moyenne de la surface des disques d'acier, généralement comprise entre 0,8 et 1,3 microns. Tous les essais de la série sont réalisés dans la même cellule et dans les mêmes conditions de nature du substrat, de nature, concentration et température du bain, pour obtenir un revêtement d'épaisseur 10 microns. Après revêtement, on mesure la rugosité de la face revêtue de la série de disques obtenus et on calcule la prise de rugosité, ici ARa, de chaque disque par différence avec la rugosité mesurée avant essai. On obtient les résultats suivants : J (A/dm2) J/Jlim ARa 31,4 0,1 0,20 62,9 0,2 0.32 94,3 0,3 0,40 125,7 0,4 0,50 Les résultats obtenus sont reportés à la figure 3. On constate que pour parvenir à une faible prise de rugosité, notamment inférieure à 0,25 microns, il est nécessaire d'opérer avec une densité de courant J telle que J/J-lim. soit inférieur ou égal à 0,15. Exemple 2: Cet exemple a pour but d'illustrer la variation de la prise de rugosité d'une surface après revêtement en fonction du facteur J/J-lim. avec une densité de courant constante. Avec le même type de cellule que dans l'exemple 1, on procède donc à une deuxième série d'essais d'électrodéposition de zinc sur les mêmes disques d'acier et dans le même bain d'électrolyse que dans l'exemple 1, avec une densité de courant constante de 75 A/dm2 et en faisant varier la vitesse de rotation Pour les différentes vitesses de rotation du disque de la deuxième série d'essais, on mesure la densité de courant limite Jlim en repérant la position du palier de densité de courant sur la courbe "intensité-potentiel", tel que précédemment décrit. Avant revêtement la surface des disques d'acier présente une rugosité arithmétique moyenne comprise entre 0,8 et 1,3 microns. Tous les essais de la série sont réalisés dans des conditions identiques à part la vitesse de rotation des disques pour obtenir un revêtement d'épaisseur 10 microns. Après revêtement, on mesure la rugosité de la surface revêtue des différents disques et on calcule la prise de rugosité A Ra de chaque disque par différence avec la rugosité mesurée avant essai. On obtient les résultats suivants a > (tours/min.) Jlim J/Jlim ARa (Il) (A/dm2) 5000 ~ 750 0,1 0,15 1316 375 0,2 0,27 605 250 0,3 0,39 363 187 0,4 0,46 Les résultats sont reportés à la figure 4, qui illustre la relation entre A Ra et le rapport J/J-lim. lorsque J est constant. On constate que pour parvenir à une faible prise de rugosité, notamment inférieure à 0,25 microns, il est nécessaire d'opérer avec une vitesse de circulation d'électrolyte au voisinnage de la surface à revêtir telle que J/J-lim. soit inféreur ou égal à 0,15. Exemole 3: Cet exemple a également pour but d'illustrer la variation de la prise de rugosité d'une surface après électrozingage d'une surface en deux étapes - une première étape correspondant à un dépôt d'épaisseur 8 micromètres, dans des conditions telles que J/Jlim = 0,3, c'est àdire hors du domaine selon l'invention. - une deuxième étape correspondant à un deuxième dépôt d'épaisseur 2 micromètres, dans des conditions telles que J/Jlim Avec le même type de cellule que dans l'exemple 1, on procède donc à une troisième série d'essais d'électrodéposition de zinc selon ces deux étapes sur les mêmes disques d'acier et dans le même bain d'électrolyse que dans l'exemple 1. Pour la deuxième étape, on fait varier la vitesse de rotation so du disque entre 300 et 5000 tours/minutes. Pour les différentes vitesses de rotation du disque de la deuxième étape, on mesure la densité de courant limite Jlim en repérant la position du palier de densité de courant sur la courbe "intensité-potentiel", tel que précédemment décrit. Avant la première étape de revêtement de zinc, la surface des disques d'acier présente une rugosité arithmétique moyenne comprise entre 0,8 et 1,3 microns. Après les deux étapes de revêtement, on mesure la rugosité de la surface revêtue des différents disques et on calcule la prise de rugosité A Ra de chaque disque par différence avec la rugosité mesurée avant essai. On obtient les résultats suivants i, (tours/min.) J/Jlim ARa 8000 0,12 0,19 4822 0,15 0,22 3127 0,20 0,30 363 0,27 0,41 La courbe de la figure 5 illustre la relation entre ARa et le rapport J/Jlim. qui concerne uniquement la deuxième étape de dépôt. On constate ainsi qu'il est essentiel d'opérer dans les conditions de l'invention pour la finition du dépôt, et on en déduit que, dans une installation industrielle d'électrozingage comportant de nombreuses cellules successives, il est avantageux de procéder au dépôt selon l'invention dans les cellules d'extrémité de l'installation, notamment les dernières. Ainsi, même si le dépôt de zinc a été commencé dans des conditions différentes de celles de l'invention, ici selon un rapport J/Jlim = 0,3, et entraînant une prise importante de rugosité, il est toujours possible de "rattraper" ce défaut de prise de rugosité par une "finition" du dépôt, ici sur une épaisseur de 2 micromètres, selon les conditions de dépôt de l'invention. Exemple 4: Cet exemple a pour but d'illustrer les variations de la prise de rugosité en fonction de l'épaisseur du dépôt réalisé, d'une part lorsque qu'on procède au revêtement selon l'invention dans des conditions telles que J/Jlim = 0,1 et d'autre part lorsqu'on procède au revêtement dans des conditions différentes de celles de l'invention, c'est à dire telles que J/Jlim = 0,3. Avec le même type de cellule et le même bain d'électrolyse que dans l'exemple 1, on procède donc aux deux séries d'essais d'électrozingage correspondantes, la première dans des conditions telles que J/Jlim = 0,1 et la seconde dans des conditions telles que J/Jlim = 0,3, tout en faisant varier l'épaisseur du dépôt, c'est à dire sa durée. On évalue comme dans les exemples précédents la prise de rugosité A Ra. On obtient les résultats suivants Epaisseur (I1) 1ère série J/Jlim 2ème série J/Jlim =0,1 =0,3 ARa ( ) ARa 1 0,0 0,17 2 -0,03 0,12 3 0,0 0,14 5 0,07 0,23 7 0,12 0,29 10 0,17 0,39 Les courbes de la figure 6 illustrent la relation entre ARa et l'épaisseur du dépôt pour les deux valeurs de J/J-lim. On constate deux zones d'épaisseur de dépôt - une zone de faibles épaisseurs, inférieures à 3 , pour laquelle la prise de rugosité dépend fortement du rapport J/Jlim, mais peu de l'épaisseur déposée. - une zone d'épaisseurs plus élevées, supérieures à 3 CL, pour laquelle, à l'inverse, la prise de rugosité dépend fortement de l'épaisseur déposée"mais peu du rapport J/Jlim. Cette évolution de la prise de rugosité en fonction de l'épaisseur du dépôt réalisé et du rapport J/Jlim confirme l'avantage à opérer selon les conditions de l'invention en priorité au début et/ou en fin de dépôt, c'est à dire dans les cellules d'extrémité d'une installation d'électrozingage. Exemple 5: Cet exemple a pour but d'illustrer la variation de la microstructure des dendrites en rives en fonction du facteur J2/Jljm. Les dendrites qui se forment en rives d'une bande en cours de traitement de dépôt peuvent présenter une faible adhérence au substrat cette faible adhérence provient d'une microstructure très grossière et irrégulière; les dendrites qui présentent une faible adhérence sont particulièrement gênantes parce qu'elles risquent d'être arrachées en cours de traitement de bande, puis risquent d'encrasser ensuite la bande ellemême ou l'installation d'électrodéposition. Dans des conditions comparables à celles des exemples 1 et 2, on réalise sur des substrats d'acier trois séries de dépôts de zinc d'épaisseur 10 microns, correspondant à des valeurs du rapport J2/Jljm respectivement de 22, 40, 60 A/dm2. On réalise ensuites des micrographies de coupes effectuée en rives de ces revêtements, selon un grossissement de l'ordre de 10. Comme représenté à la figure 7, on reporte ensuite ces micrographies sur un diagramme comportant Jlim. en abcisse et J2 en ordonnée. On constate que, au sein de chaque série ainsi définie, les dendrites ont toutes la même microstructure apparente, ce qui confirme la pertinence du critère J2/Jlim retenu selon l'invention. Selon l'invention, quand J2/Jlim est inférieur ou égal à 22 A/dm2, on limite fortement et on évite quasiment l'apparition de dendrites en rives. Exemple 6: Cet exemple a pour but d'illustrer la variation de la quantité de dendrites en rives en fonction de J2/Jljm. On réalise des dépôts de zinc d'épaisseur 10 micromètres dans différentes conditions de dépôt correspondant à des valeurs de J2/Jljm. situées entre 14 A/dm2 et 56 A/dm Pour chacun des essais, on mesure la charge de zinc déposé en rive des différents échantillons que l'on rapporte à la longueur de rive. On estime qu'une charge de zinc de environ 150 mg/m est normale pour un dépôt d'épaisseur 10 micromètres et correspond à l'absence de dendrites. Comme indiqué à la figure 8, on reporte ensuite en ordonnée les mesures de charge linéaire de zinc en rives en fonction de la valeur J2/Jlim., reportée en abcisse, et qui correspond aux conditions de dépôt des différents essais. Selon l'invention, on constate que si le dépôt est réalisé dans des conditions telles que J2/Jlim est inférieur ou égal à 22 A/dm2, la charge de zinc en rives s'abaisse au niveau normal de environ 150 mg/m , c'est à dire de la charge de zinc moyenne du revêtement, loin des rives. On obtient ainsi un revêtement de zinc beaucoup plus homogène en épaisseur, sans surépaisseurs en rives. Exemple 7 On cherche à revêtir une bande d'acier de largeur Lb = 1,5 m d'une couche de zinc d'une épaisseur de e = 15 micromètres dans une installation comprenant des cellules radiales classiques dotées chacune de deux panneaux d'anodes séparées par une fenêtre étroite et dotées chacune de deux rampes d'injection d'électrolyte à contre-courant alimentées par des pompes, dont une en fond de cellule. Le bain d'électrolyse contient 4,5 moles/litres de KCI et 2 moles/litres de ZnCl2. La longueur totale Lc de bande immergée face aux anodes dans l'installation vaut Lc = 36 m. La vitesse maximum Vgmax de circulation du bain qu'autorisent les deux rampes d'injection de chaque cellule est de 90 m/min. Comme indiqué précédemment, on évalue expérimentalement le facteur A qui relie Jlim (exprimé en A/dm2) à la vitesse relative bandeélectrolyte V (exprimée en m/min.) selon la relation Jlim = A . V. On aboutit au résultat A = 3,58. La longueur totale Lc de bande immergée face aux anodes et l'intensité maximum Imax de l'alimentation électrique des cellules permettent d'évaluer une densité de courant maximum Jmax de 111 A/dm2. Comme indiqué précédemment, en retenant un rendement d'électrodéposition R de 94%, en exprimant l'épaisseur e en micromètres, Lc en mètres, la vitesse de défilement Vd de la bande en mètre/minute, et la densité de courant J en ampères/dm2, on a Vd = f(e) . J., avec f(e) = 0,266. Lc/e, ou f(e) = 9,576/e, et, pour e = 15 , f(e) vaut 0,639. Comme indiqué à la figure 9, on reporte ensuite sur un diagramme figurant J en abscisse et Jlim en ordonnée les courbes ou droites suivantes J/Jlim = 0,15, J2/Jlim = 22 A/dm2, ~ Jlim = A.Vgmax + A.f(e).J, soit Jlim = 322 + 2,3. J, -J = Jmax = 111 A/dm2. - J = 50 A/dm2 Le domaine des conditions de dépôt selon l'invention se définit alors comme suit , et se révèle très étroit comme indiqué en hachuré à la figure 9 J/Jlim J2/Jlim Jlim - 50 A/dm2 A partir de plusieurs relevés profilométriques sur la bande métallique, on mesure la rugosité arithmétique moyenne initiale RaO de la face à revêtir. Selon l'invention, on choisit ensuite les conditions de dépôt à l'intérieur dudit domaine précédemment défini. Lesdites conditions de dépôt comprennent notamment, outre la densité de courant J, la vitesse de défilement Vd et la vitesse de circulation de l'électrolyte Vg, qui déterminent la vitesse relative V = Vd + Vg, et la densité de courant limite Jlim = A. V = 3,58 . V. On procède ensuite à l'électrozingage de la bande métallique selon ces conditions prédéterminées de dépôt selon l'invention et on obtient une bande métallique revêtue d'une couche de zinc d'épaisseur e = 15 Il. On mesure ensuite la rugosité arithmétique moyenne Ra' de la face revêtue de la bande et on en déduit la prise de rugosité ARa = Ra' - RaO. On constate que la prise de rugosité ARa reste inférieure à 0,25 microns. On constate également qu'il n'y a pas de dendrites en rive sur la bande revêtue. Malheuresement, il n'est pas possible ici de faire débiter au maximum l'installation électrique d'alimentation des cellules, sans risquer des dendrites en rives et/ou une prise de rugosité trop élevée. En effet, pour J = 111 A/dm2 (le maximum), on doit avoir à la fois Jlim 740 A/dm2, ce qui n'est pas possible. Exemple 8 Cet exemple a pour but d'illustrer qu'on réalise plus facilement les conditions de l'invention en utilisant une cellule radiale qui n'est dotée que d'une seule rampe d'injection et qui présente un "lit" continu d'anodes. Dans chaque cellule radiale de l'exemple 7, tout en gardant les mêmes pompes d'alimentation, on enlève la rampe d'injection de fond de cellule et on obstrue la fenêtre étroite par un panneau isolant entre les deux panneaux d'anodes. Chaque cellule ainsi modifiée ne présente qu'une seule rampe d'injection et un "lit" continu d'anodes. A l'aide de l'installation d'électrozingage ainsi modifiée, on cherche à réaliser sur la même bande d'acier un revêtement de zinc de même épaisseur, en limitant comme précédemment la prise de rugosité, mais à des densités de courant ou à des vitesses plus élevées. Les paramètres qui caractérisent la bande à revêtir, l'épaisseur du dépôt, les cellules et le bain sont les mêmes que dans l'exemple 7, à part la vitesse maximum Vgmax de circulation du bain qui passe à 180 m/min, du fait de la connexion des pompes à une seule rampe d'injection par cellule et du lit continu d'anodes. Comme indiqué à la figure 10, on reporte ensuite comme précédemment les courbes ou droites suivantes J/Jlim 0,15, - J2/Jljm = 22 A/dm2, Jlim = AV9maX + A.f(e).J, soit Jlim = 644 + 2,3 . J, - J = Jmax = 111 A/dm2. - J = 50A/dm Le domaine des conditions de dépôt selon l'invention est plus étendu que dans l'exemple 7 (voir la zone hachurée de la figure 10) et se définit alors comme suit /lim J2/Jlim Jlim - 50 A/dm2 II devient ainsi possible de réaliser des dépôts avec des valeurs plus élevées que dans l'exemple 7 de la densité de courant J, de la vitesse de défilement Vd et de la vitesse de circulation de l'électrolyte Vg, sans pour autant risquer une prise de rugosité supérieure à 0,25 et/ou l'apparition de dendrites en rives. II devient en particulier possible ici de faire débiter au maximum l'installation électrique d'alimentation des cellules, sans risquer des dendrites en rives et/ou une prise de rugosité trop élevée. En effet, pour J = 111 A/dm2 (le maximum), on peut avoir à la fois Jlim 740 A/dm2. Ainsi, lorsqu'on est limité par les débits de pompes pour atteindre des vitesses relatives V bande-électrolyte et abaisser ainsi le facteur J/Jlim en deçà de 0,15 tout en conservant des valeurs élevées de densité de courant, il est avantageux d'utiliser des installations dotées de cellules ainsi modifiées selon l'invention. REVENDICATIONS 1.- Procédé continu d'électrozingage de bande métallique dans un bain d'électrolyse à base de chlorures dans lequel on fait défiler ladite bande face à une anode, on fait circuler à une vitesse V ledit bain dans l'intervalle séparant ladite bande de ladite anode, la vitesse V étant mesurée par rapport à ladite bande en défilement, on fait passer un courant électrique entre ladite bande formant cathode et ladite anode correspondant à une densité de courant J supérieure à 50 A/dm2, caractérisé en ce que on réalise le dépôt dans des conditions telles que - /îim est inférieur ou égal à 0,15, J2/Jlim est inférieur ou égal à 22 A/dm2, où Jlim est la densité de courant limite, qui correspond au palier de densité de courant sur la courbe "intensité-potentiel" caractéristique dudit bain d'électrolyse circulant à la vitesse V au voisinage de la bande. 2.- Cellule d'électrodéposition du type radial et à anodes solubles, pour mettre en oeuvre le procédé selon la revendication 1, du type comportant des moyens pour faire défiler une bande métallique successivement devant lesdites anodes, des moyens pour faire circuler un courant électrique entre ladite bande et lesdites anodes, et des moyens pour faire circuler le bain d'électrolyse dans l'intervalle séparant les anodes de la bande en défilement, lesdites anodes étant séparées dans la direction de défilement de bande par des fenêtres étroites, caractérisée en ce qu'elle comporte aussi des moyens d'obturation électriquement isolants desdites fenêtres. 3.- Cellule selon la revendication 2 caractérisé en ce que lesdits moyens d'obturation sont constitués par des panneaux en matière plastique. 4.- Cellule selon l'une quelconque des revendications 2 ou 3 caractérisée en ce que lesdits moyens pour faire circuler le bain sont constitués par une rampe d'injection multitubulaire disposée au niveau de la dernière anode du côté où la bande sortante émerge dudit bain, du type comportant un conduit d'alimentation disposé transversalement par rapport au chemin de défilement de bande, ledit conduit débouchant par une pluralité de tubes parallèles se terminant par des buses d'éjection dans ledit bain sous sa surface libre et dans l'intervalle séparant ladite bande de ladite anode.