Brevet FR2713819A1 — publié le 19950616

La présente invention concerne la décontamination de déchets contaminés, en matière plastique souple, en vue d'un recyclage ultérieur. La contamination plus spécialement visée est la contamination nucléaire. Il est bien connu que l'industrie nucléaire est une des industries dans laquelle les consignes de sécurité sont les plus draconiennes. La mise en pratique de ces consignes, notamment lors de la décontamination de tranches de centrales nucléaires mises à l'arrêt, nécessite l'utilisation d'une grande quantité de matière plastique souple, en général du polychlorure de vinyle, de l'éthylvinyl acétate (EVA), ou encore du polyéthylène. Sous forme de nappe souple par exemple, le polychlorure de vinyle, l'EVA ou le polyéthylène est employé pour l'emballage de colis pouvant être radiocontaminés, pour la confection de tentes ou de hottes ventilées pour le travail en zone très radioactive, ou pour la confection de divers vêtements de travail en zone radioactive. Les techniques connues de recyclage des matières plastiques comportent le recyclage énergétique par incinération, le recyclage chimique par pyrolyse, et le recyclage thermomécanique. En particulier, lors du recyclage des thermoplastiques par un procédé thermomécanique, on utilise un processus de lavage. Le processus de lavage s'effectue alors de façon classique par agitation sous eau et tensioactifs dans une cuve munie d'un système de flottation pour les plastiques plus denses que l'eau (comme le polychlorure de vinyle), et les salissures sont alors séparées du plastique; pour les plastiques moins denses que l'eau (comme l'EVA ou le polyéthylène), on obtient un résultat équivalent par brassage mécanique dans des bacs munis d'aubes. Cette technique de recyclage thermomécanique avec lavage est peu satisfaisante si l'on cherche à l'utiliser pour des déchets radiocontaminés. En effet, la présence d'effluents oblige à organi ser la protection du personnel chargé de la mise en oeuvre de la machine, et de plus le rendement est médiocre car on obtient un facteur de décontamination se situant entre 2 et 4 (il est rappelé que ce facteur est une valeur couramment utilisée en radioprotection, et elle correspond au rapport entre l'activité initiale et l'activité finale d'une ou plusieurs étapes de décontamination). Le document US-A-4 855 081 fait par ailleurs état d'un procédé de décontamination de plastiques radioactifs par dissolution dans des solvants organiques, puis extraction liquide-liquide des décontaminants se trouvant dans le solvant organique par de l'eau. Un tel procédé est peut-être plus performant pour la décontamination, mais il est extrêmement lourd et coûteux à mettre en oeuvre, notamment en raison de la grande quantité de solvants organiques utilisée et du grand nombre d'étages de filtres qui sont nécessaires. De plus, le produit final est de constitution très différente, car les charges et additifs restent dans les filtres lors du filtrage global effectué. Ceci explique pourquoi le traitement couramment utilisé pour les plastiques radiocontaminés consiste à effectuer un compactage des produits, suivi d'une mise en décharge. L'invention vise précisément à résoudre ce problème, en concevant une technique de décontamination dont le rendement est élevé, tant du point de vue du facteur de décontamination que du poids traité par unité de temps, et qui se prête particulièrement bien au traitement de déchets contaminés en matière plastique souple en vue de leur recyclage. L'invention a ainsi pour objet un procédé et une installation de décontamination capable de traiter au moins 100 kg/h de déchets contaminés en matière plastique souple, notamment du polychlorure de vinyle radiocontaminé, avec un facteur de décontamination pouvant atteindre des valeurs de 8 à 10, et ce sans risque pour le personnel concerné. Il s'agit plus particulièrement d'un procédé de décontamination de déchets contaminés, en matière plastique souple, caractérisé en ce que les déchets contaminés sont soumis, lors d'un processus de lavage en circuit fermé, à une attaque chimique sélective de certains agents constitutifs présents en surface et qui supportent majoritairement la contamination, et à une élimination des produits de réaction, après quoi les déchets traités sont récupérés pour être recyclés. L'attaque chimique sélective, dont l'action se combine à celle du lavage, est très efficace pour la décontamination de déchets en polychlorure de vinyle, en EVA ou en polyéthylène, ou plus généralement de déchets en matière plastique constituée par un polymère et des agents de mise en oeuvre (plastifiants, stabilisants,. .). En particulier, l'attaque chimique sélective peut être principalement dirigée contre les agents plastifiants présents sur la surface des déchets contaminés, et cette attaque chimique sélective est par exemple réalisée en ajoutant une base forte à l'eau de lavage, notamment de la soude ou de la potasse en solution aqueuse, de telle façon que la réaction de saponification alors mise en oeuvre concurremment à l'action du lavage réalise la décontamination recherchée. Une telle attaque chimique sélective en surface est particulièrement efficace pour les déchets souples en polychlorure de vinyle, car la quantité d'agents plastifiants est très importante, d'où il résulte des phénomènes de migration dus à des gradients de concentration, lesquels phénomènes sont encore accentués lorsque la matière s'use. En traitant chimiquement la couche superficielle de chaque déchet individuel, on détache les particules contaminantes en surface en réalisant ainsi une décontamination très efficace grâce à la saponification des plastifiants. En effet, le phénomène d'exsudation étant vraisemblablement majoritaire, il se forme à la surface des déchets une couche mono- ou dimoléculaire de plastifiants. Ces plastifiants étant principalement constitués d'esters d'acide phtalique, la saponification combinée à l'action du lavage permet d'éliminer la contamination de façon très complète. De préférence, l'attaque chimique sélective est réalisée à une température inférieure à 700C, et de préférence comprise entre 400C et 600C. On parvient ainsi à accélérer la réaction et donc à augmenter le rendement dans des proportions non négligeables. Il pourra également être intéressant de prévoir la présence d'un tensioactif, de préférence peu moussant, ce qui permet de mettre en suspension les produits formés. Avantageusement, le processus de lavage en circuit fermé comporte au moins un cycle de lavage avec action thermomécanique au cours duquel est réalisée l'attaque chimique sélective, puis au moins un cycle de rinçage avec action mécanique, avec des cycles de vidange au cours desquels les effluents de lavage ou de rinçage sont respectivement filtrés. De préférence alors, on utilisera, pour les cycles de lavage et de rinçage, des solutions respectives de lavage et de rinçage qui sont régénérées en permanence avec rétention par filtration des particules contaminées. L'invention concerne également une installation de décontamination destinée à la mise en oeuvre du procédé précité, cette installation étant remarquable en ce qu'elle comporte - un réacteur de lavage - au moins une cuve de lavage contenant une solution de lavage, reliée au réacteur de lavage par un circuit de lavage incluant un circuit d'alimentation et un circuit de retour, ladite cuve de lavage étant équipé d'un moyen d'amenée d'une base forte qui est mélangée à la solution de lavage qui y est contenue - une cuve de rinçage contenant une solution de rinçage, reliée au réacteur de lavage par un circuit de rinçage associé incluant un circuit d'alimentation et un circuit de retour - des moyens de filtration montés sur les circuits de retour des circuits de lavage et de rinçage, lesdits moyens fonctionnant en permanence pour régénérer les solutions respectives de lavage et de rinçage qui circulent en circuit fermé, avec une rétention par filtration des particules contaminées. Selon un mode d'exécution particulier, le moyen d'amenée d'une base forte est agencé pour amener simultanément un tensioactif. De préférence, la ou chaque cuve de lavage est thermostatée, de façon à envoyer dans le circuit d'alimentation associé une solution de lavage chauffée et maintenue à une température prédéterminée. Il pourra s'avérer intéressant de prévoir deux cuves de lavage équipées chacune de son moyen d'amenée de base forte, et éventuellement aussi de tensioactif, des moyens de filtration indépendants étant en outre montés sur chaque circuit de retour respectif. Avantageusement encore, pour faciliter la mise en place de l'installation et diminuer son encombrement au sol, il est prévu que l'installation comporte un module de décontamination sur lequel sont montés les moyens de filtration ainsi que les moyens de pompage associés aux circuits de lavage et de rinçage, avec les portions correspondantes desdits circuits de lavage et de rinçage, ledit module étant équipé de raccords en périphérie pour réaliser tous les raccordements menant au réacteur de lavage et aux cuves de lavage et de rinçage. D'autres caractéristiques et avantages de l'invention apparaîtront plus clairement à la lumière de la description qui va suivre et des dessins annexés, concernant un mode de réalisation particulier, en référence aux figures où - la figure 1 illustre schématiquement une installation de décontamination conforme à l'invention, mettant en oeuvre le procédé de l'invention, l'installation comportant ici une cuve unique de lavage et une cuve de rinçage - la figure 2 illustre une variante à deux cuves de lavage, avec une duplication des moyens d'amenée de base forte et des moyens de filtration associés aux circuits de retour respectifs - la figure 3 illustre schématiquement un module fonctionnel de décontamination sur lequel sont montés les moyens de filtration et de pompage de l'installation de la figure 2, ce module formant une unité prête à être raccordée au réacteur de lavage et aux cuves de lavage et de rinçage - la figure 4 illustre schématiquement un sousensemble associé à l'alimentation en eau industrielle, ce sous-ensemble pouvant éventuellement être monté sur le module précité. La figure 1 illustre une installation de décontamination 100 conforme à l'invention, comportant un réacteur de lavage 101, une cuve de lavage 110 ici unique, contenant une solution de lavage, cette cuve étant reliée au réacteur de lavage 101 par un circuit de lavage associé incluant un circuit d'alimentation 111 et un circuit de retour 112, et une cuve de rinçage 210 contenant une solution de rinçage, cette dernière cuve étant également reliée au réacteur de lavage 101 par un circuit de rinçage associé incluant un circuit d'alimentation 211 et un circuit de retour 212. Le réacteur de lavage 101 peut être soit un réacteur conçu uniquement pour cet usage, dans lequel les déchets ou les broyats de déchets contaminés, en matière plastique souple, sont conditionnés dans des paniers métalliques (auquel cas une essoreuse est associée à ce réacteur), soit une machine à laver industrielle dans laquelle ces broyats sont conditionnés dans des filets, et qui a un pouvoir d'essorage important. On a schématisé en 102 le tambour d'une machine à laver industrielle constituant le réacteur de lavage 101. Deux entrées d'alimentation 103, 104 sont respectivement associées à l'amenée de la solution de lavage en provenance de la cuve 110, et de la solution de rinçage en provenance de la cuve 210, et deux sorties de vidange 105, 106 sont respectivement associées au retour des solutions de lavage et de rinçage vers les cuves correspondantes. On pourra par exemple utiliser une machine à laver de buanderie industrielle, d'une contenance de 150 kg, dont on peut programmer un grand nombre de paramètres. Sa vitesse de rotation en essorage rapide (de l'ordre de 720 tours/minute) permet de sortir des broyats ayant entre 5 et 10 Oc d'humidité, évitant ainsi l'utilisation d'une essoreuse. Les deux sorties de vidange sont programmées de telle façon que la solution de lavage et la solution de rinçage empruntent toujours la même voie. Le tambour 102 du réacteur de lavage 101 sera de préférence réalisé en acier inoxydable, de façon à supporter l'utilisation d'une base forte telle qu'une solution aqueuse de soude ou de potasse. Deux électrovannes 107, 108 commandent l'alimentation en solution de lavage ou en solution de rinçage provenant des cuves respectives 110, 210, et deux électrovannes 109, 142 commandent la vidange pour les cycles correspondants de lavage ou de rinçage. De préférence, les quatre électrovannes précitées 107, 108, 109, 142 seront internes au réacteur de lavage 101. La cuve de lavage 110, de préférence réalisée en acier inoxydable, est pourvue d'un système de chauffage par résistance plongeante 114, régulée en température par des régulateurs 115 autoréglants. Des capteurs 116 et 117 sont également prévus, respectivement sous la forme d'une sonde de température donnant une température indiquée et régulée, et d'un détecteur par contact donnant une température transmise. Le système de chauffage permet de réaliser une attaque chimique sélective par la solution de lavage chargée d'une base forte portée à une température qui sera en général inférieure à 700C, et de préférence comprise entre 400C et 600C. On a également prévu deux capteurs 118 qui sont des détecteurs de niveau haut et de niveau bas pour la solution de lavage contenue dans la cuve 110. Conformément à un aspect essentiel de l'invention, il est prévu un moyen 113 d'amenée d'une base forte qui est mélangée à la solution de lavage qui est contenue dans la cuve 110. Ce moyen d'amenée peut être un simple circuit d'introduction, ou encore un circuit comportant une pompe externe (non représentée ici). Le moyen d'amenée 113 d'une base forte peut être également agencé pour amener simultanément un tensioactif, et de préférence un tensioactif non ou peu moussant. On pourra par exemple utiliser comme tensioactif le produit commercialisé par la société Henkel sous la marque Texapon. Dans la pratique, on procédera à l'introduction des réactifs correspondants (solution de soude concentrée et éventuel tensioactif) avant le remplissage de la cuve de lavage 110, afin de ne pas dépasser le niveau haut. En partie basse de la cuve de lavage 110, on distingue trois sorties équipées de vannes associées 119, 120, 127. La vanne 127 est ici associée à un circuit 128 qui correspond au gavage d'une pompe centrifuge 135 associée au retour de la solution de lavage. La vanne 120 permet d'amener la solution de lavage contenant la quantité désirée de base forte, éventuellement additionnée de tensioactif, vers une pompe 125, qui peut être également centrifuge. Du côté refoulement de cette pompe 125, le circuit se sépare en deux, après une vanne de purge 121, avec une portion de circuit 124 sur laquelle est installé un débitmètre électromagnétique 126 donnant de préférence le débit indiqué et le débit totalisé, cette portion de circuit menant à l'électrovanne d'alimentation 107 déjà mentionnée. L'autre portion de circuit 122, est une portion de recirculation, sur laquelle est installée une vanne guillotine 123 qui permet de régler les débits d'ali mentation du réacteur de lavage 101 en solution de lavage. Pour le retour de la solution de lavage depuis la sortie de vidange correspondante 105 du réacteur 101 et l'électrovanne associée 109, on a prévu des moyens de filtration 130, 138, 139 montés sur le circuit de retour 112, lesdits moyens fonctionnent en permanence pour régénérer la solution de lavage qui circule en circuit fermé, avec une rétention par filtration des particules contaminées. Le circuit de retour comporte une vanne 129 menant à un premier filtre 130, qui peut être un filtre à panier permettant de protéger la pompe centrifuge associée 135 prévue en aval dudit filtre. La porosité de ce filtre à panier sera par exemple de l'ordre de 100H, ce qui permet une protection efficace de la pompe 135 pour le cas par exemple où un filet contenant les déchets contaminés se briserait. A ce filtre de protection 130 est associé un capteur 131 de niveau haut et de niveau bas, et deux capteurs 132, 133 qui réalisent l'asservissement d'une électrovanne pneumatique 134 montée en aval du filtre, en amont de la pompe 135. Le circuit 128 assure en permanence une alimentation de gavage de la pompe 135. Au refoulement de la pompe 135, on trouve un débitmètre électromagnétique 136 qui permet de totaliser le volume de solution passant dans les filtres 138 et 139 situés en aval, pour prévoir un éventuel remplacement de la solution de lavage. Une vanne guillotine 137 est agencée en amont des deux filtres 138 et 139, et chacun de ces filtres est équipé d'un manomètre différentiel 140 (par exemple de O à 4.105Pa) permettant de mesurer la différence de pression en amont et en aval des cartouches de filtration, afin de déterminer leur colmatage. Dans la pratique, on pourra utiliser des filtres à cartouches, avec par exemple une porosité de 20 Hm pour le premier filtre 138, et de 5 Hm pour le second filtre 139. On pourra par exemple utiliser des cartouches composées de microfibres de polypropylène moulé. Une vanne 141 mène enfin au retour prévu en partie haute de la cuve de lavage 110. On dispose ainsi d'un circuit de lavage équipé, sur sa ligne de retour, de moyens de filtration fonctionnant en permanence pour régénérer la solution de lavage circulant en circuit fermé, avec une rétention par filtration des particules contaminées. Pour la circulation régénérée en permanence de la solution de rinçage contenue dans la cuve associée 210, les circuits d'alimentation 211 et de retour 212 sont conçus de façon analogue à ceux qui viennent d'être décrits pour la circulation et le retour de la solution de lavage. La solution de rinçage provenant de la cuve 210 arrive ainsi par une vanne 214 en aspiration d'une pompe centrifuge 215. Au refoulement de cette pompe 215, réglable en débit par une vanne associée 217, on trouve une purge avec sa vanne 216, et un circuit d'alimentation 211 sur lequel est prévu un débitmètre à flotteur 218, arrivant à l'électrovanne dali- mentation 108. Pour le retour de la solution de rinçage, on retrouve les mêmes moyens que pour le retour de la solution de lavage, avec un filtre à panier 220, et un filtre unique à cartouches 227. Ces moyens comportent ainsi successivement une vanne 219, un capteur 221 de niveau haut et de niveau bas, une électrovanne 224 asservie par des capteurs 222 et 223, une pompe centrifuge 225 avec, au refoulement de celleci, une vanne de réglage de débit 226 menant à un filtre à cartouches 227, dont la porosité pourra être de l'ordre de 1 Hm. Le filtre 227 est également équipé d'un manomètre à pression différentielle 228, et d'une vanne de sortie 229 menant au retour vers la cuve 210. L'électrovanne pneumatique 224, asservie par ses deux capteurs de niveau situés sur le filtre 220 permet d'éviter que la pompe 225 se désamorce. Une vanne 230 ménagée en partie basse de la cuve 210 correspond au circuit de gavage de la pompe 225. La vanne 226 permet enfin de régler le débit d'entrée dans le filtre 227. Une vanne de vidange générale 213 et également ménagée en partie basse de la cuve 210. Il est enfin prévu un circuit de remplissage des cuves 110 et 210. Afin d'éviter qu'une eau contenant des boues ou toutes autres impuretés ne circule dans l'installation, on a prévu une filtration de l'eau industrielle en amont de ces cuves. L'arrivée d'eau industrielle est schématisée en 50, et la vanne 51 mène ainsi à un filtre à cartouches 52, dont la porosité pourra être de l'ordre de 1 ssm, et cette eau filtrée est dirigée par des vannes 54 et 55 vers les cuves respectives de lavage 110 et de rinçage 220. Le débit d'eau est mesuré par un débitmètre 53. Pour le premier remplissage des cuves 110 et 210, il conviendra naturellement de respecter une procédure précise permettant d'éviter les accidents de fausses manoeuvres. Ainsi, pour le remplissage de la cuve 110, on procèdera successivement à la fermeture des vannes 119, 120, 127, puis la fermeture de la vanne 55 d'alimentation en eau, et à l'ouverture de la vanne 54 ; après vérification de l'état des cartouches du filtre 52, on procédera à l'ouverture de la vanne 51, cette ouverture étant maintenue jusqu'à l'atteinte du niveau haut signalé par le détecteur 118. Pour la cuve de rinçage 210, on procédera de la même façon, avec successivement la fermeture de la vanne 54 et l'ouverture de la vanne 55 ; après vérification de l'état des cartouches du filtre 52, on procédera à l'ouverture de la vanne 51 jusqu'à l'atteinte du niveau haut de la cuve 210 signalé par le détecteur de niveau associé 231. Lorsque le niveau haut est atteint dans une cuve, on ferme la vanne correspondante 54 ou 55, et en dernier lieu la vanne 51 d'arrivée d'eau. L'installation 100 ainsi équipée permet la mise en oeuvre du procédé de décontamination de déchets contaminés en matière plastique souple selon l'invention, ce procédé étant remarquable par le fait que les déchets contaminés sont soumis, lors d'un processus de lavage en circuit fermé, à une attaque chimique sélective de certains agents constitutifs présents en surface et qui supportent majoritairement la contamination, et à une élimination des produits de réaction, après quoi les déchets traités sont récupérés pour être recyclés. Cette élimination résulte de l'action combinée de l'attaque chimique et du lavage avec brassage (action mécanique ou thermomécanique), éventuellement avec utilisation d'un tensioactif. Dans une application particulière, l'attaque chimique sélective sera principalement dirigée contre les agents plastifiants présents sur la surface des déchets contaminés. Cette attaque chimique sélective est réalisée en ajoutant une base forte à l'eau de lavage, par le moyen 113 précité, notamment de la soude ou de la potasse en solution aqueuse. La réaction de saponification alors mise en oeuvre concurremment à l'action du lavage réalise la décontamination recherchée. Les déchets contaminés pourront être disposés dans le tambour 102 du réacteur de lavage 101 soit sous leur forme naturelle, soit encore sous forme de petites pastilles obtenues par déchiquetage préalable des déchets souples. L'utilisation de déchets souples en forme de feuille est particulièrement efficace dans le cadre de l'invention, car ces déchets présentent une surface spécifique importante, de sorte que l'attaque chimique sélective est tout particulièrement efficace, ce qui permet d'obtenir un facteur de décontamination atteignant couramment des valeurs de 8 à 10. Les particules contaminées détachées par frottement lors du lavage, par action mécanique ou thermomécanique, peuvent être isolées par le tensioactif qui en empêche le redépôt. L'utilisation d'un tensioactif n'est certes pas obligatoire, mais elle est néanmoins intéressante dans la mesure où elle favorise la réaction de saponification, car on déplace l'équilibre de la réaction dans le sens de la saponification et non de l'estérification. On parvient ainsi à contrôler parfaitement la réaction, et à saponifier les esters organiques, qui sont en général des phtalates, formant la presque totalité des plastifiants utilisés dans les déchets contaminés qui sont en matière plastique souple. Il convient de noter que l'attaque chimique sélective est une attaque surfacique, de sorte que le déchet ne subit aucune attaque dans sa masse, ce qui permet de préserver les autres adjuvants déjà présents dans la matière plastique. On peut ainsi récupérer in fine des déchets traités parfaitement recyclables, par exemple directement utilisables dans une unité d'injection. Le processus de lavage en circuit fermé comportera dans la pratique au moins un cycle de lavage avec action thermomécanique au cours duquel est réalisée l'attaque chimique sélective, puis au moins un cycle de rinçage avec action mécanique, avec des cycles de vidange au cours desquels les effluents de lavage ou de rinçage sont respectivement filtrés. Pour les cycles de lavage et de rinçage, on utilise ainsi des solutions respectives de lavage et de rinçage qui sont régénérées en permanence, avec rétention par filtration des particules contaminées. Sur la figure 2, on a illustré une variante de l'installation de décontamination qui vient d'être décrite, dans laquelle il est prévu une deuxième cuve de lavage 310, fonctionnant de façon indépendante par rapport à la première cuve 110, grâce à son circuit d'alimentation 311 et de retour 312 associés. Des composants identiques sont ainsi associés à cette deuxième cuve de lavage 310, et on a utilisé les mêmes références que pour les composants équipant la cuve de lavage 110 augmentés de 200. L'installation 100 est en outre complétée par des vannes à trois voies 150, 151, 152, 153 qui permettent de choisir un fonctionnement sur l'une ou l'autre des deux cuves de lavage 110 et 310. Une troisième vanne 56 est associée à l'alimentation en eau filtrée de cette deuxième cuve de lavage 310. Une telle unité est capable de traiter au moins 100 kg de déchets plastiques par heure. Ainsi, on peut faire fonctionner de façon indépendante le réacteur de lavage 101 avec ses moyens de filtration, avec ses deux boucles de filtration et ses deux boucles d'alimentation sur lesquelles le réacteur, selon qu'il est en cycle de lavage ou en cycle de rinçage, prélève, au moyen des électrovannes commandées par ledit réacteur, le volume de solution dont il a besoin. Lors de la vidange, les effluents de lavage ou de rinçage sont envoyés sur les circuits de filtration respectifs. Dans le cas de la figure 2, l'installation comporte deux cuves de lavage 110, 310 équipées chacune de son moyen 113, 313 d'amenée de base forte, éventuellement aussi de tensioactif, et des moyens de filtration indépendants montés sur chaque circuit de retour respectif 112, 312. Pour diminuer l'encombrement au sol de l'installation, et faciliter son transport, il est également prévu selon l'invention que l'installation 100 comporte un module de décontamination sur lequel sont montés les moyens de filtration ainsi que les moyens de pompage associés aux circuits de lavage et de rinçage, avec les portions correspondantes desdits circuits de lavage et de rinçage. Une telle option avantageuse est illustrée sur la figure 3, où l'on distingue un tel module de décontamination 400. Le module illustré ici correspond à l'installation de la figure 2, avec deux cuves de lavage. On retrouve ainsi sur la figure 3 les différents composants précédemment décrits, avec, en périphérie, des flèches schématisant les entrées et les sorties associées au réacteur de lavage 101, et aux trois cuves 110, 210, 310. Le module 400 est ainsi équipé de raccords en périphérie pour réaliser tous les raccordements menant au réacteur de lavage 101 et aux trois cuves 110, 210, 310 de lavage et de rinçage. Pour les raccordements au réacteur de lavage 101, on a indiqué entre parenthèses les références des électrovannes 107 et 108 pour l'alimentation des solutions de lavage et de rinçage, et les électrovannes 109 et 142 pour le retour des solutions de lavage et de rinçage, pour rappeler que ces quatre électrovannes sont de préférence intégrées au réacteur de lavage 101. Le module 400 comporte également une armoire électrique de commande schématisée par un rectangle 401. Sur la figure 4, on a illustré une unité d'alimentation en eau 402 associée aux trois cuves, avec les trois vannes 54, 55, 56 associées à l'alimentation en eau de chacune des trois cuves 110, 210, 310. Cette unité d'alimentation pourra naturellement être intégrée au module 400, ou encore être agencée séparément, étant entendu que ladite unité n'est pas concernée par la contamination. A titre indicatif, un tel module fonctionnel de décontamination 400 représentera un encombrement au sol d'environ deux mètres sur trois mètres, avec une hauteur de l'ordre de 1,2 mètre. Les différents composants disposés sur le module 400 ne seront pas décrits à nouveau, car on retrouve la disposition déjà décrite en référence aux figures 1 et 2. De préférence, toutes les arrivées et les sorties de raccordement ainsi que les liaisons entre les différents composants auront un même diamètre nominal, par exemple de 50 mm. Lorsque les pompes équipant l'installation sont des pompes centrifuges, il conviendra de s'assurer que ces pompes sont toujours montées en charge pour avoir un gavage permanent, en disposant lesdites pompes à un niveau plus bas que le niveau du liquide contenu dans la cuve ou le réacteur correspondant. Par exemple, on pourra placer les deux cuves de lavage 110 et 310 à environ trois mètres du sol. Ceci implique aussi, toujours pour des raisons de sécurité, le respect de consignes très strictes, même pour des actes routiniers comme des changements de filtres. Pour les filtres 138 et 139 par exemple, le chargement des cartouches devra être effectué selon la procédure suivante à la fin d'un cycle de traitement (lavages + rinçages), le réacteur de lavage 101 et la pompe 135 sont mis hors tension, puis les vannes 137 et 141 sont fermées. Ensuite, l'opérateur portant des gants et des lunettes appropriées pourra ouvrir les filtres 138 et 139, et changer les cartouches de filtre, en vérifiant l'état du joint d'étanchéité du carter de filtre. Après refermeture des carters et blocage des écrous de fermeture de couvercle, il suffit alors d'ouvrir à nouveau les vannes 137 et 141, et de remettre sous tension la pompe 135 et le réacteur de lavage 101. La même procédure sera utilisée pour le changement des cartouches des filtres 338 et 339. Pour ce qui est du filtre à cartouches 227 associé au retour de la solution de rinçage, on procédera de la même façon, avec une mise hors tension du réacteur de lavage 101 et de la pompe 225, puis une fermeture des vannes 226 et 229 ensuite l'opérateur peut changer les cartouches de filtre, et vérifier l'état du joint d'étanchéité du carter de filtre, puis, après refermeture et blocage des écrous, ouvrir à nouveau les vannes 226 et 229, et remettre sous tension la pompe 225 et le réacteur de lavage 101. Le fait de disposer de deux cuves de lavage permettra un fonctionnement plus élaboré, avec l'utilisation d'un deuxième type d'attaque chimique sélective, conformément à un lavage permettant par exemple de s'attaquer aux agents stabilisant de matière plastique, ou encore d'effectuer un prérinçage. Si l'on fonctionne avec un travail alternatif, on pourra éventuellement prévoir un deuxième module de décontamination pour disposer d'un module par application. Il va de soi que les composants de l'installation précédemment décrite ont été mentionnés seulement à titre d'exemple. En particulier, on pourra remplacer les pompes centrifuges par des pompes volumétriques, par exemple des pompes Moineau. On est ainsi parvenu à concevoir une technique de décontamination de rendement élevé, tant du point de vue du facteur de décontamination que du poids traité par unité de temps, qui se prête particulièrement bien au traitement de déchets contaminés, en matière plastique souple, en vue de leur recyclage. L'installation de décontamination telle que celle qui vient d'être décrite, est capable de traiter au moins 100 kg par heure de déchets radiocontaminés, en matière plastique souple, notamment de l'EVA, du polychlorure de vinyle, ou du polyéthylène avec un facteur de décontamination pouvant atteindre des valeurs de 8 à 10, et ce sans risque pour le personnel concerné. La destruction sélective des constituants porteurs de contamination permet de ne pratiquement pas altérer les propriétés fonctionnelles essentielles du produit. Enfin, le confinement associé à la rétention de la contamination procure une sécurité optimale pour le personnel affecté au fonctionnement de l'installation. L'invention n'est pas limitée au mode de réalisation qui vient d'être décrit, mais englobe au contraire toute variante reprenant, avec des moyens équivalents, les caractéristiques essentielles énoncées plus haut. REVENDICATIONS 1. Procédé de décontamination de déchets contaminés, en matière plastique souple, caractérisé en ce que les déchets contaminés sont soumis, lors d'un processus de lavage en circuit fermé, à une attaque chimique sélective de certains agents constitutifs présents en surface et qui supportent majoritairement la contamination, et à une élimination des produits de réaction, après quoi les déchets traités sont récupérés pour être recyclés. 2. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que l'attaque chimique sélective est principalement dirigée contre les agents plastifiants présents sur la surface des déchets contaminés. 3. Procédé selon la revendication 2, caractérisé en ce que l'attaque chimique sélective est réalisée en ajoutant une base forte à l'eau de lavage, notamment de la soude ou de la potasse en solution aqueuse, de telle façon que la réaction de saponification alors mise en oeuvre concurremment à l'action du lavage réalise la décontamination recherchée. 4. Procédé selon la revendication 3, caractérisé en ce que l'attaque chimique sélective est réalisée à une température inférieure à 700C, et de préférence comprise entre 400C et 600C. 5. Procédé selon la revendication 3 ou la revendication 4, caractérisé en ce que l'attaque chimique sélective est réalisée en présence d'un tensioactif, et de préférence un tensioactif peu moussant. 6. Procédé selon l'une des revendications 1 à 5, caractérisé en ce que le processus de lavage en circuit fermé comporte au moins un cycle de lavage avec action thermomécanique, au cours duquel est réalisée l'attaque chimique sélective, puis au moins un cycle de rinçage avec action mécanique, avec des cycles de vidange au cours desquels les effluents de lavage ou de rinçage sont respectivement filtrés. 7. Procédé selon la revendication 6, caractérisé en ce qu'on utilise, pour les cycles de lavage et de rinçage, des solutions respectives de lavage et de rinçage qui sont régénérées en permanence avec rétention par filtration des particules contaminées. 8. Installation de décontamination destinée à la mise en oeuvre d'un procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 7, caractérisée en ce qu'elle comporte - un réacteur de lavage (101) - au moins une cuve de lavage (110 ; 310) contenant une solution de lavage, reliée au réacteur de lavage (101) par un circuit de lavage incluant un circuit d'alimentation (111 ; 311) et un circuit de retour (112 ; 312), ladite cuve de lavage étant équipé d'un moyen (113 ; 313) d'amenée d'une base forte qui est mélangée à la solution de lavage qui y est contenue - une cuve de rinçage (210) contenant une solution de rinçage, reliée au réacteur de lavage (101) par un circuit de rinçage associé incluant un circuit d'alimentation (211) et un circuit de retour (212) - des moyens de filtration (130 ; 138, 139 ; 338, 339 ; 220, 227) montés sur les circuits de retour (112 ; 212; 312) des circuits de lavage et de rinçage, lesdits moyens fonctionnant en permanence pour régénérer les solutions respectives de lavage et de rinçage qui circulent en circuit fermé, avec une rétention par filtration des particules contaminées. 9. Installation selon la revendication 8, caractérisée en ce que le moyen (113 ; 313) d'amenée d'une base forte est agencé pour amener simultanément un tensioactif. 10. Installation selon la revendication 8 ou la revendication 9, caractérisé en ce que la ou chaque cuve de lavage (110 ; 310) est thermostatée, de façon à envoyer dans le circuit d'alimentation associé une solution de lavage chauffée et maintenue à une température prédéterminée. 11. Installation selon l'une des revendications 8 à 10, caractérisée en ce qu'elle comporte deux cuves de lavage (110 ; 310) équipée chacune de son moyen (113 ; 313) d'amenée de base forte, et éventuellement aussi de tensioactif, des moyens de filtration indépendants (138, 139 ; 338, 339) étant en outre montés sur chaque circuit de retour respectif (112 ; 312). 12. Installation selon l'une des revendications 8 à 11, caractérisée en ce qu'elle comporte un module de décontamination (400) sur lequel sont montés les moyens de filtration (130, 138, 139, 220, 227, 338, 339) ainsi que les moyens de pompage (125, 135, 215, 225) associés aux circuits de lavage et de rinçage, avec les portions correspondantes desdits circuits de lavage et de rinçage, ledit module étant équipé de raccords en périphérie pour réaliser tous les raccordements menant au réacteur de lavage (101) et aux cuves (110, 310 ; 210) de lavage et de rinçage.