Brevet FR2694153A1 — publié le 19940128

ELIMINATION DE L'ARMORCAGE A LA MASSE DANS DES TORCHES A PLASMA RF La présente invention concerne de façon générale les dispositifs de génération de plasma radiofréquence (RF), et elle porte plus particulièrement sur l'élimination de l'amorçage à la masse dans des torches à plasma RF. Les torches à plasma à induction haute fréquence sont bien connues pour produire des plasmas gazeux à tempé- rature élevée Elles sont utiles dans diverses applications10 de chauffage comme des réactions chimiques à haute tempéra- ture, le chauffage de cibles solides, la fusion de particu- les telles que celles d'un superalliage, et la formation de revêtements de surface dans des processus de pulvérisation. Une torche à plasma RF comprend de façon générale une enceinte, par exemple en quartz, pour un gaz ionisable, et une bobine d'induction électrique qui entoure l'enceinte et qui est connectée à une source de courant électrique RF. On utilise habituellement de l'argon en tant que gaz ioni- sable, et la fréquence du courant RF peut être de façon ca-20 ractéristique dans la plage de 250-450 k Hz ou dans la plage de 2-4 M Hz. Les torches à plasma RF ont d'excellentes pro- priétés de chauffage Cependant, contrairement aux torches à plasma à courant continu, elles présentent un convénient extrêmement important Le jet de plasma et les gaz chauds qui sont créés par la torche produisent souvent un amorçage à la masse, c'est-à-dire un arc dirigé vers la masse, cette dernière consistant par exemple en cibles de pulvérisation reliées à la masse ou en une cuve reliée à la masse. 2 L'amorçage à la masse peut provoquer l'extinction du jet de plasma et peut conduire à d'autres problèmes graves de fonctionnement Dans un processus de revêtement par pulvé- risation, à la suite d'un amorçage, il est nécessaire d'ar- 5 rêter le processus de pulvérisation et de faire redémarrer la décharge RF Ceci est inacceptable dans presque n'impor- te quelle application. L'une des manières selon lesquelles on a évité l'amorçage à la masse dans le passé a consisté à travailler avec une cuve ou une cible de pulvérisation non reliée à la masse, c'est-à-dire flottante Bien que ceci puisse être acceptable dans un environnement de laboratoire, ce mode de fonctionnement crée un danger et un risque importants pour la sécurité des personnes, du fait de la tension RF élevée15 qui peut être présente sur la cuve ou la cible non reliée à la masse Dans un environnement de production, qui est celui dans lequel un processus de pulvérisation par plasma RF aurait sa plus grande utilité, de tels problèmes de sé- curité seraient inacceptables. 20 Il est donc souhaitable de procurer un dispositif et un procédé de génération de plasma RF dans lesquels l'amorçage à la masse soit notablement réduit ou éliminé et qui évite les problèmes précédents, ainsi que d'autres, qui sont associés à des dispositifs à plasma RF connus Il25 est en outre souhaitable de procurer un dispositif à plasma RF qui soit capable de travailler à des niveaux de puissan- ce plus élevés, pour mieux chauffer et faire fondre des particules qui sont plus difficiles à chauffer Ce sont ces buts que la présente invention vise à atteindre.30 L'invention procure un dispositif à plasma RF et un procédé pour produire un plasma RF, dans lesquels l'amorçage à la masse soit pratiquement éliminé et qui per- mette un meilleur chauffage et une meilleure fusion de par- ticules L'invention est basée sur la reconnaissance du35 fait suivant la raison de la propension à l'amorçage à la 3 masse que manifeste le jet de plasma est due à l'existence d'une tension élevée entre le jet de plasma et la cuve re- liée à la masse, ou toute autre surface reliée à la masse telle que la cible La tension est créée par la circulation 5 d'un courant capacitif qui est produit par le champ élec- trique RF et qui circule de la bobine RF vers le plasma, et du plasma vers la surface reliée à la masse Le couplage s'effectue par l'intermédiaire de deux capacités parasites, l'une entre la bobine RF et le plasma et l'autre entre le10 plasma et la surface reliée à la masse Ainsi, en interrom- pant le couplage par champ électrique entre la bobine RF et le plasma, l'invention permet d'intercepter la majeure par- tie ou la totalité du courant capacitif qui circule de la bobine vers le plasma, ce qui élimine pratiquement l'amor-15 çage à la masse. L'invention interrompt le couplage par champ électrique et intercepte la circulation du courant capaci- tif en blindant le plasma RF vis-à-vis du champ électrique de la bobine RF On peut réaliser ceci en interposant un20 blindage métallique relié à la masse, entre la bobine et le plasma Le blindage ferme un circuit électrique dirigé vers la masse qui shunte le courant capacitif à la masse avant qu'il ne puisse entrer dans le plasma. De façon générale, un aspect de l'invention pro- cure un dispositif à plasma RF qui comprend un enceinte dé- finissant une chambre cylindrique pour un plasma, une bobi- ne d'induction électrique entourant l'enceinte pour fournir de l'énergie RF au plasma, et des moyens pour interrompre le couplage par champ électrique entre la bobine et le30 plasma, dans le but de réduire le couplage capacitif et la circulation d'un courant capacitif de la bobine vers le plasma. Selon un autre aspect, l'invention procure un procédé d'élimination de l'amorçage à la masse dans un dis- positif à plasma RF du type comprenant une enceinte défi- 4 nissant une chambre pour un plasma, et une bobine d'induc- tion électrique entourant l'enceinte pour transmettre de l'énergie électrique au plasma, dans lequel le couplage ca- pacitif entre la bobine et le plasma est réduit dans le but 5 de réduire la circulation d'un courant capacitif de la bo- bine vers le plasma. L'invention sera mieux comprise à la lecture de la description qui va suivre de modes de réalisation, don- nés à titre d'exemples non limitatifs La suite de la des-10 cription se réfère aux dessins annexés sur lesquels: La figure 1 est une représentation schématique qui illustre une structure de chauffage caractéristique utilisant un dispositif de génération de plasma RF; La figure 2 est une vue agrandie du dispositif de génération de plasma RF de la structure de la figure 1; La figure 3 est une vue schématique qui illustre le couplage par capacité parasite dans le dispositif de gé- nération de plasma RF; Les figures 4 A et 4 B sont respectivement des cou- pes longitudinale et transversale d'une première structure de blindage conforme à l'invention, qu'on peut employer avec le dispositif de génération de plasma de la figure 3, la figure 4 A étant une représentation partiellement arra- chée, et la coupe de la figure 4 B étant faite selon la li-25 gne 4 B-4 B de la figure 4 A; La figure 5 est une coupe transversale similaire à la figure 4 B, qui illustre une autre forme d'une structu- re de blindage conforme à l'invention; et La figure 6 illustre schématiquement de façon un peu plus détaillée un dispositif de génération de plasma RF conforme à l'invention. Les figures 1 et 2 illustrent schématiquement une structure caractéristique d'un appareil de chauffage par plasma RF, tel qu'un appareil de pulvérisation RF destiné à35 former un revêtement de surface sur une cible Comme il est représenté, l'appareil peut comprendre un dispositif de génération de plasma RF, ou torche à plasma RF, 10, disposé à l'intérieur d'un support de torche 12, comprenant par exemple un puits métallique cylindrique qui pénètre à l'in- térieur d'une cuve métallique 14 La torche à plasma RF peut être placée dans le fond du puits métallique et être conçue de façon à injecter un plasma 20 dans la cuve, à travers une ouverture 22 dans le puits (voir la figure 2), pour chauffer ou traiter de toute autre manière une cible10 24 se trouvant à l'intérieur de la cuve, qui est portée par un actionneur mécanique ou une perche 26 L'actionneur mé- canique permet de positionner et de faire tourner la cible par rapport au plasma Dans un appareil de revêtement par pulvérisation RF, des particules du matériau de revêtement,15 tel qu'un superalliage, peuvent être injectées dans le plasma, fondues et pulvérisées sur la cible pour former un revêtement de surface. Comme on le décrira sous peu de façon plus détaillée, la torche à plasma RF 10 peut comprendre, d'une manière classique, une enceinte tubulaire 30, par exemple en quartz, qui forme une chambre cylindrique pour le plas- ma Une bobine d'induction électrique 32, prévue pour être connectée à une source d'énergie RF (non représentée), peut entourer l'enceinte 30 pour coupler de l'énergie RF à un25 gaz ionisable, tel que de l'argon, qui est injecté dans la chambre afin de produire le plasma Comme il est indiqué sur la figure 2, le plasma sort de la chambre à travers une extrémité ouverte de l'enceinte tubulaire, et la torche à plasma est positionnée à l'intérieur du puits de façon que30 le plasma soit injecté dans la cuve à travers l'ouverture 22. Comme le montre la figure 2, la torche à plasma RF 10 peut être électriquement isolée de la paroi métalli- que du puits et de la cuve par des isolateurs 34 et 36.35 Néanmoins, pendant le fonctionnement de la torche à plasma 6 RF, une décharge couronne 40, qui s'étend à parir du plasma autour des isolateurs 36, jusqu'à la paroi métallique iso- lée du puits 12, est habituellement présente La décharge couronne représente un chemin de courant RF du plasma vers 5 la paroi métallique du puits du support de torche Lors- qu'un amorçage à la masse se produit, il y a un claquage électrique et un chemin de courant de claquage, comme celui représenté en 42, est formé de façon à s'étendre du plasma vers la paroi métallique du support de torche Un claquage10 peut également se produire en direction de la paroi de la cuve 14 reliée à la masse, ou en direction d'autres struc- tures reliées à la masse dans la cuve, comme l'actionneur mécanique 30 Au momen de l'amorçage à la masse, le courant de claquage peut être de l'ordre de 10-50 ampères, ou plus.15 L'amorçage à la masse peut provoquer l'extinction du jet de plasma et, dans un appareil de pulvérisation RF, ce phé- nomène nécessite d'arrêter le processus de pulvérisation et de réamorcer la décharge RF, ce qui est inacceptable pour la plupart des applications.20 On a trouvé que la raison de la propension du jet de plasma à donner lieu à un amorçage à la masse, est due à une tension élevée qui existe entre le jet de plasma et la paroi de la cuve reliée à la masse, ou toute autre sur- face reliée à la masse dans la cuve, telle que la cible.25 Cette tension est créée par un courant capacitif qui a pour origine le champ électrique RF qui est couplé de la bobine RF vers le plasma et du plasma vers la cuve ou la surface reliée à la masse Comme il est indiqué schématiquement sur la figure 3, le couplage de la bobine RF 33 vers le plasma30 20 s'effectue par une première capacité parasite 46, et le couplage entre le plasma et la paroi de la cuve 14 s'effec- tue par une seconde capacité parasite 48 Les capacités 46 et 48 qui sont représentées sur la figure 3 représentent respectivement la capacité répartie entre la bobine RF et35 le plasma, et entre le plasma et la paroi de la cuve Ces 7 capacités, conjointement au plasma, forment un circuit électrique de la bobine RF vers la masse, par lequel circu- le un courant capacitif L'intensité du courant capacitif qui circule de la bobine RF vers le jet de plasma et du jet 5 de plasma vers la cuve reliée à la masse, avant le claquage du gaz froid entre le jet de plasma et la paroi de la cuve, est déterminée par les valeurs moyennes des deux capacités série 46 et 48 Après le claquage électrique, la capacité 48 est pratiquement court-circuitée par l'arc, et la circu- lation du courant capacitif est déterminée par la valeur de la capacité parasite 46 entre la bobine RF et le plasma Si on désigne par C la valeur totale de cette capacité et si on suppose que la résistance du plasma est négligeable, le courant capacitif Ic qui circule est = obine ( 1) Dans cette expression W = 2 Trf est la pulsation correspon- dant à la fréquence, f, de la tension RF, Ubobine, qui est appliquée à la bobine 32. Cette équation ( 1) indique qu'on peut réduire le courant capacitif en diminuant soit la fréquence de l'éner- gie que produit la source RF, soit la capacité entre la bo- bine et le plasma On a trouvé que le fait de diminuer par exemple de 2 M Hz à 400 k Hz la fréquence de l'énergie que produit la source, conduit à une diminution notable du cou-25 rant capacitif, et donc à une réduction notable de l'amor- çage à la masse Cependant, l'utilisation d'une faible fré- quence RF est désavantageuse dans la mesure o elle diminue le couplage magnétique entre le plasma et le champ d'exci- tation de la bobine RF La composante magnétique, B, du30 champ électromagnétique que produit la bobine est le prin- cipal mécanisme de chauffage du plasma, et elle crée un champ électrique circulaire Eo dans la décharge RF qui est donné par l'expression: (f B volt ( 2) Eç (ao 1 09 cm 2 8 dans laquelle p est la perméabilité magnétique et a est la conductivité électrique. Cette équation ( 2) indique que lorsque la fré- quence est diminuée, le champ électrique Eo est également réduit Si le champ électrique est trop réduit, il peut de- venir trop faible pour entretenir des décharges dans des gaz qui exigent des gradients électriques élevés, en parti- culier des décharges dans des gaz contenant un pourcentage élevé d'hydrogène L'hydrogène est un composant souhaitable du mélange gazeux ionisable, du fait qu'il procure une ca- pacité de chauffage accrue du plasma RF et permet un meil- leur chauffage ou une meilleure fusion de particules qui sont plus difficiles à chauffer Par conséquent, la réduc- tion du champ électrique circulaire Eo qui accompagne la15 diminution de la fréquence RF est désavantageuse, dans la mesure o elle diminue la capacité de chauffage du plasma RF L'utilisation d'une fréquence plus faible pour l'éner- gie qui est produite présente également l'inconvénient de produire une plus petite enveloppe de plasma fonctionnelle20 pour la torche à plasma RF Il est donc souhaitable de fai- re fonctionner la torche à plasma RF à des fréquences supé- rieures, plutôt qu'à des fréquences inférieures, et de ré- duire d'une autre manière la circulation du courant capaci- tif.25 L'équation ( 1) indique que le courant capacitif est également proportionnel à la capacité parasite entre la bobine RF et le plasma, correspondant à la capacité 46 de la figure 3 Comme on l'a indiqué précédemment, il est pos- sible de réduire le courant en réduisant cette capacité, au30 lieu de réduire la fréquence de l'énergie RF C'est cette façon de procéder qu'utilise l'invention L'invention pro- cure une réduction notable de cette capacité en blindant le plasma RF vis-à-vis du champ électrique de la bobine RF, par l'interposition d'un blindage métallique entre le plas-35 ma et la bobine Le blindage métallique est connecté élec- 9 triquement à la masse, de façon à intercepter le courant capacitif qui circule de la bobine vers le plasma et à shunter le courant à la masse avant qu'il ne puisse entrer dans le plasma RF Du fait que c'est le champ électrique 5 RF dirigé de la bobine vers le plasma qui fait circuler le courant capacitif, le fait de shunter le champ électrique à la masse élimine pratiquement l'amorçage à la masse. Les figures 4 A-4 B illustrent une première struc- ture de blindage conforme à l'invention Comme il est re- présenté, le blindage peut prendre la forme d'un ensemble de segments métalliques allongés 50 qui sont disposés sur la surface intérieure 52 de l'enceinte en quartz tubulaire 30 de la torche à plasma RF Les segments sont connectés électriquement à la masse (non représentée), d'une manière qu'on décrira Comme il est indiqué sur la figure 4 A, le blindage s'étend de préférence en direction longitudinale (dans la direction axiale de l'enceinte tubulaire) au-delà de la longueur de la bobine RF 32 dans la direction longi- tudinale Le blindage est de préférence segmenté, comme il20 est représenté, dans le but de faciliter l'entrée du champ magnétique dans la chambre de plasma, à l'intérieur de l'enceinte Les segments en métal peuvent également avoir des extrémités pointues ou avoir une section en forme de chevrons Le fait de diviser le blindage métallique en plusieurs segments interrompt le courant circulaire qui circu- lerait par ailleurs dans le blindage Bien qu'une seule coupure, c'est-à-dire une fente longitudinale dans le blin- dage, soit suffisante pour interrompre le courant, il est préférable d'utiliser plusieurs coupures, et donc plusieurs30 segments 50, comme représenté, dans le but de réduire la possibilité de claquage à travers les coupures entre des segments adjacents Les segments métalliques peuvent être déposés sur la surface de l'enceinte tubulaire par une opé- ration de dépôt de métal sur la surface ou par dépôt par35 pulvérisation par plasma Si on le désire, le blindage mé- tallique peut être recouvert d'une couche isolante 54, par exemple en silice pulvérisée, pour éviter un contact élec- trique entre le plasma et le blindage. La figure 5 est une coupe transversale similaire à la figure 4 B, qui illustre une autre structure de blinda- ge qu'on peut employer dans l'invention Le mode de réali- sation de la figure 5 diffère de celui qu'on vient de dé- crire dans la mesure o les segments de blindage 60 sont placés sur la surface extérieure de l'enceinte en quartz10 tubulaire 30, au lieu d'être placés sur la surface inté- rieure, comme représenté sur les figures 4 A-4 B Pour que le blindage interrompe les courants capacitifs, il suffit qu'il soit interposé entre la bobine RF 32 et le plasma à l'intérieur de l'enceinte, et que le blindage soit relié à15 la masse La connexion à la masse peut être obtenue en re- liant les segments ensemble à une extrémité et en les con- nectant électriquement au potentiel de la masse. La figure 6 représente de façon un peu plus dé- taillée un mode de réalisation d'une torche de pulvérisa- tion par plasma RF conforme à l'invention La torche de la figure 6 utilise une structure de blindage similaire à cel- le qui est représentée sur les figures 4 A-4 B, dans laquelle un blindage métallique segmenté 70 est disposé sur la sur- face intérieure de l'enceinte en quartz tubulaire 30 qui25 forme la chambre de plasma La bobine RF 32 entoure l'en- ceinte tubulaire et est coaxiale avec cette dernière Un second élément isolant tubulaire 72, par exemple en Téflon, peut être disposé autour de la bobine Un anneau 74 peut être placé à l'extrémité de sortie (extrémité inférieure sur la figure) de la torche de pulvérisation RF, pour maintenir ensemble les éléments de la structure et pour procurer un moyen de montage Un tube d'injection de parti- cules 76, refroidi par de l'eau, peut s'étendre en position coaxiale à l'intérieur de la chambre de plasma, en traver-35 sant une pièce d'extrémité 78 et une bague d'injection de il gaz 80 Le tube d'injection de particules permet d'injecter dans le jet de plasma des particules 82, par exemple des particules d'un superalliage, de façon que ces particules fondent et soient pulvérisées sur une cible par le jet de 5 plasma Un mélange de gaz ionisable entre dans la chambre de plasma par l'intermédiaire de passages (non représentés) dans la bague d'injection de gaz, ce qui peut permettre d'injecter dans la chambre plusieurs écoulements de gaz, aussi bien en directiona axiale qu'en direction tangentiel-10 le Dans la torche de la figure 6, les segments du blindage métallique 70 peuvent être connectés ensemble à l'extrémité d'injection de gaz de la torche à plasma, par un anneau en métal 84 qui est lui-même connecté électriquement à la mas- se (de préférence par l'intermédiaire d'uninterrupteur 86),15 comme le montre schématiquement la figure. Le blindage segmenté 70 peut comprendre un ensem- ble de tubes reliés ensemble à leur extrémité inférieure (adjacente à l'élément annulaire 74), à travers lesquels circule de l'eau ou un autre fluide de refroidissement, dans le but de protéger l'enceinte 30 contre la chaleur que produit le jet de plasma Dans ce cas, l'élément 84 peut comprendre des collecteurs d'entrée et de sortie pour l'eau de refroidissement, et les tubes peuvent être reliés aux collecteurs de façon que l'eau puisse circuler à travers25 les tubes La torche à plasma RF peut être similaire à une torche à plasma classique du type TAFA Company, qui utilise un ensemble de tubes de refroidissement s'étendant en di- rection axiale, à travers lesquels on fait circuler de l'eau pour protéger l'enceinte tubulaire Dans la torche30 du type TAFA Company, les tubes de refroidissement ne sont pas au potentiel de la masse. Pour tester l'efficacité de l'invention, on a mo- difié une torche de pulvérisation RF de type TAFA classi- que, comportant une structure de refroidissement telle que35 celle qu'on vient de décrire, pour permettre de connecter électriquement à la masse les tubes de refroidissement de la paroi métallique segmentée, au moyen d'un interrupteur tel que l'interrupteur 86 On a fait fonctionner la torche de façon que la fréquence de l'énergie soit de 2,3 M Hz, et 5 on a fait démarrer la décharge RF avec l'interrupteur ou- vert, de façon que la paroi métallique segmentée comprenant les tubes de refroidissement ne soit pas connectée à la masse Avec l'interrupteur ouvert, on a augmenté la puis- sance d'entrée jusqu'à environ 30 k W On a obtenu une forte10 décharge couronne pour le plasma, comme en 40 sur la figure 2, et un arc s'est amorcé vers la cuve reliée à la masse. Lorsqu'on a fermé l'interrupteur, toutes les décharges ir- régulières, c'est -à-dire la décharge couronne et le phéno- mène d'amorçage d'arc à la masse ont complètement disparu,15 mais la décharge RF principale est restée amorcée On a ré- pété plusieurs fois ce test avec des résultats identiques. On a ensuite répété le test en utilisant une plage de pres- sions de cuve entre 4000 et 40000 Pa, et des puissances d'entrée comprises entre 30 et 120 k W Même à une pression20 faible de 4000 Pa, pour laquelle l'expérience antérieure indiquait qu'une décharge couronne et un amorçage d'arc ap- paraissaient aisément dans la gamme de 2-4 M Hz, on n'a observé aucun phénomène de décharge couronne ou d'amorçage d'arc à la masse.25 Les résultats des tests indiquent que l'invention apporte une réduction notable de la capacité entre la bobi- ne RF et le plasma, et qu'elle élimine pratiquement l'amor- çage à la masse En permettant le fonctionnement à des fré- quences supérieures, par exemple dans la gamme de 2-4 M Hz, l'invention procure une beaucoup plus grande enveloppe fonctionnelle, ce qui procure à son tour une plus grande stabilité de l'arc et permet d'utiliser des mélanges gazeux qui procurent un meilleur chauffage des particules Ceci permet un meilleur chauffage ou une meilleure fusion de35 particules qui sont difficiles à chauffer. Il va de soi que de nombreuses modifications peu- vent être apportées au dispositif et au procédé décrits et représentés, sans sortir du cadre de l'invention. REVENDICATIONS 1 Dispositif à plasma RF comprenant une enceinte ( 30) définissant une chambre cylindrique pour un plasma ( 20), et une bobine d'induction électrique ( 32) qui entoure l'enceinte ( 30) pour fournir de l'énergie RF au plasma ( 20), caractérisé par des moyens ( 50) destinés à interrom- pre un couplage par champ électrique entre la bobine ( 32) et le plasma ( 20), dans le but d'intercepter un courant capacitif qui circule de la bobine ( 32) vers le plasma10 ( 20). 2 Dispositif selon la revendication 1, caracté- risé en ce que les moyens d'interruption comprennent un blindage métallique ( 50) qui est disposé entre la bobine ( 32) et le plasma ( 20), et des moyens ( 86) pour connecter électriquement le blindage au potentiel de la masse, et en ce que le blindage métallique est un élément segmenté ( 50) comprenant un ensemble de segments allongés s'étendant en direction axiale, qui sont connectés électriquement ensem- ble et aux moyens de connexion au potentiel de la masse.20 3 Dispositif selon la revendication 2, caracté- risé en ce que des segments adjacents ( 50) sont mutuelle- ment séparés dans une direction périphérique. 4 Dispositif selon la revendication 2, caracté- risé en ce que l'enceinte consiste en un élément tubulaire ( 30) dont une extrémité est ouverte pour permettre le pas- sage du plasma ( 20) sortant de la chambre, et en ce que les différents segments ( 50) sont connectés ensemble à une extrémité opposée de l'enceinte ( 30), par un élément annu- laire ( 84) qui est connecté au potentiel de la masse.30 5 Dispositif selon la revendication 2, caractérisé en ce que le blindage métallique ( 50) est placé sur une surface intérieure de l'enceinte ( 30). 6 Dispositif selon la revendication 5, caracté- risé en ce que le blindage métallique ( 50 est recouvert par un matériau isolant ( 54), dans le but d'empêcher un contact électrique entre le plasma ( 20) et le blindage ( 50). 7 Dispositif selon la revendication 5, caracté- risé en ce que le blindage métallique segmenté ( 50) présen- te des extrémités pointues. 8 Dispositif selon la revendication 5, caracté- risé en ce que le blindage métallique segmenté ( 50) présen- te une section transversale en forme de chevrons. 9 Dispositif selon la revendication 6, caracté- risé en ce que le matériau isolant consiste en un revête- ment de silice ( 54). Dispositif selon la revendication 2, caracté- risé en ce que le blindage métallique ( 50) est placé sur une surface extérieure de l'enceinte ( 30).15 11 Dispositif selon la revendication 1, caracté- risé en ce qu'il consiste en un dispositif de pulvérisation RF comprenant des moyens ( 76) pour injecter des particules d'un matériau dans le plasma ( 20), pour faire fondre et pour pulvériser les particules fondues sur une cible ( 24).20 12 Dispositif selon la revendication 2, caracté- risé en ce que les moyens destinés à connecter électrique- ment le blindage ( 50) au potentiel de la masse comprennent un interrupteur ( 86). 13 Procédé pour éliminer l'amorçage à la masse dans un dispositif à plasma RF du type comprenant une en- ceinte ( 30) qui définit une chambre pour un plasma, et une bobine d'induction électrique ( 32) qui entoure l'enceinte ( 30) pour transmettre de l'énergie RF au plasma ( 20), ca- ractérisé en ce qu'on interrompt un couplage par champ électrique entre la bobine ( 32) et le plasma ( 20), dans le but d'intercepter un courant capacitif qui circule de la bobine ( 32) vers le plasma ( 20). 14 Procédé selon la revendication 13, caractérisé en ce que l'interruption s'effectue en blindant électrique- ment le plasma ( 20) vis-à-vis du champ électrique que pro- 16 duit la bobine ( 32). Procédé selon la revendication 14, caractéri- sé en ce que l'opération de blindage comprend l'interposi- tion d'un blindage métallique ( 50) relié à la masse, entre 5 le plasma ( 20) et la bobine ( 32). 16 Procédé selon la revendication 15, caractéri- sé en ce que l'interposition du blindage comprend la forma- tion du blindage ( 50) sous la forme d'un ensemble de seg- ments allongés placés sur une surface de l'enceinte ( 30).10 17 Procédé selon la revendication 15, caractéri- sé en ce que l'interposition du blindage comprend la forma- tion de segments sur une surface intérieure de l'enceinte ( 30), de façon que des segments adjacents soient mutuelle- ment espacés dans une direction périphérique, et l'opéra- tion consistant à revêtir les segments avec un matériau isolant ( 54), dans le but d'empêcher un contact électrique entre le plasma ( 20) et le blindage ( 50). 18 Procédé selon la revendication 16, caractéri- sé en ce que l'opération de revêtement consiste à revêtir les segments avec de la silice ( 54).