Brevet FR2694841A1 — publié le 19940218

PROCEDE D'HYBRIDATION ET DE POSITIONNEMENT D'UN COMPOSANT OPTO-ELECTRONIQUE ET APPLICATION DE CE PROCEDE AU POSITIONNEMENT DE CE COMPOSANT PAR RAPPORT A UN GUIDE OPTIQUE INTEGRE. DESCRIPTION La présente invention a pour objet un procédé d'hybridation et de positionnement d'un composant opto- électronique intégré sur un substrat et plus spécialement un procédé d'hybridation d'un composant opto-électronique à guidage de Lumière planaire ou confiné tel qu'une diode laser et de positionnement de ce composant par rapport à un guide de lumière, intégrés sur un même substrat. Elle trouve une application dans le domaine de l'optique intégrée notamment pour Le traitement de signaux en temps réel, les capteurs et les mémoires optiques, et dans le domaine des télécommunications par voie optique. Le montage d'une diode laser sur un substrat et son positionnement par rapport à un guide de lumière est un prob Lème fondamental en opto-électronique intégrée pour Les raisons suivantes: la précision d'alignement de la diode et du guide de Lumière requise doit être inférieure à 0,5 micromètre, avec un couplage optique le plus élevé possible, les lasers à semiconducteur sont sensibles aux défauts de dissipation thermique des montages mis en oeuvre, Les diodes Lasers ont un comportement sensible au phénomène de retour de Lumière dans La cavité laser par réf Lexion non désirée de lumière, dès qu'35 ellessont coupées avc un circut optique qu'el Les sont couplées avec un circuit optique extérieur (phénomène dit d'"optical feedback" en terminologie anglo-saxonne), entraînant leur instabilité. Le but de l'invention est de proposer une solution à ce problème notamment dans le cas d'une diode laser et d'un guide optique réalisés en technologies optiques intégrées sur silicium. Le positionnement correct d'une diode par rapport à un guide de lumière passe tout d'abord par son montage et son positionnement sur un substrat, indépedamment de la présence ou non d'un guide optique à lui associer. Aussi, l'invention concerne en premier lieu un procédé d'hybridation et de positionnement d'une diode laser sur un substrat. Etant donné que ce problème d'intégration sur un substrat n'est pas lié aux simples diodes lasers mais à tous composants opto-électroniques, l'invention a pour objet, de façon générale, un procédé d'hybridation et de positionnement d'un composant opto- électronique sur un substrat. Ce composant opto-électronique peut être un circuit optique intégré ou un détecteur de rayonnement, ces circuits et détecteurs étant réalisés par exemple en technologie III-V ou II-VI ou IV-VI. Le procédé d'hybridation et de positionnement de L'invention utilise la soudure par galette métallique du composant sur un substrat La soudure d'un composant électrique sur un substrat par galette métallique (ou technique "flip-chip" en terminologie anglo- saxonne) est en particulier décrite dans le document FR-A-2 646 558. La technique connue de soudure par galette métallique ne permet pas une précision sur le positionnement d'un composant meilleur qe 1 à 3 positionnement d'un composant mei lleur que I à 3 micromètres En effet, dans ces techniques connues La précision de l'alignement est déterminée par les dimensions de la galette de soudure Cette précision est tout à fait insuffisante pour le montage d'une diode laser ou d'un composant à guidage de lumière plan ou confiné par rapport à un guide optique. L'invention a pour objet un procédé d'hybridation et de positionnement d'un composant opto- électronique assurant un positionnement à une précision inférieure à 0,5 micromètre. De façon plus précise l'invention a pour objet un procédé d'hybridation et de positionnement latéral et vertical, sur un substrat, d'un composant opto-électronique intégré, comportant au moins un plot en un premier matériau, consistant à: former au moins une cale d'épaisseur sur le substrat, destinée à supporter le composant lorsque qu'il est soudé au substrat, ayant une hauteur fixant le positionnement vertical du composant, former au moins un plot d'un second matériau sur le substrat, décalé par rapport à la cale d'épaisseur, former sur le plot de second matériau une galette de soudure en un matériau fusible, apte à mouiller à l'état fondu les premier et second matériaux et pas leur environnement, mettre le composant au contact de la galette de soudure de façon que le plot de premier matériau recouvre la galette, la hauteur de la cale étant inférieure à l'épaisseur séparant alors Le composant du substrat, porter l'ensemble à une température assurant la fusion de la galette, et ramener l'ensemble à une température inférieure à la température de fusion du matériau de la galette. Le substrat utilisé peut être du verre, du niobate de lithium ou du silicium On utilise de préférence du silicium qui assure, par sa grande conductivité thermique, la dissipation de la chaleur dégagée par le composant opto-électronique, dissipation thermique nécessaire au bon fonctionnement de ce composant. Les plots formés sur le composant électronique et sur le substrat sont généralement métalliques Aussi, pour assurer une bonne isolation électrique de ce composant, notamment lorsque d'autres composants opto-électroniques doivent être hybridés sur le même substrat, une couche mince d'isolant électrique peut être prévue entre le substrat et les plots en second matériau, supportés par le substrat Cette couche peut être en silice, en nitrure de silicium, ou en oxynitrure de silicium. Le matériau de soudure doit présenter un bas point de fusion comme l'étain, l'indium, le plomb et les alliages métalliques à base d'étain, d'indium ou de plomb, et les eutectiques à base de silicium tel Si-Au, Si-Sn, etc Ils doivent assurer une excellente mouillabilité sur les plots. Les premier et second matériaux sont notamment réalisés en métal tel que l'or, le platine, Le palladium, etc. De façon avantageuse le second matériau a une surface supérieure à celle de la galette et à celle du plot de premier matériau afin de jouer le rôle de radiateur et d'augmenter la surface d'échange avec le substrat d'hybridation, lorsque celui-ci est un bon dissipateur de chaleur (cas par exemple du silicium). Lorsque le composant à hybrider est fait sur un substrat à conductivité thermique supérieure à celle du substrat sur lequel a lieu l'hybridation, la surface du premier matériau sera alors choisie supérieure à celle de la galette et du second matériau. Le procédé d'hybridation de l'invention utilise les forces de tension superficielles au moment de la soudure pour effectuer le positionnement latéral du composant opto-électronique En effet, au moment de la fusion du matériau de soudure, le plot du composant et celui du substrat s'auto-alignent avec la galette de soudure assurant ainsi un positionnement précis à 0,5 micromètre du composant. Les cales d'épaisseur permettent un positionnement vertical précis du composant opto- électronique meilleur que celui obtenu en utilisant uniquement l'épaisseur de la galette de soudure comme dans l'art antérieur cité précédemment. Afin d'améliorer le positionnement latéral du composant optoélectronique, il est possible de former sur le substrat, de part et d'autre de la galette, des butées destinées au positionnement latéral du composant. Dans ce cas, i l est préférable de réaliser dans le composant à hybrider des encoches destinées à venir s'emboîter sur ces butées. Conformément à l'invention, il est possible d'utiliser une ou plusieurs galettes de soudure associées à un ou plusieurs plots de premier et second matériaux En particulier, les plots de premier matériau correspondent aux électrodes du composant. De façon avantageuse, on utilise des galettes dont la forme est une réplique des plots ou électrodes de premier matériau du composant opto-électronique. En particulier, la galette présente la forme d'une bande dont la longueur est adaptée à celle du composant Ceci est particulièrement vrai dans e cas composant Ceci est particulièrement vrai dans le cas de diodes lasers ou de modulateurs en matériaux III-V. Il est clair qu'il peut y avoir plusieurs bandes parallèles notamment dans le cas des modulateurs en Li Nb O qui comportent en général 2 ou 3 électrodes. Par ailleurs, afin d'assurer une bonne stabilité du composant opto-électronique, on forme plusieurs cales d'épaisseur réparties régulièrement sur le substrat de façon à pouvoir supporter le composant par sa périphérie. L'invention s'applique plus spécialement à l'hybridation et au positionnement sur un substrat d'un composant opto-électronique à guidage planaire ou confiné de la lumière tel qu'une diode laser par rapport à l'extrémité d'un guide optique formé sur un subst r at. De façon connue, un guide optique comporte un ruban guidant intercalé entre une couche supérieure et une couche inférieure de matériaux d'indice de réfraction inférieur à celui du ruban. La couche supérieure peut être de l'air. Dans cette application particulière, les cales d'épaisseur sont définies dans au moins la couche supérieure du guide optique par gravure de cette couche, de part et d'autre du ruban En outre, le plot de second matériau est formé sur le substrat dans le prolongement du guide et en regard de ladite extrémité. Dans ce cas particulier, les butées éventuellement utilisées pour le positionnement latéral de la diode sont définies par gravure d'au moins la couche supérieure du guide de part et d'autre du ruban. Selon l'invention les cales d'épaisseur et les butées sont alors réalisées en même temps que le guide optique. Lors de I 'utilisation d'un substrat en silicium, le guide optique est formé dans une structure guide de type OIS utilisant des couches de silice. En particulier les structures guides utilisées sont du type Si/Si O /Si N 4/Si O 2, noté OI 51 ou 2 3 du type Si/Si O /Si O 2 haut indice/Si O 2, noté OI 52 22 2 2 Les couches de silice de la structure OIS et 0 IS peuvent être dopées par un matériau diminuant leur indice de réfraction comme le bore ou le fluor ou être dopées par un matériau augmentant leur indice de réfraction comme le phosphore, le germanium, le titane ou l'azote. Bien entendu, pour obtenir une structure guide, le matériau du ruban doit présenter un indice de réfraction supérieur à celui des couches de confinement. 1 5 Il esten outre possible de remplacer le nitrure de silicium par de l'alumine ou de l'oxynitrure de silicium Si O N avec O 0 Il est éventuellement possible de remplacer le substrat de silicium par un substrat en silice ou en verre bien que ceux-ci possèdent une conductivité thermique plus faible. On peut aussi utiliser comme structure guide la structure verre/verre dopé par échange d'ions/Si O 2 De façon avantageuse, on utilise une lentille de focalisation en bout de guide pour faciliter le positionnement du composant par rapport à l'extrémité du guide optique tout en assurant un bon couplage entre le composant et le guide. Pour une structure OIS, le positionnement d'une diode par rapport au guide, en l'absence de la lentille, doit être fait à 0,1 pm près en hauteur et entre 0,5 et 1 pm en largeur, alors que le couplage (ou quantité de lumière reçu par le guide) entre la diode et Le guide est de 90 % environ Cette contrainte de et le guide est de 90 % environ Cette contrainte de positionnement est due à la fine épaisseur du ruban du guide Grâce à l'emploi de la lentille, le positionnement en hauteur peut être fait entre 0,5 et 1 Jm près avec un couplage > 90 %. Pour une structure OI 52, le couplage entre une diode et un guide optique n'est que de 10 à 15 % avec un positionnement de 0,5 à lpm près en hauteur Ce faible couplage résulte des faibles différences d'indice entre le ruban et les couches de confinement et la divergence de la diode. Pour augmenter ce couplage, i L faudrait placer la diode au contact du guide, ce qui risque de casser la diode du fait de sa fragilité et d'aumgenter les réflexions de Lumière sur le guide qui pénètrent à nouveau dans la diode perturbant ainsi son fonctionnement Une solution à ce prob Lème serait l'emploi d'un isolateur mais son emploi est incompatible avec la technique d'hybridation. Ce problème est résolu dans l'invention avec La lentille de focalisation Ainsi, le couplage augmente jusqu'à 70 % et la diode peut être placée à une distance de l'ordre de 2 fois la distance focale de la lentille, limitant ainsi les réflexions parasites sur le guide et les risques de casse de la diode. 2 5 D'autres caractéristiques et avantages de l'invention ressortiront mieux de la description qui va suivre, donnée à titre illustratif et non limitatif, en référence aux figures annexées, dans lesquelles: la figure 1 représente schématiquement en coupe longitudinale une diode laser et un guide de lumière avec une lentille en bout, intégrés sur un même substrat et positionnés l'un par rapport à l'autre, la figure 2 est une vue de dessus du montage de la figure 1, a figure 3 est une variante du montage la figure 3 est une variante du montage diode-guide de La figure 1, les figures 4 à 9 représentent schématiquement des différentes étapes d'hybridation et de montage de la diode de la figure 1 par rapport au guide de lumière: les figures 4, 7 et 9 sont des vues en coupe transversale, la figure 5 montre en vue de dessus les différents masques de gravure utilisés, les figures 6 et 8 sont des vues en perspective, la figure 10 représente schématiquement une variante de montage de la diode laser de la figure 1. On décrit ci-après l'hybridation d'une diode laser 2, comme représenté sur les figures 1 et 2, équipée d'une zone active 4 planaire ou confinée, sur un substrat en silicium 6 et son positionnement par rapport à l'extrémité d'un guide de lumière 8 pourvue d'une lentille de focalisation 10. La diode 2 peut être réalisée en matériau III-V comme décrit dans le document "Evolution et perspectives des structures lasers pour télécommunications" de J C Bouley, Echo des Recherches n 130, 4 ème trimestre 1987, pages 59 à 68 ou dans le document "Long wavelength conductor lasers" de G P. Agraval et N K Dutto, Editions Van Nostrand Reinhold Cie, New York 1986. Selon l'invention, elle est fixée par une soudure métallique 12 par exemple, à base d'un eutectique, d'indium, de plomb et d'étain ou de mélange de ces matériaux. Afin d'isoler électriquement la diode 2 du substrat 6, une couche d'isolement électrique 14 peut éventuellement être intercalée entre le substrat 6 et la diode. Dans une structure OIS, cet isolant 14 peut être favorablement de la silice de 10 à 500 nm d'épaisseur Toutefois, on peut utiliser du Si N ou un polyimide. Comme représenté sur les figures 1 et 2, la Lentille 10 est formée au-dessus d'un évidement 15 pratiqué dans le substrat La lentille a une forme quasi hémisphérique et a un diamètre de 5 à 50 pm et l'évidement a une largeur I de 15 à 200 pm et une profondeur supérieure à la largeur du guide. En outre, la distance d séparant la lentille de la diode est de l'ordre de 2 fois la distance focale de la lentille ou moins. Afin d'éviter la perte d'information lumineuse dans le guide 8, la lentille est formée en bout d'une languette 17 de dimensions transversales L au moins égales à celles du volume occupé par la lumière guidée (voir figure 6) Cette languette a une longueur par exemple de 20 à 200 Jm. Sur la figure 2, on a représenté des butées 16 assurant un positionnement latéral de la diode par rapport à la lentille 10 d'extrémité du guide d'onde 8. Ces butées 16 sont, dans la structure OIS, favorablement en silice On peut aussi utiliser un polyimide. Dans la structure OIS, le guide 8 comporte une couche tampon 18 en silice, une couche guide 20 en silice à haut indice de réfraction et une couche 22 de confinement supérieur en silice La silice peut être dopée ou non avec des dopants diminuant ou augmentant son indice de réfraction de façon que la couche 20 présente un indice de réfraction supérieur à celui des couches de confinement 18 et 22. Typiquement, les couches 18 et 22 sont en silice non intentionnellement dopées de 4 à 15,Jm d'épaisseur et la couche 20 est en silice dopée avec des ions augmentant son indice de 0,5 à 8 jum d'épaisseur. d 'épaisseur. 1 1 Comme représenté sur la figure 2, Le soudage de la diode 2 peut être assuré uniquement à l'aide d'une soudure centrale 12 ou bien à l'aide de cette soudure 12 et de deux soudures latérales 11 et 13 assurant en outre une stabilisation de la diode lors de son hybridation. De plus, la diode 2 repose par sa périphérie sur des cales d'épaisseur 24, réalisées favorablement en silice dans La structure OIS On peut cependant utiliser un polyimide, du Si N ou de l'AL 203. 3 4 23 Le montage de La figure 3 se différencie de celui des figures 1 et 2 par la nature de la structure guide Dans ce cas, le coeur 20 du guide est réa Lisé en un matériau à haut indice de réfraction comme AI O Si N ou Si O N Dans ce cas, les couches de silice 18 34 x y et 22 ont respectivement une épaisseur de 2 à 10 Jm et de 1 à 5 pum et la couche coeur 20 à une épaisseur de 50 à 250 nm. En outre, dans ce montage aucune butée de positionnement latéral n'est prévue, mais il est bien entendu possible d'en prévoir. La première étape de réalisation du montage des figures 1 et 2 consiste, comme représenté sur la figure 4, à déposer les couches 18 et 20 en silice et silice haut indice, sur le substrat 6 selon la technique de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) assisté ou non par un plasma (PECVD) Les parties a et b de cette figure sont des coupes transversales selon la ligne A-A et B-B de la figure 2. On effectue ensuite une gravure de la couche pour former le coeur du guide 8 ainsi que la partie inférieure des butées 16 Cette gravure est réalisée par voie sèche en utilisant le masque M 1 représenté en trait plein sur la figure 5. On effectue alors Le dépôt de la couche 22 de confinement supérieur sur la structure obtenue, comme représenté sur la figure 4 par CVD ou PECVD. A l'aide du masque M 2 représenté en traits courts sur la figure 5, on grave la structure guide de façon à définir le plan PM ou niveau de référence sur lequel reposera la diode laser au stade final de son hybridation ainsi que la forme de la languette 17. Dans le cas représenté sur les figures, ce plan PM est défini par gravure de la couche de silice 22, de la couche coeur 20 sur toute leur épaisseur et de la couche 18 sur une faible épaisseur de façon à garder la couche mince d'isolant 14 Cette gravure définit donc la surface supérieure des cales d'épaisseur 24 comme représenté sur la figure 6, définissant le positionnement en hauteur de la diode. On effectue alors une gravure de la structure à l'aide du masque M 3 représenté en traits longs sur la figure 5, fixant l'emplacement des cales d'épaisseur 24, des butées 16 a insi que les dimensions de l'extrémité du guide optique 8 qui supportera la lentille 10 Après cette gravure, la structure est celle de la figure 6. IL est possible d'inverser les deux étapes de gravure définissant le plan PS du substrat et PM de positionnement de la diode en modifiant la forme des masques M 2 et M 3. L'étape suivante du procédé est représentée sur la figure 7 qui est une vue en coupe transversale selon la direction B-B de la figure 6. On dépose successivement deux couches de métal 26 et 28 sur l'ensemble de la structure de respectivement de 0,2 à 2 jum et de 3 à 50 pm d'épaisseur par exemple La surface de la couche 28 définit le plan PG situé à un niveau supérieur au plan PM. La différence D séparant Le pan PG du pan La différence D séparant le plan PG du plan PM est au moins égale à l'incertitude de réalisation de ces deux plans On choisit donc D de façon que compte tenu de cette incertitude, PG soit toujours au-dessus du plan PM En pratique D est choisi entre 0,5 et 5 micromètres. On effectue alors une gravure des couches 26 et 28 de façon à définir les galettes de soudure 28 et les zones de contact 26 du côté substrat. Les galettes de soudure 28 sont réalisées en un matériau à bas point de fusion tel que l'indium Ce matériau est apte à mouiller, à l'état fondu, le métal 26 restant et à ne pas mouiller l'isolant 14 mis à nu lors de la gravure des galettes et des zones de contact En particulier, les zones de contact 26 sont en or. L'étape suivante du procédé consiste à déposer sur l'ensemble de la structure une couche 30 de protection notamment en silice de 0,5 à 2 pm d'épaisseur que l'on grave à l'aide du masque M pour qu'elle 4 comporte une ouverture en regard du guide 8 fixant les dimensions de l'évidement 15 du substrat. On effectue alors une gravure de type isotrope du substrat afin de dégager la languette 17 destinée à supporter à son extrémité la lentille 10, cette gravure est par exemple une gravure micro-onde (fréquence typique de 45 G Hz) utilisant les gaz réactifs Ar,SF et O Elle est réalisée sur une profondeur 6 2 supérieure à la largeur du guide. On effectue alors l'élimination de la couche de protection 30 de silice. La lentille 10 est obtenue en faisant fondre l'extrémité de la languette 17 à l'aide d'une illumination laser de l'extrémité de la languette 17 à une longueur d'onde absorbée par la silice telle que l'émission à 10,6 pm d'un laser à CO ou celle d'un laser à courte longueur d'onde ( à son plan. La structure finale après réalisation de l'évidement 15 dans le substrat et de La lentille d'extrémité 10 est représentée en perspective sur la figure 8. Au cas o la température engendrée par l'illumination laser pourrait affecter les galettes de soudure 28 et les zones de mouillage 26, i l est possible de réaliser la lentille d'extrémité 10 avant le dépôt de ces couches métalliques, Lorsque les couches de métal sont déposées avant la fabrication de la lentille, le dépôt de la couche 30 de protection doit être effectué à basse température afin d'éviter la fusion du métal 28. En outre, il est possible d'intercaler entre les couches métalliques 26 et 28 et la couche de protection 30 une couche de résine photosensible qui facilitera le retrait de cette couche de protection en fin de réalisation de la lentille. Les étapes suivantes du procédé concernent l'hybridation de la diode comme représenté sur la f figure9 En vue de cette hybridation, la diode 2 comport e des plots métalliques 32 sur sa face inférieure destinée à être soudée via les galettes de soudure 28 Ces plots 32 sont réalisés en un métal apte à être mouillé par le matériau de soudure et notamment en or. Bien entendu le nombre de plots 32 de la diode correspond notamment au nombre de plots métalliques 26 équipés chacun d'une galette de soudure 28. A t i N d'assurer un positionnement Latéral correct de La diode grâce aux butées 16, celle-ci doit comporter des encoches 34 destinées à venir s'emboîter sur des butées 16 La partie a de la figure 9 représente le positionnement de la diode avant soudure et la partie b le positionnement de la diode après soudure. Au moment de la soudure les plots 32 et 26, du fait des tensions superficielles, s'auto-alignent automatiquement assurant ainsi un alignement parfait de la diode Cet alignement est destiné à disposer la zone émissive 4 en regard du coeur 20 du guide optique. Après fusion, les galettes de soudure s'écrasent et prennent la forme représentée sur la partie b de la figure 9 de sorte que la surface inférieure de la diode 2 vient prendre appui sur les ca Les d'épaisseur 24. Afin d'assurer une grande surface d'échange thermique du côté du substrat 6, qui joue le rôle de radiateur lors du fonctionnement de la diode, il est intéressant de réaliser les plots 26 métalliques de sorte que leurs surfaces soient supérieures à celles des plots 32. Les surfaces des plots 26 et 32 sont déterminées de sorte que lors de la fusion des galettes de soudure 28 le plan de surface PG des galettes puisse prendre une position située au-dessous du plan PG mais aussi du plan PM C'est ce qui se passerait si les cales 24 n'existaient pas. La position finale verticale de la diode est atteinte dès que sa surface inférieure repose sur les cales 24. L'invention repose ici sur le fait que l'effet des forces de tension superficielle peut jouer son rôle juste avant que la diode 2 ne vienne reposer sur es caes 24 Une fois cette position atteinte, es sur les cales 24 Une fois cette position atteinte, les forces de frottement mises en jeu ne permettent plus la mise à profit, de façon aussi aisée, des forces de tension superficielle Ceci explique le fait que le plan PG doit être au-dessus du plan PM. Dans le cas contraire, la diode reposerait, avant soudure sur les cales 24 et les forces de frottement limiteraient la mise à profit des forces de tension superficielle pour l'alignement latéral de la diode 2 qui serait alors seulement défini par l'alignement mécanique des butées 16 qui n'est en général pas suffisamment précis. Dans une variante de mise en oeuvre représentée sur la figure 10, les butées d'alignement latéral 16 sont supprimées La partie a de la figure 10 représente le positionnement de la diode avant soudure et la partie b le positionnement de la diode après soudure Dans cette variante de réalisation, seul l'alignement latéral est assuré par les forces de tension superficielle mises en jeu entre les plots 32, 26 et les galettes de soudure 28 Par ailleurs, dans cette variante de réalisation, les masques M 1 et M 2 peuvent être différents de ceux représentés sur la figure 5 et ne pas comporter d'ouvertures en regard des zones destinées à la réalisation des butées. REVENDICATIONS 1 Procédé d'hybridation et de positionnement latéral et vertical, sur un substrat, d'un composant opto-électronique intégré, comportant au moins un plot ( 32) en un premier matériau consistant à: former au moins une cale d'épaisseur ( 24) sur le substrat ( 6), destinée à supporter le composant ( 2) lorsque qu'il est soudé au substrat, ayant une hauteur fixant le positionnement vertical du composant, former au moins un plot ( 26) d'un second matériau sur le substrat ( 2), décalé par rapport à la cale d'épaisseur, former sur le plot ( 26) de second matériau une galette ( 28) de soudure en un matériau fusible, apte à mouiller à l'état fondu les premier et second matériaux et pas leur environnement, mettre le composant ( 2) au contact de la galette ( 28) de soudure de façon que le plot ( 32) de premier matériau recouvre la galette, la hauteur de la cale étant inférieure à l'épaisseur séparant alors le composant du substrat, porter l'ensemble à une température assurant la fusion de la galette, et ramener l'ensemble à une température inférieure à la température de fusion du matériau de la galette ( 28). 2 Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'il consiste, en outre, à former sur le substrat ( 6), de part et d'autre de la galette ( 28), des butées ( 16) destinées au positionnement latéral du composant. 3 Procédé selon la revendication 1 ou 2, caractérisé en ce que le second matériau est mét 35 allique. mét a Illique. 4 Procédé selon la revendication 3, caractérisé en ce qu'on interpose entre le substrat ( 6) et le plot ( 26) de second matériau un isolant électrique ( 14). 5 Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 4, caractérisé en ce que l'on forme plusieurs cales d'épaisseur ( 24) réparties sur le substrat ( 6) de façon à supporter le composant ( 2) par sa périphérie. 6 Procédé selon l'une quelconque des revendications 2 à 4, caractérisé en ce que l'on forme dans le composant des encoches ( 34) destinées à venir s'emboîter sur les butées. 7 Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que le plot ( 26) de second matériau a une surface supérieure à celle de la galette ( 28) et à celle du plot ( 32) de premier matériau. 8 Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 7, caractérisé en ce que la galette ( 28) présente la forme d'une bande dont la longueur est adaptée à cettlle du composant. 9 Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes d'hybridation et de positionnement sur un substrat ( 6) d'un composant opto- électronique ( 2) à guidage planaire ou confiné de la lumière, par rapport à une extrémité ( 10) d'un guide optique formé sur ce substrat, le guide comportant un ruban guidant ( 20) intercalé entre une couche inférieure ( 18) et supérieure ( 22) de matériaux d'indice de réfraction inférieur à celui du ruban guidant, procédé dans lequel les cales d'épaisseur ( 24) sont définies par gravure de la couche supérieure ( 22) au moins du guide, de part et d'autre du ruban ( 20), et en ce que le plot ( 26) de second matériau est formé sur le substrat ( 2) dans le prolongement du guide et en regard de Ladite extrémité. Procédé selon la revendication 9, caractérisé en ce qu'on utilise une lentille de focalisation ( 10) à l'extrémité du guide ( 8). 11 Procédé selon la revendication 9 ou 10, caractérisé en ce que les butées ( 16) sont définies par gravure d'au moins la couche supérieure du guide ( 22), de part et d'autre du ruban ( 20). 12 Procédé selon la revendication 11, caractérisé en ce que les cales ( 24) et les butées ( 16) sont réalisées en même temps que le guide optique ( 8). 13 Procédé selon l'une quelconque des revendications 9 à 12, caractérisé en ce que les couches supérieure ( 22), inférieure ( 18) et le ruban ( 20) sont en silice dopé ou non de façon que l'indice de réfraction du ruban soit supérieur à celui des couches supérieure et inférieure. 14 Procédé selon l'une quelconque des revendications 9 à 12, caractérisé en ce que les couches supérieure et inférieure sont en silice dopé ou non et le ruban est en Si O N avec O 23 34