Brevet FR2693565A1 — publié le 19940114

' I PROCEDE DE REGLAGE D'UNE MACHINE D'EXPOSITION PHOTOLITHOGRAPHIQUE ET DISPOSITIF ASSOCIE L'invention est relative à un procédé de réglage d'une machine d'exposition photolithographique et au dispositif associé. Lors de l'utilisation des machines d'exposition photolithographiques actuelles, plus communément appelées photorépéteurs, un souci constant est l'amélioration ou le maintien de la qualité du réglage de la résolution optique, afin d'obtenir des motifs exposés sur la surface d'une plaquette de circuit intégré revêtu d'une résine d'une qualité correspondante De manière classique, 1 ' amélioration de la résolution des photorépéteurs peut être effectuée soit en utilisant des lentilles à plus forte ouverture numérique, soit en réduisant la longueur d'onde de la lumière d'exposition. Toutefois, les processus d'amélioration précités ont pour inconvénient de dégrader la profondeur de champ, DOF, proportionnelle à X/NA 2, la résolution, R, étant proportion- nelle à X/NA, o X désigne la longueur d'onde de la lumière d'exposition, et NA l'ouverture numérique de la lentille utilisée. En outre, le réglage du système optique de focalisa- tion de la lumière sur la surface de la résine dépend de la température ambiante et de la pression atmosphérique Des corrections automatiques ou conduites par logiciel peuvent être envisagées Toutefois, ce type de correction est insuffisamment précis pour des profondeurs de champ de l'ordre du micromètre. Un règlage au moins journalier s'avère donc néces- saire Les méthodes couramment utilisées afin d'effectuer de tels réglages, très délicats, sont basées, soit sur des observations visuelles au microscope, soit sur des mesures dimensionnelles, avec ou sans clivage, permettant l'obten- tion du profil du trait de résine. r De telles méthodes présentent cependant des incon- vénients majeurs tels que la forte dépendance de l'observa- tion visuelle vis-à-vis de l'opérateur et le caractère particulièrement long et souvent destructeur en ce qui concerne les méthodes dimensionnelles. Une autre méthode a été récemment proposée par la demande de brevet f rançais 2 642 188 Cette méthode consiste à insoler la résine par un motif de test successivement en différents emplacements, une mise au point différente étant effectuée pour chaque insolation Après développement, un f luage de la résine est effectué, puis la plaquette est examinée pour déterminer l'insolation optimale et adopter le réglage correspondant pour la machine Cette méthode, bien que donnant satisfaction, présente l'inconvénient de nécessiter une étape de fluage dont la précision des effets reste peu précise Les effets du fluage étant difficiles à optimiser. La présente invention a pour but de remédier aux inconvénients des méthodes antérieures précitées. Elle a pour objet un procédé et un dispositif de détermination de la mise au point d'une machine d'exposition photolithographique utilisée pour insoler des structures sur un substrat revêtu d'une résine formant masque, à partir d'une plaquette témoin munie de motifs de test identiques en différents emplacements. Le procédé et le dispositif objets de l'invention sont remarquables en ce qu'ils consistent à, respectivement permettent de, illuminer successivement les motifs de test en lumière blanche au niveau de chaque emplacement, au moyen d'un faisceau d'illumination, oblique de préférence, mesurer le coefficient de réflectivité de chaque motif de test, puis, établir la loi de correspondance du coefficient de réflectivité en fonction, pour chaque emplacement, de la valeur du paramètre de défocalisation ou de mise au point du faisceau d'illumina-tion et déterminer par critère de seuil de la valeur du coefficient de réflectivité, une plage de valeurs correspondantes de défocalisation pour le motif de test considéré, permettant d'établir la valeur de mise au point optimale. Le procédé et le dispositif objets de la présente invention trouvent application à l'industrie de la produc- tion des circuits intégrés Ils seront mieux compris à la lecture de la description et à l'observation des dessins ci- après dans lesquels: la figure la représente, sous forme d'un schéma synopti- que, les différentes étapes de mise en oeuvre du procédé objet de la présente invention, la figure lb représente également sous forme d'un schéma synoptique, un mode de réalisation avantageux d'étapes particulières du procédé selon l'invention tel que représenté en figure la, la figure lc représente, d'une part, la loi de correspon- dance du coefficient de réflectivité d'une plaquette témoin spécialement conçue pour la mise en oeuvre du procédé objet de l'invention en fonction de la défocali- sation relative du faisceau d'illumination et/ou d'inso- lation, et, d'autre part, des profils de gravure remar- quable pour différentes zones de valeurs de défocalisa- tion, la figure 2 a représente, en coupe, un échantillonnage photograhique du profil de trous formés dans une couche de résine d'une plaquette témoin pour des valeurs successives discrètes de défocalisation du faisceau d'insolation, la figure 2 b représente, en coupe, le profil de sillons formés dans une couche de résine d'une plaquette substrat pour des valeurs différentes de défocalisation du faisceau d'insolation, la figure 3 représente, sous forme de schéma synoptique, un dispositif permettant la mise en oeuvre du procédé objet de la présente invention, la figure 4 représente un détail de certains éléments constitutifs du dispositif représenté en figure 3, la figure 5 a représente en perspective une plaquette témoin spécialement adaptée pour la mise en oeuvre du procédé objet de l'invention, la figure 5 b représente en coupe selon les plans Ai A 1, A 2 A 2, A 3 A 3 de la figure 5 a, un échantillonnage photogra- phique du profil des trous au niveau de chaque motif de test constituant la plaquette témoin. Une description plus détaillée du procédé de réglage d'une machine d'exposition photolithographique et du dispositif associé correspondant sera donnée en liaison avec les figures la, lb, lc et suivantes. D'une manière générale, on considère que le procédé de réglage objet de la présente invention permet en fait de déterminer la mise au point optimale d'une machine d'exposition photolithographique utilisée pour insoler les structures sur une plaquette substrat revêtue d'une résine formant masque photosensible. On comprend en effet que ce type de machine est utilisé pour la fabrication de circuits intégrés, et, en particulier l'insolation, des couches successives de ces derniers. D'une manière plus spécifique, le procédé objet de la présente invention est mis en oeuvre à partir d'une plaquette témoin, notée Pt, munie de motifs de test identi- ques en différents emplacements et arrangés selon une suite de motifs de test. Une description plus détaillée de la plaquette témoin Pt permettant la mise en oeuvre du procédé objet de l'invention sera donnée ultérieurement dans la description, le caractère d'identité des motifs de test étant en par- ticulier précisé. Sur la figure la, on a représenté de manière schématique les différentes étapes du procédé objet de la présente invention Ainsi que représenté sur la figure précitée, le procédé selon l'invention peut être subdivisé en deux grandes étapes, une première étape, notée I, consistant en la réalisation d'une plaquette témoin, Pt, et consistant, ainsi que représenté sur la figure précitée, en trois étapes successives A, B, C, cette étape de réalisation d'une plaquette témoin n'étant pas considérée, à proprement parler, comme faisant partie du procédé objet de l'inven- tion En effet, l'étape 1 de réalisation d'une plaquette témoin est indiquée à titre illustratif, la plaquette témoin, Pt, obtenue suite à la mise en oeuvre des étapes A, B, C, constitutives de l'étape I de réalisation d'une plaquette témoin, étant ensuite utilisée pour la mise en oeuvre du procédé proprement dit. Ainsi qu'on l'observera sur la figure la précitée, l'étape I de réalisation d'une plaquette témoin peut consister en une première étape A, consistant à déposer une couche de résine sur une plaquette de silicium, suivie d'une étape B d'insolation de motifs de test en différents emplacements, ces motifs de test étant arrangés selon une suite de motifs de test, et l'insolation étant réalisée pour chaque motif de test avec une focalisation de l'image du motif, sur la résine, différente pour chaque motif de test. On comprendra en particulier que la focalisation de l'image du motif sur la surface de la résine, c'est-à-dire sur l'interface air-résine, est une focalisation relative, laquelle doit être comprise comme réglée par un paramètre de défocalisation D par rapport à l'interface air-résine préci- tée. L'étape B précédemment mentionnée est alors suivie d'une étape de développement, notée C, laquelle permet, après développement de la résine photosensible, d'obtenir la plaquette témoin Pt munie de sa suite de motifs de test Sur la figure la, on a ainsi représenté la plaquette témoin Pt, munie de ses différents motifs de test, notés Mti; On notera que les indices i, j permettent de repérer les adresses successives de chaque motif de test, et en particulier, leur position, ainsi qu'il sera décrit ultérieurement dans la description. Ainsi qu'on l'observera en outre sur la figure la, le procédé objet de la présente invention consiste alors en une étape 1000 à illuminer successivement les motifs de test M Tij en lumière blanche au niveau de chaque emplacement d'adresse i,j, au moyen d'un faisceau d'illumination. L'étape 1000 précitée est suivie d'une étape 2000 consistant à mesurer le coefficient de réflectivité de chaque motif de test M Tij On comprend bien sûr que l'étape 1000 d'illumination étant effectuée, pour un motif de test d'adresse i,j donnée, l'étape 2000 de mesure du coefficient de réflectivité est effectuée immédiatement pour ce motif de test considéré et la succession des étapes 1000 et 2000 précédemment mentionnée est répétée pour chaque motif de test, la répétition étant symbolisée sur la figure la par la boucle de retour en amont de l'étape 1000 Bien entendu, les données relatives à la mesure du coefficient de réf lectivité R obtenues à l'étape 2000 sont mémorisées et la succession des étapes 1000 et 2000 répétées pour chaque motif de test constitue ainsi une étape d'acquisition des données, notée 2 a, sur la figure la L'étape d'acquisition des données 2 a précédemment mentionnée est alors suivie d'une étape 2 b de traitement de ces données L'étape de traitement des données comprend, ainsi que représenté sur la figure la, une première étape 3000 consistant à établir la loi de cor- respondance du coefficient de réflectivité R pour chaque emplacement ou motif de test M Tij en fonction de la valeur du paramètre de défocalisation D ou de mise au point du faisceau d'illumination. On comprend bien sûr que le faisceau d'illumination en lumière blanche est focalisé à valeur constante par rapport à la surface de la résine de la plaquette témoin Pt, c'est-à-dire de l'interface air-résine, et, qu'en consé- quence, en raison de la défocalisation du faisceau d'insola- tion des motifs de test de l'étape B, il en résulte, au cours du balayage de chaque motif de test, M Tij par le z l faisceau d'illumination, une défocalisation D correspon- dante On comprend également que le faisceau d'illumination utilisé à l'étape 1000 peut au départ être réglé avec une focalisation relative, la meilleure possible compte tenu des moyens de mesure classique dont on dispose en laboratoire ou sur site industriel, ce qui permet bien entendu d'appliquer les valeurs de défocalisation correspondantes de chaque motif de test successif M Tij dans des conditions analogues de précision de réglage du faisceau d'insolation qui sera utilisé ultérieurement par la machine d'exposition pour réaliser des structures particulières, sur une ou plusieurs plaquettes substrat de circuit intégré On comprend, bien entendu, que la détermination de la focalisation ou mise au point optimale du faisceau d'illumination vaut détermination de la focalisation ou mise au point optimale du faisceau d'insolation précité. L'étape 3000 précédemment mentionnée est alors suivie d'une étape 4000 consistant à déterminer, par critère de seuil de la valeur du coefficient de réflectivié R, une plage de valeurs correspondantes de défocalisation ou mise au point pour le motif de test considéré permettant d'éta- blir la valeur de mise au point optimale Les étapes 3000 et 4000 précédemment mentionnées constituent l'étape I Ib de traitement des données précédemment acquises en une étape I Ia d'acquisition de ces données et elle comprend une étape de f in, notée 5000 L'ensemble des étapes 1000 à 4000 constitue en fait l'étape II de mise au point, conformément au procédé objet de la présente invention. Une description plus détaillée des étapes lia d'acquisition des données et I Ib de traitement des données sera donnée en liaison avec la figure lb. Sur la figure précitée, l'étape 1000 d'illumination successive de chaque emplacement peut être subdivisée en sous-étapes 1001 de lecture d'un fichier représentant la position des motifs de test insolés sur la plaquette témoin, Pt, d'une sous-étape 1002 d'alignement sur des motifs de i référence afin de déterminer la position précise de tous les motifs M Ti; On notera que les motifs de référence peuvent être constitués par des motifs préférentiels, tels que par exemple, lorsque les motifs de test sont disposés en un réseau bidimensionnel rectangle, les motifs de test situés aux extrémités du rectangle délimitant ce réseau. L'étape 1002 précitée est alors suivie d'une étape de positionnement du faisceau d'illumination sur le motif de test de rang k et en particulier sur le motif de test initial pour lequel, par convention, k = 1 On notera, ainsi qu'il sera décrit ultérieurement dans la description, que le positionnement du faisceau d'illumination est en fait réalisé au moyen d'une table X,Y et d'un microscope permet- tant d'assurer une visée sur le motif de test considéré, c'est-à- dire le motif de test de rang 1 précédemment mentionné On comprend bien entendu que ce motif de test de rang 1 correspond à un motif de test M Tij d'adresse i,j donnée arbitraire, par exemple celle d'un motif de test de référence. L'étape 1003 précédemment mentionnée est suivie d'une étape 1004 d'ajustement en mode manuel ou automatique de l'intensité lumineuse d'illumination à une valeur déterminée choisie Cette étape 1004 comprend également par exemple la sous-étape d'éclairement constant du motif de test de rang k considéré L'étape 1004 est alors suivie d'une sous-étape 2001 d'acquisition des valeurs de réflec- tivité du motif de test M Tij donné de rang k correspondant et d'une étape de sauvegarde des données du paramètre de réflectivité R correspondant, cette étape étant notée 2002, les étapes 2001 et 2002 formant, en fait, l'étape 2000 de mesure du coefficient de réflectivité R représenté en figure la L'étape 2002 précitée est suivie d'une étape de test 2003 du rang k du motif de test considéré, ce test consis- tant en un test d'égalité du rang k à une valeur N représen- tative du nombre de motifs de test utilisé sur la plaquette et effectivement présents sur cette plaquette témoin Pt Sur réponse négative au test 2003, la valeur du paramètre k de rang du motif de test soumis à acquisition des données est incrémentée d'une unité afin de passer à l'étape 1003, ainsi que symbolisé par la flèche de retour sur la figure lb, afin de soumettre le motif de test suivant de rang k-i aux mêmes sous-étapes 1003, 1004, 2001, 2002, 2003, que mentionné précédemment. Sur réponse positive au test 2003, c'est-à-dire lorsque tous les motifs de test M Tij ont été soumis au processus M Ia d'acquisition des données, le procédé objet de la présente invention consiste alors à mettre en oeuvre l'étape I Ib de traitement des données. Ainsi que représenté sur la figure lb précitée, celle-ci peut comporter, à titre d'exemple non limitatif, une sous-étape 3001 de lecture des données, c'est-à-dire des valeurs de coefficient de réflectivité R pour chaque motif de test considéré, cette étape 3001 étant suivie d'une étape 3002 consistant à établir la loi de correspondance du coefficient de réflectivité R pour chaque emplacement, en fonction de la valeur du paramètre de défocalisation ou de mise au point du faisceau d'illumination Cette étape consiste en fait à tracer la courbe de la réflectivité R en fonction de la défocalisation appliquée à chaque motif de test, lors de la création de ce dernier sur la plaquette témoin Pt, ainsi que déjà mentionné précédemment. La sous-étape 3002 est alors suivie d'une sous-étape consistant à déterminer la valeur nominale de la focalisa- tion ou mise au point optimale par une méthode à seuil, cette étape pouvant constituer l'étape 4000 précédemment mentionnée en relation avec la figure la. L'affichage de la valeur de focalisation nominale ou de la mise au point optimale trouvée peut alors être affichée, par exemple sur un écran d'ordinateur. Selon un aspect particulièrement avantageux du procédé objet de la présente invention, chaque motif de test M Tij est constitué par un réseau de trous, formé dans la couche de résine recouvrant la plaquette témoin Pt. On notera en particulier que chaque motif de test est identique dans le plan X,Y de la surface de la résine, c'est-à-dire de l'interface air-résine, et qu'en consé- quence, tant la dimension des trous, c'est-à-dire leur diamètre d que le pas du réseau, un réseau carré ou retan- gulaire, est identique Toutefois, en raison de la défocali- sation opérée au moment de l'insolation des motifs de test, c'est-à-dire lors de l'étape B de la figure la, les trous pour un motif de test M Tij considéré sont identiques, mais présentent des différences de profil, et en particulier de pente, d'un motif de test au suivant en fonction de la défocalisation appliquée, ainsi qu'il sera décrit ul- térieurement dans la description. Dans le cas précité, chaque motif de test étant constitué par un réseau de trous, et ainsi qu'on l'a représenté en figure lc dans un diagramme représentant, en abcisses le paramètre de défocalisation D en micromètres, et en ordonnées le coefficient de réflectivité R mesuré pour chaque motif de test dans les conditions précédemment mentionnées, la mise au point optimale correspond à une plage de valeurs du coefficient de réflectivité R sensible- ment stationnaire correspondant à la profondeur de champ de la machine d'exposition, ces valeurs étant encadrées par deux maxima correspondant à une défocalisation dans la résine, respectivement hors de la résine. Sur la figure lc, on comprend bien sûr que la plage de valeurs sensiblement stationnaires correspond à la référence Q le maximum correspondant à une défocalisation dans la résine correspondant à la référence O alors que le maximum correspondant à une défocalisation hors de la résine correspond à la référence Q. Conformément à un aspect particulièrement avantageux du procédé objet de la présente invention, la détermination précise de la mise au point optimale peut être effectuée de la façon ci-après: il la plage de valeurs encadrant la valeur de mise au point optimale, cette mise au point optimale étant définie comme la défocalisation relative égale à 0, lorsque la focalisa- tion du faisceau d'illumination, et par conséquent du faisceau d'insolation, correspond à une focalisation sur l'interface air-résine, cette plage de valeurs est obtenue par comparaison à une valeur de seuil Cette plage de valeurs est alors validée comme plage de valeurs correspon- dante de mise au point optimale encadrant la valeur de mise au point optimale, ainsi que représenté sur la figure lc. Cette valeur de seuil peut être égale à une fraction de la valeur minimale du coefficient de réflectivité, R, comprise entre les deux maxima précédemment mentionnés On comprend alors que la valeur de seuil, notée VSS, est prise égale à: VSS = Rmm, o Rmm représente la valeur minimum minimorum de la zone 3 située entre les deux maxima de la figure lc, avec P Ainsi, pour une valeur de seuil, VSS, déterminée, la loi de correspondance du coefficient de réflectivité R, en fonction de la valeur de défocalisation du faisceau d'illu- mination, permet-elle alors de définir deux valeurs d'abcis- se correspondantes, 8 et 8 +, intersection de la valeur de seuil avec la loi de correspondance précitée, et la valeur de défocalisation de mise au point optimale peut alors être définie pour la machine d'exposition comme l'abcisse de la moyenne arithmétique des valeurs d'extrémité de la plage de valeurs correspondantes de mise au point optimale, c'est-à- dire définie par les valeurs d'abcisse 8-,8 + précédemment mentionnées, la valeur de mise au point optimale en défoca- lisation vérifiant alors la relation Do = 1/2 ( 8 + 8 +). Bien entendu, la valeur de défocalisation optimale peut alors être arbitrairement définie comme valeur zéro, puisqu'elle celle-ci exprime la valeur de défocalisation relative par rapport à l'interface air-résine. On notera que le procédé objet de la présente invention tel que précédemment décrit permet d'obtenir une valeur stable du paramètre de défocalisation de mise au point optimale, en raison de la quasi-symétrie de la loi de correspondance du coefficient de réflectivité dans les zones de pente 2 et 5 de celle-ci, ces zones encadrant la plage de valeur de mise au point optimale. D'une manière générale, on notera que, afin d'assurer une bonne précision de la mesure des valeurs du coefficient de réflectivité R, cette mesure, pour chaque motif de test, est de préférence réalisée en fond noir Le fond noir permet d'être plus sensible à la défocalisation, car il permet la mise en relief de faibles variations de la pente de la résine, fonction elle-même de la défocalisation appliquée au moment de l'insolation. Sur la figure lc, on a également représenté pour les différentes zones caractéristiques de focalisation du faisceau d'illumination, d'une part, des vues en coupe des trous formant le réseau de la plaque témoin dans des vignettes correspondantes et des vues de profil de sillons réalisés dans des conditions comparables. On notera en particulier que le profil le plus régulier des trous et corrélativement des sillons correspon- dant est obtenu lorsque la défocalisation correspond à la plage @ de la courbe de réflectivité précitée et, en particulier, à la valeur de défocalisation de mise au point optimale Dans ce cas, un trou est dit constituer un trou débouchant, dans la mesure o tous les trous formés avec la défocalisation correspondante du faisceau d'illumination et finalement du faisceau d'insolation, permet d'atteindre la surface du substrat avec une pente des parois latérales du trou supérieure à 85 degrés. Un justificatif de la mise en oeuvre du procédé objet de la présente invention sera donné ci-après. A la suite d'expérimentations successives, on a pu dégager l'ensemble des éléments ci-après: la loi de correspondance du coefficient de réflectivité R en 1 I fonction de la valeur du paramètre de défocalisation, tel que représenté en figure lc, correspond sensiblement à la somme de deux enveloppes: une première enveloppe correspondant à la réflectivité due au substrat, cette première enveloppe présentant une courbe en cloche en fonction du paramètre de défocalisa- tion D, et qui dépend à la fois de la taille des trous, c'est-à-dire du diamètre des trous, pour un réseau de trous donné, et de la nature du substrat, une deuxième enveloppe correspondant à la réflectivité due aux pentes des parois des trous formés dans la résine, cette réflectivité diminuant très fortement lorsqu'on est en zone extrême de défocalisation et présentant deux extrêma sensiblement symétriques séparés par une zone de faible réflectivité, cette zone de faible réflectivité correspondant bien sûr au maximum de la courbe en cloche de réflectivité du substrat, c'est-à- dire lorsque les trous formés pour constituer le motif de test par exemple sont des trous débouchants pour une pente des parois de résine maximale, le coefficient de réflectivité dû alors à la pente de la résine étant minimum, entre les deux maxima précités, l'ensemble des deux courbes de réflectivité, A et B, correspondant alors à la zone de la figure lc. Ainsi, bien que la zone de la figure lc ne puisse être utilisée de manière efficace que pour déterminer une zone o les trous sont débouchants sur la surface du substrat, le fait que les flancs des maxima correspondants sont sensiblement égaux et symétriques permet, grâce à la méthode de seuil précédemment mentionnée, pour une machine d'exposition déterminée, une reproductibilité de la méthode proposée pour deux plaques différentes, dont la variation maximale de défocalisation optimale est de l'ordre de 0,2 micromètre. Dans le même ordre d'idées, on notera que la défocalisation optimale mesurée sur une même plaque témoin, dix fois de suite conformément au procédé objet de la présente invention, permet de déterminer une variation maximale entre les différentes mesures n'excédant pas 0,1 micromètres. Bien entendu, le traitement des valeurs ou données peut être plus sophistiqué, en particulier lorsqu'il apparaît des pics de réflectivité parasites sur les flancs des courbes correspondant aux zones X et ( précitées. Ces pics parasites sont pour la plupart dûs à des problèmes inhérents à des défauts des plaquettes utilisées, tels que mauvaise qualité de la plaquette témoin, ou contamination de la face arrière entraînant une défocalisation locale importante Dans ces conditions, il peut être approprié de procéder à un lissage des valeurs de la courbe sur plusieurs valeurs successives de réflectivité par exemple. Enfin, on indiquera en ce qui concerne le procédé objet de la présente invention, que celui-ci est parti- culièrement avantageux dans la mesure o l'on a pu constater au cours d'essais que la mesure du coefficient de réflec- tivité R n'est pas sensible à une variation de la dose ou intensité d'énergie utilisée pour l'illumination des trous constituant les motifs de test M Ti- Les essais précités ont ainsi montré que pour une énergie irradiée pour chaque illumination comprise entre 50 à 170 m J (millijoules), la variation de défocalisation optimale pour un type de plaquette témoin déterminée n'excédait pas 0,1 micromètre. En outre, on indiquera que le procédé objet de la présente invention, telque décrit précédemment, peut être mis en oeuvre sur tout type de substrat, que ce soit un substrat silicium ou un substrat plus rugueux comme l'alumi- nium ou le tungstène ou même des substrats en silicium polycristallin, en nitrure de silicium, ou en oxyde de silicium. Compte tenu des observations précitées, et en particulier des différences de réflectivité constatées pour les différentes valeurs de défocalisation, ainsi que représenté précédemment en figure lc, le procédé objet de la présente invention permet également de contrôler l'incli- naison ou pente du flanc de gravure, à partir de la mise au point optimale ou position Do. Dans ce but, le procédé selon l'invention consiste à effectuer un décalage de focalisation du faisceau d'inso- lation sur la plaquette substrat munie de la couche de résine, sur laquelle les structures doivent être engendrées. Bien entendu, le décalage de focalisation est réalisé dans une plage de valeurs incluses dans la plage de valeurs correspondant au minimum relatif compris entre les deux maxima de la loi de correspondance du coefficient de réf lectivité et de la défocalisation Ainsi, le décalage est réalisé pour les valeurs de défocalisation comprises dans la zone de la figure lc, par rapport à la valeur de focali- sation optimale Do. Sur la figure 2 a, on a représenté, en coupe, des échantillons photographiques de flancs de gravure de trous pour des valeurs de défocalisation comprises entre -2,4 micromètres, et 2,4 micromètres par incréments de 0,3 micromètres. On constate ainsi que pour différentes inclinaisons ou pentes du profil de gravure, le décalage de défocalisa- tion est réalisé, selon la direction du faisceau d'insola- tion, au-delà de l'interface air-résine pour la réalisation de flancs de gravure obliques concaves, c'est-à-dire en particulier pour les valeurs de défocalisation comprises entre -2,4 micromètres et -0,6 micromètres sensiblement Le décalage de défocalisation est réalisé avec une valeur sensiblement nulle ou nulle pour la réalisation de flancs de gravure rectilignes sensiblement orthogonaux à l'interface résine-plaquettesubstrat, les valeurs sensiblement nulles correspondant sur la figure 2 a aux valeurs de décalage de focalisation comprises entre -0,6 micromètre et + 0,6 micromètre sensiblement. Le décalage de défocalisation est au contraire : 9 réalisé en-deçà de l'interface air-résine pour la réalisa- tion de flancs de gravure dits à piédestal pour les valeurs de décalage de focalisation comprises entre 1,2 micromètres et 2,4 micromètres On notera toutefois que la forme piédestal n'apparaît de manière significative que pour des valeurs de décalage supérieures à 1,8 micromètres. Sur la figure 2 b, on a représenté, en coupe, des profils de gravure de sillons correspondant sensiblement aux trois zones précédemment mentionnées en relation avec la figure 2 a. Une description plus détaillée du dispositif de réglage d'une machine d'exposition photolithographique objet de la présente invention sera maintenant donnée en liaison avec les figures 3 et 4. Sur la figure 3, on peut constater que le dispositif selon l'invention comprend un bloc d'illumination au moyen d'un faisceau en lumière blanche d'une plaquette témoin Pt, la plaquette étant munie des motifs de test MT j arrangés selon une suite de motifs de test Un support 2 est prévu, celui-ci permettant de supporter la plaquette témoin Pt et d'assurer un positionnement de celle-ci selon un repère tridimensionnel x,y,z de cette plaquette par rapport au point de focalisation du faisceau de lumière blanche On comprend bien sûr que le support 2 peut être constitué par une table x,y par exemple, le positionnement en z pouvant être effectué par la focalisation du faisceau et la défoca- lisation de celui-ci. En outre, un circuit 3 de commande du positionnement de la plaquette témoin Pt est prévu de façon à assurer un balayage séquentiel de la suite de motifs de test de la plaque témoin précitée, et une défocalisation relative différente pour chaque motif de test de la suite de motifs de test imprimés sur la plaque témoin par rapport à l'in- terface air-résine. Un élément 4 collecteur du faisceau lumineux diffusé par le motif de test corresondant, M Tj, et par la surface de la plaquette témoin illuminée par le faisceau de lumière blanche est prévu Celui-ci peut être réalisé par un objectif optique comportant, notamment, un binoculaire d'observation, l'ensemble formant un microscope permettant une observation visuelle. En outre, un circuit 5 de mesure et de mémorisation du coefficient de réf lectivité est prévu, ce coefficient étant défini par le rapport de l'intensité du faisceau diffusé à l'intensité du faisceau d'illumination en lumière blanche Ce circuit 5 peut comporter, avantageusement, une photodiode de réception du faisceau diffusé, notée 50, et un convertisseur analogique-numérique 51, par exemple En outre, le dispositif comprend différents miroirs de renvoi, notés MR, formés par exemple par des miroirs semi-transpa- rents, permettant d'une part la transmission du faisceau d'illumination F en lumière blanche vers la plaquette témoin Pt, et d'autre part, la retransmission du faisceau lumineux diffusé collecté par l'élément collecteur 4, d'une part vers la photodiode 50 précitée, ou vers d'autres circuits, lesquels seront décrits plus en détails ci-après. Enfin, un dispositif 6 de calcul et d'affichage de la loi de correspondance du coefficient de réflectivité et de la défocalisation relative du faisceau d'illumination et de la plaquette témoin est prévu, ce dispositif de calcul et d'affichage permettant également d'afficher la mise au point optimale et un décalage de focalisation à cette mise au point optimale, afin, le cas échéant, d'obtenir les effets de pente précédemment décrits dans la description. En outre, selon un aspect avantageux du dispositif objet de la présente invention, l'élément d'illumination 1 comporte une boucle d'asservissement de l'intensité du faisceau d'illumination F pour l'obtention d'une intensité du faisceau diffusé par chaque motif de test et par la surface de la plaquette témoin Pt sensiblement constante De manière avantageuse, la boucle d'asser-vissement précitée peut être constituée à partir d'un miroir de renvoi MR ú 1 renvoyant une fraction du faisceau lumineux diffusé, d'un circuit récepteur 40 directement relié par exemple par une liaison par fibre optique 41 et par un convertisseur analogique-numérique 42 au dispositif de calcul 6 Le dispositif de calcul 6 peut également être relié à l'élément 1 d'illumination par une liaison par BUS et par l'intermé- diaire d'un convertisseur numérique-analogique 10 permettant d'assurer ainsi la boucle d'asservissement précitée Le dispositif objet de l'invention permet ainsi de travailler avec une intensité diffusée constante, laquelle peut être choisie de façon à correspondre au maximum de sensibilité de la photodiode de réception 50. Selon un aspect particulièrement avantageux du dispositif objet de la présente invention, l'élément 1 d'illumination et l'élément collecteur 4 du faisceau diffusé peuvent être constitués par un objectif d'illumination en fond noir. Dans un mode de réalisation pratique, l'élément collecteur 4 du faisceau lumineux diffusé était réalisé au moyen d'un microscope MS 09 commercialisé en France par la société NACHET Ce microscope est un microscope modulaire pouvant recevoir de nombreux accessoires, rendant de ce fait l'utilisation de ce dernier très souple dans de nombreux domaines Ainsi, la tourelle du microscope utilisée peut recevoir 5 objectifs de type Union fond noir. Ce microscope est en outre équipé d'un système d'autofocalisation dynamique à diode infrarouge, système permettant de garantir la conservation de la mise au point lors du déplacement de l'objet. En outre, le microscope précité permet un passage d'un éclairage fond clair/fond noir, commandé par un sélecteur manuel, en face avant du microscope. En mode fond clair, un diaphgragme de champ et un diaphragme d'ouverture permettent d'optimiser la qualité de l'éclairage Sur la figure 4, on a représenté un détail du microscope et de l'ensemble comportant l'élément d'illumina- tion 1 ainsi que l'élément collecteur 4 L'élément d'illumi- nation est alimenté par une ampoule halogène 12 volts 50 watts, montée sur un support centrable Enfin, la fibre optique de prélèvement d'intensité du faisceau diffusé fournit un signal d'asservissement du signal d'éclairage par l'intermédiaire du dispositif de calcul 6. Le microscope précité est équipé d'un binoculaire d'observation permettant de sélectionner l'observation visuelle binoculaire ou l'observation vidéo et la mesure en sortie auxiliaire Le commutateur d'observation est con- stitué par une tirette située sur le corps du binoculaire. Le binoculaire précité peut recevoir des oculaires d'obser- vation, 10 X, dont l'un est équipé d'un réticule afin d'effectuer un alignement visuel On notera cependant que le mode de réalisation présentement décrit n'est pas limitatif, et qu'en particulier, une caméra vidéo, ainsi que représenté en figure 4, portant la référence 61, peut être placée dans le champ de l'objectif 4 du microscope La caméra vidéo 61 peut avoir pour fonction soit, grâce à un programme logiciel de reconnaissance de forme, d'effectuer un centrage automa- tique par visée et reconnaissance de forme sur chaque motif de test considéré, soit également de permettre un affichage du motif de test visé par l'intermédiaire d'un moniteur, 62, à grande résolution La caméra vidéo 61 peut être constituée par une caméra standard de type CCD noir et blanc par exemple. La voie vidéo est munie d'une monture pour la caméra 61 précitée, alors que la voie mesure est munie d'une interface photo, et d'un oculaire de projection photogra- phique de type 10 X M La cellule photodiode 50 collecte le flux délivré par l'oculaire de projection photo dans la pupille de sortie sur un champ limité par un diaphragme, diaphragme de 1 mm en standard, diaphragme de 4 mm en option Les signaux de mesure sont directement transmis au dispositif de calcul 6 par l'intermédiaire d'un convertis- seur analogique-numérique 51 précédemment mentionné Le X I convertisseur utilisé était un convertisseur de O à 10 volts sur 1096 points. En ce qui concerne le support 2 de la plaquette témoin 2, constitué par une table mobile XY, celui-ci peut être constitué par une table à grand déplacement équipée d'un support de plaquette de circuit intégré, notée 20, avec aspiration par vide Bien entendu, le support et la table à grand déplacement supportent le microscope et l'ensemble représenté en figure 4 La table est pilotée par l'intermé- diaire d'une liaison de type RS 232 par l'intermédiaire du dispositif de calcul 6 On notera que le circuit 3 de commande du positionnement de la plaquette témoin comporte, d'une part, une manette de commande, notée 14, permettant le déplacement de la table en X et en Y, ainsi que des touches de commande, notées 16, dont l'une, notée IEE, permet le pilotage de la table mobile par la liaison RS 232. En ce qui concerne le dispositif de calcul 6, on notera que celui-ci comprend avantageusement un calculateur muni de ses ressources périphériques telles que mémoire de programme, mémoire morte et mémoire d'affichage, ce calculateur 60 pouvant être constitué par un micro-or- * dinateur de type PC AT ou compatible. On notera que ce calculateur est muni de programmes de conduite du processus de détermination de la mise au point optimale et du décalage de cette mise au point optimale, selon un dialogue interactif avec un opérateur. On comprend ainsi que l'ensemble des étapes du procédé objet de la présente invention tel que défini en liaison avec les figures la, partie II mise au point, et lb, sont conduites par l'intermédiaire d'un logiciel de conduite du procédé Ainsi, en particulier, les étapes 1001, 1002, 1003, 1004, 2001, 2002, 2003, 3001, 3002 et 4000 représen- tées en figure lb correspondent à des programmes et sous- programmes de conduite du procédé correspondant. En ce qui concerne l'étape 1003 de la figure lb, dans laquelle un positionnement de la table mobile 2 du i - microscope sur le motif de rang k est réalisé, ou à tout le moins en ce qui concerne l'alignement sur les motifs de référence afin de déterminer la position précise de tous les motifs à l'étape 1002 précédente, le logiciel correspondant demande pour l'exécution de cette étape 1002 un alignement visuel ou éventuellement un alignement effectué par l'inter- médiaire d'une caméra et d'un logiciel de reconnaissance de forme Dans un tel cas, l'opérateur prend la conduite du procédé en main par l'intermédiaire de la manette 14 ou levier de commande, lequel permet de déplacer la table mobile sous le microscope en X ou en Y La vitesse de déplacement peut alors être modifiée en tournant le levier autour de son axe Le levier 14 peut être muni d'un bouton permettant d'obtenir la fonction suivante, lorsque ce bouton est maintenu pressé: en index -> index, en pas à pas -> pas rapide, en vitesse lente - > vitesse moyenne, en vitesse rapide -> vitesse rapide. Lorsque l'alignement est effectué, la touche 15 de la table mobile permet de relancer la conduite du processus en mode automatique, le balayage des différents motifs M Tjj de la plaquette témoin Pt étant effectué automatiquement par déplacement du support 2 de la table mobile, selon une loi séquentielle déterminée Bien entendu, la défocalisation en fonction de la position du motif de test considéré est également effectuée de manière automatique. Une description plus détaillée d'une plaquette témoin Pt sera donnée en liaison avec les figures 5 a et 5 b. Selon la figure 5 a, chaque plaquette témoin Pt est formée par un substrat, tel qu'un substrat silicium par exemple, portant la référence 101, et une couche de résine dans laquelle est formée une pluralité de motifs de test M Tij identiques et arrangés en une suite de motifs de test. Par motifs de test identiques, on indique que la dimension en i,j de chaque motif de test est identique, alors que la plaquette varie d'un motif de test à l'autre. Selon une caractéristique avantageuse de la pla- quette témoin objet de la présente invention, les motifs de test sont formés par un réseau de trous de pas p et de dimension d déterminés par rapport à l'état de surface ou rugosité moyenne r du substrat formant la plaquette témoin, selon la relation: d ar p 2 2 d. On notera que dans les relations précitées, d représente le diamètre de trous formant le réseau, p formant le pas du réseau précité Le paramètre a peut être compris entre les valeurs 2 et 5 par exemple. Sur la figure 5 b, on a représenté une vue en coupe selon les plans de coupe A 1 A 1, A 2 A 2, A 3 A 3 de la figure 5 a, d'une suite de motifs de tests considérée, chaque motif de test M Tij correspondant en fait à une valeur de défocalisa- tion différente On constate sur les vues en coupe précitées que les profils des trous formant le réseau de chaque motif de test sont donc différents, la pente des trous du réseau étant sensiblement symétrique par rapport à la valeur de défocalisation O correspondant à la valeur Do précédemment mentionnée sur la figure lc. En ce qui concerne la dimension des trous formant le réseau précité, on notera que celle-ci doit être proche de la limite de résolution de la machine d'exposition photoli- thographique dont le réglage doit être effectué par la mise en oeuvre du procédé objet de la présente invention En outre, la dose d'illumination utilisée, c'est-à-dire l'intensité lumineuse illumination de chaque motif de test M Tij doit être également minimale, afin d'obtenir pour les fortes valeurs de défocalisation des trous pratiquement complètement bouchés Confer figure lc, zones 5 et 6 On indiquera en outre que le pas p du réseau n'est pas un paramètre critique, car il influe essentiellement sur le niveau de réflectivité du réseau. niveau de réflectivité du réseau. Les essais précédemment mentionnés ont été réalisés avec un trou de 0,6 micromètres et un pas de 2,4 micromè- tres, sur un photorépéteur d'ouverture numérique 0,40. Enfin, la dimension de chaque réseau constituant un motif de test M Tij considéré est au minimum de 50 x 50 micromètres carrés. On a ainsi décrit un procédé de réglage d'une machine d'exposition photolithographique et un dispositif permettant la mise en oeuvre de celui-ci particulièrement performants, car ils permettent le contrôle de la stabilité de la focalisation de ces machines d'exposition avec, vis-à- vis des procédés ou des dispositifs de l'art antérieur, les avantages ciaprès: excellente reproductibilité d'une mise en oeuvre du procédé, insensibilité au changement de réticule ou au niveau d'éclairement dans les limites précédemment indiquées dans la description, facilité du motif du réseau à réaliser, indépendance de la valeur de focalisation nominale vis-à-vis de l'opérateur conduisant les mesures et rapidité de l'exposition comme de la lecture des résultats. REVENDICATION 1) Procédé de détermination de la mise au point d'une machine d'exposition photolithographique utilisée pour insoler des structures sur une plaquette substrat revêtue d'une résine formant masque, à partir d'une plaquette témoin munie de motifs de test identiques en différents emplace- ments arrangés selon une suite de motifs de test, caractéri- sé en ce qu'il consiste: à illuminer successivement lesdits motifs de test en lumière blanche au niveau de chaque emplacement, au moyen d'un faisceau d'illumination, à mesurer le coefficient de réflectivité de chaque motif de test, et à établir la loi de correspondance dudit coefficient de réflectivité en fonction, pour chaque emplacement, de la valeur du paramètre de défocalisation ou de mise au point du faisceau d'illumination, à déterminer, par critère de seuil de la valeur dudit coefficient de réflectivité, une plage de valeurs cor- respondantes de défocalisation ou mise au point pour le motif de test considéré, permettant d'établir la valeur de mise au point optimale. 2) Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que, pour un motif de test constitué par un réseau de trous, ladite mise au point optimale correspond à une plage de valeurs sensiblement stationnaires du coefficient de réflectivité, correspondant à la profondeur de champ de la machine d'exposition, encadrées par deux maxima correspon- dant à une défocalisation dans la résine respectivement hors de la résine. 3) Procédé selon la revendication 1 ou 2, caractéri- sé en ce que ladite plage de valeurs est obtenue par comparaison à une valeur de seuil, ladite plage étant validée comme plage de valeurs correspondantes de mise au point optimale, ladite valeur de seuil étant égale à une fraction de la valeur minimale du coefficient de réf lectivi- té comprise entre les deux maxima. 4) Procédé selon l'une des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que ladite mesure du coefficient de réflectivité de chaque motif est réalisée en fond noir, ce qui permet d'augmenter la sensibilité de la mesure de la défocalisation et une amélioration de la mise au point. ) Procédé selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que la mise au point optimale de ladite machine d'exposition est définie comme l'abscisse de la moyenne arithmétique des valeurs d'extrémité de ladite plage de valeurs correspondantes de mise au point optimale. 6) Procédé selon la revendication 5, caractérisé en ce que, afin de contrôler l'inclinaison ou pente du flanc de gravure, celui-ci consiste, à partir de ladite mise au point optimale, à effectuer un décalage de focalisation dudit faisceau d'insolation, ledit décalage étant réalisé dans une plage de valeurs incluses dans la plage de valeurs cor- respondant au minimum relatif compris entre les deux maxima de la loi de correspondance du coefficient de réflectivité et de la défocalisation. 7) Procédé selon la revendication 6, caractérisé en ce que, pour différentes inclinaisons ou pentes du profil de gravure, ledit décalage de défocalisation est réalisé, selon la direction du faisceau d'insolation, au-delà de l'interface air-résine pour la réalisation de flancs de gravure obliques concaves, avec une valeur nulle pour la réalisation de flancs de gravure rectilignes sensiblement orthogonaux à 1 ' interfa- ce air-résine, en deça de l'interface air-résine pour la réalisation de flancs de gravure à piédestal. 8) Dispositif de réglage de la mise au point d'une machine d'exposition photolithographique utilisée pour exposer des structures sur une plaquette substrat revêtue d'une résine formant masque, à partir d'une plaquette témoin munie de motifs de test identiques en différents emplace- ments arrangés selon une suite de motifs de test, caractéri- sé en ce qu'il comporte: des moyens d'illumination, au moyen d'un faisceau en lumière blanche, d'une plaquette témoin, munie de motifs de test, arrangés selon une suite de motifs de test, des moyens support de ladite plaquette témoin permettant d'assurer un positionnement selon un repère tri-dimen- sionnel (x, y, z) de ladite plaquette témoin par rapport au point de focalisation dudit faisceau de lumière blanche, des moyens de commande du positionnement de ladite plaquette témoin de façon à assurer un balayage séquentiel de la suite de motifs de test et une défocali- sation relative différente pour chaque motif de test de la suite de motifs de test par rapport à l'interface résine-plaquette témoin, des moyens collecteurs du faisceau lumineux diffusé par le motif de test correspondant et par la surface de la plaquette témoin illuminée par ledit faisceau de lumière blanche, des moyens de mesure et de mémorisation du coefficient de réflectivité, rapport de l'intensité du faisceau diffusé à l'intensité du faisceau d'illumination, des moyens de calcul et d'affichage de la loi de cor- respondance dudit coefficient de réf lectivité et de la défocalisation relative du faisceau d'illumination et de la plaquette témoin, de la mise au point optimale et d'un décalage de focalisation à cette mise au point optimale. 9) Dispositif selon la revendication 8, caractérisé en ce que lesdits moyens d'illumination comportent une boucle d'asservissement de l'intensité dudit faisceau d'illumination pour l'obtention d'une intensité du faisceau diffusé par chaque motif de test et par la surface de ladite plaquette témoin sensiblement constante. 10) Dispositif selon la revendication 8 ou 9, caractérisé en ce que lesdits moyens d'illumination et i lesdits moyens collecteurs du faisceau diffusé sont constitués par un objectif d'illumination en fond noir. 11) Dispositif selon la revendication 8, caractérisé en ce que lesdits moyens de calcul et d'affichage compren- nent: un calculateur muni de ses ressources périphériques telles que mémoire de programme, mémoire morte et moniteur d'affichage, des programmes de conduite du processus de détermination de la mise au point optimale et d'un décalage de cette mise au point optimale, selon un dialogue interactif avec un opérateur. 12) Plaquette témoin pour la mise en oeuvre du procédé selon l'une des revendications 1 à 7, caractérisée en ce que celle-ci comporte une pluralité de motifs de test identiques arrangés en une suite de motifs de test, ces motifs de test étant ménagés dans une couche de résine déposée sur une plaquette substrat. 13) Plaquette selon la revendication 12, caractérisée en ce que lesdits motifs de test sont formés par un réseau de trous de pas p et de dimension d déterminés par rapport à l'état de surface ou rugosité moyenne r du substrat formant la plaquette témoin selon la relation d ar a étant compris entre 2 et 5, p 2 2 d