Brevet FR2688947A1 — publié le 19930924

Dispositif laser à excimère KrCl. DESCRIPTION La présente invention est relative à un dispositif laser à excimère KrCl. Le domaine technique de l'invention est celui de la construction des dispositifs laser, plus particulièrement de dispositif laser à gaz dans lesquels on utilise un mélange gazeux à base de gaz rare et d'un halogène au moins. Parmi ces types de laser à gaz qui sont susceptibles d'émettre des radiations ultraviolettes, il est connu notamment par le document ',KrCl LASER OSCILLATIONS AT 222 nm", APPLIED PHYSICS LETTERS, Vol. 29, N"4 pages 252-253, 15 Août 1976, MURRAY et al. que l'excimère KrCl est susceptible d'émettre des radiations au voisinage de 222 nm, en utilisant un mélange d'argon, de krypton et de chlore, excités par un faisceau d'électrons. Ce document fait état d'une expérimentation dans laquelle des impulsions laser sont émises, dotées d'une énergie de 50 mJ et de courte durée, inférieure à 50 ns. Selon ce document, les mauvaises performances énergétiques obtenues avec ltexcimère KrCl en comparaison de celles obtenues avec ltexcimère KrF seraient dues à une cinétique de formation de ltexcimère KrCl moins favorable, à des pertes optiques intrinsèques au mélange gazeux comportant ltexcimère KrCl, ou à une montée trop lente du gain. Dans le document "INTENSE LASING IN DISCHARGE EXCITED NOBLE-GAS MONOCHLORIDES", APPLIED PHYSICS LETTERS, 33(5), ler Septembre 1978, pages 419 à 421, SZE et al., il est fait état de l'obtention d'impulsions laser utilisant ltexcimère KrCl atteignant une énergie de 100 mJ en utilisant le chlorure d'hydrogène comme apporteur d'halogène ; selon ce document, il est préférable d'utiliser une excitation par décharge électrique plutôt que par faisceaux d'électrons, et le choix du donneur d'halogène est important, HCl apparaissant comme le meilleur choix concernant le gaz apporteur d'halogène. Le mélange gazeux optimal contient 0,15 % de HC1, 10 % de krypton et 89,85 P d'hélium ; les résultats ont été obtenus avec une pression du mélange de 55 PSI et une tension de charge de 50 kV ; les impulsions laser obtenues sont de courte durée, voisines de 10 ns. Le Brevet US 4 259 646 (SZE et al.) décrit les améliorations permettant d'obtenir pour un laser KrCl, des radiations cohérentes centrées sur une longueur d'onde de 222 nm dont l'énergie est de l'ordre de 100 mJ ; selon ce document ces améliorations consistent à utiliser le chlorure d'hydrogène HC1 comme apporteur d'halogène et à exciter le mélange gazeux par une décharge électrique permettant de minimiser la formation d'ions moléculaires tels que Kr2+, Ar2+, Ne2+, dont la formation est favorisée lorsqu'on utilise une excitation par faisceaux d'électrons, laquelle formation a pour conséquence d'augmenter l'absorption de radiations centrées sur 222 nm par le mélange gazeux qui comporte les ions moléculaires. Le dispositif de décharge électrique utilisé est constitué par une capacité de 0,08 micro farad chargée à 48 kilo volt et dont l'énergie peut être transférée au mélange gazeux par l'intermédiaire de câbles et des électrodes de la cavité du laser grâce à un interrupteur de type thyratron ; ce document fait état d'impulsions laser dont la durée est de l'ordre de 20 nano seconde, en utilisant un mélange gazeux identique à celui décrit dans le document précédent, à des pressions similaires (41 à 55 PSIA). Le document "HIGH-POWER LAMBDA=222 NM LASING OF AN Ne(HE)-Kr-HCl GAS MIXTURE PUMPED WITH A SELF-SUSTAINED DISCHARGE", SOVIET JOURNAL QUANTUM ELECTRONIC, 19(12), Décembre 1989, PANCHENKO et al., pages 1547 à 1549, décrit des résultats expérimentaux obtenus avec un laser KrCl excité par décharge électrique et utilisant une préionisation par ultraviolet ; selon ce document, un rayonnement laser de forte énergie peut être obtenu en utilisant une préionisation de forte intensité, le néon comme gaz tampon et des puissances d'excitation ou de pompage rapportées au volume de la cavité située entre les électrodes, peu supérieures à 1,5 méga Watt par cm3 ; ce document fait référence à des documents antérieurs dans lesquels les durées de rayonnement laser obtenues étaient de l'ordre de 18 nano seconde, pour des puissances d'excitation supérieures à 10 méga watt par cm3 ; ce document fait état d'expérimentations dans lesquelles la durée de l'impulsion laser obtenue est de 40 nano seconde, l'énergie du rayonnement est de 0,6 joule pour des puissances de pompage (d'excitation) relativement basses c'est-à-dire de l'ordre de 1,5 mega watt par cm3. Le document "DIAGNOSTICS OF AN ELECTRIC-DISCHARGE KrCl LASER", SOVIET JOURNAL QUANTUM ELECTRON., 20(4), Avril 1990, PEET et Al., pages 372 à 376, est relatif à une analyse comparative entre les résultats obtenus pour des lasers XeCl et KrCl, destinée à expliciter les mauvais résultats, particulièrement la faible efficacité, des lasers KrCl. Selon ce document, l'excitation du mélange gazeux est obtenu par décharge électrique, le mélange gazeux comprenant 1,8 torr de HC1, 114 torr de krypton et de l'hélium comme gaz tampon, le mélange étant à une pression totale de 1,8 atmosphère ; l'énergie du rayonnement laser obtenu est de 1 à 2 milli joule, pour une énergie transmise au mélange gazeux de 4,8 joule dont 80 5o est transféré dans les 35 premières nano seconde de la décharge, correspondant à une puissance de l'ordre de 220 mega watt. Selon ce document, les mauvaises performances obtenues avec KrCl comparativement à XeCl seraient dues à des différences dans les cinétiques se développant dans le mélange gazeux, et à la présence dans le mélange gazeux d'éléments fortement absorbants pour la longueur d'onde utile. Le problème non résolu à ce jour, est d'améliorer les performances des lasers à excimère KrCl ; le problème consiste plus particulièrement à obtenir des impulsions laser de longue durée. Le problème posé consiste également à améliorer le rendement énergétique des lasers à excimère KrCl afin d'obtenir des impulsions lasers d'énergie élevée et de longue durée. I1 faut noter que, bien que de nombreux travaux, notamment ceux cités ci-dessus, aient tenté d'expliciter les raisons pour lesquelles les lasers à excimère KrCl ont des performances faibles notamment visà-vis des performances obtenues avec d'autres excimères comme XeCl, ces raisons sont semble-t-il pas été déterminées à ce jour. I1 a été observé que de façon surprenante, il est possible d'obtenir pour un laser à excimère KrCl, des impulsions laser de longue durée, notamment des impulsions dont la durée T3 à mi-hauteur (FWHM c'est-à-dire "full width half maximum") est supérieure à 60 nano seconde, par exemple de l'ordre de 150 nano seconde au moins, en utilisant des moyens de préionisation intenses et homogènes, et un dispositif d'excitation par décharge électrique constitué par un dispositif à double décharge ou double impulsion, aussi appelé en anglais "SPIKER/SUSTAINER". Plus précisément, il a été observé qu'il est possible d'obtenir avec un laser à excimère KrCl des impulsions laser de longue durée et de relativement haute énergie et rendement en procurant un dispositif laser à excimère KrCl susceptible d'émettre des radiations centrées sur une longueur d'onde de 222 nm, comportant un mélange d'un gaz tampon, de Krypton et d'un gaz apporteur de chlore, et comportant des moyens d'excitation ou aussi appelés moyens de pompage par décharge électrique transversale, qui comporte des moyens de préionisation intense et homogène dudit mélange, et lesdits moyens d'excitation par décharge électrique comportent des moyens d'excitation dudit mélange par une première impulsion ou impulsion initiale électrique de forte tension (US), de forte puissance instantanée de faible durée T1 (de faible temps de montée) et de faible énergie, permettant une forte ionisation et/ou le "claquage du mélange gazeux. Lesdits moyens d'excitation par décharge électrique comportent des moyens d'excitation dudit mélange par une décharge (ou deuxième impulsion) électrique d'entretien, de faible tension (U2), de longue durée (T2), de forte puissance moyenne et de forte énergie, lesquels moyens d'excitation dudit mélange par ladite première impulsion initiale, sont reliés aux électrodes dudit dispositif laser (lesquelles électrodes sont situées dans une cavité étanche contenant ledit mélange), lesquels moyens d'excitation dudit mélange par ladite impulsion d'entretien sont reliés auxdites électrodes par un commutateur magnétique (C3) et sont dotés d'une impédance (Z1) faible (de préférence voisine ou inférieure à 1 Ohm). Avantageusement, le rapport entre la puissance moyenne délivrée audit mélange par ladite décharge électrique d'entretien et le volume de ladite cavité compris entre lesdites électrodes, est inférieur à 1 Mega Watt par cm3, de préférence inférieur ou égal à 0,5 Mega Watt par centimètre cube, par exemple voisin de 200 Kilo Watt par centimètre cube. Avantageusement, ladite durée (T2) est supérieure ou égale à 100 ns, par exemple comprise entre 150 et 500 ns. Avantageusement, ledit dispositif comporte des moyens (TR1, Cs, C4) électriques de réglage initial (c'est-à-dire avant ladite première impulsion) de l'induction et/ou du champ magnétique du matériau magnétique (tels que des ferrites nickel-zinc) dudit commutateur magnétique, à une valeur prédéterminée. Avantageusement, lesdits moyens de préionisation sont des moyens de préionisation par rayons X ou ultraviolet (ut). Avantageusement, ledit gaz tampon est du néon. Avantageusement, ledit gaz apporteur de chlore est choisi parmi le chlorure d'hydrogène (HC1) et le BC13. Avantageusement, le rapport de la pression partielle dudit gaz apporteur de chlore dans ledit mélange à la pression totale est inférieur ou égal à 7.10-4 dans le cas d'utilisation de HC1, et est inférieur ou égal à 3.10-4 dans le cas de BC13. Avantageusement, la pression partielle de krypton dans ledit mélange est inférieure ou égale à 5 %. Avantageusement, le rapport entre la tension de charge desdits moyens d'excitation par ladite impulsion d'entretien et le produit de la distance séparant lesdites électrodes par la pression dudit mélange, est inférieur ou égal à 1,5 V/MPa. La pression totale dudit mélange gazeux est par exemple comprise entre 1,5 et 4 atmosphères. Avantageusement, la pression totale dudit mélange gazeux est voisine de 1,5 à 3 atmosphère. I1 est à noter que des dispositifs de décharge électrique générant deux impulsions d'excitation de laser à gaz sont déjà connus notamment par les brevets US 4 698 518 (PACALA), US 4 975 921 (ROTHE) et le brevet US 4 534 035 (LONG). Le brevet US 4 698 518 notamment décrit un système de décharge électrique pour laser, qui délivre une impulsion de haute tension permettant l'ionisation du gaz sous forme de phénomène dit "d'avalanche" électronique, et qui délivre une deuxième impulsion de forte énergie utilisée pour provoquer une décharge entretenue : ce type de dispositif à double impulsion ou double décharge électrique de niveaux de tension différents est avantageux dans la mesure où il permet d'utiliser des sources d'énergie d'impédance adaptée à l'impédance de la cavité du laser, qui varie lors de l'ionisation du mélange gazeux (voir notamment document cité ci-dessus PEET et Al. page 372 figure 1B). Les avantages procurés par les dispositifs laser KrCl selon l'invention sont nombreux. Parmi un des avantages importants procurés par l'invention, il faut citer la possibilité de transfert du rayonnement laser émis par des fibres optiques, cette transmission peut avoir de nombreuses applications dans le domaine biologique, médical, de micro technologie en général, ceci étant dû à l'allongement très sensible de la durée de l'impulsion laser obtenue grâce à l'invention ; en effet, cet accroissement de durée important permet une réduction sensible de l'atténuation non linéaire à deux photons ainsi que de la création de centres colorés et de la déterioration de la surface d'entrée de la fibre, pour une même énergie délivrée par le dispositif laser ; en effet, les problèmes d'interaction laser/fibre-optique limitent actuellement fortement l'utilisation des lasers à exiplexe à courte longueur d'onde tels que les lasers KrCl. Par ailleurs, les dispositifs selon l'invention permettent d'envisager des fréquences élevées de "tir" ou de répétition des impulsions lasers. Les nombreux avantages procurés par l'invention, seront mieux compris au travers de la description suivante qui se réfère aux dessins annexés, qui illustrent sans aucun caractère limitatif, des modes particuliers de réalisation de dispositif selon l'invention. La figure 1 illustre de façon simplifiée le schéma électrique d'un dispositif laser KrCl et des moyens d'excitation de ce dispositif selon l'invention. La figure 2 illustre en vue transversale, les principaux constituant d'un dispositif laser KrCl et ses moyens d'excitation selon l'invention. Les figures 3, 4 et 5 sont respectivement des oscillogrammes de la tension mesurée aux bornes des électrodes d'un dispositif laser selon l'invention, de l'intensité du courant traversant un commutateur magnétique d'un dispositif laser selon l'invention et du rayonnement laser obtenu par un dispositif selon l'invention. La figure 6 illustre schématiquement les phénomènes de saturation d'un commutateur magnétique d'un dispositif selon l'invention. Par référence à la figure 1, un dispositif laser à excimère KrCl selon l'invention comporte une "tête" laser 4 ou dispositif laser proprement dit, qui comporte un compartiment laser 1 schématiquement représenté dans lequel sont situées deux électrodes 11 et 12 situées dans une cavité remplie d'un mélange gazeux (non représentée) et entre lesquelles doit être produite une décharge électrique dite transversale d'ionisation dudit mélange gazeux (laquelle décharge est schématiquement représentée à la figure i sous forme d'un nuage de points entre lesdites électrodes). Aux bornes desdites électrodes sont prévues des capacités de transfert Ct. Un circuit 5 de prédécharge est prévu, qui est raccordé aux bornes desdites électrodes 11, 12, lequel circuit de prédécharge comporte essentiellement une capacité CSP dans laquelle peut être emmagasinée l'énergie qui sera délivrée par ladite première impulsion, lors de la fermeture d'un interrupteur C1 qui peut être par exemple constitué par un thyratron ou un éclateur à gaz, ladite capacité CSP pouvant être chargée grâce à une borne de charge -THT, à une tension de l'ordre de 40 kilo volt par exemple. Ledit dispositif comporte un circuit d'entretien aussi appelé ligne de formation d'impulsion ou ligne de mise en forme (en anglais "pulse forming line") qui comprend essentiellement une série de capacité CZ connectées en parallèle par l'intermédiaire d'inductances de ligne Il. Une capacité Cp est également prévue, lesdites capacités CZ de ladite ligne et ladite capacité Cp pouvant être chargées par une tension de charge de ligne grâce à une borne +THT, lorsqu'un interrupteur C2, constitué par exemple par un deuxième thyratron est fermé. On voit que ledit circuit de formation d'impulsion d'entretien 2 est relié aux bornes desdites électrodes du laser par l'intermédiaire d'un commutateur magnétique C3 dont la saturation initiale peut être commandée ou réglée par la décharge d'une capacité Cs commandée par la fermeture d'un commutateur C4, produisant une impulsion électromagnétique transmise par des moyens TRi de transformateur électromagnétique. Le fonctionnement général du dispositif est le suivant - on déclenche la charge desdites capacités de ligne Cl par une tension de charge de ligne, laquelle charge dure quelques micro secondes - on déclenche ensuite la préionisation dudit mélange gazeux par rayons X par exemple, afin d'obtenir une densité électronique moyenne de l'ordre de 108e-/cm3 par exemple ; on ferme ledit interrupteur C1 provoquant la décharge de ladite capacité CSP ("capacité SPIKER"), ce qui provoque la charge desdites capacités de transfert puis le claquage du mélange gazeux et la création d'un plasma de densité électronique par exemple voisine de 1015 à 1016 é/cm3 ; après saturation du matériau magnétique dudit commutateur magnétique, la ligne se décharge automatiquement, injectant l'énergie stockée dans lesdites capacités CZ dans le plasma (mélange gazeux ionisé créé dans la cavité dudit laser). Dans un exemple de réalisation, ladite capacité de SPIKER CSP a une valeur de 2,7 nano farad et est chargée à une tension de 40 kilo volt ; ladite capacité de transfert est réalisé par 12 capacités céramiques de 140 pico farad connectées en parallèle ; ledit circuit de ligne ou circuit d'impulsion d'entretien 2 est tel que son impédance Z1 est par exemple voisine de 0,6 ohm, et comporte par exemple 132 capacités céramiques de capacité unitaire de i,4 nano farad connectées en parallèle (comme illustré à la figure 2) permettant d'assurer un créneau de tension ou impulsion entretien d'une durée au moins égale à 150 nano seconde. Par référence à la figure 2, on voit que ledit dispositif comporte une cavité principale 13, par exemple constituée par une récipient métallique muni dans sa partie supérieure d'une paroi isolante 13a sur laquelle sont montées lesdites électrodes supérieure il et inférieure 12, ledit mélange gazeux pouvant être introduit dans ladite cavité principale par des moyens 14 d'entrée dudit gaz. On voit que lesdites électrodes s'étendent de part et d'autre d'un axe xxi correspondant à l'axe de la cavité optique résonnante réalisée à l'aide de deux miroirs (non représentés), de manière connue. Sous ladite cavité principale 13 est prévue une deuxième cavité 19 étanche dans laquelle on a fait le vide ; dans ladite cavité 19 est située une électrode 18 comportant une lame de feutre de carbone constituant un émetteur d'électrons, ladite électrode étant reliée à une source de haute tension ; les électrons émis par ladite électrode 18 peuvent frapper une plaque 17 par exemple réalisé en tantale ou titane qui est soumise par sa face inférieure audit faisceau d'électrons issu de ladite électrode 18 et qui émet en réponse par sa face supérieure des rayons X ; lesdits rayons X sont collimatés par exemple par des masques 16 de plomb et permettent la préionisation du mélange gazeux contenu dans ladite cavité principale 13. On voit que dans ce mode particulier de réalisation, ladite électrode supérieure 11 est en forme de barreau cylindrique d'axe parallèle audit axe XX1 et connecté électriquement, dans sa partie supérieure, à un conducteur en forme de tube creux. Ledit conducteur en forme de tube creux est entouré de ferrites 10 en forme de tore d'axe Zizi, lesquelles ferrites en forme de tore sont empilées de manière à constituer une ou plusieurs colonnes, lesquelles ferrites sont entourées par une enveloppe électriquement conductrice 8 et cylindrique, laquelle enveloppe 8 est liée électriquement à une plaque supérieure 6 séparée d'une plaque inférieure 7 par lesdites capacités de ligne Cl connectées entre lesdites plaques 6 et 7. On voit également que lesdites capacités de transfert Ct sont connectées entre ladite électrode supérieure 11 et un conducteur électrique 15 reliée à ladite plaque 7 d'une part et à ladite électrode inférieure 12 d'autre part. On voit également que dans ce mode particulier de réalisation, l'espace creux dans le conducteur en forme de tube creux comporte un câble 9, qui s'étend sensiblement sur une longueur correspondant à la hauteur de l'empilement desdites ferrites, dans lequel peut circuler ladite impulsion électromagnétique permettant un réglage initial de l'état de saturation desdites ferrites dudit commutateur magnétique C3. Les figures 3, 4 et 5 illustrent des chronogrammes, de la tension observée aux bornes desdites électrodes dudit laser, de l'intensité du courant traversant ledit commutateur magnétique et des radiations laser émises, respectivement ; les graphes représentés à ces figures utilisent une échelle commune sur leurs axes horizontaux représentant le temps. On voit sur la figure 3 qu'après déclenchement de ladite première impulsion, la tension aux bornes desdites électrodes varie très rapidement, pendant une durée T1 de l'ordre de 25 ns environ, de la tension de charge de ladite ligne U3, qui peut par exemple être de l'ordre de -10 kilo volt, pour atteindre la tension de claquage U1 par exemple de l'ordre de 25 kilo volt, après de courtes oscillations, ladite tension U2 d'entretien sensiblement stationnaire s'établit rapidement qui correspond sensiblement à la moitié de ladite tension de charge de ligne U3, qui s'établit par exemple à une valeur de l'ordre de 4,5 kilo volt et qui apparaît pendant la durée T2 correspondant (comme indiqué figure 4) à la décharge, par l'intermédiaire dudit commutateur magnétique, de l'énergie emmagasinée dans lesdits moyens de formation de la deuxième impulsion ou impulsion d'entretien ; ceci provoque, comme illustré figure 5, une émission de radiation dont la durée T3 mesurée à mi-hauteur est par exemple au moins égale à 150 ns, qui intervient par exemple environ 55 ns après le "claquage" dudit mélange gazeux du fait de ladite première impulsion de tension U1 ; grâce notamment auxdits moyens de réglage initial du champs magnétique dans lesdites ferrites, il est possible d'utiliser le dispositif laser dans des modes de fonctionnement généralement appelés modes "SWITCH" ou "OVERSHOOT" ; dans ce deuxième mode, du fait d'un délai plus court entre le déclenchement de ladite première impulsion et le passage de ladite deuxième impulsion au travers dudit commutateur magnétique, le claquage dudit mélange gazeux est assuré par la décharge desdites capacités de transfert chargées par ladite deuxième impulsion. Dans un exemple de réalisation d'un dispositif, une radiation laser de 25 mJ a été obtenue en 150 ns FWAH, correspondant à un rendement de 0,25 % par rapport à l'énergie emmagasiné dans lesdits moyens de stockage (par ladite ligne de formation de deuxième impulsion), ce qui correspond, compte tenu des dimensions du volume compris entre lesdites électrodes, à une puissance spécifique de l'ordre de 400 kilo watt par cm3. L'énergie obtenue dépend de la pression dudit mélange gazeux, des résultats similaires pouvant être obtenus en utilisant comme apporteur d'halogène HC1 ou BC13, les performances pouvant dans certains cas être meilleures avec ce dernier. La figure 6 illustre le comportement des ferrites utilisées pour la réalisation dudit commutateur magnétique. Ledit commutateur magnétique a pour rôle d'isoler de manière temporaire ou transitoire, ledit circuit de prédécharge ("SPIKER") dudit circuit principal d'injection d'énergie de maintien ("PULSE FORMING LINE"), au moment du claquage dudit mélange gazeux ; ledit commutateur magnétique doit ensuite présenter une impédance la plus faible possible ce qui est rendu possible par le comportement non linéaire du matériau magnétique (des ferrites) dont le cycle d'hysteresis est représenté figure 6. Ledit commutateur magnétique doit bloquer ou plus précisément doit limiter à une valeur résiduelle faible le courant délivré par ledit circuit de prédécharge susceptible de circuler vers ledit circuit générateur de ladite impulsion d'entretien (PFL). Du fait que l'état magnétique dudit matériau magnétique dudit commutateur magnétique à l'issus d'un "tir" précédent, peut correspondre à un point quelconque de l'espace hachuré représenté à la figure 6 situé entre les courbes 20 de saturation dudit matériau magnétique, il est intéressant de fixer ce point correspondant à un état magnétique initial dudit matériau magnétique, préalablement au déclenchement d'un nouveau tir laser, par exemple au point repéré 21 ledit point 21 est choisi de telle sorte qu'après déclenchement de ladite première impulsion, le courant résiduel ou courant de fuite issu dudit circuit de pré décharge qui traversera ledit commutateur magnétique, aura pour effet de déplacer le point correspondant à l'état magnétique dudit matériau magnétique, sur la courbe 202 jusqu'à atteindre un point 22 correspondant à une saturation dudit matériau magnétique et correspondant à un état où ledit commutateur magnétique à une impédance très faible et permet ainsi ladite deuxième décharge. Le positionnement dudit point représentatif de l'état magnétique du matériau à une position initiale représentée par le point 21 est obtenu avantageusement par un dispositif tel que celui représenté à la figure 1 (repère C4, Cs, TRi). Ledit dispositif de réglage initial de l'état magnétique dudit matériau magnétique produit un champ électro magnétique supérieur ou égal au champ de saturation et inverse au champ électro magnétique induit par ledit courant de fuite traversant ledit commutateur lors de la montée en tension dudit circuit de pré décharge ; en permettant d'imposer audit matériau magnétique de parcourir la totalité du cycle d'hysteresis, on permet d'augmenter le temps de blocage dudit moyen de formation de ladite deuxième impulsion, pour une quantité de ferrites ou de matériau magnétique donnée, et ainsi de diminuer l'inductance résiduelle dudit commutateur électro magnétique, inductance préjudiciable à l'injection rapide d'énergie par lesdits moyens (PFL) de production de ladite deuxième impulsion. REVENDICATIONS 1. Dispositif laser à excimère KrCl comportant un mélange d'un gaz tampon, de Krypton et d'un gaz porteur de chlore, caractérisé en ce qu'il comporte des moyens de préionisation intense et homogène dudit mélange, et en ce qu'il comporte des moyens d'excitation dudit mélange par une première impulsion électrique de forte tension (U1), de faible durée T1, et en ce qu'il comporte des moyens d'excitation dudit mélange par une décharge électrique d'entretien, de faible tension (U2), de longue durée (T2), de forte puissance moyenne et de forte énergie, lesquels moyens d'excitation dudit mélange par ladite première impulsion sont reliés aux électrodes dudit dispositif laser, lesquels moyens d'excitation par ladite impulsion d'entretien sont reliés auxdites électrodes par un commutateur magnétique (C3) et sont dotés d'une impédance (Zl) faible. 2. Dispositif selon la revendication 1 caractérisé en ce que le rapport entre la puissance moyenne délivrée audit mélange par ladite décharge électrique d'entretien et le volume de ladite cavité compris entre lesdites électrodes, est inférieur à 1 Mega Watt par cm3. 3. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 1 à 2 caractérisé en ce que ladite durée (T2) est supérieure ou égale à 150 ns. 4. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 1 à 3 caractérisé en ce qu'il comporte des moyens (TRi, Cs, C4) électriques de réglage initial de l'induction et/ou du champ magnétique du matériau magnétique dudit commutateur magnétique, à une valeur prédéterminée. 5. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 1 à 4 caractérisé en ce que lesdits moyens de préionisation sont des moyens de préionisation par rayons X. 6. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 1 à 5 caractérisé en ce que ledit gaz tampon est du néon. 7. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 1 à 6 caractérisé en ce que ledit gaz apporteur de chlore est choisi parmi le chlorure d'hydrogène HC1, le BC13. 8. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 1 à 7 caractérisé en ce que la pression partielle dudit gaz apporteur de chlore dans ledit mélange est inférieure à égale à 1 pour i 000. 9. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 1 à 8 caractérisé en ce que la pression partielle de krypton dans ledit mélange est inférieure ou égale à 5 %. iO. Dispositif selon l'une quelconque des revendications i à 9 caractérisé en ce que le rapport entre la tension de charge desdits moyens d'excitation par ladite impulsion d'entretien et le produit de la distance séparant lesdites électrodes par la pression dudit mélange, est inférieur ou égal à 2 V.M-1.Pa-1.