Brevet FR2680799A1 — publié le 19930305

L'invention a trait à un élément de cible pour pulvérisation cathodique. Elle se rapporte encore à un procédé de préparation dudit élément et concerne également des cibles, notamment cibles de grande surface, réalisées à partir de cet élément. Le revêtement de matériaux divers par des couches minces à propriétés particulières connaît actuellement un développement considérable. On peut citer notamment le dépôt de couches anticorrosion sur les métaux, de couches antireflet sur les verres d'optique ou encore le dépôt de matériaux ultradurs sur des pièces mécaniques. De nombreuses méthodes ont été proposées pour la réalisation de telles couches, lesdites méthodes dépendant, entre autres, de la nature du ou des composés générateurs de la couche de revêtement. Ainsi, lorsque lesdits composés générateurs sont gazeux, on peut faire appel aux diverses méthodes de dépôt chimique en phase vapeur assisté ou non par plasma. Avec des composés générateurs liquides ou susceptibles d'être mis en solution, on peut employer des méthodes électrochimiques, s'il s'agit de déposer une couche d'un métal, ou encore utiliser des méthodes telles que celles dites de dépôt à la tournette (en anglais "spin coating") ou de dépôt par pulvérisation d'un brouillard chaud (en anglais "hot spray"). Dans le cas où la source génératrice du revêtement est un matériau solide, la méthode la plus utilisée pour réaliser le revêtement est la pulvérisation cathodique. Dans une telle méthode, le matériau solide générateur du revêtement, que l'on désigne généralement par le vocable "matériau cible" ou "cible" et qui peut être constitué par un métal ou un alliage métallique ou bien encore consister en un composé chimique inorganique à point de fusion très élevé, par exemple une céramique ou un oxyde réfractaire, est bombardé par des ions ayant une énergie suffisante pour arracher des particules du matériau cible, lesdites particules se déposent sur l'objet à revêtir en formant sur ce dernier le revêtement recherché. Pour des raisons d'homogénéité et de vitesse de croissance du dépôt formé des particules arrachées au matériau cible, il est nécessaire que la surface dudit matériau cible à déposer sur l'objet soit de taille suffisante. Dans le cas du revêtement d d'objets de grande surface, vitrages par exemple, on est ainsi conduit à utiliser des cibles de grande surface, dont la surface est avantageusement plus grande que celle de l'objet à revêtir. Si la fabrication de cibles de grande surface à partir de métaux ou d'alliages métalliques ne pose pas de problèmes, il n'en est plus de même lorsqu'il s'agit de matériaux du type des composés chimiques inorganiques à point de fusion élevé. En effet, pour de tels matériaux, la fabrication de la cible passe par la réalisation d'une céramique ou d'un produit fritté constitué desdits matériaux. La réalisation d'une céramique ou d'un produit fritté de grande surface nécessite la mise au point, au coup par coup, du procédé le plus approprié, une telle mise au point étant le plus souvent longue, difficile et par conséquent onéreuse et de plus elle doit être faite impérativement par un spécialiste. L'invention propose un élément de cible pour pulvérisation cathodique, qui permet de réaliser aisément des cibles de grande surface, ledit élément pouvant être obtenu par un procédé simple, rapide et peu coûteux qui peut être mis en oeuvre par des personnes n'ayant pas de compétences particulières dans l'art de la céramique ou du frittage. L'élément de cible pour pulvérisation cathodique, qui fait l'objet de l'invention, se caractérise en ce qu'il est constitué d'une couche d'un composé chimique inorganique à point de fusion supérieur à 300 C déposée sur une couche support consistant en une mousse ou un feutre métallique de telle sorte que la couche du composé inorganique pénètre, sur une partie au moins de son épaisseur, dans la couche support pour former avec cette dernière une couche composite, dans laquelle le composé inorganique et le support s'interpénètrent et dont l'épaisseur est inférieure ou égale à celle de la couche support. Avantageusement, l'épaisseur e de la couche composite peut représenter 10% à 100% et de préférence 50% à 100% de l'épaisseur totale es de la couche support, c'est-àdire de la somme de l'épaisseur de la partie de la couche support imprégnée de composé inorganique et de l'épaisseur de la partie de la couche support exempte de composé inorganique. En outre, l'épaisseur e de la couche composite peut représenter 10% à 100% et de préférence 20% à 80% de l'épaisseur total e c de la couche ou est présent le composé inorganique, c'est-à-dire de la somme de l'épaisseur de la partie de la couche de composé inorganique située hors du support et de l'épaisseur de la partie de la couche de composé inorganique contenue dans le support. La mousse ou le feutre métallique utilisé comme support du composé inorganique est en un métal ou alliage métallique sensiblement inerte vis à vis dudit composé inorganique.-A titre d'exemples non limitatifs de mousses ou feutres métalliques utilisables selon l'invention, on peut citer les mousses ou feutres d'or, de platine, de nickel, de titane ou de cuivre. La porosité de la mousse ou du feutre métallique peut varier assez largement et le plus souvent elle est supérieure à 90%. Le composé inorganique de l'élément de cible peut être notamment un oxyde, un sulfure, un halogénure ou un oxyhalogénure métallique dont le point de fusion est supérieur à 300 C, ledit composé inorganique dérivant d'un ou plusieurs métaux qui peuvent être ou non des métaux de transition. En particulier, le composé inorganique de l'élément de cible peut répondre à l'une ou l'autre des formules E k sP et Mg Tyn ZzP , dans lesquelles E représente au moins un métal des groupes I à VIII du Tableau Périodique des Eléments, par exemple Fe, Cu, Co, Ni, Ti, Cr, Mo, Sn, W et In, M et T désignent deux métaux différents des groupes I à VIII dudit Tableau Périodique, par exemple Li, Na, K, Ag, Cu et T1 pour M et Ni, Co, W, Mn, Fe, Cr, V et Ti pour T, Z est au moins un élément choisi parmi oxygène, soufre, fluor et chlore, les symboles k, q, n et p désignent les degrés d'oxydation moyens des éléments E, M, T et Z respectivement, Q et B désignent des nombres entiers positifs tels que ak+Bp=o et x, y et z désignent des nombres entiers positifs tels que qx+ny+pz=O. Le terme degré d'oxydation moyen, appliqué à chaque élément, traduit le fait que l'élément concerné peut avoir plusieurs degrés d'oxydation dans le composé considéré. Le composé inorganique peut être tout spécialement un oxyde et notamment un oxyde ayant l'une ou l'autre des formules Ek o2- et Mq Tyn X 4t2 , dans lesquelles E est au -Y moins un métal des groupes I à VIII du Tableau Périodique des Eléments, par exemple Fe, Cu, Co, Ni, W, Mo, Ti, Cr, Sn et In, M et T désignent deux métaux différents dudit Tableau Périodique, par exemple Li, Na, K, Ag, Cu et Tl pour M et Ni, Co, W, Mn, Cr, Fe, V et Ti pour T, les symboles k, q et n désignant les degrés d'oxydation moyens de E, M et T respectivement, a et B sont des nombres entiers positifs tels que ak - 2B = O et x, y et z désignent des nombres entiers positifs tels que qx + ny - 2z = O.Comme exemples de tels oxydes on peut citer à titre non limitatif WO M003, Cr203, TiO2, Fe2O3, Li2-v NiO2 ec O I v 5 1, LiCrO2, LiFeO2, LiW03 et Li2W04. L'élément de cible selon l'invention peut être obtenu directement sous la forme d'un élément de cible de grande surface. On peut également produire des éléments de cible ayant une surface plus petite que la surface de la cible de grande surface à obtenir et assembler ensuite une pluralité de tels éléments de cible, comme il sera décrit plus loin, pour former un élément de cible de grande surface. Un procédé pour la production d'un élément de cible selon l'invention, qu'il soit de grande surface ou de surface plus réduite, se caractérise en ce que l'on applique un système précurseur du composé inorganique choisi sur un support formé d'une couche de mousse ou de feutre métallique, on soumet l'ensemble constitué du support revêtu de la couche de système précurseur du composé inorganique à une pression allant de 0,1 MPa à 15 MPa et de préférence de 0,1 MPa à 5 MPa, on porte l'ensemble résultant à une température comprise entre 300 C et 1600 C et de préférence entre 600 C et 1200 C et propre à conduire à un frittage dudit ensemble, ladite température étant inférieure à la température de fusion du support, et maintient ledit ensemble à la température atteinte pendant une durée suffisante pour obtenir un ensemble fritté, puis on refroidit l'ensemble fritté pour le ramener à température ambiante en réalisant ce refroidissement de manière à éviter tout phénomène de trempe. Le système précurseur du composé inorganique peut consister en le composé inorganique lui même, comme c'est le cas notamment pour les composés précités de formule Ek z; et notamment pour les oxydes de formule Ek O tels que ceux mentionnés précédemment. Le système précurseur du composé inorganique peut être également formé d'un mélange d'ingrédients conduisant, par réaction chimique aux températures mentionnées ci-dessus, au composé inorganique envisagé.Ainsi, lorsque le composé inorganique consiste en un composé de formule Mxq T,n Z2P et notamment en un oxyde de formule Mq Tyn o2- , le système précurseur du composé x Y Z inorganique peut consister en un mélange, en proportions appropriées, d'un composé du métal M et d'un composé du métal T, qui sont susceptibles de réagir aux températures définies plus haut pour former le composé Mxq Tyn zzP. Par exemple, lorsque le composé inorganique est un oxyde de formule Mxq Tyn Oz2-, c'est-à-dire un oxyde mixte du type céramique, le mélange précurseur d'un tel oxyde peut consister avantageusement en un mélange d'un carbonate du métal M de formule M (CO3)22 et d'un oxyde du métal T de formule Tyn O2- Ainsi, à partir d'un mélange précurseur renfermant des quantités équimoléculaires de Li2CO3 et NiO, de Li2CO3 et Cr203, de Li2CO3 et Fe203 ou de Li2CO3 et WO3 on forme respectivement les composés inorganiques du type céramique de formules Li2Nio2, LiCrO2, LiFeO2 et Li2Wo4. Pour son application sur le support mousse ou feutre métallique, le système précurseur du composé inorganique peut se présenter sous la forme d'une poudre de granulométrie adaptée à la porosité du support. Dans ce cas, l'application du système précurseur du composé inorganique sur le support en mousse ou feutre métallique est effectuée par saupoudrage dudit support au moyen de la poudre. On peut également réaliser une pâte d'enduction en mélangeant la poudre de système précurseur avec un ou plusieurs liquides tels que l'eau ou un liquide organique ou bien encore préparer un gel à partir du système précurseur pulvérulent suivant l'une quelconque des techniques conventionnelles sol/gel, puis enduire le support en mousse ou feutre métallique au moyen de ladite pâte ou dudit gel. Comme déjà indiqué précédemment, la mousse ou le feutre métallique constituant le support est de préférence en un métal ou alliage métallique substantiellement inerte vis à vis du composé inorganique et de son système précurseur et, par exemple, en un métal tel que l'or, le platine, le titane, le cuivre ou le nickel. Lorsque l'application du système précurseur du composé inorganique sur le support est réalisée par enduction au moyen de produits humides du type pâte ou gel, l'ensemble issu de l'enduction du support par la pâte ou le gel est avantageusement soumis à une étape de séchage jusqu'à l'obtention d'un produit sensiblement sec, avant d'être soumis à l'action de la pression (étape de compression). La compression de l'ensemble formé du support revêtu du système précurseur du composé inorganique est réalisée de manière à conduire à un écrasement modéré du support en mousse ou feutre métallique. Avantageusement, ladite compression est telle que l'épaisseur de la couche de support après compression représente encore au moins 10% et de préférence au moins 50% de l'épaisseur initiale de ladite couche support. Lorsque l'ensemble comprimé est porté à la température comprise entre 300"C et 1600 C, la vitesse de montée en température est avantageusement contrôlée pour éviter les chocs thermiques susceptibles de conduire, entre autres, à une fissuration de la couche superficielle du composé inorganique. Des vitesses de montée en température allant de 0,05"C à 30"C par minute et plus particulièrement de 0,1"C à 15"C par minute conduisent à des résultats satisfaisants. De même, lors du refroidissement de l'ensemble depuis les températures entre 300"C et 1600"C jusqu'à la température ambiante, il faut éviter un refroidissement trop rapide susceptible d'entraîner une trempe de l'ensemble en cours de refroidissement. Avantageusement, on peut opérer avec des vitesses de refroidissement allant de 0,05"C à 30"C par minute et plus particulièrement de 0,1"C à 15"C par minute. L'élément de cible selon l'invention est collé, côté support en mousse ou feutre métallique, sur un substrat métallique, par exemple un substrat en laiton, en aluminium, en titane, en cuivre, en tungstène, ou en acier inoxydable, au moyen d'un adhésif conducteur de la chaleur et de l'électricité, pour constituer une cible pouvant être montée dans un dispositif de pulvérisation cathodique. Selon l'invention, on peut produire directement un élément de cible de grande surface, par exemple de l'ordre de 400cm2 à lm2, et coller ledit élément, comme indiqué cidessus, sur un substrat métallique de surface correspondante pour produire une cible de grande surface. On peut encore réaliser une cible de grande surface en produisant des éléments de cible selon l'invention ayant une surface plus petite que celle de la cible de grande surface à réaliser, puis en collant, comme indiqué plus haut, une pluralité desdits éléments de cible sur un substrat métallique de surface correspondant à celle de la cible de grande surface à produire, lesdits éléments de cible étant disposés sur le substrat de manière jointive pour couvrir sur ce substrat une surface correspondant à celle désirée pour la cible de grande surface. Avantageusement, pour les cibles de petite, moyenne ou grande surface obtenues par collage, réalisé comme indiqué précédemment, d'un ou plusieurs éléments de cible sur un substrat métallique de surface appropriée, le substrat métallique présente une surface dont le contour entoure le contour de l'élément de cible unique ou de l'élément de cible résultant de la juxtaposition jointive d'éléments de cible de petite surface, lesdits contours étant de préférence parallèles entre eux, de manière à définir, sur la face du substrat métallique sur laquelle le ou les éléments de cible sont collés, une zone marginale entourant l'élément de cible.Dans cette zone marginale peuvent déboucher des orifices traversant le substrat métallique et destinés au passage d'organes de fixation, par exemple vis ou autres, permettant de fixer la cible sur un organe support appartenant au dispositif de pulvérisation cathodique. Sur le dessin annexé, les figures la et lb montrent schématiquement une vue de dessus (figure la) et une coupe longitudinale (figure lb) d'une cible de grande surface obtenue à partir d'un seul élément de cible ayant une grande surface et les figures 2a et 2b représentent schématiquement une vue de dessus (figure 2a) et une coupe longitudinale (figure 2b) d'une cible de grande surface obtenue à partir d'une pluralité d'éléments de cible de surface plus petite. En se référant aux figures la et lb, une cible 1 de grande surface comporte un élément de cible 2 de grande surface ayant la forme d'un rectangle, ledit rectangle ayant par exemple une longueur de 30cm et une largeur de 20cm. L'élément 2 est solidarisé par une couche 3 d'un adhésif conducteur de la chaleur et de l'électricité, par exemple une colle conductrice époxy bicomposante renfermant de l'argent, à un substrat métallique 4 ayant des dimensions légèrement supérieures à celles de l'élément rectangulaire 2 de telle sorte que le contour formé des bords 5 à 8 du substrat métallique rectangulaire 4 entoure le contour formé des bords 9 à 12 de l'élément rectangulaire de cible 2 et lui soit parallèle, de manière à définir sur la face 13 du substrat métallique sur laquelle l'élément 2 est collé, une zone marginale 14 entourant ledit élément 2.Dans cette zone marginale débouchent des orifices tels que 15 traversant le substrat métallique et destinés au passage d'organes de fixation, par exemple vis ou autres, permettant de monter la cible 1 sur un organe support appartenant au dispositif de pulvérisation cathodique. L'élément de cible 2 est un élément selon l'invention constitué d'une couche 16 d'un composé inorganique à point de fusion supérieur à 300 C, notamment céramique ou oxyde réfractaire, solidaire d'une couche composite 17 formée d'une mousse ou d'un feutre métallique et dudit composé inorganique de telle sorte que la mousse ou le feutre métallique et le composé inorganique s'interpénètrent dans toute l'épaisseur de ladite couche composite, la couche 16 pouvant revêtir également les chants de la couche composite 17. En se référant aux figures 2a et 2b, une cible 21 de grande surface comporte un élément de cible 22 de grande surface, qui a la forme d'un rectangle, par exemple rectangle de 30cm de longueur et de 20cm de largeur, et résulte de la juxtaposition jointive de six éléments de cible 36 à 41 ayant chacun la forme d'un carré, par exemple de lOcm de côté.Les éléments de cible 36 à 41 qui constituent l'élément de cible 22 sont solidarisés par une couche 23 d'un adhésif conducteur de la chaleur et de l'électricité, par exemple une colle conductrice époxy bicomposante renfermant de l'argent, à un substrat métallique 24 ayant des dimensions légèrement supérieures à celles de l'élément rectangulaire 22 de telle sorte que le contour formé des bords 25 à 28 du substrat métallique 24 rectangulaire entoure le contour formé des bords 29 à 32 de l'élément rectangulaire 22 et lui soit parallèle, de manière à définir sur la face 33 du substrat métallique sur laquelle les éléments de cible 36 à 41 formant l'élément 22 sont collés, une zone marginale 34 entourant ledit élément 22. Dans cette zone marginale débouchent des orifices tels que 35 traversant le substrat métallique et destinés au passage d'organes de fixation, par exemple vis ou autres, permettant de monter la cible 21 sur un organe support appartenant à un dispositif de pulvérisation cathodique. Les éléments de cible 36 à 41, dont l'assemblage jointif conduit à l'élément 22 de grande surface, sont des éléments selon l'invention constitués chacun d'une couche 16 d'un composé inorganique à point de fusion supérieur à 300 C, notamment céramique ou oxyde réfractaire, solidaire d'une couche composite 17 formée d'une mousse ou d'un feutre métallique et dudit composé inorganique de telle sorte que la mousse ou le feutre métallique et le composé inorganique s'interpénètrent dans toute l'épaisseur de la couche composite, la couche 16 pouvant revêtir également les chants de la couche composite 17. L'utilisation d'un support formé d'une mousse ou d'un feutre métallique, pour constituer les éléments de cible selon l'invention, permet d'obtenir aisément une bonne tenue mécanique de la cible. L'invention est illustrée par les exemples suivants, donnés à titre non limitatif. EXEMPLE 1 Elément de cible oxyde d'indium/oxvde d'étain et cible correspondante Dans un mortier on plaçait 14g d'oxyde d'indium In203 et lg d'oxyde d'étain SnO2, lesdits oxydes étant sous la forme de poudres de granulométrie comprise entre 10jm et 100jm. Au contenu du mortier on ajoutait alors 10g d'eau, puis on mélangeait le tout jusqu'à l'obtention d'une pâte homogène. Une plaque en forme de carré de lOcm de côté était découpée dans une feuille de mousse d'or présentant une masse surfacique égale à 1 kg/m2 et une épaisseur comprise entre 1,7 et 2mm et l'on enduisait l'une des faces de la plaque de mousse au moyen de la pâte précitée en utilisant une spatule pour effectuer cette enduction. Ladite enduction était poursuivie jusqu'à ce que la mousse ne fût plus apparente. L'ensemble résultant de l'enduction était alors soumis à une opération de séchage par maintien dans une étuve à 110"C pendant 1 heure. L'ensemble séché était ensuite placé sous une presse et comprimé à température ambiante sous cette presse pendant une minute sous l'action d'une pression égale à 1 MPa.L'ensemble comprimé était alors placé dans un four et soumis dans ce four à un traitement thermique comportant une montée de la température du four depuis la température ambiante jusqu'à 950 C avec une vitesse de 5 C/minute, puis un maintien de ladite température de 950"C pendant 6 heures et enfin un abaissement de la température du four de 950 C jusqu'à la température ambiante avec une vitesse de 5 C/minute. Les diverses opérations précitées étaient réalisées sous une atmosphère d'air atmosphérique (atmosphère ambiante). A l'issue du traitement thermique, on obtenait un ensemble constituant l'élément de cible d'oxyde d'indium/oxyde d'étain et formé d'une couche d'oxyde mixte d'indium et d'étain, d'épaisseur égale à 2mm, solidaire d'une couche composite, d'épaisseur égale à lmm, dans laquelle la mousse d'or et l'oxyde mixte d'indium et d'étain s'interpénètrent sur la totalité de l'épaisseur de la couche de mousse. L'élément de cible, obtenu comme décrit ci-dessus, était collé sur un substrat d'acier inoxydable en forme de carré de 12cm de côté, à l'aide d'une colle conductrice époxy bicomposante à l'argent, de manière à laisser apparente, sur la face du substrat portant l'élément cible, une bande marginale de lcm de largeur, dans laquelle on perçait des orifices pour le passage d'organes de fixation tels que des vis. On obtenait alors une cible ayant une structure comparable à celle schématisée sur les figures la et lb, ladite cible ayant une surface utile (surface de l'élément de cible) de 100cm2. La cible ainsi réalisée a été utilisée en pulvérisation cathodique pour la production d'un dépôt mince transparent d'oxyde mixte d'indium et d'étain sur un support de verre, ledit dépôt étant utilisable dans divers systèmes électrochromes, notamment, comme électrode transparente. Le dépôt mince transparent obtenu avec cette cible a été analysé et l'on a noté l'absence d'or dans le dépôt, ce qui indique que la mousse servant de support à l'oxyde mixte n'apparaît pas à la surface. EXEMPLE 2 Eléments de cible oxvde d'indium/oxvde d'étain et cible correspondante de grande surface En opérant comme décrit dans l'exemple 1, on préparait des éléments de cible d'oxyde d'indium/oxyde d'étain ayant chacun une surface de 100cm2, lesdits éléments ayant la structure indiquée dans l'exemple 1. Six éléments de cible ainsi obtenus étaient collés jointivement, côté mousse métallique, sur un substrat d'acier inoxydable en forme de rectangle de 34cm de longueur et 24cm de largeur, à l'aide d'une colle conductrice époxy bicomposante renfermant de l'argent, de manière à occuper sur le substrat une surface en forme de rectangle de 30cm de longueur et 20cm de largeur et à laisser apparente, sur la face du substrat portant les éléments de cible, une bande marginale de 2cm de largeur, dans laquelle on perçait des orifices pour le passage d'organes de fixation tels que des vis. On obtenait alors une cible de grande surface ayant une structure comparable à celle schématisée sur les figures 2a et 2b, ladite cible ayant une surface utile (surface occupée par l'ensemble des éléments de cible) de 600cm2. La cible ainsi réalisée a été utilisée en pulvérisation cathodique à courant continu pour la production d'un dépôt mince transparent d'oxyde mixte d'indium et d'étain sur un support en verre de grande surface. Le dépôt mince transparent obtenu ne renfermait pas de trace d'or. EXEMPLE 3 Elément de cible d'oxvde de tungstène et cible correspondante On opérait comme décrit dans l'exemple 1, en remplaçant toutefois les oxydes d'indium et d'étain par de l'oxyde de tungstène W03 sous la forme d'une poudre de granulométrie comprise entre 10tir et 100pu, ledit oxyde étant employé en quantité égale à 10g, et en utilisant seulement 5g d'eau pour former la pâte d'oxyde de tungstène. A l'issue du traitement thermique, on obtenait un ensemble constituant l'élément de cible d'oxyde de tungstène et formé d'une couche d'oxyde de tungstène WO3, d'épaisseur égale à 2mm, solidaire d'une couche composite, d'épaisseur égale à lmm, dans laquelle la mousse d'or et WO3 s'interpénètrent sur la totalité de l'épaisseur de la couche de mousse. L'élément de cible ci-dessus était collé, côté mousse, comme décrit dans l'exemple 1 sur un substrat de tungstène en forme de carré de 12cm de côté. On obtenait alors une cible ayant une structure comparable à celle schématisée sur les figures la et lb, ladite cible ayant une surface utile de 100cm2. EXEMPLE 4 Elément de cible d'oxvde mixte de lithium et nickel et cible correspondante Dans un mortier on plaçait 3,7g de carbonate de lithium Li2CO3 et 7,5g d'oxyde de nickel Nio, lesdits carbonate et oxyde se présentant sous la forme de poudres de granulométrie comprise entre 10ym et 100ssm, et l'on mélangeait le tout jusqu'à obtenir un produit homogène. Une plaque en forme de carré de 10cm de côté était découpée dans une feuille de mousse de cuivre présentant une masse surfacique égale à 0,5kg/m2 et une épaisseur d'environ 2mm et l'on dispersait le mélange pulvérulent de Li2CO3 et de Nio sur l'une des faces de la plaque de mousse. L'ensemble résultant était ensuite placé sous une presse et comprimé à température ambiante sous cette presse pendant cinq minutes sous l'action d'une pression égale à 1,5 MPa. L'ensemble comprimé était alors placé dans un four et était soumis dans ce four à un traitement thermique comportant une montée de la température du four depuis la température ambiante jusqu'à 400"C avec une vitesse de 10"C par minute, puis un maintien de ladite température pendant 6 heures pour décomposer complètement le carbonate de lithium, ensuite une montée de la température du four jusqu'à 850 C avec une vitesse de 10 C/minute puis maintien de ladite température pendant 6 heures et enfin un abaissement de la température du four de 850 C jusqu'à la température ambiante avec une vitesse de 10 C/minute environ. Les diverses opérations précitées étaient réalisées sous une atmosphère d'air atmosphérique. A l'issue du traitement thermique, on obtenait un ensemble constituant l'élément de cible d'oxyde mixte de lithium et de nickel de formule Li Ni 02, ledit ensemble étant formé d'une couche d'oxyde mixte Li Nio2 d'épaisseur égale à 2mm, solidaire d'une couche composite, d'épaisseur égale à lmm, dans laquelle la mousse de cuivre et l'oxyde mixte Li NiO2 s'interpénètrent sur la totalité de la couche de mousse. L'élément de cible obtenu était collé, côté mousse, comme décrit dans l'exemple 1 sur un substrat de laiton en forme de carré de 12 cm de côté. On obtenait alors une cible ayant une structure comparable à celle schématisée sur les figures la et lb, ladite cible ayant une surface utile de 100cl2. La cible ainsi réalisée a été utilisée en pulvérisation cathodique à courant continu pour la production d'un dépôt mince d'oxyde mixte de lithium et de nickel sur un substrat. Le dépôt mince obtenu ne renfermait pas de trace de cuivre, ce qui indique que la mousse servant de support n'apparaît pas à la surface de l'élément cible. EXEMPLE 5 Elément de cible d'oxyde mixte de lithium et de chrome et cible correspondante On opérait comme décrit dans l'exemple 4, en remplaçant toutefois l'oxyde de nickel par 7,6g d'oxyde de chrome Cr203 et la mousse de cuivre par une mousse de nickel de masse L, surfacique égale à 0,5 kg/m2 et d'épaisseur 2mm environ. A l'issue du traitement thermique, on obtenait un ensemble constituant l'élément de cible d'oxyde mixte de lithium et de chrome, ledit ensemble étant formé d'une couche d'oxyde mixte de lithium et de chrome, d'épaisseur égale à 3mm, solidaire d'une couche composite, d'épaisseur égale à lmm, dans laquelle la mousse de nickel et l'oxyde mixte de lithium et de chrome s'interpénètrent dans toute l'épaisseur de la couche de mousse. L'élément de cible obtenu était collé, côté mousse, comme indiqué dans l'exemple 1 sur une plaque de laiton en forme de carré de 12cm de côté. On obtenait alors une cible ayant une structure comparable à celle schématisée sur les figures la et lb, ladite cible ayant une surface utile de 100cl2. La cible ainsi réalisée a été utilisée en pulvérisation cathodique pour la production d'un dépôt mince d'oxyde mixte de lithium et de chrome sur un substrat. Le dépôt mince obtenu ne renfermait pas de trace de nickel, ce qui indique que la mousse servant de support n'apparaît pas à la surface de l'élément de cible. EXEMPLE 6 Elément de cible d'oxyde mixte de lithium et de fer et cible correspondante On opérait comme décrit dans l'exemple 4 avec toutefois les modifications suivantes on utilisait 8g d'oxyde de fer Fe203 à la place de l'oxyde de nickel, on remplaçait la mousse de cuivre par une mousse d'or ayant une masse surfacique de lkg/m2 et une épaisseur de 2mm environ, et on portait la température du four, après décomposition du carbonate de lithium, à la valeur de 950 C. A l'issue du traitement thermique, on obtenait un ensemble constituant l'élément de cible d'oxyde mixte de lithium et de fer, ledit ensemble étant formé d'une couche d'oxyde mixte de lithium et de fer, d'épaisseur égale à 2,5mm, solidaire d'une couche composite, d'épaisseur égale à lmm, dans laquelle la mousse d'or et l'oxyde mixte de lithium et de fer s'interpénètrent sur toute l'épaisseur de la couche de mousse. L'élément de cible obtenu était collé, côté mousse, comme indiqué dans l'exemple 1 sur une plaque d'aluminium en forme de carré de 12 cm de côté. On obtenait alors une cible ayant une structure comparable à celle schématisée sur les figures la et lb, ladite cible ayant une surface utile de 100cl2. La cible ainsi réalisée a été utilisée en pulvérisation cathodique pour la production d'un film mince d'oxyde mixte de lithium et de fer. Le film mince obtenu ne renfermait pas de trace d'or. EXEMPLE 7 Eléments de cible d'oxvde mixte de lithium et de tungstène et cibles correspondantes On effectuait deux essais (A et B) de production d'éléments de cible d'oxyde mixte de lithium et de tungstène en opérant comme décrit dans l'exemple 5, mais en remplaçant toutefois le mélange de carbonate de lithium et d'oxyde de chrome par un mélange pulvérulent ayant une granulométrie comprise en 10ym et 100pm et renfermant 3,7g de carbonate de lithium et 46g de WO3 dans le cas de l'essai A et 7,4g de carbonate de lithium et 46g de WO3 dans le cas de l'essai B. A l'issue du traitement thermique, on obtenait des ensembles constituant les éléments de cible d'oxyde mixte de lithium et de tungstène, lesdits ensembles étant formés, chacun, d'une couche d'oxyde mixte de lithium et de tungstène, d'épaisseur égale à 2mm (essai A) ou 2,5mm (essai B), solidaire d'une couche composite, d'épaisseur égale à lmm (essai A et essai B), dans laquelle la mousse de nickel et l'oxyde mixte de lithium et de tungstène s'interpénètrent et dont l'épaisseur représente la totalité de l'épaisseur de la couche de mousse. Chacun des éléments de cible obtenus était collé, côté mousse, comme indiqué dans l'exemple 1 sur une plaque de tungstène en forme de carré de 12cm de côté. On obtenait des cibles ayant une structure comparable à celle schématisée sur les figures la et lb, lesdites cibles ayant une surface utile de 100cm2. REVENDICATIONS 1 - Elément de cible (2,22) pour pulvérisation cathodique caractérisé en ce qu'il est constitué d'une couche (16) d'un composé chimique inorganique à point de fusion supérieur à 300 C déposée sur une couche support consistant en une mousse ou un feutre métallique de telle sorte que la couche du composé inorganique pénètre, sur une partie au moins de son épaisseur, dans la couche support pour former avec cette dernière une couche composite (17), dans laquelle le composé inorganique et le support s'interpénètrent et dont l'épaisseur est inférieure ou égale à celle de la couche support. 2 - Elément de cible selon la revendication 1, caractérisé en ce que l'épaisseur e de la couche composite représente 10% à 100% et de préférence 50% à 100% de l'épaisseur totale es de la couche support. 3 - Elément de cible selon la revendication 1 ou 2, caractérisé en ce que l'épaisseur e de la couche composite représente 10% à 100% et de préférence 20% à 80% de l'épaisseur totale e c de la couche où est présent le composé inorganique. 4 - Elément de cible selon l'une des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que la mousse ou le feutre métallique utilisé comme support du composé inorganique est en un métal ou alliage métallique sensiblement inerte vis à vis dudit composé inorganique. 5 - Elément de cible selon l'une des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que le support du composé inorganique est en une mousse ou un feutre d'or, de platine, de nickel, de titane ou de cuivre. 6 - Elément de cible selon l'une des revendications 1 à 5, caractérisé en ce que la mousse ou le feutre métallique a une porosité supérieure à 90%. 7 - Elément de cible selon l'une des revendications 1 à 6, caractérisé en ce que le composé inorganique est un oxyde, un sulfure, un halogénure ou un oxyhalogénure métallique dont le point de fusion est supérieur à 300 C, ledit composé inorganique dérivant d'un ou plusieurs métaux qui sont ou non des métaux de transition. 8 - Elément de cible selon l'une des revendications 1 à 6, caractérisé en ce que le composé inorganique répond à l'une ou l'autre des formules E&alpha;k Zssp et Mxq Tyn ZzP, dans x Y z lesquelles E représente au moins un métal des groupes I à VIII du Tableau Périodique des Eléments, par exemple Fe, Cu, Co, Ni, Ti, Cr, Mo, W, Sn et In, M et T désignent deux métaux différents des groupes I à VIII dudit Tableau Périodique, par exemple Li, Na, K, Ag, Cu et Tl pour M et Ni, Co, W, Mn, Fe, Cr, V et Ti pour T, Z est au moins un élément choisi parmi oxygène, soufre, fluor et chlore, les symboles k, q, n et p désignent les degrés d'oxydation moyens des éléments E, M, T et Z respectivement, a et B désignent des nombres entiers positifs tels que ak+Bp=o et x, y et z désignent des nombres entiers positifs tels que qx+ny+pz=o. 9 - Elément de cible selon l'une des revendications 1 à 6, caractérisé en ce que le composé inorganique est un oxyde et notamment un oxyde répondant à l'une ou l'autre des formules Ek O2 et Mxq Tyn Oz2-, dans lesquelles E est x -LS au moins un métal des groupes I à VIII du Tableau Périodique des Eléments, par exemple Fe, Cu, Co, Ni, W, Mo, Ti, Cr, Sn et In, M et T désignent deux métaux différents dudit Tableau Périodique, par exemple Li, Na, K, Ag, Cu et T1 pour M et Ni, Co, W, Mn, Cr, Fe, V et Ti pour T, les symboles k, q et n désignant les degrés d'oxydation moyens de E, M et T respectivement, a et B sont des nombre entiers positifs tels que ak-2B=o et x, y et z désignent des nombres entiers positifs tels que qx+ny-2 z=o. 10- Procédé de préparation d'un élément de cible selon la revendication 1, caractérisé en ce que l'on applique un système précurseur d'un composé inorganique à point de fusion supérieur à 300"C sur un support formé d'une couche de mousse ou de feutre métallique, on soumet l'ensemble constitué du support revêtu de la couche de système précurseur du composé inorganique à une pression allant de 0,1 MPa à 15 MPa, on porte l'ensemble résultant à une température comprise entre 300 C et 1600"C et propre à conduire à un frittage dudit ensemble, ladite température étant inférieure à la température de fusion du support, et maintient l'ensemble à la température atteinte pendant une durée suffisante pour obtenir un ensemble fritté, puis on refroidit l'ensemble fritté pour le ramener à température ambiante en réalisant ce refroidissement de manière à éviter tout phénomène de trempe. 11- Procédé selon la revendication 10, caractérisé en ce que la pression à laquelle est soumis l'ensemble formé du support revêtu de la couche de système précurseur du composé inorganique va de 0,1 MPa à 5 MPa. 12- Procédé selon la revendication 10 ou 11, caractérisé en ce que la température à laquelle est porté et maintenu l'ensemble après l'action de la pression est comprise entre 600"C et 1200 C. 13- Procédé selon l'une des revendications 10 à 12, caractérisé en ce que le système précurseur du composé inorganique renferme le composé inorganique lui même, ledit composé étant en particulier un composé de formule E k zpP , dans laquelle E représente au moins un métal des groupes I à VIII du Tableau Périodique des Eléments, par exemple Fe, Cu, Co, Ni, Ti, Cr, Mo, W, Sn et In, Z est au moins un élément choisi parmi oxygène, soufre, fluor et chlore, les symboles k et p désignent les degrés d'oxydation moyens des éléments E et Z respectivement et a et ss sont des nombres entiers positifs tels que ak+ssp=o. 14- Procédé selon l'une des revendications 10 à 12, caractérisé en ce que le système précurseur du composé inorganique renferme le composé inorganique lui même, ledit composé étant un oxyde et notamment un oxyde de formule E k oa2-, dans laquelle E est au moins un métal des groupes I à VIII du Tableau Périodique des Eléments, par exemple Fe, Cu, Co, Ni, W, Mo, Ti, Cr, Sn et In, le symbole k désigne le degré d'oxydation moyen du métal E et a et ss sont des nombres entiers positifs tels que ak 2ss=o. 15- Procédé selon l'une des revendications 10 à 12, caractérisé en ce que le système précurseur du composé inorganique est formé d'un mélange d'ingrédients conduisant, par réaction chimique aux températures choisies pour le frittage, au composé inorganique désiré. 16- Procédé selon la revendication 15, caractérisé en ce que le composé inorganique est un composé de formule Mxq Tyn ZzPt dans laquelle M et T désignent deux métaux différents des groupes I à VIII du Tableau Périodique des Eléments, par exemple Li, Na, K, Ag, Cu et Tl pour M et Ni, Co, W, Mn, Fe, Cr, V et Ti pour T, Z est au moins un élément choisi parmi oxygène, soufre, fluor et chlore, les symboles q, n et p désignent les degrés d'oxydation moyens des éléments M, T et Z respectivement et x, y et z désignent des nombres entiers positifs tels que qx+ny+pz=o et en ce que le système précurseur du composé inorganique consiste en un mélange, en proportions appropriées, d'un composé du métal M et d'un composé du métal T, qui sont susceptibles de réagir aux températures entre 300"C et 1600"C pour former le composé Mq T,n ZP. z 17- Procédé selon la revendication 16, caractérisé en ce que le composé inorganique est un oxyde et notamment un oxyde de formule Mq Tyn OZ-, dans laquelle M, T, q et n ont les significations données dans la revendication 16 et x, y et z sont des nombres entiers positifs tels que qx+ny-2z=o, et en ce que le système précurseur dudit composé inorganique consiste en un mélange d'un carbonate du métal M de formule Mxq (CO3)2X et d'un oxyde Tn Ony du métal T. 18- Procédé selon l'une des revendications 10 à 17, caractérisé en ce que le système précurseur du composé inorganique se présente sous la forme d'une poudre de granulométrie adaptée à la porosité du support et en ce que l'application du système précurseur sur le support est effectué par saupoudrage dudit support au moyen de ladite poudre. 19- Procédé selon l'une des revendications 10 à 17, caractérisé en ce que le système précurseur du composé inorganique se présente sous la forme d'une pâte d'enduction, obtenue en mélangeant le système précurseur en poudre avec un ou plusieurs liquides tels que l'eau ou un liquide organique, ou bien sous la forme d'un gel, obtenu à partir du système précurseur pulvérulent par une technique sol/gel, et en ce que l'application du système précurseur sur le support est effectuée par enduction au moyen de ladite pâte ou dudit gel. 20- Procédé selon la revendication 19, caractérisé en ce que l'ensemble issu de l'enduction du support par la pâte ou le gel est soumis à une étape de séchage jusqu'à obtenir un produit sensiblement sec, avant d'être soumis à l'action de la pression. 21- Procédé selon l'une des revendications 10 à 20, caractérisé en ce que l'action de la pression sur l'ensemble formé du support revêtu du système précurseur du composé inorganique est réalisée de telle sorte que l'épaisseur de la couche support après ladite action représente encore au moins 10% et de préférence au moins 50% de l'épaisseur initiale de ladite couche support. 22- Procédé selon l'une des revendications 10 à 21, caractérisé en ce que l'ensemble soumis à l'action de la pression est ensuite porté à la température comprise entre 300 C et 1600"C avec une vitesse allant de 0,05"C à 30"C par minute et de préférence de 0,1"C à 15"C par minute. 23- Procédé selon l'une des revendications 10 à 22, caractérisé en ce que le refroidissement de l'ensemble fritté depuis la température comprise entre 300"C et 1600"C jusqu'à la température ambiante est réalisé avec une vitesse allant de 0,05"C à 30"C par minute et de préférence de 0,1"C à 15"C par minute. 24- Cible pour pulvérisation cathodique consistant en un élément de cible (2,22) selon l'une des revendications 1 à 9 collé, côté support, sur un substrat métallique (4,24), par exemple substrat en laiton, aluminium, cuivre, titane, tungstène, ou acier inoxydable, au moyen d'un adhésif (3,23) conducteur de la chaleur et de l'électricité, notamment un adhésif consistant en une colle conductrice époxy bicomposante renfermant de l'argent. 25- Cible selon la revendication 24, caractérisée en ce qu'elle consiste en un élément de cible (2) de grande surface collé sur un substrat métallique (4) de surface correspondante. 26- Cible selon la revendication 24, caractérisée en ce qu'elle se présente sous la forme d'une cible de grande surface consistant en une pluralité d'éléments de cible (36,37,38) de surface inférieure à celle de ladite cible, qui sont collés sur un substrat métallique (24) de surface correspondant à celle de la cible de grande surface en étant disposés sur ledit substrat de manière jointive pour couvrir sur ce substrat une surface correspondant à la surface désirée pour la cible de grande surface. 27- Cible selon l'une des revendications 24 à 26, caractérisée en ce que le substrat métallique (4,24) présente une surface dont le contour entoure le contour de l'élément de cible unique (2) ou de l'élément de cible (22) résultant de la juxtaposition jointive d'éléments de cible (36,37,38) de petite surface, lesdits contours étant de préférence parallèles entre eux, de manière à définir, sur la face du substrat métallique sur laquelle le ou les éléments de cible sont collés, une zone marginale (14,34) entourant l'élément de cible (2,22). 28- Cible selon la revendication 27, caractérisée en ce que dans ladite zone marginale (14,34) débouchent des orifices (15,35) traversant le substrat métallique et destinés au passage d'organes de fixation permettant de fixer la cible à un organe support appartenant à un dispositif de pulvérisation cathodique.