Brevet FR2674684A1 — publié le 19921002

- Procédé de réalisation d'un composant semiconducteur tel qu'un laser à ruban enterré La présente invention concerne notamment la réalisation d'un laser semiconducteur du type à ruban enterré La structure semiconductrice d'un tel laser est internationalement désignée par l'appellation "buried heterojunction" (BH). Un procédé connu de fabrication d'un tel laser comporte des étapes dites de croissance de couches au cours desquelles on fait crottre l'épaisseur de couches semiconductrices par dépÈt épitaxial du matériau de ces couches Il peut être succinctement décrit de la manière suivante (cf figure 1). Croissance de couches semiconductrices à composition binaire, puis quaternaire, puis binaire sur un substrat On réalise ainsi une double hétérostructure.15 Croissance d'une couche de contact de composition ternaire ayant une énergie de bande interdite plus faible que la couche de composition binaire précédente. Définition d'un ruban laser dans la couche à composition quaternaire par gravure chimique à partir de la face supérieure du substrat en utilisant un masque diélectrique. Croissance de deux couches semiconductrices latérales pour entourer et enterrer le ruban laser. Prise de contact localisé à travers une fenêtre formée au dessus du ruban laser dans une couche diélectrique préalablement déposée pour cela sur la face supérieure du substrat. L'étape de croissance de couches latérales fait appel de manière traditionnelle aux méthodes de croissance dites "sélectives". Celles-ci peuvent présenter divers inconvénients tels qu'un rendement limité Mais elles permettent la croissance localisée de couches sur30 le matériau semiconducteur sans dép 8 t au-dessus du ruban laser Il faut pour cela que le masque qui a été utilisé pour la définition de ce ruban soit conservé pendant cette étape de croissance Cette dernière est effectuée à des températures supérieures à 5000 C C'est pourquoi on utilise un masque diélectrique formé par dépôt et gravure35 d'une couche diélectrique. 2 - Ce procédé connu est par exemple décrit dans un article de HIRAO, M et ai "Long wavelength In Ga As P/In P buried heterostructure laser", J Opt commun, 1980, 1, pp 10-14. Il est connu par ailleurs que les lasers semiconducteurs présentent parfois une dégradation de leurs propriétés au cours du temps et que cette dégradation peut résulter d'une pollution en cours de fabrication. De plus la formation d'une fenêtre de prise de contact pour permettre l'injection localisée de courant dans le ruban laser fait appel à au moins une étape de photolithogravure nécessitant un réalignement délicat. La présente invention a notamment les buts suivants simplifier un procédé de réalisation d'un composant semiconducteur pouvant être d'un type à ruban enterré, permettre d'utiliser, dans le cadre de ce procédé, des méthodes de croissance à rendement élevé, diminuer les risques de pollution au cours de la formation de la structure semiconductrice de ce composant, éviter les difficultés d'un réalignement pour la prise d'un contact sur ce composant, et, de manière générale, permettre d'utiliser, dans le cadre de ce procédé, des méthodes susceptibles de présenter des avantages par rapport aux méthodes précédemment employées. Selon cette invention, après une gravure qui délimite une protubérance en relief sur une couche de confinement, des couches latérales qui doivent entourer cette protubérance sont formées par une méthode de croissance non sélective qui réalise un dépôt non seulement à côté de cette protubérance mais aussi au-dessus de celle-ci en créant une saillie parasite On forme ensuite une couche auxiliaire de localisation en surface de ces couches latérales et de cette saillie. Puis on utilise cette saillie pour former dans cette couche une fenêtre de localisation de contact dont les contours sont définis par ceux de cette saillie Dans un mode de réalisation cette saillie peut être éliminée par attaque à travers cette fenêtre Dans tous les cas cette fenêtre permettra ultérieurement de localiser un contact 3 - électrique au-dessus de cette protubérance. Cette protubérance peut notamment être constituée par le ruban laser d'un laser semiconducteur. La suppression des opérations de formation d'un masque diélectrique simplifie la réalisation du composant L'absence d'un tel masque évite les perturbations qu'il pourrait apporter au cours de la formation des couches latérales et qui résultent notamment du fait que le matériau diélectrique utilisé peut d'une part se décomposer partiellement d'autre part laisser échapper des éléments polluants qui10 sont parfois piégés dans des pores de ce matériau Ceci diminue les risques de dégradation des propriétés du composant Par ailleurs, les méthodes de croissance non sélectives permettent une élévation du rendement du procédé. Un autre avantage de l'invention résulte du fait que l'association entre l'élimination de la saillie et la formation de la fenêtre de localisation de courant assure simplement et automatiquement l'alignement de cette fenêtre sur la protubérance, cet avantage se traduit par le fait qu'il n'est pas nécessaire d'utiliser des moyens de lithographie pour réaliser cet alignement, ce qui d'une20 part diminue sensiblement le coût de la fabrication, d'autre part élimine des imprécisions d'alignement qui nuiraient aux performances du composant réalisé Dans l'industrie des semiconducteurs des alignements ont déjà été réalisés de manière automatique selon des méthodes dites d'auto- alignement Dans les méthodes d'auto-alignement25 connues aucune fenêtre de localisation n'est formée par simple élimination d'une saillie. A l'aide des figures schématiques ci-jointes, on va décrire ci-après comment la présente invention peut être mise en oeuvre, étant entendu que les éléments et dispositions mentionnés et représentés ne30 le sont qu'à titre non limitatif Lorsqu'un même élément est représenté sur plusieurs figures il y est désigné par le même signe de référence Lorsqu'une couche a été désignée par un numéro de référence une fraction de cette couche peut être désignée par le même numéro de référence complété par la lettre A.35 Les figures l A à 1 G représentent des vues en coupe d'un substrat -4- semiconducteur après des étapes successives de la réalisation d'un laser par un procédé connu. Les figures 2 à 11 représentent des vues en coupe d'un substrat semiconducteur après des étapes successives de la réalisation d'un laser par un procédé selon la présente invention. La figure 12 représente une vue en coupe d'un substrat semiconducteur après une étape de la réalisation d'un laser selon une variante du procédé des figures 2 à 11. On va d'abord décrire ledit procédé connu Cette description a pour seul but de permettre d'apercevoir ultérieurement les différences entre ce procédé et la présente invention Elle sera donc sommaire. Selon ce procédé, on réalise, sur un substrat non représenté, une couche de confinement inférieure constituée de phosphure d'indium In P dopé n Sur cette couche, après diverses opérations connues et sans rapport avec la présente invention, on dépose une couche active de composition quaternaire 102, une couche de confinement supérieure 103 constituée d'In P dopé p (Fig l A), et une couche de contact 104 de composition ternaire. On forme, par dép 8 t et gravure d'une couche diélectrique, un masque diélectrique 150 (Fig 1 B). Une gravure chimique permet ensuite de définir un ruban laser 102 A constitué par la fraction subsistante de la couche active 102 (Fig 1 C) et surmonté par les couches partielles 103 A et 104 A. Une méthode de croissance sélective permet ensuite de réaliser la croissance de couches latérales de bloquage 106 et 107, la présence du masque 150 empêchant que le dép 8 t se fasse aussi au-dessus du ruban 102 A (Fig ID) Ce masque est ensuite enlevé (Fig 1 E) On dépose ensuite une nouvelle couche diélectrique 152 qui constitue une couche de localisation de contact (Fig 1 F) On forme une fenêtre 153 dans cette couche au-dessus du ruban laser 102 A par des procédés de photolithogravure qui sont bien connus mais qui nécessitent de positionner un masque avec une grande précision L'erreur de position acceptable est en effet de 0,5 micromètre environ. Le positionnement de ce masque constitue le réalignement précédemment mentionné. -5- On dépose ensuite une couche métallique 154 qui prend un contact localisé sur la couche de contact fractionnaire 104 A. Le procédé selon l'invention comporte diverses étapes qui sont communes, quant aux fonctions indiquées, à ce procédé et au procédé connu qui vient d'être sommairement décrit Pour faire mieux apparaître par la suite les différences essentielles entre ces deux procédés on va tout d'abord décrire ces étapes communes de manière générale en se référant aux figures 2 à 11. Dans le cadre de ces étapes communes le procédé selon la présente invention comporte d'abord une étape de formation d'une couche de confinement inférieure 1 constituée d'un matériau de base semiconducteur d'un premier type de conductivité Il comporte ensuite notamment les étapes suivantes (voir figure 2): Croissance d'une couche active 2 constituée d'un matériau actif. Croissance d'une couche de confinement supérieure 3 constituée dudit matériau de base présentant le deuxième type de conductivité. Croissance d'une couche de contact supérieure 4 constituée d'un matériau de contact. Gravure de définition de ruban (voir figure 3) Cette gravure élimine localement au moins les couches active et de confinement supérieure en creusant deux vallées telles que 20 de part et d'autre d'un ruban laser 2 A constitué par une portion restante de cette couche active Ce ruban et les couches qui le surmontent forment un plateau 22 qui subsiste en relief entre ces deux vallées. Croissance de couches latérales 6, 7 pour entourer ce ruban laser (voir figure 4). Formation d'une couche auxiliaire de localisation 32 en surface desdites couches latérales et de confinement (voir figure 5). Formation d'une fenêtre de localisation de contact 32 B dans cette couche auxiliaire de localisation au-dessus dudit ruban laser 2 A (voir figure 9). Formation d'électrodes inférieure 30 et supérieure 34 situées respectivement au-dessous et au-dessus desdites couches de confinement inférieure et supérieure (voir figure 11).35 Les indices de réfraction, types de conductivité et résistivités -6- électriques des couches de confinement, active et latérales et les positions des bords de la fenêtre de localisation de courant, sont choisis, dans au moins des parties de ces couches, pour réaliser un confinement optique dans ce ruban laser et pour que le passage d'un courant électrique d'alimentation entre ces couches de confinement à partir de ces électrodes soit localisé à travers ce ruban laser et y injecte des porteurs de charges permettant l'amplification d'une lumière que le laser devra émettre. On va maintenant décrire de manière générale des dispositions propres au procédé selon la présente invention: L'étape de croissance de couches latérales est réalisée par une méthode de croissance non sélective qui fait croître ledit matériau latéral non seulement dans les vallées telles que 20 pour former les couches latérales 6 et 7 mais aussi sur la couche de contact 4 A en15 formant une saillie parasite 6 A, 7 A au-dessus du plateau 22 (Fig 4). L'étape de formation d'une couche auxiliaire de localisation forme ensuite cette couche 32 en surface de ces couches latérales 6, 7 et de cette saillie 6 A, 7 A (Fig 5) L'étape suivante est une étape d'élimination de saillie qui élimine cette saillie et la partie de cette couche auxiliaire de localisation située en surface de cette saillie pour former la fenêtre de localisation de contact 32 B (Fig 10). De préférence la couche auxiliaire de localisation 32 est formée par dépôt d'un matériau diélectrique, l'électrode supérieure 34 étant déposée sur cette couche. De préférence encore l'étape d'élimination de saillie comporte elle même les étapes suivantes: Dép 8 t de résine pour former une couche d'une résine protectrice 40 qui couvre les couches latérales 6, 7 et la saillie 6 A, 7 A et qui présente une surface supérieure 40 B régulière de sorte qu'elle a une épaisseur diminuée 40 C au-dessus de cette saillie et une épaisseur normale 40 D au-dessus de ces couches latérales (fig 6). Ablation ménagée de cette résine protectrice pour en éliminer une épaisseur limitée supérieure à ladite épaisseur diminuée et inférieure à ladite épaisseur normale, de manière à découvrir la saillie 6 A, 7 A, 7 tout en laissant une couche de résine résiduelle 40 A sur les couches latérales 6, 7. Attaque de la couche auxiliaire de localisation Cette attaque est réalisée à l'aide d'un milieu d'attaque de diélectrique contre lequel la couche de résine résiduelle 40 A constitue une protection, pour qu'une couche auxiliaire de localisation résiduelle 32 A subsiste seulement au-dessus des couches latérales 6, 7 (fig 8). Attaque de la saillie 6 A, 7 A Cette attaque est réalisée à l'aide d'un milieu d'attaque de semiconducteur contre lequel la résine protectice et/ou le matériau diélectrique de la couche 32 constituent une protection Des moyens de limitation d'attaque sont prévus pour que cette attaque n'élimine pas la couche de confinement supérieure. Ce milieu d'attaque est de préférence choisi pour épargner ledit matériau de contact de sorte que la partie 4 A de la couche de contact15 supérieure qui subsiste au-dessus du ruban laser 2 A constitue ces moyens de limitation d'attaque (Fig 9). On va maintenant décrire plus particulièrement des modalités préférées de réalisation des étapes précédemment décrites. Sur la couche de confinement inférieure 1 constituée d'In P dopé N on dépose: Une couche active 2 épaisse de 100 à 300 nm et constituée de Ga In As P par exemple. Une couche de confinement supérieure 3 épaisse de 2 000 nm et constituée d'In P dopé p. Et une couche de contact supérieure 4 épaisse de 300 nm et constituée de In Ga As. La gravure de définition de ruban est réalisée par les techniques connues telles que la gravure dite "sèche", par plasma ou attaque ionique etc 30 La croissance des couches latérales 6 et 7, respectivement dopées p et n, permet d'enterrer le ruban laser 2 A Le matériau latéral qui les constitue est le phosphure d'indium In P La méthode de croissance utilisée ne présente pas de caractère sélectif Elle peut être en particulier l'EJM (épitaxie par jets moléculaires) ainsi que l'EPVOM (épitaxie en phase vapeur des composés organo- métalliques) utilisée à pression atmosphérique notamment Cette méthode non sélective donne lieu à la croissance d'un saillie constituée par des bandes 6 A et 7 A sur le plateau 22 Il faut noter que l'on peut substituer aux couches 6 et 7 une succession de couches comportant une couche d'In P semi-isolante dopée au fer. La couche auxiliaire de localisation 32 déposée ensuite est mince (fig 5) Son épaisseur est par exemple de 200 nm et elle est constituée de nitrure de silicium Si 3 N 4. On forme ensuite la couche de résine protectrice 40 (fig 6) qui a par exemple une épaisseur de 4 micromètres Cette épaisseur est suffisante pour recouvrir la saillie 6 A, 7 A dont la hauteur est par exemple 2,5 micromètres Cette couche est formée par une méthode usuelle comportant un dép 8 t de résine en excès et une centrifugation pour éliminer l'excès de résine déposé. On effectue ensuite une ablation ménagée de cette résine (fig 7) à l'aide d'un plasma d'oxygène pour découvrir la saillie 6 A, 7 A. On attaque ensuite la couche auxiliaire de localisation 32 à l'aide d'un plasma de tétrafluorure de carbone CF 4, pour l'éliminer au-dessus de cette saillie et sur les flancs de celle-ci (fig 8) Puis on élimine cette saillie à l'aide d'un milieu d'attaque de semiconducteur qui réalise une attaque chimique et qui est constitué par un mélange liquide contenant quatre parties d'acide chlorhydrique H Cl pour une partie d'eau, en volume (fig 9). Puis on enlève la couche de résine subsistante 40 A (fig 10). Puis on forme l'électrode supérieure 34 par le dépôt successif des couches suivantes: nm de titane, 50 nm de platine et 250 nm d'or. L'électrode inférieure représentée symboliquement en 30 est formée par les techniques classiques. Dans une variante du procédé qui vient d'être décrit on utilise la saillie 6 A, 7 A en tant que masque protecteur lors d'une introduction d'impuretés par implantation ou diffusion dans le matériau semiconducteur. Conformément à la figure 12 une étape d'introduction d'impuretés est donc réalisée entre les étapes de croissance de couches latérales 9 - et d'élimination de saillie pour introduire des impuretés dans les couches latérales 6, 7 et la saillie 6 A, 7 A Cette introduction est réalisée sur une profondeur ne dépassant pas sensiblement la hauteur de cette saillie de manière qu'après élimination de cette saillie ces5 impuretés subsistent sélectivement dans ces couches latérales Ces impuretés ont par exemple pour but d'augmenter la résistivité électrique du matériau latéral pour le rendre semi-isolant. Ces impuretés sont par exemple des protons implantés par un rayonnement protonique 50 Ils forment une couche semi-isolante 52 dans les couches latérales 6 et 7 dont une partie 52 A s'étend dans la saillie 6 A, 7 A. Cette couche semi-isolante peut renforcer l'action de la couche auxiliaire de localisation diélectrique 32 qui est ultérieurement déposée Elle pourrait aussi éventuellement constituer à elle seule la15 couche auxiliaire de localisation de contact dont la présente invention implique l'utilisation. - REVENDICATIONS l/ Procédé de réalisation d'un composant semiconducteur, caractérisé par le fait qu'il comporte les opérations suivantes: après une gravure qui délimite une protubérance ( 2 A, 3 A, 4 A) en relief, des couches latérales ( 6, 7) qui doivent entourer cette protubérance sont formées par une méthode de croissance non sélective qui réalise un dépôt non seulement à côté de cette protubérance, mais aussi au-dessus de celle-ci en créant une saillie parasite ( 6 A, 7 A), on forme ensuite une couche auxiliaire de localisation ( 32) en surface de ces couches latérales et de cette saillie, puis on élimine cette saillie avec formation dans cette couche ( 32) d'une fenêtre de localisation de contact ( 32 B) qui permettra de localiser un contact électrique sur cette protubérance. 2/ Procédé selon la revendication 1, ledit composant à réaliser étant un laser à ruban enterré, ce procédé comportant une étape de formation d'une couche de confinement inférieure ( 1) constituée d'un matériau de base semiconducteur d'un premier type de conductivité, ce procédé comportant ensuite d'autre étapes dont certaines sont des étapes de croissance de couches pour effectuer des dépôts épitaxiaux de couches semiconductrices, ces autres étapes étant notamment les suivantes; croissance d'une couche active ( 2) constituée d'un matériau actif, croissance d'une couche de confinement supérieure ( 3) constituée dudit matériau de base présentant le deuxième type de conductivité, gravure de définition de ruban, cette gravure éliminant localement au moins lesdites couches actives et de confinement supérieure en creusant deux vallées ( 20) de part et d'autre d'un ruban laser ( 2 A) constitué par une portion restante de cette couche active, ce ruban et les couches qui le surmontent formant ladite protubérance ( 2 A, 3 A,4 A)30 dont la surface supérieure constitue un plateau ( 22) qui s'étend entre ces deux vallées, croissance de couches latérales ( 6, 7) constituées d'un matériau latéral pour entourer ce ruban laser, les indices de réfraction, types de conductivité et résistivités électriques de ces couches de35 confinement, active et latérales, étant choisis, dans au moins des il - parties de ces couches, pour réaliser un confinement optique dans ce ruban laser et pour qu'un courant électrique d'alimentation passant entre ces couches de confinement passe préférentiellement à travers ce ruban laser et y permette l'amplification d'une lumière,5 formation d'une couche auxiliaire de localisation ( 32) en surface desdites couches latérales et de confinement, formation d'une fenêtre de localisation de contact ( 32 B) dans cette couche auxiliaire de localisation au-dessus dudit ruban laser ( 2 A), et formation d'électrodes inférieure ( 30) et supérieure ( 34) situées respectivement au-dessous et au-dessus desdites couches de confinement inférieure et supérieure pour permettre de faire passer ce courant d'alimentation, la zone de contact de cette électrode supérieure étant définie par ladite fenêtre de localisation de contact pour que ce courant d'alimentation soit localisé à travers ce ruban,15 ce procédé étant caractérisé par le fait que ladite étape de croissance de couches latérales est réalisée par une méthode de croissance non sélective qui fait cro Stre ledit matériau latéral non seulement dans lesdites vallées pour former lesdites couches latérales ( 6, 7), mais aussi sur ladite couche de confinement supérieure ( 3) en formant une saillie parasite ( 6 A, 7 A) au-dessus dudit plateau ( 22), ladite étape de formation d'une couche auxiliaire de localisation formant ensuite cette couche ( 32) en surface de ces couches latérales ( 6, 7) et de cette saillie ( 6 A, 7 A), ce procédé comportant ensuite une étape d'élimination de saillie qui élimine cette saillie et la partie de cette couche auxiliaire de localisation située en surface de cette saillie pour former ladite fenêtre de localisation de contact ( 32 B). 3/ Procédé selon la revendication 2, caractérisé par le fait que ladite couche auxiliaire de localisation ( 32) est formée par dépôt d'un matériau diélectrique, ladite électrode supérieure ( 34) étant déposée sur cette couche. 4/ Procédé selon la revendication 2, caractérisé par le fait que ladite étape d'élimination de saillie comporte elle même les étapes suivantes:35 dépôt de résine pour former une couche d'une résine protectrice ( 40) 12 qui couvre lesdites couches latérales ( 6, 7) et ladite saillie ( 6 A, 7 A) et qui présente une surface supérieure ( 40 B) régulière de sorte qu'elle a une épaisseur diminuée ( 40 C) au- dessus de cette saillie et une épaisseur normale ( 40 D) au-dessus de ces couches latérales S (fig 6), ablation ménagée de cette résine protectrice pour en éliminer une épaisseur limitée supérieure à ladite épaisseur diminuée et inférieure à ladite épaisseur normale, de manière à découvrir ladite saillie, tout en laissant une couche de résine résiduelle ( 40 A) sur lesdites couches latérales ( 6, 7), attaque de ladite couche auxiliaire de localisation ( 32), cette attaque étant réalisée à l'aide d'un milieu d'attaque de couche auxiliaire contre lequel ladite couche de résine résiduelle ( 40 A) constitue une protection, pour qu'une couche auxiliaire de15 localisation résiduelle ( 32 A) subsiste seulement au-dessus desdites couches latérales ( 6, 7) (fig 8), et attaque de ladite saillie, cette attaque étant réalisée à l'aide d'un milieu d'attaque de semiconducteur contre lequel ladite résine protectice et/ou ladite couche auxiliaire de localisation constituent20 une protection, des moyens de limitation d'attaque étant prévus pour que cette attaque n'élimine pas ladite couche de confinement supérieure. 5/ Procédé selon la revendication 4, caractérisé par le fait qu'il comporte, entre lesdites étapes de croissance de couche de confinement supérieure et de gravure de définition de ruban, une étape de croissance d'une couche de contact supérieure constituée d'un matériau de contact de composition intrinsèque différente de celle dudit matériau de base, ledit milieu d'attaque de semiconducteur étant choisi pour épargner ce matériau de contact de sorte que la partie30 ( 4 A) de la couche de contact supérieure qui subsiste au dessus dudit ruban laser constitue lesdits moyens de limitation d'attaque. 6/ Procédé selon la revendication 5, lesdits matériaux de base et latéral ayant une composition intrinsèque binaire, lesdits matériaux actif et de contact ayant une composition intrinsèques ternaire et/ou35 quaternaire. 13 - 7/ Procédé selon la revendication 6, lesdits matériaux de base et latéral étant le phosphore d'indium ou l'arseniure de gallium, lesdits matériaux actif et de contact comportant en outre du gallium, de l'aluminium et/ou de l'arsenic. 5 8/ Procédé selon la revendication 1, caractérisé par le fait qu'on introduit des impuretés dans les couches latérales ( 6, 7) et la saillie parasite ( 6 A, 7 A) sur une profondeur ne dépassant pas sensiblement la hauteur de cette saillie de manière qu'après élimination de cette saillie ces impuretés subsistent sélectivement dans ces couches latérales. 9/ Procédé selon la revendication 8, caractérisé par le fait que lesdites impuretés sont choisies pour augmenter la résistivité électrique dans lesdites couches latérales ( 6, 7).