Brevet FR2679898A1 — publié le 19930205

La présente invention concerne les procédés de formation d'un dépôt de silice sur une surface d'un objet en verre par projection d'un mélange gazeux comprenant du silane et de l'oxygène sur la surface chaude de l'objet au moyen d'au moins une buse de projection. Un procédé de ce type est connu du document US-A-3 717 498 o la projection est effectuée de façon confinée dans un tube Plus récemment, le document GB-A-2 234 264 décrit un procédé similaire, pour du verre plat, o l'injection s'effectue dans une chambre de revêtement recouvrant la zone à revêtir et elle-même enclose dans une hotte aspirante munie de jupes d'étanchéité. La présente invention a pour objet de proposer un procédé du type cidessus, convenant notamment pour la formation de couches barrières anti-migration sur les verres sodo-calciques ou fluosilicates et pour l'augmentation de la résistance de l'objet en verre aux milieux alcalins, notamment aux produits détergents, permettant d'effectuer de façon simple et particulièrement souple des dépôts de qualité sur un grand nombre d'objets en verre, et autorisant de ce fait des coûts d'installation et de production notablement réduits. Pour ce faire, selon une caractéristique de l'invention, la projection est effectuée sur la surface chaude de l'objet en verre en atmosphère ambiante non confinée, typiquement à l'air libre. Selon une caractéristique plus particulière de l'invention, la teneur en silane dans le mélange gazeux est comprise entre 0,5 et 2 %, typiquement d'environ 1 %, la teneur en oxygène dans le mélange gazeux étant comprise entre 3,5 et 30 %, typiquement entre 7 et 15 %. Selon une autre caractéristique de l'invention, la surface de verre à traiter est chauffée sélectivement juste avant la projection du mélange gazeux, à l'air libre, sur la surface chauffée. La Demanderesse a constaté que, de façon surprenante, dans les conditions sus-mentionnées, par la projection à l'air libre du mélange gazeux sur la surface de verre chaude (à une température comprise entre environ 300 et la température de formage du verre), on obtenait le dépôt d'une couche uniforme et stoechiométrique de de silice sans qu'il y ait de redéposition notable sur cette couche de particules isolées contenant de la silice. La présente invention sera mieux comprise au vu de la description suivante de modes de réalisation, donnée à titre illustratif mais nullement limitatif, faite en relation avec les dessins annexés, sur lesquels: la figure 1 est une vue schématique d'un premier mode de réalisation d'une installation pour la mise en oeuvre du procédé selon l'invention; et les figures 2 et 3 sont des vues schématiques d'autres modes de réalisation de l'invention. On a représenté schématiquement sur la figure 1 une plaque de verre 1 acheminée à l'air libre sur une bande transporteuse 2 sur le trajet de laquelle est disposée une buse 3 de projection d'un mélange ternaire silane-oxygène-azote pour la formation, sur la surface supérieure de la plaque 1, d'une couche de silice Dans ce mode de réalisation, la buse 3 définit une fente de projection transversale à la direction d'avancement relatif de la plaque 1 et est alimentée en mélange ternaire à partir d'un réservoir 4 contenant un mélange binaire d'azote et de silane et d'un réservoir 5 d'oxygène gazeux La buse de projection 3 peut être disposée directement en aval d'un four de flottage d'o la plaque de verre 1 sort à la température requise Le poste de projection peut être toutefois prévu indépendamment de tout four, auquel cas, typiquement, un poste de chauffe 6, par exemple à infrarouges, sera disposé juste en amont du poste de projection dans le sens de défilement de la plaque 1. Dans ce mode de réalisation, la distance h entre l'extrémité de la buse 3 et la surface à revêtir de la plaque 1 est inférieure à mm, et comprise typiquement entre 3 et 10 mm, la vitesse d'éjection du mélange étant comprise entre 5 et 30 m/seconde, selon la largeur de la fente. La teneur en silane dans le mélange gazeux est comprise entre 0,5 et 2 %, de préférence entre 0,8 et 1 %, la teneur en oxygène dans le mélange gazeux étant comprise entre 3,5 et 30 %, de préférence entre 7 et 15 %, le rapport volumique oxygène/silane étant compris entre 5 et 30, typiquement entre 7 et 15, de préférence entre 7 et 10. Dans ces conditions, avec une vitesse de défilement relative entre la plaque et la buse de 5 cm/seconde et un nombre de passages successifs correspondant à un temps d'injection réel sur une zone élémentaire de la plaque portée à une température entre 550 'C et 600 C, d'environ 9 secondes, on obtient une couche de silice stoechiométrique d'épaisseur uniforme d'environ 0,7 jsm présentant un nombre de particules non liées redéposées d'une dimension ne dépassant pas 0,2)mn inférieur à 10/mm 2 Un test de résistance aux milieux alcalins (attaque alcaline, pendant 15 minutes, d'une solution bouillante de 0,5 mole/litre de Na 2 Co 3 et d'une mole/litre de Na OH, suivie d'une deuxième attaque de 15 minutes, avec une même solution bouillante) et mesure des intensités de fluorescence X révèle une résistance de la couche de silice à l'attaque basique non inférieure à minutes. La grande simplicité du procédé selon l'invention, permettant d'effectuer des dépôts à l'air libre, autorise un grand nombre d'applications à des objets en verre de formes diverses, avec des épaisseurs de couche variables selon le temps d'injection, la teneur en silane et en oxygène du mélange, et la température de la surface à traiter. On a représenté sur la figure 2 l'application du procédé au revêtement de la surface interne d'une soucoupe ou d'une assiette 1 ' sortant d'un four de réchauffe 60 Dans ce mode de réalisation, la buse d'injection 3 ' est conformée à la façon d'un tore comportant une fente d'injection circulaire 30 de diamètre adapté à celui de la soucoupe 1 ', la buse 3 ' étant abaissée au-dessus de la soucoupe 1 ' à sa sortie du four 60, de formage ou de réchauffe, et accompagnant le déplacement de cette dernière pendant une durée comprise entre 3 et 10 secondes, selon l'épaisseur de couche de silice désirée La buse peut également présenter une surface d'éjection poreuse de dimension correspondant à celle de l'objet à traiter Les mêmes mélanges gazeux que précédemment sont utilisés. Dans le mode de réalisation de la figure 3, l'objet en verre à revêtir est ici constitué d'un flacon 1 " qui, encore chaud, est placé sur un support tournant 20 Une première buse cylindrique 3 " 1 est introduite dans le col du flacon 1 " tandis qu'une seconde buse 3 " 2 présentant une fente d'éjection parallèle à une génératrice du flacon 1 " est disposée au voisinage de la paroi externe de ce dernier. Les mêmes mélanges gazeux que précédemment sont éjectés par les deux buses 3 " 1 et 3 " 2 le temps d'injection à l'intérieur du flacon étant compris entre 3 et 5 secondes, ce qui permet une intégration aisée dans une chaîne de production industrielle Avec l'injection, dans le flacon, d'un mélange gazeux contenant 1 % de silane et ayant un rapport oxygène/silane de 7, en remplissant le flacon traité d'eau distillée et en le maintenant pendant 48 heures à 800 C, on constate une migration dans l'eau du sodium provenant du verre de l'ordre de 1,3 mg/ml au lieu de, classiquement, plus de 6 mg/ml pour un verre non traité. Quoique la présente invention ait été décrite en relation avec des modes de réalisation particuliers, elle ne s'en trouve pas limitée pour autant mais est au contraire susceptible de modifications et de variantes qui apparaîtront à l'homme de l'art. REVENDICATIONS 1 Procédé de formation d'un dépôt de silice sur une surface d'un objet en verre ( 1,1 ',1 ") par projection d'un mélange gazeux comprenant du silane et de l'oxygène sur la surface chaude de l'objet en verre au moyen d'au moins une buse de projection ( 3; 3 '; 3 " 1 '3 " 2) caractérisé en ce que la projection est effectuée sur la surface chaude en atmosphère ambiante non confinée. 2 Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'on chauffe sélectivement ( 6) au moins la surface à traiter de l'objet en verre juste avant la projection du mélange gazeux. 3 Procédé selon la revendication 1 ou la revendication 2, caractérisé en ce que la buse ( 3; 3 '; 3 " 1 '3 ") est animée d'un mouvement relatif par rapport à la surface à traiter. 4 Procédé selon l'une des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que la buse comporte au moins un orifice d'éjection adapté à la géométrie de la surface à traiter. Procédé selon l'une des revendications 1 à 4, caractérisé en ce que la distance (h) entre la buse ( 3; 3 '; 3 " 2) et la surface à traiter est inférieure à 15 mm. 6 Procédé selon la revendication 5, caractérisé en ce que la distance (h) est comprise entre 3 et 10 mm. 7 Procédé selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que la vitesse d'éjection du mélange est comprise entre 5 et 30 m/s. 8 Procédé selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que la teneur en silane dans le mélange gazeux est comprise entre 0,5 et 2 %. 9 Procédé selon la revendication 8, caractérisé en ce que la teneur en silane est d'environ 1 %. 10 Procédé selon l'une des revendications 8 ou 9, caractérisé en ce que la teneur en oxygène dans le mélange gazeux est comprise entre 3,5 et 30 %. 11 Procédé selon la revendication 10, caractérisé en ce que la teneur en oxygène est comprise entre 7 et 15 %. 12 Procédé selon l'une des revendications 9 à 11, caractérisé en ce que le rapport volumique entre l'oxygène et le silane dans le mélange gazeux est d'environ 7. 13 Procédé selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que le complément du mélange gazeux est l'azote.