Brevet FR2684489A1 — publié le 19930604

i HETEROSTRUCTURE SEMICONDUCTRICE POUR LE TRAITEMENT D'UN SIGNAL OPTIQUE DESCRIPTION La présente invention concerne une hétérostructure semiconductrice qui permet une absorption intra-bande efficace d'un rayonnement électromagnétique dont la longueur d'onde est inférieure ou égale à 3 micromètres. En d'autres termes, une hétérostructure conforme à la présente invention est capable d'absorber dans une fenêtre spectrale étroite qui est centrée sur une longueur d'onde donnée, inférieure ou égale à 3 micromètres. L'hétérostructure objet de l'invention peut constituer le milieu actif d'un détecteur, d'un modulateur ou d'un filtre stoppe-bande fonctionnant à des longueurs d'onde inférieures ou égales à 3 micromètres, ces longueurs d'onde étant par exemple comprises entre 1,5 micromètre et 3 micromètres. L'invention a donc des applications en optoélectronique et en particulier dans le domaine des télécommunications par fibres optiques. Elle permet d'introduire une nouvelle famille de composants qui fonctionnent au voisinage des longueurs d'onde 1,55 micromètre et 2,5 micromètres, correspondant au minima d'atténuation des fibres optiques classiques et des fibres de nouvelle génération à base de verres fluorés. On va d'abord rappeler le mécanisme d'absorption intra-bande dans une structure à puits quantique. Ce mécanisme est exploité par une famille de composants semiconducteurs (détecteurs, modulateurs) qui travaillent essentiellement dans l'infrarouge lointain (longueurs d'onde de l'ordre de 10 micromètres). Pour les structures semiconductrices connues, la longueur d'onde minimale de fonctionnement est de l'ordre de 3,5 micromètres. La présente invention propose une hétérostructure semiconductrice qui permet d'augmenter considérablement la plage de fonctionnement efficace des dispositifs utilisant l'absorption intra-bande. En faisant référence à la figure 1 partie A, on rappelle qu'un puits quantique est obtenu par l'insertion d'une couche mince 2 d'un matériau semiconducteur entre deux couches semiconductrices 4 dont la bande interdite a une largeur supérieure à celle de la couche 2, ces couches 4 étant appelées "couches-barrières". On utilise en général des matériaux d'une même fami L Le semiconductrice (III-V, II- VI ou IV) pour réaliser les couches 2 et 4. A cause de La modulation de La composition de l'empilement ainsi obtenu, un électron placé dans la bande de conduction BC "voit" un puits de potentiel artificiel dont le profil est rappelé sur la partie B de la figure 1. On note z la direction de L'espace suivant Laquelle est réalisé l'empilement, et x et y des directions orthogonales dans le plan des couches de l'empilement. La mécanique quantique enseigne que les états électroniques de conduction d'une telle structure se rassemblent, à cause du confinement des électrons suivants z, en plusieurs sous-bandes qui sont quasiment parallèLes. Les énergies des minima de ces sous-bandes prennent des valeurs discrètes. Les deux premières sous-bandes sont respectivement notées SB 1 et SB 2 et les énergies des minima des sous-bandes SB 1 et SB 2 sont respectivement notées E 1 et E 2, avec E 2 supérieur à El. Ceci est illustré par la figure 2 qui montre les courbes de dispersion des sous-bandes SB 1 et SB 2, E représentant l'énergie et k// représentant le module du vecteur d'onde d'un électron dans le plan (x, y). On voit aussi sur La partie B de la figure 1 (o V(z) représente la valeur du potentiel en fonction de z) que la densité de probabilité de présence I 12 d'un électron de la sous-bande SB 1 est forte au centre du puits quantique. Au contraire, la densité de probabilité de présence | 02 | d'un électron de la sous-bande SB 2 est nulle au centre du puits. Il est possible de peupler les niveaux de plus basse énergie du puits par des électrons, en dopant par des donneurs la couche 2 et/ou les couches- barrières 4. On peut également photo-créer un gaz d'électrons, en excitant optiquement la structure avec un rayonnement d'énergie supérieure à la largeur de bande interdite de cette structure. Les états de conduction sont alors peuplés jusqu'à une certaine énergie EF (niveau de Fermi), les états supérieurs restant quasiment vides. Ceci est illustré par la figure 2 o la référence ep désigne Les états de conduction peuplés et la référence ev désigne les états de conduction vides. L'absorption intra-bande, encore appelée absorption inter-sous- bande, est une transition optique, d'un état d'une sous-bande vers un état d'une sous-bande supérieure, cette transition s'accompagnant de l'absorption d'un photon. Cette transition nécessite que plusieurs conditions soient satisfaites: k// est (quasiment) conservé, l'énergie h v du photon (o h représente La constante de Planck et v la fréquence de ce photon) est égale à La différence d'énergie entre Le niveau initial et Le niveau final, le niveau de départ doit être peuplé. Ce phénomène est illustré par la figure 2. Compte tenu du quasi-paral Lélisme des sous- bandes, on voit que pour une structure donnée et deux de ces sous-bandes, en généra L SB 1 et SB 2, l'absorption du rayonnement électromagnétique est résonnante pour une énergie hv égale à E 2-E 1. En fait, pour des structures telles que E 2-E 1 soit inférieure à 0,25 e V, Le pic d'absorption a une largeur finie de l'ordre de 6 à 7 me V, qui reflète Le court temps de vie (temps de déphasage) de L'électron dans son état d'arrivée après absorption. Pour des transitions à énergie plus éLevée, on peut observer des effets d'élargissement qui sont dus à La non parabolicité de la bande de conduction des matériaux semiconducteurs utilisés pour réaliser le puits quantique. On rappe L Le enfin qu'on définit La force d'osci L Lateur fij de La transition de la sous-bande S Bi vers La sous-bande S Bj par la formule suivante: 2 2 2 fij = ( 8 pi m*/h) (Ei-Ej) I l o pi représente Le nombre bien connu qui vaut environ 3,14 et m* représente La masse effective de L'électron qui subit La transition. Dans le cas usue L d'un puits dont la seule première sous-bande est peuplée, l'absorption totale associée à la transition de SB 1 vers S Bj, intégrée sur l'ensemble de la raie de résonance est proportionnelle, pour une configuration donnée d'excitation (angle d'incidence et polarisation du rayonnement électromagnétique) au produit de la force d'oscillateurs flj par la densité de porteurs dans le puits, cette densité étant usuellement comprise entre il 12 2 et 10 porteurs par cm. On réalise usuellement des multi-puits quantiques, dans lesquels la structure absorbante est répétée une cinquantaine de fois pour augmenter le coefficient d'absorption de la structure tout en conservant une épaisseur raisonnable pour celle-ci. Parmi les dispositifs utilisant l'absorption intra-bandes, on connait: les filtres stoppe-bande, les détecteurs photoconducteurs à puits quantiques (voir le document ( 1) qui comme les autres documents cités par La suite, est mentionné à la fin de La présente description) les modulateurs à commande électrique dont un exemple est donné dans le document ( 2) l les modulateurs à commande optique dont un exemple est donné dans le document ( 3). L'ensemble de ces applications connues de l'absorption intra- bande a été développé dans la plage allant de 5 à 20 micromètres. La présente invention vise à étendre vers les courtes longueurs d'onde la plage de fonctionnement de ces dispositifs et, pour ce faire, d'étendre la plage d'énergie dans laquelle il est possible d'obtenir une absorption intra-bande efficace. Le document ( 4) montre l'intérêt des puits quantiques pour le doublage de fréquence dans l'infrarouge moyen ( 5 à 20 micromètres). Cependant, la technique mentionnée dans ce document ( 4) ne peut être étendue à des énergies supérieures à 0,3 e V. Il est également connu, par le document ( 5), d'utiliser des puits asymétriques pour réaliser une opération de génération de seconde harmonique au voisinage de leur énergie de bande interdite mais cette génération de seconde harmonique n'est pas efficace pour de grandes énergies (par exemple 0,8 e V). Comme on le verra par la suite, certaines structures conformes à la présente invention permettent d'obtenir un fort coefficient de génération de seconde harmonique à partir d'un rayonnement proche- infrarouge ( 0,8 e V par exemple). On ajoute que deux autres approches sont a priori possibles pour agrandir la plage énergétique dans laquelle il est possible d'observer une absorption intra-bande efficace. Une première approche consiste à réduire La largeur a du puits et une deuxième approche consiste à utiliser des transitions entre SB 1 et S Bn, avec n supérieur à 2. Cependant, ces approches sur lesquelles on reviendra en détail par La suite ne permettent pas d'obtenir une absorption efficace dans la plage d'énergies supérieures à 400 me V. La présente invention vise une hétérostructure semiconductrice qui ne présente pas ces inconvénients. L'invention permet d'augmenter l'espacement entre les sous-bandes SB 1 et SB 2 d'un puits quantique, et donc L'énergie de La transition intra-bande, tout en augmentant la force d'oscillateur de cette transition. La présente invention a pour objet une hétérostructure semiconductrice comprenant au moins un motif comportant une couche mince d'un matériau semiconducteur et deux couches- barrières semiconductrices entre lesquelles se trouve la couche mince et qui ont une plus grande largeur de bande interdite que la couche mince, ce qui crée un puits de potentiel, cette hétérostructure étant caractérisée en ce qu'elle comprend en outre une couche ultrafine attractive qui est insérée dans la couche mince, sensiblement au milieu de celle-ci, et qui est faite d'un matériau semiconducteur appartenant à la même famille que le matériau de la couche mince, et en ce que l'hétérostructure comporte au moins deux sous- bandes dont les états d'énergie minimale sont confinés dans le puits de potentiel et dont les énergies minimales sont respectivement notées E 1 et E 2, avec E 2 supérieur à El, la profondeur du puits de potentiel étant très supérieure à E 2 et la distance entre les minima en énergie de ces sous-bandes étant au moins égale à 400 me V. Les matériaux constitutifs de la couche mince et des couches entre lesquelles cette couche mince se trouve peuvent appartenir à la même famille de matériaux semiconducteurs. Selon un premier mode de réalisation particulier de l'hétérostructure objet de l'invention, la couche mince est en Ga Al As et les couches entre 1-x x lesquelles se trouve cette couche mince sont en Ga 1- AL As, x étant positif ou nul et inférieur à y, y étant inférieur ou égal à 1. Dans ce cas, la couche ultrafine peut être en In Ga As, z étant supérieur à O et inférieur ou égal z 1-z à 1. Selon un deuxième mode de réalisation particulier, la couche mince est en Ga Al Sb et les 1-x x couches entre lesquel Les se trouve cette couche mince sont en Ga Al Sb, x étant positif ou nul et inférieur à y, y étant inférieur ou égal à 1. Dans ce cas, la couche ultrafine peut être en In As. L'hétérostructure objet de l'invention peut être dopée par des donneurs, de façon à peup Ler par des électrons le bas de la sous-bande dont L'énergie minimale vaut El. Enfin, l'hétérostructure objet de L'invention peut comprendre plusieurs exemplaires empilés dudit motif, afin de former une structure à multipuits quantiques. La présente invention sera mieux comprise à la Lecture de la description d'exemples de réalisation donnés ci-après à titre purement indicatif et nullement limitatif, en faisant référence aux dessins annexés sur Lesquels: La figure 1 est une représentation schématique d'un puits quantique et des fonctions d'onde e 1 et $ 2 des états des deux premières sous- bandes et a déjà été décrite, la figure 2 représente Les courbes de dispersion de ces deux premières sous-bandes et a déjà été décrite, La figure 3 représente schématiquement deux structures connues et deux structures conformes à L'invention en vue de comparer leurs performances, La figure 4 représente Les variations de El en fonction de E 2-E 1 pour ces structures, la figure 5 montre les variations de E 2-El en fonction de la largeur du puits pour chaque structure, la figure 6 représente les variations de la force d'osci L Lateur f 12 en fonction de cette largeur du puits pour chaque structure, la figure 7 A montre le potentiel effectif ressenti par un électron dans un multi-puits quantique Ga As/Al As et la figure 7 B représente les fonctions d'onde des premiers états d'électrons de la structure pour un puits étroit de Ga As, la figure 8 représente le potentiel effectif ressenti par des électrons dans un puits asymétrique Ga As/Ga A 11 As/Al As, x 1-x la figure 9 représente les variations de f 13 en fonction de E 3-E 1 pour le puits asymétrique de la figure 8, la figure 10 illustre schématiquement une hétérostructure connue, la figure 11 illustre schématiquement une hétérostructure conforme à l'invention pour la comparer à cette hétérostructure connue, les figures 12 et 13 permettent de comparer les performances de sept structures dont une est connue et les six autres sont conformes à l'invention, et la figure 14 A illustre la configuration des extrémas de bandes dans le système In As/Ga Sb/AI Sb tandis que la figure 14 B montre une structure In As/Ga Sb/Al Sb sous champ électrique. Avant de décrire des modes de réalisation particuliers de l'invention, on revient sur les deux approches envisageables qui sont mentionnées plus haut. La première approche consiste à réduire la largeur a du puits (voir fig 1) afin d'augmenter la distance entre SB 1 et SB 2. En effet, les énergies E 1 et E 2 sont inversement proportionnelles au carré de a lorsque la hauteur Vb de la barrière de potentiel (profondeur du puits) est très supérieure à l'énergie E 2. De plus, la force d'oscillateur f 12 de la transition de SB 1 vers SB 2 reste constante lorsque a diminue. En conséquence, le pouvoir absorbant, à dopage donné du puits, est constant lorsque cette largeur diminue. Pour un fonctionnement tel que E 2-E 1 soit supérieur à 500 me V, E 2 est au moins à 750 me V du fond du puits. Dans ces conditions, on peut utiliser deux systèmes, qui permettent d'avoir une discontinuité de bande de conduction Vb suffisamment élevée pour que Vb soit très supérieur à E 2 c'est-à-dire dépasse E 2 d'au moins 100 me V, à savoir le système Ga As (puits)/Ga AL 1 As (barrières) et le système Ga Sb (puits)/Al Sb x (barrières). On considère d'abord le système Ga As/Al As. Avec ce système, trois problèmes essentiels se présentent. Ils sont illustrés par les figures 3 à 6 qui résument l'inter-dépendance des paramètres du puits (largeur, énergie de transition intra- bande, position de El, force d'oscillateur f 12 de SB 1 vers SB 2) pour diverses structures A, B, C et D (figure 3). On considère les résultats obtenus pour la structure A qui se rapporte à un puits quantique Ga As/Al As dont on fait varier la largeur. On indique ci-après le premier problème qui se pose. Les positions respectives des extréma de bandes aux points gamma et X de la zone de Brilouin sont représentées, pour un puits de Ga As dans Al As, sur la figure 7 A o les minima X sont en pointillés et les minima gamma en traits pleins. La figure 7 B montre les fonctions d'ondes des premiers états d'électronede la structure pour un puits étroit de Ga As. Des électrons de la vallée X sont soumis à un puits de potentiel dans les couches de Al As. Les premiers niveaux de type X de La structure ont une énergie voisine de 180 me V par rapport au fond du puits. On observe expérimentalement que si le puits a une largeur inférieure à 3,5 nm, le premier niveau électronique de conduction de la structure est le premier niveau de la famille X et non pas le niveau E 1 de La structure (voir la fig 7 B). Alors, il n'est pas possible de peupler La sous-bande SB 1 pour exploiter la transition de SB 1 vers SB 2. Si l'on veut que E 1 soit raisonnablement inférieur à X 1 (X 1-E 1 supérieur à 30 me V), il n'est pas possible d'obtenir des énergies de transition intra- bande supérieures à 300 me V (voir la fig 4). On précise que dans Les structures de la figure 3, Les barrières sont en Al As et le puits est constitué d'une couche de Ga As (structure A), de In Ga As (structure B), d'une couche de Ga As avec 0,2 0,8 deux monocouches de In As en son milieu (structure C conforme à l'invention) ou encore d'une couche de Ga As avec trois monocouches de In As en son milieu (structure D conforme à l'invention). Sur la figure 4, les variations de E 1 en fonction de E 2-E 1 sont représentées et la droite E 1 = 0,15 e V limite le domaine hachuré o ces structures ne peuvent être utilisées pour réaliser une opération efficace d'absorption intra-bande. On indique aussi que, sur la figure 5, E 2-E 1 est donné en fonction de La largeur a du puits, les traits gras correspondant à la plage d'utilisation possible de ces puits quantiques. Sur la figure 6, la force d'oscillateur f 12 de la transition intra- bande est donnée en fonction de E 2-E 1,les traits gras correspondant à la plage d'utilisation possible de ces puits quantiques. On expose maintenant le deuxième problème. Lorsque la largeur du puits diminue, les effets de non- parabolicité de La masse effective m* deviennent importants. A l'énergie E 2, la masse effective est beaucoup plus lourde qu'en bas de bande. Ceci Limite l'augmentation de E 2; la distance E 2-E 1 finit par saturer et décroître, lorsque La largeur du puits diminue. La valeur maximale atteinte est de l'ordre de 600 me V (voir La figure 5, structure (A)). Le troisième problème est le suivant: cette valeur maximale est atteinte pour des largeurs de puits très faibles ( 2,5 nm). Les propriétés électroniques sont alors très sensibles à la qualité de la structure et à la perfection des interfaces en particulier. Pour résoudre ces trois problèmes, on peut cheche à remplacer Ga As par un matériau semiconducteur de plus petite bande interdite, plus précisément In Ga As. y 1-y Ce matériau a un paramètre de maille différent de Ga As mais peut cependant être déposé en couche mince contrainte sur Ga As. La réalisation de structures de bonne qualité comportant une cinquantaine de ces puits peut être envisagée pour y au plus égal à 0,2. Ce remplacement de matériau de puits conduit essentiellement à une translation d'ensemble de la structure de bande du puits vers les basses énergies. Les résultats obtenus pour un puits de In Ga As dans AL As sont portés sur les figures 3 à 0,2 0,8 6 (structure (B)). Le premier problème (position par rapport à X 1) se trouve allégé par le déplacement d'ensemble des niveaux du puits. Des énergies de transition de l'ordre de 600 me V sont a priori ainsi accessibles. Ce problème mis à part, on note que l'effet de saturation sur E 2-E 1 (deuxième problème) est limité, E 2 atteignant plus tard la plage d'énergie o l'alourdissement de la masse joue un r 8 le important. Par contre, le troisième problème ne se trouve pas allégé: dans la plage des énergies de transition accessibles, la dépendance de E 2-E 1 en fonction de la largeur du puits est quasiment identique pour un puits de Ga As ou de In Ga As (dans les deux 0,2 0,8 cas, AL As joue le rôle d'une barrière de hauteur infinie). On considère maintenant le système Ga Sb/AL Sb. Ga Sb a une énergie de bande interdite de 0,75 e V à basse température, ce qui en fait un matériau intéressant pour l'optoélectronique. AL Sb joue le r 8 le d'une barrière, avec Vb= 1,1 e V (très voisine de ce qu'elle vaut dans Ga As/Al As). La configuration de bandes pour les matériaux Ga Sb, AL Sb (et In As utilisé dans des hétérostructures conformes à l'invention) est présentée sur la figure 14 A o BV et BC représentent respectivement la bande de valence et la bande de conduction. Pour des puits simples Ga Sb/AL Sb, l'énergie de transition intrabande peut être au maximum de 150 à me V: en effet, le minimum de la bande L de AL Sb est placé 80 me V au dessus du minimum gamma de Ga Sb. On retrouve donc ici le premier problème rencontré pour Ga As/AL As. Par ailleurs, l'écart énergétique E 2-E 1 sature à 0,6 e V puis décroît pour une Largeur de puits inférieure à 2,8 nm. On précise maintenant la seconde approche. Dans le cadre de la recherche de transitions intrabandes efficaces à haute énergie, on peut également chercher à utiliser des transitions entre SB 1 et S Bn (n> 2), plus élevées en énergie que SB 2. Mais La force d'oscillateur de ces transitions est beaucoup plus faible que celle de la transition fondamentale de SB 1 vers SB 2. Ainsi, pour un puits quantique très profond (o Vb est très grand devant les énergies En considérées), la force d'oscillateur vaut: O si N est impair (par symétrie) 2 2 _ -3 sinon fln = f 12 ( 27/4) N (n -1)- Cette force d'oscillateur décroît donc très vite: pour La transition de SB 1 vers SB 4, elle n'est déjà plus que de 3 % de la force d'oscillateur de la transition fondamentale. L'utilisation de puits asymétriques a déjà été proposée pour permettre (en rompant la symétrie) une transition de SB 1 vers SB 3. Une telle structure est présentée sur la figure 8 (o l'on voit le potentiel effectif V(z) ressenti par les électrons dans le puits et les premiers états de la structure) dans le cas du système Ga As/AL As: le puits est constitué par une couche de Ga As et une couche d'alliage Ga Al As (O placées entre des couches-barrières de AL As. La figure 9 montre Les variations de la force d'osci L Lateur f 13 en fonction de l'énergie de transition E 3-E 1 ainsi que Le domaine accessible II (le domaine hachuré I est inaccessible) en utilisant ce type de puits pour le système Ga As/AL As. On a fait varier x et les épaisseurs des couches constituant Les puits, avec l'unique contrainte E 1 SB 1). On note que les forces d'oscillateur accessibles chutent fortement lorsque l'énergie de transition croît; pour E = 0,5 e V, f 13 vaut au mieux % de la force d'oscillateur f 12 dans un puits quantique normal. Pour un même dopage des puits et une même configuration d'opération, on devrait donc avoir 20 fois plus de puits asymétriques (opérant sur leur transition SB 1 vers SB 3) que de puits symétriques (opérant sur la transition SB 1 vers SB 2) pour une même absorption du rayonnement électromagnétique à l'énergie 0,5 e V. Ces puits asymétriques n'apportent donc pas de solution performante au problème à résoudre (obtenir des transitions intrabandes efficaces à haute énergie). La figure 10 montre, dans sa partie A, une hétérostructure semiconductrice connue, du genre de celle de la figure 1 et comportant une couche de puits 6 entre deux couches barrières 8 pour former un puits quantique. La partie B de la figure 10 montre la fonction d'onde des états des deux premières sous- bandes correspondantes dont les énergies minimales sont respectivement notées E 1 et E 2. La figure 11 se rapporte à une hétérostructure conforme à L'invention. L'invention repose en fait sur une observation mentionnée dans le document ( 6) de ce que la substitution d'une couche ultrafine du matériau du puits quantique par un matériau semiconducteur de la même famille (III-V ou II-VI par exemple) peut modifier de manière importante, et sélective, les positions énergétiques des différentes sous-bandes. La figure 11 illustre ceci. L'hétérostructure conforme à l'invention, représentée sur la partie A de La figure 11, comprend une couche de puits comprise entre deux couches- barrières ainsi qu'une couche S ultramince (composée de quelques monocouches), attractive et insérée au centre du puits obtenu. Les couches-barrières portent la référence 12 et La couche de puits, dans laquelle est insérée la couche S, est donc en deux parties portant respectivement Les références 10 a et 10 b. Les techniques de croissance actuelles (épitaxie par jets moléculaires (EJM), épitaxie en phase vapeur à partir d'organo- métalliques (OMCVD)) permettent de contrôler Le dépôt de couches très minces (quelques couches moléculaires, ou monocouches. Dans les composés III-V une monocouche a une épaisseur de l'ordre de 0,3 nm. On a représenté sur la partie B de la figure 11 le nouveau profil de potentiel du puits ainsi obtenu. On voit que la position de la deuxième sous- bande n'est pas modifiée ou en tout cas très peu modifiée (l'énergie minimale de SB 2, notée E'2, étant peu différente de E 2) car la densité de probabilité de présence d'un électron de SB 2 est nul au centre du puits et donc très faible dans la zone o le potentiel a été perturbé par l'insertion de la couche S: un électron ne perçoit pas cette perturbation. Un électron de la sous-bande SB 1 a, au contraire, une forte densité de probabilité de présence au centre du puits quantique. Son énergie, notée E'1, est très inférieure à E 1 du fait de L'insertion de la couche perturbatrice et attractive S. On donne maintenant des exemples de réalisation de l'invention dans le cadre des systèmes Ga As/Al As (c'est-à-dire Ga AL As pour la couche de 1-x x puits et Ga AL As pour les couches-barrières, avec x positif ou nu et inférieur à y et y inférieur ou égal à 1) puis Ga Sb/Al Sb (c'est-à-dire Ga Al Sb pour la 1-x x couche de puits et Ga AL 1 Sb pour les couches- barrières, avec x positif ou nul et inférieur à y et y inférieur ou égal à 1). Dans le cas du système Ga As/AL As, on utilise par exempte In As (ou plus exactement In Ga As avec z z 1-z positif et inférieur ou égal à 1) pour réaliser la couche S qui perturbe la structure Ga As/AL As. In As est un matériau de plus petite bande interdite que Ga As et permet de générer une perturbation attractive dans ce dernier. Pour des questions de différence de paramètre de maille cristalline, on utilise une couche très mince de In As comportant deux monocouches que l'on dépose sur Ga As par une technique de croissance classique (EJM ou OMCVD). Certaines techniques dérivées de ces techniques de croissance classique permettent de déposer trois monocouches de In As (voir les documents ( 7) et ( 8)). On a comparé sur les figures 3 à 6 les résultats obtenus pour la structure Ga As/Al As de référence à ceux obtenus pour des structures modifiées par L'insertion de deux monocouches MC (structure C) ou trois monocouches MC(structure D) de In As au centre du puits. Ces structures modifiées conformément à l'invention permettent de résoudre les trois problèmes mentionnés plus haut. En ce qui concerne le premier problème, pour une énergie de transition donnée E 2-E 1, E 1 est beaucoup plus faible pour la structure ainsi modifiée (voir la figure 4). Dans toute la plage des énergies de transition, de O à 0, 8 e V, E 1 est inférieur à la limite de 0,15 e V: il est possible de peupler efficacement la * sous-bande fondamentale de la structure. En ce qui concerne le deuxième problème, l'effet de saturation de l'énergie de transition, dû à la non-parabolicité de la bande de conduction, est repoussé: pour E 2-E 1 donnée, E 2 est en effet plus faible dans la structure modifiée. La plage des énergies de transition a priori accessibles s'en trouve augmentée. Une absorption intra-bande à des énergies dépassant 0,8 e V est rendue possible. On notera que l'utilisation de trois monocouches de In As au lieu de deux monocouches n'augmente pas tellement cette plage. En ce qui concerne Le troisième problème, pour une énergie de transition intrabande donnée, la largeur du puits est plus grande dans le cas de la structure modifiée. Cette propriété peut permettre de travailler avec des puits de plus grande Largeur ( 4 nm au lieu de 2,3 nm pour E 2-E 1 = 0,6 e V) et de meilleure qualité structurale. On notera, pour chacun de ces trois problèmes, la supériorité des structures C et D conformes à l'invention sur la structure à puits de In Ga As. 0,2 Gao,8 On notera enfin, sur la figure 6, que les forces d'oscillateur sont supérieures, à -énergie de transition intrabande donnée, pour les structures conformes à l'invention. On précise que dans certain cas, il peut être plus intéressant de placer la couche S au voisinage du centre du puits plutôt que rigoureusement au centre de ce puits. Pour les structures utilisées sous champ électrique, on pourra préférer placer la couche S au noeud de la fonction d'onde du second niveau (afin de déplacer celui-ci aussi peu que possible) ou au maximum de densité de propabilité de présence du premier niveau (pour abaisser celui-ci autant qu'il est possible). On peut également compenser certaines imperfections de structure; dans le cas de In As dans Ga As et pour certaines conditions de croissance, on peut observer un étalement limité de In As sur quelques monocouches, dans la direction de croissance. Cet étalement décale alors la position moyenne de l'indium par rapport au centre du puits. Ce déplacement peut être compensé par un décalage de la position nominale du plan de In As. On considère maintenant le cas du système Ga Sb/Al Sb. Dans ce cas, il est possible d'épitaxier facilement sur Ga Sb le matériau In As. Celui-ci a un fort caractère attractif pour les électrons car la discontinuité de bandes au voisinage de l'interface In As/Ga Sb vaut 1 e V. Pour mémoire, la configuration de bandes pour les matériaux In As, Ga Sb et Al Sb est représentée sur la figure 14 A. Une substitution de N monocouches (n supérieur ou égal à 2 et inférieur ou égal à 6) de Ga Sb par In As au centre du puits permet d'augmenter très fortement la plage des énergies de transition accessibles dans ce système, comme le montre&tles figures 12 et 13 sur lesquelles les traits gras correspondent à la plage d'utilisation possible des puits quantiques. De plus, sur la figure 13, a est la largeur d'un puits (épaisseur de Ga Sb plus épaisseur des n monocouches MC de In As). Pour N supérieur ou égal à 3, cette plage s'étend bien au-delà de 0,8 e V. Un avantage de ce système par rapport au système In As/Ga As/AL As (utilisation de In As pour former la couche S) est qu'on peut obtenir ici une valeur désirée E 2-E 1 en partant d'un puits plus large qui est donc plus facilement réalisable et moins sensible aux imperfections. On notera que pour une largeur de puits donnée, E 2- E 1 augmente avec n, sature pour N égal à 4 ou à 5 et diminue ensuite. L'effet majeur d'une augmentation de n, pour n supérieur ou égal à 4, est un déplacement d'ensemble des niveaux E 1 et E 2 vers les basses énergies et une réduction correspondante de l'énergie de bande interdite de la structure. Un second avantage de ce système est donc qu'on peut ajuster relativement indépendamment si nécessaire l'énergie de transition intra-bande (très sensible à la largeur du puits) et l'énergie de bande interdite. Pour la mise en oeuvre de l'invention dans le système Ga Sb/Al Sb, on peut utiliser une couche S de In As relativement épaisse, de l'ordre de 1,5 nm par exemple. Comme autre matériau de substitution dans La structure, on pourrait utiliser In Sb (deux ou trois monocouches) ou In(As Sb) au lieu de In As. On indique ci-après quelques modes particuliers de mise en oeuvre de L'invention. L'insertion d'une couche mince au centre du puits conformément à l'invention ne change pas les conditions d'utilisation d'une telle structure utilisant l'absorption intrabande. En particulier, les conditions sur la polarisation et la direction de propagation d'un faisceau Lumineux incident sont inchangées. Les techniques traditionnellement employées pour augmenter l'efficacité de l'absorption intra-bande par les puits (configuration de multi- réflexion, entrée du rayonnement par une face inclinée à 45 par rapport au plan des puits, insertion de la structure dans un guide d'onde, corrugation de la surface pour réaliser un réseau de diffraction) peuvent être de même employés ici. Chaque fois qu'un composant utilise l'absorption intra-bande, il est donc possible d'étendre vers les courtes longueurs d'onde sa plage de fonctionnement en modifiant uniquement, conformément à L'invention, le puits (ou Les puits dans Le cas d'une structure à multipuits quantiques) o se produit l'absorption intra-bande. Pour la présentation de quelques modes préférentiels de réalisation, on ne considère donc que La zone de la structure réalisant la fonction d'absorption intra-bande. Exemp Le sur un substrat de Ga As: Epaisseur Nature c Ga AL As (O I x 1-x - b Ga AI 1 As Cx 18 3 I 2 ' 2 nm et n= 2,5 x 10 atomes/cm, on obtient une structure absorbant à 0,5 e V ( 2,5 micromètres), avec une densité 12 -3 surfacique électronique de 10 électrons cm Les épaisseurs c et c sont quelconques, par exemple 5 nm. I 2 Epaisseur Nature c Ga Al As (O 1 x - Si/cm b Ga AL As (x 2 1 absorption à environ 0,8 e V ( 1,55 m e-ro-ve J - Les barrières de Al As étant très fines, l'ensemble des électrons introduit par dopage est transféré dans le 1 luits, dont la 3 densité électronique est voisine de 10 électrons cm Exem E-lesur un substrat de Ga Sb Epaisseur Nature c Ga Sb dopé par N atomes Si/cm b AL Sb non dopé p Ga Sb non dopé MC In As non dopé P Ga Sb non dopé 2 b AL Sb non dopé c Ga Sb dopé par N atomes Si/cm 3 En prenant b 1 =b 2 = 3 nm, p 1 = 2 = nm, c 1 = 5 18 12 nm et n= 10 atomes/cm', l'énergie de transition intrabande et l'énergie E 1-HH 1 de bande interdite de la structure sont simu Ltanément très proches de 0,8 e V. On peut donc intégrer sur un substrat de Ga Sb des fonctions de traitement du signal à 0,8 e V ( 1,55 micromètres) utilisant soit L'absorption intrabande soit l'absorption bande à bande. Si L'on applique un champ électrique de l'ordre de 10 V/m pour asymétriser cette structure, on obtient la configuration de bandes représentée sur la figure 14 B. Cette structure est bien adaptée à la génération de seconde tarmonique à partir d'un rayonnement de première harmonique à 1,55 micromètre (hv= 0,8 e V): on n'a qu'un seul terme résonant puique les niveaux d'électrons (ou de trous) sont bien séparés les uns des autres; ce terme provient du processus mettant en jeu la première sous-bande de trous lourds (de fonction d'onde et et d'énergie minimale Et) et les deux premières sous-bandes d'électrons (de fonctions d'onde 01 et 02 et d'énergies minimales E 1 et E 2). Le coefficient de génération de seconde harmonique est proportionnel à: (E 2-Et-2 hv) (E 1-Et- hv) Les énergies de transition interbande (de l'ordre de 0,79 e V) et intrabande (de l'ordre de 0,81 e V) sont simultanément proches de la résonance à 0,8 e V. De plus, les termes de recouvrement et sont grands (ils valent respectivement 0,63 et 0,42) et la force d'oscillateur de la transition intrabande (liée à l'élément de matrice ) est également grande (elle est voisine de 0,8). On notera enfin qu'une version non dopée de la structure de L'invention peut constituer le milieu actif d'un modulateur tout optique, travai L Lant à 1,55 micromètre et commandé par un rayonnement de même longueur d'onde. Les documents cités dans la présente description sont Les suivants: ( 1) Levine B F, Choi K K, Bethea C G. Walker J et Ma Lik R J, Appl Phys Lett 50, 1092 ( 1987) ( 2) Vodjani N, Vinter B, Berger V, Bockenhoff E et Costard E, Appl Phys Lett 59, 555 ( 1991) ( 3) Olszakier et ai, Phys Rev Lett, 62, 2997 ( 1989) ( 4) Rosencher E, Bois P, Nagle J et De Laître S, Electron Lett 25, 1063 ( 1989) ( 5) Khurghin J, Phys Rev B, 38, 4056 ( 1988) ( 6) Marzin J Y et Gerard J M, Phys Rev. Lett 62, 2172 ( 1989) ( 7) Gerard J M et Marzin J Y, App L Phys. Lett 53, 568 ( 1988) ( 8) Lee J H, Hsieh K Y et Kolbas R M, Phys Rev B 41, 7678 ( 1990) REVENDICATIONS 1 Hétérostructure semiconductrice comprenant au moins un motif comportant une couche mince ( 10 a, b) d'un matériau semiconducteur et deux couches- barrières semiconductrices ( 12) entre lesquelles se trouve La couche mince et qui ont une plus grande largeur de bande interdite que la couche mince, ce qui crée un puits de potentiel, cette hétérostructure étant caractérisée en ce qu'elle comprend en outre une couche u Ltrafine attractive (S) qui est insérée dans la couche mince, sensiblement au milieu de celle-ci, et qui est faite d'un matériau semiconducteur appartenant à la même famille que le matériau de la couche mince ( 10 a, b), et en ce que l'hétérostructure comporte au moins deux sous-bandes dont Les états d'énergie minimale sont confinés dans le puits de potentiel et dont les énergies minimales sont respectivement notées E 1 et E 2, avec E 2 supérieure à El, La profondeur du puits de potentiel étant très supérieure à E 2 et la distance entre les minima en énergie de ces sous-bandes étant au moins égale à 400 me V. 2 Hétérostructure selon la revendication 1, caractérisée en ce que les matériaux constitutifs de la couche mince ( 10 a, 10 b) et des couches ( 12) entre lesquelles cette couche mince se trouve appartiennent à la même famille de matériaux semiconducteurs. 3 Hétérostructure selon La revendication 2, caractérisée en ce que la couche mince ( 10 a, 10 b) est en Ga AL As et en ce que les couches ( 12) entre 1-x x lesque L Les se trouve cette couche mince sont en Ga 1- AL As, x étant positif ou nul et inférieur à y, y y y. etant inférieur ou éga L à 1. 4 Hétérostructure selon La revendication 3, caractérisée en ce que La couche ultrafine (S) est en In Ga As, z étant supérieur à O et inférieur ou égal z 1-z à 1. Hétérostructure selon la revendication 2, caractérisée en ce que la couche mince ( 10 a, 10 b) est en Ga Al Sb et en ce que les couches entre lesquelles 1-x x se trouve cette couche mince sont en Ga A 11 Sb, x y I-y étant positif ou nul et inférieur a y, y étant inférieur ou égal à 1. 6 Hétérostructure selon la revendication 5, caractérisée en ce que la couche ultrafine (S) est en In As. 7 Hétérostructure selon l'une quelconque des revendications 1 à 6, caractérisée en ce qu'elle est dopée par des donneurs, de façon à peupler par des électrons le bas de la sous-bande dont l'énergie minimale vaut El. 8 Hétérostructure selon l'une quelconque des revendications 1 à 7, caractérisé en ce qu'elle comprend plusieurs exemplaires empilés dudit motif.