Brevet FR2669466A1 — publié le 19920522

:1 PROCEDE DE GRAVURE DE COUCHES DE CIRCUIT INTEGRE A PROFONDEUR FIXEE ET CIRCUIT INTEGRE CORRESPONDANT L'invention est relative à un procédé de gravure de couches de circuit intégré à profondeur fixée et au circuit intégré correspondant. La fabrication d'un circuit intégré résulte d'un enchaînement d'étapes élémentaires telles que étapes de photolithographie, de gravure, d'implantation ionique et10 de traitement thermique par exemple. Dans l'évolution des procédés pour la fabrica- tion de circuits intégrés toujours plus denses et de dimensions de plus en plus réduites, la mise en oeuvre de chaque étape élémentaire devient plus délicate et né-15 cessite une précision et une faculté de reproductibilité accrues. Dans les procédés submicroniques, les gravures de motifs en temps fixe, c'est-à-dire les processus de gravure dans lesquels la profondeur de gravure est20 déterminée par le temps de mise en oeuvre du processus de gravure pour un matériau de nature déterminée, et pour un mode ou agent chimique de gravure donné compte tenu de ce matériau, se multiplient Il en est ainsi, notamment, des gravures de tranchées d'isolement ou de25 la fabrication de grilles de silicium polycristallin dites en "T inversé". Malgré toutes les précautions prises pour la mise en oeuvre des processus précités, ceux-ci ne peuvent prétendre atteindre les qualités de précision et30 de reproductibilité précédemment mentionnées, en parti- culier en raison de l'inadéquation de ce type de pro- cessus à la commutation ou passage de l'état de gravure à celui de non gravure, une telle commutation ne pouvant prétendre être instantanée, ce qui a pour effet d'intro- duire une zone d'incertitude, non nulle, de la profon- deur effectivement atteinte par la gravure, aux risques d'hétérogénéité locale ou générale des caractéristiques physiques des matériaux à graver et donc de leurs vitesses de gravure d'un circuit intégré à l'autre, ces paramètres de gravure dépendant notoirement des conditions opératoires, même dans le cas de circuits intégrés de même type. La présente invention a pour objet de remédier aux inconvénients précités et notamment d'augmenter sensiblement la précision de la gravure des couches de circuit intégré dans le domaine submicronique. Un autre objet de la présente invention est d'augmenter sensiblement la faculté de reproductibilité d'un circuit intégré à l'autre de même type. Un autre objet de la présente invention est la mise en oeuvre d'un procédé de gravure d'une couche de matériau d'un circuit intégré à profondeur fixée et du circuit intégré correspondant. Le procédé de gravure d'une couche de matériau d'un circuit intégré, couche à graver, sur profondeur fixée, objet de la présente invention, est remarquable en ce qu'il consiste à déposer sur la couche de ma- tériau, couche à graver, une couche protectrice formant couche d'arrêt et à déposer, sur cette couche d'arrêt, une couche de référence en matériau compatible avec celui de la couche à graver et dont l'épaisseur est prise sensiblement proportionnelle à la profondeur de la gravure à réaliser dans ladite couche à graver Un masque de gravure aux dimensions planes de la gravure à effectuer dans la couche à graver est appliqué sur la couche de référence et la gravure de cette couche est effectuée par l'intermédiaire du masque de gravure par attaque chimique, jusqu'à la rencontre de la couche d'arrêt dans la zone de gravure de la couche de réfé- rence Le masque et la cduche d'arrêt dans la zone de gravure de la couche de référence sont supprimés, et la couche de référence et la couche de matériau à graver sont soumises simultanément à une attaque chimique jusqu'à la rencontre de la couche d'arrêt, la couche de référence et la couche d'arrêt formant un masque auxi- liaire pour la couche à graver, de façon à créer, dans la couche à graver, une gravure aux dimensions planes de la gravure de la couche de référence et de profondeur sensiblement proportionnelle à l'épaisseur de cette couche de référence. Selon un premier mode de mise en oeuvre, le circuit intégré, objet de la présente invention, est remarquable en ce qu'il comporte au moins, dans un substrat de matériau déterminé, une zone en créneau, la surface libre dudit substrat au voisinage de ladite zone en créneau comportant un revêtement d'une couche en matériau différent de celui du substrat. Selon un deuxième mode de mise en oeuvre, le circuit intégré objet de l'invention est remarquable en ce qu'il comporte, au moins sur un substrat de matériau déterminé, une zone en saillie, cette zone en saillie étant formée par un même matériau superposé sur la surface du substrat et présentant sensiblement la forme d'un T inversé. Une description plus détaillée de l'objet de la présente invention sera maintenant donnée en liaison avec la description et avec les dessins ci-après dans lesquels: la figure 1 représente un schéma illustratif de mise en oeuvre du procédé objet de l'invention, de gravure à profondeur fixée, la figure 2 représente un schéma illustratif de mise en oeuvre du procédé objet de l'invention, plus particulièrement destiné à la réalisation d'éléments en forme de T inversé, la figure 3 représente une vue en coupe d'un circuit intégré dans lequel la gravure à profondeur fixée a été réalisée conformément au procédé objet de l'invention, la figure 4 représente une vue en coupe d'un circuit intégré dans lequel un élément en forme de T inversé a été réalisé conformément au procédé selon l'invention, la figure 5 représente une vue en coupe d'un circuit intégré dans lequel un élément a été réalisé au moyen d'une variante du procédé objet de l'invention tel qu'illustré en figure 2. Le procédé de gravure d'une couche de matériau d'un circuit intégré à profondeur fixée, conformément à l'ob- jet de la présente invention, sera tout d'abord décrit en liaison avec la figure 1 Selon la figure précitée, le procédé objet de l'invention consiste, ainsi que re- présenté au point a) de la figure 1, à déposer sur la15 couche de matériau constituant la couche à graver 1, une couche protectrice formant couche d'arrêt, notée 2. Ensuite, ainsi qu'on l'a représenté au point b) de cette même figure 1, le procédé selon l'invention consiste à déposer, sur la couche d'arrêt 2, une couche20 dite couche de référence, notée 3, en matériau compa- tible avec celui de la couche à graver 1 Par matériau compatible avec celui de la couche à graver 1, on comprend tout type de matériau susceptible d'être gravé simultanément avec la couche à graver 1, dans des con-25 ditions opératoires proches ou identiques, ainsi qu'il sera décrit ultérieurement dans la description. Selon un aspect particulier du procédé objet de l'invention, l'épaisseur de la couche de référence 3 est prise sensiblement proportionnelle à la profondeur de la gravure à réaliser dans la couche à graver 1 Bien en- tendu, ainsi qu'il sera décrit ultérieurement dans la description, on comprendra que le coefficient de propor- tionnalité reliant les valeurs des deux épaisseurs res- pectives de la couche de référence 3 et de la profondeur de la gravure à réaliser est déterminé en fonction des conditions opératoires des gravures respectives de ces couches. Ainsi qu'on l'a en outre représenté aux points c) et d) de la figure 1, le procédé objet de l'invention consiste ensuite successivement à appliquer sur la couche de référence 3 un masque de gravure 4, aux di- mensions planes de la gravure à effectuer dans la couche à graver 1, puis à effectuer la gravure de la couche de référence 3 par l'intermédiaire du masque de gravure 4 par attaque chimique, sèche ou humide, jusqu'à la ren- contre de la couche d'arrêt 2 La rencontre de la couche d'arrêt s'entend de la rencontre, dans la zone de gravure, de la couche de référence 3. Ainsi qu'on l'a ensuite montré au point e) de la figure 1, le procédé selon l'invention consiste alors à supprimer le masque de gravure 4 et la couche d'arrêt 2 dans la zone de gravure de la couche de référence 3 La suppression de la couche d'arrêt 2 peut être effectuée par attaque chimique, sèche ou humide. Ensuite, ainsi que représenté au point f) de la figure 1, le procédé objet de la présente invention consiste alors à soumettre simultanément la couche de référence 3 et la couche de matériau à graver 1, au niveau de la zone libérée par la suppression de la couche d'arrêt 2 à l'étape précédente e), à une attaque chimique simultanée L'attaque chimique simultanée de la couche de référence 3 et de la couche de matériau à graver 1 est poursuivie jusqu'à la rencontre de la couche d'arrêt 2, sous-jacente à la couche de référence 3, après disparition de cette dernière. Au cours de l'opération effectuée au point f), telle qu'illustrée en figure 1, pour la mise en oeuvre du procédé objet de l'invention, la couche de référence 3 et la couche d'arrêt 2 forment un masque auxiliaire pour la couche à graver 1, de façon à créer dans la couche à graver 1 précitée une gravure aux dimensions planes de la gravure de la couche de référence 3 et de profondeur sensiblement proportionnelle à l'épaisseur de la couche de référence 3 précitée. Sur cette même figure 1, au point o), on a repré- senté la couche gravée à profondeur fixée d'un circuit intégré obtenue par la mise en oeuvre du procédé, repré- senté selon les étapes a) à f) de cette même figure 1. On comprendra bien sûr que les conditions opéra- toires de gravure et d'attaque chimique de la couche de référence 3 et de la couche à graver 1 peuvent alors être choisies de façon à obtenir une profondeur de gravure de la couche à graver 1 proportionnelle à l'é- paisseur de la couche de référence 3, ceci par exemple en fixant les vitesses relatives de gravure de la couche de référence 3 et de la couche à graver 1 par un choix judicieux des agents de gravure et des conditions opéra- toires de ces agents de gravure. Dans un mode de réalisation simplifiée du procédé objet de la présente invention, la couche de référence 3 peut avantageusement être constituée en un matériau identique à celui de la couche à graver 1 Dans ce cas, la couche de référence 3 présente alors une épaisseur e sensiblement égale à la profondeur de gravure à réaliser dans la couche à graver 1 Bien entendu, la gravure30 simultanée de la couche de référence 3 et de la couche à graver 1 est effectuée par l'intermédiaire des mêmes agents de gravure, dans des conditions opératoires sensiblement identiques. Un deuxième mode de réalisation du procédé objet de l'invention sera décrit de manière avantageuse dans le cas o ce procédé est mis en oeuvre en vue de rapporter sur une couche de matériau d'un circuit intégré un élé- ment en relief de hauteur déterminée De manière géné- rale, l'élément en relief de hauteur déterminée rapporté sur la couche de matériau d'un circuit intégré est un élément de type T inversé, selon la terminologie habi- tuelle à ce type d'élément en relief dans le domaine technique de la réalisation des circuits intégrés. Ainsi qu'on l'a représenté en figure 2, le procédé objet de l'invention consiste alors, ainsi que repré- senté au point g), à répéter les étapes a) et b) précé- demment décrites en liaison avec la figure 1 succes- sivement, de façon à former sur la couche à graver 1 une couche 31 puis une surcouche 32 de référence On notera que la couche 31 et la surcouche 32 de référence sont de préférence des couches de même nature et de même épais- seur Aux couche 31 et surcouche 32 de référence sont associées, également par la répétition des étapes a) et b) précédentes, leurs couche 21 et surcouche d'arrêt 22 respectivement. Le procédé objet de la présente invention, tel que représenté en figure 2, consiste ensuite au point h) à effectuer les étapes c), d) et e) précédemment décrites en relation avec la figure 1, relativement à la surcouche de référence 32 et à la surcouche d'arrêt 22,25 de façon à former, au niveau de la couche de référence 31, un élément en relief à rapporter, formant masque auxiliaire pour la couche de référence 31. L'opération telle que représentée au point h) de la figure 2 est ensuite suivie, ainsi que représentée au point i) de cette même figure, d'une opération consis- tant alors à soumettre simultanément la couche de réfé- rence 31 et l'élément en relief de la surcouche de réfé- rence 32, formant masque auxiliaire, à une attaque chi- mique jusqu'à la rencontre de la couche d'arrêt 21, de façon à former au niveau de la couche de référence 31, l'élément en relief rapporté sur la couche de matériau à graver 1. On comprendra bien entendu que le procédé objet de la présente invention, tant dans son premier mode de réalisation tel qu'illustré en figure 1 que dans son deuxième mode de réalisation tel qu'illustré en figure 2, peut être mis en oeuvre relativement à tout type de matériau normalement utilisé pour la fabrication des circuits intégrés, et notamment pour des couches à graver 1 constituées par un matériau tel que l'oxyde de silicium Si O 2, le nitrure de silicium Si 3 N 4 ou le silicium Si mono ou polycristallin. On notera en outre que, dans le cas de la mise en oeuvre du procédé objet de l'invention tel que repré- senté de manière illustrative en figure 2, la couche 31 et la surcouche 32 de référence peuvent être de même nature ou de nature différente. Dans tous les cas de mise en oeuvre du procédé objet de l'invention, la dimension d'épaisseur de la couche de référence vis-à-vis de la couche à graver 1 ou de la surcouche de référence vis-à-vis de la couche de référence 31 est prise égale à une valeur propor- tionnelle à la dimension dans la même direction soit de la gravure à réaliser dans la couche à graver 1, soit respectivement de l'élément en T inversé à rapporter 31 sur la couche à graver 1 Le rapport de proportionnalité de ces dimensions est alors pris égal, pour des maté- riaux compatibles constituant la couche de référence 3 ou surcouche de référence 32, pour des modes ou agents chimiques de gravure appropriés respectifs de la couche de matériau à graver 1 et de la couche de référence 3 ou de la couche de référence 31 et de la surcouche de réfé- rence 32, au rapport des vitesses de gravure corres- pondantes. On comprendra bien sûr que lorsque la couche à graver 1 et la couche de référence 3, respectivement la couche de référence 31 et la surcouche de référence 32, sont en matériaux identiques, les dimensions d'épaisseur e sont alors sensiblement identiques Les couche de référence et couche à graver 1 ou surcouche de référence 32 et couche de référence 31 sont alors soumises, en vue de leur gravure, aux mêmes modes ou agents chimiques de gravure. On notera en particulier que, pour des matériaux constituant des couches à graver ou des couches ou surcouches de référence précédemment décrites, les agents chimiques de gravure peuvent être choisis parmi le groupe ci-après: Matériaux ( 1) et/ou ( 3) Gaz de gravure Liquide sèche Si monocristallin CF 4 C 12 KOH Si pollycristallin SF 6 C 12 HF HNO 3 Si amorphe H Cl C 12 Nitrure de silicium H Cl C 12 Si O 2 thermique C 2 F 6CHF 3 HF li 02 déposé SF 6 CHF 3 HF dilués ou tamponnés En outre, on indique que l'agent chimique peut être constitué par un mélange de SF 6 ou C 2 F 6 avec CHF 3 dans des proportions déterminées. En ce qui concerne la mise en oeuvre pratique du procédé objet de l'invention telle que représentée en figure 1, celle-ci peut être mise en oeuvre dans les conditions ci-après. Le dépôt de la couche de référence 3 sur la couche d' arrêt 2 peut avantageusement être effectué, dans le cas o la couche à graver 1 est une couche de silicium, par le dépôt sur la couche d'arrêt 2 d'une épaisseur de silicium légèrement inférieure mais voisine de la D profondeur de la gravure ou tranchée à effectuer, pour constituer la couche de référence 3 Le dépôt du masque de gravure 4, tel que représenté aux points c) et d) de cette même figure 1, peut alors être effectué par dépôt sur la couche de référence 3 d'une résine dans laquelle on pratique, par un procédé photolithographique par exemple, une ouverture aux dimensions planes de la gravure à réaliser. La gravure de la couche de référence 3, telle que représentée à l'étape e) de la figure 1, peut alors être effectuée au moyen d'un procédé de gravure anisotrope, en utilisant la couche d'arrêt 2, constituée par exemple par une couche d'oxyde de silicium, comme couche d'arrêt avec détection de fin d'attaque Le masque de résine 4 peut alors être ou non retiré. La couche d'arrêt 2 peut alors être attaquée au niveau de l'ouverture ou zone pratiquée dans la couche de référence 3, en utilisant soit le masque de résine 4 sur couche de référence 3, soit la couche de référence 3 seule comme masque.25 Le retrait de la résine formant le masque de gravure 4 ayant été effectué, si ce dernier était encore présent, la gravure simultanée de la couche de référence 3 et de la couche à graver 1 est effectuée, ainsi que représentée au point f) de la figure 1, à l'aide d'un procédé de gravure anisotrope On comprend bien sûr que la gravure simultanée de la couche de référence 3 et de la couche à graver 1 est alors poursuivie, jusqu'à la rencontre de la couche d'arrêt 2 sous-jacente à la couche de référence 3, ce qui permet, par détection de fin d'attaque sur rencontre de cette couche d'arrêt 2, il d'arrêter également la gravure de la couche à graver 1. On comprendra bien sûr qu'une légère surgravure peut être effectuée pour être certain d'avoir parfai- tement dégagé la couche de référence 3 sur la couche d'arrêt 2 Ainsi, la profondeur de la gravure sur la couche à graver 1 est égale à l'épaisseur de la couche de référence 3 déposée initialement plus une légère portion correspondant à la surgravure précédemment citée, cette surgravure étant bien entendu aisément calibrable et correspondant en général à un temps très court devant le temps de gravure total. Conformément au mode de réalisation tel que représenté en figure 2 du procédé objet de l'invention, dans le cas de la réalisation d'éléments en relief de type T inversé, les étapes a) et b) du procédé tel qu'illustré en figure 1 sont répétées successivement, de façon à déposer sur la couche dite couche à graver, bien que celle-ci ne soit pas gravée en tant que telle, une couche de référence notée 31 et une surcouche de réfé- rence notée 32, ainsi que leurs couches d'arrêt respec- tives 21 et 22 De préférence, lorsque la couche de référence 31 et la surcouche de référence 32 sont cons- tituées par un même matériau tel que du silicium, la couche de référence 31 peut présenter une épaisseur el et la surcouche de référence 32 une épaisseur e 2, dif- férente de el L'épaisseur e 2 est alors inférieure mais voisine de la hauteur désirée pour la partie verticale du T inversé, constituant en fait une marche rapportée sur la couche à graver 1. Puis, conformément au point h) de la figure 2, un masque de gravure 4, constitué par une résine, est appliqué, ce masque étant façonné par un procédé photo- lithographique de façon à maintenir le masque 4 au niveau des surfaces correspondant au sommet des marches, c'est-à-dire à la partie verticale du T inversé. Ainsi qu'on l'a représenté au point i) de la figure 2, la surcouche de référence 32 est alors soumise à un processus de gravure en présence du masque 4, jusqu'à l'atteinte de la surcouche d'arrêt 22, avec détection de fin d'attaque et arrêt du processus de gravure de la surcouche 32 La gravure précitée est bien entendu effectuée au moyen d'une gravure anisotrope Le masque de résine 4 peut alors ou non être retiré. L'ensemble tel que représenté au point i) de la figure 2 est alors, en présence ou non du masque de gravure 4, soumis à un processus de gravure, de façon à effectuer la gravure simultanée de la couche de réfé- rence 31 et de l'élément en relief 32 résultant de la gravure antérieure Dans cette opération, l'élément en relief 32 sert de masque auxiliaire pour la gravure de la couche de référence 31 et la formation de l'élément vertical au sommet de la marche en T inversé 31, tel que représenté au point o) de la figure 2, après la mise en oeuvre des étapes g), h), i) du procédé objet de l'in- vention, dans son deuxième mode de réalisation On comprendra bien sûr que la gravure est finalement ar- rêtée par détection de fin d'attaque sur la surcouche d'arrêt 22, lorsque tout le silicium de la surcouche de référence 32 a été enlevé. Bien entendu, une légère surgravure est toujours nécessaire afin d'être certain d'avoir bien dégagé le silicium sur la surcouche d'arrêt 22. Une description plus détaillée d'un circuit intégré comportant au moins une couche gravée conformément à l'un ou l'autre des modes de réalisation du procédé objet de l'invention, tels que décrits en liaison avec les figures 1 et 2 précédentes, sera maintenant donnée en liaison avec les figures 3 respectivement 4. Selon la figure 3, le circuit intégré obtenu suite à la mise en oeuvre du procédé objet de l'invention tel qu'illustré en figure 1, comporte au moins dans un substrat 1 de matériau déterminé, une zone en créneau. La surface libre du substrat, au voisinage de la zone en créneau, comporte un revêtement d'une couche 2 en matériau différent de celui du substrat, formant couche d'arrêt Dans un exemple de réalisation, le substrat 1 constituant couche à graver sera constitué par du silicium et la couche d'arrêt sera constituée par de l'oxyde de silicium Si O 2. En outre, ainsi que représenté en figure 4, le circuit intégré obtenu par la mise en oeuvre du procédé tel qu'illustré en figure 2 comporte, au moins sur un substrat 1 de matériau déterminé, une zone en saillie 31, cette zone en saillie étant formée par un même maté- riau superposé sur la surface du substrat 1, et pré- sentant sensiblement la forme d'un T inversé Le plus souvent, le substrat 1 en matériau déterminé est cons- titué par du silicium Si, l'élément en saillie en forme de T inversé étant constitué par ce même matériau. Ainsi qu'on l'a représenté en figure 4, la zone en saillie 31 est prise entre sa partie distale et sa partie de base entre deux couches 21 22 d'un même matériau, différent de celui du substrat et formant couche d'arrêt Le plus souvent, les couches 21 22 sont réalisées en oxyde de silicium Si O 2, alors que le substrat 1 est lui-même réalisé en silicium Si. Ainsi qu'on l'a en outre représenté en figure 4, l'épaisseur de la couche 22 recouvrant la partie distale de la zone en saillie en forme de T inversé est sensi- blement égale à celle de la partie 310 formant base de la zone en saillie. Le mode de réalisation du procédé objet de l'invention tel que représenté en figure 2 n'est pas limité à la réalisation d'éléments strictement en forme de T inversé En effet, le procédé précité permet de graver une épaisseur totale en deux temps: démarrage du processus de gravure par une attaque chimique, puis poursuite, après détection de la couche d'arrêt 22 avec une attaque chimique d'une autre nature. Une telle variante du procédé précité permet alors de réaliser une forme finale différente de celle d'un T inversé au sens strict, les bords de gravure pouvant être totalement ou partiellement obliques ou incurvés ainsi que représenté en figure 5. On a ainsi décrit un procédé de gravure à pro- fondeur fixée dans lequel, grâce au rajout d'une couche de référence sur une couche d'arrêt, la couche de réfé- rence étant en un matériau proche du point de vue de la gravure du matériau constituant la couche à graver, on transforme une gravure en temps fixe en une gravure à profondeur fixée. On notera que le procédé objet de l'invention, dans son premier et dans son deuxième mode de réalisation, rend totalement reproductible la gravure entre plaquettes de circuit intégré d'un même lot Cette gravure devient également insensible à une dérive de procédé ou à un changement de machine, pourvu que la couche de référence, voire la surcouche de référence, aient les mêmes propriétés de gravure que la couche à graver Une telle insensibilité s'explique comme suit: si la gravure ralentit, il en est de même pour les couches à graver, c'est-à- dire la couche de référence et la couche à graver effective De ce fait, l'épaisseur gravée finale dans la couche à graver est la même. Toutefois, le procédé objet de la présente invention reste sensible aux inhomogénéités de gravure qui sont liées au procédé de gravure lui- même, ces inhomogénéités ne pouvant en elles-mêmes être évitées On notera toutefois que l'introduction d'un léger temps de sur- gravure permet d'être certain que la gravure de la couche de référence ou de la surcouche de référence a bien été achevée. REVENDICATIONS 1 Procédé de gravure d'une couche de matériau d'un circuit intégré, couche à graver, sur profondeur fixée, caractérisé en ce que ledit procédé consiste: a) à déposer sur ladite couche de matériau, couche à graver ( 1), une couche protectrice formant couche d'arrêt ( 2), b) à déposer sur ladite couche d'arrêt une couche de référence en matériau identique à celui de la couche à graver et dont l'épaisseur est prise sensiblement égale à la profondeur de la gravure à réaliser dans ladite couche à graver, c) à appliquer sur ladite couche de référence un masque de gravure aux dimensions planes de la gravure à effectuer dans ladite cou- che à graver, d) à effectuer la gravure de ladite couche de référence ( 3) par l'intermédiaire du masque de gravure par attaque chimique, sèche ou humide jusqu'à la rencontre de la couche d'arrêt dans la zone de gravure de la rcouche de référence, e) à supprimer ledit masque ( 4) et ladite couche d'arrêt ( 2) dans la zone de gravure de ladite couche de référence ( 3), f) à soumettre simultanément la couche de référence ( 3) et la couche de matériau à graver ( 1) à une attaque chimique, sèche ou humide, jusqu'à la rencontre de la couche d'arrêt ( 2), la couche de référence ( 3) et la couche d'arrêt formant un masque auxiliaire pour la couche à graver(l), de façon à créer, dans la couche à graver ( 1), une gravure aux dimensions planes de la gravure de la couche de référence ( 3) et de profondeur sensiblement proportionnelle à l'épaisseur de cette couche de référence ( 3). 2 Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que la couche de référence ( 3) est constituée en un matériau identique à celui de la couche à graver ( 1), la couche de référence présentant une épaisseur sensi- blement égale à la profondeur à réaliser, dans ladite couche à graver. 3 Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que, en vue de rapporter sur une couche de maté- riau d'un circuit intégré, un élément en relief de hauteur déterminée, ledit procédé consiste: g) à répéter les étapes a) et b) successive- ment de façon à former, sur ladite couche à graver, une couche ( 31) puis une surcouche ( 32) de référence de même nature et de même épaisseur et leur couche ( 21) et surcouche d'arrêt ( 22), respectivement, h) à effectuer les étapes c), d) et e) relati- vement à la surcouche de référence ( 32) et à la surcouche d'arrêt ( 22), de façon à former, au niveau de la couche de référence ( 31) un élément en relief à rapporter formant masque auxiliaire pour la couche de référence ( 31), i) à soumettre simultanément la couche de référence ( 31) et l'élément en relief de la surcouche de référence ( 32) formant masque auxiliaire à une attaque chimique jusqu'à la rencontre de la couche d'arrêt ( 21), de façon à former au niveau de la couche de référence ( 31) ledit élément en relief rapporté sur ladite couche de matériau ( 1). 4 Procédé selon l'une des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que la couche à graver est constituée par un matériau inclus dans le groupe Si O 2, Si 3 N 4, Si. Procédé selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que la dimension d'épaisseur de la couche de référence est prise égale à une valeur proportionnelle à la dimension, dans la même direction, de la gravure à réaliser, le rapport de proportionnalité de ces dimensions étant pris égal, pour des matériaux compatibles constituant ladite couche de référence, et pour des modes ou agents chimiques de gravure appropriés respectifs de la couche de matériau à graver et de la couche de référence, au rapport des vitesses de gravure correspondantes. 6 Procédé selon la revendication 5, caractérisé en ce que lorsque la couche à graver et la couche de référence sont en matériau identique, lesdites dimensions sont identiques, lesdites couche de référence et couche à graver étant soumises, en vue de leur gravure, aux mêmes modes ou agents chimiques de gravure. 7 Procédé selon l'une des revendications 5 ou 6 caractérisé en ce que les modes ou agents chimiques de gravure sont choisis parmi les agents SF 6, C 2 F 6, H Cl, C 12, CHF 3. 8 Circuit intégré, caractérisé en ce qu'il comporte au moins dans un substrat ( 1) de matériau déterminé une zone en créneau ou en saillie ( 31), la surface libre du substrat au voisinage de ladite zone en créneau respectivement en saillie comportant un revêtement d'une couche ( 2) respectivement ( 21) en matériau différent de celui du substrat et formant couche d'arrêt. 9 Circuit intégré sclon la revendication 8, caractérisé en ce que la zone en saillie( 31) est formée par un même matériau superposé sur la surface du substrat ( 1) et présente sensiblement la forme d'un T inversé. I 1 I Circuit intégré selon la revendication 9, caractérisé en ce que ladite zone en saillie ( 31) est prise entre sa partie distale et sa partie de base entre deux couches ( 21, 22) d'un même matériau, différent de celui du substrat et formant couche d'arrêt. 11 Circuit intégré selon la revendication 10, caractérisé en ce que l'épaisseur de ladite couche ( 22) recouvrant ladite partie distale de la zone en saillie en forme de T inversé est sensiblement égale à celle de la partie ( 31) formant base de ladite zone en saillie.