Brevet FR2651337A1 — publié le 19910301

La présente invention a pour objet une composition photosensible à base de condensat diazoique en vue de l'obtention de plaques offset présensibilisées négatives. De nombreux mélanges photosensibles a base de dérivés diazoiques ont suscité une grande attention durant ces dernières années, surtout dans le vaste domaine de la lithographie. Nous pouvons distinguer essentiellement deux types de plaques - positives, pour lesquelles les zones irradiées deviennent solubles dans un révélateur - négatives, pour lesquelles les zones irradiées deviennent insolubles dans un révélateur. La présente invention concerne plus parti culiérement des compositions photosensibles négatives. De telles compositions ont été décrites par exemple dans US-A-4 659 645 et -4 681 833. Jusqu'à présent les plaques disponibles commercialement montrent deux in convénients majeurs lors de leur utilisation spécifique avec les systèmes projection. à savoir : une sensibilité extrèmement faible à la lumière et une faible résistance mécanique. Le but de l'invention a été la mise au point d'une couche photosensible répondant aux exigences précédemment énumérées en utilisant des composés diazoiques en présence de résines polymérisables. L'invention a donc pour objet une composition photosensible pour plaques offset comprenant (1) un système diazoique à base d'un composé diazo, un colorant, une résine uréthanne-acrylate et une résine époxy, et (2) un solvant ou un mélange de solvants comprenant une cétone aliphatique ou aromatique, un éther de glycol et un alcool primaire aliphatique. De préférence le système diazoique (1) comprend de 5 à 107 en poids de composé diazo, de 5 à 10% en poids de colorant, de 35 à 55%, en poids de résine uréthanne-acrylate et de 30 à 507. en poids de résine époxy. Le composé diazo est un produit photosensible du type habituel utilisé en lithographie notamment pour les plaques métalliques présensibilisées et peut être en particulier un condensat d'un sulfonate de diphénylamine et du paraformaldéhyde, obtenu selon le schéma réactionnel suivant dans lequel X signifie SO Le colorant est de préférence un colorant basique de type bleu-flexo. La résine uréthanne-acrylate est une résine du type habituellement utilisé pour le type de plaques précité, et de préférence une résine commercialisée sous la marque déposée Ebécryl par la Société U.C.B. (Union Chimique de Belgique). Le résine époxy peut être choisie parmi les polymères résultant de la condensation en milieu alca lin d'épichlorhydrine et de diphénylpropane. Le solvant ou le mélange de solvants (2) comprend de préférence de 20 à 407 de cétone aliphatique ou aromatique par exemple la méthyléthylcétone, de 20 à 40% d'un éther de glycol, par exemple l'éthylèneglycol et de 20 å 407 d'un alcool aliphatique primaire comme le méthanol, l'éthanol ou le propanol. Un mélange de solvants typique selon l'invention comprend de 30 à 357 de méthyléthylcétone, de 30 à 357 d'alcool méthylique et de 30 à 357 d'éthylèneglycol. La composition photosensible selon l inven- tion sert â former un film photosensible sur une face d'une plaque métallique préalablement traitée (notamment plaque d'aluminium grainée) adaptée a' la lithographie. Cette composition forme donc la couche sensible qui devient insoluble lorsqu'elle est exposée suffisamment a' la lumiere. Les zones non exposées sont amollies et éliminées durant le développement ultérieur. Le film exposé (insoluble) constitue la surface d'encrage de la plaque d'offset ainsi obtenue, qui peut donc être utilisée comme plaque présensibilisée négative. Les plaques obtenues avec la composition photosensible selon l'invention présente une photosensibilité accrue et des propriétés mécaniques supérieures en comparaison avec les plaques connues. L'exemple suivant illustre l'invention. EXEMPLE. La composition photosensible est constituée d'une solution d'un mélange de solvants dans les proportions suivantes - 337 d'éthylèneglycol - 337 d'alcool méthylique - 347 de méthyléthylcétone et d'un système diazoique comprenant les matières premières solides dans les proportions suivantes - 7,77 d'un composé diazo, résultant de la condensation d'une diphénylamine sous forme de sulfonate avec le paraformaldéhyde - 7,17. de colorant bleu victoria - 457. d'une résine uréthanne-acrylate (Ebecryl) - 40,2Z d'une résine époxy (type Epikote) Cette solution peut être divisée ou multipliée, le produit de base restant le meme. Cette solution étendue sur un support d'aluminium ayant subi un traitement de surface spécifique conduit a' l'obtention d'une plaque offset, laquelle peut entre utilisée comme plaque présensibilisée négative en utilisant un système d'insolation ultraviolets classiques (halogène-5000 W) mais aussi -et surtout elle est compatible en tous points avec un système d'insolation du type projection utilisé principalement par les imprimeurs affichistes. Lors de l'utilisation de cette plaque, l'imprimeur emploie une solution révélatrice dont la formule est connue des utilisateurs de ce type de plaques. La plaque obtenue avec la composition selon l'invention peut être utilisée manuellement mais aussi dans toutes machines à développer les plaques offset. REVENDICATIONS 1. Composition photosensible pour plaques offset comprenant (1) un système diazoique à base d'un composé diazo, un colorant, une résine uréthanne-acrylate et une résine époxy, et (2) un solvant ou un mélange de solvants comprenant une cétone aliphatique ou aromatique, un éther de glycol et un alcool primaire aliphatique. 2. Composition photosensible selon la revendication 1, caractérisée en ce que le système diazoi- que (1) comprend de 5 à 107 en poids de composé diazo, de 5 à 107 en poids de colorant, de 35 à 55%, en poids de résine uréthanne-acrylate et de 30 à 507 en poids de résine époxy#. 3. Composition photosensible selon la revendication 1 ou 2, caractérisée en ce que le composé diazo est un condensat d'un sulfonate de diphénylamine et du paraformaldéhyde. 4. Composition photosensible selon l'une quelconque des revendications 1 à 3, caractérisée en ce que le solvant ou le mélange de solvants (2) comprend de 20 à 407 de cétone aliphatique ou aromatique, de 20 à 407 d'un éther de glycol et de 20 à 407 d'un alcool aliphatique primaire. 5. Composition photosensible selon la revendication 4, caractérisée en ce que le mélange de solvants comprend de 30 à 357 de méthyléthylcétone, de 30 à 357 d'alcool méthylique et de 30 à 357 d'éthylèneglycol. 6. Composition photosensible selon la revendication 5, caractérisée en ce que le mélange de solvants comprend 34% de méthyléthylcétone, 337 d'alcool méthylique et 337 d'éthylèneglycol. 7. Plaque offset revêtue d'un film photosensible formé à partir d'une composition selon l'une quelconque des revendications 1 à 6.