Brevet FR2650891A1 — publié le 19910215

La présente invention concerne un capteur du type à filament pour la détermination d'une caractéristique statique ou dynamique d'un milieux gazeux environnant, tel que de l'air par exemple, un procédé pour sa fabrication, et des applications de ce capteur, principalement dans la détection de gaz oxydables mais aussi en chromatographie gazeuse (détection de gaz ionisables) ou encore dans le mesure de débits de fluide. Un tel capteur du type à filament peut se définir comme étant un capteur comportant un élément résistif au sein d'un filament destiné à échanger de la chaleur avec l'environnement; ainsi qu'une zone d'interface adaptée à réagir avec ce milieu selon un processus physico-chimique (au sens le plus large du terme : catalyse de combustion, adsorption, ionisation, simple échange thermique) influant, en fonction de la caractéristique du milieu à déterminer (concentration, débit ...), sur une caractéristique électrique de cette zone d'interface (température ou résistance, tension, intensité ... > . Cette zone d'interface peut aussi bien être la portion externe de ltélément résistif, qu'une couche catalytique chauffée par conduction, une électrode distincte. Certains de ces capteurs sont. ainsi fondes sur une mesure de chaleur échangée (détection de gaz combustible, débitmètre ...) et on peut les qualifier de capteurs calorimétriques ; on peut aussi recenser divers capteurs du type à filament ayant en commun de mesurer une concentration, en étant fondes sur des phénomènes divers (mesure de chaleur échangée dans le cas de la détection de gaz combustible ou oxydable par exemple, mesure de quantités dtions recueillis par une électrode dans la chromatographie gazeuse par exemple ...) Les capteurs du type à filament regroupent donc.des capteurs très divers, tant en ce qui concerne le phenomèrie physico-chimique sur lequel ils sont fondes qu'en ce qui concerne la nature de la grandeur à mesurer C'est pourquoi, si la suite de l'expose' se réfère principalement à la détection d'un gaz oxydable dans un milieu gazeux tel que de l'air, dans le domaine par exemple de l'explosimetrie, il s'agit d'une application préférée mais non limitative de l'invention. De manière connue en soi, la détection d'un gaz oxydable dans l'air est assurée par un filament, généralement de platine, chauffé par effet Joule, ctest-à-dire par passage d'un courant electrique. Le gaz oxydable contenu dans l'air environnant s'oxyde par catalyse au contact du filament, d'où un échauffement supplémentaire de ce dernier. La variation de température qui en résulte provoque une variation de la résistance du filament, dont la mesure directe ou indirecte permet d'avoir accès à la concentration dudit gaz oxydable dans l'air. Ces détecteurs à base de filament-sont faits de manière assez artisanale, comportant une partie de fabrication manuelle. Ils souffrent donc d'un manque de reproductibilité et d'un prix de revient élevé.Leur faible résistance électrique, et leur faible rapport surface/volume, obligent à travailler à haute température (1000"C environ). D'autres détecteurs de gaz oxydable sont constitués à partir de perles catalytiques ; ils sont formes d'un détecteur métallique (par exemple en platine) enrobé d'alumine dopée à l'aide d'un catalyseur, ayant l'apparence d'une petite perle. Le vieillissement de ces détecteurs est moins rapide, car la température de combustion qui leur est associée est plus faible. Cependant, ces perles souffrent d'une dérive importante de la sensibilité, d'une stabilité moins grande et d'un temps de réponse plus long que les filaments. Un troisième type de détecteur de gaz oxydable a eété réalisé à partir d'oxydes métalliques sem#-conduc#;urs dopés avec un catalyseur. Ces détecteurs sont formés d'un filament métallique de chauffage, chauffant un manchon isolant, en alumine par exemple, sur lequel est déposée une couche de matériau semi-conducteur, dont on mesure les variations de resistance. Ces détecteurs sont sensibles à tout gaz adsorbable a la surface du semiconducteur. Mais ils ont un temps de réponse assez long et une consommation électrique importante ; de plus l'influence de lthumidité n'y est pas compensée. L'invention vise à pallier les inconvénients précités en améliorant la reproductibilité et en réduisant les-pertes thermiques du filament par conduction tout en abaissant les coûts de fabrication. De manière très générale, elle propose à cet effet un capteur de type à filament pour la détermination d'une caractéristique statique ou dynamique d'un milieu environnant, comportant un élément résistif destiné à etre chauffé par effet JOULE dans ce milieu, et une zone dtinterface adaptée à réagir avec ce milieu selon un processus physico-chimique influant, en fonction de la caractéristique à déterminer, sur une caractéristique électrique de cette zone d'interface, caractérisé en ce qu'il comporte une lame de support traversée par au moins un évidement et au moins un filament incluant cet élément résistif, constitué d'une ou plusieurs couche(s) mince(s) et comportant une portion centrale située dans ltévidement et au moins deux portions d'extrémité par lesquelles cette portion centrale est reliée à la lame de support. En d'autres termes l'invention propose un filament réalisé à l'aide des technologies de la micro-e'lectronique, construit de telle façon qu'il #s'autosupporte11, c'est-à-dire que ses seuls éléments de liaison avec le support sont des couches minces : le filament est ainsi constitué d'une ou plusieurs couches minces "en l'air" ce qui réduit considérablement les pertes thermiques par conduction. L'invention résulte de la constatation qu'il était possible, grâce à cette technologie des couches minces, de réaliser un filament présentant une résistance mécanique et une tenue aux chocs thermiques suffisantes pour qu'il puisse s'autoporter. Les demanderesses ont en effet constaté de maniere surprenante que, malgré la finesse du filament qui lui confère la résistance électrique voulue, celui-ci est a la fois suffisamment sensible pour permettre la réaction physico-chimique à l'origine de la mesure et suffisamment résistant pour ne pas s'user prématurément en contact avec le milieu environnant. Selon des dispositions préférées de l'invention - le filament est formé d'une couche en matériau métallique catalytique dont la surface extérieure constitue ladite zone d'interface, - le filament, au moins dans sa portion centrale, est formé d'un empilement d'au moins trois couches minces, dont une couche en matériau conducteur, se prolongeant jusqu'aux extrémités du filament, une couche en matériau catalyseur formant la zone d'interface et une couche intermédiaire en matériau electriquement isolant, - l'élément résistif du filament est une couche d'un métal noble, notamment platine, or, palladium ou en une combinaison de métaux nobles, - le filament a une conformation sinueuse, par exemple en créneau, - la portion centrale du filament est reliée au substrat par un nombre de portions d'extrémité supérieur à deux, - le substrat est choisi dans le groupe de matériaux constitué par le verre, le silicium, l'alumine, la silice et les polymères, - la zone d'interface est une couche mince déposée au moins sur l'une des faces du substrat à proximité de ltévidement. L'invention propose également un procédé de préparation de filament faisant appel à des techniques de microélectronique, adapté à la fabrication du capteur précité et caractérisé en ce qu'il comporte les étapes suivantes - dépôt sur la surface des faces respectivement avant et arrière d'un substrat en forme de lame, d'une part, d'un masque avant en couche(s) mince(s) comportant une fenêtre avant dont la forme correspond à la forme du filament à fabriquer et comporte une portion centrale prolongée par des portions d'extrémité,.et d'autre part, d'un masque arrière en couche(s) minces) comportant une fenêtre arrière située en regard de la portion centrale de la fenêtre à l'exclusion desdites extrémités, mais plus grande que cette portion centrale, - creusement d'une tranchée dans le substrat par attaque de la face avant de celui-ci à travers le masque avant,' - dépôt au fond de cette tranchée d'une ou plusieurs couche(s) minces(s) destinée(s) à constituer le filament et dont l'une au moins est en matériau électriquement conducteur, et - élimination du substrat sur toute- son épaisseur par attaque à travers le masque arrière. Selon des dispositions préférées : - avant attaque du substrat pour son élimination sur toute son épaisseur à travers le masque arrière, on procède au dépôt d'une couche de protection sur la face avant et dans la tranchée et, après cette attaque du substrat, à ltélimination de cette couche de protection, - la couche de protection de la face avant est une résine polymère, - le masque avant comporte une couche intermédiaire recouverte d'une couche de résine, le dépôt de la (ou des) couche(s) mince(s) du filament étant obtenu, apres élimination de la couche de résine, par dépôt d'une ou plusieurs couche(s) mince(s) dans la tranchée et autour de celle-ci puis élimination de la (ou des) couche(s) mince(s) déposée(s) en dehors de la tranchée par attaque de la couche intermédiaire. Les principaux avantages qui découlent de l'invention sont, par rapport à tous les éléments détecteurs cités précédemment, une consommation électrique.très faible, et un temps de réponse également très faible. De réalisation automatisable et collective, le capteur peut être fabriqué d'une façon reproductible et en grande quantité à coût faible. Sa résistance, ajustable en fonction de sa forme géométrique, permet -une température de fonctionnement plus basse que les capteurs traditionnels à filament, ce qui entratne une bonne résolution de la mesure, et un vieillissement moins rapide. Par suite de sa réalisation originale et grâce å la masse très faible qui en résulte, il est peu sensible aux chocs. Du fait de son inertie thermique tres faible, il peut permettre également d'effectuer des mesures à des .températures différentes et à des intervalles de temps treks courts. L'invention porte également sur l'application d'un tel capteur, principalement à la détection de gaz oxydable, tel que le méthane ou CO, mais encore à la chromatographie gazeuse (détection de gaz ionisables) ou à la mesure de débits gazeux par calorimetrie. Des objets, caractéristiques de l'invention ressortent de la description des dessins sur lesquels - la figure 1 est une vue en perspective d'un capteur selon l'invention, - la figure 2 est une vue partielle en coupe longitudinale d'un autre capteur dans le sens de ltépaisseur, . - la figure 3 est une variante de la figure 1, et - les figures 4 à 9 sont des vues en coupe du capteur de la figure 1 à divers stades de sa fabrication à partir d'un substrat selon le procédé de l'invention. Le capteur C de la figure 1 comporte une lame isolante de support 1, en verre ou en un autre matériau isolant (voire semi-conducteur), traversée par un évidement 2. En variante cette lame de support peut être en un matériau, isolant ou non, recouvert d'une couche isolante. En travers de l'évidement est disposé un filament 3 formé d'une couche mince en un matériau électriquement conducteur et dont la surface extérieure ou peau constitue une zone d'interface avec le milieu environnant. Ce filament 3 comporte une portion centrale 3A et des extrémités 4 électriquement conductrices, par lesquelles cette portion centrale 3A est reliée à la lame de support. Ces extrémités se terminent par des plots conducteurs 5 auxquels peuvent être connectés, par exemple par soudure, des fils électriques 6 reliant le capteur au reste du circuit électrique le comportant. Ce filament 3 a de préférence une conformation sinueuse parallèlement à la lame de support, ici en créneau ce qui, pour une section donnée, et un écartement donné entre les plots 5, lui confère une surface extérieure accrue et évite les risque-s de rupture par dilatation. D'autres conformations géométriques sont bien sûr possibles. Il est à préciser å ce propos que le filament en couche mince peut être non plus globalement rectiligne mais coudé parallèlement à la lame de support. Par ailleurs, le filament peut avoir la forme d'une fine lame parallèle à la lame de support, de dimensions bien sûr inférieures à celles de l'évidement. La couche mince 3 peut etre constituee par toute substance donnant lieu aux phénomènes physico-chimiques sur lesquels sont fondées les mesures ; ainsi cette couche mince est ici réalisée en un matériau choisi comme ayant des propriétés électriques qui sont modifiées par l'environnement à caractériser. Il peut en particulier s'agir pour la mesure de gaz oxydable d'un matériau catalytique : platine, nickel, osmium, or, irridium, combinaisons métalliques,- oxydables métalliques, semi-conducteurs, sulfures ... Ce matériau peut être également choisi en fonction de ses propriétés absorbantes ou adsorbantes dès lors qu'il en résulte une modification de ses caractéristiques électriques. La figure 2 (où les éléments similaires à ceux -de la figure 1 ont les mêmes signes de référence affectés de l'indice "prime") représente un autre capteur C' dont le filament 3' est constitué, non plus d'une seule couche mince, mais d'un empilement de couches minces en matériau conducteur, isolant ou catalyseur. La succession de ces couches est telle que - chaque couche en matériau catalyseur est située .au-dessus ou en-dessous de l'empilement, - chaque couche électriquement conductrice est reliée électriquement aux plots f, et - une couche isolante est prévue entre ces couches en matériau conducteur ou catalyseur. Plus précisément, cette figure 2 représente trois couches successives 7, 8 et 9 respectivement en matériau conducteur, isolant et catalyseur. En variante non représentée l'empilement des couches est de type 9-8-7-8-9. La figure 3 (où les éléments similaires à ceux de la figure 1 ont les mêmes signes de référence affectes de l'indice "seconde") représente une autre variante C" de la figure l dans laquelle des portions d'extrémité additionnelles 10 sont disposées transversalement à la portion centrale du filament 3". Ces portions additionnelles se terminent par des plots lOA. Ils peuvent, dans le cas d'un filament en une couche comme dans la figure 1, servir à des mesures électriques intermédiaires ou permettre des montages différents rendant possible de réduire le nombre de capteurs différents à fabriquer et stocker pour un nombre donné d'applications.Dans le cas d'un filament multicouche comme dans la figure 2, ces portions 10 peuvent constituer des liaisons électriques à la couche de catalyseur par ailleurs isolée par rapport à la couche conductrice. On appréciera que dans chacun des exemples précités, l'ensemble du filament est entièrement situé dans l'encombrement (ltépaisseur) du substrat. Les figures 4 à 9 représentent, dans un plan de coupe repéré A-A sur la figure 1, diverses étapes du procédé de fabrication du capteur 1, dans l'exemple considéré d'un substrat en verre Une première phase consiste à préparer le substrat 1 par - nettoyage du substrat 1 à l'acide nitrique ou sulfochromique par exemple puis rinçage à l'eau désionisée, - séchage hors poussière. En une deuxième phase, on prépare des masques sur chacune des faces avant 1A et arrière 1B 'du substrat, avec les étapes suivantes (voir la figure 4) : - une couche mince de chrome 11 de 1000 à 2000 est déposée sur la face arrière ; sur l'autre face (face avant), une couche de chrome. 12 de quelques à 1000 O puis une couche d'or 13 de 2000 A environ sont déposées. Les étapes peuvent être différées l'une par rapport à l'autre mais sont de préférence simultanées. une couche de résine photosensible 14, 15 est déposée sur chaque face du substrat, on positionne des masques d'insolation 14A et 15A en vis-à-vis de part et d'autre du substrat et des couches précitées, on procède à l'insolation des couches 14 et 15 au travers des masques l4Aet 15A, et on-développe les zones ainsi insolées : on obtient ainsi des masques de résine 16 et 17. Les deux dernières étapes sont tout à fait classiques en soi. - on grave les couches métalliques au travers des masques 16 et 17, gravure de la couche de chrome 11 sur la face arrière, gravure de la couche d'or 13 sur la face avant, gravure de la couche de chrome 12 en face avant. - nouveau rinçage à l'eau désionisée ; on obtient ainsi la structure de la figure 5. On appréciera que le masque arrière ainsi obtenu (couches Il et 14) comporte une fenêtre 16A située en regard de la portion centrale (entre les extrémités 4 et 5 de la figure 1) de la fenetre 17A du masque avant (couches 12, 13 et 15) à l'exclusion desdites extrémités, mais cette fenetre 16A est plus grande (ici plus large de chaque côté) que cette portion centrale. Dans une troisième phase, on procède au creusement de tranchées 18 et 19 par attaque chimique du verre à travers les flasques constitues des couches sjpetposées de chrome 12, d'or 13 et de résine 15, gravées sur la face avant 1A de la lame 1. Cette attaque mimique est isotrope (dans le sens de l'épaisseur et latéralement) ; il en résulte, une surgravure dégageant les couches 12 et 13 au-dessus des bords inclinés 20 de la tranchée formant ainsi un surplomb 21. Alors qu'il est d'usage dans les procédés de gravure de ce type d'en modifier les conditions pour éviter la surgravure, ici on recherche et utilise précisément cette surgravure. En effet, le surplomb 21 qui en résulte permet une meilleure élimination des couches 12 et 13 en fin de fabrication. Les masques de résine 14 et 15 sont éliminés par exemple dans l'acétone puis dans l'acide nitrique. On effectue ensuite un rinçage å l'eau désionisée et un séchage hors-poussière :on obtient la structure de la figure 6. Dans une quatrième étape, on élabore le filament 3 au fond de la tranchée 18 par dépôt d'une fine couche de chrome 23 (100 environ) sur la face avant 1A du substrat y compris au fond de la tranchée 18 puis, par- dépôt sur toute cette couche mince 23 d'une couche de platine 24 (voir figure 7). On obtient ainsi dans la tranchée des couches minces 23A et 24A dissociées des portions 23B et 24B d'or et de platine déposées sur le reste de la face avant. L'épaisseur globale des couches 23 et 24 doit donc être inférieure (au moins légèrement) à la profondeur de la tranchée 18. Dans le cas du capteur C' de la figure 2, la condition équivalente consiste à dire que ltépaisseur globale des couches déposées est inférieure à la profondeur de la tranchée. Il est essentiel que les couches dans la tranchée 18 ne viennent pas au contact des surplombs 21. On procède ensuite à ltélimination des portions latérales 24A et 23A des couches de platine et de chrome en excès par attaque chimique de la couche d'or 13 (immersion du substrat pendant au moins 3 heures dans un réactif de gravure de l'or ce qui élimine mécaniquement la couche superflue de platine, et décpllement des dernières traces de platine en excès dans un bac à ultra-sons). Cette opération est grandement facilitée par le surplomb 21 obtenu par surgravure. Après rinçage à l'eau désionisée et séchage, une nouvelle couche 25 en résine photosensible de 3,um environ est déposée sur la face arrière puis est soumise à une insolation à travers le même masque qu'à la figure 4 : après développement, on obtient un masque arrière en coincidence avec le masque en chrome li resté sur cette face ; en pratique, on procède ensuite au recuit du masque à 140ex (pendan 30 mm). Dans une dernière phase, on creuse le substrat sur toute son épaisseur par attaque au travers du masque arrière selon les étapes suivantes - dépôt d'une couche de protection 26 sur la face avant 1A revêtue de la couche de chrome 12. Cette couche de protection remplit la cuvette 18 et en y adhérant recouvre le filament au fond de cette dernière. Cette couche de protection peut être constituée de tout matériau résistant à l'acide fluorhydrique et pouvant facilement être mis en solution à l'aide d'un solvant du commerce. On utilise de manière préférentielle une résine polymère du type APIEZON-W de ZIVY, - attaque chimique sous ultra-sons du verre -1 portant le filament à travers le masque 25 déposé sur la face arriere 1B et constitué de la couche de chrome 11 et de la couche de résine photosensible 25 gravées. Après élimination du verre et de la couche de protection 26 à l'aide d'un solvant du commerce approprié, par exemple du perchloréthylène, le filament 3 reste d'une manière inattendue "autoporté" dans la lame de verre (voir figure 9). Cette dernière est dégagée d'une part de toute présence de résine ou de polymère à l'aide d'un réactif chimique adapte (acide nitrique fumant en général) et, d'autre part, des couches de chrome 11 et 12 subsistant sur chaque face de la lame de verre à l'aide du réactif de gravure chimique du chrome. L'inclinaison des flancs de l'évidement 2 de la figure 9 proviens du caractère isotrope de l'attaque fluorhydrique. Dans le cas d'un substrat et d'un acide d'attaque conduisant à une attaque anisotrope, on obtiendrait des flancs verticaux comme cela est représenté aux figures 7 et 8. A titre d'exemple les réactifs de gravure chimique utilisés sont chrome : 1) Cr-ETCH de SOPRELEC (EVRY) 2) 50g/l de KMn04 + 50g/l de KOH + eau désionisée (1 1), or : 25 g/l de I2 = 60 g/l de KI + 1 litre d'eau désionisée, verre : HF dilué de 40 % à 20 % (suivant la vitesse de gravure désirée). Des exemples d'épaisseurs pour des lames de verre de 150Pm d'épaisseur sont : . chrome N 11 500 à 1000 . chrome N s 12 et 23 : 50 à 500 o e . or N 13 : 1500 à 2500 . platine : 0,5 m à 9 m . apiézon W : minimum 100 um . résine photosensible 1350-H de SHIPPLEY : 1 à 3 pm . longueur de ltévidement : 2 mm. L'intérêt des couches #de chrome réside d'une part, dans l'amélioration du dépôt d'or qui ne pourrait pas se faire directement sur le verre, d'autre part, dans labonne tenue du masque constitué par les couches de résine photosensible et les couche de chrome lors des attaques fluorhydriques du verre. Un tel capteur se prête A diverses applications. Ainsi tout d'abord il peur servir à la détection de gaz oxydable par intégration d'un circuit connu décrit. Il peut aussi servir à des mesures par chromatographie : le filament 3 sert à échauffer et ioniser localement le milieu gazeux et une ou plusieurs électrodes de réception d'ions (zone d'interface) sont constituées par une ou plusieurs couches minces conductrices déposées sur le substrat auprès de l'évidement 2 : il peut s'agir des couches de chrome 11 et 12 que l'on laisse subsister à cet effet. Il va de soi que la présente invention nta été proposée qu'à titre d'exemple non limitatif et que de nombreuses yariantes peuvent être proposées par lthomme de l'art sans sortir du cadre de l'invention. Ainsi plusieurs filaments peuvent être formés dans un même évidement et plusieurs évidements peuvent être formés à la fois dans un même substrat (fabrication collective). REVENDICATIONS 1. Capteur du type à filament pour la détermination d'une caractéristique statique ou dynamique d'un milieu environnant, comportant un élément résistif destiné à être chauffé par effet JOULE dans ce milieu, et une zone d'interface adaptée à réagir avec ce milieu selon un processus physico-chimique influant, en fonction de la caractéristique à déterminer, sur une caractéristique électrique de cette zone d'interface, caractérisé en ce qu'il comporte une lame de support (1, 1 1") traversée par au moins un. évidement (2 > 2', 2")'et au moins un filament (3, 3', 3") incluant cet élément résistif, constitué d'une ou plusieurs couches minces) (3, 7, 8, 8, 24A) et comportant une portion centrale située dans l'évidement et au moins deux portions d'extrémité (4, 4', 4", 10) par lesquelles cette portion centrale est reliée à la lame de support. 2. Capteur selon la revendication 1, caractérisé en ce que# le filament (3, 3") est formé d'une couche en matériau métallique catalytique dont la surface extérieure constitue ladite zone d'interface. 3. Capteur selon la revendication 1, caractérisé en ce que le filament, au moins dans sa portion centrale, est formé d'un empilement d'au moins trois couches minces (7, 8, 9) dont une couche (7) en matériau conducteur, se prolongeant jusqu'aux extrémités du filament, une couche (9) en matériau catalyseur forment la zone d'interface et une couche intermédiaire (8) en matériau électriquement isolant. 4. Capteur selon l'une quelconque des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que l'élément résistif est une couche d'un métal noble, notamment platine, or,' palladium ou en une combinaison de métaux nobles. 5. Capteur selon l'une quelconque des revendictions 1 à 4, caractérisé en ce que le filament a une conformation sineueuse. 6. Capteur selon l'une quelconque des revendications 1 à 5, caractérisé en ce que la portion centrale du filament est reliée au substrat par un nombre de portions d'extrémité (4", 10) supérieur à deux 7. Capteur selon l'une.quelconque des revendications 1 à 6, caractérisé en ce que le substrat est choisi dans le groupe de matériaux constitué par le verre, le silicium, l'alumine, la silice et les polymères. 8. Application du capteur selon l'une quelconque des revendications 1 à 7 à la détection de gaz oxydable. 9. Application selon la revendication 8, caractérisé en ce que le gaz oxydable est du méthane ou du monoxyde de carbone. 10. Application du capteur selon l'une quelconque des revendications 1 à 7 à la mesure de débits de fluides. 11. Capteur aelon la revendication 1, caractérisé en ce que la zone d'interface est une couche mince déposée au moins sur l'une des faces du substrat à proximitéde.l'évidement. 12. Application du capteur selon la revendication 11, à la détection et à la mesure de gaz ionisable par chromatographie par ionisation de flamme. 13. Procédé de fabrication d'un capteur du type à filament, caractérisé en ce qu'il comporte les étapes suivantes - dépôt sur la surface des faces respectivement avant (1A) et arrière (1B) d'un substrat en forme de lame (1), d'une part, d'un masque avant en couche(s) mince(s) (12, 13, 15) comportant une fenêtre avant (17A) dont la forme correspond à la forme du filament (3) à fabriquer et comporte une portion centrale prolongée par des portions d'extrémité, et d'autre part, d'un masque arrière en couche(s) mince(s) (11, 14) comportant une fenêtre arrière (16A) située en regard de la portion centrale de la fenêtre à l'exclusion desdites extrémités, mais plus grande que cette portion centrale, - creusement d'une tranchée (18) dans le substrat par attaque de la face avant de celui-ci à travers le masque avant, - dépôt au fond de cette tranchée d'une ou plusieurs couche(s) minces(s) (24A) destinée(s) à constituer le filament et dont l'une au moins est en matériau électriquement conducteut, et - éliminatiog du substrat sur toute son épaisseur par attaque à travers un masque (11, 25) de même forme que le masque arrière. 14. Procédé selon la revendication 13, caractérise en ce qu'il comporte, avant attaque du substrat pour son élimination sur toute son épaisseur à travers le masque arrière, le dépôt d'une couche de protection (26) sur la face avant et dans la tranchée et, après cette attaque du substrat, élimination de cette couche de protection. 15. Procédé selon la revendication 14, caractérisé en ce que la couche de protection de la face avant est une résine polymère 16. Procédé selon l'une quelconque des revendications 13 à 15, caractérisé en ce que le masque avant comporte une couche intermédiaire (13) recouverte d'une couche de résine (15), le dépôt-de la (ou des) couche(s) mince(s) du filament étant obtenu, après élimination de la couche de résine (15), par dépôt d'une ou plusieurs couches) mince(s) (24) dans la tranchée (24A) et autour de celle-ci (24B) puis élimination de la (ou des) couche(s) mince(s) (24bu déposée(s) en dehors de la tranchée par attaque de la couche intermédiaire. 17. Procédé selon la revendication 16, caractérisé en ce que, le substrat étant en verre, lemasque avant comporte une couche d'or (13) recouvrant une couche de chrome (12) déposée sur la face avant (IA), et on dépose au moins une couche de platine au fond de la tranchée avant (18). 18. Procédé selon l'une quelconque des revendications 13 à 17, caractérisé en ce qu'on dépose dans la tranchée avant au moins une couche en matériau métallique catalytique 19. Procédé selon l'une quelconque des revendications 13 à 18, caractérisé en ce qu'on dépose au moins trois couches minces (7, 8, 9) au fond de la tranchée, dont une couche en matériau conducteur, une couche en matériau isolant et une couche en matériau catalyseur. 20. Procédé selon l'une quelconque des# revendications 13 å 19, caractérisé en ce que le substrat est choisi dans le groupe de matériaux constitué par le verre, le silicium, l'alumine; la silice et les polymères.