Brevet FR2654258A1 — publié le 19910510

La présente invention concerne un dispositif semi- conducteur comportant au moins un transistor de type MIS ayant une région de source et une région de drain comprenant chacune une portion faiblement dopée et une portion fortement dopée légèrement décalée latéralement par rapport à la portion fai- blement dopée, ainsi qu'une électrode de grille en forme de T inversé qui recouvre la portion faiblement dopée et s'étend latéralement vers la portion fortement dopée, procédé qui uti- lise à partir d'un corps semiconducteur recouvert d'une couche isolante de grille: un dépôt d'une première couche polycristalline, rendue conductrice par dopage, la formation d'une première couche isolante en vue de son utilisation ultérieure en tant qu'arrêt de décapage, un dépôt d'une seconde couche polycristalline conductrice une combinaison d'opération consistant à délimiter d'a- bord des îlots de grille qui servent entre-autres de masque pour l'implantation des portions faiblement dopées des régions de source et de drain, puis à former, avec l'une des deux cou- ches polycristallines, des îlots de grille élargis, délimités au pourtour des îlots précédents par des espaceurs isolants formés dans une seconde couche isolante, la partie conservée de seconde couche polycristalline étant en continuité électri- que avec la partie conservée de première couche polycristal- line, puis l'implantation ionique des portions fortement dopées des régions de source et de drain en utilisant ces îlots de grille élargis comme masque d'implantation. Un transistor MIS à grille débordante (ou grille en forme de T inversé) est connu de la publication "Impact of the Gate-Drain Overlapped Device (GOLD) for Deep Submicrometer VLSI% de R IZAWA, T KURE et E TAKEDA, dans la revue IEEE Transactions on Electron Devices V 35, n'12, décembre 1988. Un procédé pour fabriquer un transistor de ce type, destiné à la constitution de circuits intégrés à très grande densité d'intégration, est également indiqué dans la même pu- blication. Les auteurs ont montré que la limitation des per- formances des transistors MIS de dimensions submicroniques vis-à-vis de la tension de claquage de drain, de l'émission de porteurs chauds, et/ou de la transconductance insuffisante, pouvait être repoussée par l'utilisation d'une électrode de grille recouvrant les portions faiblement dopées des régions de source et de drain, et s'étendant en direction des portions fortement dopées de ces régions, sur une distance qui doit être optimisée. Le procédé indiqué pour obtenir des transistors MIS de ce type fait usage de deux couches polycristallines, la première de ces couche débordant latéralement des îlots de grille et formant ainsi des îlots dont la forme caractéristi- que est celle d'un "T" inversé. Selon le procédé connu, ces deux couches polycris- tallines sont séparées par une couche d'oxyde excessivemeent mince, soit de l'ordre de 0,5 à lnm d'épaisseur, de telle sor- te que cette couche puisse servir de repère pour l'arrêt de décapage de la deuxième couche polycristalline lors de la for- mation des îlots de grille, mais assure néanmoins une conduc- tion électrique suffisante entre la première et la deuxième couche polycristalline, au sein de l'îlot de grille élargi du dispositif final. Un inconvénient inhérent au procédé connu réside dans la difficulté d'obtenir de manière reproductible une cou- che d'oxyde d'épaisseur aussi faible devant réaliser un com- promis très étroit entre l'efficacité de sa fonction d'arrêt de décapage et une conduction électrique de cette couche assez élevée pour ne pas induire d'effets parasites dans le fonc- tionnement des transistors et en particulier dans l'efficacité de la transmission des tensions vers la partie inférieure des grilles, dans un large spectre de fréquences. L'invention propose une modification du procédé connu en vue d'éviter l'inconvénient mentionné Elle repose sur l'idée que la conduction électrique entre la première et la deuxième couche polycristalline, au sein de l'îlot de gril- le élargi du dispositif final, pourrait être obtenue par des moyens indépendants de l'épaisseur de la couche dite première couche isolante et qu'ainsi on soit libre de choisir pour cet- te couche une épaisseur plus substantielle, donc plus aisée à obtenir de manière reproductible et également moins critique à utiliser en tant qu'arrêt de décapage. En effet, selon la présente invention, un procédé pour fabriquer un dispositif semiconducteur, tel que défini dans le paragraphe introductif, est caractérisé en ce qu'après avoir formé la première couche isolante on réalise successive- ment: la délimitation des îlots de grille par décapages locali- sés successifs de la première couche isolante et de la premiè- re couche polycristalline, la formation d'espaceurs provisoires étroits pour la pro- tection des bords des îlots de grille contre l'oxydation par dépôt d'une couche d'un matériau anti-oxydation suivi d'un dé- capage anisotrope de l'essentiel de cette couche, l'implantation ionique des portions faiblement dopées des régions de source et de drain en utilisant les îlots de gril- le munis des espaceurs provisoires en tant que masque d'im- plantation, la réoxydation des parties du dispositif non protégées par les espaceurs provisoires, l'enlèvement par décapage sélectif des espaceurs provi- soires, le dépôt de la seconde couche polycristalline, la formation d'espaceurs isolants réalisés par dépôt d'une seconde couche isolante suivi par un décapage anisotro- pe, de l'essentiel de cette seconde couche isolante, la formation d'îlots de grille élargis par décapage sé- lectif de l'essentiel de la seconde couche polycristalline, et en utilisant d'une part les espaceurs isolants comme masque de protection, et d'autre part la première couche isolante comme arrêt de décapage, l'implantation ionique des portions fortement dopées des régions de source et de drain en utilisant les îlots de gril- le élargis comme masque d'implantation, puis, les opérations de finition du dispositif relatives aux prises de contact et aux liaisons électriques avec les ré- gions actives et les grilles des transistors. Selon le procédé de l'invention, la continuité électrique au sein des îlots de grille élargis est assurée par le contact latéral entre la partie restante de première couche polycristalline et les parties restantes de la seconde couche polycristalline, en forme de 'L". Il n'est donc pas nécessaire, comme dans le cas du procédé connu, de recourir à une première couche isolante dont l'épaisseur soit suffisamment mince pour assurer une con- duction électrique entre les deux couches polycristallines qui constituent l'électrode de la grille du transistor Dans le procédé selon l'invention, au contraire on utilise avantageu- sement une première couche isolante dont l'épaisseur est supé- rieure à 30 nm, ce qui rend le procédé bien reproductible et simple à mettre en oeuvre lorsque les première et deuxième couches isolantes sont réalisées en oxyde de silicium. Par l'utilisation d'espaceurs provisoires en un ma- tériau anti-oxydation comme le nitrure de silicium, le procédé selon l'invention permet de procéder à la réoxydation des ré- gions de source et de drain et notamment les portions qui sont adjacentes au canal du transistor et qui ont pu être endomma- gées ou subir une pollution lors du décapage ionique de la première couche polycristalline. Si on désire, avant d'effectuer l'étape de réoxyda- tion, les parties du dispositif non protégées par les espa- ceurs provisoires peuvent même être dénudées des couches iso- lantes existantes, par décapage sélectif, et ces couches re- nouvelées ensuite pendant l'étape dite de réoxydation Les espaceurs provisoires sont faits suffisamment minces pour que la réoxydation agisse également dans le sens latéral, sur une courte distance sous lesdits espaceurs. Ainsi, selon un mode préféré de mise en oeuvre de l'invention les espaceurs provisoires sont obtenus à partir d'une couche de nitrure de silicium d'épaisseur comprise entre et 50 nm et de préférence voisine de 30 nm. Dans une variante de réalisation, le procédé selon l'invention est caractérisé en outre par le fait que des por- tions additionnelles des régions de source et de drain, à do- page intermédiaire, sont réalisées par implantation ionique après le dépôt de la seconde couche polycristalline et avant la formation des espaceurs isolants. Le procédé selon l'invention permet de pratiquer les prises de contact sur le dispositif par ouvertures de fe- nêtres de contact localisées au moyen d'un masque photosensi- ble, selon les techniques habituelles bien connues. Toutefois, il serait également souhaitable de pou- voir établir des aires de contact métalliques sur le disposi- tif par une technique d'auto-alignement utilisant entre-autres un siliciure métallique, selon une technique qui ne nécessite- rait pas de masque pour la réalisation des fenêtre de contact. Dans ce cas il est possible d'obtenir une réduction sensible des dimensions des transistors et d'augmenter la den- sité d'intégration des dispositifs à nombre très élevé d'élé- ments. Cette possibilité est obtenue selon un mode parti- culier de mise en oeuvre de l'invention caractérisé en ce qu'après la formation des espaceurs isolants, l'enlèvement par décapage sélectif de la seconde couche polycristalline non protégée par les espaceurs isolants est prolongé d'une durée déterminée dans des conditions de décapages isotrope, de ma- nière à former des gorges dans les parties non protégées de la seconde couche polycristalline, et en ce que ces gorges sont ensuite comblées avec un matériau isolant particulier ayant des propriétés sélectives de décapage tel que le nitrure de silicium, par les opérations successives de dépôt d'une couche G d'un tel matériau et de décapage anisotrope de l'essentiel de cette couche qui est situé en dehors desdites gorges. Des fenêtres de contact peuvent alors être ouvertes sélectivement sur les portions du dispositif qui présentent de l'oxyde de silicium en surface, tandis qu'en bordure de ces régions subsistent des cordons dudit matériau isolant particu- lier qui réalisent un isolement latéral nécessaire entre les plages de contact formées sur les régions actives. La description qui va suivre en regard des dessins annexés décrivant des exemples non limitatifs, fera bien com- prendre comment l'invention peut être réalisée. Les figures 1 à 8 montrent des vues schématiques, en coupe, d'une portion de dispositif MIS, illustrant diffé- rentes étapes du procédé dans un premier exemple de mise en oeuvre de l'invention, les figures 9 et 10 présentent des vues schémati- ques, en coupe, relatives à une variante de mise en oeuvre de l'invention. Pour plus de clarté des figures, les proportions des dimensions ne sont pas respectées et en particulier cer- taines dimensions dans le sens de l'épaisseur ont été notable- ment augmentées En général, les éléments correspondants sur les différentes figures sont affectés des mêmes signes de ré- férence. La figure 1 représente une portion superficielle d'un corps semiconducteur 10, par exemple en silicium de type p, qui est surmontée d'une couche isolante de grille 11, de préférence en oxyde de silicium, d'une épaisseur voisine de nm Une première couche polycristalline 12, d'une épaisseur de 300 nm environ a été déposée ensuite sur la couche isolante de grille 11 La première couche polycristalline 12 a été ren- due conductrice par dopage à une concentration élevée selon l'une des technique habituelle notamment par dopage pendant le dépôt. A la surface de la première couche polycristalline 12 a été formée ensuite une première couche isolante 13, en oxyde de silicium, d'une épaisseur de 60 nm par exemple, qui est destinée à servir ultérieurement d'arrêt de décapage. Comme indiqué à la figure 2, on réalise ensuite un décapage localisé de la première couche isolante 13 et de la première couche polycristalline 12 de manière à former des îlots de grille 15 selon des techniques de gravure anisotrope connues et en utilisant un masque de résine photosensible 16. En bref, les îlots de grille 15 peuvent être obte- nus en procédant d'abord à un décapage sélectif et localisé de la première couche isolante 13 dans un plasma contenant un mé- lange d'ions fluor et oxygène, puis en retirant le masque de résine photosensible 16 à l'aide d'un plasma d'oxygène, puis enfin, en décapant sélectivement la première couche polycris- talline 12 dans les fenêtres ouvertes précédemment dans la première couche isolante 13, à l'aide d'un plasma contenant principalement des ions de chlore Ainsi qu'il est connu, le décapage du matériau polycristallin étant sélectif vis-à-vis de l'oxyde de silicium, la couche d'oxyde de grille 11, bien que relativement mince, constitue un arrêt de décapage en fin d'opération. Après quoi, une couche de protection d'un matériau anti-oxydation 20 comme du nitrure de silicium d'épaisseur comprise entre 15 et 50 nm et de préférence voisine de 30 nm est déposée par une méthode qui assure une couverture la plus uni- forme possible des contours de la surface du dispositif y com- pris les portions sensiblement verticales des bords des îlots de grille 15 Par exemple, on utilise la méthode connue de dé- pôt chimique en phase vapeur sous pression réduite (LPCVD). On décape ensuite l'essentiel de la couche de pro- tection 20 en nitrure de silicium par une méthode de décapage anisotrope par exemple le décapage par ions réactifs de fluor ou de chlore de manière à former des espaceurs provisoires 20 a étroits pour la protection des bords des îlots de grille 15 comme cela est indiqué à la figure 4. Selon le type d'ions de décapage utilisés le déca- page du nitrure de silicium n'est pas toujours sélectif vis- à-vis du décapage de l'oxyde de silicium Le cas échéant, les parties de la couche isolante de grille 11 non protégées qui se situent en dehors des îlots de grille 15 se trouvent élimi- nées du fait que cette couche isolante est mince Mais dans tous les cas, au moins une portion subtantielle de la première couche isolante 13 peut être maintenue à la surface supérieure de l'îlot de grille 15 en raison de son épaisseur comparative- ment importante On procède ensuite à l'implantation ionique d'un élément dopant de type n, symbolisée par les flèches 21, de manière à former des portions faiblement dopées des régions de source et de drain 22, 23 en utilisant les îlots de grille 15 munis des espaceurs provisoires 20 a en tant que masque d'implantation. A titre d'exemple, cette opération peut être effec- tuée par implantation de phosphore à une dose de 4.1013 at/cm 2, sous une énergie de 50 à 60 ke V. Il résulte des opérations de décapage de la premiè- re couche polycristalline 12 et de l'implantation ionique 21 que les extrémités de la couche isolante de grille 11 au bord des îlots de grille 15, et notamment sous les espaceurs provi- soires 20 a, ont été dégradées et/ou polluées Pour assurer un bon fonctionnement du dispositif MIS il est donc nécessaire de régénérer les portions de la couche isolante de grille 11 au voisinage de ces extrémités situées sous les espaceurs provi- soires 20 a ce qui est réalisé, comme indiqué à la figure 5, par une étape de réoxydation des parties du dispositif qui ne sont pas protégées par les espaceurs provisoires 20 a Cette opération est réalisée par exemple par une oxydation thermique à 900 'C pendant une durée de 15 à 30 min sous oxygène La pre- mière couche isolante 13 se trouve alors reformée respecti- vement régénérée selon qu'elle était complètement éliminée antérieurement ou conservée sur une portion de son épaisseur. Au dessus des portions dénudées des régions de source et de drain 22, 23 il se forme une couche d'oxyde de silicium 24 d'une épaisseur de l'ordre de 10 à 15 nm, tandis que les por- tions de couche isolante de grille 11 situées sous les espa- ceurs provisoires 20 a et dont l'intégrité a une influence dé- terminante sur le fonctionnement du dispositif se trouvent ré- générées par un effet d'oxydation latérale sous les espaceurs provisoires 20 a. Les étapes qui suivent sont schématisées à la figu- re 6 On enlève tout d'abord par décapage sélectif les espa- ceurs provisoires 20 a, par exemple par voie humide, dans de l'acide phosphorique chaud ( 140 C) On dépose ensuite une se- conde couche polycristalline 30 d'une épaisseur de 50 nm, en- viron, rendue conductrice par dopage Cette opération est ef- fectuée de préférence par une méthode assurant une bonne cou- verture des bords des îlots de grille 15 et par exemple par dépôt chimique en phase vapeur sous pression réduite. Il est à remarquer que si la seconde couche poly- cristalline 30 se trouve isolée au-dessus des îlots de grille par la première couche isolante 13, elle se trouve au con- traire en contact électrique avec la première couche polycris- talline 12 sur les bords 15 a des îlots de grille 15, bords qui ont été protégés pendant l'étape de réoxydation par les espa- ceurs provisoires 20 a en nitrure de silicium. Selon une variante optionnelle du procédé selon l'invention, on peut à ce state pratiquer une implantation ionique symbolisée par les flèches 31 en vue de réaliser des portions additionnelles 22 a et 23 a des régions de source et de drain, à dopage intermédiaire (n+) permettant d'assurer une variation plus progressive du dopage dans une direction laté- rale entre le canal et les régions de drain et de source à do- page élevé Une telle opération d'implantation ionique peut être effectuée par exemple avec du phosphore, à une dose de 2.1014 at/cm 2 sous une énergie 50 à 70 ke V. Conformément à la figure 7 on-réalise ensuite des espaceurs isolants 32 sur les bords des îlots des grille 15 selon une technique connue en soi, qui consiste essentielle- ment à déposer une seconde couche isolante relativement épais- se de l'ordre de 200 nm, en oxyde de silicium, puis à retirer par décapage anisotrope l'essentiel de cette couche, la secon- de couche polycristalline 30 formant arrêt de décapage pour cette opération. L'opération suivante, figure 8, consiste à retirer l'essentiel de la seconde couche polycristalline 30 c'est-à- dire les portions qui ne sont pas protégées par de l'oxyde de silicium (première couche isolante 13 et espaceurs isolants 32) de manière à former des îlots de grille élargis 35, à par- tir des îlots de grille 15, dont les dimensions sont augmen- tées de la largeur des espaceurs isolants 32 Après quoi, on réalise par implantation ionique représenté par les flèches 36 des portions fortement dopées (n++) 22 b, 23 b respectivement, des régions de source et de drain Ceci peut être fait avec des ions Arsenic, à une dose de 2 1015 At/cm 2 et sous une énergie de 100 ke V. On notera sur la figure 8 que les portions qui sub- sistent de la seconde couche polycristalline 30, en forme de L, qui sont en contact électrique avec la portion de première couche polycristalline 12 de l'îlot de grille 15, réalisent avec la première couche polycristalline une électrode de gril- le en forme de T inversé qui recouvre les portions faiblement dopées 22, 23 des régions de source et de drain ainsi que les éventuelles portions à dopage intermédiaire 22 a, 23 a Cette électrode de grille s'étend latéralement vers les portions fortement dopées 22 b, 23 b des régions de source et de drain. On notera également que les régions de source et de drain à différent dopage, 22, 23, 22 a, 23 a, 22 b, 23 b se pré- sentent d'une manière étagée latéralement dans l'ordre qui convient pour favoriser une tension de claquage élevée de la diode drain/substrat et pour réduire l'émission de porteurs de charge à haute énergie au passage de cette jonction. A partir de ce stade, le dispositif peut être ter- miné par ouverture de fenêtres de contact localisée au moyen d'un masque photosensible selon des techniques habituelles bien connues qu'il n'est pas utiles de décrire plus en détail ici. Les figures 9 et 10 représentent un autre mode de mise en oeuvre de l'invention, permettant de former des aires métalliques de contact sur le dispositif par une technique d'auto-alignement. Selon ce mode de mise en oeuvre, les étapes du pro- cédé telles qu'elles ont été décrites à propos des figures 1 à 8 sont identiques. Après la formation des espaceurs isolants 32, l'en- lèvement par décapage sélectif de la seconde couche polycris- talline 30 qui n'est pas protégée par les espaceurs isolants 32 est prolongé d'une durée déterminée dans des conditions de décapage isotrope de manière à former des gorges 40 de part et d'autre des ilôts de grille 15 ainsi que des gorges 41 sous les espaceurs isolants 32 entre ceux-ci et la couche isolante 24 Ces gorges sont réalisées dans la seconde couche polycris- talline 30 par décapage latéral dans les parties non protégées de cette couche On dépose ensuite sur l'ensemble du disposi- tif une couche d'un matériau isolant ayant des propriétés sé- lective de décapage, par exemple une couche de nitrure de si- licium 42 d'une épaisseur de 100 nm environ par une méthode assurant une bonne couverture de surface par exemple la métho- de de dépôt chimique en phase vapeur sous pression réduite, de manière à au moins combler les gorges 40 et 41 avec du nitrure de silicium - Conformément à la figure 10, la couche de nitrure de silicium 40 est ensuite décapée de manière anisotrope pour ne conserver de cette couche que des portions 42 a et 42 b, com- blant respectivement les gorges 40 et 41 On soumet alors l'ensemble du dispositif à un décapage de l'oxyde de silicium présent en surface, de manière sélective vis-à-vis du nitrure de silicium, ainsi que vis-à-vis du silicium polycristallin et monocristallin La première couche isolante 130 est complète- ment retirée de manière à mettre à nu la première couche poly- cristalline 12 de l'îlot de grille ainsi que les zones de con- tact 47 et 48 des régions de source et de drain Le contour de * la première couche isolante 13 ainsi que des espaceurs iso- lants 32 avant cette opération, est indiqué respectivement par les lignes en pointillés 45 et 46 Compte tenu de leur épais- seur importante, la majeure partie des espaceurs isolants 32 est conservée après cette opération. Ainsi que le montre la figure 10, on peut mainte- nant former des aires de contact métalliques auto-alignée sur le dispositif étant donné que les zones de surface 47 et 48 de source et de drain ainsi que la partie supérieure des îlots de grille formée essentiellement par la première couche polycris- talline 12, sont dénudées et qu'une couche de siliciure métal- lique peut y être aménagée de manière auto-alignée Les diffé- rentes portions de cette couche de siliciure (non représentée) se trouvent isolées entre-elles, par des portions 42 a, 42 b de la couche de nitrure de silicium 42 ainsi que par les espa- ceurs isolants 32. On obtient à nouveau un dispositif à transistor de type MIS ayant une électrode de grille en forme de T inversé qui recouvre les portions faiblement dopées 22 et 23 des ré- gions de source et de drain et qui s'étend par les portions qui subsistent de la deuxième couche polycristalline 30, en forme de L, vers les portions fortement dopées 22 b et 23 b des régions de source et de drain L'extension latérale de cette électrode de grille est contrôlée à l'étape de décapage de la seconde couche polycristalline 30 Aux figures 9 et 10, on n'a pas représenté de portions à dopage intermédiaire des régions de source et de drain telles que celles décrites à la figure 8 dans le premier mode de réalisation de l'invention, mais bien entendu ces portions additionnelles à dopage intermédiaire peuvent également être réalisées dans le mode de mise en oeu- vre qui vient d'être décrit. Le procédé décrit jusqu'ici s'applique à la réali- sation de transistors MIS ayant des dimensions très petites. De manière à accroître la densité d'intégration, il peut être nécessaire de prévoir des plots de contact sur les couches de siliciure de source et de drain, qui débordent aussi partiel- lement sur l'îlot de grille 15 mais sans y faire contact. Dans ce cas, le contact avec l'îlot de grille 15 est réalisé à un autre emplacement, éloigné du plan de coupe des figures. Cette disposition (non représentée sur les dessins) peut également être obtenue avec le procédé conforme à l'in- vention y compris dans sa mise en oeuvre utilisant des aires de contact auto-alignées recouvertes d'un siliciure métalli- que. Il suffit pour cela de rendre la première couche isolante 13 nettement plus épaisse à certains emplacements lo- calisés devant être protégés d'un contact métallique. Cela est aisément obtenu lorsqu'on dépose la pre- mière couche isolante 13 en deux étapes: une première étape de dépôt d'une couche de forte épaisseur, par exemple 250 nm d'oxyde de silicium, que l'on conserve uniquement aux emplace- ments à protéger, par décapage localisé, puis une seconde éta- pe de dépôt d'une couche d'oxyde de silicium de 60 nm d'épais- seur, recouvrant l'ensemble du dispositif. En limitant à une valeur convenable la durée de dé- capage de la première couche isolante 13, à l'étape du procédé précédemment décrite en relation avec la figure 10, il est fa- cile d'obtenir que certaines portions d'îlot de grille 15 res- tent protégées par de l'oxyde (o la première couche isolante a été prévue plus épaisse) tandis que d'autres portions, non protégées, sont dénudées et donc disponibles pour la prise de contact par siliciure métallique. REVENDICATIONS 1 Procédé pour fabriquer un dispositif semiconducteur comportant au moins un transistor de type MIS ayant une région de source et une région de drain comprenant chacune une por- tion faiblement dopée ( 22, 23) et une portion fortement dopée ( 22 b, 23 b) légèrement décalée latéralement par rapport à la portion faiblement dopée, ainsi qu'une électrode de grille ( 12, 30) en forme de T inversé qui recouvre la portion faible- ment dopée et s'étend latéralement vers la portion fortement dopée, procédé qui utilise à partir d'un corps semiconducteur ( 10) recouvert d'une couche isolante de grille ( 11): un dépôt d'une première couche polycristalline ( 12), ren- due conductrice par dopage, la formation d'une première couche isolante ( 13) en vue de son utilisation ultérieure en tant qu'arrêt de décapage, un dépôt d'une seconde couche polycristalline ( 30) con- ductrice, une combinaison d'opération consistant à délimiter d'a- bord des îlots de grille ( 15) qui servent entre-autres de mas- que pour l'implantation des portions faiblement dopées ( 22, 23) des régions de source et de drain, puis à former, avec l'une des deux couches polycristallines, des îlots de grille élargis ( 35), délimités au pourtour des îlots précédents par des espaceurs isolants ( 32) formés dans une seconde couche isolante, la partie conservée de seconde couche polycristal- line ( 30) étant en continuité électrique avec la partie con- servée de première couche polycristalline ( 12), puis l'implantation ionique des portions fortement dopées ( 22 b, 23 b) des régions de source et de drain en utilisant ces îlots de grille élargis ( 35) comme masque d'implantation caractérisé en ce qu'après avoir formé la première couche iso- lante ( 13) on réalise successivement: la délimitation des îlots de grille ( 15) par décapages localisés successifs de la première couche isolante ( 13) et de la première couche polycristalline ( 12), la formation d'espaceurs provisoires ( 20 a) étroits pour la protection des bords des îlots de grille ( 15) contre l'oxydation par dépôt d'une couche ( 20) d'un matériau anti- oxydation suivi d'un décapage anisotrope de l'essentiel de cette couche, l'implantation ionique des portions faiblement dopées OS ( 22, 23) des régions de source et de drain en utilisant les îlots de grille ( 15) munis des espaceurs provisoires ( 20 a) en tant que masque d'implantation, la réoxydation des parties du dispositif non protégées par les espaceurs provisoires ( 20 a), l'enlèvement par décapage sélectif des espaceurs provi- soires ( 20 a), le dépôt de la seconde couche polycristalline ( 30), la formation d'espaceurs isolants ( 32) réalisés par dépôt d'une seconde couche isolante suivi par un décapage anisotro- pe, de l'essentiel de cette seconde couche isolante, la formation d'îlots de grille élargis ( 35) par décapage sélectif de l'essentiel de la seconde couche polycristalline ( 30), en utilisant d'une part les espaceurs isolants ( 32) com- me masque de protection, et d'autre part la première couche isolante ( 13) comme arrêt de décapage, l'implantation ionique ( 36) des portions fortement dopées ( 22 b, 23 b) des régions de source et de drain en utilisant les îlots de grille élargis ( 35) comme masque d'implantation, puis, les opérations de finition du dispositif relatives aux prises de contact et aux liaisons électriques avec les ré- gions actives et les grilles des transistors. 2 Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'on utilise une première couche isolante ( 13) dont l'épais- seur est supérieure à 30 nm. 3 Procédé selon l'une des revendications 1 ou 2, ca- ractérisé en ce qu'on utilise des espaceurs provisoires ( 20 a) à partir d'une couche ( 20) de nitrure de silicium d'épaisseur comprise entre 15 et 50 nm et de préférence voisine de 30 nm. 4 Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que des portions additionnelles ( 22 a, 23 a) des régions de source et de drain, à niveau de dopage intermédiaire, sont réalisées par implantation ionique ( 31) après le dépôt de la seconde couche polycristalline ( 30) et avant la formation des espaceurs isolants ( 32). Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 4, caractérisé en ce qu'après la formation des espaceurs isolants ( 32), l'enlèvement par décapage sélectif de la secon- de couche polycristalline ( 30) non protégée par les espaceurs isolants est prolongé d'une durée déterminée dans des condi- tions de décapage isotrope, de manière à former des gorges ( 40, 41) dans les parties non protégées de la seconde couche polycristalline ( 30), et en ce que ces gorges sont ensuite comblées avec un matériau isolant particulier ayant des pro- priétés sélectives de décapage, par les opérations successives de dépôt d'une couche ( 42) d'un tel matériau et de décapage anisotrope de l'essentiel de cette couche qui est situé en de- hors desdites gorges. 6 Procédé selon la revendication 5, caractérisé en ce que ledit matériau isolant particulier est du nitrure de sili- cium, et en ce que la couche ( 42) déposée de ce matériau iso- lant a une épaisseur d'environ 1 O Onm.