Brevet FR2647234A1 — publié le 19901123

PROCEDE DE PHOTOLITHOGRAPHIE DE MOTIFS REPETITIFS SUR UNE GRANDE SURFACE L'invention concerne les procédés photolithographiques, et plus précisément ceux qui servent à réaliser des motifs répétitifs sur une surface de dimensions très grandes devant le pas de répétition des motifs. L'invention s'applique notamment, mais non exclusivement, à la réalisation d'écrans de visualisation en couleurs. Elle sera décrite en détail à propos d'un écran de visualisation dit "à indexation de faisceau électronique" dans laquelle elle s' avère particulièrement intéressante. Elle est transposable à d'autres applications dans lesquels des problèmes de photolithographie analogues se posent (écrans de visualisation à cristaux liquides, écrans fluorescents à micropointes, dispositifs photosensibles, etc.). Un tube électronique de visualisation comprend un écran de visualisation sur lequel sont déposés des luminophores (en anglais "phosphors") qui ont la propriété d'émettre de la lumière lorsqu'ils sont frappés par un faisceau d'électrons, l'intensité lumineuse étant d'autant plus importante que l'intensité du faisceau est importante. La couleur d'émission du luminophore dépend du matériau qui le constitue. On utilise en général des triades de luminophores comprenant un luminophore rouge, un vert et un bleu. Un canon a électrons émet un faisceau d'électrons qui balaye la surface de l'écran et qui est modulé en intensité par un signal vidéo de manière que chaque point de l'écran s'illumine avec une intensité désirée. L'écran est subdivisé en points d'image qui sont définis par des zones de luminophores placés à ces points. Ces zones de luminophores de formation d'image peuvent être réparties de plusieurs manières. Dans les- tubes à indexation de faisceau les zones élémentaires sont normalement des bandes parallèles de luminophores s'étendant chacune sur toute la hauteur de écran perpendiculairement aux lignes de balayage du faisceau électronique. Les bandes de luminophores sont séparées les unes des autres par des zones opaques.C'est ce qui permet de différencier les couleurs et de conserver leur pureté lorsque des luminophores émettant dans des couleurs différentes sont juxtaposés sur l'écran Les tubes a indexation de faisceau sont des tubes dans lesquels le faisceau d'électrons passe au cours de son balayage sur des bandes d'indexation qui sont des bandes de luminophores ne participant pas à la formation de l'image; ces luminophores émettent seulement de la lumière (en général en ultraviolet) vers un détecteur qui repère ainsi le passage du faisceau a des points bien déterminés de sorte qu'on peut savoir à tout moment ou est le faisceau et définir en conséquence le signal vidéo à appliquer. Les tubes a indexation de faisceau servent notamment à la réalisation d'un affichage en couleurs avec un seul canon à électrons. La figure 1 représente en coupe la constitution la plus simple d'un écran de visualisation d'un tube à indexation de faisceau. L'écran de visualisation comprend une plaque de verre plane 10 recouverte d'une alternance de bandes de luminophores 14 de couleur et de bandes opaques 12 qui séparent les bandes de luminophores voisines.Les bandes de luminophores successives ont des couleurs différentes, par exemple périodiquement une bande de luminophores rouges (R), une bande verte (V), une bande bleue (B), puis à nouveau une bande rouge, une bande verte, une bande bleue, et ainsi de suite, avec à chaque fqis une bande opaque * 12 (N) entre deux bandes de luminophores adjacentes Les couches de luminophores sont recouvertes d'une couche d'aluminium 16 qui a plusieurs fonctions, parmi lesquelles l'application d'une haute tension d'accélération du faisceau d'électrons, l'évacuation des charges qui s'accumulent dans les luminophores, le renvoi vers l'observateur de la lumière qui peut être émise vers l'intérieur du tube par les luminophores. Dans cette réalisation la plus classique, la couche d'aluminium 16 a aussi une fonction de support des bandes d'indexation de faisceau 18. Ces bandes sont des bandes de luminophores émettant de préférence dans l'ultraviolet et réparties avec un pas qui est lié à celui des bandes de luminophores; on peut avoir par exemple une bande d'indexation toutes les deux ou trois ou quatre bandes de luminophores. Les bandes d'indexation sont placées au dessus des bandes opaques, c'est-à-dire entre des bandes de luminophores adjacentes. Sur la figure l, il y a une bande d'indexation toutes les deux bandes de luminophores.Cela veut dire qu'il y a une bande d'indexation (I) entre une bande bleue (B) et une bande rouge (R), puis entre une bande verte (V) et une bande bleue (B), puis entre une bande rouge (R) et une bande verte (V), puis à nouveau entre une bande bleue (B) et une bande rouge (R), et ainsi de suite. Un des problèmes qu'on cherche à résoudre dans ces écrans de visualisation est l'obtention d'une bonne résolution. On cherche donc à réaliser un grand nombre de bandes aussi rapprochées que possible les unes des autres. Par exemple, on peut chercher à réaliser un écran de 500 points par ligne; il y a donc 500 triades de luminophores, donc 500 bandes rouges, 500 bandes vertes et 500 bandes bleues, 1500 bandes opaques, et, dans l'exemple de la figure 1, environ 665 bandes d'indexation. Pour donner un exemple d'ordre de grandeur de dimensions, la largeur et le pas des bandes opaques peut être de l'ordre de 50 micromètres, de même que la largeur des bandes de luminophores de couleur; la largeur des bandes d'indexation est de l'ordre de 35 micromètres (plus faible que la largeur des bandes opaques pour ne pas risquer de masquer les luminophores de couleur). Le procédé de fabrication consiste en général à réaliser d'abord le réseau de bandes opaques, par photolithographie, puis un rés#eau de luminophores d'une première couleur, par exemple rouge, puis un réseau de luminophores -d'une deuxième couleur, par exemple verte, puis un réseau d'une troisième couleur (bleu), et enfin, après les opérations de dépôt du film d'aluminium 16, un réseau de bandes d'indexation 18. Il y a donc 5 opérations de masquage et développement photolithographiques. Les différents masques de photolithographie doivent être réalisés avec une très grande précision et doivent être très bien positionnés lors des différentes étapes d'insolation. En effet, si on suppose que le pas des bandes de luminophores d'une couleur est de 300 microns et qu'il y a une erreur de 0,1 micron sur ce pas, cette erreur, cumulée sur la longueur de l'écran, aboutit au bout de 500 pas à une erreur de 50 microns, ce qui n'est pas acceptable puisque le luminophore de couleur, correctement placé entre deux bandes opaques d'un côté de l'écran se trouvera au dessus des bandes opaques de l'autre côté de l'écran. On voit donc que la précision de réalisation des masques les uns par rapport aux autres doit être très élevée. Le coût de ces masques est alors très important.Pour donner un ordre de grandeur du coût, on peut estimer que le coût d'un masque qui doit être apparié avec précision avec d'autres masques est plusieurs dizaines de fois supérieur au coût d'un masque qui n'aurait pas de problème d'appariement. Pour réduire les risques d'erreur et le coût des masques, on essaye d'utiliser le même masque pour les trois couleurs de luminophores, en choisissant des largeurs de bande et un pas d'espacement rigoureusement identiques pour ces trois bandes; on décale alors ce masque latéralement pour chaque étape de photolithographie, d'une distance qui est 1 espace entre deux bandes de couleur juxtaposées. On n'utilise alors plus que trois masques différents: un masque pour le réseau opaque, un masque unique pour les trois bandes de couleur, et un masque pour les bandes d'indexation. Le coût est donc notablement réduit par rapport au coût des cinq masques précédents. On pourrait envisager, pour réduire les risques d'erreur sur la réalisation de masques d'utiliser des photorépéteurs tels que ceux qu'on utilise pour la fabrication de circuits intégrés. Ces appareils utilisent un masque de dimension relativement petite par rapport à la surface globale à photograver; ce masque comporte une portion du motif à réaliser sur la surface de l'écran; le masque est déplacé plusieurs fois sur la surface globale à insoler, pour y reporter à chaque fois la même portion de motif sur une zone voisine de la précédente. Le déplacement est important à chaque fois : par exemple, le motif élémentaire est 25 fois plus petit que la surface globale. Le déplacement latéral à chaque fois est de un cinquième de -la dimension de l'écran. C'est une dimension encore très grande devant la tolérance de positionnement nécessaire (quelques microns). La précision de déplacement doit donc être très grande. A cause de cela, le coût des photorépéteurs est extrêmement élevé.Les photorépéteurs peuvent servir directement a insoler la surface d'écran portant une couche'à photograver, ou alors ils servent, à partir d'un masque élémentaire à réaliser un masque global. La présente invention propose un procédé pour réduire le coût des masques sans passer par l'utilisation de photorépéteurs très coûteux. Dans l'exemple d'écran à luminophores décrit ci-dessus, on propose selon l'invention d'utiliser un masque unique pour les luminophores de couleur et pour les bandes opaques qui les séparent, bien que le pas d'espacement et peut être aussi la largeur des bandes ne soient pas les mêmes pour les deux types de bandes; ce masque a des ouvertures qui ont une largeur correspondant à la plus petite des largeurs de bandes à obtenir, que ce soit la largeur des bandes opaques ou la largeur d'une ou de toutes les bandes de luminophores ou leur largeur commune si c'est la même; et le masque a pour pas entre les ouvertures le pas des bandes de luminophores d'une seule couleur. Ainsi, on peut réduire à deux au lieu de trois le nombre total de masques de précision à réaliser, sans avoir besoin d'utiliser un photorépéteur. Le coût en est réduit d'autant. Pour réaliser le réseau de bandes opaques, on effectuera plusieurs insolations successives à partir du même masque, décalé latéralement a chaque fois d'un pas du réseau de bandes opaques; pour réaliser un réseau de luminophores d'une couleur, on utilisera soit une seule insolation à partir de ce masque (avec ses ouvertures correctement positionnées entre deux bandes opaques), soit plusieurs insolations successives très légèrement décalées les unes par rapport aux autres si la largeur des bandes de luminophores correspond a des ouvertures plus grandes que celle du réseau opaque.Si c'est le réseau opaque qui a des bandes plus larges que celles qui correspondent aux ouvertures du masque, ce réseau opaque sera également réalisé par des insolations successives avec un léger décalage latéral correspondant au -décalage nécessaire pour élargir les zones exposées à travers les ouvertures du masque. Selon l'invention, on réduit encore considérablement le coût de réalisation de l'écran en utilisant un masque unique pour réaliser non seulement le réseau opaque et les luminophores de couleur, mais aussi le réseau de bandes de luminophores d'indexation, bien que les pas du réseau de luminophores de #couleur et du réseau d'indexation ne soient pas multiples l'un de l'autre. Dans ce cas, la largeur des ouvertures du masque est celle qui correspond a la plus petite des largeurs à obtenir (en pratique ce sera celle des bandes d'indexation qui sont moins larges que les bandes opaques et moins larges que les bandes de couleur). Le pas des ouvertures du masque sera le plus petit commun multiple entre les pas des différents réseaux a réaliser. Ainsi, dans l'exemple de la figure 1, si le pas du réseau opaque (N) est Pn, le pas des luminophores de couleur est 3Pn et le pas des luminophores d'indexation est 2Pn, alors on utilisera un masque ayant un pas entre ses ouvertures qui est 6Pn. Chaque réseau sera réalisé par insolations successives et décalages latéraux. Les décalages latéraux sont d'une part des décalages faibles (égaux a la différence entre la largeur des bandes opaques et les bandes d'indexation) tendant à élargir les bandes exposées par rapport aux ouvertures du masque, et d'autre part des décalages d'un ou plusieurs pas du réseau en cours de photogravure . Dans ces conditions, avec la contrainte d'un nombre d'insolations plus élevé que dans la technique antérieure, on aboutit à un coût très réduit puisque la réalisation d'un masque unique coûte plusieurs dizaines de fois moins cher que la réalisation de deux masques précisément appairés, et a fortiori que trois masques appairés ou plus. L'explication de l'invention a été donnée par commodité, pour bien faire comprendre l'idée qui la sous-tend, à propos. d'un écran de visualisation en couleurs à indexation de faisceau. L'invention s'applique cependant dé manière plus générale à d'autres réalisations photogravées. Selon l'invention, on propose un procédé de photolithographie pour reporter sur une surface des motifs de photogravure se répétant de nombreuses fois (plusieurs centaines de fois) dans une direction déterminée avec des pas très faibles devant la dimension de la surface dans cette direction, chaque motif correspondant à une couche photogravée respective et comprenant des zones ayant une largeur déterminée dans ladite direction, le pas de l'un au moins des motifs étant différent des pas des autres motifs, caractérisé en ce qu'on ### réalise les différents motifs avec un masque principal unique, ce masque unique comportant des motifs répétitifs se succédant de nombreuses fois avec un pas très faible devant la dimension du masque dans ladite direction, les motifs du masque comportant des zones ayant comme largeur dans ladite direction une largeur correspondant à a la plus petite largeur de zone des motifs à photograver et ayant comme pas dans la même direction le plus petit commun multiple entre les pas des différents motifs à photo graver. La photolithographie de chaque couche est réalisée en plusieurs cycles d'insolation successives comprenant: - si nécessaire, dans chaque cycle, pour les couches dont les largeurs de motifs sont supérieures à la largeur des motifs du masque, plusieurs étapes d'insolations successives avec un léger décalage latéral destiné à former des zones de largeur plus grande que la largeur que permettent d'obtenir les motifs du masque, ce décalage correspondant à la différence entre la largeur du motif à réaliser et la largeur du motif du masque; cela n'est pas nécessaire pour les couches dont la largeur de motif est égale à celle des motifs du masque; une seule étape d'insolation par cycle est alors effectuée; - les cycles successifs d'insolation étant séparés par une étape de décalage latéral du masque d'une distance correspondant au pas du motif de la couche en cours de réalisation. Le nombre de ces cycles d'insolations pour une couche est en principe le rapport entre le pas des ouvertures du masque et le pas du motif de la couche en cours de photogravure. Le développement de chaque couche sera effectué après l'ensemble des cycles d'insolation correspondant à cette couche. L'invention est particulièrement intéressante lorsque certaines couches doivent présenter un motif qui se répète non seulement avec un pas différent des autres, mais même avec un pas qui n'est ni un multiple ni un sous multiple du pas des autres (c'est le cas de la figure 1 avec le pas des luminophores d'indexation qui est de deux tiers du pas des luminophores d'une couleur) . Dans cette définition de l'invention, on entend par masque principal unique soit, dans le cas général un masque effectivement unique, soit, dans des cas particuliers, un masque et son négatif exact. D'autres caractéristiques et avantages de l'invention apparaîtront å la lecture de la description détaillée qui suit et qui est faite en référence aux dessins annexés dans lesquels - la figure 1, déjà décrite, représente en coupe une structure générale d'écran de visualisation en couleurs pour tube à indexation de faisceau; - la figure 2 représente une vue en plan des motifs de masquage superposés servant à réaliser les différentes bandes constituant les motifs photogravés sur l'écran; - la figure 3 représente le motif du masque unique servant à réaliser à la fois les bandes opaques N et les bandes de luminophores de couleur; - la figure 4 représente le motif du masque unique servant à réaliser non seulement les bandes opaques et les bandes de couleur mais aussi les bandes d'indexation. En remarque préliminaire, et pour éviter toute confusion, on précise que les largeurs de motifs qui sont mentionnées ne sont pas réellement les largeurs des motifs telles qu'elles apparaissent sur l'écran réalisé, mais ce sont les largeurs telles qu'elles sont définies sur les masques. En effet, la distinction est importante compte-tenu des effets de diffusion lors de l'insolation. Pour bien faire comprendre cette distinction, on peut se reporter à nouveau à la figure 1 qui représente l'écran terminé tel que réalisé à partir de masques dans lesquels la largeur des bandes opaques est la même que la largeur des bandes de luminophores de couleur. On voit clairement que la largeur des luminophores positionnés est en réalité plus grande que celles des bandes opaques puisque les luminophores débordent de chaque côté sur les bandes opaques qui les encadrent.Pourtant la largeur d'ouverture de masque qui a servi est la même. La différence de largeur réelle des bandes après photogravure provient de ce que la diffusion latérale de la lumière d'insolation est plus grande dans le cas de l'insolation de couches de luminophores relativement épaisses sur des bandes opaques (en pratique du chrome qui est réfléchissant) que dans le cas de l'insolation de la couche opaque assez mince sur du verre transparent. Ce préambule étant fait, on s'intéressera dans la suite aux largeurs de motifs apparaissant sur les masques et non sur l'écran puisqu'on cherche à optimiser l'utilisation des masques, étant entendu qu'on sait en fonction de la technologie de photogravure utilisée quel est la largeur réelle obtenue à partir d'une largeur d'ouverture de masque donnée pour une couche donnée. La figure 2 représente une vue imaginaire de tous les motifs de masquage superposés, correctement placés les uns par rapport aux autres, pour obtenir la structure de la figure 1. Le motif est un motif de bandes correspondant aux différents réseaux et désignées par les lettres suivantes - N pour le réseau opaque (noir); - R pour le réseau de luminophores rouges; - V pour le réseau de luminophores verts; - B pour le réseau de luminophores bleu; - I pour le réseau de luminophores d'indexation. Les largeurs respectives des bandes de ces réseaux sont désignées par des lettres correspondantes : Ln, Lr, Lv, Lb, Li pour chacun des réseaux. Ces largeurs désignent les ouvertures des masques, c est à dire les largeurs de bandes qui seront exposées lors de l'insolation et qui subsistent lors du développement de la résine photosensible servant lors de la photogravure (cette résine peut être contenue dans la couche de luminophore ) . Les pas des bandes des ces réseaux sont désignés par des lettres correspondantes: Pn, Pr, Pv, Pb, Pi. PREMIER EXEMPLE DE REALISATION Dans un premier exemple de réalisation de l'invention, on s'arrange pour utiliser un masque unique pour les réseaux N, R, V, B et un autre masque indépendant pour les bandes d'indexation. On choisit de préférence des largeurs d'ouvertures de masque identiques pour les bandes opaques et de couleur : Ln est égal à Lr, Lv, et Lb. Le pas des bandes de couleur est en principe identique pour toutes les couleurs. Il est le triple du pas du réseau opaque N Pr = Pv = Pb = 3Pn. On réalise un masque couvrant en principe toute la surface de l'écran à photolithographier, ce masque ayant pour ouvertures des bandes de largeur LM = Ln (la plus petite largeur entre les largeurs des bandes à réaliser par ce masque unique) et de pas PM = 3Pn (le plus petit commun multiple entre les pas des réseaux à réaliser par ce masque unique). Ce masque est représenté à la figure 3. Pour réaliser la photogravure des bandes opaques, on effectuera les cycles d'insolation suivants A. réseau opaque 1. premier cycle : insolation a travers le masque; déplacement du masque d'un pas du réseau opaque, soit Pn; 2. deuxième cycle : insolation à travers le masque; déplaeement du masque à nouveau d'un pas du réseau opaque, soit Pn; 3. troisième cycle : insolation à travers le masque; 4. développement de la résine photosensible, gravure du réseau opaque. B. réseau de luminophores rouges 1. Dépôt d'une couche de luminophores sensibilisée par un agent photosensible ou recouverte d une couche photosensible; 2. cycle d'insolation unique : insolation à travers le même masque, placé correctement (c'est-à-dire décalé) par rapport au réseau opaque déjà mis en place : luminophores insolés entre deux bandes opaques adjacentes; 3. développement/gravure de la couche de luminophores rouges. C. réseau de luminophores verts : le cycle est identique à celui des luminophores rouges, avec un positionnement de départ correct (c'est-à-dire décalé) du même masque par rapport au réseau opaque et au réseau de luminophores rouges. D. réseau de luminophores bleus : même chose, avec un positionnement du masque correct par rapport aux réseaux déjà en place. Le réseau d'indexation est mis en place dans cet exemple à l'aide d'un autre masque. DEUXIEME EXEMPLE DE REALISATION Dans un deuxième exemple de réalisation, on peut prévoir que la largeur des bandes opaques n'est pas la même que la largeur des bandes de luminophores. On peut supposer par exemple que les bandes de luminophores sont de largeur commune Lr = Lv = Lb plus grande que Ln. Dans ce cas, le masque unique de réalisation des bandes opaques et de couleur a pour largeur LM = Ln (la plus petite largeur). Le pas est inchangé, PM = 3Pn. La photogravure ci-dessus est modifié en ce que l'insolation de chacun des réseaux de couleur se fait en un cycle à deux étapes, par exemple pour les luminophores rouges B. réseau de luminophores rouges 1. Dépôt d'une couche de luminophores sensibilisée par un agent photosensible ou recouverte d'une couche photosensible; 2. cycle d'insolation unique à deux étapes 2a.- insolation à travers le masque unique, placé correctement (c'est-à-dire décalé) par rapport au réseau opaque déjà mis en place : luminophores insolés entre deux bandes opaques adjacentes; puis léger décalage latéral du masque d'une distance qui est égale à la différence entre la largeur Lr correspondant à la bande rouge et la largeur LM = Ln de l'ouverture plus petite du masque. 2b. nouvelle insolation avec le masque ainsi légèrement décalé; 3. développement/gravure de la couche de luminophores rouges. TROISIEME EXEMPLE DE REALISATION Dans un troisième exemple de réalisation beaucoup plus intéressant, c'est un masque unique qui est utilisé pour la réalisation complète de l'écran, y compris les bandes d'indexation I. La largeur des bandes du réseau unique est toujours la largeur des bandes les moins larges; en général ce sera la largeur Li des bandes d'indexation (encore une fois, ce qu'on appelle ici largeur des bandes d'indexation est la largeur d'ouverture de masque produisant les bandes réelles désirées). On peut encore supposer dans cet exemple que les largeurs Ln, Lr, Lv, Lb sont toutes identiques et supérieures à Li. On supposera que les pas des luminophores de couleurs sont identiques Pr = Pv = Pb et sont trois fois celui du réseau opaque. Enfin, conformément à l'exemple de la figure 1, on supposera que le- pas des luminophores d'indexation n'est ni un multiple ni un sous multiple du pas de luminophores de couleur; c'est cependant, comme le pas des luminophores de couleurs, un multiple du pas du réseau noir. Dans cet exemple, le pas des bandes d'indexation est Pi = 2Pn. On réalisera un masque, représenté sur la figure 4, dont les ouvertures sont des bandes de largeur LM = Li (la plus petite des largeurs) et de pas PM = ppcm(Pn, Pi, Pr, Pv, Pb) où cette dernière expression désigne le plus petit commun multiple des différents pas inscrits entre parenthèses. Dans ce cas, puisque Pi = 2Pn et Pr = Pv = Pb = 3Pn, le plus petit commun multiple est PM = 6Pn. Le pas du masque unique est 6 fois le pas du réseau opaque (figure 4). La photolithographie se déroulera suivant un cycle d'insolation complexe comme ci-dessous A. réseau opaque 1. premier cycle avec insolation en deux étapes et déplacement d'un pas Pn la. insolation à travers le masque; puis léger décalage du masque d'une distance égale à la différence Ln-Ll entre la largeur désirée (Ln) et la largeur d'ouverture (Li) du masque; lb. nouvelle insolation à travers le masque ainsi légèrement décalé; puis lc. déplacement du masque d'un pas du réseau opaque, soit Pn; 2. deuxième cycle au cinquième cycle : identiques au premier cycle; 3. sixième cycle : insolation à travers le masque en deux étapes comme aux autres cycles; 4. développement de la résine photosensible, gravure du réseau opaque. B. réseau de luminophores rouges I. Dépôt d'une couche de luminophores sensibilisée par un agent photosensible ou recouverte d'une couche photosensible; 2. premier cycle insolation en deux# étapes puis déplacement d'un pas Pr 2a. insolation à travers le masque unique, placé correctement (-c'est-à-dire décalé) par rapport au réseau opaque déjà mis en place luminophores Insolés entre deux bande. opaques adjacentes; puis léger décalage latéral du masque d'une distance qui est égale à la différence entre la largeur Lr correspondant à la bande rouge et la largeur LM = Li de l'ouverture plus petite du masque. 2b. nouvelle insolation avec le masque ainsi légèrement décalé; 2c. déplacement du masque d'un pas du réseau rouge (Pr); 3. deuxième cycle d'insolation en deux étapes comme au premier cycle. 4. développement/gravure de la couche de luminophores rouges. C. réseau de luminophores verts : le cycle est identique à celui des luminophores rouges, avec un positionnement de départ correct du même masque par rapport au réseau opaque et au réseau de luminophores rouges. D. réseau de luminophores bleus : même chose, avec un positionnement du masque correct par rapport aux réseaux déjà en place. E. réseau de luminophores d'indexation (après des étapes de formation du film d'aluminium 16 qui les supporte) 1. . Dépt d'une couche de luminophores sensibilisée par un agent photosensible ou recouverte d'une couche photosensible; 2. premier cycle : insolation en une seule étape puis déplacement d'un pas Pi: 2a. insolation à travers le masque unique, placé correctement (c'est-à-dire décalé) par rapport au réseau opaque et aux réseaux de luminophores de couleur : luminophores insolés au dessus de bandes opaques et non entre les bandes; 2b. déplacement du masque d'un pas du réseau d'indexation (Pi = 2Pn); 3. deuxième cycle identique au premier cycle. 4. troisième cycle insolation en une seule étape comme aux autres cycles. 5. développement/gravure de la couche de luminophores d'indexation. Comme on le voit, le nombre d'étapes d'insolation dans un cycle est lié à la nécessité d'obtenir des bandes plus larges que l'ouverture du masque. Pour faire une bande de 50 micromètres de large (bandes de couleur) avec une ouverture correspondant à 35 micromètres (largeur pour les bandes d'indexation), on fera un léger décalage Lr - Li soit 15 micromètres avant la deuxième étape du même cycle. Le nombre de cycles est egal au rapport entre le pas des motifs du masque (6Pn dans l'exemple précédent) et le pas du réseau en cours de photogravure : six cycles pour le réseau opaque, deux cycles pour chacun des réseaux de couleur, et trois cycles pour le réseau d'indexation. - Bien que les séquences d'insolation soient complexes et nécessitent beaucoup de déplacements de masques, il est tout-à-fait possible de réaliser ces séquences avec une programmation automatique des déplacements nécessaires après chaque étape d'insolation et après chaque cycle de plusieurs étapes. Un programme sera établi pour chaque couche à photograver. Le procédé selon l'invention a été décrit en détail dans des cas où d'une part les résines photosensibles utilisées sont négatives (lorsqu'elles sont insolées elles deviennent insolubles lors du développement ) et où en même temps, les gravures laissent subsister les bandes de couche désirées justement là où la résine a été insolée. Cependant, le procédé est tout-à-fait utilisable lorsqu on utilise des procédés de gravure par lift-off, c'est-à-dire dans lesquels les bandes de couche sont éliminées là où la résine est insolée. Dans ce cas, les largeurs qu'on doit considérer pour déterminer le masque unique sont les largeurs d'un motif constitué non pas par des bandes d'une couche désirée, mais par des intervalles entre bandes. D'autre part, le procédé est également transposable lorsque les résines photosensibles utilisées sont positives (insolubles lors du développement là où elles sont restées masquées). Mais alors, il faut remplacer partout la notion d'ouverture de masque par le contraire, c'est-à-dire par la notion de bandes noires de masquage. Enfin, le procédé reste transposable par équivalence lorsque certaines couches sont photogravées avec des résines négatives et d'autres avec des résines positives. Toutefois, dans ce cas on ne peut plus travailler avec un masque vraiment unique, mais avec un masque principal unique et son négatif exact (dans lequel les ouvertures sont remplacées par des zones opaques et réciproquement). Le procédé reste intéressant dans la mesure où on peut faire à faible coût deux masques rigoureusement appairés dont l'un est le négatif de l'autre. REVENDICATIONS 1. Procédé de photolithographie pour reporter sur une surface des motifs de photogravure (N, R, V, B, I) se répétant de nombreuses fois dans une direction déterminée avec des pas très faibles devant la dimension de la surface dans cette direction, chaque motif correspondant à une couche photogravée respective et comprenant des zones ayant une largeur déterminée (Ln, Lr, Lv, Lb, Li) dans ladite direction, le pas (Pi) de l'un au moins des motifs étant différent des pas des autres motifs (Pn, Pr, Pv, Pb), caractérisé en ce qu'on réalise les différents motifs avec un masque principal unique, ce masque unique comportant des motifs répétitifs se succédant de nombreuses fois avec un pas très faible devant la dimension du masque dans ladite direction, les mb##tifs du masque comportant des zones ayant comme largeur (LM) dans ladite direction une largeur correspondant à la plus petite largeur de zone des motifs à photograver et ayant comme pas (PM) dans la même direction le plus petit commun multiple entre les pas des différents motifs à photograver. 2. Procédé de photolithographie selon la revendication 1, caractérisé en ce que la photolithographie de chaque couche est réalisée en plusieurs cycles d'insolation successives comprenant - dans chaque cycle, pour les couches dont les largeurs de motifs sont supérieures à la largeur des motifs du masque, plusieurs étapes d'insolations successives avec un léger décalage latéral destiné - à former des zones de largeur plus grande que la largeur que permettent d'obtenir les motifs du masque, ce décalage correspondant à la différence entre la largeur du motif à réaliser et la largeur du motif du masque, - les cycles successifs d'insolation étant séparés par une étape de décalage latéral du masque d'une distance correspondant au pas du motif de la couche en cours de réalisation. 3. Procédé selon la revendication 2, caractérisé en ce que le nombre des cycles d'insolations est le rapport entre le pas des ouvertures du masque et le pas du motif de la couche en cours de photogravure. 4. Procédé selon l'une des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que le pas d'au moins un motif n'est ni un multiple ni un sous-multiple du pas des motifs des autres couches. 5. Procédé selon l'une des revendications 1 à 4, caractérisé en ce que les motifs des couches à graver sont des bandes d'une couche et en ce que la largeur du motif est la largeur de la bande et le pas d'espacement est le pas du motif est le pas d'espacement entre bandes de la couche. 6. Procédé selon la revendication 5, caractérisé en ce que l'un des motifs à reporter comprend des bandes d'une largeur plus petite que les bandes des autres motifs, et en ce que lemasque unique comporte des bandes ayant pour largeur cette largeur plus petite. 7. Procédé selon l'une des revendications 6 et 7, caractérisé en ce que l'un des motifs à reporter comprend des bandes dont le pas d'espacement ni un multiple ni un sous multiple du pas d'espacement d'au moins un autre motif, et en ce que le masque comprend des bandes espacées avec un pas qui est le plus petit commun multiple des pas de tous les motifs à reporter à l'aide de ce masque unique. 8. Procédé selon l'une des revendications 1 à 7, pour la fabrication d'un écran de visualisation en couleurs du type à indexation de faisceau, caractérisé en ce que les motifs à reporter comportent - un motif de bandes d'une couche opaque de largeur Ln, et de pas Pn, - plusieurs motifs de bandes de luminophores de couleur de largeurs respectives Lr, Lv, Lb, de préférence toutes identiques et de pas Pr, Pv, Pb de préférence tous identiques et multiples du pas du motif de bandes opaques, - et un motif de bandes de luminophores d'indexation de largeur Li et de pas Pi multiple du pas du motif de bandes opaques mais non multiple ou sous multiple du pas des bandes de luminophores, et en ce que l'on utilise un masque unique ayant des motifs de largeur Li dont le pas est le plus petit commun multiple du pas du motif de luminophores de couleur et du pas du motif de bandes d'indexation.