Brevet FR2630555A1 — publié le 19891027

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Selon un autre procédé l'image originale est projetée ou réfléchie & une échelle que l'on peut choisir sur la plaque d'impression en partant & nouveau d'un film, éventuellement d'un microfilm, qui peut être tracé par un ordinateur (Voir: Druckindustrie (St. Gallen) 1987, 6 octobre, page 116). Dans tous les cas on utilise donc un film qui doit être exécuté sous forme de photomasque avant la fabrication de la plaque d'impression à partir du typon. La fabrication des films exige déjà un processus long, qui de plus impose des conditions contraignantes de salles de travail sans poussières. Il s'y ajoute le montage également onéreux de films individuels sur une feuille de montage. L'invention a donc pour but de proposer un procédé et un dispositif permettant un processus simplifié et raccourci pour la fabrication d'un photomasque. Ce but est atteint grâce à un procédé pour la création d'une image latente sur un revêtement sensible à la lumière d'une plaque d'impression offset au moyen d'un faisceau de rayons émis par une source lumineuse et modulé au moyen d'un photomasque, qui se distingue en ce qu'est employé comme photomasque une matrice de relais photoélectrique et en ce que la matrice de relais photoélectrique est commandée par des signaux qui sont en corrélation avec l'image et grace & des dispositifs destinés à la mise en oeuvre de ce procédé qui se distinguent d'uen part par une première unité de couche de cristaux liquides, un pinceau commandé par calculateur orienté sur une première face de cette 263055S remière unité de couche de cristaux liquides, envoyant deF impulsions en correlation avec l'image, un miroir -ui envoie- la lumière émise par la source lumineuse sur une deuxième face de la première unité de couche de cristaux liquides opposée & la première face et un système de lentilles créant une image de la deuxième face de la première unité de couche de cristaux liquides sur la plaque d'impression offset, et d'autre part par une deuxième unité de couche de cristaux liquides comportant une matrice d'électrodes, la matrice d'électrodes pouvant être occupée par des signaux électriques, qui sont en corrélation avec l'image, un guidage du faisceau de rayons tel que celui-ci parvient sur une première face de la deuxième unité de couche de cristaux liquides et un système de lentilles pour former une image d'une partie du faisceau de rayons pénétrant dans l'unité de couche de cristaux liquides. Des moyens de fabrication sans film de plaques d'impression adaptées & l'impression offset sont certes' décrits déjà dans la littérature (voir "Der Druckspiegel", cahier 8/81, pages 662 et suivantes, et cahier 9/81 pages 744 à 748 ainsi que "Philips technische Rundschau" N' 8 1977/78, pages 214 à 224), mais ils exigent des plaques d'impression spécialement adaptées & ce but. Avec un tel procédé la mise en page d'une page complète d'un typon peut être directement projetée sur une couche semi- conductrice d'une plaque d'impression. Dans ce but la couche semi- conductrice est chargée dans l'obscurité, et exposée pour former l'image par la projection du typon et déchargée de cette façon et elle est ensuite enduite de toner. L'exposition d'une telle plaque d'impression à l'aide d'un faisceau lumineux ou laser à impulsion, guidé par un ordinateur est décrite dans "Der Polygraph", cahier 9/82, pages 675 A 682. Ce procédé utilise la sensibilité élevée de la conductibilité lumineuse de la couche semi-conductrice, de sorte qu' il met en oeuvre des sources lumineuses tfaibles dans le domaine des grandes longueurs d'onde auxquelles ne sont guère adaptés des revêtements de claques d'impression qui sont produits selon les "procédés positifs" ou "négatifs" mentionnés, dans introduction. Des variantes d'exposition avec des faisceaux lumineux ou laser sont décrites dans "Angewandte Chemie", cahier 2/80, pages 95 & 106. Enfin le DE-A 32 48 178 décrit un procédé pour revêtir, en vue d'une formation d'image, une plaque d' impression pour impression offset, dans lequel des éléments de surface recevant les couleurs sont transférés sous 1' effet de la chaleur et de la pression et forment 1' image sur une surface hydrophile d'une plaque d'impression. L'écriture sur une surface hydrophile d'une plaque d'impression à l'aide d'éléments de surface oléophiles d'une bande thermocolorée peut être exécutée par tête d'écriture thermique ou faisceau laser (procédé LogEscan) (voir "Angewandte Chemie", 92 (1980) pages 95 à 106, Vollmann: Neue Technologien zur filmlosen Herstellung von Druckformen). Le procédé selon 1' invention non seulement simplifie et raccourcit le processus de fabrication d'un photomasque, mais il présente, par rapport au procédé connu d'exposition "sans film" d'une plaque d'impression offset, 1' avantage complémentaire d'être utilisable aussi pour 1' exposition "sans film" de plaques d'impression dont les revêtements sont adaptés aux "procédés positif" ou "négatif" mentionnés dans 1' introduction. Les signaux de commande de la matrice à relais photoélectrique peuvent être obtenus par exploration d'un typon d'impression. Il est de plus possible d' utiliser comme "typon d'impression" une image engendrée dans un ordinateur lui-même. On peut de cette façon & l'aide du procédé selon l'invention par exemple compléter l'image à créer de le plaque d'impression d'un typon physiquement disponible au moyen de "typons d'impression" additionnels, engendrés dans un ordinateur. L'emploi selon l'invention d'une matrice à relais photoélectrique comme photomasque permet en particulier d'éviter un processus chimique de développement de film qui exige toujours un certain temps de réaction, que l'on économise donc. On élimine de même le séchage d'un film développé, et le montage généralement nécessaire de films individuels sur une feuille de montage. La matrice à relais photoélectrique représente en outre un photomasque maniable de façon extrêmement flexible et toujours réutilisable. La commande de la matrice & relais photoélectrique par des signaux, qui sont en corrélation avec 1' image, peut être réalisée à l'aide d'un ordinateur. On va maintenant décrire plus en détail l'invention au vu du dessin qui représente: Fig.1 une représentation schématique d'un dispositif selon l'invention employant un photomasque en forme de masque à réflexion, Fig. 2 une représentation schématique d'un dispositif selon l'invention employant un photomasque en forme de masque à transmission. Le procédé selon l'invention consiste essentiellement à former, au moyen des signaux, sur le revêtement sensible à la lumière d'une plaque d'impression offset, des points lumineux choisis d'un affichage correspondant à l'image. Dans les variantes décrites plus loin du procédé selon l'invention on fait usage du fait que des couches de cristaux liquides modifient leur comportement optique de façon contrôlable. Dans l'utilisation de ce fait selon l'invention il est ainsi prévu selon la première variante conforme à la Fig. 1 de réaliser la matrice à relais photoélectrique d'un premier type de revêtement de cristaux liquides, de la diriger sur une face d'une première unité 1 de couche de cristaux liquides constitués de cette façon & l'aide de l'impulsion à corrélation d'image d'un pinceau 2 guidé par ordinateur et d'utiliser la face opposée de l'unité l de revêtement de cristaux liquides comme masque de réflexion pour le faisceau lumineux 3, qui est émis par une source lumineuse 4. On peut utiliser ici comme source lumineuse 4 par exemple une lampe à vapeur de mercure dopée par halogénure métallique. Comme pinceau 2 on peut utiliser un rayon cathcdique ou laser. A la Fig. 1 un pinceau 2 est indiqué dans une position arbitraire, instantanée. On peut omettre une description détaillée des unités à couche? à cristaux liquides employées dans le cadre de l'invention et de leur commande car les indications correspondantes sont disponibles dans des documents techniques (voir par exemple: "SPSE-The Society for Imaging Science and Technology" 1987, pages 108 à 115)>. Des détails concernant l'emploi de pinceaux peuvent être trouvés dans "Journal of Applied Physics", American Institute of Physics, Bd. 57 (4) du 15.2. 1985, pages 1356 et suivantes. Pour la première variante du procédé selon l'invention il est essentiel d'employer un premier type de couches de cristaux liquides, o, par application locale d'un pinceau à une première face, sont réalisées des zones localement réfléchissantes et non réfléchissantes pour la lumière parvenant sur la face opposée. Dans une deuxième variante la' matrice de relais photoélectrique est réalisée dans un deuxième type de couches de cristaux liquides, une matrice d'électrodes est créée sur une deuxième unité 1' de couche de 26S0555 Cristaux liquides constitués de cette façon, des signaux 4lectriques 5, en corrélation avec l'image, sont appliqués à la matrice d'électrodes et la deuxième unité 1' de couches de cristaux liquides sert de masque de transmission pour le faisceau lumineux 3 (Fig.2). Il est essentiel ici pour cette deuxième variante contrairement & la première variante mentionnée plus haut, d'employer un deuxième type de couches de cristaux liquides dans lequel & la suite de l'application locale de signaux électriques se constituent des zones de la couche de cristaux liquides localement transparentes à la lumière et non transparentse A la lumière. L'application locale de signaux électriques 5 est représentée à la Fig.2 schématiquement par la flèche indiquant les signaux. Dans les deux procédés mentionnés on réalise sur l'unité 1, 1' de couche de cristaux liquides respective un affichage de l'image souhaitée sous forme de points lumineux et cet affichage forme une image sur le revêtement 6 sensible A la lumière de la plaque d'impression d'offset 7. Pour cette création d'image un-système de lentilles est prévu dans une structure complémentaire. Ce système de lentilles présente-selon un développement de l'invention une lentille de projection 9 mobile dans le sens de la projection 8 et en sens opposé. On peut de cette façon projeter sur le revêtement 6 une image de l'affichage de dimension au choix. Un dispositif destiné à la réalisation du procédé selon l'invention en employant le premier type mentionné de couche de cristaux liquides est schématiquement représenté A la Fig. 1. Avec ce dispositif le faisceau lumineux 3 émis par la source lumineuse 4 et mis en convergence A l'aide d'une lentille 11 vient au moyen d'un miroir 10 frapper une face opposée au faisceau 2 de la première unité 1 de couche de cristaux liquides. Pour obtenir un rendement lumineux aussi important que possible à partir du faisceau lumineux 3 le miroir 10 est un séparateur de faisceau et il est disposé de telle façon que la lumière du faisceau 3 qu'il réfléchit sur l'unité 1 de couche de cristaux liquides frappe sensiblement perpendiculairement l'unité 1 de couche de cristaux liquides. Un dispositif de mise en oeuvre du procédé selon l'invention employant le deuxième type mentionné de couche de cristaux liquides est schématiquement représenté à la Fig. 2. Le faisceau lumineux 3 est ici guidé de telle façon qu'il traverse sur son chemin vers la plaque d'impression offset 7 la deuxième unité 1' de couche de cristaux liquides en fonction de l'application locale à cette dernière des signaux électriques 5. Le procédé selon l'invention, comme mentionné, est utilisable pour l'exposition de plaques d'offset courantes, par exemple comportant un revêtement à émulsion diazo ou à halogénure d'argent. Il suffit simplement dans ce but de créer le faisceau lumineux 3 à l'aide d'une source lumineuse 4 riche en énergie pour créer ainsi la puissance lumineuse nécessaire ici sur la plaque d'impression offset correspondante. Mais le procédé selon l'invention est aussi utilisable pour l'exposition de revêtements semi-conducteurs de plaques d'impression offset chargées électriquement. Il suffit simplement d'employer un faisceau lumineux 3, qui possède la puissance d'éclairage nécessaire, qui de façon correspondante est plus faible sur la plaque d'impression offset concernée. Cette puissance d'éclairage relativement plus faible peut aussi être obtenue à l'aide d'un dispositif selon l'invention équipé pour l'exposition de plaques d'impression offset courantes, en introduisant un filtre - non représenté dans le dessin - dans le faisceau lumineux. REVENDICATIONS 1. Procédé pour la création d'une image latente sur un revêtement sensible à la lumière d'une plaque d'impression offset au moyen d'un faisceau de rayons émis par une source lumineuse et modulé au moyen d'un photomasque, caractérisé en ce qu'est employé comme photomasque une matrice de relais photoélectrique (1, 1') et en ce que la matrice de relais photoélectrique est commandée par des signaux qui sont en corrélation avec l'image. 2. Procédé selon la revendication 1,caractérisé en ce que la matrice de relais photoélectrique est constituée d'une première unité de couche de cristaux liquides (1) sur une face de laquelle sont envoyées des impulsions, an corrélation avec l'image, d'un pinceau (2) commandé par ordinateur, et dont le côté opposé est utilisé comme masque de réflexion pour le faisceau de rayon (3). 3. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que la matrice de relais photoélectrique est constituée par une deuxième unité de cristaux liquides (1') comprenant une matrice d'électrodes, en ce que la matrice d'électrodes est occupée par des signaux électriques (5) qui sont en corrélation avec 1' image et en ce que la deuxième unité (1') de couche de cristaux liquides est employée comme masque de transmission pour le faisceau de rayonnement (3). 4. Procédé selon l'une des revendications 1 & 3, caractérisé en ce que le faisceau de rayon (3) est guidé par un système de lentilles (9). - 5. Procédé selon la revendication 4, caractérisé en qu'est employé un système de lentilles (9), avec lequel l'image créée sur la plaque d'impression d'offset (7) peut varier en dimension. 6. Dispositif selon l'une des revendications 1 à 5, caractérisé en ce que le faisceau de rayon (3) est créé avec une source de lumière riche en énergie de telle façon qu'est obtenue avec le faisceau de rayonnement (3) sur la plaque d'impression offset (7) une intensité d'éclairage qui serait suffisante pour exposer une plaque d' impression offset courante, comportant par exemple un revêtement à émulsion diazo ou & halogénure d'argent, A 1' aide d'un photomasque appliqué au-dessus du revêtement sous forme d'un film habituel d'halogénure d'argent, de telle façon qu'il se produise sur le revêtement une image latente du film à halogénure d'argent. 7. Procédé selon l'une des revendications 1 à 5, caractérisé en ce qu'est utilisé un faisceau de rayons (3) avec lequel est obtenu sur la plaque d'impression offset (7) une puissance d'éclairage qui est suffisante pour décharger par exposition au faisceau lumineux (3) un revêtement semi-conducteur de la plaque d'impression offset chargé électriquement dans l'obscurité. 8. Procédé selon l'une des revendications 1 à 5, caractérisé en ce qu'est obtenue sur la plaque d'impression offset par introduction d'un filtre dans un faisceau de rayon (3) une puissance d'éclairage adaptée à une décharge d'un revêtement semi-conducteur chargé électriquement de la plaque d'impression offset. 9. Dispositif pour la création d'une image latente sur un revêtement sensible & la lumière d'une plaque d'impression offset au moyen d'un faisceau de rayons émis par une source lumineuse et modulé au moyen d'un photomasque caractérisé par - une première unité (1) de couche de cristaux liquides, - un pinceau (2) commandé par calculateur orienté sur une première face de cette première unité de couche de 263055S il cristaux liquides, envoyant des impulsions en corrélation avec l'image; - un miroir (10) qui envoie la lumière émise par la source lumineuse (4) sur une deuxième face de la première unité de couche de cristaux liquides opposée & la première face et - un système de lentilles (9) créant une image de la deuxième face de la première unité (1) de couche de cristaux liquides sur la plaque d'impression offset (7). 10. Dispositif selon la revendication 9, caractérisé en ce que le miroir (10) est un séparateur de faisceau et que de la lumière du faisceau de rayons (3) réfléchie par le miroir (10) sur la première unité (1) de couche de cristaux liquides parvient sensiblement perpendicu- lairement sur la première unité de couche de cristaux liquides (1). 11. Dispositif pour la création d'une image latente sur un revêtement sensible à la lumière d'une plaque d'lmpression offset au moyen d'un faisceau de rayons émis par une source lumineuse et modulé au moyen d'un photomasque, caractérisé par - une deuxième unité (1') de couche de cristaux liquides comportant une matrice d'électrodes, la matrice d'électrodes pouvant être occupée par des signaux électriques (5), qui sont en corrélation avec 1' image., - un guidage du faisceau de rayons (3) tel que celui- ci parvient sur une première face de la deuxième unité (1') de couche de cristaux liquides et - un système de lentilles (9) pour former une image d'une partie du faisceau de rayons (3) pénétrant dans 1' unité (1) de couche de cristaux liquides.