Brevet FR2620268A1 — publié le 19890310

PROCEDE DE DOPAGE D'UNE COUCHE SEMI-CONDUCTRICE ET TRANSISTOR OBTENU PAR CE PROCEDE DESCRIPTION La présente invention a pour objet un procédé de dopage d'une couche semi-conductrice et un transistor obtenu par ce procédé. Les hétérostructures semi-conductrices à modulation de dopage qui ont été proposées récemment offrent des perspectives intéressantes dans La réalisation de transistors, de composants hyperfréquences, etc... Pour ne citer que Le cas des transistors TEGFET (pour "Two-dimensional Electron-Gas Field Effect Transistor") appelés encore MODFET (pour "Modulation Doped Field Effect Transistors) ou HEMT (pour "High Electron Mobility Transistor"), il s'agit de composants présentant une forte transconductance, des temps de réponse très faibles et un faible bruit en hyperfréquence.Ces propriétés sont obtenues en séparant les électrons de leurs ions donneurs, pour créer ce qu'il est convenu d'appeler un "gaz d'électrons" à deux dimensions (en abrégé "2-DEG" pour "two-Dimension Electrons Gas")-. Ces électrons ont alors une mobilité qui se trouve etre considérablement augmentée par rapport aux structures anciennes. On peut rappeler brièvement le principe de ces structures à L'aide des figures 1 et 2. Sur ta figure 1 on voit, en coupe, un transistor comprenant un substrat 10, par exemple en GaAs semi-isolant une 14 -# couche 12, par exemple en GaAs légèrement dopé p (10 cm ) et d'épaisseur voisine de 1 Fm, une couche 14 par exemple en Sa At As avec x voisin de 0,3 ; cette dernière couche est I-x x constituée d'une couche 15 non dopée, par exemple de 80 A d'épaisseur, et d'une couche 16 dopée n à L'aide de silicium et o d'épaisseur de L'ordre de 500 A ; le dopage est de l'ordre de 10 cm Le transistor comprend encore des zones 20 et 22 fortement dopées N et recouvertes d'alliage Ni/Au/Ge et constituant respectivement une source et un drain pour le transistor.Enfin, on trouve une électrode 24, par exemple en aluminium, constituant un contact Schottky et formant une grille de commande. La figure 2 montre le diagramme d'énergie d'une telle structure. On y voit une bande de conduction 27, une bande de valence 29 et un niveau de Fermi EF. On observe également, dans la zone marquée 2-DEG, le "gaz d'électrons" à deux dimensions situe à l'interface entre les deux couches. Ces électrons sont séparés de la grille par la couche ternaire en 6alias, qui joue le r8le de barrière. On peut trouver une description de telles structures dans les articles de : - Daniel DELAGEBEAUDEUF et NUYEN T LINH intitulé "Metal-(n) AlGaAs-GaAs Two-Dimensional Electron Sas FET" publié dans IEEE Transactions on Electron Devices, vol.ED-29, N 6, June 1982, pp.955-960, - A.J. VALOIS et al intitule "Temperature dependence of I-V characteristics of modulation-doped FETs" publié dans J. Vac. Sci. Technol. B1(2) Apr. June 1983, pages 190-195, - R. FISHER et al intitulé "Instabilities in Modulation Doped Field-Effect Transistors (MODFETs) at 77 K" publié dans Electronics Letters 15th September 1983, vol.19, n019. Malgré l'intérêt certain qu'offrent ces composants, ils présentent des inconvénients Liés à la présence de défauts dans la couche ternaire en AI Sa As. Ces défauts sont désignés x 1-x généralement par "centres DX", la lettre D soulignant que le centre est lié au donneur, en l'occurrence le silicium, et l'ensemble DX montrant qu'il s'agit sans doute d'un complexe. Sur La figure 2, on voit, en tireté, une ligne 28, qui symbolise te niveau d'énergie de ces centres DX. Les électrons ont tendance à venir se piéger dans ces centres qui ont une grande énergie de liaison, ce qui affecte naturellement les propriétés électroniques du composant. Ces défauts apparaissent quelle que soit ta technique d'épitaxie utilisée pour réaliser L'hétérostructure, que cette épitaxie s'accomplisse par jets moléculaires, en phase vapeur ou en phase liquide. Ils apparaissent aussi quel que soit le donneur utilisé, dès que la composition en AI dépasse 20X tx supérieur à 0,2). La proportion relative de ces centres, par rapport à l'état normal du donneur, augmente très rapidement avec x et avec le dopage. Pour un transistor où la composition x de la couche barrière est de l'ordre de 0,3, il semble que les problèmes de mauvaise transconductance à basse température et de trop grande variation de la tension de seuil avec la température, soient imputables à ces défauts. Tous ces problèmes sont évoqués et discutés notamment dans l'article de SUNANDA DHAR et al intitulé "A Detailed Investigation of the D-X Center and Other Trap Levels in GaAs-Al Sa As Modulation-Doped Heterostructures Croup by x 1-x Molecular Beam Epitaxy". Il a déjà été proposé d'utiliser les "super-réseaux" ("superlattice") binaires GaAs/AlAs avec dopage sélectif des puits en GaAs au lieu et place de Ga AI As dopé en volume, pour l-x x éliminer ces centres DX. Cette solution est décrite dans L'article de T. BABA intitulé "Elimination of a DX-center by an AlAs/n-GaAs superlattice and its application to 2DEGFETs" publié dans Microelectronic Engineering 4 (1986) 195-206, pages 195-206. Il semble que cette technique soit intéressante, dans les résultats qu'elle procure, bien que le terme "élimination" utilisé dans le titre de cette référence soit quelque peu excessif. Cependant, la réalisation d'un tel super-réseau binaire est une technique très délicate, qui impLique une faible vitesse de croissance et qui nécessite d'utiliser des pas courts, ce qui entrasse des problèmes de fiabilité des équipements d'épitaxie. La présente invention a justement pour but de remédier à ces inconvénients. A cette fin, elle propose un procédé de réalisation d'une hétérostructure semi-conductrice du genre de celles qui ont été évoquées plus haut, ce procédé conduisant à une réduction extremement Importante du nombre de centres DX. Cette réduction est d'autant plus avantageuse qu'elle augmente avec Le dopage. Ce résultat est obtenu en renonçant au dopage traditionnel en volume de la couche ternaire (dans l'exemple précédent SaAlAs) au profit d'un dopage par plans. Un tel dopage, très abrupt, est possible en utilisant, comme procédé d'épitaxie, L'épitaxie dite par jets moléculaires ("Molecular Beam Epitaxy" ou MBE). On sait en effet que ce type d'épitaxie permet de réaliser des variations brutales de composition etlou de dopage et d'obtenir des interfaces quasi monomoléculaires. Mais l'épitaxie en phase vapeur est également possible, ainsi que des combinaisons de ces techniques. Le dopage par plans est obtenu en interrompant la croissance du composé ternaire et en introduisant le dopant. On peut réitérer cette procédure pour obtenir plusieurs plans de dopage. La distance entre plans de dopage est réglée par ajustement sur le temps d'épitaxie entre deux opérations d'interruption de croissance-dopage. Pour une concentration atomique de silicium de quelques pour-cents de la monocouche complète et pour un espacement entre plans de dopage de 100 A, on obtient un dopage équivalent à un dopage volumique moyen de quelques 10 cm et il n'y a pratiquement plus de centres DX alors qu'en dopage homogène, pour une même composition x=35X, il n'y a pratiquement que des centres DX. Le procédé de L'invention permet de conserver des vitesses de croissance de L'ordre de 1,5 Fm/h, qui sont élevées par rapport à celles des super-réseaux binaires Gats/AlAs (0,3rm/h). Par ailleurs, la qualité cristalline s'est avérée excellente, ce qui a été vérifié par diffraction aux rayons X. Il se trouve aussi que la qualité de surface est excellente (absence de rugosité), que la mobilité électronique est supérieure à celle 2 que l'on observe avec les autres structures (M=1500 cm /Vxsec à 300K pour n=10 cm ), par suite d'une compensation électronique plus faible et que la réalisation de contacts ohmiques ne pose aucun problème et est même beaucoup plus facile que dans le cas de dopage en volume, ce qui est très important pour les applications pratiques. On observera que la réalisation d'un plan de dopage n'est pas, en soi, une technique nouvelle. Elle est décrite par exemple dans L'article de E.F. SCHUBERT et al intitulé "The Doped Field-Effect Transistor" publié dans Jap. Journ. of Appl. Phys., vol. .24, N08, August 1985, pp. 608-610. Cependant, dans cette référence, le plan de dopage, qui est unique, est formé dans un composé binaire, en l'occurrence GaAs. Or, pour un tel composé, le problème des centres DX ne se pose pas. En effet, comme indiqué plus haut, ces centres n'apparaissent que si la composition x de l'alliage ternaire Sa 1-x AI As atteint 20X et ce x n'est évidemment pas Le cas dans GaAs où x=O. Cependant, la technique décrite dans cette référence pour former cette couche au dopage en forme de fonction de Dirac, peut etre utilisée dans l'invention. Naturellement, ce n'est qu'à titre d'exemple que l'on a cité, plus haut, le cas de L'hétérostructure en Gats/6aAlAs. L'invention est plus générale et peut s'appliquer à toute hétérostructure utilisant les composés 111-V, avec une barrière en composé ternaire par suite de la compensation plus faible. Mais l'intérêt est avant tout pour SaAlAs par suite de la quasi élimination des centres DX: De façon plus précise, l'invention a donc pour objet un procédé de dopage d'une couche semi-conductrice dans un composé ternaire (X Z )Y où X et Z appartiennent à la colonne III de la 1-x x classification périodique des éléments et Y à la colonne V et où x est inférieur à 1 et supérieur à 0,2, ce procédé étant caractérisé par le fait qu'on commence par faire crotte le composé ternaire par épitaxie sans introduction de dopant, puis on interrompt la croissance du composé ternaire et on introduit le dopant, puis on reprend la croissance du composé ternaire après avoir interrompu L'introduction du dopant, ces opérations ayant pour effet de produire un plan de dopage dans la couche de composé ternaire, et l'on réitère éventuellement ces opérations pour obtenir plusieurs plans de dopage. De préférence, le composé ternaire est Sa AI As. 1-x x De préférence encore le dopant est le silicium (dopage n). Mais il pourrait Store le béryllium (dopage p). La couche dopée ainsi obtenue peut Entre déposée sur une couche tampon (par exemple en GaAs) non dopée pour un TEGFET et épitaxiée sur un substrat semi-isolant, ou fortement dopée pour un laser et épitaxie sur un substrat dopé. L'invention a également pour objet un transistor obtenu par le procédé défini plus haut. L'invention sera mieux comprise à la lumière de la description qui va suivre, d'exemples de réalisation donnés à titre explicatif et nullement limitatif. Cette description se réfère à des dessins annexes sur lesquels : - la figure 1, déjà décrite, représente, en coupe, un transistor selon l'art antérieur, - la figure 2, déjà décrite, montre un diagramme d'énergie relatif à la structure précédente, - la figure 3 montre un transistor TEGFET conforme à l'invention à un seul plan de dopage. - la figure 4 montre le schéma de la bande de conduction dans L'exemple du TEGFET à un plan de dopage, - la figure 5 montre le schéma de la bande de conduction dans une hétérostructure à deux plans de dopage. Sur la figure 3, on voit un transistor TEGFET comprenant un substrat semi-isolant 10, par exemple en GaAs, une couche 12 en GaAs, faiblement dopée p, une couche 16 en Sa AI As avec x=0,3 par exemple, cette couche comprenant un 1~x x plan de dopage P1 dopé à L'aide de silicium. Naturellement, sur cette figure les dimensions ne sont pas respectées pour plus de clarté. Il suffit d'indiquer que la couche 12 peut présenter une épaisseur de L'ordre du micron, la sous-couche 15 une épaisseur de l'ordre de la centaine d'Angstroms et la couche 16 une épaisseur de la centaine d'Angstroms. La figure 4 montre la bande de conduction correspondante et la place du plan de dopage P1. Pour obtenir une telle structure on peut s'y prendre comme suit, sans que la technique de croissance et les paramétrés indiqués constituent en quoi que ce soit une limitation de la portée de L'invention. L'épitaxie s'effectue dans un bàti d'épitaxie par jets moléculaires. La température de croissance est d'environ 6400C sous une pression d'arsenic égale à une valeur comprise entre deux et quatre fois la pression de stabilisation en phase riche en arsenic de La surface de La couche. La vitesse de croissance est de 1 pm/h pour GaAs soit 1,5 pm/h pour SaAlAs de composition en AI x=0,35.La température de la cellule de silicium est, suivant les cas, de 10000C ou de 11000C de façon à avoir un flux de 1010 atomeslcm2xsec ou de 4.1010 atomeslcm2xsec. Pendant le dopage planaire les flux des métaux Sa, AI sont interrompus par fermeture des obturateurs des cellules correspondantes, nais le flux d'arsenic est maintenu. Le temps de dépit de silicium varie entre 1 seconde et 10 minutes suivant le dopage désiré. Dès que le dépôt est terminé (fermeture de l'obturateur de la cellule de silicium) la croissance reprend par ouverture des obturateurs des cellules Sa et AI. Il faut donc remarquer que, contrairement au dopage en volume, la quantité de dopant introduite dans un plan de dopage est totalement indépendante de la vitesse de croissance, qui peut fluctuer un peu d'un jour à L'autre. Le flux de silicium étant très stable (car la consommation de silicium est 10 000 fois plus faible que celle de Sa AI ou As (comparer quelques 10 cm de dopage à quelques 3 10 atomes par cm dans un cristal) La détermination du dopage, qui s'effectue par le choix d'une température du silicium et d'une durée, est très facile ; les résultats obtenus sont donc parfaitement controlables et reproductibles. L'hétérostructure obtenue est complétée par une source 20, un drain 22, une couche 23 en GaAs et une grille 24 comme pour obtenir un transistor complet. Dans un tel transistor, L'épaisseur de la couche de 6aAlAs peut cotre plus faible que dans l'art antérieur (par o o o exemple 200 A (couche à 150 A de la surface plus 50 A de o o couche 15, dite de séparation) au Lieu de 600 A (150 A de couche de couverture -100 A de SaAlAs et au-dessus 50 A de GaAs o pour éviter L'oxydation- 400 A de couche de GaAlAs dopée en volume et 50 A de couche de séparation). Il en résulte que la distance L entre ta grille 24 et le gaz d'électrons se trouve réduite d'environ un facteur 3. Cet avantage, ajoute à l'absence de centres DX, devrait améliorer différentes propriétés du transistor, en particulier sa transconductance à basse température. (Pour une grille courte, cette transconductance est inversement proportionnelle à L). La figure 5 donne un autre exemple de bande de conduction avec deux plans de dopage P et P2 respectivement de Il -2 12 -2 1 quelques 10 cm et 6.10 cm . Le gaz d'électrons obtenu dans ce cas présente une très haute mobilité à la température de l'hélium liquide. L'invention peut également servir à la réalisation d'un laser à semi-conducteur dont la partie active serait en composé binaire, par exemple en Gars, et plus généralement à la réalisation de tout composant à semi-conducteur utilisant de telles hétérostructures. REVENDICATIONS 1. Procédé de dopage d'une couche semi-conductrice en composé ternaire (X Z )Y où X et Z appartiennent à la colonne #-x x III de la classification périodique des éléments et Y à la colonne V et où x est inférieur à 1 et supérieur à 0,2, ce procédé étant caractérisé par le fait qu'on commence par faire crotte le composé ternaire par épitaxie sans introduction de dopant, puis on interrompt la croissance du composé ternaire et on introduit le dopant, puis on reprend la croissance du composé ternaire après avoir interrompu l'introduction du dopant, ces opérations ayant pour effet de produire un plan de dopage (PI) dans la couche de composé ternaire, et l'on réitère éventuellement ces opérations pour obtenir plusieurs plans de dopage (P1, P2, P3). 2. Procédé selon la revendication 1, caractérisé par le fait que le composé ternaire est CL AI As. x 3. Procédé selon la revendication 2, caractérisé par le fait que, pour interrompre la croissance du composé ternaire on interrompt le flux de Sa et de AI, tout en maintenant le flux de As. 4. Procédé selon L'une quelconque des revendications 1 et 2, caractérisé par le fait que le dopant est le silicium. 5. Procédé selon la revendication 1, caractérisé par le fait que l'épitaxie est une épitaxie par jets moléculaires. 6. Transistor à effet de champ du type TEGFET comprenant, sur un substrat semi-isolant (10), une première couche semi-conductrice (12) non dopée d'un composé binaire (XY) de type III-V surmontée d'une seconde couche semi-conductrice (14) d'un composé ternaire (X Z )Y où x est inférieur à 1 et 1-x x supérieur à 0,2, cette seconde couche ~tant dopée au moins sur une partie t16) à L'aide d'un dopant donneur approprie, la seconde couche dopée étant surmontée d'une grille conductrice (24) et pourvue de deux zones Latérales conductrices constituant une source (20) et un drain (22), ce transistor étant caractérisé par le fait que La partie dopée (16) de la seconde couche semi conductrice (14) est obtenue selon le procédé de la revendication 1 et comprend au moins un plan de dopage (P1). 7. Transistor à effet de champ selon la revendication 6, caractérisé par le fait que le composé ternaire est en à effet de champ selon la revendication 6, caractérisé par le fait que le dopant est le silicium. 9. Transistor à effet de champ selon La revendication 6, caractérisé par le fait qu'il comprend un seul plan de dopage (P1). 10. Transistor à effet de champ selon la revendication 7, caractérisé par le fait que le plan de dopage est situé à une o distance de la surface de La couche inférieure à 200 A.