Brevet FR2616965A1 — publié le 19881223

La présente invention se rapporte à un disposi- tif à semi-conducteurs, et plus particulièrement à une structure de circuit ou montage en pont extérieur dit "à l'air" à produire sur un substrat à semi-conducteurs. Les figures 2a et 2b montrent un dispositif à semi-conducteurs de l'art antérieur présentant une structure de circuit ou montage en pont à l'air. Sur ces figures 2a et 2b, la référence numérique 1 désigne un montage de première couche, prévu sur un substrat à semi-conducteurs 4, reproduit en plusieurs fois. Les éléments de support de pont 2 sont en position érigée sur les portions de grande largeur la du montage de pre- mière couche 1. Les éléments de plate-forme de pont 3 enjambent plusieurs éléments de support de pont 2. La référence W1 désigne l'intervalle de montage marginal qui est nécessaire pour le procédé et la conception. La référence W2a désigne l'intervalle de montage entre deux circuits principaux 1. On va maintenant décrire le procédé de fabrica- tion du dispositif. Pour produire une structure de circuit ou monta- ge en pont à l'air sur un substrat à semi-conducteurs 4, on réalise d'abord des montages de première couche 1' qui constituent les circuits principaux par un procédé de décollage ou de gravure à l'eau forte ou de dérochage. Après quoi, on réalise les éléments de support de pont 2 sur les portions de grande largeur la des circuits de première couche 1 par un procédé de dorure ou un procédé de décollage. Pour finir, on produit les portions de plate-forme de pont 3 en chevauchement sur plusieurs éléments de support de pont 2 par un procédé de décolla- ge ou par un procédé de dorure, produisant ainsi une structure de montage en pont à l'air. Le dispositif à semi-conducteurs de l'art anté- rieur comportant des montages en pont à l'air a été 26 1 6965 conçu de telle manière à permettre l'agencement en li- gnes droites de plusieurs éléments de support de pont 2 de la structure de montage en pont à l'air. La portion de grande largeur la du montage de première couche sur laquelle va être réalisé un élément de support de pont 2 doit avoir une grande largeur par rapport à la largeur du circuit principal en vue du décalage d'impression et de la marge d'alignement de masque pour produire l'élé- ment de support de pont 2. Par conséquent, l'intervalle de circuit W2a entre les circuits principaux est inévi- tablement augmenté. En particulier, lorsque l'élément de support de pont 2 doit avoir une certaine hauteur, la réserve destinée à réaliser l'élément de support de pont 2 doit avoir une certaine épaisseur et par conséquent, ceci augmente la dimension de l'élément de support de pont 2 et accroit davantage encore l'intervalle de mon- tage Wa entre les circuits principaux. De plus, lorsque le nombre de circuits principaux est important, cette tendance est capitale et va à l'encontre des réductions en matière de coûts et de dimensions des puces. Un objet de la présente invention consiste à fournir un dispositif à semiconducteurs permettant d'éviter l'augmentation de l'intervalle du circuit prin- cipal même lorsque la taille et hauteur de l'élément du support de pont d'un montage en pont à l'air sont impor- tantes et autorisant de plus la réalisation.de réduc- tions des dimensions et coûts de puces sans être affec- tées par des influences dues i cette augmentation même en présence d'un grand nombre de montages ou circuits principaux. D'autres avantages de la présente invention ap- paraitront à l'homme de l'art à partir de la description détaillée donnée ci-après; il demeure entendu toutefois que cette description détaillée et le mode de réalisa- tion spécifique ne sont donnés qu'à titre d'exemples étant donné que différentes modifications et variantes à 26 16 9 6 5 l'intérieur de l'esprit et la portée de l'invention ap- paraitront à l'homme de l'art à la lecture de cette des- cription détaillée. Selon la présente invention, les éléments de grande largeur pour les montages ou circuits de première couche pour réaliser des éléments de support de pont sur celle-ci sont produits en des positions qui ne sont pas agencées en lignes droites mais présentent un décalage entre elles. Par conséquent, l'intervalle de montage en- tre des cricuits principaux n'est pas augmenté et on parvient à réduire les dimensions et les coûts des pu- ces. Les figures la et lb représentent une vue en plan et une vue latérale montrant respectivement un dis- positif à semi-conducteurs selon la présente invention les figures 2a et 2b représentent une vue en plan et une vue latérale montrant respectivement un dis- positif à semi-conducteurs selon l'art antérieur; et la figure 3 est un schéma montrant un tableau illustrant la pertinence des procédés respectifs pour des productions de portions respectives de la structure de montage en pont à l'air. On va maintenant. décrire en détail un mode de réalisation de la présente invention en référence aux dessins. Dans les figures la et lb, la référence numéri- que 1 désigne un montage de première couche prévue sur un substrat à semiconducteurs 4 reproduit plusieurs fois. Les éléments de support de pont 2 sont prévus sur les éléments de grande largeur la du montage de première couche 1. Des éléments de plateforme de pont 3 sont pré- vus en chevauchement sur plusieurs éléments de support de pont 2. Le procédé de production de la structure du montage en pont à l'air est quasiment identique à celui pour le dispositif de l'art antérieur. Dans la produc- tion du montage de première couche 1, toutefois, les 26 1 6965 éléments de la structure de pont à l'air sont disposés non pas à des positions en lignes droites mais sur des lignes en forme de zigzag de sorte que les éléments de support de pont 2 de la structure en pont à l'air ne se trouvent pas sur des lignes droites. Dans ce type de construction, bien que la por- tion de grande largeur la du montage de première couche sur laquelle doit être réalisé l'élément de support de pont 2 soit large par rapport à la largeur du circuit ou montage principal, la dimension de la portion faisant saillie dans la direction transversale du montage prin- cipal est mutuellement neutralisée et même si l'on con- sidère que l'intervalle.de montage marginal W1 est ap- proximativement à la même valeur, l'intervalle du monta- ge de première couche 1 peut être rétréci. En d'autres termes, l'intervalle de montage W2 du montage 1 de pre- mière couche peut être rétréci à concurrence de la di- mension de la saillie de la portion de grande largeur par rapport au dispositif de l'art antérieur. Bien que dans le mode de réalisation illustré ci-dessus, les éléments de support de pont 2 de la structure de montage en pont à l'air soient à titre d'exemple d'un agencement réalisés à des positions sur des lignes en zigzag et non pas sur des lignes droites, mais décalées entre elles, ces éléments de support de pont peuvent être produits en des positions sur des li- gnes droites dans des directions diagonales permettant ainsi d'obtenir les mêmes effets que cela est décrit ci- dessus. De plus, le montage de première couche 1, l'élé- ment de support de pont 2, et l'élément de plate-forme de pont 3 peuvent être réalisés à l'aide d'un procédé quelconque tel qu'un procédé de décollage, un procédé de dorure, un procédé de gravure à sec comme par exemple un procédé RIBE (par faisceaux ioniques réactifs) ou, un fraisage ionique, ou une gravure par voie humide utili- sant des produits médicaux, ou une combinaison de ces procédés permettant d'obtenir les mêmes effets que ceux décrits ci-dessus. A cet égard, un procédé de décollage convient aux réalisations de montage de première couche et d'éléments de plate-forme de pont, tandis qu'il s avère inadéquat à la réaction d éléments de support de pont compte tenu des difficultés à gagner de la hauteur. Un procédé de dorure convient aux réalisations d'élé- ments de support de pont et de plate-forme de pont étant donné qu'il se révèle efficace pour gagner de la hau- teur. En outre, un procédé de gravure à sec convient aux réalisations d'éléments de plate-forme -de pont et de montage de première couche car bien qu'étant susceptible de détériorer le substrat, il permet de bien maîtriser les dimensions. En outre, on peut également recourir au procédé de gravure par voie humide qui s'avère suffisam- ment efficace dans des aspects autres que celui de la maîtrise des dimensions. Le tableau de la figure 3 re- produit succinctement le caractère approprié des procé- dés respectifs. Comme il ressort de la description précédente selon la présente invention, les éléments de grande lar- geur des montages de première couche pour la réalisation d'éléments de support de pont sont produits en des posi- tions qui ne sont pas agencées sur des lignes droites, mais décalées l'une par rapport à l'autre. En conséquen- ce, l'intervalle de montage entre les circuits princi- paux n'est pas accru et des réductions de dimension et des coûts peuvent être réalisées. En outre, on peut met- tre en oeuvre le même procédé de production que celui relatif au dispositif de l'art antérieur. 26 16965 REVENDICATIONS 1. Dispositif à semi-conducteurs comportant une structure de montage en pont à l'air, comprenant des montages de première couche (1) réalisés sur un substrat à semi-conducteurs (4), plusieurs éléments de support de pont (2) prévus en position érigée sur des éléments de grande largeur (la) des montages de première couche (1), et des éléments de plate-forme de pont (3) chevauchant plusieurs éléments de support de pont (2), caractérisé en ce qu'il comprend:-des éléments de grande largeur (la) des montages de première couche (1) destinés à réa- liser plusieurs éléments. de support de pont (2) sur ceux-ci et sont produits en des positions qui sont agen- cées non pas sur des lignes droites mais décalées entre elles. 2. Dispositif à semi-conducteurs selon la reven- dication 1, caractérisé en ce que les éléments de grande largeur (la) des montages de première couche (1) sont prévus en des positions qui sont agencées sur des lignes en forme de zigzag. 3. Dispositif à semi-conducteurs selon la reven- dication 1, caractérisé en ce que les éléments de grande largeur (la) des montages de première couche (1) sont prévus en des positions qui sont agencées sur des lignes de direction diagonale.