Brevet FR2616928A1 — publié le 19881223

PROCEDE POUR REALISB A PARTIR D'UN ORIGINAL UNE MICROIMAGE SUR UNE ZONE CHOISIE D'UN SUBSTRAT ELECTROPHOTOGRAPHIQUE ET APPAREIL DE MISE EN OUVRE DU PROCEDE. La présente invention concerne un procédé pour réaliser à partir d'un original une microimage sur une zona choisie d'un substrat électrophotographique. Elle concerne également un appareil pour réaliser une microimage sur une zone choisie d'un substrat électrophotographique qui net en oeuvre ce procédé. Les procédés électrophotographiques pour réaliser une microinage sur un substrat sont bien connus et font intervenir les différentes étapes ci-après - formation d'une charge électrostatique sensiblement uniforne sur un substrat électrophotographique, - décharge sélective du substrat par des moyens appropriés pour former une microimage électrostatique latente, - développement de la microimage électrostatique latente au moyen de particules colorées porteuses de charges électrostatiques appropriées, - séchage de la nicroimage si les particules colorées sont en suspension dans un liquide vecteur, - fixage de la microimage développée. Il a été proposé dans le brevet français nO 74/12 499 publié sous le n 2 224 791 un procédé et un appareil de reproduction électrophotographique permettant de faire des microimages sur un substrat électrophotographique. L'appareil décrit comprend au moins - à une première station des moyens pour former une charge électrostatique uniforme sur le substrat et des moyens pour former sur celui-ci une microimage électrostatique latente, - à une deuxième station des moyens pour développer la microimage électrostatique latente, - à une troisième station des moyens pour fixer la micrcimage développée, - des moyens pour transporter le substrat électrophotographique de l'une à l'autre station. Le procédé mis en oeuvre dans cet appareil fait donc intervenir le déplacement du substrat de la première à la deuxième station, puis de la deuxième à la troisième station. Le procédé et l'appareil selon ce mode de réalisation présentent des inconvénients. L'appareil comportant au moins trois stations décalées d'au moins la largeur d'une microimage présente un certain encombrement. D'autre part les déplacements imposés au substrat entre chaque station entraînent un temps de réalisation d'une microimage important et des moyens électroniques complexes pour commander ces déplacements. De plus la microimage développée et non fixée est transportée de la station de développement à la station de fixage, si ce déplacement est effectuée à grande vitesse ou avec une forte accélération, afin de gagner du tenps, il y a risque de détérioration de la microimage non fixée, donc perte de qualité de la microimage réalisée. L'invention a pour but un procédé pour réaliser à partir d'un original une microimage sur une zone choisie d'un substrat électrophotographique et un appareil de mise en oeuvre de ce procédé qui évitent ces inconvénients. 11 a maintenant été trouvé un procédé pour réaliser à partir efiun original une microimage sur une zone choisie d'un substrat électrophotographique formé d'un support pourvu sur une de ses faces d'une couche photoconductrice, ledit substrat comportant au moins une zone, caractérisé en ce que - on positionne le substrat à une première station, on dépose sur la couche photoconductrice une charge électrostatique sensiblement uniforme seulement sur la zone choisie puis on forme une microimage électrostatique latente sur celle-ci, - on positionne le substrat à une deuxième station, on développe ladite microimage électrostatique latente et on fixe la microimage développée. Le substrat électrophotographique sur lequel est réalisée la microimage est un substrat d'un type habituellement utilisé. Pour de tels substrats électrophotographiques, la couche photoconductrice est formée d'un matériau photoconducteur organique ou xinéral dispersé dans un liant approprié, le support peut être un matériau conducteur ou diélectrique, dans le cas d'un support en matériau diélectrique une couche conductrice est déposée sur le support avant que la couche photoconductrice soit formée sur celui-ci. Le substrat électrophotographique peut comporter une ou plusieurs zones destinées à recevoir une microimage. Un substrat électrophotographique comportant une zone peut être un substrat appelé habituellement "carte à fenêtre". Un substrat électrophotographique comportant plusieurs zones peut être tel que les zones sont sensiblement juxtaposées en étant alignées pour former une bande ou juxtaposées en étant organisées en lignes et colonnes. Un substrat électrophotographique selon le premier mode de réalisation est généralement appele "film" et un substrat électrophotographique selon le deuxième mode de réalisation est généralement appelé "microfiche". Un substrat électrophotographique destiné à recevoir une pluralité de microimages peut être tel que les microimages sont formées sur des zones prédélimitées. Lors de la réalisation d'une microimage sur un substrat électrophotographique par le procédé selon l'invention, la microimage électrostatique est développée au moyen d'un produit habituellement utilisé, un tel produit est constitué de particules colorées en suspension dans un liquide vecteur. Le produit de développement peut être mis en contact avec la microimage électrostatique latente pour la développer, et ainsi la rendre visible, par exemple par pulvérisation sous forme d'un aérosol. Dans le present texte, on se référera plus spécifiquement à un procédé et à un appareil dans lesquels le produit de développement est mis en contact sous forme liquide avec la microimage électrostatique latente. Ainsi, de préférence, dans le procédé pour réaliser une microimage d'un original sur une zone choisie d'un substrat électrophotographique, objet de l'invention, & la deuxième station, après avoir développé la microimage et avant de la fixer, on sèche ladite microimage développée. Selon un mode de réalisation on peut sécher la microimage développée par exemple par balayage au moyen d'un courant d'air, qui peut, éventuellement, avoir été préalablement chauffé. Après avoir réalisé une microimage sur une zone choisie d'un substrat électrophotographique, il est avantageux de pouvoir vérifier que la microimage réalisée est de bonne qualité et pourra être lue ultérieurement. Ainsi, de préférence dans le procédé selon l'invention, après avoir développé et fixé la microimage à la deuxième station, on positionne de nouveau le substrat à la première station et on contrôle la microimage développée et fixée. Le contrôle de la microimage est, bien entendu, effectué par éclairage et projection, après agrandissement, sur un écran de lecture. Il a également été trouvé un appareil pour réaliser à partir d'un original une microimage sur une zone choisie d'un substrat électrophotographique formé d'un support pourvu sur une de ses faces d'une couche photoconductrice, le substrat comportant au moins une zone, ledit appareil comportant les moyens pour mettre en oeuvre le procédé selon la présente invention L'appareil, également objet de l'invention est caractérisé en ce que les moyens pour mettre en oeuvre le procédé sont constitués par - un poste de charge/exposition comportant à la fois des moyens pour former une charge électrostatique sensiblement uniforme sur la zone choisie du substrat et des moyens pour former sur ladite zone chargée, une microimage électrostatique latente, - un poste de développement et de fixage comportant à la fois des moyens pour développer ladite microimage électrostatique latente et la rendre visible et des moyens pour fixer ladite microimage développée. De préférence, lorsque le produit de développement de la microimage électrostatique latente est liquide, le poste de développerent et de fixage comporte aussi des moyens de séchage de la microimage développée. Les moyens de séchage peuvent par exemple être des moyens pour balayer la surface de la microimage développée avec un courant d'air, qui peut avoir été préalablement chauffé, afin d'accélérer l'évaporation du liquide vecteur des particules colorées du produit de développement. Afin de vérifier la qualité de la microimage réalisée, avantageusement, l'appareil, selon l'invention, est tel que le poste de charge/exposition comporte aussi des moyens de contrôle de la microimage développée et fixée. Le substrat électrophotographique, qu'il soit sous forme de carte à fenêtre, de film ou de microfiche, n'est généralement pas suffisamment rigide pour que, lorsque le substrat électrophotographique est positionné au poste de charge/exposition la couche photoconductrice soit placée rigoureusement dans le plan où la microimage électrostatique latente puisse être formée de façon nette. Ainsi, avantageusement, l'appareil, objet de l'invention, comprend des moyens pour supporter le substrat électrophotographique sensiblement dans un plan, auquel sont associés des moyens de déplacement pour présenter la zone choisie au poste de charge/exposition puis au poste de développement et de fixage. Les moyens pour supporter le substrat électrophotographique sensiblement dans un plan comportent au moins une plaque plane, qui peut être réalisée en un matériau transparent ou opaque, le substrat étant placé sur la plaque de façon telle que le support du substrat soit au contact de la plaque. Les moyens pour supporter le substrat électrophotographique comportent bien entendu des moyens pour que le substrat soit maintenu efficacement au contact de la plaque. Ces moyens peuvent être constitués, selon trois cotés de la plaque, par des ailes, parallèles à la plaque et tournées vers le centre de celle-ci, les ailes et la plaque délimitent une rainure, une microfiche ou une carte à fenêtre glissée dans les rainures par le côté de la plaque resté libre est ainsi maintenue au contact de la plaque. Une microfiche ou une carte à fenêtre peuvent aussi être maintenues en place au contact de la plaque au moyen d'un cadre s'appuyant sur leur pourtour, le cadre étant articulé à la plaque selon le côté opposé au côté d'introduction du substrat électrophotographique. Selon un tel mode de réalisation le cadre s'écarte de la plaque lorsque les moyens de support sont en position de mise en place du substrat et le cadre s'applique, en pivotant autour de l'articulation, autour du substrat lorsque celui-ci est amené à la première station. préférence, les moyens pour supporter le substrat électrophotographique comportent des moyens qui imposent de placer le substrat de façon telle que la couche photoconductrice ne soit pas au contact de la plaque. De tels moyens sont connus et sont constitués par exemple, pour une carte à fenêtre ou une microfiche, par des picots portés par la plaque coopérant avec deux trous portés par la carte à fenêtre ou la microfiche, les picots et les trous peuvent etre placés de façon asymétrique ou bien être de sections de formes différentes, afin que l'engagement des picots dans les trous ne soit possible que si la couche photoconductrice n'est pas au contact de la plaque. Les moyens de déplacement associés aux moyens pour supporter le substrat électrophotographique et destinés à déplacer le substrat pour présenter la zone choisie pour réaliser la microimage au poste de charge/exposition puis au poste de développement et de fixage sont desmoyens de déplacement en translation en x etgou y. De tels moyens sont déjà couramment utilisés notamment pour déplacer le cadre support de microfiche dans les lecteurs de microfiches. De tels moyens de déplacement ne seront décrits que brièvement dans le présent texte Dans l'appareil, objet de la présente invention, divers moyens peuvent être envisagés pour former la microimage électrostatique latente, ces moyens peuvent par exemple être formés par un rayon laser. balayant la zone choisie. De préférence, dans l'appareil selon l'invention, les moyens pour former la microimage électrostatique latente sont des moyens pour projeter une microimage de radiations d'un original sur la zone choisie. Avantageusement, les moyens pour projeter une microimage de radiations comportent un système de lentilles optiques dont l'axe optique est perpendiculaire au plan de la zone choisie et que les moyens pour former une charge électrostatique uniforme sur la couche photoconductrice du substrat sont placés entre le système de lentilles et le substrat. Lorsque, la zone choisie est de forme carrée ou rectangulaire l'axe optique du système de lentilles peut btre perpendiculaire 9 la zone en son centre de symétrie. De préférence, le système de lentilles des moyens pour projeter une microimage de radiations est monté dans une douille à la façon d'un objectif. Le poste de charge/exposition de l'appareil, selon l'invention comportant des moyens pour former une charge électrostatique sensiblement uniforme sur la couche photoconductrice placés entre le système de lentilles et le substrat, selon un mode de réalisation de l'appareil, est tel que les moyens pour former une charge électrostatique sensiblement uniforme sur la zone choisie du substrat sont constitués par une électrode corona fixée diamétralement par rapport à la douille, l'ensemble formant un dispositif de charge/exposition. Selon un autre mode de réalisation, l'appareil est tel que les moyens pour former une charge électrostatique sensiblement uniforme sur la zone choisie du substrat sont constitués par une électrode corona fixée dans un support et sont situés au poste de charge/exposition, un système de lentilles dans une douille et l'électrode corona dans son support formant un dispositif de charge/exposition. Souvent, les originaux dont on veut réaliser des microimages sur les zones d'un substrat électrophotographique sont de dimensions différentes alors que les microimages réalisées sur les substrats électrophotographiques ont, généralement pour un appareil donné, toutes les mêmes dimensions. Ainsi, avantageusement, l'appareil, objet de l'invention, comporte plusieurs systèmes de lentilles ayant chacun un taux de réduction particulier, les systèmes de lentilles étant reliés à des moyens permettant d'amener le système de lentilles choisi en relation avec la zone du substrat présentée au poste de charge/exposition. Lorsque le système de lentilles est amené en relation avec la zone du substrat présentée au poste de charge/exposition, généralement l'axe optique du système de lentilles est perpendiculaire à la zone choisie. Le système de lentilles choisi peut être anené en relation avec la zone du substrat choisie pour réaliser la microinage et qui a été présentée au poste de charge/exposition, par exemple par un mouvement de translation dans un plan parallèle au plan de la zone du substrat. De préférence, dans l'appareil objet de l'invention, le système de lentilles est amené en relation avec la zone du substrat présentée au poste de charge/exposition par un mouvement de rotation. Selon un tel mode de réalisation de l'appareil, les systèmes de lentilles sont montés au moyen de leur douille sur une tourelle tournant autour d'un axe pour amener le système de lentilles choisi en relation -avec la zone du substrat présentée au poste de charge/exposition, la tourelle comportant des moyens de repérage des systèmes de lentilles. Les moyens de repérage des systèmes de lentilles permettent d'amener le système de lentilles dont le taux de réduction a été choisi en fonction des dimensions de l'original en relation avec la zone du substrat présentée au poste de charge/exposition. De préférence, le système de lentilles choisi est amené en relation avec la zone du substrat présentée au poste de charge/exposition par rotation autour d'un axe perpendiculaire au plan du substrat. Comme cela a déjà été écrit ci-avant, pour que la microimage électrostatique latente puisse être formée de façon nette, il est nécessaire que la couche photoconductrice de la zone choisie du substrat soit placée rigoureusement dans le plan de formation de la microimage électrostatique latente, à cette fin, au moins la zone choisie du substrat est placée sur des moyens de support comportant de préférence une plaque plane. Or, les systèmes de lentilles utilisés dans le type d'appareils, objets de l'invention, mettent en oeuvre des systèmes de lentilles présentant de forts taux de réduction donc ayant des profondeurs de champ pratiquement nulles. Afin, que le plan de formation de la microimage électrostatique latente et le plan de la couche photoconductrice de la zone choisie coïncident rigoureusement, le plan de formation de la microimage électrostatique latente est amené en coïncidence avec le plan (ou la surface) de la couche photoconductrice. Ainsi, selon un mode de réalisation de l'appareil, objet de l'invention, celui-ci comporte des moyens qui permettent de déplacer respectivement chaque dispositif de charge/exposition en translation selon son axe optique. lorsque le dispositif est amené en relation avec la zone choisie du substrat, afin d'appliquer le bord de la douille du dispositif de charge/exposition contre la surface de la couche photoconductrice de la zone choisie du substrat lors du dépôt de la charge électrostatique sensiblement uniforme et/ou de la formation de la microimage électrostatique latente. Ce mode de réalisation est particulièrement destiné à un appareil dont l'électrode corona est fixée dans la douille du système de lentilles. Pour un appareil dont l'électrode corona est fixée dans un support indépendant de la douille du système de lentilles, le support de l'électrode corona est tel qu'il peut se déplacer sensiblement perpendiculairement au plan de la zone choisie du substrat. L'appareil, objet de l'invention, comporte alors des moyens qui permettent de déplacer chaque dispositif de charge/exposition en translation selon son axe optique lorsque le dispositif est amené en relation avec la zone choisie du substrat, afin d'appliquer le bord de la douille du système de lentilles contre le bord du support de l'électrode corona opposé à la couche photoconductrice et le bord dudit support situé du côté de la couche photoconductrice contre la surface de ladite couche lors du dépôt de la charge électrostatique sensiblement uniforme et/ou de la formation de la microimage électrostatique latente. Ces modes de réalisation permettent d'obtenir une bonne coïncidence des plans de formation de la microimage électrostatique latente et de la surface de la couche photoconductrice de la zone choisie, de plus la distance entre l'électrode corona et la surface de la couche photoconductrice est ainsi bien déterminée et identique d'une zone à une autre du substrat et d'un substrat à un autre ce qui permet de former la charge électrostatique sensiblement uniforme sur les zones d'un ou de plusieurs substrats dans les mêmes conditions opératoires d'une zone à une autre. Au lieu de comporter des moyens pour déplacer chaque dispositif de charge/exposition selon son axe optique, l'appareil, peut aussi, selon un autre mode de réalisation, être tel que les moyens pour déplacer le dispositif de charge/exposition en translation selon son axe optique sont des moyens pour déplacer la tourelle en translation parallèlement à l'axe optique du dispositif de charge/exposition amené au poste de charge/exposition. Le déplacement de la tourelle on translation parallèlement à l'axe optique du dispositif de charge exposition pour amener la coïncidence des plans de formation de la microimage électrostatique latente et de la surface de la couche photoconductrice peut être utilisé aussi bien pour un appareil dont l'électrode corona est fixée dans la douille du système de lentilles que dans un appareil dont l'électrode corona est fixée dans un support indépendant de la douille du système de lentilles. L'appareil pour réaliser à partir d'un original une microimage sur une zone choisie d'un substrat électrophotographique objet de l'invention comporte, outre le poste de charge/exposition, un poste de développement et de fixage qui comporte des moyens pour développer la microimage latente et des moyens pour fixer la microimage développée. Selon l'invention, les moyens pour développer la microimage électrostatique latente sont constitués par un bloc comportant une chambre dont la paroi située au voisinage de la surface de la couche photoconductrice de la zone choisie du substrat présente une ouverture dont la forme et les dimensions sont sensiblement égales à celles de la zone du substrat portant la microimage électrostatique latente, des moyens d'entrée et de sortie de liquide de développement dans et hors de la chambre, et des moyens de déplacement du bloc perpendiculairement au plan de la zone choisie du substrat afin d'appliquer l'ouverture de la chambre contre la surface de la couche photoconductrice dudit substrat autour de la zone pour fermer ladite chambre. Avantageusement, l'appareil est tel qu'il comporte des moyens d'entrée d'air dans la chambre. Selon un node de réalisation préférentiel de l'appareil selon l'invention, les moyens pour développer la microimage électrostatique latente et les moyens pour fixer la microimage développée sont situés de part et d'autre du substrat électrophotographique. Selon ce mode de réalisation, avantageusement, les moyens pour fixer la microimage développée sont des moyens émetteurs de radiations et les moyens pour supporter la zone choisie du substrat électrophotographique sont transparents auxdites radiations. Te préférence, l'appareil objet de l'invention comporte des moyens pour que du liquide de développement entre dans la chambre seulement lorsque l'ouverture de la chambre est appliquée contre la surface de la couche photoconductrice de la zone choisie du substrat. Avantageusement, l'appareil est tel que les moyens de séchage fonctionnent seulement lorsque l'ouverture de la chambre est éloignée de la surface de la couche photoconductrice du substrat après développement de la microimage électrostatique latente. De préférence encore, les moyens pour fixer la microimage développée fonctionnent seulement lorsque l'ouverture de la chambre est éloignée de la surface de la couche photoconductrice du substrat électrophotographique après développement de la microimage électrostatique latente. La commande de l'entrée du liquide de développement dans la chambre seulement lorsque l'ouverture de la chambre est appliquée contre la surface de la couche photoconductrice et les fonctionnements des moyens de séchage et des moyens pour fixer la microimage développée seulement lorsque l'ouverture de la chambre est éloignée de la surface photoconductrice peuvent être assurés par des moyens de programmation tels qu'un automate programmable, un microprocesseur, un dispositif à logique cablée. Les moyens de programmation sont alors programmés pour que l'entrée de liquide dans la chambre se fasse avec un certain retard après l'excitation des moyens destinés à appliquer l'ouverture de la chambre contre la surface de la couche photoconductrice de la zone choisie et pour que les moyens de séchage et les moyens de fixage ne fonctionnent qu'avec un certain retard après la désexcitation des moyens pour appliquer l'ouverture de la chambre contre la surface de la couche photoconductrice et le retrait de celle-ci. Selon un autre mode de réalisation, le bloc comportant la chambre de développement est muni d'un microcontact permettant de détecter si l'ouverture de la chambre est appliquée ou non contre la surface de la couche photoconductrice de la zone choisie, l'entrée du liquide dans la chambre, le fonctionnement des moyens de séchage et des moyens pour fixer la microimage sont alors commandés selon l'information fournie par le microcontact porté par le bloc. Avantageusement, les moyens de contrôle de la microimage développée et fixée sont situés au poste de charge/exposition. Selon un mode de réalisation de l'appareil, les moyens de contrôle sont constitués par un système de lentilles placé du côté de la couche photoconductrice du substrat et d'un dispositif d'éclairage placé de l'autre côté du substrat et de moyens de transmission et de réception de l'image agrandie de la microimage développée et fixée. De préférence, dans un appareil muni de plusieurs systèmes de charge/exposition portes par une tourelle, le système de lentilles des moyens de contrôle est porté par la tourelle et des moyens de déplacement du système de lentilles en translation selon son axe optique sont prévus. Les moyens de déplacement selon son axe optique du système de lentilles des moyens de contrôle sont analogues aux systèmes de déplacement selon son axe optique du système de lentilles des moyens de charge/exposition. Selon un autre mode de réalisation de l'appareil, objet de l'invention, les moyens de contrôle sont constitués par un dispositif d'éclairage placé du côté de la couche photoconductrice du substrat et d'un système de lentilles situé de l'autre côté du substrat et de moyens de transmission et de réception de l'image agrandie de la microimage développée et fixée. L'appareil pour réaliser à partir d'un original une microimage sur une zone choisie d'un substrat electrophotographique est utilisable pour réaliser des microimages sur des cartes à fenêtre, des films. Il est plus particulièrement destiné à réaliser des microimages sur des microfiches. L'invention sera mieux comprise par la description des figures ci-jointes, qui illustrent schématiquement, à titre d'exemples, et sans échelle déterminée, des modes de réalisation de l'invention Les figures 1 et 2 sont des vues schématiques en coupe par un plan perpendiculaire au substrat d'un appareil pour former une microimage sur une zone d'une microfiche, la zone étant placée au poste de charge/exposition (figure 1) puis au poste de développement et de fixage (figure 2). La figure 3 représente la plaque plane destinée à supporter le substrat électrophotographique vue du côté où est placé le substrat. La figure 4 représente un mode de réalisation des moyens de déplacement de la plaque plane vus du côté opposé au substrat. La figure 5 représente le iode de réalisation du dispositif de charge/exposition selon la figure i, vu du coté du substrat électrophotographique. La figure 6 représente la tourelle vue du côté du substrat d'un appareil comportant deux dispositifs de charge/exposition et le système de lentilles des moyens de contrôle. La figure 7 est une vue extérieure du bloc contenant la chambre de développement, vue du côté du substrat électrophotographique. La figure 8 est une vue en coupe par un plan perpendiculaire au substrat du bloc, l'ouverture de la chambre étant appliquée contre la surface de la couche photoconductrice. La figure 9 est une vue en coupe par un plan perpendiculaire au substrat d'un autre mode de réalisation du dispositif de charge/exposition La figure 10 est une vue en coupe par un plan perpendiculaire au substrat d'un iode de rialisation des moyens pour déplacer un dispositif de charge/exposition selon l'axe optique du système de lentilles. La figure 11 est une vue selon la flèche A des moyens selon la figure 10. La figure 12 est une vue en coupe par un plan perpendiculaire au substrat d'un autre iode de réalisation de la tourelle et des moyens pour déplacer le dispositif de charge/exposition selon l'axe optique du système de lentilles. L'appareil pour réaliser à partir d'un original une microimage sur une zone choisie (100) d'un substrat électrophotographique (3) formé d'un support pourvu sur une de ses faces d'une couche photoconductrice et qui est représenté en coupe par un plan perpendiculaire au substrat sur les figures 1 et 2, comporte un poste de charge/exposition (1) et un poste de développement et de fixage (2), délimités par les rectangles en traits mixtes. L'appareil représenté est particulièrement destiné à réaliser des microimages sur les zones d'un substrat électrophotographique (3) qui est une microfiche. Selon le mode de réalisation représenté, les moyens (4) pour supporter le substrat (3) sensiblement dans un plan comportent une plaque plane (5) en matériau transparent. La plaque plane (5) est montée dans un cadre (non représenté) qui permet de relier la plaque (5) aux moyens de déplacement en x et/ou y de la plaque (5) destinés à amener la zone choisie (100) de la microfiche (3) successivement au poste de charge/exposition (1) et au poste de développement et de fixage (2). La plaque plane (5) comporte des moyens pour que le substrat (3) soit maintenu au contact de la plaque plane (5) sensiblement dans un plan. La plaque plane (5) est pourvue selon trois de ses cotés d'ailes (6) parallèles & la plaque (5) et tournées vers le centre de celle-ci. Les ailes (6) délimitent une rainure (8) dans laquelle est glissée la microfiche (3). Le côté (7) de la plaque (5) non pourvu d'ailes (6) est le côté d'introduction de la microfiche (3) (figure 3). La plaque plane (5) comporte également, comme on peut le voir sur la figure 3, des moyens qui imposent de placer le substrat de façon telle que la couche photoconductrice ne soit pas au contact de la plaque (5). Ces moyens sont formés par des picots (9,10) de sections de formes différentes, le picot (9) est de section ovale et le picot (10) est de section circulaire. La microfiche (3) porte des trous de sections semblables placés de façon telle que l'engagement de la microfiche (3) sur les picots (9,10) ne soit possible que si la couche photoconductrice n'est pas au contact de la plaque plane (5). A la plaque plane (5) sont associés des moyens de déplacement en x et/ou y destinés å présenter la zone choisie (100) pour réaliser la microimage au poste de charge/exposition (1) puis au poste de développement et de fixage (2). De tels moyens de déplacement sont connus et sont habituellement utilisés par exemple dans des appareils lecteurs reproducteurs de microfiches. Un iode de réalisation va être décrit brièvement en se référant à la figure 4. La plaque plane (5) est solidaire d'un chariot (11) auquel sont associés deux barres de guidage (12,13) et un arbre fileté (14) parallèles à la direction des x et deux barres de guidage (15,16) et un arbre fileté (17) parallèles å la direction des y. La figure 4 représente les moyens de déplacement vus du dos du chariot (11), c'est-â-dire du côté opposé à la plaque plane (5) et à la microfiche (3) Les moyens de déplacement selon la direction x sont solidaires du bati (18) de l'appareil, et les moyens de déplacement selon les y sont mobiles par rapport au bati (18) mais reliés aux moyens de déplacement selon la direction x.Ainsi, les barres de guidage (15,16) selon les y peuvent etre maintenues à leurs extrémités par des coulisseaux (19,20) portés par les barres de guidage (12,13) selon les x Le coulisseau (20) porte un bloc (21) pourvu d'un trou fileté destiné au passage de l'arbre fileté (14). L'arbre fileté (14) est entrainé en rotation par un moteur (22), la rotation de l'arbre fileté (14) provoque le déplacement du chariot (11) selon la direction x. Le chariot (11) est fixé å des coulisseaux (23,24) portés par les barres de guidage (15,16) selon les y, il porte un bloc (25) pourvu d'un trou fileté destiné au passage de l'arbre fileté (17). L'arbre fileté (17) est entraîné en rotation par un moteur (26), la rotation du moteur (26) provoque le déplacement du chariot (11) selon la direction y. Les systèmes arbre fileté/bloc peuvent être remplacés par des systèmes å courroies. Afin d'amener la zone choisie (100) de la microfiche (3) au poste de charge/exposition (1) puis au poste de développement et de fixage (2), les moteurs (22) et (26) peuvent être des moteurs pas & pas, ou bien & chaque arbre fileté (14) et (17) peuvent être associés un générateur et un compteur d'impulsions. Dans l'appareil pour réaliser 9 partir d'un original une microimage sur une zone choisie (100) d'un substrat électrophotographique, objet de l'invention, qui est représenté schématiquement figures 1 et 2, les moyens pour former la microimage électrostatique latente sont des moyens (27) pour projeter une microimage de radiations de l'original sur la zone (100). Ces moyens (27) comportent un système de lentilles (28) dont l'axe optique (29) est perpendiculaire au plan de la zone choisie (100), c'est- & dire perpendiculaire à la surface de la couche photoconductrice de la zone choisie (100) de la microfiche (3). L'appareil comporte bien sûr des moyens (30) pour former une charge électrostatique sensiblement uniforme sur la couche photoconductrice de la zone choisie (100) de la microfiche (3) préalablement à la projection de la microimage de radiations, ces moyens (30), constitués ici par une électrode corona filiforme, sont placés entre le système de lentilles (28) et la aicrofiche (3) Le système de lentilles (28) est monté dans une douille (31), l'ouverture (32) de la douille (31) située du côté de la microfiche (3) est de forme rectangulaire, et a sensiblement les dimensions de la zone destinée à porter la microimage, l'électrode corona (30) est fixée diamétralement å la douille (31) sensiblement selon la plus grande médiane de l'ouverture rectangulaire (32) de la douille (31) (figure 5). Le système de lentilles (28) et l'électrode corona (30) forment le dispositif de charge/exposition (101) de l'appareil. Selon le iode de réalisation représenté figures 1 et 2 l'appareil comporte deux systèmes de lentilles (28) ayant chacun un taux de réduction particulier, permettant ainsi de former sur les zones d'une microfiche des microimages & partir d'originaux de fornats différents, par exemple & partir d'originaux de format A3 ou A4 Les systèmes de lentilles (28) sont reliés å des moyens permettant d'amener le système de lentilles choisi en relation avec la zone choisie (100) de la microfiche (3). Selon le mode de réalisation représente, les systèmes de lentilles (28) sont montés au moyen de leur douille (31) sur une tourelle (33) tournant autour de son axe (34) perpendiculaire au plan de la microfiche (3). La tourelle (33) est représentée figure 6 vue du côté de la microfiche, elle porte deux systèmes de lentilles (28) destinés & projeter une microimage de radiations sur la microfiche (3) et un système de lentilles (35) destiné au contrôle de la sicroinage réalisée. La tourelle (33) porte des moyens de repérage du système de lentilles (de projection de la microimage ou de contrôle) constitués par des encoches (36) coopérant avec des microcontacts (37). Selon le mode de réalisation représenté, les systèmes de lentilles (28) sont montés fixes par rapport & la tourelle (33). au moyen de bagues d'arrêt (69), ainsi, afin que le plan de formation de la microimage électrostatique latente coïncide rigoureusement avec le plan de la surface (44) de la couche photoconductrice de la zone choisie (100) de la microfiche (3), l'appareil comporte des moyens pour déplacer la tourelle (33) parallèlement & l'axe optique (29) du système de lentilles (28), par translation, par exemple par poussage de l'axe (34) de la tourelle (33), jusqu a ce que le bord (38) de la douille (31) soit appliqué contre la surface (44) de la couche photoconductrice de la microfiche (3) lors du dépôt de la charge électrostatique sensiblement uniforme et pendant la formation de la microimage électrostatique latente. Après avoir décrit ci-avant, le poste de charge/exposition (1) de l'appareil selon l'invention on va maintenant décrire le poste de développement et de fixage (2), en se référant plus particulièrement aux figures 2, 7 et 8. Le poste de développement et de fixage (2) comporte les Doyens pour développer (39) la iticroimage électrostatique latente et les moyens pour fixer (40) la microimage développée. Selon le mode de réalisation représenté les moyens (39) et (40) sont situés de part et d'autre du substrat électrophotographique (3), la plaque plane (5) étant réalisée en un matériau transparent. Les moyens pour développer (39) la microimage électrostatique latente sont constitués par un bloc (41) comportant une chambre (42) dont la paroi située au voisinage de la surface (44) de la couche photoconductrice du substrat électrophotographique (3) présente une ouverture (43) dont la forme et les dimensions sont sensiblement égales à celles de la zone du substrat portant la microimage électrostatique latente. Le bloc (41) qui est en matériau isolant électriquement est pourvu au voisinage de la chambre (42) d'une plaque métallique (87) portée à un potentiel choisi en fonction du potentiel de la microimage électrostatique latente, cette plaque métallique (87) est. donc une contre électrode. L'ouverture (43) de la chambre (42) est entourée d'un rebord (48) dont la surface est rigoureusement plane et parallèle à la surface de la couche photoconductrice de la microfiche (3). Le bloc (41) comporte également un conduit (45) d'entrée de liquide de développement dans la chambre (42), un conduit (46) d'entrée d'air dans la chambre (42) et un conduit (47) de sortie de liquide et d'air hors de la chambre (42). Bien sûr le conduit (45) est relié par un tuyau & à une reserve de liquide de développement et le conduit (47) est relié à un réservoir de récupération de liquide de développement. Les moyens pour développer (39) la microimage électrostatique latente comportent également des moyens de déplacement (49) du bloc (41) perpendiculairement au plan de la microfiche (3) afin d'appliquer l'ouverture (43) de la chambre (42) contre la surface (44) de la couche photoconductrice de la microfiche (3), autour de la zone (100) portant la microicage électrostatique latente pour fermer la chambre (42) par contact du rebord (48) et de la surface (44) de la couche photoconductrice de la microfiche (3). Les moyens de déplacement (49) peuvent être constitués par une tige (50) prenant appui dans un logenent (51) prévu à cet effet dans le bloc (41). La tige (50) peut être déplacée, perpendiculairement au plan de la microfiche (3), selon la flèche F, au moyen d'un vérin, ou au moyen d'un système de came. Des moyens de rappel, tels par exemple qu'un ressort (52) prenant appui sur une structure (53) solidaire du bati de l'appareil, permettent d'éloigner le bloc (41) de la microfiche (3). Des moyens (non représentés) tels par exemple qu'un microcontact associé au bloc (41) sont prévus pour que du liquide de développement entre dans la chambre (42) seulement lorsque l'ouverture (43) de la chambre (42) est appliquée contre la surface (44) de la couche photoconductrice de la zone choisie (100) du substrat (3). Le poste de développement et de fixage (2) comporte également des moyens de séchage de la microimage développée. Les moyens de séchage, représentés figure 8, sont constitués par une buse (54) destinée à envoyer un courant d'air, qui peut avoir été préalablement chauffé, balayer la surface de la iicroinage afin d'accélérer l'évaporation du liquide vecteur des particules colorées du liquide de développement. Les moyens de séchage fonctionnent, bien sur, seulement lorsque l'ouverture (43) de la chambre (42) n'est plus au contact de la surface (44) de la couche photoconductrice de la microfiche (3). Les moyens pour fixer (40) la microîmage développée sont constitués par une lampe (55) à laquelle sont associés un miroir réflecteur (57) et un condenseur (56), la microimage développée est ainsi fixée à travers la plaque plane (5) et le support du substrat électrophotographique (3). Les moyens pour fixer (40) la microimage développée fonctionnent, bien sur, seulement lorsque l'ouverture (43) de la chambre (42) n'est plus au contact de la surface (44) de la couche photoconductrice de la microfiche (3). L'appareil, objet de l'invention, comporte également au poste de charge/exposition (1) des moyens de contrôle de la microimage développée et fixée, constitués par un système de lentilles (35) porté par la tourelle (33) et d'un dispositif d'éclairage (58) formé d'une lampe (59), d'un miroir (60) et d'un condenseur (61). Le système de lentilles (35) des moyens de contrôle de la microimage est déplaçable en translation selon son axe optique par des moyens analogues à ceux décrits pour le déplacement du dispositif de charge/exposition (101). Selon le mode de réalisation représenté, le système de lentilles (35) et le dispositif d'éclairage (58) sont placés de part et d'autre du substrat (3). L'appareil comporte bien entendu des moyens de transmission et de réception sur un écran de l'image agrandie de la nicroinage formée à travers le système de lentilles (35). Les moyens de transmission et de réception de l'image pour contrôle ne sont pas représentés. On va décrire ci-après, la réalisation à partir d'un original d'une microimage sur une zone choisie d'un substrat électrophotographique mis sous forme d'une microfiche. La plaque plane (5) étant en position de chargement permettant la mise en place de la microfiche (3), c'est-à-dire que le côté (7) de la plaque plane (5) apparait hors de la carrosserie de l'appareil par une ouverture prévue à cet effet, l'opérateur saisit une microfiche (3), portant des zones rectangulaires prédélimitées, repérées par exemple de façon alpha-numérique, et l'introduit dans la rainure (8) formée entre les ailes (6) et la plaque plane (5) de façon telle que les trous de la microfiche (3) s'engagent respectivement sur les picots (9) et (10). L'opérateur est donc sûr que la couche photoconductrice de la microfiche (3) n'est pas au contact de la plaque plane (5). L'opérateur commande, par exemple au moyen d'un clavier alpha-numérique, la rotation des monteurs (26) et (22) pour que la zone choisie (100) de la microfiche (3), zone sur laquelle il veut former une microimage, soit amenée au poste de charge/exposition (1), comme représenté figure i. Par action sur une touche du clavier, l'opérateur commande la rotation de la tourelle (33) autour de son axe (34) afin d'amener le sytème de lentilles (28), dont le taux de réduction correspond aux dimensions de l'original, en relation avec la zone choisie (100), ctest-à-dire l'axe optique (29) du système de lentilles (28) est perpendiculaire à la zone choisie (100) de- la microfiche (3). Lorsque le système de lentilles (28) est positionné, la tourelle (33) se déplace automatiquement selon son axe, qui est parallèle à l'axe optique (29) du système de lentilles (28) jusqu'à ce que le bord (38) de la douille (31) du système de lentilles (28) soit appliqué contre la surface (44) de la couche photoconductrice, le plan de formation de la microimage électrostatique latente est alors confondu avec le plan de la surface (44) de la couche photoconductrice de la nicrofiche. Automatiquement encore, l'électrode corona (30) est mise sous tension et dépose sur la zone choisie (100) une charge électrostatique sensiblement uniforme, puis l'original est éclairé et une microimage de radiations de celui-ci est projetée travers le système de lentilles (28) sur la surface (44) de la couche photoconductrice. La microimage électrostatique latente est ainsi formée. Automatiquement, la tourelle (33) est rappelée en position de repos, comme représenté figure 1, et le moteur (22) actionné amène la zone choisie (100) de la microfiche (3) au poste de développement et de fixage (2). Lorsque la zone choisie (100) est positionnée au poste de développement et de fixage (2), le bloc (41) des moyens pour développer le microimage électrostatique latente est déplacé par les moyens de déplacement (49) jusqu'à ce que l'ouverture (43) de la chambre (42) soit appliquée contre la surface (44) de la couche photoconductrice de la microfiche (3), le rebord (48) de l'ouverture (43) entourant la zone choisie (100), conme représenté figure 2. L'entrée du liquide de développement dans la chambre (42) par le conduit (45) est commandée et le liquide s'écoule dans la chambre (42) au contact de la microimage électrostatique latente pendant un temps prédéterminé, les particules colorées du liquide de développement sont retenues par les charges de la microimage électrostatique latente.Après l'arrêt de l'écoulement du liquide de développement dans la chambre (42), le bloc (41) est rappelé par le ressort (52) et l'ouverture (43) de la chambre (41) s'éloigne de la microfiche (3), de l'air de séchage est envoyé par la buse (54) et balaye la surface de la microimage développée pendant un temps prédéterminé, puis la lampe (55) est allumée et le rayonnement qu'elle émet vient fixer la microimage développée par chauffage. Automatiquement, la zone choisie (100) est ramenée au poste de charge/exposition (1), la tourelle (33) tourne pour amener le système de lentilles (35) des moyens de contrôle & la place occupée par le système de lentilles (28), le dispositif d'éclairage (58) s'allume et projette à travers le système de lentilles (35) l'image agrandie de la microimage, transnise au moyen de miroirs, sur un écran de contrôle. L'opérateur après avoir vérifié la qualité de la microimage, commande par action sur une touche du clavier le fonctionnement des moteurs (22) et (26) pour ramener la plaque plane (5) en position de chargement et il enlève la microfiche (3). Lorsque l'opérateur souhaite réaliser plusieurs images sur une même microfiche, il présentera successivement de nouvelles zones au poste de charge/exposition (1) puis au poste de développement et de fixage (2), bien sû la présentation d'une nouvelle zone peut être faite automatiquement par l'appareil. L'opérateur peut aussi ne pas contrôler la microimage réalisée, dans ce cas après fixage de la microimage, il amène par action sur une touche du clavier la plaque plane (5) directement en position de chargement et il enlève la microfiche (3). Le mode de réalisation du dispositif de charge/exposition (101) de l'appareil selon l'invention qui est représenté figure 9, est tel que le système de lentilles (28) des moyens pour projeter une microimage de radiations sur le substrat électrophotographique (3) est monté, comme précédemment, dans une douille (31) et que l'électrode corona (30) est montée dans un support (62) indépendant, placé entre le système de lentilles (28) et le substrat (3). Un appareil muni d'un dispositif de charge/exposition (101) selon ce iode de réalisation peut comporter plusieurs systèmes de lentilles (28) mais comporte une seule électrode corona (30). La douille (31) du système de lentilles (28) est montée de façon fixe dans la tourelle (33) au moyen des bagues d'arrêt (69), la tourelle (33) pouvant, d'une part, tourner autour d'un axe fixe (63) parallèle à l'axe optique (29) du système de lentilles (28) et, d'autre part, se déplacer en translation selon cet axe fixe (63). Le support (62) de l'électrode corona (30) est maintenu au poste de charge/exposition (1) au moyen d'une lame flexible (66) fixée à l'extrémité de l'axe fixe (63). L'axe fixe (63) est solidaire d'une structure (53) appartenant au bati de l'appareil. Le dispositif de charge/exposition (101) constitué ici par le système de lentilles (28) maintenu dans la douille (31) et par l'électrode corona (30) maintenue par le support (62), peut se déplacer en translation selon l'axe optique (29) vers le substrat électrophotographique (3) sous l'effet d'une force F, appliquée par exemple au moyen d'un vérin, et se déplacer en s'éloignant du substrat électrophotographique (3) sous l'effet d'un ressort (64) placé autour de l'axe fixe (63) entre la tourelle (33) et une plaque d'appui (65) fixée à l'extrémité de l'axe fixe (63). Lors du dépôt de la charge électrostatique sensiblement uniforme et lors de la formation de la microinage électrostatique latente sur la zone choisie (100) du substrat électrophotographique (3), sous l'effet de la force F, le bord (38) de la douille (31) du. système de lentilles (28) est appliqué contre le bord (67) du support (62) de l'électrode corona (30) et de par la souplesse de la laie flexible (66), le bord r6B) du support (62) situé du côté de la couche photosensible est appliqué contre la surface de celle-ci. Ainsi le plan de formation de la microimage de radiations est amené en coïncidence avec le plan de la surface (44) de la couche photosensible du substrat (3). Le iode de réalisation du dispositif de charge/exposition (101) représenté figures 10 et Il est destiné à un appareil qui comporte des moyens uniques pour déplacer chaque dispositif de charge/exposition (101) selon son axe optique (29) lorsque le dispositif de charge/exposition (101) est amené en relation avec la zone choisie (100) du substrat (3). Selon ce iode de réalisation, le dispositif (101) qui comporte, montés dans une douille (31) le système de lentilles (28) et l'électrode corona (30) n'est pas fixe par rapport à la tourelle (33) mais déplaçable en translation selon l'axe optique (29) du système de lentilles (28). La tourelle (33) peut tourner autour d'un axe (34) entrainé en rotation par exemple au moyen d'un pignon (70), l'axe (34) étant placé dans un alésage (71), formant palier, prévu à cet effet dans une structure (53) appartenant au bati de l'appareil. La tourelle (33) n'est pas déplasable en translation selon une direction parallèle à l'axe optique (29) du système de lentilles (28). La douille (31) du dispositif de charge/exposition (101) est placée dans une ouverture (72) de la tourelle (33) et est maintenue par la bague d'arrêt (73) d'une part, le ressort (74) prenant appui sur une collerette (75) de la douille (31) d'autre part. Le ressort (74) permet d'éloigner le bord (38) de la douille (31) de la surface (44) de la couche photoconductrice du substrat (3). La collerette (75) est munie de deux ergots (76) diamétralement opposés sur lesquels vient prendre appui une plaque en U (77) appartenant aux moyens pour déplacer chaque dispositif de charge/exposition (101) selon l'axe optique (29) du système de lentilles (28). La plaque en U (77) est maintenue par un bloc (78) solidaire d'une tige (79), traversant la structure (53), munie d'une zone de poussage (80) destinée à l'application d'une force F, par exemple au moyen d'un vérin ou par rotation d'une came. Un ressort de rappel (81) est prévu entre la zone de poussage (80) et la structure (53). Lorsque le dispositif de charge/exposition (101) correspondant au taux de réduction souhaité est amené, par rotation de la tourelle (33) autour, de son axe (34), en relation avec la zone choisie (100) du substrat (3), le bord (38) de la douille (31) est appliqué contre la surface (44) de la couche photoconductrice par l'action de la force F exercée sur la zone de poussage (80). En effet l'action de la force F, par l'intermédiaire de la tige (79) et du bloc (78) amène les branches de la plaque en U (77) sur les ergots (76) de la douille (31) et déplacent ainsi le dispositif de charge/exposition (101) selon l'axe optique (29) du système de lentilles (28) jusqu'à ce que le bord (38) de la douille (31) soit appliqué contre la surface de la couche photoconductrice. Les ressorts (74) et (81) sont alors comprimés. Lorsque la force F n'est plus exercée sur la zone de poussage (80) le ressort (81) n'est plus t comprimé entre la structure (53) et la zone de poussage (80), il rappelle ainsi la plaque en U (77) qui n'est plus alors en contact avec les ergots (76). Le ressort (74) n'est plus comprimé entre la tourelle (33) et la collerette (75) de la douille (31), le bord (38) de la douille (31) s'éloigne ainsi de la surface (44) de la couche photoconductrice du substrat (3). Le mode de réalisation des moyens uniques pour déplacer chaque dispositif de charge/exposition tel que décrit ci-avant peut être adapté pour déplacer un dispositif de charge/exposition formé d'un système de lentilles dans une douille et d'une électrode corona dans un support. La tourelle (33) portant les dispositifs de charge/exposition (101), selon le mode de réalisation représenté en coupe figure 12, comporte une zone centrale (84) sensiblement circulaire pourvue à sa périphérie de protubérances (83) destinées à porter des dispositifs de charge/exposition (101) fixés par les bagues d'arrêt (69). Ces protubérances (83) sont relevées et font un angle avec le plan de la zone centrale (84). La tourelle (33) est mobile en rotation autour d'un axe (34) dont l'extrémité (85) s'appuie dans un alésage prévu dans la structure (53) appartenant au bati de l'appareil. L'axe (34) de rotation de la tourelle (33) n'est pas perpendiculaire au plan du substrat électrophotographique (3), il fait un angle avec la perpendiculaire au substrat (3) de façon telle que la protubérance (83) portant le dispositif de charge/exposition (101) dont le taux de réduction correspond aux dimensions de l'original soit parallèle au plan du substrat (3) lorsque le dispositif de charge/exposition (101) est amené en relation avec la zone choisie (100) du substrat électrophotographique (3). La zone centrale (84) de la tourelle (33) porte un bloc de poussage (86) destiné à appliquer une force F déplaçant la tourelle (33), et de ce fait permettant de déplacer le dispositif de charge/exposition (101) en translation selon l'axe optique (29) du système de lentilles (28), de façon telle que le bord (38) de la douille (31) soit appliqué contre la surface (44) de la couche -électrophotographique du substrat (3) lors du dépôt de la charge électrostatique sensiblement uniforme et de la formation de la microimage électrostatique latente sur la zone choisie (100) du substrat (3). Un ressort (82) placé autour de l'axe (34) de la tourelle (33) est covprivé entre la zone centrale (84) de la tourelle (33) et la structure (53) lorsque la force F est appliquée, lorsque la force F n'est plus appliquée sur le bloc de poussage (86) le retour du ressort (82) à la position de repos éloigne le bord (38) de la douille (31) de la surface (44) de la couche électrophotographique du substrat (3). Bien entendu l'invention n'est nullement limitée aux modes de réalisation décrits spécifiquement dans le présent exposé et l'on peut adopter des variantes ou perfectionnement portant sur les différentes étapes du procédé et/ou les divers moyens mis en oeuvre sans pour autant sortir du cadre de la présente invention Le procédé pour réaliser à partir d'un original une microimage sur une zone choisie d'un substrat électrophotographique et l'appareil pour sa mise en oeuvre, objets de l'invention présentent de nombreux avantages. L'appareil selon l'invention ne comportant qu'un poste de charge/exposition et un poste de développement et de fixage est d'un encombrement plus réduit que les appareils habituels et nécessite des moyens de commande des déplacements du substrat moins complexes. De ce fait, le procédé pour réaliser à partir d'un original une microimage sur une zone choisie d'un substrat électrophotographique présente un gain de teaps par rapport aux procédés mettant en oeuvre les appareils selon l'art antérieur. De plus, le développement de la microimage électrostatique latente et le fixage de la microimage développée étant réalisés en un même lieu, il n'y a pas de déplacement de la microimage développée non fixée ce qui évite toute détérioration de celle-ci. Ainsi l'appareil, et le procédé, objets de l'invention, permettent d'obtenir des microimages de très bonne qualité. REVENDICATIONS 1. - Procédé pour réaliser à partir dtun original une microimage sur une zone choisie (100) d'un substrat électrophotographique (3) formé d'un support pourvu sur une- de ses faces d'une couche photoconductrice, ledit substrat (3) comportant au moins une zone, caractérisé en ce que - on positionne le substrat (3) à une première station, on dépose sur la couche photoconductrice une charge électrostatique sensiblement uniforme seulement sur la zone choisie (100) puis on forme une microinage électrostatique latente sur celle-ci, - on positionne le substrat (3) à une deuxième station, on développe ladite microimage électrostatique latente et on fixe la microimage développée. 2. - Procédé selon la revendication 1 caractérisé en ce que à la-deuxième station, après avoir développé la microimage et avant de la fixer, on sèche ladite microimage développée. 3. - Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 ou 2 caractérisé en ce que on positionne ensuite le substrat (3) à la première station et on contrôle la microimage développée et fixée. 4. - Appareil pour réaliser à partir d'un original une microimage sur une zone choisie (100) d'un substrat électrophotographique (3) formé d'un support pourvu sur une de ses faces d'une couche photoconductrice, le substrat comportant au moins une zone, caractérisé en ce qu'il comporte des moyens pour mettre en oeuvre le procédé selon l'une quelconque des revendications 1 & 3. 5. - Appareil selon la revendication 4 caractérisé en ce que lesdits moyens sont constitués par - un poste de charge/exposition (1) comportant à la fois des moyens (30) pour former une charge électrostatique sensiblement uniforme sur la zone choisie (100) du substrat (3) et des moyens (27) pour former sur ladite zone chargée, une microimage électrostatique latente, - un poste de développement et de fixage (2) coaportant à la fois des moyens pour développer (39) ladite microimage électrostatique latente et la rendre visible, et des moyens (40) pour fixer ladite microimage développée. 6. - Appareil selon la revendication 5 caractérisé en ce que le poste de développement et de fixage (2) comporte aussi des moyens (54) de séchage de la microimage développée. 7. - Appareil selon l'une quelconque des revendications 5 ou 6 caractérisé en ce que le poste de charge/exposition (1) comporte aussi des moyens de contrôle (35) de la microimage développée et fixée. 8. - Appareil selon l'une quelconque des revendications 5 à 7 caractérisé en ce qu'il comprend des moyens (4) pour supporter le substrat électrophotographique (3) sensiblement dans un plan, auquel sont associés des moyens de déplacement pour présenter la zone choisie (100) au poste de charge/exposition (1) puis au poste de développement et de fixage (2). 9. - Appareil selon l'une quelconque des revendications 5 à 8 caractérisé en ce que les moyens pour former la microimage électrostatique latente sont des moyens (27) pour projeter une microimage de radiations d'un original sur la zone choisie (100). 10. - Appareil selon la revendication 9 caractérisé en ce que les moyens (27) pour projeter une microimage de radiations comportent un système de lentilles optiques (28) dont l'axe optique (29) est perpendiculaire au plan de la zone choisie (100) et que les moyens (30) pour former une charge électrostatique sensiblement uniforme sur la couche photoconductrice du substrat (3) sont placés entre le système de lentilles (28) et le substrat (3). 11.- Appareil selon la revendication 10 caractérisé en ce que le système de lentilles (28) est monté dans une douille (31). 12.- Appareil selon l'une quelconque des revendications 10 ou Il caractérisé en ce que les moyens (30) pour former une charge électrostatique sensiblement uniforme sur la zone choisie (100) du substrat (3) sont constitués par une électrode corona fixée diamétralement par rapport å la douille (31) l'ensemble formant un dispositif de charge/exposition (101). 13.- Appareil selon l'une quelconque des revendications 10 ou Il caractérisé en ce que les moyens (30) pour former une charge électrostatique sensiblement uniforme sur la zone choisie (100) du substrat sont constitués par une électrode corona fixée dans un support (62) et sont situés au poste de charge/exposition (1), un système de lentilles (28) dans une douille (31) et l'électrode corona dans son support (62) formant un dispositif de charge/exposition (101). 14.- Appareil selon l'une quelconque des revendications 10 à 13 caractérisé en ce qu'il comporte plusieurs systèmes de lentilleS (28) ayant chacun un taux de réduction particulier, les systèmes de lentilles (28) étant reliés à des moyens (33) permettant d'amener le système de lentilles (28) choisi en relation avec la zone (100) du substrat (3) présentée au poste de charge/exposition (1). 15.- Appareil selon la revendication 14 caractérisé en ce que le système de lentilles (28) est amené en relation avec la zone (100) du substrat (3) présentée au poste de-charge/exposition (1) par un mouvement de rotation. 16.- Appareil selon l'une quelconque des revendications 12 à 15 caractérisé en ce que les systèmes de lentilles (28) sont montés au moyen de leur douille (31) sur une tourelle (33) tournant autour d'un axe (34) pour amener le système de lentilles (28) choisi en relation avec la zone (100) du substrat (3) présentée au poste de charge/exposition tel), la tourelle (33) comportant des moyens de repérage (36,37) des systèmes de lentilles (28). 17.- Appareil selon l'une quelconque des revendications 15 ou 16 caractérisé en ce que le système de lentilles (28) choisi est amené en relation avec la zone (100) du substrat (3) présentée au poste de charge/exposition (1) par rotation autour d'un axe (34) perpendiculaire au plan du substrat (3). 18.- Appareil selon l'une quelconque des revendications 11, 12, 14 a 17 caractérisé en ce que des moyens permettent de déplacer respectivement chaque dispositif de charge/exposition (101) en translation selon son axe optique (29) lorsque le dispositif (101) est amené en relation avec la zone choisie (100) du substrat (3), afin d'appliquer le bord (38) de la douille (31) du dispositif de charge/exposition (101) contre la surface (44) de la couche photoconductrice de la zone choisie (100) du substrat (3) lors du dépôt de la charge électrostatique sensiblement uniforme et/ou de la formation de la microimage électrostatique latente. 19.- Appareil selon l'une quelconque des revendications 11, 13 à 17 caractérisé en ce que des moyens permettent de déplacer chaque dispositif de charge/exposition (101) en translation selon son axe optique (29) lorsque le dispositif (101) est amené en relation avec la zone choisie (100) du substrat (3), afin d'appliquer le bord (38) de la douille (31) du système de lentilles (28) contre le bord (67) du support (62) de l'électrode corona (30) opposé à la couche photoconductrice et le bord (68) dudit support (62) situé du côté de la couche photoconductrice contre la surface (44) de ladite couche lors du dépôt de la charge électrostatique sensiblement uniforme et/ou de la formation de la microîmage électrostatique latente. 20.- Appareil selon l'une quelconque des revendications 18 ou 19 caractérisé en ce que les moyens pour déplacer le dispositif de charge/exposition (101) en translation selon son axe optique (29) sont des moyens pour déplacer la tourelle (33) en translation parallèlement â l'axe optique (29) du dispositif de charge/exposition (101) amené au poste de charge/exposition (1). 21.- Appareil selon l'une quelconque des revendications 5 à 20 caractérisé en ce que les moyens (39) pour développer la microimage électrostatique latente sont constitués par un bloc (41) comportant une chambre (42) dont la paroi située au voisinage de la surface (44) de la couche photoconductrice de la zone choisie (100) du substrat (3) présente une ouverture (43) dont la forme elles dimensions sont sensiblement égales à celles de la zone (100) du substrat (3) portant la microimage électrostatique latente, des moyens d'entrée (45) et de sortie (47) de liquide de développement dans et hors de la chambre (42), et des moyens de déplacement (49) du bloc (41) perpendiculairement au plan de la zone choisie (100) du substrat (3) afin d'appliquer l'ouverture (43) de la chambre (42) contre la surface (44) de la couche photoconductrice dudit substrat (3) autour de la zone (100) pour fermer ladite chambre (42). 22.- Appareil selon la revendication 20 caractérisé en ce qu'il comporte des moyens (46) d'entrée d'air dans la chambre (42). 23.- Appareil selon l'une quelconque des revendications 5 à 22 caractérisé en ce que les moyens (39) pour développer la microimage électrostatique latente et les moyens (40) pour fixer la microimage développée sont situés de part et d'autre du substrat électrophotographique (3). 24.- Appareil selon la revendication 23 caractérisé en ce que les moyens (40) pour fixer la microimage développée sont des moyens (55) émetteurs de radiations et que les moyens (5) pour supporter la zone choisie (100) du substrat électrophotographique (3) sont transparents auxdites radiations. 25.- Appareil selon la revendication 21 caractérisé en ce qu'il comporte des moyens pour que du liquide de développement entre dans la chambre (42) seulement lorsque l'ouverture (43) de la chambre (42) est appliquée contre la surface (44)-de la couche photoconductrice de la zone choisie (100) du substrat (3). 26.- Appareil selon l'une quelconque des revendications 6 à 25 caractèrisé en ce que les moyens (54) de séchage fonctionnent seulement lorsque l'ouverture (43) de la chambre (42) est éloignée de la surface (44) de la couche photoconductrice du substrat (3) après développement de la microimage électrostatique latente. 27.- Appareil selon l'une quelconque des revendications 23 ou 24 caractérisé en ce que les moyens (40) pour fixer la microimage développée fonctionnent seulement lorsque l'ouverture (43) de la chambre (42) est éloignée de la surface (44) de la couche photoconductrice du substrat électrophotographique (3) après développement de la aicroirage électrostatique latente. 28.- Appareil selon l'une quelconque des revendications 7 à 27 caractérisé en ce que les moyens de contrôle de la microimage développée et fixée sont situés au poste de charge/exposition (1). 29. - Appareil selon la revendication 28 caractérisé en ce que les moyens de contrôle sont constitués par un système de lentilles (35) placé du côté de la couche photoconductrice du substrat (3) et d'un dispositif d'éclairage (58) placé de l'autre côté du substrat (3) et de moyens de transmission et de réception de l'image agrandie de la microimage développée et fixée. 30. - Appareil selon la revendication 29 caractérisé en ce que le système de lentilles (35) des moyens de contrôle est porté par la tourelle (33) et comporte des moyens de déplacement en translation du système de lentilles (35) selon son axe optique. 31.- Appareil selon la revendication 28 caractérisé en ce que les moyens de contrôle sont constitués par un dispositif d'éclairage (58) placé du coté de la couche photoconductrice du substrat (3) et d'un système de lentilles (35) situé de l'autre côté du substrat (3) et de moyens de transmission et de réception de l'image agrandie de la microimage développée et fixée.