Brevet FR2611402A1 — publié le 19880902

La présente invention concerne le minimisation de la variation de vaLeur des résistances induite par la température et, plus particulièrement, elle s'applique à une résistance en pellicules minces possédant une partie d'ajustement faite en un matériau dont la caractéristique de variation avec la température est sensiblement plus élevée que celle de la partie résistive, dans un sens opposé à celle-ci, ainsi qu'à un procédé de fabrication de cette résistance. On sait depuis longtemps que la valeur de résistance des matériaux résistifs utilisés dans les résistances varie avec la température. Cette caractéristique est appelée le "coefficient de température de la résistance" (CTR), et on la mesure en déter- minant la variation réelle de la résistance pour chaque degré de variation de la température. Ce CTR est typiquement donné sous la forme d'une variation en parties par million par degré Celcius, ou ppm/ C. Afin qu'on puisse prédire le fonctionnement des dispositifs électroniques utilisant des résistances et afin d'aug- menter la précision et la fiabilité de ces dispositifs, on a fait de nombreuses tentatives pour réduire le CTR des résistances au "zéro absolu". Il n'existe actuellement aucun procédé permettant d'atteindre ce zéro absolu. Actuellement, on considère le CTR comme sensiblement nul lorsqu'il se trouve dans l'intervalle + 0,5 ppm/ C. Dans le passé, on a fabriqué des résistances bobi- nées de précision par un procédé coûteux consistant à sélectionner des résistances de valeurs égales et à sélectivement associer des CRT négatifs et positifs (lesquels résultent de variations de fabrication) d'un large éventail de résistances. Lorsque l'on peut contrôler étroitement les CRT initiaux, il se produit à long terme une dérive de résistance qui est propre à chaque résistance et qui conduit à une dérive de résistance globale avec le temps. De plus, en raison du caractère massif des résistances considérées une à une, un couplage thermique serré n'a pas pu et ne peut toujours pas être réalisé, de sorte que le CTR apparent de rapport (comme ci-après défini) varie également avec les gradients de température existants. Dans le passé également, une approche typique associée aux résistances en pellicules minces a consisté à décou- vrir des matériaux à bas CRT. Une résistance de ce type est décrite dans le brevet des Etats-Unis d'Amérique n 4 464 646. La résis- tance est faite de tantale, de nitrure de tantale ou d'oxynitrure de tantale et est décrite comme ayant un CRT "sensiblement" nul. De fait, ces matériaux ont des CTR appartenant à l'intervalle de + 100 ppm/ C, ce qui est nettement supérieur au zéro absolu et même dépasse, de nombreux ordres de grandeur, le niveau dit sen- siblement nul. Alors que le brevet cité présente un circuit en pellicules minces permettant de commander le coefficient de tem- pérature de la résistance, il vise à produire une résistance qui sera dépendante de la température de manière à pouvoir faire fonc- tion de capteur de température ou de compensateur de température pour d'autres éléments. Il ne présente ni ne suggère une résistance composite possédant un CTR même sensiblement nul, puisqu'il pré- suppose qu'il existe des matériaux susceptibles de produire un semblable CTR pour les applications dans lesquelles le brevet cité est utilisé. Par exemple, le brevet cité donne le tantale comme ayant un CTR sensiblement nul, alors qu'il possède en réali- té un CTR de 80 ppm/ C + 10 %. D'autres tentatives ont été faites pour ajuster le CTR au moyen de la quantité de matière contenue dans une résis- tance, comme présenté dans le brevet des Etats-Unis d'Amérique n 4 375 056, ou par commande de la configuration de la résistance, comme présenté dans le brevet des Etats-Unis d'Amérique n 4 079 349. Toutefois, les CTR utilisant ces procédés sont toujours supérieurs de plusieurs ordres de grandeur au zéro absolu, ou même au niveau sensiblement nul. Un autre procédé d'ajustement passe par une manipu- lation du traitement des matériaux des résistances, un recuit des matériaux en température, ou bien, sinon, un ajustement de la fabrication du matériau et son dépôt sur des substrats (dans le cas de résistances en pellicules minces) pendant la formation même de la résistance. Toutefois, ces divers processus sont complexes, coûteux, et ne permettent pas d'atteindre les résultats cherchés d'une manière pouvant être prédite et répétée. Ainsi, toute résistance donnée qui est fabriquée à l'aide de matériaux ainsi réalisés peut toujours souffrir de diverses défectuosités liées à la température, Lesquelles ne peuvent pas être corrigées par la suite. Ainsi, il est demandé depuis longtemps une résistance qui possède un CTR au zéro absolu ou qui peut être ajustée pour présenter un CTR sensiblement nul une fois sa fabrication achevée. En ce qui concerne les groupes de résistances, qui sont appelés des réseaux de résistances, il existe depuis long- temps une demande pour une résistance dans laquelle on peut ajuster le CTR après la fabrication afin d'accorder ou de compenser les CTR des autres résistances du réseau. Dans certains réseaux de résistances, il n'est pas essentiel que toutes les résistances possèdent un CTR absolument ou sensiblement nul. Il est plus important que, lorsque la tempé- rature varie, les CTR se suivent entre eux et fassent varier les valeurs de résistance en parallèLe avec les changements de la température. Cette caractéristique importante est appelée CTR de rapport et est souvent exprimée sous la forme de la différence des CTR des diverses résistances du réseau de résistances. Puisque c'est une différence entre les CTR, celle-ci est également mesurée en ppm/ C. Dans la technique antérieure, il existe depuis longtemps un besoin en ce qui concerne la minimisation du CTR de rapport des réseaux de résistances et, en particulier, la minimisation jusqu'à un niveau nul ou sensiblement nul du CTR de rapport de dispositifs de précision, lequel est inférieur à 0,5 ppm/ C. Dans le passé, les résistances de très haute préci- sion étaient généralement hermétiquement closes afin de permettre une réduction de la dérive des valeurs des CTR ou des résistances du fait de l'humidité ou d'autres facteurs liés à l'environnement. Une telle enceinte hermétique rend impossible de modifier le CTR ou la résistance après que le réseau de résistances a été complètement fabriqué. En substance, tout "ajustement" final visant à améliorer une valeur quelconque n'était pas matériellement possible. L'invention fournit un procédé permettant de fabri- quer une résistance composite qui peut être configurée de manière à présenter un CTR sensiblement nul, comme cela peut être mesuré à l'aide des instruments de fabrication de la chaîne de production. L'invention fournit en outre un procédé permettant de fabriquer une résistance composite qui peut être configurée de manière à présenter un CTR qui est absolument nul. L'invention fournit également un procédé de fabri- cation d'une résistance composite ayant un CTR qui peut être ajusté après la fabrication. L'invention fournit également un procédé permettant de fabriquer une résistance composite, destinée à être utilisée dans un réseau de résistances, laquelle peut être ajustée de ma- nière à commander le CTR de rapport du réseau de résistance. L'invention fournit en outre un procédé permettant de fabriquer une résistance composite possédant une valeur de résistance prédéterminée et un CTR absolument ou sensiblement nul. L'invention propose en outre un procédé permettant de fabriquer une résistance en pellicules minces composite, des- tinée à être utilisée dans un réseau de résistances, que l'on peut ajuster, ou ajuster par enlèvement de matière, après la fabrication de manière à pouvoir commander le CTR de rapport du réseau de résistances. L'invention fournit également une résistance compo- site, destinée à être utilisée dans un réseau de résistances, qui peut donner au réseau de résistances un CTR de rapport absolument ou sensiblement nul. Plus spécialement, l'invention propose une résis- tance composite possédant une partie résistive et une partie d'ajustement. La partie résistive est formée d'un matériau possé- dant une résistivité élevée et un CTR faible; et la partie d'ajustement est formée d'un matériau ayant une résistivité plus faible et un CTR plus élevé, de valeur opposée, que le CTR du matériau résistif. Après fabrication, on soumet la configuration de la partie d'ajustement à un ajustement par enlèvement de matière ou à une opération de configuration au moyen d'un processus d'usi- nage laser visant à augmenter la valeur de résistance globale de la résistance composite d'une quantité négligeable et annuler sensiblement ou totalement le CTR. L'invention fournit en outre plus spécialement une résistance composite destinée à être utilisée dans un réseau de résistances, o on soumet la partie d'ajustement à un ajustement par enlèvement de matière ou à une opération de configuration par usinage laser de manière à amener le CTR de rapport du réseau de résistances à être absolument ou sensiblement nul. La description suivante, conçue à titre d'illustra- tion de l'invention, vise à donner une meilleure compréhension de ses caractéristiques et avantages; elle s'appuie sur les dessins annexes, parmi lesquels: la figure 1 montre une résistance composite fabri- quée selon l'invention; et la figure 2 est une vue isométrique dilatée éclatée d'une partie d'une résistance en pellicules minces selon l'inven- tion. On se reporte maintenant à la figure 1, o il est présenté un réseau de résistances 10 monté sur un substrat 12. Le substrat 12 peut être fait de verre ou d'un quelconque autre matériau, mais sera de préférence de L'alumine (Al203). Le réseau de résistances 10 contient deux résistances composites 14 et 16. Les entrées et les sorties des résistances composites 14 et 16 s'effectuent via des lignes conductrices 18, 20 et 22, qui se terminent, à leurs extrémités distales, par des pattes, respecti- vement 24, 26 et 28. La résistance composite 14 est faite de deux par- ties résistives 30 et 32 respectivement connectées par des lignes 31 et 33 à des parties d'ajustement 34 et 36. Les parties d'ajus- tement 34 et 36 sont configurées, comme décrit ci-après, par un trait de coupure formé par usinage 38, lequel, dans le mode de réalisation préféré, est produit par un laser. La résistance composite 16 qui se trouve entre les lignes 20 et 22 est constituée d'une partie résistive 40 connec- tée par une ligne 41 à une partie d'ajustement 39. Sur la figure 1, la partie d'ajustement 39 est représentée sans trait d'usinage par laser. Alors que les résistances composites 14 et 16 sont représentées comme étant interconnectées, ceci n'est pas néces- sairement vrai pour tous les réseaux de résistances. Certains réseaux de résistances sont constitués de grands nombres de résistances indépendantes disposées sur un même substrat. On se reporte maintenant à la figure 2. Celle-ci montre une partie d'une résistance composite en pellicules minces fabriquée seLon le mode de réalisation préféré de l'invention. Comme cela est connu de l'homme de l'art, on fabrique les résistances en pellicules minces par un procédé consistant àfaire déposer le matériau résistif sur un substrat, puis à retirer le matériau résistif non voulu par des processus photolithographiques classiques. Dans l'invention, on fait d'abord déposer un maté- riau résistif 42 sur le substrat 12. On fait ensuite déposer un matériau d'ajustement 44 sur le dessus du matériau résistif 42. Ce processus conduit au fait que le matériau résistif 42 se trouve placé de manière continue sous le matériau d'ajustement 44. Il faut toutefois noter que l'ordre de dépôt n'est pas crucial, non plus que le nombre de couches se trouvant au-dessus, au-dessous ou entre les matériaux résistif et d'ajustement dans la mesure o les matériaux sont connectés de manière conductrice afin de produire une résistance composite possédant un CTR composite unique. Après les dépôts, qui peuvent se faire au moyen de processus de dépôt sous vide, chimiques, ou autres, on photosensi- bilise le matériau d'ajustement 44, puis on enlève par incision afin de laisser exposées des aires du matériau résistif. Ensuite, on retire le matériau résistif 42 de manière à laisser sur le substrat 12 la configuration voulue de matériau résistif 42. Cette combinaison du matériau résistif 42 et du matériau d'ajustement 44 forme la résistance composite 46. Une fois complètement réalisée la configuration globale appropriée 261140Z de la résistance composite 46 et une fois complètement réalisées les diverses lignes et pattes (non représentées), on dispose au- dessus de la résistance composite 46 un couvercle 48 transparent vis-àvis du rayonnement laser et on le soude au substrat 12 à l'aide d'un joint hermétique 50. On peut fixer aux pattes de la résistance toutes les lignes externes et tous les cadres de mon- tage voulus après la mise en place du joint hermétique. L'existence de ce joint hermétique empêche généralement les varia- tions de résistance qui sont dues aux effets de l'environnement provoqués par l'humidité et les parties transportées dans l'air. Alors qu'il est possible de modifier la configu- ration globale des résistances avant l'application du joint hermétique au moyen de techniques telles que celles de l'ajuste- ment par enlèvement abrasif de matière, l'ajustement par enLève- ment de matière au moyen d'urn jet d'eau sous haute pression, etc., après la mise en place du joint hermétique, seul un ajustement par enlèvement de matière utilisant un laser ou un autre moyen non intrusif est possible. Le laser traverse le couvercle 48 transparent au rayonnement laser et forme par vaporisation du matériau d'ajustement 44 et du matériau résistif 42 des traits de coupure allant jusqu'au substrat 12 sans altérer le joint hermétique. La matière vaporisée n'a pas d'effet mesurable sur les résistances hermétiquement encloses. Dans la fabrication du réseau de résistances 10 de la figure 1, les lignes 18, 20, 22, 31, 33 et 41 sont faites en un matériau choisi pour être hautement conducteur, comme l'or ou l'argent. Les parties résistives 30, 32 et 40 sont faites d'un matériau choisi pour sa haute résistance, comme le nickel-chrome (nichrome), le siliciure de chrome, le tantale, ou le nitrure de tantale. Ces matériaux tendent généralement à être caractérisés par un CTR appartenant à l'intervalle de -50 à +50 ppm/ C. Le nichrome utilisé dans les résistances étalons appartient à l'inter- valle de -25 à +25 ppm/ C. Dans le mode de réalisation préféré, les résistances en pellicules minces possèdent un CTR compris entre O et -30 ppm/ C. Il faut noter que, même si le CTR est généralement non linéaire sur un large intervalle de température, il peut être considéré comme ayant une valeur unique sur les intervalles de température habituels auxquels les dispositifs électroniques de précision sont soumis. Les parties d'ajustement 34, 36 et 39 peuvent être faites à partir d'un certain nombre de matériaux de faible résis- tance, comme le nickel, l'or, le tungstène ou l'argent, qui sont généralement caractérisés par un CTR positif appartenant à l'inter- valle approximatif de +500 à +9 000 ppm/ C. Dans le mode de réali- sation préféré, les parties d'ajustement 34, 36 et 39 sont faites en nickel, qui possède un CTR d'environ +5 000 ppm/ C. En ce qui concerne la sélection de la quantité d'incision préliminaire qui sera nécessaire pour produire une résistance composite ayant une valeur de résistance nominale pré- déterminée, on incise les parties résistives 30 et 32 de manière qu'elles présentent une valeur de résistance tout à fait proche de la valeur de résistance nominale voulue de la résistance compo- site 14 et, de même, on incise la partie résistive 40 de façon qu'elle possède une valeur de résistance proche de la valeur de résistance voulue de la résistance composite 16. De préférence, lorsqu'on considère la résistance composite sous sa forme la plus simple, telle que représentée par la résistance composite 16, la valeur de résistance totale de la partie résistive 40 doit être d'au moins 50 % de la valeur de résistance nominale finale de la résistance composite complètement finie 16, malgré tous les pro- blèmes possibles de commande de processus. Inversement, la partie d'ajustement incisée préli- minaire 39 fournit moins de 0,5 % de la valeur de résistance nomi- nale prédéterminée voulue. Dans le mode de réalisation préféré, le matériau résistif est en outre amené dans les limites de 90 % de la valeur nominale par usinage laser après les processus d'enlèvement photo- lithographiques. Cette opération est appelée l'usinage laser d'ébauche, même si on peut utiliser ce même laser pour obtenir les valeurs finales précises du CTR et de la résistance. Un premier aspect de l'invention est que le pour- centage de la valeur de résistance nominale voulue qui doit être atteint par le matériau résistif peut être exprimé sous la forme [100 (abs CTRa) /(abs CTRa + abs CTR)] %, o abs CTR est la a ar r valeur absolue du coefficient de température de la résistance du matériau résistif et abs CTRa est la valeur absolue du coefficient de température de la résistance du matériau d'ajustement. De même, le pourcentage de la valeur nominale prédéterminée du matériau d'ajustement est [100 (abs CTRr)/(abs CTRa + abs CTRr)] %. r a r Pendant la fabrication d'une résistance telle que la résistance composite 16, on mesure la valeur de résistance et le CTR après l'opération photolithographique initiale. Cette mesure indique que la valeur de résistance est principalement associée au nichrome de la partie résistive 40 et que le CTR n'est pas en encore nul du fait du nickel de la partie d'ajustement 39. Si la valeur de résistance n'est pas principalement celle associée au nichrome et n'est pas proche, à 90 %, de la valeur finale, on effectue alors un autre usinage laser d'ébauche jusqu'à obtention de ces résultats. Alors qu'il est possible que le CTR soit nul après le processus photolithographique, cela est hautement impro- bable. Si l'on suppose, comme cela doit propablement être le cas, que le CTR n'est pas sensiblement nul, il faut réduire l'amplitude du CTR. On peut réaliser ceci en modifiant la confi- guration géométrique de la partie d'ajustement. Si l'on considère la résistance composite 14 de la figure 1, on peut voir que, en allongeant les traits de coupure 38, on augmentera la résistance des parties d'ajustement 34 et 36. De la même façon, puisque la résistance augmente, la contribution de ces parties au CTR augmente. En ce qui concerne la résistance, la modification de la configuration des parties d'ajustement 34 et 36 peut amener leur résistance à augmenter d'un facteur 100. Toutefois, il est évident que la contribution des parties d'ajustement 34 et 36 à la valeur absolue de la résistance restera relativement petite par comparaison avec la valeur globale de la résistance composite 14, puisque les parties d'ajustement 34 et 36 présentent, initia- lement, des résistances extrêmement faibles. Toutefois, Lorsque la résistance des parties d'ajus- tement 34 et 36 augmente, il apparaît une variation considérable de la contribution des parties d'ajustement 34 et 36 au CTR de la résistance composite 14. Ceci amène le CTR de la résistance composite 14 à passerde 30 ppm/ C à une valeur d'environ 0 à -3 ppm/ C. Comme cela apparaîtra clairement à l'homme de l'art, la résistance composite 14 aura une valeur de résistance très légèrement accrue, mais un CTR qui doit être proche de zéro. Une deuxième mesure faite à cet instant indique qu'il peut être nécessaire de poursuivre l'usinage laser de la partie d'ajustement 34 ou 36 pour encore diminuer le CTR et obtenir la "valeur sensiblement nulle" des instruments de précision, qui se trouve dans les limites de + 0,5 ppm/ C, ou que le CTR est trop fortement négatif ou positif. Comme cela apparaîtra clairement à l'homme de l'art, les mesures et l'usinage laser pourraient être réalisés avec l'aide d'un calculateur de façon que des résistances composites à CTR sensiblement nul puissent être fabriquées rapidement et à peu de frais. Puisque la précision d'usinage de la technologie laser est de nombreuses fois supérieure à la résolution possible des meilleurs instruments de laboratoire servant à mesurer le CTR et qu'il est probable que la précision d'usinage continuera à progresser, il sera évident à l'homme de l'art que le procédé de l'invention peut être utilisé pour produire des résistances compo- sites et des réseaux de résistances ayant des CTR absolument nuls, des CTR de rapport absolument nuLs, et des valeurs de résistance exactes. Comme exemple d'une résistance composite d'un type non disponible jusqu'à ce jour, on a utilisé la structure présentée sur la figure 1 pour fabriquer une résistance ayant une valeur nominale de 100 ohms. Les parties d'ajustement 34 et 36 sont faites de nickel, qui possède une résistance carrée d'environ 0,1 ohm par carré. Les parties résistives 30 et 32 sont formées de nichrome, ayant une résistance carrée légèrement inférieure à 100 ohms par carré. Comme précédemment mentionné, le CTR du nickel est d'environ +5 000 ppm/ C, et le CTR du nichrome est compris entre -30 ppm/ C et 0 ppm/ C. On choisit Les dimensions des parties d'ajustement 34 et 36 de façon qu'elles aient une résistance de 0,05 ohms avant l'usinage laser de précision. On configure les parties résistives et 32 de manière qu'elles fournissent une résistance de 80 ohms en prenant 0,75 carré de nichrome. Enfin, la résistance carrée de l'or utilisé pour couvrir Les lignes conductrices est de 6,0milliohms par carré. Avec les 12 carrés environ d'or utilisés, la contri- bution de l'or à la résistance totale est d'environ 70,0 milliohms. Selon le procédé de l'invention, on ajuste par enlè- vement de matière les parties d'ajustement 34 et 36 de façon à modifier leurs configurations et à augmenter le nombre de carrés de 0,5 à environ 6,0, c'est-à-dire à apporter une modification d'environ 12:1 dans la contribution du nickel à la résistance composite. Par conséquent, la contribution des parties d'ajuste- ment 34 et 36 à la résistance composite passe d'environ 0,05 ohm à 0,6 ohm, ce qui est encore une très petite partie de la résis- tance composite de 100 ohms. Toutefois, l'augmentation de la contribution à la résistance s'accompagne d'une augmentation substantielle de la contribution des parties d'ajustement 34 et 36 au CTR du CTR composite. L'usinage laser fait sensiblement passer le CTR composite de -30 ppm/ C à -3 ppm/ C. Alors que ce CTR composite est beaucoup plus près du CTR absolument nul que cela n'était précédemment possible avec un équipement de production, il est effectué une étape supplémen- taire au cours de laquelle on répète l'opération d'usinage laser sur les parties d'ajustement 34 et 36 afin d'améliorer encore le CTR. Après un deuxième enlèvement de matière par usinage laser de précision, des essais répétés sur la résistance composite donnent des valeurs de CTR composite appartenant à l'intervalle de + 0,5 ppm/ C. Le CTR exact ne peut pas être déterminé puisqu'il est plus proche du zéro absolu que ne permettent de le vérifier les possibilités de l'instrumentation de production qui est utilisée. Aussi longtemps qu'un surcroît de résistance peut être ajouté sans dépasser la résistance nominale prédéterminée, et dans la mesure o une modification du CTR est encore souhaitable, on peut effectuer d'autres opérations d'enlèvement de matière par usinage laser. Ainsi que cela est connu dans la technique, il est souvent plus important de faire varier toutes les résistances d'un réseau de résistances du même pourcentage sur un intervalle de température donné que pour des résistances particulières, si l'on veut obtenir un CTR nul. Cette caractéristique des résis- tances présentant des CTR en parallèle est connue sous diverses appellations dans l'industrie. Le nom le plus commun est "CTR de rapport", mais on parle également de"poursuite de CTR"et de"rapport de CTR'" Le CTR de rapport peut être mathématiquement défini comme étant la différence entre les CTR des diverses résistances. Il s'exprime en ppm/ C, c'est-à-dire dans les mêmes unités que le CTR. Dans le réseau de résistances 10, le CTR de rapport des résistances composites 14 et 16 peut être ajusté sensiblement à zéro, c'est-à-dire être adapté à mieux que 0,5 ppm/ C, ou bien au zéro absolu par ajustement de la configuration des parties d'ajustement 34 et 36 de la résistance composite 14. En substance, on fixe le CTR de la résistance composite 14 de manière qu'il soit adapté au CTR de la résistance composite 16, bien que le CTR de la résistance composite 16 puisse varier sur l'intervalle de -100 ppm/ C à +100 ppm/ C. Aussi longtemps que la résistance composite 14 possède un CTR égal ou inférieur au CTR de la résis- tance avec laquelle son CTR doit être adapté, par exemple la résistance composite 16, de 50 ppm/ C (c'est-à-dire (CTR1-50) ppm/ C, o CTR1 est le CTR avec lequel l'adaptation doit être faite) avant l'ajustement, on peut ajuster le CTR de la résistance composite 14 en effectuant un ajustement de la configuration de la partie d'ajustement 34, 36 afin qu'il soit adapté au CTR de la résistance composite 16 dans les limites de 0,5 ppm/ C. Selon un autre aspect de l'invention se rapportant aux réseaux de résistance, le pourcentage de la valeur résistive nominale voulue qui doit être atteint par le matériau résistif de la résistance composite avec lequel l'ajustement doit être fait peut être exprimé par [100 (abs CTRa)/(abs CTRa + abs (CTR - CTR1))] %, a a r o abs CTRa est la valeur absolue du coefficient de température de la résistance du matériau d'ajustement de la résistance compo- site avec laquelle l'ajustement doit être fait, abs (CTRr - CTR1) 26 1402 est la valeur absolue de la différence entre le coefficient de température de la résistance du matériau résistif de la résis- tance composite avec laquelle l'ajustement doit être fait et du coefficient de température de la résistance de l'autre résistance du réseau, qui est la résistance composite pour laquelle l'adapta- tion doit être faite. De même, le pourcentage de la valeur nomi- nale prédéterminée relative au matériau d'ajustement est [100 (abs (CTRr -CTR1))/(abs CTR + abs (CTR - CTR1 %. De la même façon, le CTR de rapport d'une série de résistances indépendantes disposées sur un substrat peut être ajusté à une valeur sensiblement nulle ou au zéro absolu par le procédé de l'invention, c'està-dire qu'une résistance du réseau peut être conçue de façon à présenter un CTR plus positif et toutes les résistances restantes être ajustées positivement afin d'être adaptées à la première résistance indiquée. Alors que l'invention peut être appliquée à des dispositifs résistifs en pellicules métalliques épaisses, minces, massives et en pellicules de polymère, on admettra que les condi- tions pour lesquelles un utilisateur demande un CTR, ou un CTR de rapport, sensiblement nul ou absolument nul sont celles qui n'apparaissent que dans les applications de dispositifs électro- niques de précision les plus fines. De façon générale, les produits en pellicules minces et en métal massif tendent à être plus stables et plus précis que les pellicules épaisses ou les pelli- cules de polymère,à avoir un bruit moindre, etc. Ainsi, il est plus probable que le procédé et la résistance composite selon l'invention seront utilisés dans les applications à pellicules minces et à métal massif, bien que, puisque les matériaux pour pellicules épaisses et pellicules en polymère s'améliorent, le procédé pourra trouver des applications croissantes dans de semblables réseaux de résistances. Eu égard aux principes et aux résultats présente- ment décrits, on peut s'attendre à ce que le matériau d'ajuste- ment ait typiquement un grand CTR dans le sens opposé par rapport au CTR du matériau résistif. De plus, la résistivité du matériau d'ajustement sera typiquement très inférieure à celle du matériau résistif de manière à offrir des possibilités importantes en ce qui concerne les variations quantitatives de la configuration géométrique de la partie d'ajustement afin de produire un effet minimal sur la valeur de résistance composite, mais un effet important sur le CTR composite. Toutefois, l'invention envisage un ajustement par enlèvement de matière au laser sur les lignes conductrices et les pattes si cela est nécessaire pour atteindre les valeurs voulues du CTR et de la résistance. Il faut également noter que la mise sous enceinte hermétique des réseaux de résistances produit un boîtier de résis- tances extrêmement stable et que l'enlèvement de matière par usi- nage laser après fabrication fournit également un réseau de résistances extrêmement précis ayant des caractéristiques de température ajustées. Bien entendu, l'homme de l'art sera en mesure d'imaginer, à partir du procédé et du dispositif dont la descrip- tion vient d'être donnée à titre simplement illustratif et nulle- ment limitatif, diverses variantes et modifications ne sortant pas du cadre de l'invention. 2611402 R E V E N D I C A T I 0 N S REVENDICATIONS 1 Procédé de fabrication d'une résistance composite, caractérisé en ce qu'il comprend les opérations suivantes: former une première partie (34, 36) de ladite résistance composite, ayant une première résistance et un premier coefficient de température de La résistance; former une deuxième partie (14, 16) de ladite résistance composite ayant une deuxième résistance et un deuxième coefficient de température de La résistance, ladite deuxième résistance étant différente de ladite première résistance et ledit deuxième coefficient de température étant différent dudit premier coefficient de température et étant de sens opposé à celui-ci; et retirer des parties de l'une desdites parties jusqu'à ce que le coefficient de température composite desdites première et deuxième parties soit sensiblement nul. 2. Procédé de fabrication d'une résistance composite, caractérisé en ce qu'il comprend les opérations suivantes: former une permière partie (34, 36) de ladite résistance composite, ayant une première résistance et un premier coefficient de température de la résistance; former une deuxième partie (14, 16) de ladite résistance composite ayant une deuxième résistance et un deuxième coefficient de température de la résistance, ladite deuxième résistance étant différente de ladite première résistance et ledit deuxième coefficient de température étant différent dudit premier coefficient de température et étant de sens opposé à celui-ci; retirer des parties de ladite deuxième partie jusqu'à ce que le coefficient de température composite desdites première et deuxième parties soit Légèrement supérieur à zéro; et retirer des parties de ladite première partie jusqu'à ce que le coefficient de température composite desdites première et deuxième parties soit sensiblement nul. 3. Procédé- selon la revendication 1 ou 2, caractérisé en ce qu'il comporte les opérations suivantes: enfermer hermétiquement lesdites première et deuxième parties; et retirer des parties desdites première et, ou bien, deuxième parties après Ladite opération de fermeture hermétique. 4. Procédé de fabrication d'une résistance composite, caractérisé en ce qu'il comprend les opérations suivantes: déposer un matériau d'une certaine résistance sur un substrat (12); déposer un matériau d'une résistance inférieure sur Ledit matériau d'une certaine résistance; retirer une partie dudit matériau de résistance inférieure pour former une partie d'ajustement (34, 36) ayant une première résistance et un premier coefficient de température posi- tif de la résistance; retirer une partie dudit matériau d'une certaine résistance pour former une partie résistive (14) connectée à ladite partie d'ajustement et possédant une deuxième résistance sensible- ment pLus grande que ladite première résistance et un coefficient de température négatif de la résistance, qui est sensiblement plus petit que ledit premier coefficient de température positif; mesurer le coefficient de température de ladite résistance composite; et retirer des parties de l'un desdits matériaux de résistance jusqu'à ce que le coefficient de température de ladite résistance composite mesure sensiblement zéro. 5. Procédé de fabrication d'une résistance composite, caractérisé en ce qu'il comprend les opérations suivantes: déposer un matériau d'une certaine résistance sur un substrat (12); déposer un matériau d'une résistance infé- rieure sur ledit matériau d'une certaine résistance; retirer une partie dudit matériau de résistance inférieure pour former une partie d'ajustement (34, 36) ayant une première résistance et un coefficient de température positif de la résistance; 17 2611402 retirer une partie dudit matériau d'une certaine résistance pour former une première et une deuxième partie résis- tive (14, 16), aumoins une partie résistive étant connectée à ladite partie d'ajustement, cette partie résistive ayant une résistance sensiblement plus grande que ladite première résistance et un coefficient de température négatif de la résistance qui est sen- siblement plus petit que ledit coefficient de température positif; mesurer le coefficient de température de la résis- tance de rapport entre, d'une part, l'une desdites parties résis- tives et ladite partie d'ajustement et, d'autre part, l'autre desdites parties résistives; retirer des parties dudit matériau de résistance inférieure; et répéter les opérations de mesure et de retrait de parties jusqu'à ce que le coefficient de température de rapport soit sensiblement zéro. 6. Procédé selon la revendication 4 ou 5, caractérisé en ce qu'il comporte les opérations suivantes: enfermer hermétiquement lesdites parties d'ajuste- ment et résistives avant l'opération de mesure du coefficient de température des résistances; et retirer par laser des parties après l'opération de mesure du coefficient de température des résistances. 7. Procédé de fabrication d'une résistance composite, caractérisé en ce qu'il comprend les opérations suivantes: déposer un matériau en pellicule mince (42) d'une résistance supérieure sur un substrat (12); déposer un matériau en pellicule mince (44) d'une résistance inférieure sur ledit matériau de résistance supérieure; retirer une partie dudit matériau de résistance inférieure pour former une partie d'ajustement ayant une première résistance et un premier coefficient de température positive de la résistance; retirer une partie dudit matériau de résistance supérieure pour former une partie résistive connectée à ladite partie d'ajustement et s'étendant au moins partiellement au-dessous 18 2 6 2611402 18 oJu de celle-ci, qui possède une deuxième résistance sensiblement supérieure à Ladite première résistance et un coefficient de température négatif de La résistance qui est sensiblement plus petit que ledit coefficient de température positif; mesurer Le coefficient de température desdites parties résistive et d'ajustement; retirer des parties dudit matériau de résistance inférieure; et répéter lesdites opérations de mesure et de retrait de parties jusqu'à ce que le coefficient de température se trouve dans l'intervalle de + 0,5 ppm/ C. 8. Procédé selon la revendication 7, caractérisé en ce que: lesdites opérations répétées de mesure et de retrait de parties sont répétées jusqu'à ce que le coefficient de tempéra- ture de la résistance soit au zéro absolu. 9. Procédé de fabrication d'une résistance composite ayant une valeur de résistance prédéterminée, caractérisé en ce qu'il comprend les opérations suivantes: déposer un matériau en pellicule mince (42) d'une résistance supérieure sur un substrat (12); déposer un matériau en pellicule mince (44) d'une résistance inférieure sur ledit matériau de résistance supérieure; retirer une partie dudit matériau de résistance inférieure pour former une partie d'ajustement possédant une résistance qui représente [100 (abs CTRr)/(abs CTRa + abs CTRr)] % de ladite valeur de résistance prédéterminée et un coefficient de température de la résistance appartenant à l'intervalle de +500 ppm/0C à +9 000 ppm/ C; retirer une partie dudit matériau de résistance supérieure pour former une première et une deuxième partie résis- tive, ladite première partie résistive étant connectée à ladite partie d'ajustement se trouvant au-dessus d'elle, ladite première partie résistive ayant une résistance qui représente [100 (abs CTR)/(abs CTR + abs CTR)] % de ladite valeur de rssac a a r résistance prédéterminée et un coefficient de température de la résistance appartenant à l'intervalle de -100 ppm/ C à + 100 ppm/ C, o abs CTRa est la valeur absolue du coefficient de température de ladite partie d'ajustement et abs CRT est la valeur absolue r du coefficient de température de ladite première partie résistive; mesurer le coefficient de température de rapport entre, d'une part lesdites première partie résistive et partie d'ajustement et, d'autre part, ladite deuxième partie résistive; et répéter lesdites opérations de mesure et de retrait de parties jusqu'à ce que le coefficient de température de rapport soit inférieur à 0,5 ppm/ C. 10. Procédé selon la revendication 9, caractérisé en ce que: lesdites opérations répétées de mesure et de retrait de parties sont répétées jusqu'à ce que le coefficient de tempé- rature de rapport soit au zéro absolu. 11. Procédé selon la revendication 7 ou 9, caractérisé en ce qu'il comporte les opérations suivantes: enfermer hermétiquement lesdites parties d'ajuste- ment et résistives sous un couvercle transparent vis-à-vis du rayonnement laser avant l'opération de mesure; et retirer des parties au laser sans altérer ladite fermeture hermétique après l'opération de mesure. 12. Résistance composite, caractérisée en ce qu'elle comprend: une première partie (14, 16) possédant une première résistance et un premier coefficient de température de la résis- tance; et une deuxième partie (34, 36) connectée à ladite première partie et ayant une deuxième résistance et un deuxième coefficient de température de la résistance, ladite première résis- tance ayant une valeur différente de ladite deuxième résistance et ledit deuxième coefficient de température ayant une amplitude différente dudit premier coefficient de température et étant d'un sens opposé à celui-ci, au moins une desdites parties étant configurée de manière à présenter un coefficient de température qui annule sensiblement le coefficient de température de l'autre desdites parties afin de produire un coefficient de température composite sensiblement à zéro pour ladite résistance composite. 13. Résistance composite appartenant à un système résistif doté d'une première résistance qui possède une valeur de résistance prédéterminée et un coefficient de température de la résistance prédéterminé, la résistance composite étant carac- térisée en ce qu'elle comprend: une première partie (14, 16) possédant une première résistance et un premier coefficient de température de la résis- tance; et une deuxième partie (34, 36) possédant une deuxième résistance et un deuxième coefficient de température de la résis- tance, ladite première résistance ayant une valeur sensiblement plus grande que ladite deuxième résistance et ledit deuxième coefficient de température ayant une amplitude supérieure et un sens opposé audit premier coefficient de température, au moins une desdites parties étant configurée de manière à présenter un coef- ficient de température pour ladite résistance composite qui suive le coefficient de température prédéterminé de ladite première résistance de manière qu'il soit produit un coefficient de tempé- rature de rapport sensiblement nul entre ladite première résistance et ladite résistance composite. 14. Résistance composite selon la revendication 12 ou 13, caractérisée en ce que ladite première partie possède un coefficient de température positif et ladite deuxième partie possède un coefficient de température négatif. 15. Résistance composite selon la revendication 12 ou 13, caractérisée en ce qu'elle comporte: un moyen servant à enfermer hermétiquement lesdites première et deuxième parties; et ladite deuxième partie comporte des moyens permet- tant d'ajuster le coefficient de température desdites première et deuxième parties sans altérer la fermeture hermétique. 16. Résistance composite possédant une valeur de résis- tance prédéterminée, caractérisée en ce qu'elle comprend: une première partie (14, 16) possédant une résis- tance valant au moins 50 % de Ladite valeur de résistance prédé- terminée et un coefficient de température de la résistance appar- tenant à l'intervalle de -50 ppm/ C à 0 ppm/ C; et une deuxième partie connectée à ladite première partie et possédant une résistance comprise dans l'intervalLe de 0 à 10 % de ladite valeur de résistance prédéterminée et un coefficient de température de la résistance appartenant à l'inter- valle de +500 ppm/ C à +9 000 ppm/ C, qui est configurée de façon à produire un coefficient de température composite se trouvant dans l'intervalle de -0,5 ppm/ C à +0,5 ppm/ C pour ladite résis- tance composite. 17. Résistance composite selon la revendication 16, caractérisée en ce que ladite deuxième partie est configurée de manière à produire un coefficient de température composite valant zéro. 18. Résistance composite appartenant à un réseau de résistances doté d'une première résistance qui possède un coeffi- cient de température prédéterminé, ladite résistance composite ayant une valeur de résistance prédéterminée et étant caractérisée en ce qu'elle comprend: une première partie (14, 16) ayant une résistance qui vaut au moins 50 % de ladite valeur de résistance prédéterminée et un coefficient de température de la résistance compris dans l'intervalle de -50 ppm/ C à 0 ppm/*C; et une deuxième partie (34, 36) ayant une résistance comprise dans l'intervalle de 0 à 10 % de ladite valeur de résis- tance prédéterminée et un coefficient de température de la résis- tance compris dans l'intervalle de +500 ppm/ C à +9 000 ppm/ C, qui est configurée de manière que le coefficient de température de ladite résistance composite soit adapté audit coefficient de température prédéterminé de ladite première résistance afin de produire un coefficient de température de rapport valant 0,5 ppm/ C entre ladite première résistance et ladite résistance composite. 19. Résistance composite selon la revendication 18, caractérisée en ce que ladite deuxième partie est configurée de l261140 manière à produire un coefficient de température composite qui vaut zéro. 20. Résistance composite selon la revendication 16 ou 18, caractérisée en ce qu'elle comporte: un support (12) sur lequel sont disposées les première et deuxième parties; un couvercle (48) transparent vis-à-vis du rayon- nement laser, qui est disposé au-dessus desdites parties et enferme hermétiquement lesdites parties entre ledit couvercle et ledit substrat; ladite deuxième partie comprenant une aire d'ajus- tement qui peut être usinée par laser au travers dudit couvercle de manière à permettre l'élimination d'aires de ladite deuxième partie et, ainsi,de modifier la valeur de résistance et le coeffi- cient de température de ladite résistance composite. 21. Résistance composite en pellicules minces possédant une valeur de résistance prédéterminée, caractérisée en ce qu'elle comprend: une partie de résistance en pellicules minces (42) possédant une valeur de résistance qui représente ú100 (abs CTR a)/ (abs CTRa + abs CTRr)] % de ladite valeur de résistance prédéter- minée et un coefficient de température de la résistance compris dans l'intervalle de -50 ppm/ C à O ppm/ C; et une partie d'ajustement en pellicules minces (44) connectée à ladite partie de résistance et possédant une résis- tance qui représente [100 (abs CTRr)/(abs CTRa + abs CTRr)] % de ladite valeur de résistance prédéterminée et un coefficient de température de la résistance compris dans l'intervalle de +500 ppm/ C à +9 000 ppm/ C, qui est configurée de manière à produire un coefficient de température composite pour lesdites première et deuxième parties compris dans l'intervalle de -0,5 ppm/ C à +0,5 ppm/0C, o abs CTR est la valeur absolue du coefficient a de température de ladite partie d'ajustement et abs CTRr est la valeur absolue du coefficient de température de ladite partie de résistance. K261 140 22. Résistance composite en pellicules minces selon la revendication 21, caractérisée en ce que ladite partie d'ajuste- ment en pellicules minces est configurée de façon à produire un coefficient de température composite de valeur égale au zéro absolu. 23. Résistance composite appartenant à un réseau de résistances doté d'une première résistance qui possède une pre- mière valeur de résistance prédéterminée et un coefficient de température prédéterminé, la résistance composite ayant une deuxième valeur de résistance prédéterminée et étant caractérisée en ce qu'elle comprend: une partie de résistance (42) ayant une valeur de résistance qui représente [100 (abs CTRa)/(abs CTRa + abs (CTR - CTR1))] % de ladite deuxième valeur de résistance prédéterminée et un coefficient de température compris dans l'intervalle de (CTR1 - 50) ppm/ C à CTR1; et une partie d'ajustement (44) ayant une valeur de résistance de [100 (abs (CTRr - CTR1))/(abs CTRa + abs (CTRr-CTR1))] % de ladite deuxième valeur de résistance prédéterminée et un coeffi- cient de température compris dans l'intervalle de +500 ppm/ C à +9 000 ppm/ C, qui est configurée de façon que le coefficient de température de ladite résistance composite soit adapté au coef- ficient de température prédéterminé de ladite première résistance afin de produire un coefficient de température de rapport qui n'est pas supérieur à 0,5 ppm/ C entre ladite première résistance et ladite résistance composite, o abs (CTRr - CTR1) est la valeur absolue de la différence entre le coefficient de tempéra- ture de ladite partie résistive et le coefficient de température de ladite première résistance et abs CTRa est la valeur absolue du coefficient de température de ladite partie d'ajustement. 24. Résistance composite selon la revendication 23, caractérisée en ce que ladite partie d'ajustement est configurée de manière à produire un coefficient de température de rapport qui est égal au zéro absolu entre ladite première résistance et ladite résistance composite.