Brevet FR2621711A1 — publié le 19890414

L'invention concerne un procédé pour la compensation de l'influence de paramètres de l'envi- ronnement sur les caractéristiques de reproduction d'un système servant à reproduire un modèle dans un plan d'image en utilisant un rayonnement à bande étroite, ainsi qu'un dispositif pour la mise en oeuvre du procédé. Un tel procédé de compensation est applicable principalement dans le domaine de la microlithographie. Dans une telle application, ce que l'on appelle des masques sont éclairés par un rayonnement laser et leur image est formée par un système optique sur une tranche ("wafer") de silicium. Des changements de paramètres de l'environnement, tels que des variations de la tempé- rature et de la pression atmosphérique, conduisent à une nette dégradation de la reproduction dans le cas de systèmes devant reproduire avec une grande précision des détails structurels de 0,5 - 1,0 lm. Les dispositifs de microlithographie servent à la fabrication de circuits intégrés. De tels dispo- sitifs sont utilisés généralement dans des locaux climatisés o la température est maintenue constante. On ne prévoit pas, en plus, la stabilisation de la pression atmosphérique parce que la taille du disposi- tif exigerait une chambre de pression très complexe et onéreuse, ne semblant pas justifiée économiquement. Pour cette raison, soit on arrête la production de circuits intégrés au moyen de tels dispositifs au dépassement de certaines limites de la pression atmos- phérique, soit on utilise l'une des méthodes suivantes: 1. balayage de l'objectif de reproduction et/ou de l'espace d'objet et de l'espace d'image avec des gaz et plus spécialement avec a) de l'hélium parce que son indice de réfraction varie relativement peu avec des variations de paramètres de l'environnement, ou alors avec b) un mélange de 02/N2, en ajustant le rapport de mélange pour compenser les variations de la pression atmosphérique; 2. rajustement du plan d'objet et du plan d'image, de manière que l'échelle de reproduction reste con- stante. Le balayage avec un gaz a l'inconvénient que l'étanchéité des zones parcourues par le gaz doit répondre à des exigences particulières, ce qui implique des dépenses démesurées. Le rajustement oblige à interrompre la production et entraîne de ce fait une diminution du temps de fonctionnement utile. De plus, ce réglage est seulement réalisable à l'intérieur de limites étroites car il provoque des distorsions d'image notables. Le procédé est cependant applicable aussi, avec succès, partout o des systèmes optiques de reproduction utilisement un rayonnement à bande étroite et sont exposés à des influences de l'environnement relativement fortes et dégradant notablement les caractéristiques de reproduction. Le but de l'invention est d'obtenir, dans le cas de systèmes servant à reproduire un modèle avec une grande précision dans un plan d'image, avec utilisation d'un rayonnement à bande étroite, la compensation automatique de l'influence de paramètres de l'environ- nement sur les caractéristiques de reproduction. Selon l'invention, on obtient ce résultat avec un procédé qui est caractérisé en ce qu'on déter- mine et on mémorise, pour commencer, l'influence d'au moins un paramètre de l'environnement sur les caracté- ristiques de reproduction, on mesure en continu le paramètre choisi de l'environnement pendant l'utilisa- tion du système et on transforme la valeur mesurée au moyen des valeurs mémorisées en une variable réglante et, au moyen de cette variable, on agit sur une partie du système de manière que les caractéristiques de reproduction soient maintenues constantes avec une grande précision. Selon un mode de mise en oeuvre du procédé permettant de réaliser la compensation désirée de façon particulièrement avantageuse, on mesure au moins un paramètre choisi de l'environnement et on forme à partir de la valeur mesurée une variable réglante qui corrige la longueur d'onde du rayonnement dans le système de reproduction, de manière que le modèle soit reproduit exactement sans le plan d'image. Selon un autre mode de mise en oeuvre avan- tageux du procédé, on détermine l'influence d'au moins un paramètre choisi de l'environnement sur les carac- téristiques de reproduction, on forme à partir de la valeur mesurée une valeur de consigne pour la longueur d'onde du rayonnement dans le système de reproduction et on mémorise cette valeur de consigne, on mesure en continu la longueur d'onde réelle et le paramètre de l'environnement et on forme, à partir de la comparaison entre la valeur réelle mesurée de la longueur d'onde et de la valeur de consigne mémorisée, un signal de réglage qui corrige la longueur d'onde, de manière que le modèle soit reproduit exactement dans le plan d'image. Une autre possibilité de compensation con- siste à mesurer au moins un paramètre choisi de l'en- vironnement et à former à partir de la valeur mesurée une variable réglante qui fait varier la distance entre le modèle et le plan d'image, de manière que le modèle soit reproduit exactement dans le plan d'image. Selon encore une autre possibilité de compensation, on mesure au moins un paramètre choisi de l'environnement et on forme à partir de la valeur mesurée une grandeur réglante qui rajuste la position d'un élément influençant la reproduction, de manière que le modèle soit reproduit exactement dans le plan d'image. D'autres caractéristiques et avantages de l'invention ressortiront plus clairement de la des- cription qui va suivre de plusieurs exemples de réali- sation non limitatifs, ainsi que des dessins annexes, montrant ce que l'on appelle des systèmes optiques de projection sur tranche, appelés également "wafer- stepper". Sur les dessins: - la figure 1 représente un premier exemple de réalisation, dans lequel la compensation s'effectue par la correction de la longueur d'onde du laser; - la figure 2 montre un deuxième exemple de réalisation, dans lequel la compensation s'effectue par rajustement du plan d'objet et du plan d'image; - la figure 3 montre un autre exemple de réalisation, dans lequel la compensation s'effectue par le positionnement d'un élément dans le système de reproduction; et - la figure 4 représente un exemple de réalisation o la compensation s'effectue par la régulation de la longueur d'onde du laser. Toutes les figures montrent des systèmes optiques de projection qui servent à la fabrication de circuits intégrés et reproduisent, à cet effet, des modèles, réalisés selon les besoins, sur une tranche de silicium par exemple. S'il s'agit de fabriquer des circuits dont les détails structurels ont des dimen- sions d'environ 0,5 lim, la reproduction exige l'emploi de lumière à courte longueur d'onde. Cette lumière doit avoir une largeur de bande extrêmement étroite afin que le système optique, servant à la formation de l'image du modèle sur la tranche, puisse être réalisé de manière qu'il possède les caractéristiques optiques de reproduction requises. Les caractéristiques d'un tel système optique de projection, pour la réalisation de détails structurels de 0,5 Dm, sont, par exemple, les suivantes: longueur d'onde p,35 diamètre de champ > 14,5 mm échelle de reproduction 1/5 résolution 0,5 Dom. Un rayonnement cohérent dans l'ultraviolet moyen à lointain, peut être produit à l'aide de lasers à gaz ou de lasers à colorants avec des multiplicateurs de fréquence, la préférence étant donnée aux lasers à gaz en raison de leur grande puissance de sortie et de leur rendement élevé. Les molécules de gaz les plus importantes pour la production de rayonnement ultra- violet sont des molécules de gaz rare (excimers) ou des halogénures de gaz rare (exciplexes). Un laser exciplex du type KrF a une longueur d'onde de = 248,5 nmn (ce qui correspond à une fréquence de 1,2 PHz) et une largeur de bande spectrale d'environ + 0,5 nm, laquelle est réduite par un monochromateur, dans la région du résonateur, à = 2 pm. Lorsqu'on utilise des monochro- mateurs à réseau concave avec environ 1500 L/mm et un diamètre de 40 mm, on peut atteindre une largeur de bande spectrale L de 5 pm à \ = 248,5 nm. Comme puissance moyenne, on peut produire actuellement, avec de tels lasers, 200 mJ 250 Hz = 50 W. Les objectifs pour de tels systèmes optiques de projection (wafer stepper) demandent un éclairement dans le diamètre de conductance optique d'au moins = 15 mm. Au cas o des structures d'une grandeur doivent être reproduites, on travaille avec une lon- gueur d'onde matériau utilisable serait du spath fluor par exemple. L'indice de réfraction nL de l'air, entourant le système de projection et donc également l'objectif, dépend dans une certaine mesure de la pression atmos- phérique. Même de très petites variations de l'indice de réfraction à nL ( L nL: variation de l'indice de réfraction de l'air par suite de X et de variations de la pression atmosphérique Lp) ont un effet nuisible sur les caractéristiques de reproduction de l'objectif lorsque les structures à reproduire ont une telle finesse, étant donné que le rapport des indices de réfraction nM: nL (nM = indice de réfraction du matériau constitutif des lentilles), sur lequel on s'est basé pour calculer l'objectif, est ainsi modifié. Le problème de la variabilité des caracté- ristiques de reproduction avec la pression atmosphé- rique d'objectifs pour la microlithographie, s'accentue à mesure qu'augmente la finesse des structures à reproduire. Avec une grandeur de structure de dmin = 1,0 Nm, un changement, provoqué par la variation de la pression atmosphérique, de la grandeur de l'image correspondant à VL = 0,1 iNm, est encore tolérable mais, pour dmin = 0,5 Nm, le changement de la grandeur de l'image VL doit être inférieur ou égal à 0,05 Nm. Comme mentionné au début, il n'est pas possible, ou seulement en mettant en oeuvre des moyens démesurés, de maintenir la pression atmosphérique si constante, pour les systèmes optiques de projection dont il est question ici, que la distorsion d'image VL peut être maintenue au-dessous de cette valeur limite extrêmement petite. Le procédé selon l'invention apporte ici une solution en agissant par une variable réglante adéquate sur une partie du système, de telle manière que ses caractéristiques de reproduction peuvent être maintenues constantes avec une grande précision. Autrement dit, l'influence du paramètre de l'environ- nement peut être compensée, sans que l'on soit obligé d'agir sur ce paramètre lui-même. On décrira ci-après à titre d'exemple la compensation de l'influence de la pression atmosphé- rique. Cette compensation est basé sur la constatation du fait que tous les matériaux présentent certes une dispersion, c'est-à-dire une dépendance de leur indice de réfraction n de la longueur d'onde, mais que la dispersion de l'air est beaucoup plus faible que celle de matériaux optiques. Ce fait est exploité en changeant la longueur d'onde X de la lumière pour compenser la variation de l'indice de réfraction de l'air en fonction de la pression atmosphérique. Cette compensation sera appliquée ci-après. Le calcul de l'objectif est basé sur le rapport des valeurs d'indice de réfraction nM: nL, mesuré sous conditions normales (20 C, 1013 hPa), mais ce rapport doit, en réalité, être considéré comme le rapport n M ( > nM n M +n ( \) = nM Nt L'nL+' nL (AnJ P) nL (p = pression atmosphérique) (t nM = variation de l'indice de réfraction du matériau optique sous l'effet d'une variation de longueur d'onde aA) Il en découle d'évidence que le rapport des indices de réfraction nM: nL peut être maintenu constant lorsqu'on fait en sorte que A nM (L >)/nM soit égal à à nL (4 k,itp)/nL. Etant donné que la dispersion de l'air, c'est-à-dire AnL (t L), est beaucoup plus faible que celle de matériaux optiques, on peut écrire nM ()/n M = nL ( 6 p)/nL. On voit donc qu'un rajustement de la longueur d'onde correspondant à t A permet de compenser l'influence nuisible de la pression atmosphérique sur l'indice de réfraction de l'air environnant. On peut calculer le rajustement nécessaire de la longueur d'onde à A en fonction de la variation de la pression atmosphérique A p et l'introduire en tant que valeur mémorisée dans un calculateur de variable réglante qui, en fonction de la valeur A p, calcule une grandeur pour l'ajustement de l'élément déterminant la longueur d'onde de la source lumineuse, de manière que la valeur de a Y> nécessaire à la compensation soit établie pour chaque valeur de A p. Normalement, il est plus simple de faire précéder le processus d'une opération d'étalonnage dans laquelle A Y est déterminé en fonction de A p et de mémoriser les valeurs ainsi obtenues dans le calcula- teur de la variable réglante. A cet effet, il est possible, par exemple, de déterminer le foyer longitu- dinal ou l'échelle de reproduction de l'objectif et, dans le cas d'une variation A p de la pression atmos- phérique, d'assurer la constance en corrigeant la longueur d'onde de la source lumineuse, auquel cas on obtient directement la variable réglante. L'humidité de l'air, en tant que paramètre supplémentaire de l'environnement, exerce également une influence sur l'indice de réfraction nL de l'air. Généralement, il n'est pas nécessaire de tenir compte de cette influence lorsqu'on réussit à maintenir l'humidité de l'air relative constante entre les limites d'environ + 10%. Si cela n'est pas possible ou s'il s'agit de reproduire des structures encore plus fines, il ressort de ce qui vient d'être expliqué qu'une compensation de l'influence de l'humidité de l'air est possible, par exemple, par la correction de la longueur d'onde > de la source de rayonnement. D'autres grandeurs dont il faut tenir compte et qui sont éventuellement à compenser, sont la variabilité de l'indice de réfraction nM avec la température, ainsi que les déformations en fonction de la température des montures d'objectif, de même que des surfaces réfringentes par dilatation de la matière, ainsi que la composition de l'air. Conformément au procédé selon l'invention, tous les paramètres de l'environnement ayant une influence trop grande sur les caractéristiques de reproduction d'un objectif peuvent être compensés, de manière que ces caractéristiques puissent être mainte- nues constantes avec une grande précision. Chaque compensation est réalisée de façon que le rapport des indices de réfraction nM: nL, sur lequel est basé le calcul, soit maintenu constant. La figure 1 représente schématiquement un système optique de projection sur tranche de silicium. Le milieu laser 1, par exemple un mélange de gaz rare et d'halogène, est délimité par deux fenêtres de sortie 2a, 2b. Le faisceau sortant de la fenêtre 2a pénètre dans un monochromateur 24 formé, dans ce cas particu- lier, de trois prismes dispersifs 4a, 4b et 4c et d'un réseau de réflexion 5. L'inclinaison de ce réseau peut être modifiée par une vis de réglage 8, ce qui permet de varier de façon continue la longueur d'onde du rayonnement spectral réfléchi à l'intérieur d'un intervalle désiré de longueurs d'onde. Un servomoteur 9 pour la vis de réglage 8 permet une télécommande. Le faisceau laser 7 sortant par l'autre fenêtre 2b par- vient à travers un diaphragme 3a et par un miroir de découplage 6 dans la région de l'optique de réfraction , 11 et 13. Là, le faisceau laser 7 est reproduit par une optique de dispersion 10 et une lentille de champ 11 sur un porte-objet 12 qui supporte le modèle à repro- duire. L'image du modèle sur le porte-objet 12 est reproduite par une optique de reproduction 13 - repré- sentée ici de façon schématique sous forme d'un bloc dans une monture optique 14 et d'une lentille 16, faisant partie de cette optique et qui est maintenue dans un porte-lentille 15 - sur une tranche 17 disposée sur un porte-tranche 18. Ce dernier est indexable suivant les directions x et y par un positionneur de tranche 19 connu. Des changements de paramètres de l'environ- nement, par exemple des changements de la pression atmosphérique, produisent un signal sur un appareil de mesure 20 pour paramètres de l'environnement, signal qui est envoyé par un câble de liaison 21 à un calcu- lateur de variable réglante 22 au cas o l'appareil de mesure 20 n'est pas logé avec le calculateur 20 dans un boîtier commun afin de permettre une plus grande souplesse dans l'utilisation de la place disponible. A partir des données fournies par l'appareil de mesure 20, le calculateur de valeur réglante 22 calcule la position de consigne pour le servomoteur 9 de la vis de réglage 8, position qui est transmise par un câble de liaison 23. Le miroir de déviation 37 devant le monochromateur 24 a uniquement pour but de réduire la longueur d'encombrement du laser. Sous l'effet du signal produit par le calcu- lateur 22, la vis de réglage 8 du monochromateur 24 est manoeuvrée jusqu'à ce que la variation ainsi produite de la longueur d'onde) du laser 1 ait compensé l'in- fluence nuisible du paramètre de l'environnement, mesuré par l'appareil 20, sur la qualité de reproduc- tion de l'objectif 13. Ceci garantit la reproduction parfaite sur la tranche 17 du modèle se trouvant sur le porte-objet 12, sans qu'une intervention de l'opérateur soit nécessaire. En dehors du monochromateur 24 décrit ici, on peut utiliser, bien entendu, tout autre monochromateur l1 ayant une résolution suffisamment grande. Il faut également tenir compte de la grandeur spéciale du diamètre du faisceau laser. Comme mentionné, on peut déterminer d'avance les grandeurs réglantes correspondant aux variations des paramètres de l'environnement, par une opération d'étalonnage réalisée préalablement, et les introduire dans le calculateur en tant qu'éléments de base pour les calculs; à cet égard, on peut obtenir des résultats satisfaisants tant avec des solutions utilisant du matériel adéquat, que par un logiciel. La figure 2 montre une autre possibilité de compensation, mise en oeuvre dans un autre système optique de projection illustré schématiquement. Les données de l'appareil de mesure 20 pour des paramètres de l'environnement sont, dans ce cas également, traitées dans un calculateur de variable réglante 22; ensuite, la hauteur du porte-objet 12 est changée au moyen de moteurs pas à pas 27 et le porte-tranche 18 est réglé en hauteur par des éléments de soulèvement 25 à cristaux piézoélectriques, de telle sorte que l'échelle de reproduction et la qualité de reproduction restent les mêmes. Les données pour la commande sont transmises dans cet exemple par des câbles de liaison 26, 45. Cette compensation, commandée par les para- mètres mesurés de l'environnement, permet également l'emploi automatique du système de projection pendant une longue durée. Dans l'exemple de réalisation de la figure 3, l'effet de variations de conditions environnantes sur la qualité de la reproduction est compensé par l'ajus- tement en hauteur d'une lentille 16 dans la monture 38 au moyen d'éléments de soulèvement 30 à cristaux piézoélectriques, le mouvement étant maintenu dans des tolérances étroites par un guidage latéral 31 de la lentille. Les signaux pour le réglage en hauteur sont transmis par un câble de liaison 29 depuis le calcula- teur de variable réglante 22 aux éléments de soulève- ment 30. De manière générale, il n'est pas obligatoire de varier la hauteur de la dernière lentille 16 de l'optique de reproduction 13: on peut choisir la lentille ou le groupe de lentilles convenant le mieux pour produire la compensation souhaitée. Alors que les exemples de réalisation des figures 1, 2 et 3 portent sur l'ajustement commandé des moyens pour compenser l'influence des paramètres de l'environnement, le procédé selon l'invention permet également de réaliser une régulation. La figure 4 en montre un exemple. L'appareil de mesure 20 sert à mesurer un paramètre de l'environnement et envoie les signaux correspondants par un câble 21 au calculateur 22 de la variable réglante. Une partie du rayonnement laser 7 est reproduite, à la suite du miroir de décou- plage 7 et au moyen d'un séparateur de faisceau 36, sur un spectromètre 33. A cet effet, le faisceau laser découplé 7a est focalisé par une lentille 32 sur la fente d'entrée 43 du spectromètre 33. Après la produc- tion d'un rayonnement parallèle au moyen d'une lentille , le rayonnement est décomposé par les prismes 41a et 42b et est reproduit au moyen d'un miroir 28 et d'une lentille 42 sur une ligne de diodes 34 qui délivre la longueur d'onde directement en tant que signal au calculateur de variable réglante 22 par le câble de liaison 35. Le calculateur 22 produit un signal de correction à partir de l'écart par rapport à la valeur de consigne. Ce signal est transmis par le câble de liaison 23 au servomoteur 9 de la vis de réglage 8. Bien entendu, on peut prévoir aussi l'ajustement du plan d'objet et du plan d'image, ou un réglage en hauteur d'une ou de plusieurs lentilles de l'objectif 13 en tant qu'opération de correction, comme décrit en référence aux figures 2 et 3. Le type de spectromètre 33 employé dépend de la résolution demandée; le spectromètre représenté ici n'est donc pas limitatif. Le séparateur de faisceau 36 peut, suivant les conditions de l'application, rester en permanence dans la marche du faisceau ou en être écarté par rabattement ou par coulissement pour l'ir- radiation afin de ne pas réduire l'intensité de rayon- nement maximale. Le spectromètre 33 représenté sur la figure 4 est un spectromètre à prismes dont les prismes sont réalisés du même matériau que les lentilles de l'ob- jectif 13, 16. La longueur d'onde du laser 1 doit alors être rajustée de manière que le rayonnement tombe toujours au même endroit sur la ligne ou barrette de diodes. Dans les différents exemples de réalisation, il est seulement question chaque fois d'une compensa- tion de l'effet produit par un seul paramètre de l'environnement. Il est cependant possible aussi de prévoir plusieurs systèmes de compensation afin de tenir compte simultanément de plusieurs paramètres de l'environnement. Il convient que, en pareil cas, les systèmes de compensation agissent sur différents éléments d'ajustement, comme décrit en référence aux figures 1 à 3, mais il est possible aussi que l'action des systèmes de compensation soit limitée à l'élément d'ajustement convenant le mieux. REVENDICATIONS I. Procédé pour compenser l'influence de para- mètres de l'environnement sur les caractéristiques de reproduction d'un système qui sert à reproduire un modèle dans un plan d'image, en utilisant un rayonne- ment à bande étroite, caractérisé en ce qu'on détermine et on mémorise, pour commencer, l'influence d'au moins un paramètre de l'environnement sur les caractéris- tiques de reproduction, on mesure en continu le para- mètre choisi de l'environnement pendant l'utilisation du système et on transforme la valeur mesurée au moyen des valeurs mémorisées en une variable réglante et, au moyen de cette variable, on agit sur une partie du système de manière que les caractéristiques de repro- duction soient maintenues constantes avec une grande précision. 2. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que l'on compense l'influence de la variation de la pression atmosphérique. 3. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que l'on compense l'influence de la variation de la température environnante. 4. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que l'on compense l'influence de la variation de l'humidité de l'air environnant. 5. Procédé selon la revendication 1 et une des revendications 2 à 4, caractérisé en ce qu'on mesure au moins un paramètre choisi de l'environnement et on forme à partir de la valeur mesurée une variable réglante qui corrige la longueur d'onde du rayonnement dans le système de reproduction, de manière que le modèle soit reproduit exactement dans le plan d'image. 6. Procédé selon la revendication 1 et une des revendications 2 à 4, caractérisé en ce qu'on détermine l'influence d'au moins un paramètre choisi de l'envi- ronnement sur les caractéristiques de reproduction, on !5 forme à partir de la valeur mesurée une valeur de consigne pour la longueur d'onde du rayonnement dans le système de reproduction et on mémorise cette valeur de consigne, on mesure en continu la longueur d'onde réelle et le paramètre de l'environnement et on forme, à partir de la comparaison entre la valeur réelle mesurée de la longueur d'onde et de la valeur de consigne mémorisée, un signal de réglage qui corrige la longueur d'onde, de manière que le modèle soit repro- duit exactement dans le plan d'image. 7. Procédé selon la revendication 1 et une des revendications 2 à 4, caractérisé en ce qu'on mesure au moins un paramètre choisi de l'environnement et on forme à partir de la valeur mesurée une variable réglante qui fait varier la distance entre le modèle et le plan d'image, de manière que le modèle soit repro- duit exactement dans le plan d'image. 8. Procédé selon la revendication 1 et une des revendications 2 à 4, caractérisé en ce qu'on mesure au moins un paramètre choisi de l'environnement et on forme à partir de la valeur mesurée une grandeur réglante qui rajuste la position d'un élément in- fluençant le reproduction, de manière que le modèle soit reproduit exactement dans le plan d'image. 9. Dispositif pour la mise en oeuvre du procédé selon la revendication 1 et une ou plusieurs des revendications 2 à 6, comprenant un laser (1) en tant que source de rayonnement, un modèle (12) éclairé par le rayonnement laser (7) et un système (13) pour la reproduction de ce modèle sur la surface d'une pièce (17), caractérisé en ce qu'un monochromateur réglable (24) est disposé dans l'espace à résonateur du laser (1), qu'un appareil de mesure (20) est prévu pour mesurer au moins un paramètre de l'environnement, appareil dont les signaux sont envoyés à un calculateur de variable réglante (22), et que la sortie de ce calculateur (22) est connectée à un servomoteur (9) pour le mouvement d'ajustement de l'élément (5) du monochromateur (24) déterminant la longueur d'onde du laser. 10. Dispositif selon la revendication 9 pour la mise en oeuvre du procédé selon la revendication 6, caractérisé en ce qu'un élément de déviation (36) est prévu dans la trajectoire (7) du laser (1) pour la déviation d'une partie prédéterminée du rayonnement dans un spectromètre (33), lequel contient un généra- teur de signal (34) pour produire un signal propor- tionnel à la valeur réelle de la longueur d'onde du laser, générateur de signal qui est connecté à une entrée d'un calculateur de variable réglante (22). 11. Dispositif selon la revendication 10 comprenant un système de reproduction constitué d'élé- ments du même matériau, caractérisé en ce que le spectromètre (33) est un spectromètre à prismes qui contient des prismes (41a, 41b) du même matériau que le système de reproduction (13).