Brevet FR2586851A1 — publié le 19870306

PROCEDE DE REALISATION D'UNE TETE MAGNETIQUE HORIZONTALE ENTERREE ET TETE MAGNETIQUE OBTENUE PAR CE PROCEDE La présente invention a pour objet un procé- dé de réalisation d'une tête magnétique horizontale enterrée et une tête magnétique obtenue par ce procé- dé. L'invention trouve des applications dans les équi- pements d'enregistrement magnétique tels que les mé- moires d'ordinateur et les matériels audio et vidéo. Le procédé objet de La présente invention permet d'obtenir des têtes du type couches minces à structure horizontale pour l'écriture et La lecture d'informations sur un support magnétique. Au moins deux types de têtes magnétiques peuvent être obtenus à partir de ce procédé: - un premier type correspondant aux têtes magnétiques dites "à entrefer", plus spécialement adaptées à l'enregistrement. longitudinal, un second type correspondant aux têtes dites "à pièce polaire principale", plus spécialement adaptées à l'enregistrement perpendiculaire. Des têtes magnétiques à structure horizon- tale de chacun de ces deux types ont déjà été décrites par le passé, notamment: - dans le brevet européen ne 85/400.136.9 décrivant un procédé de réalisation d'une tête magné- tique à entrefer pour enregistrement longitudinal, - dans le brevet européen n 85/400.135.1 décrivant un procédé de fabrication d'une tête magné- tique pour enregistrement perpendiculaire. Dans ces deux procédés, Là réalisation de la tête magnétique commence avec le dépôt d'une couche magnétique sur un substrat. Cette couche magnétique est localement gravée pour y former un sillon (ou tranchée) dans lequel est réalisé un bobinage conduc- teur; ensuite, ce bobinage est isolé par dépôt d'une couche de matériau isolant. Suivant le type de tête recherché, sont alors réalisées un certain nombre d'opérations permet- tant d'arriver au dispositif à enregistrement Longitu- dinal ou à enregistrement perpendiculaire, selon Le cas. Ces procédés de fabrication connus présen- tent au moins deux inconvénients. Tout d'abord la gravure de la couche magnétique pour la formation du sillon, est partielle, c'est-à-dire qu'elle n'affecte pas l'épaisseur du matériau dans sa totalité. Il faut donc imaginer, quel que soit le mode de gravure, un moyen pour contrôler efficacement la profondeur du sillon durant l'opération de gravure, ce qui peut s'avérer très difficile compte tenu des dimensions du dispositif (quelques micromètres). Une seconde difficulté dans les procédés de l'art antérieur réside dans le fait que la structure finale se trouve "en relief" par rapport au support, ce qui nécessite une étape ultérieure de pLanarisation pour satisfaire les conditions nécessaires au "vol" des têtes. La présente invention remédie à ces deux inconvénients en remplaçant la gravure de la couche magnétique par une gravure préalable du support suivie d'un dépôt dans la partie gravée. Avec l'invention, il est possible de réali- ser des dispositifs entièrement "enterrés" dans leur support et dont seule la partie utile (pièces polai- res) vient affleurer le "plan de vol" pour assurer Le fonctionnement. D'autres caractéristiques et avantages de l'invention ressortiront de la description qui va sui- vre, donnée à titre illustratif mais nullement limita- tif, en référence aux dessins annexés, sur Lesquels - Les figures la et lb montrent en coupe deux variantes de caisson réalisé dans un substrat, Les figures 2a et 2b montrent ces mêmes caissons en vue de dessus, - les figures 3e et 3b montrent, en coupe, la structure obtenue après dépôt d'une couche magnéti- que, - les figures 4a, 4b montrent le dispositif après réaLisation du bobinage conducteur, - les figures 5a, 5b, 5c montrent une tête d'écriture pour enregistrement horizontal (5a) et ver- tical (Sb, 5c), - les figures 6a et 6b représentent en coupe Le dispositif final en cours d'écriture et de lecture. Sur Les figures la et lb, le support 10 (ou substrat) peut être soit une céramique, soit un diélectrique, soit une plaquette de silicium du type de celles qui sont utilisées dans la technologie des circuits intégrés semiconducteurs. Le support 10 est gravé pour donner naissance à un caisson 12 en forme de "8" (figuresla et 20) ou de "D'0" (figureslb et 2b) , suivant Le type de structure recherché. Cette gravure peut être réalisée de différentes manières suivant La nature du support. Il peut s'agir de gravure chimique, de gravure ionique réactive, d'usinage ionique, voire même d'usinage au laser. Les deux premières techniques semblent plus attractives par te fait qu'elles permet- tent de contrôler et de faire varier la pente du flanc de gravure 11. Une pente douce peut être utile pour assurer une meiLLeure continuité de la couche magnéti- que déposée par la suite. Les bossages laissés à L'in- térieur des caissons peuvent éventuellement être ajus- tés en hauteur (h) afin-de parfaire l'enfouissement du dispositif. La profondeur du caisson est comprise entre 2 et 10 pm environ. Les figures 2a et 2b montrent Les caissons en vue de dessus. Dans Le premier cas, le caisson est ovale et comprend deux bossages 13' et 13" symétriques qui subsistent au voisinage des deux extrémités. Dans Le second cas Le caisson présente une forme circulaire avec un seul bossage 13 au centre. Les figures 3a et 3b montrent les allures possibles de la première couche de matériau magnétique 14 après dépôt puis gravure. Suivant La nature du support, une couche de diéLectrique isolant 15 peut éventuellement avoir été déposée préaLabLement. On dépose ensuite sur La couche de matériau magnétique une couche diélectrique isolante 16. On forme ensuite un bobinage conducteur autour des bossa- ges. Pour ceLa, et comme décrit dans Les deux docu- ments cités plus haut, on dépose un isolant dans la tranchée, on grave cet isolant sous forme de sillons et on dépose au fond de ces sillons et sur l'isolant qui subsiste une couche métallique. On obtient ainsi un double enroulement aux contours complémentaires. C'est ce qui est représenté sur Les figures 4a et 4b o le bobinage conducteur porte La référence 18. Un isolant 20 de type silice ou résine poLy- mérisée viendra ensuite combler Les parties en creux. Suivant Le type de tête recherché, se succè- dent alors diverses étapes déjà connues de l'homme de l'art pour aboutir aux dispositifs des figures 5a et b. Sur la première on retrouve une structure horizon- tale à entrefer 22, cet entrefer étant constitué par un espaceur amagnétique inséré dans une seconde couche magnétique 23; une teLle tête conduit à un enregis- trement longitudinal. En figure 5b est représentée une tête à pièce polaire principale 24 en contact avec la couche magnétique 14 au niveau du bossage central 13; une telle tête conduit à un enregistrement perpendicu- laire. La figure 5c représente une variante de tête à enregistrement perpendiculaire dans laquelle une couche magnétique 26 facilite La fermeture des lignes de flux magnétique, en abaissant la réluctance du dis- positif. Ceci se traduit par un accroissement des performances de ce type de tête. Dans tous les cas la couche 28 est une couche isolante de protection. Elle définit le plan de vol 29 de la tête. Les figures 6a et 6b représentent les dispo- sitif obtenus finalement en situation de lecture ou d'écriture. Les flèches symbolisent la circulation des lignes de flux magnétique à l'écriture sur un support magnétique 30 en déplacement relatif par rapport au plan de vol 29. REVENDICATIONS 1. Procédé de réalisation d'une tête magné- tique à structure horizontale pour un enregistrement vertical ou horizontal, procédé dans LequeL, dans une tranchée formée par une couche magnétique (14) déposée sur un substrat (10), on dépose un bobinage conducteur (18), puis on isole ce bobinage par une couche isolan- te (20) et on dépose sur l'ensemble soit une pièce polaire verticale (24) reliée à la couche magnétique (14) dans le cas d'un enregistrement de type vertical, soit un espaceur amagnétique (22) dans une seconde couche magnétique (23) dans le cas d'un enregistrement de type horizontal, ce procédé étant caractérisé par le fait que, pour obtenir La couche magnétique présen- tant la forme de tranchée on part d'un support isolant (10), on grave ce support pour lui donner une forme de caisson (12) avec un ou des bossages (13, 13', 13") à l'intérieur, et on dépose une couche de matériau ma- gnétique (14) dans le fond de ce caisson et sur les bossages, la structure finale obtenue étant ainsi en- terrée dans le substrat (10). 2. Procédé selon la revendication 1, carac- térisé par Le fait que le caisson (12) présente une forme aLLongée avec deux bossages symétriques (13', 13") au voisinage de ses deux extrémités. 3. Procédé selon la revendication 1, carac- térisé par le fait que Le caisson (12) présente une forme circulaire avec un bossage (13) au centre. 4. Procédé selon la revendication 1, carac- térisé par le fait que les bords (11) du caisson (12) et des bossages (13, 13', 13") sont inclinés par rap- port à la verticale. 5. Procédé selon la revendication 1, carac- térisé par le fait que les bossages (13, 13', 13") ont une hauteur inférieure à la profondeur du caisson, cette hauteur étant ajustée pour permettre un enfouis- sement approprié des couches déposées uLtérieuremnt. 6. Procédé seLton la revendication 1, carac- térisé par le fait que L'on dépose une couche de matériau électriquement isoLant (15) sur la paroi du caisson (12) préalablement au dépôt de La couche ma- gnétique (14). 7. Tête magnétique à structure horizontale obtenue par Le procédé de la revendication 1, cette tête étant destinée à un enregistreent de type verti- cal ou horizontal et comprenant un substrat (10) avec une couche magnétique présentant la forme d'une tran- chée, un bobinage conducteur (18) déposé dans La tran- chée, soit une piece potaire verticale (24) dans une couche amagnétique (28), dans Le cas d'un enregistre- ment de type verticaL, soit un espaceur amagnétique (22) dans une seconde couche magnétique (23) dans te cas d'un enregistrement horizontal, cette tête étant caractérisée par Le fait que le substrat (10) est creusé sous forme de caisson (12) avec un ou des bos- sages (13, 13', 13") et que La couche magnétique (14) est déposée au fond de ce caisson (12) et sur Les bossages (13, 13', 13!) - 8. Tête magnétique seLon la revendication 7, caractérisée par le fait que le caisson (12) a une profondeur comprise entre 2 et 10 pm.