Brevet FR2583573A1 — publié le 19861219

I PROCEDE DE REALISATION D'UN DISPOSITIF SEMI-CONDUCTEUR A PLUSIEURS NIVEAUX DE GRILLES La présente invention concerne un procédé de réalisation d'un dispositif semi-conducteur à plusieurs niveaux de grilles. L'invention peut être utilisée en particulier pour réaliser des dispositifs à transfert de charge et dans la description suivante, on évoquera de préférence ce domaine. L'invention peut cependant être utilisée pour réaliser tout dispositif semi-conducteur comportant plusieurs niveaux de grilles, tel que par exemple une zone photosensible constituée de transistors MOS. On rappelle qu'il est dusage courant dans ce domaine de désigner par rl'expression "plusieurs niveaux de grilles", des grilles coplanaires mais qui ne sont pas réalisées simultanément. Ainsi, il est possible de traiter différemment le substrat semi-conducteur situé sous ces différentes grilles. Par exemple, dans le cas des dispositifs à transfert de charge, pour réaliser un dispositif avec deux niveaux de grilles, dans lequel la dissymé- trie dans les potentiels de canal nécessaire pour rendre unilatéral le transfert est réalisée par implantation ionique, il faut doper le substrat situé sous les grilles du premier niveau, réaliser ces grilles puis doper le substrat situé sous les grilles du second niveau et réaliser ces grilles. On connaît dans Part antérieur des dispositifs à transfert de charge, à plusieurs niveaux de grilles, avec dissymétrie par implantation ionique. L'inconvénient des technologies actuelles courantes est qu'elles conduisent à des dispositifs dans lesquels il y a un recouvrement relative- ment important des grilles du niveau technologique supérieur sur celles du niveau sous-jacent. Ce recouvrement introduit un couplage capacitif non négligeable entre grilles, qui perturbe le fonctionnement du dispositif. De plus, ce couplage peut être différent d'un dispositif à l'autre ce qui est gênant en particulier dans les dispositifs à structure biphasée o l'on relie deux électrodes de deux niveaux différents. Les capacités parasites n'étant pas identiques, les divers couples d'électrodes présentent des temps d'accès différents et peuvent nécessiter des signaux d'horloge adaptés selon les dispositifs. De plus, ce recouvrement introduit un relief qui est gênant si l'on cherche à obtenir une intégration maximum. La présente invention concerne un procédé de réalisation d'un dispositif semi-conducteur à n niveaux de grilles, caractérisé en ce qu'il comporte les étapes suivantes: - 1 ) on dépose sur un substrat semi-conducteur, une couche de diélectrique, puis une couche de matériau dans lequel doivent être réalisées les grilles du premier niveau et une couche de diélectrique; - 2 ) on réalise par gravure des deux couches supérieures les grilles du premier niveau; - 3 ) on isole les flancs des grilles du premier niveau; - 40) on dépose une deuxième couche de matériau dans lequel doivent être réalisées les grilles du second niveau; - 5 ) on réalise dans cette deuxième couche une ouverture permettant d'accéder à la couche du diélectrique recouvrant le dessus des grilles du premier niveau; - 6 ) on dépose une couche mince de diélectrique sur les grilles du second niveau. - 7 ) on dépose une troisième couche de matériau dans lequel doivent être réalisées les grilles du troisième niveau; - 8 ) on grave les grilles du troisième niveau; - 9 ) et ainsi de suite, on dépose une couche mince de diélectrique sur les grilles du dernier niveau déposé, puis on dépose une nouvelle couche de matériau dans lequel doivent être réalisées les grilles du niveau supérieur et on grave ces grilles; - 10 ) une fois toutes les grilles gravées, on supprime les zones accessibles des couches minces de diélectrique (8) recouvrant les grilles, à partir des grilles du deuxième niveau (G2); - 11 ) puis, on supprime par gravure plasma ou par gravure chimique les zones des deuxièmes grilles qui surplombent les grilles du 83573 premier niveau en les attaquant simultanément par leurs faces interne et externe. La présente invention concerne également un procédé de réalisa- tion d'un dispositif semi-conducteur à n niveaux de grilles, caractérisé en ce qu'il comporte les étapes suivantes: - 1 ) on dépose sur un substrat semi-conducteur une couche de diélectrique, puis une couche de matériau dans lequel doivent être réalisées les grilles du premier niveau et une couche de diélectrique; - 2 ) on réalise par gravure des deux couches supérieures les grilles du premier niveau; - 3 ) on isole les flancs des grilles du premier niveau - 4 ) on dépose une deuxième couche de matériau dans lequel doivent être réalisées les grilles du second niveau; - 50) on dépose une couche d'oxyde épais sur les grilles du second niveau; - 6 ) on grave les grilles du second niveau en réalisant dans ces grilles une ouverture permettant cd'accéder à la couche de diélectrique recouvrant le dessus des grilles du premier niveau; - 7 ) on fait croître une couche mince d'oxyde sur les parois des grilles du second niveau qui ont été découvertes lors de la gravure de ces grilles - 8 ) on dépose une troisième couche de matériau dans lequel doivent être réalisées les grilles du troisième niveau; - 9 ) on dépose une couche doxyde épais sur les grilles du troisième niveau; - 10 ) on grave les grilles du troisième niveau; - 11 ) on fait croître une couche mince d'oxyde sur les parois des grilles du troisième niveau qui ont été découvertes lors de la gravure de ces grilles; - 12 ) et ainsi de suite, on dépose une couche d'oxyde épais sur les grilles du dernier niveau déposé, puis on grave ces grilles, on fait croître une couche mince d'oxyde sur les parois des grilles du dernier niveau qui ont été découvertes lors de la gravure de ces grilles, et on dépose une 83573 nouvelle couche de matériau dans lequel doivent être réalisées les grilles du niveau supérieur; - 13 ) une fois toutes les grilles gravées, on supprime les couches d'oxyde épais qui recouvrent ces grilles; - 14 ) on supprime par gravure plasma ou par gravure chimiques les zones des grilles qui surplombent les grilles d'un autre niveau en les attaquant simultanément par leurs faces interne et externe. Le procédé selon l'invention présente ravantage de ne recourir qu'à des technologies standards. De plus, il peut être appliqué quel que soit le relief du substrat utilisé, et en particulier qu'il soit planarisé ou non. Le procédé selon l'invention permet la réalisation d'un dispositif semiconducteur à plusieurs niveaux de grilles, tel que par exemple celui représenté sur la figure 8, qui présente les avantages suivants: - le recouvrement entre les grilles des divers niveaux est constant et limité à la pente des côtés des grilles du niveau inférieur. Ce recouvrement est donc uniquement latéral et introduit des capacités parasites de bien plus faibles valeurs que celles existant dans les disposi- tifs de rart antérieur. Ainsi, par exemple, on obtient un recouvrement latéral de 0,35 /um alors que dans Part antérieur le recouvrement est couramment de 1,5 /um; - refficacité de transfert est maximum; - enfin, le dispositif est planarisé comme on le voit sur la figure 8. On connaît une technologie récente qui permet d'aboutir à une structure voisine de celle de la figure 8. Cette technologie, couramment appelée "RIE, reaction etching" s'appuie sur une technique de gravure. Sa mise en oeuvre est délicate et elle donne des résultats pas toujours très satisfaisants. De plus, il est nécessaire que le substrat sur lequel sont réalisées les grilles soit planarisé. Le procédé selon rinvention présente donc par rapport à la technologie "RIE" des avantages de simplicité, d'efficacité et aussi l'avantage de pouvoir être utilisé sur un substrat planarisé ou non. D'autres objets, caractéristiques et résultats de rinvention ressor- tiront de la description suivante, donnée à titre cd'exemple non limitatif et illustrée par les figures annexées qui représentent: 83573 - les figures I à 8, différentes étapes du procédé selon l'invention dans le cas de la réalisation d'un dispositif semi-conducteur à deux niveaux de grilles; - les figures 9 et 10, des étapes complémentaires dans le cas de la réalisation d'un dispositif semi-conducteur à trois niveaux de grilles. Sur les différentes figures, les mêmes repères désignent les mêmes éléments, mais, pour des raisons de clarté, les cotes et proportions des divers éléments ne sont pas respectées. Les figures I à 8 représentent différentes étapes du procédé selon l'invention, dans le cas de la réalisation cd'un dispositif semiconducteur à deux niveaux de grilles, o le premier niveau est réalisé sur une couche de diélectrique. Sur la figure 1, on a représenté le substrat semi-conducteur 1, recouvert d'une couche de diélectrique 2, puis d'une couche de matériau 3 dans lequel doivent être réalisées les grilles du premier niveau et d'une autre couche de diélectrique 4. Le substrat semi-conducteur 1 peut être en silicium mono- cristallin. Il peut aussi s'agir de la couche de silicium d'une structure SOS, ou de tout autre semi-conducteur. La couche de diélectrique 2 peut être constituée dune ou plu- sieurs couches de diélectriques. Par exemple, cette couche peut être constituée de silice ou de nitrure ou de silice recouverte de nitrure... La couche de matériau 3 dans lequel doivent être réalisées les grilles du premier niveau peut être en silicium polycristallin ou en silicium polycristallin recouvert de siliciure, par exemple. Si le dispositif à réaliser n'est pas un dispositif à transfert de charge cette couche 3 peut être métallique, en aluminium par exemple. La couche de diélectrique 4 est par exemple une couche doxyde, de la silice par exemple. Cette couche doxyde peut être obtenue par croissance doxyde ou par dépôt, pyrolytique par exemple. Lorsque la couche 3 est métallique, on réalise un dépôt Pd'oxyde 4 à basse température, par exemple un dépôt pyrolytique ou un dépôt par plasma. Sur la figure 2, on montre que par photo-lithogravure on grave les couches 3 et 4. 83573 L'inclinaison des flancs des grilles du premier niveau ainsi obte- nues déterminera le recouvrement final entre grilles du premier et du second niveau. L'étape illustrée par la figure 3 consiste à isoler les flancs des grilles du premier niveau réalisées. Cela peut se faire par exemple par croissance d'oxyde 5 comme cela est représenté sur la figure 3. Cela peut aussi se faire par exemple par dépôt cd'une couche d'oxyde, par voie pyrolytique par exemple. Sur la figure 4, on montre qu'on dépose une autre couche 6 de matériau dans lequel doivent être réalisées les grilles du second niveau. Cette couche peut être différente de celle utilisée pour réaliser les grilles du premier niveau. Sur la figure 5, on montre qu'on réalise dans cette couche 6 une ouverture 7 permettant d'accéder à la couche d'oxyde 4 recouvrant le dessus des grilles du premier niveau. Cette ouverture peut être par exemple réalisée par photo-gravure ou par gravure chimique selon la nature de la couche 6. Il n'est pas nécessaire que les ouvertures 7 soient très bien centrées par rapport aux grilles du premier niveau, car le positionnement de cette ouverture ne conditionne pas l'uniformité du recouvrement entre grilles des divers niveaux. Comme on va le voir dans la description des figures suivantes, cette ouverture a pour rôle de permettre laccès à la couche 4 pour la supprimer et de permettre rattaque par ses deux faces de la couche 6. Le positionnement de l'ouverture 7 n'est donc pas critique. Sur la figure 6, on retire la couche 4 de façon à mettre à nu le dessus de la grille 3. Lorsque la couche 4 est constituée cdun oxyde, on peut la supprimer par attaque chimique avec de racide fluorhydrique par exemple. La vitesse de cette attaque peut être très bien contrôlée ce qui permet de conserver les couches d'oxyde 5 qui assureront risolement entre grilles des divers niveaux. L'étape suivante du procédé consiste à supprimer les parties de la couche 6 qui surplombent les grilles 3 du premier niveau. 83573 Cette étape peut se faire: - soit par gravure plasma; - soit par gravure chimique. Si l'on choisit de procéder par gravure plasma, on utilise un gaz qui attaque la couche 6 en silicium polycristallin par exemple. On détermine le temps d'action du gaz de façon à ce qu'il agisse sensiblement sur la moitié de répaisseur de la couche 6. Comme la couche 6 est soumise par ses deux faces à l'action de ce gaz dans ses parties surplombant la couche 3, on arrive ainsi à la supprimer totalement dans ces parties et à en supprimer environ la moitié dans ses parties horizonta- les. Le résultat de la gravure par plasma est représenté sur la figure 8. La partie des grilles du deuxième niveau 6 qui surplombe les grilles du premier niveau est supprimée. Les grilles du premier et du deuxième niveau, 3 et 6, ont leur épaisseur réduite sensiblement de moitié par rapport à l'étape de la figure 6. Le recouvrement entre les grilles du premier et du deuxième niveau, que ron appelle aussi G1 et G2, est donc limité à l'inclinaison du pourtour des grilles G1 qui dépend de la gravure illustrée par la figure 2. Les deux niveaux de grilles sont isolés par la couche 5 dont l'Pépaisseur dépend de l'étape illustrée par la figure 3. On constate que le dispositif obtenu sur la figure 8 est parfaite- ment planarisé. On n'a pas représenté sur les figures I à 8 les opérations d'implantation ionique nécessaires pour réaliser un dispositif à transfert de charge et qui sont indépendantes du procédé de réalisation de plusieurs niveaux de grilles. Sur la figure 7, on a illustré comment on peut supprimer les zones de la couche 6 qui surplombent les grilles du premier niveau par gravure chimique. Lorsque la grille 6 est en silicium polycristallin, cette gravure chimique est réalisée après oxydation de la grille. On règle la durée de l'oxydation pour que la moitié de l'épaisseur de la grille 6 soit oxydée. 83573 Sur la figure 7, on a symbolisé par des hachures l'oxydation d'environ la moitié de répaisseur des grilles 3, des parties planes des grilles 6 et de la totalité des parties en surplomb des grilles 6, puisque ces parties sont oxydées par leurs faces interne et externe simultanément. Une désoxydation permet de supprimer les zones hachurées et d'obtenir la structure représentée sur la figure 8. Lorsque les grilles 6 sont métalliques, on utilise une gravure chimique qui n'implique pas nécessairement une étape d'oxydation préala- ble. Il est possible de protéger les grilles G1 du premier niveau des étapes représentées sur les figures 6 à 8 en interposant une couche protectrice contre la gravure par plasma ou la gravure chimique entre chaque grille G1 et la couche 4. On peut utiliser par exemple une couche de nitrure de silicium Si3N4. Les figures 9 et 10 illustrent les étapes qui doivent être ajoutées dans le cas de la réalisation d'un dispositif semi-conducteur à trois niveaux de grilles. Les figures 9 et 10 illustrent deux variantes du procédé selon rinvention dans le cas de trois niveaux de grilles. Il s'agit à titre d'exemple comme dans le cas des figures I à 8 cd'un dispositif dans lequel la dissymétrie dans les potentiels de canal est réalisée par implantation ionique. Les opérations d'implantation ionique n'ont pas été représentées. Il faut d'abord reprendre le procédé tel qu'il a été décrit précé- demment. Ensuite, on dépose une couche de diélectrique sur les grilles G2 du second niveau afin de les protéger lors de la gravure des grilles du troisième niveau. Sur la figure 9, on dépose une couche mince de diélectrique 8 sur les grilles G2 après que ces grilles aient été gravées. La couche 8 recouvre donc la totalité des parois de ces grilles. Cette couche mince 8 peut être par exemple une couche de nitrure ou d'oxyde. Sur la figure 10, une couche de diélectrique 9 est déposée sur les grilles G2 avant la gravure de ces grilles et gravée en même temps qu'elles. 83573 Il s'agit crd'une couche d'oxyde épais dont l'épaisseur est du même ordre de grandeur que celle de la couche 4. Cet oxyde épais peut être obtenu par dépôt plasma, par voie pyrolytique ou par croissance doxyde. Pour protéger les parois des grilles G2 qui ont été découvertes lors de leur gravure, on fait croître une couche mince d'oxyde 10 sur ces parois sensiblement verticales. On dépose ensuite dans les modes de réalisation des figures 9 et une troisième couche de matériau Il dans lequel doivent être réalisées les grilles G3 du troisième niveau. On grave cette couche 11. Sur les figures 9 et 10, on a représenté par des pointillés les zones de la couche 11 qui ont été éliminées au cours de cette gravure. Lorsque la gravure est terminée, on supprime la couche de diélectrique 8 ou 1 1 selon les figures 9 et 10 qui protège les grilles G2. Dans le mode de réalisation de la figure 9, on supprime la couche mince de diélectrique 8 qui recouvre les grilles G2 partout sauf dans les zones o les grilles G2 et G3 sont superposées et o cette couche est indispensable pour isoler les grilles G2 et G3. On ne sait pas dans le cas de la figure 9 minimiser le recouvrement entre les grilles G3 et G2. Ainsi sur la partie droite de la figure 9, il n'est pas possible de minimiser le recouvrement entre les grilles G2 et G3 car l'intervalle entre ces grilles o se trouvait la couche mince du diélectrique 8 est très faible, de l'ordre de 1000 à 2000 9, et ne permet pas la gravure des grilles G3 par leur face interne. Par contre dans la variante de la figure 10, on sait supprimer en même temps les couches fd'oxyde épais 4 et 9, sans altérer les couches d'oxyde mince 5 et 10. Il est donc possible d'éliminer les tronçons de grille G3 surplom- bant les grilles G2 comme cela a été expliqué dans la description des figures I à 5. La variante de la figure 10 permet donc de minimiser les recouvrement entre les grilles des trois niveaux G1, G2 et G3. Le procédé selon l'invention dans les deux modes de réalisation 83573 décrits en se référant aux figures 9 et 10 est utilisable pour réaliser un dispositif semi-conducteur à n niveaux de grilles. Dans le cas du mode de réalisation de la figure 9, pour obtenir n niveaux de grilles, après les étapes illustrées par les figures I à 5, viennent les étapes suivantes: - on dépose une couche mince de diélectrique 8 sur les grilles du second niveau G2; - on dépose une troisième couche de matériau Il dans lequel doivent être réalisées les grilles du troisième niveau G3; - on grave les grilles du troisième niveau; - et ainsi de suite on dépose une couche mince de diélectrique sur les grilles du dernier niveau déposé, puis on dépose une nouvelle couche de matériau dans lequel doivent être réalisées les grilles du niveau supérieur et on grave ces grilles; - une fois toutes les grilles gravées, on supprime les zones accessibles des couches minces de diélectrique 8 recouvrant les grilles, à partir des grilles du deuxième niveau G2; - puis, on supprime par gravure plasma ou par gravure chimique les zones des deuxièmes grilles 6, G2 qui surplombent les grilles 3 du premier niveau en les attaquant simultanément par leurs faces interne et externe. Dans le cas du mode de réalisation de la figure 10 pour obtenir n niveaux de grilles, après les étapes illustrées par les figures I à 4, viennent les étapes suivantes: - on dépose une couche d'oxyde épais 9 sur les grilles du second niveau G2; on grave les grilles du second niveau G2 en réalisant dans ces grilles une ouverture 7 permettant d'accéder à la couche de diélectrique 4 recouvrant le dessus des grilles 3 du premier niveau; - on fait croître une couche mince cd'oxyde sur les parois des grilles du second niveau G2 qui ont été découvertes lors de la gravure de ces grilles; - on dépose une troisième couche de matériau Il dans lequel doivent être réalisées les grilles du troisième niveau G3; 83573 - on dépose une couche d'oxyde épais sur les grilles du troisième niveau G3; - on grave les grilles du troisième niveau - on fait croître une couche mince d'oxyde sur les parois des grilles du troisième niveau qui ont été découvertes lors de la gravure de ces grilles; - et ainsi de suite, on dépose une couche d'oxyde épais sur les grilles du dernier niveau déposé, puis on grave ces grilles, on fait croître une couche mince d'oxyde sur les parois des grilles du dernier niveau qui ont été découvertes lors de la gravure de ces grilles, et on dépose une nouvelle couche de matériau dans lequel doivent être réalisées les grilles du niveau supérieur; - une fois toutes les grilles gravées, on supprime les couches d'oxyde épais 4, 9 qui recouvrent ces grilles; - on supprime par gravure plasma ou par gravure chimique les zones des grilles qui surplombent les grilles d'un autre niveau en les attaquant simultanément par leurs faces interne et externe. Tout ce qui a été dit en ce qui concerne la réalisation d'un dispositif à deux niveaux de grilles sur la nature des matériaux, les diversestechniquesemployées, etc... s'appliqueégalement àla réalisation d'un dispositif à n niveaux de grilles. Ainsi, par exemple, les couches de matériau dans lesquelles doivent être réalisées les grilles à partir du second niveau sont en silicium polycristallin et la dernière étape est une gravure chimique réalisée après oxydation. De même, on peut déposer une couche protectrice contre la gravure entre les grilles des divers niveaux et la couche de diélectrique qui recouvre ces grilles. 83573 REVENDICATIONS 1. Procédé de réalisation d'un dispositif semi-conducteur à n niveaux de grilles, caractérisé en ce qu'il comporte les étapes suivantes: - 1 ) on dépose sur un substrat semi-conducteur (1) une couche de diélectrique (2), puis une couche de matériau (3) dans lequel doivent être réalisées les grilles du premier niveau et une couche de diélectrique (4); - 2 ) on réalise par gravure des deux couches supérieures (3 et 4) les grilles du premier niveau (G1); - 3 ) on isole (5) les flancs des grilles (G1) du premier niveau; - 40) on dépose une deuxième couche de matériau (6) dans lequel doivent être réalisées les grilles du second niveau; - 5 ) on réalise dans cette deuxième couche (6) une ouverture (7) permettant d'accéder à la couche de diélectrique (4) recouvrant le dessus des grilles (3) du premier niveau; - 6 ) on dépose une couche mince de diélectrique (8) sur les grilles du second niveau (G2); - 7 ) on dépose une troisième couche de matériau (11) dans lequel doivent être réalisées les grilles du troisième niveau (G3); - 8 ) on grave les grilles du troisième niveau; 9 ) et ainsi de suite, on dépose une couche mince de diélectrique sur les grilles du dernier niveau déposé, puis on dépose une nouvelle couche de matériau dans lequel doivent être réalisées les grilles du niveau supérieur et on grave ces grilles; - 10 ) une fois toutes les grilles gravées, on supprime les zones accessibles des couches minces de diélectrique (8) recouvrant les grilles, à partir des grilles du deuxième niveau (G2); - 11 ) puis, on supprime par gravure plasma ou par gravure chimique les zones des deuxièmes grilles (6, G2) qui surplombent les grilles (3) du premier niveau en les attaquant simultanément par leurs faces interne et externe. 2. Procédé de réalisation fd'un dispositif semi-conducteur à n niveaux de grilles, caractérisé en ce qu'il comporte les étapes suivantes: - 1 ) on dépose sur un substrat semi-conducteur (1) une couche de 83573 diélectrique (2), puis une couche de matériau (3) dans lequel doivent être réalisées les grilles du premier niveau et une couche de diélectrique (4); - 2 ) on réalise par gravure des deux couches supérieures (3 et 4) les grilles du premier niveau (G1); - 3 ) on isole (5) les flancs des grilles (G1) du premier niveau; - 4 ) on dépose une deuxième couche de matériau (6) dans lequel doivent être réalisées les grilles du second niveau; - 5 ) on dépose une couche d'oxyde épais (9) sur les grilles du second niveau (G2); - 6 ) on grave les grilles du second niveau (G2) en réalisant dans ces grilles une ouverture (7) permettant d'accéder à la couche de diélectrique (4) recouvrant les dessus des grilles (3) du premier niveau; - 7 ) on fait croître une couche mince doxyde sur les parois des grilles du second niveau (G2) qui ont été découvertes lors de la gravure de ces grilles; - 8 ) on dépose une troisième couche de matériau (11) dans lequel doivent être réalisées les grilles du troisième niveau (G3); - 9 ) on dépose une couche doxyde épais sur les grilles du troisième niveau (G3); 10 ) on grave les grilles du troisième niveau; - 11 ) on fait croître une couche mince doxyde sur les parois des -grilles du troisième niveau qui ont été découvertes lors de la gravure de ces grilles; - 12 ) et ainsi de suite, on dépose une couche doxyde épais sur les grilles du dernier niveau déposé, puis on grave ces grilles, on fait croître une couche mince d'oxyde sur les parois des grilles du dernier niveau qui ont été découvertes lors de la gravure de ces grilles, et on dépose une nouvelle couche de matériau dans lequel doivent être réalisées les grilles du niveau supérieur; - 13 ) une fois toutes les grilles gravées, on supprime les couche d'oxyde épais (4, 9) qui recouvrent ces grilles; - 140) on supprime par gravure plasma ou par gravure chimique les zones des grilles qui surplombent les grilles d'un autre niveau en les attaquant simultanement par leurs faces interne et externe. 83573 3. Procédé selon lune des revendications 1 ou 2, caractérisé en ce que lors de la dernière étape on règle la gravure de la couche de matériau (6) dans lequel doivent être réalisées les grilles du second niveau de façon que sensiblement la moitié de l'épaisseur de cette couche soit enlevée. 4. Procédé selon rune des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que la couche de diélectrique (4) est obtenue par croissance ou par dépôt. 5. Procédé selon lune des revendications I à 4, caractérisé en ce qu'on isole les flancs des grilles (3) du premier niveau par croissance ou par dépôt doxyde (5). 6. Procédé selon lune des revendications I à 5, caractérisé en ce qu'on réalise dans la deuxième couche (6) les ouvertures (7) par gravure chimique ou par photo-gravure. 7. Procédé selon rune des revendications 1 à 6, caractérisé en ce que les couches de matériau (6) dans lesquelles doivent être réalisées les grilles à partir du second niveau sont en silicium polycristallin et en ce que la dernière étape est une gravure chimique réalisée après oxydation. 8. Procédé selon Pune des revendications 1 à 7, caractérisé en ce qu'on dépose une couche protectrice contre la gravure entre les grilles et la couche de diélectrique qui les recouvre. 9. Dispositif semi-conducteur à n niveaux de grilles obtenu par le procédé selon lune des revendications I à 8, caractérisé en ce que le substrat semi-conducteur (1) est en silicium mono-cristallin. 10. Dispositif semi-conducteur à n niveaux de grilles obtenu par le procédé selon lune des revendications I à 9, caractérisé en ce que la couche de matériau (3, 6) dans lequel doivent être réalisées les grilles Cd'au moins lun des niveaux est métallique ou en silicium polycristallin ou en silicium polycristallin recouvert de siliciure. 11. Dispositif semi-conducteur à n niveaux de grilles obtenu par le procédé selon l'une des revendications I à 8, caractérisé en ce que la couche de diélectrique (4) est une couche de silice. 12. Dispositif semi-conducteur à n niveaux de grilles obtenu par le procédé selon la revendication 8, caractérisé en ce que cette couche protectrice est en nitrure de silicium.