Brevet FR2583577A1 — publié le 19861219

PROCEDE DE REALISATION D'UN DISPOSITIF PHOTODETECTEUR SEMICONDUCTEUR A AVALANCHE ET DISPOSITIF AINSI REALISE La présente invention concerne un procédé de réalisation d'un dispositif photodétecteur semiconducteur à avalanche du type à zone d'absorption et de multiplication séparées. Pour augmenter les performances des photodétecteurs à avalanche (réduction du bruit), on utilise classiquement des hété- rostructures. L'absorption a lieu principalement dans le matériau à petite largeur de bande interdite et la multiplication dans le milieu à grande largeur de bande interdite. Dans un tel dispositif, des porteurs, par exemple des trous, peuvent être stockés tempo- rairement par la barrière de potentiel de l'hétérojonction, condui- sant à des temps de réponse trop élevés, typiquement quelques dizaines de nanosecondes pour un dispositif à jonction de structure Indium-Gallium-Arsenic/Indium-Phosphore (InGaAs/lnP). Selon une seconde approche de l'Art Connu, on peut résoudre ce problème en remplaçant P'hétérojonction par une région de largeur de bande interdite variable. Facile à réaliser dans le cas du système de jonction du type Gallium-Arsenic/Aluminium-Gallium- Arsenic (GaAs/AIGaAs), une telle variation est techniquement très difficile à réaliser sans introduire de désaccord de maille dans un système tel que les jonctions du type Indium-Gallium-Arsenic/ Indium-Phosphore (InGaAs/InP). Cela provient, entre autre, de diffi- cultés à maîtriser la composition exacte du composé quaternaire intermédiaire. Selon une troisième approche de l'Art Connu, on peut égale- ment réduire le temps de réponse en remplaçant l'hétérojonction abrupte par une succession de couches minces des deux composés extrêmes, Indium-Phosphore et Indium-Gallium-Arsenic par exem- ple. 83577 Une telle méthode a été décrite dans l'article de CAPASSO et ai.: "Pseudoquaternary GainAsP semiconductors: A new Ga0.47 In0.53As/InP graded gap superlattice and its applications to avalan- che photodiodes" paru dans la revue US: "Applied Physics Letters", vol. 45, N 11, I décembre 1984, pages 1193-1195. Le but recherché est de fabriquer un "pseudo-alliage quater- naire" qui ait les mêmes caractéristiques locales moyennes de potentiel qu'un alliage de composition variable selon la seconde approche de l'Art Connu. Il est imposé au système une longueur de maille constante. Une maille est constituée par un puits et la barrière de potentiel qui le suit. Cela conduit à considérer des systèmes avec de très nombreux puits, typiquement une vingtaine. Cette méthode ne permet donc pas de réaliser des photo- détecteurs à avalanche optimisés. Le nombre élevé de "tranches" de semiconducteurs à réaliser conduit à des difficultés de fabrication. L'invention se fixe pour but un procédé de réalisation de dispositifs photodétecteurs semiconducteurs à avalanche palliant les inconvénients de l'Art Connu. La structure d'un dispositif selon l'invention comporte, comme dans le cas de la troisième approche de l'Art Connu, un réseau de couches de matériaux semiconducteurs alternés. Cependant, l'approche de départ est différente, ce qui permet, à caractéristique de vitesse de fonctionnement comparable, de réduire de façon notable le nombre de couches alternées, c'est-à- dire d'optimiser la structure de ces couches et par là, la structure du détecteur. Outre l'économie sur la fabrication obtenue, en réduisant le nombre d'interfaces, on améliore la qualité du dispositif puisque chaque interface engendre des défauts. L'invention a donc pour objet un procédé de réalisation d'un photodétecteur à avalanche du type comprenant au moins une région d'absorption de photons, dans laquelle sont photoinduits des porteurs, en un premier matériau semiconducteur à faible largeur de bande interdite, une région de multiplication de porteurs, en un second 83577 - matériau semiconducteur à grande largeur de bande interdite, et une troisième région intermédiaire, constituée par un réseau de tranches de couches alternées des premier et second matériaux formant un système de puits quantiques couplés séparés par des barrières de potentiel; caractérisé en ce que, le photodétecteur étant spécifié pour des conditions de fonctionnement comprenant une discontinuité de bande et un champ électrique local déterminés ainsi qu'un temps de réponse maximum, il comprend une phase de détermination de ladite région intermédiaire comportant un nombre minimum de tranches de couches alternées d'épaisseurs variables assurant un temps de réponse inférieur ou égal audit temps de réponse maximum et en ce que cette phase comprend: - une étape de détermination des épaisseurs respectives des couches en premier et second matériaux semiconducteurs consti- tuant lesdites tranches de la région intermédiaire d'un système comprenant un puits quantique unique assurant un temps de réponse intermédiaire minimum dudit système; - une étape de comparaison de ce temps de réponse inter- médiaire minimum avec ledit temps de réponse maximum; - et la répétition conditionnelle des étapes de détermination et de comparaison en augmentant progressivement le nombre des puits couplés jusqu'à ce que le temps de réponse obtenu pour un système comprenant un nombre déterminé de puits quantiques couplés soit inférieur audit temps de réponse maximum ou que le temps de réponse pour ce système comprenant ledit nombre déterminé de puits quantiques couplés soit plus grand ou égal au temps de réponse pour un système comprenant un nombre de puits couplés inférieur d'une unité. L'invention a encore pour objet un dispositif photodétecteur réalisé par un tel procédé. L'invention sera mieux comprise et d'autres caractéristiques et avantages apparaîtront à la lecture de la description ci-après et en référence aux figures annexées parmi lesquelles: - la figure 1 illustre le diagramme de bandes au voisinage de 83577 i'hétérojonction d'une photodiode à avalanche à absorption et multi- plication séparées, selon une première approche de l'Art Connu; - la figure 2 illustre le diagramme de bande d'une photodiode à zones d'absorption et de multiplication séparées dans laquelle l'hé- térojonction abrupte est remplacée par une structure de composition variable et de bande interdite variable, selon une seconde approche de l'Art Connu; - la figure 3 illustre le diagramme de bandes d'une photodiodes à zones d'absorption et de multiplication séparées par des couches alternées des matériaux des zones d'absorption et de multiplication selon une troisième approche de l'Art Connu; - la figure 4 illustre le diagramme de bandes d'une photodiode selon l'invention; - la figure 5 illustre un détail du diagramme de bande de valence d'une telle photodiode; - la figure 6 illustre un diagramme de bande de valence d'une photodiode selon Pl'invention pour un exemple de réalisation parti- culier. La figure I illustre schématiquement le diagramme de bandes au voisinage d'une jonction de l'hétérojonction d'une photodiode à avalanche à zones d'absorption et de multiplication séparées, selon une première approche de l'Art Connu, ainsi que le mécanisme de génération d'une paire électron-trou par captation de photon dans la zone d'absorption. L'axe vertical du diagramme représente des niveaux d'énergie et l'axe horizontal des distances arbitraires par rapport à une abscisse x0 de l'interface entre les deux zones Z1 et Z2. La zone Z2 est en matériau à faible largeur de bande interdite. Cette zone Z2 est une zone d'absorption de photons p atteignant la jonction. La zone Z1 en matériau à plus grande largeur de bande interdite est une zone de multiplication des porteurs par avalanche. Des photons p d'énergie h v créent des paires "électron e - trou t+". La valeur h est la constante de PLANCK et V la 83577 fréquence du photon absorbé. Les trous vont être entraînés de la zone Z2 d'absorption vers la zone Z1 de multiplication par avalan- che sous l'influence du champ électrique régnant dans la jonction. Cependant, du fait de la barrière de potentiel présente à l'interface, les porteurs créés peuvent être "piégés" à ce niveau et stockés temporairement. Le processus de diffusion est donc ralenti. Pour pallier cet inconvénient, il a été proposé, selon une seconde approche de l'Art Connu, de disposer un matériau semi- conducteur de composition variable entre les deux zones Zi et Z2, d'absorption et d'avalanche. Le but est d'effectuer une transition à variation continue entre les deux zones extrêmes. Pour ce faire, la composition du matériau est continûment variable entre ces deux zones. Il en est de même en ce qui concerne la largeur de la bande interdite. La figure 2 illustre une telle disposition. Le diagramme de bande comprend une troisième zone Z3 d'épaisseur (x2-xl), x1 et x2 représentant les abscisses des frontières des zones extrêmes Z1 et Z2. La zone intermédiaire Z3 assure donc théoriquement une transition parfaitement graduée entre les zones extrêmes. L'effet de piégeage est évité si le produit de la longueur de la zone de transition x2 - xI par le gradient de l'énergie potentielle électro- statique F est supérieure à la discontinuité de potentiel V de la bande de valence [ (x2 - x1) F> V]. Le procédé suivant l'invention qui sera décrit ultérieurement n'est pas soumis à cette contrainte. Cependant, le matériau de cette zone intermédiaire Z3 est un alliage, en proportions variables, des matériaux extrêmes. Il s'agit bien sûr de matériaux cristallins. Aussi cette composition variable doit être accordée en maille avec les deux matériaux extrêmes. Comme il a été rappelé, cette exigence peut être satisfaite pour certains types de matériaux. Par exemple, l'exigence qui vient d'être énoncée peut s'appliquer à des hétérojonctions de structure Gallium-Arsenic/AluminiumGallium-Arsenic (GaAs/AIGaAs). Pour d'autres structures d'hétérojonctions, la variation de composition est 83577 techniquement très difficile à réaliser, voire pratiquement impos- sible. C'est le cas par exemple pour une hétérojonction du type Indium-Gallium-Arsenic/Indium-Phosphore (In Ga As/InP). Aussi, il a été proposé de réaliser un alliage "pseudo- quaternaire". Pour ce faire, on dispose entre les zones extrêmes non plus une couche de matériau de composition continûment variable, mais un réseau de couches, toutes d'épaisseur constante. Chaque couche est en réalité constituée de deux sous-couches distinctes: une première sous-couche en matériau de l'une des deux zones extrêmes et une seconde sous-couche en matériau de l'autre zone extrême. L'épaisseur de ces sous-couches est variable et égale à l'épaisseur de quelques couches atomiques. Selon cette méthode, les nombres de couches atomiques dans chacune des sous-couches sont déterminés de manière à simuler, d'une couche à l'autre, une variation de largeur de bande moyenne se rapprochant de la varia- tion continue obtenue par une composition variable de la zone intermédiaire Z3, selon la seconde approche de l'Art Connu. Il s'agit en quelque sorte d'une méthode de "discrétisation". Une telle méthode est décrite dans l'article de CAPASSO et al précité. La figure 3 illustre l'allure du diagramme de bande de la zone intermédiaire Z'3. Cette zone est constituée d'un empilement de tranches de matériaux, d'épaisseur constante dl, constituées chacune de la succession d'un certain nombre de couches atomiques du matériau de la zone Z1 puis du matériau de la zone Z2. Sur la figure 3, le nombre de couches atomiques du matériau de la zone Z1 d'une tranche diminue progressivement de la gauche (abscisse xl, limite de la zone Z1) vers la droite (abscisse x2, limite de la zone Z2) et le nombre de couches atomiques du matériau de la zone Z2 augment corrélativement. La largeur de bande interdite moyenne varie donc d'une tranche à l'autre de manière à passer progressivement de la valeur LB1, largeur de bande interdite du matériau de la zone Zi, à la valeur LB2, largeur de la bande interdite du matériau de la zone Z2. 83577 Cette méthode ne permet pas cependant d'obtenir une struc- ture optimisée, car il est nécessaire, pour réaliser l'adaptation souhaitée entre les largeurs de bandes interdites, de créer un grand nombre d'interfaces intermédiaires. De plus cette méthode suppose que les porteurs se comportent comme s'ils n'étaient sensibles qu'à la largeur de bande interdite moyenne dans une couche. Le procédé suivant l'invention présenté ci-après est indépendant de la validité d'une telle hypothèse. Outre les difficultés de fabrication corrélatives à la multi- plication du nombre d'interfaces, il y a lieu de remarquer que la qualité du dispositif risque de se dégrader car chaque interface engendre des défauts. L'invention concerne des photodétecteurs à avalanche compor- tant également une zone intermédiaire constituée par un réseau de couches alternées de matériaux des zones extrêmes d'absorption et de multiplication des porteurs par avalanche. Cependant l'invention part d'une approche différente par laquelle il n'est pas cherché à adapter les largeurs de bande. Cette approche permet, tout en conservant les avantages des photo- détecteurs du type qui vient d'être rappelé, notamment la rapidité, de réduire de façon significative le nombre d'interfaces nécessaires et donc d'optimiser la structure du photodétecteur à avalanche. Les phénomènes physiques mis en jeu vont tout d'abord être rappelés. La figure 4 illustre schématiquement une structure de bandes d'un dispositif selon l'invention. Chaque tranche comprend également, comme dans le cas d'un dispositif de l'Art Connu selon la figure 3, une couche de matériau de la zone Z1 et une couche de matériau de la zone Z2. Cependant l'épaisseur de ces tranches ainsi que les épaisseurs des couches sont variables. Ces épaisseurs sont déterminées par le procédé de l'in- vention qui va être explicité dans ce qui suit. Il en va de même du nombre total de tranches. L'ensemble forme un système de puits quantiques couplés séparés par des barrières de potentiel. 83577 La figure 5 illustre une portion agrandie du diagramme de bande de valence de la zone intermédiaire Z"3. Les porteurs libres piégés par les barrières de potentiel des interfaces peuvent franchir celles-ci de plusieurs façons: - effet thermoémissif; effet tunnel; - "hopping" c'est-à-dire saut assisté par phonons ou par inter- actions avec des impuretés; - etc... La figure 5 illustre ces mécanismes. On appelle jn, pour un puits d'indice arbitraire n, le flux de porteurs vers le continuum, en direction du matériau à grande bande interdite (figure 4: zone Z1) par particule piègée dans le puits d'indice n. Ce flux provient de l'effet thermoémissif (référence I sur la figure 5) ou de l'effet tunnel (référence Il) au travers du haut de la barrière de potentiel entre le puits d'indice n et le puits couplé adjacent d'indice n-l. On appelle inj le flux (référence III) vers le puits adjacent n d'indice n-I par particule piégée dans le puits d'indice n, dO à l'effet tunnel en général, assisté par phonons ou impuretés. On appelle jin+ le flux vers le puis d'indice n, par particule piégée dans le puits d'indice n-I (référence IV). L'importance relative de ces différents mode d'évasion dépend d'un grand nombre de paramètres, notamment de la température des porteurs, des dimensions de la zone dans laquelle ils sont confinés, de la hauteur et de l'épaisseur des barrières à franchir et du champ électrique appliqué. On peut évaluer, en fonction de tous ces paramètres, le temps d'évasion dans une structure telle que celle représentée figure 5. Plus précisément, on peut pour chacun des puits calculer le flux moyen par particule de ce puits vers le continuum, je, le flux par particule vers le puits voisin de gauche lorsqu'il existe, j; et vers le puits voisin de droite, jn On considère la région d'absorption Z2 comme un (N+l) ième puits de longueur infinie, le nombre de puits 83577 total étant égal à N. Le nombre de porteurs v n piégés dans le puits d'indice n, vérifie l'équation différentielle: d v N+1 - nm vm (t) (1) dt m= nm m avec I 1 0 nuls. La matrice 3 est définie positive et la plus petite de ses valeurs propres X 1 donne l'inverse du temps de réponse du système. De la connaissance des coefficients jn on peut donc déterminer le temps de réponse d'un système de puits couplés comme illustré sur la figure 4. La détermination des coefficients jn va maintenant être explicitée. Si l'on considère qu'une particule sur deux est émise vers le matériau de grande bande interdite: région Z 1; on peut montrer que le flux jt obéit à la relation: jf 2kT exp _ (2) n- exp-t kT)/ pour des champs électriques de quelques dizaines de kilovolts par centimètre; relation dans laquelle: T est la température en degré Kelvin; V est la discontinuité de bande comme illustré sur la figure 5; E (n) est l'énergie du premier niveau lié comptée à partir du I bas de la bande de potentiel comme illustré sur figure 5. k et h sont respectivement les constantes de BOLTZMANN et de PLANCK. 83577 On peut évaluer jn en tenant compte de l'expression des fonctions d'onde dans les puits n et (n-l), calculées comme si Ces puits étaient isolés, et du hamiltonien d'interaction avec les pho- nons. Une évaluation plus grossière consiste à considérer que la probabilité de transfert est la même que si le puits d'indice (n-l) était illimité pour les états dont l'énergie est supérieure au niveau fondamental du puits (n-l) et qu'elle est nulle dans les autres cas. je obéit alors à la relation: n Mxl FLn,/. Ei n = on kT Z Max ( n 4 V 1) F(, C i -- - ')2 m Ec dans laquelle: F ( Ci, úC)= exp V - B / _v - -Min (0, cc-ciJ (3) kT k'": J m* S P = 41r est la densité d'état à deux dimensions; m * est la masse effective S est la surface de léchantillon; Ln est la largeur du puits n: Pun; F est le gradient d'énergie potentielle électrique comme illustré sur la figure 5; La somme Ei porte sur tous les niveaux du puits, solutions du hamiltonien à une dimension d'énergie ci inférieure à la discon- tinuité V des bandes de valence des deux matériaux.; 4 (x) = 2 x2 est un facteur géométrique de trans 1+3x parence de la barrière compris entre 0 et 2; B = h / h à ou A est l'épaisseur de la barrière d'indice (n-l); et cc = E (Ln 1 F) - F. (Ln-1 + A) o C (Ln F) est le premier niveau du puits d'indice n-I: Pun 1, dont l'épaisseur est 83577 Il Ln- E c est l'énergie critique en deçà de laquelle ce modèle simplifié suppose que la barrière réfléchit les particules. Le coefficient j-peut être évalué de manière analogue. Inversement, si le temps de réponse limite est imposé, on peut donc trouver un système de puits quantiques couplés garantissant un temps de réponse inférieur à ce temps de réponse limite imposé. C'est le cas en général. En effet, un dispositif photodétecteur à avalanche à hétérojonction selon l'Art Connu, dont un jeu de caractéristiques géométriques, physiques, électriques, etc... est imposé, est caractérisé par un temps de réponse déterminé. L'invention propose un procédé permettant de réaliser un photodétecteur à avalanche garantissant un temps de réponse infé- rieur à ce temps de réponse, tout en ne nécessitant qu'un nombre minimum de puits couplés. On va tout d'abord décrire une variante générale du procédé selon l'invention. Dans ce qui suit, on décrira également une variante simplifiée du procédé. On suppose connue la discontinuité de bande et le champ électrique local imposé par les conditions de fonctionnement du dispositif. Soit to** le temps de réponse de l'hétérojonction abrupte. Soit t1 (n, 6) le temps de réponse d'un système dans lequel on a intercalé entre les deux matériaux extrêmes un puits de n couches atomiques du matériau à petite bande interdite et une barrière de 6 couches atomiques du matériau à grande bande interdite. Pour n donné t1 (n, 6) est une fonction d'allure convexe qui admet un minimum t1* (n) pour une épaisseur de barrière de 6 *(n) couche. Ce minimum est déterminé en un nombre fini d'opérations. De même la fonction tl* (n) admet un minimum tl**pour n=n. tl** qui est le temps de réponse d'un système comportant un puits de nI couches et une barrière de 6 (n) couches atomiques est le meilleur temps qui peut être obtenu avec un seul puits quantique intermédiaire. 83577 On peut de même déterminer t**, t** t* etc. De la t 3,..tn* façon la plus générale, tn** est donc le temps du meilleur système à n n puits intermédiaires. La suite des temps t* commence par être n décroissante et le reste en général assez longtemps, ce jusqu'à une limite t** o un nouveau puits intermédiaire n'apporte plus de gain de temps. Si tR est le temps de réponse fixé pour un dispositif photodétecteur à optimiser, on peut se trouver dans trois situations dont deux situations limites. Les deux situations limites sont: a) Si tR est supérieur à to** un dispositif à hétérojonction abrupte convient et le procédé de l'invention ne trouve pas d'appli- cation avantageuse dans ce cas. b) Si tR est inférieur à t***, il n'est pas possible d'atteindre le temps requis avec un système de puits quantique couplés dans les conditions de fonctionnement du dispositif prévu. On peut natu- rellement envisager de modifier celles-ci pour augmenter le champ électrique local ou pour augmenter la température. Enfin, dans le cas général pour lequel le procédé selon l'invention trouve toute son application, on détermine le nombre de ** tRt** sf iie ote puits n tel que la relation t** >tR> t* soit vérifiée, soit en n utilisant les valeurs tr à t' si celles-ci sont connues, soit en les déterminant une à une jusqu'à ce que l'inégalité ci-dessus soit vérifiée. Il s'agit donc dans ce dernier cas d'un processus itératif. La variante du procédé selon l'invention qui vient d'être décrite est la variante la plus générale et garantit la meilleure structure possible de photodétecteur à avalanche, c'est-à-dire une structure optimisée comportant le minimum de puits couplés. Ceci offre l'avantage d'une fabrication plus aisée et de limiter le risque d'apparition de défauts en minimisant le nombre d'interfaces. Cette variante du procédé s'avère cependant, généralement, assez longue à mettre en oeuvre. Pour certaines applications, en acceptant certaines hypothèses simplificatrices, qui vont être explicitées dans ce qui suit, on peut 83577 aboutir à une variante du procédé selon l'invention plus rapide à mettre en oeuvre. On considére pour cette variante des systèmes qui seront appelés "thermalisés" pour lesquels les temps de traversée des barrières dans la direction du courant global (l/j) doivent tous être inférieurs à une fraction du temps de réponse recherché tR. Cette fraction peut être choisie égale typiquement à 20% du temps pour les systèmes comportant une demi-douzaine de puits et à 10% si les puits sont plus nombreux. Il suffit alors que le flux thermoémissif j' du premier puits crée un courant de fuite suffisant, typiquement la condition (l/j) avec un temps caractéristique tR. On impose aussi aux systèmes d'être "à niveaux d'énergie croissants". C'est-à-dire que le premier niveau du puits d'indice (n+l) doit avoir une énergie supérieure à celui du puits n. En d'autres termes, la diminution d'énergie de localisation due à la plus grande épaisseur du puits d'indice (n+l) doit être inférieure à l'augmentation d'énergie potentielle due au champ électrique. Il est même souvent souhaitable que l'écart entre les premiers niveaux successifs soit d'au moins I meV pour éviter les phénomènes de résonance des niveaux. Cette condition empêche l'apparition dans un puits d'une densité d'état non nulle au-dessous du premier niveau calculé comme si le puits était isolé des puits se trouvant à sa droite. On peut ainsi construire le système de puits "de gauche à droite" sans avoir à faire d'évaluation globale du temps de réponse. Sous ces conditions, le temps de fuite d'une particule piégée dans le puits d'indice n ne dépend que de l'épaisseur du puits n, de la largeur de la barrière d'indice (n-1) et, d'une manière beaucoup -moins sensible, si la condition du niveau croissant est réalisée, de la largeur du puits d'indice (n-l). On détermine une bonne structure "thermalisée" à niveaux 83577 d'énergies croissants conduisant à un temps de réponse inférieur au temps requis tR de la façon qui va maintenant être décrite. Le temps d'évasion vers le matériau à grande bande interdite d'une particule piégée dans le premier puits croît avec la largeur de celui- ci, on détermine donc, pendant une étape initiale, la plus grande largeur compatible avec le temps requis tR en se donnant par exemple pour critère (I/jl) évidemment inutile de construire des barrières intermédiaires. On procède ensuite de façon itérative. On suppose connue la structure jusqu'au n-ième puits. On détermine alors les épaisseurs des (n+l)ièmes barrières et puits. En première approximation, le temps de séjour d'un porteur dans le (n+l)ème puits croît avec l'épaisseur de celui-ci et a souvent tendance à décroître avec celle de la barrière. On recherche la combinaison d'épaisseurs compatible avec le temps requis per- mettant d'avoir le puits le plus épais. Trois cas peuvent se présenter: - a) il est possible d'avoir un (n+l)ième puits de longueur infinie. Le processus est alors terminé: on a réalisé la transition avec le matériau à petite bande interdite. b) Le plus grand puits compatible avec le temps requis est plus épais que le puits précédent. On continue le processus itératif. c) On n'arrive pas à obtenir le temps requis avec un puits plus épais que le précédent: le temps requis est trop court. On peut soit modifier l'ensemble du dispositif pour augmenter l'intensité du champ électrique, ce qui diminue les temps de réponse, soit éven- tuellement passer outre si les particules piégées dans ce puits particulier sont peu nombreuses relativement au reste du dispositif. Dans certaines situations, le choix reste ouvert entre plusieurscombinaisons possibles d'épaisseurs pour un même nombre de puits couplés. On peut alors, soit procéder à un choix arbitraire, soit mettre en oeuvre la méthode de calcul générale exposée dans la variante générale du procédé de l'invention qui permet de déter- 83577 miner la structure la plus optimisée parmi les structures possibles compte-tenu du temps de réponse imposé. Pour fixer les idées, on a réalisé par le procédé de l'invention, dans sa seconde variante, une photodiode à avalanche pouvant fonctionner à 2 GHz. Cela correspond à un temps de réponse tR inférieur ou égal à 250 ps. Les matériaux des régions extrêmes Z1 et Z2 étaient respec- tivement de l'Indium-Phosphore (InP) et de l'Indium-Gallium-Arsenic (InGaAs). Les autres paramètres fixés étaient les suivants: discontinuité de bande de valence: 350 meV; - champ électrique local: 100 kVcm-1. Dans ces conditions, une photodiode à avalanche à hétéro- jonction abrupte est caractérisé par un temps de réponse de l'ordre de 200 ns, d'o une fréquence maximale d'utilisation 30 MHz. La zone intermédiaire Z"3 déterminée conformément au pro- cédé de l'invention doit comporter cinq puits quantiques couplés, la zone extrême Z2 étant considérée comme un sixième puits d'épais- seur infinie. La figure 6 illustre schématiquement le diagramme de bande de valence de la photodiode à avalanche ainsi réalisée. Les longueurs L1 à L5 représentent les épaisseurs des diffé- rents puits en nombre de couches atomiques comme indiqué sur l'échelle associée à l'axe horizontal. * Les longueurs A1 à A5 représentent les épaisseurs des diffé- rentes barrières du potentiel également en nombre de couches atomiques. o Une couche atomique a une épaisseur de 2,9347 A. Les couples de temps t12, t21 à t56, t65 représentent les temps de transfert de puits à puits (puits Pul à Pu6). Ces temps correspondent respectivement aux inverses des paramètres jn et jn précédemment décrits. Les valeurs numériques de ces paramètres sont portées dans le tableau I disposé en fin de la présente description. 83577 On peut constater à la lecture de ce tableau que l'épaisseur totale des tranches de matériaux composites (épaisseur des puits plus épaisseur des barrières de potentiel) n'est pas constante. Il a été également indiqué les temps t1 et t2 qui correspondent aux temps de diffusion vers le continuum pour les puits Pu1 et Pu2. Pour les puits d'indices supérieurs, les flux de particules vers le continuum ne sont plus significatifs car ils correspondent à des temps très supérieurs au temps de réponse fixé tR = 250 ps. Comme il ressort du tableau 1, le temps t2 est égal à 525 ps. Le flux de particules du puits Pu2 vers le continuum peut donc déjà être négligé. Les temps t1 et t2 et plus généralement les temps tn, bien que non indiqués dans le tableau I, correspondent à l'inverse des paramètres jn précédemment décrits. Les positions des niveaux d'énergies correspondant aux diffé- rents puits ont été représentés par des traits horizontaux. Les puits Pu1 à Pu3 comportent un seul niveau d'énergie. Les puits Pu4 et Pu5 en comportent deux. La zone Z2, considérée comme un puits d'épaisseur infinie en comporte naturellement un grand nombre: seize dans l'exemple illustré. A une fréquence de travail de 2 GHz, si le temps de réponse est effectivement obtenu, un signal fourni par la diode est réduit à T = e-500/250, soit 14% de sa valeur initiale après une période. La diagonalisation de la matrice 3 donne dans l'exemple illustré par la figure 6, une première valeur propre X 1 = 1,7 GHz. Comme le nombre de puits quantiques couplés est six: e - 1,7 x 0,5 T e, soit 17% environ. On peut donc utiliser le dispositif obtenu par le procédé de l'invention à la fréquence de 2 GHz. L'invention n'est naturellement pas limitée aux seules varian- tes d'exécution qui viennent d'être explicitement décrites. Les variantes du procédé de réalisation dérivées des deux variantes décrites font également partie de l'invention, et notam- 83577 ment une variante du procédé qui consiste à faire une optimisation grossière par la deuxième variante du procédé, puis à afiner celle-ci en comparant, par la méthode de détermination générale consistant à diagonaliser la matrice 3 définie précédemment, avec des solu- tions correspondant à une croissance moins rapide des épaisseurs des puits successifs ou à d'autres valeurs des épaisseurs des barrières. On peut également remplacer la diagonalisation de la matrice Jn par des moyens plus rapides qui consistent par exemple à constater qu'un accroissement d'un des rapport (jin/ jn1l), les autres paramètres restant constants, et l'inverse de 3n respectant toujours la condition d'être inférieur à une fraction déterminée du temps requis, améliore en général le temps de réponse global. Enfin, bien qu'il ait été considéré dans la description de l'invention, de façon implicite, que les porteurs qui se multiplient prioritairement étaient des trous, il est clair que le procédé s'applique de manière analogue aux applications pour lesquelles les porteurs sont des électrons. 83577 TABLEAU I Epaisseur en Temps de trans- Temps de diffusion nombre de couches ferts puits à vers le continuum atomiques puits (en ps) (en ps) =41 - 4)Ll1 t1t2=15 tl = 150 Ai =8 Ll+AI=12 t = 17 L2 = 5L 1 - t23 =6 t2 =525 à2 = 6) L2+A2=11 t32 = 6 t32 = 2 A3 = 6L3+2=12 t43 =12 L4 =7) +t=1 45.= 13- A4 = 5) L4 +A3=12 -1 L 5 = 102 t56 = 91 A = 4)L5+A=14 65 = 8 83577 REVENDICATIONS 1. Procédé de réalisation d'un photodétecteur à avalanche du type comprenant au moins une région (Z2) d'absorption de photons (p), dans laquelle sont photoinduits des porteurs, en un premier matériau semiconducteur à faible largeur de bande interdite, une région (Z1) de multiplication de porteurs, en un second matériau semiconducteur à grande largeur de bande interdite, et une troi- sième région intermédiaire (Z"3), constituée par un réseau de tran- ches de couches alternées des premier et second matériaux formant un système de puits quantiques couplés (Pun)séparés par des bar- rières de potentiel; caractérisé en ce que, le photodétecteur étant spécifié pour des conditions de fonctionnement comprenant une discontinuité de bande et un champ électrique local déterminés ainsi qu'un temps de réponse maximum (tR), il comprend une phase de détermination de ladite région intermédiaire (Z"3) comportant un nombre minimum de tranches de couches alternées d'épaisseurs variables assurant un temps de réponse inférieur ou égal audit temps de réponse maximum (tR) et en ce que cette phase comprend: - une étape de détermination des épaisseurs respectives (Ln A) des couches en premier et second matériaux semiconducteurs cons- tituant lesdites tranches de la région intermédiaire (Z"3) d'un système comprenant un puits quantique unique assurant un temps de réponse intermédiaire minimum (tj*) dudit système; - une étape de comparaison de ce temps de réponse inter- médiaire minimum (tl* avec ledit temps de réponse maximum (tR); - et la répétition conditionnelle des étapes de détermination et de comparaison en augmentant progressivement le nombre des puits couplés jusqu'à ce que le temps de réponse (tn**) obtenu pour un n système comprenant un nombre déterminé de puits quantiques couplés (Pun) soit inférieur audit temps de réponse maximum (tR) ou que le temps de réponse (tn**) pour ce système comprenant ledit nombre déterminé de puits quantiques couplés (Pun) soit plus grand 83577 ou égal au temps de réponse pour un système comprenant un nombre de puits couplés inférieur d'une unité. 2. Procédé de réalisation d'un photodétecteur à avalanche du type comprenant au moins une région (Z2) d'absorption de photons , dans laquelle sont photoinduites des porteurs en un premier matériau semiconducteur à faible largeur de bande interdite, une région (Z1) de multiplication de porteurs en un second matériau semiconducteur à grande largeur de bande interdite, et une troi- sième région intermédiaire (Z"3) constituée par un réseau de tran- ches de couches déterminées des premier et second matériaux formant un système de puits quantiques couplés (Pun) séparés par des barrières de potentiel; caractérisé en ce que, le photodétecteur étant spécifié pour des conditions de fonctionnement comprenant une discontinuité de bande et un champ électrique local déterminé ainsi qu un temps de réponse maximum (tR), il comprend une phase de détermination de ladite région intermédiaire (Z"3) comportant un nombre minimum de tranches de couches alternées d'épaisseurs variables assurant un temps de réponse inférieur ou égal audit temps de réponse maximum (tR) et en ce que cette phase comprend: - une étape de détermination de l'épaisseur de la première couche en premier matériau formant puits pour que le temps d'évacuation d'un porteur piégé dans ce puits vers le matériau à grande largeur de bande interdite soit inférieur de moitié dudit temps de réponse maxirm.n (tR); - une étape de détermination des épaisseurs des tranches qui suivent, respectivement en second matériau formant barrière et en premier matériau formant puits, de manière à ce que le temps d'&rasion vers le puits précédent soit inférieur ou égal à une fraction dcterminée du temps de réponse maximum, et que le nouveau puits soit le plus épais possible; et la répétition conditionnelle de cette étape en augmentant progressivement le nombre de puits quantiques couplés de manière à réaliser une structure à puits quantiques couplés d'épaisseurs crois- 83577 santes, ladite répétition ayant lieu jusqu'à ce que la largeur possible du dernier puits tende vers l'infini ou qu'elle ne puisse être stric- tement supérieure à celle du puits qui le précède. 3. Procédé selon la revendication 2, caractérisé en ce que ladite fraction du temps de réponse (tR) est égale à 20%. 4. Procédé selon l'une quelconque des revendications I à 3, caractérisé en ce que ledit premier matériau semiconducteur est de l'Indium-Phosphore (InP) et en ce que ledit second matériau semi- conducteur est de l'Indium-Gallium-Arsenic (InGaAs). 5. Procédé selon l'une quelconque des revendications I à 4, caractérisé en ce que lesdits porteurs sont des trous. 6. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 4, caractérisé en ce que lesdits porteurs sont des électrons. 7. Photodétecteur à avalanche du type comprenant au moins une région (Z2) d'absorption de photons (p), dans laquelle sont photoinduits des porteurs en un premier matériau semiconducteur à faible largeur de bande interdite, une région (ZI) de multiplication des porteurs en un second matériau semiconducteur à grande largeur de bande interdite, et une troisième région intermédiaire (Z"3) constituée par un réseau de tranches de couches alternées des premier et second matériaux formant un système de puits quan- tiques couplés (Pun) séparés par des barrières de potentiel; caractérisé en ce que ladite région intermédiaire est réalisée par le procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 6.