Brevet FR2572721A1 — publié le 19860509

PROCEDE ET INSTALLATION DE PREPARATION DE PLATRE DE HAUTE RESISTANCE. L'invention concerne un procédé de préparation de plâtre de haute résistance à partir de sulfate de calcium naturel (gypse) ou de synthèse (sulfogypse, phosphogypse et autres sous-produits de synthèse) ; elle s'étend à une installation de mise en oeuvre dudit procédé. On sait actuellement préparer des plâtres de haute résistance (désignés par "plâtres ", du fait qu'ils sont essentiellement constitués par des semihydrates ou anhydrites de variété Ct ) qui, une fois durcis, présentent des caractéristiques mécaniques beaucoup plus élevées que celles des plâtres courants (désignés par "plâtres ss " car essentiellement composés de la variété p ). Ainsi la résistance en compression des plâtres o( peut varier entre 300 et óOO bars et leur résistance en flexion entre 80 et 160 bars, alors que, pour les plâtres p , ces résistances varient respectivement entre 50 et 100 bars et entre 10 et 20 bars. Le plâtre o( est généralement fabriqué à partir de blocs de gypse qui sont soumis à une phase de cuisson par voie humide en autoclave, suivie d'une phase de séchage par un courant d'air chaud et sec et d'une phrase de pulvérisation. La cuisson s'effectue pendant plusieurs heures (de l'ordre de 10 heures) en atmosphère de vapeur d'eau saturante à une pression de l'ordre de 5 à 10 bars et à une température de l'ordre de 2500 C. Un tel procédé qui présente un fonctionnement nécessairement discontinu, est de mise en oeuvre extrêmement coûteuse, tant par le prix très élevé des installations qu'il nécessite que par le coût de la consommation énergétique et la main d'oeuvre qu'il implique. De fait, de telles installations sont uniquement à la portée de sociétés ou groupes importants et le prix de revient du plâtre fabriqué cantonne celui-ci à des applications spéciales, en particulier dans le domaine médical.Dans la construction, on utilise essentiellement du plâtre p dont le prix (4 à 5 fois meilleur marché) est seul compatible avec les exigences de ce secteur ; toutefois les caractéristiques mécaniques de cette variété limitent considérablement les applications qui se réduisent pratiquemment à une utilisation comme enduit ou revêtement Par ailleurs, pour pallier ces inconvénients, on a tenté d'adapter à la fabrication du plâ- tre La présente invention se propose d'indiquer un nouveau procédé de fabrication de plâtre de haute résistance qui soit exempt des défauts des procédés connus. Un objectif de l'invention est en particulier de permettre de fabriquer un plâtre possédant une résistance à la compression supérieure à 300 bars, à un court de revient du même ordre de grandeur que celui des plâtres p courants. Un autre objectif de l'invention est de fournir une installation de fabrication, de structure simple, éventuellement transportable, exigeant des investissements modérés dont les montants sont à- la portée de petites et moyennes entreprises. Un autre objectif est de permettre la préparation de plâtre, constitué essentiellement de la variété 4 , contenant un mélange de phases, susceptible d'être adapté à l'application envisagée ; en particulier l'invention se propose de permettre de fabriquer un plâtre de haute résistance possédant des caractéristiques mécaniques appropriées pour réaliser des constructions intégrales en plâtre. Un autre objectif est de réaliser une fabrication continue de plâtre de haute résistance. Un autre objectif est de permettre d'utiliser comme matiere première, non seulement du gypse naturel, mais encore des sous-produits ou résidus de synthèse tels que sulfogypse ou phosphogypse. A cet effet, le procédé visé par l'invention est du type comprenant une phase de cuisson par voie humide et une phase de séchage ; conformément à la présente invention, ledit procédé utilise, comme produit de départ, du sulfate de calcium sous forme de poudre (gypse ou sous-produits de synthèse) de préférence de granulométrie inférieure à environ 0,5 mulet consiste - dans la phase de cuisson par voie humide, à renouveler à plusieurs reprises les opérations suivantes (a) répartir la poudre sous forme de galette sur un plateau, (b) soumettre celle-ci à une atmosphère de vapeur d'eau surchauff-ée, (c) envoyer en pluie la poudre de ladite galette vers un autre plateau en vue de former une autre galette et la soumettre à une atmosphère de vapeur d'eau similaire, - dans la phase de séchage, a renouveler à plusieurs reprises les opérations suivantes, à partir de la poudre issue de la phase de cuisson : (d) répartir la poudre sous forme de galette sur un plateau, (e) disposer celle-ci en atmosphère chaude plus sèche que celle prévue à l'opération (b) (f) envoyer en pluie la poudre de ladite galette vers un autre plateau en vue déformer une autre galette soumise à une atmosphère similaire. Le procédé conforme à l'invention est de préférence mis en oeuvre dans les conditions suivantes les opérations (b) consistent à soumettre la galette de poudre à une atmosphère de vapeur d'eau surchauffée, de température comprise entre 1500 C et 3000 C, les opérations (e) consistent à soumettre la galette de poudre a une atmosphère plus sèche de température comprise entre 1000 C et 2500 C, les opérations (a), (b) et (c) de la phase de cuisson sont renouvelées approximativement entre 10 et 25 fois avec des temps de séjour sur chaque plateau appropriés pour conférer à cette phase une durée approximative comprise entre 20 mn et 30 mn, les opérations (d), (e) et (f) de la phase de séchage sont renouvelées approximativement entre 5 et 12 fois avec des temps de séjour sur chaque plateau appropriés pour conférer à cette phase une durée approximative comprise entre 10 mn et 20 mn. Dans les opérations (b) l'atmosphère est portée et maintenue à la température sus évoquée, d'une part, par la vapeur qui peut être délivrée à une température comprise entre 1500 C et 3000 C, d'autre part, par un apport calorifique fourni par une combustion au voisinage des plateaux ; pour les opérations (e), l'atmosphère est maintenue à la température appropriée par cette combustion. Ainsi, comme on le comprendra mieux plus loin, le procédé de l'invention peut être- mis en oeuvre en continu, à la pression atmosphérique ; les produits sont traités en couches minces qui sont désagrégées etrefor- mées au cours des opérations (c)et (f) ; le renouvellement répété des opérations (a) (b) (c) au cours de la phase humide autorise une excellente pénétration de la vapeur et de la chaleur au coeur de la poudre et ce, malgré les propriétés isolantes de celle-ci ; de même le renouvellement répété des opérations (d) (e) (f) autorise un séchage efficace de cellesci. Au terme des deux phases, on obtient un plâtre se présen- tant sous forme de poudre et formé, dans sa quasi totalité, de la variété 0( ; la durée totale des deux phases n'excède pas une heure et les conditions de mise en oeuvre assurent une excellente efficacité du traitement si on rapporte le coût de l'énergie consommée au kg de plâtre obtenu. Le procédé conforme à itinvention est de préférence mis en oeuvre dans une installation comprenant en combinaison les moyens suivants - une enceinte possédant une portion supérieure, dite de cuisson, contiguë à une portion inférieure,dite de séchage, - une pluralité de plateaux superposés sensiblement horizontaux, disposés dans ladite enceinte, - des moyens de compartimentage de chaque plateau, situés entre les plateaux et s'étendant jusqu'au voisinage immédiat de la surface supérieure de chaque plateau, - des moyens d'entraînement adaptés pour engendrer un déplacement relatif des plateaux par rapport aux moyens de compartimentage, - des moyens de distribution de poudre dans l'enceinte et de répartition de celle-ci sur le plateau supérieur, agencés en partie haute de l'enceinte pour permettre de couvrir de poudre la surface dudit plateau supérieur, - des moyens de passage par gravité de la poudre d'un plateau à l'autre, adaptés pour permettre ledit passage après séjour de la poudre sur le plateau considéré, - des moyens d'admission de vapeur dans l'enceinte et des moyens de distribution de celleci dans les intervalles entre plateaux au niveau de la portion supérieure de cuisson de ladite enceinte, - des moyens de chauffage agencés pour fournir un apport calorifique à l'intérieur de l'en- ceinte, - et des moyens d'évacuation agencés en partie basse de l'enceinte pour recevoir la poudre et la guider vers l'extérieur de l'enceinte. Cette installation de structure simple est mis en oeuvre à la pression atmosphérique et fonctionne en continue après une période d'amorçage permettant l'alimentation de tous les plateaux ; la poudre séjourne sur chaque plateau pendant un temps correspondant à un tour, puis descend en pluie sur le plateau du dessous et ainsi de suite jusqu'au plateau du bas, chaque grain subissant de la sorte un traitement global conforme au procédé défini précédemment. Le plateau supérieur est alimenté en poudre par les moyens de distribution et de répartition avec un débit égal au débit de passage de la poudre d'un plateau à l'autre, le débit d'évacuation en partie basse de l'enceinte étant lui-même égal à ce débit de passage. La durée du traitement est définie par la vitesse de rotation et par le nombre de plateaux. Les moyens d'entratnement sont de préférence constitués par un moto-variateur adapté pour assurer une rotation de vitesse comprise entre 0,5 et 1,5 tour/mn, l'enceinte contenant approximativement entre 10 et 25 plateaux dans la portion supérieure de cuisson et entre 5 et 15 plateaux dans la portion inférieure de séchage. Les moyens de chauffage assurant l'apport calorifique à l'intérieur de l'enceinte peuvent comprendre des brûleurs situés en partie basse de enceinte autour des plateaux, cependant que des moyens de reprise de vapeur et de gaz brûlés sont prévus à la partie haute, des moyens d'entrée d'air étant prévus à la base de l'enceinte l'enceinte peut, par exemple, être constituée par une cloche, dont la base ouverte permet l'entrée d'air et qui est équipée en partie haute, d'un conduit de reprise. L'invention exposée ci-dessus dans sa forme générale sera même comprise à la lecture de la description détaillée qui suit et à l'examen des dessins annexés, qui présentent à titre d'exemple non limitatif un mode de réalisation d'une installation de fabrication ; sur ces dessins qui font partie intégrante de la présente description - la figure 1 est une coupe axiale par un plan vertical de ladite installation, - la figure 2 en est une coupe de détail du même type, à échelle plus grande, - la figure 3 est une coupe par un plan horizontal montrant les moyens de compartimentage d'un plateau, - la figure 4 est une vue partielle en perspective, montrant les moyens de distribution de vapeur situés entre deux plateaux, - la figure 5 est une vue de détail en perspective du montage des plateaux, - la figure ó est une vue en perspective éclatée montrant deux plateaux voisins et leurs moyens de compartimentage, les moyens de compartimentage du plateau du dessus étant séparés dudit plateau pour faciliter la compréhension, - -la figure 7 est une vue de détail en coupe verticale, montrant les moyens de répartition de poudre prévus en partie haute de l'installation, - la figure 8 est une vue de détail en coupe verticale montrant les moyens d'évacuation prévus en partie basse de l'enceinte. L'installation représentée à titre d'exemple aux figures est destinée à assurer la fabrication en continue de plâtre de haute résistance, constitué par un mélange de phases essentiellement de la variété b( dont la composition peut etre modulée en fonction de l'application (mélange des phases Ca S04, xH20 ; Ca S04, y H2 O Ca S04, z H2 0... dans lesquelles x, y, z.. peuvent être amenés à varier en fonction des conditions opératoires). Cette installation comprend une enceinte 1 en forme de cloche cylindrique ouverte à sa base, dont les parois sont calorifugées. Cette enceinte, d'environ 2,5m de hauteur et 2,10 m de diamètre, peut le cas échéant être montée sur des moyens de roulement en vue de son déplacement. L'enceinte 1 est dotée selon son axe vertical XX' d'un arbre central creux 2 entra1né en rotation lente par des moyens de transmission symbolisés en 3 à la base de celui-ci ; ces moyens sont accouplés à un motovariateur, notamment par l'entremise d'une chaine, de façon à permettre d'entrainer cet arbre en rotation à une vitesse comprise entre 0,5 et 1,5 tour/mn. Ce moto-variateur est monté sur les moyens de roulement précités à proximité de l'enceinte. L'arbre 2, qui s'étend sur pratiquemment toute la hauteur de l'enceinte 1, est guidé en partie haute par trois guides de longueur réglable tels que 28, qui permettent d'en régler la verticalité. Cet arbre est entouré d'une pluralité de plateaux de forme circulaire tels que 4, 5, 6 ou 7 qui sont superposés les uns au-dessus des autres. Enfl'exem- ple, l'enceinte comprend 26 plateaux dont 17 situés dans une portion haute la de l'enceinte, dite portion de cuisson, et 9 dans la portion contiguë basse lb, dite portion de séchage. A l'exception du plateau inférieur 7 qui, comme on le verra plus loin, sert à évacuer les produits traités, les 25 plateaux 4, 5 ou 6 des portions la et lb sont solidarisésen rotation à l'arbre de façon à tourner avec celui-ci. Sur leur pourtour, ces plateaux sont chacun dotés d'une bordure circulaire telle que 8 et sont en appui sur des galets de roulements tels que 9 qui sont portés par trois montants tels que 10 assujettis à l'enceinte. En l'exemple, chaque plateau est doté d'une douille centrale d'écartement 11, emmanchée autour de l'arbre 2 avec un clavetage en rotation par une clavette 12. Les plateaux sont ainsi montés en les enfilant par une extrémité de l'arbre jusqu'à former un empilage, dans lequel les douilles 11 des plateaux voisins viennent se disposer en appui et définissent l'écartement entre deux plateaux (qui peut être de l'ordre de 4 à 5cm). L'amie creuse de l'arbre 2 con nar l'entremise d'un dont tournant 30 tient un conduit de vapeur 13 dont la base est reliéqà une chaudière de production de vapeur surchauffée à une température comprise entre 150 et 3000 C. La partie haute de l'arbre creux 2 (située au niveau de la portion de cuisson la) est isolée de la partie basse et forme une chambre de distribution 2a de laquelle partent des tubes de distribution tels que 14 ces tubes communiquent avec la chambre 2a à travers des lumières de distribution dont est percé l'arbre. Les tubes 14 sont disposés radialement et sont régulièrement répartis en étoile autour de l'arbre 2 dans les intervalles séparant les plateaux 4, 5 de la portion de cuisson la. Dans chaque intervalle entre deux plateaux, six tubes peuvent par exemple être prévus, régulièrement répartis autour de l'arbre (distance angulaire 600). Sur leur longueur, ces tubes sont dotés de plusieurs orifices d'éjection de vapeur 14a dont l'agencement est décrit plus loin. Dans chaque intervalle entre deux plateaux, les tubes 14 sont fixés sous le plateau du dessus au moyen d'organes de fixation 15 disposés à l'extrémité périphériques desdits tubes. Ces tubes sont donc solidaires en rotation de l'arbre 2 et des plateaux. En outre, la chambre de distribution 2a comporte des tuyères 16 qui s'ouvrent vers la partie basse de l'arbre creux. Par leur inertie thermique, ces tuyères échauffées à la température ambiante de l'enceinte, font office de régulateur de la température de la vapeur d'eau. Par ailleurs, dans chaque intervalle entre plateaux, sont disposés des moyens de compartimentage comprenant plusieurs séparations radiales 17 (en l'exemple au nombre de douze) et plusieurs séparations circulaires concentriques 18 (en l'exemple au nombre de cinq). Ces moyens de compartimentage s'étendent depuis la surface du plateau inférieur de l'intervalle sur une partie de la hauteur de celui-ci (au-dessous des tubes de distribution 14). Ils sont immobiles et fixés sur des membrures en biais telles que 19, en l'exemple agencées en triangle et assujetties sur les montants 10. Ces moyens de compartimentage 17 et 18 délimitent une pluralité de compartiments en forme de portion de secteur de cercle, qui peuvent être divisés en six groupes (C1, C2, C3, C4, C5, CC) depuis les compartiments C1 de surfaces réduites situés à proximité de l'arbre 2 jusqu'aux compartiments périphériques C6 de surfaces plus grandes. Les orifices d'éjection de vapeur 14a des tubes 14 sont répartis le long de ces tubes de façon à distribuer la vapeur dans chacun des groupes de compartiments. Grâce à la rotation des tubes, la distribution de vapeur s'étend de façon homogène à toute la surface de chaque groupe de compartiments ; la répartition des orifices 14a le long des tubes 14 est identique pour les divers groupes de compartiments de sorte que la quantité de vapeur refoulée vers chacun des compartiments est identique : les surfaces de ces derniers étant différentes, il s'ensuit que la quantité de vapeur éjectée par unité de surface de plateau est décroissante depuis l'arbre vers le bord périphérique des plateaux. La matière disposée près de l'arbre reçoit donc davantage de vapeur par unité de poids et subit un traitement différent de celle disposée dans les compartiments des autres groupes. L'installation conforme à l'invention réalise ainsi, dans la portion de cuisson, six types de traitement qui diffèrent par le taux de vapeur d'eau reçue par le-produit. Les plateaux rotatifs 4, 5 ou 6 sont dotés de moyens de passage par gravité de la poudre d'un plateau au plateau inférieur ; ces moyens comprennent une fente radiale en forme de secteur de cercle 20, pratiquée dans chaque plateau et agencée de sorte que la fente d'un plateau soit décalée dans le sens de la rotation par rapport à la fente du plateau situé immédiatement au-dessus. I1 est à noter que les montants 10 peuvent être solidarisés à l'enceinte par l'entremise de vibreurs 21, qui communiquent aux plateaux et compartiments un mouvement de vibration de faible amplitude, facilitant le passage de la poudre d'un plateau à l'autre. Ainsi, après un séjour d'un tour sur un plateau, la poudre tombe en pluie sur le plateau suivant, sous la forme d'un rideau de poudre se déplacant progressivement autour de l'axe central. I1 est important de remarquer qu'un grain de poudre situé dans un groupe de compartiments C1 ... C6 tombe dans le même groupe psur tous les plateaux superposés et est donc soumis au même traitement à la vapeur sur les divers plateaux : globalement la poudre subit donc un traitement différentiel à la vapeur, au cours de la phase de cuisson. Pour éviter dans chaque compartiment une accumulation de poudre à l'arrière des séparations radiales 17, un grillage 29 (du type grille de tamis, de mailles de dimensions très supérieures à la granulométrie de la poudre traitée) est fixé sur ces séparations à la base de celles-ci. Ce grillage au voisinage duquel tourne le plateau correspondant réduit les forces de friction du plateau sur la matière et permet d'avoir une couche d'épaisseur sensiblement constante dans les compartiments. (Pour éviter de surcharger les figures, le grillage 29 n'est représenté que partiellement aux figures 3 et 6). Par ailleurs, en partie basse, l'enceinte contient des brûleurs tels que 22, aptes à produire une combustion à la périphérie des plateaux En partie haute centrale, un conduit 23 assure la reprise des vapeurs et gaz brulés et permet le recyclage desdites vapeurs vers la chaudière. En outre, l'enceinte 1 est dotée en partie haute d'une trémie de chargement 24 qui forme dans sa partie basse un compartiment situé dans l'enceinte 1 en vue d'engendrer une mise en température progressive de la matière cette trémie 24 comporte à sa base une ouverture radiale en forme de secteur de cercle, apte à couvrir de poudre une grilte mobile de compartimentage 25. Cette grille présente la même disposition radiale et circulaire que les moyens de compartimentage fixes d'un plateau mais est monté mobile en rotation de la même manière que les plateaux. Elle est située au-dessus et au voisinage immédiat des moyens de compartimentage du plateau supérieur 4. De plus, en partie basse, l'enceinte est équipée de moyens d'évacuation, constitués par - le plateau fixe inférieur 7 qui est doté d'une fenetre radiale d'écoulement, enforme de secteur de cercle, - un organe de réception 26 situé au-dessous de ladite fenêtre, - et une grille mobile de compartimentage 27, similaire à la grille 25, qui est e-ntrainée en rotation en même temps que les autres plateaux9 La grille 27 est située au-dessus et au voisinage immédiat du plateau fixe inférieur 7. La structure de l'installation ayant été décrite, -le fonctionnement de celle-ci est expliquée ci-après en suivant le trajet de la poudre, ce qui permettra d'illustrer le procédé de l'invention. La trémie 24 est chargée de gypse naturel ou de résidus de synthèse, réduits en poudre de faible granulométrie inférieure à 0,5 mm. Les grains de poudre s'écoulent par l'ouverture de ladite trémie sur la grille mobile 25 qui, en tournant, les répartit dans les divers compartiments fixes du plateau supérieur 4. Ces compartiments fixes ont une profondeur de l'ordre de 15 mm à 30 mm et s'étendent jusqu'au voisinage immédiat du plateau tournant de façon à retenir la poudre en galettes compartimentées lorsque ledit plateau tourne. La poudre tombe sur le plateau du dessous lorsque le fente du plateau supérieur parvient au niveau de compartiment fixe où elle se trouve. Pendant cette chute au coeur d'une atmosphère dé vapeur d'eau surchauffée, elle s'échauffe, cependant que desgouttes d'eau condensent sur celle-ci compte tenu de la température plus froide de ladite poudre. La poudre répartie en galette sur ce nouveau plateau séjourne pendant un tour sur celui-ci, soit environ 1 à 2 mn ; au cours de ce séjour, elle s'échauffe en présence de vapeur d'eau, l'apport calorifique fourni par les brûleurs 22 évitant un refroidissement trop important de l'atmosphère. Le processus précédent se renouvelle pour les 17 plateaux de la portion supérieure de cuisson la. La poudre a alors atteint une température d'équilibre comprise entre 150et 3000 C. Le processus mis en oeuvre qui combine, d'une part des traitements successifs de la poudre disposée en galettes minces, d'autre part, des traitements successifs de la poudre tombant en pluie dans les intervalles situés entre plateaux, enfin des mélanges répétés due ladite poudre, engendre une remarquable pénétration de la vapeur d'eau et de la chaleur au coeur de la poudre, et de très bons échanges thermiques et de matière entre les grains et l'atmos phère ambiante. En outre, les grains qui se trou vent dans un groupe donné de compartiments, par exemple C1, demeurent dans ce groupe tout au long du processus et reçoi vent donc la même quantité de vapeur pendant toute la durée du traitement ; cette quantité est différente de celle reçue par les grains situés dans un autre compartiment, par exemple C6. La poudre des compartiments C1 (proche du centre) reçoit par unité de poids une quantité de vapeur très supérieure à celle située dans les compartiments CC. On favorise ainsi la formation de plusieurs phases de sulfate de ca-lcium qui se retrouveront sous forme de mélange à la sortie de l'enceinte et qui confèrent au plâtre obtenu ses caractéristiques. La vapeur d'eau surchauffée délivrée globalement dans la portion de cuisson la de l'enceinte correspond à des quantités de l'ordre de 10 à 20 kgj de vapeur pour 100 kgs de poudre traitée. Dans la portion de séchage lb de l'enceinte, le même processus se poursuit par chute d'un plateau à l'autre, mais en l'absence de vapeur, la poudre étant soumise à une atmosphère chaude plus sèche que précédemment. L'apport calorifique n'est plus fourni que par les brûleurs 22 et dans cette portion de séchage lb, la poudre subit un refroidissement et un séchage très efficace en raison du processus mis en oeuvre, pour se retrouver à la sortie de l'enceinte à une température qui peut être de l'ordre de 100 à 1500 C avec un taux d'humidité pondéral de l'ordre de 6 %. La poudre est répartie sur le plateau fixe inférieur 7 par écoulement depuis le plateau situé au-dessus ; elle est mise en rotation par la grille mobile 27 et tombe par la fenêtre d'écoulement du plateau 7 lorsqu'elle arrive au niveau de celle-ci. Les conditions de traitement cidessus évoquées conduisent à un plâtre dont la quasi-totalité est formée de la variété i . Ce plâtre de haute résistance (résistance en compression supérieure à 400 bars) est fabriqué en continu, à un coût qui est du même ordre que celui du plâ- tre ss courant (c'est-à-dire 4 à 5 fois moins cher que les platres comparables de haute résistance). Le plâtre ainsi préparé devient utilisable dans les applications les plus variées et en particulier dans la construction pour réaliser des ouvrages intégralement en plâtre. REVENDICATIONS 1/ - Procédé de préparation de plâtre de haute résistance à partir de sulfate de calcium naturel ou de synthèse, du type comprenant une phase de cuisson par voie humide et une phase de séchage, ledit procédé étant caractérisé en ce qu'il utilise du sulfate de calcium sous forme de poudre et en ce qu'il consiste - dans la phase de cuisson par voie humide, à renouveler à plusieurs reprises les opérations suivantes (a) répartir la poudre sous forme de galette sur un plateau, (b) soumettre celle-ci à une atmosphère de vapeur d'eau surchauffée, (c) envoyer en pluie la poudre de ladite galette vers un autre plateau en vue de former une autre galette et la soumettre à une atmosphère de vapeur d'eau similaire, - dans la phase de séchage, à renouveler à plusieurs reprises les opérations suivantes, à partir de la poudre issue de la phase de cuisson (d) répartir la poudre sous forme de galette sur un plateau, (e) disposer celle-ci en atmosphère chaude plus sèche que celle prévue à l'opération (b) (f) envoyer en pluie la poudre de ladite galette vers un autre plateau en vue de former une autre galette soumise à une atmosphère similaire. 2/ - Procédé de préparation de plâtre selon la re-vendication 1, -ca-ractérisé en ce que les opérations (b) consistent à soumettre la galette de poudre à une atmosphère de vapeur d'eau surchauffée, de température comprise entre 150 C et 3000 C, les opérations (e) consistent à soumettre la galette de poudre à une atmosphère plus sèche de température comprise entre 1000 C et 2500 C, les opérations (a), (b) et (c) de la phase de cuisson sont renouvelées approximativement entre 10 et 25 fois avec des temps de séjour sur chaque plateau appropriés pour conférer à cette phase une durée approximative comprise entre 20 mn et 30 mn, les opérations (d), (e) et (f) de la phase de séchage sont renouvelées approximativement entre 5 et 12 fois avec des temps de séjour sur chaque plateau appropriés pour conférer à cette phase une durée approximative comprise entre 10 mn et 20 mn. 3/ - Procédé de préparation de plâtre selon l'une des revendications 1- ou 2, caractérisé en ce que, pour les opérations (b) et les opérations (e), l'atmosphère est maintenue à la température appropriée par un apport calorifique fourni par une combustion au voisinage des plateaux correspondants, la vapeur délivrée aux opérations (b) ayant une température comprise entre 1500 C et 3000 C. 4/ - Procédé de préparation de plâtre selon l'une des revendications 1, 2, ou 3, caractérisé en ce que les opérations (b) sont réalisées de façon à délivrer globalement au cours de la phase de cuisson une quantité de vapeur comprise entre 10 et 20 kilogrammes pour 100 kilogrammes de poudre traitée. 5/ - Procédé de préparation de plâtre selon l'une des revendications 1, 2, 3 ou 4, caractérisé en ce que, à chaque opération (a) ou (-d), La poudre est répartie de façon à former une galette d'épaisseur à peu près uniforme, en particulier comprise entre 15 mm et 30 mm, l'opération (b) étant réalisée en dirigeant une pluralité de jets de vapeur vers la surface de la galette. 6/ - Procédé de préparation de plâtre selon la revendication 5, caractérisé ence que, à chaque opération (b), l'on répartit les jets de vapeur sur la surface de la galette de façon à envoyer vers celle-ci une quantité de vapeur par unité de poids de poudre, variable le long de la surface du plateau en vue d'assurer un traitement différentiel de la poudre selon sa position sur le plateau. 7/ - Procédé de préparation de plâtre selon l'une des revendications 1, 2, 3, 4, 5 ou 6, caractérisé en ce que les opérations (c) et (f) sont réalisées en amenant la poudrera tomber par gravité d'un plateau au sui- vant placé au-dessous, sous la forme d'un rideau de poudre se déplaçant progressivement le long de toute la surface du plateau concerné. 8/ - Procédé de préparation selon les revendications 5 et 7 prises ensemble, caractérisé en ce que les jets de vapeur de chaque opération (b) sont injectés dans l'espace séparant deux plateaux superposés, où se forme la pluie de poudre. 9 - Procédé de préparation de plâtre selon les revendications 6 et 7 prises ensemble, caractérisé en ce que l'opération (c) de passage de la poudre d'un plateau au suivant et l'opération (b) d'injection de vapeur sont réalisées de façon qu'un grain de poudre donné subisse sensiblement le même traitement à la vapeur sur les divers plateaux de sorte que, globalement au cours de la phase de cuisson, la poudre soit soumise à un traitement différentiel à la vapeur. 10/ - Procédé de préparation de plâtre selon la revendication 6, caractérisé en ce que l'on soumet les plateaux à un mouvement de vibration. 11/ - Procédé de préparation de plâtre selon l'une des revendications 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9 ou 10, caractérisé en ce que l'on utilise, comme matiere première, du gypse naturel réduit en poudre de granulométrie inférieure à environ 0,5 mm. 12/ - Procédé de préparation de plâtre selon l'une des revendications 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9 ou 10, caractérisé en ce que l'on utilise comme matière première un sous-produit de synthèse du type sulfogypse ou phosphogypse, réduit en poudre de granulométrie inférieure à environ 0, 5 mm. 13/ - Installation pour la préparation continue de plâtre par mise en oeuvre du procédé conforme à l'une des revendications 1 à 12, caractérisée en ce qu'elle comprend - une enceinte (1) possédant une portion supérieure, dite de cuisson (la), contiguë à une portion inférieure dite de séchage (lb), - une pluralité de plateaux (4, 5, 6) superposés sensiblement horizontaux, disposés dans ladite enceinte, - des moyens (17, 18) de compartimentage de chaque plateau, situés entre les plateaux et sté- tendant jusqu'au voisinage immédiat de la surface supérieure de chaque plateau, - des moyens d'entrainement (2, 3) adaptés pour engendrer un déplacement relatif des plateaux par rapport aux moyens de compartimentage, - des moyens (24, 25) de distribution de poudre dans l'enceinte et de répartition de celle-ci sur le plateau supérieur (4), agencés en partie haute de l'enceinte pour permettre de couvrir de poudre la surface dudit plateau supérieur, - des moyens(20) de passage par gravité de la poudre d'un plateau à l'autre, adaptés pour permettre ledit passage après séjour de la poudre sur le plateau considéré, - des moyens (13) d'admission de vapeur dans l'enceinte et des moyens (14) de distribution de celle-ci dans les intervalles entre plateaux au niveau de la portion supérieure de cuisson (la) de ladite enceinte, - des moyens de chauffage(22) agencés pour fournir un apport calorifique à l'intérieur de l'enceinte, - et des moyens (7, 26, 27) d'évacuation agencés en partie basse de l'enceinte pour recevoir la poudre et la guider vers l'extérieur de l'enceinte. 14/ - Installation selon la revendication 13, caractérisée en ce que les plateaux superposés (4, 5, 6) sont circulaires et s'étendent autour d'un axe central vertical (XX'), les moyens d'entrainement étant adaptés pour engendrer, autour dudit axe vertical, un mouvement de rotation relatif desdits plateaux par rapport aux moyens de compartimentage (17, 18), les moyens de passage par gravité étant constitués par une fente radiale (20) pratiquée dans chaque plateau et agencée de sorte que la fente d'un plateau soit décalée dans le sens de la rotation par rapport à la fente du plateau situé immédiatement au-dessus. 15/ - Installation selon la revendication 14, caractérisée en ce que les moyens d'entraine- ment sont adaptés pour entraîner les plateaux dans un mouvement de rotation relatif avec une vitesse de rotation comprise entre 0,5 et 1,5 tours/mn, l'enceinte comprenant approximativement entre 10 et 25 plateaux dans la portion supérieure de cuisson (laj et entre 5 et 15 plateaux dans la portion inférieure de séchage (lb). 16 - Installation selon l'une des revendications 14 ou 15, caracterisée en ee que les moyens de compartimentage (17, 18) sont fixes et solidarisés à des montants (10) portés par l'enceinte et situés à la périphérie des plateaux, lesdits plate-aux étant entraînés en rotation -par un arbre central (2) s'étendant le long de l'axe vertical (XX') précité et relié par des moyens de transmission (3) à un moteur d'entrainement. 17/ -- Installation selon la revendication 16, caractérisée en ce que l'arbre vertical(2) présente une âme creuse reliée aux moyens d'admission de vapeur (13) et e-st percé de lumières de distribution dans les intervalles séparant les plateaux de la portion de cuisson (la), lesdites lumières étant associées à des tubes de distribution (14), répartis en étoile autour de l'arbre dans chaque intervalle entre plateaux et dotées d'orifices d'éjection (14a) adaptés de sorte que la quantité de vapeur éjectée par unité de surface de plateau soit variable le long du rayon des plateaux. 18/ - Installation selon la revendication 17, caractérisée en ce que, dans chaque intervalle entre plateaux, les tubes de distribution (14) sont disposés radialement et sont répartis autour de l'arbre central (2) de façon que la quantité de vapeur éjectée par unité de surface de plateau soit décroissante depuis l'arbre vers le bord périphérique des plateaux. 19/ - Installation selon l'une des revendications 16, 17 ou 18, caractérisée en ce que chaque plateau est doté d'une douille centrale d'écartement (11), emmanchée autour de l'arbre avec un clavetage en rotation (12) et disposée en appui avec les douilles des plateaux voisins, des galets de roulement (9) étant prévus à la périphérie pour supporter chaque plateau au voisinage de son pourtour. 20/ - Installation selon l'une des revendications 16, 17, 18 ou 19, caractérisée en ce que les montants (10) sont solidarisés à l'enceinte par l'entremise de vibreurs (21). 21/ - Installation selon l'une des revendications 16, 17, 18, 19 ou 20, caractérisée en ce que les moyens de compartimentage de chaque plateau compr-ennent plusieurs séparations radiales (17) et plusieurs séparations circulaires concentriques (18), lesdites séparations étant maintenues par des membrures en biais (19) fixées sur les montants (10). 22/ - Installation selon l'une des revendications 16, 17, 18, 19, 20 ou 21, caractérisée en ce que les moyens de distribution et de répartition de poudre comprennent une grille mobile de compartimentage (25) située au-dessus et au voisinage immédiat des moyens fixes de compartimentage du plateau supérieur (4), ladite grille étant entrainée en rotation en même temps que les plateaux, - et une trémie de chargement (24) agencée pour pouvoir déverser la poudre au-dessus de la grille mobile. 23/ - Installation selon l'une des revendications 16, 17, 18, 19, 20, 21 ou 22, caractérisée en ce que les moyens d'évacuation de la poudre comprennent - un plateau fixe (7) situé en partie basse de l'enceinte et doté d'une fenêtre d'écoulement, - un organe de réception (26) situé au-dessous de ladite fenêtre, - une grille mobile de compartimentage (27) située au-dessus et au voisinage immédiat du plateau fixe (7) précité, ladite grille étant entraînée en rotation en même temps que les autres plateaux. 24/ - Installation selon l'une des revendications 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20, 21, 22 ou 23, caractérisée en ce que les moyens de chauffage comprennent des brûleurs (22) situés en partie basse de l'enceinte autour des plateaux, des moyens d'entrée d'air étant prévus à la base de l'enceinte, et des moyens (23) de reprise de vapeur et de gaz brûlés étant prévus à sa partie haute. 25/ - Installation selon l'une des revendications 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20, 21, 22, 23 ou 24, caractérisée en ce qu'un grillage (29) est fixé sur les moyens de compartimentage (17, 18) au voisinage du plateau cor- respondant en vue d'obtenir une couche de poudre d'épaisseur sensiblement constante sur chaque plateau.