Brevet FR2550467A1 — publié le 19850215

La présente invention concerne un procédé et un dispositif pour l'injection d'au moins un courant d'une matière finement divisée dans un écoulement gazeux chaud, tel qu'un jet de plasma Elle concerne également un appareil 5 permettant de mettre en oeuvre ce procédé et d'effectuer toutes sortes d'opérations et de réactions au moyen d'un écoulement gazeux chaud. On sait que s'est développée, ces dernières années, une technique de réactions chimiques et d'opérations diverses 10 (fusion, recristallisation, pyrolyse, etc), parfois appelée globalement chimie en plasma, mettant en oeuvre des matières finement divisées, telles que poudres et liquides, et un jet de plasma Selon cette technique, on injecte de telles matières finement divisées, géné15 ralement appelées réactifs, dans l'écoulement chaud constitué par le jet de plasma. Il est particulièrement important, pour la qualité des résultats obtenus, que-l'injection des réactifs permette une répartition homogène et une dissolution par20 faite de ceux-ci dans ledit écoulement Or, on sait qu'un jet de plasma présente une viscosité élevée, de sorte que l'injection des réactifs est un problème délicat à résoudre Il en est particulièrementainsi lorsqu'il s'agit de faire pénétrer des gouttelettes de liquide 25 ou des particules (dont la taille varie de quelques microns à 1000 microns) dans un jet de plasma dont la température et la pression sont respectivement de l'ordre de 2000 C à 6000 'C et de 1 à 20 bars. On a déjà proposé différentes méthodes pour l'injection 30 de réactifs dans un jet de plasma; ces méthodes font intervenir l'injection des réactifs, soit en amont ou au niveau du générateur de plasma, soit en aval de celui-ci. 1 Dans le premier cas, on évite un certain nombre de difficultés, et notamment celle du mélange de réactifs froids et du jet de plasma chaud due à la viscosité importante de celui-ci En revanche, puisque les réactifs doivent traverser le générateur de plasma, cette méthode ne peut être mise en oeuvre avec des réactifs qui risquent de réagir soit avec les électrodes, soit avec les parois du générateur De plus, elle ne peut être utilisée qu'avec les générateurs de plasma dont la structure se prête à 10 une telle injection. Dans le cas d'une injection en aval du générateur, on opère de différentes manières On peut réaliser un lit fluidisé, dans lequel des particules de réactifs se trouvent en suspension dans des réservoirs annexes et entrai15 ner ces particules vers l'écoulement chaud On se heurte alors aux difficultés mentionnées ci-dessus, dues à la viscosité de ce dernier On peut également faire tomber les particules par gravité dans l'écoulement chaud Cependant, là encore, on se heurte au fait que le réactif 20 se mélange peu à l'écoulement chaud, une partie importante des particules des réactifs ayant tendance à rebondir sur celui-ci. La présente invention a pour objet de remédier à ces inconvénients et de permettre la parfaite homogénéité 25 et dissolution des réactifs dans un écoulement gazeux chaud. A cette fin, selon l'invention, le procédé pour l'injection d'au moins un courant d'une matière finement divisée dans un écoulement gazeux chaud, tel qu'un jet 30 de plasma, est remarquable en ce que: on interpose sur le trajet dudit écoulement gazeux chaud un écran percé d'une pluralité d'orifices spatialement répartis autour de 1 l'axe dudit écoulement gazeux chaud, de façon à fractionner celui-ci en une pluralité d'écoulements élémentaires présentant au moins approximativement la même direction générale; et on amène ledit courant de matière finement divisée -à au moins une buse au moins partiellement entourée par lesdits orifices, afin de créer au moins un courant de matière finement divisée, de direction au moins approximative10 ment semblable à celle desdits écoulements gazeux chauds élémentaires et entouré par au moins certains de ceux-ci. On réalise ainsi une injection au moins approximativement coaxiale du courant de matière finement divisée dans l'écoulement gazeux chaud, de sorte que l'on optimise les conditions de transfert entre le jet chaud et le réactif et que l'on favorise l'homogénéisation du mélange, tout en permettant l'entrainement, et donc la réaction, de toutes les particules de réactif par l'écoulement chaud. Afin d'améliorer encore ces conditions de transfert et l'homogénéisation du mélange, il est avantageux que ledit courant de matière finement divisée soit fractionné également en une pluralité de courants élémentaires, adressés à une pluralité de buses respectives, chacune desdites buses étant au moins partiellement entourée par certains desdits orifices de passage des écoulements élémentaires de gaz chaud. Un tel fractionnement du courant de matière finement divisée peut être réalisé en amont dudit écran ou au niveau 30 de celui-ci. Par ailleurs, afin de permettre l'injection de plusieurs réactifs dans le même écoulement gazeux chaud, on peut prévoir plusieurs buses destinées à recevoir des courants 1 de matières finement divisées différentes, chacune desdites buses étant au moins partiellement entourée par certains desdits orifices de passage des écoulements élémentaires de gaz chaud. Suivant les réactions ou opérations à effectuer, le ou les courants de matière(s) finement divisée(s) peuvent être injectés, dans les écoulements élémentaires de gaz chaud, dans le même sens ou à contre-sens de ceux-ci. Pour permettre la mise en oeuvre aisée de ce procédé, on 10 prévoit, selon l'invention, un écran constitué par un agencement en forme de plaque, pourvu de trous traversants formant lesdits orifices de fractionnement de l'écoulement gazeux chaud et d'au moins une buse entourée au moins partiellement par lesdits orifices, les axes desdits ori15 fices et de la ou des buses présentant au moins la même direction générale et un canal d'alimentation de chaque buse en matière finement divisée étant pratiqué dans l'épaisseur dudit agencement De préférence, chaque canal débouche,individuellement ou en commun avec d'autres canaux, à la périphérie dudit agencement en forme de plaque pour pouvoir être relié à des moyens d'alimentation en matière finement divisée. Ledit écran peut être réalisé par l'assemblage de plusieurs plaques Avantageusement,afin d'éviter les interfaces de mau25 vaise transmission de la chaleur, il est préférable que ledit écran soit constitué d'une plaque épaisse unique. L'écran selon l'invention peut être réalisé en une matière réfractaire, par exemple du type céramique Il en est particulièrement ainsi lorsque la température de l'écoule30 ment gazeux ne dépasse pas 2000 "C environ Dans ce cas, il n'est pas nécessaire de prévoir de système de refroidissement, de sorte que la totalité de l'écran est disponible pour agencer librement les orifices et les buses. En revanche, dans le cas oh la température de l'écoule- 1 ment gazeux chaud est de l'ordre de 3000 C, ou plus, il est nécessaire d'utiliser un écran refroidi, constitué par du cuivre ou tout autre matière On doit alors prévoir dans ledit écran des canaux pour la circulation d'un fluide de refroidissement Il en résulte une contrainte en ce qui concerne la disposition desdits orifices et buses: Cependant, on peut alléger cette contrainte en disposant dans des plans différents les canaux de circulation de fluide de refroidissement et les canaux 1 l d'alimentation en matière finement divisée. Les orifices de passage des écoulements élémentaires de gaz chaud peuvent présenter le même diamètre ou au contraire avoir des diamètres différents L'interposition dudit écran peut avoir pour conséquence que les conditions de 15 température et de pression de l'écoulement gazeux chaud sont identiques én aval et en amont dudit écran, ou bien au contraire celui-ci peut être conçu pour introduire une différence dans ces conditions en amont et en aval dudit écran. Les orifices de passage des écoulements élémentaires de gaz chaud peuvent avoir toute forme désirée, telle que cylindrique ou conique, ou bien encore se présenter comme des tuyères avec convergent et divergent On peut prévoir touteautre forme ayant pour effet de favoriser la répartition de l'écoulement chaud Les axes de ces orifices de passage des écoulements élémentaires de gaz chaud peuvent être parallèles à l'axe de l'écoulement principal, ou au contraire être légèrement inclinés sur celui-ci, par exemple pour engendrerun effet de convergence vers ledit 30 axe ou un effet de rotation hélicoïdal autour de lui. De même, les buses d'injection du ou des réactifs peuvent être cylindriques, coniques ou présenter toute forme susceptible de favoriser le mélange de réactifs dans le jet de plasma Elles peuvent être pourvues de dispositifs de pulvérisation aptes à améliorer la dispersion des réactifs. 1 Ainsi, selon l'invention, un appareil de réaction et/ou de traitement d'au moins une matière finement divisée dans un écoulement gazeux chaud, tel qu'un jet de plasma, comportant un générateur dudit écoulement gazeux chaud 5 et des moyens d'alimentation de ladite matière finement divisée, est remarquable en ce qu'il comporte un écran interposé sur le trajet dudit écoulement gazeux chaud et pourvu de trous traversants formant des orifices de fractionnement de l'écoulement du gaz chaud et d'au moins une buse entourée au moins partiellement par lesdits orifices, les axes desdits orifices et de la ou des buses présentant au moins la même direction générale et chaque buse étant alimentée en matière finement divisée à partir desdits moyens d'alimentation. Les figures du dessin annexé feront bien comprendre comment l'invention peut être réalisée Sur ces figures, des références identiques désignent des éléments semblables. Les figures 1 et 2 illustrent schématiquement le procédé et le dispositif conformes à l'invention. La figure 3 est une vue de face d'un exemple de réalisation du dispositif d'injection selon l'invention. Les figures 4, 5 et 6 sont respectivement des coupes selon les lignes IV-Iv, V-v et VI-VI de la figure 3. Le dispositif selon l'invention, représenté schématique25 ment sur les figures 1 et 2,comporte un générateur de plasma symbolisé par un rectangle 1 en traits mixtes et émettant un jet de plasma 4, d'axe 5 Sur le trajet du jet de plasma 4 est interposé un dispositif d'injection 6 susceptible de diviser celui-ci en une pluralité 30 de jets élémentaires au moins sensiblement parallèles 7 et d'émettre un ou plusieurs jets 8, au moins sensiblement parallèles auxdits jets 7, d'une matière finement 1 divisée 9, qui lui est adressée par des moyens d'amenée Ainsi, en aval dudit dispositif d'injection 6, on obtient un jet homogène 11 résultant de la combinaison, de l'interaction et/ou de la réaction du jet de plasma 4 et de la matière finement divisée 9. Dans le dispositif de la figure 1, le ou les jets 8 de matière finement divisée 9 sont dirigés dans le même sens que les jets élémentaires 7, c'est-à-dire vers le jet homogène résultant 11 En revanche, dans le dispositif de 10 la figure 2, le ou les jets 8 de matière finement divisée sont dirigés en sens opposé aux jets élémentaires 7, c'està-dire vers le jet de plasma 4 Dans ce cas, la matière 9 provenant du jet 8 traverse le dispositif d'injection 6 et est transporté vers l'aval par les jets élémentai15 res 7. Les figures 3, 4, 5 et 6 montrent un mode de réalisation du dispositif d'injection 6 Celui-ci comporte une plaque 12, percée au voisinage de son centre d'une pluralité de trous traversants 13 Dans l'exemple représenté, chaque trou traversant 13 présente la forme d'une tuyère convergente divergente et l'ensemble desdits trous 13 forme une croix à branches rectangulaires Ces trous traversants 13 sont destinés à engendrer les jets élémentaires 7. Par ailleurs, entre les trous traversants 13, le disposi25 tif d'injection 6 comporte des trous borgnes 14, reliés à des canaux 15, pratiqués dans l'épaisseur de la plaque 12 et susceptibles d'être raccordés à une ou plusieurs alimentations 10, par l'intermédiaire d'embouts 16 A l'intérieur des trous borgnes 14 sont éventuellement disposés des dis30 positifs de pulvérisation 17 Ainsi, ceux-ci peuvent émettre des jets 8 de matière finement divisée A cet effet, celle-ci peut être véhiculée par un gaz porteur neutre ou participant à la réaction. 1 Enfin, dans la plaque 12 sont prévus des canaux 18, pour la circulation d'un fluide de refroidissement, ce fluide étant amené et évacué par des collecteurs 19 et 20. Dans l'exemple représenté, les dispositifs de pulvérisation 17 de la matière divisée 19 sont au nombre de quatre et sont disposés sur les bissectrices de la croix des trous traversants 13, à égales distances du centre de ladite croix. Le mode de réalisation montrée par les figures 3 à 6 est particulièrement, quoique non exclusivement,approprié 10 à réaliser le mélange d'une poudre, dont la granulométrie varie de quelques microns à 500 microns, à un jet de plasma dont les caractéristiques de température et de pression sont respectivement de l'ordre de 3500 C et de 5 bars La plaque 12 peut alors être en cuivre et le fluide 15 de refroidissement peut être de l'eau circulant à grande vitesse dans les canaux 18. On remarquera que les canaux 15 d'alimentation en matière divisée débouchant individuellement à la périphérie de la plaque 12 (par les embouts 16), il est facile éventuel20 lementd'injecter plusieurs matières divisées différentes; il suffit de relier des embouts 16 à des sources d'alimentation en matières différentes, de sorte que les buses 14, 17 projettent ces matières différentes dans le jet de gaz chaud. REVENDICATIONS 1 1 Procédé pour l'injection d'au moins un courant d'une matière finement divisée dans un écoulement gazeux chaud, tel qu'un jet de plasma, caractérisé en ce que: on interpose sur le trajet dudit écoulement gazeux chaud ( 4) un écran ( 6) percé d'une pluralité d'orifices ( 13) spatialement répartis autour de l'axe ( 5) dudit écoulement gazeux chaud, de façon à fractionner celui-ci en 10 une pluralité d'écoulements élementaires ( 7) présentant au moins approximativement la même direction générale; et on amène ledit courant de matière ( 9) finement divisée à au moins une buse ( 14, 17) au moins 15 partiellement entourée par lesdits orifices ( 13), afin de créer au moins un courant ( 8) de matière finement divisée, de direction au moins approximativement semblable à celle desdits écoulements gazeux chauds élémentai20 res ( 7) et entouré par au moins certains de ceux-ci. 2 Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que ledit courant de matière ( 9) finement divisée est fractionné également en une pluralité 25 de courants élémentaires ( 8), adressés à une pluralité de buses ( 14, 17) respectives, chacune desdites buses étant au moins partiellement entourée par certains desdits orifices ( 13) de passage des écoulements élémentaires de gaz chaud ( 7). 3 Procédé selon l'une des revendications 1 ou 2, caractérisé en ce que l'on prévoit plusieurs buses destinées à recevoir des courants de matières finement divisées différentes, chacune desdites buses étant au moins 1 partiellement entourée par certains desdits orifices de passage des écculements élémentaires de gaz chaud. 4 Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que le ou les courants ( 8) de matières finement divisées sont injectés dans le même sens que celui des écoulements élémentaires ( 7) de gaz chaud. Procédé selon l'une quelconque des revendicationsl à 3, caractérisé en ce que le ou les écoulements ( 8) de matié10 re(s) finement divisée(s) sont injectés à contresens des écoulements élémentaires ( 7) de gaz chaud. 6 Dispositif pour la mise en oeuvre du procédé spécifié sous l'une quelconque des revendications 1 à 5, caractérisé en ce qu'il est constitué par un agencement 15 ( 6) en forme de plaque, pourvu de trous traversants ( 13) formant lesdits orifices de fractionnement-de l'écoulement gazeux chaud ( 4) et d'au moins une buse ( 14, 17) entourée au moins partiellement par lesdits orifices, les axes desdits orifices et de la ou des buses présentant au moins la même direction générale et un canal d'alimentation ( 15) de chaque buse en matière finement divisée étant pratiqué dans l'épaisseur dudit agencement. 7 Dispositif selon la revendication 6, caractérisé en ce que chaque canal ( 15) débouche, indi25 viduellement ou en commun avec d'autres canaux, à la périphérie dudit agencement ( 6) en forme de plaque. 8 Dispositif selon l'une des revendications 6 ou 7, caractérisé en ce qu'il est constitué par une plaque épaisse unique ( 12). 9 Dis Dositif selon l'une quelconque des revendications 6 à 8, 1 caractérisé en ce qu'il comporte un réseau de canaux de circulation ( 18) pour un fluide de refroidissement. Appareil de réaction et/ou de traitement d'au moins une matière finement divisée ( 9) dans un écoulement ga5 zeux chaud ( 4), tel qu'un jet de plasma, comportant un générateur ( 1) dudit écoulement gazeux chaud et des moyens d'alimentation ( 10) de ladite matière finement divisée, caractérisé en ce qu'il comporte un écran ( 6) interposé 10 sur le trajet dudit écoulement gazeux chaud ( 4) et pourvu de trous traversants ( 13) formant des orifices de fractionnement de l'écoulement de gaz chaud et d'au moins une buse ( 14, 17) entourée au moins partiellement par lesdits orifices, les axes desdits orifices et de la ou des buses 15 présentant au moins la même direction générale et chaque buse étant alimentée en matière finement divisée à partir desdits moyens d'alimentation.