Brevet FR2554303A1 — publié le 19850503

SUBSTRATS METALLISABLES POUR CICUIITS IMPRIMES LEUR PROCEDE DE PREPARATIoN La présente invention se rapporte à des substrats faits en une matière polymérique renforcée et métallisable, destinés à la réalisation de circuits imprimés ainsi qu'aux substrats métallisables obtenus. Ces substrats métallisés sont désignés, dans la terminologie anglo-saxonne, par l'appellation "metal-clad". De tels substrats métallisés sont bien connus de l'homme de l'art (cf. brevet américain No 4 110 147). Ils comprennent généralement un matériau support isolant électriquement sur la face ou les deux faces duquel adhère une feuille métallique conductrice. Cette feuille métallique peut être notamment une feuille de cuivre, d'aluminium, de nickel, ou d'acier inxydable ayant une épaisseur comprise entre 10 et micromètres selon le type de circuit imprimé que l'on désire cbtenir. Les substrats métallisés dont on parle peuvent être rigides, semi-rigides ou flexibles selon la composition du matériau support isolant. Par substrat semi-rigide, on désigne un matériau pouvant supporter une déformation élastique par incurvation jusqu'à un rayon de courbure très faible. Dans le cas des substrats métallisés rigides ou semi-rigides qui sont plus particulièrement visés par la présente invention, le matériau support isolant est constitué habituellement par l'empilement d'un certain nombre de préimprégnés qui résultent chacun de l'association, connue en soi, d'une charge de renforcement à structure allongée avec une matière polymérique. Avec une charge de renforcement courante telle que par exemple un tissu de verre de 200 g/m2 ou une feuille de papier imprégnée, on fait appel en moyenne à 6 à 12 préimprégnés. Les préimprégnés courants sont coeposés de papiers de cellulose, de tissus, de coton ou de tissus de verre imprégnés à l'aide de polymères synthétiques. Les résines phénol-formol, polyester et surtout épocxydes sont les produits les plus souvent employés. La charge de renforcement, papier ou tissu de verre, est en général imprégnée à l'aide d'une solution de polymère dans un solvant adéquat, ce qui permet une bonne pénétration du liant polymérique entre les fibres de la charge. La structure imprégnée passe ensuite dans un four porté & une température permettant l'évaporation du solvant. La fabrication des substrats métallisés consiste à interposer entre les plateaux d'une presse l'empilement des préimprégnés recouvert d'une feuille métallique sur l'une ou sur ses deux faces suivant que l'on désire cbtenir un substrat monio- ou bimétallisé. On presse ensuite à une température permettant l'association des différents constituants. Dans certains cas, les feuilles métalliques demandent l'intervention d'un moyen de collage pour adhérer de manière permanente sur les préimprégnrés. Etant donné que les substrats métallisés pour circuits imprims sont de plus en plus demandés, il est souhaitable d'accroitre les rendements de fabrication en réduisant le nomcbre des éléments, en particulier le nombre de préimprégnés, entrant dans leur constitution. Cette simplification au niveau de la fabrication doit être faite bien entendu sans entraîner une baisse des propriétés mécaniques et électriques à chaud. Un autre but que vise la présente invention est de fournir des substrats métallisables et métallisés dont la fabrication rne doit pas douner lieu à une pollution de l'environnement. Comme on l'a indiqué ci-avant, la préparation du matériau support isolant fait intervenir généralement un processus d'imprégnation d'une série de structures de renforcement à l'aide d'une solution de polymère dans un solvant adéquat. Afin d'obtenir un préimprégné utilisable pour la suite des cpérations, on doit éliminer le solvant par séchage. Cette élimination du solvant, en dépit de toutes les précauticns prises pour le récupérer, est souvent une cause de pollution. On ajoutera camme autres inconvénients liés à l'emploi de solvant, d'une part son prix d'achat, et d'autre part 1' importante quantité d'énergie requise pour le séchage. La réduction du noubre des préimprégnés, dont cn a parlé ci-avant pour simplifier la fabrication des substrats méta l isés, apparait donc encore comme une manière de résoudre ce prdobléme de pollution. La présente invention vise d'ailleurs à résoudre complètement ce prcbleme en proposant d'écarter la voie collodion pour la préparation des préimprégnés restants. Un autre but encore de la présente invention est de fournir des substrats métaliisés pour circuits inmprimés qui peuvent facilement être percés par un simple poinçounement et dont la composition interne permet 3 2554303 d'obtenir, en appliquant cette technique de perçage simplifiée, des trous a paroi nette pour le passage des jonctions électriques entre les deux faces. D'autres buts et avantages de la présente invention apparaitrcnt au cours de la description qui va suivre. Il a maintenant été trouvé que l'on pouvait arriver à tout ou partie de ces buts grâce A de nouveaux substrats métallisés conformes a la présente invention. Ces substrats métallisés destinés essentiellement A la réalisation de circuits imprimés sont caractérisés en ce qu'ils comprennent essentiellement une âme centrale constituée essentiellement de matière fibreuse cellulosique et/ou de paillettes de mica et d'une résine thermodurcissable éventuellement chargée, enduite sur une ou deux faces de couches obtenues à partir d'une compositions de résine thermodurcissable chargée par un oxyde métallique non conducteur. Par substrats métallisables on entend des substrats qui par leur composition ou leurs structures peuvent comporter ou recevoir à leur surface une couche de métal. Ces substrats peuvent être rigides ou semirigides selon la composition du matériau support isolant. Par substrat semi-rigide on entend un matériau pouvant subir une déformation élastique par incurvation. La métallisation peut être réalisée soit par apport d'un film de métal qui est contre-collé à la surface du substrat soit dépôt d'une couche comportant une substance qui pourra par un traitement chimique ultérieur être transformé en métal ou qui servira d'amorce à un dépôt métallique par voie électrolytique ou chimique. On préférera réaliser cette métallisation par traitement chimique direct du substrat qui contient alors dans sa masse ou en surface un composé capable d'être transformé en métal. Par l'expression matière cellulosique, on entend des fibres formées de cellulose naturelle ou de cellulose modifiée par des procédés chimiques sous forme de pâte à papier ou de fibres plus ou moins défibrillées. Les paillettes de mica mises en oeuvre sont les produits habituellement disponibles dans le commerce. Ces paillettes peuvent être utilisées à l'état brut, mais dans certains cas, dans le but d'améliorer l'accrochage entre le mica et la résine, il peut être avantageux de leur faire subir un traitement de surface connu en soi. La résine thermodurcissable constituant l'âme centrale est avantageusement choisie parmi: les résines de type phénolique telles que par exemple les candensats de phénol, résorcinol, crésol ou xylénol avec du formaldéhde ou du furfural ou de l'acetaldéhde; les résines du type polyester insaturé préparées par exemple par réaction d'un anhydride d'acide dicarbxxylique non saturé avec un polyalkylèneglycol; les résines du type époxy telles que par exemple les produits de réacticn de l'épichlorhydrine sur le bisphénol A. Ces résines à l'état de prépolymère doivent être sous forme de poudre pour être mises en oeuvre selon la technique dite "voie papetière"; otn préférera les résines phénoliques novolaque en poudre contenant leur agent de durcissement. L'âme centrale peut aussi conporter des charges inertes, minérales et pulvérulentes come les silicates, les carbcnates, le kaolin, la craie, le quartz pulvérisé..... Selon la voie papetière, on incorpore directement l'ensemble des ingrédients dans le mélange appelé "pile" par les papetiers, c'est à dire à la fois l'eau, la charge de renforcement (matière cellulosique ou mica) et le liant (prépolymére thermodurcissable) sous forme de poudre et éventuellement la charge inerte. A partir de la pâte obtenue on forme ensuite, sur une machine à papier, le feutre dont on extrait l'eau, d'une part par essorage et application du vide, d'autre part par séchage à une température de l'ordre de 70 a 105C, en général par passage du feutre dans une étuve ventilée. Dans ce feutre le liant se trouve toujours au stade de prépolymère. Le feutre ainsi préparé présente une densité coaprise entre 0,3 et 2, alors que, au stade final, c'est A dire après pressage du feutre et durcissement du prépolymêre, la densité de l'âme centrale est de 1,5 A 2,7 environ. Avant ou après pressage du feutre ainsi préparé, on enduit une ou les deux faces avec une ccQposition constituée par un mélange de résine thermcdurcissable et l'cxyde cuivreux. Cette compcsition peut être sous forme pulvérulente ou sous forme de dispersion dans l'eau ou dans un mélange eau-solvant léger ou sous forme de solution. La dite composition peut être déposée à la surface du feutre par différents moyens counus en soi: pistolletage, enduction au trempé ou au racle. Dns une variante la ou les couches externes peuvent aussi être constituées par une feuille de renforcement poreuse: non tissé ou papier sur laquelle est déposée la composition thermodurcissable. L'ensemble feuille de renforcement et enduit est disposé à la surface du feutre. La dite composition est constituée par 30 à 70 % en poids d'oxyde cuivreux. Cet oxyde se présente avantageusement sous la forme de particules de trés petites dimensions. Leur granulométrie est de préférence comprise entre 0,1 et 5 micromètres. La résine thermcdurcissable qui constitue 30 à 70 % en poids de la composition est du type phénolique ou de préférence du type de polymère à groupements imides comme les polyamide-imides ou les polyimides. Comme polyimide on utilise de préférence un prépolymère obtenu à partir d'un N, N'bis-imide d'acide dicarboxylique non saturé de formule générale: CO CO D dans laquelle D représente un radical divalent contenant une double liaison carbone et A est un radical organique divalent possédant 2 a atomes de carbcne, et d'une polyamine de formule générale: R(Nq 2)x (2) (2) dans laquelle x est un nombre entier au moins égal à 2 et R représente un radical organique de valence x, la quantité de bis-imide étant de 0,55 moles par groupement molaire -oe2 apporté par la polyamine. De tels polyimides sont décrits en particulier dans le brevet français 1 555 564 mais de nombreux dérivés de ces polymères peuvent convenir. Ainsi la résine polyimide peut encore être cbtenue par réaction entre le bisimide, la polyamine et divers adjuvants tels que par exemple des mcnoimides (selon le brevet français No 2 046 498), des mcnauères, autres que des imides, comportant un ou plusieurs groupements polymérisables du type - CH = C = (selon le brevet français No 2 094 607), des polyesters insaturés (selon le brevet français N" 2 102 878) ou des composés organosiliciques hydroxylés (selon le brevet français N0 2 422 696). Dans le cas o l'on utilise de pareils adjuvants, il faut rappeler que la résine polyimide peut être obtenue soit en chauffant directement les trois réactifs (bis-imide, polyamine et adjuvants) ensemble, soit en chauffant le produit de réaction ou le mélange de l'adjuvant avec un prépolymére de bis-imide et de polyamine préalablement preéparé. On choisira de toute façqcn des prépolym-res qui peuvent se trouver sous forme de poudre. Plus préférentiellement encore, on utilise dans la présente invention une résine polyimide issue de la réaction entre un bis- maléimide came le N,N'-4,4' -diphénylméthane bis-maléimide et une diamine primaire comme le diamino-4,4' diphénylméthane et éventuellement l'un des divers adjuvants précités. Les prépolymères de polyamide-imides utilisés comme liants dans l'invention peuvent être définis comme comportant une pluralité de motifs de formule: Co -NH- Q-N \ - CO - (I) Co dans laquelle le symbole Q représente un radical divalent coeportant au moins un noyau benzénique et le symbole R représente un radical aromatique trivalent. Comme exemples de radicaux représentés par Q, on peut citer les radicaux m-F'nylne, p-hWnylène, p.p'di#énylène ou des radicaux de formule: T (II) dans laquelle le symbole T peut représenter un atome ou groupement divalent tel que -O-, -oCH2-, -C(3)2- -S2-, N=N-. Ccmme exemples de radicaux représentés par le symbole R, on peut citer les radicaux trivalents de formules: b Co CO Les polyamide-imides décrits ci-avant peuvent être préparés suivant diverses techniques, telles que celles décrites dans les brevets anglais 570 878 et 1 281 446, le brevet américain 3 260 691, les brevets français 1 386 617, 1 473 600, 1 501 198, 1 559 357 ou 1 576 844. Parmi ces polyamide-imides on mentionnera en particulier ceux qui sont obtenus à partir d'anhydride trimellique et d'un dérivé difonctionnel de formule: X - Q - X (III) dans laquelle le symbole X représente un groupement NCO ou un groupement de formule -WCOR1, le symbole R1 pouvant représenter un radical alcoyle ayant de 1 à 6 atomes de carbone ou un radical phényle ou méthylphényle. On utilise de préférence dans l'invention des polyamide-imides permettant la présentation du polymère sous forme de poudre. Les polytrimellamideimides provenant de la réaction de l'anhydride trimellique avec le diisocyanato-4,4' diphénylméthane ou diisocyanato-4,4' diphényléther conviennent à la fabrication des substrats conformes à l'invention. Les substrats obtenus à partir du feutre enduit sont découpés en format puis pressés à chaud. On met en oeuvre habituellement une presse a plateau travaillant sous 10 à 300 bars et une température supérieure à "C. On peut prévoir des cycles durant lesquels pression et température sont augmentés par paliers. Ceci dépend essentiellement de la nature du liant choisi. Dans le cas des prépolyméres polyimides préférés cbtenus à partir d'un bis-imide, d'une polyamine et éventuellement d'un des adjuvants précités (ayant en général un point de ramollissement compris entre 50 et 200 C), la température de pressage se situe généralement 255-z103 entre 70 et 280'C. De préférence, dans le but de permeztre r. azcrcace (ou assemblage) efficace des différents ccostituants, la ze= a-_ re es- supérieure à 150'C. Ces conditions de température de pressage s'app!iuen-. e:nZra aux autres types de prépolyméres thermodurcissables entran-t arns le -cadre de la présente invention. En général, le chauffage des prépo!ymres permet d'obtenir successivement leur ramollissement et leur durcissment. On peut naturellement procéder à un recuit de l'ensemble par exemple pendant quelques heures à 200'C ou plus. La technique de fabrication des substrats métallisables conformes à l'invention qui vient d'être décrite présente de nombreux avantages. Comme on l'a déj" mentionné, cette fabrication est simplifiée du fait de l'emploi d'un nombre restreint de constituants et elle permet de s'affranchir du processus d'imprégnation de structure de renforcement par voie collodion qui est polluant. Mais il y a d'autres avantages. La préparation du carton par voie papetière est un procédé à grand rendement. De plus, la voie papetière autorise le recyclage des déchets: il y a aucun inconvénient à réintrcduire dans la pile les déchets de carton formés avant pressage. Par ailleurs, on note qu'il n'y a pratiquement pas de fluage de polyimide lors du pressage final à chaud. En définitive, cette possibilité de recyclage, liée au fluage pratiquement nul lors du pressage, assure une perte très faible de résine en cours de fabrication. Les formats pressés à chaud éventuellement recuits peuvent ensuite subir un traitement de métallisation. Il peut être nécessaire au préalable de mettre au jour les grains d'oxyde métallique par traitement mécanique: sablage - rouleaux abrasifs - frottement avec une pâte abrasive et/ou traitement chimique. On a trouvé que la transformation de l'oxyde métallique en métal et particulièrement de l'oxyde cuivreux en cuivre métallique peut être conduite facilement et de manière quantitative par action des borohydrures. La transformation est représentée par la réaction: 4Cu20 + 4 --> 8Cu + B(H)3CH Cette facilité de réaction est probablement due à l'effet catalytique du 25543O3 cuivre métal qui pourrait s'expliquer par la formation intermédiaire d'hydrure de cuivre instable. Les borchydrures utilisables dans la présente invention englobent des borchydrures substitués aussi bien que des bordhydrures non substitués. Des borchydrures substitués dans lesquels au plus trois atomes d'hydrogène de l'ion borohydrure ont été remplaces par des substituants inertes comme par exemple des radicaux alkyles, des radicaux aryles, des radicaux alkcxy peuvent être utilisés. On fait appel de préférence à des borchydrures alcalins dans lesquels la partie alcaline consiste en du sodium ou du potassium. Des exemples typiques de composés qui conviennent sont: le borohydrure de sodium, le borchydrure de potassium, le diéthylborohydrure de sodium, le triméthoxyborchydrure de sodium, le triphénylborchydrure de potassium. Le traitement réducteur est conduit de manière simple par mise en contact du format avec une solution de borohydrure dans l'eau ou dans un mélange d'eau et d'un solvant polaire inerte commne par exemple un alcool aliphatique inférieur. On donne la préférence aux solutions purement aqueuses de bordhydrure. La concentration de ces solutions peut varier dans de larges limites et elle se situe de préférence entre 0,05 et 1 % en poids d'hydrogène actif du borchydrure par rapport A la solution. Le traitement réducteur peut être effectué à température élevée, cependant on préfère le mettre en oeuvre à une température voisine de la température ambiante, par exemple entre 15"C et 30'C. A prcpos du déroulement de la réaction, il faut noter qu'elle donne naissance à du B(CH)3 et à des ions CH- qui ont pour effet d'induire une augmentation du pH du milieu au cours de la réduction. Or a des valeurs de pH élevées, par exemple supérieures A 13, la réduction est ralentie de sorte qu'il peut être avantageux d'opérer dans un milieu tamponné pour avoir une vitesse de réduction bien déterminée. Apres réduction on rince le format. En début de réduction, la réaction concerne essentiellement les grains d'oxyde cuivreux qui se trouvent en surface du substrat et qui sont en contact direct avec l'agent réducteur. Du fait de l'effet catalytique du cuivre métal, la réaction de réduction va se poursuivre ensuite dans l'épaisseur du format et ceci bien que les résines utilisées ne présentent pas un caractère hydrophile particulièrement marqué. C'est donc en jouant principalement sur la durée du traitement qu'il est possible de contrôler aisément l'importance de la réduction cpéroe. Pour cbtenir une résistivité répondant aux valeurs souhaitées, la durée du traitement qui est nécessaire est en général assez courte et, selon les proportions d'oxyde compris dans le substrat, elle se situe habituellement entre environ une minute et une quinzaine de minutes. Pour une durée de traitement donnée, il est possible d'agir encore sur la vitesse de réduction en ajoutant dans le milieu des accélérateurs variés commoe par exemple de l'acide borique, de l'acide ccalique, de l'acide citrique, de l'acide tartrique ou des chlorures de métaux tels que le chlorure de ccbalt-II, de nickel-II, de fer-II, de manganése-II, de cuivre-II. La réduction qui est pqDérée dans l'intervalle de temps indiqué ci-avant concerne une partie seulement de l'épaisseur du format. A noter que pour des applications électriques, on veille à ne réduire qu'une partie seulement de l'épaisseur du format afin de conserver une partie interne non réduite, isolante pour éviter tout tn=e parasite de pontage conducteur. Par contre s'il a été prévu des trous, on constate' qu'une couche, au minimum de même épaisseur qu'en surface est aussi réduite sur le pourtour des trous. Etant donné l'état très divisé du cuivre obtenu apres le traitement réducteur, on devait s'attendre à ce que son oxydation à l'air soit rapide. Or on a constaté qu'il n'en est rien et que le niveau de la résistivité superficielle du format après réduction n'évolue pas pendant plusieurs jours de conservation à l'air ambiant. Il est donc possible de stocker dans cet état le substrat réduit. On peut prévoir à titre de précaution soit un rinçage incomplet laissant des traces de réducteur à la surface du format, soit l'addition au bain de rincage d'un agent réducteur particulier par exemple d'hydroquinone soit la protection du format rincé et séché par enduction d'un film protecteur par exemple de photorésist. Le substrat réduit peut ensuite être métallisé par dépôt d'une couche de cuivre, de nickel ou d'un autre métal. Cette métallisation peut être faite par voie électrochimique, mais il a été constaté et ceci constitue un des avantages essentiels liés à la mise en oeuvre de la présente invention, qu'elle peut être faite aussi directement par voie électrolytique. Dans certaines applications, il n'est pas rare de rechercher un dépôt de couche métallique d'au moins 20 microns, aussi la possibilité de pouvoir utiliser directement la voie électrolytique correspond-elle vraiment à un procédé industriellement rentable. Il est possible bien entendu de procéder, de manière classique, d'abord à une métallisation électrochimique, puis de renforcer ce premier dépôt par un dépôt ultérieur électrolytique. Pour avoir une description détaillée des conditions opératoires propres à la métallisation électrochimique, on peut se reporter à l'ouvrage "Encyclcpedia of Polymer Science and Technology, 1968, volume 8, pages 658 à 661". Les proportions des constituants du bain électrcchimique, la durée de l'immersion du format, la température et les autres conditions cpératoires sont déterminées dans chaque cas particulier de manière connue en soi pour obtenir les meilleurs résultats. La métallisation par électrolyse est bien connue; cf. notamment "Encyclopedia of Polymer Science and Technology, 1968, volume 8, pages 661 à 663". Le format convenablement réduit constitue la cathode et le métal à déposer l'anode. Tous deux sont immergés dans un électrolyte traversé par un courant. Par exemple dans le cas d'un cuivrage électrolytique, le métal déposé peut procéder du cuivre monovalent ou bivalent et provenir d'un électrolyte cyanure (cuivre monovalent) ou d'un électrolyte à base de sulfate, pyrophosphate ou flucborate (cuivre bivalent). Plusieurs adjuvants peuvent être ajoutés dans l'électrolyte: un sel alcalin ou alcalino-terreux, un acide (bain de cuivrage acide au sulfate de cuivre) ou une base (bain d'étamage alcalin au stannate) pour augmenter la conductivité de l'électrolyte; un agent tampon pour éviter les variations rapides du pH; des corps modifiant la structure des électrodépôts comme par exemple des colloldes, des agents tensio-actifs, un phénol, un phénol sulfoné, un brillanteur minéral ou organique, un agent nivelant tel que par exemple la coumarine. La qualité de l'électrodépôt, qu'il soit d'un métal ou d'un alliage métallique, va dépendre de la composition de l'électrolyte et des conditions physiques de l'électrolyse (température, densité de courant cathodique et anodique, distance anode-cathode, conditionnement superficielles des électrodes, etc.); le réglage de ces différents paramètres sera fait dans chaque cas particulier de manière connue en soi. Le fait de pouvoir propager la réduction dans l 'épaisseur du substrat va permettre d'engendrer les avantages suivants: lors de la métallisation, il y aura un ancrage profond du métal déposé dans le substrat résineux; dans le cas d'une soudure avec un apport de métal formant un alliage, l'alliage pourra migrer également à l'intérieur du substrat puisqu'il y a une réelle continuité du cuivre dans l'épaisseur du substrat; dans le cas d'une métallisation destinée à jouer le r8le de drain thermique, il sera possible d'agir sur le transfert thermique de la résine en faisant progresser plus ou moins la réduction dans la masse du format. Il va de soi que des modifications peuvent être apportées aux modes de réalisation qui viennent d'être décrits, notamment par substitution de moyens équivalents, par exenmple en matière d'oxyde métallique utilisable, sans pour cela sortir du cadre de la présente invention. C'est ainsi que l'on peut remplacer l'coxyde cuivreux par d'autres oxydes métalliques non nobles dont le degré d'oxydation est choisi de manière à permettre une réduction facile de 1' oxyde par le borchydrure et qui sont susceptibles de former intermédiairement des hydrures métalliques instables. Selon la durée du traitement électrolytique on pourra obtenir des couches métalliques dont l'épaisseur est de l'ordre du micrometre, couches enracinées dans le substrat et présentant une bonne cohésion, contrairement à ce qui se passe avec des dépôts "Electroless". Des substrats comportant une couche aussi mince de métal présentent un grand intérêt pour la réalisation de circuits imprimés, car ils permettent lors des traitements ultérieurs de gravure de supprimer les défauts et notamment la sous-gravure. On peut ainsi augmenter la densité de la circuiterie et augmenter la fiabilité des circuits. Il va de soi que l'on peut obtenir aussi des dépots métalliques beaucoup plus importants, de l'ordre de 20 à 50 micromètres par exemple, dépôts correspondant aux techniques actuellement utilisées pour la réalisation de circuits imprimés. On peut de même déposer par fusion ou par voie électrolytique des couches d'alliage de type plamb/étain. La réalisation de circuits imprimés à partir de substrats réduits peut alors se faire selon les procédés additifs classiques et la réalisation de circuits a partir de substrats réduits et métallisés par voie électrolytique, par gravure classique. Le procédé selon l'invention permet aussi d'obtenir des substrats métallisables ou métallisés qui cormportent une couche de métal ancrée dans le polymère pouvant être aussi faible qu'un micron tout en étant cdiohérente et résistante. Ce procédé se distingue des procédés antérieurs tant par sa simplicité que par son faible coût et par le très grand nombre de possibilités ouvertes. De plus sa technologie est adaptée aux équipement existants. Les possibilités de variantes sont très nombreuses, car à chaque étape du procédé il est possible de l'interrompre par exemple par un stockage du À. produit semi-fini pour le reprendre ultérieurement. Les exemples suivants donnés à titre non limitatif illustrent l'invention et montrent coamment elle peut être mise en oeuvre. EXEMPLE 1 Dans un mélangeur muni d'un puissant système d'agitation, désigné sous l'appellation de "pile'" dans l'industrie papetière on introduit - 2 000 1 d'eau; - 150 kg de fibre cellulosique sous forme de pâte à papier; - lecomplément d'eau pour atteindre un volume de 3 000 1 environ; - 115 kg de résine novolaque en poudre, contenant 8 % d'hexaméthylènetétramine (Réscphéne PB 1119 caommercialisé par Rheie-Poulenc); - 150 1 de solution de fécule cationique à 5 % d'extrait sec. Après homogénéisation sous forte agitation il est introduit 4 1 de silice colloïdale qui sont dispersés dans le milieu par une faible agitation de courte durée. L'ensemble est alors vidé dans le "cuvier" o il est repris par un système de godets pour alimenter la machine papetière proprement dit. Cette machine se présente sous la forme d'une toile métallique sans fin permettant un égouttage naturel de la pâte dans une première partie puis un égouttage forcé sur des caissons à vide. Apres séparation de la nappe papetière, la toile métallique dans son trajet retour est décolmatée par de puissants jets d'eau. Dans la première partie de la machine la régularité du dépôt est assurée conjointement par l'égouttage naturel et par un mouvement transversal de la couche de pâte. Ce mouvement est imprimé à la pâte par des règles latérales empechant la pâte de déborder de part et d'autre de la toile. L'ensemble de l'eau résultant de l'égoutage et du lavage de la toile est receuilli sous la machine et recyclée avec les fibres en suspension qu'elle contient, pour la préparation de la "pile" suivante. on veillera à ce que le pH reste inférieur à 11-12. Ce système présente deux avantages: - les matières solides et notamment la résine qui aurait pu ne pas être retenues dans la nappe continue fabriquée par ce processus sont ainsi recyclées; - les rejets polluants scnt supprimes. Néanmoins le renouvellement de l'eau est important et au minimm de l'ordre de 15 à 20 %. Il correspond à l'eau retenue dans la nappe et qui sera éliminé lors du séchage de cette dernière. La nappe continue après passage sur les caissons à vide et séparation de la toile métallique support a une épaisseur de 5 à 8 mm fonction du taux d'égouttage, du degré d'affinage de la pâte à papier utilisée, de l'utilisation ou non d'un rouleau calendreur appuyant sur le cylindre de détour de la toile métallique. Cette nappe supportée par un tapis défilant à la méme vitesse que la toile métallique utilisée pour sa confection soit environ 2 mrmn, a une largeur de 2,50 m. Elle est recoupée en continu par deux jets d'air qui réduisent sa dimension à 2,20 m en éliminant de chaque côté les bords dont l'épaisseur n'est pas constante. Les chutes sont récupérées en continu; elles sont recyclables et sero.t introduites dans la pile suivante. EXMPLE 2 Une opération analogue dans la pratique à celle de l'exemple 1 est conduite avec - 100 kg de fibre cellulosique; - 100 kg de mica muscovite 16 mesh traité préalablement par 1 % en poids de vinyltriéthaxysilane; 120 kg de résine phénolique Novolaque contenant 8 % d'hexaméthylènetétramine. EXEPLE 3 Toujours de façon anologue à l'exemple 1, une opération est conduite avec: - 130 kg de fibre cellulosique sous forme de pâte à papier; - 50 kg de fibre de verre dispersable dans l'eau ayant une longueur comprise entre 10 et 30 mm; - 120 kg de résine phénolique Novolaque contenant 8 % d 'hexaméthylè1netétramine. EXEMPLE 4 Toujours de façon anolcgue à l'exemple 1, une cp&ration est conduite avec: - 150 kg de fibre cellulosique sous forme de pâte à papier; - 15 kg de fluide PB; - 50 kg de résine phénolique Novolaque contenant 5 à 10 % d'hexamethyl1netétramine. EXEMPLE 5 (formation d'une feuille sans résine) Dans la "pile" sont introduits successivement - 2 000 1 d'eau; - 15 kg de Kelvar sous forme de pulpe; - 200 kg de fibre cellulosique sous forme de pâte à papier; - le coplment en eau pour atteindre un volume de 3 000 1; 50 kg de fibre de verre de 3 mm; - 150 1 de solution de fécule caticnique. La forte agitation du mélange est alors arrêtée. - 4 1 de solution de silice colloïdale sont alors dispersés dans ce milieu avec le minimum d'agitation. L'ensemble est transféré dans le cuvier et alimente la machine papetière pour produire une nappe continue de 7 mm d'épaisseur, en 2,50 m de large, recoupée à 2,20 m par des jets d'air latéraux. La vitesse de production de la nappe est de 2 m/mn. EXEMPLE 6 Dans la "pile" sent introduits successivement: - 2 000 1 d'eau; - 5 kg de fibre polynosique EX, de longueur moyenne d'environ 5mm; - 150 kg de fibre cellulosique sous forme de pâte à papier; - le complément en eau pour atteindre un volume de 3 000 1; - 90 k de fibre céramique lavée (exempte de particules non fibreuses); - 150 1 de solution de fécule catinonique. Apres une hcmogénéisation soignée, l'agitation est arrêtée; - 4 1 de solution de silice colldoïdale sent alors disperses dans le milieu avec le minimum d'agitation. Le milieu est transféré dans le cuvier d'o est alimentée la machine papetière. La nappe continue produite a une épaisseur de 5 mm, une largeur de 2,50 m recoupée à 2,20 m par 2 jets d'air latéraux. La vitesse de productien de la nappe est de 2 m/mn. EXEMPLE 7 Les nappes résultant des exemples 5 et 6 ont une bcnne tenue mécanique bien que non séchées. Elles sont immergés en continu dans une solution hydroalcoolique de Résol ( Résophène PL 3598) contenant 55 % de résine qui a été rediluée de moitié avec un mélange eau/alcool. En sortie de bac d'imprégnation la nappe est calandrée entre deux cylindres pour régler la quantité de résine retenue. La nappe est alors séchée en étuve ventilée à 140 C pendant 5 mn. * EXMPLE 8 Les nappes résultant des essais 1, 2, 3, 4 et 7 après séchage en étuve ventilée sont imprégnées par immersion dans une solution hydroalcoolique de résine comme à l'exemple 7 contenant 50 % en poids (par rapport à la résine) d'oxyde cuivreux en suspension (diamètre du 17 2554303 Cu20 environ 1 micromètre). Les nappes imprégnées sont séchées en étuve ventilée à 140 C pendant 5 mn. EXEMLE 9 Les nappes des essais 1, 2, 3, 4 et 7, après séchage en étuve ventilée sont imprégnées par une solution hydroalcoolique de résol chargé à 50 % de Cu20 (diamètre des particules environ 1 micromètre). Cette imprégnation est faite par pulvérisation de la solution du résol chargé, sur la face supérieure de la nappe séchée. EXEPLE 10 Les nappes résultant des essais 1, 2, 3 et 4 subissent le traitement décrit à l'exemple 9 avant séchage en étuve. EXEMPLE 11 Les essais décrits aux exemples 9 et 10 saont conduits avec une résine d'imprégrnation non chargée de Cu20. La nappe enduite passe ensuite sous une tête "saladier" qui délivre du Cu2O sec et saupoudre la face imprégnée. La tête saladier est ccnstituée par un cylindre métallique dont la surface est grainée (la lcngueur de sa génératrice correspond à la largeur utile de la nappe enduite). Ce cylindre est surmonté par une trémie alimentant la poudre de Cu20. Lors de sa rotation le cylindre grainé entraine un peu de Cu20 qui est détaché du cylindre et tombe sur la nappe, par l'action d'une brosse également cylindrique, d'axe parallèle à celui du cylindre, et dont les poils tangentent le cylindre. Le débit de Cu20 est réglé par l'écoulement de la trémie, la vitesse de rotation du cylindre grainé et de la brosse et la vitesse de défilement de la nappe. la quantité de Cu20 déposé par m2 de nappe est d'environ 15 a 16 g/ma EXPLE 12 On procèede à l'enduction d'un papier kraft de 120g/m2 ayant 25543O3 déjà été imprégné à l'aide d'une résine phénolique (Réscphène PL 3598) suivi d'un séchage à 150 C pendant 5 mn pour un dépôt de 30g/m2 de résine envircn. La ccpocsition de la résine chargée est dans ce cas: 33 % de résine phénolique pure (Résol PL 4531 de Rhl&ie-Poulenc) 33 % de solvant de la résine 33%-de Cu2O. L'enduction est réalisée en "plein bain" l'hcmogénéité de la suspension étant assurée par une circulation en canard sur le bac d'imprégnation, à l'aide d'une poupe de circulation. Le papier émergeant du bain est calibré par passage entre deux racles fixes situés audessus du bain de façcn que l'excès de résine retombe dans celui-ci. Le papier imprégné est alors séché en continu en étuve ventilée. a environ 100 C pendant 3 un. Le grammage final du papier enduit est de 370 g/m2 se répartissant ainsi: -papier: 120 g -Resol PL 3598: 30 g - Resol PL 4531: 125 g - Cu2O: 95 g XEMPLE 13 On prend dans les nappes obtenues au cours des exemples 8 - 9 et 10 des formats d'environ 100 x 100 cm. Ces fdrmats secs, dans lesquels la résine est demeurée sous forme non durcie scnt pressés à chaud en 50 mn a C avec un cycle d'élévation progressive de la pressicr de 20 MPa à 90 Mpa. Les plaques pressées résultant de l'cpération sont de couleur rouge brique et ont une épaisseur qui varie de 1,5 à 1,7 minm. On découpe dans ces plaques des formats de 20 x 20 cm que l'on décape superficiellement par sablage. EXMPLE 14 On prend dans les nappes obtenues au cours des exemples 7 des formats d'environ 100 x 100 cm. On découpe de même dans les surfaces de papiers enduits selon l'exemple 12 des formats d'environ 100 x 100 cm. On réalise des stratifiés composés respectivement par une couche de papier enduit, par un format et par une autre couche de papier enduit. On presse en 45 mn à 160"C les stratifiés cbtenus, la pression évoluant de 20 MPa à 90 WPa. Les plaques pressées sont homogènes, ne se délaminent pas et sont en surface de couleur rouge brique. Elles ont une épaisseur d'environ 1,9 à 2 mm. On découpe dans ces plaques des formats de 20 x 20 cm que l'on décape superficiellement par sablage. EXEMPLE 15 On reprend les formats obtenus selon les exemples 13 et 14. On traite ces formats par la solution réductrice suivante: Dans un erlen de 1 000 ml on introduit dans l'ordre sous agitation et après dilution de chaque constituant - 500 ml d'eau distillée, - 2,5 g de soude en pastilles, - 5 g de sel de sodium d'un carboxyméthylcellulose (type 7 ME, "medium viscosity', PM 250 000 d'HER2ULES), - 25 g de borchydrure de potassium, - 5 cm d'une solution aqueuse à 1 % de Cemulsol DB 311 de SFOS. Le substrat est enduit par la solution réductrice et après un contact de 3 mn, la solution et les sous-produits de la réaction sont éliminés par lavage à l'eau distillée accompagné d'un léger brossage. Le substrat est rincé à l'alcool et séché. La résistance électrique mesurée entre deux points de la surface distants d'une vingtaine de cm, à l'aide d'électrodes ponctuelles varie de 10 à 70 chms. La surface est cuivrée et conductrice de l'électricité. La plaque ainsi cbtenue est alors soumise aux cpérations permettant la fabrication d'un circuit imprimé double face: - Dépôt recto-verso de photorésist. - Insolation recto-verso au travers de masque. - Développement du photorésist. - Renforcement électrolytique dans un bain acide de sulfate de cuivre avec anode de cuivre, dans les plages sans photorésist. t 2554303 Lorsque l'épaisseur du dépbt atteint une trentaine de micrometres en moins d'une heure, le circuit est rincé à l'eau. - Strilpage du photorésist restant. - Gravure non sélective au perchlorure de fer jusqu'à disparition complète du cuivre dans les zones non renforcées. - Après rincage à l'eau, immersion rapide dans un bain d'acide sulfurique dilué pour redonner un aspect brillant au circuit. - Rincage soigneux à l'eau distillée puis à l'alcool et enfin sêchage. Au terme de cette opération nous disposons d'un circuit imprimé double face. 21 2554303 REVENDICATIoNS 1 ) Substrats métallisables destinés à la réalisation de circuits imprimés caractérisés en ce qu'ils comprennent une âme centrale constituée essentiellement de matière fibreuse cellulosique et/ou de paillettes de mica et d'une résine thermodurcissable éventuellement chargée, et sur une ou deux de ses faces de couches obtenues à partir d'une compoeition de résine thermodurcissable chargée par un oxyde métallique non conducteur. 2") Substrats selcn la revendication 1, caractérisés en ce que la résine thermodurcissable utilisée dans la partie centrale est une résine phénolique de type novolaque. 3@) Substrats selcn la revendication 1, caractérisés en ce que la résine thermodurcissable de la ou des deux couches externes est choisie dans la famille constituée par les résines phénoliques, les résines époxydes, les résines cbtenues a partir de prépolyméres A groupements imides. 4 ) Substrats selon la revendication 3 caractérisés en ce que la ou les couches externes sont constituées de résine thermodurcissable renforcées par un substrat poreux cellulosique 5 ) Substrats selon la revendication 1, caractérisés en ce que la charge est de l'oxyde cuivreux. 6e) Procédé d'obtention des substrats selon la revendication 1 caractérisé en ce que l'cn prépare une dispersion aqueuse des fibres et/ou des paillettes de mica ainsi que de la résine durcissable sous forme de poudre et éventuellement de la charge pulvérulente inerte puis que l'on forme une nappe par élimination de l'eau, léger pressage et séchage puis que l'on dépose sur une ou deux faces par enduction, pulvérisation ou dépôt d'un support cellulosique enduit, la composition de résine thermodurcissable chargée d'un cxyde métallique non conducteur, 22 2554303 et enfin que l'on presse le tout sous une pression coeprise entre 10 et MPa et A une température ccoprise entre 70 et 2500C. 7 ) Substrats métallisés caractérisés en ce que les substrats métallisables selon la revendication 1 subissent un traitement de décapage mécanique et/ou chimique suivi d'un traitement de réducticn par un borchydrure alcalin, éventuellement suivi d'une métallisation par voie &lectrolytique.