Brevet FR2550660A2 — publié le 19850215

FR 2550660 A2 19850215 FR 8313282 A 19830812 La présente demande de certificat d'addition a pour objet un perfectionnement au procédé de positionnement d'une ligne d'interconnexion sur un trou de contact électrique d'un circuit intégré, objet de la demande de brevet français n0 82 06409 déposéele 14 Avril 1982 au nom du C. E. A. Le procédé décrit dans la demande de brevet principal est un procédé de positionnement d'une ligne d'interconnexion sur un trou de contact électrique d'un circuit intégré, caractérisé en ce que, le trou de contact électrique étant réalisé, on effectue les étapes successives suivantes - dépôt sur l'ensemble du circuit intégré d'une couche conductrice dans laquelle sera réalisée la ligne d'interconnexion, - dépôt sur la couche conductrice d'une couche d'iso lant effaçant le relief de celle-ci et présentant une surface plane, - réalisation d'une gravure de la couche d'isolant afin de ne laisser de l'isolant qu'à l'emplacement du trou de contact électrique, - dépôt d'une couche de résine sur le circuit intégré de façon à masquer la ligne d'interconnexion à ré aliser, - réalisation d'une gravure de la partie de la couche conductrice dépourvue à la fois de résine et de la couche d'isolant restante, et - élimination de la couche d'isolant restante et de la couche de résine. Selon un mode préféré de réalisation de ce procédé, la couche d'isolant est une couche de résine. Ce procédé a pour inconvénient que la précision de la réalisation des gravures des lignes conductrices n'est pas très grande. Dans ce procédé, on réalise dans la couche de résine photosensible l'image des interconnexions selon les procédés classiques de la photolithographie. La nature réflectrice de la couche à graver (couche métallique) produit des interférences dans la couche de résine photosensible, ce qui dégrade la qualité de l'image des interconnexions et produit en particulier des variations de largeur de trait aux passages de marche. La présente invention a justement pour objet un procédé qui supprime ces inconvénients en combinant l'objet de la demande de brevet principale avec un procédé de lithographie multicouche dans lequel on utilise entre la couche photosensible et la couche d'isolant une couche intermédiaire réalisée de préférence en silice (SiO2) ou en silicium amorphe. Le procédé de positionnement d'une ligne d'interconnexion sur un trou de contact électrique d'un circuit intégré, se caractérise en ce que, le trou de contact électrique étant réalisé, on effectue les étapes successives suivantes - dépôt sur l'ensemble du circuit intégré d'une couche conductrice, dans laquelle sera réalisée la ligne d'interconnexion, - dépôt sur la couche conductrice d'une couche d'iso lant effaçant le relief de celle-ci et présentant une surface plane, - dépôt d'une couche de matériau non réfléchissant sur la couche d'isolant, - dépôt d'une couche de résine photosensible sur la couche intermédiaire et réalisation dans cette cou che de résine de l'image de la ligned'interconne- xion à réaliser, - gravure de la région de la couche de matériau non réfléchissant, dépourvue de masque, - élimination du masque et gravure de la couche iso lante dans les régions non protégées par la couche intermédiaire, celle-ci étant arrêtée dès que la région de la couche conductrice située en dehors du trou de contact est mise à nue, - réalisation d'une gravure de la partie de la couche conductrice dépourvue de la couche d'isolant, et - élimination de la couche d'isolant et de matériau non réfléchissant restante Selon un mode préféré de mise en oeuvre du procédé selon l'invention, la gravure de la couche de matériau non réfléchissant est une gravure ionique réactive. Selon un autre mode préféré de mise en oeuvre du procédé selon l'invention, la couche de matériau non réfléchissant est de la silice. Selon un autre mode préféré de mise en oeuvre du procédé selon l'invention, la couche de matériau non réfléchissant est du silicium amorphe. Selon un autre mode préféré de mise en oeuvre du procédé selon l'invention, l'élimination du masque et la gravure de la couche isolante est réalisée au moyen d'une gravure ionique réactive à base d'oxygène. D'autres caractéristiques et avantages de l'invention ressortiront mieux de la description qui va suivre, donnée à titre illustatif mais nullement limitatif en référence aux figures annexées sur lesquelles - les figures 1 à 6 représentent, schématiquement, les différentes étapes du procédé conformément à l'in vention. Sur la figure 1, on a représenté une partie d'un circuit intégré comprenant une zone active 12, semiconductrice dopée, correspondant par exemple à la source ou au drain d'un transistor MOS que l'on veut connecter électriquement à une autre zone active (non représentée) du circuit intégré. De façon classique, cette zone active 12 est recouverte d'une couche isolante 14 généralement réalisée en silice pouvant'contenir 5 à 10-% de phosphore. Cette couche de silice présente par exemple une épaisseur de 0,8 micron. Cette couche de silice 14 est ensuite gravée, en utilisant un masque de résine réalisé par photolitographie sur cette couche, par exemple, par une attaque chimique (HF dilué) de façon à réaliser le trou de contact électrique 16 de la zone active 12. Après réalisation du trou de contact électrique 16, on dépose de façon connue, par exemple par la technique de dépôt par pulvérisation magnétron sur l'ensemble du circuit intégré une couche conductrice 18, réalisée de préférence en aluminium. Cette couche conductrice 18 qui possède une épaisseur constante par exemple voisine de-l micron, présente un profil dépendant des couches sous-jacentes ; elle présente en particulier un creux 20 au niveau du trou de contact électrique 16. Selon un mode préféré de mise en oeuvre de l'invention, on dépose de façon classique une couche d'isolant 22 sur l'ensemble de la couche conductrice 18 de façon qu'elle présente une surface plane. Cette couche d'isolant est réalisée de préférence en résine, telle que celles utilisées usuellement en photolithographie. Dans le cas d'une couche d'isolant réalisée en résine, celle-ci pourra être déposée par centrifugation selon la technique usuellement employée pour déposer les résines photosensibles dans les opérations de photolithographie (procédé dit wde la tournette"). Selon la viscosité de la résine utilisée, on procèdera avantageusement à un traitement thermique, après dépôt de la résine à une température permettant d'obtenir une surface aussi plane que pos- sible grâce à un fluage de cette couche de résine 22. Une résine photosensible pourra être par exemple chauffée à une température de 150 à 2000C. La couche de résine 22 étant réalisée, on dépose dessus une couche 23 d'un matériau non réfléchissant de préférence en SiO2 ou en Si amorphe d'une épaisseur de 0,1 à 0,2 IL par exemple. Sur la couche d'un matériau non réfléchissant 23, on dépose une couche 24 de résine photosensible d'une épaisseur de l'ordre de 0,2 à 0,5 zm. Cette couche photosensible permet de réaliser un masquage avec une grande fidélité, car elle est peu épaisse et déposée sur une surface plane formée par un substrat qui est un mauvais réflecteur optique. Ce dernier permet d'éviter la création d'interférences optiques qui sont responsables d'une diminution de la résolution optique. Comme le montre la figure 2, l'étape suivante du procédé de positionnement consiste à réaliser dans la couche de résine photosensible l'image de la ligne d' interconnexion. L'étape suivante, comme représenté sur la figure 3, consiste à graver la couche du matériau non réfléchissant 23. Cette gravure est de préférence ionique réactive, utilisant du CHF3 si le matériau de la couche de matériau non réfléchissant 23 est du SiO2. Comme le représente la figure 4, l'étape suivante consiste à graver la partie de la couche en résine 22 dépourvue de la couche de matériau non réfléchissant 23 et à éliminer à la fois les résidus de la couche de résine photosensible 24 restant sur la couche de matériau non réfléchissant 23. La gravure de cette partie de la couche 22 ne laisse de l'isolant qu'à la partie de l'emplacement du trou de contact électrique et dans les parties pro tétées par la couche 23. Cette gravure peut être réalisée par exemple à l'aide d'un procédé de gravure sèche utilisant un plasma d'oxygène. Comme représenté sur la figure 5, l'étape suivante du procédé de positionnement consiste à graver la partie 18a de la couche conductrice 18 dépourvue à la fois de la couche de matériau non -réfléchissant 23 et des résidus de la couche de résine 22, la couche de matériau non réfléchissant 23 et la couche de résine 22 servant de masque à ladite gravure. Cette gravure peut être réalisée de façon isotrope par une simple attaque chimique dans une solution contenant de l'acide phosphorique H3PO4, dans le cas d'une couche conductrice 18 réalisée en aluminium. Dans le cas de dimensions très petites, on utilisera, de préférence, un procédé de gravure anisotrope utilisant un plasma composé par exemple des composés tels que le Cl14. La dernière étape du procédé consiste à éliminer les couches de résine 22 et de matériau non réfléchissant 23 restantes. Les résidus de la couche 23 peuvent être éliminés par une attaque chimique avec du HF dilué, si elle est en SiO2. La couche de résine 22 peut être éliminée par exemple par un plasma d'oxygène. La structure obtenue est représentée sur la figure 6. Le procédé de positionnement décrit précédemment permet d'effectuer la gravure de la ligne d'interconnexion avec une haute précision car l'image faite dans la résine photosensible 24 est transférée avec une grande fidélité dans la couche intermédiaire d'un matériau non réfléchissant puis dans la couche de résine épaisse qui masque elle-même la gravure de la couche conductrice. REVENDICATIONS 1. Procédé de positionnement d'une ligne d'interconnexion sur un trou de contact électrique d'un circuit intégré, caractérisé en ce que le trou de contact électrique (16) étant réalisé, on effectue les étapes successives suivantes - dépôt sur l'ensemble du circuit intégré d'une couche conductrice (18), dans laquelle sera réalisée la li gne d'interconnexion, - dépôt sur la couche conductrice (18) d'une couche d'isolant (22) effaçant le relief de celle-ci et présentant une surface plane, - dépôt d'une couche de matériau non réfléchissant (23) sur la première couche isolante (22), - dépôt d'une couche de résine photosensible (24) sur la couche (23) de matériau non réfléchissant et réa lisation dans cette couche de résine de l'image de la ligne d'interconnexion à réaliser, - gravure de la région de la couche de matériau non réfléchissant (23), dépourvue de masque, - élimination du masque et gravure de la couche iso lante (22), celle-ci étant arrêtée dès que la région de la couche conductrice (18a) située en dehors du trou de contact (20) est mise à nue, - réalisation d'une gravure de la partie de la couche conductrice (18a) dépourvue à la fois des couches d'isolant (22) et de matériau non réfléchissant (23), et - élimination des couches d'isolant (22) et de maté riau non réfléchissant (23) restantes. 2. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que la gravure de la couche de matériau non réfléchissant est une gravure ionique réactive. 3. Procédé selon la revendication 1, carac térisé en ce que la couche de matériau non réfléchissant (23) est de la silice. 4. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que la couche de matériau non réfléchissant (23) est du silicium amorphe. 5. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que l'élimination du masque et la gravure de la couche isolante (22) sont réalisées au moyen d'une gravure ionique réactive à base d'oxygène.