Brevet FR2550044A1 — publié le 19850201

Appareil de traitement par plasma de substrats en forme de plaquettes. La présente invention concerne un appareil de traitement par plasma de substrats en forme de plaquettes et notamment un appareil de gravure. Dans l'état de la technique actuel, on connaît une machine de traitement par plasma qui comprend une cathode en forme de colonne à la périphérie de laquelle peuvent être disposées les plaquettes à traiter et, autour de cette colonne et à distance, une enceinte cylindrique formant anode et délimitant l'enceinte de réaction Dans cette 10 machine, le gaz de réaction est admis par l'intermédiaire de conduits qui s'étendent dans l'espace séparant la colonne centrale formant anode de l'enveloppe cylindrique et il est évacué par l'une des extrémités de cet espace Du fait de cette structure, l'écoulement à l'intérieur de l'enceinte du gaz de réaction n'est pas uniforme pour toutes les 15 plaques et il s'ensuit, pour certaines applications, une homogénéité insuffisante du traitement de chaque plaque et une homogénéité insuffisante du traitement des plaques les unes par rapport aux autres. De plus, le chargement et le déchargement des plaquettes sur la colonne formant cathode sont particulièrement compliqués du fait que:ies plaquettes doivent être chargées et déchargées par rangées verticales. On connaît également une machine de traitement par plasma qui comprend une couronne formant cathode sur laquelle peuvent être disposées les plaquettes à traiter L'injection du gaz de réaction est effectuée à la périphérie de la couronne tandis que le pompage est effectué au centre de cette couronne Cette machine présente l'inconvénient d'occuper un grand volume par rapport au nombre de plaquettes qui sont susceptibles d'être traitées et, compte tenu du sens de circulation du gaz de réaction, les plaquettes présentent une homogénéité de traitement insuffisante. En outre, dans la première machine comme dans la seconde, le plasma s'allume sur toute la surface des plaquettes mais également sur toute la surface de la cathode Il s'ensuit une forte consommation d'énergie électrique. La présente invention a notamment pour but de remédier 35 aux inconvénients de l'état de la technique et propose un appareil de traitement par plasma qui permet une très bonne directivité, une très bonne sélectivité et une très bonne homogénéité du traitement de chacune des plaquettes et des plaquettes les unes par rapport aux autres. L'appareil de-traitement par plasma de substrats en forme de plaquettes selon la présente invention comprend une enceinte de réaction présentant des moyens d'amenée et des moyens d'évacuation pour un gaz de réaction, au moins une première électrode formant anode formée dans ladite enceinte et adaptée pour être reliée à un potentiel de référence et, placée dans ladite enceinte, au moins une seconde électrode formant cathode isolée électriquement de ladite première électrode, adaptée pour être reliée à une source d'énergie électrique alternative et présentant une surface de réception d'au 10 moins une plaquette située du caté de ladite première électrode, de telle sorte qu'un plasma peut être formé entre lesdites électrodes en vue de traiter la plaquette que la deuxième électrode porte L'appareil de traitement conforme à la présente invention est tel qu'il comprend une multiplicité de cathodes à la périphérie desquelles 15 sont respectivement ménagés des espaces d'écoulement de gaz au travers desquels le gaz de réaction peut s'écouler depuis les moyens d'amenée de gaz situés du côté des surfaces des cathodes recevant les plaquettes jusqu'aux moyens d'évacuation des gaz placés en aval de ces espaces d'écoulement. Conformément à la présente invention, lesdites cathodes peuvent avantageusement être respectivement entourées à distance par des pièces isolées électriquement des cathodes et reliées au potentiel de référence, lesdits espaces d'écoulement étant ménagés entre ces pièces et les parois périphériques des cathodes correspondantes. L'appareil de traitement conforme à la présente invention peut avantageusement comprendre au moins un support amovible présentant une multiplicité de passages traversants formés de manière à correspondre à au moins une partie desdites cathodes et munis de moyens pour maintenir respectivement dans lesdits passages ou en face au moins 30 une plaquette, ce support amovible étant adapté pour être monté dans ladite enceinte de réaction de telle sorte que les plaquettes qu'il porte viennent en appui respectivement sur les surfaces de réception des cathodes correspondantes. Selon la présente invention, ledit support amovible peut 35 être adapté pour que les parois de ses passages traversants s'étendent à la périphérie et à distance des cathodes correspondantes de telle sorte que lesdits espaces d'écoulement de gaz de réaction soient ménagés entre les parois desdites passages et les parois périphériques des cathodes correspondantes. Selon la présente invention, ledit support amovible, en position montée, peut avantageusement être isolé électriquement desdites cathodes et desdites plaquettes que ces dernières portent et peut être avantageusement relié au potentiel de référence. Il s'ensuit que le support amovible prévu ci-dessus peut être utilisé pour le chargement et le déchargement simultanées de plusieurs plaquettes dans ladite enceinte de réaction et peut également constltuer, autour des cathodes, un écran qui permet au plasma de s'allumer uniquement au-dessus des cathodes et donc des plaquettes 10 qu'elles portent. Selon la présente invention, lesdites cathodes peuvent être munies respectivement de canaux intérieurs dans lesquels peut circuler un fluide de refroidissement, les canaux intérieurs respectifs desdites cathodes étant de préférence branchés en parallèle sur un 15 circuit de refroidissement extérieur. Conformément à la présente invention, des écrans isolés électriquement desdites cathodes peuvent être prévus autour de ces cathodes dans leur partie s'étendant en-dessous de leur surface de réception de plaquettes et peuvent être reliés au potentiel de réfé20 rence de telle sorte qu'aucun plasma ne soit formé en-dessous de la surface de réception de plaquettes des cathodes. Selon la présente invention, lesdits moyens d'amenée de gaz de réaction dans ladite enceinte de réaction peuvent comprendre des moyens pour amener du gaz de réaction en face de chacune desdites 25 cathodes et en vis-à-vis de leur surface de réception de plaquettes. De manière particulièrement avantageuse, ces moyens pour amener du gaz de réaction en face de chacune desdites cathodes peuvent avantageusement comprendre un orifice d'entrée de gaz situé en vis-à-vis du centre de leur surface de réception de plaquettes. Conformément à la présente invention, ladite anode peut avantageusement s'étendre en face et à distance des surfaces de réception des cathodes, lesdits moyens d'amenée de gaz de réaction pouvant alors avantageusement comprendre au moins une chambre formée à l'intérieur de cette anode et des orifices de communication entre cette chambre intérieure et l'intérieur de ladite enceinte de réaction qui sont situés en face de chacune desdites cathodes. Dans une variante de réalisation particulièrement simple, l'appareil de traitement par plasma de substrats en forme de plaquettes selon la présente invention peut avantageusement comprendre une multiplicité de cathodes qui présentent des surfaces de réception de plaquettes s'étendant dans un même plan et qui sont espacées les unes des autres, ces cathodes divisant ladite enceinte en une première chambre située du côté de leur surface de réception de plaquettes et une deuxième chambre située de'l'autre c 8 té et dans laquelle elles s'étendent, lesdits moyens d'amenée de gaz de réaction débouchant dans ladite première chambre et lesdits moyens d'évacuation du gaz de réaction communiquant avec ladite seconde chambre, de telle sorte que le gaz de réaction peut s'écouler au travers des espaces séparant lesdites cathodes. Dans cette variante, l'appareil de traitement selon la présente invention peut avantageusement comprendre un plateau amovible présentant une multiplicité de passages traversantsformés de manière 15 à correspondre auxdites cathodes et muni de moyens pour maintenir respectivement, dans lesdits passages, des plaquettes, ce plateau étant adapté pour être disposé ou monté dans ladite enceinte de réaction de telle sorte que les plaquettes qu'il porte viennent en appui sur les surfaces de réception de plaquettes des cathodes correspondantes 20 et que lesdits espaces d'écoulement pour le gaz de réaction s'étendent respectivement entre la paroi périphérique desdites cathodes et la paroi desdits passages traversants correspondants. Selon la présente invention, lesdits moyens de maintien des plaquettes dans lesdits passages dudit plateau peuvent etre formés 25 par des ergots formant supports pour les plaquettes et maintenant les plaquettes à distance des parois desdits passages traversants. Selon la présente invention, ledit plateau amovible est de préférence isolé électriquement desdites cathodes et desdites plaquettes Pour celà, il est particulièrement avantageux que lesdits 30 ergots formant support qui forment les moyens de maintien des plaquettes des lesdits passages soient en un matériau électriquement isolant. Selon la présente invention, les extrémités desdites cathodes opposées à leur surface de réception de plaquettes peuvent 35 être reliées entre elles par un plateau dans lequel sont ménagées deux chambres dont l'une est munie de moyens d'amenée de fluide de refroidissement et dont l'autre est muni de moyens d'évacuation de fluide de refroidissement, lesdites cathodes présentant des canaux intérieurs de refroidissement branchés respectivement en parallèle sur ces deux chambres. Selon la présente invention, ladite anode peut être avantageusement formée par un plateau disposé dans ladite première chambre et faisant face à distance auxdites cathodes, lesdits moyens d'amenée de gaz de réaction comprenant une chambre formée dans ce plateau et une multiplicité d'orifices débouchant en face desdites cathodes. Conformément à la présente invention, il est particulièrement avantageux que ledit plateau formant anode comprenne des ori10 fices débouchant en face du milieu des surfaces de réception de plaquettes des cathodes. La présente invention sera mieux comprise à l'étude d'un appareil de traitement par plasma de substrats en forme de plaquettes particulier décrit à titre d'exemple non limitatif et illustré par 15 le dessin sur lequel: la figure I représente une coupe axiale en élévation selon I-I de la figure 2 dudit appareil de traitement, cette coupe en montrant une vue schématique; la figure 2 représente une coupe selon II-II de l'ap20 pareil de traitement représenté schématiquement sur la figure 1; la figure 3 représente une coupe agrandie partielle selon III-III de la figure 2; et la figure 4 représente une vue agrandie partielle de la coupe représentée sur la figure 1. Comme on peut le voir en particulier sur la figure 1, l'appareil de traitement par plasma repéré d'une manière générale par la référence 1 comprend une enceinte de réaction repérée d'une manière générale par la référence 2 et reliée à la masse. Cette enceinte de réaction 2 comprend une couronne circu30 laire horizontale 3 au centre de laquelle est ménagée une ouverture circulaire 4, une enveloppe 5 en forme de cuvette qui présente une paroi cylindrique 6 dont l'extrémité est fixée sur la face inférieure de la couronne 3 et un fond 7 horizontal qui se trouve à distance de la couronne 3, ainsi qu'une enveloppe 8 en face de la cloche dont le 35 fond horizontal 9 est à distance du plateau 3 et dont la paroi cylindrique 10 prend appui sur le bord périphérique de la face supérieure 3 a de la couronne 3, cette enveloppe 8 étant amovible pour donner accès à l'intérieur de l'enceinte 2 et pourant Dtre fixée dans la position représentée sur la couronne 3 par des moyens connus non représentés. Il en résulte que l'enveloppe 5 délimite une chambre inférieure il et que l'enveloppe 8 délimite une chambre supérieure 12. A l'intérieur de l'enceinte de réaction 2 est prévu un 5 ensemble d'électrodes formant cathodes repéré d'une manière générale par la référence 13 qui est agencé de la manière suivante. Cet ensemble d'électrodes 13 comprend un plateau 14 qui s'étend horizontalement à l'intérieur de la chambre inférieure 11 et qui est porté par la paroi 7 de l'enveloppe 5 comme on le verra plus 10 loin L'ensemble d'électrodes 13 comprend également une électrode centrale 15 ainsi que six électrodes 16 disposées à la périphérie de l'électrode centrale 15, ces électrodes 15 et 16 s'étendant vers le haut à partir du plateau 14. L'électrode centrale 15 et les six électrodes 16 sont l 5 construites de la même manière Elles comprennent respectivement à leur partie supérieure une partie cylindrique en forme de disque 15 a, 16 a et une partie cylindrique 15 b, 16 b reliant le disque 15 a, 16 a au plateau 14 et de diamètre inférieur au disque 15 a, 16 a Les disques a, 16 a présentent une face supérieure 15 c, 16 c qui sont dans un 20 même plan et qui s'étendent sensiblement selon le plan de la face supérieure 3 a de la couronne 3 De plus, les disques 15 a et 16 a sont disposés sensiblement à égale distance les uns des autres et les disques 16 a des électrodes périphériques 16 sont à distance de la paroi de la couronne 3 formant l'ouverture 4, de telle sorte qu'entre les 25 électrodes 15 et 16 et la couronne 3 sont ménagés des espaces de communication entre la chambre supérieure 12 et la chambre inférieure 11. L'ensemble d'électrodes 13 est en appui sur trois pieds 17, 18 et 19 qui s'étendent entre le plateau 14 et la paroi 7 de l'enveloppe 5 et qui sont de forme cylindrique, l'extrémité supérieure 30 de ces pieds étant isolée électriquement du plateau 14 par l'intermédiaire de bagues en un matériau isolant On voit par exemple, sur la figure 3, que la bague 19 est isolée électriquement du plateau 14 grâce à une bague 19 a. Comme on peut le voir sur la figure 3, le plateau 14 35 présente un doigt 20 qui s'étend vers le bas au travers du pied 19 et au travers de la paroi 7 de l'enveloppe 5, ce doigt 20 étant isolé électriquement du pied 19 par l'intermédiaire de la bague 19 a et isolé électriquement de la paroi 7 de l'enveloppe 5 par l'intermédiaire d'une bague isolante 21 Un écrou 22 vissé sur l'extrémité du doigt 20 et prenant appui sur la bague 21 permet de fixer le plateau à la paroi 7 en comprimant le pied 19 L'extrémité du doigt 20 porte également l'extrémité d'un fil électrique 23 qui permet de relier l'ensemble d'électrodes 13 à une source d'énergie électrique alternative non représentée. Comme il apparaît notamment sur la figure 3 et sur la figure 4, le plateau 14 comprend deux chambres 24 et 25 qui sont séparées par une paroi horizontale 26, le plateau l 4 présentant une paroi JO supérieure 27 et une paroi inférieure 28 qui sont à distance de la paroi intermédiaire 26 En vue de relier respectivement les chambres 24 et 25 à un circuit de refroidissement extérieur à l'appareil 1 et non représenté, on voit qu'on a prévu un conduit 29 qui s'étend au travers du pied 18 et au travers de la paroi 7 de l'enveloppe 5 et qui 15 est fixé à la paroi 28 du plateau 14, ainsi qu'un conduit 30 qui s'étend au travers du pied 17, au travers de la paroi 7 de l'enveloppe et au travers-de la chambre 24 du plateau 14 et qui est fixé à la paroi intermédiaire 26. L'ensemble d'électrodes 13 est en outre maintenu et fixé 20 grace à des écrous 31 et 32 qui sont montés sur l'extrémité des conduits 29 et 30, les conduits 29 et 30 étant isolés électriquement du fond 7 de l'enveloppe-5 de la méme manière que le doigt 20 grâce à des bagues isolantes 31 a et 32 a. L'électrode centrale 15 et les six électrodes 16 qui sont 25 disposées à sa périphérie présentent des canaux intérieurs dont les extrémités sont respectivement reliées aux chambres 24 et 25 ménagées dans le plateau 14 Le disque 15 a de l'électrode 15 comprend deux chambres 33 et 34 qui sont séparées par une cloison horizontale 35 dans laquelle sont ménagés différents orifices de communication 36, 30 les chambres 33 et 34 étant respectivement en communication avec les chambres 24 et 25 par l'intermédiaire de deux passages concentriques 37 a et 37 b ménagés dans la partie cylindrique 15 b de l'électrode 15 et séparés par un conduit 37 dont les extrémités sont respectivement fixées à la cloison 35 et à la cloison 26 Chacune des électrodes périphériques 16 est structurée de la même manière de telle sorte que les canaux intérieurs des électrodes 15 et 16 sont branchés en parallèle sur les chambres 24 et 25 en vue de faire circuler en parallèle un fluide de refroidissement par exemple admis par le conduit 29 et évacué par le conduit 30. L'appareil 1 comprend également un plateau amovible 38 de forme circulaire qui est engagé dans l'ouverture 4 de la couronne 3 et qui présente un rebord 39 à sa périphérie qui est en appui sur la face supérieure 3 a de la couronne 3 de telle sorte qu'il est relié à 5 la masse Ce plateau amovible 38 présente un passage traversant central 40 ainsi que six passages traversants 41 dans lesquels respectivement s'étendent les-électrodes 15 et 16, ces passages 40 et 41 ayant un diamètre supérieur au diamètre des disques 15 a et 16 a des électrodes et 16 de manière à ménager entre ces électrodes et la paroi des passages 40 et 41 des espaces annulaires La face supérieure du plateau amovible 38 s'étend sensiblement au m-me niveau que les faces supérieures 15 a et 16 a des électrodes 15 et 16. Dans les passages 40 et 41 sont prévus des ergots 42 qui sont au nombre de quatre dans chaque passage, ces ergots 42 présentant J 5 respectivement une branche 43 qui s'étend vers le haut et une branche inférieure 44 qui s'étend radialement vers l'intérieur et qui forme un épaulement, Les ergots 40 sont formés dans l'espace séparant la paroi latérale des disques 15 a et 16 a des électrodes 15 et 16 et la paroi intérieure des passages 40 et 41 et sont en un matériau isolant 20 électriquement, En outre, le plateau 38 est muni à sa partie supérieure de deux doigts 38 a qui permettent sa préhension. En vue de charger ou de décharger l'appareil de traitement 1, on peut effectuer les opérations suivantes Le plateau amo25 vible 38 étant disposé à l'extérieur de l'enceinte de traitement 2, on dispose dans chacun de ses passages 40 et 41 une plaquette à traiter 45 qui prend appui sur les écoulements 44 des ergots 42. L'enveloppe 8 en forme de cloche étant démontée ou ouverte, on place le plateau amovible 38 de telle sorte qu'il s'engage à l'intérieur 30 de l'ouverture 4 de la couronne 3 et autour des électrodes 15 et 16. Ce faisant, les plaquettes 45 viennent en appui sur la face supérieure c et 16 c des électrodes 15 et 16 en s'éloignant des épaulements 44 des différents ergots 42, les plaquettes 45 restant centrées par rapport aux électrodes 15 et 16 grâce aux branches verticales 43 35 des ergots 42, un espace annulaire demeurant donc entre la paroi des passages 40 et 41 du plateau 38 et le bord périphérique des plaquettes 45. En vue de décharger l'ensemble des plaquettes 45 disposées dans l'appareil 1, il suffit de retirer le plateau amovible 38, les plaquettes 45 venant de nouveau en appui sur les épaulements 44 des ergots 42. Comme on peut le voir sur la figure 1, l'appareil de traitement 1 comprend une anode 46 reliée à la masse qui se présente sous la forme d'un plateau porté par la paroi 9 de l'enveloppe 8 Ce plateau 46 s'étend dans la partie supérieure de la chambre supérieure 12 et couvre sensiblement la zone des électrodes 15 et 16, ce plateau 46 étant fixé à la paroi 9 de l'enveloppe supérieure 8 Ce plateau formant anode 46 comprend une chambre intérieure 47 sur laquelle est branchée un conduit central 48 qui traverse la paroi 9 de l'enveloppe 8 et sur lequel peut être branché un conduit d'amenée de gaz de réaction, le plateau 46 présentant en outre des orifices de communication 49 qui permettent de mettre en communication la chambre 47 avec l'intérieur de l'enceinte de réaction 2, ces orifices 49 étant formés respec15 tivement en face du milieu de chacune des électrodes 15 et l 6. La paroi 7 de l'enveloppe 5 présente une grande ouverture 50 qui permet de mettre en communication l'intérieur de l'enceinte 2 avec une pompe non représentée sur les figures. Lorsque l'appareil 1 fonctionne, c'est-à-dire lorsque 20 l'ensemble d'électrodes 13 est soumis à une source d'énergie alternative au travers du fil électrique 23 et du doigt 20 et qu'un gaz de réaction est admis par le conduit 48, et aspiré par l'ouverture 50 grâce à une pompe, l'enceinte de réaction étant fermée, le gaz de réaction s'écoule au travers du conduit 48, de la chambre intérieure 47 25 de l'électrode 46, est admis dans la chambre supérieure 12 par les orifices de communication 49, au-dessus de chacune des électrodes l 5 et l 6, diffuse dans la chambre 12, s'écoule au travers des espaces annulaires ménagés entre le bord des plaquettes 45 et les parois latérales des parties l 5 a et 16 a des électrodes 15 et 16 et les parois des passages traversants 40 et 41 du plateau amovible 38 puis traverse la chambre inférieure Il pour être évacué par l'ouverture 50 de la paroi 7 de l'enveloppe 5 Comme le plateau amovible 38 est relié à la masse, il s'ensuit que le plasma ne s'allume qu'au-dessus des plaquettes 45 portées par les électrodes 15 et 16 uniquement. En outre, en vue d'éviter que le plasma ne s'allume dans la chambre inférieure 11, on a prévu autour du plateau 14, autour des parties cylindriques l 5 b et l 6 b des électrodes l 5 et 16 et en-dessous des disques 15 a et l 5 b de ces électrodes des parois 5 l formant écran -2550044 qui sont à faible distance du plateau 14 et des électrodes 15 et 16 et isolés électriquement de ces derniers grâce à des bagues 52 en un matériau isolant. Il ressort de la description qui précede que les plaquettes 45 disposées respectivement sur les électrodes 15 et 16 sont sensiblement dans les mêmes conditions de traitement D'une part elles sont chacune traitées par un flux de gaz particulier qui diffuse à partir de chacun des orifices 49 situés en face du milieu de chacune des électrodes 15 et 16 et s'écoule à leur périphérie, le plasma n'étant 10 formé que dans la zone nécessaire au traitement des plaquettes 45 de telle sorte que la quantité d'énergie électrique utile est limitée. D'autre part, comme les électrodes 15 et 16 sont respectivement refroidies par l'intermédiaire de canaux intérieurs branchés en parallèle sur un circuit de refroidissement, elles sont toutes maintenues l 5 sensiblement à la même température. On peut noter également que par réglage de la position verticale du plateau amovible 38 qui est relié à la masse et qui entoure les électrodes 15 et 16 ou par réglage de la position verticale du plateau 46 formant anode par l'intermédiaire duquel le gaz 20 de réaction est admis, il est possible d'agir sur le plasma formé. En outre, grâce au plateau amovible 38, il est possible de charger et de décharger l'ensemble des plaquettes 45 en une seule opération de telle sorte que la cadence de traitement à l'aide de l'appareil de traltement I peut etre importante, par exemple en dispo25 sant de plusieurs plateaux amovibles identiques. Un autre avantage de l'appareil de traitement 1 réside dans le fait que, comme le plasma se forme entre l'anode constitué par le plateau 46, on peut refroidir ce plateau 46 et en consequence il n'est pas nécessaire de refroidir les parois formant l'enceinte de traitement 2. 30 La présente invention ne se limite pas à l'exemple cidessus décrits Un grand nombre de variantes sont possibles sans sortir du cadre défini par les revendications annexées - Il REVENDICATIONS I Appareil de traitement par plasma de substrats en forme de plaquettes ( 45) comprenant une enceinte de réaction ( 2) présentant des moyens d'amenée ( 38) et des moyens d'évacuation ( 50) pour un gaz de réaction, au moins une première électrode formant anode ( 46) formée dans ladite enceinte et adaptée pour gtre reliée à un potentiel de référence et, placée dans ladite enceinte, au moins une seconde électrode formant cathode isolée électriquement de ladite première électrode, adaptée pour âtre reliée à une source d'énergie électrique 10 alternative et présentant une surface de réception d'au moins une plaquette située du coté de ladite première électrode, de telle sorte qu'un plasma peut être formé entre lesdites électrodes en vue de traiter la plaquette que la deuxième électrode porte, caractérisé par le fait qu'il comprend une multiplicité de cathodes ( 13) à la périphérie desquelles sont respectivement ménagés des espaces d'écoulement ( 40, 41) de gaz au travers desquels le gaz de réaction peut s'écouler depuis les moyens d'amenée de gaz situés des surfaces ( 15 c, 16 c) des cathodes ( 15, 16) recevant les plaquettes ( 45) jusqu'aux moyens d'évacuation ( 50) des gaz placés en aval de ces espaces d'écoulement. 2 Appareil de traitement selon la revendication 1, caractérisé par le fait que lesdites cathodes ( 15, 26) sont respectivement entourées à distance par des pièces ( 38) isolées électriquement des cathodes et reliées au potentiel de référence, lesdits espaces d'écoulement étant ménagés entre ces pièces et les parois périphériques des 25 cathodes correspondantes. 3 Appareil selon la revendication 1, caractérisé par le fait qu'il comprend au moins un support amoyible ( 38) présentant une multiplicité de passages traversant ( 40, 41) formés de manière à correspondre à au moins une partie desdites cathodes et munis de 30 moyens ( 42) pour maintenir respectivement dans lesdits passages ou en face au moins une plaquette ( 45), ce support amovible ( 38) étant adapté pour être monté dans ladite enceinte de réaction ( 2) de telle sorte que les plaquettes qu'il porte viennent en appui respectivement sur les surfaces de réception ( 15 c, 16 c) des cathodes correspondantes. 35 4 Appareil de traitement selon la revendication 3, caractérisé par le fait que ledit support amovible ( 38) est adapté pour que les parois de ses passages traversants ( 40, 41) s'étendent à la périphérie et à distance des cathodes correspondantes, de telle sorte que lesdits espaces d'écoulement de gaz de réaction sont ménagés entre les parois desdits passages et les parois périphériques des cathodes correspondantes. 5 Appareil de traitement selon l'une des revendications 3 et 4, caractérisé par le fait que ledit support amovible ( 38) est isolé électriquement desdites cathodes et des plaquettes que ces dernières portent, ce support amovible étant relié au potentiel de référence. 6 Appareil de traitement selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé par le fait que lesdites cathodes ( 15, 16) sont munies de canaux intérieurs ( 37 a, 33, 34, 37 b) dans lesquels peut circuler un fluide de refroidissement, les canaux intérieurs respectifs desdits cathodes étant susceptibles d'être 15 branchés-en parallèle sur un circuit de refroidissement extérieur. 7 Appareil de traitement selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé par le fait que ladite anode s'étend en face et à distance des surfaces de réception ( 15 c, 16 c) des cathodes ( 15, 16), lesdits moyens d'amenée de gaz de réaction 20 comprenant au moins une chambre ( 47) formée à l'intérieur de cette anode et des orifices de communication ( 49) entre cette chambre intérieure et l'intérieur de ladite enceinte de réaction qui sont situés en face de chacune desdites électrodes. 8 Appareil de traitement par plasma de substrats en 25 forme en plaquettes comprenant une enceinte de réaction ( 2) présentant des moyens d'amenée ( 48) et des moyens d'évacuation ( 50) pour un gaz de réaction, au moins une première électrode formant anode ( 46) formée dans ladite enceinte et-adaptée pour âtre reliée à un potentiel de référence et, placée dans ladite enceinte, au moins une seconde élec30 trode formant cathode isolée électriquement de ladite première électrode, adaptée pour être reliée à une source d'énergie électrique alternative et présentant une surface de réception d'au moins une plaquette située du c 8 té de ladite première électrode, de telle sorte qu'un plasma peut être formé entre lesdites électrodes en vue de traiter 35 la plaquette que la deuxième électrode porte, caractérisé par le fait qu'il comprend une multiplicité de cathodes ( 13) qui présentent des surfacesde réception de plaquettes ( 15 c, l 6 c) s'étendant dans un même plan et qui sont espacées les unes des autres, ces cathodes divisant ladite enceinte ( 2) en une première chambre ( 12) située du côté de leur surface de réception de plaquette et une deuxième chambre ( 11) située de l'autre c Sté et dans laquelle elles s'étendent, lesdits moyens d'amenée de gaz de réaction débouchant dans ladite première chambre ( 12) et lesdits moyens d'évacuation de gaz de réaction communiquant avec ladite seconde chambre ( 11), de telle sorte que le gaz de réaction peut s'écouler au travers des espaces séparant lesdites cathodes. 9 Appareil de traitement selon la revendication 8 10 caractérisé par le fait qu'il comprend un plateau amovible ( 38) présentant uine multiplicité de passages traversants ( 40, 41) formés de manière à correspondre auxdites cathodes ( 15, 16) et muni de moyens ( 42) pour maintenir respectivement, dans lesdits passages, des plaquettes, ce plateau ( 38) étant adapté pour être disposé ou monté dans ladite enceinte de réaction ( 2) de telle sorte que les plaquettes ( 45) qu'il porte viennent en appui sur les surfaces de réception de plaquettes des cathodes correspondantes et que lesdites espaces d'écoulement pour le gaz de réaction s'étendent respectivement entre la paroi périphérique desdites cathodes et la paroi desdits passages traversant 20 correspondants. Appareil de traitement selon la revendication * 9, caractérisé par le fait que lesdits moyens de maintien des plaquettes dans lesdits passages du plateau amovible ( 38) peuvent etre formés par des ergots formant support pour les plaquettes et maintenant les 25 plaquettes à distance des parois desdites passages traversants. 11 Appareil de traitement selon l'une des revendications 9 et 10, caractérisé par le fait que ledit plateau amovible ( 38) est isolé électriquement desdites cathodes et desdites plaquettes et est relié au potentiel de référence. 12 Appareil de traitement selon l'une des revendications et 11, caractérisé par le fait que lesdits ergots formant support ( 42) sont en un matériau électriquement isolant. 13 Appareil de traitement selon l'une quelconque des revendications 8 à 12, caractérisé par le fait que les extrémités 35 desdites cathodes opposées à leur surface de réception ( 15 c, 16 c) de plaquette sont reliées entre elles par un plateau ( 14) dans lequel sont ménagées deux chambres ( 24, 25) dont l'une est munie de moyens d'amenée ( 29) de fluide de refroidissement et dont l'autre est munie de moyens d'évacuation ( 30) de fluide de refroidissement, lesdites cathodes présentant des canaux intérieurs ( 37 a, 33, 34, 37 b) de refroidissement branchés respectivement en parallèle-sur ces deux chambres. 14 Appareil de traitement selon l'une quelconque des revendications 8 à 13, caractérisé par le fait que ladite anode ( 46) est formée par un plateau disposé dans ladite première chambre (i 2) et faisant face à distance auxdites cathodes ( 15, 16), lesdits moyens d'amenée de gaz de réaction comprenant une chambre ( 47) formée dans ce plateau et une multiplicité d'orifices ( 49) débouchant en face desdites cathodes ( 15, 16). Appareil de traitement selon la revendication 14, caractérisé par le fait que ledit plateau ( 46) formant anode comprend 15 des orifices ( 49) débouchant en face du milieu des surfaces de réception ( 15 c, 16 c) de plaquettes des cathodes. 16 Appareil de traitement se-lon l'une quelconque des revendications 8 à 15, caractérisé par le fait que des écrans isolés électriquement desdites cathodes et reliés au potentiel de référence 20 sont prévus autour de ces dernières dans leur partie s'étendant en-dessous de leur surface de réception ( 15 c, 16 c) des plaquettes.