Brevet FR2544664A1 — publié le 19841026

L'invention concerne une tête d'enregistrement par jets d'encre. Un procédé d'enregistrement par jets d'encre (procédé d'enregistrement par jets de liquide) permet un enregistrement à grande vitesse, car le bruit produit pen- dant l'opération d'enregistrement est négligeable, et il permet également d'effectuer un enregistrement sur du papier uni sans nécessiter une opération de fixage ou un autre traitement spécial Par conséquent, l'intérêt porté à ce procédé est de plus en plus grand. Un procédé d'enregistrement par jets de liquide décrit dans la demande de brevet japonaise N' 54-51837 et dans la demande de brevet de la République Fédérale d'Allemagne DOS N O 2 843 064 diffère du procédé classi- que d'enregistrement par jets de liquide par le fait que de l'énergie thermique est appliquée à un liquide pour produire une force motrice projetant une gouttelette de liquide. Le procédé décrit dans les demandes précitées est caractérisé par le fait que le liquide, soumis à l'action de l'énergie thermique, présente un changement de phase qui entraîne un accroissement rapide de volume, et le liquide est projeté par un orifice situé à l'extré- mité d'une tête d'enregistrement, par une action due au changement de phase afin qu'une gouttelette de liquide soit projetée et déposée sur un support d'enregistrement pour y réaliser un enregistrement. En particulier, le procédé d'enregistrement par jets de liquide décrit dans la demande N O 2 843 064 précitée peut non seulement être appliqué efficacement à un procédé d'enregistrement dit à gouttelettes produites à la demande, mais il permet également de mettre en oeuvre une tête d'enregistrement du type à ligne pleine, présen- tant une densité élevée d'orifices multiples Il est donc possible d'obtenir, à grande vitesse, une image ayant une résolution élevée et une haute qualité. La tête d'enregistrement utilisée dans un appa- reil pour la mise en oeuvre du procédé décrit ci-dessus comprend une unité à jet de liquide présentant un orifice destiné à projeter un liquide et un trajet d'écoulement de liquide communiquant avec l'orifice de façon à former une unité d'application de chaleur qui applique de l'éner- gie thermique au liquide pour projeter une gouttelette, et un transducteur électrothermique destiné à produire l'énergie thermique. Le transducteur électrothermique comprend deux électrodes et une couche résistive génératrice de chaleur connectée aux électrodes afin de définir une région géné- ratrice de chaleur (partie génératrice de chaleur) entre les électrodes Le transducteur électrothermique et les électrodes sont habituellement formés dans une couche supérieure d'une base pour la tête d'enregistrement par jets de liquide Les figures 1 A-et 1 B des dessins annexés représentent une structure connue antérieure de la base dans laquelle est formé le transducteur électrothermique de la tête d'enregistrement par jets de liquide. La figure 1 A est une vue en plan de la zone du transducteur électrothermique de la base de la tête d'enregistrement par jets de liquide et la figure 1 B est une coupe partielle suivant la ligne X-Y, en trait mixte,de la figure 1 A. La base 101 de la tête d'enregistrement par jets de liquide comprend une couche inférieure 106, une couche résistive génératrice de chaleur 107, des électro- des 103 et 104, une première couche supérieure 107 de protection, une deuxième couche supérieure 109 de protec- tion et une troisième couche supérieure 110 de protection, appliquées dans cet ordre sur un support 105 de base. La couche résistive génératrice de chaleur 107 et les électrodes 103 et 104 sont configurées suivant des dessins prédéterminés, par gravure Elles sont configurées suivant le même dessin dans des zones autres que celles d'un transducteur électrothermique 102, et, dans la zone du transducteur électrothermique 102, les électrodes-ne sont pas appliquées sur la couche résistive génératrice de chaleur 107 et cette dernière forme une partie génératrice de chaleur 111 La première couche supérieure 108 de pro- tection et la troisième couche supérieure 110 de protection sont appliquées sur toute la surface de la base 101, mais la deuxième couche supérieure 109 de protection n'est pas appliquée sur le transducteur électrothermique 102. Des matières convenant aux couches supérieures de la base sont choisies en fonction de caractéristiques telles que la résistance à la chaleur, la résistance au liquide, la conductibilité thermique et le pouvoir isolant demandé dans les zones sur lesquelles les couches supérieu- res sont placées Une fonction principale de la première couche supérieure 108 de protection est de maintenir une isolation entre l'électrode commune 103 et l'électrode 104 de sélection; une fonction principale de la deuxième couche supérieure 109 de protection est d'empêcher la pénétration du liquide et d'assurer la résistance au liquide; et une fonction principale de la troisième couche supérieure de protection est d'assurer la résistance au liquide et de renforcer la résistance mécanique. Dans la tête d'enregistrement par jets de liquide de l'art antérieur comportant une base réalisée comme décrit ci-dessus, lorsque la base est en contact continu avec le liquide pendant une longue durée, au cours d'utilisations répétées, ou au cours d'une utilisation continue et de longue durée, les couches'supérieures de protection formées sur la base se détachent par pelage, de sorte que l'isola- tion se détériore, que les électrodes ou les transducteurs électrothermiques se brisent et que l'alimentation en liquide est gênée, ou encore que la projection du liquide est inter- rompue par déformation du trajet d'écoulement du liquide ou de l'orifice. Une cause de la détérioration de la résistance au liquide, à long terme, de la tête d'enregistrement par jets de liquide de l'art antérieur peut être considérée comme suit Etant donné qu'un certain nombre de petits transducteurs électrothermiques sont formés simultanément sur la base, la surface sur laquelle les couches supérieures de protection doivent être formées présente de petits gradins concavo convexes Par conséquent, les couches supérieures de protection ne recouvrent pas parfaitement les gradins ou défauts tels que des piqûres formées dans les couches de protection et le liquide pénètre dans ces défauts. L'invention a pour objet une tête d'enregistre- ment par jets de liquide qui présente une excellente lon- gévité lors d'une utilisation répétée et fréquente et lors d'une utilisation continue, de longue durée, et qui peut maintenir de façon stable, sur une durée prolongée, une caractéristique souhaitée de formation de gouttelettes de liquide. L'invention a pour autre objet une tête d'enre- gistrement par jets de liquide présentant une haute fiabi- lité de fabrication. Conformément à l'invention, il est prévu une tête d'enregistrement par jets de liquide qui comprend une partie de décharge de liquide présentant un orifice destiné à décharger une gouttelette de liquide pour projeter cette gouttelette, et un trajet ou circuit d'écoulement de liquide communiquant avec l'orifice et comprenant une partie d'application de chaleur destinée à appliquer de l'énergie thermique au liquide pour former la gouttelette; et un transducteur électrothermique comprenant au moins deux électrodes opposées, connectées électriquement à une couche résistive génératrice de chaleur formée sur une base, et une partie génératrice de chaleur formée entre les électrodes, une première couche supérieure de protec- *tion en matière isolante inorganique et une deuxième couche supérieure de protection en matière organique, appliquée sur au moins lesdites électrodes et sur ladite première couche supérieure de protection, et une troisième couche supérieure de protection en matière inorganique différente de celle de la première couche supérieure et appliquée sur au moins ladite partie génératrice de chaleur. L'invention sera décrite plus en détail en regard des dessins annexés à titre d'exemples nullement limitatifs et sur lesquels: Z 544664 la figure 1 A est une vue partielle en plan d'un transducteur électrothermique appliqué sur une base d'une tête d'enregistrement par jets de liquide de l'art anté- rieur; la figure 1 B est une coupe partielle suivant la ligne X-Y, en trait mixte, de la figure 1 A; les figures 2 A, 3 et 4 sont une vue partielle en plan et des coupes transversales partielles' d'un trans- ducteur électrothermique formé sur une base d'une tête d Enregistrement par jets de liquide selon l'invention; la figure 2 B est une coupe partielle suivant la ligne X'-Y', en trait mixte, de la figure 2 A; la figure 5 est une vue partielle schématique en perspective montrant la structure interne de la tête d'enregistrement par jets de liquide selon l'invention; et la figure 6 est une vue partielle schématique en perspective éclatée d'une autre forme de réalisation de la tête d'enregistrement par jets de liquide selon l'invention; La figure 2 A est une vue en plan d'un transduc- teur électrothermique appliqué sur une base de tête d'enre- gistrement par jets de liquide selon l'invention, et la figure 2 B est une coupe suivant la ligne X'IY, en trait mixte, de la figure 2 A. La base 201 représentée sur les figures 2 A et 2 B comprend un support 205 de base en silicium, en verre ou en céramique, une couche inférieure 206 en Si O 2 formée sur le support de base 205, une couche résistive généra- trice de chaleur 207-, une électrode commune 204 et une électrode 203 de sélection appliquées sur la couche résis- tive 207, sauf à l'emplacement d'une partie génératrice de chaleur 211, une première couche supérieure 208 de protection qui recouvre la partie génératrice de chaleur 211, l'électrode commune 204 et l'électrode 203 de sélec- tion, une deuxième couche supérieure 209 de protection et une troisième couche supérieure 210 de protection appli- quées conformément à la structure de la couche inférieure. Une partie chauffante 202 comprend la partie génératrice de chaleur 211 qui en constitue l'élément principal La partie génératrice de chaleur-211, la couche inférieure 206, la couche résistive génératrice de chaleur 207, la première couche supérieure 208 de protection et la troisième couche supérieure 210 de protection sont appliquées dans cet ordre sur le support de base 205, et la rs e e couche supérieure de protection recouvre au moins la surface de la partie chauffante 202 Ainsi, une couche supérieure double de protection, comprenant les première et troisième couches 208 et 210 de protection, est formée sur la partie chauffante 202. Par ailleurs, la base 201, sauf à l'emplacement de la partie chauffante 202, est constituée de la couche inférieure 206, de la couche résistive génératrice de chaleur 207 et des électrodes 203 et 204 qui sont appli- quées dans cet ordre sur la base 205, ét la première couche supérieure 208 de protection et la seconde couche supé- rieure 209 de protection sont appliquées sur au moins les électrodes 203 et 204. Dans la base 201 de la tête d'enregistrement par jets de liquide montrée sur les figures 2 A et 2 B, la deuxième couche supérieure 209 de protection et la troi- sième couche supérieure 210 de protection ne sont pas en contact l'une avec l'autre En variante, comme montré sur la figure 3, la troisième couche supérieure 210 de protection peut être superposée à la deuxième couche supé- rieure 209 de protection afin de recouvrir plus largement le dessus de la partie chauffante 202 ou bien, comme montré sur la figure 4, la troisième couche supérieure 210 de pro- tection peut être formée entre la première couche supérieure 208 de protection et la deuxième couche supérieure 209 de protection afin de recouvrir plus largement la partie chauf- fante 202. Une fonction principale de la première couche supérieure 208 de protection, qui est formée sur au moins la partie chauffante 202 et les électrodes 203 et 204, est d'isoler l'électrode commune 204 de l'électrode 203 de sélection La première couche supérieure 208 de protection est constituée d'une matière isolante inorganique telle qu'un oxyde inorganique, par exemple Si O 2, ou un nitrure inorganique, par exemple Si 3 N 4, qui présente une conduc- tibilité thermique et une résistance à la chaleur relative- ment élevées. La matière de la première couche supérieure 208 peut comprendre, en plus des matières inorganiques indiquées ci-dessus, des matières en couches minces telles que des oxydes de métaux de transition, par exemple les oxydes de titane, de vanadium, de niobium, de molybdène, de tantale, de tungstène, de chrome, de zirconium, d'hafnium, de lan- thane, d'yttrium, de manganèse et autres; des oxydes d'autres métaux tels que des oxydes d'aluminium, de calcium, de strontium, de baryum, de silicium et autres; et un complexe des métaux ci-dessus; un nitrure hautement di- électrique tel que du nitrure de silicium, d'aluminium, de bore, de tantale ou autre; un complexe des oxydes et des nitrures ci-dessus; des matières semiconductrices telles que du silicium amorphe, du sélénium amorphe et autres, qui ont une faible résistance à l'état en vrac, mais qui sont rendues hautement résistantes par un procédé de fabrication tel qu'un procédé de pulvérisation, un procédé de dépôt chimique en phase vapeur, un procédé de dépôt en phase vapeur, un procédé de réaction en phase vapeur ou un procédé'd'enduction de liquide. L'épaisseur de la pellicule est habituellement de 0,1 à Dm, avantageusement de 0,2 à 3 gm, et de préférence de 0,5 à 3 om. La deuxième couche supérieure 209 de protection est formée sur au moins les électrodes 203 et 204, comme couche supérieure de protection pour la base 201, sauf sur la partie chauffante 202, et elle comporte une région qui est en contact direct avec le liquide Une fonction principale de cette couche est d'empêcher la pénétration du liquide et d'améliorer la résistance au liquide De préférence, elle possède une forte propriété filmogène, une fine structure et un petit nombre de piqûres; elle ne peut pas être gonflée par l'encre utilisée ni n'est soluble dans cette encre; elle présente une propriété d'isolation élevée sous la forme d'une pellicule et une grande résis- tance à la chaleur Des matières organiques convenant au but indiqué cidessus comprennent des résines, par exemple une résine siliconée, une résine contenant du fluor, un polyamide aromatique, un polyimide obtenu par polymérisa- tion par addition, du polybenzimidazole, un polymère d'un chélate métallique, un ester de titanate, une résine époxy, une résine phtalique, une résine phénolique thermodurcis- sable, de la résine p-vinylphénolique, de la résine "Zirox", de la résine triazine, de la résine BT (résine polymérisée par addition de résine triazine et de bis-maléimide) et autres En variante, la deuxième couche supérieure 209 de protection peut être formée par dépôt en phase vapeur de résine de polyxylène ou d'un dérivé de cette résine. En variante, la deuxième couche supérieure de protection 209 peut être formée par un procédé de polymé- risation par plasma à partir de divers monomères de compo- sés organiques tels que thiourée, thioacétamide, vinyl- ferrocène, 1,3,5-trichlorobenzène, chlorobenzène, styrène, ferrocène, pyrroli, naphtalène, pentaméthylbenzène, nitrotoluène, acrylonitrile, séléniure de diphényle, p- toluidine, p-xyline, N,N-diméthyl-p-toluidine, toluène, aniline, diphénylmercure, hexaméthylbenzène, malonitrile, tétracyanéthylène, thiophène, benzènesélénol, tétrafluor- éthylène, éthylène, N-nitrosodiphénylamine, acétylène, 1,2,4-trichlorobenzène, propane, et autres. Dans la fabrication d'une tête d'enregistrement du type à orifices multiples à haute densité, la deuxième couche supérieure 209 de protection peut de préférence être formée d'une matière organique qui est aisément traitée par photolithographie fine Des exemples avantageux d'une telle matière comprennent, par exemple, de la polyimido- isoindoloquinazoline-dione (nom commercial: "PIQ", dis- ponible auprès de la firme Hitachi Kasei, Japon), une résine polyimide (nom commercial: "PYRALIN", disponible auprès de la firme Du Pont); du polybutadiène cyclique (nom commercial: JSR-CBR" disponible auprès de la firme Japan Synthetic Rubber, Japon); des résines polyimide photosensibles telles que "Photoneece" (disponible auprès de la firme Toray, Japon), un acide polyamique photo- réactif pour lithographie (nom commercial: "PAL" disponible auprès de la firme Hitachi Kasei, Japon), et autres. La formule pour la polyimidoisoindoloquinazoline- dione (nom commercial: "PIQ", disponible auprès de la firme Hitachi Kasei Co, Japon) est: O O O o \ Il II il /C C 1C C ON R 9 O /N-R 1-N R / N 3 C 4 e i wos,2 N z, N-R 3 c 0 N O 0 O La formule de la résine polyimide (nom commer- cial: "PYRALIN", disponible auprès de la firme Du Pont, E.U A) est: O O il 9 N N _R _ c C I O O O n La formule du polybutadiène cyclisé (nom com- mercial: "JSR-CBR", disponible auprès de la firme Japan Synthetic Rubber Co, Japon) (réserve photosensible résistant à la chaleur) est Rl H R 2 O H H 2 n Une fonction principale de la troisième couche supérieure 210 de protection formée sur la première couche supérieure 208 de protection, sur la partie chauffante 202, est d'accroître la résistance au liquide et de ren- forcer la résistance mécanique La troisième couche supé- rieure 210 de protection est constituée d'une matière métallique qui est élastique, présente une résistance mécanique relativement élevée et de bonnes propriétés de contact et de liaison avec la première couche supérieure 208 de protection, par exemple du tantale lorsque la première couche supérieure 208 de protection est constituée de Si O 2 En réalisant la troisième couche supérieure 210 de protection en une matière inorganique présentant une élasticité relativement élevée et une bonne résistance mécanique sur la première couche supérieure 208 de protec- tion, et plus particulièrement sur la partie chauffante 202, un choc dû à un phénomène de cavitation, se produi- sant lorsque le liquide est déchargé d'un plan de contact (plan d'action thermique, non représenté) entre la partie génératrice de chaleur 211 et le liquide, peut être totale- ment absorbé, la probabilité de formation d'un défaut tel qu'une piqûre dans la couche supérieure de protection pendant la fabrication et de la détérioration de la pro- priété de recouvrement de la couche supérieure de protection est abaissée, et la durée de vie de la partie chauffante 202 est notablement prolongée. La matière de la troisième couche supérieure 210 de protection comprend, en plus du Ta indiqué précé- demment, un élément du groupe IIIA du Tableau Périodique, tel que Sc ou Y, un élément du groupe IVA tel que Ti, Tr ou If, un élé- ment du groupe VA tel que V ou Ib, un élément du croupe VIA tel que Cr, Mo ou W, un élément du croupe VIII tel que Fe, Co ou Ni, un alliage des métaux ci-dessus, tel que Ti-Ni, Ta-W, Ta-Mo-Ni, Ni-Cr, Fe-Co, Ti-W, FeTi, Fe-Ni, Fe-Cr, Fe-Ni-Cr, un borure des métaux ci-dessus tel que Ti-B, Ta-B, Hf-B ou W-B, un car- bure des métaux ci-dessus tel que Ti-C, Zr-C, V-C, Ta-C, Mo-C ou Ni-C, et un siliciure des métaux ci-dessus tel que Mo-Si, W-Si ou Ta-Si, ainsi qu'un nitrure de métaux ci-dessus tel que Ti-N, Nb-N ou Ta-N La troisième couche peut être formée de ces matières par un procédé de dépôt de vapeur, un procédé de pulvérisation, un pro- cédé de dépôt chimique en phase vapeur ou tout autre pro- cédé, et l'épaisseur de la pellicule est habituellement de 0,01 à 5 gm, avantageusement de 0,1 à 5 gym et de pré- férence de 0,2 à 3 gm La matière et l'épaisseur de la pellicule sont de préférence choisies de façon que la résistivité de la couche soit supérieure aux résistivités de l'encre, de la couche résistive génératrice de chaleur et de la couche d'électrodes Par exemple, elle présente une résistivité de 1 ohm-cm ou moins Une matière isolante telle que du Si-C, présentant une propriété de grande résistance aux chocs mécaniques est de préférence utilisée. La troisième couche supérieure 210 de protec- tion peut être une couche unique ou une couche composée de ces couches En outre, cette troisième couche supé- rieure 210 peut être formée d'une matière combinée qui comprend la matière ci-dessus, avec celles de la première couche supérieure 208 de protection. La couche inférieure 206 a pour fonction prin- cipale de limiter la conduct-ion de la chaleur dégagée par la partie génératrice de chaleur 211 vers le support 205. La matière et l'épaisseur de la couche inférieure 206 sont choisies de façon que la chaleur dégagée par la partie génératrice de chaleur 211 soit davantage conduite vers la partie d'application de la chaleur (non représentée) lorsque l'énergie thermique doit être appliquée au liquide dans la partie d'application de chaleur, et la chaleur restante dans la partie génératrice de chaleur 211 est conduite plus rapidement vers le support 205 lorsque la conduction thermique vers la partie chauffante 202 est bloquée La matière de la couche inférieure 206 com- prend, en plus de Si O 2 indiqué précédemment, des matières inorganiques telles que celles représentées par des oxydes métalliques, par exemple les oxydes de zirconium, de tantale, de magnésium et d'aluminium. La matière de la couche résistive, génératrice de chaleur, 207 peut être toute matière produisant de la chaleur lorsqu'elle est excitée. Des exemples avantageux de telles matières sont le nitrure de tantale, un alliage nickel-chrome, un alliage argent-palladium, du silicium semiconducteur, et des métaux tels que l'hafnium, le lanthane, le zirconium, le titane, le tantale, le tungstène, le molybdène, le niobium, le chrome, le vanadium, etc, des alliages et des borures de ces métaux. Parmi les matières de la couche résistive génératrice de chaleur 207, les borures de métaux con- viennent particulièrement et, parmi ces dernières, on peut utiliser avantageusement le borure d'hafnium pour ses excellentes propriétés, suivi du borure de zirconium, du borure de lanthane, du borure de tantale, du borure de vanadium et du borure de niobium, dans l'ordre cité. La couche résistive génératrice de chaleur 207 peut être formée de ces matières par un procédé de dépôt de vapeur par faisceau électronique ou par un procédé de pulvérisation. L'épaisseur de la couche résistive génératrice de chaleur est déterminée en fonction de sa surface et de la matière dont elle est constituée, ainsi que de la forme et de la dimension de la partie d'application de chaleur et de la consommation de puissance afin qu'une quantité par heure de chaleur souhaitée puisse être produite. Habituellement, l'épaisseur est de 0,001 à 5 gm, et de préférence de 0,01 à 1 g Nm. La matière des électrodes 203 et 204 peut être toute matière à électrode classique, telle que Al, Ag, Au, Pt ou Cu Ces matières sont configurées dans les dimen- sions, la forme et l'épaisseur souhaitées, dans une posi- tion souhaitée, par un procédé de déposition de vapeur. La tête d'enregistrement par jets de liquide selon l'invention est achevée par formation de plusieurs couches supérieures montrées sur les figures 2 A à 4, sur la base sur laquelle les transducteurs électrothermiques sont formés, puis par formation du canal 305 de liquide et de l'orifice 306 pour la partie génératrice de chaleur 211 formée par les transducteurs électrothermiques La troisième couche supérieure de protection est de préfé- rence formée sur une surface minimale nécessaire sur la partie génératrice de chaleur. La figure 5 représente schématiquement la structure interne de la tête d'enregistrement par jets de liquide à l'état achevé Dans la forme de réalisation décrite, l'orifice 306 est situé au-dessus de la partie génératrice de chaleur La référence numérique 307 dési- gne une paroi du canal d'écoulement d'encre, la référence numérique 308 désigne une chambre commune à liquide, la référence numérique 309 désigne une seconde chambre com- mune à liquide, la référence numérique 310 désigne une ouverture faisant communiquer la chambre commune 308 à liquide avec la seconde chambre commune 309, et la réfé- rence numérique 311 désigne une plaque supérieure Le câblage du transducteur électrothermique n'est pas repré- senté sur la figure 5. La figure 6 représente schématiquement une autre forme de réalisation d'une tête d'enregistrement par jets de liquide à l'état achevé Dans cette forme de réa- lisation, l'orifice 306 est situé à une extrémité du canal d'écoulement de liquide La référence numérique 312 désigne un orifice d'alimentation en encre Dans cette tête d'enre- gistrement par jets de liquide, les couches supérieures appliquées sur la base sont constituées de matières con- venablement choisies en fonction de caractéristiques telles que la résistance à la chaleur, la résistance au liquide, la conductibilité thermique et l'isolation électrique demandées par les zones sur lesquelles les couches supé- rieures respectives sont appliquées, et les couches supé- rieures des différentes matières appliquées sur la base présentent de bonnes propriétés de contact et de bonnes propriétés de liaison Par conséquent, cette tête d'enre- gistrement par jets de liquide présente une excellente longévité et une excellente résistance au liquide et elle convient à une utilisation répétitive fréquente et à une utilisation continue de longue durée, et, en outre, elle maintient de façon stable une formation souhaitée de gout- telettes de liquide sur une période prolongée. La présente invention sera décrite plus en détail en référence à un exemple particulier. Exemple Une tranche de Si est soumise à une oxydation thermique pour former une pellicule de Si O 2 ayant une épaisseur de 5 Nm afin d'être utilisée comme base Cette dernière est recouverte par pulvérisation d'une couche de Hf B 2 ayant une épaisseur de 300 nanomètres de façon à former la couche résistive génératrice de chaleur, puis une couche de Ti de 5 nanomètres et une couche d'Al de nanomètres sont appliquées successivement par un procédé de dépôt de vapeur par faisceau électronique. Les électrodes et la couche résistive génératrice de chaleur sont configurées suivant la forme montrée sur la figure 2 A, par un processus photolithographique, et un nombre prédéterminé de transducteurs électrothermiques (partie génératrice de chaleur de 50 gm de largeur et 150 gm de longueur) est formé dans la position particulière. Une couche de Si O 2 est déposée par pulvérisa- tion à une épaisseur de 2,8 gm, par un processus de pul- vérisation à grande vitesse, sur la base sur laquelle sont 44664 formés les transducteurs électrothermiques et les électro- des, et une couche de Ta est déposée par pulvérisation à une épaisseur de 0,5 Nom. La couche de Ta pulvérisé est gravée par un processus photolithographique de façon à pouvoir rester * uniquement sur les transducteurs électrothermiques, sui- vant un dessin de 90 gm de largeur et 200 gm de longueur, et la surface autre que celle du dessin des transducteurs électrothermiques peut être recouverte d'une matière du type ti Photoneece (de la firme Toray, Japon). Une pellicule sèche formée d'une résine photo- sensible de 50 gm d'épaisseur est appliquée sur la base et est exposée à travers un masque de dessin prédéterminé, puis elle est développée pour former le danal d'écoulement de liquide et les chambres communes à liquide, et la plaque supérieure en verre est collée au moyen d'un époxyde de liaison afin de former la tête d'enregistrement par jets de liquide représentée sur la figure 5. On fait fonctionner cette tête d'enregistre- ment pendant 20 jours, à une fréquence de 5 x 107 fois par jour, pour la soumettre à un essai de longévité Dans cet essai de longévité de la tête d'enregistrement par jets de liquide décrite, on atteint de façon stable une longé- vité de 10 projections de liquide et lors d'un essai de résistance au liquide de la tête d'enregistrement, essai au cours duquel cette tête est plongée dans le liquide d'enregis- trement pendant un mois à 60 'C,-puis est utilisée pour une opération habituelle d'enregistrement, on n'observe aucun état anormal des couches supérieures de la base de la tête d'enregistrement, ni aucune rupture du câblage de la tête, et les mêmes caractéristiques d'enregistrement que celles existant avant l'essai d'immersion subsistent et on obtient une longévité globale excellente. Avec une tête d'enregistrement par jets de liquide fabriquée de la mêmemanière que pour la présente invention, mais comportant une base ayant une structure conforme à l'art antérieur, on n'a-pas atteint, lors de l'essai d'utilisation continue, une longévité supérieure à 7 projections de liuide, et dans l'essai de résistance au licuide, on note que les couches supérieures de la base se décollent de cette dernière, que le canal d'écoulement de liquide ou l'orifice se déforme, que les électrodes sont dissoutes et que le câblage est rompu lors de l'utilisation de la tête sous l'application d'une tension à cette dernière. Il va de soi que de nombreuses modifications peuvent être apportées à la tête d'enregistrement décrite et représentée sans sortir du cadre de l'invention. REVENDICATIONS 1 Tête d'enregistrement par jets de liquide, caractérisée en ce qu'elle comporte une partie de décharge de liquide présentant un orifice ( 306) destiné à décharger un liquide pour projeter une gouttelette, et un canal ( 305) d'écoulement de liquide communiquant avec l'orifice et comprenant une partie d'application de chaleur destinée à appliquer de l'énergie thermique au liquide pour former la gouttelette, un transducteur électrothermique qui com- prend au moins deux électrodes opposées ( 203, 204) connec- tées électriquement à une couche résistive génératrice de chaleur ( 207), formée sur une base ( 205), et une partie génératrice de chaleur ( 211) formée entre les électrodes, une première couche supérieure ( 208) de protection en matière isolante inorganique et une seconde couche supé- rieure ( 209) de protection en matière organique, appliquées sur au moins lesdites électrodes, la première couche supé- rieure de protection et une troisième couche supérieure ( 212) de protection, en matière inorganique différente de celle de la première couche supérieure, étant appliquées sur au moins ladite partie génératrice de chaleur. 2 Tête d'enregistrement selon la revendication 1, caractérisée en ce que la première couche supérieure de protection comprend des oxydes inorganiques ou des nitrures inorganiques. 3 Tête d'enregistrement selon la revendica- tion 1, caractérisée en ce que la deuxième couche supérieure de protection comprend une matière organique choisie dans le groupe comprenant une résine siliconée, une résine contenant du fluor, un polyamide aromatique, un polyimide obtenu par polymérisation par addition, du polybenzimi- dazole, un polymère d'un chélate métallique, un ester de titanate, une résine époxy, une résine phtalique, une résine phénolique thermodurcissable, une résine p-vinyl- phénolique, une résine "Zirox", une résine triazine, une résine BT, une résine polyxylène et un dérivé de résine polyxylène. 4 Tête d'enregistrement selon la revendication 1, caractérisée en ce que la deuxième couche supérieure de protection comprend une couche formée conformément à un procédé de polymérisation par plasma, à partir d'un mono- mère de composé organique. Tête d'enreaistrement selon la revendication 1, caractérisée en ce que la deuxième couche supérieure de protection comprend une matière organique choisie dans le groupe constitué d'une résine polyimide photosensible, de polybutadiène cscaisue, d'l e polyimide et de polyimidoisoindoloquinazoline-dione. 6 Tête d'enregistrement selon la revendication 1, caractérisée en ce que la troisième couche supérieure de protection comprend un métal ou un composé d'un métal choisi dans l'ensemble constitué des groupes IIIA, IVA, VA, VIA et VIII du Tableau Périodique. 7 Tête d'enregistrement selon la revendication 1, caractérisée en ce que la troisième couche supérieure de protection comprend un alliage des métaux choisi parmi l'ensemble constitué des groupes IIIA, IVA, VA, VIA et VIII du Tableau Périodique. 8 Tête d'enregistrement selon la revendication 1, caractérisée en ce que la troisième couche supérieure de protection comprend un borure de métaux choisi dans l'ensemble constitué des groupes IIIA, IVA, VA, VIA et VIII du Tableau Périodique. 9 Tête d'enregistrement selon la revendication 1, caractérisée en ce que la troisième couche supérieure de protection comprend un carbure de métaux choisi dans l'ensemble constitué des groupes IIIA, IVA, VA, VIA et VIII du Tableau Périodique. Tête d'enregistrement selon la revendication 1, caractérisée en ce que la troisième couche supérieure de protection comprend un siliciure de métaux choisi dans l'ensemble constitué des groupes IIIA, IVA, VA, VIA et VIII du Tableau Périodique. 11 Tête d'enregistrement selon la revendication 1, caractérisée en ce que la troisième couche supérieure de protection comprend un nitrure de métaux choisis dans l'ensemble constitué des groupes IIIA, IVA, VA, VIA et VIII du Tableau Périodique. 12 Tête d'enregistrement selon la revendication 1, caractérisée en ce que la troisième couche supérieure de protection comprend un métal ou un composé d'un métal choisi dans l'ensemble constitué des groupes IIIA, IVA, VA, VIA et VIII du Tableau Périodique, et des oxydes ou des nitrures inorganiques. 13 Tête d'enregistrement selon la revendication 1, caractérisée en ce que la troisième couche supérieure de protection est une couche composite.