Brevet FR2545988A1 — publié le 19841116

A TRANSISTOR A EFFET DE CHAMP FONCTIONNANT EN MODE DE DESERTION PROFONDE La présente invention concerne un transistor à effet de champ à haute fréquence de fonctionnement, doté d'une couche diélectrique présentant une fuite entre la métallisation de grille et la couche active du transistor Le transistor selon l'invention a des performances qui sont intermédiaires entre celles d'un transistor à effet de champ de type métal/semiconducteur et un transistor à effet de champ de type métal/isolant/semiconducteur La nature de la couche diélectrique présentant une fuite placée entre la métallisation de grille du transistor et la couche active tient essentiel- lement à ce que cette couche est réalisée en nitrure de silicium riche en silicium dans des proportions non stoechiométriques, l'effet de fuite obtenu grâce à ces proportions étant, dans une variante de l'invention, modifié au gré du concepteur par dopage avec un métal tel que par exemple le tungstène ou le tantale ou le titane. Les transistors à effet de champ connus sous le nom de MIS, c'est-à- dire métal/isolant/semiconducteur, ont montré qu'ils présentent des avan- tages aussi bien dans le domaine de la logique rapide que dans le domaine des hyperfréquences o on peut obtenir une puissance de sortie plus importante. Le développement de ce type de transistor sur Ga As, par exemple, se heurte cependant à Pimpossibilité d'obtenir un phénomène d'inversion ou d'accumulation de charges à linterface entre la couche disolant et la couche de matériau semiconducteur Il n'est pas possible, dans les conditions actuelles de la technique, d'obtenir une zone de désertion profonde autre- ment qu'en mode dynamique. Ces effets observés sur Ga As sont attribués à la charge électrique des états d'interface, entre la couche isolante et le semiconducteur, qui produit un décalage de la courbe de capacité en fonction de la tension, pour le condensateur formé par la métallisation de grille, la couche isolante, et la couche semiconductrice, après polarisation Aux basses fréquences, la transconductance gm du transistor diminue considérablement. Cet état de faits, qui est connu, a amené jusqu'à présent deux types de solutions. Selon la première solution, l'isolant placé entre la métallisation de grille et la couche active du semiconducteur est remplacé par une couche du matériau semiconducteur rendue semi-isolante par une implantation sous la grille Cette première solution donne un réseau de caractéristiques sans hystérésis Elle présente cependant l'inconvénient d'une fuite non limitée en polarisation directe due à l'injection de porteurs dans le matériau semi- isolant qui possède une bande interdite identique à celle de la couche active. De plus, là couche semi-isolante ainsi réalisée est sensible aux traitements thermiques même modérés Les mêmes problèmes se présentent aussi pour les autres semiconducteurs de types III-V fréquemment utilisés dans les hyperfréquences. La seconde solution consiste à utiliser un matériau diélectrique présentant une certaine fuite Le composé qui a été utilisé est un oxyde de titane de type Ti Ox riche en titane Des résultats intéressants ont été obtenus en fonctionnement statique et en petits signaux Cependant la présence d'oxygène dans la couche diélectrique est néfaste si le transistor est réalisé sur un matériau tel que Ga As car l'oxygène oxyde préférentiel- lement la couche semiconductrice à l'interface. Dans le transistor selon l'invention, la couche située entre la métal- lisation de grille et la couche active est un composé du type nitrure de silicium non stoechiométrique, riche en silicium, répondant à la formule générale Six N y Mz: cette couche sert disolant de grille vis-à-vis du tran- sistor en fonctionnement, M représente un métal et si l'indice z = 0 la couche disolant de grille est constituée par un nitrure de silicium pour lequel la condition de base est que: x >Y 3 4 Cette condition entraînant que le nitrure de silicium riche en silicium, présente une fuite de courant. De façon plus précise, l'invention concerne un transistor à effet de champ à haute fréquence de coupure, fonctionnant en mode de désertion profonde, comprenant, supportées par un substrat, une couche active en matériau semiconducteur, deux électrodes d'accès dites de source et drain, entre lesquelles s'écoule le courant électrique dans la couche active, le passage du courant étant contrôlé par une électrode de grille séparée de la couche active par une couche intermédiaire, ce transistor étant caractérisé en ce que la couche intermédiaire est un diélectrique présentant une fuite, le nitrure de silicium Six Ny riche en silicium et de proportions non stoechio- métriques telles que x/3 > y/4. L'invention sera mieux comprise par la description d'un exemple de 1 o réalisation de transistor selon l'invention, avec une variante de réalisation, cette description s'appuyant sur les figures jointes en annexe et qui représentent: figure 1: transistor à effet de champ à structure alignée selon linvention, figure 2: transistor à effet de champ à structure autoalignée selon l'invention, figure 3: courbe capacité-tension d'un transistor selon l'invention, figures 4, 5: courbes de caractéristiques de sortie sous condition normale et en impulsion d'un transistor selon Pinvention. L'invention est applicable à tous les matériaux semiconducteurs mais elle sera exposée en s'appuyant sur le cas plus précis du Ga As. En effet, les MISFET sur Ga As ont des performances très intéressantes aussi bien pour les applications numériques à haut débit, c'est-à-dire en gigabit, que pour les applications de puissance en micro-ondes Mais il est impossible de réaliser des transistors de type MOS à inversion sur Ga As, parce que les phénomènes d'inversion ou d'accumulation d'électrons à l'interface entre les couches isolant et Ga As ne sont pas possibles, la présence d'états d'interface limitant la modulation de la position des bandes de conduction et de valence par rapport au niveau de Fermi. En outre, il y a de sérieux problèmes d'instabilité dûs à Pétat de charge électrique à l'interface, qui créent un déplacement de la courbe repré- sentative de la capacité formée par la métallisation de grille, lisolant, et le semiconducteur, et ainsi que dans les caractéristiques de transfert du transistor à effet de champ après polarisation De même, cette instabilité conduit à une réduction de la transconductance gm du transistor à effet de champ aux basses fréquences Enfin le fonctionnement en désertion profonde n'est possible que dans le mode dynamique. L'invention, dans son fondement, consiste à créer un courant de fuite contrôlé à travers la fine couche isolante, ce courant de fuite étant suffisamment important pour amener les états de l'interface du matériau semiconducteur Ga As en équilibre électrique avec la métallisation de grille, mais suffisamment faible pour ne pas interférer avec le courant du canal La fuite de la couche isolante court-circuite la capacité de lisolant aux basses fréquences Ceci entraîne que la transconductance et la tension de pince- ment en courant continu sont celles d'un transistor MESFET c'est-à-dire métal-semiconducteur Aux hautes fréquences, la capacité de la couche isolante est en série avec la capacité de la couche de charge d'espace, dans la couche active du transistor, faisant décroître la transconductance et croître la tension de pincement Cependant, la modification de capacité peut être vraiment faible, si la couche diélectrique est fine et de constante diélectrique de valeur élevée. Une solution pour éviter les instabilités caractéristiques du MISFET consiste à remplacer la couche d'oxyde classique dans les transistors de type MISFET par une couche semi-isolante obtenue à partir du matériau semiconducteur de base R Pruniaux et ses collaborateurs dans IEEE tran- saction on electron devices, volume ED 19 NI 5 de Mai 1972 et HM Macksey et ses collaborateurs dans Electronics Letters volume 12 N O 8 du Avril 1976 décrivent tous deux cette solution de couche semi-isolante obtenue par implantation dans la couche semiconductrice Cette implan- tation peut être réalisée à l'aide de protons. TL Andrade et N Braslau ont décrit au 39 ème Annual Device Research Conference à Santa Barbara, les 22, 24 juin 1981, un transistor à effet de champ doté d'une couche diélectrique de grille présentant une fuite. Cependant, ces auteurs ont utilisé comme couche diélectrique un oxyde de titane qui présente deux inconvénients D'une part il n'est pas bon d'avoir une couche d'oxyde à proximité d'une couche de Ga As, ou d'un matériau de la famille III-V plus généralement, parce que l'oxygène oxyde préférentiel- lement Ga As et que des alliages de la forme Ti As se forment à haute température. Ensuite et consécutivement aux inconvénients énoncés cidessus, il n'est pas possible de réaliser une structure auto-alignée avec Ti Ox pour les MESFETS à grille réfractaire de type Ti W ou Ti W/Si. Le transistor selon l'invention conserve la notion d'état d'équilibre électrique entre les interfaces situées sur les deux faces de la couche diélectrique tout en évitant les problèmes mentionnés ci-dessus pour Ti O, c'est-à-dire; oxydation des couches superficielles de la zone active Ga As par l'oxygène contenu dans le diélectrique et problèmes de tenue en température interdisant la possibilité de réaliser une structure autoalignée. La figure 1 représente de façon très simplifiée la coupe d'un transistor selon linvention La géométrie précise du transistor n'est pas le point important: ce qui donne des caractéristiques intéressantes au transistor de l'invention est la nature de la couche semi-isolante placée entre la grille et la couche active du transistor. Un transistor selon l'invention comporte un substrat 1 en matériau semiconducteur sur lequel est déposé au moins une couche dite couche active 2 La couche active 2 n'est pas détaillée sur le schéma de la figure 1 mais elle peut être composée d'une seule couche épitaxiée ou implantée, ou d'une pluralité de sous-couches de natures différentes, elles-mêmes épita- xiées sur le substrat 1. Il comporte également une première électrode de source 3 et une seconde électrode de drain 4 entre lesquelles se trouve une électrode de commande dite de grille Selon l'invention la grille 5 est déposée sur une couche 6 qui est un isolant présentant une fuite. On a représenté en 7 les capacités qui se développent dans les couches déposées sur le substrat et en 8 les résistances de ces mêmes couches Une première capacité est formée par la métallisation de la grille comme première armature, la couche diélectrique et la surface de la couche active 2 comme seconde armature Une seconde capacité est la capacité de la zone désertée II qui se développe dans la région active De même, les couches diélectrique 6 et désertée 11 présentent deux résistances de pas- sage 8. Comme il a été dit, il est connu de réaliser un MISFET comparable à la figure 1 mais dans lequel la couche diélectrique est constituée par un oxyde de titane riche en titane L'oxyde de titane présente l'inconvénient de contenir de l'oxygène qui oxyde préférentiellement les matériaux de la famille III-V, d'une part, et l'inconvénient d'un alliage à haute température du titane avec ces mêmes composés. Cependant, avec une telle couche d'oxyde de titane les charges d'interface accumulées sur les interfaces diélectriques semiconducteurs sont écoulées à travers l'oxyde légèrement conducteur Les opérations en hautes fréquences ne sont pas affectées et cette résistance de la couche d'oxyde de titane est shuntée par la capacité grille couche active. Selon l'invention, la couche diélectrique 6 est constituée par une couche de nitrure de silicium, riche en silicium, qui peut être dopée avec des métaux lourds de façon à régler le taux de fuite ou la résistance de la couche Le système silicium-azote a été choisi parce qu'il présente l'avanta- ge de constituer, au cours des opérations de réalisation du transistor, une encapsulation pour le recuit d'implantation, lorsque la zone active est implantée, comme cela est couramment réalisé sur Ga As. La figure 2 représente une structure de transistor à effet de champ selon Pinvention comparable à celle de la figure 1, mais elle met en évidence que la couche active 2 n'est pas comme dans le cas de la figure 1 une couche qui s'étend sur toute la surface du substrat 1 mais qu'elle est au contraire limitée à une région bien définie par des caissons implan- tés n+ 9 et 10 Les caissons implantés sont réalisés avant les métallisations de source et de drain, et permettent principalement, de diminuer de façon très importante les résistances série de source et de drain. Le procédé de fabrication d'un transistor selon l'invention est très légèrement identique à celui d'un transistor conventionnel MESFET c'est-à- dire métal-semiconducteur, ou MISFET c'est-à-dire métal-isolant-semicon- ducteur. La couche active peut être réalisée par implantation ionique dans le substrat suivie d'un recuit d'activation à 8500 C pendant 20 mn typiquement dans le cas de Ga As. Si le dispositif comporte des caissons de type n+ 9 et 10 comme ceux représentés figure 2, ceux-ci sont réalisés par implantation ionique. Après ces opérations, une couche de nitrure de silicium, riche en silicium, est déposée selon différentes tehnologies, dépôt chimique en phase vapeur, plasma, pulvérisation. Si la couche de nitrure de silicium comporte un dopage métallique, ce dernier est réalisé par exemple, au cours de la pulvérisation ou par implantation dans la couche déposée. La non-stoechiométrie de la couche semi-isolante 6 en nitrure de silicium est contrôlée par l'indice de réfraction qui est choisi de l'ordre de 2,7 mais est de façon plus générale compris entre 2,2 et 3. Après le dépôt de la couche diélectrique 6, la métallisation de grille est opérée puis les ouvertures dans la couche semi-isolante sont réalisées pour pouvoir déposer les contacts ohmiques de source et de drain. Le processus de réalisation se termine par une étape -de métallisation épaisse en vue des interconnexions ultérieures. L'une des propriétés de la couche de nitrure de silicium est que sa non stoechiométrie lui permet d'avoir une conductivité intermédiaire entre celle du composé stoechiométrique Si 3 N 4 et celle de la couche active, en restant cependant dans un domaine de résistance de l'ordre du Gigohm. Sa nature proche du nitrure de silicium stoechiométrique, c'est-à- dire Si 3 N 4, lui permet de jouer le rôle d'encapsulant pour un recuit d'implantation - Elle permet d'aure part de réaliser une structure auto-alignée telle que celle représentée figure 2, c'est-à-dire une structure dans laquelle on a réalisé des caissons N sous les contacts de source et de drain par implan- tation, la grille servant de masque d'implantation Le recuit d'implantation de ces zones n+ ne pose alors plus de problèmes de maintient en température du système grille/semiconducteur, problème bien connu pour les tran- sistors MESFET auto-alignés à grille réfractaire. Le transistor réalisé selon le procédé décrit, et doté d'une couche semi-isolante en nitrure de silicium non stoechiom-étrique, a des caracté- ristiques données dans les figures suivantes qui montrent que les courbes de capacité en fonction de la tension sur la grille ne présentent plus d'instabili- té, tandis que les caractéristiques de courant de drain en fonction de la tension sur la grille n'ont pas d'hystérésis entre le pincement et le canal ouvert. La figure 3 donne la caractéristique C-V c'est-à-dire la capacité présentée par le système diélectrique/zone désertée, mesurée entre grille et source Les mesures sont faites sur un transistor ayant une longueur de grille de 20 microns Elle représente une courbe de désertion profonde stable, sans dispersion entre 40 K Hz et 4 M Hz. Les figures 4 et 5 donnent les caractéristiques I-V du transistor, c'est- à-dire le courant de canal IDS en fonction de la tension drain/source VDS appliquée pour différentes tensions de grille VGS. Les tensions successivement appliquées à la grille varient de O V à -3 V par pas de 1 V dans le cas de la figure 4 alors qu'elles varient de + 3 à -3 V toujours par pas de 1 V dans le cas de la figure 5 On remarque que, pour une même tension de grille, -la courbe du courant de canal fonction de VDS est identique sur les deux figures Il n'y a donc pas de charges piégées à Pinterface, la fuite obtenue par la nature non stoechiométrique du nitrure se révèle suffisante. Les courbes, qui représentent les qualités du transistor selon l'in- vention mettent en évidence des caractéristiques essentiellement stables opposées aux instabilités rencontrées précédemment avec les MISFET. Une application du transistor selon l'invention est la réalisation de circuits intégrés sur Ga As, entre autres, pour des utilisations en logique rapide et en hyperfréquences. REVENDICATIONS 1 Transistor à effet de champ, fonctionnant en mode de désertion profonde, comprenant, supportées par un substrat ( 1), une couche active ( 2) en matériau semiconducteur, deux électrodes d'accès ( 3, 4) dites de source et drain, entre lesquelles s'écoule le courant électrique dans la couche active ( 2), le passage du courant étant contrôlé par une électrode de grille ( 5) séparée de la couche active ( 2) par une couche intermédiaire ( 6), ce transistor étant caractérisé en ce que la couche intermédiaire ( 6) est en matériau semi-isolant, le nitrure de silicium Si N, riche en silicium et de proportions non stoechiométriques telles que x/3 > y/4. 2 Transistor à effet de champ selon la revendication 1, caractérisé en ce que l'indice de réfraction n, mesuré à la longueur d'onde 6000 A, étant une mesure de la non-stoechiométrie de la couche semi-isolante ( 6), celle-ci a un indice de réfraction 2,2 3 Transistor à effet de champ selon la revendication 1, caractérisé en ce que la couche semi-isolante ( 6) a une constante diélectrique úes 9. 4 Transistor à effet de champ selon la revendication 1 caractérisé en ce que la couche semi-isolante ( 6), qui s'étend à la surface de la couche active ( 2) entre les deux électrodes d'accès ( 3, 4), a une épaisseur O O de 500 A + 100 A. 5 Transistor à effet de champ selon la revendication 1, caractérisé en ce que la résistivité de la couche semi-isolante ( 6) est en outre contrôlée par dopage par des ions métalliques, au niveau de quelques parties par million, par implantation ou pulvérisation cathodique, la nature de la couche semi- isolante ( 6), non stoechiométrique, étant Six Ny M, M étant un métal. 6 Transistor à effet de champ selon la revendication 5, caractérisé en ce que le métal est choisi parmi: le tungstène W, tantale Ta, titane Ti. 7 Transistor à effet de champ selon la revendication 5, caractérisé en ce que la résistivité de la couche semi-isolante ( 6) est adaptée pour permettre Péquilibre des charges d'interfaces dans le condensateur formé par la métallisation de grille ( 5), la couche semi-isolante ( 6) et la couche active conductrice ( 2), sans influer sur le courant du canal entre source et drain ( 3, 4). 8 Transistor à effet de champ selon la revendication 5, caractérisé en en que la résistivité de la couche semi-isolante est voisine de 108 ú 2 cm-1. 9 Transistor à effet de champ selon la revendication 1, caractérisé en de que le matériau semiconducteur de la couche active ( 2) est un matériau de la famille III-V, tel que Ga As.