Brevet FR2527796A1 — publié le 19831202

L'invention a pour objet un procédé utilisable pour le développement automatique des plaques positives et négatives recouvertes d'une couche photosensible sur une face au moins, utilisées dans le domaine de l'imprimerie elle concerne aussi une machine servant à la mise en oeuvre de ce procédé. L'exposition de la couche photosensible d'une plaque ou d'une feuille à un rayonnement approprié a pour effet de durcir ou de ramollir les parties frappées par ce rayonnement Le développement a pour rôle d'éliminer à l'aide d'un solvant convenable les parties qui ne serviront pas à l'impression. Certaines plaques peuvent être développées par un simple trempage dans un bain; d'autres nécessitent un brossage. Si l'on s'en tient, pour fixer les idées, au seul exemple des plaques offset, on constate qu'il existe un grand nombre de fabricants de plaques dont la couche sensible a une composition et une dureté qui varient nota- blement d'un fabricant à un autre. Le but principal de l'invention est de parvenir à une machine automatique d'emploi polyvalent capable de développer toutes les plaques à couche sensible disponibles dans le commerce. Une telle machine doit donc s'accomoder des différences de formats des plaques et elle doit être apte à traiter les couches sensibles de diverses natures sans les détériorer et sans nécessiter de réglage complexe. De plus, certains bains de développement s'oxydent à l'air Il est donc très souhaitable de parvenir à une machine de développement dans laquelle le bain est protégé du contact de l'air, en dépit de la diversité des moyens habituels qui sont mis en oeuvre selon les procédés connus en fonction de la nature des couches sensibles simple trempage, pulvérisation sous pression, éponge frottante, etc On atteint ce but, selon l'invention, grâce à un procédé nouveau dans ce domaine selon lequel on fait tremper et de préférence on fait circuler la plaque dans un bain de révélateur approprié cependant qu'on soumet ce bain à l'effet d'un générateur d'ultrasons. Le bain est contenu dans un bac et le transduc- teur qui engendre les ultrasons dans le bain est fixé à une paroi du bac, de préférence à l'extérieur Le bac est fermé par un couvercle Le transducteur peut être fixé à ce dernier. Dans un mode de réalisation préféré d'une machine conforme à l'invention le bain est contenu dans un bac con- cave et ce premier bac est lui-même disposé dans une cuve extérieure Dans ce cas, il est avantageux de placer le transducteur contre le fond du premier bac, à l'extérieur de ce dernier mais à l'intérieur de la cuve extérieure. Le générateur d'ultrasons a une puissance mini- male de 100 W environ et il fonctionne à une fréquence supérieure à 20 000 Hz jusqu'à 50 000 Hz. Le procédé de l'invention s'applique à toutes les plaques et il a le même effet efficace avec tous les bains. Il supprime les brosses et leur encrassement ainsi que le risque de détérioration des plaques par suite de frottement mécanique La surface des plaques étant souvent micrograinée, l'effet des ultrasons permet de décoller les couches photo- sensibles au fond des pores. Le liquide agité par les ultrasons produit, contrairement à toute attente, un effet de frottement plus efficace et moins dangereux que les brosses En outre, la couche éliminée est entraînée aussitôt loin de la plaque de sorte que la surface de celle-ci est maintenueplus propre que par les brosses et que la morsure du bain sur la couche attaquée est plus vive et plus profonde L'oxydation du bain quand il s'agit d'un liquide sensible à l'oxydation - est réduite puisque la surface exposée du bain est limitée; la possibilité d'utiliser un couvercle que le bain peut venir lécher limite encore l'oxydation De plus, les ultra-sons produisent un dégazage efficace du révélateur et limitent ainsi son oxydation. A titre d'exemple, on donnera maintenant une description d'un mode préféré de réalisation d'une machine conforme à l'invention On se reportera à la figure unique annexée qui est une vue schématique d'une double cuve pour la révélation de plaques offset selon le procédé de l'inven- tion. Une cuve 1 a un fond 2 muni d'un tube de vidange 3 et contient une structure porteuse 4 Celle-ci sert à soutenir un bac concave 5 qui est, plus exactement, à fond plat 6 avec deux parois longitudinales 5 A, 5 B inclinées chacune vers l'extérieur et deux parois latérales verticales. A l'extérieur du fond plat 6 et à l'intérieur de la cuve 1, est monté un transducteur 7 qui est réuni par un câble (non représenté) à un générateur d'énergie à haute fréquence (non représenté) installé en dehors de la cuve 1 Cet équipement à ultrasons est disponible dans le commerce; il fonctionne à une puissance minimale de 100 W et produit des ultrasons à une fréquence de 20 000 à 50 000 Hiz. A proximité du bord supérieur des parois 5 A,5 B du bac 5 sont disposées deux paires de cylindres entra Tneurs, respectivement 8, 9 Les plaques à traiter circulent dans le sens indiqué par une flèche F, des cylindres 8 aux cylindres 9 Une machine complète comprend d'autres postes de traite- ment, de rinçage, de gommage, de séchage, qui sont totalement classiques et qu'il n'est pas nécessaire de décrire. Le bac 5 contient un bain 10 approprié à la nature de la couche sensible des plaques offset à développer. Une rampe d'alimentation est disposée juste après les cylin- dres d'entraînement 8, au-dessus du bac 5 Celui-ci est constamment alimenté en bain frais, au débit qui convient; l'excédent tombe dans la cuve 1 puis il est évacué par le tube de vidange 3 Un couvercle 12 ayant une poignée 13 peut être posé entre les parois 5 A, 5 B en reposant sur elles par ses extrémités de façon à se trouver au niveau de la surface du bain Ce couvercle a une ouverture d'entrée 14 juste après les cylindres 8 pour l'arrivée des plaques dans le bain et pour l'alimentation par la rampe 11, et une ouverture de sortie 15, juste avant les cylindres 9 pour le départ des plaques Ces dernières arrivent une à une avec une inclinai- son, comme le montre la plaque P représentée, avec leur face sensible tournée vers le haut, de façon à pouvoir s'engager par l'ouverture d'entrée 14; elles plongent dans le bain 10 jusqu'à ce que leur bord avant rencontre la paroi 5 B inclinée vers le haut Celle-ci guide alors la plaque vers l'ouverture de sortie 15 jusqu'aux cylindres 9 qui la saisissent et qui l'entraînent Pour que la plaque s'engage plus facilement entre les cylindres 8 et 9, ceux-ci sont inclinés sur la verticale d'une valeur convenable Naturellement, les cylindres 8 et 9 sont espacés d'unedistance inférieure à la longueur des plaques à traiter La profondeur du bac 5 est de l'ordre de quelques centimêtres, 3 à 5 cm; elle a été exagérée sur la figure pour une meilleure clarté du dessin. Toutes les plaques à couche photosensible pour impression typographique, flexographique ou analogue peuvent être traitées par le procédé de l'invention La vitesse à laquelle on fait circuler les plaques à travers le bain dépend de la concentration du révélateur dans le bain; avec le procédé de l'invention on peut atteindre une vitesse moyenne de 1 m/mn à 2 m'/mn. REVENDICATIONS / Procédé de développement de plaque à couche photosensible pour impression typographique, flexographique et analogue, selon lequel on élimine dans un bain approprié les parties non durcies de la couche après exposition à un rayonnement convenable, caractérisé en ce qu'on plonge la plaque dans un bain pendant qu'on soumet ce bain à l'effet d'un générateur d'ultrasons. / Procédé selon la revendication 1 caractérisé en ce qu'on fait circuler la plaque à travers le bain. 3 / Procédé selon la revendication 2 caractérisé en ce que la vitesse de circulation est de 1 à 2 m/mn. 4 / Procédé selon la revendication 1 caractérisé en ce qu'on utilise des ultrasons à une fréquence supérieure à 20 000 Hz, de préférence jusqu'à 50 000 Hz. / Procédé selon la revendication 1 caractérisé en ce qu'on soumet le bain à l'effet des ultrasons à travers la paroi d'une cuve contenant ce bain. / Machine pour le développement de plaque à couche photosensible, après exposition à un rayonnement, pour impression typographique, flexographique et analogue, comprenant un bac ( 5), un bain ( 10) approprié contenu dans ce bac, caractérisée en ce que ce bac ( 5) est associé à un transducteur ( 7) apte à créer des ultrasons dans le bain ( 10) pendant qu'une plaque y est plongée au moins partiel- lement. 7 / Machine selon la revendication 6 caractérisée en ce que des rouleaux d'entraînement ( 8, 9) sont disposés respectivement à deux extrémités opposées du bac ( 5), avec un écartement inférieur à la longueur des plaques à traiter. / Machine selon la revendication 6 caractérisée en ce que le transducteur ( 7) est fixé à une paroi du bac ( 5). / Machine selon la revendication 6 caractérisée en ce que le bac ( 5) est concave avec deux parois longitudi- nales ( 5 A, 5 B) inclinées chacune vers l'extérieur et des rouleaux d'entraînement ( 8, 9) sont disposés au sommet de chacune de ces parois ( 5 A, 5 B) avec une inclinaison sur la verticale pour entraîner une plaque à travers le bain. / Machine selon la revendication 9 caractérisée en ce que le transducteur est fixé à la face extérieure du fond ( 6) du bac ( 5). 11 / Machine selon la revendication 9 caractérisée en ce qu'elle comprend un couvercle ( 12) venant en contact avec la surface du bain ( 10) et ayant à ses extrémités voisines des rouleaux ( 8, 9) des ouvertures ( 14, 15) prévues pour l'entrée et la sortie de la plaque et pour l'alimenta- tion du bac ( 5) en bain frais. 12 / Machine selon la revendication 11 caractérisée en ce que le bac ( 5) est supporté dans une cuve plus grande ( 1) munie d'un tuyau de vidange ( 3).