Brevet FR2533113A1 — publié le 19840323

L'invention concerne-un procédé de fabrication conti- nue d'une bande de pâte cuite à partir d'tune pâte liquide. Cette bande de pâte cuite représente, selon la recette utilisée pour la pâte, le produit de départ servant à la fabrication continue de différents produits finis, qui se distinguent les uns des autres par les modes de transfor- mation utilisés. Un tel produit fini pourra consister par exemple en une pâtisserie creuse, roulée à partir d'une bande de jâtis- serie cuite, laquelle est commercialisée avec ou sans garniture intérieure. Si l'on utilise en tant que pâte liquide une pâte à gaufre à teneur élevée en sucre, contenant par exemple 20 à % de sucre sur la base du poids sec de pâte, on peut se servir de la bande de pâte cuite ou de la bande de gaufre pour obtenir une gaufre continue roulée, laquelle, après découpage en des tronçons de longueur prédéterminée, donne des "hohlhippen" (galettes roulées creuses), ou de petites gaufres roulées. Si l'on utilise en tant que pâte liquide une pâte pour omelettes, on pourra découper la bande de pâte cuite en "Frittaten" (crêpes en bande fine), ou bien, en utilisant une autre recette pour la pâte à omelettes, la fragmenter menu pour obtenir un "Kaiserschmarren" (beignet en petits morceaux) Cette pâte pour omelettes, de même que les produits finis préparés à partir de cette pâte, sont des pâtisseries molles, du type crêpe ou galette, un peu analogues aux gaufres préparées à la maison dans des gaufriers. Les pâtisseries préparées à partir d'une pâte liquide à gaufre, en particulier à teneur élevée en sucre, se distinguent fortement des pâtisseries molles décrites ci- dessus Les pâtisseries fabriquées à partir de pâte à gaufre liquide deviennent après cuisson aussi sèches-que possible et présentent une très faible teneur en humidité Leur consistance est croustillante, fragile, croquante et faci- lement cassante Tout comme par exemple les gaufres en cornet, les gaufres en coupe, les gaufres en galettes, les gaufres en macaron, les gaufres creuses, les gaufres en feuilles, Ai autres pâtisseries fabriquées mécaniquement dans l'industrie de la gaufre, et qui sont vendues fourrées ou non, ou encore rev 9 tues de différentes garnitures, dans la plupart des cas conditionnées d'une manière étanche à l'air, et sont généralement connues comme gourmandises. Lors de la fabrication des bandes continues de gaufre à partir d'une pâte à gaufre à teneur élevée en sucre, et servant à préparer des galettes roulées creuses, des gaufres roulées, etc, on sait déjà appliquer la pâte à gaufre liquide sur la surface extérieure d'un tambour de cuisson chauffé à l'intérieur et, après écoulement du temps prévu de cuisson, l'en enlever Ce tambour de cuisson tourne autour d'un axe essentiellement horizontal et supporte, sur le côté extérieur de sa surface latérale, une surface de cuisson continue sur laquelle est appliquée la pâte liquide. La surface latérale du tambour est chauffée sur sa face intérieure, la totalité de la quantité de chaleur nécessaire à la cuisson de la bande de pâte étant transférée du tam- bour de cuisson ou de sa surface latérale, par l'intermé- diaire de la surface de cuisson formée sur cette surface latérale, au côté inférieur de la bande de pâte appliquée sur la surface de cuisson Avec ce système consistant à chauffer sur un seul côté la bande de pâte à cuire, l'épais- seur de cette bande est très limitée, car il n'est pas possible d'augmenter à volonté la quantité de chaleur transmise par unité de temps Les limites de la quantité. maximale de chaleur pouvant être transmise sont définies d'une part par la température superficielle maximale possi- ble de la surface de cuisson, et d'autre part par la circonférence du tambour, c'test-à-dire la longueur de la surface de cuisson le long de la surface latérale du tam- bour, depuis le point d'application de la pâte jusqu'au point d'enlèvement de la bande de pâte cuite Du fait de ces limitations des conditions de cuisson, dues à la température superficielle de la surface de cuisson et à la longueur de la surface de cuisson, et compte tenu de ce que l'on cherche à avoir une bande de pâte qui ait si pos- sible la même couleur sur son côté supérieur et sur son côté inférieur, il n'est possible, sur un tambour de cuis- son chauffé d'un seul côté, que d'obtenir des bandes de pâte très minces Du fait que le chauffage de la bande de pâte à cuire s'effectue d'un seul côté, une trop grande épaisseur d'application de la pâte conduirait à une bande de pâte dont le côté supérieur serait plus clair que le côté inférieur de la bande de pâte, en contact avec la surface de cuisson, et, pour une épaisseur trop grande de la bande de pâte, le côté supérieur de la bande de pâte serait incomplètement cuit et conduirait donc à une bande de pâte inutilisable Ces inconvénients se manifestent malgré le chauffage de l'espace environnant le tambour, chauffage qui résulte lui-m 9 me du chauffage du tambour, car la vapeur d'eau s'échappant de la bande de pâte doit être aspirée de l'espace entourant le tambour, en même temps que les gaz de chauffage. Lors de la fabrication de bandes continues de gaufre à partir d'une pâte à teneur élevée en sucre, on sait par ailleurs cuire la bande de pâte entre une surface de cuisson formée dans un évidement aménagé dans la périphé- rie extérieure de la surface latérale d'un tambour tournant autour d'un axe horizontal, et une bande métallique en contact avec la surface latérale du tambour L'évidement aménagé dans la surface latérale du tambour et la bande métallique forment alors un espace creux de faible épais- seur, lequel est entièrement rempli par la bande de pâte excepté une section nécessaire à la sortie ou à l'évacuation de la vapeur qui se dégage de la bande de pâte pendant l'opération de cuisson Dans ce procédé connu, la quantité de chaleur nécessaire à l'opération de cuisson arrive des deux côtés sur la bande de pâte à cuire, à la température de cuisson appropriée, la surface latérale du tambour étant chauffée sur son côté intérieur par des brûleurs à gaz, des brûleurs à flamme étant de plus disposés immédia- tement derrière la bande métallique, cette dernière ayant pour but d'assurer que le brûleur à flamme ne s'encrassera pas du fait des morceaux de pâte qui se détacheront de la bande de pâte pendant la cuisson Les morceaux de pâte qui se déposent sur la bande métallique sont enlevés par une r 9 cle lorsque la bande se déplace Dans ce procédé dans lequel la bande de pâte est chauffée des deux côtés, il y a un inconvénient qui réside en ce que la bande métallique, qui tourne avec le tambour, et qui ne peut entourer qu'une partie de la cir- conférence du tambour (car, sinon, il serait impossible d'enlever la bande de pâte cuite), est soumise à des contraintes alternées élevées, car la bande métallique n'est chauffée que dans la zone des brûleurs et pendant son contact avec le tambour, et qu'elle en est écartée grâce à un ou plusieurs rouleaux de renvoi, disposés à une certaine distance du tambour de cuisson. Pour donner à la face supérieure de la bande de pâte une certaine structure, il est souhaitable d'appliquer cette structure sur la surface de la bande de pâte quand cette dernière en est encore à l'état semi-cuit, par exem- ple à l'aide de cylindres à empreinte, ou analogues Pour permettre une telle structuration de la bande de pâte, il faut d'une part que cette dernière ait une épaisseur suffisante, et d'autre part que l'on puisse accéder pendant la cuisson au côté supérieur de la bande de pâte. Quand la bande de pâte n'est chauffée que d'un seul côté, par le côté extérieur de la surface latérale, chauffée sur sa surface intérieure, d'un tambour tournant autour d'un axe horizontal, on obtient une bande de pâte qui, par ce procédé, est trop peuépaisse Quand on chauffe des deux côtés la bande de pâte entre la bande métallique et la surface latérale du tambour, le côté supérieur de la bande de pâte est caché par la bande métallique et n'est donc pas accessible Dans les deux cas, il n'est donc pas possible d'avoir une structuration de la bande de pâte à l'état encore à moitié cuit. Lors de, la fabrication d'une bande continue de plate formée d'une pâte pour omelettes, on sait déjà utiliser deux surfaces de cuisson annulaires concentriques tournant autour d'un axe vertical, et qui sont chauffées sur leur côté inférieur Pour préparer cette bande continue, on verse la pâte à omelette liquide sur l'une des surfaces de cuisson annulaires La bande de pâte annulaire ainsi obte- nue est cuite sur son côté inférieur pendant la rotation de la surface de cuisson, puis elle en est séparée et transférée sur la deuxième surface de cuisson circulaire, sur laquelle c'est le côté supérieur de la bande de pâte qui est appliqué, ce qui permet de cuire complètement le deuxième côté de la bande de pâte, après quoi on enlève de la deuxième surface de cuisson la bande de pâte mainte- nant complètement cuite Dans ce procédé connu de cuisson de pâtes pour omelettes, il n'est pas non plus possible de garnir la face supérieure de la bande de pâte d'une structuration à l'aide de cylindres à empreinte ou ana- logue: en effet, cette structuration devrait avoir lieu avant le retournement de la bande de pâter et la cuisson après-coup de la face supérieure de la bande de pâte sur la deuxième surface de cuisson détruirait complètement la structure de la face supérieure de la bande de pâte, structure déjà partiellement détruite lors du retournement. L'invention a pour but de supprimer les inconvénients mentionnés cidessus, et de créer un procédé perfectionné pour fabriquer en contiu une bande de pâte cuite à partir d'une pâte liquide, et qui simplifie grande- ment la transformation ultérieure de la bande de pâte, ou les équipements utilisés pour la mise en oeuvre du procédé et la transformation ultérieure de la bande de pâte. L'invention concerne à cet effet un procédé de fabri- cation continue d'une bande de pâte cuite, en particulier d'une bande de pete à gaufre, dans lequel on applique en continu une pâte liquide sur le côté avant d'une surface de cuisson continue, enrotation 7 chauffée sur son côté arrière, on cuit la bande de pâte ainsiobtenue pendant la rotation de la surface de cuisson, puis on l'enlève du côté avant de la surface de cuisson en rotation, procédé caractérisé en ce qu'on fait subir àa bandde claf Léesurson côté inférieur par son application sur le côté avant de la surface de cuisson, un chauffage direct, sur son c 8 té supérieur opposé à la surface de cuisson, par des radiateurs à infrarougesdisposésà une certaine distance de la surface de cuisson Le procédé selon l'invention assure une cuisson uniforme de la bande de pâte sur ses deux côtés Quand cela s'avère nécessaire, le chauffage de la bande de pâte par ses deux côtés permet de cuire complètement son côté supé- rieur, plus vite que le côté inférieur De plus, et quand on le souhaite, on peut réaliser une structuration sur le côté supérieur de la bande de pâte à l'état partiellement cuit, la structure une fois appliquée n'étant plus modi- fiée ultérieurement après l'opération de cuisson En outre, le chauffage direct du côté supérieur de la bande de pâte par le radiateur infrarouge permet une régulation de son état de cuisson, avant sa structuration Cette régulation peut être réalisée par une modification de l'intensité du rayonnement ds radiateurs à iffrarouges dans le sens d'allongement delasurfacedecuisson On peut aussi faire en sorte qu'il y ait une variation de l'intensité du rayonnement des radiateus à infrarouges transversalement à la surface de cuisson, de façon à pouvoir choisir des épais- seurs différentes pour plusieurs bandes de pâte cuites les unes à côté des autres sur la surface de cuisson, et que l'on puisse adapter en conséquence l'intensité de rayonne- ment desradiateurs à infrarouges à l'épaisseur de chaque bande de pâte De plus, l'écartement entre le radiateur infrarouge et la bande de pâte supprime en grande partie le risque d'un encrassement de ces derniers par des déchets de pâte tombant dessus pendant la cuisson. Dans un mode de mise en oeuvre du procédé selon l'invention, on applique la pâte liquide sur le c 6 té extérieur, constituant une surface de cuisson, de l'enves- loppe d'un tambour intérieurement chauffé et tournant autour d'un axe horizontal, pour former une bande de pâte, adhérant à la surface latérale du tambour, et on chauffe directement la bande de pâte sur son côté opposé à l'enve- loppe du tambour, par des radiateurs à infrarouges dispo- sés à une certaine distance de ladite enveloppe. Cette façon d'agir est particulièrement avantageuse lors de l'utilisation d'une pâte à gaufre, liquide et à forte teneur en sucre, car cette pâte, du fait de sa forte teneur en sucre, donne une bande de pâte qui adhère fortement à la surface latérale du tambour, bande qui, à chaud, c'est-à- dire dans un état encore mou, peut être facilement formée, conserve pendant son refroidissement la forme obtenue pen- dant qu'elle était molle, c'est-à-dire sa surface struc- turée, et enfin se solidifie pour donner un produit de gaufre, cassant. L'invention concerne aussi, pour la mise en oeuvre du procédé ci-dessus, un dispositif dans lequel sont disposés, le long de la périphérie d'un tambour de cuisson tournant autour d'un axe horizontal et présentant sur le côté extérieur de -son enveloppe une surface de cuisson destinée à la bande de pâte, un dispositif d'appli- cation destiné à appliquer la pâte liquide sur la surface de cuisson formée par la surface latérale du tambour, et un dispositif d'enlèvement destiné à enlever la bande de pâte cuite adhérant à la surface de cuisson, des éléments chauffants, qui chauffent au moins le côté intérieur de la surface latérale du tambour, étant prévus à l'intérieur de ce dernier Ce dispositif -est caractérisé en ce que sont disposés, dans la zone située entre le dispositif d'application et le dispositif d'enlèvements à distance du coté extérieur de l'enveloppe du tambour, des radiateurs à infrarouges chauffant directement la surface de cuisson ou la bande de p Ate appliquée sur cette dernière. Ce mode de réalisation du dispositif selon l'invention est particulièrement avantageux lors de la préparation de bandes continues de pâte à gaufre, par exemple celles uti- lisées pour les 'i Hohlhippen" (galettes roulées creuses) ou les gaufres roulées La disposition selon l'invention permet de placer au voisinage immédiat du tambour de cuis- son les outils de formage destinés à la mise en forme de la bande de pâte cuite enlevée du tambour de cuisson, l'acces- sibilité de ces dispositifs de mise en forme n'étant entra- vée par aucune bande métallique, comme c'est le cas dans les équipements de l'état actuel de la technique Ces dis- positifs de mise en forme peuvent être par exemple des dispositifs connus d'enroulement, qui enroulent la bande de pâte cuite, enlevée du tambour de cuisson et encore molle, pour la transformer en un cylindre creux continu, qui quand on change la direction à des longueurs prédéterminées, donne les fameux "Hohlhippen". Selon une variante, l'invention concerne aussi un dispositif pour la mise en oeuvre du procédé selon l'in- vention, comportant une plaque de cuisson tournant autour d'un axe vertical et chauffée sur son côté inférieur, tandis qu'est prévue sur le côté supérieur de la plaque une sur- face continue de cuisson destinée à la bande de pâte, avec un dispositif verseur pour la pâte liquide et un dispositif d'enlèvement pour la bande de pâte cuite, dispositif caractérisé en ce que au-dessus de la surface de cuisson sont installés des radiateurs à infrarouges chauffant direc- tement cette surface de cuisson ou la bande de pâte dis- posée dessus Ce mode de réalisation est particulièrement avantageux pour la préparation continue de bandes conti- nues de pâte à omelettes, car elle permet de supprimer le retournement de la bande de pâte à omelettes pour cuire le côté supérieur de cette bande. Selon un autre mode de réalisation de l'invention, les radiateurs à infrarouges sont disposés uniformément répartis le long de la surface de cuisson vue dans la direction Il de défilement rotatif de la surface de cuissons Cette disposition permet d'avoir une répartition uniforme de la chaleur sur la longueur de la surface de cuisson quand on utilise plusieurs radiateurs à infra- rouges, chacun n'envoyant son rayonnement que sur une zone limitée de la surface de cuisson, remplissant certai nes conditions de cuisson. Si la zone de la surface de cuisson recevant le rayon- nement du radiateur à infraroups defaçon àrmplir certaines conditions de cuisson correspond essentiellement à la lar- geur de la surface de cuisson ou de la bande de pâte à cuire, les radiateurs à infrarouges selon l'invention sont disposés en une rangée s'étendant dans la direction de défile- ment rotatif de la surface de cuisson. Dans un autre mode de réalisation de linvention, lesradiateurs à infrarouges sont disposés en plusieurs rangées disposées les unes à c 8 té des autres, svétedantdinsla directn de di 1 ementrotatif de la surface de cuisson On uti- lise cette disposition quand la zone rece Vant le rayonne- ment des différents radia-turs à infrarouges et présentant certaines conditions de cuisson est plus étroite que la largeur de la bande de pâte, la distance entre deux rangées voisines étant de préférence choisie de façon à donner sur toute la surface de cuisson des conditions homogènes de cuisson Mais on pourra aussi utiliser plusieurs rangées voisines de radiateurs à infrarouges quand, sur une surface de cuisson, il faudra cuire simultanément plusieurs bandes de pâte à une certaine distance les unes des autres, une rangée de radiateu Is à infrarouges étant affectée à chaque bande de pâte à cuire. Dans un autre mode de réalisation de l'invention, les radiateurs à infrarouges sont disposés sur une rangée elle-même disposée obliquement par rapport à ladiroeimde déte- ment ritalifdela surface de cuisson, Cette disposition permet d'utiliser des radiateurs à infrarouges correspondant à une zone limitée très étroite de la surface de cuisson exposée aux rayonnements de façon à remplir certaines conditions de cuisson, pour la cuisson de bandes de p 9 te beaucoup plus larges que la zone exposée Selon la largeur de la bande de pate à cuire et les caractéristiques du rayonnement desradia- teurs à infrarouges utilisés, on pourra choisir à une valeur plus ou moins grande l'angle d'obliquité de la rangée de ra- -5 diateurs à infrarouges par rapport à la direction de défile- ment rotatif de la surface porteuse, plusieurs rangées de radiateurs à infrarouges, disposées obliquement par rapport à la direction de défilement rotatif de la surface de cuis- son, pouvant être placées les unes à côté des autres pour élargir la bande formée par les zones des radiateurs à infra- rouges remplissant les conditions de cuisson. Selon l'invention, l'aire exposée aux radiateurs à infrarouges peut s'étendre sur les trois quarts de la surfa- ce de cuisson. Toujours selon l'invention, les radiateurs à infra- rouges peuvent être conçus comme des brûleurs radiants chauf- fés au gaz Ou bien encore, on pourra utiliser des radiateurs à infrarouges électriques. Enfin, un autre mode de réalisation de l'inventic u est caractérisé en ce que, quand on utilise des radiateurs à infrarouges à chauffage électrique pour chauffer directement la surface de cuisson ou la bande de pâte placée dessus, la surface de cuisson elle-même est aussi chauffée électrique- ment Ce mode de réalisation permet de cuire sur un équipe- ment chauffé et entraîné uniquement par l'énergie électri- que une bande de pâte continue préparée en continu à partir d'une pâte liquide. L'invention sera mieux comprise en regard de la des- cription ci-après et des dessins annexés, qui représententes exemples de réalisation de l'invention, dessins dans lesquls: La figure 1 présente un premier mode de réalisation d'rn dispositif selon l'invention, en vue de côté; La figure 2 est une vue latérale schématique d'un dispositif selon l'invention, avec une autre disposition des radiateurs à infrarouges La figure 2 a présente la disposition des radiateurs à infrarouges de la Figure 2, vue de dessus sur la surface de cuisson; La Figure 3 présente, d'une manière analogue à la Figure 2, un autre mode de réalisation du dispositif selon l'invention, avec une autre disposition des radia- teurs à infrarouges; La Figure 3 a présente la disposition des radiateurs à infrarouges de la Figure 3, en vue de dessus sur la surface de cuisson La Figure 4 présente un autre mode de réalisation du dispositif selon l'invention,,en coupe, avec plu- sieurs rangées de radiateurs à infrarouges placées les unes à côté des autres; La Figure 5 présente la disposition des radiateurs infrarouges de la Figure 4, en regardant sur la surface de cuisson; La Figure 6 présente, d'une manière analogue à la Figure 5, une autre disposition des radiateurs à iàftarages selon l'invention; et La Figure 7 présente schématiquement une vue latérale d'un autre mode de réalisation du dispositif selon l'invention. Dans les modes de réalisation du dispositif selon l'invention présentés sur les Figures 1 à 4, il est prévu un tambour de cuisson 1, tournant autour d'un axe horizon- tal, présentant sur sa périphérie une enveloppe 2 sur le côté extérieur 3 de laquelle se trouve une surface de cuisson 3 ' destinée à la cuisson d'une bande de pâte T. Du côté frontal avant du dispositif selon l'invention est placé un dispositif d'application 4 destiné à appli- quer la pâte liquide sur la surface de cuisson 3 ' prévue sur le côté extérieur 3 du tambour 1 Le dispositif d'application 4 est placé endessous du plan horizontal passant par l'axe du tambour et il applique la pâte liquide, par l'intermédiaire d'une surface inclinée,-sur la surface de cuisson 3 ' du tambour de cuisson 1 tournant dans le sens des aiguilles d'une montre Au-dessus de ce plan horizontal se trouve un dispositif 5 destiné à l'enlève- ment de la bande de pâte cuite T', et qui enlève la bande de pâte T' de la surface de cuisson 3 ' qui continue sa rotation en-dessous du dispositif d'enlèvement 5 L'enve- , loppe 2 du tambour de cuisson 1 est reliée par un voile plein 6 à l'axe 7 du tambour de cuisson 1 Le tambour de cuisson 1, qui s'appuie par son axe 7 sur des roulements non représentés, est entraîné par une transmission par chaînes, ou analogue, non représentée et agissant sur l'arbre de rotation. Pour chauffer de l'intérieur le tambour de cuisson 1 ou son enveloppe 2, des brtleurs àgaz àfhnme, non représentés, sont disposés le long de la surface intérieure de l'enve- loppe 2. Des radiateurs à infrarouges 9, dont le cône de rayonne- ment 9 ' est dirigé radialement sur la surface de cuisson prévue sur la surface extérieure 3 de l'enveloppe 2, sont disposés d'une manière répartie sur au moins une partie de la périphérie du tambour, sur le côté extérieur du tam- bour de cuisson 1 et plus particulièrement à une certaine distance radiale de l'enveloppe 2 Les zones de la surface de cuisson recevant le rayonnement des radiateurs à infra- rouges 9 sont avantageusement essentiellement rectangu- laires, de sorte que les radiateurs à infrarouges 9, disposés d'une manière répartie sur la périphérie du tambour de cuisson 1, forment une bande presque continue de zones recevant le rayonnement, des conditions uniformes de cuis- son étant ainsi créées le long de la totalité de la bande pour la bande de pâte à cuire T. Dans le mode de réalisation présenté sur la Figure 2, les radiateurs à infrarouges 9 sont constitués de brûleurs radiants chauffés au gaz, la surface émettant les rayonne- ments infrarouges ayant une forme essentiellement rectan- gulaire, de sorte que chaque brûleur radiant envoie son rayonnement sur une zone essentiellement rectangulaire de la surface de cuisson 3 ' On choisit alors la distance entre les brûleurs radiants, et entre les brûleurs radiants et la surface de cuisson 3 ', de façon à former sur cette surface de cuisson 3 ' une bande continue présentant des conditions uniformes de cuisson Comme on le voit sur les Figures 2 et 2 a, l'axe longitudinal des brûleurs radiants, essentiellement rectangulaires, est parallèle à l'axe du tambour, la zone de l'enveloppe 2 du tambour 1 recevant le rayonnement émis par les brûleurs radiants formant approximativement le tiers de la périphérie du tambour, en étant placée dans le tiers inférieur du tam- bour de cuisson 1. Dans le mode de réalisation présenté sur les Figures 3 et 3 a, les radiateurs à infrarouges sont, ici aussi, pla- cés approximativement dans le tiers inférieur de la péri- phérie du tambour de cuisson 1, mais les axes longitudi- naux des radiateurs à infraruges 9, qui sont essentielle- ment rectangulaires, sont disposés sur une ligne elle-meme disposée obiquemei par rapport au sens de l'ailcgemerde déel En Et - de la surface de cuisson 3 ', sur le côte extérieur 3 de l'enveloppe 2 du tambour, de façon que les radiateursh inua rouges 9 soient disposés à une certaine distance de la surface de cuisson, sur une ligne hélicoïdale Les radia- teurs à infamouges 9 peuvent aussi être disposés -en plu- sieurs rangées, placées les unes à côté des autres et obliques par rapport au sens d'allongement de la surface de cuisson, comme il est représenté sur la Figure 6. Dans l'exemple de réalisation présenté sur la Figure 4, plusieurs bandes de pâte T, placées les unes à côté des autres, sont disposées sur le côté extérieur 3 de l'enve- loppe 2 du tambour de cuisson 1 tournant autour d'un axe horizontal Ces bandes de pâte T, disposées à une certaine distance latérale les unes des autres, sont chauffées sur leur surface, chacune par une rangée de radiateurs à infra- rouges 9 Cette disposition des radiateurs à infouges en rangées placées les unes à côté des autres est présentée en vue de dessus, dirigée vers la surface de cuisson 3 ', sur le côté extérieur 3 de l'enveloppe 2 du tambour de cuisson 1 (Figure 5). La Figure 7 présente un autre mode de réalisation du dispositif selon l'invention, dans lequel la surface de cuisson continue 10 en rotation est formée sur le côté supérieur d'une plaque de cuisson 11 tournant autourd'un axe de rotation vertical L'entralnement de la plaque de cuisson n'est pas représenté et peut être réalisé d'une manière connue De la pate liquide est appliquée par l'intermédiaire d'un dispositif verseur 12 sur la plaque de cuisson 11, chauffée par en-dessous par des éléments chauffants non-représentés, et la bande de pâte cuite est enlevée de la surface de cuisson 10 à l'aide d'une spatule (non représentée) appliquée sur cette dernière -Des radia- teurs à infrarouges 9 qui envoient sur la surface de cuis- son 10 un rayonnement sur une bande correspondant à la forme de la surface de cuisson 10 et présentant certaines conditions de cuisson, sont disposés au-dessus de la sur- face de cuisson annulaire 10, dans la zone située entre le dispositif verseur et la spatule d'enlèvement. -Au lieu d'être chauffés au gaz, les radiateurs à infra- rouges 9 peuvent aussi être chauffés électriquement (Figure ) Quand on utilise des radiateurs à infra 3 x Uges à chauffage électrique pour chauffer le côté supérieur d'une bande de pâte placée sur la surface de cuisson, on peut, selon un autre mode de réalisation du dispositif selon l'inven- tion, effectuer aussi un chauffage électrique de l'enve- loppe 2 elle-même du tambour Dans ce but, on place sur le côté inférieur de l'enveloppe 2 du tambour des serpentins de chauffage 13 dans cette enveloppe 2, serpentins reliés par l'intermédiaire de conducteurs à une source de courant électrique. Bien entendu, l'invention n'est pas'limitée aux exem- ples de réalisation ci-dessus décrits et représentés, à partir desquels on pourra prévoir d'autres modes et d'autres formes de réalisation, sans pour cela sortir du cadre de l'invention Par exemple, on pourra utiliser, d la place des nombreux radiateurs à infrarouges disposés chacun sur une zone partielle de la surface de cuisson destinée à recevoir un rayonnement, un radiateur à infrarouges unique qui s'étend sur toutes les zones partielles de la surface de cuisson devant recevoir le rayonnement ' Il est bien entendu possible d'ajuster indépendamment l'intensité du rayonnement de chaque radiateur à infrarouges ou de 1 'ensemble des radiateurs à infrarouges d'une rangée, REVENDICATIONS 1 Procédé de fabrication continue d'une bande de pâte cuite, en particulier d'une bande de pâte à gaufre, dans lequel on applique d'une manière continue une pâte liquide sur le côté avant d'une surface de cuisson ( 3 ',10) -continue, en rotation, chauffée sur son côté arrière, on cuit la bande de pâte (T) ainsi obtenue pendant la rotation de la surface de cuisson, puis on l'enlève du côté avant de la surface de cuisson en rotation ( 3 ', 10), caractérisé en ce qu'on fait subir à la bande de pâte (T), chauffée sur son côté inférieur par son application sur le côté avant de la surface de cuisson ( 3 ', 10), un chauffage direct sur son côté supérieur opposé à la surface de cuisson ( 3 ', 10) par des radiateurs à infrarouges ( 9) placés à une certaine dis- tance de la surface de cuisson ( 3 ', 10). 2 Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'on applique la pâte liquide sur le côté extérieur, constituant une surface de cuisson ( 3 '), de l'enveloppe d'un tambour ( 2) chauffé intérieurement et tournantautour d'un axe horizontal pour former une bande de pâte (T) adhérant à l'enveloppe du tambour, et en ce qu'on chauffe directe- ment cette bande de pâte (T) sur son côté opposé à l'enve- loppe du tambour, par des radiateurs à infrarouges ( 9) disposés à une certaine distance de l'enveloppe du tambour ( 2). 3 Dispositif pour la mise en oeuvre du procédé selon l'une quelconque des revendications 1 ou 2, dans lequel sont disposés, le long de la périphérie d'un tambour de cuisson, tournant autour d'un axe horizontal ( 7) et présentant sur le côté extérieur de son enveloppe ( 2) une surface de cuisson ( 3 ') destinée à appliquer la pâte liqui- de sur la surface de cuisson ( 3 ') se trouvant sur l'enve- loppe du tambour ( 2), et un dispositif d'enlèvement ( 5) destiné à enlever la bande de pâte cuite (T') adhérant à la surface de cuisson ( 3 ') des éléments chauffants,qui chauffent au moins le côté intérieur de l'enveloppe du tambour étant prévus à l'intérieur du tambour de cuisson, caractérisé en ce que sont disposés, dans la zone située entre le dispositif d'application ( 4) et le dispositif d'enlèvement ( 5), à distance du côté extérieur ( 3) de l'enveloppe de tambour ( 2), des radiateurs à infrarouges ( 9) chauffant directement la surface de cuisson ( 3 ') ou la bande de pate (T) appliquée sur cette dernière. 4 Dispositif pour la mise en oeuvre du procédé selon la revendication 13 comportant une plaque de cuisson ( 11) tournant autour d'un axe vertical et chauffée sur son côté inférieur, tandis qu'est prévue sur le côté supérieur de la plaque ( 11) une surface de cuisson continue ( 10) pour la bande de pâte, avec un dispositif verseur ( 12) pourla pate liquide et un dispositif d'enlèvement pour la bande de pate cuite, caractérisé en ce qu'au-dessus de la surface de cuisson ( 10) sont disposés des radiateurs à infrarouges ( 9) chauffant directement cette dernière ou la bande de pâte appliquée dessus. 5 Dispositif selon l'une quelconque des revendica tions 3 ou 4, caractérisé en ce que les radiateurs à infra- rouges ( 9) sont disposés uniformément répartis le long de la surface de cuisson ( 3 ', 10) vue dans la direction de défilement rotatif de la surface de cuisson ( 3 ', 10). 6 Dispositif selon l'une quelconque des revendica- tions 3 à 5, caractérisé en ce que les radiateurs à infra- rouges ( 9) sont disposés en une rangée s'étendant dans la direction de défilement rotatif de la surface de cuisson ( 3 t, 10). 7 Dispositif selon l'une quelconque des revendica- tions 3 à 6, caractérisé en ce que les radiateurs à infra- rouges ( 9) sont disposés en plusieurs rangées placé es les unes à côté des autres et dirigées dans la direction de défilement rotatif dé la surface de cuisson ( 3 ', 10). 8 Dispositif selon l'une quelconque des revendica- tions 3 à 5, caractérisé en ce que les radiateurs à infra- rouges ( 9) sont disposés en une rangée elle-même disposée obliquement par rapport à la direction de défilement rotatif de la surface de cuisson ( 3 ', 10). 9 Dispositif selon l'une quelconque des revendica- tions 3 à 5, caractérisé en ce que les radiateurs à infra- rouges ( 9) sont disposés les uns à c 8 té des autres en plu- sieurs rangées placées obliquement par rapport à la direc- tion de défilement rotatif de la surface de cuisson ( 3 ',10). Dispositif selon l'une quelconque des revendica- tions 3 à 9, caractérisé en ce que la surface balayée par les radiateurs à infrarouges ( 9) s'étend sur les trois quarts de la surface de cuisson ( 3 ', 10) 11 Dispositif selon l'une quelconque des revendica- tions 1 à 10, caractérisé en ce que les radiateurs à infra- rouges ( 9) sont conçus comme des brûleurs radiants chauffés au gaz. 12 Dispositif selon l'une quelconque des revendica- tions 3 à 10, caractérisé en ce que les radiateurs à infra- rouges ( 9) sont chauffés par un moyen électrique. 13 Dispositif selon la revendication 12, caracté- risé en ce que, quand on utilise des radiateurs à infra- rouges ( 9) à chauffage électrique pour chauffer directement la surface de cuisson ( 3 ', 10) ou la bande de pâte (T) placée dessus, la surface de cuisson ( 3 ', 10) elle-même est aussi chauffée électriquement.