Brevet FR2523599A1 — publié le 19830923

PLAQUE CIBLE RECTANGULAIRE POUR DES INSTALLATIONS DE PULVERISATION CATHODIQUE L'invention concerne une plaque cible pour pulvérisation cathodique De telles plaques cibles sont constituées par le matériau qui doit être pulvérisé dans une installation de pulvérisation cathodique pour déposer sur des surfaces de substrat une couche du matériau concerné ou, en présence d'un gaz résiduel actif du point de vue chimique dans l'installation de pulvérisation, un composé chimique du matériau de la cible avec le gaz actif. Dans des installations de puissance très importante, les plaques cathodiques sont souvent exposées à une charge thermique très grande en raison du bombardement d'ions, et doivent être refroidies pour évacuer l'énergie thermique en excès Malgré cela, dans le cas de puissances importantes il apparaît le problème que, lorsque les plaques cathodiques sont appuyées et serrées rigidement au niveau de leur bord contre une plaque de base refroidie, comme cela est courant, elles gauchissent par suite de la dilatation thermique et se soulèvent alors de la couche de base, en raison de quoi le refroidissement est insuffisant et le matériau de la cible prend une température trop élevée; il peut alors se déformer plastiquement et peut même finalement fondre le cas échéant Pour empêcher ceci, on a déjà cherché à braser ou à souder la face arrière de la plaque cible sur la plaque de base refroidie, mais une telle liaison doit être exécutée avec un soin extrême, sinon la plaque cible peut malgré tout se détacher de la plaque de base; de toute façon cette fixation par brasage ou soudage est très coûteuse en moyens techniques Le mieux jusqu'içi s'est avéré être de visser la plaque cible sur la plaque de base au niveau de sa périphérie, et de prévoir également une fixation par vis au milieu de la plaque pour éviter un soulèvement. 2- La présente invention a pour but de fournir une plaque cible pour pulvérisation cathodique qui offre la plus grande sécurité de fonctionnement vis-à-vis d'un refroidissement défectueux. Cette plaque cible suivant l'invention pour des installations de pulvérisation cathodique, qui comporte pour fixation plusieurs évidements suivant une ligne médiane de la surface à pulvériser parallèle aux grands côtés de ce rectangle, est caractérisée par le fait que les évidements ( 5) sont disposés au fond d'une rainure ( 4) ménagée suivant la ligne médiane, du côté de la surface qui doit être pulvérisée. L'invention sera mieux comprise à l'aide de la description suivante d'un mode de réalisation préféré mais non limitatif représenté par le dessin annexé sur lequel la figure unique est une vue en perspective d'une plaque cible suivant l'invention. Sur la figure, la référence 1 désigne une plaque cible rectangulaire, par exemple en aluminium pur. Elle est munie sur sa périphérie d'un épaulement 2 qui comporte plusieurs évidements 3 pour le passage de vis pour la fixation sur une plaque de base refroidie dans une installation de pulvérisation cathodique Suivant l'invention, comme le montre la figure, dans la plaque 1 est ménagée une rainure 4 dans le fond de laquelle est également prévue une série d'évidements 5, de sorte que la plaque peut également être couplée rigidement à la plaque de base suivant une ligne médiane au moyen de vis, et ce en utilisant un rail 6 comportant des évidements 7 correspondant aux évidements dans la rainure et qui sont traversés par les vis de fixation Il est recommandé de choisir la profondeur de la rainure de manière que le rail et les vis ne ressortent pas par rapport à la surface devant être pulvérisée pendant la pulvérisation cathodique Ceci évite de façon sûre une pulvérisation du matériau desdits éléments de fixation et de ce fait une éventuelle contamination des couches à réaliser par pulvérisation. 3 Le fait de prévoir une rainure a un effet surprenant, comme l'a montré l'expérience Grâce à la faible épaisseur de la plaque 1 dans la région du fond de la rainure, donc juste au milieu de la plaque, o la température maximale apparaît souvent pendant le fonctionnement dans les dispositifs utilisés jusqu'ici, on obtient maintenant un refroidissement particulièrement bon et ceci empêche que le matériau puisse couler dans la région de la fixation centrale La fixation à cet endroit au moyen du rail est mécanique et par conséquent particulièrement rigide et assure un contact thermique fiable avec la plaque de base Les difficultés apparaissant jusqu'ici également dans le cas de plaques cibles avec fixation centrale par vis -mais sans utiliser un rail d'appui peuvent être complètement éliminées grâce au nouvel agencement. 4 - REVENDICATIONS 1 Plaque cible rectangulaire pour des installations de pulvérisation cathodique, qui comporte plusieurs évidements pour fixation suivant une ligne médiane de la surface qui doit être pulvérisée parallèle aux grands côtés du rectangle, caractérisée par le fait que les évidements ( 5) sont disposés dans le fond d'une rainure ( 5) ménagée suivant la ligne médiane, du-côté de la surface qui doit être pulvérisée. 2 Dispositif suivant la revendication 1, caractérisé par le fait que la profondeur de la rainure est telle qu'un rail ( 6) logé dans la rainure ( 4), utilisé pour la fixation de la plaque cible ( 1) sur une plaque de base, ne dépasse pas par rapport au plan de pulvérisation.