Brevet FR2510771A1 — publié le 19830204

1, La présente invention concerne les plaques lithographiques. Plus particulièrement, elle a trait à une composition à action directe, colo- rée et sensible aux radiations, utilisable dans le domaine de la préparation des plaques d'impression lithographique, dont la coloration disparaît ou di- minue fortement suite à une exposition à des radiations, de manière à obtenir un contraste important entre les zones image et les zones ne constituant pas l'image, antérieurement au développement Cette composition comporte au moins une résine non acide, au moins un composant qui engendre des produits acides et/ou des radicaux libres suite à une irradiation, au moins une matière tinc- toriale sensible aux acides et/ou aux radicaux libres et au moins un composant à action directe L'invention concerne également un élément sensible aux ra- diations à action directe, comportant un support dont au moins une des surfa- ces est revêtue d'une couche de la composition susmentionnée Elle concerne enfin une plaque d'impression lithographique, dans laquelle les zones image sont fortement contrastées et dans laquelle les zones ne constituant pas l'i- mage sont fortement décolorées avant le développement, cette plaque étant pré- parée à l'aide de l'élément susmentionné, dans laquelle le support est un sup- port utilisable en lithographie En outre, les zones image sont très stables à l'humidité et aux agents de développement alcalins, et sont plus colorées que les parties du substrat découvertes après leur développement Selon la na- ture du revêtement sensible aux radiations utilisé, une plaque lithographique peut reproduire l'image à laquelle elle est exposée, auquel cas elle est ap- pelée plaque à action directe, ou reproduire une image complémentaire à l'i- mage à laquelle elle est exposée, auquel cas elle est appelée plaque à action indirecte Une plaque à action directe est en général une plaque sur laquelle les zones, qui ne constituent pas l'image, sont celles dans laquelle la compo- sition sensible aux radiations est effectivement exposée, et de ce faitrendue davantage soluble par les agents de développement, tandis que les parties non exposées peuvent être en soi ou chimiquement durcies ou rendues oléophiliques et par conséquent réceptives à l'encre d'impression. Il est souhaitable, dans ce domaine, de pouvoir préparer des plaques d'impression lithographique à action directe, pour obtenir une image qui peut être aisément perçue par l'opérateur immédiatement après l'exposition et avant le développement, de telle manière que cet opérateur puisse voir et composer les lettres, les noms et les symboles sur chaque plaque après l'expo- sition et réaliser toutes les modifications qu'il juge nécessaires Ceci ne serait pas possible si l'image n'était pas immédiatement visible après l'expo- sition Cette perception dépend des différences d'intensité et/ou de couleur 39 de la lumière réfléchie par les zones exposées et les zones non exposées de 2. la plaque On connaît bien le moyen d'obtenir de telles différences, par exem- ple en rendant les zones qui ne font pas partie de l'image plus sombres après l'irradiation, ce qui engendre un meilleur contraste de l'image par rapport au fond Toutefois, en général, cette façon de procéder n'est pas avantageuse étant donné que le fond, c'est-à-dire la partie qui ne correspond pas à l'i- mage, a une couleur plus intense que les parties exposées, c'est-à-dire les parties de l'image à imprimer En fait,-il est préférable d'obtenir un con- traste dans l'autre sens, c'est-à-dire une image dont la couleur est plus in- tense que celle des parties exposées ne faisant pas partie de l'image En ou- tre, dans ce cas, l'obtention d'un contraste plus important entre la partie image et les zones qui ne font pas partie de l'image sur la plaque développée constitue un avantage complémentaire de cette technique. On a tenté de réaliser une plaque d'impression lithographique à action direction, dans laquelle la partie exposée, c'est-à-dire les zones non-image, sont rendues moins visibles que les parties correspondant à l'ima- ge, qui garde leur coloration originale Ce procédé est décrit dans le brevet américain no 3,969,118 Selon ce procédé, un ester de l'acide sulfonique-5 de diazide-2 de naphthoquinone-1,2, sensible aux radiations, est mélangé à un colorant organique et à un halogénure de -l'acide sulfonique-4 de diazide-2 de naphthoquinone-1,2. Toutefois, ce système est très sensible à l'humidité et aux alcalins, par exemple aux agents de développement Ainsi, bien que la diffé- rence de couleur entre les parties de l'image et les parties ne faisant pas partie de l'image augmente lorsque la concentration de l'halogénure de sulfo- nyle augmente, la dureté de la surface d'impression décroît et est plus faci- lement attaquée par des agents de développement alcalins La plaque qui en ré- sulte ne permet pas de faire autant d'impressions que les plaques convention- nelles à contraste plus faible. Si toutefois le chlorure de sulfonyle est éliminé, on constate que la composition se décolore partiellement avant l'exposition, ce qui abou- tit à un produit dont le contraste, entre les zones exposées et les zones non exposées, est décroissant dans le temps On pense que ce résultat est dû à la présence d'un acide dans les composants, de la résine ou obtenu dans les ré- sidus résultant de la préparation de ces résines. Pour supprimer ces inconvénients, on a proposé de remplacer les résines de cette composition par des résines non acides ou des résines ren- dues non acides par un traitement approprié. Le brevet américain N O 4,189,323 décrit une composition à ac- 39 tion directe comportant une triazine-s d'alkyle halogéné, dont la couleur 3. 251077 1 change en présence de produits acides suite à une irradiation de ladite tria- zine La composition comprend par ailleurs un novolak de formaldéhyde de cré- sol, une matière tinctoriale sensible aux acides et un polymère insoluble dans une solution aqueuse, qui est décomposé pour être rendu soluble dans ces solu- tions par les produits acides susmentionnés. On a constaté que l'utilisation de cette composition, -dans la préparation de plaques d'impression lithographique, permet d'obtenir des pla- ques beaucoup plus contrastées immédiatement après l'exposition et avant leur développement. Un des objets de la présente invention consiste à réaliser une composition colorée stable, sensible aux radiations et à action directe qui, lorsqu'elle est soumise à une irradiation, se décolore au moins partielle- ment dans les zones exposées, c'est-à-dire les zones ne formant pas l'image. Un autre objet de la présente invention consiste à réaliser un élément coloré stable, sensible aux radiations, à action directe, qui se décolore au moins partiellement dans les zones exposées aux radiations, c'est- à-dire les zones ne correspondant pas à l'image. Un autre objet de la présente invention consiste à réaliser une plaque d'impression lithographique, dont le contraste entre les zones ima- ge et les zones ne correspondant pas à l'image est particulièrement élevé, an- térieurement au développement de la plaque, cette plaque offrant par ailleurs une forte résistance à l'humidité et aux agents alcalins, et gardant son con- traste après le développement. Ces différents objets de l'invention seront décrits plus en détail en référence à la description d'une forme de réalisation préférée de cette invention. Selon l'invention, une composition colorée, sensible aux ra- diations et à action directe, utilisable dans la préparation d'objets présen- tant un contraste élevé entre les zones exposées et les zones non exposées, peut être préparée en mélangeant une résine non acide, un composant sensible aux radiations et engendrant des produits acides et/ou des radicaux libres, une matière tinctoriale qui se décolore plus ou moins au contact de ces pro- duits acides et/ou de ces radicaux libres, et un composant à action directe. Selon l'invention, une telle composition, dont la coloration disparaît ou diminue suite à l'exposition à des radiations, comprend le mé- lange suivant: I au moins une résine non acide, sensible aux solutions aqueuses alcalines, 39 Il au moins un composant sensible aux radiations, qui engen- dre des produits acides et/ou des radicaux libres sous l'effet d'une irradiation, III au moins une matière tinctoriale sensible aux acides et/ ou aux radicaux libres qui, lorsqu'elle est en contact avec le produit engendré par l'irradiation du composant II, se déteint au moins partiellement, et IV au moins un composant à action directe. Parmi les résines sensibles aux solutions alcalines, pouvant être utilisées dans le cadre de la présente invention, on peut citer les copo- lymères d'anhydride maléique avec les éthers d'alkyle de styrène ou de vinyle ou similaires, ou des produits de condensation à faible poids moléculaire de composés d'aryle (mono ou poly hydroxyde) avec des aldéhydes et de cétones, par exemple, les composés appelés '"novolaques" Dans le cadre de cette inven- tion, on utilisera de préférence les résines novolaques. Toutefois, comme mentionné précédemment, les novolaqws du com- merce contiennent des acides libres qui diminent le contraste entre les parties exposées et les parties non exposées de l'élément recouvert de la composition selon l'invention Une telle diminution de contraste s'observe sur une plaque d'impression formée après le développement de l'élément exposé, entre la par- tie sombre non exposée des zones image et le substrat révélé au développement. On en déduit que les résinesnovolaquesdoivent être traitées préalablement pour supprimer les acides. Pour préparer une telle résine sans acide, on peut utiliser n'importe quelle résinenovolaque commerciale(par exemple la résine commercia- lisée sous la marque Alnoval PN 430 fabriquée par la société Hoechst) qui est traitée par un excès de base, rincée et séchée. Les bases utilisables pour la préparation de résines novolaques sans acide sont bien connues par l'homme de l'art et comportent, par exemple, des amines tertiaires organiques et hétérocycliques telles que par exemple des trialkylamines, des triéthylanilines; des arylamines tertiaires d'alkyle tel- les que la dimethylaniline; des amines hétérocycliques telles que la pyridi- ne ou similaires; tous ces produits peuvent-être non substitués ou substi- tués par des substituants non réactifs Ces bases peuvent être utilisées en mélange En pratique, on utilise la Triétylamine. La préparation detelesnovolaques est décrite plus en détail dans une demande' parallèle du même déposant. Les composants sensibles aux radiations,-utilisables dans le cadre de la présente invention dans lesquels l'irradiation provoque la iibé- 39 ration de composés acides et/ou de radicaux libres, sont connus dans l'art antérieur et comportent, par exemple, les triazines-s d'halogénure d'alkyle tels 5. que décrits dans les brevets américains n s 3,954,475; 4,189,323 et 4,239, 850. Les triazines-s utilisées de façon préférentielle sont: la triazine-s de trichlorométhyle-6-bis de 2-(p-méthoxyphényle)-4 et la triazine-s de trichlo- rométhyle-6-bis de 2-( 4-méthoxynaphth-l-yl)-4. La matière tinctoriale (III) peut être sélectionnée parmi les matières connues qui, sous l'effet de radiations, engendrent des substances acides et/ou des radicaux libres susceptibles d'avoir une coloration moins in- tense par rapport à celle de leur forme basique et/ou réduite telle que les colorants basiques, les phthaléines, les colorants leuco ou similaires ou des mélanges de ces composants. A titre d'exemple, les colorants utilisables sont ceux commer- cialisés sous la marque Calco Oil Blue RA (fabriqués par American Cyanamid Corporation), le vert de malachite, le jaune de naphthol, le vert Brillant, le vert de Bromcrésol, le Nitrophénol-4, le pourpre de Bromcrésol, le violet de Crystal, le rouge S d'Alizarin, le rouge de Quinaldine, le vert de Méthyle, le rouge de Chlorophénol, l'Eosine Y, le jaune de Nitazine, le violet de Méthyle, le bleu de Bromothymol, le pourpre de Crésol-m, le jaune Brillant, le bleu de Thymol, l'acide Rosolique, le bleu de Xylénol, le rouge de Phénol, l'Eosine B, le Nitrophénol-3, le rouge de Crésol, l'orange II, la Phloxine B, la phéno Iphthaléine, le bleu de Bromophénol, la Crésolphénolphthaléine-o, le bleu de Bromochlorophénol, la Thymolphthaléine ou similaires, ou des mélanges de ces composants Le colorant sensible aux acides utilisé de préférence est le bleu de Bromophénol. Les composants à action directe sensibles aux radiations, uti- lisables de préférence dans le cadre de la présente invention, sont ceux con- nus dans l'art antérieur-et comportent les diazo oxydes tels que les esters ou les amides aromatiques ou hétorocycliques d'acides sulfonique ou carboxy- lique de diazide de naphthoquinone tels que décrits par exemple par Kosar ("Light Sensitive Systems", John Wiley & Sons, N Y, 1965) dans le brevet amé- ricain n O 3,785,285 et dans le brevet canadien n 602,980 Un diazo oxyde pré- féré est l'ester de l'acide sulfonique-5 de diazide-2 de naphthoquinone-l, 2 avec le produit préparé par condensation de pyrogallol et d'acétone. D'autres composants à action directe, utilisables dans le cadre de la présente invention, sont les polymères insensibles aux solutions aqueuses alcalines, mais qui sont rendus solubles ou dispersibles dans de telles solutions par le contact de radicaux libres et/ou de produits acides résultant de l'irradiation de la composition selon l'invention. De tels polymères sont connus dans l'art antérieur et compor- 39 tent les polymères contenant au moins un groupement d'ester de l'acide ortho- 6. carboxylique et/ou d'acétaled'amide de l'acide carboxylique; les composants peuvent avoir un caractère de polymères et les combinaisons peuvent consti- tuer les éléments de connexion dans les chaînes principales ou les substituants latéraux ou similaires tels que décrits par exemple dans la demande de brevet allemand n O 2,610,842; les composés polymères, contenant un acétal récurrent et/ou des combinaisons de cétals dans lesquelles les deux atomes de carbone, dans chaque position oç des alcools requis pour former les radicaux, sont aliphatiques, et des acétals d'alkylaryl-acétals ou-aminals tels que décrits dans la demande de brevet allemand n O 2,306,248 publiée après examen. La composition selon l'invention comporte environ 24 à 75 % en poids de résine non acide, environ 0,5 à 10 o en poids de composant II, environ 0, 2 à 10 % en poids du composant III et environ 24 à 75 % du composant à action directe IV, tous ces pourcentages étant définis par rapport au poids total de la composition. Cette composition se compose de préférence d'environ 50 à 75 % en poids de résine, d'environ 1 à 3 % en poids du composant Il, d'environ 2 à 4 % en poids du composant III et d'environ 25 à 50 % en poids du'composant IV. En outre, cette composition peut comporter des additifs sélec- tionnés parmi les groupes comprenant d'autres résines sensibles aux alcalins et exemptes d'acides et d'autres colorants, des matériaux photosensibles et similaires ou des mélanges de ces produits Les autres résines peuvent par exemple être des polyuréthanes, des résines époxy, des résines acryliques ou similaires, oudes mélanges de ces produits. D'autre colorants utilisés avantageusement dans le cadre de cette invention peuvent être le bleu Victoria et d'autres colorants non aci- des ou sensibles aux bases ou similaires, ou des mélanges de tels colorants. Comme mentionné précédemment, l'invention concerne également un élément comportant un support ou substrat revêtu, sur au moins l'une de ses surfaces, de l'une quelconque des compositions précédentes sensibles aux radiations. Le substrat peut être choisi parmi les matériaux connus, se- lon l'utilisation qu'on envisage de faire de cet élément Parmi les matériaux utilisables, on notera l'aluminium et ses alliages, un papier revêtu d'une couche métallique ou une feuille de matière synthétique ou similaire Pour la fabrication de plaques d'impression lithographique, le support est de préfé- rence réalisé en aluminium ou en un de ses alliages. La composition peut être appliquée sur le support à partir 39 d'une solution par tout procédé connu dans ce domaine, par exemple par revê- À 7.- 251077 1 tement au rouleau, par revêtement au ménisque ou similaire, le solvant étant choisi parmi le groupe de produits comprenant les cétones telles que l'acé- tone ou la méthylétylcétone; les amides tels que la diméthyl NN formamide et la diméthyl NN acétamide; les esters tels que l'acétate d'amyle-n; les polyéthers et leurs esters tels que le Méthylcellosolve et l'acétate de méthyl Cellosolve ou similaires, ou des mélanges de ces produits On utilise de préférence un solvant constitué par un solvant comprenant environ % de méthylisobutylcétone (MIEUC), environ 30 % d'acétate d'amylen (NAA), environ 20 % de méthylethylcétone (MEC) et environ 20 % d'éthylCellosolve( (EC), tous ces pourcentages étant déterminés en volume par rapport au volume total du solvant. La présente invention concerne également un procédé de fabri- cation d'une plaque lithographique, ayant un haut contraste entre la partie image et les zones constituant le fond de la plaque, cette plaque étant cons- tituée par l'élément sensible aux radiations telles que susmentionnées, dans lequel l'irradiation des parties exposées (ne constituant pas l'image) provo- que une diminution ou une suppression de la coloration par rapport aux par- ties non exposées qui constituent l'image, de façon à autoriser toute modifi- cation de la plaque avant l'exposition, ainsi que le retrait de la couche lors du développement dans les zones exposées. Si on le désire, la plaque développée peut être traitée ulté- rieurement pour augmenter sa réceptivité à l'encre d'imprimerie dans les zones correspondant à l'image Ce traitement ultérieur peut être effectué chimique- ment ou thermiquement pour durcir les zones non irradiées d'une manière connue en soi Les exemples ci-dessous illustrent des modes de réalisation préférés de la présente invention. Exemple 1 A Préparation de la résine novolaque sans acide g de triéthylamine ont été ajoutés à 100 g de résine novolaque (par exem- ple ALNOJAL PN 430), qui ont été dissouts dans 500 ml de propanol-2. Le mélange résultant a été ajouté à une solution aqueuse com- portant 1 % en poids de Na Cl Le résidu précipité a été retiré par filtra- tion, lavé, séché et moulu. B Composition sensible aux radiations La composition sensible aux radiations, à action directe et sensible aux acides, a été obtenue en mélangeant: La résine provenant de l'étape A à raison de 6,35 g le produit de la réaction de l'acide sulfonique-5 du diazide-2 de naphthoquinone-l,2 avec le produit 8. 251077 1 de la condensation de l'acétone et du pyrogallol à raison de 3,30 g 4 (pméthoxyphdnyle)4,6 bis (trichlorométhyle) s-triazine à raison de 0,40 g Du vert de Bromocrésol, du sel de Na+ à raison de 0,06 g Le Calco Oil Blue RA à raison de 0,06 g et le Bleu de Bromophénol à raison de 0,25 g C Elément sensible aux radiations La composition issue de l'étape B a été dissoute dans un solvant compre- nant 32 g de MEC, 48 g de MIBUC,48 g de NAA et 37 g:de monoether méthylique d'éthyleneglicol, et la solution résultante a été utilisée pour former une couche sur l'alliage A All OO de l'aluminium, qui a été poncé mécanique- ment puis anodisé dans un électrolyte comprenant 17 % en poids de solution d'acide sulfurique à 300 C, la densité du courant étant de 3,2 A/dm 2 par minute. Après évaporation des solvants, l'élément résultant a été exposé a une ra- diation au travers d'un positif plan, la source de rayons ultra-violets étant une lampe à halogénure de 5 KW disposée à 91,4 cm Après exposition, on a constaté un contraste inattendu entre les zones exposées et les zones non exposées de l'élément Les mesures au densitomètre à réflexion ont per- mis de tester l'élément et de comparer les résultats aux plaques réalisées selon les techniques antérieures Ces résultats sont consignés dans le ta- bleau I. TABLEAU 1 Plaque No Couche Lecture sur le densitomètre /_ Exposé Non exposé 1 Selon l'exemple 1 1,21 0,5 0,71 Selon l'exemple 2 de la demande pa-1,21 0,89 0, 32 rallèle de la même demanderesse 3 ** 0,74 0,64 0,10 * Sur cette plaque, la couche a été identique à celle de la plaque 1 sans triazine. ** Sur cette plaque, la couche était identique à celle de la plaque 1, mais la résine novolak n'était pas traitée par une base. Le contraste est mesure par la différence A entre les densi- tés de couleur des zones exposées et des zones non exposées de la plaque. Par conséquent, plus la valeur de \ est élevée, plus la plaque est con- 39 trastée Comme le montre le tableau, la valeur A la plus élevée est 9. -251077 1 égale à 0,71 pour la composition correspondant à la présente invention, dans laquelle on a utilisé à la fois de la résine sans acide et de la triazine. D Plaque d'impression lithographique Après séchage et correction, la plaque a été soumise à un traitement de dé- veloppement au moyen d'un agent de développement alcalin pour retirer les zones ne correspondant pas à l'image, ce qui a permis d'obtenir une plaque d'impression lithographique fortement contrastée et présentant une grande stabilité contre les solutions aqueuses et/ou les solutions alcalines. La plaque résultante a été utilisée pour reproduire 100 '000 impressions de bonne qualité sur une unité d'impression du type Chief(; Exemple 2 L'exemple 1 a été répété sauf que la 2 L 4 méthoxyphénill - s triazine a été remplacée par de la 24-méthoxnapht 1-ylj-5-triazine Exemple 3 L'exemple 1 a été répété en remplaçant le bleu de Bromophénol par 0,09 g de Rhodamine 6 G et par 0,25 g de vert de Bromocrésol, du sel de Na+ Des résultats similaires ont été observes. Exemple 4 L'exemple 3 a été répété en remplaçant la 2 C 4 méthoxyphénilj-5- triazine par de la 2 C 4-méthoxnapht l-yl s-triazine Des résultats similaires ont été observés. Exemple 5 On a repris l'exemple 3 en remplaçant de produit de la réac- tiondel'acétone et du pyrogallol par le produit résultant de la réaction du crésol avec une formaldéhyde Des résultats similaires ont été observés. Exemple 6 L'exemple 3 a été répété en remplaçant la résine novolaque par un copolymère denovolaqoed'huile de noix d'acajou (par exemple commercialisé sous la marque LX 454 de la société 3 M Corp) qui a été traité par la 32 triéthylamine Des résultats similaires ont été observés. 10. 251077 1 REVENDICATIONS 1 Composition colorée à action directe dont la coloration disparaît ou décroît suite à une irradiation, comportant un mélange de: I au moins une résine non acide, sensible aux solutions aqueuses alcalines, II au moins un composant sensible aux radiations, qui engen- dre des produits acides et/ou des radicaux libres,sous l'effet d'une irradiation, III au moins une matière tinctoriale sensible aux acides et/ ou aux radicaux libres qui, lorsqu'elle est en contact avec le produit engendré par l'irradiation du composant II, se déteint au moins partiellement, et IV au moins un composant à action directe. 2 Composition selon la revendication l, comportant d'autre part au moins un composant sélectionné parmi le groupe des résines non acides, des colorants et des éléments photosensibles. 3 Composition selon l'une quelconque des revendications 1 ou 2, dans laquelle ladite résine non a-cide est une résine soluble ou dispersible dans une solution alcaline sélectionnée parmi le groupe comportant des copoly- mères d'acide maléique avec un éther de styrène ou de vinyle méthyle, des condensats d'aldéhydes ou de vinyle méthyle, des condensats d'aldéhydes et de cétones avec des composants de mono ou de polyhydroxyle aryle, des copolymè- res d'acrylamides et de méthacrylamides substitués ou non substitués et de co- polymères d'acrylates ou de méthacrylates d'hydroxyalkyle. 4 Composition selon la revendication 3, dans laquelle ladite résine est un condensat phénol formaldéhyde exempt d'acide. Composition selon la revendication 3, dans laquelle ladite résine est un condensat crésol formaldéhyde exempt d'acide. 6 Composition selon la revendication 3, dans laquelle ladite résine est un condensat huile de noix d'acajou-formaldéhyde exempt d'acide. 7 Composition selon l'une quelconque des revendications 1 ou 2, dans laquelle ledit composant II comporte au moins un composé sélectionné parmi le groupe comportant les mono-, di-, tri C mono ou polyhalogénol alkyle-5-triazine. 8 Composition selon la revendication 7, dans laquelle ladite triazine est une 4,6 bis trichlorométi&e-5-triezine substituée en 2, dans la- quellelesubstituant-2 est sélectionné parmi le groupe comportant le p-méthoxy-phénil et le 4-méthoxy napht-l-yle. 38 9 Composition selon la revendication 8, dans laquelle le subs- 11. tituant-2 est le P-méthoxy phenile. Composition selon la revendication 8, dans laquelle le substituant-2 est le 4-méthoxy-napht-1 yle. 11 Composition selon l'une quelconque des revendications 1 ou 2, dans laquelle le composant III est sélectionné parmi le groupe des colorants du type azo, azine, anthraquinone et triphényl méthyle. 12 Composition selon l'une quelconque des revendica- tions 1 ou 2, dans laquelle le composant sensible aux radiations et à action directe est un diazo oxyde. 13 Composition selon la revendication 12, dans laquelle le diazo oxyde est sélectionné parmi le groupe comprenant des esters ou amides aromatiques ou hétorocycliques d'acides sulfonique ou carboxylique de diazide de naphthoquinone, dans lesquels les radicaux hydroxy ou amine sont des monoères ou des polymères. 14 Composition selon la revendication 13, dans laquelle ledit diazo oxyde est un ester d'acide sulfonique-5 de diazide-2 de 1,2 de naphthoquinone ayant réagi avec le produit de la condensation du pyrogallol avec l'acétone. Elément à action directe sensible aux radiations, comportant un support dont l'une des surfaces au moins porte une couche d'une composition selon l'une quelconque des revendications 1 ou 2. 16 Plaque lithographique obtenue par: a) exposition à une image de tout élément selon la revendication 15, b) correction des erreurs observées après l'exposi- tion, et c) développement destiné à retirer les parties exposées 28 de la composition sensible aux radiations.