Brevet FR2509229A1 — publié le 19830114

La présente invention concerne un support anodisé perfectionné, un élément sensible aux rayonnements comprenant un tel support, une plaque d'impression lithographique préparée à partir d'un tel élément et un procédé de préparation d'une telle plaque. Les éléments sensibles aux rayonnements,que l'on peut transformer en plaques d'impression lithographique,cowprennent une couche de reproduction sensible aux rayonnements, dans laquelle l'image d'impression est produite selon un procédé photomécanique, et un support qui, de la production de la matière jusqu'à sa trans- formation en une plaque d'impression, porte la couche de reproduc- tion et est stocké avec elle jusqu'à ce que la matière soit uti- lisée Après la production de l'image d'impression, le support porte l'image d'impression et forme simultanément le fond de l'image dans les zones dépourvues d'image Un support convenant à la pro- duction d'une plaque d'impression doit être tel que les zones d'image d'impression formées à partir de la couche de reproduc- tion de la matière adhèrent très fortement au support De plus, le support doit avoir une surface hydrophile et son effet de répulsion des encres d'impression oléophiles ne doit pas ttre réduit par les exigences multiples du procédé d'impression Le support doit avoir une structure superficielle poreuse pour que la surface puisse retenir suffisamment d'eai pour avoir un effet répulsif approprié vis-à-vis des encres d'impression utilisées pour l'impression. Les couches d'oxyde d'aluminium préparées par oxy- dation anodique de feuilles ou de pellicules d'aluminium ont une extraordinaire résistance à l'abrasion et ces feuilles anodisées se sont révélées très utiles pour la production de plaques d'impres- sion d'emploi prolongé Cependant, ces plaques présentent des inconvénients dus à la trop forte pénétration de la composition sensible aux rayonnements dans les pores du support. Dans le passé, pour supprimer ces inconvénients, on a par exemple traité le support anodisé avec une solution aqueuse de silicate de sodium, de bichromate d'ammonium ou de métal alcalin, d'oxalate de fer et d'ammonium ou d'un colorant pouvant réagir chimiquement avec les surfaces d'oxyde d'aluminium, avant d'effectuer le revêtement avec la composition sensible aux rayon- nements. Cependant, ces procédés présentent également des inconvénients Ainsi, le traitement avec un silicate de métal alca- lin nécessite un rinçage soigneux à l'eau lorsque le support obtenu doit être revêtu d'une couche photosensible pouvant être conservée à l'état sensibilisé pendant une période prolongée sans détériora- tions Même après ce rinçage soigneux à l'eau, ou même après neutra- lisation avec des acides dilués, la couche de silicate et peut-être le résidu alcalin de la solution de silicate provoquent une certaine détérioration Lorsque l'on utilise les solutions aqueuses de chromate indiquées, on obtient une couche intermédiaire à peine hydrophile dont le chromate, vraisemblablement par suite de son effet oxydant, a souvent des effets indésirables sur la couche photo- sensible appliquée dont la teinte est altérée, ce qui'nuit à sa perméabilité à la lumière et réduit sa photosensibilité. De plus, l'emploi de compositions contenant du chrome est maintenant considéré comme indésirable par suite de la pollution de l'environnement Des considérations semblables, à l'exception de celles relatives à l'environnement, s'appliquent au traitement avec une solution d'oxalate de fer et d'ammonium dont le fer peut pro- voquer une coloration foncée Lorsque l'on utilise des solutions aqueuses de colorant réagissant chimiquement avec la surface d'oxyde d'aluminium, les propriétés hydrophiles de la couche d'alu- minium sont partiellement réduites, si bien qu'une plaque d'impression produite avec un support ainsi prétraité tend à se couvrir plus fortement d'écume lors de l'impression d'une plaque d'impression dont la surface n'a pas été ainsi prétraitée De plus, les surfaces d'oxyde d'aluminium modifiées chimiquement par des colorants ne peuvent pas être facilement corrigées. Le support perfectionné selon l'invention s'est révélé supprimer les inconvénients ci-dessus. La demanderesse a découvert que, selon l'invention, on peut préparer un élément perfectionné sensible aux rayonnements en appliquant une composition sensible aux rayonnements à une matière support perfectionnée, cette matière perfectionnée compre- nant un aluminium anodisé que l'on a traité avec une solution aqueuse d'un sel de métal alcalin d'un acide arylsulfonique condensé, pendant ou après le processus d'anodisation. L'invention a pour objet une matière support perfec- tionnée utile pour la préparation d'éléments sensibles aux rayon- nements,qui empêche la pénétration indésirable de la composition sensible aux rayonnements dans la matière support sans réduire son hydrophilie. D'autres caractéristiques et avantages de l'inven- tion ressortiront de la description détaillée suivante du mode de réalisation préféré. Comme précédemment indiqué, l'invention concerne une matière support perfectionnée destinée à être utilisée dans des éléments sensibles aux rayonnements qui sont utiles pour préparer des plaques d'impression lithographique à usage prolongé, qui sont exemptes de contamination du fond, ladite matière support perfec- tionnée comprenant l'une quelconque des matières supports anodi- sées connues que l'on a traitées avec un bain aqueux comprenant un sel de métal alcalin d'un acide arylsulfonique condensé avant ou -pendant le stade d'anodisation. Les sels d'acides arylsulfoniques utiles dans l'invention comprennent les naphtalènesulfonates dans lesquels deux ou plusieurs noyaux naphtalènes sont unis par des radicaux alkylènes Le prototype de cette catégorie est l'acide dinaphtyl- méthanedisulfonique, cet acide disulfonique répondant à la formule suivante H 2 SO 3 H 3 Les produits de cette catégorie ont une composition indéterminée On peut les fabriquer en chauffant ensemble du naphta- lène, du formaldéhyde et de l'acide sulfurique ou entraitant des -acides naphtalènesulfoniques avec du formaldéhyde On peut ainsi unir trois noyaux naphtalènes ou plus par des radicaux alkylènes pour obtenir un polymère de condensation On peut également utiliser dans la réaction des alkylnaphtalènes inférieurs Un exemple en est le monoisopropylnaphtalène Au lieu du naphtalène, on peut utiliser d'autres hydrocarbures aromatiques tels que le benzène, le diphényle, l'anthracène, le phénanthrène, le fluorène, etc, ou leurs analogues ou dérivés Les sels des acides piicédents, tels que les sels de sodium, possèdent des propriétés semblables La production d'agents dispersants de ce type est décrite en détail dans la littérature et dans les brevets de l'art antérieur y compris le brevet des Etats- Unis d'Amérique N O 2 802 845 et des composés caractéristiques sont commercialisés sous les noms de marque Tamol, Leukanol et Daxad. Dans l'invention, les sels de sodium d'acides naphta- lènesulfoniques condensés connus sous le nom de Tamos SN et de Tamol N Micro, qui sont commercialisés par Rhom and Haas, sont par- ticulièrement utiles dans l'invention. La matière support peut être l'une quelconque de celles connues dans l'art y compris l'aluminium et ses alliages. Une matière support préférée est choisie parmi l'aluminium et ses alliages convenant en lithographie. Si on le désire, on peut soumettre la matière support à un ou plusieurs traitements avant ou après ledit traitement avec un sel, ce traitement étant choisi parmi le grenage, par exemple chimique, mécanique ou électrochimique le dégraissage, l'élimina- tion des résidus de décapage et similaires. On peut effectuer l'anodisation d'une façon quel- conque connue dans l'art, y compris par immersion du substrat dans un bain aqueux constitué d'acide sulfurique, d'acide phosphorique et similaires, et leurs mélanges, en le soumettant à l'effet d'une densité de courant dans un champ alternatif ou continu. Selon un mode de réalisation de l'invention, on pré- pare une matière support anodisée en soumettant une feuille ou plaque de métal que l'on peut avoir prétraitée comme précédemment indiqué, à une densité de courant d'environ 1 à environ 4 A/dm avec un courant continu d'environ 10 à environ 40 V dans un bain aqueux acide ayant une concentration d'environ 15 à environ 30 % en poids pendant environ 0,5 à environ 5 min On traite ensuite le support ainsi-anodisé avec une solution aqueuse du sel alcalin de i l'acide arylsulfonique condensé dont la concentration est d'environ à environ 10 % en poids Le p H du bain d'acide sulfonique est ajusté-à environ 1,5 par addition d'acide sulfurique. De préférence, on effectue l'anodisation dans un bain constitué d'une solution aqueuse à environ 20 % en poids d'acide sulfurique à environ 2,6 A/dm avec un courant continu d'environ 20 V pendant environ 1 min, l'acide sulfonique constituant environ 7,5 % du poids de la solution aqueuse On peut appliquer la solution de sel A la matière support anodisée de façon quelconque, par exemple par trempage, application à l'éponge, ou application au rouleau. Selon une variante de l'invention, on effectue l'anodisation et l'obturation simultanément par incorporation du sel d'acide arylsulfonique au bain d'anodisation Selon cette variante, le bain comprend environ 15 à environ 30 % en poids d'acide sulfurique et environ 0,5 à environ 10 % en poids du sel d'acide sulfonique De préférence, le bain comprend environ 20 % en poids d'acide sulfurique et environ 1 % en poids de sel d'acide sulfonique. L'invention concerne également un élément perfectionné sensible aux rayonnements qui comprend l'un quelconque des supports perfectionnés,que l'on a revêtu d'une composition sensible au; rayonnements quelconque connue dans l'art, par exemple une des com- positions positives, telles que celles décrites par exemple dans les brevets des Etats-Unis d'Amérique N O 4 189 320 et 3 785 825 et des compositions négatives, telles que celles décrites par exemple dans le brevet des Etats-Unis d'Amérique N O 3 382 069, On applique ces revêtements à la matière support selon un procédé quelconque connu dans l'art y compris l'enduction, l'enduction par ménisque et similaires. L'invention concerne également un procédé pour prépa- rer des plaques d'impression lithographique perfectionnées, qui comprend les stades d'exposition selon une image de l'un quelconque des éléments précédents, selon l'invention, à un rayonnement à travers un cache, le développement dudit élément exposé selon une image pour éliminer les zones moins solubles du revêtement et, si on le désire, le post- traitement de l'élément développé pour produire une plaque d'impression lithographique appropriée. Les procédés d'exposition de développement et de post-traitement des éléments peuvent être l'un quelconque de ceux connus dans l'art, y compris le procédé de post-durcissement décrit dans le brevet des Etats-Unis d'Amérique n O 4 233 390. L'invention est illustrée par les exemples non limitatifs suivants. EXEMPLE I - On grène une feuille d'alliage d'aluminium AA 100 ( 25 cm x 25 cm) avec une suspension humide de pierre ponce, puis on l'anodise dans un bain aqueux comprenant 20 % en poids d'acide sulfu- rique avec une densité de courant de 3,8 A/dm 2 pendant 1 min. On plonge ensuite pendant 30 S à la température ordinaire la feuille ainsi anodisée dans un bain contenant 50 à g/l de Tamol SN, que l'on a ajusté à p H 1,5 avec de l'acide -sulfurique. Après le traitement ci-dessus, on-rince la feuille, on la sèche et on la revêt d'une composition sensible aux rayonnements constituée d'un mélange en parties égales d'une résine de crésol- formaldéhyde et du produit de la condensation du chlorure de naphto- quinone-1,2-(diazide-2)-5 sulfonyle avec une résine de pyrogallol- acétone, pour obtenir un élément sensible aux rayonnements qui, après exposition selon une image, développement et post-traitement de façon bien connue dans l'art, fournit une plaque d'impression lithographique ayant une zone de fond nette, produisant 65 000 épreuves acceptables. XEMPLE 2 on répète le procédé de l'exemple 1, si ce n'est que le bain d'anodisation contient 20 % en poids d'acide sulfurique et 1 % en poids de Tamol SN, et que l'on supprime le stade de trempage. On obtient des résultats semblables. Bien entendu, diverses modifications peuvent être apportées par l'homme de l'art aux dispositifs ou procédés qui viennent d'être décrits uniquement à titre d'exemples non limitatifs sans sortir du cadre de l'invention. R E V E N D I C A T I O N S 1 Support anodisé perfectionné utile dans une composition sensible aux rayonnements, caractérisé en ce qu'il est constitué d'une matière support anodisée que l'on a traitée avec un sel alcalin d'un acide arylsulfoniqfe condensé. 2 Support selon la revendication 1, caractérisé en ce que ledit traitement avec un sel est effectué après le stade d'anodisation. 3 Support selon la revendication 1, caractérisé en ce que ledit traitement avec un sel est effectué pendant l'anodisa- tion. 4 Elément perfectionné sensible aux rayonnements, comprenant une matière support anodisée revêtue d'une composition sensible aux rayonnements, caractérisé en ce qu'il comprend une matière support anodisée perfectionnée selon la revendication 1. Elément selon la revendication 4, caractérisé en ce que ladite matière support est l'aluminium ou un alliage d'alu- minium. 6 Procédé pour préparer une plaque d'impression lithographique comprenant les stades de: 1 exposition à un rayonnement à travers un cache d'un élément sen- sible aux rayonnements, comprenant une matière support anodisée perfectionnée revêtue d'une composition sensible aux rayonnements, et 2 développement de l'élément exposé pour éliminer les zones plus for- tement solubles pour produire la plaque désirée, caractérisé en ce qu'il comprend le traitement d'une matière support anodisée avec une solution aqueuse d'un sel alcalin d'un acide aryl- sulfonique condensé avant le revêtement avec ladite composition, ledit traitement étant effectué pendant ou après l'anodisation. 7 Plaque d'impression lithographique, caractérisée en ce qu'on l'a préparée selon le procédé de la revendication 6.