Brevet FR2498125A1 — publié le 19820723

La présente invention concerne, d'une manière générale, des matériaux stratifiés et, plus particulière- ment, un nouveau stratifié revêtu de cuivre particulière- ment utile pour la production de plaquettes de circuits imprimés à haut pouvoir de résolution et un nouveau pro- cédé de fabrication de ces produits. Cette invention est apparentée à l'invention décrite et revendiquée dans la demande de brevet français no 81 15 979. Les surfaces de cuivre à grain fin, virtuel- lement dépourvues de trous d'épingle et extrêmement lisses des stratifiés revêtus de cuivre produits par le procédé de l'invention de cette demande constituent donc des caractéristiques importantes des produits obtenus confor- mément à la réalisation recommandée de la présente inven- tion. L'invention décrite et revendiquée ici est égale- ment apparentée à celle décrite et revendiquée dans la demande de brevet français n0 81 17828. Tel qu'on l'utilise ici et dans les revendications annexées, le terme de "support" caractérise un matériau en feuille d'aluminium d'épaisseur calibrée lui permettant de subir une chatne de transformations et d'être enroulé pour être stocké ou transporté, il caractérise également des matériaux en feuilles d'autres métaux comme le cuivre ainsi que de matières plastiques, comme les produits commerciaux de duPont, connus sous les marques MYLAR et KAPTON, et d'autres matériaux organiques polymériques de souplesse analogue. Tous ces matériaux sont capables de supporter les températures de transformation encourues dans cette invention et présentent la résistance voulue à la tempéra- ture de dépôt du film de cuivre et les propriétés d'inac- tivité et d'aptitude à la liaison avec les films de cui- vre nécessaires pour préserver l'intégrité de la combinai- son film-feuille de support au cours des transformations qui suivront et de sa fixation au substrat et pour permet- tre l'arrachage mécanique de la feuille de support sans endommager le film de cuivre. L'adjectif "ultra-mince" caractérise des maté- riaux d'épaisseur inférieure à environ 16 micromètres. Les termes de "film" et de "feuille" signifient, respectivement, dans le même contexte un revêtement ultra- mince et la combinaison de ce revêtement et d'un ou plu- sieurs revêtements ultra-minces d'un autre métal ou d'un autre matériau. L'expression "dépôt en phase vapeur" recouvre la pulvérisation, l'évaporation physique (c'est-à-dire des procédés d'évaporation par faisceaux électroniques, d'éva- poration inductifs et/ou résistifs), le dépCt chimique en phase vapeur et le dépôt ionique. Tel qu'il est utilisé dans cette description et dans les revendications annexées, le terme de "substrat' caractérise la partie du produit stratifié revêtu de cui- vre ou de toute autre pièce manufacturée de cette inven- tion qui sert de support physique au film ou à la feuille métallique, et qui est avantageusement constituée par un élément en verre-époxy, sous une forme préimprégnée durcis- sant au contact de la feuille de cuivre ou d'un autre métal. On peut citer parmi d'autres matériaux que l'on peut utili- ser à cet effet, sans que l'on doive s'y limiter, ce que l'on appelle, dans le commerce des "papiers-résines phéno- liques" qui sont des produits constitués par des feuilles de papier imprégnées d'une résine durcissable pour former une liaison adhésive entre le substrat et la feuille métal- lique du stratifié. On peut encore citer parmi d'autres matériaux de ce type des polyimides et des résines de polyesters. on a fabriqué jusque là les feuilles pour stra- tifiés revêtus de cuivre destinés à la production de pla- quettes de circuits imprimés, essentiellement, par dépôt électrolytique. Les nombreux avantages de ce procédé, parmi lesquels on peut citer la vitesse de production, l'économie, et l'existence d'une technologie très déve- loppée, sont toutefois contrebalancés par d'importants inconvénients. On peut citer parmi ces inconvénients, celui très important, que constitue la difficulté de pro- duire des feuilles de moins de 16 micromètres d'épaisseur dépourvues de trous d'épingle, ainsi que l'incidence sur l'environnement de la pratique du dépôt électrolytique. Bien que l'on puisse remédier, dans une certaine mesure, aux inconvénients que constituent les trous d'épingle en déposant électrolytiquement du cuivre sur la surface d'un support d'aluminium préparée de manière particulière, con- formément au brevet des E.U.A. n' 3 969 199, c'est au prix d'une plus grande complexité et de coûts de transformation plus élevés. On peut remédier aux inconvénients de l'art anté- rieur en utilisant les inventions décrites et revendiquées dans les demandes de brevet français citées précédemment. On peut maintenant également y remédier d'une autre manière encore, conformément au procédé de la présente invention. Donc, au lieu de revêtir la surface du support avec un agent de pelage avant de déposer le film de cuivre, on dépose directement le cuivre sur la surface nue du support d'une manière qui permettra ensuite la séparation non des- tructrice du film du support. En d'autres termes, cette invention permet la suppression de la couche d'agent de pelage, tout en conservant sa fonction. On y parvient en réglant le degré de liaison du film obtenu lors du dépôt du cuivre sur le support. Cette invention repose donc sur l'idée nouvelle de dépôt de cuivre en phase vapeur dans des conditions de rugosité, de propreté et de température de la surface du support, permettant d'obtenir un film de cuivre de haute qualité virtuellement dépourvu de trous d'épingle, qui est lié au support, mais duquel on peut l'enlever par application d'une force de pelage ou d'arra- chage acceptable. En règle générale, conformément à l'in- vention, la surface du support sera propre et dépourvue de salissures et d'huile adhérentes qui nuiraient à une bonne liaison ou contamineraient le film de cuivre résultant, elle sera relativement lisse et dépourvue d'irrégularités physiques grossières. De plus, la température de la surface du support sera, conformément à cette invention, comprise entre environ 1000C et environ 2500C de façon à ce que se forment des liaisons suffisamment fortes mais pas trop entre le film de cuivre et le support. On a découvert, au cours de la mise en oeuvre de cette invention que l'évaporation par faisceaux électroni- ques constituait un procédé de mise en oeuvre de l'étape de dépôt de cuivre particulièrement satisfaisant, la tem- pérature de la surface du support étant facilement régla- ble de différentes manières dans ces conditions, et un film d'épaisseur voulue se constituant rapidement unifor- mément sur la surface du support, comme on le souhaite. On a également envisagé toutefois la possibilité de dépo- ser le film de cuivre par dépôt ionique, ce qui suppose la polarisation du support et, si on le souhaite, l'intro- duction d'un gaz inerte comme l'argon dans la vapeur de cuivre pour provoquer l'effet d'ionisation nécessaire. Là encore, dans le cas d'un dépôt ionique, la température de la surface du support serait facilement réglable par diver- ses alternatives. On a également envisagé un procédé d'é- vaporation inductif (RF) du cuivre au lieu du procédé d'évaporation par faisceau électronique comme procédé de production du cuivre en phase vapeur nécessaire pour le dépôt physique en phase vapeur, et, là encore, la tempéra- ture de la surface du support serait facilement réglable. Si toutefois on utilise la pulvérisation comme procédé de dépôt dans la mise en pratique de cette invention, il sera nécessaire de prendre certaines mesures particulières pour éliminer la chaleur de manière à maintenir la tempé- rature de la surface du support dans la gamme permettant de limiter le développement de la force de liaison à la valeur que l'on a trouvée critique pour les nouveaux résul- tats et avantages de cette invention. L'homme de l'art comprendra que quelle que soit la manière dont on met l'invention en oeuvre pour produire le film de cuivre sur la surface du support, on a le choix, pour produire l'élément stratifié, d'utiliser l'un ou 2498 125 l'autre des procédés décrits et revendiqués dans les demandes de brevet français citées précédemment. On se reportera aux descriptions de chacune des deux demandes de brevet concernant les étapes de production des produits stratifiés, chacune des étapes distinctes de chacun des différents procédés étant décrite en termes généraux et particuliers dans ces descriptions. En bref, le procédé de cette invention comprend donc les étapes de formation d'un film de cuivre sur un support par dépôt de cuivre en phase vapeur directement sur la surface dusupport à une température comprise entre environ 1000C et environ 250'C, de dépôt d'une couche de liaison au substrat sur le film de cuivre, de fabrication d'un stratifié avec l'élément résultant et un substrat de manière à créer une forte adhérence entre l'élément et le substrat, et, finalement, d'enlèvement du support pour conserver le substrat auquel adhère l'élément. Conformé- ment à l'invention de la demande de brevet français no 81 15 979, la couche de liaison au substrat est un film déposé électrolytiquement qui est, de préférence, un film de cuivre, et qui, dans tous les cas, est produit de manière à présenter une surface nodulaire dendritique favorisant la liaison avec le substrat. En variante, la couche de liaison au substrat peut être un film ultra- mince, déposé électrolytiquement, de zinc, d'aluminium, d'étain ou de chrome, recouvert d'un film ultra-mince de dioxyde de silicium ou d'oxyde d'aluminium, comme indiqué dans la demande de brevet français n0 81 17 828. La suite de la description se réfère aux figures annexées qui représentent respectivement: figure 1, une représentation schématique d'une vue en coupe d'un produit stratifié de l'invention à une étape intermédiaire de sa production; figure 2, une vue semblable à celle de la figure 1 du produit de l'invention avant l'enlèvement de la feuille de support en aluminium; figure 3, une vue semblable à celle de la figure 1, illustrant l'étape d'enlèvement de la feuille de support par arrachage, par application d'une force de pelage de 0,876 à 3,502 N/cm. Comme on l'a représenté figure 3, le produit 10 de cette invention, tel qu'il peut se présenter sous la forme d'un article du commerce destiné à étre utilisé, par exemple, en fin de fabrication, pour la production de plaquettes de circuits imprimés, comprend un substrat 12, auquel est lié un film de cuivre 14 déposé en phase vapeur, lié au substrat par une couche de liaison 16 déposée électrolytiquement ou formée d'une autre manière. Il comprend également une feuille de support 18, de pré- férence d'aluminium ou d'alliage d'aluminium sur lequel on forme le film de cuivre déposé en phase vapeur au cours de la nouvelle étape clé du procédé de cette inven- tion. Comme on l'a également représenté figure 1, l'étape du procédé à laquelle sont imputables les principales qua- lités et avantages de la présente invention telle qu'on l'a décrite précédemment, est l'étape de formation ini- tiale du film de cuivre 14 sur la feuille de support par dépôt en phase vapeur dans des conditions qui permettent leur séparation finale par pelage ou arrachage par appli- cation d'une force d'intensité suffisamment petite pour ne pas endommager ou détruire le stratifié fini produit, par exemple en déchirant ou en brisant le film de cuivre sur lequel on doit finalement former un circuit imprimé par une technique semi-additive ou soustractive, par exemple. Le procédé de la présente invention, dans sa forme recommandée, comprend comme première étape, le nettoyage de la feuille de support en aluminium. Il s'agit d'un produit en feuille brut de laminage, dont on peut préparer spécialement la surface, par exemple par un nettoyage, ou que l'on peut utiliser à l'état dans lequel il est produit au cours d'une fabrication commerciale normale de la feuille métallique. Dans tous les cas, la feuille d'aluminium ou d'alliage d'aluminium sera classiquement recouverte d'un revêtement d'oxyde formé naturellement d'un peu moins d'environ 50 Angstr8ms d'épaisseur, et, dans les cas les plus courants, de 10 à Angstr5ms d'épaisseur. La feuille de support présente, de préférence, une épaisseur de 0,025 à 0,178 mm mais pourra être un peu plus mince ou un peu plus épaisse, si on le souhaite, et présentera un fini de surface meilleur en valeur quadratique moyenne que 0,203 micromètre. Le nettoyage de la feuille telle qu'on la trouve sur le mar- ché ou lorsqu'elle vient d'être produite par une opération de laminage commerciale est essentiel pour l'obtention d'un produit stratifié uniforme puisqu'il est nécessaire que le film de cuivre appliqué sur la feuille d'aluminium au cours de la première étape du procédé de dépôt soit lié, bien que relativement faiblement, à la feuille de supPort,de manière que l'ensemble conserve son intégrité dans les étapes de transformation ultérieures. Le nettoyage à la vapeur avec du Fréon liquide ou un autre matériau appro- prié peut être utile, mais on préfère le décapage par plasma ou le nettoyage à l'ozone qui sont des techniques connues et éprouvées pour des applications générales de nettoyage, lorsqu'un degré élevé de propreté de surface est exigé de manière reproductible. Lorsqu'on a ainsi préparé la surface de la feuille de support, on procède à l'application de cuivre par une technique de dépôt en phase vapeur, comme on l'a décrit précédemment, et on forme un film de cuivre sur la surface propre de la feuille de support en aluminium. Conformément à la réalisation la plus recommandée, on utilise un dispositif à faisceau électronique, et dans tous les cas, on met en oeuvre cette étape de manière à réaliser un revêtement qui peut être ultra-mince ou un peu plus épais, son épaisseur pouvant aller jusqu'à 25 micromètres, si on le souhaite. Déposé de cette manière, ou par un autre procédé, en utilisant par exemple un pro- cédé de chauffage par induction ou de dépôt ionique, le film de cuivre présentera une granulométrie de l'ordre de G, W ' ' 2498 125 quelques centaines à quelques milliers d'Angstrbms, par opposition à la granulométrie beaucoup plus grande des films de cuivre déposés par galvanoplastie, de l'ordre de un à deux micromètres au minimum. Pour obtenir ce résul- tat, on maintient pendant toute la durée de l'opération de dépôt la surface de la feuille de support en aluminium sur laquelle on dépose le film de cuivre, à une tempéra- ture comprise entre environ 100 et 2500C. On a trouvé que l'utilisation de température un peu plus élevée provoquait la formation entre le film de cuivre et la feuille de sup- port en aluminium d'une liaison suffisamment forte pour rendre le pelage ou l'arrachage mécanique du film de la feuille difficile ou impossible sans dommage pour le film. D'autre part, on a trouvé que l'utilisation de températu- res un peu plus basses provoquait la formation d'une liai- son ne permettant pas de conserver l'intégrité de l'ensem- ble film de cuivre-support d'aluminium au cours des étapes de transformation ultérieures. Lorsque la formation du film de cuivre par une technique de dépôt en phase vapeur est terminée, l'ensem- ble résultant est prêt pour l'étape suivante du procédé. Cette étape comprend la préparation du film de cuivre pour le fixer à un substrat et on peut la mettre en oeuvre con- formément au procédé décrit et revendiqué dans la demande de brevet français n0 81 15 979 citée précédemment, ou à celui décrit et revendiqué dans la demande de brevet fran- çais n0 81 17 828. On comprendra, toutefois, qu'on pourra le traiter autrement, par un procédé existant ou futur, pour obtenir le résultat final voulu en ce qui concerne la liaison du film de cuivre au substrat final avec lequel il devra former un stratifié, pour être utilisé dans la production de plaquettes de circuits imprimés ou pour d'autres applications. On se reportera donc à la partie de la demande de brevet français n' 81 15 979 concernant la préparation de la surface du film de cuivre et les étapes suivantes de liaison au substrat. On se reportera de la même manière à la partie correspondante de la description de la demande de brevet français n0 81 17 828. On n'a actuellement pas de préférence pour l'un ou l'autre de ces procédés dans la mise en pratique de l'invention parce qu'ils sont également sûrs et comparablement économiques dans leur utilisation. On met ensuite en oeuvre la liaison au substrat, par un des procédés auxquels on a fait référence ou par un autre procédé que l'on a choisi, pour former le produit fini et il ne reste plus à l'utilisateur final qu'à enle- ver la feuille de support en la pelant ou en l'arrachant mécaniquement. C'est le procédé le plus recommandé pour enlever le support mais on comprendra que l'on pourra avoir le choix, dans certains cas, d'utiliser en variante des moyens chimiques, à savoir de dissolution. On met tou- tefois en oeuvre le pelage ou l'arrachage de la manière mécanique la plus simple possible et il suffit d'appliquer une force de pelage limitée, non destructrice en ce qui concerne l'intégrité du film de cuivre qui constitue la partie active du stratifié directement concernée dans la production de la plaquette de circuit imprimé ou pour une autre utilisation de même type du stratifié. EXEMPLE I On a nettoyé trois feuilles de support en alu- minium de 0,076 mm, à l'état brut de laminage, par déca- page par plasma, on les a fixées à une plaque de verre de ,16 cm x 10,16 cm (et de 6,35 mm d'épaisseur) et on a fixé un thermocouple à un des bords de la feuille, dans tous les cas. En utilisant deux lampes à quartz de 15,24 cm placées de chaque côté du montage dans une chambre sous vide, on a porté dans tous les cas la température de la feuille de support à 300'C et on l'y a maintenue, la pres- sion étant abaissée dans la chambre à 10,64.10 12 daN/mm2. On a ensuite déposé en phase vapeur, en utilisant un dis- positif à faisceau électronique, un film de cuivre de 5 micromètres sur la surface apparente de la feuille d'a- luminium. Pendant les 10 minutes o le cuivre fondait, la pression dans la chambre sous vide était de 4,79.10 11 daN/mm2. Puis, pendant l'étape d'évaporation elle était de 7,98.10 il daN/mm2. On a maintenu la température de la feuille d'aluminium à 300QC 50C pendant les 45 minutes qu'a duré l'étape de dépôt du procédé. On a trouvé à l'essai que la résistance au pelage du film de cuivre de l'une des éprouvettes était de 5,323 N/cm. On a formé des structures nodulaires à la surface de la seconde éprou- vette dans un bain de sulfate de cuivre, pendant 30 secon- des sous 0,155 A/cm2 et on l'a pressée contre une plaque de verre-époxy FR4 en appliquant une pression de 0,110 daN/mm2 et une température de 1660C pendant 35 minutes comme on l'a décrit dans la demande de brevet français n' 81 17 828 citée précédemment. L'essai de pelage prati- qué sur la feuille de support en découpant une bande de 3,175 mm du bord a eu pour résultat l'arrachage du film de cuivre de la plaque et donc la destruction du stratifié pour l'utilisation pour la production de plaquettes de circuits imprimés à laquelle il était destiné. On a assemblé la troisième éprouvette avec le substrat que l'on a ensuite chauffé 45 minutes à 3000C avec la conséquence que le cuivre a subi un recuit avec l'aluminium formant un composite que l'on n'a pas pu séparer proprement par application de forces de pelage ou d'arrachage. EXEMPLE II Dans une autre expérience semblable à celle de l'exemple I, excepté que l'on avait nettoyé la feuille de sup- port à la vapeur avec du Fréon, on a maintenu la tempéra- ture de la feuille d'aluminium-cuivre à environ 1200C pen- dant toute la durée du dépôt de cuivre. A l'essai, on a trouvé que la résistance au pelage du film de cuivre était de 2,802 N/cm. On a mis en oeuvre cet essai de la manière décrite dans l'exemple I en assemblant la feuille de sup- port revêtue du film de cuivre avec la couche de liaison et le substrat, comme on l'a décrit dans l'exemple I. On a ensuite mis en oeuvre l'essai pour déterminer la résis- tance au pelage sur la bande de 3,175 mm découpée sur l'éprouvette et on a utilisé un dispositif d'essai de 2498 125 pelage comme dans l'exemple I pour mesurer la résistance au pelage. EXEMPLE III Dans un autre exemple semblable à celui de l'exemple II o on utilisait une feuille de support en aluminium nettoyé à la vapeur avec du Fréon, de 0,076 mm d'épaisseur, les autres conditions de dépôt du film de cuivre et la production du produit stratifié avec le subs- trat étant les mêmes, on a trouvé au cours d'un essai conduit de la manière décrite plus haut que la résistance au pelage du produit stratifié était nulle. Un essai pré- liminaire de résistance au pelage conduit sur le film avant son assemblage avec le substrat a également fourni une valeur nulle. EXEMPLE IV Dans une autre expérience semblable à celle de l'exemple II, excepté que l'on a maintenu la température de la feuille de support à 250'C pendant toute la durée du dépôt du film de cuivre, on a trouvé, au cours de l'essai de l'élément final stratifié avec le substrat que la résistance au pelage était comprise entre 1,541 et 1,751 N/cm. EXEMPLE V Une autre expérience semblable à celle de l'exemple II a conduit à des résistances au pelage de 2,451 N/cm et de 3,082 N/cm lorsqu'on maintenait la tem- pérature de la feuille de support en aluminium à 260'C pendant toute la durée du dépôt du film de cuivre, les autres conditions restant inchangées. EXEMPLE VI Dans une autre expérience semblable à celle de l'exemple V, excepté que l'on a maintenu la température du support à 240'C pendant toute la durée du dépôt, on a mesuré une résistance au pelage, dans un cas de 0,420 N/cm, dans un autre cas de 0,840 N/cm et dans un troisième cas de 1,401 N/cm. Dans une autre expérience récente, on a préparé un film de cuivre déposé en phase vapeur de 0,3 micromètre sur une feuille d'aluminium brut de laminage non nettoyée, à température ambiante. On a trouvé que la résistance au pelage de ce film était nulle. Il est évident d'après les résultats obtenus lors des expériences décrites ci-dessus que l'on peut obtenir les nouveaux résultats et avantages de cette invention sous certaines conditions qui sont très critiques. Il est donc clair que la température à laquelle on maintient la sur- face de la feuille de support pendant la durée du dépôt du film de cuivre est d'une importance vitale quant à la résistance de la liaison formée entre le film de cuivre et le support d'aluminium. De plus, il est évident que la nature de la surface de la feuille de support en aluminium sur laquelle on dépose le film de cuivre a une portée importante sur la résistance de cette liaison. Finalement, il est clair, d'après ces expériences que la propreté de la surface de la feuille de support en aluminium sur laquelle on forme le film de cuivre a une portée impor- tante sur la résistance au pelage de la liaison, et bien sûr, peut aussi présenter une importance en ce qui concerne la contamination du film de cuivre résultant et la valeur et l'utilité du produit stratifié final. On recommande d'utiliser comme procédé de nettoyage, le décapage par plasma connu dans la technique. Le procédé d'évaporation au Fréon et les autres procédés de nettoyage à la vapeur donnent des résultats variables comme le montrent les don- nées reportées ci-dessus, et on n'approuve donc pas son utilisation dans la réalisation la plus recommandée de cette invention. REVENDICATIONS 1. Produit stratifié revêtu de cuivre, caracté- risé en ce qu'il comprend une feuille de support (18) en métal non revêtu et un film de cuivre à grains fins t14) dé-osé en phase vapeur, en contact direct avec la surface de la feuille de support et adhérant à celle-ci avec une résis- tance au pelage comprise entre environ 0,876 et environ 3,502 N/cm. 2. Produit stratifié selon la revendication 1, caractérisé en ce que la feuille de support (18) est constitué par de l'aluminium à l'état brut de laminage non anodisé et est recouverte, en conséquence, par un revêtement natu- rel d'oxyde de moins d'environ 50 Angstrôms d'épaisseur. 3. Produit stratifié selon la revendication 1, caractérisé en ce que la feuille de support est en maté- riau organique polymérique. 4. Produit stratifié selon la revendication 1, caractérisé en ce que la feuille de support est en alumi- nium laminé dont la surface présente un fini de surface meilleur en valeur quadratique moyenne que 0,203 micro- mètre. 5. Produit stratifié selon la revendication 4, caractérisé en ce que la feuille de support a subi un nettoyage. 6. Procédé de fabrication d'un stratifié revêtu de cuivre, caractérisé en ce qu'il comprend les étapes de: formation d'un film de cuivre (14) sur une feuille de supocrt (18)par dépôt en phase vapeur du cuivre directement sur la surface du support en maintenant la surface du sup- port à une température comprise entre environ 1000C et environ 2500C; dépôt d'une couche de liaison (16) à un substrat (12) sur le film de cuivre; formation d'un stratifié avec l'élément à feuille métallique résultant et un substrat de manière à créer une forte adhérence entre l'élément et le substrat;et enlèvement de la feuille de support pour con- server le substrat auquel adhère l'élément. 7. Procédé selon la revendication 6, caractérisé en ce que l'on met en oeuvre l'étape d'enlèvement de la feuille de support par arrachage physique de l'élément à feuille métallique de la feuille de support par applica- tion d'une force de pelage comprise entre environ 0,876 et 3,502 N/cm à l'élément à feuille métallique. 8. Procédé selon la revendication 6, caractérisé en ce que l'on produit le film de cuivre par évaporation par faisceau électronique. 9. Procédé selon la revendication 6, caractérisé en ce que l'on forme le film de cuivre par dépôt ioniaue. 10. Procédé selon la revendication 6, caractérisé en ce que la feuille de support est une feuille d'alumi- nium brut de laminage revêtue d'un film d'oxyde d'épais- seur comprise entre 10 et 20 Angstr6ms, en ce que l'on forme le film de cuivre par évaporation par faisceau élec- tronique, et en ce qu'il comprend l'étape de traitement électrolytique du film de cuivre pour produire une feuille dans le but d'augmenter l'adhérence au substrat. 11. Procédé selon la revendication 8, caractérisé en ce qu'il comprend les étapes de dépôt en phase vapeur d'un film de zinc sur un film de cuivre et de dépôt en phase vapeur d'un film de silice sur le film de zinc. 12. Procédé selon la revendication 6, caractérisé en ce que l'étape de dépôt de la couche de liaison au subs- trat comprend le dépôt électrolytique de cuivre sous la forme d'un revêtement très irrégulier sur le film de cuivre. 13. Procédé selon la revendication 6, caractérisé en ce que le dépôt de la couche de liaison au substrat comprend le dépôt en phase vapeur d'un film ultra-mince d'un métal choisi dans le groupe constitué par le zinc, l'aluminium, l'étain et le chrome sur le film de cuivre et le dépôt en phase vapeur d'un film ultra-mince d'un oxyde choisi dans le groupe constitué par le dioxyde de silicium et l'oxyde d'aluminium sur la feuille métallique résultante.