Brevet FR2490858A1 — publié le 19820326

La présente invention est relative à un milieu d'enregistrement op- tique, ainsi qu'à un disque contenant de l'information comportant des régions de différentes sensibilités d'enregistrement, de manière que les informations puissent être enregistrées dans les régions de sensibilité élevée sans qu'il se produise d'enregistrement dans la région de faible sensibilité. Le brevet américain n' 4 097 895 décrit un milieu d'enregistrement optique bicouche ablatif qui comprend une couche réfléchissante recouverte d'une couche absorbante, dans lequel l'épaisseur de la couche absorbante est choisie telle que le pouvoir réfléchissant (ou réflectivité) du milieu d'enre- gistrement soit réduit. La couche absorbante est fondue ou éliminée par abla- tion lors de l'enregistrement, ce qui modifie le pouvoir réfléchissant du mi- lieu d'enregistrement. Lors de la lecture de l'enregistrement, la différence de pouvoir réfléchissant entre des parties perturbées et non perturbées du milieu d'enregistrement optique est détectée optiquement, et elle est trans- formée en un signal électrique représentatif de l'information enregistrée. Le brevet américain nc 4 216 501 décrit un milieu d'enregistrement optique tricouche comportant une couche transparente d'espacement interposée entre les couches réfléchissante et absorbante du milieu d'enregistrement optique décrit dans le brevet américain n0 4 097 895. La relation entre l'épais- seur de la couche absorbante et les constantes optiques (l'indice de réfraction et le coefficient d'extinction) des couches réfléchissantes, d'espacement et absorbante est telle qu'on obtient une réduction du pouvoir réfléchissant du milieu d'enregistrement. Lors du déroulement du procédé d'enregistrement, la couche absorbante est fondue ou est éliminée par ablation, ce qui provoque la réalisation d'une ouverture dans cette couche, entraînant une modification du pouvoir réfléchissant du milieu d'enregistrement. En variante, la couche absorbante peut se déformer sans formation d'ouverture ou sans modification des propriétés optique s de la couche absorbante, ce qui modifie le pouvoir réfléchis sant. Dans chaque cas, le milieu d'enregistrement optique possède, de point en point, une sensibilité d'enregistrement sensiblement uniforme. Par conséquent, la forme et les dimensions d'un changement de la couche absor- bante, sous la forme, par exemple, d'une ouverture dans la couche absor- bante, dépends. dt Idforme et des dimensions du faisceau lumineux d'enre- 2 2490858 gistrement. Le brevet américain n0 4 176 377 décrit une configuration de disque vidéo dans lequel la surface est sensible à l'enregistrement le long d'une piste en spirale, et non sensible à l'enregistrement dans les régions situées entre des pistes adjacentes. Ce résultat peut être obtenu en utilisant un laser non modulé à forte puissance pour éliminer, par traçage thermique, les zones de surface non désirées d'une ébauche de disque)iniformément sensible. En va- riante, le disque ainsi tracé peut être utilisé comme original pour la fabrica- tion, par voie photolithographique, de disques comportant des pistes en spirale sensibles à l'enregistrement. Ce traitement additionnel est indésirable, étant donné que la surface sensible doit présenter un degré élevé de perfection, afin de reproduire fidèlement les informations qui y sont enregistrées. Compte tenu des inconvénients des solutions actuelles examinées ci- dessus, le besoin se fait sentir de pouvoir disposer d'un milieu et d'un disque d'enregistrement optique comportant une sensibilité d'enregistrement variable localement, de manière que le changement enregistré dans la couche absor- bante soit indépendant de la forme et des dimensions du faisceau lumineux d'enregistrement, et qui, en outre, n'exige pas de traitement ultérieur après la formation de la couche absorbante. En conséquence, cette invention est relative à un milieu d'enregistre- ment optique qui comprend un substrat comportant une pluralité d'indentations sur l'une de ses surfaces principales, et une couche absorbante surmontant ledit substrat et remplissant les indentations en formant des premières et secondes régions dans le milieu d'enregistrement optique. La sensibilité d'en- registrement du milieu d'enregistrement optique, dans les premières régions, est sensiblement plus grande que la sensibilité d'enregistrement du milieu d'enregistrement optique dans les secondes régions. Cette invention concerne également un disque d'information compor- tant une piste d'informations, laquelle est enregistrée sous la forme d'une sé- rie de zones, dans les premières régions, qui possèdent des propriétés op- tiques différentes de celles des autres premières régions et des secondes ré- gions. D'autres caractéristiques et avantages de cette invention ressorti- ront de la description faite ci-après en référence aux dessins annexés, qui en illustrent divers exemples de réalisation, dépourvus de tout caractère limitatif. Sur les dessins: - la Figure 1 est une vue schématique, en perspective, d'un milieu d'enregistrement optique selon l'invention; - la Figure 2 est une vue d'une section droite d'une partie du premier exemple de réalisation du milieu selon l'invention; - la Figure 3 est une vue schématique d'une section droite d'une par- tie d'un second exemple de réalisation d'un milieu d'enregistrement optique selon l'invention; - la Figure 4 est une vue schématique d'une section droite d'une par- tie d'un troisième exemple de réalisation de l'invention; - la Figure 5 est une vue schématique d'une section droite d'une par- tie d'un disque d'informations selon l'invention; - la Figure 6 est une vue schématique d'une section droite d'une par- tie d'un second exemple de réalisation d'un disque selon l'invention; et, - la Figure 7 est une vue schématique d'une section droite d'une par- tie d'un milieu d'enregistrement optique comportant des indentations de diffé- rentes épaisseurs. En se référant à la Figure 1, on voit que le milieu d'enregistrement optique 10 comprend un substrat 12 ayant une surface principale 14, laquelle est recouverte d'une couche absorbante 16. Le milieu d'enregistrement op- tique 10 comporte des premières régions 18 qui présentent un pouvoir d'ab- sorption, aux longueurs d'onde d'un faisceau lumineux d'enregistrement, plus élevé que celui des secondes régions 19 qui constituent le reste du milieu d'enregistrement optique. A des fins d'illustration, les premières régions 18 ont été représentées sous la forme de sillons 20, ou, en variante, sous la forme d'un réseau ou d'une configuration en jeu d'échecs 22. Comme on le verra dans la description qui suit, il est évident que les premières régions 18 peuvent être réalisées et disposées selon toute autre forme sous laquelle l'utilisateur désire enregistrer l'information dans le milieu d'enregistrement. Compte tenu du pouvoir d'absorption élevé dans ces régions, un faisceau lumineux d'enregistrement, sur le milieu d'enregistrement optique 10, enre- gistre de préférence l'information sous la forme d'une modification des pro- priétés optiques du milieu d'enregistrement dans les premières régions 18, 4 à par rapport à celles des secondes régions 20, balayées par ledit faisceau. Cette modification peut prendre la forme d'un enregistrement irréversible, en réalisant par exemple une ouverture dans la couche optique absorbante 16, ou bien encore, elle peut constituer un enregistrement réversible, par exemple par un changement réversible du degré de cristallinité de la couche absorbante 16. On se réfère maintenant à la Figure 2, qui représente un premier exemple de réalisation 30 d'un milieu d'enregistrement optique selon l'inven- tion, qui comprend un substrat 12 ayant une surface principale 14, une plura- lité d'indentations 32 s'étendant dans le substrat 12 sur une certaine distance à partir de la surface principale 14, une pluralité d'intervalles 34 séparant les indentations, et une couche absorbante 36 qui remplit les indentations 32, et qui peut également recouvrir les intervalles 34 entre les indentations. La couche absorbante est ensuite constituée de deux parties: une première partie 40, qui remplit les indentations 32 et qui est plus épaisse qu' une seconde par- tie 42, qui recouvre les intervalles 34 entre les indentations. La surface supé- rieure 44 de la couche absorbant la lumière 36 est plate, et elle peut être re- couverte d'une couche de revêtement 46. On se réfère maintenant à la Figure 3, sur laquelle les références affectées aux éléments communs au second exemple de réalisation 50, repré- senté sur cette Figure 3, et au premier exemple de réalisation 30 de l'inven- tion, sont les mêmes. Le second mode d'exécution 50 diffère du premier 30 en ce qu'une couche réfléchissante 52 surmonte la surface principale 14 com- portant les indentations 32 et les intervalles ou parties intermédiaires 34 les séparant, et en ce qu'il comporte une couche absorbante 54 qui remplit les indentations 32 et qui peut également recouvrir la partie de la couche réflé- chissante 52 recouvrant les intervalles 34 entre les indentations 32. La couche absorbante est ensuite constituée de deux parties: une première partie 56 qui remplit les indentationset qui est plus épaisse qu'une seconde partie 58, qui recouvre les intervalles entre les indentations. La surface supérieure plate 60 de la couche absorbant la lumière 54 peut être recouverte d'une couche 46. On se réfère maintenant à la Figure 4, sur laquelle les références affectées aux éléments communs au troisième exemple de réalisation 70, re- 2490858 présenté sur cette Figure 4, et au second exemple de réalisation 50, sont les mêmes. Ce troisième mode d'exécution de l'invention 70 diffère du second 50 en ce qu'une couche d'espacement 72 remplit les indentations 32 de la sur- face principale 14 et peut également recouvrir la couche réfléchissante 52 au-dessus des intervalles 34. La couche d'espacement est donc constituée d'une première partie 74, dans la région des indentations de la surface principale 14, et d'une seconde partie 76, qui est plus mince que la première partie 74 et qui recouvre les intervalles 34 entre les indentations 32. Une couche absorbante 78, d'épaisseur sensiblement uniforme, recouvre la surface 80 de la couche d'espacement 72. Le troisième mode de réalisation du milieu d'enregistrement selon cette invention se distingue en outre du second exemple de réalisation par la présence d'une couche de couverture 82 qui recouvre la surface 84 de la couche absorbant la lumière 78. Une couche de surrevêtement 46 peut venir recouvrir la couche de couverture 82, ou, en l'absence de cette couche de cou- verture, elle peut recouvrir la couche absorbant la lumière 78. Le substrat 12 peut être constitué d'une matière plastique, par exemple de chlorure de polyvinyle ou de méthacrylate de (poly) méthyle, et, typiquement, ce substrat peut se présenter sous la forme d'un disque. Les indentations peuvent être formées dans une surface principale du substrat 12 par duplication (réalisation de répliques) d'un modèle comportant ces indenta- - tions, en emboutissant la surface 14. En variante, les indentations peuvent être réalisées lors du moulage par compression du disque. De façon typique, la profondeur des indentations est comprise entre 5 nanomètres et 200 nano- mètres environ. Par indentation de la surface principale du substrat 12, on désigne à la fois des puits ou similaires, dans cette surface, et des aspérités dépas- sant de la surface du disque. Le rôle de ces puits et de ces aspérités en re- lief est identique: fournir des revêtements optiquement sensibles d'épaisseur variable. Dans le premier exemple de réalisation 30, illustré par la Figure 2, la profondeur des indentations 32 est choisie de manière que l'épaisseur de la couche absorbante 36 qui remplit les indentations 32 représente sensiblement l'épaisseur (ou est légèrement inférieure) qui est nécessaire pour assurer un équilibre entre l'absorption et la réflexion, afin d'obtenir une sensibilité plus 6 2490858 élevée. Si la profondeur est inférieure à ladite épaisseur, toute épaisseur supplémentaire dépassant l'indentation amènera l'épaisseur à la valeur voulue. De façon typique, la profondeur des indentations 32 est comprise entre 5 et nanomètres environ, pour ce premier exemple de réalisation 30. Dans les second et troisième exemples de réalisation représentés sur les Figures 3 et 4, la profondeur des indentations est choisie de manière que l'épaisseur de la couche qui remplit les indentations corresponde sensible- ment à l'épaisseur requise pour minimiser le pouvoir réfléchissant local du milieu d'enregistrement optique, ou qu'il soit sensiblement inférieur à cette épaisseur. Si la profondeur est plus petite que cette épaisseur, toute épaisseur additionnelle au-dessus des indentations porte l'épaisseur à la valeur désirée. De façon typique, la profondeur des indentations 32 est comprise entre environ et 80 nanomètres, pour la structure bicouche du second exemple de réalisa- tion 50, représenté sur la Figure 3, et elle est comprise entre environ 30 et 200 nanomètres pour la structure tricouche du troisième mode de réalisation , illustré par la Figure 4. Comme le montrera la description qui suit, l'épaisseur préférée de la couche absorbante, ou des couches d'espacement et absorbante, dépend des propriétés du matériau constituant les couches. La couche réfléchissante 52 de la Figure 3 réfléchit de préférence une fraction relativement importante, de préférence au moins 50 %, de la lu- mière incidente aux longueurs d'onde des faisceaux lumineux d'enregistrement et de lecture, et elle est typiquement formée d'un métal tel que l'aluminium ou l'or, qui, pour de telles longueurs d'onde, présentent un pouvoir réfléchis- sant élevé. L'épaisseur de la couche réfléchissante 52 est comprise typique- ment entre 30 et 60 nanomètres, et cette couche peut être déposée sur la sur- face 14 du substrat comportant les indentations, par exemple par une technique d'évaporation sous vide. En variante, on peut utiliser un réflecteur diélectrique mono- ou multicouche. La couche absorbante 36 du premier exemple de réalisation 30 (Fig. 2) et la couche absorbante 54 du second mode d'exécution 50 (Fig. 3) sont constituées d'un matériau qui absorbe la lumière aux longueurs d'onde des faisceaux lumineux d'enregistrement et de lecture, et qui peut être dé- posé sur la surface 14 ou sur la couche réfléchissante 52 de manière que les indentations 32 de la surface principale 14 du substrat soient remplies préfé- rentiellement. Une fois ces indentations remplies, le matériau en excès peut former une mince couche au-dessus des indentations 32 et des intervalles 34 entre les indentations 32, afin de former une surface supérieure continue et lisse de la couche absorbante. Selon un autre exemple de réalisation de l'in- vention, la couche absorbante peut être constituée d'un colorant organique en solution dans un solvant, qui est ensuite déposé par des techniques de centri- fugation. Un colorant approprié, contenu dans un liant, est une solution à 4, 8% en poids de 4-phénylazo-1-naphthylamine dans un photorésist "Shipley 1350 B", qui est dilué dans un rapport de 25/1 avec de l'acétate de 2-méthoxyéthyle, et qui est déposé par centrifugation. Ce matériau convient pour une longueur d'onde d'une source lumineuse d'enregistrement ou de lecture d'environ 480nm. La couche de surrevêtement 46 est constituée d'un matériau qui est sensiblement transparent, pour les longueurs d'onde des faisceaux lumineux d'enregistrement et de lecture. Une couche de surrevétement ayant une épais- seur comprise entre environ 0, 05 et 1 mm convient particulièrement bien. Les particules de poussières qui se déposent sur la surface supérieure de cette couche de surrevêtement sont ensuite éloignées de cette surface, du point focal du système d'enregistrement et de lecture optique, de telle manière que les effets de telles particules de poussière soient réduits dans des propor- tions considérables. Un matériau particulièrement approprié à la réalisation d'une couche de revêtement convenant pour l'application particulière à la présente invention est constitué par une résine à base de silicones. Cette résine de silicone peut être déposée en mettant en oeuvre toute technique de dépôt connue de l'homme de l'art, telle que, par exemple, des procédés de centrifugation. L'épaisseur de la couche absorbante 54 du second exemple de réalisa- tion 50 (Fig. 3) est liée aux constantes optiques des couches réfléchissante et absorbante, et à celles de la couche de surrevêtement, si elle est présente, de manière que le pouvoir réfléchissant du milieu d'enregistrement optique dans les premières régions soit réduit, et, de préférence, ramené à un minimum, qui correspond aux conditions d'antiréflexion. Les valeurs optimales de l'épaisseur de la couche absorbante peuvent être calculées en utilisant, par exemple, la méthode des matrices, telle que discutée dans la publication 8 2490858 américaine "Optical Properties of Thin Solid Films", par O.S. Heavens, Dover Publications, Inc., New York, 1965, page 69. L'épaisseur de la couche absorbante présentant un pouvoir réfléchissant réduit est typiquement com- prise entre 20 et 100 nanomètres environ. L'épaisseur de la couche absorbante 54 varie ensuite sur la surface du milieu d'enregistrement optique: elle est plus épaisse dans les régions des indentations 32 que dans les régions o sont situés les intervalles 34. Le pre- mier minimum du pouvoir réfléchissant, pour les longueurs d'onde d'enregis- trement et de lecture, se produit sur les indentations. Dès que les indentations sont remplies, l'épaisseur de la seconde partie 58, audessus des intervalles 34, augmente en même temps que l'épaisseur de la première partie 56 située au-dessus des indentations 32. Lorsque l'épaisseur de la seconde partie aug- mente, le pouvoir réfléchissant de cette partie diminue, cependant que la ré- flectivité des premières parties commence à augmenter, après passage par un minimum. Par conséquent, en contrôlant l'épaisseur du revêtement audessus des secondes parties, les régions de faible pouvoir réfléchissant et de sensibi- lité élevée peuvent être situées soit au-dessus des indentations 32, soit au- dessus des parties intermédiaires 34. De préférence, l'épaisseur de la se- conde partie est réduite à un minimum, et les parties situées au-dessus des indentations 32 constituent les régions de faible pouvoir réfléchissant et de sensibilité élevée. Dans le troisième exemple de réalisation représenté en 70 sur la Figure 4, c'est l'épaisseur de la couche d'espacement 72 qui varie. Cette couche d'espacement 72 est constituée d'un matériau qui est essentiellement transparent aux longueurs d'onde des faisceaux lumineux d'enregistrement et de lecture, et qui peut être déposé sur la couche réfléchissant la lumière 52 de telle manière que les indentations 32, dans la surface du substrat, soient remplies préférentiellement, formant ainsi une première partie 74 de la couche d'espacement. Après remplissage des indentations, l'épaisseur de la première partie 74 et d'une seconde partie 76, située au-dessus des parties intermédiaires ou intervalles 34, augmente. Un matériau approprié, pour réaliser la couche d'espacement, est constitué par du poly- o4-méthylstyrène en solution dans du toluène, et déposé en mettant en oeuvre les techniques de centrifugation. 9 2490858 La couche absorbant la lumière 78, qui recouvre la couche d'espace- ment 72, est constituée d'un matériau qui absorbe la lumière aux longueurs d'onde des faisceaux lumineux d'enregistrement et de lecture. Parmi les ma- tériaux appropriés pour cette couche, on peut citer notamment: le titane, le rhodium, le tellure, le sélénium, des alliages à base de tellure ou de sélé- nium, le trisulfure d'arsenic et le trisélénium d'arsenic. Ces matériaux peuvent être déposés par les techniques d'évaporation sous vide. Après expo- sition à l'atmosphère, certains de ces matériaux s'oxydent,en laissant une couche absorbante qui est effectivement plus mince que la couche déposée à l'origine. Cet effet peut être compensé en déposant une couche qui est plus épaisse que désiré, de telle manière que l'oxydation ultérieure ramène l'épais- seur effective à la valeur désirée. Les épaisseurs des couches d'espacement et d'absorption 72 et 78, respectivement, sont choisies de telle manière que le pouvoir réfléchissant des premières et secondes parties du milieu d'enregistrement optique soit réduit, et soit calculé en prenant en considération les propriétés optiques des couches réfléchissante, d'espacement et absorbante, ainsi que celles des couches de couverture et de surrev8tement, si elles sont présentes, et égale- ment les longueurs d'onde des faisceaux lumineux d'enregistrement et de lec- ture. De façon typique, l'épaisseur de la couche d'espacement, pour obtenir un pouvoir réfléchissant réduit, est comprise entre environ 20 et 200 nano- mètres, et l'épaisseur de la couche absorbante est comprise entre 3 et 50 nanomètres environ. La variation de la sensibilité, sur la surface du disque d'informations, est ensuite obtenue par les variations d'épaisseur de la couche d'espacement, cette couche étant plus épaisse dans la région des indentations 32 que dans la région des parties intermédiaires ou intervalles 34. Comme dans le cas de la couche absorbante du second mode de réalisation représenté sur la Figure 3, le premier minimum du pouvoir réfléchissant doit se pro- duire sur les indentations. Dès que les indentations sont remplies par la couche d'espacement, l'épaisseur de la seconde partie 76 de la couche d'es- pacement, au-dessus des intervalles 34, augmente en même temps que l'épais- seur de la première partie 74, dans les indentations. Lorsque l'épaisseur de la seconde partie augmente, le pouvoir réfléchissant local du milieu d'enre- gistrement optique dans cette région décroît, alors que le pouvoir réfléchis- 2490858 sant de la première partie commence à augmenter, après être passé par le minimum. Il en résulte qu'en contrôlant l'épaisseur de la couche d'espace- ment au-dessus de la seconde partie, les régions présentant un pouvoir réflé- chissant inférieur et une sensibilité supérieure peuvent être situées soit au- dessus des indentations 32, soit au-dessus des intervalles 34. Il est préférable que l'épaisseur de la seconde partie de la couche d'espacement soit réduite à un minimum, de façon que les régions des premières parties 74, au-dessus des indentations 32, deviennent les régions de pouvoir réfléchissant inférieur et de sensibilité supérieure. La couche de couverture 82 peut recouvrir la surface supérieure 84 de la couche absorbant la lumière 78. Le rôle de la couche de couverture est d'empêcher tout endommagement thermique de la couche de surrevêtement 46, si un matériau à point de fusion élevé, tel que le titane ou le rhodium, est uti- lisé pour constituer la couche absorbante 78. Si, cependant, un matériau à faible température de fusion, tel que le tellure, le sélénium, ou un alliage contenant l'un de ces matériaux, est utilisé pour réaliser la couche absorbante 78, il n'est pas nécessaire de prévoir la'couche de couverture pour empêcher un endommagement thermique de la couche de surrevêtement 46. Cependant, si la couche de couverture 82 et la couche d'espacement 72 sont constituées de matériaux qui sont efficaces pour empêcher la forma- tion d'ouvertures ou d'autres déformations permanentes de la couche absor- bante 78, un enregistrement réversible, c'est-à-dire un enregistrement qui peut être effacé, puis réenregistré sur le même support, peut être formé dans la couche absorbante 78. Parmi les matériaux convenant à la réalisation de la couche absorbante 78, dans cet exemple de réalisation, on peut citer notam- ment le tellure, le sélénium, des alliages à base de tellure ou de sélénium, le trisulfure d'arsenic et le triséléniure d'arsenic. Comme matériaux aptes à la réalisation de la couche de couverture, et qui sont efficaces pour empê- cher la formation d'un enregistrement réversible, on peut citer le bioxyde de silicium, le monoxyde de silicium, le bioxyde de titane et le bioxyde de tellure. Ces matériaux peuvent être déposés en utilisant des techniques d'évaporation par faisceau électronique. De façon typique, l'épaisseur d'une couche de cou- verture apte à empêcher la formation d'ouvertures ou d'autres déformations dans la couche absorbante est comprise entre 50 et 500 nanomètres environ. il 2490858 Il convient de noter que, si l'on désire enregistrer de l'information de façon réversible, les couches de surrevêtement et de couverture 46 et 82 doivent être également transparentes à la longueur d'onde du faisceau lumineux d'effacement, et la couche 78 doit absorber la lumière à la longueur d'onde du faisceau lumineux d'effacement. Les indentations de la surface du disque peuvent être disposées selon un grand nombre de formats différents, tels que ceux illustrés par la Figure 1. Ces indentations peuvent présenter la forme d'un sillon, circulaire ou en spi- rale, pourvu d'indentations continues, prévu dans la surface du disque, de manière que le milieu d'enregistrement optique soit plus épais au- dessus du sillon que dans les intervalles ou parties intermédiaires situées entre les sillons. Ensuite, si le milieu d'enregistrement optique est plus sensible dans la région située au-dessus du sillon que dans la région au-dessus des parties intermédiaires, le faisceau lumineux qui recouvre à la fois le sillon et les parties intermédiaires entourant ce sillon enregistrera préférentiellement l'information dans le sillon plutôt que dans les intervalles qui l'entourent. En variante, une série d'indentations peut être disposée dans des pistes circulaires ou en spirale, espacées les unes des autres, avec alternance d'indentations et d'intervalles le long de la piste. Dans ce cas, les indentations peuvent être de longueurs égales sur chaque piste, ou, en variante, elles peuvent être d'égale longueur angulaire, les indentations ayant les longueurs les plus importantes étant situées aux plus grandes distances du centre du disque. Il en résulte que l'information enregistrée dans le disque sera enre- gistrée et lue dans le premier cas à une fréquence variable, mais avec une dimension d'élément enregistré constante, alors que, dans le second cas, l'in- formation peut être enregistrée et lue à une vitesse constante, mais avec une dimension d'élément enregistré variable. Si le milieu d'enregistrement op- tique est plus sensible au-dessus des indentations qu'au-dessus des intervalles ou parties intermédiaires les séparant, un faisceau lumineux, qui recouvre à la fois une indentation et les parties intermédiaires le long de la piste, enregis- trera préférentiellement l'information uniquement dans la région de l'indenta- tion. Une autre variante est constituée par une configuration en forme de jeu d'échecs, dans laquelle une indentation, le long d'une piste, possède des parties intermédiaires voisines à la fois le long de la piste et perpendiculaire- ment à celle-ci. On se réfère maintenant à la Figure 5, sur laquelle on a représenté un disque d'information bicouche 90, sur lequel a été enregistrée une piste contenant de l'information. L'identification des éléments communs au disque d'information 90 et au milieu d'enregistrement 50 représenté sur la Figure 3 est la même. Le disque d'information 90 a été représenté avec des indentations disposées en série le long d'une piste, ces indentations étant séparées par des intervalles ou parties intermédiaires. L'information est enregistrée sous la forme d'une série d'ouvertures 92 dans la couche absorbante 54, la présence ou l'absence d'une ouverture 92 et l'espacement entre les ouvertures fournis- sant une indication de l'information enregistrée. En variante, les ouvertures peuvent être formées au-dessus des intervalles 34. En se référant maintenant à la Figure 6, on y a représenté un disque d'information tricouche 100 comportant une piste d'information enregistrée dans sa surface. L'identification des éléments du disque 100 et des éléments correspondants du milieu d'enregistrement tricouche 70 représenté sur la Figure 4 est la même. L'information est enregistrée sous la forme d'une sé- rie de zones 102, dans la couche absorbante 78, qui présentent des propriétés optiques différentes de celles du reste de la couche absorbante. Ces zones peuvent présenter la forme d'une déformation irréversible de la couche ab- sorbante, ou d'une rmwdification réversible des propriétés optiques de la couche absorbante, résultant par exemple d'un changement de degré de cristallinité de la couche absorbante 78. La présence ou l'absence d'une modification des propriétés optiques de la couche absorbante provoque un changement du pouvoir réfléchissant du milieu d'enregistrement, la longueur ainsi que l'espacement entre ces zones fournissant une indication de l'information enregistrée. On notera que, si le faisceau lumineux d'enregistrement recouvre les régions de sensibilité plus faible, et que la densité d'énergie du faisceau d'enregistrement est suffisamment importante, la modification de la couche absorbante, qui fournit une indication de l'information enregistrée, peut également se produire dans les secondes régions de sensibilité inférieure. Le milieu d'enregistrement optique selon la présente invention possède des régions de sensibilité d'enregistrement différentes, en raison 13 2490858 des épaisseurs variables des couches. Ces différences d'épaisseur sont provoquées par la présence d'indentations dans la surface du substrat. Lors de la fabrication du substrat, de l'information peut être préenregistrée,dans le milieu d'information optique, par la formation d'indentations ayant une dis- tribution spatiale particulière, ou en faisant varier la profondeur des indenta- tions. Par exemple, la profondeur d'une partie d'une spirale ou d'un sillon circulaire peut être modulée en y formant une troisième région présentant un pouvoir réfléchissant différent de ceux des première et seconde régions. Cette information peut être utilisée, par exemple, pour assurer une identification de la piste, pour indiquer le début ou la fin d'une piste, ou pour fournir des don- nées de synchronisation. Pour d'autres arrangements d'indentations, on peut utiliser des schémas d'encodage d'informations similaires. On se réfère maintenant à la Figure 7, sur laquelle l'identification des éléments communs au milieu d'enregistrement optique 110 et au milieu d'enregistrement optique 50, représenté sur la Figure 3, est identique. Les indentations 112 et 114 s'étendent sur des distances différentes dans le substrat 12, formant ainsi la troisième région. Lors du fonctionnement d'un système d'enregistrement, de lecture ou d'effacement, le faisceau lumineux est centré sur la piste contenant, ou devant contenir, les informations. En ce qui concerne le milieu d'enregistre- ment optique décrit ci-dessus, le faisceau lumineux est également centré sur les premières régions de sensibilité élevée, lors de la mise en oeuvre du pro- cédé d'enregistrement. Si le pouvoir réfléchissant est différent entre les pre- mière et seconde régions, cette différence de réflectivité peut être utilisée pour délivrer un signal proportionnel au déplacement du faisceau lumineux transversalement à la piste. Ce signal peut être utilisé pour corriger la posi- * tion du faisceau lumineux sur la piste. Il demeure bien entendu que cette invention n'est pas limitée aux dif- férents exemples de réalisation décrits et représentés ici, mais qu'elle en englobe toutes les variantes. 14 2490858 REVENDICATIONS 1 - Milieu d'enregistrement optique caractérisé en ce qu'il comprend un substrat (12) ayant une surface principale (14) munie d'une pluralité d'inden- tations (32), et une couche absorbante (36) surmontant la surface principale (14) et remplissant lesdites indentations (32), cette couche absorbant la lumière à la longueur d'onde d'un faisceau lumineux d'enregistrement et de lecture,afin de former des premières (18) et secondes (19) régions dans le milieu d'enre- gistrement, de telle façon que la sensibilité à l'enregistrement dudit milieu, dans les premières régions (18), soit plus grande que la sensibilité à l'enregis- trement dudit milieu dans les secondes régions (19). 2 - Milieu d'enregistrement optique selon la revendication 1, caracté- risé en ce qu'il comporte une couche réfléchissante (52) qui est interposée entre le substrat (12) et la couche absorbante (54), cette couche réfléchissant une portion substantielle de la lumière incidente sur cette couche, pour les longueurs d'onde des faisceaux lumineux de lecture et d'enregistrement, l'épaisseur de cette couche absorbante (54) étant choisie de manière à réduire le pouvoir réfléchissant du milieu d'enregistrement dans les premières ré- gions (18). 3 - Milieu d'enregistrement optique selon la revendication 2, carac- térisé en ce qu'il comporte une couche d'espacement (72) interposée entre la couche réfléchissante (52) et la couche absorbante (78), et qui remplit lesdites indentations (32), les épaisseurs de cette couche d'espacement (72) et de la couche absorbante (78) étant choisies de manière à réduire le pouvoir ré- fléchissant du milieu d'enregistrement dans les premières régions (18). 4 - Milieu d'enregistrement optique selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que les indentations (32) s'étendent dans le substrat (12),à partir de la surface principale (14), sur une distance qui est comprise entre 5 nanomètres et 200 nanomètres environ. - Milieu d'enregistrement optique selon la revendication 1, carac- térisé en ce que ledit substrat (12) est constitué d'une matière plastique. 6 - Milieu d'enregistrement optique selon la revendication 2, carac- térisé en ce que l'épaisseur de la couche absorbante (54) dans les premières régions (18) est choisie de manière à minimiser le pouvoir réfléchissant. 7 - Milieu d'enregistrement optique selon la revendication 3, carac- 2490858 térisé en ce que les épaisseurs de la couche d'espacement (72) et de la couche absorbante (78) des premières régions (18) sont choisies de manière à minimi- ser le pouvoir réfléchissant. 8 - Milieu d'enregistrement optique selon la revendication 1, carac- térisé en ce qu'il comporte une couche d'un revêtement épais (46) déposé au- dessus de la couche absorbante (36). 9 - Milieu d'enregistrement optique selon la revendication 3, carac- térisé en ce qu'il comporte une couche de couverture (82) recouvrant la couche absorbante (78), et une couche de revêtement épais (46) surmontant la couche de couverture (82). - Milieu d'enregistrement optique selon l'une des revendications 1 ou 2, caractérisé en ce que la couche absorbante (36, 54) est constituée d'un matériau organique. Il - Milieu d'enregistrement optique selon l'une des revendications 3 ou 9, caractérisé en ce que la couche absorbante (78) est constituée d'un matériau choisi dans le groupe qui comprend le titane, le rhodium, le tellure, le sélénium, des alliages à base de tellure, des alliages à base de sélénium, le trisulfure d'arsenic et le trisélénium d'arsenic. 12 - Milieu d'enregistrement optique selon la revendication 1, carac- térisé en ce que les indentations (32) sont réalisées sous la forme d'un sillon (20) dans une surface principale (14) du substrat (12). 13 - Milieu d'enregistrement optique selon la revendication 1, carac- térisé en ce que les indentations (32) sont réalisées sous la forme de séries alternées de premières (18) et secondes (19) régions. 14 - Milieu d'enregistrement optique selon la revendication 1, carac- térisé en ce qu'une partie des indentations (114) s'étendent dans le substrat (12) sur une épaisseur qui est différente de celle des indentations restantes (112), afin de former une troisième région ayant un pouvoir réfléchissant diffé- rent de ceux des premières (18) et secondes-(19) régions. 15 - Disque d'information muni d'une piste contenant l'information enregistrée, caractérisé en ce qu'il comprend: un substrat (12) comportant une surface principale (14) munie d'une pluralité d'indentations (32); une couche absorbante (54), déposée sur la surface principale (14) et remplissant les indentations, cette couche (54) absorbant la lumière pour la longueur d'onde 16 2490858 d'un faisceau lumineux d'enregistrement et de lecture, afin de former dans le disque des premières régions (18) et des secondes régions (19) de façon que la sensibilité d'enregistrement, dans les premières régions (18) ,soit plus grande que la sensibilité d'enregistrement dans les secondes régions (19), et en ce que ladite piste comprend une série de premières régions (92) présen- tant des propriétés optiques différentes de celles des autrespremières régions (18) et de celles des secondes régions (19), la longueur et l'espacement des- dites premières régions (92) ayant des propriétés optiques différentes étant une indication de l'information enregistrée. 16 - Disque d'information selon la revendication 15, caractérisé en ce qu'il comporte une couche réfléchissante (52) interposée entre le substrat (12) et la couche absorbante (54), cette couche (52) réfléchissant une partie substantielle de la lumière qui y est incidente, aux longueurs d'onde des fais- ceaux lumineux d'enregistrement et de lecture, l'épaisseur de ladite couche absorbante (54) étant choisie de manière à réduire le pouvoir réfléchissant du disquedans les premières régions (18). 17 - Disque d'information selon la revendication 16, caractérisé en ce qu'il comporte une couche d'espacement (72) interposée entre la couche ré- fléchissante (52) et la couche absorbante (78), cette couche d'espacement rem- plissant les indentations (32), et en ce que les épaisseurs de la couche d'es- pacement (72) et de la couche absorbante (78) sont telles que le pouvoir ré- fléchissant du disque dans les premières régions (18) est réduit. 18 - Disque d'information selon l'une quelconque des revendications à 17, caractérisé en ce que lesdites indentations (32) s'étendent dans le substrat (12), à partir de la surface principale (14), sur une distance comprise entre environ 5 nanomètres et 200 nanomètres. 19 - Disque d'information selon la revendication 15, caractérisé en ce que ledit substrat (12) est constitué d'une matière plastique. - Disque d'information selon la revendication 16, caractérisé en ce que l'épaisseur de la couche absorbante (54), dans les premières régions (18), est choisie de manière à minimiser le pouvoir réfléchissant. 21 - Disque d'information selon l'une des revendications 15 ou 16, caractérisé en ce qu'il comporte une couche de revêtement épais (46) au- dessus de la couche absorbante (54). 17 2490858 22 - Disque d'information selon la revendication 17, caractérisé en ce que les épaisseurs de la couche d'espacement (72) et de la couche absor- bante (78) des premières régions (18) sont choisies de manière à minimiser le pouvoir réfléchissant. 23 - Disque d'information selon la revendication 17, caractérisé en ce qu'il comporte une couche de couverture (82) recouvrant la couche absor- bante (78), et une couche de revêtement épais (46) surmontant la couche de couverture (82). 24 - Disque d'information selon l'une des revendications 17 ou 23, caractérisé en ce que la couche absorbante (78) est constituée d'un matériau choisi dans le groupe qui comprend le titane, le rhodium, le tellure, le sélé- nium, des alliages à base de tellure, des alliages à base de sélénium, le tri- sulfure d'arsenic et le trisélénium d'arsenic. - Disque d'information selon la revendication 15, caractérisé en ce que les indentations (32) sont réalisées sous la forme d'un sillon (20) dans une surface principale (14) du substrat (12). 26 - Disque d'information selon la revendication 15, caractérisé en ce que les indentations (32) sont réalisées sous la forme de séries alternées de premières (18) et secondes (19) régions. 27 - Disque d'information selon la revendication 15, caractérisé en ce qu'une partie des indentations (114) s'étendent dans le substrat (12) sur des épaisseurs qui sont différentes de celles des indentations restantes (112), de manière à former une troisième région qui possède des propriétés optiques différentes de celles des premières (18) et secondes (19) régions.