Brevet FR2489041A1 — publié le 19820226

L'invention concerne, d'une manière générale, un procédé d'usinage de corps semiconducteurs et a, plus particulièrement, trait à un procédé pour diviser des corps semiconducteurs et former rapidement une zone semiconductrice dans un corps semiconducteur épais. Il est fréquemment souhaité, pour beaucoup de raisons, de former, dans la masse d'un corps semiconducteur, une zone de type de conductivité donné allant, d'une surface à l'autre. On utilise généralement de telles zones pour isoler les éléments semiconducteurs les uns des autres sur une même plaquette, ainsi que pour former une jonction dans un disposi- tif semiconducteur, sur une surface supportant aisément un traitement de passivation. On a eu recours jusqu'à présent à plusieurs procédés pour former de telles zones, tels que des procédés de diffusion d'impuretés à partir d'une source sur l'une et/ou l'autre des surfaces du corps, d'implantation d'ions, de migration thermique, et analogue. Ce sont des procédés efficaces dans leurs propres limites, mais aucun n'est optimum si l'on souhaite former une zone du type évoqué dans un corps semiconducteur relativement épais. Le procédé qui consiste à diffuser des impuretés à partir d'une source placée sur une ou deux surfaces d'un corps en forme de plaquette a été largement utilisé pour former des zones telles que celles que l'invention se propose en partie de former. Mais selon le type d'impuretés choisi, le temps nécessaire pour former une telle zone est proportionnel à l'épaisseur du corps, et les temps nécessaires pour que la diffusion ait lieu sont importants dans certains cas, lorsqu'il s'agit de combinai- sons particulières de matériau semiconducteur et d'impuretés, avec un coefficient de diffusion faible. Dans certains cas extrêmes pouvant exiger de nombreuses centaines d'heures, la combinaison considérée n'est tout simplement pas réalisable pratiquement. Le procédé faisant appel à une migration thermique réduit potentiellement, et de manière importante, le temps nécessaire pour former des zones d'impuretés telles que celles que se propose de former l'invention, mais il requiert un équipement et des techniques spéciales qui ne sont pas réalisables à faible coût. On trouvera dans le brevet des Etats-Unis d'Amérique n0 4 137 100 la description d'un procédé de formation d'une zone d'isolement dans une plaquette semiconductrice relati- vement épaisse (0,254 mm), dont le diamètre est de'38 à 50 mm. Selon ce procédé, on forme un trou dans un corps semiconduc- teur à l'aide d'un faisceau laser, on dépose un dopant dans ce trou, et on diffuse le dopant à partir du trou dans le dis- positif semiconducteur. C'est un procédé qui offre certains avantages lorsqu'il s'agit de plaquettes épaisses de diamètre relativement faible, dans les ordres de grandeur précités pour les dimensions, mais les inconvénients qu'il présente interdisent son utilisation actuellement lorsque les pla- quettes à traiter ont un diamètre beaucoup plus large, de l'ordre de 75 à 125 mm et plus, et même avec des épaisseurs relativement plus fortes. Les trous formés par le faisceau laser introduisent, dans la plaquette semiconductrice, des zones de contrainte élevée qui réduisent fortement la résis- tance de la plaquette et conduisent inévitablement à un bris plus important de ces plaquettes lors des traitements ulté- rieurs, même si des soins extrêmes sont pris pour les mani- puler. Par suite, la production de dispositifs utilisables est réduite,- et le prix de revient s'accroît fortement. Outre le fait de pouvoir former rapidement des zones semiconductrices sur une partie ou la totalité de l'épais- seur du corps semiconducteur, il est aussi souhaité de former des gorges, des évidements, des congés ou analogue sur des corps semiconducteurs, cela, rapidement et sans affaiblir de manière trop importante les dispositifs semiconducteurs. Il est de plus souhaité de disposer de moyens pour diviser des plaquettes semiconductrices sur lesquelles ont été formés simultanément plusieurs dispositifs semiconducteurs pour pouvoir utiliser séparément ces dispositifs. On a jusque là utilisé à cette fin nombre de procédés, attaque par produit chimique, découpage mécanique, traçage et cassure par exemple. Chacun de ces procédés présente des inconvénients qui en réduisent l'intérêt. Le traitement chimique par exemple, notamment à l'aide de produits corrosifs, n'est pas intéressant dans la mesure o il conduit à un gâchis de matériau dont il est incommode de se débarasser. Ces matériaux ont une durée de vie limitée, sont difficiles à utiliser, peuvent présenter certains dangers qui nécessitent de grandes précautions, ce qui augmente le prix de revient. Les procédés mécaniques, dé- coupage au jet de particules abrasives, sciage, meulage et analogue, donnent des surfaces qui peuvent être inappropriées du fait qu'elles peuvent présenter des contraintes résiduelles d'une manière analogue à celle qui a été précédemment évoquée. Ce sont des procédés qui ne peuvent pas être réglés avec une grande précision et peuvent, dans certains cas, entraîner une pollution de l'environnement, ce qui n'est pas souhaitable. En résumé et conformément à une version actuellement recommandée de l'invention, on forme une zone semiconductrice de type de conductivité choisi, dans un corps semiconducteur, en endommageant la structure du réseau cristallin de ce corps, par exemple en focalisant un faisceau laser à la surface du corps pour former, à partir de cette surface, une zone endom- magée qui ne traverse pas complètement le corps. On attaque ensuite la surface du corps à partir de laquelle est formée la zone endommagée à l'aide d'un produit corrosif, par exemple par un plasma réactif, afin d'éliminer le silicium endommagé et refondu par le faisceau laser, ce qui laisse une gorge ou fente à partir de la surface considérée, cette gorge ou cette fente ne traversant pas complètement le corps. Les contraintes et la densité de dislocations sont relativement faibles à la surface intérieure de la gorge. Lorsqu'on souhaite former une zone semiconductrice d'un type de conductivité donné, on place une source d'impuretés à la surface du dispositif, là o l'on souhaite former la zone précitée et notamment sur la surface intérieure de la gorge. Le corps semiconducteur est alors placé dans une atmosphère convenant à la diffusion des impuretés, la température est accrue, et la diffusion se fait à partir de la surface de la gorge, dans le corps. Selon une autre version conforme à l'invention, l'endom- magement de la structure cristalline du corps semiconducteur, avant traitement par plasma, peut se faire par d'autres moyens, par exemple en bombardant la surface de la zone considérée à l'aide d'électrons, d'ions ou de protons, l'endommagement résultant de collision entre ces particules et le corps. Il peut être souhaitable, par ailleurs, dans certains cas, de former une gorge ou fente mécaniquement, par sciage partiel de la plaquette par exemple. Quel que soit le procédé utilisé, l'endommagement du corps semiconducteur est suivi d'un trai- tement d'attaque chimique à sec, par exemple, par plasma, pour éliminer la zone endommagée et former une gorge dont la surface présente peu de contraintes et de dislocations. La suite de la description se réfère aux dessins annexés qui représentent, figures 1 à 9, des vues en coupe d'un dis- positif lors des diverses étapes du procédé conforme à l'inven- tion. On a représenté figure 1, une partie d'un corps semi- conducteur 10 à trois couches et deux-jonctions planes il et 13. Généralement, on forme simultanément plusieurs dispositifs semiconducteurs dans un corps tel que le corps 10 qui est ensuite divisé pour obtenir des dispositifs distincts. Tout procédé connu peut être utilisé pour former le corps 10, par exemple, diffusion de dopants pour obtenir les couches 14 et 16 d'un type de conductivité donné dans une plaquette semi- conductrice du type de conductivité opposé, cette plaquette formant la couche 12. On peut aussi utiliser un procédé par croissance épitaxiale. On a représenté figure 2 des couches d'oxydes 17 et 18 formées sur les surfaces supérieure et inférieure du corps 10. Lorsque le corps semiconducteurs est en silicium, l'oxyde peut être du bioxyde de silicium, du nitrure de silicium, ou tout autre oxyde ou nitrure, ou encore toute combinaison de deux ou plusieurs oxydes, nitrures, ou analogue. Le processus de formation de telles couches est connu. On a représenté figure 3 le réseau formé dans la couche d'oxyde 18, par photolithographie par exemple. L'oxyde est sélectivement éliminé pour former une ouverture 15 qui peut être de forme annulaire laissant exposée une partie de la surface de la plaquette semiconductrice. L'élimination sélec- tive de l'oxyde peut se faire, comme il est connu, par application d'une couche de matériau photorésistant 19, par exposition de cette couche au travers d'un masque, par déve- loppement et attaque, afin d'éliminer la zone d'oxyde souhaitée. On peut alors former une gorge 20, qui peut être une simple gorge périphérique comme représenté figure 4 en atta- quant sélectivement le corps semiconducteur 10 par l'ouverture 15. De préférence, la gorge 20 se prolonge jusqu'en dessous de la jonction 11 entre les couches 14 et 12, en formant avec cette jonction un angle qui peut être défini en faisant varier la forme et la profondeur de la gorge, de manière à former au fond de cette gorge une surface inclinée; cette dernière subira ensuite un traitement de passivation à l'aide de verre ou autre matériau approprié pour obtenir une tension de coupure élevée. On peut utiliser toute solution d'attaque qui élimine effica- cement la quantité souhaitée de matériau semiconducteur en un temps convenable. Le corps semiconducteur après formation de la gorge 20 est représenté figure 4, la couche 19 ayant été également éliminée au cours du traitement d'attaque. La gorge peut être l'une de plusieurs gorges identiques formées dans une plaquette semiconductrice pour diviser cette pla- quette en éléments semiconducteurs isolés qui seront ensuite séparés et utilisés individuellement. On voit sur la figure 5 que les parties restantes des couches d'oxyde, après attaque, peuvent être éliminées et remplacées par la couche d'oxyde 24 sur la surface supérieure et la couche d'oxyde 25 sur la surface inférieure du corps semiconducteur. On peut, si on le souhaite, former ces der- nières couches sur ce qui reste des couches d'oxyde 17 et 18 après formation de la gorge 20. Des couches supérieure et inférieure 28 et 29, en matériau photorésistant, sont ensuite formées sur les couches d'oxyde et séchées. On endommage ensuite (figure 6) une zone 30, en chauf- fant ce corps localement pour en faire fondre une partie, de préférence en dirigeant un faisceau laser à la surface du dispositif, par exemple sur le fond de la gorge 20. Selon une version conforme à l'invention, on utilise un laser Grenat Aluminium-Yttrium fournissant au maximum en sortie environ 1/2 joule par cm2. Ce type de laser peut avantageusement être utilisé en mode impulsionnel, à une fréquence de répétition de 8 kHz et une vitesse d'exploration d'environ 10 mm par seconde. On recommande une longueur d'onde de 1060 nm avec une diver- gence de 1,5 nm. Contrairement à ce qui se faisait antérieurement, il n'est ni nécessaire, ni souhaitable, conformément à l'invention, d'éliminer à l'aide du laser une quantité importante de maté- riau semiconducteur; il est préférable de créer une zone dans laquelle le réseau de silicium est fortement endommage, sans que soit éliminée une quantité appréciable de matériau. De préférence, l'endommagement du réseau cristallin sera limitée à 90% de l'épaisseur de la couche 12. Cela permettra néanmoins de procéder aux étapes d'attaque et de diffusion qui suivent, jusqu'au niveau de la couche 16, sans affaiblir inutilement le dispositif semiconducteur. On notera qu'immédiatement après l'étape d'endommagement par laser, la plaquette semiconductrice est quelque peu affaiblie et doit être manipulée avec précau- tions pour éviter qu'elle se brise. Après formation de la zone endommagée 30, le dispositif est soumis à une attaque à sec pour former la fente 36 que l'on a représentée figure 7. On peut utiliser pour cette attacue un milieu gazeux choisi dans le groupe comprenant HCl et HBR comme constituants principaux, mais de préférence un faisceau laser. Des résultats satisfaisants sont obtenus avec un plasma réactif qui est une combinaison de 96 % environ de CF4 et de 4% de 02' à l'état gazeux. Au cours de cette étape du procédé conforme à l'invention, la vitesse d'attaque est relativement élevée pendant la période ou le semiconducteur endommagé par le faisceau laser est éliminé puis cette vitesse diminue ensuite de manière importante de sorte que le processus est relativement facile à régler. Il n'est donc pas nécessaire que le temps d'attaque soit réglé avec précision puisque, après élimination du matériau endom- magé, la vitesse d'élimination du matériau non endommagé est faible. Plus précisément, sous une pression comprise entre 1/2 et 1 Torr environ, et une puissance de l'ordre de 400 W, les temps sont de l'ordre de une heure ou moins, selon la profon- deur souhaitée pour la fente, pour obtenir un résultat satis- faisant. Une fente qui occupe environ 95% de la profondeur de la couche 12 donne des résultats satisfaisants. On a dit précédemment qu'immédiatement après l'étape d'endommagement par laser, la résistance de la plaquette semiconductrice est quelque peu diminuée. Or, il se trouve qu'après l'étape d'attaque par plasma, la résistance de cette plaquette s'accroit de manière inattendue, et qu'il n'est alors plus nécessaire de prendre des soins particuliers pour la manipuler, comme il était précédemment nécessaire et comme il est nécessaire lorsqu'on utilise l'un des procédés anté- rieurs. Bien que l'épaisseur des plaquettes au niveau de la fente formée ait été fortement réduite, leur résistance n'est pas réduite dans la mesure o on pouvait le supposer, et on constate que ces plaquettes ne se brisent pas comme elles se brisaient jusque là. Le traitement de la plaquette s'arrête là si l'on n'a besoin que de former la seule fente 36. Bien que la descrip- tion concernela formation d'une fente, il est entendu que l'on peut donner à cette fente toute autre configuration que celle représentée, par exemple la forme d'un V, celle d'un V inversé, celle d'un carré; on peut encore former une fente inclinée, etc., toutes ces formes étant relativement faciles à obtenir conformément à l'invention, étant donné les grandes possibilités de contrôle d'un dispositif laser et la souples- se de ce dispositif qui permettent de donner la configuration voulue à la zone endommagée. L'invention permet d'obtenir pratiquement par routine des formes jusque là très difficiles à obtenir. Le procédé conforme à l'invention permet d'obtenir, par exemple, des fentes en V inversé, soit des fentes plus larges à leur partie inférieure qu'à leur partie supérieure, ce qui était extrêmement difficile à obtenir avec les procédés antérieurs. i Lorsqu'on souhaite di nombre de pastilles discrètes en utilisant le procédé con- forme à l'invention, il est préférable que la fente 36 de la figure 7 soit prolongée plus loin dans la plaquette 10, de manière qu'après l'étape d'attaque, cette plaquette soit complètement ou presque complètement divisée par la fente. Pour diviser des plaquettes en pastilles, il est particulière- ment avantageux d'utiliser un faisceau électronique pour former la zone endommagée 30. On notera que, même si cette zone endommagée traverse complètement-la plaquette 10, cette dernière garde néanmoins une résistance mécanique suffisante pour pouvoir être traitée entière dans le réacteur à plasma; ce n'est qu'après ce traitement que se fait la division de la plaquette en pastilles. Les pastilles individuelles présentent un bord périphérique supérieur en ce qui concerne les con- traintes et les microfissures. Plus particulièrement les contraintes sont extrêmement faibles et les microfissures sont virtuellement, sinon entièrement éliminées. Après l'étape d'attaque par plasma, qui est suivie de l'élimination des couches de matériau photorésistant et d'oxyde, on peut procéder à un traitement comme il est repré- senté figure 8. Conformément à une version actuellement recommandée de l'invention, on place une source de matériau dopant à la surface du dispositif, à l'intérieur de la fente 36. Si l'on souhaite former d'autres zones dans d'autres parties du dispositif semiconducteur, comme on l'a représenté par exemple par les zones 50 dans le dispositif de la figure 8, on place également de manière appropriée comme il est classique, des sources de matériau dopant en impuretés qui conviennent aux zones que l'on souhaite former. Le dispositif semiconducteur de la figure 8 est un dispositif à quatre couches, un thyristor par exemple, comportant les couches 12, 14 et 16 précédemment formées, et des zones supplémentaires formées, par exemple, à partir d'une source d'impuretés placée à la surface du dispositif et chauffée à une tempéra- ture suffisante pour provoquer la diffusion des impuretés dans le corps semiconducteur. La couche d'oxyde 54 agit comme un masque, comme il est connu, lors de la formation des zones 50. Simultanément, la zone d'isolement 52 peut être formée à partir d'une source d'impuretés placée sur la sur- face intérieure de la gorge 20; mais cette zone d'isolement peut être formée indépendamment des zones 50. La formation d'une gorge, comme il vient d'être décrit, donne la possibi- lité de former une zone d'isolement avec une zone émetteur de type de conductivité n dans pratiquement le même temps, donc dans un temps beaucoup plus court que celui nécessaire pour former des zones d'isolement profondes. Dans la description qui précède, on a traité de la formation d'une gorge dont la surface atteint au moins une jonction, et, à partir du fond de cette gorge, de la forma- tion d'une fente pour obtenir ensuite, par diffusion, une zone d'isolement qui traverse la plaquette; mais il n'est pas nécessaire que la fente soit formée à partir du fond de la gorge. Par exemple, on peut, conformément à l'invention, former une fente dans un corps semiconducteur à partir de la surface de ce corps, et former séparément une gorge pour passivation dans les bords du dispositif. On peut également, dans le cas o l'on ne souhaite pas former une gorge, former une fente et une zone d'isolement par diffusion comme il vient d'être décrit, la combinaison gorge et fente sous-jacente ne constituant qu'une structure particulièrement avantageuse dans certains cas. On a représenté figure 9 un dispositif pratiquement terminé selon une version conforme à l'invention, ce disposi- tif comportant des zones de contact métallisées 58 formées sur les émetteurs 50 des différents dispositifs semiconducteurs et une couche métallisée 60 formée sur la surface inférieure du dispositif. Une couche de verre ou autre matériau de passivation est de plus formée sur la surface intérieure de la gorge 20 pour rendre passives tant la jonction entre les couches 14 et 12 que la jonction entre la couche 12 et la zone 52. Le dispositif représenté figure 9 peut être divisé par cassure, découpe ou analogue au niveau des fentes, en faisant appel à tout procédé approprié, les éléments obtenus étant ensuite emballés comme il est connu. On peut alors se rendre compte de l'exceptionnelle résistance des plaquettes, et de la difficulté qu'on éprouve pour les briser, contrairement à ce qu'on pouvait supposer. Selon une version conforme à l'invention, on traite par diffusion d'impuretés du type engendrant des accepteurs une plaquette de type de conductivité n, dont la résistivité est de l'ordre de 20 à 50 ohmscentimètre, de manière à former à sa surface des couches de type de conductivité p, sur une profondeur d'environ 0,046 mm. La couche d'oxyde qui se forme au cours de la diffusion est traitée à l'aide d'une couche de matériau photorésistant afin de former, par des moyens classiques, une gorge qui traverse au moins l'une des couches de conductivité p pour atteindre la partie du substrat de type de conductivité n, cette gorge ayant une largeur de l'ordre de 0,5 mm et une profondeur de l'ordre de 0,050 à 0,075 mm. Une nouvelle couche de matériau photorésistant est formée sur la plaquette au moins dans la gorge, et une zone endommagée par faisceau laser est formée à partir du fond de cette gorge, dans les conditions qui ont été précédemment décrites et sur une profondeur totale de l'ordre de 0,15 mm. Cette profondeur est choisie pour donner, après attaque par plasma, une fente qui se prolonge jusqu'à proximité de la couche inférieure de type de conducitvité p, sans toutefois atteindre cette couche. On recommande de choisir pour profondeur de la fente une valeur telle que la diffusion d'une zone atteignant la couche inférieure de type de conductivité p, à partir d'une source d'impuretés placée sur les parois intérieures de la fente, puisse se faire dans le temps requis pour former une zone de cathode par diffusion. La plaquette partiellement endommagée par faisceau laser est alors traitée dans un réacteur à plasma, conformément à ce qui a été précédemment décrit, pour former une fente pratiquement sans contraintes dont la largeur est de l'ordre de 0,0127 mm et dont la profondeur est de l'ordre de 0,1 mm. A ce stade, la plaquette est relativement fragile et des précautions doivent être prises pour éviter de la briser. Après formation de la fente, la couche de matériau photorésistant est éliminée, et on procède à un dépôt préalable de bore dans la fente. La plaquette est oxydée, un motif y est formé, et on dépose du phosphore pour créer une source pour zones de cathode de type de conductivité n. Le bore et le phosphore sont diffusés simultanément, et leur diffusion est éventuellement suivie d'une sorption du phosphore à partir de la surface. Une couche d'oxyde est formée, masquée, et on procède à une passivation sélective au verre au niveau des deux jonctions présentes à la surface intérieure de la gorge. Le dispositif est ensuite métallisé pour former les contacts et divisé en pastilles à l'aide de techniques connues. La technique de division de la plaquette doit être choisie en tenant compte du fait que les plaquettes formées conformément à l'invention n'ont pas la même tendance à se briser le long de la fente que les plaquettes formées confor- mément aux procédés antérieurs, dont un exemple est décrit dans le brevet des Etats Unis d'Amérique n0 4 137 100. En conséquence, on peut utiliser des procédés de division de plaquettes sans fentes: traçage mécanique ou au laser sur la surface inférieure de la plaquette, et cassure le long des lignes de traçage. l'invention peut être aussi bien mise en oeuvre en formant des zones d'isolement parallèles intersectant d'autres zones d'isolement parallèles, afin de définir des éléments discrets sur une même plaquette, qu'en formant des structures avec gorges sans intersection autour des éléments non divisés. La deuxième forme de mise en oeuvre est actuellement recom- mandée. Quoiqu'il soit recommandé de former la zone endommagée dans la plaquette par fusion au laser, on peut avoir recours à un faisceau électronique, à un faisceau ionique ou analogue. Les points essentiels de l'invention sont la formation de zones endommagées et l'élimination par attaque chimique de cette zone afin de former des fentes ne présentant que de faibles contraintes. On a décrit la formiation d'une fente continue comme lieu de diffusion d'une zone d'icolement, mais il est entendu que l'on peut également former une ligne de zones endommagees isolées, quoique relativement proches les unes des autres, qui peuvent être soumises à l'effet d'un plasma comme une zone continue pour obtenir une ligne de trous isolés traversant la plaquette. L'écartement entre zones endommagées est choisi tel que la diffusion latérale sur au moins la moitié de l'écarte- ment puise se faire au plus dans le temps nécessaire pour que se fasse la diffusion verticale à partir du fond des zones, jusqu'à la couche inférieure. On peut même obtenir une rosis- tance de plaquette plus grande que celle obtenue avec une structure à fente. REVENDICATIONS 1. Procédé de formation d'un évidement à faible contrain- tes résiduelles dans un corps en matériau semiconducteur, caractérisé en ce qu'il consiste: - à endommager sélectivement le corps semiconducteur (10) dans la zone (30) de l'évidement à former, cet endommagement ne laissant que des contraintes relativement faibles dans l'évidement, et - à soumettre le corps à une attaque chimique à sec, au moins au niveau de la zone endommagée, pour éliminer pratique- ment la totalité du matériau endommagé et former, dans le corps, un évidement (36) à faible contrainte. 2. Procédé selon la revendication 1,-caractérisé en ce que, au cours de l'attaque chimique à sec, on attaque sélecti- vement le corps (10) pour éliminer le matériau endommagé à une vitesse plus grande que le matériau non endommagé. 3. Procédé selon la revendication 2, caractérisé en ce que, au cours de l'attaque chimique à sec, on soumet le corps (10) à une attaque par un plasma. 4. Procédé selon la revendication 3, caractérisé en ce que, le plasma est un plasma réactif. 5. Procédé selon la revendication 4, caractérisé en ce qu'on utilise un plasma dont le constituant principal est du CF4. 6. Procédé selon la revendication 5, caractérisé en ce qu'on utilise un plasma qui contient également de l'oxygène. 7. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que, au cours de l'attaque chimique à sec, on soumet le corps (10) à une attaque dans une atmosphère gazeuse. 8.Procédé selon la revendication 7, caractérisé en ce que, pour l'attaque chimique à sec, on utilise un gaz choisi dans le groupe comportant HCl et HBr comme constituants principaux. 9. Procédé selon l'une des revendications 1 à 9, caractérisé en ce que l'endommagement sélectif du corps (10) se fait mécaniquement. 2489ô41 10. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 9, caractérisé en ce que l'endommagement sélectif du corps (10) se fait mécaniquement en dirigeant un faisceau de particules à énergie élevée sur le corps, l'endommagement résultant de collisions entre les particules et ce corps. 11. Procédé selon l'une des revendications 1 à 9, caractérisé en ce que l'endommagement sélectif du corps (10) se fait en dirigeant sur ce corps un faisceau de particules à énergie élevée choisies dans le groupe comportant les électrons, les ions et les protons, l'endommagement résultant de collisions entre ces particules et le corps. 12. Procédé selon l'une des revendications 1 à 9, caractérisé en ce que l'endommagement sélectif du corps (10) se fait sans élimination de quantité importante de matériau au niveau de l'emplacement endommagé. 13. Procédé selon l'une des revendications 1 à 9, caractérisé en ce que, pour endommager sélectivement le corps (10), on chauffe localement ce corps pour en faire fondre une petite partie. 14. Procédé selon l'une des revendications 1 à 9, caractérisé en ce que, pour endommager sélectivement le corps (10), on chauffe ce corps en dirigeant un faisceau laser sur une de ses parties déterminées (20) afin de faire fondre cette partie. 15. Procédé selon l'une des revendications 1 à 9, caractérisé en ce que, pour endommager sélectivement le corps (10), on dirige sur ce corps un faisceau laser et on entraîne ce faisceau en un mouvement d'exploration pour couvrir sensi- blement la zone de l'évidement à former. 16. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 9, caractérisé en ce que, pour endommager sélectivement le corps (10), on dirige un faisceau laser sur un certain nombre d'emplacements discrets et isolés les uns des autres à l'intérieur de la zone à endommager, afin de faire fondre le corps au niveau de ces emplacements. 17. Procédé de formation d'une zone d'un premier type de conductivité, au moins partiellement dans une zone d'un second type de conductivité, caractérisé en ce qu'il consiste - à endommager sélectivement la structure cristalline de la zone du second type de conductivité (12) sur une profondeur inférieure à l'épaisseur de cette zone, - à soumettre la zone endommagée à une attaque chimique à sec pour former une fente (36) relativement sans contraintes qui ne se prolonge pas tout à fait complè- tement dans la zone considérée, et - à placer une source d'impuretés sur la surface intérieure de la fente, et à diffuser les impuretés dans la zone du second type de conductivité, à partir de la fente. 18. Procédé de formation de dispositifs semiconducteurs dans une seule plaquette semiconductrice (10), cette plaquette ayant une structure feuilletée avec au moins trois couches (12,14,16) de types de conductivité différents en alternance, et les couches formant entre elles une première jonction (11) et une seconde jonction (13), caractérisé en ce qu'il consiste: - à former une gorge annulaire (10) sur une première surface de la plaquette, cette gorge intersectant la jonction supérieure (11) et entourant la partie active d'au moins un dispositif semiconducteur, - à endommager sélectivement la plaquette (30) sur une profondeur proche de la profondeur à laquelle se trouve la seconde jonction, - à soumettre la plaquette à une attaque chimique à sec pour éliminer le matériau endommagé et obtenir une fente sans contraintes (36) occupant au moins partiellement la zone semiconductrice située entre les premières et seconde jonctions, à placer une source d'impuretés sur la surface intérieure de la fente, et à diffuser les impuretés dans la plaquette sur une distance au moins suffisante pour que la zone créée par cette diffusion se prolonge jusqu'au niveau de la seconde jonction, de sorte que cette dernière se termine alors au niveau de la gorge, - à soumettre les première et seconde jonctions à un traitement de passivation par application d'une couche de matériau approprié sur la surface intérieure de la gorge, et - à diviser la plaquette semiconductrice au niveau de la fente pour obtenir des éléments semiconducteurs discrets. 19. Procédé selon la revendication 18, caractérisé en ce que l'endommagement sélectif de la plaquette (10) se fait sans élim.nation de quantité importante de matériau. 20. Procédé selon la revendication 18, caractérisé en ce que l'endommagement sélectif de la plaquette (10) se fait en chauffant localement cette plaquette pour en fondre une petite partie. 21. Procédé selon la revendication 20, caractérisé en ce que, pour chauffer la plaquette, on dirige un faisceau laser sur une partie choisie de cette plaquette. 22. Procédé selon la revendication 21, caractérisé en ce que l'endommagement sélectif de la plaquette (10) se fait en dirigeant un faisceau laser sur cette plaquette et en donnant à ce faisceau un mouvement d'exploration pour créer une zone continue détériorée. 23. Procédé selon la revendication 21, caractérisé en ce que l'endommagement sélectif de la plaquette (10) se fait en dirigeant un faisceau laser sur un certain nombre d'emplacements discrets, à distance les uns des autres. 24. Procédé selon la revendication 20, caractérisé en ce que, pour chauffer la plaquette (10),on dirige un faisceau d'électrons sur des parties choisies de cette plaquette pour en détériorer localement la structure cristalline. 25. Procédé selon la revendication 19, caractérisé en ce que l'endommagement sélectif de la plaquette (10) se fait en dirigeant sélectivement sur cette plaquette un jet d'ions qui détruit le réseau cristallin du corps de la plaquette. 26. Procédé de formation d'une zone d'un premier type de conductivité dans un corps d'un second type de conductivité, caractérisé en ce qu'il consiste: - à endommager sélectivement la structure cristalline du corps sur une profondeur inférieure à l'épaisseur de ce corps, - à soumettre le corps à une attaque chimique pour éliminer le matériau endommagé pour laisser une fente relativement sans contraintes qui ne traverse pas tout à fait complètement le corps, - et à placer une source d'impuretés sur la surface intérieure de la fente pour diffuser ces impuretés dans le corps semiconducteur à partir de la fente.