Brevet FR2498323A1 — publié le 19820723

L'invention concerne un procédé de fabrication d'un dispositif sensible à la température, du type à cou- che mince, ainsi que le dispositif obtenu par ce procédé et présentant un coefficient positif de température de résistance relativement élevé. On a réalisé des dispositifs sensibles à la température, à couches minces, par dépôt de couches de métal sur un substrat isolant. Pour obtenir une haute sensibilité à la température, on a utilisé des métaux caractérisés par des coefficients de température de résis- tance élevés. Etant donné que le nickel en masse présente un coefficient positif de température de résistance (CTR) élevé, ce métal a été utilisé pour obtenir la haute sensi- bilité à la température. Cependant, il est apparu que le coefficient élevé de température de résistance, obtenu avec le nickel en masse, est réduit lorsque l'épaisseur des couches des- cend au-dessous d'environ 500 nm.Du fait de la faible résistivité du nickel en masse, les couches de nickel utilisées ont été réduites à une épaisseur inférieure à OOnm afin d'accroître les résistances de couches, ou résistances spécifiques, permettant l'obtention de dispo- sitifs peu volumineux. En conséquence, les dispositifs à couches minces d'épaisseur réduite, produits dans l'art antérieur, présentent des coefficients de température de résistance sensiblement inférieurs à ceux obtenus avec le métal en masse. L'invention a donc pour objet un procédé perfec- tionné de fabrication d'un dispositif sensible à la tempé- rature, du type à couche mince. Le procédé selon l'invention peut être mis en oeuvre de façon simple et aisée et il permet d'obtenir un dispositif sensible à la température ayant un coefficient de température de résistance relativement élevé, ainsi qu'une résistance spécifique également relativement élevée. Le d11spositif obtenu par le procédé de l'inven- tion peut comporter une couche de nickel ayant une épaisseur inférieure à 500 nm présentant un coefficient de tempé- rature de résistance relativement élevé, ainsi qu'une résistance spécifique relativement élevée. Le procédé selon l'invention consisteen un trai- tement thermique permettant d'obtenir un coefficient de température de résistance relativement élevé, de valeur choisie dans une plage comprise entre 60% et 100% de la valeur de masse du nickel. Pour la réalisation du dispositif sensible à la température, un élément à résistance, comportant une mince couche de nickel sensiblement inférieure à 500nm d'épais- seur, déposée sur un substrat électriquement isolant, est soumis à un traitement thermique afin que son coefficient de température de résistance atteigne une valeur choisie pouvant s'élever sensiblement à la valeur de masse du métal. Le dispositif présente en outre une résistance spécifique supérieure à la résistance spécifique compara- ble obtenue avec le nickel en masse. Le procédé selon l'invention peut être mis en oeuvre de manière sûre, efficace et peu coûteuse pour donner des dispositifs sensibles à la température, à couches minces, peu coûteux et présentant des coefficients de température de résis- tance souhaités et choisis, et des résistances spécifi- ques relativement élevées, ne descendant pas au-dessous d'une valeur d'environ un ohm par carré. L'invention a donc pour objet un procédé per- fectionné de fabrication d'un dispositif sensible à la température à couche mince, utilisant une étape princi- pale de traitement thermique qui permet de conférer des propriétés électriques souhaitables au dispositif. Le procédé peut également comprendre un traitement thermi- que préalable permettant d'ajuster les propriétés électri- ques souhaitées, et un traitement thermique ultérieur per- mettant de stabiliser le dispositif. L'invention a également pour objet un procédé perfectionné de fabrication d'un dispositif sensible à la température à couche mince, comprenant une étape de traitement thermique au cours de laquelle les températu- res et les durées de chauffage peuvent être modifiées pour sélectionner un coefficient de température de résis- tance souhaitable et pour obtenir une résistance spécifi- que relativement élevée, pour des épaisseurs de couche inférieures à 300 nm. Le dispositif électrique, sensible à la tempéra- ture, à couche mince, de haute qualité ainsi obtenu est peu volumineux et réalisé en matières peu coûteuses, une mince couche de cuivre étant déposée sur un substrat iso- lant pour conférer des propriétés électriques très souhai- tables qui peuvent être aisément ajustées. Le dispositif peut être aisément fabriqué. L'invention concerne donc un procédé de fabrica- tion d'un dispositif sensible à la température, utilisant un élément à résistance qui peut comporter une couche de nickel d'une épaisseur inférieure à 500 nm, déposée sur un substrat électriquement isolant. L'élément à résistance-est traité par chauffage sous atmosphère réductrice, à une température de pointe d'au moins 5500C, au cours d'un cycle de chauffage d'au moins environ 20 minutes. Après le traitement thermique, l'élément à résistance présente une résistance spécifique ou résistance de couche d'au moins 1 ohm par carré et il permet d'obtenir le disposi- tif sensible à la température, ayant un coefficient de température de résistance choisi et compris dans la plage s'étendant entre 60% et 100% de la valeur du coefficient de la source de nickel en masse formant la couche. Le coefficient de température et la résistance spécifique sont déterminés par la température de chauffage, la durée et l'épaisseur de la couche de nickel. L'élément à résis- tance peut être réalisé par dépôt sous vide de la couche de nickel à l'épaisseur souhaitée sur le substrat isolant. Le dispositif sensible à la température peut également être produit par une étape de traitement thermi- que précédant le traitement thermique sous atmosphère réductrice et consistant à chauffer l'élément à résis- tance dans l'air à une température d'environ 350'C pen- dant une durée d'environ 1 heure. Pour assurer la stabi- lisation du dispositif sensible à la température, l'élé- ment à résistance, traité thermiquement, peut être chauffé dans l'air à une température d'environ 2500C pendant une durée d'environ 1 heure. L'invention concerne donc le procédé de fabri- cation, y compris les variantes portant sur une ou plu- sieurs de ses conditions d'application et sur ses étapes, les unes par rapport aux autres', ainsi que le dispositif, y compris ses caractéristiques et propriétés considérées en fonction de ses constituants dont des exemples seront décrits plus en détail ci-après. L'invention sera décrite plus en détail en regard du dessin annexé à titre d'exemples nullement limitatifs et sur lequel: la figure 1 est une vue en plan, avec arrache- ment partiel, du dispositif sensible à la température selon l'invention; et la figure 2 est un graphique donnant des courbes du coefficient de température de la résistance et de la résistance spécifique en fonction respectivement des températures de pointe du traitement thermique, pour plusieurs formes de réalisation du dispositif sensible à la température selon l'invention. La figure 1 représente le dispositif 10 sensi- ble à la température selon l'invention, qui comprend un élément à résistance 12 comportant un substrat 13 dont la surface extérieure porte une mince couche 14 de nickel constituant la résistance. Le substrat 13 peut se présen- ter sous la forme d'un tube ou d'unetige et il est cons- titué d'une matière électriquement isolante, par exemple du verre, de la céramique et de l'alumine ou de la stéa- tite. La mince couche 14 de nickel formant la résistance est de préférence déposée sous vide sur le substrat 13 et elle est traitée à chaud après dépôt afin d'acquérir les propriétés que l'on souhaite conférer au dispositif 10 sensible à la température. La couche métallique 14 de résistance est de préférence appliquée sur le substrat 13 par exposition de ce dernier à des vapeurs de nickel qui sont évaporées d'une source de nickel métallique en masse, sous vide poussé, comme décrit dans le brevet des Etats- Unis d'Amérique n0 2 847 325. Un chapeau 16 de connexion en métal conducteur du courant électrique est monté sur chacune des extrémités du substrat 12, en contact électri- que avec la couche résistante 14. Des fils 18 de connexion en métal conducteur de courant électrique sont fixés aux chapeaux 16 dont ils font saillie. Un revêtement protec- teur 20 est de préférence appliqué sur la partie exposée de la couche résistante 14, entre les chapeaux 16 de connexion. Dans la réalisation du dispositif 10 sensible à la température, il est préférable d'utiliser un élément à résistance 12 dont la couche 14 de nickel est déposée sous vide à partir d'une source de nickel de haute pureté, par exemple 99,97% ou plus, en poids, sous vide poussé com- pris entre 133.10 5 et 133.10-6 Pa. Bien que cela ne soit pas indispensable, il est souhaitable de faire tourner l'élément à résistance 12 pendant l'opération de dépôt afin que l'on obtienne une couche régulière sur la surface extérieure du substrat 13, une telle opération pouvant être exécutée, par exemple, à l'aide de l'appareil décrit dans le brevet n0 2 847 325 précité. La couche 14 peut être formée à diverses vitesses de dépôt,et des vitesses comprises entre 0,3 et 2,5rnu par seconde se sont révélées souhaitables pour l'obtention d'épaisseurs de couche de nickel comprises entre 100 et 300 nm.Outre l'application du revêtement sur le substrat 13 par évaporation de nickel, on peut également utiliser des techniques de pulvérisation, à faisceau électronique et autres, bien que les propriétés souhaitables ne dépendent pas de ces procédés, de l'appli- cation des tensions de polarisatLior ou de l'utilisation de substrats chauffés. Le traitement thermique appliqué à l'élément à résistance 12 modifie de façon déterminée ses proprié- tés électriques et il permet d'obtenir les coefficients de température relativement élevés et souhaités pour la résistance. Le traitement thermique peut également être appliqué pour accroître la résistance spécifique ou résistance de couche du dispositif 10. L'élément 12 à résistance est soumis à un traitement thermique sous atmosphère réductrice, à une température de pointe d'au moins 5500C, au cours d'un cycle de chauffage d'au moins minutes. L'atmosphère est de préférence légèrement réductrice et un mélange d'azote et d'hydrogène a été utilisé avec un volume d'hydrogène inférieur à celui d'azote. Une teneur réduite en hydrogène est souhaitable pour améliorer et accroître la valeur du coefficient de température de la résistance du dispositif 10 traité thermiquement. Les teneurs en hydrogène de 5 et15% en volume, ainsi que de 1% et moins, se sont avérées utiles pour l'obtention des propriétés souhaitées pour le dispositif sensible à la température. La température de pointe à laquelle l'élément à résistance 12 est chauffé.et la durée du cycle de chauf- fage sont déterminées par les valeurs que l'on souhaite pour le coefficient de température de la résistance et pour la résistance spécifique. Les valeurs du coefficient de température de la résistance et de la résistance spécifique obtenues dépendent également de l'épaisseur de la couche de nickel. Des coefficients de température de résistance avantageu- sement élevés, d'au moins 60%, 80%, 90%, 95% et jusqu'à % de la valeur de masse de la source de nickel,peuvent être obtenus par réglage de la température du traitement thermique, de la durée du cycle du traitement thermique et de l'épaisseur de la couche. Pour parvenir à de tels résultats, on peut utiliser des températures de traitement thermique d'une valeur pouvant descendre à environ 1500C et pouvant s'élever à 950'C et plus. Pour obtenir des coefficients de température élevés de diverses valeurs, des températures de pointe comprises dans la plage de 600 à 9000C sont souhaitables, tandis que des températu- res de pointe comprises dans une plage de 750 à 850'C sont préférées pour des valeurs élevées du coefficient de température de résistance. Une valeur de pointe d'en- viron 800'C est apparue comme étant optimale pour l'ob- tention de valeurs élevées du coefficient de température de résistance, sur une plage d'épaisseurs de la couche de nickel de llOnm et moins jusqu'à 280 nmet plus. Bien qu'un cycle de traitement thermique de seulement 20 minutes puisse être utilisé, ce cycle de traitement thermique peut se prolonger sur des périodes d'une demi-heure à deux et trois heures et plus. Etant donné que les variations de la durée du cycle ainsi que de la température de chauffage affectent les propriétés du dispositif sensible à la température, la durée du cycle est également choisie pour que l'on maintienne les propriétés électriques souhaitées. Suivant l'épaisseur de la couche de nickel, la résistance spécifique de la couche de nickel reste rela- tivement constante lorsque la température de pointe varie jusqu'à ce qu'une température de pointe critique soit atteinte. Au-delà de cette température critique, il se produit un accroissement rapide de la résistance spécifi- que. En général, les valeurs de la résistance spécifique obtenues par le procédé de l'invention dépassent la valeur de la résistance spécifique comparable présentée par la source de nickel en masse, et ces valeurs sont d'au moins un ohm par carré. Le traitement thermique peut également provoquer un accroissement simultané du coefficient de température et de la résistance spécifique du dispositif , au-delà des valeurs présentées par l'élément à résis- tance 12 sans traitement thermique. Les variations réelles des valeurs dépendent cependant des conditions du traite- m-r.t thermique et de l'épaisseur de la couche de nickel. L'invention concerne donc un procédé qui peut être aisément mis en oeuvre avec un élément à résistance à cou- che de nickel pouvant être produit par simple dépôt sous vide et avec des épaisseurs de couche inférieures à 500 nm. Des épaisseurs de couche descendant à 300 nm, lic nm et moins peuvent être utilisées pour l'obtention de résultats souhaitables. Cependant, lorsqu'on utilise des couches de nickel de liflm et moins, les températures de pointe de chauffage et les durées des cycles doivent être inférieu- res pour éviter la destruction des couches de nickel. Outre le traitement thermique sous atmosphère réductrice, l'élément 12 à résistance peut également être soumis à des étapes de traitement thermique destinées à modifier les propriétés du dispositif 10 sensible à la température. Ainsi, le traitement thermique réducteur peut être précédé d'un traitement thermique dans l'air, à envi- ron 350OC, sur une période d'environ 1 heure. Si cela est souhaitable, le traitement thermique réducteur peut égale- ment être suivi d'un traitement thermique à une tempéra- ture d'environ 250'C, durant environ 1 heure, dans l'air, destiné à stabiliser le dispositif sensible à la tempéra- ture. EXEMPLE 1 Des dispositifs 10 sensibles à la température sont réalisés au moyen d'éléments 12 à résistance sur lesquels est déposée sous vide une mince couche de nickel ayant une épaisseur d'environ 1lOnm, provenant d'une source de nickel en masse à haute pureté, le dépôt s'ef- fectuant sous un vide compris entre 133.10 5 et 133.10-6 Pa. Le coefficient de température de résistance du nickel en masse est d'environ 5620 parties par million par OC. Le coefficient de température de résistance de la couche 14 de nickel des éléments 12 à résistance, avant traite- ment thermique, est de 3327 ppm/0C et sa résistance spécifique est de 3,4 ohms/carré. Les éléments 12 à résistance sont soumis à un traitement thermique sous atmosphère réductrice de 95 parties d'azote et 5 parties d'hydrogène, en volume. Le traitement thermique a lieu au cours d'un cycle d'une heure et à diverses températures de pointe comprises entre 6000C et 9500C pour les éléments 12 à résistance respectifs. Les dispositifs 10 sensibles à la température sont formés par l'addition de chapeaux 16 et de fils 18 de connexion aux extrémités des éléments 12 à résistance. On soumet les dispositifs 10 à un essai destiné à déterminer leurs propriétés électriques, et les résultats obtenus sont indiqués dans le tableau. TABLEAU I Température CTR Résistance Variation du CTR du traitement 25-1000C spécifique due au traitement thermique ( 600 3280 5,02 -47 650 3980 5,99 +653 700 4200 7,61 +873 750 5340 8,26 +2013 800 5500 3,73 +2173 850 * * 950 * * * Des cuissons a 8500C et 9501C ont pour résultat des circuits ouverts EXEMPLE 2 On prépare des dispositifs 10 sensibles à la température comme décrit dans l'exemple 1, sauf que les éléments 10 à résistance reçoivent une couche de nickel d'une épaisseur d'environ 140 nm.Le coefficient de tempé- rature de résistance de la couche de nickel des éléments 12 à résistance avant traitement thermique est de 3305 ppm/OC et sa résistance spécifique est de 2,1 ohms/carré. On soumet les dispositifs 10 sensibles à la température à des essais destinés à déterminer leurs propriétés élec- triques, et les résultats obtenus sont donnés dans le tableau II. TABLEAU II Température du traitement thermique ( C) CTR -100 C (ppm/ C) Résistance spécifique (ohms/carré) 2,75 3,24 1,94 1,94 3,07 8,26 34,99 Variation du CTR due au traitement (ppm/ C) +195 +815 +1295 +1925 + 2245 +2035 +1675 EXEMPLE 3 On prépare des dispositifs 10 sensibles à la tem- pérature comme décrit dans l'exemple 1, sauf que la source de nickel en masse présente un coefficient de température de résistance d'environ 5550 et que les éléments 10 à dis- tance reçoivent une couche de nickel d'une épaisseur d'en- viron 180 nm. Le coefficient de température de résistance de la couche de nickel des éléments 12 à résistance avant traitement thermique est de 3560 ppm/ C et sa résistance spécifique est de 1,8 ohm/carré. On soumet les dispositifs sensibles à la température à des essais destinés à déterminer leurs propriétés électriques, et les résultats obtenus sont donnés dans le tableau III. TABLEAU III Température CTR Résistance Variation du CTR du traitement 25-1000C spécifique due au traitement thermique COC) (ppm/0C) (ohms/carré) (ppm/oC) 600 3450 2,11 -110 650 4310 1,78 +750 700 4750 1,30 +1190 750 5220 1,78 +1660 800 5540 2,75 +1980 850 5220 2,11 +1660 950 5210 21,55 +1650 Les effets des variations de la température de pointe du traitement thermique et de l'épaisseur de la couche de nickel sur les propriétés du dispositif 10 sensible à la température ressortent des données des tableaux 1, II et III. Ces propriétés sont également illustrées graphi- quement sur la figure 2 qui donne le coefficient de tempé- rature de résistance et la résistance spécifique, respec- tivement, en fonction de la température de traitement ther- mique, pour les diverses températures de pointe utilisées pour la production des dispositifs 10 sensibles à la tempé- rature. La courbe A donne le coefficient de température de résistance des dispositifs de l'exemple 1, dont l'épais- 255 seur de la couche de nickel est d'environ 110 nm. De manière correspondante, les courbes B et C sont associées aux dispositifs 10 des exemples 2 et 3 dont les épaisseurs des couches de nickel sont respectivement de 140 et de nm.Les courbes A, B et C montrent les valeurs crois- santes des coefficients de température de résistance, cor- respondant à l'utilisation d'une température de pointe croissante pour le traitement thermique. Par conséquent, le coefficient de température des dispositifs 10 peut être choisi et déterminé d'après la température maximale de chauffage à laquelle l'élément'12 à résistance est soumis. Les valeurs de pointe des coefficients de température, qui approchent ou arrivent au niveau de la valeur de masse de nickel de la source, sont obtenues à environ 800'C, au cours d'un cycle de chauffage d'une heure, et les coefficients de température diminuent pour des tempé- rature de pointe dépassant 800'C, avec la couche de 140 nm et celle de 180 nm. L'épaisseur de la couche n'a qu'un faible effet sur les coefficients de température obtenus. Cependant, la couche la plus mince, de 110 nm de la courbe A ne peut supporter des températures maximales de chauf- fage dépassant 800'C lors du cycle d'une heure, et il en résulte la formation de circuits ouverts dans de tels dis- positifs 10. Les courbes A', B' et C' montrent les résistances spécifiques ou résistances de couche des dispositifs 10 correspondant aux courbes A, B et C ayant des épaisseurs de couche de 110 nM 140 ln' et 18OnM. Les courbes A' et B' sont limitées à ne montrer que la caractéristique d'ac- croissement de la résistance spécifique obtenue pour des températures de pointe supérieures à 8000C. Il ressort des tableaux 1, II et III que pour des températures inférieu- res à 8000C, les résistances spécifiques sont relativement constantes pour des épaisseurs correspondantes et ont des valeurs supérieures à 1 ohm/carré. Cependant, la valeur de la résistance spécifique est une fonction inverse de l'épaisseur, cette valeur augmentant lorsque l'épaisseur de la couche diminue. Pour les exemples illustrés sur la figure 2, l'utilisation d'une température s'élevant à 8000C permet de choisir un coefficient de température de résistance sur une grande plage, en ne produisant qu'un faible effet sur les résistances spécifiques qui sont relativement constantes avec la température. De même, pour des tempé- ratures de pointe de 800'C et plus, une valeur élevée de coefficient de température de résistance peut être obte- nue, ainsi qu'une valeur de résistance spécifique crois- sant rapidement lorsque la température de pointe du traitement thermique augmente. Dans les cas o il est souhaitable de produire des dispositifs 10 ayant des caractéristiques électriques déterminées dans des tolé- rances étroites, la température maximale de cuisson d'en- viron 800'C confère un coefficient de température maximale qui ne varie que légèrement en cas de variations limitées de la température de pointe de travail. L'utilisation de couches d'épaisseurs différentes telles que celles des dispositifs 10 des exemples 1, 2 et 3 montrés par les courbes A', B'.et C', permet également de choisir la résistance spécifique souhaitée. Ainsi, on peut produire des dispositifs 10 dont les deux caractéristiques électri- ques constituées par le coefficient de température de résistance et la résistance spécifique sont comprises dans des tolérances étroites. Lorsque des valeurs de résistance spécifique plus élevées sont importantes, on peut obtenir de telles valeurs en utilisant des couches de nickel ayant des épaisseurs appropriées, et en choisis- sant des températures de pointe de chauffage plus élevées. Etant donné que le graphique de la figure 2 cor- respond au procédé de l'invention portant sur un cycle de chauffage d'une heure et utilisant l'atmosphère parti- culière indiquée dans l'exemple 1, il est possible d'obte- nir d'autres variations des propriétés électriques du dis- positif 10 sensible à la température en utilisant d'autres durées de cycle et d'autres atmosphères réductrices. Le tableau IVrassemble des données choisies, à considérer avec les exemples 1, 2 et 3 pour des disposi- tifs 10 sensibles à la température ayant des épaisseurs de couches de 110 nm, 140 nm et 180 nm. De plus, le tableau 4 convient également des données pour des dispositifs 10 sensibles à la température, réalisés comme décrit dans l'exemple 3, sauf que les éléments à résistance 12 ont une épaisseur de couche d'environ 280 nm.Les données pré- sentées dans le tableau Wvcomprennent également des valeurs calculées pour les variations des coefficients de température et des résistances spécifiques obtenues par le traitement thermique des éléments 12 à résistance. TABLEAU IV Avant traitement thermique Après traitement thermique Résistance Température spécifique (R) de traitement (ohms/carré) thermique ( C) 3,4 2,1 1,8 1,7 CTR *-100 C (ppm/ C) Variation du CTR (%) CTR (%) de la valeur de masse Résistance spécifique (R) (ohms/carré) 6,0 8,3 3,7 2,8 3,1 1,8 2,8 21,6 1,5 1,6 8,9 Rapport des ré sistances spécifiques* (R/Rmasse) masse) 8,9 12,3 ,5 ,5 6, 1 68,8 4,4 6,9 53,2 ,9 6,3 ,0 * R est une résistivité spécifique d nickel de 7,2 microhmscentimtre. dû nickel de 7,2 microhms.cent mètre. en ohms/carré basée sur une valeur de résistivité de masse Epaisseur de couche (nm) CTR -100 C (ppm/o C) I.-. 4as N Co w J" Dans le cas des données montrées sur le tableauIV, les coefficients de température de résistance passent d'un minimum de 6% à un maximum de 65% d'augmentation par rap- port à leurs valeurs avant traitement thermique. Le tableauIV montre également les coefficients de température atteints en pourcentage de la valeur de masse de la source de nickel. A cet égard, il apparait qu'en ce qui concerne cette donnée, des coefficients de température compris dans une plage d'environ 60% jusqu'à 100% de la valeur de masse sont obtenus. La résistance spécifique, en ohms/carré, en ce qui concerne les données indiquées, varie de moins de 2 ohms/carré à plus de 21 ohms/carré. Pour les diverses épaisseurs de la couche de nickel, le rapport des valeurs de résistance spécifique atteintes à la valeur du nickel en masse, pour les mêmes épaisseurs, est donné sur la base d'une résistivité de la source de nickel en masse de 7,2 microhms-centimètre. Ce rapport montre que les résis- tances spécifiques atteintes sont supérieures d'environ 4 à 70 fois à celles de la masse de la source de nickel. EXEMPLE 4 On prépare des dispositifs 10 sensibles à la tem- pérature conformément aux exemples 1, 2 et 3, sauf que les éléments 12 à résistance sont soumis à des températures maximales de chauffage de 750'C et à des cycles respectifs de chauffage de une demi-heure, une heure et deux heures. Les éléments 12 à résistance sont soumis à un traitement thermique sousl'atmosphère réductrice constituée de 95 parties d'azote et 5 parties d'hydrogène, en volume. On soumet les dispositifs 10 sensibles à la température à des essais destinés à déterminer leurs propriétés électri- ques, et les résultats obtenus sont donnés dans le tableau V. TABLEAU V Durée du Epaisseur cycle de chauffage de la couche à 750 C (nm) (heures) 110 0,5 1,0 2,0 0,5 1,0 2,0 0,5 1,0 2,0 CTR à 100 C (ppm/ C) Résistance spécifique (ohms/carré) ,99 8,26 39,53 2,92 1,94 2,43 1,46 1,78 1,46 Variation du CTR due au traitement (ppm/ C) EXEMPLE 5 On prépare des dispositifs sensibles à la tempé- rature analogues à ceux de l'exemple 1, en utilisant des éléments 12 à résistance sur lesquels est déposée sous vide une mince couche de nickel provenant d'une source de nickel en masse à haute pureté. La source de nickel en masse présente un coefficient de température de résistance d'environ 5620 ppm/ C. Le coefficient de température de la couche de nickel d'un premier groupe d'éléments 12 à résistance, avant traitement thermique, est de 3000 ppm/ C et la résistance spécifique des éléments de ce groupe est de 6,1 ohms/carré, et le coefficient de température d'un second groupe d'éléments à résistance est de 3380 ppm/ C et la résistance spécifique des éléments de ce groupe est de 3,4 ohms/carré. Le traitement thermique sous atmosphère réductrice des éléments 12 à résistance est réalisé sous une atmosphère constituée de 95 parties d'azote et 5 par- ties d'hydrogène, en volume, ou sous une atmosphère réduc- trice constituée de 99 parties d'azote et 1 partie d'hydrogène, en volume. Cinq lots du premier groupe d'élé- ments 12 à résistance sont soumis à un traitement thermi- que comme indiqué par les cinq premiers traitements ther- miques donnés dans le tableau VI, tandis que le second grouped'éléments 12 à résistance est soumis à un traitement thermique tel que décrit dans le dernier traitement ther- mique indiqué dans le tableau VI. On soumet les dispositifs sensibles à la température à des essais destinés à déterminer leurs propriétés électriques, et les résultats obtenus sont donnés dans le tableau VI. TABLEAU VI Avant traitement thermique Traitement thermique Après traitement thermique Résistance spécifique (ohms/carré) Temp. max,- Durée du cycle et atmosphère CTR -100 C (ppm/ C) Résistance spécifique (ohms/carré) 350 C - 1 h dans l'air 600 C 1,5 h dans 95N2/5H2 350 C - 1 h dans l'air, puis 600 C - 1,5 h dans 95N2/5H2 550 C - 3 h dans 99N2/12, puis maintien à 550 C pendant 0,25 h, et réfroidissement avec le four jusqu'à 25 C. 700 C - 3 h dans 99N2/1B2, puis maintien à 700 C pendant 0,25 h et refroidissement avec le four jusqu'à 25 C. 350 C - 1 h dans l'air, puis 675 C - 1,5 h dans 95N2/5H, puis 250 C - 1 h à température dans l'air. CTR -100 C (ppm/ C) 6,1 3,4 6,0 7,3 ,2 2,9 Dans le premier traitement thermique du tableau VI, les éléments 12 à résistance sont soumis à une tempé- rature de pointe de 350'C au cours d'un cycle d'une heure, dans l'air. Le coefficient de température de résistance monte jusqu'à 4080, tandis que la résistance spécifique reste sensiblement constante. Contrairement au premier traitement thermique, le deuxième traitement thermique, à une température de pointe de 600'C pendant environ une heure et demie,sous une atmosphère constituée de 95 parties d'azote et 5 parties d'hydrogène, en volume, a pour résultat un coefficient de température de résis- tance et une résistance spécifique accrus. Le troisième traitement thermique, qui combine les premier et deuxième traitements thermiques, a pour résultat un accroissement encore plus grand du coefficient de tempéra- ture et une résistance spécifique beaucoup plus élevée. Dans le quatrième traitement thermique, les éléments 12 à résistance sont chauffés à une température de 550'C pendant trois heures, sous atmosphère très légèrement réductrice, la température de pointe est maintenue pendant un quart d'heure et les éléments sont ensuite refroidis avec le four jusqu'à 250C. Ce traitement a également pour résultat un coefficient de température augmenté, mais avec une résistance spécifique qui est réduite par rapport à celle des éléments à résistance non traités. Le cinquième traitement thermique du tableau VI est analogue au qua- trième traitement thermique, sauf que la température de pointe est portée à 700'C et qu'il en résulte un accrois- sement du coefficient de température ainsi qu'une résis- tance spécifique beaucoup plus élevée. Le sixième traitement thermique du tableauVI est appliqué aux éléments 12 à résistance du second groupe, ayant un coefficient de température, à l'état non traité, de 3380, et il est analogue au troisième traitement ther- mique, sauf que la température de pointe du traitement rédacteur est élevée à 6750C et que ce traitement thermi- que réducteur est suivi d'un traitement thermique de stabilisation. Il en résulte un coefficient de tempéra- ture accru et une résistance spécifique réduite pour les dispositifs sensibles à la température. Ces exemples montrent les effets des variations du traitement thermique et des épaisseurs de la couche de nickel sur les caractéristiques électriques du dispositif sensible à la température selon l'invention. Les exemples 1, 2 et 3 montrent les effets résultant d'une variation de la température de pointe du traitement thermique sur des dispositifs ayant des couches de différentes épais- seurs. L'exemple 4 montre l'effet d'une variation de la durée du cycle de traitement thermique à température de pointe constante. L'exemple 5 montre les effets d'étapes de traitement thermique simples et multiples, sous diffé- rentes atmosphères de chauffage, à différentes températu- res et avec différentes durées de cycle, sur les disposi- tifs. sensibles à la température. La figure 2 et les autres données montrent également les effets obtenus avec le pro- cédé de l'invention et les résultats produits. En résumé, le traitement thermique selon l'in- vention permet de choisir un coefficient de température de résistance souhaité pour un dispositif sensible à la température à mince couche de nickel, en utilisant une atmosphère réductrice et en réglant la température de pointe du traitement thermique et la durée du cycle du traitement thermique. Les coefficients de température que l'on peut obtenir s'étendent sur une grande plage comprise entre 60% et 100% de la valeur de la source de nickel en masse, sans limitation importante due à l'épais- seur de la couche de nickel. On obtient un coefficient de température maximale à une température maximale et criti- que du traitement thermique d'environ 8000C dans les con- ditions indiquées. La résistance spécifique du dispositif peut être réglée à une valeur inférieure, égale ou supé- rieure à la valeur de la résistance spécifique de l'élé- ment à résistance à couche de nickel n'ayant pas subi de traitement thermique. Les propriétés souhaitables d'un coefficient de température élevé peuvent être obte- nues, de même que des résistances spécifiques élevées, avec des épaisseurs de couche inférieures à 500 nm. Le procédé selon l'invention permet de régler à la fois le coefficient de température de résistance et la résis- tance spécifique sur de larges plages, par un choix approprié des conditions de traitement thermique et des épaisseurs de la couche de nickel. Il va de soi que de nombreuses modifications peuvent être apportées au procédé décrit et représenté sans sortir du cadre de l'invention. REVENDICATIONS 1. Procédé de fabrication d'un dispositif (10) sensible à la température à mince couche de nickel, ayant un coefficient positif de température de résistance rela- tivement élevé et utilisant une couche de nickel déposée à partir d'une source de nickel en masse sur un substrat électriquement isolant, le procédé étant caractérisé en ce qu'il consiste à soumettre à un traitement thermique un élément (12) à résistance comportant une mince couche (14) de nickel déposée sur un substrat électriquement isolant (13), ce traitement thermique consistant en un chauffage, sous atmosphère réductrice, à une température de pointe d'au moins 550'C, pendant un cycle de chauffage d'au moins environ 20 minutes, afin que la couche de nickel de l'élément à résistance traité thermiquement ait un coefficient choisi de température de résistance au moins égal à 60% de la valeur du coefficient du nickel en masse, et une résistance spécifique d'au moins un ohm par carré, lesquelles propriétés sont déterminées par la température et la durée du cycle du traitement thermique, ainsi que par l'épaisseur de la couché de nickel. 2. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que l'atmosphère du traitement thermique est légère- ment réductrice. 3. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que l'atmosphère du traitement thermique est un mélange d'azote et d'hydrogène. 4. Procédé selon la revendication 3, caractérisé en ce que le pourcentage en volume de l'hydrogène de l'atmosphère du traitement thermique est inférieur à celui de l'azote. 5. Procédé selon la revendication 4, caractérisé en ce que le pourcentage en volume de l'hydrogène de l'atmosphère du traitement thermique n'est pas supérieur à 15%, ce pourcentage n'étant pas de préférence supérieur à 5% et, d'une manière encore plus préférable, n'étant pas supérieur à 1%. 6. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que l'élément à résistance est soumis à un traitement thermique pendant un cycle de chauffage compris entre environ une demi-heure et environ quatre heures. 7. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que l'élément à résistance est soumis à un traitement thermique à une température de pointe comprise entre envi- ron 6000C et 9500C, l'élément à résistance pouvant notam- ment être soumis à un traitement thermique à une tempéra- ture de pointe comprise entre environ 750 et 8500C et le cycle de chauffage pouvant être notamment compris entre une demi-heure et deux heures. 8. Procédé selon la revendication 7, caractérisé en ce que l'élément à résistance est soumis à un traitement thermique à une température de pointe d'environ 8000C. 9. Procédé selon la revendication 3, caractérisé en ce que l'élément à résistance est soumis à un traitement thermique à une température de pointe d'au moins environ 600'C pendant environ une heure et demie, sous une atmos- phère contenant de l'azote à raison d'environ 95% en volume. 10. Procédé selon la revendication 3, caractérisé en ce que l'élément à résistance est soumis à un traitement thermique par chauffage dans un four à une température de pointe comprise entre 550 et 700'C, pendant une durée d'environ 3 heures, sous une atmosphère contenant de l'azote à raison d'environ 99% en volume et de l'hydrogène à raison d'environ 1% en volume, l'élément à résistance étant maintenu à la température de pointe pendant environ un quart d'heure, puis pouvant refroidir avec le four jusqu'à une température d'environ 250C. 11. Procédé selon l'une quelconque des revendica- tions 1, 5, 7 et 9, caractérisé en ce qu'il comprend une étape de traitement thermique auxiliaire précédant l'étape de traitement thermique réducteur et consistant à chauffer l'élément à résistance dans l'air, à une température d'en- viron 3500C, pendant une durée de cycle d'environ une heure. 12. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1, 5, 7 et 9, caractérisé en ce qu'il comprend une étape de traitement thermique auxiliaire précédant l'étape de traitement thermique réducteur et consistant à chauffer l'élément à résistance dans l'air, à une température d'environ 350'C, pendant une durée de cycle d'environ une heure, et une étape de traitement thermique de stabi- lisation suivant l'étape de traitement thermique réduc- teur et consistant à chauffer l'élément à résistance dans l'air, à une température d'environ 2500C, pendant une période d'environ une heure. 13. Procédé selon l'une quelconque des revendica- tions 1, 5, 7 et 9, caractérisé en ce que le coefficient de température relativement élevé du dispositif est égal à au moins 80%, et avantageusement au moins 90%, et, d'une manière encore plus avantageuse, à au moins 95% de la valeur du nickel en masse. 14. Procédé selon l'une quelconque des revendica- tions 1, 5, 7 et 9, caractérisé en ce qu'il consiste à préparer l'élément à résistance par dépôt sous vide de la couche de nickel à l'épaisseur souhaitée sur le subs- trat isolant, et à fixer des éléments de connexion (16,18) aux extrémités de l'élément à résistance et à appliquer un revêtement extérieur de protection (20) sur la couche de nickel, après le traitement thermique de l'élément. 15. Dispositif sensible à la température, à cou- che mince, ayant un coefficient positif relativement élevé de température de résistance et utilisant une couche de nickel déposée à partir d'une source de nickel en masse sur un substrat électriquement isolant, le dispositif étant caractérisé en ce qu'il est réalisé par traitement thermi- que d'un élément (12) à résistance comportant une couche (14) de nickel déposée sur un substrat électriquement isolant (13), le traitement thermique consistant en un chauffage sous atmosphère réductrice, à une température de pointe d'au moins 5500C, pendant un cycle de chauffage d'au moins environ 20 minutes, afin que la couche de nickel de l'élément à résistance traité thermiquement ait un coefficient de température choisi de résistance qui soit au moins égal à 60% de la valeur du coefficient du nickel en masse, et une résistance spécifique d'au moins un ohm par carré, cette résistance dépendant de la température et de la durée du cycle du traitement thermique, ainsi que de l'épaisseur de la couche de nickel. 16. Dispositif selon la revendication 15, carac- térisé en ce que l'atmosphère du traitement thermique est légèrement réductrice. 17. Dispositif selon la revendication 15, carac- térisé en ce que l'atmosphère du traitement thermique est un mélange d'azote et d'hydrogène. 18. Dispositif selon la revendication 17, carac- térisé en ce que le pourcentage en volume de l'hydrogène de l'atmosphère de traitement thermique est inférieur à celui de l'azote. 19. Dispositif selon la revendication 18, carac- térisé en ce que le pourcentage en volume de l'hydrogène de l'atmosphère du traitement thermique n'est pas supé- rieur a 15%, ce pourcentage pouvant notamment ne pas être supérieur à 5%, et plus particulièrement pouvant ne pas être supérieur à 1%. 20. Dispositif selon la revendication 15, carac- térisé en ce que l'élément à résistance est soumis à un traitement thermique sur un cycle compris entre environ une demi-heure et environ quatre heures. 21. Dispositif selon la revendication 15, carac- térisé en ce que l'élément à résistance est soumis à un traitement thermique à une température de pointe comprise entre environ 600 et 950'C. 22. Dispositif selon la revendication 21, carac- térisé en ce que l'élément à résistance est soumis à un traitement thermique à une température de pointe comprise entre environ 750 et 850'C, le cycle du traitement thermi- que étant compris entre environ une demi-heure et deux heures. 23. Dispositif selon la revendication 21, carac- térisé en ce que l'élément à résistance est soumis à un traitement thermique à une température de pointe d'environ 8000C. 24. Dispositif selon la revendication 17, carac- térisé en ce que l'élément à résistance est soumis à un traitement thermique à une température de pointe d'au moins environ 6000C, pendant environ une heure et demie sous une atmosphère contenant de l'azote à raison d'environ 95% en volume. 25. Dispositif selon la revendication 17, carac- térisé en ce que l'élément à résistance est soumis à un traitement thermique par chauffage dans un four à une tem- pérature de pointe comprise entre environ 550 et 700C, pendant une période d'environ trois heures, sous une atmosphère contenant de l'azote à raison d'environ 99% en volume et de l'hydrogène à raison d'environ 1% en volume, l'élément à résistance étant maintenu à la tempé- rature de pointe pendant environ un quart d'heure, puis pouvant refroidir avec le four jusqu'à une température d'environ 250C. 26. Dispositif selon l'une des revendications , 19, 21, 23 et 24, caractérisé en ce qu'il est soumis à une étape de traitement thermique auxiliaire précédant l'étape de traitement thermique réducteur et consistant à chauffer l'élément à résistance dans l'air, à une tempé- rature d'environ 3500C, pendant une durée de cycle d'envi- ron une heure. - 27. Dispositif selon l'une quelconque des reven- dications 15, 19, 21 et 22, caractérisé en ce qu'il est soumis à une étape de traitement thermique auxiliaire précédant l'étape de traitement thermique réducteur et consistant à chauffer l'élément à résistance dans l'air, à une température d'environ 350'C, pendant une durée de cycle d'environ une heure, et à une étapede traitement thermique de stabilisation suivant l'étape de traitement thermique réducteur et consistant à chauffer l'élément à résistance dans l'air, à une température d'environ 250'C, pendant une période d'environ une heure. 28. Dispositif selon l'une quelconque des reven- dications 15, 19, 21 et 22, caractérisé en ce que le coef- ficient de température de résistance, relativement élevé, du dispositif est égal à au moins 80%, et notamment à au moins 90%, et plus particulièrement à au moins 95% de la valeur du nickel en masse. 29. Dispositif selon l'une quelconque des reven- dications 15, 19, 21 et 22, caractérisé en ce qu'il est soumis à des opérations qui consistent à préparer l'élé- ment à résistance par dépôt sous vide de la couche de métal sur le substrat isolant, à l'épaisseur souhaitée, et à fixer des organes de connexion (16, 18) sur les extrémités de l'élément à résistance et à appliquer un revêtement extérieur de protection (20) sur la couche de nickel après le traitement thermique de l'élément.