Brevet FR2481553A1 — publié le 19811030

La présente invention concerne un dispositif photosensible lu par transfert de charges. Elle concerne également une caméra de télévision comportant un tel dispositif. On connaît dans l'art antérieur, notamment par l'ouvrage de C.H. SEQUIN et M.F. TOMPSETT intitulé " Charge transfer de- vices", pages 152 à 169, essentiellement deux types de dispositifs photosensibles utilisant le transfert de charges. Ce sont.: - d'une part, les dispositifs photosensibles à transfert de charges dans lesquels le rayonnement lumineux est envoyé sur des registres à transfert de charges. On connaît diverses organisations possibles des registres soumis au rayonnement et des registres à transfert de charges qui servent au stockage des charges avant leur lecture; les organisations les plus courantes sont du type "à transfert de trame" ou "à structure interligne". Ces dispositifs présentent l'inconvénient de néces- siter de grandes surfaces de dispositifs à transfert de charges alors qu'il est actuellement difficile d'obtenir des rendements élevés pour la fabrication de ces grandes surfaces; - d'autre part, les dispositifs photosensibles du type C.I.D. (Charge Injection Devices) qui ne présentent pas cet incon- vénient. Ces dispositifs comportent une matrice de points photosensibles constitués de deux capacité MOS couplées par une grille. L'une des capacités est soumise au rayonnement lumineux. Les charges induites sous cette capacité sont pério- diquement transférées dans la capacité voisine et la lecture des charges est effectuée par un transistor MOS. Deux regis- tres à décalages numériques permettent l'adressage de chaque point en vue de sa lecture: -les capacités d'une même ligne qui sont soumises au rayonnement sont reliées en parallèle et adressées par l'un des registre tandis que les capacités d'une même colonne qui servent à la lecture sont reliées en parallèle et adressées par l'autre registre. Les dispositifs C.I.D. pré- sentent l'inconvénient de nécessiter une ré-injection des char- 248 1553 ges dans le substrat semi-conducteur o les capacités sont intégrées, pendant ou après la lecture des charges. Cette ré- injection nécessite pour être efficace l'emploi de substrats épitaxiés ou de diffusions collectrices. Elle est par ailleurs difficile à contrôler et peut être l'occasion d'une rémanence, dans le cas o elle est incomplète. De plus, dans les dispositifs du type C.I.D., la lecture des charges se fait sur une forte capacité ce qui réduit le rapport - signal/bruit et cette capacité dépend du nombre de lignes. On connaît par ailleurs par l'article paru dans la revue "I.E.E.E. Journal of solid-state circuits", volume SC 14, numéro 3, juin 1979, pages 604 à 608, un dispositif photosensible qui comporte une matrice du type C.I.D. lue par transfert de charges (voir en particulier les figures 7 et 8 de cet article et leur commentaire). Dans ce dispositif, l'adressage des capacités de lecture est effectuée par un registre à décalages C.C.D. (Charge Coupled Devices). La lecture de chaque ligne de la matrice se fait en deux étapes: - dans une première étape, on fixe le potentiel de toutes les capacités de lecture. Il y a transfert de charges transversalement dans le registre C. C.D. et évacuation de ces charges par des transistors MOS TG2; - dans une deuxième. étape, le transfert de charges sous les capacités de lecture provoque l'injection dans le registre C.C.D. de charges-signal qui sont lues en série par transfert longitudinal. Le transfert des charges est du type "Bucket Brigade", c'est-à- dire qu'il se fait par l'intermédiaire de l'analogue d'un transistor MOS polarisé en saturation. Un inconvénient de ce dispositif est que pour être efficace,ce type de transfert demande un temps relativement long. Or pour que ce dispositif soit exploitable par une caméra de télévision, la première étape et la deuxième jusqu'à l'injection des charges-signal dans le registre C.C.D. doivent avoir lieu pendant le temps de retour ligne, qui n'est que de 12 ps dans le standard 625 lignes. Pendant le 248 1553 temps de lecture ligne, les charges injectées dans le registre C.C.D. sont lues en série et il y a ré-injection des charges dans le substrat semi-conducteur. Par contre un avantage de ce dispositif par rapport aux dispositifs C.I.D. classiques est que la lecture des charges ne se fait plus sur une forte capacité et ne dépend plus du nombre de lignes. La présente invention concerne un dispositif photosensible lu par transfert de charges qui présente de grands avantages par rapport aux dispositifs connus. Le dispositif selon la présente invention comporte: - n lignes de m points photosensibles, chaque point photo- sensible étant constitué par l'intégration sur un substrat sémi- conducteur d'une capacité MOS C0, comportant une grille G0 commune aux points d'une même ligne, et d'une diode de lecture DI, séparée de la grille G0 par une grille écran G1 portée à un potentiel constant (V1), m connexions métalliques (CI...Cm) reliant en paral- lèle n diodes appartenant à des lignes différentes; - m diodes D2, intégrées sur le même substrat semi-con- ducteur, auxquelles aboutissent les m connexions métalliques, ces diodes étant suivie par une grille G2 portée à un potentiel constant (v2); - des moyens d'évacuation sur une diode (D5) des charges accumulées sur les diodes D1 et D2 pendant chaque intervalle de temps o aucune des grilles Go ne se trouve à zéro; - au moins un registre à décalage (R1) qui permet la mise à zéro périodique de chaque grille G0 et l'évacuation des charges- signal sur les diodes D1 puis sur les diodes D2; - des moyens assurant le transfert des charges-signal arrivant sous les diodes D2 dans un registre de lecture à transfert de charges (R2) à m entrées parallèle et à sortie série. Selon un mode de réalisation préféré, le dispositif selon l'invention comporte une mémoire intégrée sur le substrat semi- conducteur à la suite des diodes D2 et sous laquelle les charges- signal sont recueillies avant d'être transférées dans le registre de 248 1553 lecture (R2). Parmi les principaux avantages du dispositif selon l'invention, on peut citer: - le fait qu'en même temps que la lecture des charges-signal on réalise leur évacuation de la zone photosensible du dispo- sitif par transfert de ces charges des diodes de lecture D1 vers les diodes D à travers les connexions métalliques C ilCn* Il n'est donc plus nécessaire comme dans le cas des dispositifs C.I.D. classiques ou dans le cas du dispositif C.I.D. de l'article I.E.E.E. cité d'effectuer une ré-injection des charges dans le substrat. - de même, le fait que les diodes de lecture D1 remplissent également une fonction communément appelée "anti-blo- oming" (anti-éblouissement). En effet lorqu'un point photo- sensible se trouve trop intensément éclairé, la capacité C% de stockage des charges pour ce point déborde dans la diode D1 adjacente. Entre deux lectures d'une ligne (étape T2), on évacue (étape T1) les charges qui ont débordé dans les diodes J D1. De plus, n diodes D1 sont connectées en parallèle par chaque connexion C., les charges dues à un éclairement trop intense peuvent donc se répartir sur ces n diodes avant de déborder dans le substrat; Les diodes D1 qui assurent à la fois l'évacuation des charges de la partie photosensible et la fonction anti-blooming permettent d'éviter l'utilisation de dif- fusions collectrices horizontales et d'électrodes verticales destinées à isoler les cellules les unes des autres comme cela est généralement le cas dans les dispositifs C.I.D. (voir les * "guard stripes" et "field shield electrodes" sur les figures 2, 3 et 4 du document I.E.E.E. cité ainsi que le commentaire de ces figures); - le fait que le dispositif selon l'invention comporte géné- ralement une mémoire o les charges correspondant à la lecture d'une ligne de points photosensibles sont stockées temporairement avant d'être transférées dans le registre de 248 1553 lecture à transfert de charges. Dans le dispositif selon l'inven- tion, comme dans celui décrit par l'article d'LE.E.E., le transfert des charges de chaque ligne vers le registre de lecture est du type "Bucket Brigade". L'adjonction d'une mé- moire permet de disposer d'un temps égal à celui d'une lecture ligne (soit 52 ps pour le standard TV 625 lignes) pour effectuer l'évacuation des charges parasites sur les diodes D1 et D2 et le transfert d'une ligne en mémoire alors que dans le dispositif déçrit par l'article d'l.E.E.E., ces temps était réduit à celui du retour ligne (12 ips). D'autres objets, caractéristiques et résultats de l'invention ressortiront de la description suivante donnée à titre d'exemple non limitatif et illustrée par les figures annexées qui représentent: - la figure 1, une représentation schématique vue de dessus d'un mode de réalisation du dispositif selon l'invention; - la figure 2a, une vue en coupe longitudinale du dispositif représenté sur la figure 1 et les figures 2b à 2g des schémas illustrant le fonctionnement de ce dispositif; - la figure 3, une représentation schématique vue de dessus d'un autre mode de réalisation de la zone photosensible du dispositif selon l'invention; - la figure 4, des signaux de commande susceptibles d'être appliqués au dispositif selon l'invention; - la figure 5, une représentation schématique vue de dessus d'un mode de réalisation d'un dispositif d'injection d'une quantité de charges supplémentaire Q0 dans le dispositif photosensible selon l'invention; - la figure 6a, une vue en coupe du dispositif représenté sur la figure 5,et les figures 6b à 6e, des schémas illustrant le fonction- ne ment de ce dispositif; - la figure 7, une représentation schématique vue de dessus d'un autre mode de réalisation de la mémoire, du dispositif d'éva- cuation des charges parasites et du registre de lecture du dispositif photosensible selon l'invention; 248 1 553 - les figures 8a et 9a, deux vues en coupe transversale du mode de réalisation représenté sur la figure 7 et les figures 8b, 8c et 9b, 9c, des schémas illustrant le fonctionnement de ce mode de réa- lisation; - les figures 10a à l0d, des signaux de commande susceptibles d'être appliqués au dispositif selon l'invention. Sur les différentes figures, les mêmes repères désignent les mêmes éléments, mais, pour des raisons de clarté les cotes et proportions des divers éléments ne sont pas respectées. Sur la figure 1, on a représenté schématiquement vu de dessus un mode de réalisation du dispositif selon l'invention. Sur la figure 2a, on a représenté vu en coupe longitudinale le dispositif représenté sur la figure 1. Le dispositif photosensible selon l'invention comporte essen- tiellement trois parties: - une zone photosensible 1; - une mémoire et un dispositif d'évacuation des charges parasites, cette partie étant repérée par 2; - un registre de lecture 3. On va décrire successivement chacune de ces parties et expliquer comment elles sont reliées entre elles. La zone photosensible 1 comporte une matrice de points photosensibles. Sur la figure 1, cette matrice comprend quatre lignes et quatre colonnes, et donc 16 points photosensibles. Chaque point photosensible est constitué par l'intégration sur un substrat semi-conducteur 4, qui est généralement du silicium: - d'une capacité MOS C0 constituée par une grille G0, hori- zontale et commune aux points d'une même ligne. Sur chaque grille Go, des diffusions d'isolement verticales dl déterminent la capacité C0 de chaque point photosensible; - d'une diode collectrice D1o qui est sensible aux faibles longueurs d'onde auxquelles les grilles G0 sont opaques. Les diodes D1o sont diffusées localement à proximité des grilles Go. Les diodes D1 sont disposées en matrice. Sur la figure 1, chaque ligne de 248 1553 diodes D est disposée en bordure de l'un des grand cotés d'une des grilles Go qui sont rectangulaires; - d'une grille écran G, qui est portée à un potentiel constant V1. Sur la figure 1, la grille G1 est horizontale et commune à tous les points photosensibles d'une même ligne. Comme la grille G0, la grille G est rectangulaire et borde l'autre grand c8té de Go qui n'est pas occupé par les diodes D - d'une diode de lecture D1. Les diodes de lecture Di sont disposées en matrice et quatre connexions métalliques verticales, C1 à C4, qui sont généralement en alluminium,relient en parallèle les quatre diodes de lecture D d'une même colonne. Les diodes collectrices D doivent être fortement couplées aux grilles G0 par des capacités de bord CB importantes par rapport aux capacités,CD.,, des diodes DIO envers le substrat semi-conduc- teur 4. On doit avoir: CB > C01. Pour cela, on augmente au maximum le périmètre commun entre chaque diode D10 et la grille Go voisine. Ainsi le potentiel des diodes D0o suit exatement le potentiel de surface sous la grille G0 voisine. On peut remarquer que les diodes D10 pourraient aussi être placées entre les grilles G0 et G1. Les grilles G0 recoivent deux sortes de polarisation: - d'une part, toutes les grilles G0 de la zone photosensible sont soumises à un potentiel constant V9 qui permet l'intégration des charges en chaque point photosensible en fonction de l'éclairement reçu par ce point. Chaque grille G0 est reliée à l'une des électrodes d'un transistor MOS T1 à T 4 dont l'autre électrode est reliée à la tension continue V9 et dont la grille reçoit un potentiel V8 qui permet de rétablir le potentiel V9 sur toute les grilles Go0 Le potentiel V8 peut être une tension continue ou variable en fonction du temps.Dans le cas o V8 est une tension continue, le rétablis- sement du potentiel V9 sur la grille Go qui était précédemment à zéro se fait avec une constante de temps relativement longue et la la valeur de la capacité de stockage des charges C0 augmente avec le temps. On réduit ainsi la quantité de charges collectées par géné- ration thermique. Dans le cas o le potentiel V8 est un signal variable en fonction du temps, c'est généralement le passage de. V8 au niveau haut qui provoque la mise en conduction des transistors T1 à T4 et le rétablissement instantané du potentiel V9 sur toutes les grilles Go, d'autre part, chaque grille G0 reçoit périodiquement un potentiel nul qui provoque le transfert des charges signal stockées sous cette grille sous les diodes D1, alors que les autres grilles Go sont maintenues au potentiel V9 et que l'intégration des charges se poursuit sous ces grilles. Pour amener périodiquement à zéro l'une des grilles Go, chaque grille G0 est reliée à l'une des électrodes d'un transistor MOS T01 à T04 dont l'autre électrode est reliée à la masse et dont la grille reçoit des signaux de commande L1 à L4 issus de quatre étages successifs d'un registre à décalage R1. Le passage d'un signal de commande Li au niveau haut provoque la mise à zéro d'une des grilles G0. On va maintenant examiner la mémoire et le dispositif d'éva- cuation des charges parasites 2 qui sont généralement intégrés sur le même substrat semi-conducteur 4 que celui sur lequel est intégrée l! zone photosensible 1. La liaison entre les parties 1 et 2 du dispositif photosensible selon l'invention est assurée par quatre diodes D2 qui sont intégrées sur le substrat semi-conducteur 4 et auxquelles aboutissent les connexions métalliques C1 à C4. Les diodes D2 sont suivies par une grille G2, horizontale et commune a toutes les diodes qui est portée à un potentiel constant V2. La grille G2 fixe à V2 - VT le potentiel sur les diodes D2 et sur les diodes de lecture Di connectées aux diodes D2, VT représentant la tension de. seuil sous la grille G2. La grille G2 qui est reliée au potentiel constant V2, comme les grilles G1 reliées au potentiel constant V1 permettent d'éviter l'envoi de parasites sur les connexions C1 à C4, ce qui aurait pour effet d'introduire dans la mémoire des charges parasites superposées aux charges-signal. Dans les dispositifs à transfert de charges, il est particulièrement important de se protéger contre les charges para- 248 1553 sites dont l'amplitude peut varier d'un point à l'autre du circuit selon les variations géométrique des éléments et qui limitent la dyna- mique du signal. De plus, les grilles G1 isolent la zone photosensible l des parasites provenant des connexions Ci et de la partie 2 du dispositif et,de même, la grille G2 isole la partie 2 des parasites provenant des connexions C et de la partie 1. La grille G2 est suivie par une grille G3, qui comme G2 est horizontale et unique. La grille G3 est commandée par un signal V3 périodique. Le passage de V3 d'un niveau haut à un niveau bas permet d'éviter le retour en arrière des charges transférées des diodes Di et D2 vers la mémoire. La mémoire est constituée par quatre diodes D4 qui sont alignées et qui sont suivies par une grille unique horizontale G4 qui est portée à un potentiel variable V4. Dans cette mémoire sont successivement stockés deux types de charges: - d'une part, les charges parasites accumulées sous les diodes Di et D2 pendant chaque intervalle de temps o aucune des grilles G0 ne se trouve à zéro; - d'autre part, les charges-signal provenant de la mise à zéro d'une grille G0. La mémoire est suivie par un dispositif d'évacuation des charges parasites qui est constituée d'une grille G5 unique et horizontale suivie d'une diode unique D5, la grille G5 et la diode D5 étant connectées à un potentiel variable V5. Sur le substrat semi-conducteur 4, des diffusions d'isolement d délimitent de façon connue la zone du substrat qui est réservée au traitement des charges issues de chaque colonne de points photosensibles et isolent les diodes D2 des diodes DI' On va maintenant décrire la troisième partie du dispositif photosensible selon l'invention, c'est-à-dire le registre de lecture 3. Le registre de lecture 3 est généralement intégré sur le même substrat semi-conducteur 4 que la mémoire et le dispositif d'éva- cuation des charges parasites 2, mais il s'en trouve isolé par une 24 8 155 3 zone de diffusion d'isolement d3 en créneaux. A l'intérieur des créneaux, on trouve quatre diodes D6 qui sont alignées et qui sont reliée par des connexions métalliques C'I à C'4 aux quatre diodes D4 de la mémoire. Ainsi s'effectue le transfert des charges-signal de la mémoire vers le registre de lecture. Les diodes D6 sont suivies par une grille G6, qui est horizontale et unique et qui est reliée au même potentiel variable V4 que la grille G4 de la mémoire. La grille G6 est suivie par une grille G7, qui est également horizontale et unique et qui est reliée à un potentiel variable V7 et qui permet lors de son passage au niveau haut le transfert de charges-signal vers le registre de lecture proprement dit R2. Sur la figure 1, le registre de lecture R2 est un registre à C.C.D. à deux phases 01 et 02. Ce registre comporte une succession d'électrodes de stockage et d'électrodes de transfert de charges qui sont disposées sur une surépaisseur d'isolant par rapport aux élec- trodes de stockage. Une électrode de stockage sur deux aboutit à l'extrémité inférieure de la zone de diffusion d'isolement en créneau d3 et ne reçoit donc pas de charges. Le transfert des charges dans le registre R2 s'effectue horizontalement comme cela est indiqué par une flèche sur la figure 1. La lecture des charges-signal d'une ligne d'élément photosensible s'effectue donc en série. Une diffusion d'isolement d4 détermine la limite inférieure du canal de transfert des charges dans le registre RT2. C'est à cause de la présence du dispositif d'évacuation des charges parasites que la liaison entre la mémoire et le registre de lecture 3 doit se faire par des connexions extérieures au substrat C'1 à C'4. De même que dans le cas des diodes Dl. et de la grille Go, il est nécessaire qu'un bon couplage existe entre les diodes D4 et la grille G4 ainsi qu'entre les diodes D6 et la grille G6. On peut alors recouvrir par une couche isolante, puis par une couche d'aluminium chaque diode et une partie de la grille voisine. On prend alors un contact électrique à travers l'isolant au niveau de chaque grille. 248 1553 La description précédente s'est placée dans le cas d'une matrice comportant quatre lignes et quatre colonnes photosensibles, il est bien évident que cette description s'applique au cas o la matrice comporte n lignes de m points photosensibles, o n et mr sont des nombres entiers positifs. On va maintenant expliquer le fonctionnement du dispositif selon l'invention représenté sur les figures l et 2a en décrivant les figures 2b à 2g. Les figures 2b à 2g représentent l'évolution du potentiel de surface OS dans le substrat semi-conducteur 4 à divers instants t1 à t6. Les zones hachurées indiquent la présence de porteurs minoritaires.Sur les figures 2b à 2g, on n'a représenté que l'interface 5 et 7 du substrat 4 et de la couche isolante qui les recouvre. Les instants t1 a t6 sont repérés sur les figures 4a à 4f qui représentent les signaux de commande susceptibles d'être appliqués -au dispositif selon l'invention. Ces signaux de commande sont des signaux périodiques dont l'amplitude varie entre un niveau bas et un niveau haut. Sur les figures 4a et 4b, on a représenté les signaux V4 et V3 de même période T Le signal V3 revient au niveau bas un instant? très bref avant V4. Sur les figures 4c et 4d, on a représenté les signaux V5 et V7 de même période T. Les signaux V5 et V7 sont en opposition de phase avec V3. Sur les figures 4e et 4f, on a représenté les signaux Li et Li + 1. Ces signaux ont la même période nT. Ils passent au niveau haut un instant Y; très court après le passage de V3 niveau. haut et reviennent au niveau bas en même temps que V3. Le fonctionnement du dispositif selon l'invention comporte la répétition de deux étapes distinctes de durées T1 et T2 que nous désignerons par la suite par "étape T"I et "étape T2Y1, la somme de T1 et T2 étant égale à T. Au cours de l'étape T1, toutes les grilles Go sont portées au potentiel V9. On évacue alors les charges parasites qui se trouvent sur toutes les diodes D et D du dispositif vers la mémoire et 248 1553 ensuite vers le dispositif d'évacuation des charges parasites. Pendant l'étape T2, une seule des grilles G0 de la zone photosensible se trouve au potentiel 0, alors que les autres grilles G0 se trouvent au potentiel V9. Les charges-signal stockées sous la - grille au potentiel 0 sont transférées sur les diodes Di et D2, puis sous la mémoire avant d'être transférées dans le registre de lecture R2 o elles seront lues pendant l'étape T1 suivante. On va maintenant étudier en détail chacune des étapes T1 et T2. Etape T1: - au temps t1, seuls les signaux V3 et V4 sont au niveau haut. Toutes les grilles Go sont au potentiel V9 et l'intégration des charges se poursuit dans chaque capacité C. et sur chaque diode D10. Les charges parasites captées par les diodes Di et D2 de tout le dispositif sont évacuées dans la mémoire comme le permet la grille G3 qui est au niveau haut. Ces charges parasites proviennent essentiellement d'un débordement des capacités C0 dû à un éclai- rement trop intense: c'est la fonction anti-blooming des diodes D1. Les charges parasites peuvent être également des charges collectées latéralement par les diodes D1 et D2; - au temps t2 -, le signal V3 revient à zéro et la grille G3 isole alors la mémoire de la zone photosensible. Au temps t2 également, le signal V5 passe au niveau haut, la grille G5 et la diode D5 sont prêtes à recevoir les charges parasites; - au temps t2, le signal V4 revient à zéro et les charges parasites qui s'étaient réparties de façon égale sous les diodes D4y les grilles G4, les diodes D6 et les grilles G6 sont évacuées sous la diode d'évacuation D5 au temps t3, -nouveau, comme au temps t1, seuls les signaux V3 et V4 sont au niveau haut, c'est la fin de l'étape T1. Etape T2: - au temps t4, les signaux V3, V4 et Li sont au niveau haut. La grille G0 de la zone photosensible qui est connectée au transistor MOS To. commandé par le signal Li. est alors reliée à zéro.1l y a 248 1553 alors transfert des charges-signal stockées par tous les points photosensibles se trouvant sous cette grille Go sur les diodes D 1 et D2 puis dans la mémoire. Comme dans le cas de l'évacuation des charges parasites, le transfert des charges en mémoire se fait à un potentiel constant V2 - VT grâce à la grille G2. On a vu précé- demment que le transfert des charges en mémoire que ce soient les charges parasites ou les charges-signal est du type Bucket-Brigade c'est-à-dire qu'il se fait par l'intermédiaire de l'analogue d'un transistor MOS polarisé en saturation dont la source serait cons- tituée par les diodes D1 et D2,dont la grille serait constituée par la grille G2 portée au potentiel constant V2 et dont le drain serait constitué par la diode D4 portée par la grille G4 à un potentiel V4 supérieur à V3. On a vu que pour être efficace ce type de transfert demande un temps relativement long. Dans le dispositif selon l'invention, l'existence de la mémoire permet de disposer d'un temps égal à celui d'une lecture ligne pour effectuer l'évacuation des charges parasites sur toutes les diodes Dl et D2 et le transfert d'une ligne Li en mémoire; en effet, pendant ce temps-là, le registre R2 assure la lecture d'une ligne précédente Li 1 de la matrice; - au temps t5 - Y,le transfert des chargessignal en mémoire étant terminé les signaux V3 et Li passent au niveau bas alors que le signal V7 passe au niveau haut. La grille G3 isole à nouveau les connexions Ci de la mémoire. La grille G7 est portée au niveau haut et ouvre le passage vers le registre de lecture R22; - au temps.t5, le signal V4 passe au niveau bas et il y a alors transfert des charges-signal qui s'étaient réparties sous les diodes D4, D6 et les grilles G4 et G6 dans le registre de lecture R2. Le transfert des charges-signal dans le registre de lecture doit s'ef- fectuer pendant le temps de retour ligne, par contre toutes les étapes précédentes de t1 à t5 -bise produisent pendant le temps de lecture ligne. Après le temps t5, le signal V0 rétablit le potentiel Vs sur la grille Go dont le contenu vient d'être transféré dans le registre de lecture; dans le cas ou le signal V9 est un signal périodique, il peut être identique au signal V7; 248 1553 - au temps t6, les signaux de commande reprennent leur valeur du temps tl. Une nouvelle étape Tl commence tandis que la ligne Li est lue par le registre R2, cette lecture se prolonge pendant l'étape T2 o le contenu de la ligne suivante L. est transféré en mémoire et se termine au - prochain temps t5 -Z. Le dispositif photosensible selon l'invention peut recevoir le rayonnement lumineux à détecter soit par sa face avant o se trouvent les grilles Go et G1, soit par sa face arrière. Dans le cas o le rayonnement lumineux est envoyé sur la face avant du dispositif, les grilles G0 doivent être photosensibles; elles sont alors cons- tituées de silicium polycristallin ou de métal semi-transparent. Les diodes de lecture D1 sont alors entièrement recouvertes d'une couche isolante, puis d'aluminium afin d'éviter un éclairement parasite. De même, la mémoire, le dispositif d'évacuation des charges parasites et le registre de lecture sont recouverts d'une couche opaque qui les protège du rayonnement lumineux, et qui peut être une métallisation. Dans le cas o le rayonnement lumineux est envoyé sur la face arrière du dispositif photosensible, le substrat semi-conducteur 4 qui porte la zone photosensible 1 a alors une épaisseur réduite. Les connexions métalliques C1 à C4 permettent de disposer la mémoire, le dispositif d'évacuation des charges parasites et le registre de lecture à une certaine distance de la zone photosensible et sur une partie du substrat 4 dont l'épaisseur n'a pas été réduite. On évite ainsi un éclairement parasite de ces élements. La figure 3 concerne une représentation schématique vue de dessus d'un autre mode de réalisation de la zone photosensible 1 du dispositif selon l'invention. Dans ce mode de réalisation, les points photosensibles sont organisés en quinconce d'une ligne à l'autre. Les grilles Go qui sont constituées par un premier niveau de silicium polycristallin sont disposées horizontalement.Ces grilles ont une forme rectangulaire et présentent des échancrures,rectan- gulaires également. Dans chaque échancrure se trouve une diode de lecture D1. Les diodes de lectures D1 sont disposées en quinconce - 2481553 car les échancrures sont décalées d'un demi-pas d'une grille Go à la suivante. Sur chaque grille Go on trouve entre deux échancrures une ouverture qui constitue une zone collectrice D^O Dans le cas de la figure 3 o les zones collectrices D10 sont constituées par une simple zone d'oxyde mince sans diffusion et non plus par des diodes comme dans le cas de la figure 1, les porteurs créés par les photons sous ces zones collectrices rejoignent les capacités C0, créées par les grilles G0, par simple diffusion plutôt que par conduction. Dans le cas de la figure 3, chaque grille G0 reçoit les porteurs générés sur chaque zone collectrice Dl( par tout le pourtour de cette zone collectrice. Le remplacement des diodes par une simple couche d'oxyde mince pour constituer les zones collectrices est intéressant dans le cas o la condition: CB"> CD10 ne peut être réalisée. Dans ce mode de réalisation, les grilles G1 sont constituées par un deuxième niveau de silicium polycristallin. Ces grilles sont verticales. Chaque grille G1 recouvre en partie d'une part l'un des bords verticaux d'une échancrure réalisée sur chaque grille Go et d'autre part la diode de lecture D1 se trouvant dans cette échan- crure. Les diodes de lecture D1 sont donc situées alternativement, d'une ligne à l'autre, à droite et à gauche de Pélectrode verticale G1. Sur les grilles G1, on trouve, isolées par une couche d'oxyde épais, les connexions d'aluminium Ci.Sur la figure 3, les connexions C1, C2, C3 sont représentées en traits discontinus. Ces connexions adressent les diodes de lecture D10 par des prises de contacts à travers la couche d'oxyde. Les avantages de la disposition des points photosensibles en quinconce, et non plus en matrice, sont les suivants: - la résolution horizontale des points photosensibles est aug- mentée; - les connexions Ci sont totalement protégées de tout parasite par les grilles G1 portées au potentiel constant VI; - de plus, l'intervalle entre les grilles réalisées sur le même 248 1553 niveau de silicium polycristallin n'est pas critique. En effet, le courtcircuit de deux grilles G0 n'affecte que deux lignes de la zone' photosensible. Pour la première ligne, le signal lu est la somme des signaux des deux lignes. La deuxième ligne est lue comme une ligne noire car elle a été vidée par la lecture précédente. Enfin un court- circuit sur les grilles G1 est sans effet- sur le fonctionnement du dispositif. Le pas du registre à décalage R1 qui est utilisé pour la mise à zéro périodique de chaque grille G0 est en général plus grand que le pas des grilles G0. On peut utiliser deux registres R1 et R'1 dont le pas est double de celui des grilles G0. Les registres sont alors placés de part et d'autre de la zone photosensible. L'un des registres adresse les grilles G0 de rang pair et l'autre adresse les grilles Go de rang impair. L'entrelaçage est facilité par cette organisation qui peut s'utiliser en même temps que la disposition en quinconce. Ainsi l'un des registres peut adresser. les grilles G0 de rang impair et les points photosensibles placés à droite des connexions Ci, puis, l'autre registre adresse les grilles G0 de rangs pairs et les points photo- sensibles placés à gauche des connexions Ci. On a vu dans la description du fonctionnement du dispositif représenté sur la figure 1 que ce fonctionnement comportait la répétition de deux étapes T1 et T2. La fonction anti-blooming n'est réalisée que pendant les étapes T1. Les charges en surplus dues à des points photosensibles trop intensément éclairés et qui débordent sur leur diodede lecture D sont prises en compte pendant les étapes T2. Les charges en surplus dues à un point photosensible trop. intensément éclairé se trouvent réparties sur toutes les diodes Dé qui sont reliées à la diode de lecture Di de ce point trop inten- sément éclairé par une même connexion métallique Ci. Le niveau moyen du signal sur cette connexion Ci se trouve ainsi élevé. Si ce point est éclairé avec une intensité B fois supérieure à celle qui. produit la quantité de charges, Q maximum au niveau d'un point photosensible, le niveau moyen pour les diodes reliées à la connexion C. est élevé de la quantité: 248 1 553 B T1i o N représente le nombre de grilles GO de la zone N ' T-'QI' photosensible I. Ainsi une zone photosensible qui comporte 500 grilles Go et pour laquelle on a T1 = T2, peut tolérer un suréclairement B de l'ordre de 1000. On a avantage pour améliorer la résistance du dispositif au suréclairement à augmenter la durée de l'étape T2 par rapport à celle de l'étape T1. Le temps T2 est limité par le temps nécessaire pour que s'effectue le transfert des charges-signal QS le long de chaque connexion Ci jusqu'à la mémoire. On a vu que ce transfert s'effectue à travers l'équivalent d'un transistor MOS en saturation. Si on appelle ci la capacité de la connexion Ci, la charge résiduelle Qr sous les diodes de lecture D1 reliées par Ci s'exprime: = Q5 T, avec B'= W ' Co Qr QSE ' Cx 1 + B T c. ou COx est la capacité de la grille G2 par unité de surface, W la largeur de cette grille, L sa longueur et/ la mobilité des porteurs minoritaires du substrat. On constate donc que pour diminuer la charge résiduelle on a avantage à diminuer la capacité ci. Il apparaît aussi que les charges-signal QS de faibles valeurs sont moins bien transmises que les charges de valeurs plus élevées. La sensibilité du dispositif est donc moindre pour les bas niveaux lumineux. On peut améliorer de façon notable le transfert des faibles quantités de charges-signal QS en leur superposant une charge fixe Q0 obtenue en augmentant de A V le potentiel de la grille G2 au temps t4. Dans ce cas la charge transférée s'écrit: Q5 + QO avec QO = ci. a V. En sortie du registre de lecture R2, on obtient alors un signal superposé à un fond de charge Q0 qui facilite par ailleurs le 248 1553 transfert des charges dans le registre. L'inconvénient de ce procédé peut être dans certains cas d'ajouter au signal un bruit d aux variations de la capacité ci d'une connexion C. à l'autre qui- introduisent des variations sur la quantité Q0 introduite d'une colonne à l'autre. Les figures 5 et 6a, concernent une représentation sché- matique vue de dessus et vue en coupe longitudinale d'un mode de réalisation d'un dispositif d'injection d'une quantité de charges supplémentaire Q0 dans le dispositif photosensible selon l'invention. Avec ce dispositif les quantités de charges injectées Q0 sont identiques pour tous les points de la zone photosensible et indé- pendantes des valeurs des capacités ci des connexions Ci. * Ce dispositif est constitué par l'intégration sur un substrat semiconducteur (qui peut être le même que celui sur lequel est intégré le reste du dispositif photosensible) d'un nombre de diodes D7 égal au nombre- de connexions Ci. Sur la figure 5, quatre diodes D7 sont représentées. Ces diodes sont portées à un potentiel variable V7. Deux grilles coplanaires G8 et Gg suivent ces diodes. Ces grilles sont portées à deux potentiels constants V8 et Vq, avec V8 inférieur à V9. Ainsi le passage des diodes D7 d'un niveau bas à un niveau haut permet de stocker sous G9 une quantité de charges Q0 telle que: Q0(V9 - Va). CG, o CG représente la capacité de stockage sous la grille. 9 Ainsi la quantité de charges Qo stockée sous Ggest indé- pendante des variations de tension seuils sous G8 et G9 d'un point photosensible à l'autre et ne dépend que de la géométrie de G9 dont la variation d'un bout à l'autre du dispositif peut être réduite au second ordre. Des diffusions d'isolement verticales d4 délimitent de façon connue la zone du substrat qui est réservée au traitement des charges issues d'une seule diode D. Les figures 6b à 6e représentent des schémas illustrant le e fonctionnement du dispositif représenté sur les figures 5 et 1a aux instants t4, t2 t3 et à nouveau t4. Sur ces figures, on n'a représenté que l'interface 9 du substrat 8 et de la couche isolante qui le recouvre. Sur les figures 6b et 6c, on a représenté le stockage de la quantité de charges Q0 sous la grille Gg. La grille G9 est suivie par une grille G1l et une électrode de stockage G12 qui sont portées à un potentiel variable V11. Au temps t3, chaque quantité de charges Q0 est transférée de G9 sous G12. - La grille G12 est suivie par une grille écran G13 portée à un potentiel constant V13. Après la grille G13, on trouve quatre diodes D13 qui sont connectées par des connexions métalliques C" I à C"4 aux diode Dl et D2. Au temps t4, le potentiel Vil passe à zéro et provoque le transfert de chaque quantité de charges Q0 sous les diodes D13, Dl et D connectées en parallèles. La charge Q0 est donc introduite au même instant t4 que la charge signal QS de la ligne lue. La génération de Q0 se fait à la lecture de chaque ligne d'éléments photosensibles. La géométrie de la mémoire et du registre de- lecture doit être prévue pour que puisse être stockée la charge totale égale à: Q0 + Q, o Q est la charge-signal maximum au niveau d'un point photosensible. On va maintenant décrire un autre mode de réalisation de la mémoire, du dispositif d'évacuation des charges parasites et du registre de lecture du dispositif photosensible selon l'invention, c'est-à-dire des parties de ce dispositif qui sont repérées par 2 et 3 sur la figure 1. On a voulu dans ce mode de réalisation effectuer le transfert des chargessignal de la mémoire vers le registre de lecture R2 sans utiliser des diodes comme les diodes D et D6 qui sont réunies deux à deux par des connexions métalliques externes au substrat C'1 à Ci4. Ce mode de réalisation présente ainsi l'avantage par rapport à celui représenté sur la figure 1 d'éliminer les parasites susceptibles d'être introduits par un couplage variable, d'un, point photosensible à l'autre entre d'une part chaque diode D4 ou D6 et la grille G4 ou G6 adjacente et d'autre part entre chaque couple de diodes D et D6 (connexion C').. On a voulu également dans ce mode de réalisation obtenir une meilleure homogénéité sur la largeur. de la grille G2 portée au potentiel constant V2 qui suit les diodes D2; on a voulu également pouvoir rendre cette largeur È beaucoup plus petite. Ainsi, ce mode de réalisation présente l'avantage d'éliminer les parasites susceptibles d'être introduits par une pénétration variable d'un point photosensible à l'autre des diodes D2 sous la grille G2; cette pénétration variable peut conduire à des temps de transfert variables des charges-signal de chaque diode D vers la mémoire en. raison de la largeur variable de la grille du transistor MOS équi-_ valent à travers lequel se fait le transfert des charges en mémoire; de plus, ce mode de réalisation présente l'avantage d'augmenter la rLpidité du transfert des charges-signal de et D2 en mémoire, à cause de la diminution de la largeur de G2. Enfin, ce mode dé réalisation présente l'avantage de simplifier les signaux de commande. En contre partie de ces avantages, ce mode de réalisation impose des contraintes de fabrication un peu plus sévères en ce qui concerne les dimensions des différents éléments. La figure 7, concerne une représentation schématique vue de dessus de ce mode de réalisation. Les figures Sa et 9a représentent des vues en coupe trans- versale du mode de réalisation représenté sur la figure 7. Après les diodes D2 reliées par les connexions Cl à C4 aux diodes de lecture DI, on trouve la grille G2 portée au potentiel constant V. La grille G2 est entourée de deux grilles coplanaires G14 et G4 qui sont maintenues à un potentiel constant V'4 supérieur à V2. Ainsi 248 1-553 la largeur úde la grille G2 est déterminée en une seule opération de photogravure par l'intervalle entre les grilles G14 et G4. Ainsi on obtient une meilleure homogénéité sur la largeur ú qui peut, par ailleurs, être rendue beaucoup plus petite. La grille G4 comme les grilles Go de la figure 3, est une grille rectangulaire présentant des échancrures rectangulaires également. La figure 8a est une vue en coupe transversale du mode de réalisation représenté sur la figure 7 dans une zone de faible largeur de G4, c'est-à-dire au niveau d'une échancrure. La figure 9a est une vue en coupe transversale du mode de réalisation représenté sur la figure 7 dans l'intervalle entre deux échancrures. Dans chaque partie de substrat placée sous une échancrure de G4, se trouve une diode d'évacuation D5. Une zone de diffusion d'isolement en "U" d5 entoure chaque diode D5. Cette zone de diffusion d'isolement détermine deux canaux sur chaque partie du substrat 4 réservée par la zone de diffusion d2 au traitement des charges en provenance d'une des connexions C1 à Cm: - le canal 1, (figure 9a), qui conduit au registre de lecture R2; cet accès étant réglé par une grille G7, portée à un potentiel variable V'7 et qui est à cheval entre l'extrémité de G4 et le début de R2; - le canal 2, (figure 8a), qui conduit vers la diode d'évacuation D5. Chaque diode D5 est alors commune à deux points mémoires adjacents pour des raisons de gain de place. L'accès vers la diode D5 est alors réglé par une électrode rectangulaire G15 portée à un potentiel variable V15. Cette élec- trode se trouve à cheval sur la partie horizontale des échancrures de G4. Elle se trouve séparée de G4 par une couche d'oxyde non représentée. Le potentiel V15 est également appliqué aux diodes D5. Les figures 8a et 9a représente des vues en coupe transversale selon les canaux 2 et I, 248 1553 On va maintenant examiner le fonctionnement de ce mode de réalisation en se référant aux figures 8b, 8c et 9b, 9c qui repré- sentent l'évolution du potentiel de surface dans le substrat semi- conducteur 4a à différents instants t'1, t'2, t'3. Ces instants sont repérés sur les figures 10a à l0d qui représentent les signaux de commande susceptibles d'être appliqués à ce mode de réalisation. Sur les figures 10c et 10d, on retrouve les signaux Li et Li + 1 déjà représentés sur les figures 4e et 4f. Sur les figures 10a et 10b, on a représenté les signaux V15 et V17- Ces signaux sont périodiques de période T et varient entre un niveau bas et un niveau haut. Le signal V15 se trouve au niveau haut lorsque les signaux Lp, Li + - et le signal V'7 sont au niveau bas. Les signaux L, Li +. passent au niveau haut un instantZ* après que V15 soit passé au niveau bas. Le signal V'7 passe au niveau haut un instant T; après le passage de Li, Li + 1...au niveau bas. Enfin, le signal V'7 revient au niveau bas un instant ?: avant le passage de V15 au niveau haut. L'étape T1 se déroule à partir du moment o V15 est au niveau haut jusqu'au moment o Li, Li + 1... passent au niveau haut. L'étape T2 se déroule pendant le reste de la période T. On va examiner les étapes T1 et T2. Etape T1: - au temps t'1, seul le signal V15 se trouve au niveau haut. La figure 8b représente les potentiels de surface à ce moment- là. Les charges parasites de tous les points photosensibles sont évacuées des diodes Di vers les diodes D21 puis sous la grille G4 et enfin sous une diode d'évacuation D. Le transfert se fait au potentiel constant V2 - VT grâce à la grille G2; Etape T2: - au temps t'2, seul le signal Li se trouve au niveau haut. Les 248-1553 figures 8c et 9b représentent les potentiels de surface dans le substrat à ce moment-là. Les charges-signal de la ligne Li sont alors transférées des diodes D1 vers les diodes D2 puis stockées sous la grille G4 qui sert de mémoire. - au temps t'3, seul le signal V'7 se trouve au niveau haut. La figure 9c représente le potentiel de surface dans le substrat a ce moment-là. Il y a alors transfert des charges-signal de la ligne Li qui sont stockées sous G4 sous le registre de lecture R2. Une nouvelle étape T1 commence ensuite tandis que la ligne Li est lue par le registre R2. Si le registre de lecture R2 est un registre o le transfert des charges s'effectue en volume, il existe sous les électrodes du registre une zone diffusée z qui peut s'arrêter au milieu de la grille G7. Dans ce cas, le potentiel sous le registre R2 est plus élevé que - sous G4 ce qui facilite le transfert des charges. La superposition d'une charge fixe Q0 aux charges-signal QS peut se faire des deux façons indiquées précédemment, c'est-à-dire: - en augmentant de A V le potentiel de G2 au temps t'2; - ou, en utilisant le dispositif des figures 5 et 6a à 6e. Dans ce cas, l'étape représentées lafir -fait au temps t'2. Il est bien entendu que la présente invention concerne géné- ralement un dispositif photosensible intégré sur un substrat semi- conducteur en silicium. Il est également possible de rapporter sur un substrat en silicium des détecteurs photosensibles en un matériau diff érent. Le dispositif selon l'invention peut aussi fonctionner en don- nant des résultats aussi satisfaisants que ceux obtenus par le dispositif décrit par l'article I.E.E.E en transférant les charges- signal au fur et à mesure qu'elles arrivent dans le registre de lecture R2 sans les stocker en mémoire. Enfin le dispositif selon l'invention est préférentiellement un dispositif CCD, o le transfert des charges se-fait en surface ou en volume. 248 1553 REVENDICATIONS 1. Dispositif photosensible lu par transfert de charges, carac- térisé en ce qu'il comporte: - - n lignes de m points photosensibles, chaque point photosensible étant constitué par l'intégration sur un substrat semi-conducteur (4) d'une capacité MOS (C0) comportant une grille Go commune aux points d'une même ligne, et d'une diode de lecture Dl, séparée de la grille Go par une grille écran G1 portée à un potentiel constant VI, m connexions métalliques (CI...Cm) reliant en parallèle n diodes appartenant à n lignes différentes; - m diodes D2, intégrées sur le même substrat semiconducteur, auxquelles aboutissent les m connexions métalliques, ces diodes étant suivies par une grille G2 portée à un potentiel constant (V des moyens d'évacuation sur une diode (D5) des charges parasites accumulées sur les diodes D1 et D2 pendant chaque intervalle de temps o aucune des grilles Go ne se trouve à zéro; - au moins un registre à décalage (R1-), qui permet la mise à zéro périodique de chaque grille G0 et l'évacuation des charges-signal sur les diodes D1 puis sur les diodes D2; -des moyens assurant le transfert des charges-signal arrivant sur les diodes D2 dans un registre de lecture à transfert de charges (R2) à m entrées parallèle et à sortie série. 2. Dispositif selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'il comporte une mémoire intégrée sur le substrat semi-conducteur à la suite des diodes D2 et sous laquelle les charges-signal sont recueil- lies avant d'être transférées dans le registre de lecture (R2). 3. Dispositif selon la revendication 2, caractérisé en ce que cette mémoire est constituée par m diodes (D4) suivies par une grille (G4) commune aux m diodes et portée à un potentiel variable (Vy). 4. Dispositif selon la revendication 3, caractérisé en ce q'il comporte, intégré sur le substrat à la suite de la mémoire, une grille G5 et une diode D5 reliées à un potentiel variable (V5), cette diode recevant les charges parasites. accumulées sous les diodes D1 et D2 248 1553 pendant l'intervalle de temps o aucune des grilles photosensibles Go ne se trouve à zéro. 5. Dispositif selon la revendication 4, caractérisé en ce qu'il comporte, intégrés sur le substrat semi-conducteur (4): - m diodes D6 suivies par une grille unique G6, chacune de ces diodes étant reliée par une connexion métallique (C'IC') à la diode (D4) correspondante de la mémoire et la grille G6 étant portée au même potentiel variable (V4) que la grille (G4) de la mémoire; - une grille unique G7 portée à un potentiel variable (V7); - le registre de lecture à transfert de charges (R2) dont la grille précédente G7 permet le chargement, après que les charges- signal résultant de la lecture d'une ligne aient été recueillies par la mémoire. 6. Dispositif selon la revendication 5, caractérisé en ce qu'une couche d'oxyde et une couche d'aluminium recouvrent les diodes (D4) de la mémoire et les diodes D6 ainsi qu'une partie des grilles (G4 et G6) voisines, un contact électrique étant établi à travers l'isolant au niveau de chaque grille. 7.Dispositif selon l'une des revendications 2 à 6, caractérisé en ce qu'une grille (G3) portée à un potentiel variable (V3) est inter- calée sur le substrat semi-conducteur entre la grille G2 portée à un potentiel constant (V2) et la mémoire. &Dispositif selon la revendication 2, caractérisé en ce que la grille G2 est entourée de deux grilles coplanaires portées à un potentiel constant inférieur à V2, l'une de ces grilles (G14) étant adjacente aux diodes D2 et l'autre grille G4 constituant la mémoire. 9. Dispositif selon la revendication 8, caractérisé en ce que: - la grille G4 est une grille rectangulaire comportant des échancrures rectangulaires; - chaque partie du substrat (4) placée sous une échancrure comporte une diode d'évacuation des charges (D5); - une zone de diffusion d'isolement en "U" entoure chaque diode d'évacuation des charges (D5) et détermine deux canaux sur la partie du substrat réservé au traitement des charges en provenance 2 248 1553 d'une des connexions métalliques (C1 *Cm); - l'un des canaux (canal 2) qui conduit à une diode d'évacuation (D5) permet l'évacuation sous la diode des charges parasites ac- cumulées sous les diodes Dl et D2 pendant l'intervalle de temps o aucune des grilles photosensible Go ne se trouve à zéro, ce transfert étant commandé par une grille (G15) placée à cheval sur la partie horizontal des échancrures de G4; - l'autre canal (canal 1) permet le transfert des charges-signal d'une ligne stockées sous la grille G4 dans le registre de lecture à transfert de charges (R2), ce transfert étant commandé par une grille (G7) à cheval sur l'extrémité de G4 et le début du registre. 10. Dispositif selon l'une des revendications 1 à 9, caractérisé en ce que chaque point photosensible comporte, à proximité de la grille (G.), une zone collectrice (D10) sensible aux faibles longueurs d'onde auxquelles (Go) nWest pas sensible, les charges créées par le rayonnement sur ces zones (Di.) étant collectées sous les grilles (Go). Il. Dispositif selon la revendication 10, caractérisé en ce que chaque zone collectrice (Di.) est constituée par une diode ou par une simple zone d'oxyde mince. 12. Dispositif selon l'une des revendications 2 à 11, caractérisé en ce que le potentiel constant (V2) appliqué à la grille G2 suivant les diodes D2 est augmenté d'une quantité constante A V lors du transfert des charges-signal sous la mémoire. - 13. Dispositif selon l'une des revendications 2 à Il, caractérisé en ce qu'il comporte, intégré sur le même substrat semi-conducteur: - m diodes (D7)portées à un potentiel variable (V7) suivies par; - deux grilles coplanaires G8 et Gg portées à deux potentiels constants V8 et V9, avec V8 inférieur à (Vy), de façon qu'une quantité de charges constantes (Q,) soit stockée sous Gg lors du passage du potentiel appliqué à la diode du niveau bas au niveau haut: - une grille (G1U) et une électrode de stockage (G12) portées à un 248 1553 potentiel variable (V l) - une grille écran (G13) portée à un potentiel constant (V,3) - m diodes D13 reliées par des connexions métalliques (C"1. C" M) aux m diodes D2, la, quantité de charges (Q0) étant transférée sous chaque diode D13lors du transfert des charges-signal sous la mémoire...CLMF: 14. Dispositif selon l'une des revendications 1 à 13, caractérisé en ce que la partie du substrat semi-conducteur (4) qui porte la zone photosensible (1) a une épaisseur réduite et reçoit l'éclairement par sa face arrière. 15. Dispositif selon l'une des revendications 1 à 13, caractérisé en ce que la partie du substrat semi-conducteur (4) qui porte la zone photosensible (1) reçoit l'éclairement par sa face avant et en ce que les grilles (Go) sont photosensibles et les diodes de lecture (D 1) sont entièrement recouvertes d'aluminium.- 16. Dispositif selon l'une des revendications 1 à 15, caractérisé en ce que les diodes de lecture (D) sont disposées en quinconce et se trouvent situées dans des échancrures rectangulaires réalisées sur les grilles horizontales Go0 17. Dispositif selon la revendication 16, caractérisé en ce qu'il comporte m grilles verticales G1 portées au potentiel V1 qui recouvrent en partie d'une part, l'un des bords verticaux de chaque échancrure réalisée sur chaque grille Go et d'autre part, chaque diode de lecture D1 située alternativement d'une ligne à l'autre à droite et à gauche de l'électrode verticale G1. 18. Dispositif selon la revendication 17, caractérisé en ce que les m grilles verticales Gl sont recouvertes d'une couche isolante sur laquelle sont déposées les m connexions métalliques (C1 à Cm) qui relient en parallèle grâce à des prises de contact à travers la couche isolante n diodes de lecture D1 appartenant à n grilles Go diff érentes. 19. Dispositif selon l'une des revendications i à 15, caractérisé en ce que les diodes de lecture D1 et les diodes D2 sont disposées en matrice. 248 1553 20. Dispositif selon l'une des revendications 1 à 19, caractérisé en ce qu'il comporte deux registres à décalages qui adressent l'un les lignes de rang pair et l'autre les lignes de rang impair. 21. Dispositif selon l'une des revendications 1 à 20, caractérisé en ce que chaque grille G0 est reliée à l'une des électrodes d'un transistor MOS (Toi...Ton) dont la grille est reliée à un registre à décalage (R1) et dont Pautre électrode est reliée à la masse, le registre à décalage assurant la mise en conduction périodique de chaque- transistor et la mise à zéro de chaque grille Go0. 22. Dispositif selon l'une des revendications 1 à 21, caractérisé en ce que chaque grille G0 est reliée à l'une des électrodes d'un transistor MOS (Ti***Tn) dont l'autre électrode est reliée à un potentiel constant (Vy) et dont la grille reçoit un potentiel variable (Vs), qui provoque la mise en conduction des transistors et la mise au potentiel constant (Vy) des grilles Go après que le transfert des charges-signal d'une ligne dans le registre à transfert de charges (R2) ait été effectué. 23. Dispositif selon l'une des revendications 1 à 21, caractérisé en ce que chaque grille G0 est reliée à l'une des électrodes d'un transistor MOS (T il-T n) dont l'autre électrode est reliée à -un potentiel constant (V9) et dont la grille reçoit un potentiel constant, ces transistors assurant le rétablissement, après une constante de temps, du potentiel constant (V9) sous toutes les grilles G0 après que le transfert des charges-signal d'une ligne dans le registre à trans- fert de charges (R2) ait été effectué. 24. Dispositif selon l'une des revendications 1 à 23, caractérisé en ce que le substrat semi-conducteur utilisé est du silicium. 25. Caméra de télévision, caractérisée en ce qu'elle comporte un dispositif selon l'une des revendications précédentes.