Brevet FR2413692A1 — publié le 19790727

On a longtemps utilisé des papiers sensibilisés diazol- quement, dits papiers diazo, pour faire des duplicata d'originaux, normalement par impression par contact, puis en développant le papier diazo exposé dans une atmosphère de vapeur d'ammoniac en solution aqueuse. Dans une telle application, les exigences concernant la résolution et les temps de développement ne sont pas critiques. Plus récemment, on a porté une attention particulière aux films sensibilisés diazorquement en tant que support idéal pour réaliser des originaux de microfilms ou de microfiches et, ce qui est peut-etre.plus important, des duplicata de ces originaux du fait du coût relativement faible d'un tel film, de sa capacité de résolution importante, etc.Cependant, pour de telles applications des exigences de plus en plus sévères sont posées pour le procédé de développement du film, notamment en ce qui concerne la vitesse avec laquelle il peut se dérouler pour réaliser, par exemple, un grand nombre de copies diazo de façon efficace à partir d'un original ou modèle. A ce sujet, on a rencontré des problèmes jusqu'ici. Pour obtenir des temps de développement courts pour un film diazo, il était nécessaire jusqu'ici que le développement se déroule dans une atmosphère d'ammoniac à haute pression. En général, les pressions considérées comme nécessaires sont nettement supérieures, par exemple de plusieurs fois, à la pression atmos 2 phérique et peuvent aller jusqu'à 70 kg/cm ou plus. Par exem- ple, le brevet américain ne 3 411 906 parle de pressions d'ammoniac comprises entre 3, 5 et 70 kg/cm2. On s'est peu préoccupé de la conception réelle de la chambre de développement dans laquelle est introduit l'ammoniac, sauf en ce qui concerne le maintien d'un volume relativement faible dans le but évident de limiter la quantité d'ammoniac consommée durant le processus de développement. Cependant, du point de vue pratique, de telles exigences de pression élevée présentent de sérieux inconvénients, notamment dans le cas d'un dispositif de développement de films diazo fonctionnant en continu, étant donné que le film exposé doit être transporté de l'extérieur jusque dans l'atmosphère à haute pression. D'une part, les fuites d'ammoniac sont tout à fait inacceptables du fait de son odeur délétère et du risque potentiel qu'il présente pour la santé lorsqu'il existe avec des concentrations appréciables. En outre, de façon notoire, il est difficile de fermer de façon étanche une chambre sous pression lorsqu'on doit disposer d'un accès continu à cette chambre, à moins que l'ammoniac en soit évacué chaque fois qu'un film y est introduit ou en est retiré. Cependant, ceci n'est pas compatible avec un fonctionnement à grande vitesse et le traitement de grandes quantités. Bien que le brevet américain mentionné ci-dessus ne concerne pas la construction même de la chambre ni les difficultés mentionnées ci-dessus pour sa mise en oeuvre, un autre brevet américain (n 3 364 833) propose une construction pour un dispositif de développement de films diazo, qui comporte une chambre fermée de façon étanche définie par une base munie d'une cavité dimensionnée pour recevoir le film et un couvercle qui est fixé au moyen de boulons et de façon étanche sur la base. L'espace intérieur de la cavité est maintenu aussi faible que possible, et une fois qu'il est fermé de façon étanche, l'air qui s'y trouve est évacué et remplacé par de l'ammoniac à haute pression pour développer le film.Bien que ce dispositif assure sans aucun doute le développement total et complet du film et, lorsqu' il est mis en oeuvre de la lançon décrite dans le premier brevet américain mentionné, permet des temps de développement courts, l'insertion et le retrait du film de la cavité doivent être effectués manuellement, le temps nécessaire à cet effet dépassant largement le temps de développement du film. Ainsi, le dispositif décrit dans le brevet américain n0 3 364 833 convient de façon idéale pour développer de temps à autre un film diazo individuel, mais ne convient pas pour le développement en continu d'un grand nombre de films. Ainsi, en dépit des avantages offerts par les films diazo pour des applications nécessitant une bonne résolution et le traitement de grandes quantités, telle que la duplication d'originaux de microfiches, il n'existe pas actuellement de dispositif réalisable technologiquement pour le développement en série, de façon économique, de tels films. La présente invention concerne un dispositif de développement de films diazo qui s'écarte nettement des concepts antérieurs quant à la construction et au fonctionnement, de manière à rendre ce dispositif compact, efficace et facile à utiliser, même pour des quantités très importantes de films. Ceci est obtenu en supprimant les pressions élevées d'ammoniac considérées comme nécessaires jusqu'ici pour obtenir des temps de développement courts. Au contraire, suivant la présente invention, le film est développé dans une vapeur d'ammoniaque aqueuse à une pression qui ne dépasse pas sensiblement la pression atmosphérique. Suivant l'invention, ceci signifie que la pression n'est que légèrement plus importante que la pression atmosphérique, ne la dépassant que de la valeur qui est nécessaire pour introduire la vapeur dans la chambre de développement.Ainsi, de façon typique, la pression ne dépasse pas de plus de quelques centimètres, à savoir 2 à 5, la colonne d'eau correspondant à la pression atmosphérique, et dans n'importe quel cas, elle est nettement inférieure aux pressions suggérées jusqu'ici et, par conséquent, ne sera jamais supérieure à une atmosphère (environ 1 kg/cm2) au-dessus de la pression atmosphérique. Cette vapeur d'ammoniac à faible pression est combinée à un volume minimal de la chambre de développement qui n'est pas supérieur à celui nécessaire pour faire passer commodément un film à développer à travers la chambre. La vapeur d'ammoniac à faible pression et le faible volume de la chambre de dévelop pendent sont, en outre, combinés à des températures de fonctionnement relativement faibles, dans une gamme comprise entre environ 65 et 95-C et, de préférence, entre 80 et 90~C, de manière que la couche d'émulsion sur le film ne soit pas ramollie par la chaleur. De cette manière, le contact en mouvement entre le film, et notamment son émulsion, et des éléments constitutifs de la chambre n'endommage pas l'émulsion. Ceci facilite la minimisation du volume de la chambre de développement, étant donné qu'un contact réel entre l'émulsion du film en mouvement et les parois de la chambre n'affecte pas de façon désavantageuse les images sur le film. En fait, suivant l'invention, on a trouvé qu'un tel contact mobile entre l'émulsion et les parois de la chambre, au moins dans la mesure où il ne s'établit que par in termittence, améliore le développement du film en soumettant de façon plus intime l'émulsion à la vapeur d'ammoniac et en enlevant de l'émulsion tout 1'ammoniac consommé. Ainsi, de façon générale, la présente invention a pour but de réaliser une chambre de développement qui est définie par des première et seconde surfaces parallèles dont ltespace- ment mutuel est maintenu de manière à n'entre que légèrement supérieur à l'épaisseur du film pour permettre le passage du film entre les surfaces. Dans un mode de réalisation pratique dans lequel l'espacement est normalement compris entre environ deux et huit fois l'épaisseur du film, un espacement d'environ 0,5 mm est préféré du fait de la facilité avec laquelle les éléments constitutifs de la chambre peuvent être fabriqués, de la facilité avec laquelle le film peut être transporté entre les surfaces lors d'une utilisation réelle, et du. volume relativement très faible de la chambre présentant de telles dimensions. En outre, suivant la présente invention, le film est avancé vers l'aval dans la chambre avec une vitesse telle que le temps de séjour pour le film (ou une partie quelconque de ce film) ne dépasse sensiblement pas quelques secondes, à savoir cinq secondes et, de préférence que le temps de séjour ne dépasse pas une ou deux secondes. L'ammoniaque aqueuse est introduite dans la chambre à partir de la surface de la chambre qui se trouve en face de l'émulsion du film. La vapeur d'ammoniac est sensiblement à la pression atmosphérique, c'est-à-dire qu'elle ne dépasse la pression atmosphérique que de la pression de quelques centimètres d'eau. La vaporisation et la mise sous pression (minimale) de l'ammoniac sont obtenues en prévoyant une plaque chauffée qui définit la surface en regard de l'émulsion du film et en y formant une conduite ouverte qui s'étend dans la surface de la plaque qui fait face au film. La plaque est chauffée jusqu la température de développement mentionnée ci-dessus et de 1 'am- moniaque aqueuse est envoyée dans la conduite où elle se vaporise par suite de la température élevée. Il en résulte la légère augmentation, mentionnée ci-dessus, de la pression de la vapeur d'ammoniac, de quelques centimètres d'eau, de sorte que la vapeur sort de la conduite pour pénétrer dans la chaMbre. Dans un mode de réalisation préféré de l'invention, une quantité déterminée d'ammoniaque aqueuse est pompée dans la conduite en utilisant une pompe de conception appropriée, ou en détectant un film qui arrive et en actionnant par intermittence une pompe à débit déterminé pour l'ammoniaque aqueuse en réponse à cette détection. Le procédé de développement résumé ci-dessus est mis en oeuvre à l'aide du dispositif suivant l'invention qui, de façon générale, comporte un boitier qui définit une ouverture d'entrée amont du film et une ouverture de sortie aval du film. La première et la seconde plaques sont disposées dans le boîtier et à ltopposé, les première et seconde surfaces parallèles des plaques sont positionnées de manière à recevoir le film arri vant par l'ouverture d'entrée et pour envoyer le film sortant à l'ouverture de sortie. Des moyens sont en outre prévus pour maintenir l'espacement entre les plaques dans la gamme mentionnée ci-dessus, de façon à permettre le libre passage du film entre les surfaces, tout en minimisant l'espacement entre les surfaces et, par conséquent, le volume de la chambre de développement défini par l'espace entre les plaques. Des paires de galets qui coopèrent font avancer le film (l'émulsion faisant face à la première surface) vers l'aval à partir de l'ouverture d'entrée, à travers la chambre, en direction de l'ouverture de sortie. La présente invention concerne, en outre, des moyens pour rendre étanche la chambre de développement par rapport aux ouvertures d'entrée et de sortie. Les moyens d'étanchéité comportent des groupes de galets opposés, allongés, qui coopèrent et qui sont disposés au voisinage et parallèlement aux ouvertures destinées à recevoir et à évacuer le film. Les galets possèdent des surfaces élastiques en contact mutuel et des bandes à faible coefficient de friction, par exemple en 11Téfbn" (marque déposée par Du Pont de Nemours), sont logées de façon étanche dans des rainures correspondantes du boîtier, sont disposées parallèlement aux galets et sont chargées élastiquement contre ces galets, de manière à former un joint étanche avec ceux-ci et empêcher la fuite de vapeurs d'ammoniac, par les ouvertures, vers l'extérieur.Bien qu'un tel joint étanche ne soit pas suffiant pour supporter les pressions d'ammoniac élevées dans les dispositifs antérieurs de développement de films diazo, il est suffisant pour assurer l'étanchéité durant le fonctionnement à basse pression du dispositif de la présente invention, de manière qu'il ne s'en dégage aucune odeur délétère Par conséquent, ce dispositif suivant l'invention peut être utilisé dans des pièces fermées avec une faible ou aucune ventilation distincte sans présenter un risque pour la santé ou faire naître une mauvaise odeur. Dans une variante, les bandes chargées élastiquement qui entrent en contact avec les surfaces des galets élastiques peuvent être remplacées par des feuilles de Téflon relativement souples qui s'étendent sur toute la longueur de chaque galet. Une partie de la feuille est fixée rigidement, par exemple au moyen de boulons, sur une plaque, tandis que l'autre partie de la feuille passe sur le galet respectif. Un ressort à lame souple est également fixé, au moyen de boulons, sur les plaques, de préférence en même temps que la feuille de "Téfon", et est agencé de manière à charger la feuille associée contre la surface du galet pour établir de ce fait un joint étanche entre la chambre de développement et l'extérieur. En outre, le dispositif de la présente invention comporte un système de chauffage pour chauffer la première plaque jusqu'à une température se trouvant dans la gamme mentionnée et au moins une conduite est formée dans la première plaque, communique avec la première surface et est disposée au voisinage de son extrémité amont. Une pompe fournit de l'ammoniaque aqueuse à la conduite et des moyens sont prévus pour y faire évaporer l'ammoniac et évacuer la vapeur d'ammoniac de la conduite à la faible pression mentionnée ci-dessus. Ainsi, lorsque le film diazo avance dans la chambre de développement, il entre en contact avec la vapeur d'ammoniac et provoque la formation d'une couche turbulente de vapeur d'ammoniac entre au moins des parties de l'émulsion et la première surface pour effectuer le développement rapide de l'émulsion à des températures et des pressions faibles. La première surface comporte, de préférence, une rainure transversale qui communique de manière fluide avec la conduite d'ammoniac pour distribuer la vapeur sur toute la largeur du film. D'autres rainures, en aval de la première, augmentent la vitesse de développement, ce qui est vraisemblablement dû,au moins partiellement, à la turbulence plus forte dans la vapeur d'ammoniac qui est provoquée par ces rainures. . Pour améliorer encore le processus de développement, le film lui-même est, de préférence, préchauffé avant de pénétrer dans la chambre de développement Dans un mode de réalisation préféré de l'invention, ceci est obtenu en faisant passer le film entre deux plaques chauffées à la même température que les premières plaques et disposées en amont de la chambre de développement. D'après ce qui précède, on voit que la présente invention permet le développement rapide d'un film de type diazo sans avoir à utiliser les pressions élevées nécessaires dans les systèmes de développement diazo de l'art antérieur. Ceci, associé aux faibles dimensions de la chambre, permet le développement très rapide de microfiches,souvent en moins d'une seconde. Ceci conserve l'ammoniac, et, ce qui est plus important, permet une construction très simple de la chambre et du mécanisme de transport du film tout en assurant un joint étanche efficace pour empêcher que l'ammoniac s'échappe dans l'atmosphère environnante. Par conséquent, la présente invention convient de façon idéale pour être incorporée à des systèmes de reproduction ou duplicateurs de microfiches, et il faut s'attendre à une large application dans le domaine industriel. La présente invention sera mieux comprise à l'aide de la description suivante de deux modes de réalisation préférés, mais non limitatifs,représentés aux dessins annexés, sur lesquels la figure 1 est une vue de côté globale, en coupe, du dispositif de développement de films diazo suivant l'invention destiné à être incorporé à un photocopieur de microfiches ou un système semblable la figure 2 est une vue de face, en coupe, du dispositif représenté sur la figure 1, suivant la ligne 2-2 de la figure 1 la figure 3 est une vue de côté schématique à échelle agrandie, de la chambre de développement représentée sur la figure i la figure 4 est une vue en plan schématique de la plaque définissant le côté de la chambre représentée sur la figure 3 qui est tourné vers le côté du film où se trouve l'émulsion la figure 5 est une vue de côté partielle, similaire à celle de la figure 1, et représente un autre mode de réalisation de la présente invention ; et la figure 6 est une vue frontale partielle illustrant la façon dont la chambre de développement formée entre les plaques est fermée de façon étanche suivant la direction longitudinale. En se référant aux figures, un dispositif de développement 2 de films diazo peut faire partie d'un duplicateur de microfiches 4 (représenté uniquement de façon schématique) qui comporte des moyens appropriés pour exposer le film, puis pour le faire avancer vers le dispositif de développement. Le dispositif de développement lui-même comporte, de façon générale, un boîtier 6 qui possède des parois latérales verticales 8 et des parois extrêmes espacées 10, et qui, normalement est disposé horizontalement. Les parois extrêmes 10 définissent une ouverture d'entrée amont 12 par l'intermédiaire de laquelle une microfiche 14 peut pénétrer à l'intérieur du boîtier. L'autre paroi extrême opposée du boîtier définit une ouverture de sortie 16 qui est alignée avec l'ouverture d'entrée.Un couvercle plat 18 est placé sur le boîtier et un joint d'étanchéité 20 ferme de façon étanche l'intérieur par rapport à l'extérieur. Des char nieras de fermeture appropriées 22 L etiennext le couvercle sur le boîtier tout en assurant la formation d'un joint étanche entre le couvercle et le joint d'étanchéité. Dans le mode de réalisation préféré de l'invention, l'intérieur du boîtier est divisé pour former deux cavités 24, 26, disposées l'une derrière l'autre en amont et en aval, par une première paire de galets d'entraînement 28 parallèles et cylindriques, disposés sensiblement au centre de l'intérieur du boî- tier. Des seconde et troisième paires 30, 32 de galets d'entraînement semblables sont disposées respectivement au voisinage des ouvertures d'entrée et de sortie. Les galets sont en contact mutuel suivant une ligne passant par le centre des ouvertures d'entrée et de sortie ; ils sont constitués par un maté riau élastique et ils sont chargés les uns contre les autres, de manière a former entre eux un joint étanche à l'air. Une rainure 34, ménagée dans le boitier est disposée au voisinage et parallèlement à chaque galet des seconde et troisième paires de galets. Chacune de ces rainures reçoit une bande allongée 36 à faible coefficient de friction, par exemple en "Téflon", qui est chargée contre la périphérie du galet adjacent par un organe 38 compressible élastiquement, par exemple un patin en caoutchouc mousse. Le contact étanche entre les galets eux-mêmes et avec les bandes 36 à faible coefficient de friction ferme l'intérieur du boîtier de façon étanche par rapport aux ouvertures d'entrée et de sortie 12, iCI Les galets sont en outre tourillonnés dans des paliers (non représentés) supportés par les parois latérales 8 du boîtier, qui s'appuient de façon étanche contre les faces extrêmes des galets.Un dispositif d'entraînement, par- exemple un entraînement à chaîne ou à pignons (non représenté), fait tourner les galets de chaque paire dans des directions opposées, de manière qu'une micro fiche 14, placée entre la seconde paire amont 30 de galets soit saisie et avancée vers l'aval jusque dans la première cavité amont 24 du boîtier. La paire 28 de galets, qui peut être appuyée de façon étanche contre le boîtier et le couvercle de la façon mentionnée ci-dessus avec des bandes d'étanchéité 40 placées de façon appropriée, saisit ensuite la fiche qui se déplace vers l'aval et l'entraîne vers la troisième paire de galets qui évacue cette microfiche, par l'ouverture de sortie 16, dans un réceptacle 42.On remarquera que pendant ce transport de la microfiche, l'intérieur du boîtier reste fermé de façon étanche, quelles que soient la vitesse et/ou la fréquence avec lesquelles la microfiche est envoyée dans le dispositif de développement. Dans le mode de réalisation préféré de l'invention, la cavité amont 24 est utilisée pour le préchauffage de la microfiche 14 avant son développement dans la cavité aval 26. Dans ce but, deux plaques chauffantes supérieure et inférieure 44, 46, qui sont opposées et parallèles, sont disposées dans la cavité amont. La plaque inférieure repose dans une rainure rectangulaire 48 ménagée sur un support surélevé 53, faisant saillie par rapport à une plaque de base 50 du boîtier et maintenant la plaque inférieure à une certaine distance de celle-ci, de façon à pouvoir fixer un dispositif de chauffage 52 sur la face inférieure de la plaque chauffante, afin de la porter à la température souhaitée comme cela sera décrit ci-dessous.Les bords 54 (n'apparaissant que sur la figure 2),des plaques chauffantes se chevauchent, sont surélevés et munis de rainures qui coopèrent pour maintenir les plaques alignées et espacées de façon appropriée, de manière que les surfaces opposées 56, 58 des plaques soient espacées d'une distance suffisante pour permettre le passage d'une microfiche entre elles. Dans un mode de réalisation typique, l'espacement est d'environ 0,5 mm. Des rainures 60 peuvent être formées dans les plaques chauffantes pour empêcher que la microfiche adhère à l'une des plaques. En outre, les bords sont espacés de manière que la largeur efficace des surfaces opposées des plaques 44, 46 soit juste légèrement plus importante que la largeur de la microfiche 14. Deux ressorts à lame, ayant la forme générale d'un Z, sont montés, par exemple soudés ou fixés au moyen de boulons, sur la face inférieure du couvercle 18 et, lorsque le couvercle est fixé sur le boîtier, exercent une pression dirigée vers le bas entre la plaque supérieure 44 de manière à la maintenir en contact serré avec la plaque inférieure. Deux autres plaques de développement 64, 66 sont disposes dans la cavité aval 26. La constitution des plaques de développement est similaire à celle des plaques chauffantes 44,46. Ainsi, la plaque inférieure repose dans une autre rainure rectangulaire 48 ménagée dans un support surélevé 53, de manière à laisser de la place pour le dispositif chauffant 68 fixé sur la face inférieure de la plaque inférieure. Les surfaces opposées 70, 72 des plaques de développement définissent entre elles une chambre de développement 85. Leur espacement "T" est réglé de façon précise et dans le présent mode de réalisation préféré est de 0,5 mm pour pouvoir recevoir une microfiche 14 possédant une épaisseur nttt comprise entre 0,07 mm et 0,18 mm. Avec les dimensions indiquées, la microfiche peut facilement être transportée vers l'aval, vers la gauche sur les figures 1 et 3,sans interférence non souhaitable avec les surfaces opposées des plaques. La plaque inférieure comporte une première rainure 74 au voisinage de son extrémité amont, rainure qui s'étend sur toute la largeur efficace de la plaque et qui présente une forme convexe en regardant vers l'aval, c'est-à-dire vers le bas sur la figure 4. En outre, des rainures 76 de forme similaire sont ménagées dans la plaque inférieure, en aval de la rainure 74. Une conduite ouverte 78 est ménagée dans la plaque inférieure 66 et aboutit sensiblement au centre du fond de la rainure 74. Ainsi, elle est également disposée au voisinage de l'extrémité amont de la plaque inférieure. La conduite est reliée à un réservoir 80 d'ammoniaque aqueuse, par l'intermédiaire d'une pompe 82 à débit régulé et d'une soupape 84, de sorte que lors de l'actionnement de la pompe de l'ammoniaque aqueuse est envoyée dans la conduite. Les ressorts à lame 62 en forme de Z, mentionnés ci-dessus, sont utilisés pour charger la plaque de développement supérieure 64 vers le bas, contre la plaque inférieure, lorsque le couvercle 18 est fermé. En considérant maintenant le fonctionnement du dispositif de développement 2, le dispositif 86 de réglage du chauffage est initialement actionné pour alimenter le dispositif de chauffage 52 de la plaque de préchauffage inférieure 46, et le dispositif de chauffage 68 de la plaque de développement inférieure 66. A ce sujet, on remarquera qutun dispositif de chauffage peut également être prévu pour les plaques supérieures 44 et 64 bien que cela ne soit pas nécessaire dans les conditions de fonctionnement normal du dispositif de développement. Le dispositif de réglage du chauffage maintient la température des plaques dans la gamme souhaitée, par exemple entre 65 et 950C, et de préférence entre 80 et 900 C. La pompe 82 à débit régulé peut être choisie de manière i pomper un très faible velume d'ammoniaque aqueuse, volume qui est choisi de manière à fournir juste assez d'ammoniac pour développer les microfiches, quelle que soit la vitesse avec laquelle elles traversent la chambre de développement. Dans une variante, la pompe à débit régulé peut être constituée par une pompe actionnée par intermittence, en réponse à l'arrivée d'une microfiche 14. Dans ce but, le duplicateur 4 de microfiches comporte un détecteur 88 (par exemple un détecteur optique) qui est couplé avec la pompe et l'actionne. chaque fois qu'une microfiche s'approche de l'entrée 12 du boîtier, par exemple, pour envoyer une quantité déterminée d'ammoniaque aqueuse vers la conduite 78.Dans un autre mode de fonctionnement, le détecteur 88 peut être couplé à la soupape 84 en aval de la pompe 82, pour ouvrir temporairement cette soupape, afin d'envoyer la quantité souhaitée d'ammoniaque dans la conduite. La conduite a une configuration telle que l'ammoniaque est portée sensiblement à la température de la plaque lorsqu'elle se trouve dans la conduite. Ceci provoque l'évaporation de l'ammoniac qui s'y trouve et l'établissement de la faible pression mentionnée ci-dessus,de sorte que la vapeur d'ammoniac s'échappe de l'extrémité de la conduite 78 qui aboutit dans la rainure 74 située le plus en amont. Lorsque la plaque se trouve dans la gamme de températures mentionnée et que la conduite possède un diamètre de 1,6 mm, une longueur de la conduite dans la plaque qui est comprise entre 63 et 76 mm est suffisante pour obtenir l'évaporation souhaitée de l'ammoniac. Le dispositif d'entraînement (qui n'est pas représenté de façon séparée) pour les paires de galets 28, 30 et 32, peut être commåndé de façon continue ou intermittente, et, dans le dernier cas, il est couplé de façon appropriée avec le détecteur 88. Une microfiche 14 à développer qui s'approche de ltou- verture d'entrée 12 déclenche le détecteur 88 et provoque lten- voi d'une quantité déterminée d'ammoniaque aqueuse dans la conduite 78, dans laquelle elle s'évapore et passe dans la chambre de développement de film. Etant donné qu'il y a nécessairement un certain retard entre le moment où l'ammoniaque aqueuse est introduite dans la conduite et le moment où elle s'évapore, la pompe est commandée un court moment avant que la microfiche arrive dans la chambre. Une fois que le bord avant de la microfiche est saisi par la paire 30 de galets, cette microfiche est entraînée en aval dans l'espace situé entre les plaques chauffantes, le côté 90 où se trouve l'émulsion étant tourné vers le bas, c'est-à-dire de manière à se trouver en regard de la plaque chauffante inférieure 46. La microfiche, et notamment l'émulsion qui s'y trouve, est chauffée jusqu'à la température régnant dans la chambre de développement. Une fois que son bord avant a dépassé l'extrémité aval de la plaque chauffante, la paire 28 de galets -l'entraîne dans et à travers la chambre de développement as. Etant donné que la hauteur de la chambre de développement n'est que légèrement supérieure à l'épaisseur de la microfiche, le déplacement vers l'aval de cette dernière provoque une turbulence importante dans la vapeur d'ammoniac qui s'échappe de la conduite 78, contre le côté de la microfiche où se trouve l'émulsion. Il est fréquent que le côté où se trouve l'é- mulsion entre en contact avec des parties de la surface de la plaque 72 ou passe dans son voisinage immédiat pour augmenter encore la turbulence de la vapeur d'ammoniac. En outre, lorsqu'elle se déplace au-dessus de la surface et des rainures qui y sont ménagées, la vapeur d'ammoniac conserve sa turbulence. Ceci permet à la vapeur d'ammoniac qui vient de se former d'accéder de façon répétée à l'émulsion du film et contribue de façon importante à son développement très rapide. La microfiche complètement développée est alors évacuée du dispositif de développement vers un réceptacle 42. Pour les paramètres de développemnt mentionnés ci-dessus, on a trouvé qu'on pouvait obtenir des temps de développement aussi faibles qu'une seconde, et même moins dans certains cas, de sorte que le film peut être déplacé dans le dispositif de développement avec des vitesses relativement importantes. Ceci est obtenu avec une pression très faible de la vapeur d'ammoniac qui est facilement enfermée de façon étanche de manière qu'en pratique il n'y ait pas d'odeurs d'ammoniac, même à proximité du dispositif de développement. Pour évacuer le condensat d'ammoniac provenant de l'in- térieur du boîtier, une ouverture de drainage 94 est, de préférence, prévue au-dessous de la plaque de développement 66, cette ouverture étant reliée à un réceptacle 96 pour le condensat, par l'intermédiaire d'un tuyau souple 98 ou d'un système semblable. On remarquera, en outre, quten plaçant les ressorts à lame 62 en forme de Z au-dessus de l'intervalle entre les extrémités respectives des plaques de développement et les paires 28, 30 de galets, toute condensation d'ammoniac qui peut se former sur la face inférieure du couvercle 18 est guidée le long du ressort pour arriver sur le dessus de la plaque de développement, à partir d'où elle peut être guidée vers l'ouverture de drainage 94 par l'intermédiaire des côtés des plaques, pour empêcher que des gouttelettes d'ammoniac entrent en contact avec le film.En outre, pour évacuer toutes les vapeurs d'ammoniac de l'intérieur du boîtier avant d'ouvrir le couvercle 18, un ventilateur 100 est prévu pour envoyer de l'air à l'intérieur et, de ce fait, pour envoyer de force les vapeurs d'ammoniac dans l'ouverture de drainage 94 vers le réceptacle 96 pour le condensat où elles peuvent être absorbées par un liquide approprié, par exemple un bain d'eau. En se référant aux figures 5 et 6, dans une variante de l'invention, un dispositif de développement 102 comporte de nouveau deux plaques opposées 104, 106, supérieure et inférieure, qui sont espacées de la manière mentionnée ci-dessus,par exemple de 0,5 mm, de façon à former un intervalle 108 à travers lequel le film passe au cours de son développement. La plaque inférieure comporte une ou plusieurs rainures transversales 110 communiquant avec une source d'alimentation d'ammoniaque aqueuse (non représentée sur les figures 5 et 6) de la façon décrite cidessus. Deux galets 112 d'avance du film sont disposés au voisinage de l'extrémité aval et de l'extrémité amont (non représentée sur la figure 5) de la plaque. Les galets sont entraînés en rotation de la manière décrite ci-dessus pour saisir le film et le faire avancer vers l'aval. Les galets sont disposés aussi près que possible des extrémités respectives des plaques. Au lieu de prévoir des bandes d'étanchéité comme mentionné précédemment, on prévoit des feuilles d'étanchéité 114 relativement minces et souples. La longueur de chacune de ces feuilles d'étanchéité est égale à la longueur des galets et leur largeur est telle qu'une première partie 116 peut être fixée, à l'aide de boulons 122, sur le côté supérieur 118 de la plaque supérieure 104 ou sur le côté inférieur 120 de la plaque inférieure 106. Une seconde partie 124 de la feuille d'étanchéité s'étend au-dessus du galet correspondant 112. Un ressort à lame 126, ayant la forme générale d'un Z, comporte une branche horizontale 128 qui est fixée sur les plaques au moyen de boulons 122, une partie 130 qui s'étend vers le haut et une branche 132 sensiblement horizontale, qui passe sur la partie 124 de la feuille d'étanchéité et qui charge cette partie en contact avec le galet correspondant de manière qu'elle prenne la forme de la périphrie de ce galet, de sorte qu'il existe une zone de contact importante entre la feuille d'étanchéité et le galet. Un joint étanche est, de ce fait, établi entre la chambre de développement, c'est-à-dire entre l'intervalle 108 et l'espace compris entre les extrémités des plaques et les galets, et l'extérieur.Le ressort à lame 126 assure un contact continu entre la feuille d'étanchéité 114 et le galet et empêche que les vapeurs d'ammoniaque aqueuse s'échappent, notamment dans les cas où la chambre de développement fonctionne avec les faibles pressions mentionnées ci-dessus. En outre, un joint d'étanchéité longitudinal 134, qui peut présenter une section transversale circulaire similaire à la section transversale d'une bague d'étanchéité annulaire classique, est placé entre les plaques supérieure et inférieure 104 et 106 pour empêcher que des vapeurs d'ammoniac s'échappent de la chambre de développement. De cette manière, la chambre de développement est fermée de façon complètement étanche, même par rapport au boîtier 136 qui leentoure, pour minimiser la consommation en ammoniac, afin de faciliter l'évacuation de l'ammoniac consommé de la chambre de développement, et d'éviter que des vapeurs d'ammoniac s'échappent lors de l'ouverture du couvercle 18 du boîtier (représenté sur la figure 1), sans nécessiter un dispositif distinct d'évacuation des vapeurs, comme le ventilateur 100 représenté sur la figure 2. Comme il va de soi, et comme il résulte d'ailleurs déjà de ce qui précède, l'invention ne se limite nullement à ceux de ses modes d'application, non plus qu'à ceux des modes de réalisation de ses diverses parties, ayant été plus spécialement envisagés ; elle en embrasse, au contraire, toutes les variantes. REVENDICATIONS 1. Procédé pour développer un film diazo comportant un substrat et une émulsion située sur un côté du substrat, caractérisé en ce qu'il consiste à placer le film dans une chambre dont les dimensions ne sont que légèrement supérieures aux dimensions du film ; à introduire de l'ammoniaque aqueuse dans la chambre, à une pression à peine supérieure à la pression atmosphérique, de manière que la vapeur d'ammoniac entre en contact avec l'é- mulsion du film ; et à évacuer le film de la chambre après un intervalle de temps relativement court qui ne dépasse pas quelques secondes. 2. Procédé suivant la revendication 1 caractérisé en ce qu'il consiste à mettre la vapeur d'ammoniac sous une pression qui ne dépasse pas la pression atmosphérique de plus de quelques centimètres de colonne d'eau. 3. Procédé suivant la revendication i ou 2, caractérisé en ce que l'opération de mise sous pression consiste à prévoir une conduite qui est ouverte et aboutit dans la chambre à proximité de l'émulsion du film, à envoyer dans la conduite de l'ammoniaque aqueuse sensiblement à la pression atmosphérique, et à chauffer suffisamment la conduite pour évaporer l'ammoniac, et. de ce fait, le mettre sous une pression suffisante pour envoyer la vapeur dans la chambre. 4. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 3, caractérisé en ce qu'il consiste à évacuer le film de , la chambre après un temps de séjour du film dans la chambre qui ne dépasse pas environ cinq secondes. 5. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 4, caractérisé en ce qu'il consiste à prévoir une plaque définissant une surface sensiblement plate, dimensionnée de manière à s'étendre sensiblement complètement suivant une dimension transversale du film, à placer ladite surface dans le voisinage immédiat et parallèlement à l'émulsion, et à déplacer le film et la plaque l'un par rapport à l'autre, de manière à balayer la surface sur sensiblement toute la surface de l'émulsion du film. 6. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 5, caractérisé en ce que les opérations d'introduction et d'évacuation du film de la chambre consistent à munir la chambre d'une fente d'entrée à une de ses extrémités, et d'une fente de sortie sensiblement alignée à l'extrémité opposée de la chambre, et à entraîner de façon continue le film à travers la chambre, de la fente d'entrée jusqu'à la fente de sortie. 7. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 6, caractérisé en ce que l'opération d'introduction de la vapeur d'ammoniac consiste à envoyer la vapeur d'ammoniac sur le côté du film où se trouve émulsion lorsque le film est déplacé à travers la chambre. 8. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 7, caractérisé en ce que l'opération d'introduction de la vapeur d'ammoniac consiste à introduire la vapeur d'ammoniac en solution aqueuse à une pression sensiblement égale à la pression at mosphérique et à une température comprise entre environ 65 et 95 C, ainsi qu'à fermer de façon étanche la chambre par rapport à l'extérieur, de manière à empêcher que des vapeurs d'ammoniac s'échappent, et à évacuer le film de la chambre après un temps de séjour du film dans la chambre qui ne dépasse sensiblement pas environ cinq secondes. 9. Procédé suivant la revendication 8, caractérisé en ce qu'il consiste à préchauffer le film jusqu'à une température comprise dans la gamme de températures de la vapeur d'ammoniac avant de lui faire traverser la chambre. 10. Procédé suivant la revendication 8 ou 9, caractérisé en ce que l'opération d'introduction de la vapeur d'ammoniac consiste à introduire une quantité déterminée de vapeur d'ammoniac pour chaque film qui traverse la chambre. 11. Procédé suivant la revendication 10, caractérisé en ce qu'il consiste à détecter l'avance d'un film en direction de la chambre, à introduire de la vapeur d'ammoniac dans la chambre en réponse à la détection d'un film, et à arrêter l'introduction de vapeur d'ammoniac jusqu'à la détection de l'approche du film suivant. 12. Dispositif pour développer un film diazo, caractérisé en ce qu'il comporte des moyens définissant une chambre de développement et comprenant des première et seconde surfaces espacées et sensiblement parallèles, l'espacement entre les surfaces étant supérieur à l'épaisseur du film d'une valeur qui n'est pas supérieure à celle qui est nécessaire pour permettre un déplacement facile du film dans la chambre; des moyens définissant des ouvertures pour introduire le film dans la chambre et pour l'en évacuer ; des moyens pour faire avancer le film à travers une ouverture, lui faire traverser la chambre et le faire sortir de la chambre, de manière que le côté du film qui supporte l'émulsion passe dans le voisinage immédiat d'une des surfaces ; et des moyens pour appliquer de la vapeur d'ammoniac sous une pression relativement faible dans l'espace compris entre l'émulsion du film et ladite surface ; ce qui provoque un développement rapide de l'émulsion par la vapeur d'ammoniac sous faible pression. 13. Dispositif suivant la revendication 12 caractérisé en ce que les moyens définissant des ouvertures définissent une ouverture d'entrée au voisinage d'une extrémité de la chambre et une ouverture de sortie distincte éloignée au voisinage de l'autre extrémité opposée de la chambre, et en ce que les moyens faisant déplacer le film comportent des moyens pour faire évacuer le film à travers ltouverture d'entrée, la chambre et l'ouverture de sortie, l'émulsion du film passant à proximité proche de ladite surface. 14. Dispositif suivant la revendication 12 ou 13, caractérisé en ce que les moyens appliquant la vapeur d'ammoniac comportent une ouverture d'évacuation de la vapeur d'ammoniac ménagée dans ladite surface et située à proximité de 1' ouverture d'entrée. 15. Dispositif suivant la revendication 14, caractérisé en ce qu'il comporte des moyens en communication fluidique avec l'ouverture d'évacuation pour distribuer la vapeur d'ammoniac sur la plus grande partie de la largeur du film qui traverse la chambre. 16. Dispositif suivant la revendication 15, caractérisé en ce que les moyens distribuant la vapeur d'ammoniac comportent une rainure ménagée dans la surface en communication fluidique avec l'ouverture, et s'étendant transversalement par rapport à la direction de déplacement du film. 17. Dispositif suivant la revendication 16, caractérisé en ce qu'il comporte des cavités ménagées dans ladite surface, qui s'étendent transversalement par rapport à la direction de déplacement du film et qui sont situées en aval de la rainure. 18. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 12 à 17, caractérisé en ce qu'il comporte des moyens pour préchauffer le film avant de le faire pénétrer dans la chambre de développement. 19. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 12 b 18, caractérisé en ce que ltespacement entre les surfaces est compris entre environ deux et huit fois l'épaisseur du film. 20 Dispositif suivant la revendication 19, caractérisé en ce que l'espacement entre les surfaces n'est pas supérieur à environ 0,5 mm. 21. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 12 à 20 caractérisé en ce que les moyens appliquant la vapeur d'ammoniac comportent des moyens pour mettre cette vapeur d'ammoniac sous une pression qui ne dépasse pas la pression atmosphérique de plus de quelques centimètres d'eau. 22. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 12 à 21, caractérisé en ce qu'il comporte des moyens pour envoyer dans la chambre une quantité déterminée de vapeur d'ammoniac pour chaque film qui traverse la chambre. 23. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 12 à 22 caractérisé en ce que les moyens définissant la chambre comportent des première et seconde plaques espacées et sensiblement parallèles ; une première paire de galets au voisinage de l'ouverture d'entrée pour la chambre et une seconde paire de galets au voisinage de l'ouverture de sortie pour la chambre, les paires de galets étant disposées à proximité des plaques ; des moyens pour établir un joint étanche entre les plaques et les galets des paires respectives ; et des moyens d'étanchéité entre les plaques qui ferment de façon étanche la chambre de développement par rapport à l'extérieur, et qui s'étendent suivant la direction de déplacement du film à travers la chambre. 24. Dispositif suivant la revendication 23, caractérisé en ce que les moyens d'étanchéité comportent une feuille d'étan chéité relativement souple pour chaque galet, la longueur de la feuille étant sensiblement égale à celle des galets, et des moyens chargeant la feuille en contact intime avec la plaque et le galet. 25. Dispositif suivant la revendication 24, caractérisé en ce que les moyens qui chargent la feuille comportent des moyens qui fixent la feuille sur la plaque proche 26. Dispositif suivant la revendication 24 ou 25, ca ractérisé en ce que les moyens qui chargent la feuille comportent un ressort à lame agencé de manière à charger une partie de la feuille d'étanchéité éloignée de la plaque en contact avec la périphérie du galet. 27. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 23 à 26, caractérisé en ce qu'il comporte un boîtier qui entoure les plaques, et qui comprend des ouvertures allongées dimensionnées, de façon à permettre le passage du film et sensiblement alignées avec les ouvertures d'entrée et de sortie, dans lequel les moyens établissant un joint étanche comportent des groupes de galets opposés allongés, qui coopèrent et sont disposés au voisinage et parallèlement aux ouvertures pour recevoir le film qui arrive et évacuer le film qui sort, les galets possédant des surfaces élastiques en contact mutuel ; des bandes à faible coefficient de friction logées de façon étanche dans des rainures correspondantes du boîtier et disposées parallèlement aux galets ; et des moyens chargeant élastiquement les bandes contre les galets, de façon à former un joint étanche avec ceux-ci et à empêcher que des vapeurs d'ammoniac s'échappent par les ouvertures vers l'extérieur. 28. Dispositif suivant la revendication 27, caractérisé en ce qu'il comporte des troisième et quatrième plaques définissant entre elles un intervalle qui est aligné avec la chambre, les troisième et quatrième plaques étant disposées entre les première et seconde plaques et l'ouverture d'entrée du boîtier ; et des moyens pour chauffer au moins une des troisième et quatrième plaques pour préchauffer le film avant qu'il ne pénètre dans la chambre. 29. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 23 à 28, caractérisé en ce que le boîtier comporte des parois latérales qui s'étendent au-delà des première et seconde plaques; un couvercle placé sur les parois latérales et les première et seconde plaques pour les enfermer dans le boîtier ; et des moyens à ressorts disposés entre le couvercle et une plaque adjacente pour charger cette dernière contre l'autre plaque. 30. Dispositif suivant la revendication 29, caractérisé en ce que les moyens à ressorts comportent plusieurs ressorts à lame, inclinés angulairement, dont une extrémité est fixée sur le couvercle et qui s'étendent sur la plus grande partie de la largeur du boîtier pour drainer l'ammoniac condensé du couvercle sur la plaque et pour empêcher cet ammoniac condensé d'entrer en contact avec le film qui traverse le boîtier.