Brevet FR2372512A1 — publié le 19780623

La présente invention concerne un procédé de réalisation d'un dispositif semiconducteur comportant sur une plaquette monocristalline de silicium une couche épitaxiale partagée en îlots par des barrièrés d'isolement. Elle concerne aussi le dispositif issu de ce procédé. On sait que la construction des circuits intégrés impose habituellement la réalisation de telles barrières d'isolement et constitue une étape technologique de grande importance. En effet de nombreuses recherches se sont poursuivies jusqu'à présent pour tenter d'améliorer les caractéristiques d'isolement des îlots, pour restreindre les dimensions, pour accroître la tension maximale applicable, pour augmenter l'impédance de fuite de la région isolée vis-à-vis du substrat et notamment réduire la capacité parasite. L'isolement d'une région active dlun circuit par une jonction p-n s'étendant sous cette région active et à son pourtour latéral représente la solution la plus classique. L'isolement complet par une couche d'oxyde a été réservé à des applications particulières à cause de la difficulté des techniques mises en oeuvre et du prix élevé qui en résulte. Une technique mixte qui a actuellement la faveur pour la fabrication de circuits intégrés à grande densité d'intégration consiste à réaliser l'isolement latéral par une couche profonde d'oxyde, tandis qu'une Jonction p-n isole le fond de l'îlot. Une des limitations principales de cette dernière technique découle de ce qu'elle ne peut pratiquement pas s'appliquer à l'isolement de régions actives dont l'épaisseur dépasse 2 pm, du fait que le temps nécessaire pour effectuer l'oxydation profonde tend à devenir prohibitif, pour une épaisseur supérieure, et surtout parce que la planéité de la surface supérieure du dispositif n1 est plus suffisante à cause de la dilatation du silicium converti en oxyde et du soulèvement du matériau qui en résulte aux frontières des barrières isolantes. Il a déjà été proposé, pour tenter de surmonter ces limitations, de réaliser des dispositifs semiconducteurs intégrés dans lesquels l'isolement latéral est obtenu au moyen d'une couche de silicium polycristallin. Dans une demande de brevet français publiée sous le numéro 2 009 343 se trouve décrit un procédé d'isolement d'îlots semiconducteurs qui combine la croissance d'une couche de polycristal avec une diffusion à forte concentration d'impureté de dopage dans ladite couche de polycristal, de sorte que l'isolement proprement dit se trouve réalisé par une jonction p-n pour laquelle l'impureté a été diffusée de manière accélérée à travers la couche de polycristal par rapport au matériau monocristallin avoisinant. Cette technique a conduit à la réalisation de dispositifs semiconducteurs ayant des caractéristiques intéressantes, mais elle ne permet pas d'obtenir des dimensions réduites pour les barrières d'isolement par suite de l'inévitable propagation laterale de la diffusion. Par ailleurs le procédé tel que proposé dans le brevet cité ci-dessus, comporte des opérations de diffusions d'impuretés, à forte concentration, localisées à certains emplacements de la surface du substrat, opérations qui sont pratiquées avant le dépôt de la couche polycristalline. Ceci, comme le confirme l'expérience, comporte le risque d'une contamination d'autres régions du dispositif, de manière incon trôlée, durant la croissance de la couche de silicium. L'invention a pour but, entre autres, de remédier à ces inconvénients. Elle propose un serfectionnement au procédé de réalisation d'un dispositif semiconducteur comportant une couche épitaxiale partagée en îlots par des barrières d'isolement, procédé qui utilise une couche de polycristal. L'invention est notamment basée sur la reconnaissance du fait que ladite couche de polycristal peut acquérir dans certaines circonstances une résistivité assez élevée pour assurer en elle-meme le rôle de barrière d'isolement. Selon l'invention en effet, un procédé de réalisation d'un dispositif semiconducteur comportant sur une plaquette monocristalline de silicium une couche épitaxiale partagée en îlots par des barrières d'isolement est notamment remarquable en ce qu'on établit sur une face active de ladite plaquette un film de germination constitue principalement par du silicium polycristallin contenant une concentration oxygène comprise entre 2 et 40 % atomiques, en ce qu'on localise des plages dudit film aux emplacements desdites barrières en éliminant ledit film sur des étendues situées aux emplacements desdits îlots, puis en ce que, sur ladite face active, on fait croître une couche de silicium dans des conditions assurant la croissance épitaxiale des parties de ladite couche créées sur lesdites étendues. Le procédé selon l'invention tire ses avantages du fait que ladite couche de silicium, en dehors desdits îlots, croit sur lesdites plages localisées du film de germination et a, en conséquence, une structure polycristalline aux emplacements des barrières d'isolement, et que ce matériau polycristallin a une résistivité élevée parce qu'il contient une concentration importante d'oxygène. En effet, d'une part ledit film de germination est fortement concentré en oxygène par construction et, d'autre part, la portion de couche, de structure polycristalline qui surmonte ledit film, se trouve contaminée par l'oxygène, par diffusion à partir dudit film, diffusion qui est accélérée dans le polycristal par rapport au monocristal adjacent, et qui intervient lors de tout traitement à température élevée de la plaquette et notamment pendant le dépôt de ladite couche. Selon l'invention, le procédé offre l'avantage de pouvoir s'appliquer aux dispositifs dont la couche épitaxiale a une épaisseur qui peut varier dans une large gamme et en particulier peut être supérieure à 2 pm, alors que la planéité de la surface de la plaquette reste excellente. Il o#re encore l'avantage de procurer une barrière qui est isolante par elle-meme et pour laquelle il n'est pas nécessaire de prévoir de polarisation particulière. Pour des raisons du meme ordre, la meme technique est avantageusement applicable aussi bien pour isoler une région de type n qu'une région de type p et elle peut donc etre appliquée à l'isolement de régions des deux types, sur la meme plaquette, simultanément. Le procédé selon l'invention a encore l'avantage, par rapport à l'utilisation d'un matériau isolant, de fournir une barrière d'isolement qui permet l'écoulement des charges électrostatiques et n'est donc pas sujette à l'apparition de canaux d'inversion de surface, induits par le champ créé par lesdites charges électrostatiques. De la sorte, aucun dopage particulier n'est nécessaire pour supprimer un éventuel canal d'inversion aux alentours de ladite barrièré, ce qui simplifie avantageusement la mise en oeuvre du procédé d'isolement selon l'invention. Enfin un important avantage résultant du procédé selon l'invention est que la structure d'isolement obtenue est relativement homogène en ce qui concerne les corps constituants de sorte que cette structure est moins sujette aux manques d'adhérence des couches et à la fissuration de celles-ci, défauts fréquemment rencontrés avec les structures hétérogènes du fait des. contraintes de dilatation qui s'y développent au cours des traitements thermiques de préparation. Avantageusèment, dans le procédé selon l'invention, la température à laquelle on fait croître ladite couche de silicium est choisie entre 9000 et 12500C et la vitesse de croissance de ladite couche est comprise entre 0,1 et 3 pm par minute. Par ailleurs, ledit film de germination est avantageusement déposé par la méthode de décomposition du monosilane, à une température inférieure à 75O0C. Ces moyens assurent une qualité optimale des matériaux de la structure à savoir: monocristallinité des îlots de la couche et finesse des grains du film de germination. Le procédé selon l'invention comporte avantageusement l'éta- blissement d'un masque, après avoir établi le film de germination et avant la croissance de ladite couche, en déposant sur ledit film un revetement protecteur dans lequel on opère des ouvertures aux emplacements desdits îlots, puis l'élimination des parties dudit film situées dans lesdites ouvertures dudit masque. Cette élimination, dans une mise en oeuvre préférée de l'invention, est obtenue en utilisant un revetement protecteur résistant à l'oxydation thermique, en soumettant la plaquette à un traitement d'oxydation assurant la transformation complète en oxyde des parties du film exposées dans les ouvertures dudit masque, puis en dissolvant ensuite lesdites parties oxydées.Plus particulièrement, ledit revetement protecteur est un lit de nitrure de silicium dont l'épais- seur est choisie entre 0,05 et O,4 pm. Ces dispositions ont notamment l'avantage de permettre une localisation précise du film et de favoriser une combinaison de ces opérations avec celles de la construction d'autres zones du dispositif, combinaison qui est techniquement et économiquement favorable. Dans un mode de mise en oeuvre particulièrement avantageux, le procédé selon l'invention prévoit en effet après la création dudit masque et avant l'élimination des parties du film situées dans les ouvertures dudit masque, que l'on incorpore dans lesdites parties dudit film une impureté de dopage que par un traitement thermique on fait diffuser dans le matériau sous-jacent, réalisant ainsi des zones à forte concentration d'impureté. Cette variante du procédé selon l'invention permet notamment d'effectuer le traitement de diffusion à température élevée simultanément avec le traitement d'oxydation assurant la transformation en oxyde des parties du film de germination situées dans les ouvertures dudit masque, ce qui offre ainsi une simplification notable de l'ensemble du procédé de réalisation du dispositif.Dans un mode plus particulier de mise en oeuvre du procédé tel qu'il vient d'être défini, l'impureté servant au dopage des zones à forte concentration est incorporée au film de germination par implantation ionique, cette impureté étant de préférence l'antimoine. Ces particularités ont pour avantage de perturber au minimum la résistivité des parties du dispositif qui ne reçoivent pas de diffusion à forte concentration. L'épaisseur du film de germination étant de préférence choisie entre 0,05 et I pm d'épaisseur, et celle de la couche entre 0,5 et 30 pm, une disposition particulièrement avantageuse dans le cas où la couche est relativement épaisse, prévoit que l'on soumet la plaquette à un traitement d'oxydation superficielle, comportant au moins une phase à température élevée, après avoir fait croître ladite couche de silicium. Ainsi l'oxygène peut diffuser dans la portion de couche, de structure polycristalline,qui constitue la barrière d'isolement, et ceci non seulement à partir du film qui contient par construction une forte concentration d'oxygène, mais aussi à partir de la surface. On accroît ainsi la résistivité du matériau constituant la barrière d'isolement et en particulier la partie superficielle de ladite barrière. L'invention sera mieux comprise avec la description qui va suivre en regard des dessins annexés et à l'aide d'un exemple non limitatif. Les figures lA à 1D illustrent par les coupes schématiques d'un dispositif, les étapes principales du procédé selon l'invention. La figure 2 représente en coupe un exemple de dispositif au stade final de la préparation,obtenu conformément au procédé selon l'invention. La figure 1A montre la plaquette monoeristalline de silicium, de type P', c'est-à-dire à faible concentration d'impureté acceptrice, jouant le rôle de substrat 11, dont la face principale active 12 est surmontée d'un film 13, dont les caractéristiques essentielles sont liées à sa constitution et à son mode de croissance. Le film 13 est en silicium polycristallin, à grains très fins, de diamètre de l'ordre ou inférieur au micromètre, et il contient une concentration d'oxygène, comptée en pourcents atomiques, comprise entre 2 et 40% et, de préférence, de l'ordre de 20 à 25%.Ce film 13, d'une épaisseur de 0,1 pm dans notre exemple, présente une résistivité très élevée et a la propriété avantageuse de pouvoir servir de base de germination à la croissance polycristalline à grains fins d'une couche de silicium déposée ultérieurement au cours du procédé. Un film tel que le film 13 est connu en soi ainsi que le procédé général pour l'obtenir. Il est réalisé ici par réaction en phase vapeur d'un mélange de SiH4 et N2O, dans la proportion de 1/4 de N20 pour 3/4 de SiR4, le tout dilué dans un gaz porteur neutre comme de l'azote, l'opération étant effectuée à la température de 6800C et, de préférence, inférieure à 75000 pour obtenir une finesse convenable des grains de polycristal. La phase suivante du procédé selon l'invention consiste à localiser le film 13 aux emplacements prévus pour aménager les barrières d'isolement. Cette opération de localisation peut, selon le procédé de l'invention, être effectuée par les méthodes de photogravure bien connues faisant notamment appel à la dissolution sélective du film de polycristal dans un bain acide contenant par exemple de l'acide fluorhydrique, de l'eau oxygénée et du fluorure d'ammonium. Une méthode préférée et particulièrement avantageuse, pour constituer la localisation de plages du film de germination va maintenant être décrite.Elle consiste à recouvrir le film 13 d'un revêtement protecteur, résistant à l'oxydation et avantageusement constitué par un lit de nitrure de silicium d'une épaisseur voisine de 0,08 pm, puis à ouvrir dans ledit lit des ouvertures correspondant aux emplacements où le film 13 n'est pas désiré, opérations qui font appel à des techniques bien connues. A ce stade, la pla quette se trouve dans l'état représenté à la figure 1B où l'on observe, affectés des mêmes repères, les éléments déjà décrits à la figure 1A. Le lit de nitrure de silicium est visible au repère 15, et des ouvertures 16 et 17 dans ledit lit, sont représentées, figurant l'emplacement des futurs îlots de couche épitaxiale, qui doivent se trouver séparés par les barrières d'isolement à produire au cours du procédé. Une faculté avantageuse est offerte à ce stade des opérations consistant à réaliser au cours des phases suivantes du procédé des zones à forte concentration d'impureté, de type N+ dans notre exemple, zones analogues à celles qui sont généralement utilisées pour les transistors bipolaires. On peut en effet réaliser de telles zones N+ sans le recours à une opération de photogravure particulière en profitant des ouvertures 16 et 17 actuellement disponibles dans le lit 15 de nitrure de silicium. Dans l'éventuelité où l'on utilise l'option de réalisation de. zones N+, on exp#ose donc la plaquette à une source d'impureté et on la porte à haute température de sorte que l'impureté diffuse dans les parties 13a et 13b du film 13 non masquées par le revêt e- ment protecteur constitué par le lit de nitrure de silicium 15, et diffuse par delà, dans le matériau du substrat 11 qui est sousjacent auxdites parties. En pratique, cette -phase du procédé peut être soit accomplie en une seule opération, soit encore en deux opérations distinctes, la première ayant pour but d'incorporer une certaine concentration d'impureté à la surface du matériau, et donc ici essentiellement dans les parties 13a et 13b du film 13, la seconde ayant pour but de faire diffuser l'impureté en profondeur par un traitement approprié à température élevée. La variante préférée qui va être décrite met en oeuvre deux opérations: l'incorporation d'impureté par implantation ionique, avantageusement en utilisant de l'antimoine, et la diffusion ultérieure à haute température. L'implantation ionique est réalisée, dans notre exemple, en utilisant une source solide d'antimoine, une énergie du faisceau d'ions de 150 KeV et une dose d'implantation en surface de l'ordre de 3.1015cm~2. Cette opération est symbolisée par les flèches 18, à la figure 1B, indiquant l'incorporation d'antimoine dans les parties 13a et 13b du film 13.Bien que dans les conditions décrites ici, le revêtement protecteur constitué par le lit de Signe 15 soit un masque suffisant pour l'opération d'implantation, on peut encore conserver à titre de complément de masquage, la couche de laque photosensible (non représentée à la figure 1B) ayant servi à la gravure des ouvertures 16 et 17, pour garantir en toute sécurité la localisation de l'implantation. Après avoir retiré le cas échéant la couche de laque photosensible dont il vient d'être question, la plaquette est alors portée dans un four de diffusion, à une température de 11500C pour une durée totale de traitement de 180 minutes. Avantageusement cette durée de traitement est partagée successivement en 80 minutes pendant lesquelles l'atmosphère du four est de l'azote, et 100 minutes pendant lesquelles ladite atmosphère est remplacée par de l'oxygène sec. Il en résulte que d'une part l'antimoine implanté a pénétré dans le substrat pour former les zones 21 et 22 de type N+, visibles à la figure 1C, dont la profondeur est voisine de 2,5 Um et que, d'autre part, les parties du film 13 non masquées par le lit 15 sont entièrement transformées en oxyde et repérées par les éléments 23a et 23b sur la même figure. La plaquette est ensuite trempée dans l'acide fluorhydrique de telle sorte que l'oxyde et le masque de nitrure soient retirés entièrement de la surface de ladite plaquette qui est ensuite nettoyée et séchée selon les procédés habituels de préparation avant une opération d'épitaxie. On dépose alors une couche de silicium de 1,8 pm d'épaisseur sur la face active de la plaquette, à une température de 105000, la source de silicium utilisée étant du silane dilué dans l'hydro- gène, à une concentration et sous un débit réglé pour que la vitesse de croissance soit proche de 0,5 pm par minute. Une faible concentration d'impureté donnatrice est incorporée à la couche durant la croissance, par exemple du phosphore, à un taux de quelques 1015 cl~3. A la suite de cette opération la plaquette se présente comme à la figure ID où l'on distingue au-dessus de la zone 21 de type N+ un îlot 25 monocristallin et de même, au-dessus de la zone 22 un îlot 26, lesquels îlots appartiennent à la couche de silicium déposée. Ladite couche a encore formé, par croissance sur les plages localisées du film 13, les cordons 27 de silicium polycristallin qui constituent avec lesdites plages les barrières d'isolement des îlots 25 et 26. Durant Ta croissance de la couche, l'oxy- gène contenu en concentration importante dans les plages du film 13 diffuse notablement dans les cordons polycristallins 27 du fait de son coefficient de diffusion élevé.Ainsi, le procédé selon l'invention permet d'obtenir des barrières d'isolement dont les propriétés sont remarquables par la structure- à grains fins du polycristal ayant germé sur les plages du film 13 ayant lui-même une structure à grains fins, et par sa teneur élevée en oxygène, qui augmente considérablement la résistivité du matériau et permet ainsi d'obtenir un isolement à faible cour#ant de fuite. Les opérations nécessaires pour terminer la construction du dispositif en le complétant par la création des régions électriquement actives: les contacts et les liaisons électriques entre les éléments, font appel à des techniques habituelles, bien connues dans l'art. L'exemple du dispositif décrit jusqu'ici, concerne un circuit intégré à transistors bipolaires et comporte également des résistances. La figure 2 représente une partie du circuit au stade final d'élaboration, figure dans laquelle les éléments homologues des figures 1A et 1D portent les mêmes numéros-repères. La région 31, de type P, d'une épaisseur de 1,2 um, a été élaborée par diffusion localisée à la surface de l'îlot 25, simultanément avec la région 32, également de type P, à la surface de l'îlot 26. Une région 33, de type N+ et d'épaisseur de 0,6 um est encore élaborée par diffusion localisée à la surface de la région 31 de sorte qu'un transistor NPN est établi, qui a pour émetteur la région 33, pour base la région 31 et pour collecteur l'îlot 25 pour lequel la zone 21 sous-jacente, à forte concentration d'impureté, assure un trajet latéral du courant électrique, à faible résistance.La face externe du dispositif est encore surmontée d'un film protecteur 35, par exemple constitué par 0,2 pm d'oxyde de silicium, dans lequel les ouvertures nécessaires sont pratiquées pour permettre les prises de contact telles que 41, 42 et 43 respectivement avec les régions émetteur, base et collecteur du transistor NPN et le contact 44 avec la région 32 qui est ici ltextrémité d'une résistance. On peut, bien entendu, en vue d'autres applications, utiliser une épaisseur de couche différente, plus mince que 1,8 um, ou au contraire plus épaisse, soit en général de préférence comprise entre 0,5 et 30 pm. Lorsqu'on utilise une couche d'épaisseur mince, on a souvent intérêt à réduire les traitements à haute température à leurs valeurs juste nécessaires aux diffusions et, par exemple, utiliser des film protecteurs déposés en phase vapeur et non pas par croissance thermique; ceci de manière à réduire le plus possible des répartitions d'impuretés inopportunes à l'intérieur du matériau. Dans les cas qui concernent les couches d'épaisseur relativement élevée, par exemple 20 à 25 vm, il est avantageux que les opérations qui suivent le dépôt de couche comportent au moins une opération d'oxydation superficielle avec une phase à température élevée de manière à ce que l'oxygène diffuse aussi à partir de la surface dans les barrières d'isolement en matériau polycristallin. De cette manière, lesdites barrières d'isolement peuvent acquérir une résistivité élevée dans toute leur épaisseur et non pas principalement à proximité de la source d'oxygène constituée par le film de germination selon l'invention. Etant donné le coefficient élevé de diffusion de l'oxygène dans le silicium et,en particulier dans le silicium polycristallin, un traitement de 25 minutes à 11000G sous oxygène humidifié à saturation à la température de 970C s'est révélé convenable, par exemple pour obtenir un isolement à faible courant de fuite. Bien que l'invention ait été décrite à partir d'exemple concret de réalisation, il reste entendu que des variantes facilement imaginables par l'homme de l'art sont possibles et qu'elles appartiennent au domaine de l'invention. A titre d'exemple, on a précisé les conditions opératoires pour la réalisation d'un circuit intégré de commutation ultra-rapide. De manière plus générale, et suivant l'épaisseur de couche nécessaire, dans la gamme mentionnée de 0,5 à 30 pm, la température de déposition du silicium de ladite couche est avantageusement choisie entre 9000 et 12500C, et la vitesse de croissance réglée entre 0,1 et 3 pm par minute. Ainsi on adapte au mieux les exigences concernant la croissance des barrières d'isolement en silicium polycristallin et les exigences différentes concernant la croissance des îlots de couche, monocristallins. En ce qui concerne le film 13 décrit dans l'exemple avec une épaisseur de 0,1 um, celle-ci peut encore avantageusement être choisie entre 0,05 et I Um, alors que l'épaisseur du lit de nitrure de silicium 15 est avantageusement choisie dans la gamme de 0,05 à 0,4 pm. - REVENDICATIONS 1.- Procédé de réalisation d'un dispositif semiconducteur comportant sur une plaquette monocristalline de silicium une couche épitaxiale partagée en îlots par des barrières d'isolement, caractérisé en ce que l'on établit sur une face active de ladite plaquette un film de germination constitué principalement par du silicium polycristallin contenant une concentration d'oxygène comprise entre 2 et 40% atomiques, en ce que l'on localise des plages dudit film aux emplacements desdites barrières en éliminant ledit film sur des étendues situées aux emplacements desdits îlots, puis en ce que, sur ladite face active, on fait croître une couche de silicium dans des conditions assurant la croissance épitaxiale des parties de ladite couche créées sur lesdites étendues. 2.- Procédé selon la revendication I, caractérisé en ce que la température à laquelle on fait croître ladite couche de silicium est choisie entre 9000 et 12500C et la vitesse de croissance de ladite couche est comprise entre 0,1 et 3 um par minute. 3.- Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 et 2, caractérisé en ce que ledit film de germination est déposé par la méthode de décomposition du monosilane, à une température inférieure à 7500 C. 4.- Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que après avoir établi ledit film de germination et,préalablement à la croissance de ladite couche,on établit un masque en déposant sur ledit film un revêtement protecteur dans lequel on opère des ouvertures aux emplacements desdits îlots et en ce qu'on élimine les parties dudit film situées dans lesdites ouvertures dudit masque. 5.- Procédé selon la revendication 4, caractérisé en ce que ledit revêtement protecteur étant constitué par un matériau résistant à l'oxydation thermique, on soumet ladite plaquette à un traitement d'oxydation assurant la transformation complète en oxyde des parties dudit film exposées dans lesdites ouvertures dudit masque, et en ce qu'on dissout ensuite lesdites parties oxydées. 6.- Procédé selon la revendication 5, caractérisé en ce qu'on utilise comme revêtement protecteur résistant à l'oxydation, un lit de nitrure de silicium d'une épaisseur comprise entre 0,05 et 0,4 pm. 7.- Procédé selon l'une quelconque des revendications 4 à 6, caractérisé en ce que après la création dudit masque, et avant l'élimination desdites parties dudit film, on incorpore dans lesdites parties une impureté de dopage que par un traitement thermique on fait diffuser dans le matériau sous-jacent réalisant ainsi des zones à forte concentration d'impureté. 8.- Procédé selon l'ensemble des revendications 5 et 7, caractérisé en ce que ledit traitement de diffusion à température élevée est simultané avec ledit traitement d'oxydation assurant la transformation en oxyde desdites parties du film de germination situées dans lesdites ouvertures. 9.- Procédé selon l'une des revendications 7 et 8, caractérisé en ce que ladite impureté est incorporée audit film par implantation ionique. 10.- Procédé selon l'une quelconque des revendications 7 à 9, caractérisé en ce que ladite impureté est de l'antimoine. 11.- Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 d 10, caractérisé én ce que après avoir fait croître ladite couche de silicium on soumet ladite plaquette à un traitement d'oxydation superficielle comportant au moins une phase d température élevée. 12.,- Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 11, caractérisé en ce que l'épaisseur de ladite couche est choisie entre 0,5 et 30 pm. 13.- Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 12, caractérisé en ce que l'épaisseur dudit film de germination est choisie entre 0,05 et 1 pm. 14.- Dispositif semiconducteur caractérisé en ce qu'il est obtenu par un procédé selon l'une quelconque des revendications I à 13.