Brevet FR2367087A1 — publié le 19780505

La présente invention a pour objet un substrat hydrophobe, et plus précisément un substrat hydrophobe dans lequel sont emmagasinées des substances chimiques susceptibles d'entre libérées progressivement hors dudit substrat lorsqu'on met en contact ce dernier avec un milieu gazeux ou un milieu liquide, De tels substrats se révèlent très intéressants dans divers domaines car ils permettent de diffuser dans un milieu à une vitesse pratiquement constante de faibles doses des substances chimiques qu'ils contiennent. Ainsi, ils peuvent trouver de nombreuses applications selon la nature de la substance qu'ils renferment et être utilisés par exemple pour assurer la diffusion dans l'air d'insecticides, dtinsec- tifuges ou de parfums, ou pour libérer dans certains liquides des principes actifs. Antérieurement à la présente invention, on a déjà réalisé des substrats hydrophobes du type précité, sous la forme de substrats chargés de substances solubles dans un solvant polaire. Cependant, de tels substrats hydrophobes-nlont pu astre .-4alisEs jusqu'à présent sous la forme de substrats renfermant des substances chimiques insolubles ou instables en solution aqueuse ou polaire et ceci limite leurs possibilités d'applications dans certains domaines. La présente invention a précisément pour objet un substrat hydrophobe qui pallie cet inconvénient car il possède justement la propriété de renfermer des substances chimiques éventuellement instables ou insolubles dans l'eau ou dans un solvant polaire. A cet effet, le substrat hydrophobe, selon nvenr tion, se caractérise en ce qu'il comprend dans sa masse des inclusions de composés hydrophobes polymérisés et greffés sur ledit substrat, lesdites inclusions renfermant des substances chimiques hydrophobes ou solubles dans un solvant hydrophobe, ledit substrat étant susceptible de libérer lesdites substances dans un milieu approprié lors d'une mise en contaçt dudit substrat avec ledit milieu. Selon une caractéristique avantageuse de l'invention, le substrat est en polymère thermo-plastique choisi dans le groupe comprenant l'acétate de polyvinyle, le polyéthylène, un copolymère d'acétate de vinyle et d'éthylène ou tout autre copolymère d'éthylène, un polyéther, un polyuréthane, un polyacrylonitrile, un polypropylène, un polyamide, un polyester, un chlorure de polyvinyle, un polycarbonate, un polytetrafluo. réthylène et un silicone. Selon une autre caractéristique de l'invention, les composés hydrophobes polymérisés et greffés dans le substrat sont des polymères différents de ceux du substrat, et avantageusement des polymères d'un composé organique choisi dans le groupe comprenant l'acrylate d'éthyle, l'acrylate de butyle, l'acrylate d'isobutyle, l'acrylate d'hexyle, l'acrylate d'heptyle, le méthacrylate d'éthyle, le méthacrylate de butyle, le méthacrylate d'isobutyle, le méthacrylate d'hexyle, le méthacrylate d'heptyle et l'acrylonitrile. La substance chimique emmagasinée dans les inclusions est une substance hydrophobe susceptible de gonfler les composés polymérisés constituant lesdites inclusions. Par exemple, cette substance est le O,O-diméthyl-0(2,2-dichlorovinyl-phosphate), dénomme ci-apres sous le terme de dichlorvos lorsque lesdits composés polymérisés sont du polyacrylate de butyle. Cette substance chimique peut aussi être une substance soluble dans un solvant hydrophobe, ledit solvant étant susceptible de gonfler les composés polymérisés constituant lesdites inclusions La présente invention a également pour objet un procédé de fabrication d'un substrat hydrophobe tel que défini ci-dessus Ce procédé se caractérise en ce qu'il consiste à imprégner un substrat en polymère hydrophobe par un monomère hydrophobe de nature différente de celle dudit substrat en immergeant ledit substrat dans une solution comprenant ledit monomère, à greffer et polymériser ledit monomère dans ledit substrat pour former dans la masse dudit substrat des inclusions de composés hydrophobes polymérisés et greffés sur ledit substrat, et à emmagasiner dans lesdites inclus ions une substance chimique hydrophobe ou soluble dans un solvant hydrophobe, Grâce à ce procédé, on parvient à augmenter de façon surprenante la quantité de substance chimique susceptible d'être emmagasinée dans le substrat-hydrophobe. Cette augmentation résulte principalement du fait qu'en réalisant dans la masse du substrat hydrophobe des inclusions de composés hydrophobes polymérisés et greffés, on dilate le réseau macromoléculaire de ce substrat et on facilite ainsi la pénétration de la substance chimique dans ce substrat, De plus, en choisissant un monomère hydrophobe présentant une certaine affinité pour la substance chimique à emmagasiner, soit un monomère hydrophobe qui se transforme en un polymère susceptible d'être gonflé par cette substance chimique, on retient cette dernière dans les inclusions de composés hydrophobes polymérisés et greffés dans le substrat. Par ailleurs, ce procédé se révèle très intéressant car il permet de conférer au substrat obtenu les caractéris- tiques souhaitées en vue de ses utilisations ultérieures. En effet, par un réglage approprié du taux de greffage, de polymérisation et de réticulation des composés hydrophobes polymérisés dans le substrat, on centrale les dimensions des inclusions formées dans ledit substrat, et en particulier leur surface d'échange qui exerce une influence importante sur la vitesse à laquelle seront libérées les substances emmagasinées dans lesdites inclusions lorsque le substrat sera mis en contact avec un milieu approprie. Ainsi, le procédé de l'invention permet aussi d'agir sur les paramètres de diffusion ultérieure de la substance emt magasinée dans ledit substrat. Dans la mise en oeuvre de ce procédé, plusieurs variantes peuvent être envisagées selon la nature des moyens utilisés pour assurer le greffage et la polymérisation du monomère hydrophobe dans le substrat hydrophobe. De façon avantageuse, cette polymérisation et ce greffage sont réalisés en soumettant le substrat imprégné dudit monomère à une irradiation par un rayonnement ionisant tel qu'un rayonnement ss, un rayonnement y, un rayonnement X, un rayonnement ultraviolet ou un faisceau d'électrons. On utilise, de préférence, un rayonnement y émis par un radioélé- ment artificiel ou naturel. Cette polymérisation sous rayonne ment ionisant peut être effectuée lorsque le substrat est immergé dans la solution du monomère, en prenant soin de dégazer au préalable la solution. Elle peut aussi être effectuée après avoir extrait le substrat de la solution. Le greffage et la polymérisation du monomère peuvent aussi être réalisés par voie chimique, par exemple en chauffant le substrat imprégné en présence de peroxydes organiques, ou encore par voie ultrasonique en soumettant le substrat imprégné à des vibrations de haute fréquence. Par ailleurs, d'autres modes de mise en oeuvre de ce procédé peuvent aussi être envisagés selon que l'on réalise les trois étapes de ce procédé successivement ou simultanement, ou encore en combinant deux étapes entre elles, Selon un premier mode de mise en oeuvre du procédé de l'invention, on réalise simultanément l'imprégnation dudit substrat par ledit monomère et le greffage et la polymérisation sous rayonnement ionisant dudit monomère dans le substrat et on assure ensuite l'emmagasinage de la substance chimique dans les inclusions formées précédemment dans le substrat lors du greffage et de la polymérisation. Dans ce cas, on immerge le substrat dans une solution comprenant le monomère hydrophobe et un inhibiteur de polymérisation, et on soumet à une irradiation par un rayonnement ionisant la solution contenant le substrat. En fin d'irradiation, on extrait le substrat de la solution et on l'immerge ensuite dans une substance chimique hydrophobe ou dans un solvant hydres phobe cqntenant en solution une substance chimique. La présence d'un inhibiteur de polymérisation dans la solution de monomère hydrophobe est préférable dans ce cas, pour empêcher que ce monomère ne se polymérise dans la solution avant de pénétrer dans le substrat hydrophobe. Cet inhibiteur de polymérisation est choisi de telle sorte qu'il empêche le monomère hydrophobe de se polymériser lorsqutil est en solution, sans toutefois être suffisamment puissant pour empêcher la polymérisation de ce monomère à l'intérieur du substrat. Des inhi biteurs susceptibles de convenir sont, par exemple, un mélange d'acétate de cuivre et de cuivre en poudre ou un mélange de nitrate de cuivre et de cuivre en poudre. Selon un second mode de-mise en oeuvre du procédé de l'invention, on réalise simultanément l'imprégnation dudit substrat par ledit monomère, le greffage et la polymérisation sous rayonnement ionisant dudit monomère dans ledit substrat et l'emmagasinage de ladite substance dans lesdites inclusions Dans ce cas, on immerge ledit substrat dans une solution comprenant ledit monomère hydrophobe, un inhibiteur de polymérisation et la substance à-emmagasiner dans lesdites inclusions, et on soumet à une irradiation par un rayonnement ionisant la solution dans laquelle est immergé le substrat. Comme précédemment, la présence d'un inhibiteur de polymérisation dans la solution est préférable pour éviter que le rayonnement ionisant n'entrain une polymérisation du monomère en solution. Selon un troisième mode de mise en oeuvre du procédé de l'invention, on réalise successivement l'imprégnation du substrat par ledit monomère, le greffage et la polymérisation sous rayonnement ionisant du monomère dans le substrat, et l'emmagasinage de ladite substance dans le substrat. Dans ce cas, on immerge le substrat dans une solution comprenant le monomère hydrophobe, cn soumet ensuite le substrat à une irradiation par un rayonnement ionisant après l'avoir extrait de la solution, et on l'immerge enfin après irradiation dans une substance chimique ou dans un solvant hydrophobe contenant en solution une substance chimique Selon un quatrième mode de mise en oeuvre du procédé de l'invention, on réalise tout d'abord l'imprégnation dudit substrat par ledit monomère en immergeant ledit substrat dans la solution comprenant ledit monomère et on réalise ensuite simultanément après avoir extrait ledit substrat de ladite solution le greffage et la polymérisation dudit monomère dans ledit substrat et l'emmagasinage de ladite substance dans lesdites inclusions en soumettant à une irradiation par un rayonnement ionisant ledit substrat immergé dans ladite substance ou dans un solvant hydrophobe contenant en solution ladite substance. Selon un cinquième mode de mise en oeuvre du procédé de l'invention, on réalise successivement les trois étapes du procédé en choisissant une méthode chimique pour assurer le greffage et la polymérisation du monomère hydrophobe dans le substrat hydrophobe Dans ce cas, on immerge le substrat dans une solution comprenant le monomère hydrophobe et un peroxyde organique, on l'extrait ensuite de cette solution puis on le chauffe et on l'immerge enfin dans une substance chimique hydrophobe ou dans un solvant hydrophobe contenant en solution une substance chimique. Selon un sixième mode de mise en oeuvre du procédé de l'invention, on réalise simulténément les deux premières étapes du procédé en choisissant une méthode par ultrasons pour assurer le greffage et la polymérisation du monomère hydrophobe dans le substrat hydrophobe Dans ce cas, on soumet le substrat immergé dans une solution comprenant ledit monomère et un inhibiteur de polymérisation, à des vibrations de haute fréquence et on assure ensuite comme précédemment l'emmagasinage d'une substance chimique dans les inclusions formées dans le substrat lors de la polymérisation Selon l'invention, on améliore dans certains cas, le taux de réticulation des composés hydrophobes polymérisés et greffés dans ledit substrat, en ajoutant à la solution de monomère hydrophobe utilisée pour l'imprégnation du substrat, des agents réticulants. Ces agents peuvent être constitués, par exemple, par des composés tels que le diacrylate de polyéthylène glycol, le diacrylate de diéthylène glycol, le diacrylate de triéthylène glycol, le diacrylate de tétraéthylène glycol, le diméthacrylate de polyéthylène glycol, le méthacrylate de diéthylène glycol, le diméthacrylate de triéthylène glycol, le diméthacrylate de tétraéthylène glycol, le divinyle benzène, le diméthacrylate de1-3 butylène glycol, le diacrylate de l-3butylène glycol, le triacrylate de triméthylol propane, le triméthacrylate de triméthylol propane, le diacrylate d'éthylène, le diméthacrylate d'éthylène, le diacrylate del-6 hexaméthylènec le diméthacrylate del-6 hexaméthylène Selon Qne variante de l'invention, on améliore le taux de réticulation des composés hydrophobes polymérisés et greffés sur le substrat en soumettant ce dernier après la réalisation du greffage et de la polymérisation, à un traitement complémentaire consistant en une irradiation par un rayonnement ionisant tel qu'un rayonnement X, un rayonnement y, un rayonnement ultraviolet ou un faisceau d'électrons. Ce traitement complémentaire du substrat peut être effectué avant de réaliser l'emmagasinage de la substance chimi- que dans les inclusions, en irradiant le substrat après l'avoir-extrait de la solution comportant le monomère. On peut aussi effectuer ce traitement complémentaire après avoir réalisé l'emmagasinage de la substance chimique dans les inclusions, en irradiant le substrat après l'avoir extrait soit de la solution comportant le monomère et la substance chimique, soit de la substance chimique, soit du solvant hydrophobe contenant en solution la substance chimique. Selon l'invention, on contrle la quantité de composes hydrophobes polymérisés et greffés dans le substrat, en réglant la température et la concentration en monomère hydrophobe de la solution utilisée pour l'imprégnation du substrat, la durée d'immersion dudit substrat dans cette solution, la dose d'irradiation à laquelle est soumis ledit substrat et le débit de ladite dose d'irradiation. Dans la mise en oeuvre du procédé de l'invention, le polymère hydrophobe et le monomère hydrophobe sont choisis en fonction du type d'application du substrat hydrophobe, et notamment en fonction de la substance chimique à emmagasiner dans ce substrat. Le choix du monomère est conditionné en effet par le fait qu'il est nécessaire que la substance chimique soit susceptible de gonfler les composés hydrophobes polymérisés, formés à partir de ce monomère, pour pouvoir être emmagasinée dans le substrat et retenue dans les inclusions. A titre d'exemple, on peut utiliser des polymères hydrophobes tels que l'acétate de polyvinyle, le polyéthylène, un copolymère d'acétate de vinyle et d'éthylène, un copolymère d'éthylène, un polyéther, un polyuréthane, un polyacrylonitrile, un polypropylène, un polyamide, un polyester, un chlorure de polyvinyle, un polycarbonate, un polytétrafluoréthylène et un silicone. Des monomères hydrophobes susceptlbles de convenir sont par exemple l'acrylate d'éthyle, l'acrylate de butyle, 1 'acrylate d'isobutyle, 1 'acrylate d 'hexyle, 1 'acrylate d'heptyle, le méthacrylate d'éthyle, le méthacrylate de butyle, le méthacrylate d'isobutyle, le méthacrylate d'hexyle, le méthacrylate d'heptyle et l'acrylonitrile. D'autres caractéristiques et avantages de l'invention apparaltront mieux à la lecture de la description qui suit donnée à titre d'exemple non limitatif et se référant aux dessins annexés sur lesquels - la figure 1 est une représentation graphique en fonction du temps, de la diminution en poids P2 d'un substrat en copolymère d'acétate de vinyle et d'éthylène, greffé à l'acrylate de butyle et contenant 0,746 g de dichlorvos, cette diminution en poids du substrat correspondant à la volatilisation dans l'atmosphère du dichlorvos contenu dans les inclusions hydrophobes du substrat. - la figure 2 est une représentation graphique en fonction du temps, de la diminution en poids P3 d'un substrat en copolymère d'acétate de vinyle et d'éthylène, greffé à l'acrylate de butyle et contenant 0,795 g de dichlorvos, cette diminution en poids du substrat correspondant à la volatilisation dans l'atmosphère du dichlorvos contenu dans les inclusions hydrophobes du substrat. - la figure 3 représente en fonction du temps la quantité en poids P'2 de dichlorvos restant dans un substrat hydrophobe, cette quantité étant ramenée à une teneur initiale de lg, pour un substrat hydrophobe en copolymère d'acétate de vinyle et d'éthylène comportant des inclusions de polymère d'acrylate de butyle et renfermant 0,746 g de dichlorvos. - la figure 4 représente en fonction du temps la quantité de dichlorvos restant dans le substrat hydrophobe, cette quantité étant ramenée à une teneur initiale de lg, pour un substrat hydrophobe en copolymère d'acétate de vinyle et d'éthylène comportant des inclusions de polymère d'acrylate de butyle et renfermant 0,795 g de dichlorvos. L'exemple suivant illustre la mise en oeuvre du procédé de l'invention pour la fabrication d'un substrat hydrophobe en copolymère de polyéthylène et d'acétate de vinyle, comportant des inclusions polymérisées et greffées d'acrylate de butyle, dans lesquelles sont emmagasinés un insecticide constitué par du O,O-diméthyl-0(2,2-dichlorovinyl-phosphatewsoi g du dichlorvos. Le substrat hydrophobe constitué par des granulés de copolymère d'éthylène et d'acétate de vinyle contenant 33 % d'acétate de vinyle est introduit dans une ampoule en verre pyrex contenant une solution à 25 % d'acrylate de butyle dans l'éthanol, à laquelle on a ajouté l % d'acétate de cuivre et 0,25 % de cuivre en poudre en tant qu'inhibiteur de polymérisation du monomère en solution. On effectue un dégazage du contenu de l'ampoule et on l'irradie, à la température ambiante, au moyen d'un rayonnement gamma émis par une source de cobalt 60, a une dose de 3,4 Mrad, sous un débit de dose de 0,2 Mrad/heure. Après irradiation, les granulés sont lavés à l'alcool, séchés et pesés.On détermine ainsi le taux de greffage G défini par la formule Pf - Pi x 100 G % = yi dans laquelle Pf correspond au poids des granulés après irradiation et Pi au poids des granulés avant irradiation. On répète ces opérations, dans les mêmes conditions, en faisant seulement varier la concentration en acrylate de butyle de la solution. Les résultats obtenus figurent dans le tableau joint et on constate que le taux de greffage augmente avec la concentration en acrylate de butyle de la solution. Les granulés greffés et pesés sont ensuite immergés à 7a temperature ambiante dans du dichlorvos. Après quatre jours d'immersion, on détermine par pesée le taux de dichlorvos emmagasiné dans les granulés. Les résultats obtenus figurent également dans le tableau joint. On constate que la quantité de dichlorvos emmagasiné dans le substrat augmente avec le taux de greffage. A titre comparatif, on a également indique dans le tableau joint, les résultats obtenus avec un substrat en copo lymère d'éthylène et d'acétate de vinyle, non soumis à un greffage et immergé pendant quatre jours dans du dichlorvos. On centrale enfin les qualités des granulés obtenus en déterminant quantitativement par pesée quotidienne, la quantité de dichlorvos libérée dans l'atmosphère lorsqu'on place ces granulés dans un pilulier ouvert sous une hotte ventilée. La figure l illustre pour l'échantillon nO 2 du tableau 1, la perte de poids P2 en mg de l'échantillon en fonction du temps T en jours, cette perte de poids correspondant au poids de dichlorvos libéré chaque jour dans l1atmosphère La figure 2 illustre pour l'échantillon nO 3 du tableau l, la perte de poids P3 en mg de l'échantillon, en fonction du temps T en jours, cette perte de poids correspondant au poids de dichlorvos libéré chaque jour dans l'atmosphère. Sur les figures 3 et 4, on a représenté respectivement pour les échantillons 2 et 3, en abscisse le temps T en jours et en ordonnée le poids P'2 ou P'3 en mg de dichlorvos restant dans l'échantillon, ce poids étant ramené à une teneur initiale de îg D'après ces figures, on voit que la quantité de dichlorvos libérée dans l'atmosphere est sensiblement constante avec le temps. -TABLEAU Copolymère d'éthylène Concentration en Taux de Poids de l'échan- Poids de di- Taux d'augmentation et d'acétate de vinyle acrylate de butyle greffage tillon avant im- chlorvos em- en poids de l'échande la solution de en % mersion dans le magasiné (g.) tillon dû au dichlor greffage, en % dichlorvos vos en % Echantillon non greffé - 0 0,2875 0,391 37 Echantillon greffé n 1 25 35 0,422 0,907 114 n 2 35 43 0,511 0,746 146 n 3 45 66 0,426 0,795 184 REVENDICATIONS 1. Substrat hydrophobe, caractérisé en ce qu'il comprend dans sa masse des inclusions de composés hydrophobes polymérisés et greffés sur ledit substrat, lesdites inclusions renfermant des substances chimiques hydrophobes ou solubles dans un solvant hydrophobe, ledit substrat étant susceptible de libérer lesdites substances dans un milieu approprié lors d'une mise en contact dudit substrat avec ledit milieu. 2. Substrat hydrophobe selon la revendication l, caractérisé en ce que le substrat est en polymère thermoplastique choisi dans le groupe comprenant l'acétate de polyvinyle, le polyéthylène, un copolymère d'acétate de vinyle et d'éthylène ou tout autre copolymère d'éthylène, un polyéther, un polyuréthane, un polyacrylonitrile, un polypropylène, un polyamide, un polyester, un chlorure de polyvinyle, un polycarbonate, un polytétrafluoréthylène et un silicone. 3. Substrat hydrophobe selon la revendication 1, caractérisé en ce que les composés hydrophobes polymérisés sont des polymères d'un composé organique choisi dans le groupe comprenant l'acrylate d'éthyle, l'acrylate de butyle, L'acrylate d'isobutyle, l'acrylate d'hexyle, 1 'acrylate d'heptyle, le méthacrylate d'éthyle, le méthacrylate de butyle, le méthacrylate d'isobutyle, le méthacrylate d'hexyle, le méthacrylate d'heptyle et l'acrylonitrile. 4. Substrat hydrophobe selon l'une quelconque des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que ladite substance est une substance hydrophobe susceptible de gonfler les composés polymérisés constituant lesdites inclusions. 5. Substrat selon l'une quelconque des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que ladite substance est une substance soluble dans un solvant hydrophobe, ledit solvant étant susceptible de gonfler les composés polymérisés constituant lesdites inclusions. 6. Substrat selon la revendication 4, caractérisé en ce que ladite substance est le O,O-dimethyl-0(2,2-dichlorovinyl- phosphate). 7. Procédé de fabrication d'un substrat hydrophobe selon l'une quelconque des revendications 1 à 6, caractérisé en ce qu'il consiste à imprégner un substrat en polymère hydro phobe par un monomère hydrophobe de nature différente de celle dudit substrat en immergeant ledit substrat dans une solution comprenant ledit monomère, a greffer et polymériser ledit monomère dans ledit substrat pour former dans la masse dudit substrat des inclusions de composés hydrophobes polymérisés et greffés sur ledit substrat, et à emmagasiner dans lesdites inclusions une substance chimique hydrophobe ou soluble dans un solvant hydrophobe. 8. Procédé selon la revendication 7, caractérisé en ce qu'on réalise simultanément l'imprégnation dudit substrat par ledit monomère et le greffage et la polymérisation dudit monomère dans ledit substrat, en soumettant à une irradiation par un rayonnement ionisant ledit substrat immergé dans une solution comprenant ledit monomère hydrophobe et un inhibiteur de polymérisation, et en ce qu'on immerge ensuite le substrat comportant lesdites inclusions dans ladite substance ou dans un solvant hydrophobe contenant en solution ladite substance. 9. Procédé selon la revendication7, caractérisé en ce qu'on réalise simultanément l'imprégnation dudit substrat par ledit monomère, le greffage et la polymérisation dudit monomère dans ledit substrat et l'emmagasinage de ladite substance dans lesdites inclusions, en soumettant à une irradiation par un rayonnement ionisant ledit substrat immergé dans une solution comprenant ledit monomère hydrophobe, un inhibiteur de polymérisation et ladite substance. 10. Procédé selon la revendication 7, caractérisé en ce qu'on réalise successivement l'imprégnation dudit substrat par ledit monomère, le greffage et la polymérisation dudit monomère dans ledit substrat, et l'emmagasinage de ladite substance dans lesdites inclusions, en immergeant ledit substrat dans la solution comprenant ledit monomère, en soumettant ensuite ledit substrat imprégné et extrait de la solution à une irradiation par un rayonnement ionisant, et en immergeant enfin ledit substrat irradié dans ladite substance ou dans un solvant hydrophobe contenant en solution ladite substance, 11.Procédé selon la revendication 7, caractérisé en ce qu'on réalise tout d'abord l'imprégnation dudit substrat par ledit monomère en immergeant ledit substrat dans la solution comprenant ledit monomère et en ce qu'on réalise ensuite simultanément après avoir extrait ledit substrat de ladite solution le greffage et la polymérisation dudit monomère dans ledit substrat et 1'emmagasinage de ladite substance dans lesdites inclusions en soumettant à une irradiation par un rayonnement ionisant ledit substrat immergé dans ladite substance ou dans un solvant hydrophobe contenant en solution ladite substance 12.Procédé selon la revendication 7, caractérisé en ce qu'on réalise simultanément l'imprégnation dudit substrat par ledit monomère et le greffage et la polymérisation dudit monomère dans ledit substrat, en soumettant à des vibrations de haute fréquence ledit substrat immergé dans une solution comprenant ledit monomère et un inhibiteur de polymérisation, et en ce qu'on immerge ensuite ledit substrat dans ladite substance ou dans un solvant hydrophobe contenant en solution ladite substance. 13. Procédé selon la revendication 7, caractérisé en ce qu'on réalise successivement l'imprégnation dudit substrat par ledit monomère, le greffage et la polymérisation dudit monomère dans ledit substrat, et l'emmagasinage de ladite substance dans lesdites inclusions, en immergeant ledit substrat dans la solution comprenant ledit monomère et un peroxyde organique, en chauffanc ensuite ledit substrat imprégné et extrait de ladite solution et en immergeant enfin ledit substrat dans ladite substance ou dans un solvant hydrophobe contenan t en solution ladite substance. 14. Procédé selon l'une quelconque des revendications 8 à 13, caractérisé en ce que la solution comprenant ledit monomère hydrophobe comporte en outre un agent de réticulation. 15. Procédé selon l'une quelconque des revendications 8, 10, 12 et 13, caractérisé en ce qu'après greffage et polymérisation, on soumet ledit substrat après l'avoir extrait de ladite solution, et avant de réaliser l'emmagasinage de ladite substance dans lesdites inclusions, à une irradiation par un rayonnement ionisant pour réticuler les inclusions de composés hydrophobes polymérisés. 16. Procédé selon l'une quelconque des revendications 8 à 14, caractérisé en ce qu'après emmagasinae de ladite substance dans lesdites inclusions, on soumet ledit substrat après l'avoir extrait de ladite substance ou de la solution comportant ladite substance ou dudit solvant hydrophobe contenant en solution ladite substance, à une irradiation par un rayonnement ionisant pour réticuler les inclusions de composés hydrophobes polymérisés. 17. Procédé selon l'une quelconque des revendications 8 à 11, 15 et 16, caractérisé en ce que le rayonnement ionisant est choisi dans le groupe comprenant le rayonnement y, le rayonnement 6, le rayonnement X, le rayonnement ultraviolet et un faisceau d'électrons. 18. Procédé selon l'une quelconque des revendications 8, 9, 10 11, 15 et 16, caractérisé en ce qu'on contrôle la quantité de composés hydrophobes polymérisés et greffés dans ledit substrat en règlant la température et la concentration en monomère de ladite solution, la durée d'immersion dudit substrat dans ladite solution,la dose d'irradiation à laquelle est soumis ledit substrat et le débit de ladite dose d'irradiation,